JP2009188128A - Laser irradiation apparatus - Google Patents
Laser irradiation apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009188128A JP2009188128A JP2008025589A JP2008025589A JP2009188128A JP 2009188128 A JP2009188128 A JP 2009188128A JP 2008025589 A JP2008025589 A JP 2008025589A JP 2008025589 A JP2008025589 A JP 2008025589A JP 2009188128 A JP2009188128 A JP 2009188128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- optical path
- irradiation
- laser irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明はレーザー照射装置の安全性の改良に関する。 The present invention relates to an improvement in safety of a laser irradiation apparatus.
レーザー照射装置はレーザー加工機、レーザーを利用する分析・測定機器、および医療機器等に使用されている。しかし、レーザービームは高いエネルギー密度を持っているために、レーザービームがレーザー照射装置のオペレータの眼に入ると視力低下を生ずるのみならず、場合によっては失明に至る危険がある。そのために日本工業規格には「レーザー製品の安全基準」が制定されており、人体に与える影響を基準にして、発振方法・波長・出力が異なるレーザービームを放射するレーザー製品について、1(本質的に安全)、1M(集光しなければ本質的に安全)、2(安全)、2M(集光しなければ安全)、3R(少し危険)、3B(かなり危険)、4(とても危険)の安全クラスを設けている。 Laser irradiation apparatuses are used in laser processing machines, analysis / measurement equipment using lasers, medical equipment, and the like. However, since the laser beam has a high energy density, when the laser beam enters the eye of the operator of the laser irradiation apparatus, not only the visual acuity is deteriorated but also there is a risk of blindness in some cases. For this reason, the “Industrial Standard for Laser Products” has been established in the Japanese Industrial Standards. 1 (essentially) for laser products that emit laser beams with different oscillation methods, wavelengths, and outputs based on the effects on the human body. 1M (essentially safe without focusing), 2 (safety), 2M (safe without focusing), 3R (slightly dangerous), 3B (very dangerous), 4 (very dangerous) There is a safety class.
そして、安全クラスが1を超えるレーザー照射装置はレーザー放射(迷走レーザー放射を含む)に対する人体の被曝を予防するための保護筐体を備えていなければならないとされており、保護筐体の一部分であるアクセスパネルを移動または取り外す時には人体がレーザー放射の被曝を受けないように、アクセスパネルはセイフティインタロックを備えていなければならないとされている。そのほか、安全クラスが3Bまた4のレーザー照射装置は、取り外しの可能な鍵(磁器カード等を含む)の操作による制御部を組み込まねばならないとされており、鍵が外されている時(インターロックが解除されている時)はレーザー放射による被曝があってはならないとされている(非特許文献1を参照)。
図4は上記のレーザー照射装置、保護筐体、アクセスパネルを従来例の安全クラスが例えば3Rのレーザー照射装置10によって概念的に示す部分破断図である。すなわち、被照射体である試料1が試料ステージ2に載置されており、レーザー発振器3から水平方向に放射されて光路4を進行するレーザービームが反射ミラー6によって直下方へビームの向きを変えられ、集光レンズ8を介して試料1に照射されるようになっている。それらは保護筐体11で囲われた試料照射室12内に収容されており、保護筐体11の側壁には、例えば試料ステージ2を手作業で移動させる場合等に対応し得るように、アクセスパネルである片開きの扉14が設けられている。そして図示を省略した制御部によって扉14を開ける場合には、レーザービームの光路4を同じく図示を省略したシャッターで遮断して、扉14の開口部分からレーザーが放出されないようにするためのセイフティインタロックが設けられている。
FIG. 4 is a partial cutaway view conceptually showing the above-described laser irradiation apparatus, protective housing, and access panel with a laser irradiation apparatus 10 having a conventional safety class of 3R, for example. That is, the sample 1 which is an object to be irradiated is placed on the
図4に示したレーザー照射装置10では、扉14を開放した時にはレーザービームはシャッターで遮断されて試料1へ照射されないので、扉14を開けてオペレータが試料1上のレーザービームの照射ポイントPを観察しながら試料1または試料ステージ2を手作業で移動して照射ポイントPを所定の位置に正確に整合させるような作業はできないという問題がある。更には、鍵操作を要する制御部が設けられている安全クラスが3Bまたは4のレーザー照射装置では、何等かの原因によって鍵が操作されたような状態になると、扉14は閉じたと判断されてシャッターが開放され、レーザービームが放射されてオペレータが被曝するという事態を招く。
In the laser irradiation apparatus 10 shown in FIG. 4, when the
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、安全クラスが1を超えるレーザー照射装置において、アクセスパネルを移動または取り外した時に、簡単な機構によってレーザービームによる人体の被曝を確実に防ぐことが可能であり、かつ被照射体上におけるレーザービームの照射ポイントをオペレータが観察しながら手作業によって正確かつ安全に位置決めし得るレーザー照射装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to ensure that a human body is exposed to a laser beam by a simple mechanism when the access panel is moved or removed in a laser irradiation apparatus having a safety class exceeding 1. It is an object of the present invention to provide a laser irradiation apparatus that can be prevented from being accidentally detected and can be accurately and safely positioned manually by an operator while observing an irradiation point of a laser beam on an irradiated object.
上記の目的を達成するために、本発明のレーザー照射装置は、その保護筐体のアクセスパネルの開閉検知センサと、その開閉検知センサのみに連動しており、それ以外によっては操作されない減光手段とが設置されており、アクセスパネルを開放する操作が開始され、開閉検知センサがその開放を検知すると、レーザービームの光路へ減光手段が挿入され、レーザービームの透過光量を減少させて安全クラスが1とされることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the laser irradiation apparatus of the present invention is linked to the open / close detection sensor of the access panel of the protective housing, and the dimming means that is linked only to the open / close detection sensor and is not operated otherwise. When the operation to open the access panel is started and the open / close detection sensor detects the opening, a dimming means is inserted into the optical path of the laser beam to reduce the amount of transmitted light of the laser beam and Is set to 1.
上記減光手段としては、レーザービームの光路へ挿入されてレーザービームを吸収し透過光量を減少させるNDフィルタ(減光フィルタ)が好適に使用される。またレーザービームの一部は透過させるが大部は反射させる反射型NDフィルタをビームスプリッタとして使用してもよい。また、NDフィルタ、反射型NDフィルタは、開閉検知センサがアクセスパネルの開放を検知すると、レーザービームが本来の光路から切り替えるように設定されているバイパス光路に設けたものであってもよい。 As the light reducing means, an ND filter (light reducing filter) that is inserted into the optical path of the laser beam and absorbs the laser beam to reduce the amount of transmitted light is preferably used. A reflection type ND filter that transmits a part of the laser beam but reflects most of the laser beam may be used as a beam splitter. The ND filter and the reflective ND filter may be provided in a bypass optical path that is set so that the laser beam is switched from the original optical path when the open / close detection sensor detects the opening of the access panel.
本発明によれば、安全クラスが1を超えるレーザー照射装置が稼動中であっても、保護筐体のアクセスパネルを開放する操作が開始され、開閉検知センサがその開放を検知すると、レーザービームの光路へ減光手段が挿入され透過光量を減少させて安全クラスを1にするので、オペレータは保護筐体内で被照射体へ照射されている減光されたレーザービームの照射ポイントを観察しながら手作業で被照射体を移動させて照射ポイントを所定の位置へ正確かつ安全に整合させることができる。 According to the present invention, even when a laser irradiation apparatus with a safety class exceeding 1 is in operation, an operation to open the access panel of the protective housing is started, and when the open / close detection sensor detects the opening, Since the light attenuation means is inserted into the optical path to reduce the amount of transmitted light and the safety class is set to 1, the operator manually observes the irradiation point of the attenuated laser beam irradiated to the irradiated object in the protective housing. The irradiated object can be moved by the operation, and the irradiation point can be accurately and safely aligned with a predetermined position.
以下に図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。
図1は本実施形態に係るレーザー照射装置20の構成要素を概略的に示す部分破断図である。図1において図4のレーザー照射装置10と共通の構成要素には同一の符号を付しているので、それらの説明は省略する。本実施形態のレーザー照射装置20は扉14の開閉検知センサ21が保護筐体11に取り付けられており、扉14の開放操作が開始されると、その開放を検知した開閉検知センサ21から制御部22へ開放検知信号が入力される。制御部22は開放検知信号に基づいて、一点鎖線で示す待機位置にあるNDフィルタ23を実線で示す位置へ移動させてレーザービームの光路4へ挿入し、レーザービームを吸収してレーザービームの透過光量を減少させ、レーザー照射装置20の安全クラスを1にする。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a partially cutaway view schematically showing components of a laser irradiation apparatus 20 according to the present embodiment. In FIG. 1, the same reference numerals are given to the same components as those of the laser irradiation apparatus 10 of FIG. In the laser irradiation apparatus 20 of the present embodiment, the opening / closing detection sensor 21 of the
NDフィルタ23には、ガラス基板内に光吸収物質を均等に混ぜてレーザービームを吸収させる吸収型のNDフィルタが好適に使用される。NDフィルタ23は、レーザー照射装置20の元来の安全クラスに応じて、レーザービームの吸収率の異なるもの、すなわち、透過光量を例えば(1/2)、(1/4)、(1/8)、・・・・、(1/400)、または(1/1000)に減少させるものが適宜選択される。
As the ND filter 23, an absorption type ND filter that absorbs a laser beam by uniformly mixing a light-absorbing substance in a glass substrate is preferably used. Depending on the original safety class of the laser irradiation device 20, the
次に上記の実施形態のレーザー照射装置20の作用を説明する。図1を参照し、例えば安全クラスが3Rであるレーザー照射装置20において、扉14は閉じられており、吸収型のNDフィルタ23が待機位置にある状態において、レーザー発振器3から放射されて光路4に沿って進むレーザーは反射ミラー6によっても下方へ向きを変えられて、集光レンズ8を介して試料1に照射されているものとする。そして、試料1上の照射点Pの位置が適切でない場合には、照射点Pの位置を正確に位置決めすることを要する。この場合、扉14を図示しない制御部によって開放するが、扉14の開放が開始されると開閉検知センサ21はその開放を検知して検知信号を制御部22へ入力し、その入力信号に基づいて制御部22は待機位置のNDフィルタ23を実線で示す位置まで上昇させて光路4へ挿入する。
Next, the operation of the laser irradiation apparatus 20 of the above embodiment will be described. Referring to FIG. 1, in a laser irradiation device 20 having a safety class of 3R, for example, the
使用されているNDフィルタ23は、例えば安全クラスが3Rのレーザー照射装置20のレーザー発振器3から放射されるレーザービームの大部を吸収することにより、レーザー照射装置20の安全クラスを1にする。そしてNDフィルタ23を透過し減光されたレーザービームは試料1を照射し続ける。従ってレーザー照射装置20のオペレータは、レーザーが可視レーザーであればレーザービームおよび照射ポイントPを肉眼で観察することができる。レーザーが紫外線レーザーであれば紫外線を吸収して蛍光を発生する蛍光ガラス板(例えばユーロピウム(Eu3+)、テルビウム(Tb3+)等のイオン蛍光体を配合したガラス板)を介し、また赤外線レーザーであれば赤外線を吸収して蛍光を発生する蛍光ガラス板(例えばエルビウム(Er)、イッテルビウム(Yb)等のフッ化物を配合したガラス板)を介し不可視レーザーを可視化して観察することができるので、試料1の面上の照射点Pが正規の位置を外れている場合には、手作業によって試料1または試料ステージ2を移動させて照射点Pを所定の位置へ正確かつ安全に位置決めすることができる。
The used
位置調整した後、扉14を閉じると、開閉検知センサ21は扉14が閉じられたことを検知して閉鎖信号を制御部22へ入力するので、制御部22はNDフィルタ23を光路4から待機位置へ引き戻すことによりレーザービームの照射は本来の状態に復帰する。
When the
図1においては、開閉検知センサ21から制御部22へ入力される扉14の開放検知信号に基づいて待機位置にあるNDフィルタ23を直線的に移動させてレーザービームの光路4へ挿入する場合を示したが、レーザービームの光路4と垂直に配置したロータリ板の中心の回りに素通し穴部分とNDフィルタ部分とを設けておき、開閉検知センサ21からの開閉検知信号によってロータリ板を回動させて素通し穴部分とNDフィルタ部分とを切り替えるようにしてもよい。そのほか、平面図である図2に示すように、NDフィルタ23の挿入に代えて一対の反射ミラー26a、26dを挿入することにより、レーザービームを光路4の途中で、反射ミラー26b、NDフィルタ23、および反射ミラー26cを備えたバイパス光路4’へ切り替え、NDフィルタ23を透過したレーザービームをバイパス光路4’から本来の光路4へ戻すようにしてもよい。
In FIG. 1, the
上記のNDフィルタ23に換えて、ガラス基板の表面に金属薄膜または誘電体薄膜を成膜してレーザービームの一部は透過させるが大部は反射させる反射型NDフィルタ24を光路4へ挿入し、平面図である図3に示すようにビームスプリッタとして使用して、レーザー照射装置20の安全クラスを1にすることもできる。なお反射型NDフィルタ24を使用する場合には、反射したレーザービームが光路4を逆行してレーザー発振器3へ戻らないように、また反射したレーザービームに人体が被爆しないように光路を構成することを要し、さらには反射レーザービームを吸収体27へ吸収させることが好ましい。
Instead of the
本発明のレーザー照射装置は、加工対象にレーザービームを照射し成形加工するレーザー加工機器の分野、試料にレーザービームを照射し顕微鏡下に試料中における蛍光発生物質の混合状態を観測する顕微フォトルミネッセンスや、試料にレーザービームを照射して試料中の原子やイオンによって散乱されるラマンスペクトルから成分をラマン分光分析するような測定・分析機器の分野、患部にレーザービームを照射して治療する医療機器の分野において有効に利用することができる。そのほか、レーザービームの光軸と光ファイバーの中心軸とを一致させるようにレーザービームの先端を光ファイバーの一端へカップリングさせる場合にも本発明のレーザー照射装置は効果的に利用される。 The laser irradiation apparatus according to the present invention is a field of laser processing equipment for irradiating a laser beam to a processing object, forming a micro beam, and irradiating a sample with a laser beam and observing the mixed state of a fluorescent substance in the sample under a microscope. In addition, the field of measurement and analysis equipment that performs Raman spectroscopic analysis of components from the Raman spectrum scattered by atoms and ions in the specimen by irradiating the specimen with a laser beam, medical equipment that treats the affected area by irradiating the affected area with a laser beam It can be used effectively in the field. In addition, the laser irradiation apparatus of the present invention is also effectively used when the tip of the laser beam is coupled to one end of the optical fiber so that the optical axis of the laser beam coincides with the central axis of the optical fiber.
1 試料
2 試料ステージ
3 レーザー発振器
4 光路
6 反射ミラー
8 集光レンズ
10 従来のレーザー照射装置
11 保護筐体
12 試料照射室
14 扉
20 レーザー照射装置
21 開閉検知センサ
22 制御部
23 NDフィルタ
24 反射型NDフィルタ
26 反射ミラー
27 レーザー吸収体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (5)
前記レーザー照射装置を囲う保護筐体の一部であり、移動または取り外しによって開放可能なアクセスパネルと、
前記アクセスパネルの開閉検知センサと、
前記開閉検知センサが前記アクセスパネルの開放を検知することにより前記レーザーの光路へ挿入されて前記レーザービームの透過光量を減少させる減光手段と、を備え、
前記開閉検知センサによって前記アクセスパネルの開放が検知されると、前記光路へ前記減光手段が挿入されて安全クラスが1とされることを特徴とするレーザー照射装置。 In a laser irradiation device having a safety class of more than 1 for irradiating an irradiated object with a laser beam emitted from a laser oscillator,
An access panel that is part of a protective enclosure surrounding the laser irradiation device and can be opened by movement or removal;
An open / close detection sensor of the access panel;
A dimming unit that is inserted into the optical path of the laser when the open / close detection sensor detects the opening of the access panel to reduce the amount of transmitted light of the laser beam, and
When the opening / closing detection sensor detects the opening of the access panel, the dimming means is inserted into the optical path and the safety class is set to 1.
前記減光手段が前記レーザービームの透過光量を減少させるNDフィルタ(減光フィルタ)、または反射型NDフィルタであることを特徴とするレーザー照射装置。 In the laser irradiation apparatus of Claim 1,
The laser irradiating apparatus characterized in that the dimming means is an ND filter (a dimming filter) or a reflective ND filter for reducing the amount of transmitted light of the laser beam.
前記光路へ前記減光手段が直接に挿入されるものであることを特徴とするレーザー照射装置。 In the laser irradiation apparatus of Claim 2,
A laser irradiation apparatus, wherein the dimming means is directly inserted into the optical path.
前記光路へ少なくとも一対の反射ミラーが挿入されて、前記レーザービームを前記減光手段が配置されたバイパス光路へ導き、当該減光手段を透過したレーザービームを前記バイパス光路から本来の前記光路へ戻すものであることを特徴とするレーザー照射装置。 In the laser irradiation apparatus of Claim 2,
At least a pair of reflecting mirrors are inserted into the optical path, the laser beam is guided to a bypass optical path where the dimming means is disposed, and the laser beam transmitted through the dimming means is returned from the bypass optical path to the original optical path. Laser irradiation apparatus characterized by being a thing.
前記レーザー照射型分析装置に前記アクセスパネルの開閉検知センサと、前記開閉検知センサが前記アクセスパネルの開放を検知すると前記レーザービームの光路へ挿入され前記レーザービームの透過光量を減少させて当該レーザー照射型分析装置の安全クラスを1とする減光手段が設けられており、
前記アクセスパネルを開放すると、その開放の検知信号によって前記レーザービームの光路へ前記減光手段が挿入されることにより、減光された前記レーザービームおよび前記試料上の照射点を観察しながら前記照射ポイントの位置決めが可能であることを特徴とするレーザー照射型分析装置。 An irradiation system comprising at least a laser oscillator and a sample irradiated with a laser beam from the laser oscillator, a protective housing that surrounds the irradiation system, and an access panel that is a part of the protective housing and is movable or removable A laser irradiation type analyzer comprising a sample irradiation chamber having a laser irradiation on a sample arranged in the sample irradiation chamber,
When the open / close detection sensor of the access panel and the open / close detection sensor detect the opening of the access panel, the laser irradiation type analyzer is inserted into the optical path of the laser beam to reduce the transmitted light amount of the laser beam. A dimming means is provided with a safety class of the type analyzer as 1.
When the access panel is opened, the dimming means is inserted into the optical path of the laser beam according to the open detection signal, so that the irradiation is performed while observing the dimmed laser beam and the irradiation point on the sample. A laser irradiation type analyzer characterized in that the point can be positioned.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008025589A JP2009188128A (en) | 2008-02-05 | 2008-02-05 | Laser irradiation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008025589A JP2009188128A (en) | 2008-02-05 | 2008-02-05 | Laser irradiation apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009188128A true JP2009188128A (en) | 2009-08-20 |
Family
ID=41071096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008025589A Pending JP2009188128A (en) | 2008-02-05 | 2008-02-05 | Laser irradiation apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009188128A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012102903A (en) * | 2010-11-08 | 2012-05-31 | Nippon Koki Co Ltd | Laser emitting device |
WO2018220761A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | ギガフォトン株式会社 | Extreme uv light generation system |
CN110398613A (en) * | 2018-04-25 | 2019-11-01 | 株式会社岛津制作所 | Scanning type probe microscope and light intensity regulation method |
US10996238B2 (en) | 2019-04-04 | 2021-05-04 | Shimadzu Corporation | Surface analyzer |
WO2021090908A1 (en) | 2019-11-08 | 2021-05-14 | 株式会社堀場製作所 | Laser analysis device |
US11499989B2 (en) | 2018-10-16 | 2022-11-15 | Shimadzu Corporation | Surface analysis device |
WO2023021622A1 (en) * | 2021-08-18 | 2023-02-23 | ギガフォトン株式会社 | Bypass device, laser apparatus, and method for manufacturing electronic device |
-
2008
- 2008-02-05 JP JP2008025589A patent/JP2009188128A/en active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012102903A (en) * | 2010-11-08 | 2012-05-31 | Nippon Koki Co Ltd | Laser emitting device |
WO2018220761A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | ギガフォトン株式会社 | Extreme uv light generation system |
US10842011B2 (en) | 2017-05-31 | 2020-11-17 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generation system |
CN110398613A (en) * | 2018-04-25 | 2019-11-01 | 株式会社岛津制作所 | Scanning type probe microscope and light intensity regulation method |
US10598691B2 (en) | 2018-04-25 | 2020-03-24 | Shimadzu Corporation | Scanning probe microscope and light intensity adjusting method |
US11499989B2 (en) | 2018-10-16 | 2022-11-15 | Shimadzu Corporation | Surface analysis device |
US10996238B2 (en) | 2019-04-04 | 2021-05-04 | Shimadzu Corporation | Surface analyzer |
WO2021090908A1 (en) | 2019-11-08 | 2021-05-14 | 株式会社堀場製作所 | Laser analysis device |
EP4047354A4 (en) * | 2019-11-08 | 2023-12-06 | HORIBA, Ltd. | Laser analysis device |
WO2023021622A1 (en) * | 2021-08-18 | 2023-02-23 | ギガフォトン株式会社 | Bypass device, laser apparatus, and method for manufacturing electronic device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009188128A (en) | Laser irradiation apparatus | |
US5379103A (en) | Method and apparatus for in situ detection of minute amounts of trace elements | |
US7233643B2 (en) | Measurement apparatus and method for determining the material composition of a sample by combined X-ray fluorescence analysis and laser-induced breakdown spectroscopy | |
Jeffries et al. | Application of a frequency quintupled Nd: YAG source (λ= 213 nm) for laser ablation inductively coupled plasma mass spectrometric analysis of minerals | |
US20040183018A1 (en) | Laser-induced breakdown spectroscopy with second harmonic guide light | |
US4716288A (en) | Security device for detecting defects in transmitting fiber | |
JP2021526213A (en) | Methods and equipment for standoff difference Raman spectroscopy with improved eye safety and reduced risk of explosion | |
Saxena et al. | Laser-induced plasma in aqueous media: numerical simulation and experimental validation of spatial and temporal profiles | |
Kotsina et al. | Short-wavelength probes in time-resolved photoelectron spectroscopy: an extended view of the excited state dynamics in acetylacetone | |
Khalil et al. | Detection of carcinogenic metals in kidney stones using ultraviolet laser-induced breakdown spectroscopy | |
Dobosz et al. | Probing hot and dense laser-induced plasmas with ultrafast XUV pulses | |
Yun et al. | Laser-induced breakdown spectroscopy for the on-line multielement analysis of highly radioactive glass melt. Part I: characterization and evaluation of the method | |
JP2004309458A (en) | Time-resolved fluorescence microscope | |
Kantsyrev et al. | New concepts for x-ray, soft x-ray, and EUV optical instrumentation including applications in spectroscopy, plasma diagnostics, and biomedical microscopy: a status report | |
EP1775576A1 (en) | Laser analytical instrument, laser analytical method, and gas leak inspection instrument | |
Nishijima et al. | Dynamic deuterium retention properties of tungsten measured using laser-induced breakdown spectroscopy | |
Garmatina et al. | Vacuum-free femtosecond fiber laser microplasma X-ray source for radiography | |
Velpula et al. | Femtosecond laser damage resistance of beam dump materials for high-peak power laser systems | |
JP6818322B2 (en) | Mass spectrometer and mass spectrometry method | |
CN115266578A (en) | Analysis device | |
Lamour et al. | X-ray production in short laser pulse interaction with rare gas clusters | |
Zhang et al. | Elimination of X-rays irradiated defects in fused silica by laser conditioning | |
Kafka et al. | Methods and apparatus for comprehensive characterization of performance attributes and damage thresholds of ultrafast laser optics | |
JPH1090608A (en) | Microscope device | |
JP2001021510A (en) | X-ray analysis apparatus |