JP2009176590A

JP2009176590A - Organic el device, method of manufacturing organic el device, and electronic equipment

Info

Publication number: JP2009176590A
Application number: JP2008014569A
Authority: JP
Inventors: Kozo Shimokami; 耕造下神; Tsukasa Ota; 司大田
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2008-01-25
Filing date: 2008-01-25
Publication date: 2009-08-06

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device, a method of manufacturing an organic EL device, and electronic equipment in which ink does not hardly overflow and a position of the ink is stabilized after being applied. SOLUTION: In the organic EL device 11, a circuit element layer is formed on a glass substrate, and a pixel electrode is formed on the circuit element layer. An insulated layer is formed on the pixel electrode at a range excluding light-emitting zones 12. A bank 34 for storing a functional layer material is formed around a range where the light-emitting zones 12 are gathered. An opening 37 surrounded by the banks 34 has a long side 43 and a short side 44. A first lyophilic membrane 41 is formed on a sidewall at a long-side 43 side. A second lyophilic membrane 42 with a lyophilic property lower than that of the first lyophilic membrane 41 is formed on a sidewall at a short-side 44 side. Thus, when liquid 45 as a functional layer material is discharged to the opening 37, the liquid 45 existing at the short-side 44 side can be moved to the long-side 43 side. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液滴吐出法を用いて機能層を形成する有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法、電子機器に関する。 The present invention relates to an organic EL device that forms a functional layer using a droplet discharge method, a method for manufacturing the organic EL device, and an electronic apparatus.

上記した有機ＥＬ装置は、例えば、ラインプリンタ等のプリンタヘッドの光源として用いられる。有機ＥＬ装置の製造方法は、図７に示すように、まず、基板上の発光領域が集まる領域１１１を囲むようにバンク（隔壁）１１２を形成する。バンク１１２に囲まれた開口部１１３の形状は、長辺１１４と短辺１１５とを有する細長状の形状となっている。次に、開口部１１３の中に、例えば、機能層の材料である液体１１６を、インクジェット法を用いて吐出する。 The above-described organic EL device is used as a light source of a printer head such as a line printer, for example. In the method of manufacturing the organic EL device, as shown in FIG. 7, first, banks (partition walls) 112 are formed so as to surround a region 111 where light emitting regions are gathered on a substrate. The shape of the opening 113 surrounded by the bank 112 is an elongated shape having a long side 114 and a short side 115. Next, for example, a liquid 116 that is a material of a functional layer is discharged into the opening 113 by using an inkjet method.

この時、開口部１１３における短辺１１５側に液体１１６が集中することから、短辺１１５側から液体１１６が溢れるという問題がある。そこで、例えば、特許文献１に記載のように、バンク１１２に撥液処理（例えば、ＣＦ₄プラズマ処理）を施すことにより、短辺１１５側から液体１１６が溢れることを抑えている。 At this time, since the liquid 116 concentrates on the short side 115 side in the opening 113, there is a problem that the liquid 116 overflows from the short side 115 side. Therefore, for example, as described in Patent Document 1, a liquid repellent process (for example, CF ₄ plasma process) is performed on the bank 112 to prevent the liquid 116 from overflowing from the short side 115 side.

特許第３３２８２９７号公報Japanese Patent No. 3328297

しかしながら、例えば、機能層の一つである正孔輸送層のように、液体１１６の濃度が薄いもの（固形分濃度が薄いもの）を開口部１１３の中に大量に打ち込むと、撥液処理の能力を超えると共に液体１１６のバランスが崩れて短辺１１５側から溢れてしまう。これにより、膜厚が不均一になり、歩留まりが低下するという問題がある。また、液体１１６が溢れないようにバンク１１２を高くすると、例えば、バンク１１２上に形成した陰極等にクラックが発生しやすくなるという問題がある。 However, for example, when a large amount of liquid 116 having a low concentration of liquid 116 (thin solid content concentration), such as a hole transport layer that is one of the functional layers, is injected into the opening 113, the liquid repellent treatment is performed. As the capacity is exceeded, the balance of the liquid 116 collapses and overflows from the short side 115 side. As a result, there is a problem that the film thickness becomes non-uniform and the yield decreases. Further, when the bank 112 is raised so that the liquid 116 does not overflow, for example, there is a problem that a crack or the like formed on the bank 112 is likely to occur.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例に係る有機ＥＬ装置は、基板上に形成された画素電極と、前記画素電極が集まる領域を囲むように形成されたバンクと、前記バンクに囲まれた開口部に形成された機能層と、前記機能層上及び前記バンク上を含む前記基板上の全体に形成された陰極と、を有し、前記開口部は、長辺と短辺とを備え、前記長辺側の領域における少なくとも一部の領域に、前記短辺側の前記バンクより親液性の高い第１親液膜が形成されていることを特徴とする。 Application Example 1 An organic EL device according to this application example includes a pixel electrode formed on a substrate, a bank formed so as to surround a region where the pixel electrode is gathered, and an opening surrounded by the bank. A functional layer formed; and a cathode formed on the entire substrate including the functional layer and the bank; and the opening includes a long side and a short side, and the long side A first lyophilic film having a higher lyophilic property than the bank on the short side is formed in at least a part of the region on the side.

この構成によれば、長辺側の領域に、短辺側にあるバンクより親液性の高い第１親液膜が形成されているので、長辺側の領域に液体を馴染ませることが可能となり、短辺側にある液体を長辺側の方向に移動させる（開口部の中央付近に引き寄せる）ことができる。よって、短辺側から機能層の材料である液体が溢れることを抑えることができる。更に、開口部に塗布された液体の厚みを均一にすることができる。 According to this configuration, since the first lyophilic film having higher lyophilicity than the bank on the short side is formed in the long side area, it is possible to blend the liquid into the long side area. Thus, the liquid on the short side can be moved in the direction of the long side (near the center of the opening). Therefore, it is possible to prevent the liquid that is the material of the functional layer from overflowing from the short side. Furthermore, the thickness of the liquid applied to the opening can be made uniform.

［適用例２］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記第１親液膜は、前記開口部の側壁に沿って形成されていることが好ましい。 Application Example 2 In the organic EL device according to the application example, it is preferable that the first lyophilic film is formed along a side wall of the opening.

この構成によれば、側壁に沿って第１親液膜が形成されているので、比較的液体が入り込みにくいバンクの角部（底の端）近傍に液体を充填させることが可能となる。よって、長辺側の領域に液体を濡れ広がらせることが可能となり、短辺側にある液体を長辺側に移動させることができる。これにより、短辺側から液体が溢れることを抑えることができる。 According to this configuration, since the first lyophilic film is formed along the side wall, the liquid can be filled in the vicinity of the corner (bottom end) of the bank where the liquid is relatively difficult to enter. Therefore, the liquid can be wetted and spread in the region on the long side, and the liquid on the short side can be moved to the long side. Thereby, it can suppress that a liquid overflows from a short side.

［適用例３］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記第１親液膜は、多孔質構造であることが好ましい。 Application Example 3 In the organic EL device according to the application example, it is preferable that the first lyophilic film has a porous structure.

この構成によれば、多孔質構造によって露出する第１親液膜の表面積を多くすることが可能となり、液体と接触する面積を増やすことができる。よって、長辺側の領域に液体をより馴染ませることが可能となり、短辺側にある液体を長辺側により移動させることができる。 According to this configuration, the surface area of the first lyophilic film exposed by the porous structure can be increased, and the area in contact with the liquid can be increased. Therefore, it becomes possible to make the liquid more familiar with the region on the long side, and the liquid on the short side can be moved on the long side.

［適用例４］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記第１親液膜が複数に分割されていると共に間隔をおいて形成されていることが好ましい。 Application Example 4 In the organic EL device according to the application example described above, it is preferable that the first lyophilic film is divided into a plurality of parts and formed at intervals.

この構成によれば、第１親液膜が間隔をおいて分割されていることにより、露出する第１親液膜の面積を多くすることが可能となり、より液体と接触する面積を増やすことができる。よって、長辺側の領域に液体を馴染ませることが可能となり、短辺側にある液体を長辺側により移動させることができる。 According to this configuration, since the first lyophilic film is divided at intervals, the exposed area of the first lyophilic film can be increased, and the area in contact with the liquid can be increased. it can. Therefore, it becomes possible to adjust the liquid to the region on the long side, and the liquid on the short side can be moved on the long side.

［適用例５］上記適用例に係る有機ＥＬ装置において、前記短辺側の領域に前記第１親液膜より相対的に親液性が低い第２親液膜が形成されていることが好ましい。 Application Example 5 In the organic EL device according to the application example described above, it is preferable that a second lyophilic film having a lower lyophilic property than the first lyophilic film is formed in the region on the short side. .

この構成によれば、第１親液膜より相対的に親液性の低い第２親液膜が短辺側に形成されているので、短辺側にある液体の接触角を第１親液膜と比較して大きくすることができる。よって、短辺側にある液体を長辺側に移動させることが可能となる。その結果、短辺側から液体が溢れることを抑えることができる。 According to this configuration, since the second lyophilic film having a lower lyophilic property than the first lyophilic film is formed on the short side, the contact angle of the liquid on the short side is set to the first lyophilic liquid. It can be made larger than the membrane. Therefore, the liquid on the short side can be moved to the long side. As a result, the liquid can be prevented from overflowing from the short side.

［適用例６］本適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法は、基板上に画素電極を形成する工程と、前記画素電極が集まる領域を囲むようにバンクを形成する工程と、前記バンクに囲まれた開口部に液滴吐出法を用いて機能層を形成する工程と、前記機能層上及び前記バンク上を含む前記基板上の全体に陰極を形成する工程と、を有し、前記開口部は、長辺と短辺とを備え、前記機能層を形成する工程の前に、前記長辺側の領域における少なくとも一部の領域に前記短辺側の前記バンクより親液性の高い第１親液膜を形成する工程を有することを特徴とする。 Application Example 6 An organic EL device manufacturing method according to this application example includes a step of forming a pixel electrode on a substrate, a step of forming a bank so as to surround a region where the pixel electrode is gathered, and the surrounding of the bank. Forming a functional layer in the opened opening using a droplet discharge method, and forming a cathode on the entire substrate including the functional layer and the bank, the opening. Is provided with a long side and a short side, and before the step of forming the functional layer, at least a part of the long side region is more lyophilic than the bank on the short side. It has the process of forming a lyophilic film.

この方法によれば、開口部における長辺側の領域に、短辺側のバンクより親液性の高い第１親液膜を形成するので、長辺側の領域に液体を馴染ませることが可能となり、液体が溢れやすい短辺側にある液体を長辺側の方向に移動させる（開口部の中央付近に引き寄せる）ことができる。よって、短辺側から機能層の材料である液体が溢れることを抑えることができる。更に、開口部に塗布された液体の厚みを均一にすることができる。 According to this method, since the first lyophilic film having higher lyophilicity than the short side bank is formed in the long side region of the opening, it is possible to adjust the liquid to the long side region. Thus, the liquid on the short side where the liquid tends to overflow can be moved in the direction of the long side (near the center of the opening). Therefore, it is possible to prevent the liquid that is the material of the functional layer from overflowing from the short side. Furthermore, the thickness of the liquid applied to the opening can be made uniform.

［適用例７］上記適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法において、前記第１親液膜は、複数に分割すると共に間隔をおいて形成することが好ましい。 Application Example 7 In the method for manufacturing an organic EL device according to the application example, it is preferable that the first lyophilic film is divided into a plurality of parts and is formed at intervals.

この方法によれば、第１親液膜を間隔をおいて分割することにより、露出する第１親液膜の面積を多くすることが可能となり、より液体と接触する面積を増やすことができる。よって、長辺側の領域に液体を馴染ませることが可能となり、短辺側にある液体を長辺側により移動させることができる。 According to this method, by dividing the first lyophilic film at intervals, the exposed area of the first lyophilic film can be increased, and the area in contact with the liquid can be further increased. Therefore, it becomes possible to adjust the liquid to the region on the long side, and the liquid on the short side can be moved on the long side.

［適用例８］上記適用例に係る有機ＥＬ装置の製造方法において、前記機能層を形成する工程の前に、前記短辺側の領域に前記第１親液膜より相対的に親液性が低い第２親液膜を形成することが好ましい。 Application Example 8 In the method for manufacturing an organic EL device according to the application example described above, before the step of forming the functional layer, the region on the short side is relatively lyophilic than the first lyophilic film. It is preferable to form a low second lyophilic film.

この方法によれば、第１親液膜より相対的に親液性の低い第２親液膜を短辺側に形成するので、短辺側にある液体の接触角を第１親液膜と比較して大きくすることができる。よって、短辺側にある液体を長辺側に移動させることが可能となる。その結果、短辺側から液体が溢れることを抑えることができる。 According to this method, the second lyophilic film having a lower lyophilic property than the first lyophilic film is formed on the short side, so that the contact angle of the liquid on the short side is set to the first lyophilic film. It can be enlarged in comparison. Therefore, the liquid on the short side can be moved to the long side. As a result, the liquid can be prevented from overflowing from the short side.

［適用例９］本適用例に係る電子機器は、上記記載の有機ＥＬ装置を備えていることを特徴とする。 Application Example 9 An electronic apparatus according to this application example includes the organic EL device described above.

この構成によれば、開口部の中の液体の厚みを安定させ、歩留まりを向上させることができる電子機器を得ることができる。 According to this configuration, it is possible to obtain an electronic device that can stabilize the thickness of the liquid in the opening and improve the yield.

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の有機ＥＬ装置の構造を示す模式断面図である。以下、有機ＥＬ装置の構造を、図１を参照しながら説明する。なお、図１は、各構成要素の断面的な位置関係を示すものであり、相対関係は度外視されている。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the organic EL device of the first embodiment. Hereinafter, the structure of the organic EL device will be described with reference to FIG. In addition, FIG. 1 shows the cross-sectional positional relationship of each component, and the relative relationship is exaggerated.

図１に示すように、有機ＥＬ装置１１は、発光領域１２において発光が行われるものであり、基板１３と、基板１３上に形成された回路素子層１４と、回路素子層１４上に形成された発光素子層１５と、発光素子層１５上に形成された陰極（共通電極）１６とを有する。基板１３としては、例えば、透光性を有するガラス基板が挙げられる（以下、「ガラス基板１３」と称する。）。 As shown in FIG. 1, the organic EL device 11 emits light in the light emitting region 12, and is formed on the substrate 13, the circuit element layer 14 formed on the substrate 13, and the circuit element layer 14. The light emitting element layer 15 and a cathode (common electrode) 16 formed on the light emitting element layer 15. Examples of the substrate 13 include a glass substrate having translucency (hereinafter referred to as “glass substrate 13”).

回路素子層１４には、ガラス基板１３上にシリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）からなる下地保護膜１７が形成され、下地保護膜１７上にＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子１８が形成されている。詳しくは、下地保護膜１７上に、ポリシリコン膜からなる島状の半導体膜１９が形成されている。半導体膜１９には、ソース領域２１及びドレイン領域２２が不純物の導入によって形成されている。そして、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域２３となっている。 In the circuit element layer 14, a base protective film 17 made of a silicon oxide film (SiO ₂ ) is formed on a glass substrate 13, and a TFT (Thin Film Transistor) element 18 is formed on the base protective film 17. Specifically, an island-shaped semiconductor film 19 made of a polysilicon film is formed on the base protective film 17. A source region 21 and a drain region 22 are formed in the semiconductor film 19 by introducing impurities. A portion where no impurity is introduced is a channel region 23.

更に、回路素子層１４には、下地保護膜１７及び半導体膜１９を覆うシリコン酸化膜等からなる透明なゲート絶縁膜２４が形成されている。ゲート絶縁膜２４上には、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）などからなるゲート電極２５（走査線）が形成されている。 Further, a transparent gate insulating film 24 made of a silicon oxide film or the like covering the base protective film 17 and the semiconductor film 19 is formed on the circuit element layer 14. On the gate insulating film 24, a gate electrode 25 (scanning line) made of aluminum (Al), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), titanium (Ti), tungsten (W), or the like is formed.

ゲート絶縁膜２４及びゲート電極２５上には、透明な第１層間絶縁膜２６及び第２層間絶縁膜２７が形成されている。第１層間絶縁膜２６及び第２層間絶縁膜２７は、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）、チタン酸化膜（ＴｉＯ₂）などから構成されている。ゲート電極２５は、半導体膜１９のチャネル領域２３に対応する位置に設けられている。 A transparent first interlayer insulating film 26 and second interlayer insulating film 27 are formed on the gate insulating film 24 and the gate electrode 25. The first interlayer insulating film 26 and the second interlayer insulating film 27 are composed of, for example, a silicon oxide film (SiO ₂ ), a titanium oxide film (TiO ₂ ), or the like. The gate electrode 25 is provided at a position corresponding to the channel region 23 of the semiconductor film 19.

半導体膜１９のソース領域２１は、第１層間絶縁膜２６及びゲート絶縁膜２４を貫通して設けられたコンタクトホール２８を介して、第１層間絶縁膜２６上に形成された信号線２９と電気的に接続されている。一方、ドレイン領域２２は、第２層間絶縁膜２７、第１層間絶縁膜２６、ゲート絶縁膜２４を貫通して設けられたコンタクトホール３１を介して、第２層間絶縁膜２７上に形成された画素電極３２と電気的に接続されている。 The source region 21 of the semiconductor film 19 is electrically connected to the signal line 29 formed on the first interlayer insulating film 26 through a contact hole 28 provided through the first interlayer insulating film 26 and the gate insulating film 24. Connected. On the other hand, the drain region 22 is formed on the second interlayer insulating film 27 through a contact hole 31 provided through the second interlayer insulating film 27, the first interlayer insulating film 26, and the gate insulating film 24. The pixel electrode 32 is electrically connected.

画素電極３２は、例えば、発光領域１２ごとに形成されている。また、画素電極３２は、透明のＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜からなり、発光領域１２における発光を下方のガラス基板１３側に射出させることが可能となっている。また、画素電極３２は、例えば、平面方向に見て丸形状となっている。なお、回路素子層１４には、図示しない保持容量及びスイッチング用のトランジスタが形成されている。このようにして、回路素子層１４には、各画素電極３２に接続された駆動用のトランジスタが形成されている。 For example, the pixel electrode 32 is formed for each light emitting region 12. Further, the pixel electrode 32 is made of a transparent ITO (Indium Tin Oxide) film, and can emit light emitted from the light emitting region 12 to the lower glass substrate 13 side. The pixel electrode 32 has, for example, a round shape when viewed in the plane direction. In the circuit element layer 14, a storage capacitor and a switching transistor (not shown) are formed. In this manner, the driving transistor connected to each pixel electrode 32 is formed in the circuit element layer 14.

発光素子層１５は、発光素子３５を具備してガラス基板１３上に形成されている。詳述すると、発光素子層１５は、画素電極３２上に形成された機能層３３と、機能層３３を区画するバンク３４とを主体として構成されている。機能層３３上及びバンク３４上には、陰極１６が配置されている。画素電極３２と、機能層３３と、陰極１６とによって発光素子３５が構成されている。 The light emitting element layer 15 includes the light emitting element 35 and is formed on the glass substrate 13. More specifically, the light emitting element layer 15 is mainly composed of a functional layer 33 formed on the pixel electrode 32 and a bank 34 that partitions the functional layer 33. On the functional layer 33 and the bank 34, the cathode 16 is disposed. A light emitting element 35 is configured by the pixel electrode 32, the functional layer 33, and the cathode 16.

回路素子層１４とバンク３４との間には、絶縁層３６が形成されている。絶縁層３６は、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯ₂）である。絶縁層３６は、隣り合う画素電極３２間の絶縁性を確保すると共に、発光領域１２の形状を所望の形状（例えば、丸形状）にするために、画素電極３２の周縁部上に乗り上げるように形成されている。つまり、画素電極３２と絶縁層３６とは、平面的に一部が重なるように配置された構造となっている。また、絶縁層３６は、発光領域１２を除いた領域に形成されていることになる。 An insulating layer 36 is formed between the circuit element layer 14 and the bank 34. The insulating layer 36 is, for example, a silicon oxide film (SiO ₂ ). The insulating layer 36 is placed on the peripheral edge of the pixel electrode 32 in order to ensure insulation between the adjacent pixel electrodes 32 and to make the shape of the light emitting region 12 a desired shape (for example, a round shape). Is formed. That is, the pixel electrode 32 and the insulating layer 36 have a structure in which a part thereof overlaps in plan view. The insulating layer 36 is formed in a region excluding the light emitting region 12.

バンク３４は、発光領域１２が集まる領域を囲むように形成されている。つまり、囲まれた領域がバンク３４の開口部３７となる。開口部３７は、長辺４３と短辺４４とを有する細長状の形状となっている（図２参照）。バンク３４の材質としては、例えば、有機材料が挙げられる。 The bank 34 is formed so as to surround a region where the light emitting regions 12 gather. That is, the enclosed region becomes the opening 37 of the bank 34. The opening 37 has an elongated shape having a long side 43 and a short side 44 (see FIG. 2). Examples of the material of the bank 34 include organic materials.

開口部３７の内周側壁には、第１親液膜４１と第２親液膜４２（図２参照）とが形成されている。具体的には、例えば、開口部３７の中に吐出された機能層３３の液体材料が、開口部３７における長辺４３側と短辺４４側とで位置にばらつきがあることから、正規の位置に移動させるために用いられる。 A first lyophilic film 41 and a second lyophilic film 42 (see FIG. 2) are formed on the inner peripheral side wall of the opening 37. Specifically, for example, the liquid material of the functional layer 33 discharged into the opening 37 has a variation in position between the long side 43 side and the short side 44 side in the opening 37, so that the normal position Used to move to.

機能層３３は、例えば、正孔注入輸送層と、発光層と、電子注入輸送層とがバンク３４に囲まれた領域、すなわち開口部３７に、インクジェット法を用いて順に形成されている。詳述すると、正孔注入輸送層は、正孔注入層と正孔輸送層とが積層されて構成されている。電子注入輸送層は、電子輸送層と電子注入層とが積層されて構成されている。 For example, the functional layer 33 is sequentially formed in an area where the hole injection transport layer, the light emitting layer, and the electron injection transport layer are surrounded by the bank 34, that is, the opening 37 using the ink jet method. Specifically, the hole injection / transport layer is formed by laminating a hole injection layer and a hole transport layer. The electron injection / transport layer is formed by stacking an electron transport layer and an electron injection layer.

陰極１６は、機能層３３及びバンク３４を含む基板上の全体にベタ状に形成されている。具体的には、陰極１６は、例えば、カルシウム（Ｃａ）及びアルミニウム（Ａｌ）の積層体である。陰極１６の上には、水や酸素の侵入を防ぐための、樹脂などからなる封止部材（図示せず）が積層されている。なお、発光素子層１５と陰極１６とによって発光素子３５が構成される。 The cathode 16 is formed in a solid shape on the entire substrate including the functional layer 33 and the bank 34. Specifically, the cathode 16 is a laminated body of calcium (Ca) and aluminum (Al), for example. On the cathode 16, a sealing member (not shown) made of resin or the like for preventing water and oxygen from entering is laminated. The light emitting element 35 is constituted by the light emitting element layer 15 and the cathode 16.

上述した発光層は、エレクトロルミネッセンス現象を発現する有機発光物質の層である。画素電極３２と陰極１６との間に電圧を印加することによって、発光層には、正孔注入層から正孔が、また、陰極１６から電子が注入される。発光層において、これらが結合したときに光を発する。 The light emitting layer described above is a layer of an organic light emitting material that exhibits an electroluminescence phenomenon. By applying a voltage between the pixel electrode 32 and the cathode 16, holes are injected from the hole injection layer and electrons are injected from the cathode 16 into the light emitting layer. In the light emitting layer, light is emitted when they are combined.

図２は、有機ＥＬ装置のバンクの構造を示す模式図である。（ａ）は、バンクの構造を上方から見た模式平面図である。（ｂ）は、（ａ）に示すバンクのＡ−Ａ断面に沿う模式断面図である。（ｃ）は、（ａ）に示すバンクのＢ−Ｂ断面に沿う模式断面図である。以下、バンク３４の構造を、図２を参照しながら説明する。なお、図２に示すバンク３４は、上記した画素電極３２及び絶縁層３６の図示を省略している。 FIG. 2 is a schematic diagram showing the bank structure of the organic EL device. (A) is the schematic top view which looked at the structure of the bank from the upper direction. (B) is a schematic cross section which follows the AA cross section of the bank shown to (a). (C) is a schematic cross section which follows the BB cross section of the bank shown to (a). Hereinafter, the structure of the bank 34 will be described with reference to FIG. In the bank 34 shown in FIG. 2, the pixel electrode 32 and the insulating layer 36 are not shown.

バンク３４は、上記したように、機能層３３を区画する開口部３７を有する。開口部３７は、例えば、平面視で長辺４３と短辺４４とを有する細長状に形成されている。開口部３７の大きさは、例えば、短辺４４側が７６０μｍ、長辺４３側が３０ｃｍである。バンク３４の高さ（開口部３７の深さ）は、例えば、２μｍである。バンク３４の材質としては、例えば、アクリル樹脂が挙げられる。 As described above, the bank 34 has the opening 37 that partitions the functional layer 33. The opening 37 is formed in an elongated shape having a long side 43 and a short side 44 in a plan view, for example. The size of the opening 37 is, for example, 760 μm on the short side 44 side and 30 cm on the long side 43 side. The height of the bank 34 (depth of the opening 37) is, for example, 2 μm. Examples of the material of the bank 34 include acrylic resin.

開口部３７の長辺４３側には、親液性の高い（濡れ性の高い）第１親液膜４１が形成されている。具体的には、長辺４３側の中央近傍の下側に形成されている。より具体的には、バンク３４の側壁３４ａと絶縁層３６（底面側、図１参照）に隣接するように形成されている。第１親液膜４１は、例えば、その下側に形成されているシリコン酸化膜からなる絶縁層３６よりも親液性が高い。 A first lyophilic film 41 with high lyophilicity (high wettability) is formed on the long side 43 side of the opening 37. Specifically, it is formed on the lower side near the center on the long side 43 side. More specifically, it is formed so as to be adjacent to the side wall 34a of the bank 34 and the insulating layer 36 (bottom side, see FIG. 1). For example, the first lyophilic film 41 is more lyophilic than the insulating layer 36 made of a silicon oxide film formed below the first lyophilic film 41.

第１親液膜４１の厚み（高さ方向）は、例えば、１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。第１親液膜４１は、金属酸化物であり、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ₂）に紫外線が照射され親液性が高められている。 The thickness (height direction) of the first lyophilic film 41 is, for example, 100 nm to 1000 nm. The first lyophilic film 41 is a metal oxide. For example, the lyophilic property is enhanced by irradiating titanium oxide (TiO ₂ ) with ultraviolet rays.

また、第１親液膜４１は、多孔質構造を有していることが望ましい。多孔質構造により、露出する表面積を多くすることが可能となり、液体４５と接触する面積を多くすることができる。よって、液体４５とより馴染みやすくすることが可能となり、短辺４４側にある液体４５を、長辺４３側（開口部３７の中央付近）に引き寄せることができる。 The first lyophilic film 41 desirably has a porous structure. Due to the porous structure, the exposed surface area can be increased, and the area in contact with the liquid 45 can be increased. Therefore, it becomes possible to make it more familiar with the liquid 45, and the liquid 45 on the short side 44 side can be drawn toward the long side 43 side (near the center of the opening 37).

開口部３７の短辺４４側には、第１親液膜４１より相対的に親液性の低い第２親液膜４２が形成されている。具体的には、短辺４４側（長辺４３側の一部の領域を含む）の下側に形成されている。より具体的には、バンク３４の側壁３４ａと絶縁層３６（図１参照）に隣接するように形成されている。 A second lyophilic film 42 that is relatively lyophilic than the first lyophilic film 41 is formed on the short side 44 side of the opening 37. Specifically, it is formed below the short side 44 side (including a partial region on the long side 43 side). More specifically, it is formed adjacent to the side wall 34a of the bank 34 and the insulating layer 36 (see FIG. 1).

第２親液膜４２の厚み（高さ方向）は、例えば、５００ｎｍ以下である。第２親液膜４２は、例えば、酸化チタンで構成されている。つまり、第２親液膜４２の親液性が、第１親液膜４１と比較して相対的に低くなるようになっている。 The thickness (height direction) of the second lyophilic film 42 is, for example, 500 nm or less. The second lyophilic film 42 is made of, for example, titanium oxide. That is, the lyophilicity of the second lyophilic film 42 is relatively lower than that of the first lyophilic film 41.

また、第２親液膜４２は、例えば、その周囲に形成されているアクリル樹脂からなるバンク３４よりも親液性が低い。なお、第２親液膜４２の親液性がバンク３４よりも高い場合であっても、第１親液膜４１より相対的に親液性が低いことが好ましい。 Further, the second lyophilic film 42 is less lyophilic than, for example, the bank 34 made of acrylic resin formed around the second lyophilic film 42. Even if the lyophilicity of the second lyophilic film 42 is higher than that of the bank 34, it is preferable that the lyophilicity is relatively lower than that of the first lyophilic film 41.

ここで、「親液性が高い」とは、液体４５との接触角が相対的に小さいことを指す。つまり、親液性を高くした長辺４３側の領域に、液体４５が充填しやすくなった（移動しやすくなった）と言える。 Here, “highly lyophilic” means that the contact angle with the liquid 45 is relatively small. In other words, it can be said that the liquid 45 is easily filled (moved easily) in the region on the long side 43 side having high lyophilicity.

一方、「親液性が低い」とは、液体４５との接触角が相対的に大きいことを指す。つまり、親液性を低くした短辺４４側の領域から外部に、液体４５が溢れにくくなったと言える。更に、短辺４４側にある液体４５を、長辺４３側（中央側）に移動させることができる。 On the other hand, “low lyophilicity” indicates that the contact angle with the liquid 45 is relatively large. That is, it can be said that the liquid 45 is less likely to overflow from the region on the short side 44 side where the lyophilicity is lowered. Furthermore, the liquid 45 on the short side 44 side can be moved to the long side 43 side (center side).

開口部３７の側壁３４ａに形成された第１親液膜４１及び第２親液膜４２によって、開口部３７の中に吐出される液体４５（例えば、正孔輸送層の液体材料）を開口部３７の中央側に濡れ広がりやすくすることができる。よって、開口部３７にある液体４５全体の位置のバランスを良好に保つことができる。これにより、液体４５の厚みを均一にすることができる。 By the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 formed on the side wall 34a of the opening 37, the liquid 45 (for example, the liquid material of the hole transport layer) discharged into the opening 37 is opened. 37 can be easily spread and spread on the center side. Therefore, the balance of the position of the entire liquid 45 in the opening 37 can be kept good. Thereby, the thickness of the liquid 45 can be made uniform.

より具体的には、長辺４３側に第１親液膜４１を形成し短辺４４側に第２親液膜４２を形成することにより、開口部３７の中にインクジェット法を用いて液体４５を吐出した際、液体４５の量が多い場合、短辺４４側に寄った液体４５を長辺４３側に引き寄せる（移動させる）ことが可能となる。よって、液体４５が短辺４４側から溢れて出ることを抑えることができ、歩留まりを向上させることができる。更に、短辺４４側に寄った液体４５を開口部３７の中央付近に移動させて、開口部３７の中の液体４５のバランスを整えることが可能となるので、所望の膜厚を均一に形成することができる。 More specifically, the first lyophilic film 41 is formed on the long side 43 side and the second lyophilic film 42 is formed on the short side 44 side, whereby the liquid 45 is formed in the opening 37 using an ink jet method. When the amount of the liquid 45 is large, the liquid 45 approaching the short side 44 side can be drawn (moved) to the long side 43 side. Therefore, the liquid 45 can be prevented from overflowing from the short side 44 side, and the yield can be improved. Furthermore, since the liquid 45 approaching the short side 44 can be moved to the vicinity of the center of the opening 37 to balance the liquid 45 in the opening 37, a desired film thickness can be formed uniformly. can do.

図３は、有機ＥＬ装置の製造方法を工程順に示す工程図である。以下、有機ＥＬ装置の製造方法を、図３を参照しながら説明する。 FIG. 3 is a process diagram showing the method of manufacturing the organic EL device in the order of steps. Hereinafter, a method for manufacturing the organic EL device will be described with reference to FIG.

図３に示すように、有機ＥＬ装置１１の製造方法は、まずステップＳ１では、ガラス基板１３上に、成膜技術を用いて回路素子層１４を形成する。ステップＳ２では、回路素子層１４上に、ＩＴＯからなる画素電極３２を形成する。 As shown in FIG. 3, in the manufacturing method of the organic EL device 11, first, in step S1, the circuit element layer 14 is formed on the glass substrate 13 by using a film forming technique. In step S 2, the pixel electrode 32 made of ITO is formed on the circuit element layer 14.

ステップＳ３では、画素電極３２上を含む回路素子層１４上に、絶縁層３６を形成する。詳しくは、まず、絶縁層３６の材料となる、例えば、シリコン酸化膜を、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等により、画素電極３２上及び回路素子層１４上を覆うように形成する。次に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、絶縁層３６のうち発光領域１２に対応する領域に開口部を形成する。 In step S 3, the insulating layer 36 is formed on the circuit element layer 14 including the pixel electrode 32. Specifically, first, for example, a silicon oxide film, which is a material of the insulating layer 36, is formed so as to cover the pixel electrode 32 and the circuit element layer 14 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or the like. Next, an opening is formed in a region corresponding to the light emitting region 12 in the insulating layer 36 by using a photolithography technique and an etching technique.

ステップＳ４では、発光領域１２が集合する領域を囲むようにバンク３４を形成する。具体的には、例えば、アクリル樹脂からなるバンク３４を基板上の全体に形成し、その後、長辺４３と短辺４４とを有する細長状の開口部３７を形成する。 In step S4, the bank 34 is formed so as to surround the region where the light emitting regions 12 gather. Specifically, for example, a bank 34 made of acrylic resin is formed on the entire substrate, and then an elongated opening 37 having a long side 43 and a short side 44 is formed.

ステップＳ５では、開口部３７の側壁３４ａに第１親液膜４１と第２親液膜４２とを形成する。まず、例えば真空蒸着法を用いて、基板上に酸化チタンからなる膜を成膜する。次に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、開口部３７の内周のみに酸化チタン膜が残るように膜を除去する。酸化チタン膜の厚み（高さ方向）は、例えば、１００ｎｍ〜１０００ｎｍである。 In step S 5, the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 are formed on the side wall 34 a of the opening 37. First, a film made of titanium oxide is formed on a substrate by using, for example, a vacuum deposition method. Next, using a photolithography technique and an etching technique, the film is removed so that the titanium oxide film remains only on the inner periphery of the opening 37. The thickness (height direction) of the titanium oxide film is, for example, 100 nm to 1000 nm.

次に、開口部３７における長辺４３側の酸化チタン膜にＵＶ光（紫外線）を照射する。これにより、長辺４３側にある酸化チタン膜の親液性を、短辺４４側にある酸化チタン膜と比較して、相対的に高くすることができる。このような製造方法により、同じ材料を用いて第１親液膜４１と第２親液膜４２とを形成するので、比較的簡単な製造プロセスによって形成することができる。 Next, the titanium oxide film on the long side 43 side in the opening 37 is irradiated with UV light (ultraviolet light). Thereby, the lyophilicity of the titanium oxide film on the long side 43 side can be made relatively higher than that of the titanium oxide film on the short side 44 side. By such a manufacturing method, the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 are formed using the same material, and therefore, they can be formed by a relatively simple manufacturing process.

以上により、開口部３７における長辺４３側の側壁３４ａに第１親液膜４１を、短辺４４側の側壁３４ａに第２親液膜４２を形成することができる。そして、第２親液膜４２と比較して、第１親液膜４１の液体４５との接触角を小さくすることができる。これにより、第１親液膜４１の濡れ性を第２親液膜４２より相対的に高くすることが可能となり、短辺４４側にある液体４５を長辺４３側（開口部３７の中央付近）に移動させることができる。 Thus, the first lyophilic film 41 can be formed on the side wall 34a on the long side 43 side and the second lyophilic film 42 can be formed on the side wall 34a on the short side 44 side. And compared with the 2nd lyophilic film 42, the contact angle with the liquid 45 of the 1st lyophilic film 41 can be made small. As a result, the wettability of the first lyophilic film 41 can be made relatively higher than that of the second lyophilic film 42, and the liquid 45 on the short side 44 side can be placed on the long side 43 side (near the center of the opening 37). ).

なお、第１親液膜４１を形成する際、酸化チタン膜を多孔質構造にして形成することにより、更に、親液性を向上させることができる。 In forming the first lyophilic film 41, the lyophilicity can be further improved by forming the titanium oxide film with a porous structure.

ステップＳ６では、画素電極３２上を含むバンク３４で囲まれた開口部３７に、正孔注入輸送層を形成する。具体的には、まず、開口部３７の中に、正孔注入層の材料を液滴吐出法（例えば、インクジェット法）によって吐出する。次に、材料を乾燥又は焼成して正孔注入層を形成する。同様にして、正孔輸送層も形成する。 In step S 6, a hole injection / transport layer is formed in the opening 37 surrounded by the bank 34 including the pixel electrode 32. Specifically, first, the material of the hole injection layer is discharged into the opening 37 by a droplet discharge method (for example, an ink jet method). Next, the material is dried or fired to form a hole injection layer. Similarly, a hole transport layer is also formed.

ステップＳ７では、正孔注入輸送層上に発光層を形成する。製造方法は、上記した正孔注入輸送層と同様に行う。ステップＳ８では、発光層上に電子注入輸送層を、上記した方法と同様にして形成する。電子注入輸送層は、電子輸送層と電子注入層とを順に形成する。 In step S7, a light emitting layer is formed on the hole injecting and transporting layer. The manufacturing method is performed in the same manner as the hole injection transport layer described above. In step S8, an electron injecting and transporting layer is formed on the light emitting layer in the same manner as described above. The electron injecting and transporting layer sequentially forms an electron transporting layer and an electron injecting layer.

例えば、液体４５と濡れ性の悪い（マッチングの悪い）下地に対して液体４５を吐出した場合、液体４５の量が少ないと弾く。よって、大量に吐出することによって開口部３７の中を埋めると、開口部３７の短辺４４側から液体４５が溢れてしまうという問題がある。更に、液体４５の濃度が薄い場合、特に、短辺４４側から溢れやすいという問題がある。 For example, when the liquid 45 is ejected onto a base having poor wettability (poor matching) with the liquid 45, the liquid 45 is repelled when the amount of the liquid 45 is small. Therefore, if the inside of the opening 37 is filled by discharging a large amount, there is a problem that the liquid 45 overflows from the short side 44 side of the opening 37. Further, when the concentration of the liquid 45 is low, there is a problem that the liquid 45 tends to overflow particularly from the short side 44 side.

しかしながら、開口部３７において、長辺４３側の領域に親液性の高い第１親液膜４１を形成し、短辺４４側の領域に第１親液膜４１より相対的に親液性の低い第２親液膜４２を形成するので、機能層３３の材料（液体４５）を塗布した際に、液体４５が比較的溢れやすい短辺４４側にある液体４５を、長辺４３側（開口部３７の中央付近）に移動させる（引き込む）ことができる。よって、開口部３７の中にある液体４５の厚みが不均一になることを抑えることができる。なお、液体４５と下地とのマッチングがよければ、吐出する液体４５を少なくするようにしてもよい。 However, in the opening 37, the first lyophilic film 41 having a high lyophilic property is formed in the region on the long side 43 side, and the lyophilic material is relatively lyophilic in the region on the short side 44 side. Since the low second lyophilic film 42 is formed, when the material of the functional layer 33 (liquid 45) is applied, the liquid 45 on the short side 44 side, on which the liquid 45 tends to overflow relatively, (Near the center of the portion 37). Therefore, it is possible to prevent the thickness of the liquid 45 in the opening 37 from becoming uneven. If the matching between the liquid 45 and the ground is good, the liquid 45 to be discharged may be reduced.

ステップＳ９では、機能層３３及びバンク３４が形成されたガラス基板１３上の略全体に、カルシウム膜及びアルミニウム膜をこの順に、例えば蒸着法によって積層させることにより、陰極１６を形成する。形成されたカルシウム膜は、例えば、５ｎｍである。形成されたアルミニウム膜は、例えば、３００ｎｍである。 In step S9, the cathode 16 is formed by laminating a calcium film and an aluminum film in this order, for example, by vapor deposition on substantially the entire glass substrate 13 on which the functional layer 33 and the bank 34 are formed. The formed calcium film is, for example, 5 nm. The formed aluminum film is, for example, 300 nm.

ステップＳ１０では、陰極１６上に、例えば、接着剤及びガラス基板を用いて封止を行う。以上により、有機ＥＬ装置１１が完成する。 In step S10, sealing is performed on the cathode 16 using, for example, an adhesive and a glass substrate. Thus, the organic EL device 11 is completed.

図４は、有機ＥＬ装置が組み込まれた光書き込みヘッドモジュールを示す斜視図である。以下、有機ＥＬ装置を備えた光書き込みヘッドモジュールの構成を、図４を参照しながら説明する。 FIG. 4 is a perspective view showing an optical writing head module in which an organic EL device is incorporated. Hereinafter, the configuration of the optical writing head module including the organic EL device will be described with reference to FIG.

図４に示すように、光書き込みヘッドモジュール１０１Ｋは、円柱状の感光体ドラム７１Ｋと平行に、これと対向した状態で用いられる。光書き込みヘッドモジュール１０１Ｋは、感光体ドラム７１Ｋと平行な方向に配設された箱体７７と、箱体７７と感光体ドラム７１Ｋとの間に位置するように箱体７７に取り付けられた光学部材７８とを備えている。箱体７７は、感光体ドラム７１Ｋ側に開口部を有しており、その開口部に向かって光が射出されるように有機ＥＬ装置１１が固定されている。光学部材７８は、内部にセルフォック（登録商標）レンズアレイを備えており、有機ＥＬ装置１１の発光素子３５から射出され、一端に入射した光を、他端側から射出して感光体ドラム７１Ｋの表面で集光、照射（描画）する。 As shown in FIG. 4, the optical writing head module 101K is used in parallel with the cylindrical photosensitive drum 71K and facing it. The optical writing head module 101K includes a box 77 disposed in a direction parallel to the photosensitive drum 71K, and an optical member attached to the box 77 so as to be positioned between the box 77 and the photosensitive drum 71K. 78. The box 77 has an opening on the photosensitive drum 71K side, and the organic EL device 11 is fixed so that light is emitted toward the opening. The optical member 78 includes a SELFOC (registered trademark) lens array inside, and the light emitted from the light emitting element 35 of the organic EL device 11 and incident on one end is emitted from the other end side of the photosensitive drum 71K. Condensed and irradiated (drawn) on the surface.

図５は、上記した有機ＥＬ装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた電子機器の一例として画像形成装置を示す模式断面図である。以下、有機ＥＬ装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた画像形成装置の構造を、図５を参照しながら説明する。 FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an image forming apparatus as an example of an electronic apparatus including an optical writing head module having the organic EL device described above. Hereinafter, the structure of an image forming apparatus including an optical writing head module having an organic EL device will be described with reference to FIG.

図５に示すように、画像形成装置８０は、有機ＥＬ装置１１が組み込まれた光書き込みヘッドモジュール１０１Ｋ，１０１Ｃ，１０１Ｍ，１０１Ｙを備えており、これらに対応して４個の感光体ドラム（像担持体）７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙが配置されたタンデム方式として構成されたものである。 As shown in FIG. 5, the image forming apparatus 80 includes optical writing head modules 101K, 101C, 101M, and 101Y in which the organic EL device 11 is incorporated, and four photosensitive drums (images) corresponding to these. (Support) 71K, 71C, 71M, 71Y are arranged as a tandem system.

この画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図５中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。 The image forming apparatus 80 includes a driving roller 91, a driven roller 92, and a tension roller 93. The intermediate transfer belt 90 is stretched around these rollers so as to circulate in the direction indicated by the arrow (counterclockwise) in FIG. Is. Photosensitive drums 71K, 71C, 71M, 71Y are arranged at a predetermined interval with respect to the intermediate transfer belt 90. These photosensitive drums 71K, 71C, 71M, 71Y have a photosensitive layer as an image carrier on their outer peripheral surfaces.

ここで、上記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム７１Ｋ，７１Ｃ，７１Ｍ，７１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図５中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。 Here, K, C, M, and Y in the above symbols mean black, cyan, magenta, and yellow, respectively, and indicate that the photoconductors are for black, cyan, magenta, and yellow, respectively. The meanings of these symbols (K, C, M, Y) are the same for the other members. The photosensitive drums 71K, 71C, 71M, and 71Y are driven to rotate in the arrow direction (clockwise) in FIG. 5 in synchronization with the driving of the intermediate transfer belt 90.

各感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段７２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する光書き込みヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。 Around each photosensitive drum 71 (K, C, M, Y), charging means (corona charger) 72 for uniformly charging the outer peripheral surface of the photosensitive drum 71 (K, C, M, Y), respectively. (K, C, M, Y) and the outer peripheral surface uniformly charged by the charging means 72 (K, C, M, Y) rotate the photosensitive drum 71 (K, C, M, Y). And an optical writing head module 101 (K, C, M, Y) that sequentially performs line scanning.

また、光書き込みヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。また、転写された後に感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置７６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）が設けられている。 Further, a developing device 74 (K, C) that applies a toner as a developer to the electrostatic latent image formed by the optical writing head module 101 (K, C, M, Y) to form a visible image (toner image). , M, Y) and a primary transfer roller 75 (K, Y) as transfer means for sequentially transferring the toner image developed by the developing device 74 (K, C, M, Y) to the intermediate transfer belt 90 as a primary transfer target. C, M, Y). Further, a cleaning device 76 (K, C, M, Y) is provided as a cleaning unit for removing toner remaining on the surface of the photosensitive drum 71 (K, C, M, Y) after being transferred. Yes.

各光書き込みヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、各有機ＥＬ装置１１のアレイ方向（発光素子３５の整列方向）が感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転軸に平行となるように設置されている。そして、各光書き込みヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の主発光波長と、感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。 In each optical writing head module 101 (K, C, M, Y), the array direction of each organic EL device 11 (the alignment direction of the light emitting elements 35) is the rotation axis of the photosensitive drum 71 (K, C, M, Y). It is installed to be parallel to The main emission wavelength of each optical writing head module 101 (K, C, M, Y) and the sensitivity peak wavelength of the photosensitive drum 71 (K, C, M, Y) are set so as to substantially match. Yes.

現像装置７４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いる。そして、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム７１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。 For example, the developing device 74 (K, C, M, Y) uses a non-magnetic one-component toner as a developer. Then, the one-component developer is conveyed to the developing roller by, for example, a supply roller, the film thickness of the developer adhered to the surface of the developing roller is regulated by a regulating blade, and the developing roller is moved to the photosensitive drum 71 (K, C, M , Y) is brought into contact with or pressed against the photosensitive drum 71 (K, C, M, Y) to cause the developer to adhere and develop as a toner image.

このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ７５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、更に、定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着される。その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。 The black, cyan, magenta, and yellow toner images formed by the four-color single-color toner image forming station are intermediated by the primary transfer bias applied to the primary transfer roller 75 (K, C, M, Y). Primary transfer is sequentially performed on the transfer belt 90. The toner images that are sequentially superimposed on the intermediate transfer belt 90 to become a full color are secondarily transferred to a recording medium P such as paper by a secondary transfer roller 66 and further pass through a fixing roller pair 61 that is a fixing unit. As a result, the image is fixed on the recording medium P. Thereafter, the paper is discharged onto a paper discharge tray 68 formed in the upper part of the apparatus by the paper discharge roller pair 62.

なお、図５中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、６６は中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。 In FIG. 5, reference numeral 63 denotes a paper feed cassette in which a large number of recording media P are stacked and held, 64 denotes a pickup roller for feeding the recording media P from the paper feed cassette 63 one by one, and 65 denotes secondary transfer. A pair of gate rollers for defining the supply timing of the recording medium P to the secondary transfer portion of the roller 66; a secondary transfer roller 66 as a secondary transfer means for forming a secondary transfer portion with the intermediate transfer belt 90; A cleaning blade 67 serves as a cleaning unit that removes toner remaining on the surface of the intermediate transfer belt 90 after the secondary transfer.

この画像形成装置８０は、上記した有機ＥＬ装置１１を有する光書き込みヘッドモジュール１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）が露光手段として備えられている。このため、画像形成装置８０は、感光体ドラム７１Ｋに対して均一な発光光を射出することが可能となり、高品位な画像を形成することができる。 The image forming apparatus 80 includes an optical writing head module 101 (K, C, M, Y) having the organic EL device 11 described above as an exposure unit. Therefore, the image forming apparatus 80 can emit uniform emitted light to the photosensitive drum 71K, and can form a high-quality image.

なお、上記有機ＥＬ装置１１は、電子機器としての照明機器、携帯電話機、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器等の表示部に、表示装置として搭載して用いることもできる。 The organic EL device 11 can also be used as a display device mounted on a display unit of an illumination device as an electronic device, a mobile phone, a mobile computer, a digital camera, a digital video camera, an in-vehicle device, an audio device, or the like. .

以上詳述したように、本実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。 As described above in detail, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

（１）本実施形態によれば、開口部３７における長辺４３側の領域に親液性（濡れ性）の高い第１親液膜４１を形成し、短辺４４側の領域に第１親液膜４１より相対的に親液性の低い第２親液膜４２を形成することにより、長辺４３側の領域に液体４５を馴染ませることが可能となり、短辺４４側にある液体４５を長辺４３側の方向に移動させる（開口部３７の中央付近に引き寄せる）ことができる。よって、短辺４４側から機能層３３の材料である液体４５が溢れることを抑えることができる。更に、開口部３７の中に塗布された液体４５の厚みを均一にすることができる。これにより、歩留まりを向上させることができる。また、バンク３４を高くしなくても液体４５が溢れないので、バンク３４が高くなった場合に生じる陰極１６にクラックが発生することを防ぐことができる。 (1) According to the present embodiment, the first lyophilic film 41 having high lyophilicity (wetting property) is formed in the region on the long side 43 side in the opening 37, and the first lyophilic film is formed in the region on the short side 44 side. By forming the second lyophilic film 42 that is relatively less lyophilic than the liquid film 41, the liquid 45 can be adapted to the region on the long side 43 side, and the liquid 45 on the short side 44 side can be adjusted. It is possible to move in the direction of the long side 43 side (near the center of the opening 37). Therefore, it is possible to prevent the liquid 45 that is the material of the functional layer 33 from overflowing from the short side 44 side. Furthermore, the thickness of the liquid 45 applied in the opening 37 can be made uniform. Thereby, a yield can be improved. Further, since the liquid 45 does not overflow even if the bank 34 is not raised, it is possible to prevent cracks from occurring in the cathode 16 that occurs when the bank 34 is raised.

（２）本実施形態によれば、第１親液膜４１が多孔質構造を有しているので、露出する第１親液膜４１の表面積を多くすることが可能となり、液体４５と接触する面積を増やすことができる。よって、長辺４３側の領域に液体４５をより馴染ませることが可能となり、短辺４４側にある液体４５を長辺４３側により移動させることができる。 (2) According to the present embodiment, since the first lyophilic film 41 has a porous structure, it is possible to increase the surface area of the exposed first lyophilic film 41 and contact the liquid 45. The area can be increased. Therefore, the liquid 45 can be more familiarized with the region on the long side 43 side, and the liquid 45 on the short side 44 side can be moved on the long side 43 side.

（第２実施形態）
図６は、第２実施形態の有機ＥＬ装置の構造を示す模式図である。（ａ）は模式平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示す有機ＥＬ装置のＡ−Ａ断面に沿う模式断面図であり、（ｃ）は（ａ）に示す有機ＥＬ装置のＢ−Ｂ断面に沿う模式断面図である。第２実施形態の有機ＥＬ装置５１は、長辺４３側にある第１親液膜５２を、複数に分割すると共にそれぞれ間隔をおいて形成する部分が、第１実施形態と異なっている。以下、第２実施形態の有機ＥＬ装置５１の構造を、図６を参照しながら説明する。なお、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、ここではそれらの説明を省略又は簡略化する。 (Second Embodiment)
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating the structure of the organic EL device according to the second embodiment. (A) is a schematic plan view, (b) is a schematic cross-sectional view along the AA section of the organic EL device shown in (a), (c) is a B- of the organic EL device shown in (a). It is a schematic cross section along a B cross section. The organic EL device 51 according to the second embodiment is different from the first embodiment in that the first lyophilic film 52 on the long side 43 side is divided into a plurality of portions and is formed at intervals. Hereinafter, the structure of the organic EL device 51 of the second embodiment will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same structural member as 1st Embodiment, and those description is abbreviate | omitted or simplified here.

図６に示すように、第２実施形態の有機ＥＬ装置５１は、開口部３７における長辺４３側に親液性の高い第１親液膜５２（５２ａ）が形成されており、短辺４４側に第１親液膜５２より相対的に親液性が低い第２親液膜５３が形成されている。 As shown in FIG. 6, in the organic EL device 51 of the second embodiment, the first lyophilic film 52 (52a) having high lyophilicity is formed on the long side 43 side in the opening 37, and the short side 44 is formed. A second lyophilic film 53 having a lower lyophilic property than the first lyophilic film 52 is formed on the side.

第１親液膜５２は、複数の親液膜５２ａによって構成されており、それぞれが間隔（隙間５２ｂ）をおいて形成されている。具体的には、第１実施形態と同様に、バンク３４の側壁３４ａと絶縁層３６（図１参照）とに隣接するように形成されている。 The first lyophilic film 52 is composed of a plurality of lyophilic films 52a, which are formed at intervals (gap 52b). Specifically, it is formed adjacent to the side wall 34a of the bank 34 and the insulating layer 36 (see FIG. 1), as in the first embodiment.

また、第１親液膜５２は、酸化チタンで構成されており、紫外線が照射されて更に親液性が高い状態となっている。第２親液膜５３は、酸化チタンで構成されている。つまり、第１親液膜５２が、第２親液膜５３と比較して相対的に親液性が高くなるようになっている。 The first lyophilic film 52 is made of titanium oxide and is in a state of higher lyophilicity when irradiated with ultraviolet rays. The second lyophilic film 53 is made of titanium oxide. That is, the first lyophilic film 52 is relatively more lyophilic than the second lyophilic film 53.

第１親液膜５２の製造方法としては、上記した成膜技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術を用いて形成することができる。具体的には、まず、バンク３４を含む基板上に酸化チタン膜を成膜する。次に、フォトマスクを用いて、不要な膜を除去する。このとき、親液膜５２ａと親液膜５２ａとの間に、隙間が空くように除去する。以上により、複数に分割された第１親液膜５２が形成される。 As a manufacturing method of the first lyophilic film 52, it can be formed by using the film forming technique, the photolithography technique, and the etching technique described above. Specifically, first, a titanium oxide film is formed on the substrate including the bank 34. Next, an unnecessary film is removed using a photomask. At this time, the lyophilic film 52a and the lyophilic film 52a are removed so as to leave a gap. Thus, the first lyophilic film 52 divided into a plurality of parts is formed.

また、第１実施形態と同様に、第１親液膜５２を多孔質構造に形成することが望ましい。これにより、液体と接触する第１親液膜５２の表面積を多くすることが可能となり、液体４５をより馴染ませることができる。 In addition, as in the first embodiment, it is desirable to form the first lyophilic film 52 in a porous structure. As a result, the surface area of the first lyophilic film 52 in contact with the liquid can be increased, and the liquid 45 can be made more familiar.

このように、第１親液膜５２が複数に分割されていると共に、それぞれ間隔をおいて形成されていることにより、露出する第１親液膜５２の表面積を多くすることができる。これにより、第１親液膜５２と液体４５との接触面積を多くすることができ、より液体４５を馴染ませることができる。更に、それぞれの親液膜５２ａとの間にできた隙間５２ｂによって毛細管現象を引き起こし、液体４５を隙間５２ｂの方向に引っ張ることができる。よって、短辺４４側にある液体４５を長辺４３側の方向（開口部３７の中央付近）に引っ張る（移動させる）ことができる。 As described above, the first lyophilic film 52 is divided into a plurality of parts and formed at intervals, so that the surface area of the exposed first lyophilic film 52 can be increased. Thereby, the contact area of the 1st lyophilic film 52 and the liquid 45 can be increased, and the liquid 45 can be adapted more. Furthermore, a capillary phenomenon is caused by the gaps 52b formed between the respective lyophilic films 52a, and the liquid 45 can be pulled in the direction of the gaps 52b. Therefore, the liquid 45 on the short side 44 side can be pulled (moved) in the direction on the long side 43 side (near the center of the opening 37).

以上詳述したように、第２実施形態によれば、上記した第１実施形態の（１）、（２）の効果に加えて、以下に示す効果が得られる。 As described above in detail, according to the second embodiment, in addition to the effects (1) and (2) of the first embodiment described above, the following effects can be obtained.

（３）第２実施形態によれば、第１親液膜５２が分割されていると共に間隔を空けて形成されていることにより、露出する第１親液膜の表面積を多くすることが可能となり、より液体４５と接触する面積を増やすことができる。よって、分割された長辺４３側の領域に液体４５をより馴染ませることが可能となり、短辺４４側にある液体４５を長辺４３側により移動させることができる。これにより、開口部３７の中にある液体４５（機能層３３）の厚みの均一性を向上させることができる。 (3) According to the second embodiment, it is possible to increase the surface area of the exposed first lyophilic film by dividing the first lyophilic film 52 and forming it at intervals. The area in contact with the liquid 45 can be increased. Therefore, the liquid 45 can be further adapted to the divided region on the long side 43 side, and the liquid 45 on the short side 44 side can be moved on the long side 43 side. Thereby, the uniformity of the thickness of the liquid 45 (functional layer 33) in the opening part 37 can be improved.

なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。 In addition, embodiment is not limited above, It can also implement with the following forms.

（変形例１）
上記したように、バンク３４の開口部３７に第１親液膜４１と第２親液膜４２との両方を形成することに代えて、例えば、第１親液膜４１のみを形成するようにしてもよい。この場合、例えば、バンク３４にＣＦ₄プラズマ処理などの撥液処理が施してあれば、第１親液膜４１のみであったとしても、短辺４４側の領域から第１親液膜４１が形成された長辺４３側の領域に液体４５を移動させることができる。なお、撥液処理を施していなくても、短辺４４側の領域と比較して長辺４３側の領域の親液性が高い場合であれば、液体４５を移動させることができる。吐出した後の液体４５の状態を見て、撥液処理をするか否かを判断することが望ましい。 (Modification 1)
As described above, instead of forming both the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 in the opening 37 of the bank 34, for example, only the first lyophilic film 41 is formed. May be. In this case, for example, if the bank 34 is subjected to liquid repellent treatment such as CF ₄ plasma treatment, even if only the first lyophilic film 41 is present, the first lyophilic film 41 is formed from the region on the short side 44 side. The liquid 45 can be moved to the formed region on the long side 43 side. Even if the liquid repellent treatment is not performed, the liquid 45 can be moved if the lyophilic property of the region on the long side 43 side is higher than the region on the short side 44 side. It is desirable to determine whether or not to perform the liquid repelling process by looking at the state of the liquid 45 after being discharged.

（変形例２）
上記したように、第１親液膜４１の材料に酸化チタンを用いることに限定されず、例えば、金属酸化物であればよく、酸化アルミニウム、窒化シリコン、多孔質シリカ、酸化チタンとシリカの混合物等であってもよい。この場合、酸化チタンやこれらの材料を組み合わせて、互いに親液性の異なる第１親液膜４１及び第２親液膜４２を形成するようにする。また、これらの膜の多孔質構造を用いるようにすれば、更に親液性の効果が期待できる。 (Modification 2)
As described above, the material of the first lyophilic film 41 is not limited to using titanium oxide, and may be any metal oxide such as aluminum oxide, silicon nitride, porous silica, and a mixture of titanium oxide and silica. Etc. In this case, the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 having different lyophilic properties are formed by combining titanium oxide and these materials. Further, if a porous structure of these films is used, a more lyophilic effect can be expected.

（変形例３）
上記したように、第１親液膜４１及び第２親液膜４２をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術で形成することに限定されず、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ₂）を含んだペースト状の材料を転写技術等でバンク３４の側壁に形成するようにしてもよい。そして、これを焼き固めることによって膜を形成する。なお、異なる親液性を得るために、２種類の膜材料を転写してもよいし、同じ膜材料を転写してから紫外線を照射する等して膜質を変えるようにしてもよい。また、上記したペースト状の材料を焼き固めることにより、多孔質状の膜を形成することができる。 (Modification 3)
As described above, the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 are not limited to being formed by the photolithography technique and the etching technique. For example, a paste-like material containing titanium oxide (TiO ₂ ) is used. It may be formed on the side wall of the bank 34 by a transfer technique or the like. And a film | membrane is formed by baking and solidifying this. In order to obtain different lyophilic properties, two types of film materials may be transferred, or the film quality may be changed by transferring the same film material and then irradiating with ultraviolet rays. Moreover, a porous film can be formed by baking and solidifying the paste-like material described above.

（変形例４）
上記したように、親液膜は多孔質構造であることに限定されず、多孔質構造がない構造であってもよい。この場合、多孔質構造でなくても、短辺４４側の親液性と比較して長辺４３側の親液性が高いことが望ましい。また、多孔質構造は、蒸着する際の成膜条件を変えることによって形成するようにしてもよいし、ペースト状の材料を付けたあとに焼き固めることによって形成するようにしてもよい。 (Modification 4)
As described above, the lyophilic film is not limited to a porous structure, and may have a structure without a porous structure. In this case, it is desirable that the lyophilic property on the long side 43 side is higher than the lyophilic property on the short side 44 side even if the porous structure is not used. In addition, the porous structure may be formed by changing the film forming conditions at the time of vapor deposition, or may be formed by baking after solidifying a paste-like material.

（変形例５）
上記したように、液体４５は、正孔輸送層の材料に限定されず、例えば、比較的液体の濃度が薄い材料に適用するようにしてもよい。 (Modification 5)
As described above, the liquid 45 is not limited to the material of the hole transport layer, and for example, the liquid 45 may be applied to a material having a relatively low liquid concentration.

（変形例６）
上記したように、開口部３７の側壁３４ａの下側に第１親液膜４１及び第２親液膜４２を形成することに限定されず、例えば、吐出される液体４５の量に応じてバンク３４の側壁の上側まで形成するようにしてもよい。 (Modification 6)
As described above, the present invention is not limited to forming the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 below the side wall 34a of the opening 37. For example, depending on the amount of the liquid 45 to be ejected, the bank 34 may be formed up to the upper side of the side wall.

（変形例７）
上記したように、第１親液膜４１及び第２親液膜４２をバンク３４の側壁３４ａに形成することに限定されず、例えば、バンク３４と絶縁層３６との間に形成し、端部が側壁３４ａからはみ出すようにして形成するようにしてもよい。これによれば、開口部３７の底部周囲に第１親液膜４１及び第２親液膜４２が形成されることから、短辺４４側から長辺４３側に液体４５を移動させることが可能となり、液体４５が短辺４４側から溢れることを抑えることができる。 (Modification 7)
As described above, the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 are not limited to being formed on the side wall 34a of the bank 34. For example, the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 are formed between the bank 34 and the insulating layer 36, However, it may be formed so as to protrude from the side wall 34a. According to this, since the first lyophilic film 41 and the second lyophilic film 42 are formed around the bottom of the opening 37, the liquid 45 can be moved from the short side 44 side to the long side 43 side. Thus, the liquid 45 can be prevented from overflowing from the short side 44 side.

また、第２親液膜４２を、以下のように製造してもよい。バンク３４をハーフ露光等の方法で周囲のバンク３４より薄く（例えば、５００ｎｍ以下）形成する。なお、バンク３４には、ＣＦ₄プラズマ処理が施されている。この薄くなった領域に低エネルギー電子線を照射して親液性を与える。このようにして膜を形成することにより、第１親液膜４１より親液性が劣る第２親液膜４２が完成する。 Further, the second lyophilic film 42 may be manufactured as follows. The bank 34 is formed thinner (for example, 500 nm or less) than the surrounding bank 34 by a method such as half exposure. The bank 34 is subjected to CF ₄ plasma treatment. The thinned area is irradiated with a low energy electron beam to impart lyophilicity. By forming the film in this manner, the second lyophilic film 42 that is less lyophilic than the first lyophilic film 41 is completed.

（変形例８）
上記したように、第１親液膜４１の膜厚（１００ｎｍ〜１０００ｎｍ）と第２親液膜４２の膜厚（５００ｎｍ以下）とに差を設けていることに限定されず、同じ膜厚に形成してもよい。 (Modification 8)
As described above, the first lyophilic film 41 is not limited to be provided with a difference in film thickness (100 nm to 1000 nm) and the second lyophilic film 42 (500 nm or less). It may be formed.

第１実施形態に係る有機ＥＬ装置の構造を示す模式断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an organic EL device according to a first embodiment. 有機ＥＬ装置のバンクの構造を示す模式図であり、（ａ）はバンクの構造を上方から見た模式平面図、（ｂ）は（ａ）に示すバンクのＡ−Ａ断面に沿う模式断面図、（ｃ）は（ａ）に示すバンクのＢ−Ｂ断面に沿う模式断面図。It is a schematic diagram which shows the structure of the bank of an organic electroluminescent apparatus, (a) is a schematic top view which looked at the structure of the bank from the upper part, (b) is a schematic cross section along the AA cross section of the bank shown to (a). (C) is a schematic cross section which follows the BB cross section of the bank shown to (a). 有機ＥＬ装置の製造方法を工程順に示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus in order of a process. 有機ＥＬ装置が組み込まれた光書き込みヘッドモジュールを示す斜視図。The perspective view which shows the optical writing head module in which the organic electroluminescent apparatus was integrated. 有機ＥＬ装置を有する光書き込みヘッドモジュールを備えた電子機器の一例として画像形成装置を示す模式断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an image forming apparatus as an example of an electronic apparatus including an optical writing head module having an organic EL device. 第２実施形態に係る有機ＥＬ装置の構造を示す模式図であり、（ａ）は模式平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示す有機ＥＬ装置のＡ−Ａ断面に沿う模式断面図、（ｃ）は（ａ）に示す有機ＥＬ装置のＢ−Ｂ断面に沿う模式断面図。It is a schematic diagram which shows the structure of the organic EL device which concerns on 2nd Embodiment, (a) is a schematic plan view, (b) is a schematic cross section along the AA cross section of the organic EL device shown to (a). (C) is a schematic cross section which follows the BB cross section of the organic electroluminescent apparatus shown to (a). 従来の有機ＥＬ装置の構造を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the conventional organic EL apparatus.

Explanation of symbols

１１…有機ＥＬ装置、１２…発光領域、１３…ガラス基板、１４…回路素子層、１５…発光素子層、１６…陰極、１７…下地保護膜、１８…ＴＦＴ素子、１９…半導体膜、２１…ソース領域、２２…ドレイン領域、２３…チャネル領域、２４…ゲート絶縁膜、２５…ゲート電極、２６…第１層間絶縁膜、２７…第２層間絶縁膜、２８…コンタクトホール、２９…信号線、３１…コンタクトホール、３２…画素電極、３３…機能層、３４…バンク、３４ａ…側壁、３５…発光素子、３６…絶縁層、３７…開口部、４１…第１親液膜、４２…第２親液膜、４３…長辺、４４…短辺、４５…液体、５１…有機ＥＬ装置、５２…第１親液膜、５２ａ…親液膜、５３…第２親液膜、８０…電子機器としての画像形成装置、１０１…光書き込みヘッドモジュール。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Organic EL apparatus, 12 ... Light emission area | region, 13 ... Glass substrate, 14 ... Circuit element layer, 15 ... Light emitting element layer, 16 ... Cathode, 17 ... Base protective film, 18 ... TFT element, 19 ... Semiconductor film, 21 ... Source region, 22 ... Drain region, 23 ... Channel region, 24 ... Gate insulating film, 25 ... Gate electrode, 26 ... First interlayer insulating film, 27 ... Second interlayer insulating film, 28 ... Contact hole, 29 ... Signal line, DESCRIPTION OF SYMBOLS 31 ... Contact hole, 32 ... Pixel electrode, 33 ... Functional layer, 34 ... Bank, 34a ... Side wall, 35 ... Light emitting element, 36 ... Insulating layer, 37 ... Opening, 41 ... 1st lyophilic film, 42 ... 2nd Lyophilic film, 43 ... long side, 44 ... short side, 45 ... liquid, 51 ... organic EL device, 52 ... first lyophilic film, 52a ... lyophilic film, 53 ... second lyophilic film, 80 ... electronic device Image forming apparatus as 101, optical writing head module Lumpur.

Claims

A pixel electrode formed on the substrate;
A bank formed so as to surround a region where the pixel electrodes are gathered;
A functional layer formed in an opening surrounded by the bank;
A cathode formed on the substrate including the functional layer and the bank;
Have
The opening includes a long side and a short side,
An organic EL device, wherein a first lyophilic film having higher lyophilicity than the bank on the short side is formed in at least a part of the region on the long side.

The organic EL device according to claim 1,
The organic EL device according to claim 1, wherein the first lyophilic film is formed along a side wall of the opening.

The organic EL device according to claim 1 or 2,
The organic EL device, wherein the first lyophilic film has a porous structure.

The organic EL device according to claim 1 or 2,
2. The organic EL device according to claim 1, wherein the first lyophilic film is divided into a plurality of parts and spaced apart.

An organic EL device according to any one of claims 1 to 3,
2. An organic EL device, wherein a second lyophilic film having a relatively lower lyophilic property than the first lyophilic film is formed in the short side region.

Forming a pixel electrode on the substrate;
Forming a bank so as to surround a region where the pixel electrodes gather;
Forming a functional layer using a droplet discharge method in an opening surrounded by the bank;
Forming a cathode on the entire substrate including the functional layer and the bank;
Have
The opening includes a long side and a short side,
Before the step of forming the functional layer, a step of forming a first lyophilic film having a higher lyophilic property than the bank on the short side in at least a part of the region on the long side. A method for manufacturing an organic EL device, which is characterized.

It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 6,
The method of manufacturing an organic EL device, wherein the first lyophilic film is divided into a plurality and formed at intervals.

It is a manufacturing method of the organic EL device according to claim 6 or 7,
Before the step of forming the functional layer, a second lyophilic film having a lower lyophilic property than the first lyophilic film is formed in the region on the short side side. Production method.

An electronic apparatus comprising the organic EL device according to any one of claims 1 to 5.