JP2009175463A - Method of manufacturing optical scanner, and optical scanner - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、板状のミラーを有する振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を走査光として反射する光スキャナを製造する方法およびその光スキャナに関するものである。 The present invention relates to a method of manufacturing an optical scanner that reflects light incident on a reflecting surface of a mirror as scanning light by vibrating a vibrating body having a plate-like mirror in a reciprocating manner, and the light. It relates to the scanner.
板状のミラーを有する振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を走査光として反射する光スキャナが既に知られている(例えば、特許文献1参照。)。 There is already known an optical scanner that reflects light incident on the reflection surface of the mirror as scanning light by magnetically vibrating a vibrating body having a plate-like mirror in a reciprocating manner (for example, Patent Documents). 1).
この種の光スキャナは、例えば、画像形成の分野や画像読取りの分野において使用される。画像形成の分野においては、網膜上において光束を走査して画像を直接に表示する網膜走査型ディスプレイ装置、プロジェクタ、レーザプリンタ、レーザリソグラフィ等の用途に使用され、一方、画像読取りの分野においては、ファクシミリ、複写機、イメージスキャナ、バーコードリーダ等の用途に使用される。 This type of optical scanner is used, for example, in the field of image formation and the field of image reading. In the field of image formation, it is used for applications such as a retinal scanning display device that scans a light beam on the retina to directly display an image, a projector, a laser printer, laser lithography, and the like, while in the field of image reading, Used for applications such as facsimiles, copiers, image scanners, and barcode readers.
この種の光スキャナは、一般に、ミラーと可動磁気要素とを有する振動体と、その振動体を磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を往復揺動的に反射する固定磁気要素であって前記可動磁気要素との間において磁気的相互作用を行うものとを含むように構成される。 In general, this type of optical scanner reflects a light incident on a reflecting surface of the mirror in a reciprocating manner by vibrating a vibrating body having a mirror and a movable magnetic element and magnetically vibrating the vibrating body. A fixed magnetic element that performs a magnetic interaction with the movable magnetic element.
この種の光スキャナを製造する方法の一従来例によれば、前記振動体のうちの本体部の表面に対して加熱的な成膜(例えば、真空蒸着)を行うことにより、本体部の表面に板状のミラーが被着される。 According to one conventional example of a method of manufacturing this type of optical scanner, the surface of the main body is formed by performing thermal film formation (for example, vacuum deposition) on the surface of the main body of the vibrating body. A plate-like mirror is attached to the substrate.
また、光スキャナが、振動体に装着される磁性薄膜または磁気コイルを可動磁気要素として有している場合には、上述の従来の製造方法によれば、前記振動体のうちの本体部の表面に対して加熱的な成膜(例えば、スパッタリング)を行うことにより、本体部の表面に可動磁気要素が被着される。 Further, when the optical scanner has a magnetic thin film or a magnetic coil attached to the vibrating body as a movable magnetic element, according to the above-described conventional manufacturing method, the surface of the main body portion of the vibrating body The movable magnetic element is attached to the surface of the main body by performing thermal film formation (for example, sputtering) on the surface of the main body.
具体的には、本体部の表面に可動磁気要素を被着するために、例えば、約300−500℃の雰囲気下で、本体部の表面が溶融している状態で、その表面に粒子が付着させられる。その結果、粒子が本体部の表面に、単に堆積されるのではなく、埋め込まれ、それにより、粒子が本体部の表面により確実に固着される。
しかしながら、この従来の製造方法を実施する場合には、本体部の表面にミラーが加熱的な成膜によって形成されるとともに、同じ本体部の表面に可動磁気要素も加熱的な成膜によって被着されるために、本体部に熱的な内部応力が発生し、それが残留してしまう可能性がある。 However, when implementing this conventional manufacturing method, the mirror is formed on the surface of the main body by thermal film formation, and the movable magnetic element is also deposited on the surface of the same main body by thermal film formation. Therefore, a thermal internal stress is generated in the main body, and it may remain.
このように本体部に熱的な内部応力が発生してそれが残留してしまうと、本体部に歪みが発生し、これは、ミラーの表面に反りやうねりを発生させる原因となり得る。 When thermal internal stress is generated in the main body portion and remains in this manner, the main body portion is distorted, which can cause warpage and undulation on the surface of the mirror.
ミラーの表面に反りやうねりが発生すると、その大きさが100ナノメートルのオーダであっても、ミラーからの反射ビームの断面における強度分布が変化し、いわゆるビーム劣化が発生する。このようなビーム劣化は、例えば、光スキャナから出射する走査ビームが画像形成・表示に利用される場合には、画像品質を劣化させる原因となり得る。 When warping or undulation occurs on the surface of the mirror, the intensity distribution in the cross section of the reflected beam from the mirror changes even if the magnitude is on the order of 100 nanometers, and so-called beam degradation occurs. Such beam degradation can cause image quality degradation when, for example, a scanning beam emitted from an optical scanner is used for image formation / display.
以上説明した事情を背景として、本発明は、板状のミラーを有する振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を走査光として反射する光スキャナを製造する技術であって、振動体内部の熱的な残留応力歪みに起因したミラー表面の反りおよびうねりが抑制されるように、光スキャナを製造することに適したものを提供することを課題としてなされたものである。 Against the background described above, the present invention provides light that reflects the light incident on the reflecting surface of the mirror as scanning light by magnetically vibrating a vibrating body having a plate-like mirror in a reciprocating manner. Provided is a technique for manufacturing a scanner, which is suitable for manufacturing an optical scanner so that mirror surface warping and undulation caused by thermal residual stress distortion inside a vibrating body is suppressed. It was made as an issue.
本発明によって下記の各態様が得られる。各態様は、項に区分し、各項には番号を付し、必要に応じて他の項の番号を引用する形式で記載する。これは、本発明が採用し得る技術的特徴の一部およびそれの組合せの理解を容易にするためであり、本発明が採用し得る技術的特徴およびそれの組合せが以下の態様に限定されると解釈すべきではない。すなわち、下記の態様には記載されていないが本明細書には記載されている技術的特徴を本発明の技術的特徴として適宜抽出して採用することは妨げられないと解釈すべきなのである。 The following aspects are obtained by the present invention. Each aspect is divided into sections, each section is given a number, and is described in a form that cites other section numbers as necessary. This is to facilitate understanding of some of the technical features that the present invention can employ and combinations thereof, and the technical features that can be employed by the present invention and combinations thereof are limited to the following embodiments. Should not be interpreted. That is, it should be construed that it is not impeded to appropriately extract and employ the technical features described in the present specification as technical features of the present invention although they are not described in the following embodiments.
さらに、各項を他の項の番号を引用する形式で記載することが必ずしも、各項に記載の技術的特徴を他の項に記載の技術的特徴から分離させて独立させることを妨げることを意味するわけではなく、各項に記載の技術的特徴をその性質に応じて適宜独立させることが可能であると解釈すべきである。 Further, describing each section in the form of quoting the numbers of the other sections does not necessarily prevent the technical features described in each section from being separated from the technical features described in the other sections. It should not be construed as meaning, but it should be construed that the technical features described in each section can be appropriately made independent depending on the nature.
(1) 板状のミラーを有する振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を走査光として反射する光スキャナを製造する光スキャナ製造方法であって、
前記振動体は、
本体部と、
その本体部の表面に局部的に装着された積層体と
を含み、
その積層体は、前記ミラーと、板状の可動磁気要素とが互いに積層されて構成されており、
当該光スキャナ製造方法は、
前記本体部を非加熱的に製造する本体部製造工程と、
前記ミラーと前記可動磁気要素とを、それらの順に前記本体部に向かって並ぶ姿勢で加熱的に積層することにより、前記積層体を、前記本体部から物理的に独立して製造する積層体製造工程と、
前記製造された本体部と、前記製造された積層体とを、非加熱的に互いに接着する接着工程と
を含む光スキャナ製造方法。
(1) An optical scanner manufacturing method for manufacturing an optical scanner that reflects light incident on a reflecting surface of a mirror as scanning light by magnetically vibrating a vibrating body having a plate-like mirror in a reciprocating manner. There,
The vibrator is
The main body,
A laminate that is locally attached to the surface of the main body,
The laminate is configured by laminating the mirror and a plate-like movable magnetic element,
The optical scanner manufacturing method is as follows:
A main body manufacturing process for manufacturing the main body without heating;
Laminate manufacturing in which the mirror and the movable magnetic element are thermally stacked in such a manner that the mirror and the movable magnetic element are lined up toward the main body in that order, thereby manufacturing the stacked body physically independently from the main body. Process,
An optical scanner manufacturing method, comprising: a bonding step of bonding the manufactured main body and the manufactured laminate to each other in a non-heated manner.
この製造方法によれば、ミラーが、本体部に直接に装着されるのではなく、板状の可動磁気要素を介して装着される。その可動磁気要素の表面にミラーを装着するために、それら可動磁気要素およびミラーが一緒に加熱され、その結果、それら可動磁気要素およびミラーの積層体が形成されるが、その際に発生する熱は、本体部に伝わらずに済む。 According to this manufacturing method, the mirror is not attached directly to the main body but attached via the plate-like movable magnetic element. In order to mount the mirror on the surface of the movable magnetic element, the movable magnetic element and the mirror are heated together, resulting in the formation of a stack of these movable magnetic elements and mirrors, with the heat generated during that time. Is not transmitted to the main body.
さらに、この製造方法によれば、そのようにして形成された積層体が、本体部に、非加熱的に接着され、それにより、ミラーが可動磁気要素を介して本体部に装着される。積層体の、本体部への接着は、本体部を加熱することなく行われるため、本体部に熱的な内部応力が発生せずに済む。 Furthermore, according to this manufacturing method, the laminated body thus formed is bonded to the main body in a non-heated manner, whereby the mirror is attached to the main body via the movable magnetic element. Since the laminated body is bonded to the main body without heating the main body, no thermal internal stress is generated in the main body.
したがって、この製造方法によれば、本体部の熱的な内部応力に起因したミラー表面の反りおよびうねりが抑制されるように、光スキャナを製造することが可能となる。 Therefore, according to this manufacturing method, it is possible to manufacture the optical scanner so that the mirror surface warpage and waviness due to the thermal internal stress of the main body portion are suppressed.
(2) 前記ミラーは、
ミラー基材と、
そのミラー基材の表面に付着された金属薄膜と
を含み、
前記積層体製造工程は、
前記ミラー基材の表面に前記金属薄膜を加熱的に成膜するミラー成膜工程と、
前記ミラー基材の裏面に前記可動磁気要素を加熱的に成膜する磁気要素成膜工程と
を含む(1)項に記載の光スキャナ製造方法。
(2) The mirror is
A mirror substrate;
A metal thin film attached to the surface of the mirror substrate,
The laminate manufacturing process includes:
A mirror film forming step of thermally forming the metal thin film on the surface of the mirror substrate;
The method for manufacturing an optical scanner according to (1), further comprising: a magnetic element film forming step of thermally forming the movable magnetic element on the back surface of the mirror base material.
この製造方法によれば、ミラーが、ミラー基材の表面に金属薄膜が加熱的に成膜されることによって製造され、さらに、同じミラー基材の裏面に可動磁気要素が加熱的に成膜される。いずれの加熱的な成膜も、本体部の加熱を伴うことなく、行われる。 According to this manufacturing method, the mirror is manufactured by thermally forming a metal thin film on the surface of the mirror substrate, and further, the movable magnetic element is thermally formed on the back surface of the same mirror substrate. The Any heating film formation is performed without heating the main body.
その結果、この製造方法によれば、ミラー基材が金属薄膜と可動磁気要素とよってサンドイッチされた積層体が、本体部から物理的に独立して、その本体部の加熱を伴うことなく、形成される。 As a result, according to this manufacturing method, the laminated body in which the mirror base material is sandwiched between the metal thin film and the movable magnetic element is formed physically independently from the main body without heating the main body. Is done.
このようにして形成された積層体は、本体部に非加熱的に接着され、その結果、光スキャナが製造される。 The laminated body thus formed is bonded to the main body in a non-heated manner, and as a result, an optical scanner is manufactured.
したがって、この製造方法によれば、本体部の熱的な内部応力に起因したミラー表面の反りおよびうねりが抑制されるように、光スキャナを製造することが可能となる。 Therefore, according to this manufacturing method, it is possible to manufacture the optical scanner so that the mirror surface warpage and waviness due to the thermal internal stress of the main body portion are suppressed.
(3) 前記ミラー基材は、前記本体部より高い剛性を有するように構成される(2)項に記載の光スキャナ製造方法。 (3) The optical scanner manufacturing method according to (2), wherein the mirror base is configured to have higher rigidity than the main body.
この製造方法によれば、ミラー基材の、外力に対する変形抵抗が、本体部の、外力に対する変形抵抗より増加し、その結果、ミラー基材が本体部に装着された状態において、本体部の変形がミラー基材の変形ひいてはミラー表面の反りおよびうねりを招来せずに済むように、光スキャナを製造することが可能となる。 According to this manufacturing method, the deformation resistance of the mirror base material with respect to the external force is greater than the deformation resistance of the main body portion with respect to the external force, and as a result, the main body portion is deformed in a state where the mirror base material is mounted on the main body portion. However, it is possible to manufacture the optical scanner so that the deformation of the mirror base material and the warpage and undulation of the mirror surface are not caused.
よって、この製造方法によれば、ミラー基材が本体部に装着された状態において、ミラー基材の形状が本体部の形状を反映する程度が低下し、その結果、ミラー基材の形状精度が、本体部の形状精度の低下に起因して低下せずに済む。 Therefore, according to this manufacturing method, in a state where the mirror base material is mounted on the main body portion, the degree to which the shape of the mirror base material reflects the shape of the main body portion is reduced, and as a result, the shape accuracy of the mirror base material is reduced. Therefore, it does not need to be lowered due to a decrease in the shape accuracy of the main body.
したがって、この製造方法によれば、ミラー基材が本体部に装着された状態において、本体部の変形にもかかわらず、ミラー表面の形状が維持される傾向が増加する。 Therefore, according to this manufacturing method, in the state in which the mirror base material is mounted on the main body portion, the tendency that the shape of the mirror surface is maintained despite the deformation of the main body portion is increased.
なお付言すれば、ミラー基材の剛性(曲げこわさEIやねじりこわさGIP)は、そのミラー基材を構成する材料の機械的性質(例えば、縦弾性係数E、横弾性係数G)のみならず、そのミラー基材の形状および寸法(例えば、断面2次モーメントIや断面2次極モーメントIP)にも依存する。このことは、本体部の剛性についても同様である。 In addition, the rigidity (bending stiffness EI and torsion stiffness GI P ) of the mirror base material is not limited to the mechanical properties (for example, the longitudinal elastic modulus E and the lateral elastic modulus G) of the material constituting the mirror base material. , And also depends on the shape and dimensions of the mirror substrate (for example, the cross-sectional secondary moment I and the cross-sectional secondary pole moment I P ). The same applies to the rigidity of the main body.
(4) 前記ミラー基材は、ガラスまたはセラミックにより構成される(2)または(3)項に記載の光スキャナ製造方法。 (4) The optical scanner manufacturing method according to (2) or (3), wherein the mirror base is made of glass or ceramic.
この製造方法によれば、ミラー基材の材料としてガラスまたはセラミックが選択されるため、他の材料が選択される場合より、ミラー基材を、本体部より高い剛性を有するように構成することが容易となる。 According to this manufacturing method, since glass or ceramic is selected as the material of the mirror base material, the mirror base material can be configured to have higher rigidity than that of the main body portion as compared with the case where other materials are selected. It becomes easy.
(5) 前記可動磁気要素は、磁性薄膜と磁気コイルとのうちの少なくとも一方を含む(1)ないし(4)項のいずれかに記載の光スキャナ製造方法。 (5) The optical scanner manufacturing method according to any one of (1) to (4), wherein the movable magnetic element includes at least one of a magnetic thin film and a magnetic coil.
(6) 前記接着工程は、接着剤として光硬化性樹脂を用いて、前記製造された本体部と、前記製造された積層体とを非加熱的に互いに接着する工程を含む(1)ないし(5)項のいずれかに記載の光スキャナ製造方法。 (6) The bonding step includes a step of bonding the manufactured main body and the manufactured laminate to each other in a non-heated manner using a photocurable resin as an adhesive. 5) The optical scanner manufacturing method according to any one of items.
この製造方法によれば、製造された本体部と、その本体部から独立して製造された積層体とを互いに接着する接着剤として、加熱を必要としない光硬化性樹脂が用いられるため、本体部と積層体との装着のために、本体部が加熱されずに済む。 According to this manufacturing method, a photocurable resin that does not require heating is used as an adhesive for bonding the manufactured main body and the laminate manufactured independently from the main body to each other. The main body is not heated for mounting the part and the laminate.
(7) 光スキャナであって、
板状のミラーと板状の可動磁気要素とを有する振動体と、
その振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を走査光として反射する固定磁気要素であって前記可動磁気要素との間において磁気的相互作用を行うものと
を含み、
前記振動体は、
本体部と、
その本体部の表面に局部的に装着された積層体と
を含み、
その積層体は、前記ミラーと前記可動磁気要素とが、それらの順に前記本体部に向かって並ぶ姿勢で、互いに積層されて構成されている光スキャナ。
(7) An optical scanner,
A vibrating body having a plate-like mirror and a plate-like movable magnetic element;
A magnetic interaction between the movable magnetic element and a fixed magnetic element that reflects light incident on the reflecting surface of the mirror as scanning light by magnetically vibrating the vibrating body in a reciprocating manner. Including those that perform
The vibrator is
The main body,
A laminate that is locally attached to the surface of the main body,
The stacked body is an optical scanner in which the mirror and the movable magnetic element are stacked on each other in a posture in which the mirror and the movable magnetic element are arranged in the order toward the main body.
この光スキャナは、例えば、前記(1)項に係る製造方法によって製造することが可能である。そして、この光スキャナによれば、例えば、その製造方法によって製造することを条件に、走査ビームの劣化を抑制しつつ、光学的スキャンを行うことが可能となる。 This optical scanner can be manufactured, for example, by the manufacturing method according to the item (1). According to this optical scanner, for example, on the condition that it is manufactured by the manufacturing method, it is possible to perform optical scanning while suppressing deterioration of the scanning beam.
(8) 前記ミラーは、
ミラー基材と、
そのミラー基材の表面に付着された金属薄膜と
を含み、
前記ミラー基材は、前記本体部より高い剛性を有するように構成される(7)項に記載の光スキャナ。
(8) The mirror is
A mirror substrate;
A metal thin film attached to the surface of the mirror substrate,
The optical scanner according to item (7), wherein the mirror base is configured to have higher rigidity than the main body.
この光スキャナによれば、ミラー基材の、外力に対する変形抵抗が、本体部の、外力に対する変形抵抗より増加し、その結果、本体部の変形がミラー基材の変形ひいてはミラー表面の反りおよびうねりを招来せずに済む。 According to this optical scanner, the deformation resistance of the mirror base material to the external force is increased more than the deformation resistance of the main body portion to the external force. You do n’t have to be invited.
したがって、この光スキャナによれば、本体部の変形にもかかわらず、ミラー表面の形状が維持される傾向が増加し、その結果、走査ビームの劣化を抑制しつつ、光学的スキャンを行うことが可能となる。 Therefore, according to this optical scanner, the tendency to maintain the shape of the mirror surface increases despite the deformation of the main body, and as a result, optical scanning can be performed while suppressing deterioration of the scanning beam. It becomes possible.
以下、本発明のさらに具体的な実施の形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, some of more specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1には、本発明の第1実施形態に従う光スキャナ製造方法によって製造されるべき光スキャナ10が斜視図で示されている。その製造方法は、本発明の第1の側面に従う方法の一例であり、一方、その光スキャナ10は、本発明の第2の側面に従う光スキャナの一例である。
FIG. 1 is a perspective view of an
図1に示す光スキャナ10は、板状の本体部12が、一面において開口した中空直方体状のベース14に、そのベース14の開口面を閉塞する状態で装着されることによって構成されている。
The
本体部12は、シリコン等、弾性を有する材料(ステンレス等、金属材料でも可)を用いて形成されている。本体部12は、貫通穴を有して薄板長方形状を成している。本体部12は、外側には固定枠部16を備える一方、内側には、反射面を有する板状のミラー18が形成された可動部20を備えている。
The
本体部12は、さらに、可動部20と固定枠部16とを互いに連結する一対のねじりはり部22,22を互いに同軸に備えている。可動部20は、一対のねじりはり部22,22に共通の一揺動軸線まわりに往復揺動させられ、それにより、ミラー18に入射した光が、往復揺動させられるミラー18で反射して、そのミラー18から走査光として出射する。
The
ベース14は、空洞26を有するとともに上面において開口している。このベース14の上面に固定枠部16の外周縁部が固定的に装着されることにより、可動部20がベース14により、弾性的に往復揺動可能に支持される。
The
図2には、この光スキャナ10が縦断面図で示されている。
FIG. 2 shows the
図2に示すように、可動部20の表面(図2においては、上面)には、共に板状を成すミラー18と磁気コイル32(可動磁気要素の一例)との積層体34が装着されている。その積層体34においては、ミラー18と磁気コイル32とがそれらの順に、可動部20に向かって並んでいる。
As shown in FIG. 2, a
ミラー18は、金属薄膜36がミラー基材38の表面(図2においては、上面)に成膜されることによって構成される。そのミラー基材38の裏面(図2においては、下面)には、磁気コイル32が成膜される。したがって、積層体34は、金属薄膜36と、ミラー基材38と、磁気コイル32との積層体でもある。
The
磁気コイル32には、本体部12に装着された配線(図示しない)を介して外部から電圧が印加される。この磁気コイル32には、それの極性が交番的に変化するように電圧が印加される。
A voltage is applied to the
ミラー基材38は、その材料ならびに形状および大きさの適切な選択により、本体部12のうち、そのミラー基材38が貼り付けられるべき部分より高い剛性(曲げこわさEIおよびねじりこわさGIP)を有するように設計されている。
The
図2に示すように、光スキャナ10においては、可動部20と積層体34とが互いに積層されることにより、振動体40が形成されている。
As shown in FIG. 2, in the
その振動体40を往復揺動的に磁気的に振動させるために、図2に示すように、ベース14の空洞26内に、永久磁石(固定磁気要素の一例であり、例えば、希土類(例えば、Nd−Fe−B)焼結磁石)42が、振動体40の背後において、その振動体40に対向するように設置される。
In order to magnetically vibrate the vibrating
図3には、図1に示す光スキャナ10を製造する方法が示されている。
FIG. 3 shows a method of manufacturing the
この製造方法は、(a)本体部12を非加熱的に製造する本体部製造工程と、(b)積層体34を加熱的に製造する積層体製造工程と、(c)製造された本体部12と積層体34とを非加熱的に互いに接着する接着工程と、(d)積層体34が接着された本体部12をベース14に装着するパッケージ工程とを有する。
The manufacturing method includes: (a) a main body manufacturing process for manufacturing the
この製造方法においては、本体部製造工程と積層体製造工程とは、作業フローとして、互いに直列の関係にあるのではなく、互いに並列の関係にある。したがって、積層体34の製造に必要な熱の影響を、本体部12が受けずに済む。
In this manufacturing method, the main body manufacturing process and the laminated body manufacturing process are not in a serial relationship with each other as a work flow but in a parallel relationship with each other. Therefore, the
具体的には、本体部製造工程においては、まず、シリコン基板(例えば、厚さが10μm)が準備されて洗浄される。次に、そのシリコン基板の両面にそれぞれ、レジストが特定のパターンで付与される。 Specifically, in the main body manufacturing process, first, a silicon substrate (for example, a thickness of 10 μm) is prepared and cleaned. Next, a resist is applied in a specific pattern on both sides of the silicon substrate.
続いて、レジストが付与されたシリコン基板に対してエッチング処理が施される。そのエッチング処理は、ウエットエッチングでもドライエッチングでもよい。いずれにしても、そのエッチング処理により、シリコン基板に貫通穴が形成され、その結果、本体部12が完成する。
Subsequently, an etching process is performed on the silicon substrate provided with a resist. The etching process may be wet etching or dry etching. In any case, through-holes are formed in the silicon substrate by the etching process, and as a result, the
図4には、前記積層体製造工程の詳細がフローチャートで表されている。 FIG. 4 is a flowchart showing details of the laminate manufacturing process.
この積層体製造工程が実施されると、まず、ステップS101において、ミラー基材38(板ガラス)のラッピングが行われる。次に、ステップS102において、そのミラー基材38のポリッシュ(例えば、酸化セリウムによるバフ研磨)が行われる。
If this laminated body manufacturing process is implemented, first, in step S101, the mirror base material 38 (plate glass) is lapped. Next, in step S102, the
続いて、ステップS103において、ミラー基材38に対するファイナルポリッシュ(例えば、ダイアモンドポリッシュによるファイナル研磨)が行われる。研磨加工により、ミラー基材38の表面ラフネスは10ナノメートル以下にすることが可能である。特に、ミラー基材38の材料としてガラスを使用する場合には、研磨条件のコントロールにより、ラフネスは数オングストロームまで低下する。
Subsequently, in step S103, final polishing (for example, final polishing by diamond polishing) is performed on the
その後、ステップS104において、ミラー基材38の裏面、すなわち、ミラー基材38の両面のうち、金属薄膜36が成膜されるべき面とは反対側の面に、真空蒸着により、可動磁気要素の一例である磁気コイル32(金属コイル)が成膜される。ミラー基材38の表面の場合とは異なり、磁気コイル32の表面ラフネスは特に問題とはしない。
Thereafter, in step S104, the back surface of the
続いて、ステップS105において、ミラー基材38の表面、すなわち、ミラー基材38の両面のうち、磁気コイル32が既に成膜された面とは反対側の面に、真空蒸着により、金属薄膜36(例えば、材料は、アルミニウム、銀、金などの金属)が成膜される。このミラー成膜工程の詳細は後述する。このステップS105が終了すると、積層体34が完成する。
Subsequently, in step S105, the metal
その後、ステップS106において、その完成した積層体34が、ダイサーにより、所望の形状を有する複数のピースにダイシングされる。
Thereafter, in step S106, the completed
図5には、前記ミラー成膜工程の一例がフローチャートで表されている。 FIG. 5 is a flowchart showing an example of the mirror film forming process.
このミラー18膜工程が実施されると、まず、ステップS201において、ミラー基材38に対して洗浄が行われ、それにより、ミラー基材38(本実施形態においては、板ガラスであるが、それに限定されることなく、例えば、セラミックでもよい)の表面に付着したホコリやゴミが除去される。具体的には、ミラー基材38のガラス面が塩化錫で処理された後、純水で洗浄される。
If this
次に、ステップS202において、ミラー基材38に対して銀引きが行われる。具体的には、銀の溶液と還元液とがミラー基材38の表面に吹き付けられ、それにより、薄い銀膜が形成される。
Next, silvering is performed on the
続いて、ステップS203において、ミラー基材38に対して銅引きが行われる。具体的には、上記形成された薄い銀膜上に、さらに、銅溶液とその還元液とが吹き付けられ、それにより、膜が形成される。その後、純水で洗浄され、ついで、熱風で乾燥させられ、さらに、電熱で乾燥させられ、それにより、ミラー基材38から水分が除去される。
Subsequently, copper drawing is performed on the
その後、ステップS204において、ミラー基材38に対して塗装が行われる。具体的には、鏡の裏止め塗装が行われ、それにより、形成された銀膜が保護される。
Thereafter, in step S204, the
続いて、ステップS205において、ミラー基材38に対して洗浄が行われ、それにより、ミラー基材38の汚れが洗い落とされる。
Subsequently, in step S205, the
その後、ステップS206において、ミラー基材38が十分に乾燥させられる。以上で、このミラー成膜工程が終了する。
Thereafter, in step S206, the
図3に示すように、前記積層体製造工程が終了すると、続いて、前記接着工程が実施される。この接着工程が実施されると、接着剤として光硬化性樹脂が用いられて、本体部12のうちの可動部20に、積層体34が、非加熱的に互いに接着される。その結果、本体部12と積層体34との組立体として、振動体40が完成する。
As shown in FIG. 3, when the laminate manufacturing process is completed, the bonding process is subsequently performed. When this bonding step is performed, a photocurable resin is used as an adhesive, and the
なお付言するに、ミラー基材38は、可動部20の片面のみに接着される。そのため、ミラー基材38の厚さは、可動部20の厚さの約15倍以下であることが望ましい。可動部20の厚さ(すなわち、シリコン基板の厚さ)が10μmである場合には、ミラー基材38の厚さは、約150μm以下であることが望ましい。なぜなら、ミラー基材38の厚さが約150μmより厚いと、光スキャナ10の作動中、振動体40に不要な振動が発生し、その結果、振動体40のねじれ振動が安定しない可能性があるからである。
In addition, the
前記接着工程が終了すると、続いて、前記パッケージ工程が実施される。このパッケージ工程が実施されると、ベース14の空洞26内の所定位置に永久磁石42が設置されたうえで、完成された振動体40がベース14に固定される。その結果、光スキャナ10が完成する。
When the bonding process is completed, the packaging process is subsequently performed. When the packaging process is performed, the
図6には、比較例として、従来の光スキャナ50の一例が縦断面図で示されている。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing an example of a conventional
この従来の光スキャナ50においては、振動体52が、ミラー18と、本体部12のうち対応する部分(すなわち、可動部20)と、磁気コイル32との積層体として構成されている。この積層体においては、本体部12がミラー18と磁気コイル32とによってサンドイッチされている。この従来の光スキャナ50においては、可動磁気要素が磁気コイル32であり、固定磁気要素は、ベース14内に設置された永久磁石42(例えば、希土類焼結磁石)である。
In this conventional
図7には、図6に示す従来の光スキャナ50を製造する従来の方法の一例が示されている。
FIG. 7 shows an example of a conventional method for manufacturing the conventional
この従来の製造方法が実施されると、まず、シリコン基板(例えば、厚さが10μm)が準備されて洗浄される。次に、そのシリコン基板の両面にそれぞれ、レジストが特定のパターンで付与される。 When this conventional manufacturing method is carried out, first, a silicon substrate (for example, having a thickness of 10 μm) is prepared and cleaned. Next, a resist is applied in a specific pattern on both sides of the silicon substrate.
続いて、レジストが付与されたシリコン基板に対してエッチング処理が施される。そのエッチング処理は、ウエットエッチングでもドライエッチングでもよい。いずれにしても、そのエッチング処理により、シリコン基板に貫通穴が形成され、その結果、本体部12が完成する。
Subsequently, an etching process is performed on the silicon substrate provided with a resist. The etching process may be wet etching or dry etching. In any case, through-holes are formed in the silicon substrate by the etching process, and as a result, the
その後、本体部12のうちの可動部20の両面に金属ミラー18および磁気コイル32がそれぞれ形成される。この形成工程は、2種類存在する。
Thereafter, the
第1の形成工程によれば、まず、可動部20の表面(図7においては、上面)に金属ミラー18(例えば、厚さが0.3μm)が加熱的な蒸着によって成膜され、次に、同じ可動部20の裏面(図7においては、下面)に磁気コイル32(例えば、厚さが10μm)が加熱的な蒸着によって成膜される。いずれの成膜工程においても、本体部12が加熱されてしまう。
According to the first forming step, first, a metal mirror 18 (for example, a thickness of 0.3 μm) is formed on the surface of the movable portion 20 (upper surface in FIG. 7) by thermal evaporation, and then A magnetic coil 32 (for example, a thickness of 10 μm) is formed on the back surface (the lower surface in FIG. 7) of the same
これに対し、第2の形成工程によれば、まず、可動部20の裏面(図7においては、下面)に磁気コイル32(例えば、厚さが10μm)が加熱的な蒸着によって成膜され、次に、同じ可動部20の表面(図7においては、上面)に金属ミラー18(例えば、厚さが0.3μm)が加熱的な蒸着によって成膜される。いずれの成膜工程においても、本体部12が加熱されてしまう。
On the other hand, according to the second forming step, first, a magnetic coil 32 (for example, a thickness of 10 μm) is formed on the back surface (the lower surface in FIG. 7) of the
この従来の製造方法では、本体部12のうち、金属ミラー18および磁気コイル32を成膜するために加熱することが必要ではない部分も加熱されてしまう。そのため、本体部12に熱的な内部応力が発生して残留する可能性がある。そのような熱的な残留応力は、本体部12に反りやうねりを表面形状誤差として発生させる。そのような表面形状誤差は、金属ミラー18の表面形状を変形させてその金属ミラー18からの反射ビームを劣化させる原因となる。
In this conventional manufacturing method, a portion of the
ところで、本体部12が変形しても金属ミラー18の表面が変形しないようにするために、例えば、金属ミラー18の剛性を可動部20の剛性より高くする対策が考えられる。
By the way, in order to prevent the surface of the
しかし、可動部20のやや大きな反りやうねりにもかかわらず金属ミラー18の表面形状を維持するようにするためには、金属ミラー18の厚さをそれなりに増加させることが必要となる。一方、金属ミラー18の厚さの増加は、金属ミラー18の重量増加につながり、ひいては、従来の光スキャナ50のうちの揺動部分の重量増加につながる。その揺動部分の重量増加により、ねじりはり部22,22のたわみによる高次振動モードの影響やブランコ運動などによる不安定駆動が発生し、安定したねじり振動が期待できない。
However, in order to maintain the surface shape of the
これに対し、本実施形態によれば、ミラー18が、本体部12に直接に装着されるのではなく、磁気コイル32を介して装着される。その磁気コイル32の表面にミラー18を装着するために、それら磁気コイル32およびミラー18が一緒に加熱され、その結果、それら磁気コイル32およびミラー18の積層体34が形成されるが、その際に発生する熱は、本体部12に伝わらずに済む。
On the other hand, according to the present embodiment, the
さらに、本実施形態によれば、そのようにして形成された積層体34が、本体部12に、非加熱的に接着され、それにより、ミラー18が磁気コイル32を介して本体部12に装着される。積層体34の、本体部12への接着は、本体部12を加熱することなく行われるため、本体部12に熱的な内部応力が発生せずに済む。
Further, according to the present embodiment, the laminate 34 formed in this way is bonded to the
したがって、本実施形態によれば、本体部12の熱的な内部応力に起因したミラー18表面の反りおよびうねりが抑制されるように、光スキャナ10を製造することが可能となる。
Therefore, according to the present embodiment, the
よって、本実施形態によれば、光スキャナ10により、走査ビームの劣化を抑制しつつ、光学的スキャンを行うことが可能となる。
Therefore, according to this embodiment, the
以上の説明から明らかなように、本実施形態においては、説明の便宜上、磁気コイル32が前記(7)項における「可動磁気要素」の一例を構成し、永久磁石42が同項における「固定磁気要素」の一例を構成していると考えることが可能である。
As is apparent from the above description, in this embodiment, for convenience of explanation, the
次に、本発明の第2実施形態に従う光スキャナ製造方法を説明する。ただし、本実施形態は、第1実施形態に対し、ミラー成膜工程に関してのみ異なり、他の要素については共通するため、ミラー成膜工程についてのみ詳細に説明し、共通する要素については重複した説明を省略する。 Next, an optical scanner manufacturing method according to the second embodiment of the present invention will be described. However, the present embodiment differs from the first embodiment only in the mirror film forming process, and other elements are common, so only the mirror film forming process will be described in detail, and the common elements will be duplicated. Is omitted.
図8には、本実施形態に従うミラー成膜工程がフローチャートで表されている。 FIG. 8 is a flowchart showing the mirror film forming process according to this embodiment.
このミラー成膜工程が実施されると、まず、ステップS301において、図5に示すステップS201と同様にして、ミラー基材38に対して洗浄が行われ、それにより、ミラー基材38の表面に付着したホコリやゴミが除去される。具体的には、ミラー基材38のガラス面が塩化錫で処理された後、純水で洗浄される。
When this mirror film forming step is performed, first, in step S301, the
次に、ステップS302において、ミラー基材38が熱風で乾燥させられ、さらに、電熱で乾燥させられ、それにより、ミラー基材38のガラス面へのアルミニウム蒸着膜の密着性が向上させられる。
Next, in step S <b> 302, the
その後、ステップS303において、ミラー基材38に対して加熱的に真空蒸着が行われ、それにより、ミラー基材38のガラス面にアルミニウム蒸着膜が形成される。
Thereafter, in step S303, vacuum deposition is performed on the
続いて、ステップS304において、図5に示すステップS204と同様にして、ミラー基材38に対して塗装が行われる。具体的には、鏡の裏止め塗装が行われ、それにより、形成されたアルミニウム蒸着膜が保護される。
Subsequently, in step S304, the
その後、ステップS305において、図5に示すステップS206と同様にして、ミラー基材38が十分に乾燥させられる。以上で、このミラー成膜工程が終了する。
Thereafter, in step S305, the
このミラー成膜工程は、金属蒸着面について高いフラットネスを実現するために、第1実施形態に従うミラー成膜工程より有利である。 This mirror film forming step is more advantageous than the mirror film forming step according to the first embodiment in order to realize high flatness on the metal vapor deposition surface.
次に、本発明の第3実施形態に従う光スキャナ製造方法およびその製造方法によって製造される光スキャナを説明する。 Next, an optical scanner manufacturing method and an optical scanner manufactured by the manufacturing method according to the third embodiment of the present invention will be described.
本実施形態に従う光スキャナは、可動磁気要素が磁性薄膜、固定磁気要素が電磁コイルである点で、可動磁気要素が磁気コイル32、固定磁気要素が永久磁石42である第1実施形態に従う光スキャナ10とは異なるが、他の点については第1実施形態と共通する。したがって、第1実施形態とは異なる点ついてのみ詳細に説明し、共通する点については重複した説明を省略する。
The optical scanner according to the present embodiment is an optical scanner according to the first embodiment in which the movable magnetic element is a magnetic thin film and the fixed magnetic element is an electromagnetic coil, and the movable magnetic element is a
図9には、本実施形態に従う光スキャナ70が縦断面図で示されている。
FIG. 9 shows an
この光スキャナ70は、図2に示す光スキャナ10と同様に、本体部12と、ベース14とを有するが、図2に示す光スキャナ10とは異なり、本体部12に装着された磁性薄膜72と、ベース14の空洞26内に設置された電磁コイル74とを有する。本実施形態においては、ミラー基材38が金属薄膜36と磁性薄膜72とによってサンドイッチされることによって積層体76が構成されている。
Like the
図10には、この光スキャナ70を製造する方法がフローチャートで表されている。
FIG. 10 is a flowchart showing a method for manufacturing the
この製造方法が実施されると、まず、本体部製造工程が、第1実施形態に従う製造方法と同様にして実施される。 When this manufacturing method is performed, first, the main body manufacturing process is performed in the same manner as the manufacturing method according to the first embodiment.
次に、積層体製造工程が、第1実施形態に従う製造方法と基本的に同様にして実施される。ただし、図4に示すステップS104においては、第1実施形態においては、可動磁気要素としての磁気コイル32が、加熱的な真空蒸着により、ミラー基材38の裏面に成膜されるが、本実施形態においては、可動磁気要素としての磁性薄膜72(例えば、硬磁性薄膜72Co/Pt膜)が、加熱的なスパッタリングにより、ミラー基材38の裏面に成膜される。
Next, the laminate manufacturing process is performed basically in the same manner as the manufacturing method according to the first embodiment. However, in step S104 shown in FIG. 4, in the first embodiment, the
続いて、接着工程が、第1実施形態に従う製造方法と基本的に同様にして実施される。具体的には、積層体34が本体部12に、光硬化性樹脂を接着剤として用いられて、非加熱的に接着される。本実施形態においては、積層体76のうちの磁性薄膜72の表面が、本体部12の表面に接着される。その結果、本体部12の表面に積層体76が局部的に装着されて成る振動体80が完成する。
Subsequently, the bonding step is performed basically in the same manner as the manufacturing method according to the first embodiment. Specifically, the
その後、パッケージ工程が、第1実施形態に従う製造方法と基本的に同様にして実施される。具体的には、ベース14の空洞26内の所定位置に電磁コイル74が設置されたうえで、完成された振動体80がベース14に固定される。その結果、光スキャナ70が完成する。
Thereafter, the packaging process is performed basically in the same manner as the manufacturing method according to the first embodiment. Specifically, after the
図11には、比較例として、従来の光スキャナ90の別の例が縦断面図で示されている。
FIG. 11 is a longitudinal sectional view showing another example of a conventional
この従来の光スキャナ90においては、振動体92が、ミラー18と、本体部12のうち対応する部分(すなわち、可動部20)と、磁性薄膜72との積層体として構成されている。この積層体においては、本体部12がミラー18と磁性薄膜72とによってサンドイッチされている。この従来の光スキャナ90においては、可動磁気要素が磁性薄膜72であり、固定磁気要素は、ベース14内に設置された電磁コイル74である。
In this conventional
図12には、図11に示す従来の光スキャナ90を製造する従来の方法の一例が示されている。
FIG. 12 shows an example of a conventional method for manufacturing the conventional
この従来の製造方法が実施されると、まず、シリコン基板(例えば、厚さが10μm)が準備されて洗浄される。次に、そのシリコン基板の両面にそれぞれ、レジストが特定のパターンで付与される。 When this conventional manufacturing method is carried out, first, a silicon substrate (for example, having a thickness of 10 μm) is prepared and cleaned. Next, a resist is applied in a specific pattern on both sides of the silicon substrate.
続いて、レジストが付与されたシリコン基板に対してエッチング処理が施される。そのエッチング処理は、ウエットエッチングでもドライエッチングでもよい。いずれにしても、そのエッチング処理により、シリコン基板に貫通穴が形成され、その結果、本体部12が完成する。
Subsequently, an etching process is performed on the silicon substrate provided with a resist. The etching process may be wet etching or dry etching. In any case, through-holes are formed in the silicon substrate by the etching process, and as a result, the
その後、本体部12のうちの可動部20の両面に金属ミラー18および磁性薄膜72がそれぞれ形成される。この形成工程は、2種類存在する。
Thereafter, the
第1の形成工程によれば、まず、可動部20の表面(図12においては、上面)に金属ミラー18(例えば、厚さが0.3μm)が加熱的な蒸着によって成膜され、次に、同じ可動部20の裏面(図12においては、下面)に磁性薄膜72(例えば、厚さが1μm)が加熱的なスパッタリングによって成膜される。いずれの成膜工程においても、本体部12が加熱されてしまう。
According to the first forming step, first, a metal mirror 18 (for example, a thickness of 0.3 μm) is formed on the surface of the movable portion 20 (upper surface in FIG. 12) by thermal evaporation, and then A magnetic thin film 72 (for example, 1 μm in thickness) is formed on the back surface (the lower surface in FIG. 12) of the same
これに対し、第2の形成工程によれば、まず、可動部20の裏面(図12においては、下面)に磁性薄膜72(例えば、厚さが1μm)が加熱的なスパッタリングによって成膜され、次に、同じ可動部20の表面(図12においては、上面)に金属ミラー18(例えば、厚さが0.3μm)が加熱的な蒸着によって成膜される。いずれの成膜工程においても、本体部12が加熱されてしまう。
On the other hand, according to the second forming step, first, a magnetic thin film 72 (for example, a thickness of 1 μm) is formed on the back surface (the lower surface in FIG. 12) of the
この従来の製造方法では、本体部12のうち、金属ミラー18および磁性薄膜72を成膜するために加熱することが必要ではない部分も加熱されてしまう。そのため、本体部12に熱的な内部応力が発生して残留する可能性がある。そのような熱的な残留応力は、本体部12に反りやうねりを表面形状誤差として発生させる。そのような表面形状誤差は、金属ミラー18の表面形状を変形させてその金属ミラー18からの反射ビームを劣化させる原因となる。
In this conventional manufacturing method, portions of the
これに対し、本実施形態によれば、ミラー18が、本体部12に直接に装着されるのではなく、磁性薄膜72を介して装着される。その磁性薄膜72の表面にミラー18を形成するために、それら磁性薄膜72およびミラー18が一緒に加熱され、その結果、それら磁性薄膜72およびミラー18の積層体76が形成されるが、その際に発生する熱は、本体部12に伝わらずに済む。
On the other hand, according to the present embodiment, the
さらに、本実施形態によれば、そのようにして形成された積層体76が、本体部12に、非加熱的に接着され、それにより、ミラー18が磁性薄膜72を介して本体部12に装着される。積層体76の、本体部12への接着は、本体部12を加熱することなく行われるため、本体部12に熱的な内部応力が発生せずに済む。
Further, according to the present embodiment, the laminate 76 formed in this way is bonded to the
したがって、本実施形態によれば、本体部12の熱的な内部応力に起因したミラー18表面の反りおよびうねりが抑制されるように、光スキャナ70を製造することが可能となる。
Therefore, according to the present embodiment, the
よって、本実施形態によれば、この光スキャナ70により、走査ビームの劣化を抑制しつつ、光学的スキャンを行うことが可能となる。
Therefore, according to the present embodiment, the
以上の説明から明らかなように、本実施形態においては、説明の便宜上、磁性薄膜72が前記(7)項における「可動磁気要素」の一例を構成し、電磁コイル74が同項における「固定磁気要素」の一例を構成していると考えることが可能である。
As is clear from the above description, in the present embodiment, for convenience of explanation, the magnetic
以上、本発明の実施の形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、前記[発明の開示]の欄に記載の態様を始めとして、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。 As described above, some of the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings. However, these are exemplifications, and are based on the knowledge of those skilled in the art including the aspects described in the section of [Disclosure of the Invention]. The present invention can be implemented in other forms with various modifications and improvements.
10 光スキャナ
12 本体部
18 ミラー
32 磁気コイル
34 積層体
36 金属薄膜
38 ミラー基材
40 振動体
42 永久磁石
70 光スキャナ
72 磁性薄膜
74 電磁コイル
76 積層体
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記振動体は、
本体部と、
その本体部の表面に局部的に装着された積層体と
を含み、
その積層体は、前記ミラーと、板状の可動磁気要素とが互いに積層されて構成されており、
当該光スキャナ製造方法は、
前記本体部を非加熱的に製造する本体部製造工程と、
前記ミラーと前記可動磁気要素とを、それらの順に前記本体部に向かって並ぶ姿勢で加熱的に積層することにより、前記積層体を、前記本体部から物理的に独立して製造する積層体製造工程と、
前記製造された本体部と、前記製造された積層体とを、非加熱的に互いに接着する接着工程と
を含む光スキャナ製造方法。 An optical scanner manufacturing method of manufacturing an optical scanner that reflects light incident on a reflection surface of a mirror as scanning light by magnetically vibrating a vibrating body having a plate-like mirror in a reciprocating manner,
The vibrator is
The main body,
A laminate that is locally attached to the surface of the main body,
The laminate is configured by laminating the mirror and a plate-like movable magnetic element,
The optical scanner manufacturing method is as follows:
A main body manufacturing process for manufacturing the main body without heating;
Laminate manufacturing in which the mirror and the movable magnetic element are thermally stacked in such a manner that the mirror and the movable magnetic element are lined up toward the main body in that order, thereby manufacturing the stacked body physically independently from the main body. Process,
An optical scanner manufacturing method, comprising: a bonding step of bonding the manufactured main body and the manufactured laminate to each other in a non-heated manner.
ミラー基材と、
そのミラー基材の表面に付着された金属薄膜と
を含み、
前記積層体製造工程は、
前記ミラー基材の表面に前記金属薄膜を加熱的に成膜するミラー成膜工程と、
前記ミラー基材の裏面に前記可動磁気要素を加熱的に成膜する磁気要素成膜工程と
を含む請求項1に記載の光スキャナ製造方法。 The mirror is
A mirror substrate;
A metal thin film attached to the surface of the mirror substrate,
The laminate manufacturing process includes:
A mirror film forming step of thermally forming the metal thin film on the surface of the mirror substrate;
The optical scanner manufacturing method of Claim 1 including the magnetic element film-forming process which heat-forms the said movable magnetic element on the back surface of the said mirror base material.
板状のミラーと板状の可動磁気要素とを有する振動体と、
その振動体を往復揺動的に磁気的に振動させることにより、前記ミラーの反射面に入射した光を走査光として反射する固定磁気要素であって前記可動磁気要素との間において磁気的相互作用を行うものと
を含み、
前記振動体は、
本体部と、
その本体部の表面に局部的に装着された積層体と
を含み、
その積層体は、前記ミラーと前記可動磁気要素とが、それらの順に前記本体部に向かって並ぶ姿勢で、互いに積層されて構成されている光スキャナ。 An optical scanner,
A vibrating body having a plate-like mirror and a plate-like movable magnetic element;
A magnetic interaction between the movable magnetic element and a fixed magnetic element that reflects light incident on the reflecting surface of the mirror as scanning light by magnetically vibrating the vibrating body in a reciprocating manner. Including those that perform
The vibrator is
The main body,
A laminate that is locally attached to the surface of the main body,
The stacked body is an optical scanner in which the mirror and the movable magnetic element are stacked on each other in a posture in which the mirror and the movable magnetic element are arranged in the order toward the main body.
ミラー基材と、
そのミラー基材の表面に付着された金属薄膜と
を含み、
前記ミラー基材は、前記本体部より高い剛性を有するように構成される請求項7に記載の光スキャナ。 The mirror is
A mirror substrate;
A metal thin film attached to the surface of the mirror substrate,
The optical scanner according to claim 7, wherein the mirror base is configured to have higher rigidity than the main body.
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