JP2009172855A - Manufacturing method of lithographic printing plate, exposing method of lithographic printing plate material and printing method - Google Patents

Manufacturing method of lithographic printing plate, exposing method of lithographic printing plate material and printing method Download PDF

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    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1025Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials using materials comprising a polymeric matrix containing a polymeric particulate material, e.g. hydrophobic heat coalescing particles

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process-less plate, the image visibility of which is improved through exposure and which is excellent in print durability. <P>SOLUTION: This manufacturing method of a lithographic printing plate has a plurality of processes for exposing a support and a lithographic printing plate material having a heatsensitive recording layer provided on the support and including hot weld particles or heatsensitive hydrophobic polymer particles. In this case, at least one process to expose the lithographic printing plate material is one process for heating the surface of the lithographic printing plate up to 120°C or more through the exposure with infrared rays. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は平版印刷版の製造方法、平版印刷版材料の露光方法、及び印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate manufacturing method, a lithographic printing plate material exposure method, and a printing method.

印刷業界では印刷データのデジタル化に伴い、安価で、取扱いが容易で、PS版と同等の印刷適性を有したCTP(コンピュータ・トゥー・プレート)技術が求められている。又、近年、地球環境への負荷の低減のために、特別な薬剤による湿式現像処理が不要な、所謂プロセスレスCTP印刷版への期待が高まっている。   In the printing industry, with the digitization of print data, there is a demand for CTP (computer-to-plate) technology that is inexpensive, easy to handle, and has the same printability as the PS plate. In recent years, in order to reduce the burden on the global environment, there is an increasing expectation for a so-called processless CTP printing plate that does not require wet development with a special chemical.

プロセスレス印刷版の画像形成方式の一つとして有力なのが、赤外レーザー記録であり、大きく分けてアブレーションタイプ、熱溶融転写タイプ及び熱融着画像層機上現像タイプの3種の記録方式が存在する。中でも熱溶融性微粒子又は熱融着性微粒子を含有する画像層を有する熱融着画像層機上現像タイプは、露光でのアブレーション滓が発生しないため、今後主流になる方式であると考えられている(特許文献1、2参照)。   Infrared laser recording is a promising image forming method for processless printing plates. There are three types of recording methods: an ablation type, a thermal fusion transfer type, and a thermal fusion image layer development type. Exists. Among them, the heat fusion image layer on-machine development type having an image layer containing heat fusible fine particles or heat fusible fine particles is considered to be a mainstream method in the future because no ablation defects occur in exposure. (See Patent Documents 1 and 2).

当業界において、画像露光後、所望の画像が記録されているか確認する為に、検版と言われる作業が行われる。このため、容易に目視で確認できる程度の画像コントラストが必要とされる。一般の印刷版の場合、画像層に色素・顔料等を添加し、現像処理で除去することにより、比較的、容易にコントラストを形成することが可能だが、機上現像タイプの印刷版の場合、露光した段階で、コントラストを形成する必要がある。熱溶融性微粒子を使用した機上現像版においては、散乱光の変化によりコントラストを付ける技術が提案されている(特許文献3参照)。   In the industry, after image exposure, an operation called plate inspection is performed to confirm whether a desired image is recorded. For this reason, an image contrast that can be easily visually confirmed is required. In the case of a general printing plate, it is possible to form a contrast relatively easily by adding dyes / pigments etc. to the image layer and removing it by development processing. However, in the case of an on-press development type printing plate, It is necessary to form contrast at the stage of exposure. In the on-press development plate using heat-meltable fine particles, a technique for providing contrast by changing the scattered light has been proposed (see Patent Document 3).

赤外レーザーを使用して直接書込みをする技術として、原版を40〜110℃に加熱、保持したままレーザー照射する方法が提案されている(特許文献4参照)。同技術では、加熱手段として赤外線照射も含んでいるが、レーザー光のエネルギーロスの低減、及び、レーザー光エネルギーの削減が目的であり、可視画性の向上についての記載は無い。
特開平9−123387号公報 特開平9−123388号公報 特開2006−312275号公報 特開平11−58666号公報
As a technique for direct writing using an infrared laser, a method of irradiating a laser while heating and holding the original plate at 40 to 110 ° C. has been proposed (see Patent Document 4). This technology includes infrared irradiation as a heating means, but the purpose is to reduce the energy loss of the laser beam and the energy of the laser beam, and there is no description about the improvement of visible image quality.
JP-A-9-123387 JP-A-9-123388 JP 2006-31275 A JP-A-11-58666

本発明の目的は、露光での可視画性が向上したプロセスレスプレートを提供することである。又、本発明の第2の目的は、機上現像適性を有し、耐刷性にも優れたプロセスレスプレートを提供することである。   An object of the present invention is to provide a processless plate having improved visibility in exposure. The second object of the present invention is to provide a processless plate having on-press development suitability and excellent printing durability.

本発明の上記目的は以下の構成により達成された。
1.
支持体及び該支持体上に設けられた熱融着微粒子又は感熱疎水性ポリマー粒子を含有する感熱記録層を有する平板印刷版材料を露光する複数の工程を有することを特徴とする平板印刷版の製造方法。
2.
平板印刷版材料を露光する工程の少なくとも一つが、赤外線の露光時に平板印刷版材料の表面を120℃以上に加熱することを特徴とする前記1項に記載の平板印刷版の製造方法。
3.
前記複数の露光工程が、赤外線により平板印刷版材料全面を露光する第1工程と、その後の、赤外レーザー光により像様露光する第2工程を有することを特徴とする前記1又は2項に記載の平板印刷版の製造方法。
4.
前記複数の露光工程が、赤外レーザー光により像様露光する第1工程と、その後の、赤外線により平板印刷版材料全面を露光する第2工程を有することを特徴とする前記1又は2項に記載の平板印刷版の製造方法。
5.
1回目の露光を赤外線照射により行い、2回目の露光が赤外レーザー光による像様露光であることを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。
6.
1回目の露光を赤外レーザー光による像様露光で行い、2回目の露光が赤外線照射による露光であることを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。
7.
1回目の露光及び2回目の露光を赤外レーザー光による像様露光で行うことを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。
8.
1回目の露光と2回目の露光の間隔が0.01〜5秒であることを特徴とする前記5〜7項のいずれか1項に記載の平版印刷版材料の露光方法。
9.
支持体及び該支持体上に設けられた熱融着微粒子又は感熱疎水ポリマー粒子を含有する感熱記録層を有する平板印刷版材料を露光する複数の工程が、前記5〜8項のいずれか1項に記載の露光方法からなることを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。
10.
前記1〜4項のいずれか1項に記載の平版印刷版の製造方法で得られる平版印刷版を用いて、印刷機上現像後、印刷することを特徴とする印刷方法。
The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.
1.
A lithographic printing plate comprising a plurality of steps of exposing a lithographic printing plate material having a support and a heat-sensitive recording layer containing heat-fused fine particles or heat-sensitive hydrophobic polymer particles provided on the support. Production method.
2.
2. The method for producing a lithographic printing plate as described in 1 above, wherein at least one of the steps of exposing the lithographic printing plate material heats the surface of the lithographic printing plate material to 120 ° C. or more during infrared exposure.
3.
Item 1 or 2 above, wherein the plurality of exposure steps include a first step of exposing the entire surface of the lithographic printing plate material with infrared rays and a second step of imagewise exposure with infrared laser light thereafter. The manufacturing method of the lithographic printing plate of description.
4).
Item 1 or 2, wherein the plurality of exposure steps include a first step of imagewise exposure with infrared laser light and a second step of exposing the entire surface of the lithographic printing plate material with infrared rays thereafter. The manufacturing method of the lithographic printing plate of description.
5.
An exposure method for a lithographic printing plate material, wherein the first exposure is performed by infrared irradiation, and the second exposure is an imagewise exposure using infrared laser light.
6).
An exposure method for a lithographic printing plate material, wherein the first exposure is imagewise exposure using infrared laser light, and the second exposure is exposure by infrared irradiation.
7).
An exposure method for a lithographic printing plate material, wherein the first exposure and the second exposure are performed by imagewise exposure using infrared laser light.
8).
8. The exposure method for a lithographic printing plate material according to any one of 5 to 7, wherein the interval between the first exposure and the second exposure is 0.01 to 5 seconds.
9.
A plurality of steps of exposing the lithographic printing plate material having a support and a heat-sensitive recording layer containing heat-bonding fine particles or heat-sensitive hydrophobic polymer particles provided on the support, any one of items 5 to 8 above. An exposure method for a lithographic printing plate material comprising the exposure method described in 1.
10.
5. A printing method comprising printing after development on a printing press using a lithographic printing plate obtained by the method for producing a lithographic printing plate according to any one of 1 to 4 above.

本発明によれば、露光での可視画性が向上したプロセスレスプレートを提供することが出来る。得られたプロセスレスプレートは耐刷性に優れている。   According to the present invention, it is possible to provide a processless plate with improved visibility in exposure. The obtained processless plate is excellent in printing durability.

以下、本発明をより詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

本発明に係る平板印刷版材料(以下、印刷版材料とも称す)は、支持体上に熱融着微粒子又は感熱疎水ポリマー粒子を含有する感熱記録層(以下、画像形成層とも称す)を有する。   The lithographic printing plate material (hereinafter also referred to as printing plate material) according to the present invention has a heat-sensitive recording layer (hereinafter also referred to as an image forming layer) containing heat-fused fine particles or heat-sensitive hydrophobic polymer particles on a support.

〈熱融着微粒子〉
本発明の熱融着微粒子とは、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された粒子である。物性としては、軟化点40〜120℃、融点60〜150℃であることが好ましく、軟化点40〜100℃、融点60〜120℃であることが更に好ましい。融点がこの範囲にあることで、保存性もインク着肉感度も満足できる。
<Heat-bonding fine particles>
The heat-sealable fine particles of the present invention are particles formed of a material that has a low viscosity when melted, and is generally classified as a wax, among thermoplastic materials. The physical properties are preferably a softening point of 40 to 120 ° C. and a melting point of 60 to 150 ° C., more preferably a softening point of 40 to 100 ° C. and a melting point of 60 to 120 ° C. When the melting point is in this range, both storage stability and ink deposition sensitivity can be satisfied.

使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量800〜10,000程度のものである。又、乳化し易くするために、これらのワックスを酸化し、ヒドロキシル基(水酸基)、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。   Usable materials include paraffin, polyolefin, polyethylene wax, microcrystalline wax, fatty acid wax and the like. These have a molecular weight of about 800 to 10,000. In order to facilitate emulsification, these waxes can be oxidized to introduce polar groups such as hydroxyl groups (hydroxyl groups), ester groups, carboxyl groups, aldehyde groups, peroxide groups and the like.

更には、軟化点を下げたり、作業性を向上させるために、これらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミド等を添加することも可能である。又、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。   Furthermore, in order to lower the softening point and improve workability, these waxes are treated with stearoamide, linolenic amide, lauryl amide, myristamide, hardened beef fatty acid amide, palmitoamide, oleic acid amide, rice sugar fatty acid amide, palm It is also possible to add fatty acid amides or methylolated products of these fatty acid amides, methylene bisstellaramide, ethylene bisstellaramide and the like. Coumarone-indene resin, rosin-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, xylene resin, ketone resin, acrylic resin, ionomer, and copolymers of these resins can also be used.

これらの中でも、ポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸の何れかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。又、これらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦傷などによる印刷汚れ耐性が向上する。   Among these, it is preferable to contain any of polyethylene, microcrystalline, fatty acid ester, and fatty acid. Since these materials have a relatively low melting point and a low melt viscosity, high-sensitivity image formation can be performed. Further, since these materials have lubricity, damage when a shearing force is applied to the surface of the printing plate material is reduced, and resistance to printing stains due to scratches is improved.

又、熱融着微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は機上現像性、解像度などの面より、0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。   The heat fusion fine particles are preferably dispersible in water, and the average particle diameter is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 μm, from the viewpoint of on-press developability and resolution. ~ 3 μm.

又、熱融着微粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。   Further, the composition of the heat fusion fine particles may vary continuously between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material.

被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾル−ゲル法等が使用できる。   As a coating method, a known microcapsule forming method, a sol-gel method, or the like can be used.

本発明の画像形成層は、熱融着微粒子をマイクロカプセル化して含有するのが好ましい態様である。   In a preferred embodiment, the image forming layer of the present invention contains heat-fused fine particles in a microencapsulated form.

層中の熱融着微粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%が更に好ましい。   As content of the heat sealing | fusion fine particle in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is still more preferable.

本発明に用いられる熱融着微粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体粒子が挙げられ、高分子重合体微粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は10、000〜1、000、000の範囲であることが好ましい。   Examples of the heat-sealing fine particles used in the present invention include thermoplastic hydrophobic polymer particles, and there is no specific upper limit for the softening temperature of the polymer particles, but the temperature is the decomposition of the polymer particles. It is preferable that the temperature is lower than that. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000.

高分子重合体粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−(N−メチロールアクリルアミド)共重合体、ポリアクリロニトリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル(共)重合体、酢酸ビニル−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらの内、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ビニルエステル(共)重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。   Specific examples of the polymer constituting the polymer particles include diene (co) polymers such as polypropylene, polybutadiene, polyisoprene, and ethylene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, and methyl methacrylate. -Synthetic rubbers such as butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate- (2-ethylhexyl acrylate) copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, methyl acrylate- (N- (Methylolacrylamide) copolymer, (meth) acrylic acid ester such as polyacrylonitrile, (meth) acrylic acid (co) polymer, polyvinyl acetate, vinyl acetate-vinyl propionate copolymer, vinyl acetate-ethylene copolymer Vinyl esters such as Co) polymers, vinyl acetate - (2-ethylhexyl acrylate) copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and copolymers thereof. Of these, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid (co) polymers, vinyl ester (co) polymers, polystyrene, and synthetic rubbers are preferably used.

高分子重合体粒子は、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、気相重合法等、公知の何れの方法で重合された高分子重合体から成るものでもよい。溶液重合法又は気相重合法で重合された高分子重合体を微粒子化する方法としては、高分子重合体の有機溶媒に溶解液を不活性ガス中に噴霧、乾燥して微粒子化する方法、高分子重合体を水に非混和性の有機溶媒に溶解し、この溶液を水又は水性媒体に分散、有機溶媒を溜去して微粒子化する方法等が挙げられる。又、何れの方法においても、必要に応じて重合あるいは微粒子化の際に、分散剤、安定剤として、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等の界面活性剤やポリビニルアルコール等の水溶性樹脂を用いてもよい。   The polymer particles may be composed of a polymer polymer polymerized by any known method such as emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, and gas phase polymerization. As a method of microparticulating a polymer polymer polymerized by a solution polymerization method or a gas phase polymerization method, a method of spraying a solution in an organic solvent of the polymer polymer into an inert gas and drying to form particles, Examples thereof include a method in which a high molecular weight polymer is dissolved in a water-immiscible organic solvent, this solution is dispersed in water or an aqueous medium, and the organic solvent is distilled to form fine particles. In any of the methods, a surfactant or a surfactant such as sodium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, polyethylene glycol, or a water-soluble solution such as polyvinyl alcohol is used as a dispersing agent or stabilizer during polymerization or micronization as necessary. Resin may be used.

又、熱融着微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は、機上現像性、解像度などの面から0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。   The heat-sealing fine particles are preferably dispersible in water, and the average particle diameter is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 10 μm from the viewpoint of on-press developability and resolution. ~ 3 μm.

熱融着性粒子は、内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾル−ゲル法等が使用できる。   The heat-fusible particles may be continuously changed in composition between the inside and the surface layer, or may be coated with different materials. As a coating method, a known microcapsule forming method, a sol-gel method, or the like can be used.

本発明に係る画像形成層は、熱融着性粒子をマイクロカプセル化して含有するのが特に好ましい態様である。   In a particularly preferred embodiment, the image forming layer according to the present invention contains heat-fusible particles in a microencapsulated form.

マイクロカプセルとしては、例えば特開2002−2135号や同2002−19317号に記載される疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。   Examples of the microcapsule include microcapsules enclosing a hydrophobic material described in JP-A-2002-2135 and 2002-19317.

マイクロカプセルは、平均径で0.1〜10μmであることが好ましく、0.3〜5μmであることがより好ましく、0.5〜3μmであることが更に好ましい。マイクロカプセルの壁の厚さは、径の1/100〜1/5であることが好ましく、1/50〜1/10であることがより好ましい。マイクロカプセルの含有量は画像形成層全体の5〜100質量%であり、20〜95質量%であることが好ましく、40〜90質量%であることが更に好ましい。   The microcapsules preferably have an average diameter of 0.1 to 10 μm, more preferably 0.3 to 5 μm, and still more preferably 0.5 to 3 μm. The thickness of the wall of the microcapsule is preferably 1/100 to 1/5 of the diameter, and more preferably 1/50 to 1/10. The content of the microcapsules is 5 to 100% by mass of the entire image forming layer, preferably 20 to 95% by mass, and more preferably 40 to 90% by mass.

マイクロカプセルの壁材となる素材、及びマイクロカプセルの製造方法は公知の素材及び方法を用いることができる。例えば、「新版マイクロカプセルその製法・性質・応用」(近藤保,小石真純著:三共出版社発行)に記載されるか、引用される文献に記載の公知素材及び方法を用いることができる。   Known materials and methods can be used as the material for the wall of the microcapsule and the method for producing the microcapsule. For example, publicly known materials and methods described in “New edition microcapsules, production method, properties, and application” (written by Tamotsu Kondo, Masumi Koishi: published by Sankyo Publishing Co., Ltd.) or cited documents can be used.

〈感熱疎水性ポリマー〉
本発明のる感熱疎水性ポリマー粒子とは、水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としては、ポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなど何れでもよい。尚、ポリマーラテックスについては、「合成樹脂エマルジョン(奥田平,稲垣寛編集:高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明,片岡靖男,鈴木聡一,笠原啓司編集,高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著:高分子刊行会発行(1970))」等に記載されている。
<Heat-sensitive hydrophobic polymer>
The heat-sensitive hydrophobic polymer particles according to the present invention are those in which a water-insoluble hydrophobic polymer is dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As the dispersion state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partly hydrophilic in the polymer molecule and the molecular chain itself is molecularly dispersed. Any of these may be used. As for polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki: Published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi Published in Molecular Publications (1993)), “Synthetic Latex Chemistry (written by Soichi Muroi: published by High Polymers Publication (1970))” and the like.

分散粒子の平均粒径は1〜50,000nm、より好ましくは5〜1,000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。   The average particle diameter of the dispersed particles is preferably in the range of 1 to 50,000 nm, more preferably about 5 to 1,000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

本発明のポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、所謂コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェルは、ガラス転移温度(Tg)を変えると好ましい場合がある。   The polymer latex of the present invention may be a so-called core / shell type latex other than a normal polymer latex having a uniform structure. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature (Tg) between the core and the shell.

本発明のバインダーに用いるポリマーラテックスのTgは、−30〜40℃である。ポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は−30〜90℃、より好ましくは0〜70℃程度が望ましい。MFTをコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤とも呼ばれ、ポリマーラテックスのMFTを低下させる有機化合物(通常、有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックスの化学」に記載されている。   The Tg of the polymer latex used for the binder of the present invention is −30 to 40 ° C. The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex is preferably −30 to 90 ° C., more preferably about 0 to 70 ° C. In order to control MFT, a film-forming aid may be added. The film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the MFT of the polymer latex, and is described, for example, in the aforementioned “Synthetic Latex Chemistry”.

本発明のポリマーラテックスに用いられるポリマー種としては、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、又はこれらの共重合体などがある。ポリマーとしては、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、又、架橋されたポリマーでもよい。   Examples of the polymer species used in the polymer latex of the present invention include acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, and copolymers thereof. . The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer.

又、ポリマーとしては、単一のモノマーが重合した所謂ホモポリマーでもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平均分子量(Mn)で5,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜100,000程度である。分子量を上記範囲とすることで、層の力学強度、製膜性を共に満足させ得る。   The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is about 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000 in terms of number average molecular weight (Mn). By setting the molecular weight within the above range, both the mechanical strength and the film forming property of the layer can be satisfied.

本発明のバインダーとして用いるポリマーラテックスの具体例としては、以下のようなものがある。メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックス等。   Specific examples of the polymer latex used as the binder of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer , Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, and the like.

又、このようなポリマーは市販もされており、以下のようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂の例として、セビアンA−4635,46583,4601(ダイセル化学工業社製)、Nipol Lx811,814,821,820,857(日本ゼオン社製)等;ポリエステル樹脂として、FINETEX ES650,611,675,850(大日本インキ化学社製)、WD−size、WMS(イーストマンケミカル社製)等;ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN AP10,20,30,40(大日本インキ化学社製)等;ゴム系樹脂としてはLACSTAR 7310K,3307B,4700H,7132C(大日本インキ化学社製)、Nipol Lx416,410,438C,2507(日本ゼオン社製)等;塩化ビニル樹脂としてはG351,576(日本ゼオン社製)等;塩化ビニリデン樹脂としてはL502,513(旭化成工業社製)、アロンD7020,504,5071(三井東圧社製)等;オレフィン樹脂としてはケミパールS120、SA100(三井石油化学社製)等を挙げることができる。これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスの含有量は50質量%以上であることが好ましい。   Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as an example of acrylic resin, Sebian A-4635, 46583, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like; FINETEX ES650, 611 as a polyester resin 675,850 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (Eastman Chemical Co., Ltd.), etc .; as polyurethane resin, HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), etc .; rubber type LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals), Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like; G351, 576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) Etc .; Vinylidide chloride Examples of the resin include L502,513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Aron D7020,504,5071 (manufactured by Mitsui Toatsu), etc .; Examples of the olefin resin include Chemipearl S120, SA100 (manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.) . These polymers may be used alone or in combination of two or more as required. The content of the polymer latex is preferably 50% by mass or more.

〈複数露光〉
本発明は、印刷版材料を露光する複数の工程を有することを特徴とする。即ち、(a)赤外線により全面露光後、赤外レーザー光により像様露光と(b)赤外レーザー光により像様露光後、赤外線により全面露光、である。これにより、可視画性が著しく向上する。
<Multiple exposure>
The present invention is characterized by having a plurality of steps of exposing the printing plate material. That is, (a) image-wise exposure with infrared laser light after image-wise exposure with infrared laser light, and (b) image-wise exposure with infrared laser light and image-wise exposure with infrared light. Thereby, the visible image quality is remarkably improved.

尚、1回目の露光と2回目の露光の間隔が0.01〜5秒であることが好ましく、より好ましくは0.1〜2秒である。   In addition, it is preferable that the space | interval of the 1st exposure and the 2nd exposure is 0.01 to 5 second, More preferably, it is 0.1 to 2 second.

0.01秒以下にするには、レーザー露光機構と全面露光機構を近接して設置しなければならず、現実的では無い。又、5秒よりも長く間隔を空けると、放熱等により熱効率が悪くなる。   In order to make it 0.01 seconds or less, the laser exposure mechanism and the entire surface exposure mechanism must be installed close to each other, which is not practical. On the other hand, if the interval is longer than 5 seconds, the thermal efficiency is deteriorated due to heat radiation or the like.

(赤外線露光)
印刷版材料の表面を120℃以上に加熱するのに赤外線露光を施す。赤外線を照射する方法としては、遠赤外を放射するセラミックヒーター、中空ヒーター等を使用するのが好ましい。印刷版材料の表面温度の上限は250℃である。印刷版材料の表面を120〜250℃に加熱することで、可視画性と機上現像適性を共に向上できる。
(Infrared exposure)
Infrared exposure is performed to heat the surface of the printing plate material to 120 ° C. or higher. As a method of irradiating infrared rays, it is preferable to use a ceramic heater, a hollow heater or the like that radiates far infrared rays. The upper limit of the surface temperature of the printing plate material is 250 ° C. By heating the surface of the printing plate material to 120 to 250 ° C., both the visibility and the on-press development suitability can be improved.

(赤外レーザー露光)
本発明に係る印刷版材料は、レーザー光を用いて画像を形成するのが好ましい。その中でも、特にサーマルレーザーによる露光によって画像形成を行うことが好ましい。例えば赤外及び/又は近赤外領域で発光する、即ち700〜1,500nmの波長範囲で発光するレーザー光を使用した走査露光が好ましい。レーザーとしてはガスレーザーを用いてもよいが、近赤外領域で発光する半導体レーザーを使用することが特に好ましい。
(Infrared laser exposure)
The printing plate material according to the present invention preferably forms an image using laser light. Among these, it is particularly preferable to form an image by exposure with a thermal laser. For example, scanning exposure using laser light that emits light in the infrared and / or near infrared region, that is, emits light in the wavelength range of 700 to 1,500 nm is preferable. A gas laser may be used as the laser, but it is particularly preferable to use a semiconductor laser that emits light in the near infrared region.

走査露光に好適な装置としては、該半導体レーザーを用いてコンピュータからの画像信号に応じて印刷版材料表面に画像を形成可能な装置であれば、どのような方式の装置であってもよい。   As an apparatus suitable for scanning exposure, any apparatus may be used as long as it can form an image on the surface of the printing plate material in accordance with an image signal from a computer using the semiconductor laser.

一般的には、以下の3方式が挙げられる。   Generally, there are the following three methods.

(1)平板状保持機構に保持された印刷版材料に1本もしくは複数本のレーザービームを用いて2次元的な走査を行って印刷版材料全面を露光する方式。   (1) A method in which the entire surface of the printing plate material is exposed by performing two-dimensional scanning on the printing plate material held by the flat plate-like holding mechanism using one or a plurality of laser beams.

(2)固定された円筒状の保持機構の内側に、円筒面に沿って保持された印刷版材料に、円筒内部から1本もしくは複数本のレーザービームを用いて円筒の周方向(主走査方向)に走査しつつ、周方向に直角な方向(副走査方向)に移動させて印刷版材料全面を露光する方式。   (2) The printing plate material held along the cylindrical surface inside the fixed cylindrical holding mechanism is used in the circumferential direction of the cylinder (in the main scanning direction) by using one or a plurality of laser beams from the inside of the cylinder. ), The entire surface of the printing plate material is exposed by moving in the direction perpendicular to the circumferential direction (sub-scanning direction).

(3)回転体としての軸を中心に回転する円筒状ドラム表面に保持された印刷版材料に、円筒外部から1本もしくは複数本のレーザービームを用いてドラムの回転によって周方向(主走査方向)に走査しつつ、周方向に直角な方向(副走査方向)に移動させて印刷版材料全面を露光する方式。   (3) A printing plate material held on the surface of a cylindrical drum that rotates about an axis as a rotating body is rotated in the circumferential direction (main scanning direction) by rotating the drum using one or more laser beams from the outside of the cylinder. ), The entire surface of the printing plate material is exposed by moving in the direction perpendicular to the circumferential direction (sub-scanning direction).

特に、印刷装置上で露光を行う装置(印刷機上現像装置)においては、(3)の露光方式が用いられる。   In particular, in an apparatus that performs exposure on a printing apparatus (developing apparatus on a printing press), the exposure method (3) is used.

本発明では、上記(2)の露光方式においては、レーザービームに干渉しない位置に上記セラミックヒーター等を配置することにより、印刷版材料の表面を120℃以上にすることができる。   In the present invention, in the exposure method (2), the surface of the printing plate material can be raised to 120 ° C. or higher by disposing the ceramic heater or the like at a position that does not interfere with the laser beam.

〈その他、構成素材〉
レーザー光により画像露光するに適した画像形成層は、光熱変換剤を含有することが好ましく、更に熱可塑性物質、水溶性化合物、pH調整剤、界面活性剤なども含有することが好ましい。
<Other components>
The image forming layer suitable for image exposure with laser light preferably contains a photothermal conversion agent, and further preferably contains a thermoplastic substance, a water-soluble compound, a pH adjuster, a surfactant and the like.

(光熱変換剤)
光熱変換剤は、露光光を熱に変換し画像形成層に画像を形成し得る素材であり、光熱変換剤として下記のような色素、顔料を挙げることができる。
(Photothermal conversion agent)
The photothermal conversion agent is a material that can convert exposure light into heat to form an image on the image forming layer. Examples of the photothermal conversion agent include the following dyes and pigments.

色素としては、一般的な赤外吸収色素であるシアニン系、クロコニウム系、ポリメチン系、アズレニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系色素などの有機化合物;フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系色素などの有機金属錯体が挙げられる。   Examples of the dye include organic compounds such as cyanine, croconium, polymethine, azurenium, squalium, thiopyrylium, naphthoquinone, and anthraquinone dyes that are general infrared absorbing dyes; phthalocyanine, naphthalocyanine, azo And organic metal complexes such as thioamide, dithiol, and indoaniline dyes.

具体的には、特開昭63−139191号、同64−33547号、特開平1−160683号、同1−280750号、同1−293342号、同2−2074号、同3−26593号、同3−30991号、同3−34891号、同3−36093号、同3−36094号、同3−36095号、同3−42281号、同3−97589号、同3−103476号等に記載の化合物が挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Specifically, JP-A-63-139191, JP-A-64-33547, JP-A-1-160683, JP-A-1-280750, JP-A-1-293342, JP-A-2-2074, JP-A-3-26593, Described in 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, 3-97589, 3-103476, etc. The compound of this is mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

又、特開平11−240270号、同11−265062号、特開2000−309174号、同2002−49147号、同2001−162965号、同2002−144750号、同2001−219667号に記載の化合物も好ましく用いることができる。   Further, compounds described in JP-A-11-240270, JP-A-11-265062, JP-A-2000-309174, JP-A-2002-49147, JP-A-2001-162965, JP-A-2002-144750, and JP-A-2001-219667 are also included. It can be preferably used.

顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。   Examples of the pigment include carbon, graphite, metal, metal oxide and the like.

カーボンとしては、特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。   As carbon, it is particularly preferable to use furnace black or acetylene black. The particle size (d50) is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

グラファイトとしては、粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。   As the graphite, fine particles having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less can be used.

金属としては、粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であれば、何れの金属でも使用することができる。形状としては球状、片状、針状等、何れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。   As the metal, any metal can be used as long as the particle diameter is 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. The shape may be any shape such as a spherical shape, a piece shape, or a needle shape. Colloidal metal fine particles (Ag, Au, etc.) are particularly preferable.

金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材、又は素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。   As the metal oxide, a material that is black in the visible light region, or a material that has conductivity or is a semiconductor can be used.

(水溶性化合物)
画像形成層には水溶性化合物を含有することが好ましい態様である。
(Water-soluble compounds)
The image forming layer preferably contains a water-soluble compound.

水溶性化合物は、25℃の水100gに0.1g以上溶解する化合物を言い、好ましくは25℃の水100gに1g以上溶解する化合物である。   The water-soluble compound refers to a compound that dissolves in an amount of 0.1 g or more in 100 g of water at 25 ° C., and preferably a compound that dissolves in an amount of 1 g or more in 100 g of water at 25 ° C.

水溶性化合物の具体例としては、下記を挙げることができるが、これに限られるものではない。   Specific examples of the water-soluble compound include the following, but are not limited thereto.

エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、テトラエチルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウム塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、蓚酸、クエン酸、林檎酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、燐酸塩(燐酸3ナトリウム、燐酸水素2ナトリウム、燐酸2水素ナトリウム、燐酸グアニジン等)、炭酸塩(炭酸ナトリウム、炭酸グアニジン等)、その他、水溶性の有機塩、無機塩。糖類(単糖、オリゴ糖等)、多糖類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸塩等の水溶性ポリマーが挙げられる。又、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス等の水分散性ラテックス等。   Glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and their ether or ester derivatives, polyhydroxys such as glycerin and pentaerythritol, triethanolamine, diethanolamine monoethanolamine, etc. Organic amines and salts thereof, quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, organic sulfonic acids and salts thereof such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid, organic phosphonic acids and salts thereof such as phenylphosphonic acid, tartaric acid, oxalic acid, Organic carboxylic acids such as citric acid, apple acid, lactic acid, gluconic acid, amino acids and their salts, phosphates (trisodium phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate) , Guanidine phosphate, etc.), sodium carbonate (carbonate, guanidine carbonate, etc.), other water-soluble organic salts, inorganic salts. Saccharides (monosaccharides, oligosaccharides, etc.), polysaccharides, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol (PEG), polyvinyl ether, polyacrylic acid, polyacrylate, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polystyrene sulfonic acid, Water-soluble polymers such as polystyrene sulfonate are listed. Also, water dispersible latex such as styrene-butadiene copolymer latex, conjugated diene polymer latex of methyl methacrylate-butadiene copolymer, acrylic polymer latex, vinyl polymer latex, and the like.

水溶性化合物の含有量は、機上現像性の面から、画像形成層に対して1〜40質量%であり、5〜30質量%であることが好ましく、10〜25質量%であることがより好ましい。   The content of the water-soluble compound is 1 to 40% by mass, preferably 5 to 30% by mass, and preferably 10 to 25% by mass with respect to the image forming layer in terms of on-press developability. More preferred.

(pH調整剤)
画像形成層は、pH調整のための酸(燐酸、酢酸等)又はアルカリ(水酸化ナトリウム、珪酸塩、燐酸塩等)を含有していてもよい。
(PH adjuster)
The image forming layer may contain an acid (phosphoric acid, acetic acid, etc.) or an alkali (sodium hydroxide, silicate, phosphate, etc.) for pH adjustment.

(界面活性剤)
又、親水性層を塗設する為に用いられる塗布液には、塗布性改善等の目的で水溶性の界面活性剤を含有させることができ、珪素系又は弗素系等の界面活性剤を使用することができるが、特に珪素元素を含む界面活性剤を使用することが、印刷汚れを生じる懸念がなく好ましい。該界面活性剤の含有量は、親水性層全体(塗布液としては固形分)の0.01〜3質量%が好ましく、0.03〜1質量%が更に好ましい。
(Surfactant)
In addition, the coating solution used for coating the hydrophilic layer can contain a water-soluble surfactant for the purpose of improving the coating property, and a silicon-based or fluorine-based surfactant is used. However, it is particularly preferable to use a surfactant containing silicon element because there is no fear of causing printing stains. The content of the surfactant is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably 0.03 to 1% by mass of the entire hydrophilic layer (solid content as the coating solution).

画像形成層の付量としては、可視画性、感度の面から0.1〜3.0g/m2であることが好ましく、更に好ましくは0.3〜1.5g/m2である。 The amount with the image forming layer, image visibility, it is preferable that in view of the sensitivity is 0.1 to 3.0 g / m 2, more preferably from 0.3 to 1.5 g / m 2.

(機上現像適性)
本発明に係る画像形成層は、機上現像可能又は水現像可能な画像形成層であることが好ましい態様である。機上現像可能な画像形成層とは、画像露光後、特に現像工程を経ることなく、印刷工程に供した時点で、即ち印刷準備段階で湿し水、又は湿し水と印刷インクにより、印刷時に非画像部となる部分の画像形成層が除去されて、印刷可能な画像が形成され得る画像形成層のことを言う。
(On-press development suitability)
In a preferred embodiment, the image forming layer according to the present invention is an image forming layer capable of on-press development or water development. An on-machine developable image forming layer is printed after being exposed to an image, without being subjected to a development process, when it is subjected to a printing process, i.e., with dampening water or dampening water and printing ink in a printing preparation stage. It refers to an image forming layer in which a portion of the image forming layer that becomes a non-image portion is sometimes removed to form a printable image.

〈支持体〉
本発明の印刷板材料の支持体は、親水性表面を有する基材であることが好ましい。
<Support>
The support for the printing plate material of the present invention is preferably a substrate having a hydrophilic surface.

親水性表面を有する基材は、印刷時、感熱画像形成層が除去された部分が水受容性となり非画像部となり得る表面を有する基材であり、基材表面を親水化処理し、親水性の表面層を有する基材、親水性物質を含む親水性層を設けた基材を用いることができる。   The base material having a hydrophilic surface is a base material having a surface where the heat-sensitive image-forming layer is removed at the time of printing and can become a non-image portion by being water-receptive. A substrate having a surface layer and a substrate provided with a hydrophilic layer containing a hydrophilic substance can be used.

基材としては、表面形状が本発明で規定する範囲にあれば、印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができ、例えば金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。   As the base material, if the surface shape is within the range specified in the present invention, a known material used as a substrate of a printing plate can be used, for example, a paper treated with a metal plate, a plastic film, a polyolefin or the like. And a composite base material obtained by appropriately laminating the above materials.

基材の厚さとしては、印刷機に取付け可能であれば特に制限されるものではないが、50〜500μmのものが一般的に取り扱い易い。   The thickness of the base material is not particularly limited as long as it can be attached to a printing press, but a thickness of 50 to 500 μm is generally easy to handle.

上記の中でも、表面を親水化処理した金属板が好ましく用いられる。この金属板としては、鉄、ステンレス、アルミニウム等が挙げられるが、本発明においては、比重と剛性との関係から、特にアルミニウム又はアルミニウム合金(以下、両者含めてアルミニウム板と称する)が好ましく、加えて、公知の粗面化処理、陽極酸化処理、表面親水化処理の何れかの処理が為されたもの(所謂アルミ砂目板)がより好ましい。   Among these, a metal plate having a hydrophilic surface is preferably used. Examples of the metal plate include iron, stainless steel, and aluminum. In the present invention, aluminum or an aluminum alloy (hereinafter, both referred to as an aluminum plate) is particularly preferable because of the relationship between specific gravity and rigidity. In addition, a material subjected to any of the known roughening treatment, anodizing treatment, and surface hydrophilization treatment (so-called aluminum grained plate) is more preferable.

基材として用いるアルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。   Various aluminum alloys can be used as the base material. For example, an alloy of metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum can be used.

基材として用いられるアルミニウム板は、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、水酸化ナトリウム等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いた場合、基材の表面にはスマットが生成するので、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。   Prior to roughening (graining treatment), the aluminum plate used as the base material is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface. As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the base material, so that it is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and subjected to a desmut treatment. It is preferable. Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.

用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、基材表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、基材表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、基材表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力を掛けてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The surface roughening by the brush polishing method is, for example, rotating a rotating brush using brush bristles having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and for example, volcanic ash particles having a particle diameter of 10 to 100 μm on water. While supplying the uniformly dispersed slurry, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle diameter of 10 to 100 μm in water, injecting pressure from a nozzle and injecting them obliquely to the surface of the base material. Can do. Also, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are applied to the surface of the substrate so as to exist at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by laminating the sheets and applying pressure to transfer the rough surface pattern of the sheets.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後、基材の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいは、それらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After roughening by the above-mentioned mechanical roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the base material, formed aluminum scraps, and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to neutralize by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系又は硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば特公昭48−28123号、英国特許896,563号、特開昭53−67507号に記載される方法を用いることができる。   The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used in an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, methods described in JP-B-48-28123, British Patent No. 896,563 and JP-A-53-67507 can be used.

この粗面化法は、一般には、1〜50Vの範囲の電圧を印加することにより行うことができるが、10〜30Vの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は10〜200A/dm2の範囲を用いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は10〜50℃の範囲を用いることが出来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。 This roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50V, but is preferably selected from the range of 10 to 30V. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000C / dm 2. The temperature at which the roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.

電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には1〜50Vの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30Vの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、硼酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。 When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50V, but is preferably selected from the range of 10 to 30V. . Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000C / dm 2. The temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrate, chloride, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には1〜50Vの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、2〜30Vの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は100〜5,000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2、更には200〜1000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。 In the case of using a hydrochloric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50V, but is preferably selected from the range of 2 to 30V. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity may be in the range of 100~5,000C / dm 2, 100~2000C / dm 2, and more preferably selected from the range of 200~1000C / dm 2. The temperature at which the electrochemical surface roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸あるいは、それらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. As the acid, sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid and the like are used, and as the base, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are used. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersing in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof after immersing with an alkaline aqueous solution.

機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughing, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことが好ましい。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、基材上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に米国特許1,412,768号に記載される硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許3,511,661号に記載の燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、蓚酸、マロン酸等を1種又は2種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液35ml、酸化クロム(IV)20gを1Lの水に溶解して作製)に浸漬し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。 Following the roughening treatment, anodizing treatment is preferably performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the substrate. For the anodizing treatment, a method of electrolyzing an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% as an electrolytic solution at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used. No. 1,412,768, a method of electrolysis at high current density in sulfuric acid, a method of electrolysis using phosphoric acid described in US Pat. No. 3,511,661, chromic acid, oxalic acid, malonic acid, etc. Examples thereof include a method using a solution containing one or more kinds. The formed anodic oxidation coating amount is suitably 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The amount of anodic oxidation coating is, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (35% phosphoric acid solution 35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium oxide (IV) in 1 L of water), dissolving the oxide layer, and covering the plate It is obtained from mass change measurement before and after dissolution.

陽極酸化処理された基材は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ナトリウム処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized base material may be subjected to a sealing treatment as necessary. The sealing treatment can be performed using a known method such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment.

更に、これらの処理を行った後に、親水化処理として、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(硼酸亜鉛など)、もしくは黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平5−304358号に開示されるような、ラジカルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。   Further, after these treatments, as a hydrophilization treatment, a water-soluble resin such as polyvinyl phosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt (boric acid) Zinc or the like), or a primer coated with a yellow dye, amine salt or the like is also suitable. Further, a sol-gel treated substrate having a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A-5-304358 is also preferably used.

基材として用いられるプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート(PC)、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、セルロースエステル類等のフィルムを挙げることができる。   Examples of the plastic film used as the substrate include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide, polyamide, polycarbonate (PC), polysulfone, polyphenylene oxide, and cellulose esters.

これらのプラスチックフィルムの内、特にPET、PEN等のポリエステルフィルムが基材として好ましく用いられる。更に特開平10−10676号に記載の方法で得られた120℃・30秒での熱寸法変化率が0.001〜0.04%の支持体を用いることが好ましい。好ましいポリエステルフィルムとしては、未延伸ポリエステルフィルム、1軸延伸ポリエステルフィルム又は2軸延伸ポリエステルフィルムである。この内、フィルムの押出し方向(縦方向)に1軸延伸した縦延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。   Of these plastic films, polyester films such as PET and PEN are particularly preferably used as the substrate. Furthermore, it is preferable to use a support having a thermal dimensional change rate of 0.001 to 0.04% at 120 ° C. for 30 seconds obtained by the method described in JP-A-10-10676. A preferable polyester film is an unstretched polyester film, a uniaxially stretched polyester film, or a biaxially stretched polyester film. Of these, a longitudinally stretched polyester film uniaxially stretched in the film extrusion direction (longitudinal direction) is particularly preferable.

〈基材への下引層塗布〉
ポリエステルフィルム基材においては、各種の機能を持たせる為に易接着処理や下引層塗布を行うことができる。
<Applying the undercoat layer to the substrate>
In the polyester film base material, easy adhesion treatment or undercoat layer coating can be performed in order to have various functions.

易接着処理としては、コロナ放電処理や火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。   Examples of the easy adhesion treatment include corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, and ultraviolet irradiation treatment.

下引層としては、ゼラチンやラテックスを含む層等をポリエステルフィルム支持体上に設けること等が好ましい。その中でも、特開平7−191433号の段落番号「0044」〜「0116」に記載の帯電防止下塗り層が好ましく用いられる。又、特開平7−20596号の段落番号「0031」〜「0073」に記載の導電性ポリマー含有層や特開平7−20596号公報段落番号「0074」〜「0081」に記載の金属酸化物含有層のような導電性層を設けることが好ましい。導電性層はポリエステルフィルム支持体上であれば何れの側に塗設されてもよいが、好ましくは支持体に対し画像形成機能層の反対側に塗設するのが好ましい。この導電性層を設けると、帯電性が改良されてゴミなどの付着が減少し、印刷時の白抜け故障などが大幅に減少する。   As the undercoat layer, a layer containing gelatin or latex is preferably provided on the polyester film support. Among these, an antistatic undercoat layer described in paragraph numbers “0044” to “0116” of JP-A-7-191433 is preferably used. Further, the conductive polymer-containing layer described in paragraphs “0031” to “0073” of JP-A-7-20596 and the metal oxides described in paragraphs “0074” to “0081” of JP-A-7-20596 It is preferable to provide a conductive layer such as a layer. The conductive layer may be coated on any side as long as it is on the polyester film support, but it is preferably coated on the opposite side of the image forming functional layer with respect to the support. When this conductive layer is provided, the charging property is improved, the adhesion of dust and the like is reduced, and white spots failure during printing is greatly reduced.

〈親水性層〉
基材として上記のようなプラスチックフィルムを用いる場合には、基材上に親水性層を設けて親水性表面を有する基材とする。この場合、親水性層は、多孔質構造を有することが好ましい。多孔質構造を有する親水性層を形成するためには、下記に記載の親水性マトリクスを形成する素材が好ましく用いられる。親水性マトリクスを形成する素材としては、金属酸化物が好ましい。
<Hydrophilic layer>
When a plastic film as described above is used as the substrate, a hydrophilic layer is provided on the substrate to form a substrate having a hydrophilic surface. In this case, the hydrophilic layer preferably has a porous structure. In order to form a hydrophilic layer having a porous structure, the following materials for forming a hydrophilic matrix are preferably used. As a material for forming the hydrophilic matrix, a metal oxide is preferable.

(金属酸化物)
金属酸化物としては、金属酸化物微粒子を含むことが好ましく、例えばコロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物のゾルが挙げられる。該金属酸化物微粒子の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他の何れの形態でもよく、平均粒径としては3〜100nmの範囲が好ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併用することもできる。又、粒子表面に表面処理が為されてもよい。
(Metal oxide)
The metal oxide preferably contains fine metal oxide particles, and examples thereof include colloidal silica, alumina sol, titania sol, and other metal oxide sols. The form of the metal oxide fine particles may be spherical, needle-like, feather-like or any other form. The average particle diameter is preferably in the range of 3 to 100 nm, and several metal oxides having different average particle diameters. Fine particles can also be used in combination. Further, surface treatment may be performed on the particle surface.

上記金属酸化物微粒子は、その造膜性を利用して結合剤としての使用が可能である。有機の結合剤を用いるよりも親水性の低下が少なく、親水性層への使用に適している。   The metal oxide fine particles can be used as a binder by utilizing the film forming property. The decrease in hydrophilicity is less than when an organic binder is used, and it is suitable for use in a hydrophilic layer.

(コロイダルシリカ)
金属酸化物の中でもコロイダルシリカが特に好ましく使用できる。コロイダルシリカは、比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高いという利点があり、良好な強度を得ることができる。コロイダルシリカとしては、後述するネックレス状コロイダルシリカ、平均粒径20nm以下の微粒子コロイダルシリカを含むことが好ましく、更に、コロイダルシリカはコロイド溶液としてアルカリ性を呈することが好ましい。
(Colloidal silica)
Among the metal oxides, colloidal silica can be particularly preferably used. Colloidal silica has the advantage of high film-forming properties even under relatively low temperature drying conditions, and can provide good strength. The colloidal silica preferably includes necklace-like colloidal silica, which will be described later, and fine particle colloidal silica having an average particle size of 20 nm or less, and the colloidal silica preferably exhibits alkalinity as a colloidal solution.

ネックレス状コロイダルシリカとは、1次粒子径がnmのオーダーである球状シリカの水分散系の総称であり、1次粒粒子径が10〜50nmの球状コロイダルシリカが50〜400nmの長さに結合した「パールネックレス状」のコロイダルシリカを意味する。パールネックレス状(即ち真珠ネックレス状)とは、コロイダルシリカのシリカ粒子が連なって結合した状態のイメージが、真珠ネックレスの様な形状をしていることを意味する。   Necklace-shaped colloidal silica is a generic term for an aqueous dispersion of spherical silica whose primary particle diameter is on the order of nm, and spherical colloidal silica whose primary particle diameter is 10 to 50 nm is bonded to a length of 50 to 400 nm. Means “pearl necklace-shaped” colloidal silica. The pearl necklace shape (that is, a pearl necklace shape) means that an image in a state where the silica particles of colloidal silica are connected and linked has a shape like a pearl necklace.

(多孔質金属酸化物粒子)
本発明において、親水性層マトリクス構造の多孔質化材として、粒径が1μm未満の多孔質金属酸化物粒子を含有することができる。多孔質金属酸化物粒子としては、以下に記載の多孔質シリカ、多孔質アルミノシリケート粒子、又はゼオライト粒子を好ましく用いることができる。
(Porous metal oxide particles)
In the present invention, porous metal oxide particles having a particle size of less than 1 μm can be contained as a porous material having a hydrophilic layer matrix structure. As the porous metal oxide particles, the following porous silica, porous aluminosilicate particles, or zeolite particles can be preferably used.

(多孔質シリカ多孔質シリカ、多孔質アルミノシリケート粒子)
多孔質シリカ粒子は、一般に湿式法又は、乾式法により製造される。湿式法では、珪酸塩水溶液を中和して得られるゲルを乾燥、粉砕するか、もしくは中和して析出した沈降物を粉砕することで得ることができる。乾式法では、四塩化珪素を水素と酸素と共に燃焼し、シリカを析出することで得られる。これらの粒子は製造条件の調整により、多孔性や粒径を制御することが可能である。多孔質シリカ粒子としては、湿式法のゲルから得られるものが特に好ましい。
(Porous silica, porous silica, porous aluminosilicate particles)
The porous silica particles are generally produced by a wet method or a dry method. In the wet method, the gel obtained by neutralizing the aqueous silicate solution can be obtained by drying and pulverizing, or by pulverizing the precipitate deposited after neutralization. In the dry method, silicon tetrachloride is burned together with hydrogen and oxygen to obtain silica. These particles can be controlled in their porosity and particle size by adjusting the production conditions. As the porous silica particles, those obtained from a wet gel are particularly preferable.

多孔質アルミノシリケート粒子は、例えば特開平10−71764号に記載される方法により製造される。即ち、アルミニウムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として加水分解法により合成された非晶質な複合体粒子である。粒子中のアルミナとシリカの比率は1:4〜4:1の範囲で合成することが可能である。又、製造時に、その他の金属のアルコキシドを添加して3成分以上の複合体粒子として製造したものも本発明に使用できる。これらの複合体粒子も製造条件の調整により多孔性や粒径を制御することが可能である。   The porous aluminosilicate particles are produced, for example, by the method described in JP-A-10-71764. That is, amorphous composite particles synthesized by hydrolysis using aluminum alkoxide and silicon alkoxide as main components. The ratio of alumina to silica in the particles can be synthesized in the range of 1: 4 to 4: 1. Moreover, what was manufactured as composite particle | grains of 3 or more components by adding the alkoxide of another metal at the time of manufacture can also be used for this invention. These composite particles can also control the porosity and particle size by adjusting the production conditions.

粒子の多孔性としては、細孔容積で0.5ml/g以上であることが好ましく、0.8ml/g以上であることがより好ましく、1.0〜2.5ml/gであることが更に好ましい。細孔容積は、塗膜の保水性と密接に関連しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって印刷時に汚れ難く、水量ラチチュードも広くなるが、0.5〜2.5ml/gにすることで、印刷性能の不十分や塗膜の耐久性低下を防止する。   The porosity of the particles is preferably 0.5 ml / g or more in terms of pore volume, more preferably 0.8 ml / g or more, and further preferably 1.0 to 2.5 ml / g. preferable. The pore volume is closely related to the water retention of the coating film. The larger the pore volume, the better the water retention and the less difficult it is to stain during printing, and the water amount latitude is widened, but 0.5 to 2.5 ml / G prevents inadequate printing performance and lowers durability of the coating film.

(細孔容積の測定方法)
上記の細孔容積の測定は、オートソーブ−1(カンタクローム社製)を使用し、定容法を用いた窒素吸着測定により、粉体の空隙が窒素により、充填されていると仮定して相対圧力が0.998における窒素吸着量から算出されるものである。
(Measurement method of pore volume)
The above pore volume was measured by using Autosorb-1 (manufactured by Cantachrome) and relative to the assumption that the voids of the powder were filled with nitrogen by nitrogen adsorption measurement using a constant volume method. The pressure is calculated from the nitrogen adsorption amount at 0.998.

(ゼオライト粒子)
ゼオライトは結晶性のアルミノ珪酸塩であり、細孔径が0.3nm〜1nmの規則正しい3次元網目構造の空隙を有する多孔質体である。
(Zeolite particles)
Zeolite is a crystalline aluminosilicate, which is a porous body having regular three-dimensional network voids having a pore diameter of 0.3 nm to 1 nm.

又、親水層を構成する親水性層マトリクス構造は、層状粘土鉱物粒子を含有することができる。該層状鉱物粒子としては、例えばカオリナイト、ハロイサイト、タルク、スメクタイト(モンモリロナイト、バイデライト、ヘクトライト、サボナイト等)、バーミキュライト、マイカ(雲母)、クロライトといった粘土鉱物及び、ハイドロタルサイト、層状ポリ珪酸塩(カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガディアイト、ケニヤアイト等)等が挙げられる。特に、単位層(ユニットレイヤー)の電荷密度が高いほど極性が高く、親水性も高いと考えられる。好ましい電荷密度としては0.25以上、更に好ましくは0.6以上である。このような電荷密度を有する層状鉱物としては、スメクタイト(電荷密度0.25〜0.6;陰電荷)、バーミキュライト(電荷密度0.6〜0.9;陰電荷)等が挙げられる。特に、合成弗素雲母は、粒径等安定した品質のものを入手することができ好ましい。又、合成弗素雲母の中でも、膨潤性のものが好ましく、自由膨潤であるものが更に好ましい。   Further, the hydrophilic layer matrix structure constituting the hydrophilic layer can contain layered clay mineral particles. Examples of the layered mineral particles include kaolinite, halloysite, talc, smectite (montmorillonite, beidellite, hectorite, sabonite, etc.), clay minerals such as vermiculite, mica (mica), chlorite, and hydrotalcite, layered polysilicate. (Kanemite, macatite, ialite, magadiaite, Kenyaite, etc.). In particular, the higher the charge density of the unit layer (unit layer), the higher the polarity and the higher the hydrophilicity. The charge density is preferably 0.25 or more, more preferably 0.6 or more. Examples of the layered mineral having such a charge density include smectite (charge density 0.25 to 0.6; negative charge), vermiculite (charge density 0.6 to 0.9; negative charge) and the like. In particular, synthetic fluorine mica is preferable because it can be obtained with a stable quality such as particle size. Further, among the synthetic fluorine mica, those that are swellable are preferable, and those that are free swell are more preferable.

又、上記の層状鉱物のインターカレーション化合物(ピラードクリスタル等)や、イオン交換処理を施したもの、表面処理(シランカップリング処理、有機バインダとの複合化処理等)を施したものも使用することができる。   Also used are intercalation compounds of the above-mentioned layered minerals (pillar crystals, etc.), those subjected to ion exchange treatment, and those subjected to surface treatment (silane coupling treatment, compounding treatment with organic binder, etc.) can do.

平板状層状鉱物粒子のサイズとしては、層中に含有されている状態で(膨潤工程、分散剥離工程を経た場合も含めて)、平均粒径(粒子の最大長)が1μm未満であり、平均アスペクト比が50以上であることが好ましい。粒子サイズが1μm未満であれば、薄層状粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜に付与され、クラックが入り難く乾燥状態で強靭な塗膜とすることができる。又、粒子物を多く含有する塗布液においては、層状粘土鉱物の増粘効果によって、粒子物の沈降を抑制することができる。粒子径が1μm以上になると、塗膜に不均一性が生じて、局所的に強度が弱くなる場合がある。   As the size of the flat lamellar mineral particles, the average particle diameter (maximum length of the particles) is less than 1 μm in the state of being contained in the layer (including the case where the swelling process and the dispersion peeling process have been performed). The aspect ratio is preferably 50 or more. If the particle size is less than 1 μm, the continuity and flexibility in the planar direction, which are the characteristics of the thin layered particles, are imparted to the coating film, and it is difficult to crack and it can be made a tough coating film in a dry state. Moreover, in the coating liquid containing many particulate matters, sedimentation of particulate matter can be suppressed by the thickening effect of the layered clay mineral. When the particle diameter is 1 μm or more, non-uniformity occurs in the coating film, and the strength may be locally reduced.

又、アスペクト比が50未満である場合、添加量に対する平板状の粒子数が少なくなり、増粘性が不充分となり、粒子物の沈降を抑制する効果が低減する。   On the other hand, when the aspect ratio is less than 50, the number of tabular grains with respect to the added amount is reduced, the viscosity is insufficient, and the effect of suppressing sedimentation of the particulate matter is reduced.

層状鉱物粒子の含有量としては、層全体の0.1〜30質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましい。特に膨潤性合成弗素雲母やスメクタイトは、少量の添加でも効果が見られるため好ましい。   The content of the layered mineral particles is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass based on the entire layer. In particular, swellable synthetic fluorinated mica and smectite are preferable because they can be effective even when added in a small amount.

層状鉱物粒子は、塗布液に粉体で添加してもよいが、簡便な調液方法(メディア分散等の分散工程を必要としない)でも良好な分散度を得るために、層状鉱物粒子を単独で水に膨潤させたゲルを調製した後、塗布液に添加することが好ましい。   The layered mineral particles may be added as a powder to the coating solution, but in order to obtain a good degree of dispersion even with a simple preparation method (no need for a dispersion step such as media dispersion), the layered mineral particles are used alone. It is preferable to prepare the gel swollen in water and add it to the coating solution.

親水性層を構成する親水性層マトリクスには、その他の添加素材として、珪酸塩水溶液も使用することができる。珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムといったアルカリ金属珪酸塩が好ましく、そのSiO2/M2O比率は、珪酸塩を添加した際の塗布液全体のpHが13を超えない範囲となるように選択することが無機粒子の溶解を防止する上で好ましい。 In the hydrophilic layer matrix constituting the hydrophilic layer, a silicate aqueous solution can also be used as another additive material. Alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate are preferred, and the SiO 2 / M 2 O ratio is selected so that the pH of the entire coating solution when the silicate is added does not exceed 13. This is preferable for preventing dissolution of inorganic particles.

又、金属アルコキシドを用いた、所謂ゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーも使用することができる。ゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーの形成については、例えば、「ゾル−ゲル法の応用」(作花済夫著:アグネ承風社発行)に記載されるか、又は本書に引用される文献に記載の公知の方法を使用することができる。   Further, an inorganic polymer or organic-inorganic hybrid polymer by a so-called sol-gel method using a metal alkoxide can also be used. The formation of an inorganic polymer or an organic-inorganic hybrid polymer by the sol-gel method is described in, for example, “Application of the sol-gel method” (Sakuo Sakuo, published by Agne Jofusha) or in this book Known methods described in the cited documents can be used.

又、本発明では、水溶性樹脂を含有してもよい。水溶性樹脂としては、例えば多糖類、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体などの共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられるが、本発明に用いる水溶性樹脂としては、多糖類が好ましい。   In the present invention, a water-soluble resin may be contained. Examples of the water-soluble resin include conjugated dienes such as polysaccharides, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene glycol (PEG), polyvinyl ether, styrene-butadiene copolymer, and methyl methacrylate-butadiene copolymer. Resins such as polymer latex, acrylic polymer latex, vinyl polymer latex, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone can be used, and the water-soluble resin used in the present invention is preferably a polysaccharide.

多糖類としては、澱粉類、セルロース類、ポリウロン酸、プルラン等が使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。これは、親水性層に多糖類を含有させることにより、親水性層の表面形状を好ましい状態形成する効果が得られるためである。   As the polysaccharide, starch, cellulose, polyuronic acid, pullulan, and the like can be used, but cellulose derivatives such as methyl cellulose salt, carboxymethyl cellulose salt, hydroxyethyl cellulose salt are particularly preferable, and sodium salt and ammonium salt of carboxymethyl cellulose are preferable. More preferred. This is because an effect of forming the surface shape of the hydrophilic layer in a preferable state can be obtained by including the polysaccharide in the hydrophilic layer.

親水性層の表面は、PS版のアルミ砂目の様に0.1〜20μmピッチの凹凸構造を有することが好ましく、この凹凸により保水性や画像部の保持性が向上する。このような凹凸構造は、親水性層マトリクスに適切な粒径のフィラーを適切な量含有させて形成することも可能であるが、親水性層の塗布液に前述のアルカリ性コロイダルシリカと水溶性多糖類とを含有させ、親水性層を塗布・乾燥させる際に相分離を生じさせて形成することが、より良好な印刷適性を有する構造を得ることができ好ましい。   The surface of the hydrophilic layer preferably has a concavo-convex structure with a pitch of 0.1 to 20 μm like the aluminum grain of the PS plate, and this concavo-convex improves water retention and image area retention. Such a concavo-convex structure can be formed by adding an appropriate amount of filler having an appropriate particle size to the hydrophilic layer matrix. However, the hydrophilic colloidal silica and the water-soluble polyvalent silica are added to the hydrophilic layer coating solution. It is preferable that a saccharide is contained and formed by causing phase separation when the hydrophilic layer is applied and dried so that a structure having better printability can be obtained.

凹凸構造の形態(ピッチ及び表面粗さ等)は、アルカリ性コロイダルシリカの種類及び添加量、水溶性多糖類の種類及び添加量、その他添加材の種類及び添加量、塗布液の固形分濃度、ウエット膜厚、乾燥条件等で適宜コントロールすることが可能である。   The shape of the concavo-convex structure (pitch, surface roughness, etc.) is determined depending on the type and addition amount of alkaline colloidal silica, the type and addition amount of water-soluble polysaccharides, the type and addition amount of other additives, the solid content concentration of the coating liquid, and the wetness. It is possible to appropriately control the film thickness, drying conditions, and the like.

本発明において、親水性マトリクス構造部に添加される水溶性樹脂は、少なくともその一部が水溶性の状態のまま、水に溶出可能な状態で存在することが好ましい。水溶性の素材であっても、架橋剤等によって架橋し、水に不溶の状態になると、その親水性は低下して印刷適性を劣化させる懸念があるためである。又、更にカチオン性樹脂を含有してもよく、カチオン性樹脂としては、例えばポリエチレンアミン、ポリプロピレンポリアミン等のポリアルキレンポリアミン類又はその誘導体、第3級アミノ基や第4級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は、微粒子状の形態で添加してもよく、例えば特開平6−161101号に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げられる。   In the present invention, the water-soluble resin added to the hydrophilic matrix structure part is preferably present in a state where at least a part thereof is water-soluble and can be eluted in water. This is because even if it is a water-soluble material, when it is cross-linked by a cross-linking agent or the like and becomes insoluble in water, its hydrophilicity is lowered and printability may be deteriorated. Further, the resin may further contain a cationic resin. Examples of the cationic resin include polyalkylene polyamines such as polyethylene amine and polypropylene polyamine or derivatives thereof, and acrylic resins having a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. , Diacrylamine and the like. The cationic resin may be added in the form of fine particles, and examples thereof include a cationic microgel described in JP-A-6-161101.

又、親水性層を塗設する為に用いられる塗布液には、塗布性改善等の目的で水溶性の界面活性剤を含有させることができ、珪素系又は弗素系などの界面活性剤を使用することができるが、特に珪素元素を含む界面活性剤を使用することが、印刷汚れを生じる懸念がなく好ましい。該界面活性剤の含有量は、親水性層全体(塗布液としては固形分)の0.01〜3質量%が好ましく、0.03〜1質量%が更に好ましい。   In addition, the coating solution used for coating the hydrophilic layer can contain a water-soluble surfactant for the purpose of improving the coating property, and a silicon-based or fluorine-based surfactant is used. However, it is particularly preferable to use a surfactant containing silicon element because there is no fear of causing printing stains. The content of the surfactant is preferably 0.01 to 3% by mass, more preferably 0.03 to 1% by mass of the entire hydrophilic layer (solid content as the coating solution).

又、親水性層には燐酸塩を含むことができる。本発明では、親水性層の塗布液がアルカリ性であることが好ましいため、燐酸塩としては燐酸3ナトリウムや燐酸水素2ナトリウムとして添加することが好ましい。燐酸塩を添加することで、印刷時の網の目開きを改善する効果が得られる。燐酸塩の添加量としては、水和物を除いた有効量として0.1〜5質量%が好ましく、0.5〜2質量%が更に好ましい。   The hydrophilic layer can contain a phosphate. In the present invention, since the hydrophilic layer coating solution is preferably alkaline, the phosphate is preferably added as trisodium phosphate or disodium hydrogen phosphate. By adding a phosphate, the effect of improving the mesh opening during printing can be obtained. The addition amount of the phosphate is preferably 0.1 to 5% by mass and more preferably 0.5 to 2% by mass as an effective amount excluding the hydrate.

本発明においては、支持体表面の反射濃度が0.7〜2.5の範囲にあることが、可視画性の面から特に好ましい。基材表面を濃色とすることで、白色化した露光部とのコントラストが強調され、良好な露光可視画が得られる。基材表面の反射濃度を上記範囲とするには、以下の方法が挙げられる。   In the present invention, the reflection density on the surface of the support is particularly preferably in the range of 0.7 to 2.5 from the viewpoint of visible image properties. By making the surface of the substrate dark, the contrast with the whitened exposed portion is enhanced, and a good exposed visible image can be obtained. In order to set the reflection density of the substrate surface within the above range, the following method may be mentioned.

アルミ砂目基材であれば、公知の電解着色法によりAD層(接着層)を着色し、着色条件を適宜調整することにより反射濃度を上記範囲とすることができる。親水性層を形成した基材であれば、親水性層中に着色顔料(好ましくは黒色顔料)を含有させ、親水性層中の着色顔料の含有比率と親水性層付量とを適宜調整することで、反射濃度を上記範囲とすることができる。   In the case of an aluminum grain substrate, the reflection density can be adjusted to the above range by coloring the AD layer (adhesive layer) by a known electrolytic coloring method and appropriately adjusting the coloring conditions. In the case of a base material on which a hydrophilic layer is formed, a coloring pigment (preferably a black pigment) is contained in the hydrophilic layer, and the content ratio of the coloring pigment in the hydrophilic layer and the amount of the hydrophilic layer are appropriately adjusted. Thus, the reflection density can be within the above range.

本発明における反射濃度とは、Gretag−Macbeth社製の反射濃度計D−196を用い、絶対白基準で濃度測定を行って得られた濃度の数値である。親水性表面を有する基材が光透過性である場合には、測定を白色台(具体的には印刷に用いるコート紙を4枚重ねたものを敷いた台)上で行う。   The reflection density in the present invention is a numerical value of density obtained by performing density measurement on an absolute white basis using a reflection densitometer D-196 manufactured by Gretag-Macbeth. When the substrate having a hydrophilic surface is light-transmitting, the measurement is performed on a white table (specifically, a table on which four sheets of coated paper used for printing are laid).

(印刷)
画像露光された印刷版材料は、湿し水及び印刷インクを用いる一般的な平版印刷に供することができる。印刷方法としては、特に湿し水としてi−プロパノールを含有しない(含有しないとは、水に対して0.5質量%以下の含有率を言う)湿し水を使用する場合が好ましい態様である。
(printing)
The image-exposed printing plate material can be subjected to general lithographic printing using dampening water and printing ink. As a printing method, it is a preferable embodiment particularly when fountain solution that does not contain i-propanol as the fountain solution (that does not contain means a content of 0.5% by mass or less with respect to water) is used. .

即ち、本発明の印刷版材料を赤外線レーザーにより画像露光をし、印刷機上で湿し水又は湿し水と印刷インキにより現像を行い、印刷するのが好ましい態様である。   That is, in a preferred embodiment, the printing plate material of the present invention is subjected to image exposure with an infrared laser, developed with dampening water or dampening water and printing ink on a printing machine, and printed.

画像形成後の印刷版材料を、そのまま印刷機の版胴に取り付けるか、あるいは印刷版材料を印刷機の版胴に取り付けた後に画像形成を行い、版胴を回転させながら水供給ローラー及び/又はインク供給ローラーを印刷版材料に接触させることで感熱画像形成層の非画像部を除去することが可能である。   The printing plate material after image formation is directly attached to the plate cylinder of the printing press, or the image forming is performed after the printing plate material is attached to the plate cylinder of the printing press, and the water supply roller and / or while rotating the plate cylinder By bringing the ink supply roller into contact with the printing plate material, it is possible to remove the non-image portion of the thermal image forming layer.

(機上現像方法)
上記の非画像部の除去、いわゆる機上現像方法を以下に示す。
(On-press development method)
The removal of the non-image area, a so-called on-press development method will be described below.

印刷機上での感熱画像形成層の非画像部(未露光部)の除去は、版胴を回転させながら水付けローラーやインクローラーを接触させて行うことができるが、下記に挙げる例のような、もしくは、それ以外の種々のシークエンスによって行うことができる。   The removal of the non-image part (unexposed part) of the heat-sensitive image forming layer on the printing press can be carried out by contacting a watering roller or an ink roller while rotating the plate cylinder, as in the following examples: Alternatively, it can be performed by various other sequences.

又、その際には、印刷時に必要な湿し水水量に対して、水量を増加させたり、減少させたりといった水量調整を行ってもよく、水量調整を多段階に分けて、もしくは、無段階に変化させて行ってもよい。   In this case, the water amount may be adjusted by increasing or decreasing the amount of dampening water required for printing. The water amount adjustment may be divided into multiple stages or steplessly. You may change it to.

(1)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーを接触させて版胴を1〜数十回回転させ、次いでインクローラーを接触させて版胴を1〜数十回回転させ、次いで印刷を開始する。   (1) As a sequence for starting printing, the plate cylinder is rotated 1 to several tens of times by contacting the watering roller, then the plate cylinder is rotated by contacting the ink roller one to several tens of times, and then printing is started. .

(2)印刷開始のシークエンスとして、インクローラーを接触させて版胴を1〜数十回回転させ、次いで水付けローラーを接触させて版胴を1〜数十回回転させ、次いで印刷を開始する。   (2) As a sequence for starting printing, contact the ink roller to rotate the plate cylinder 1 to several tens of times, then contact the watering roller to rotate the plate cylinder 1 to several tens of times, and then start printing .

(3)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーとインクローラーとを実質的に同時に接触させて版胴を1〜数十回回転させ、次いで印刷を開始する。   (3) As a sequence for starting printing, the watering roller and the ink roller are brought into contact with each other substantially simultaneously to rotate the plate cylinder 1 to several tens of times, and then printing is started.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれに限定されるものではない。尚、実施例中、特に断りない限り、「%」は「質量%」を示し、「部」は「質量部」を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, the embodiment of this invention is not limited to this. In Examples, “%” represents “% by mass” and “parts” represents “parts by mass” unless otherwise specified.

実施例1
〈基材1の作製〉
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を、50℃の1%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶解処理を行い、水洗後、25℃の0.1%塩酸水溶液中に30秒間浸漬し、中和処理した後、水洗した。
Example 1
<Preparation of substrate 1>
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm is immersed in a 1% sodium hydroxide aqueous solution at 50 ° C., dissolved so that the dissolution amount becomes 2 g / m 2 , and washed with water. The sample was immersed in a 0.1% hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C. for 30 seconds, neutralized, and washed with water.

次いで、このアルミニウム板を、塩酸10g/L、アルミを0.5g/L含有する電解液により、正弦波の交流を用いて、ピーク電流密度が50A/dm2の条件で電解粗面化処理を行った。この際の電極と試料表面との距離は10mmとした。電解粗面化処理は12回に分割して行い、一回の処理電気量(陽極時)を40C/dm2とし、合計で480C/dm2の処理電気量(陽極時)とした。又、各回の粗面化処理の間に5秒間の休止時間を設けた。 Next, this aluminum plate was subjected to an electrolytic surface roughening treatment with an electrolytic solution containing hydrochloric acid 10 g / L and aluminum 0.5 g / L using a sine wave alternating current and a peak current density of 50 A / dm 2. went. The distance between the electrode and the sample surface at this time was 10 mm. Perform electrolytic graining treatment is divided into 12 times, and the quantity of electricity used in one treatment (at a positive polarity) as the 40C / dm 2, treatment quantity of electricity 480C / dm 2 in total (at a positive polarity). In addition, a rest period of 5 seconds was provided between each surface roughening treatment.

電解粗面化後は、50℃に保たれた1%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、粗面化された面のスマットを含めた溶解量が1.2g/m2になるようにエッチングし、水洗した。次いで、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、20Vの定電圧条件で電気量が150C/dm2となるように陽極酸化処理を行い、更に水洗した。 After electrolytic surface roughening, it is immersed in a 1% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 50 ° C. and etched so that the dissolution amount including the smut of the roughened surface becomes 1.2 g / m 2. And washed with water. Subsequently, it was immersed in a 10% aqueous sulfuric acid solution maintained at 25 ° C. for 10 seconds, neutralized, and then washed with water. Next, anodization was performed in a 20% sulfuric acid aqueous solution so that the amount of electricity was 150 C / dm 2 under a constant voltage condition of 20 V, followed by washing with water.

次いで、水洗後の表面水をスクイーズした後、70℃に保たれた1%燐酸二水素ナトリウム水溶液に30秒間浸漬し、水洗を行った後、80℃で5分間乾燥した。   Next, after squeezing the surface water after washing with water, it was immersed in a 1% aqueous solution of sodium dihydrogen phosphate kept at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water, and then dried at 80 ° C. for 5 minutes.

〈親水性層の付与〉
下記組成の素材をホモジナイザを用いて十分に攪拌・混合した後、濾過して、固形分15%の親水性層1塗布液を作製した。
<Applying hydrophilic layer>
A material having the following composition was sufficiently stirred and mixed using a homogenizer, followed by filtration to prepare a hydrophilic layer 1 coating solution having a solid content of 15%.

粗面化された上記アルミニウム板の上に、親水性層1塗布液をワイヤーバーを用いて乾燥後の付量が0.5g/m2となるように塗布し、110℃で3分間乾燥した。次いで、60℃・72時間のエイジング処理を行って、親水性層を有する基材1を作製した。
(親水性層1塗布液)
親水性層コロイダルシリカ(アルカリ系):スノーテックス−S(日産化学社製,固形分30%) 12.86部
ネックレス状コロイダルシリカ(アルカリ系):スノーテックス−PSM(日産化学社製,固形分20%) 35.83部
赤外線吸収色素:ADS830WS(American Dye Source社製)
0.45部
層状鉱物粒子モンモリロナイト:ミネラルコロイドMO(Southern Clay Products社製,平均粒径0.1μm)をホモジナイザで強攪拌して5%の水膨潤ゲルとしたもの 6.00部
カルボキシメチルセルロースナトリウム:CMC1220(ダイセル化学社製)の4%水溶液 3.75部
燐酸3ナトリウム・12水(関東化学社製試薬)の10%水溶液 0.75部
多孔質金属酸化物粒子シルトンAMT08L(水澤化学社製,多孔質アルミノシリケート粒子,平均粒径0.6μm) 1.50部
多孔質金属酸化物粒子 シルトンJC−30(水澤化学社製,多孔質アルミノシリケート粒子,平均粒径3μm) 1.50部
純水 37.36部
〈印刷版材料の作製〉
0.1%硫酸カルシウム水溶液を25℃に調整して、上記の基材1上に乾燥後の付量が0.05g/m2となるように塗布し、60℃で3分間乾燥した。続けて、下記組成の画像形成層素材を十分に混合・攪拌し、濾過して固形分10%の画像形成層aの塗布液を作製した。
On the roughened aluminum plate, the hydrophilic layer 1 coating solution was applied using a wire bar so that the applied amount after drying was 0.5 g / m 2 and dried at 110 ° C. for 3 minutes. . Subsequently, the base material 1 which has a hydrophilic layer was produced by performing the aging process for 60 degreeC * 72 hours.
(Hydrophilic layer 1 coating solution)
Hydrophilic layer colloidal silica (alkaline): Snowtex-S (manufactured by Nissan Chemical Co., solid content 30%) 12.86 parts Necklace-shaped colloidal silica (alkaline): Snowtex-PSM (manufactured by Nissan Chemical Co., solid content) 20%) 35.83 parts Infrared absorbing dye: ADS830WS (manufactured by American Dye Source)
0.45 parts Layered mineral particles Montmorillonite: Mineral colloid MO (manufactured by Southern Clay Products, average particle size 0.1 μm) was vigorously stirred with a homogenizer to form a 5% water-swelling gel 6.00 parts Sodium carboxymethyl cellulose: 4% aqueous solution of CMC1220 (manufactured by Daicel Chemical Industries) 3.75 parts 10% aqueous solution of trisodium phosphate 12 water (reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 0.75 parts Porous metal oxide particles SILTON AMT08L (manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd., Porous aluminosilicate particles, average particle size 0.6 μm) 1.50 parts Porous metal oxide particles Silton JC-30 (manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd., porous aluminosilicate particles, average particle size 3 μm) 1.50 parts pure water 37.36 parts <Preparation of printing plate material>
A 0.1% calcium sulfate aqueous solution was adjusted to 25 ° C., applied onto the substrate 1 so that the amount applied after drying was 0.05 g / m 2, and dried at 60 ° C. for 3 minutes. Subsequently, an image forming layer material having the following composition was sufficiently mixed and stirred, and filtered to prepare a coating solution for the image forming layer a having a solid content of 10%.

上記の水溶性化合物の塗布液を塗布・乾燥した基材1上に、画像形成層a塗布液を、ワイヤーバーを用いて乾燥付量が0.7g/m2となるように塗布し、55℃で1分間乾燥した。次いで、40℃・24時間のエイジング処理を行って、印刷版材料1を得た。
(画像形成層a塗布液)
ポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリレート)の水分散体(平均粒子径0.3μm,軟化点65℃,固形分40%) 17部
二糖類トレハロース(林原商事社製商品名トレハ,融点97℃)水溶液,固形分20% 12部
ポリアクリル酸ナトリウム(アクアリックDL522:日本触媒社製)水溶液,固形分10% 6部
光熱変換色素(ADS830WS:American Dye Source社製)1%水溶液 55部
純水 10部
〈赤外レーザー露光による画像形成〉
1回目の露光:外面円筒走査方式のドラムセッターのレーザーユニットに隣接して遠赤外放射中空型セラミックヒーターを設置し、副走査によってレーザーユニット及びセラミックヒーターが移動する際に、レーザーが照射される位置の版面温度が200℃になるようにセラミックヒーターの出力を調整して出力した。
On the substrate 1 on which the above-mentioned water-soluble compound coating solution has been applied and dried, the image forming layer a coating solution is applied using a wire bar so that the dry weight is 0.7 g / m 2 . Dry at 1 ° C. for 1 minute. Next, an aging treatment at 40 ° C. for 24 hours was performed to obtain a printing plate material 1.
(Image forming layer a coating solution)
Polystyrene-block-poly (methyl methacrylate) aqueous dispersion (average particle size 0.3 μm, softening point 65 ° C., solid content 40%) 17 parts disaccharide trehalose (trade name Treha, melting point 97 ° C., Hayashibara Shoji Co., Ltd.) , Solid content 20% 12 parts Sodium polyacrylate (Aquaric DL522: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), solid content 10% 6 parts Photothermal conversion dye (ADS830WS: manufactured by American Dye Source) 1% aqueous solution 55 parts Pure water 10 parts <Image formation by infrared laser exposure>
First exposure: A far-infrared radiation hollow ceramic heater is installed adjacent to the laser unit of an outer cylindrical scanning drum setter, and the laser is irradiated when the laser unit and the ceramic heater are moved by sub-scanning. The output of the ceramic heater was adjusted so that the plate temperature at the position was 200 ° C.

印刷版材料を露光ドラムに巻付け固定した。1回目の露光は上記遠赤外ヒーター、2回目の露光は、波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、露光エネルギー150mJ/cm2で、2,400dpi(dpiは1インチ=2.54cm当たりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。1回目の露光と2回目の露光の間隔は0.5秒である。 The printing plate material was wound around the exposure drum and fixed. The first exposure is the far infrared heater, and the second exposure is a laser beam having a wavelength of 830 nm and a spot diameter of about 18 μm, an exposure energy of 150 mJ / cm 2 and an exposure energy of 2,400 dpi (dpi is 1 inch = 2.54 cm). An image was formed with 175 lines. The interval between the first exposure and the second exposure is 0.5 seconds.

得られた印刷版を実施例1とする。   The obtained printing plate is referred to as Example 1.

実施例2
実施例1において、1回目の露光をレーザービームで像様露光し、2回目の露光を遠赤外ヒーターで全面露光した以外は実施例1と同様に露光した。
Example 2
In Example 1, the exposure was performed in the same manner as in Example 1 except that the first exposure was imagewise exposed with a laser beam, and the second exposure was performed with a far-infrared heater.

比較例1
実施例1において、セラミックヒーターを使用せずに露光した。
Comparative Example 1
In Example 1, exposure was performed without using a ceramic heater.

比較例2
実施例1において、セラミックヒーターの設定位置を変更し、1回目の露光と2回目の露光の間隔を6秒に変更した以外は実施例1と同様に露光した。
Comparative Example 2
In Example 1, exposure was performed in the same manner as in Example 1 except that the setting position of the ceramic heater was changed and the interval between the first exposure and the second exposure was changed to 6 seconds.

比較例3
実施例1において、セラミックヒーターの出力を調整し、版面の温度を115℃にした以外は実施例1と同様に露光した。
Comparative Example 3
In Example 1, exposure was performed in the same manner as in Example 1 except that the output of the ceramic heater was adjusted and the temperature of the plate surface was 115 ° C.

〈評価〉
以下のように評価した。
<Evaluation>
Evaluation was performed as follows.

《露光可視画性》
各露光済の印刷版材料の50%網点画像部を、マイクロスコープVH−X(キーエンス社製)を用いて200倍の倍率で観察した。画像部と非画像部との識別性を下記の指標により目視で評価した。
<Exposure Visibility>
A 50% halftone dot image portion of each exposed printing plate material was observed at a magnification of 200 times using a microscope VH-X (manufactured by Keyence Corporation). The discriminability between the image portion and the non-image portion was visually evaluated by the following index.

◎:非常に良好
○:良好
△:識別は可能
×:識別が困難
《機上現像性》
(印刷方法)
上記で露光済みの印刷版材料試料を、現像処理を行わずにハイデルGTO印刷機に取り付け、エッチング液としてSEU−3(コニカ社製)の45倍水希釈液、インキとしてハイエコー(東洋インキ製造社製)を用い、印刷紙として上質紙を用いて印刷を行った。印刷は、23℃・48%RH(相対湿度)の環境下で行った。
◎: Very good ○: Good △: Can be identified ×: Difficult to identify << On-machine developability >>
(Printing method)
The exposed printing plate material sample is attached to a Heidel GTO printing machine without developing, and 45 times water diluted solution of SEU-3 (manufactured by Konica) is used as an etching solution, and HiEcho (Toyo Ink Co., Ltd.) is used as an ink. And printing was performed using high-quality paper as printing paper. Printing was performed in an environment of 23 ° C. and 48% RH (relative humidity).

各印刷版材料について、刷出しから何枚目の印刷で画質の良好な印刷物が得られるかを求めた。機上現像終了の指標は、印刷物上で非画像部の汚れがなく、かつ、ベタ画像部の濃度が1.5以上(MacbethRD918を用いてMモードで測定)であり、かつ、90%の網点画像が開いていることとした。   For each printing plate material, the number of sheets printed from the printing was determined to obtain a printed matter with good image quality. The on-machine development end index is that the non-image area is not smudged on the printed matter, the density of the solid image area is 1.5 or more (measured in the M mode using Macbeth RD918), and 90% of the mesh The point image is open.

《耐刷性》
上記と同様に印刷を行い、5,000枚毎に印刷物を確認し、3%の網点が欠け始める枚数を耐刷枚数としてカウントした。
<Press life>
Printing was performed in the same manner as described above, and the printed matter was confirmed every 5,000 sheets, and the number of sheets at which 3% halftone dots started to be missing was counted as the number of printing durability.

結果を併せて表1に示す。   The results are also shown in Table 1.

Figure 2009172855
Figure 2009172855

表1から、本発明の平版印刷版材料の製造方法により作製された平版印刷版は、露光可視画性に優れ、かつ機上現像性、耐刷性にも優れることが判る。   It can be seen from Table 1 that the lithographic printing plate produced by the method for producing a lithographic printing plate material of the present invention is excellent in exposure visible image quality, and excellent in on-press developability and printing durability.

Claims (10)

支持体及び該支持体上に設けられた熱融着微粒子又は感熱疎水性ポリマー粒子を含有する感熱記録層を有する平板印刷版材料を露光する複数の工程を有することを特徴とする平板印刷版の製造方法。 A lithographic printing plate comprising a plurality of steps of exposing a lithographic printing plate material having a support and a heat-sensitive recording layer containing heat-fused fine particles or heat-sensitive hydrophobic polymer particles provided on the support. Production method. 平板印刷版材料を露光する工程の少なくとも一つが、赤外線の露光時に平板印刷版材料の表面を120℃以上に加熱することを特徴とする請求項1に記載の平板印刷版の製造方法。 The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein at least one of the steps of exposing the lithographic printing plate material heats the surface of the lithographic printing plate material to 120 ° C or more during infrared exposure. 前記複数の露光工程が、赤外線により平板印刷版材料全面を露光する第1工程と、その後の、赤外レーザー光により像様露光する第2工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の平板印刷版の製造方法。 3. The method according to claim 1, wherein the plurality of exposure steps include a first step of exposing the entire surface of the lithographic printing plate material with infrared rays, and a second step of imagewise exposure with infrared laser light thereafter. The manufacturing method of the lithographic printing plate of description. 前記複数の露光工程が、赤外レーザー光により像様露光する第1工程と、その後の、赤外線により平板印刷版材料全面を露光する第2工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の平板印刷版の製造方法。 3. The method according to claim 1, wherein the plurality of exposure steps include a first step of imagewise exposure with infrared laser light and a second step of exposing the entire surface of the lithographic printing plate material with infrared rays thereafter. The manufacturing method of the lithographic printing plate of description. 1回目の露光を赤外線照射により行い、2回目の露光が赤外レーザー光による像様露光であることを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。 An exposure method for a lithographic printing plate material, wherein the first exposure is performed by infrared irradiation, and the second exposure is an imagewise exposure using infrared laser light. 1回目の露光を赤外レーザー光による像様露光で行い、2回目の露光が赤外線照射による露光であることを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。 An exposure method for a lithographic printing plate material, wherein the first exposure is imagewise exposure using infrared laser light, and the second exposure is exposure by infrared irradiation. 1回目の露光及び2回目の露光を赤外レーザー光による像様露光で行うことを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。 An exposure method for a lithographic printing plate material, wherein the first exposure and the second exposure are performed by imagewise exposure using infrared laser light. 1回目の露光と2回目の露光の間隔が0.01〜5秒であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版材料の露光方法。 The lithographic printing plate material exposure method according to any one of claims 5 to 7, wherein an interval between the first exposure and the second exposure is 0.01 to 5 seconds. 支持体及び該支持体上に設けられた熱融着微粒子又は感熱疎水ポリマー粒子を含有する感熱記録層を有する平板印刷版材料を露光する複数の工程が、請求項5〜8のいずれか1項に記載の露光方法からなることを特徴とする平版印刷版材料の露光方法。 The plurality of steps of exposing a lithographic printing plate material having a support and a heat-sensitive recording layer containing heat-bonding fine particles or heat-sensitive hydrophobic polymer particles provided on the support, according to any one of claims 5 to 8. An exposure method for a lithographic printing plate material comprising the exposure method described in 1. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版の製造方法で得られる平版印刷版を用いて、印刷機上現像後、印刷することを特徴とする印刷方法。 A printing method comprising printing after development on a printing press using the planographic printing plate obtained by the method for producing a planographic printing plate according to any one of claims 1 to 4.
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