JP2008114527A - Manufacturing method for lithographic printing plate material, and lithographic printing plate material - Google Patents

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Yoko Sakai
陽子 酒井
Tomonori Kawamura
朋紀 河村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate material which is excellent in scratch-resistance, printing durability, and on-board developing property, and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: This manufacturing method for the lithographic printing plate material which has a hydrophilic layer and an image forming layer on a base material in this order has two processes. In the first process, a hydrophilic layer application liquid containing a water-soluble compound of which the solubility with 100 g of water at 25°C ranges from 0.2 g to 4.0 g is applied onto the base material and dried to install the hydrophilic layer. In the second process, after the process of installing the hydrophilic layer, an image forming layer application liquid is applied on the hydrophilic layer and dried to install the image forming layer. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、印刷版材料に関し、特にコンピューター・トゥー・プレート(CTP)方式により画像形成が可能な平版印刷版材料に関する。   The present invention relates to a printing plate material, and more particularly to a lithographic printing plate material capable of image formation by a computer-to-plate (CTP) method.

現在、印刷の分野においては、印刷画像データのデジタル化に伴い、CTP方式による印刷が行われるようになってきているが、この印刷においては、安価で取り扱いが容易で従来の所謂PS版と同等の印刷適性を有したCTP方式用印刷版材料が求められている。   At present, in the field of printing, printing by the CTP method has been performed with the digitization of print image data. However, this printing is inexpensive and easy to handle and is equivalent to a conventional so-called PS plate. Therefore, there is a demand for a printing plate material for a CTP system having the following printability.

特に近年、特別な薬剤(例えばアルカリ、酸、溶媒など)を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、全く現像処理を必要としない相変化タイプの印刷版材料、水もしくは水を主体とした実質的に中性の処理液で処理をする印刷版材料、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理を行い特に現像工程を必要としない印刷版材料などの、ケミカルフリータイプ印刷版材料やプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。   In particular, in recent years, there has been a demand for a printing plate material that does not require development processing using a processing solution containing a special agent (for example, alkali, acid, solvent, etc.) and can be applied to a conventional printing machine. Phase change type printing plate material that does not require water, printing plate material that is processed with water or a substantially neutral processing liquid mainly composed of water, and development processing is performed at an initial stage of printing on a printing press. There are known printing plate materials called chemical-free type printing plate materials and processless type printing plate materials, such as printing plate materials that do not require a process.

プロセスレスタイプの印刷版材料の画像形成に主として用いられるのは近赤外〜赤外線の波長を有するサーマルレーザー記録方式であり、この方式で画像形成可能なサーマルプロセスレスプレートには、大きく分けて、アブレーションタイプと熱融着画像層機上現像タイプ、および相変化タイプが知られているが、露光時のアブレーションによる画像部の飛散での汚染が無いこと、精細な画像が得られることなどから、熱融着画像層機上現像タイプ(特許文献1、2参照)が比較的有利に用いられる。   It is a thermal laser recording system having a wavelength of near infrared to infrared that is mainly used for image formation of a processless type printing plate material. Ablation type and heat fusion image layer on-machine development type, and phase change type are known, but because there is no contamination due to scattering of the image part due to ablation at the time of exposure, a fine image can be obtained, etc. A heat fusion image layer on-machine development type (see Patent Documents 1 and 2) is used relatively advantageously.

一方、サーマルプロセスプレートにおいては、露光装置の負荷の軽減、製版作業の効率化のために感度の高い印刷版材料が求められている。   On the other hand, in the thermal process plate, a highly sensitive printing plate material is required for reducing the load on the exposure apparatus and improving the efficiency of the plate making operation.

高感度化のための技術の例として、親水性表面に加熱または輻射線の照射により疎水性領域を形成しうる化合物を含有する感熱記録層を設けた技術が知られている(特許文献3参照)。   As an example of a technique for increasing sensitivity, a technique is known in which a thermosensitive recording layer containing a compound capable of forming a hydrophobic region by heating or radiation irradiation is provided on a hydrophilic surface (see Patent Document 3). ).

また、感熱記録層として、高感度の感熱記録層を用いる場合、感熱記録層表面が外圧や引っ掻き(スクラッチ傷)などによって、非画像部の記録層が親水性表面に固着することによって、印刷時の汚れを生じやすくなるが、このような印刷時の汚れ防止(耐傷性の改善)のため、支持体の親水性表面と感熱記録層の間に、中間層を設けて直接的な接触を避けることで傷汚れを抑制する技術が開示されている(特許文献4参照)。   In addition, when a high-sensitivity thermal recording layer is used as the thermal recording layer, the recording layer in the non-image area is fixed to the hydrophilic surface due to external pressure or scratching (scratch scratches), etc., during printing. In order to prevent such stains during printing (improving scratch resistance), an intermediate layer is provided between the hydrophilic surface of the support and the thermal recording layer to avoid direct contact. Thus, a technique for suppressing scratches and dirt has been disclosed (see Patent Document 4).

しかしながら、このような印刷版材料においては、画像記録部の感熱記録層と親水性表面との密着性が弱まるためと思われる画像記録感度の低下や耐刷性の低下といった問題を有していた。また感熱記録層にポリビニルアルコールやポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂を多量に添加し、疎水化前駆体を保持させることで傷への耐性を向上させる方法もあるが、この場合も感度が低下する、耐刷性が低下する、機上現像性が不充分であるといった問題があった。   However, such a printing plate material has problems such as a decrease in image recording sensitivity and a decrease in printing durability, which is thought to be due to weak adhesion between the heat-sensitive recording layer and the hydrophilic surface of the image recording portion. . There is also a method to improve scratch resistance by adding a large amount of water-soluble resin such as polyvinyl alcohol or sodium polyacrylate to the heat-sensitive recording layer, and retaining the hydrophobized precursor, but in this case also the sensitivity decreases However, there are problems such as a decrease in printing durability and insufficient on-press developability.

このように、感熱記録層を有する印刷版材料、特に機上現像可能な印刷版材料においては、耐傷性に優れ、耐刷性に優れ、機上現像性に優れる平版印刷版材料を得るのは困難であった。
特開平9−123387号公報 特開2003−231374号公報 特開2003−170670号公報 特開2002−107917号公報
Thus, in a printing plate material having a heat-sensitive recording layer, particularly a printing plate material that can be developed on-press, it is possible to obtain a lithographic printing plate material having excellent scratch resistance, excellent printing durability, and excellent on-press developability. It was difficult.
JP-A-9-123387 JP 2003-231374 A JP 2003-170670 A JP 2002-107917 A

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、耐傷性に優れ、耐刷性に優れ、機上現像性に優れる平版印刷版材料およびその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate material having excellent scratch resistance, excellent printing durability, and excellent on-press developability, and a method for producing the same. is there.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。   The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.

1.基材上に、親水性層、画像形成層をこの順に有する平版印刷版材料の製造方法であって、25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である水溶性化合物を含有する親水性層塗布液を前記基材上に塗布し乾燥して前記親水性層を設ける工程、および、前記親水性層を設ける工程の後、前記親水性層の上に画像形成層塗布液を塗布し乾燥して前記画像形成層を設ける工程、を有することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。   1. A method for producing a lithographic printing plate material having a hydrophilic layer and an image forming layer in this order on a substrate, wherein a water-soluble compound having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 0.2 g or more and 4.0 g or less After the step of applying the hydrophilic layer coating liquid contained on the substrate and drying to provide the hydrophilic layer, and the step of providing the hydrophilic layer, the image forming layer coating liquid on the hydrophilic layer A method for producing a lithographic printing plate material, comprising: applying and drying to form an image forming layer.

2.1に記載の平版印刷版材料の製造方法により製造されたことを特徴とする平版印刷版材料。   A lithographic printing plate material produced by the method for producing a lithographic printing plate material according to 2.1.

3.前記平版印刷版材料が印刷機上現像可能な平版印刷版材料であることを特徴とする2に記載の平版印刷版材料。   3. 3. The lithographic printing plate material according to 2, wherein the lithographic printing plate material is a lithographic printing plate material that can be developed on a printing press.

本発明によれば、耐傷性に優れ、耐刷性に優れ、機上現像性に優れる平版印刷版材料およびその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate material having excellent scratch resistance, excellent printing durability, and excellent on-press developability, and a method for producing the same.

以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the best mode for carrying out the present invention will be described, the present invention is not limited to these.

本発明の平版印刷版材料の製造方法および平版印刷版材料は、基材上に、親水性層、画像形成層をこの順に有する平版印刷版材料の製造方法であって、25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である水溶性化合物を含有する親水性層塗布液を前記基材上に塗布し乾燥して前記親水性層を設ける工程、および、前記親水性層を設ける工程の後、前記親水性層の上に画像形成層塗布液を塗布し乾燥して前記画像形成層を設ける工程、を有することを一つの特徴とする。   The method for producing a lithographic printing plate material and the lithographic printing plate material of the present invention are a method for producing a lithographic printing plate material having a hydrophilic layer and an image forming layer in this order on a base material, and to 100 g of water at 25 ° C. Applying a hydrophilic layer coating solution containing a water-soluble compound having a solubility of 0.2 g or more and 4.0 g or less on the substrate and drying to provide the hydrophilic layer; and One feature is that, after the providing step, the image forming layer is provided by applying and drying an image forming layer coating solution on the hydrophilic layer.

本発明の平版印刷版材料が、耐傷性(耐傷防止性)に優れ、且つ、耐刷性に優れるのは、以下のような理由であると推測される。   The reason why the lithographic printing plate material of the present invention is excellent in scratch resistance (scratch resistance) and printing durability is presumed as follows.

本発明に係る水溶性化合物は、水への溶解度が低いため本発明に係る親水性層塗布液(水溶液)を塗布後、乾燥工程において塗布溶媒である水の蒸発工程の途中で飽和濃度に達するため、その段階で本発明に係る親水性層塗膜中で析出が生じる。さらに乾燥を進行させると、析出した本発明に係る水溶性化合物が本発明に係る親水性層の表面に配向した状態が形成される。このような本発明に係る親水性層の表面上にさらに画像形成層塗布液を塗布乾燥することで本発明の平版印刷版材料が製造される。   Since the water-soluble compound according to the present invention has low solubility in water, it reaches a saturation concentration in the course of evaporation of water as a coating solvent in the drying process after applying the hydrophilic layer coating solution (aqueous solution) according to the present invention. Therefore, precipitation occurs in the hydrophilic layer coating film according to the present invention at that stage. When drying further proceeds, a state is formed in which the deposited water-soluble compound according to the present invention is oriented on the surface of the hydrophilic layer according to the present invention. The lithographic printing plate material of the present invention is produced by further coating and drying an image forming layer coating solution on the surface of the hydrophilic layer according to the present invention.

このプロセスにより、本発明に係る親水性層の表面と画像形成層との界面に、水に難溶性でありながら水溶性である化合物が析出し、例えば微粒子状態で存在した脆弱面を形成する。すなわち、本発明に係る親水性層の表面近傍は、本発明に係る水溶性化合物が相対的に高濃度な状態となる。このような状態の平版印刷版材料は、印刷開始直後に湿し水が付着した際に、本発明に係る親水性層の表面の一部が容易に除去されうる。この界面の本発明に係る水溶性化合物が本発明に係る親水性層の表面に存在することで形成される脆弱領域が、画像形成層表面が外圧や引っかき傷を受けて画像層形成層成分が固着した領域を、容易に機上現像されうる(耐傷性(耐傷防止性)に優れる)ようにさせることができるものと推測される。さらには、この界面の本発明に係る水溶性化合物は、一般的に中間層と呼ばれるような連続的な層を形成していないため、画像形成層の加熱された部分の熱融着を妨げず、画像形成に必要な露光エネルギー量を増加させることなく、良好な耐刷性を有する平版印刷版材料を作製することができるものと推測される。   By this process, a compound that is hardly soluble in water but water-soluble precipitates at the interface between the surface of the hydrophilic layer according to the present invention and the image forming layer, and forms, for example, a fragile surface existing in a fine particle state. That is, in the vicinity of the surface of the hydrophilic layer according to the present invention, the water-soluble compound according to the present invention is in a relatively high concentration state. In the lithographic printing plate material in such a state, a part of the surface of the hydrophilic layer according to the present invention can be easily removed when dampening water adheres immediately after the start of printing. The fragile region formed by the presence of the water-soluble compound according to the present invention at the interface on the surface of the hydrophilic layer according to the present invention causes the surface of the image forming layer to be subjected to external pressure or scratches, so that the image layer forming layer component is It is presumed that the fixed region can be easily developed on-machine (excellent in scratch resistance (scratch resistance)). Furthermore, since the water-soluble compound according to the present invention at this interface does not form a continuous layer generally called an intermediate layer, it does not interfere with heat fusion of the heated portion of the image forming layer. It is presumed that a lithographic printing plate material having good printing durability can be produced without increasing the amount of exposure energy necessary for image formation.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の平版印刷版材料は、画像形成層が本発明に係る親水性層を有する基材上に形成されており、画像形成層は、機上現像性を有する層であることが好ましい。   In the planographic printing plate material of the present invention, the image forming layer is preferably formed on a substrate having the hydrophilic layer according to the present invention, and the image forming layer is preferably a layer having on-press developability.

本発明の平版印刷版材料としては、具体的には、後述する親水性表面を有する基材(例えば、砂目を有するアルミニウム板、表面に、親水性層(基材に親水性表面を付与するための親水性層、即ち、本発明に係る親水性層ではない親水性層)を形成した樹脂基材や金属基材)上に、後述する、本発明に係る親水性層、機上現像可能な画像形成層、を設けた平版印刷版材料が挙げられる。   Specifically, as the lithographic printing plate material of the present invention, a substrate having a hydrophilic surface to be described later (for example, an aluminum plate having a grain, a hydrophilic layer (giving a hydrophilic surface to the substrate) On a resin substrate or metal substrate) on which a hydrophilic layer for forming a hydrophilic layer, i.e., a hydrophilic layer that is not a hydrophilic layer according to the present invention) is formed. And a planographic printing plate material provided with an image forming layer.

《基材》
本発明に係る基材とは、基材表面を親水化処理し、親水性の表面層を有する基材を好ましく用いることができる。
"Base material"
As the substrate according to the present invention, a substrate having a hydrophilic surface layer by hydrophilizing the substrate surface can be preferably used.

本発明に係る基材としては、表面形状が本発明で規定する範囲にあれば、印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができ、例えば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。   As the base material according to the present invention, a known material used as a substrate for a printing plate can be used as long as the surface shape is within the range specified in the present invention. For example, a metal plate, a plastic film, a polyolefin, etc. And a composite substrate obtained by appropriately laminating the above materials.

基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限されるものではないが、50〜500μmのものが一般的に取り扱いやすい。   The thickness of the base material is not particularly limited as long as it can be attached to a printing press, but a thickness of 50 to 500 μm is generally easy to handle.

本発明に係る基材としては、基材表面を親水化処理した金属板が好ましく用いられる。   As a base material which concerns on this invention, the metal plate which hydrophilized the base-material surface is used preferably.

金属板としては、鉄、ステンレス、アルミニウム等が挙げられるが、本発明においては、比重と剛性との関係から、特にアルミニウムまたはアルミニウム合金(以下両者含めてアルミニウム板と称する)が好ましく、加えて、公知の粗面化処理、陽極酸化処理、表面親水化処理のいずれかの処理がなされたもの(所謂アルミ砂目板)がより好ましい。   Examples of the metal plate include iron, stainless steel, and aluminum. In the present invention, aluminum or an aluminum alloy (hereinafter referred to as an aluminum plate) is particularly preferable because of the relationship between specific gravity and rigidity. Those subjected to any of the known roughening treatment, anodic oxidation treatment, and surface hydrophilization treatment (so-called aluminum grained plate) are more preferred.

アルミ砂目板としては、例えば、特開平10−869号公報に開示されている方法により得られた砂目板を挙げることができる。   As an aluminum grained board, the grained board obtained by the method currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 10-869 can be mentioned, for example.

本発明に係る基材として用いることができるアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。   Various aluminum alloys can be used as the base material according to the present invention, such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, etc. An alloy of metal and aluminum is used.

本発明に係る基材として用いることができるアルミニウム板は、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、基材の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。   The aluminum plate that can be used as the substrate according to the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment). As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the base material. In this case, it is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. It is preferable to perform the treatment. Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.

用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、基材表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、基材表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、基材表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The surface roughening by the brush polishing method is, for example, rotating a rotating brush using brush bristles having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and for example, volcanic ash particles having a particle diameter of 10 to 100 μm on water. While supplying the uniformly dispersed slurry, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle diameter of 10 to 100 μm in water, injecting pressure from a nozzle and injecting them obliquely to the surface of the base material. Can do. Also, for example, abrasive particles having a particle size of 10 to 100 μm are coated on the surface of the substrate so as to exist at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by laminating the sheets and applying a pressure to transfer the rough surface pattern of the sheet.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後、基材の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After roughening by the above-mentioned mechanical roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the base material, formed aluminum scraps, and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−28123号公報、英国特許第896,563号公報、特開昭53−67507号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることが出来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。 The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used in an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896,563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000C / dm 2. The temperature at which the roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.

電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。 When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is selected from the range of 10 to 30 volts. Is preferred. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000C / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000C/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000C/dm2、更には200〜1000C/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。 When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it can be generally applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 2 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 100~5000C / dm 2, 100~2000C / dm 2, and more preferably selected from the range of 200~1000C / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。   After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide.

これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughing, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことが好ましい。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、基材上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。 Following the roughening treatment, anodizing treatment is preferably performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the substrate. For the anodizing treatment, a method of electrolyzing an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% as an electrolytic solution at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used. A method of electrolysis at a high current density in sulfuric acid described in Japanese Patent No. 1,412,768, a method of electrolysis using phosphoric acid described in US Pat. No. 3,511,661, chromium Examples thereof include a method using a solution containing one or more acids, oxalic acid, malonic acid and the like. The formed anodic oxidation coating amount is suitably 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The anodized coating amount is obtained by, for example, immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium (IV) oxide in 1 L of water) to dissolve the oxide film, It is obtained from mass change measurement before and after dissolution of the coating on the plate.

陽極酸化処理された基材は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized base material may be subjected to a sealing treatment as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.

更に、これらの処理を行った後に、親水化処理として、水溶性の樹脂、例えば、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平5−304358号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。   Further, after these treatments, as a hydrophilization treatment, a water-soluble resin such as polyvinylphosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt ( For example, zinc borate) or a primer coated with a yellow dye, an amine salt or the like is also suitable. Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A No. 5-304358 is covalently used.

基材として用いられるプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類等のフィルムを挙げることができる。   Examples of the plastic film used as the substrate include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, polyamide, polycarbonate, polysulfone, polyphenylene oxide, cellulose esters, and the like.

本発明では、これらのプラスチックフィルムのうち、特にポリエチレンテレフタレート(以降、略してPETという場合がある)、ポリエチレンナフタレート(以降、PENと略すことがある)などのポリエステルフィルムが基材として好ましく用いらる。   In the present invention, among these plastic films, polyester films such as polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PET) and polyethylene naphthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PEN) are preferably used as the base material. The

さらに特開平10−10676号に記載の方法で得られた120℃30秒での熱寸法変化率が0.001%以上0.04%以下の支持体を用いることが好ましい。   Furthermore, it is preferable to use a support obtained by the method described in JP-A No. 10-10676 and having a thermal dimensional change rate of from 0.001% to 0.04% at 120 ° C. for 30 seconds.

好ましいポリエステルフィルムとしては、未延伸ポリエステルフィルム、一軸延伸ポリエステルフィルムまたは二軸延伸ポリエステルフィルムである。   A preferable polyester film is an unstretched polyester film, a uniaxially stretched polyester film, or a biaxially stretched polyester film.

このうちフィルムの押出し方向(縦方向)に一軸延伸した縦延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。   Of these, a longitudinally stretched polyester film uniaxially stretched in the film extrusion direction (longitudinal direction) is particularly preferred.

〈基材への下引き層〉
ポリエステルフィルム基材においては、各種の機能を持たせるために易接着処理や下引き層塗布を行うことができる。
<Undercoat layer on substrate>
In the polyester film base material, easy adhesion treatment or undercoat layer coating can be performed in order to have various functions.

易接着処理としては、コロナ放電処理や火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。   Examples of the easy adhesion treatment include corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, and ultraviolet irradiation treatment.

下引き層としては、ゼラチンやラテックスを含む層等をポリエステルフィルム支持体上に設けること等が好ましい。その中でも特開平7−191433号段落番号0044〜0116に記載の帯電防止下塗り層が好ましく用いられる。又特開平7−20596号公報段落番号0031〜0073に記載の導電性ポリマー含有層や特開平7−20596号公報段落番号0074〜0081に記載の金属酸化物含有層のような導電性層を設けることが好ましい。導電性層はポリエステルフィルム支持体上であればいずれの側に塗設されてもよいが、好ましくは支持体に対し画像形成機能層の反対側に塗設するのが好ましい。この導電性層を設けると帯電性が改良されてゴミなどの付着が減少し、印刷時の白抜け故障などが大幅に減少する。   As the undercoat layer, a layer containing gelatin or latex is preferably provided on the polyester film support. Among them, the antistatic undercoat layer described in paragraph Nos. 0044 to 0116 of JP-A-7-191433 is preferably used. Further, a conductive layer such as a conductive polymer-containing layer described in paragraph Nos. 0031 to 0073 of JP-A-7-20596 or a metal oxide-containing layer described in paragraph Nos. 0074 to 0081 of JP-A-7-20596 is provided. It is preferable. The conductive layer may be coated on either side as long as it is on the polyester film support, but it is preferably coated on the opposite side of the image forming functional layer with respect to the support. When this conductive layer is provided, the chargeability is improved, the adhesion of dust and the like is reduced, and white spots failure during printing is greatly reduced.

《本発明に係る親水性層》
本発明の平版印刷版材料および平版印刷版材料の製造方法は、前述の基材(基材への下引き層を有していても良い)上に25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である本発明に係る水溶性化合物を含有する本発明に係る親水性層塗布液を塗布し、乾燥して本発明に係る親水性層を形成した後、画像形成層塗布液を塗布し、乾燥して画像形成層を形成することを特徴とする。
<< Hydrophilic layer according to the present invention >>
The lithographic printing plate material and the method for producing the lithographic printing plate material of the present invention have a solubility in 100 g of water of 25 ° C. on the aforementioned base material (which may have an undercoat layer on the base material) of 0. The hydrophilic layer coating solution according to the present invention containing 2 g or more and 4.0 g or less of the water-soluble compound according to the present invention is applied and dried to form the hydrophilic layer according to the present invention. A liquid is applied and dried to form an image forming layer.

本発明に係る親水性層は、25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である本発明に係る水溶性化合物を含有する。   The hydrophilic layer according to the present invention contains the water-soluble compound according to the present invention whose solubility in 100 g of water at 25 ° C. is 0.2 g or more and 4.0 g or less.

本発明に係る水溶性化合物の、25℃の水100gへの溶解度は0.2g以上4.0g以下であり、好ましくは0.3g以上3.0g以下であり、より好ましくは0.5g以上2.0g以下である。0.2g未満であると水への溶解性が低すぎるため、外圧や引っかき傷を受けて画像層形成層成分が固着した領域を機上現像性させることができず、耐傷防止効果を発現し難くなる。一方、4g以上であると水への溶解性が高すぎるため、乾燥工程において親水性層の表面に配向した脆弱面を形成することができず、耐傷防止効果を発現し難くなる。因って、本発明に係る水溶性化合物の、25℃の水100gへの溶解度は0.2g以上4.0g以下である。   The solubility of the water-soluble compound according to the present invention in 100 g of water at 25 ° C. is from 0.2 g to 4.0 g, preferably from 0.3 g to 3.0 g, more preferably from 0.5 g to 2 g. 0.0 g or less. If it is less than 0.2 g, the solubility in water is too low, so that the area where the image layer forming layer component is fixed due to external pressure or scratches cannot be made on-machine developability, and the effect of preventing scratches is exhibited. It becomes difficult. On the other hand, if it is 4 g or more, the solubility in water is too high, so that a fragile surface oriented on the surface of the hydrophilic layer cannot be formed in the drying step, and it is difficult to exhibit the effect of preventing scratches. Therefore, the solubility of the water-soluble compound according to the present invention in 100 g of water at 25 ° C. is 0.2 g or more and 4.0 g or less.

本発明に係る25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である水溶性化合物とは、「25℃の蒸留水100g中への溶解量が0.2g以上4.0g以下である水溶性化合物」を意味する。   The water-soluble compound having a solubility in 100 g of 25 ° C. water of 0.2 to 4.0 g according to the present invention means “the amount dissolved in 100 g of distilled water at 25 ° C. is 0.2 to 4.0 g. Means a water-soluble compound.

本発明に係る「25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である水溶性化合物」の「25℃の蒸留水100g中への溶解度」とは、下記のごとくして測定し求められるものとする。   The “solubility in 100 g of distilled water at 25 ° C.” of the “water-soluble compound having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 0.2 g to 4.0 g” according to the present invention is measured as follows. And shall be required.

(測定方法)
本発明に係る溶解度の測定は、恒温槽をもちいて25℃一定に保った蒸留水100g中に、攪拌下、水溶性化合物を、溶解しなくなるまで徐々に添加し飽和水溶液になる添加量(g)から算出されるものである。
(Measuring method)
The solubility measurement according to the present invention is carried out by adding a water-soluble compound under stirring to 100 g of distilled water kept constant at 25 ° C. using a thermostatic bath until the solution no longer dissolves (g) ).

本発明に係る25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4g以下である水溶性化合物としては、無機金属塩や有機の酸、水溶性色素などがあげられる。これらのうち、本発明においては硫酸カルシウム、安息香酸、アセトアニリド、フマル酸、炭酸カルシウム、硫酸銀、フタル酸、臭化鉛(II)、塩化鉛(II)、ピクリン酸、炭酸リチウム、クロム酸カルシウム、クロム酸マグネシウム、硝酸カリウム、硝酸アルミニウム、炭酸水素カリウム、硝酸鉄(III)、硫酸亜鉛、塩化アルミニウム、グリシン、臭化バリウム、クロム酸カリウム、ヨウ化セシウム、炭酸水素アンモニウム、硫酸リチウム、硫酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸マグネシウム、クロム酸アンモニウム、硫化ナトリウム、硫酸ナトリウム、硫酸鉄(II)、硝酸鉛、塩化バリウム、ヘキサシアノ鉄(III)酸カリウム、硝酸セシウム、二酸化硫黄、硫酸銅(II)、シュウ酸、炭酸水素ナトリウム、硫酸アルミニウム、フッ化ナトリウム、ホウ酸、ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム、塩素酸カリウム、硫酸カリウム、硫化バリウム、シュウ酸水素カリウム、二クロム酸カリウム、過マンガン酸カリウム、硝酸バリウム、アセチルサリチル酸、シュウ酸ナトリウム、水酸化バリウム、食用青色2号(Indigo Carmine)、食用赤色106号(Acid Red)等が好ましい。これらの化合物は、単独または2種以上を併用しても良い。   Examples of the water-soluble compound having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 0.2 to 4 g according to the present invention include inorganic metal salts, organic acids, and water-soluble dyes. Of these, in the present invention, calcium sulfate, benzoic acid, acetanilide, fumaric acid, calcium carbonate, silver sulfate, phthalic acid, lead (II) bromide, lead (II) chloride, picric acid, lithium carbonate, calcium chromate , Magnesium chromate, potassium nitrate, aluminum nitrate, potassium bicarbonate, iron (III) nitrate, zinc sulfate, aluminum chloride, glycine, barium bromide, potassium chromate, cesium iodide, ammonium bicarbonate, lithium sulfate, magnesium sulfate, Sodium carbonate, magnesium carbonate, ammonium chromate, sodium sulfide, sodium sulfate, iron (II) sulfate, lead nitrate, barium chloride, potassium hexacyanoferrate (III), cesium nitrate, sulfur dioxide, copper (II) sulfate, oxalic acid , Sodium bicarbonate, aluminum sulfate, sodium fluoride Lithium, boric acid, potassium hexacyanoferrate (II), potassium chlorate, potassium sulfate, barium sulfide, potassium hydrogen oxalate, potassium dichromate, potassium permanganate, barium nitrate, acetylsalicylic acid, sodium oxalate, hydroxide Barium, food blue No. 2 (Indigo Carmine), food red No. 106 (Acid Red) and the like are preferable. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る水溶性化合物を含有する塗布液の溶媒としては水が用いられ、必要に応じ、アルコールなどの有機溶剤を加えてもよい。この塗布液には、塗布性向上のために各種界面活性剤を含んでもよい。   Water is used as a solvent for the coating solution containing the water-soluble compound according to the present invention, and an organic solvent such as alcohol may be added as necessary. This coating solution may contain various surfactants for improving coating properties.

本発明に係る水溶性化合物の親水性層塗布液に対する含有量としては、0.01質量%〜3.0質量%が好ましく、特に0.05質量%〜2.0質量%が好ましい。0.01質量%以上であると、本発明に係る水溶性化合物が本発明に係る親水性層と画像層の界面で、耐傷防止効果を奏す脆弱面を均一に形成可能となり好ましい。一方、3.0質量%を超えると、耐刷性の劣化を引き起こすため好ましくない。因って、本発明に係る水溶性化合物の親水性層塗布液に対する含有量としては、0.01質量%〜3.0質量%が好ましい。   As content with respect to the hydrophilic layer coating liquid of the water-soluble compound which concerns on this invention, 0.01 mass%-3.0 mass% are preferable, and 0.05 mass%-2.0 mass% are especially preferable. When the content is 0.01% by mass or more, the water-soluble compound according to the present invention is preferable because a fragile surface exhibiting a scratch resistance preventing effect can be uniformly formed at the interface between the hydrophilic layer and the image layer according to the present invention. On the other hand, if it exceeds 3.0% by mass, the printing durability is deteriorated. Therefore, as content with respect to the hydrophilic layer coating liquid of the water-soluble compound which concerns on this invention, 0.01 mass%-3.0 mass% are preferable.

本発明においては、基材上に本発明に係る親水性層を設ける。このことで本発明に特に好適な親水性表面を付与することができる。   In the present invention, the hydrophilic layer according to the present invention is provided on a substrate. This can give a hydrophilic surface particularly suitable for the present invention.

この場合、本発明に係る親水性層は、多孔質構造を有することが好ましい。   In this case, the hydrophilic layer according to the present invention preferably has a porous structure.

多孔質構造を有する本発明に係る親水性層を形成するためには、下記に記載の親水性マトリクスを形成する素材が好ましく用いられる。   In order to form the hydrophilic layer according to the present invention having a porous structure, the following materials for forming the hydrophilic matrix are preferably used.

親水性マトリクスを形成する素材としては、金属酸化物が好ましい。   As a material for forming the hydrophilic matrix, a metal oxide is preferable.

(金属酸化物)
金属酸化物としては、金属酸化物微粒子を含むことが好ましく、例えば、コロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物のゾルが挙げられる。該金属酸化物微粒子の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他の何れの形態でも良く、平均粒径としては、3〜100nmの範囲が好ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併用することもできる。又、粒子表面に表面処理がなされていても良い。
(Metal oxide)
The metal oxide preferably contains fine metal oxide particles, and examples thereof include colloidal silica, alumina sol, titania sol, and other metal oxide sols. The form of the metal oxide fine particles may be spherical, needle-like, feather-like or any other form. The average particle diameter is preferably in the range of 3 to 100 nm, and several kinds of metal oxides having different average particle diameters are used. Fine particles can be used in combination. The surface of the particles may be surface treated.

上記金属酸化物微粒子は、その造膜性を利用して結合剤としての使用が可能である。有機の結合剤を用いるよりも親水性の低下が少なく、本発明に係る親水性層への使用に適している。   The metal oxide fine particles can be used as a binder by utilizing the film forming property. The decrease in hydrophilicity is less than when an organic binder is used, and it is suitable for use in the hydrophilic layer according to the present invention.

(コロイダルシリカ)
中でも、コロイダルシリカが特に好ましく使用できる。コロイダルシリカは、比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高いという利点があり、良好な強度を得ることができる。コロイダルシリカとしては、後述するネックレス状コロイダルシリカ、平均粒径20nm以下の微粒子コロイダルシリカを含むことが好ましく、更に、コロイダルシリカはコロイド溶液としてアルカリ性を呈することが好ましい。
(Colloidal silica)
Among these, colloidal silica can be particularly preferably used. Colloidal silica has the advantage of high film-forming properties even under relatively low temperature drying conditions, and can provide good strength. The colloidal silica preferably includes necklace-like colloidal silica, which will be described later, and fine particle colloidal silica having an average particle size of 20 nm or less, and the colloidal silica preferably exhibits alkalinity as a colloidal solution.

ネックレス状コロイダルシリカとは、一次粒子径がnmのオーダーである球状シリカの水分散系の総称であり、一次粒粒子径が10〜50nmの球状コロイダルシリカが50〜400nmの長さに結合した「パールネックレス状」のコロイダルシリカを意味する。   Necklace-shaped colloidal silica is a general term for an aqueous dispersion of spherical silica whose primary particle diameter is of the order of nm, and spherical colloidal silica having a primary particle diameter of 10 to 50 nm bonded to a length of 50 to 400 nm. It means colloidal silica in the form of “pearl necklace”.

パールネックレス状(即ち真珠ネックレス状)とは、コロイダルシリカのシリカ粒子が連なって結合した状態のイメージが、真珠ネックレスの様な形状をしていることを意味している。   The pearl necklace shape (that is, a pearl necklace shape) means that the image of the state in which the silica particles of colloidal silica are connected and linked has a shape like a pearl necklace.

本発明において、親水性層マトリクス構造の多孔質化材として、粒径が1μm未満の多孔質金属酸化物粒子を含有することができる。   In the present invention, porous metal oxide particles having a particle size of less than 1 μm can be contained as a porous material having a hydrophilic layer matrix structure.

(多孔質金属酸化物粒子)
多孔質金属酸化物粒子としては、以下に記載の多孔質シリカ、多孔質アルミノシリケート粒子又は、ゼオライト粒子を好ましく用いることができる。
(Porous metal oxide particles)
As the porous metal oxide particles, the following porous silica, porous aluminosilicate particles, or zeolite particles can be preferably used.

(多孔質シリカ、多孔質アルミノシリケート粒子)
多孔質シリカ粒子は、一般に湿式法又は、乾式法により製造される。湿式法では、ケイ酸塩水溶液を中和して得られるゲルを乾燥、粉砕するか、もしくは中和して析出した沈降物を粉砕することで得ることができる。乾式法では、四塩化珪素を水素と酸素と共に燃焼し、シリカを析出することで得られる。これらの粒子は製造条件の調整により、多孔性や粒径を制御することが可能である。多孔質シリカ粒子としては、湿式法のゲルから得られるものが特に好ましい。
(Porous silica, porous aluminosilicate particles)
The porous silica particles are generally produced by a wet method or a dry method. In the wet method, the gel obtained by neutralizing the aqueous silicate solution can be obtained by drying and pulverizing, or by pulverizing the precipitate deposited by neutralization. In the dry method, silicon tetrachloride is burned together with hydrogen and oxygen to obtain silica. These particles can be controlled in their porosity and particle size by adjusting the production conditions. As the porous silica particles, those obtained from a wet gel are particularly preferable.

多孔質アルミノシリケート粒子は、例えば、特開平10−71764号公報に記載されている方法により製造される。即ち、アルミニウムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として加水分解法により合成された非晶質な複合体粒子である。粒子中のアルミナとシリカの比率は1:4〜4:1の範囲で合成することが可能である。又、製造時にその他の金属のアルコキシドを添加して3成分以上の複合体粒子として製造したものも本発明に使用できる。これらの複合体粒子も製造条件の調整により多孔性や粒径を制御することが可能である。   The porous aluminosilicate particles are produced, for example, by the method described in JP-A-10-71764. That is, amorphous composite particles synthesized by hydrolysis using aluminum alkoxide and silicon alkoxide as main components. The ratio of alumina to silica in the particles can be synthesized in the range of 1: 4 to 4: 1. In addition, those produced as composite particles of three or more components by adding an alkoxide of another metal during production can also be used in the present invention. These composite particles can also control the porosity and particle size by adjusting the production conditions.

粒子の多孔性としては、細孔容積で0.5ml/g以上であることが好ましく、0.8ml/g以上であることがより好ましく、1.0〜2.5ml/gであることが更に好ましい。細孔容積は、塗膜の保水性と密接に関連しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、細孔容積が0.5ml/g以上であることが印刷性能上好ましく、2.5ml/g以下であることが粒子自体が非常に脆くなることがなく塗膜の耐久性上好ましい。   The porosity of the particles is preferably 0.5 ml / g or more in terms of pore volume, more preferably 0.8 ml / g or more, and further preferably 1.0 to 2.5 ml / g. preferable. The pore volume is closely related to the water retention of the coating film. The larger the pore volume, the better the water retention, the less likely to get dirty during printing, and the larger the water volume latitude, but the pore volume is 0.5 ml. / G or more is preferable from the viewpoint of printing performance, and 2.5 ml / g or less is preferable from the viewpoint of durability of the coating film because the particles themselves do not become very brittle.

(細孔容積の測定方法)
ここで、上記の細孔容積の測定は、オートソーブ−1(カンタクローム社製)を使用し、定容法を用いた窒素吸着測定により、粉体の空隙が窒素により、充填されていると仮定して相対圧力が0.998における窒素吸着量から算出されるものである。
(Measurement method of pore volume)
Here, the pore volume is measured by using Autosorb-1 (manufactured by Cantachrome) and assuming that the voids of the powder are filled with nitrogen by nitrogen adsorption measurement using a constant volume method. Thus, the relative pressure is calculated from the nitrogen adsorption amount at 0.998.

(ゼオライト粒子)
ゼオライトは、結晶性のアルミノケイ酸塩であり、細孔径が0.3nm〜1nmの規則正しい三次元網目構造の空隙を有する多孔質体である。
(Zeolite particles)
Zeolite is a crystalline aluminosilicate, and is a porous body having regular three-dimensional network voids having a pore diameter of 0.3 nm to 1 nm.

又、本発明に係る親水性層を構成する親水性層マトリクス構造は、層状粘土鉱物粒子を含有することができる。該層状鉱物粒子としては、例えば、カオリナイト、ハロイサイト、タルク、スメクタイト(モンモリロナイト、バイデライト、ヘクトライト、サボナイト等)、バーミキュライト、マイカ(雲母)、クロライトといった粘土鉱物及び、ハイドロタルサイト、層状ポリケイ酸塩(カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガディアイト、ケニヤアイト等)等が挙げられる。特に、単位層(ユニットレイヤー)の電荷密度が高いほど極性が高く、親水性も高いと考えられる。好ましい電荷密度としては0.25以上、更に好ましくは0.6以上である。このような電荷密度を有する層状鉱物としては、スメクタイト(電荷密度0.25〜0.6;陰電荷)、バーミキュライト(電荷密度0.6〜0.9;陰電荷)等が挙げられる。特に、合成フッ素雲母は粒径等安定した品質のものを入手することができ好ましい。又、合成フッ素雲母の中でも、膨潤性のものが好ましく、自由膨潤であるものが更に好ましい。   Moreover, the hydrophilic layer matrix structure which comprises the hydrophilic layer which concerns on this invention can contain a layered clay mineral particle. Examples of the layered mineral particles include kaolinite, halloysite, talc, smectite (montmorillonite, beidellite, hectorite, sabonite, etc.), clay minerals such as vermiculite, mica (mica), chlorite, hydrotalcite, layered polysilicic acid. Examples thereof include salts (kanemite, macatite, ialite, magadiite, kenyaite, etc.). In particular, the higher the charge density of the unit layer (unit layer), the higher the polarity and the higher the hydrophilicity. The charge density is preferably 0.25 or more, more preferably 0.6 or more. Examples of the layered mineral having such a charge density include smectite (charge density 0.25 to 0.6; negative charge), vermiculite (charge density 0.6 to 0.9; negative charge) and the like. In particular, synthetic fluoromica is preferable because it can be obtained with stable quality such as particle size. Further, among the synthetic fluorine mica, those that are swellable are preferable, and those that are free swell are more preferable.

又、上記の層状鉱物のインターカレーション化合物(ピラードクリスタル等)や、イオン交換処理を施したもの、表面処理(シランカップリング処理、有機バインダとの複合化処理等)を施したものも使用することができる。   Also used are intercalation compounds of the above-mentioned layered minerals (pillar crystals, etc.), those subjected to ion exchange treatment, and those subjected to surface treatment (silane coupling treatment, compounding treatment with organic binder, etc.) can do.

平板状層状鉱物粒子のサイズとしては、層中に含有されている状態で(膨潤工程、分散剥離工程を経た場合も含めて)、平均粒径(粒子の最大長)が1μm未満であり、平均アスペクト比が50以上であることが好ましい。粒子サイズが上記範囲にある場合、薄層状粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜に付与され、クラックが入りにくく乾燥状態で強靭な塗膜とすることができる。又、粒子物を多く含有する塗布液においては、層状粘土鉱物の増粘効果によって、粒子物の沈降を抑制することができる。粒子径が上記範囲より小さいことで、塗膜の均一性増加による強度の均一性増加上好ましい。又、アスペクト比が上記範囲以上であることで、添加量に対する平板状の粒子数の増加、増粘性が増加による、粒子物の沈降抑制効果の増加上好ましい。   As the size of the flat lamellar mineral particles, the average particle diameter (maximum length of the particles) is less than 1 μm in the state of being contained in the layer (including the case where the swelling process and the dispersion peeling process have been performed). The aspect ratio is preferably 50 or more. When the particle size is in the above range, the continuity and flexibility in the planar direction, which are the characteristics of the thin layered particles, are imparted to the coating film, and it is difficult for cracks to occur, and a tough coating film can be obtained in a dry state. Moreover, in the coating liquid containing many particulate matters, sedimentation of particulate matter can be suppressed by the thickening effect of the layered clay mineral. When the particle diameter is smaller than the above range, it is preferable for increasing the uniformity of strength due to the increase in uniformity of the coating film. Moreover, it is preferable that the aspect ratio is not less than the above range in terms of an increase in the particle sedimentation suppression effect due to an increase in the number of tabular grains with respect to the addition amount and an increase in viscosity.

層状鉱物粒子の含有量としては、層全体の0.1〜30質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましい。特に膨潤性合成フッ素雲母やスメクタイトは少量の添加でも効果が見られるため好ましい。層状鉱物粒子は、塗布液に粉体で添加してもよいが、簡便な調液方法(メディア分散等の分散工程を必要としない)でも良好な分散度を得るために、層状鉱物粒子を単独で水に膨潤させたゲルを調製した後、塗布液に添加することが好ましい。   The content of the layered mineral particles is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass based on the entire layer. In particular, swellable synthetic fluorinated mica and smectite are preferable because they are effective even when added in a small amount. The layered mineral particles may be added as a powder to the coating solution, but in order to obtain a good degree of dispersion even with a simple preparation method (no need for a dispersion step such as media dispersion), the layered mineral particles are used alone. It is preferable to prepare the gel swollen in water and add it to the coating solution.

本発明に係る親水性層を構成する親水性層マトリクスにはその他の添加素材として、ケイ酸塩水溶液も使用することができる。ケイ酸Na、ケイ酸K、ケイ酸Liといったアルカリ金属ケイ酸塩が好ましく、そのSiO2/M2O比率はケイ酸塩を添加した際の塗布液全体のpHが13を超えない範囲となるように選択することが無機粒子の溶解を防止する上で好ましい。 In the hydrophilic layer matrix constituting the hydrophilic layer according to the present invention, a silicate aqueous solution can also be used as another additive material. Alkali metal silicates such as silicate Na, silicate K, and silicate Li are preferred, and the SiO 2 / M 2 O ratio is in a range where the pH of the entire coating solution does not exceed 13 when silicate is added. It is preferable to select such that the inorganic particles are not dissolved.

又、金属アルコキシドを用いた、いわゆるゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーも使用することができる。ゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマーの形成については、例えば、「ゾル−ゲル法の応用」(作花済夫著/アグネ承風社発行)に記載されているか、又は本書に引用されている文献に記載されている公知の方法を使用することができる。   Further, an inorganic polymer or an organic-inorganic hybrid polymer by a so-called sol-gel method using a metal alkoxide can also be used. The formation of an inorganic polymer or an organic-inorganic hybrid polymer by the sol-gel method is described in, for example, “Application of the sol-gel method” (Sakuo Sakuo / Agne Jofusha) or is described in this document. Known methods described in the cited documents can be used.

又、本発明では、水溶性樹脂を含有してもよい。水溶性樹脂としては、例えば、多糖類、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂が挙げられるが、本発明に用いられる水溶性樹脂としては、多糖類を用いることが好ましい。   In the present invention, a water-soluble resin may be contained. Examples of the water-soluble resin include polysaccharides, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol (PEG), polyvinyl ether, styrene-butadiene copolymer, conjugated diene polymer latex of methyl methacrylate-butadiene copolymer. Examples thereof include resins such as acrylic polymer latex, vinyl polymer latex, polyacrylamide, and polyvinylpyrrolidone. As the water-soluble resin used in the present invention, it is preferable to use a polysaccharide.

多糖類としては、デンプン類、セルロース類、ポリウロン酸、プルランなどが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。これは、本発明に係る親水性層に多糖類を含有させることにより、該親水性層の表面形状を好ましい状態形成する効果が得られるためである。   As polysaccharides, starches, celluloses, polyuronic acids, pullulans and the like can be used, but cellulose derivatives such as methyl cellulose salts, carboxymethyl cellulose salts, hydroxyethyl cellulose salts are particularly preferable, and sodium salts and ammonium salts of carboxymethyl cellulose are preferable. More preferred. This is because an effect of forming the surface shape of the hydrophilic layer in a preferable state can be obtained by incorporating the polysaccharide into the hydrophilic layer according to the present invention.

本発明に係る親水性層の表面は、PS版のアルミ砂目のように0.1〜20μmピッチの凹凸構造を有することが好ましく、この凹凸により保水性や画像部の保持性が向上する。このような凹凸構造は、親水性層マトリクスに適切な粒径のフィラーを適切な量含有させて形成することも可能であるが、本発明に係る親水性層の塗布液に前述のアルカリ性コロイダルシリカと前述の水溶性多糖類とを含有させ、該親水性層を塗布、乾燥させる際に相分離を生じさせて形成することがより良好な印刷適性を有する構造を得ることができ、好ましい。   The surface of the hydrophilic layer according to the present invention preferably has a concavo-convex structure with a pitch of 0.1 to 20 μm like the aluminum grain of the PS plate, and this concavo-convex improves water retention and image area retention. Such a concavo-convex structure can be formed by adding an appropriate amount of a filler having an appropriate particle size to the hydrophilic layer matrix, but the above-mentioned alkaline colloidal silica is applied to the hydrophilic layer coating liquid according to the present invention. When the hydrophilic layer is applied and dried, a structure having better printability can be obtained, which is preferable.

凹凸構造の形態(ピッチ及び表面粗さなど)は、アルカリ性コロイダルシリカの種類及び添加量、水溶性多糖類の種類及び添加量、その他添加材の種類及び添加量、塗布液の固形分濃度、ウエット膜厚、乾燥条件等で適宜コントロールすることが可能である。   The shape of the concavo-convex structure (such as pitch and surface roughness) is determined by the type and amount of alkaline colloidal silica, the type and amount of water-soluble polysaccharides, the type and amount of other additives, the solid content concentration of the coating solution, and the wetness. It is possible to appropriately control the film thickness, drying conditions, and the like.

本発明において、親水性マトリクス構造部に添加される水溶性樹脂は、少なくともその一部が水溶性の状態のまま、水に溶出可能な状態で存在することが好ましい。水溶性の素材であっても、架橋剤等によって架橋し、水に不溶の状態になると、その親水性は低下して印刷適性を劣化させる懸念があるためである。又、さらにカチオン性樹脂を含有しても良く、カチオン性樹脂としては、例えば、ポリエチレンアミン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアルキレンポリアミン類又はその誘導体、第3級アミノ基や第4級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は、微粒子状の形態で添加しても良く、例えば、特開平6−161101号公報に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げられる。   In the present invention, the water-soluble resin added to the hydrophilic matrix structure part is preferably present in a state where at least a part thereof is water-soluble and can be eluted in water. This is because even if it is a water-soluble material, when it is cross-linked by a cross-linking agent or the like and becomes insoluble in water, its hydrophilicity is lowered and printability may be deteriorated. Further, it may further contain a cationic resin. Examples of the cationic resin include polyalkylene polyamines such as polyethylene amine and polypropylene polyamine or derivatives thereof, tertiary amino groups and quaternary ammonium groups. Examples thereof include acrylic resin and diacrylamine. The cationic resin may be added in the form of fine particles, and examples thereof include a cationic microgel described in JP-A-6-161101.

又、本発明に係る親水性層を塗設する為に用いられる塗布液には、塗布性改善等の目的で水溶性の界面活性剤を含有させることができ、Si系又は、F系等の界面活性剤を使用することができるが、特にSi元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。該界面活性剤の含有量は、本発明に係る親水性層全体(塗布液としては固形分)の0.01〜3質量%が好ましく、0.03〜1質量%が更に好ましい。   In addition, the coating liquid used for coating the hydrophilic layer according to the present invention can contain a water-soluble surfactant for the purpose of improving the coating property, such as Si-based or F-based. A surfactant can be used, but it is particularly preferable to use a surfactant containing Si element because there is no fear of causing printing stains. The content of the surfactant is preferably from 0.01 to 3% by mass, more preferably from 0.03 to 1% by mass, based on the entire hydrophilic layer according to the present invention (solid content as the coating solution).

又、本発明に係る親水性層には、リン酸塩を含むことができる。本発明では、本発明に係る親水性層の塗布液がアルカリ性であることが好ましいため、リン酸塩としてはリン酸三ナトリウムやリン酸水素二ナトリウムとして添加することが好ましい。リン酸塩を添加することで、印刷時の網の目開きを改善する効果が得られる。リン酸塩の添加量としては、水和物を除いた有効量として、0.1〜5質量%が好ましく、0.5〜2質量%が更に好ましい。   Further, the hydrophilic layer according to the present invention may contain a phosphate. In this invention, since it is preferable that the coating liquid of the hydrophilic layer which concerns on this invention is alkaline, it is preferable to add it as trisodium phosphate or disodium hydrogenphosphate as a phosphate. By adding phosphate, the effect of improving the mesh opening at the time of printing can be obtained. The addition amount of phosphate is preferably 0.1 to 5% by mass, and more preferably 0.5 to 2% by mass as an effective amount excluding hydrate.

このように本発明に係る親水性層を設ける場合の本発明に係る親水性層の膜厚としては、0.01〜50μmが好ましく、さらに0.2〜10μmが好ましく、特に0.5〜3μmが好ましい。   Thus, when providing the hydrophilic layer which concerns on this invention, as a film thickness of the hydrophilic layer which concerns on this invention, 0.01-50 micrometers is preferable, 0.2-10 micrometers is more preferable, Especially 0.5-3 micrometers Is preferred.

(塗布)
本発明に係る親水性層の塗布液を塗布する方法としては、スライド型コーターを用いる方法、カーテン塗布方式、ワイヤーバー方式、グラビアコーティング、押し出しコーティング方式、などが挙げられるが、ワイヤーバーで塗布する方法が好ましく用いられる。
(Application)
Examples of the method of applying the hydrophilic layer coating liquid according to the present invention include a method using a slide coater, a curtain coating method, a wire bar method, a gravure coating, an extrusion coating method, and the like, and the coating is performed with a wire bar. The method is preferably used.

(乾燥)
本発明の製造方法は、上記のように基材上に本発明に係る水溶性化合物を含有する親水性層塗布液を塗布し、乾燥する工程を含む。
(Dry)
The manufacturing method of this invention includes the process of apply | coating the hydrophilic layer coating liquid containing the water-soluble compound which concerns on this invention on a base material as mentioned above, and drying.

乾燥温度としては、30℃以上であることが好ましく、特に40℃以上であることが好ましい。   The drying temperature is preferably 30 ° C. or higher, and particularly preferably 40 ° C. or higher.

乾燥時間としては10秒間〜5分間の範囲が好ましく、20〜2分間の範囲がより好ましい。また、乾燥温度と乾燥時間との組み合わせによっては、基材に熱ダメージを与える可能性があるため、基材が熱ダメージを受けない条件とすることが好ましい。   The drying time is preferably in the range of 10 seconds to 5 minutes, more preferably in the range of 20 to 2 minutes. Further, depending on the combination of the drying temperature and the drying time, there is a possibility that the base material may be thermally damaged, and therefore it is preferable that the base material is not damaged.

本発明に係る親水性層を有する本発明の平版印刷版材料は上記の工程を経て製造されるが、耐傷性(耐傷防止性)に優れ、且つ、耐刷性に優れるのは、以下のような理由であると推測される。   The lithographic printing plate material of the present invention having a hydrophilic layer according to the present invention is produced through the above-described steps, and has excellent scratch resistance (scratch resistance) and excellent printing durability as follows. This is presumed to be the reason.

本発明に係る水溶性化合物は、水への溶解度が低いため本発明に係る親水性層塗布液(水溶液)を塗布後、乾燥工程において塗布溶媒である水の蒸発工程の途中で飽和濃度に達するため、その段階で本発明に係る親水性層塗膜中で析出が生じる。さらに乾燥を進行させると、析出した本発明に係る水溶性化合物が本発明に係る親水性層の表面に配向した状態が形成される。このような本発明に係る親水性層の表面上にさらに画像形成層塗布液を塗布乾燥することで本発明の平版印刷版材料が製造される。   Since the water-soluble compound according to the present invention has low solubility in water, it reaches a saturation concentration in the course of evaporation of water as a coating solvent in the drying process after applying the hydrophilic layer coating solution (aqueous solution) according to the present invention. Therefore, precipitation occurs in the hydrophilic layer coating film according to the present invention at that stage. When drying further proceeds, a state is formed in which the deposited water-soluble compound according to the present invention is oriented on the surface of the hydrophilic layer according to the present invention. The lithographic printing plate material of the present invention is produced by further coating and drying an image forming layer coating solution on the surface of the hydrophilic layer according to the present invention.

このプロセスにより、本発明に係る親水性層の表面と画像形成層との界面に、水に難溶性でありながら水溶性である化合物が析出し、例えば微粒子状態で存在した脆弱面を形成する。すなわち、本発明に係る親水性層の表面近傍は、本発明に係る水溶性化合物が相対的に高濃度な状態となる。このような状態の平版印刷版材料は、印刷開始直後に湿し水が付着した際に、本発明に係る親水性層の表面の一部が容易に除去されうる。この界面の本発明に係る水溶性化合物が本発明に係る親水性層の表面に存在することで形成される脆弱領域が、画像形成層表面が外圧や引っかき傷を受けて画像層形成層成分が固着した領域を、容易に機上現像されうる(耐傷性(耐傷防止性)に優れる)ようにさせることができるものと推測される。さらには、この界面の本発明に係る水溶性化合物は、一般的に中間層と呼ばれるような連続的な層を形成していないため、画像形成層の加熱された部分の熱融着を妨げず、画像形成に必要な露光エネルギー量を増加させることなく、良好な耐刷性を有する平版印刷版材料を作製することができるものと推測される。   By this process, a compound that is hardly soluble in water but water-soluble precipitates at the interface between the surface of the hydrophilic layer according to the present invention and the image forming layer, and forms, for example, a fragile surface existing in a fine particle state. That is, in the vicinity of the surface of the hydrophilic layer according to the present invention, the water-soluble compound according to the present invention is in a relatively high concentration state. In the lithographic printing plate material in such a state, a part of the surface of the hydrophilic layer according to the present invention can be easily removed when dampening water adheres immediately after the start of printing. The fragile region formed by the presence of the water-soluble compound according to the present invention at the interface on the surface of the hydrophilic layer according to the present invention causes the surface of the image forming layer to be subjected to external pressure or scratches, so that the image layer forming layer component is It is presumed that the fixed region can be easily developed on-machine (excellent in scratch resistance (scratch resistance)). Furthermore, since the water-soluble compound according to the present invention at this interface does not form a continuous layer generally called an intermediate layer, it does not interfere with heat fusion of the heated portion of the image forming layer. It is presumed that a lithographic printing plate material having good printing durability can be produced without increasing the amount of exposure energy necessary for image formation.

《画像形成層》
本発明に係る画像形成層は、上述の本発明に係る親水性層を設けた後、画像形成層塗布液を塗設して設けられる。
<Image forming layer>
The image forming layer according to the present invention is provided by coating the image forming layer coating liquid after the hydrophilic layer according to the present invention is provided.

本発明に係る画像形成層は、画像様露光あるいは画像様加熱により画像を形成しうる層であり、印刷機上現像可能な層であることが好ましい。   The image forming layer according to the present invention is a layer capable of forming an image by imagewise exposure or imagewise heating, and is preferably a layer that can be developed on a printing press.

印刷機上現像可能とは、印刷版材料を画像露光した後、特に現像処理を経ることなく、印刷機上で平版印刷の湿し水、または湿し水と印刷インキにより現像可能でそのまま印刷工程へと移行可能であることをいう。   Developable on the printing press means that the printing plate material can be developed with dampening water for lithographic printing or dampening water and printing ink on the printing press without any development processing after image exposure of the printing plate material. It can be transferred to.

画像形成層は、画像用露光あるいは、画像様加熱により、像様に加熱されて画像を形成する。   The image forming layer is heated imagewise by image exposure or imagewise heating to form an image.

像様加熱するには、直接熱源で画像様に加熱する方法、あるいはレーザーなどで、画像露光を行い、露光することにより発生する熱により加熱する方法があるが、本発明の平版印刷版材料においては、レーザー光を用いた画像露光による方法が好ましく用いられる。   For imagewise heating, there is a method of imagewise heating with a direct heat source, or a method of performing image exposure with a laser or the like and heating with heat generated by exposure. In the lithographic printing plate material of the present invention, A method using image exposure using laser light is preferably used.

画像形成層の加熱された部分は印刷時印刷インキ受容性である画像部となる。   The heated portion of the image forming layer becomes an image portion that is printing ink receptive during printing.

画像形成層は熱により変形、溶融、軟化等の変化を生じ、画像形成層を疎水化する疎水化前駆体を含有する。   The image-forming layer contains a hydrophobizing precursor that causes changes such as deformation, melting, and softening due to heat and hydrophobizes the image-forming layer.

疎水化前駆体としては、熱可塑性素材を用いるのが好ましく、熱可塑性素材としては、熱溶融性粒子あるいは熱融着性粒子が好ましく用いられる。   As the hydrophobizing precursor, a thermoplastic material is preferably used, and as the thermoplastic material, heat-meltable particles or heat-fusible particles are preferably used.

熱溶融性粒子とは、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された粒子である。物性としては、軟化点40℃以上120℃以下、融点60℃以上150℃以下であることが好ましく、軟化点40℃以上100℃以下、融点60℃以上120℃以下であることが更に好ましい。融点が60℃未満では保存性が問題であり、融点が300℃よりも高い場合はインク着肉感度が低下する。   The heat-meltable particles are particles made of a material that has a low viscosity when melted, and is generally classified as a wax, among thermoplastic materials. The physical properties are preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, a melting point of 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, more preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and a melting point of 60 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. When the melting point is less than 60 ° C., storage stability is a problem, and when the melting point is higher than 300 ° C., ink deposition sensitivity is lowered.

使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量800から10000程度のものである。又、乳化しやすくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。更には、軟化点を下げたり作業性を向上させるためにこれらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどを添加することも可能である。又、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。   Usable materials include paraffin, polyolefin, polyethylene wax, microcrystalline wax, fatty acid wax and the like. These have a molecular weight of about 800 to 10,000. In order to facilitate emulsification, these waxes can be oxidized to introduce polar groups such as hydroxyl groups, ester groups, carboxyl groups, aldehyde groups, and peroxide groups. Furthermore, in order to lower the softening point and improve the workability, these waxes are stearamide, linolenamide, laurylamide, myristamide, hardened beef fatty acid amide, palmitoamide, oleic acid amide, rice sugar fatty acid amide, palm fatty acid amide. Alternatively, methylolated products of these fatty acid amides, methylene bisstellaramide, ethylene bisstellaramide, and the like can be added. Coumarone-indene resin, rosin-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, xylene resin, ketone resin, acrylic resin, ionomer, and copolymers of these resins can also be used.

これらの中でもポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸の何れかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行なうことができる。   Among these, it is preferable to contain any of polyethylene, microcrystalline, fatty acid ester, and fatty acid. Since these materials have a relatively low melting point and a low melt viscosity, highly sensitive image formation can be performed.

又、熱溶融性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒子径は0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。   The heat-fusible particles are preferably dispersible in water, and the average particle diameter is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 3 μm.

又、熱溶融性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。   Moreover, the composition of the inside and the surface layer of the heat-meltable particles may be continuously changed, or may be coated with a different material.

被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。   As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used.

層中の熱溶融性粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がさらに好ましい。   As content of the heat-meltable particle | grains in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is more preferable.

熱融着性粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体粒子が挙げられ、高分子重合体粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は10、000〜1、000、000の範囲であることが好ましい。   Examples of heat-fusible particles include thermoplastic hydrophobic polymer particles, and there is no specific upper limit for the softening temperature of the polymer particles, but the temperature is lower than the decomposition temperature of the polymer particles. Is preferred. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000.

高分子重合体粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えば、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−(N−メチロールアクリルアミド)共重合体、ポリアクリロニトリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル(共)重合体、酢酸ビニル−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ビニルエステル(共)重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。   Specific examples of the polymer constituting the polymer particles include, for example, diene (co) polymers such as polypropylene, polybutadiene, polyisoprene, and ethylene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, Synthetic rubbers such as methyl methacrylate-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate- (2-ethylhexyl acrylate) copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, methyl acrylate- ( N-methylolacrylamide) copolymer, (meth) acrylic acid ester such as polyacrylonitrile, (meth) acrylic acid (co) polymer, polyvinyl acetate, vinyl acetate-vinyl propionate copolymer, vinyl acetate-ethylene copolymer Vinyl such as polymer Ester (co) polymer, vinyl acetate - (2-ethylhexyl acrylate) copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and copolymers thereof. Of these, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid (co) polymers, vinyl ester (co) polymers, polystyrene, and synthetic rubbers are preferably used.

又、熱融着性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒子径は機上現像性、感度などの面から0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。   The heat-fusible particles are preferably dispersible in water, and the average particle size is preferably from 0.01 to 10 μm, more preferably from the viewpoint of on-press developability and sensitivity. ~ 3 μm.

又、熱融着性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。   Further, the composition of the heat fusible particles may vary continuously between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material.

被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。層中の熱可塑性微粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がさらに好ましい。   As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used. As content of the thermoplastic fine particle in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is more preferable.

マイクロカプセルとしては、例えば特開2002−2135号や特開2002−19317号に記載されている疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。   Examples of the microcapsules include microcapsules enclosing a hydrophobic material described in JP-A No. 2002-2135 and JP-A No. 2002-19317.

マイクロカプセルは平均径で0.1〜10μmであることが好ましく、0.3〜5μmであることがより好ましく、0.5〜3μmであることがさらに好ましい。   The microcapsules preferably have an average diameter of 0.1 to 10 μm, more preferably 0.3 to 5 μm, and even more preferably 0.5 to 3 μm.

熱融着性粒子を含有する画像形成層にはさらに水溶性素材を含有することができる。   The image forming layer containing the heat-fusible particles can further contain a water-soluble material.

水溶性素材を含有することにより、印刷機上で湿し水やインクを用いて未露光部の画像形成層を除去する際に、その除去性を向上させることができる。   By including the water-soluble material, when the image forming layer in the unexposed area is removed using dampening water or ink on the printing press, the removability can be improved.

水溶性素材としては、親水性層に含有可能な素材として挙げた水溶性樹脂を用いることもできるが、画像形成層としては、糖類を用いることが好ましく、特にオリゴ糖を用いることが好ましい。   As the water-soluble material, the water-soluble resins mentioned as materials that can be contained in the hydrophilic layer can be used, but as the image forming layer, saccharides are preferably used, and oligosaccharides are particularly preferably used.

オリゴ糖は水に速やかに溶解するため、印刷装置上での未露光部の画像形成層の除去も非常に速やかとなり、特別な除去操作を意識することなく、通常のPS版の刷出し操作と同様の操作で刷出すことで除去可能であり、刷出しの損紙が増加することもない。また、オリゴ糖は親水性層の親水性を低下させる懸念もなく、親水性層の良好な印刷適性を維持することができる。   Since the oligosaccharide quickly dissolves in water, the removal of the image forming layer in the unexposed area on the printing apparatus becomes very quick, and the normal PS plate printing operation can be performed without being aware of the special removal operation. It can be removed by printing in the same operation, and there is no increase in printing waste paper. In addition, the oligosaccharide can maintain good printability of the hydrophilic layer without concern for lowering the hydrophilicity of the hydrophilic layer.

オリゴ糖は水に可溶の一般に甘みを有する結晶性物質で、数個の単糖がグリコシド結合によって脱水縮合したものである。オリゴ糖は糖をアグリコンとする一種のグリコシドであるから、酸で容易に加水分解されて単糖を生じ、生成する単糖の分子数によって二糖、三糖、四糖、五糖などに分類される。本発明におけるオリゴ糖とは、二糖〜十糖までのものをいう。   An oligosaccharide is a crystalline substance that is soluble in water and generally has a sweet taste, and is obtained by dehydrating and condensing several monosaccharides by glycosidic bonds. Oligosaccharides are a type of glycoside with sugar as an aglycon, so they are easily hydrolyzed with acid to produce monosaccharides, and are classified into disaccharides, trisaccharides, tetrasaccharides, pentasaccharides, etc., depending on the number of molecules of monosaccharides produced. Is done. The oligosaccharide in the present invention refers to those from disaccharide to decasaccharide.

オリゴ糖は通常雰囲気中では水和物として存在することが多い。又、水和物と無水物とでは融点が異なる。   Oligosaccharides often exist as hydrates in a normal atmosphere. Moreover, the melting point differs between hydrate and anhydride.

オリゴ糖の中でもトレハロースは、比較的純度の高い状態のものが工業的に安価に入手可能可能であり、水への溶解度が高いにもかかわらず、吸湿性は非常に低く、機上現像性及び保存性共に非常に良好である。   Among oligosaccharides, trehalose is commercially available in a relatively high purity state at a low cost, and despite its high solubility in water, its hygroscopicity is very low, and on-press developability and The storage stability is very good.

層中のオリゴ糖の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、10〜80質量%がさらに好ましい。   As content of the oligosaccharide in a layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 10-80 mass% is more preferable.

(光熱変換素材)
本発明に係る平版印刷版材料は、基材の画像形成層を有する側に、光熱変換素材を含有する層を有することが好ましい態様である。
(Photothermal conversion material)
The lithographic printing plate material according to the present invention preferably has a layer containing a photothermal conversion material on the side having the image forming layer of the substrate.

光熱変換素材を有する層は、画像形成層、またはその隣接層であることが好ましく、特に画像形成層に隣接する親水性層、あるいはオーバーコート層であることが好ましい。   The layer having the photothermal conversion material is preferably an image forming layer or an adjacent layer thereof, and particularly preferably a hydrophilic layer adjacent to the image forming layer or an overcoat layer.

光熱変換素材としては赤外吸収色素または顔料を用いることができる。   An infrared absorbing dye or pigment can be used as the photothermal conversion material.

(赤外吸収色素)
赤外吸収色素としては、一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。
(Infrared absorbing dye)
Examples of infrared absorbing dyes include organic dyes such as cyanine dyes, croconium dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, squalium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, which are general infrared absorbing dyes. Examples thereof include compounds, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, azo-based, thioamide-based, dithiol-based, and indoaniline-based organometallic complexes.

具体的には、特開昭63−139191号、同64−33547号、特開平1−160683号、同1−280750号、同1−293342号、同2−2074号、同3−26593号、同3−30991号、同3−34891号、同3−36093号、同3−36094号、同3−36095号、同3−42281号、同3−97589号、同3−103476号、同7−43851号、同7−102179号、特開2001−117201の各公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種または二種以上を組み合わせて用いることができる。   Specifically, JP-A-63-139191, JP-A-64-33547, JP-A-1-160683, JP-A-280750, JP-A-1-293342, JP-A-2-2074, JP-A-3-26593, 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, 3-97589, 3-103476, 7 -43851, 7-102179, JP-A-2001-117201, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。   Examples of the pigment include carbon, graphite, metal, metal oxide and the like.

カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。   As carbon, furnace black or acetylene black is particularly preferable. The particle size (d50) is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

グラファイトとしては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。   As the graphite, fine particles having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less can be used.

金属としては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。   As the metal, any metal can be used as long as the particle diameter is 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. The shape may be any shape such as a spherical shape, a piece shape, or a needle shape. Colloidal metal fine particles (Ag, Au, etc.) are particularly preferable.

金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。可視光域で黒色を呈している素材しては、黒色酸化鉄(Fe34)や、前述の二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。金属酸化物が二種以上の金属の酸化物からなる黒色複合金属酸化物であることである。具体的には、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sb、Baから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物である。これらは特開平8−27393号、同9−25126号、同9−237570号、同9−241529号、同10−231441号の各公報等に開示されている方法により製造することができる。 As the metal oxide, a material that is black in the visible light region or a material that is conductive or that is a semiconductor can be used. Examples of the material exhibiting black color in the visible light region include black iron oxide (Fe 3 O 4 ) and black mixed metal oxides containing two or more of the aforementioned metals. The metal oxide is a black complex metal oxide composed of two or more kinds of metal oxides. Specifically, it is a composite metal oxide composed of two or more metals selected from Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sb, and Ba. These can be produced by the methods disclosed in JP-A-8-27393, 9-25126, 9-237570, 9-241529, and 10-231441.

本発明に用いることができる複合金属酸化物としては、特にCu−Cr−Mn系またはCu−Fe−Mn系の複合金属酸化物であることが好ましい。Cu−Cr−Mn系の場合には、6価クロムの溶出を低減させるために、特開平8−27393号公報に開示されている処理を施すことが好ましい。これらの複合金属酸化物は添加量に対する着色、つまり光熱変換効率が良好である。これらの複合金属酸化物は平均1次粒子径が1μm以下であることが好ましく、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲にあることがより好ましい。平均1次粒子径が1μm以下とすることで、添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。但し、添加量に対する光熱変換能は粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。従って、これらの複合金属酸化物粒子は層の塗布液に添加する前に、別途公知の方法により分散して、分散液(ペースト)としておくことが好ましい。分散には適宜分散剤を使用することができる。分散剤の添加量は複合金属酸化物粒子に対して0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましい。分散剤の種類は特に限定しないが、Si元素を含むSi系界面活性剤を用いることが好ましい。   The composite metal oxide that can be used in the present invention is particularly preferably a Cu-Cr-Mn-based or Cu-Fe-Mn-based composite metal oxide. In the case of a Cu—Cr—Mn system, it is preferable to perform the treatment disclosed in JP-A-8-27393 in order to reduce the elution of hexavalent chromium. These composite metal oxides are colored with respect to the amount added, that is, have good photothermal conversion efficiency. These composite metal oxides preferably have an average primary particle size of 1 μm or less, and more preferably have an average primary particle size in the range of 0.01 to 0.5 μm. When the average primary particle diameter is 1 μm or less, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount becomes better, and when the average primary particle diameter is within the range of 0.01 to 0.5 μm, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is obtained. Better. However, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is greatly affected by the degree of dispersion of the particles, and the better the dispersion, the better. Therefore, it is preferable to disperse these composite metal oxide particles by a known method separately before adding them to the layer coating solution to prepare a dispersion (paste). A dispersing agent can be appropriately used for the dispersion. The addition amount of the dispersant is preferably 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0.1 to 2% by mass with respect to the composite metal oxide particles. Although the kind of dispersing agent is not specifically limited, it is preferable to use Si type surfactant containing Si element.

素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材としては、例えば、SbをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したIn23(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが挙げられる。また、これらの金属酸化物で芯材(BaSO4、TiO2、9Al23・2B2O、K2O・nTiO2等)を被覆したものも使用することができる。これらの粒径は0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下である。 Examples of materials that have conductivity or are semiconductors include reduced Sb-doped SnO 2 (ATO), Sn-added In 2 O 3 (ITO), TiO 2 , and TiO 2 . Examples thereof include TiO (titanium oxynitride, generally titanium black). Further, it is also possible to use those obtained by coating the core material (BaSO 4, TiO 2, 9Al 2 O 3 · 2B 2 O, K 2 O · nTiO 2 , etc.) in these metal oxides. These particle sizes are 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

特に好ましい光熱変換素材の態様としては、前記の赤外吸収色素及び金属酸化物が二種以上の金属の酸化物からなる黒色複合金属酸化物であることである。   A particularly preferable embodiment of the photothermal conversion material is that the infrared absorbing dye and the metal oxide are black complex metal oxides composed of two or more metal oxides.

これらの光熱変換素材の添加量としては、これを含む層に対して0.1〜50質量%であり、1〜30質量%が好ましく、3〜25質量%がより好ましい。   As addition amount of these photothermal conversion raw materials, it is 0.1-50 mass% with respect to the layer containing this, 1-30 mass% is preferable, and 3-25 mass% is more preferable.

《保護層》
画像形成層の上には、保護層を設けることもできる。保護層に用いる素材としては、上述の水溶性樹脂、水分散性樹脂を好ましく用いることができる。また、特開2002−19318号公報、同2002−86948号公報に記載されている親水性オーバーコート層も好ましく用いることができる。保護層の付量としては、0.01〜10g/m2であり、好ましくは0.1〜3g/m2であり、更に好ましくは0.2〜2g/m2である。
《Protective layer》
A protective layer may be provided on the image forming layer. As a material used for the protective layer, the above-mentioned water-soluble resin and water-dispersible resin can be preferably used. In addition, hydrophilic overcoat layers described in JP-A Nos. 2002-19318 and 2002-86948 can also be preferably used. The amount with the protective layer, a 0.01 to 10 g / m 2, preferably from 0.1 to 3 g / m 2, more preferably from 0.2 to 2 g / m 2.

《機上現像方法》
本発明の平版印刷版材料は、印刷機上現像可能な平版印刷版材料であることが好ましい態様である。
<On-press development method>
In a preferred embodiment, the lithographic printing plate material of the present invention is a lithographic printing plate material that can be developed on a printing press.

本発明における印刷機上現像可能な平版印刷版材料とは、印刷機上現像可能な画像形成機能層を有する印刷版材料であり、印刷機上現像可能な画像形成層とは、上記のように画像露光の後、特別な薬剤による処理を行うことなく、平版印刷機上で湿し水、または湿し水及び印刷インクにより非画像部が除去されて非画像部である親水性層が露出され、印刷可能な印刷版となし得る層である。   The lithographic printing plate material developable on a printing press in the present invention is a printing plate material having an image forming functional layer developable on a printing press, and the image forming layer developable on a printing press is as described above. After image exposure, the non-image area is removed by dampening water or dampening water and printing ink on the lithographic printing machine without processing with a special chemical agent, and the hydrophilic layer that is the non-image area is exposed. A layer that can be made with a printable printing plate.

印刷機上での画像形成層の未露光部の除去は、版胴を回転させながら水付けローラーやインクローラーを接触させて行うことができるが、下記に挙げる例のような、もしくはそれ以外の種々のシークエンスによって行うことができる。また、その際には、印刷時に必要な湿し水水量に対して、水量を増加させたり、減少させたりといった水量調整を行ってもよく、水量調整を多段階に分けて、もしくは無段階に変化させて行ってもよい。   The removal of the unexposed portion of the image forming layer on the printing press can be performed by contacting a watering roller or an ink roller while rotating the plate cylinder. This can be done by various sequences. In such a case, the water amount may be adjusted by increasing or decreasing the amount of dampening water required for printing, and the water amount adjustment may be divided into multiple stages or steplessly. You may change it.

(1)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、インクローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。   (1) As a sequence for starting printing, a watering roller is brought into contact with the plate cylinder to make one to several dozen rotations, then an ink roller is brought into contact with the plate cylinder to make one to several dozen rotations, and then Start printing.

(2)印刷開始のシークエンスとして、インクローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、水付けローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。   (2) As a sequence for starting printing, an ink roller is contacted to rotate the plate cylinder from 1 to several tens of rotations, then a watering roller is contacted to rotate the plate cylinder from 1 to several tens of rotations, and then Start printing.

(3)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーとインクローラーとを実質的に同時に接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで印刷を開始する。   (3) As a sequence for starting printing, the watering roller and the ink roller are brought into contact with each other substantially simultaneously to rotate the plate cylinder 1 to several tens of times, and then printing is started.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.

実施例1
《基材1の作製》
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を、50℃の1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、溶解量が2g/m2になるように溶解処理を行い水洗した後、25℃の0.1質量%塩酸水溶液中に30秒間浸漬し、中和処理した後、水洗した。
Example 1
<< Production of Substrate 1 >>
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 1% by mass sodium hydroxide aqueous solution at 50 ° C., dissolved so that the dissolved amount became 2 g / m 2 , and washed with water. Then, it was immersed in a 0.1 mass% hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C. for 30 seconds, neutralized, and washed with water.

次いで、このアルミニウム板を塩酸10g/L、アルミニウムを0.5g/L含有する電解液により、正弦波の交流を用いて、ピーク電流密度が50A/dm2の条件で電解粗面化処理を行なった。この際の電極と試料表面との距離は10mmとした。電解粗面化処理は12回に分割して行い、一回の処理電気量(陽極時)を40C/dm2とし、合計で480C/dm2の処理電気量(陽極時)とした。また、各回の粗面化処理の間に5秒間の休止時間を設けた。 Next, this aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening treatment with an electrolytic solution containing hydrochloric acid 10 g / L and aluminum 0.5 g / L using a sine wave alternating current and a peak current density of 50 A / dm 2. It was. The distance between the electrode and the sample surface at this time was 10 mm. Perform electrolytic graining treatment is divided into 12 times, and the quantity of electricity used in one treatment (at a positive polarity) as the 40C / dm 2, treatment quantity of electricity 480C / dm 2 in total (at a positive polarity). In addition, a rest period of 5 seconds was provided between each surface roughening treatment.

電解粗面化後は、50℃に保たれた1質量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、粗面化された面のスマットを含めた溶解量が1.2g/m2になるようにエッチングし、水洗し、次いで25℃に保たれた10質量%硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、中和処理した後、水洗した。次いで、20質量%硫酸水溶液中で、20Vの定電圧条件で電気量が150C/dm2となるように陽極酸化処理を行い、更に水洗した。 After the electrolytic surface roughening, it is immersed in a 1% by mass sodium hydroxide aqueous solution kept at 50 ° C. so that the dissolution amount including the smut of the roughened surface becomes 1.2 g / m 2. Etching, washing with water, followed by immersion in a 10% by weight sulfuric acid aqueous solution maintained at 25 ° C. for 10 seconds, neutralizing, and then washing with water. Subsequently, anodization was performed in a 20% by mass sulfuric acid aqueous solution so that the amount of electricity was 150 C / dm 2 under a constant voltage condition of 20 V, followed by washing with water.

次いで、水洗後の表面水をスクイーズした後、70℃に保たれた1質量%のリン酸二水素ナトリウム水溶液に30秒間浸漬し、水洗を行った後に、80℃で5分間乾燥した。   Next, after squeezing the surface water after washing with water, it was immersed in a 1% by mass sodium dihydrogen phosphate aqueous solution maintained at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water, and then dried at 80 ° C. for 5 minutes.

〔印刷版材料1〜13の作製〕
《親水性層(1)の作製》
下記組成の素材を、ホモジナイザを用いて十分に攪拌混合した後、濾過して、固形分32質量%の親水性層(1)の塗布液を作製した。
[Preparation of printing plate materials 1 to 13]
<< Preparation of hydrophilic layer (1) >>
A material having the following composition was sufficiently stirred and mixed using a homogenizer, followed by filtration to prepare a coating solution for the hydrophilic layer (1) having a solid content of 32% by mass.

粗面化された上記アルミニウム板の上に、親水性層(1)の塗布液を、ワイヤーバーを用いて乾燥後の付量が4.5g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して親水性層(1)を有する基材1を作製した。 On the roughened aluminum plate, the hydrophilic layer (1) coating solution is applied using a wire bar so that the amount applied after drying is 4.5 g / m 2 , at 120 ° C. The substrate 1 having a hydrophilic layer (1) was produced by drying for 1 minute.

〈親水性層(1)の塗布液の組成〉
FeO−Fe23−TiO2の複合酸化物:ETB300(チタン工業株式会社、固形分40質量%) 37.85質量部
親水性層コロイダルシリカ(アルカリ系):スノーテックス−S(日産化学工業株式会社製、固形分30質量%) 10.10質量部
ネックレス状コロイダルシリカ(アルカリ系):スノーテックス−PSM(日産化学工業株式会社製、固形分20質量%) 22.74質量部
コロイダルシリカ:MP−4540(日産化学工業株式会社製、固形分40質量%)
8.01質量部
リチウムシリケート:LSS−35(日産化学工業株式会社製、固形分20質量%)
9.60質量部
多孔質金属酸化物粒子:シルトンAMT08(水澤化学社製、多孔質アルミノシリケート粒子、平均粒径0.6μm) 0.83質量部
多孔質金属酸化物粒子:シルトンJC−70(水澤化学社製、多孔質アルミノシリケート粒子、平均粒径6μm) 3.2質量部
本発明の水溶性化合物等(表1記載の種類)(乾燥後の付量が0.03g/m2となるように調製した水溶液(7.67質量部)として使用)
塗布乾燥後の付量が0.03g/m2となる量
純水 親水性層(1)の塗布液(仕上がり時)中の固形分が32質量%となる量
《画像形成層(a)の作製、および平版印刷版材料1〜13の作製》
続けて、下記組成の素材を十分に混合攪拌し、濾過して固形分5質量%の画像形成層(a)の塗布液を作製した。
<Composition of coating solution for hydrophilic layer (1)>
Composite oxide of FeO—Fe 2 O 3 —TiO 2 : ETB300 (Titanium Industry Co., Ltd., solid content 40% by mass) 37.85 parts by mass Hydrophilic layer colloidal silica (alkaline): Snowtex-S (Nissan Chemical Industries) 10.10 parts by mass Necklace-shaped colloidal silica (alkaline): Snowtex-PSM (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 20% by mass) 22.74 parts by mass Colloidal silica: MP-4540 (Nissan Chemical Industry Co., Ltd., solid content 40% by mass)
8.01 parts by mass Lithium silicate: LSS-35 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 20% by mass)
9.60 parts by mass Porous metal oxide particles: Shilton AMT08 (manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd., porous aluminosilicate particles, average particle size 0.6 μm) 0.83 parts by mass Porous metal oxide particles: Shilton JC-70 ( Made by Mizusawa Chemical Co., Ltd., porous aluminosilicate particles, average particle size 6 μm) 3.2 parts by mass Water-soluble compounds of the present invention (types shown in Table 1) (weight after drying is 0.03 g / m 2) Used as an aqueous solution prepared as above (7.67 parts by mass))
Amount to give 0.03 g / m 2 after coating and drying Pure water Amount to give a solid content of 32% by weight in the coating solution (finished) of hydrophilic layer (1) << Image forming layer (a) Production and Production of Lithographic Printing Plate Materials 1-13 >>
Subsequently, a material having the following composition was sufficiently mixed and stirred and filtered to prepare a coating solution for the image forming layer (a) having a solid content of 5% by mass.

〈画像形成層(a)の塗布液の組成〉
カルナバワックスエマルジョン:A118(岐阜セラック社製、平均粒子径0.3μm、軟化点65℃、融点80℃、140℃での溶融粘度8cps、固形分40質量%)
9.94質量部
二糖類トレハロース(林原商事社製商品名トレハ、融点97℃)の水溶液、固形分20質量% 1質量部
ポリアクリル酸ナトリウム:アクアリックDL522(日本触媒社製)の水溶液、固形分10質量% 6.25質量部
光熱変換色素:ADS830WS(American Dye Source社製)の1質量%水溶液 30質量部
純水 52.81質量部
上記で塗設した親水性層(1)上に、画像形成層(a)の塗布液を、ワイヤーバーを用いて乾燥付量が0.3g/m2となるように塗布し、60℃で45秒間乾燥した。次いで、50℃、24時間のエイジング処理を行って、平版印刷版材料1〜13を得た。
<Composition of coating solution for image forming layer (a)>
Carnauba wax emulsion: A118 (manufactured by Gifu Shellac Co., Ltd., average particle size 0.3 μm, softening point 65 ° C., melting point 80 ° C., melt viscosity 8 ° cps at 140 ° C., solid content 40% by mass)
9.94 parts by mass Aqueous solution of disaccharide trehalose (trade name Treha, Hayashibara Shoji, melting point 97 ° C), solid content 20% by mass 1 part by mass Sodium polyacrylate: Aquaric DL522 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), solid 10% by weight 6.25 parts by weight Photothermal conversion dye: 1% by weight aqueous solution of ADS830WS (manufactured by American Dye Source) 30 parts by weight Pure water 52.81 parts by weight On the hydrophilic layer (1) coated above, The coating solution for the image forming layer (a) was applied using a wire bar so that the dry weight was 0.3 g / m 2 and dried at 60 ° C. for 45 seconds. Next, aging treatment was performed at 50 ° C. for 24 hours to obtain lithographic printing plate materials 1 to 13.

《平版印刷版材料14》
平版印刷版材料1〜13において、本発明の水溶性化合物等を含有しない他は親水性層(1)の塗布液と同様の塗布液を塗布した他は同様にして平版印刷版材料14を作製した。
<< Lithographic printing plate material 14 >>
A lithographic printing plate material 14 was prepared in the same manner as in the lithographic printing plate materials 1 to 13 except that the coating solution similar to the coating solution for the hydrophilic layer (1) was applied except that it did not contain the water-soluble compound of the present invention. did.

《評価方法》
〈赤外線レーザー露光による画像形成〉
平版印刷版材料を露光ドラムに巻付け固定した。露光には波長830nm、スポット径約18μmのレーザービームを用い、露光エネルギーを150、175、200、225、250mJ/cm2と変化させて、2400dpi(dpiとは1インチ、即ち2.54cm当たりのドット数を表す)、175線で画像を形成した。露光した画像はベタ画像と1〜99%の網点画像とを含むものである。
"Evaluation methods"
<Image formation by infrared laser exposure>
The lithographic printing plate material was wound around the exposure drum and fixed. For the exposure, a laser beam having a wavelength of 830 nm and a spot diameter of about 18 μm was used, and the exposure energy was changed to 150, 175, 200, 225, and 250 mJ / cm 2, and 2400 dpi (dpi was 1 inch, that is, 2.54 cm per 2.54 cm). An image was formed with 175 lines. The exposed image includes a solid image and a 1 to 99% halftone dot image.

〈印刷方法〉
印刷機:三菱重工業(株)製DAIYA1F−1を用いて、コート紙、湿し水:アストロマーク3(日研化学研究所製)2質量%、インク(東洋インク社製TKハイユニティ紅)を使用して印刷を行った。平版印刷版材料は露光後そのままの状態で版胴に取り付け、PS版と同じ刷り出しシークエンスを用いて印刷した。
<Printing method>
Printing machine: DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., coated paper, dampening water: 2% by mass of Astro Mark 3 (manufactured by Nikken Chemical Laboratory), ink (TK High Unity Red manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) Used to print. The lithographic printing plate material was attached to the plate cylinder as it was after exposure, and printed using the same printing sequence as the PS plate.

〈印刷評価〉
(耐傷性)
上記各平版印刷版材料について下記の方法(スクラッチ試験)によりスクラッチ耐性を求め、耐傷性の指標とした。
<Printing evaluation>
(Scratch resistance)
For each of the above lithographic printing plate materials, scratch resistance was determined by the following method (scratch test) and used as an index of scratch resistance.

スクラッチ試験
新東科学株式会社製連続加重式引掻強度試験機トライボギアTYPE:18/18L、0.5mmφサファイア針、荷重:25g、50g、100g、200g、300g、移動速度:500mm/min、で表面を繰り返し擦過後に印刷を行い、印刷物への影響を確認した。スクラッチ傷発生が認められる(目視観察)ようになる荷重を耐傷性の指標として示す。
Scratch test Shinto Kagaku Co., Ltd. continuous load type scratch strength tester Tribogear TYPE: 18 / 18L, 0.5mmφ sapphire needle, load: 25g, 50g, 100g, 200g, 300g, moving speed: 500mm / min, surface After repeatedly rubbing, printing was performed to confirm the influence on the printed matter. The load at which scratching is observed (visual observation) is shown as an index of scratch resistance.

(耐刷性)
3%網点画像が欠け始めた時点の印刷枚数を耐刷性の指標とした。
(Print life)
The number of printed sheets at the time when the 3% halftone image started to be missing was used as an index of printing durability.

(機上現像性)
各平版印刷版材料について、刷り出しから何枚目の印刷で画質の良好な印刷物が得られるかを求めた。機上現像終了の指標は、印刷物上で非画像部の汚れがなく、かつ、ベタ画像部の濃度が1.5以上(MacbethRD918を用いてMのモードで測定)であり、かつ、90%の網点画像が開いていることとした。
(On-press developability)
For each lithographic printing plate material, the number of sheets printed from the start of printing was determined to obtain a print with good image quality. The on-machine development end index is that the non-image area is not smudged on the printed material, the density of the solid image area is 1.5 or more (measured in the M mode using Macbeth RD918), and 90% The halftone image is open.

結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 2008114527
Figure 2008114527

表1から、本発明の平版印刷版材料の製造方法により作製された平版印刷版材料は、耐傷性に優れ、耐刷性に優れ、かつ機上現像性に優れていることが分かる。   From Table 1, it can be seen that the lithographic printing plate material produced by the method for producing a lithographic printing plate material of the present invention has excellent scratch resistance, excellent printing durability, and excellent on-press developability.

Claims (3)

基材上に、親水性層、画像形成層をこの順に有する平版印刷版材料の製造方法であって、25℃の水100gへの溶解度が0.2g以上4.0g以下である水溶性化合物を含有する親水性層塗布液を前記基材上に塗布し乾燥して前記親水性層を設ける工程、および、前記親水性層を設ける工程の後、前記親水性層の上に画像形成層塗布液を塗布し乾燥して前記画像形成層を設ける工程、を有することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 A method for producing a lithographic printing plate material having a hydrophilic layer and an image forming layer in this order on a substrate, wherein a water-soluble compound having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 0.2 g or more and 4.0 g or less After the step of applying the hydrophilic layer coating liquid contained on the substrate and drying to provide the hydrophilic layer, and the step of providing the hydrophilic layer, the image forming layer coating liquid on the hydrophilic layer A method for producing a lithographic printing plate material, comprising: applying and drying to form an image forming layer. 請求項1に記載の平版印刷版材料の製造方法により製造されたことを特徴とする平版印刷版材料。 A lithographic printing plate material produced by the method for producing a lithographic printing plate material according to claim 1. 前記平版印刷版材料が印刷機上現像可能な平版印刷版材料であることを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版材料。 The planographic printing plate material according to claim 2, wherein the planographic printing plate material is a planographic printing plate material that can be developed on a printing press.
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