JP2009158249A - Organic el element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element capable of suppressing sufficiently deterioration of a light-emitting part due to water. <P>SOLUTION: The organic EL element 1 is provided with a substrate 2, a light-emitting part 3 including an organic luminous layer 12, and a sealing film 4. The sealing film 4 suppresses deterioration of the light-emitting part 3 due to water, oxygen or the like. The sealing film 4 is composed of an ionic crystal layer consisting of an ionic crystal containing Li. In this case, LiB<SB>x</SB>N<SB>y</SB>and LiB<SB>x</SB>O<SB>y</SB>or the like can be applied for the ionic crystal containing Li. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、封止膜を備えた有機EL(エレクトロルミネッセンス)素子に関する。   The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) element provided with a sealing film.

従来、有機発光層を含む発光部と、発光部を封止するための封止膜を備えた有機EL素子が知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL element including a light emitting part including an organic light emitting layer and a sealing film for sealing the light emitting part is known.

特許文献1には、基板と、基板上に順に積層された陽極、有機発光層及び陰極を含む発光部と、それらを封止するための封止膜とを備えた有機EL素子が開示されている。封止膜は、SiO等の共有結合結晶の無機物からなる。 Patent Document 1 discloses an organic EL element including a substrate, a light emitting unit including an anode, an organic light emitting layer, and a cathode sequentially stacked on the substrate, and a sealing film for sealing them. Yes. The sealing film is made of an inorganic material such as SiO 2 and a covalent bond crystal.

この有機EL素子では、封止膜を形成することにより、有機発光層を含む発光部に水への水の侵入を抑制できる。
特開平7−142168号公報
In this organic EL element, by forming the sealing film, water can be prevented from entering the light emitting part including the organic light emitting layer.
JP-A-7-142168

しかしながら、特許文献1の有機EL素子では、結合が切れにくく、1ユニットが大きい共有結合結晶の無機物により封止膜を構成しているので、水に対する遮断性が充分ではない。このため、水により発光部が劣化するといった課題がある。   However, in the organic EL element of Patent Document 1, since the sealing film is composed of an inorganic substance of a covalently bonded crystal in which one unit is difficult to break, the water blocking property is not sufficient. For this reason, there exists a subject that a light emission part deteriorates with water.

本発明は、上述した課題を解決するために創案されたものであり、水による発光部の劣化を抑制できる有機EL素子を提供することを目的としている。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an organic EL element capable of suppressing deterioration of a light emitting part due to water.

上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、有機発光層を含む発光部と、3元素以上の元素により構成された第1イオン結晶層を有し、前記発光部を覆う封止膜とを備えたことを特徴とする有機EL素子である。   In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 includes a light emitting portion including an organic light emitting layer and a first ion crystal layer composed of three or more elements, and covers the light emitting portion. An organic EL element comprising a stop film.

また、請求項2に記載の発明は、前記第1イオン結晶層は、B(硼素)、O(酸素)またはN(窒素)から選択された少なくともいずれか2つ以上の元素及びLi(リチウム)を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子である。   According to a second aspect of the present invention, in the first ionic crystal layer, at least any two or more elements selected from B (boron), O (oxygen), and N (nitrogen) and Li (lithium) are used. It is an organic EL element of Claim 1 characterized by the above-mentioned.

また、請求項3に記載の発明は、前記封止膜は、第1イオン結晶層とは異なる第2イオン結晶層であって、3元素以上の元素により構成された第2イオン結晶層を有することを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の有機EL素子である。   According to a third aspect of the present invention, the sealing film is a second ionic crystal layer different from the first ionic crystal layer, and has a second ionic crystal layer composed of three or more elements. It is an organic EL element of any one of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned.

また、請求項4に記載の発明は、前記第2イオン結晶層は、B、OまたはNから選択された少なくともいずれか2つ以上の元素及びLiを含むことを特徴とする請求項3に記載の有機EL素子である。   The invention according to claim 4 is characterized in that the second ionic crystal layer contains at least any two elements selected from B, O or N and Li. This is an organic EL element.

また、請求項5に記載の発明は、前記封止膜は、共有結合結晶の無機物からなる無機層を有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の有機EL素子である。   In addition, in the invention described in claim 5, the sealing film has an inorganic layer made of an inorganic substance of a covalent bond crystal. The organic EL according to any one of claims 1-4. It is an element.

また、請求項6に記載の発明は、前記封止膜は、有機材料からなる有機層を有することを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の有機EL素子である。   The invention according to claim 6 is the organic EL element according to any one of claims 1 to 5, wherein the sealing film has an organic layer made of an organic material. .

本発明によれば、結合の切れ易いイオン結晶からなる第1イオン結晶層を有する封止膜により発光部を覆っている。これにより、第1イオン結晶層に含まれる各元素を1ユニットとして見なすことができる。これにより、1ユニットが小さくなるので、第1イオン結晶層内の隙間を低減することができ、より多くの水を遮断することができる。この結果、水による発光部の低下を抑制できる。   According to the present invention, the light emitting portion is covered with the sealing film having the first ion crystal layer made of the ion crystal that is easily broken. Thereby, each element contained in the first ionic crystal layer can be regarded as one unit. Thereby, since 1 unit becomes small, the clearance gap in a 1st ion crystal layer can be reduced, and more water can be interrupted | blocked. As a result, it is possible to suppress a decrease in the light emitting part due to water.

(第1実施形態)
以下、図面を参照して本発明の第1実施形態を説明する。図1は、第1実施形態による有機EL素子の断面図である。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL element according to the first embodiment.

図1に示すように、第1実施形態による有機EL素子1は、基板2と、発光部3と、封止膜4とを備えている。   As shown in FIG. 1, the organic EL element 1 according to the first embodiment includes a substrate 2, a light emitting unit 3, and a sealing film 4.

基板2は、光を透過可能なSiOからなる。基板2の厚みは、特に限定されるものではないが、発光部3からの光の拡散を抑制したい場合には、100μm以下が好ましい。尚、基板2を変形可能な樹脂製のフレキシブル基板により構成してもよい。 The substrate 2 is made of SiO 2 that can transmit light. The thickness of the substrate 2 is not particularly limited, but is preferably 100 μm or less when it is desired to suppress the diffusion of light from the light emitting unit 3. In addition, you may comprise the board | substrate 2 with the resin-made flexible substrate which can deform | transform.

発光部3は、基板2の一方の面(以下、表面)2aに形成されている。発光部3は、アノード電極11と、有機発光層12と、カソード電極13とを備えている。   The light emitting unit 3 is formed on one surface (hereinafter referred to as a surface) 2 a of the substrate 2. The light emitting unit 3 includes an anode electrode 11, an organic light emitting layer 12, and a cathode electrode 13.

アノード電極11は、有機発光層12に正孔を注入するためのものである。アノード電極11は、光を透過可能な約100nmの厚みを有するITO(インジウムスズ酸化物)からなる。アノード電極11は、基板2の表面2a上に形成されている。   The anode electrode 11 is for injecting holes into the organic light emitting layer 12. The anode electrode 11 is made of ITO (indium tin oxide) having a thickness of about 100 nm capable of transmitting light. The anode electrode 11 is formed on the surface 2 a of the substrate 2.

有機発光層12は、白色の光を発光するためのものである。有機発光層12は、アノード電極11上に電気的に接続された状態で形成されている。有機発光層12には、正孔輸送層及び電子輸送層がアノード電極11から順に積層されている。正孔輸送層には、約50nmの厚みを有するNPD(ジフェニルナフチルジアミン)膜等を採用可能である。電子輸送層には、約50nmの厚みを有するキノリノールアルミ錯体(Alq)膜に色素を混入させたものを採用可能である。また、アノード電極11からの正孔注入を促進するために銅フタロシアニン(CuPc)をアノード電極11と有機発光層12との間に積層してもよい。 The organic light emitting layer 12 is for emitting white light. The organic light emitting layer 12 is formed on the anode electrode 11 in an electrically connected state. In the organic light emitting layer 12, a hole transport layer and an electron transport layer are sequentially stacked from the anode electrode 11. For the hole transport layer, an NPD (diphenylnaphthyldiamine) film having a thickness of about 50 nm can be employed. As the electron transport layer, a quinolinol aluminum complex (Alq 3 ) film having a thickness of about 50 nm mixed with a dye can be employed. Further, copper phthalocyanine (CuPc) may be laminated between the anode electrode 11 and the organic light emitting layer 12 in order to promote hole injection from the anode electrode 11.

カソード電極13は、有機発光層12に電子を注入するためのものである。カソード電極13は、約100nmの厚みを有するMg/Ag合金またはAl膜等からなる。カソード電極13は、有機発光層12上に形成されている。これにより、有機発光層12は、アノード電極11とカソード電極13とによって挟まれる。   The cathode electrode 13 is for injecting electrons into the organic light emitting layer 12. The cathode electrode 13 is made of an Mg / Ag alloy or an Al film having a thickness of about 100 nm. The cathode electrode 13 is formed on the organic light emitting layer 12. Thereby, the organic light emitting layer 12 is sandwiched between the anode electrode 11 and the cathode electrode 13.

封止膜4は、発光部3が水や酸素等により劣化することを抑制するためのものである。封止膜4は、発光部3の一部を覆うように形成されている。具体的には、封止膜4は、アノード電極11の一部と、有機発光層12の側面と、カソード電極13とを覆うように形成されている。封止膜4は、Liを含むイオン結晶からなるイオン結晶層からなる。ここで、Liを含むイオン結晶とは、LiB、LiB、LiB等を適用することができる。 The sealing film 4 is for suppressing the light emitting unit 3 from being deteriorated by water, oxygen, or the like. The sealing film 4 is formed so as to cover a part of the light emitting unit 3. Specifically, the sealing film 4 is formed so as to cover a part of the anode electrode 11, the side surface of the organic light emitting layer 12, and the cathode electrode 13. The sealing film 4 is made of an ion crystal layer made of an ion crystal containing Li. Here, the ionic crystal containing Li, can be applied LiB x N y, LiB x O y, the LiB x N y O z and the like.

次に、上述した有機EL素子1の動作説明を行う。   Next, the operation of the organic EL element 1 described above will be described.

まず、アノード電極11とカソード電極13との間に電圧が印加される。これにより、アノード電極11から有機発光層12に正孔が注入されるとともに、カソード電極13からは有機発光層12に電子が注入される。注入された正孔と電子は、有機発光層12内で再結合して、光を発光する。その後、光は、アノード電極11及び基板2を透過して外部へと照射される。   First, a voltage is applied between the anode electrode 11 and the cathode electrode 13. Thereby, holes are injected from the anode electrode 11 into the organic light emitting layer 12, and electrons are injected from the cathode electrode 13 into the organic light emitting layer 12. The injected holes and electrons recombine in the organic light emitting layer 12 to emit light. Thereafter, the light passes through the anode electrode 11 and the substrate 2 and is irradiated to the outside.

次に、上述した有機EL素子1の製造方法について説明する。図2〜図5は、各製造工程における第1実施形態の有機EL素子の断面図である。   Next, the manufacturing method of the organic EL element 1 mentioned above is demonstrated. 2-5 is sectional drawing of the organic EL element of 1st Embodiment in each manufacturing process.

まず、図2に示すように、フォトリソグラフィー技術及びリフトオフ法等により、パターニングされたアノード電極11を、基板2の表面2aに形成する。   First, as shown in FIG. 2, a patterned anode electrode 11 is formed on the surface 2 a of the substrate 2 by a photolithography technique, a lift-off method, or the like.

次に、図3に示すように、開口部15aが形成されたメタルマスク15を用いて、アノード電極11上の所望の領域に有機発光層12を蒸着法により形成する。   Next, as shown in FIG. 3, the organic light emitting layer 12 is formed in a desired region on the anode electrode 11 by vapor deposition using the metal mask 15 in which the opening 15a is formed.

次に、図4に示すように、開口部16aが形成されたメタルマスク16を用いて、有機発光層12上にカソード電極13を蒸着法により形成する。   Next, as shown in FIG. 4, the cathode electrode 13 is formed on the organic light emitting layer 12 by vapor deposition using the metal mask 16 in which the opening 16a is formed.

次に、図5に示すように、フォトリソグラフィー技術によりレジスト膜17を形成する。その後、反応性ガスを導入可能なスパッタ法により、発光部3を覆うように、イオン結晶からなる封止膜4を成膜した後、レジスト膜17を除去する。これにより、図1に示す有機EL素子1が完成する。   Next, as shown in FIG. 5, a resist film 17 is formed by photolithography. Thereafter, the sealing film 4 made of an ion crystal is formed so as to cover the light emitting portion 3 by a sputtering method capable of introducing a reactive gas, and then the resist film 17 is removed. Thereby, the organic EL element 1 shown in FIG. 1 is completed.

上述したように第1実施形態による有機EL素子1は、結合の切れ易いイオン結晶(例えば、LiB)からなる封止膜4を備えている。ここで、従来の封止膜に用いられていた共有結合結晶のSiOは1ユニットが巨大な複数のSiOとなる。一方、イオン結晶からなる封止膜4では、結晶の1ユニットを各元素(Li、B、N)と見なすことができる。これにより、1ユニットが小さくなるので、封止膜4は、共有結合結晶からなる封止膜に比べて、膜内の隙間を低減することができる。この結果、封止膜4は、より多くの水を遮断することができるので、発光部3の劣化を抑制できる。更に、水分子よりも分子サイズの大きい酸素ガスに対しても、遮断性が向上するので、発光部3の酸化を抑制することができる。 As described above, the organic EL device 1 according to the first embodiment includes the sealing film 4 made of an ionic crystal (for example, LiB x N y ) that is easily broken. Here, the SiO 2 of the covalent bond crystal used in the conventional sealing film becomes a plurality of SiO 2 in which one unit is huge. On the other hand, in the sealing film 4 made of ionic crystals, one unit of crystal can be regarded as each element (Li, B, N). Thereby, since one unit becomes small, the sealing film 4 can reduce the gap | interval in a film | membrane compared with the sealing film which consists of a covalent bond crystal | crystallization. As a result, the sealing film 4 can block more water, so that deterioration of the light emitting unit 3 can be suppressed. Furthermore, since the barrier property is improved even for oxygen gas having a molecular size larger than that of water molecules, oxidation of the light emitting portion 3 can be suppressed.

また、有機EL素子1では、封止膜4を3元素系の結晶により構成している。これにより、2元素系の結晶に比べて、封止膜4内での隙間を低減することができ、水に対する遮断性を向上させることができる。   Further, in the organic EL element 1, the sealing film 4 is composed of a three-element crystal. As a result, the gap in the sealing film 4 can be reduced and the barrier property against water can be improved as compared with the two-element crystal.

また、有機EL素子1の基板2として、フレキシブル基板を採用した場合でも、フレキシブル基板の柔軟性を損なうことを抑制できる。   Moreover, even when a flexible substrate is employed as the substrate 2 of the organic EL element 1, it is possible to suppress the loss of flexibility of the flexible substrate.

(第2実施形態)
次に、第1実施形態の有機EL素子を部分的に変更した第2実施形態による有機EL素子について説明する。図6は、第2実施形態による有機EL素子の断面図である。尚、第1実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, an organic EL element according to the second embodiment in which the organic EL element of the first embodiment is partially changed will be described. FIG. 6 is a cross-sectional view of an organic EL element according to the second embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.

図6に示すように、第2実施形態による有機EL素子1Aの封止膜4Aは、第1封止層21と第2封止層22とが順に積層された積層構造を有する。   As shown in FIG. 6, the sealing film 4A of the organic EL element 1A according to the second embodiment has a stacked structure in which a first sealing layer 21 and a second sealing layer 22 are sequentially stacked.

以下、第1封止層21と第2封止層22との組み合わせについて説明する。   Hereinafter, a combination of the first sealing layer 21 and the second sealing layer 22 will be described.

<2つの異なるイオン結晶層の組み合わせ>
第1封止層21を第1イオン結晶からなる第1イオン結晶層により構成し、第2封止層22を第1イオン結晶とは異なる第2イオン結晶からなる第2イオン結晶層により構成してもよい。ここで異なるイオン結晶としては、例えば、LiB、LiBまたはLiBのいずれか2つを採用することができる。尚、このように封止膜4Aを無機物である2種類の層により構成する場合は、異なる2種類のターゲットを用いて、順に成膜することができる。
<Combination of two different ionic crystal layers>
The first sealing layer 21 is composed of a first ion crystal layer composed of a first ion crystal, and the second sealing layer 22 is composed of a second ion crystal layer composed of a second ion crystal different from the first ion crystal. May be. Here, as the different ion crystals, for example, any two of LiB x N y , LiB x O y and LiB x N y O z can be adopted. In the case where the sealing film 4A is composed of two types of inorganic layers as described above, it can be formed in sequence using two different types of targets.

<イオン結晶層と無機層との組み合わせ>
第1封止層21をイオン結晶からなるイオン結晶層により構成し、第2封止層22を共有結合結晶の無機物からなる無機層により構成してもよい。ここで、無機層を構成する共有結合結晶としては、SiN、SiON等を採用することができる。
<Combination of ionic crystal layer and inorganic layer>
The first sealing layer 21 may be composed of an ionic crystal layer made of an ionic crystal, and the second sealing layer 22 may be made of an inorganic layer made of an inorganic substance of a covalent bond crystal. Here, SiN, SiON, etc. are employable as a covalent bond crystal which comprises an inorganic layer.

<イオン結晶層と有機層との組み合わせ>
第1封止層21をイオン結晶からなるイオン結晶層により構成し、第2封止層22を有機材料からなる有機層により構成してもよい。ここで有機層を構成する有機材料としては、CF等を採用することができる。このように有機層を採用することにより、封止膜4A内で有機層が緩衝膜となり亀裂などを抑制できる。尚、有機層を成膜する方法としては、CVD法やイオンプレーティング法等を適用することができる。
<Combination of ionic crystal layer and organic layer>
The first sealing layer 21 may be composed of an ion crystal layer made of an ionic crystal, and the second sealing layer 22 may be made of an organic layer made of an organic material. Here, CF x or the like can be adopted as an organic material constituting the organic layer. By adopting the organic layer in this manner, the organic layer becomes a buffer film in the sealing film 4A, and cracks and the like can be suppressed. As a method for forming the organic layer, a CVD method, an ion plating method, or the like can be applied.

以上、実施形態を用いて本発明を詳細に説明したが、本発明は本明細書中に説明した実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載及び特許請求の範囲の記載と均等の範囲により決定されるものである。以下、上記実施形態を一部変更した変更形態について説明する。   As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail using embodiment, this invention is not limited to embodiment described in this specification. The scope of the present invention is determined by the description of the claims and the scope equivalent to the description of the claims. Hereinafter, modified embodiments in which the above-described embodiment is partially modified will be described.

例えば、上述した有機EL素子の各構成の材料、形状及び数値等は適宜変更可能である。   For example, the material, shape, numerical value, and the like of each component of the organic EL element described above can be appropriately changed.

上述した有機EL素子の封止膜は、単層または2層構造を例に説明したが、3層以上の積層構造に構成してもよい。   Although the sealing film of the organic EL element described above has been described by taking a single layer or a two-layer structure as an example, it may be configured in a laminated structure of three or more layers.

第1実施形態による有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element by 1st Embodiment. 各製造工程における第1実施形態の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of 1st Embodiment in each manufacturing process. 各製造工程における第1実施形態の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of 1st Embodiment in each manufacturing process. 各製造工程における第1実施形態の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of 1st Embodiment in each manufacturing process. 各製造工程における第1実施形態の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of 1st Embodiment in each manufacturing process. 第2実施形態による有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element by 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1、1A 有機EL素子
2 基板
2a 表面
3 発光部
4、4A 封止膜
11 アノード電極
12 有機発光層
13 カソード電極
15、16 メタルマスク
15a、16a 開口部
21 第1封止層
22 第2封止層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A Organic EL element 2 Board | substrate 2a Surface 3 Light emission part 4, 4A Sealing film 11 Anode electrode 12 Organic light emitting layer 13 Cathode electrode 15, 16 Metal mask 15a, 16a Opening part 21 1st sealing layer 22 2nd sealing layer

Claims (6)

有機発光層を含む発光部と、
3元素以上の元素により構成された第1イオン結晶層を有し、前記発光部を覆う封止膜とを備えたことを特徴とする有機EL素子。
A light emitting part including an organic light emitting layer;
An organic EL element comprising: a first ion crystal layer composed of three or more elements; and a sealing film that covers the light emitting portion.
前記第1イオン結晶層は、B(硼素)、O(酸素)またはN(窒素)から選択された少なくともいずれか2つ以上の元素及びLi(リチウム)を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。   The first ion crystal layer includes at least any two or more elements selected from B (boron), O (oxygen), and N (nitrogen) and Li (lithium). The organic EL element of description. 前記封止膜は、第1イオン結晶層とは異なる第2イオン結晶層であって、3元素以上の元素により構成された第2イオン結晶層を有することを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の有機EL素子。   The said sealing film is a 2nd ion crystal layer different from a 1st ion crystal layer, Comprising: The 2nd ion crystal layer comprised by the element more than 3 elements is characterized by the above-mentioned. 3. The organic EL device according to any one of 2 above. 前記第2イオン結晶層は、B、OまたはNから選択された少なくともいずれか2つ以上の元素及びLiを含むことを特徴とする請求項3に記載の有機EL素子。   4. The organic EL element according to claim 3, wherein the second ionic crystal layer contains at least any two elements selected from B, O, and N and Li. 5. 前記封止膜は、共有結合結晶の無機物からなる無機層を有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の有機EL素子。   5. The organic EL element according to claim 1, wherein the sealing film has an inorganic layer made of an inorganic substance of a covalent bond crystal. 前記封止膜は、有機材料からなる有機層を有することを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の有機EL素子。   The organic EL element according to claim 1, wherein the sealing film has an organic layer made of an organic material.
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