JP2009152160A - Particle transfer die and manufacturing method thereof, manufacturing method of particle transfer film, and anisotropic conductive film - Google Patents

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JP2009152160A JP2007331288A JP2007331288A JP2009152160A JP 2009152160 A JP2009152160 A JP 2009152160A JP 2007331288 A JP2007331288 A JP 2007331288A JP 2007331288 A JP2007331288 A JP 2007331288A JP 2009152160 A JP2009152160 A JP 2009152160A
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晶雅 片山
Takahiro Hayashi
恭弘 林
Akio Sato
明生 佐藤
Hiroki Inagaki
宏樹 稲垣
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle transfer die which can transfer particles continuously, and to provide a manufacturing method of a particle transfer film using the die. <P>SOLUTION: The particle transfer die 10 has a lengthy polymer base material 12 and a polymer layer 14 laminated on one side of the polymer base material 12. On the surface of the polymer layer 14, numerous recesses 14a for introducing the particles are regularly aligned and formed. It is preferable that in the particle transfer die 10, substantially each particle is introduced to each recess. Moreover, it is preferable that the recess 14a is formed in such a depth that a part of the introduced particle can be exposed from a formed face of the recess 14a. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、粒子転写型およびその製造方法、粒子転写膜の製造方法ならびに異方性導電膜に関するものである。   The present invention relates to a particle transfer mold and a method for manufacturing the same, a method for manufacturing a particle transfer film, and an anisotropic conductive film.

近年、様々な産業分野において、粒子を規則的に配列させて利用する機会が増大している。   In recent years, in various industrial fields, opportunities for regularly arranging and utilizing particles are increasing.

例えば、電気、電子機器等の分野では、規則的に配列された導電性粒子を膜に保持させ、これが異方性導電膜の骨格として利用されている。   For example, in the fields of electric and electronic devices, regularly arranged conductive particles are held in a film, and this is used as a skeleton of an anisotropic conductive film.

異方性導電膜は、膜厚方向に導電性を示し、かつ、膜面方向に絶縁性を示す膜である。例えば、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LCD)の分野では、駆動ICチップを搭載したTAB(Tape Automated Bonding)の電極と液晶パネルの電極との間等を、電気的・機械的に接続するために異方性導電膜が多用されている。   An anisotropic conductive film is a film that exhibits conductivity in the film thickness direction and exhibits insulation in the film surface direction. For example, in the field of liquid crystal display (LCD), in order to electrically and mechanically connect a TAB (Tape Automated Bonding) electrode with a driving IC chip and an electrode of a liquid crystal panel, etc. Anisotropic conductive films are frequently used.

従来、膜に粒子を保持させる技術として、転写技術が知られている。例えば、特許文献1には、磁性媒体に、帯状の磁気記録領域を形成した後、この磁気記録領域に導電性粒子を捕捉させ、粘着性を有する基材上に上記導電性粒子を転写する技術が開示されている。   Conventionally, a transfer technique is known as a technique for holding particles in a film. For example, Patent Document 1 discloses a technique in which a band-shaped magnetic recording region is formed on a magnetic medium, and then the conductive particles are captured in the magnetic recording region, and the conductive particles are transferred onto an adhesive substrate. Is disclosed.

また、転写時に転写型を用いる技術も知られている。転写型を用いる方法は、粒子を配列させて転写しやすいなどといった利点を有している。   A technique using a transfer mold at the time of transfer is also known. The method using a transfer mold has an advantage that particles are easily transferred by arrangement.

転写型を用いる技術としては、例えば、半導体製造プロセス等の微細加工プロセスを用いてSi基板上に凹部を形成し、この凹部内に粒子を導入した後、基材上に転写させる技術がある。   As a technique using a transfer mold, for example, there is a technique in which a concave portion is formed on a Si substrate using a microfabrication process such as a semiconductor manufacturing process, particles are introduced into the concave portion, and then transferred onto a substrate.

他にも例えば、特許文献2には、凹部を形成したロール転写型を用い、導電性粒子を分散させたペースト中に上記ロール転写型の表面を浸漬させ、凹部内に導電性粒子を捕捉させた後、基材上に転写させる技術が開示されている。   In addition, for example, in Patent Document 2, a roll transfer mold having recesses is used, the surface of the roll transfer mold is immersed in a paste in which conductive particles are dispersed, and the conductive particles are captured in the recesses. After that, a technique for transferring onto a substrate is disclosed.

特開2006−24551号公報JP 2006-24551 A 特開2004−335663号公報JP 2004-335663 A

しかしながら、従来の転写型を用いて粒子の転写を行う場合、以下の点で問題があった。   However, when transferring particles using a conventional transfer mold, there are the following problems.

すなわち、例えば、異方性導電膜等は、その使用形態を考慮すると、長尺物であることが要求される。   That is, for example, an anisotropic conductive film or the like is required to be a long object in consideration of its usage.

ところが、半導体製造プロセスでは、比較的小面積、かつ、バッチ式の平面凹型しか製造することができない。そのため、粒子の転写を複数回繰り返し行わないと、長尺な粒子転写膜を得ることが難しいといった問題があった。それ故、粒子転写膜の生産性が悪くなるといった欠点があった。   However, in the semiconductor manufacturing process, only a relatively small area and batch type planar concave mold can be manufactured. Therefore, there is a problem that it is difficult to obtain a long particle transfer film unless the transfer of the particles is repeated a plurality of times. Therefore, there is a drawback that the productivity of the particle transfer film is deteriorated.

また、長尺な粒子転写膜を得るには、前回の転写位置と今回の転写位置との間で正確な位置合わせが必要になる。そのため、粒子転写膜の製造が間欠方式となり、これによっても生産性が低下してしまう。   In addition, in order to obtain a long particle transfer film, accurate alignment is required between the previous transfer position and the current transfer position. For this reason, the manufacture of the particle transfer film becomes an intermittent method, which also reduces the productivity.

特に、規則的に粒子を配列させたい場合には、より精度の高い位置合わせが要求される。そのため、位置合わせに時間がかかり、さらに生産性を悪化させる原因になる。また、位置合わせに失敗すれば、粒子転写膜の製造不良にも繋がる。   In particular, when it is desired to regularly arrange particles, alignment with higher accuracy is required. For this reason, it takes time to align the position and further deteriorates productivity. Further, if the alignment fails, it leads to defective production of the particle transfer film.

なお、ロール転写型は、表面が曲面である等のため、凹部内への粒子導入が困難であると考えられる。   In addition, since the surface of the roll transfer mold has a curved surface, it is considered difficult to introduce particles into the recesses.

本発明は、上記問題点を鑑みてなされたもので、粒子を連続して転写可能な粒子転写型、また、この型を用いた粒子転写膜の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a particle transfer mold capable of continuously transferring particles and a method for producing a particle transfer film using the mold.

上記課題を解決するため、本発明に係る粒子転写型は、長尺の高分子基材と、上記高分子基材の一方面に積層された高分子層とを有し、上記高分子層の表面に、粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成されていることを要旨とする。   In order to solve the above problems, a particle transfer mold according to the present invention has a long polymer base material and a polymer layer laminated on one surface of the polymer base material. The gist is that a large number of concave portions for introducing particles are regularly arranged on the surface.

ここで、上記凹部は、導入された粒子の一部を凹部形成面から露出可能な深さに形成されていることが好ましい。   Here, the recess is preferably formed to a depth that allows a part of the introduced particles to be exposed from the recess forming surface.

また、上記粒子転写型は、実質的に、上記凹部一つにつき粒子が一つずつ導入されるものであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the particle transfer mold is substantially one in which one particle is introduced per one recess.

また、上記高分子層を構成する高分子は、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、および、熱硬化性樹脂から選択される1種または2種以上であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the polymer which comprises the said polymer layer is 1 type, or 2 or more types selected from a thermoplastic resin, a photocurable resin, and a thermosetting resin.

本発明に係る粒子転写型の製造方法は、長尺の高分子基材の一方面に、高分子層またはその前駆体層を積層する工程と、上記高分子層またはその前駆体層の表面に、粒子導入用の多数の凹部を規則的に配列形成する工程とを有することを要旨とする。   The method for producing a particle transfer mold according to the present invention comprises a step of laminating a polymer layer or a precursor layer thereof on one side of a long polymer substrate, and a surface of the polymer layer or a precursor layer thereof. And a step of regularly arranging a large number of concave portions for introducing particles.

上記凹部の形成は、形成する凹部に対応する凸部を表面に有する、平面体、ロール体またはベルト体を、上記高分子層または前駆体層の表面に押しつけることによることが好ましい。   The formation of the concave portion is preferably performed by pressing a flat body, a roll body, or a belt body having a convex portion corresponding to the concave portion to be formed on the surface of the polymer layer or the precursor layer.

また、上記前駆体層を積層した場合、上記凹部を形成しつつ、前駆体層を高分子層に変換することが好ましい。   Moreover, when the said precursor layer is laminated | stacked, it is preferable to convert a precursor layer into a polymer layer, forming the said recessed part.

本発明に係る他の粒子転写型の製造方法は、長尺の高分子基材の一方面に、その表面に粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成された高分子層またはその前駆体層を転写する工程を有することを要旨とする。   Another method for producing a particle transfer mold according to the present invention is a polymer layer or a precursor thereof in which a large number of concave portions for introducing particles are regularly arranged on one surface of a long polymer substrate. The gist is to include a step of transferring the body layer.

本発明に係る粒子転写膜の製造方法は、上記粒子転写型の凹部に粒子を導入する工程と、上記凹部に導入された粒子を高分子膜の表面に転写する工程とを有することを要旨とする。   The method for producing a particle transfer film according to the present invention includes a step of introducing particles into the concave portion of the particle transfer mold, and a step of transferring the particles introduced into the concave portion to the surface of the polymer film. To do.

ここで、上記粒子の導入は、実質的に、上記凹部一つにつき粒子を一つずつ導入することが好ましい。   Here, it is preferable to introduce the particles substantially one by one for each of the concave portions.

また、上記高分子膜の膜厚は、上記粒子の粒径の1/10倍〜3/2倍の範囲内にあることが好ましい。   The film thickness of the polymer film is preferably in the range of 1/10 to 3/2 times the particle size of the particles.

また、上記粒子は、導電性粒子であることが好ましい。   The particles are preferably conductive particles.

本発明に係る異方性導電膜は、上記粒子として導電性粒子を適用し、上記粒子転写膜の製造方法により得られた粒子転写膜を用いたことを要旨とする。   The gist of the anisotropic conductive film according to the present invention is that a conductive particle is applied as the particle and the particle transfer film obtained by the method for manufacturing the particle transfer film is used.

本発明に係る粒子転写型は、長尺の高分子基材と、この高分子基材の一方面に積層された高分子層とを有し、この高分子層の表面に、粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成されている。   The particle transfer mold according to the present invention has a long polymer base material and a polymer layer laminated on one surface of the polymer base material. A large number of recesses are regularly arranged.

そのため、バッチ式の平面凹型を用いる場合のように、粒子の転写を複数回繰り返し行う必要がなく、粒子を連続して転写することができる。それ故、長尺な粒子転写膜の生産性に優れる。また、細かな転写位置の位置合わせが不要になるため、これによっても生産性を向上させることができる。   Therefore, it is not necessary to repeatedly transfer the particles a plurality of times as in the case of using a batch-type planar concave mold, and the particles can be transferred continuously. Therefore, the productivity of a long particle transfer film is excellent. Further, since fine positioning of the transfer position is not necessary, this can also improve productivity.

また、本発明に係る粒子転写型は、高分子により形成されているので、可撓性に富む。そのため、転写圧により若干変形させることができ、凹部に導入された粒子が転写されやすい利点がある。また、巻き取り・巻き出ししたり、ベルト状に形成したりしやすく、粒子転写膜の製造工程に合わせて柔軟に対応することができる。   Moreover, since the particle transfer mold according to the present invention is formed of a polymer, it is rich in flexibility. Therefore, it can be slightly deformed by the transfer pressure, and there is an advantage that the particles introduced into the recesses are easily transferred. In addition, it is easy to wind or unwind or form in a belt shape, and can flexibly respond to the manufacturing process of the particle transfer film.

他にも、高分子基材と、凹部を形成する高分子層とを分離したことにより、材料選択の幅が広がる。そのため、凹部形成性、耐熱性、離型性、耐摩耗性、耐久性、耐薬品性など、重視したい機能に合わせて材料を選択することで、型に各種機能を付与しやすくなる利点がある。   In addition, since the polymer base material and the polymer layer forming the recess are separated, the range of material selection is expanded. Therefore, there is an advantage that various functions can be easily given to the mold by selecting the material according to the function to be emphasized, such as recess forming property, heat resistance, mold release property, wear resistance, durability, and chemical resistance. .

ここで、上記凹部が、導入された粒子の一部を凹部形成面から露出可能な深さに形成されている場合には、粒子の転写性を向上させることができる。   Here, when the concave portion is formed to a depth at which a part of the introduced particle can be exposed from the concave portion forming surface, the transferability of the particle can be improved.

また、上記粒子転写型が、実質的に、上記凹部一つにつき粒子が一つずつ導入されるものである場合には、粒子一つ分の厚みで粒子層を転写することが可能になる。そのため、積み重なった粒子が流動して異方導電性が低下するなどといった不都合の少ない異方性導電膜を得るのに寄与することができる。   In addition, when the particle transfer mold is substantially one in which one particle is introduced per one recess, the particle layer can be transferred with a thickness of one particle. Therefore, it is possible to contribute to obtaining an anisotropic conductive film with less inconvenience such as the flow of stacked particles and a decrease in anisotropic conductivity.

また、上記高分子層を構成する高分子が、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、および、熱硬化性樹脂から選択される1種または2種以上である場合には、必要な特性に合わせて樹脂を選定、微調整しやすいなどの利点がある。   When the polymer constituting the polymer layer is one or more selected from a thermoplastic resin, a photocurable resin, and a thermosetting resin, according to the required characteristics. There are advantages such as easy selection and fine adjustment of resin.

本発明に係る粒子転写型の製造方法は、長尺の高分子基材の一方面に、高分子層またはその前駆体層を積層する工程と、上記高分子層またはその前駆体層の表面に、粒子導入用の多数の凹部を規則的に配列形成する工程とを有している。   The method for producing a particle transfer mold according to the present invention comprises a step of laminating a polymer layer or a precursor layer thereof on one side of a long polymer substrate, and a surface of the polymer layer or a precursor layer thereof. And a step of regularly arranging a large number of recesses for introducing particles.

そのため、上述した構成の粒子転写型を製造することができる。   Therefore, the particle transfer mold having the above-described configuration can be manufactured.

ここで、上記凹部の形成を、形成する凹部に対応する凸部を表面に有する、平面体、ロール体またはベルト体を、上記高分子層または前駆体層の表面に押しつけることにより行った場合には、比較的簡易に凹部を形成することができる。   Here, when the formation of the concave portion is performed by pressing a flat body, a roll body, or a belt body having a convex portion corresponding to the concave portion to be formed on the surface of the polymer layer or the precursor layer. Can form a recess relatively easily.

なお、一旦、上記粒子転写型を製造すれば、その後、繰り返し使用することが可能である。そのため、粒子転写型の製造時にバッチ式の平面凸型を使用したり、凹部形成時の位置合わせを行ったりすることは、特段、粒子転写膜の生産性に影響を及ぼすことはない。   Once the particle transfer mold is manufactured, it can be used repeatedly thereafter. Therefore, the use of a batch-type planar convex mold during the production of the particle transfer mold or the alignment during the formation of the concave section does not particularly affect the productivity of the particle transfer film.

また、前駆体層を積層した場合には、凹部形成中、凹部形成前後の何れかで、前駆体層を高分子層に変換すれば良い。好ましくは、凹部を形成しつつ、前駆体層を高分子層に変換すると良い。平面体またはロール体の凸部表面に前駆体を沿わせつつ高分子に変換させることで、比較的良好な形状を有する凹部を形成しやすくなるからである。   Further, when the precursor layer is laminated, the precursor layer may be converted into a polymer layer either during the formation of the recess or before or after the formation of the recess. Preferably, the precursor layer may be converted into a polymer layer while forming a recess. It is because it becomes easy to form the recessed part which has a comparatively favorable shape by making it convert into a polymer, making a precursor follow along the convex part surface of a plane body or a roll body.

また、本発明に係る他の粒子転写膜の製造方法は、長尺の高分子基材の一方面に、その表面に粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成された高分子層またはその前駆体層を転写する工程を有している。そのため、上述した構成の粒子転写型を製造することができる。   Another method for producing a particle transfer film according to the present invention is a polymer layer in which a large number of concave portions for introducing particles are regularly arranged on one surface of a long polymer base material. A step of transferring the precursor layer. Therefore, the particle transfer mold having the above-described configuration can be manufactured.

なお、この場合も、前駆体層を転写した場合には、転写中、転写前後の何れかで、前駆体層を高分子層に変換すれば良い。好ましくは、前駆体層を転写しつつ高分子層に変換すると良い。   In this case as well, when the precursor layer is transferred, the precursor layer may be converted into a polymer layer either during transfer or before and after transfer. Preferably, the precursor layer is transferred to the polymer layer while being transferred.

本発明に係る粒子転写膜の製造方法は、上記粒子転写型の凹部に粒子を導入する工程と、凹部に導入された粒子を高分子膜の表面に転写する工程とを有している。   The method for producing a particle transfer film according to the present invention includes a step of introducing particles into the concave portion of the particle transfer mold and a step of transferring the particles introduced into the concave portion onto the surface of the polymer film.

そのため、高分子膜の表面に連続的に粒子を転写することができ、粒子転写膜の生産性に優れる。   Therefore, the particles can be continuously transferred onto the surface of the polymer film, and the productivity of the particle transfer film is excellent.

また、実質的に、凹部一つにつき前記粒子を一つずつ導入する場合には、高分子膜の表面に、粒子一つ分の厚みで粒子層を転写することが可能になる。そのため、例えば、積み重なった粒子によって異方導電性が低下するなどといった不都合の少ない異方性導電膜を得るのに寄与することができる。   In addition, when the particles are introduced one by one for each recess, the particle layer can be transferred to the surface of the polymer film with a thickness of one particle. Therefore, for example, it can contribute to obtaining an anisotropic conductive film with less inconvenience such as anisotropic conductivity being lowered by the stacked particles.

また、上記高分子膜の膜厚が、粒子の粒径の1/10倍〜3/2倍の範囲内にある場合には、高分子膜の強度が適度であることから、転写を行いやすい、異方性導電膜に用いた場合に、抵抗値が適正になりやすいなどの利点がある。   In addition, when the film thickness of the polymer film is in the range of 1/10 to 3/2 times the particle diameter of the particle, the strength of the polymer film is appropriate, so that the transfer is easy. When used for an anisotropic conductive film, there is an advantage that the resistance value tends to be appropriate.

また、上記粒子として、導電性粒子を用いた場合には、異方性導電膜に好適に用いることが可能な粒子転写膜を得ることができる。   Further, when conductive particles are used as the particles, a particle transfer film that can be suitably used for an anisotropic conductive film can be obtained.

以下、本実施形態に係る粒子転写型(以下、「本転写型」ということがある。)およびその製造方法(以下、「本転写型の製法」ということがある。)、本実施形態に係る粒子転写膜の製造方法(以下、「本転写膜の製法」ということがある。)、本実施形態に係る異方性導電膜(以下、「本ACF」ということがある。)について詳細に説明する。   Hereinafter, the particle transfer mold according to the present embodiment (hereinafter sometimes referred to as “the present transfer mold”) and the manufacturing method thereof (hereinafter also referred to as “the process of the present transfer mold”), and the present embodiment. A method for producing a particle transfer film (hereinafter sometimes referred to as “method for producing the present transfer film”) and an anisotropic conductive film (hereinafter also referred to as “present ACF”) according to the present embodiment will be described in detail. To do.

1.本転写型
図1(a)、(b)に、本転写型の模式的な断面図の一例を示す。本転写型10は、高分子基材12と、高分子基材12の一方面に積層された高分子層14とを有している。
1. Main Transfer Mold FIGS. 1A and 1B show an example of a schematic cross-sectional view of the main transfer mold. The transfer mold 10 includes a polymer substrate 12 and a polymer layer 14 laminated on one surface of the polymer substrate 12.

高分子基材12は、長尺に形成されている。高分子基材12の長さ、幅は、本転写型10を用いて得られる粒子転写膜の用途等に応じて適宜選択することができる。   The polymer substrate 12 is formed long. The length and width of the polymer substrate 12 can be appropriately selected according to the use of the particle transfer film obtained using the present transfer mold 10.

例えば、高分子基材の幅は、粒子転写膜1つ分の幅であっても良いし、複数個分の幅であっても良い。複数個分の幅とした場合には、得られた粒子転写膜、これを用いた異方性導電膜等を長手方向に沿って分割することにより、長尺の粒子転写膜、異方性導電膜等を多数個取りすることができる。   For example, the width of the polymer substrate may be the width of one particle transfer film or a width of a plurality of particles. When the width is set to a plurality of widths, the obtained particle transfer film, an anisotropic conductive film using the particle transfer film, and the like are divided along the longitudinal direction so that the long particle transfer film and the anisotropic conductive film are divided. A large number of films can be taken.

高分子基材12の厚みは、本転写型10に付与したい耐久性、強度、柔軟性などや、本転写型10をロール状などに巻き取った際のロール外径などを考慮して選択することができる。   The thickness of the polymer substrate 12 is selected in consideration of the durability, strength, flexibility, etc. desired to be imparted to the transfer mold 10 and the outer diameter of the roll when the transfer mold 10 is wound into a roll or the like. be able to.

高分子基材12の厚みとしては、粒子転写時のハンドリング性が良好であるなどの観点から、好ましくは、12〜1000μmの範囲内、より好ましくは、50〜500μmの範囲内であると良い。   The thickness of the polymer substrate 12 is preferably in the range of 12 to 1000 μm, more preferably in the range of 50 to 500 μm, from the viewpoint of good handling properties during particle transfer.

高分子基材12の主材料としては、熱可塑性樹脂などの各種樹脂や各種ゴムなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。また、高分子基材12は、同一または異なる材料を複数層積層したものであっても良い。   Examples of the main material of the polymer substrate 12 include various resins such as thermoplastic resins and various rubbers. These may be used alone or in combination. The polymer substrate 12 may be a laminate of a plurality of layers of the same or different materials.

高分子基材12を主に構成する高分子としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル;ポリイミド;ポリカーボネート;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン;ポリスチレン;液晶ポリマーなどを例示することができる。   Specific examples of the polymer mainly constituting the polymer substrate 12 include polyesters such as polyethylene terephthalate; polyimides; polycarbonates; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polystyrenes; liquid crystal polymers and the like. .

好ましくは、耐溶剤性、扱い易さ、入手容易性、コストなどの観点から、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルであると良い。   Preferably, polyester such as polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoint of solvent resistance, ease of handling, availability, and cost.

なお、高分子基材12中には、酸化防止剤、ウィスカーやファイバーなどの繊維状物質、シリカ、酸化チタンなどの充填剤、難燃剤などの各種添加物が1種または2種以上混合されていても良い。   In the polymer substrate 12, one or more additives such as antioxidants, fibrous materials such as whiskers and fibers, fillers such as silica and titanium oxide, flame retardants, and the like are mixed. May be.

また、高分子基材12は、非多孔質体であっても良いし、多孔質体であっても良い。   The polymer substrate 12 may be a non-porous body or a porous body.

高分子層14は、その表面に多数の凹部14aを有している。凹部14aは、転写に供される粒子16(後述の図2等を参照)を導入するためのものである。したがって、凹部14aの形態は、粒子16を導入可能な形態であれば特に限定されるものではない。   The polymer layer 14 has a large number of recesses 14a on its surface. The recess 14a is for introducing particles 16 (see FIG. 2 and the like described later) to be transferred. Therefore, the shape of the recess 14a is not particularly limited as long as the particle 16 can be introduced.

凹部14aの形態としては、略円柱状、四角柱、六角柱などの略多角柱状、略円錐状、略角錐状などの各種形態を例示することができる。また、これら形態は1または2以上含まれていても良い。凹部14aの形態としては、粒子導入性、凹部形成用の凸型の製造性などの観点から、略円柱状、四角柱などの略多角柱状などが好ましい。   Examples of the shape of the recess 14a include various shapes such as a substantially cylindrical shape, a substantially polygonal column shape such as a quadrangular column and a hexagonal column, a substantially conical shape, and a substantially pyramid shape. One or more of these forms may be included. The form of the concave portion 14a is preferably a substantially cylindrical shape, a substantially polygonal column shape such as a quadrangular column, or the like from the viewpoints of particle introduction property, productivity of a convex shape for forming a recessed portion, and the like.

本転写型10において、凹部14a同士は互いに離間されており、凹部14aは規則的に配列されている。   In the present transfer mold 10, the recesses 14a are separated from each other, and the recesses 14a are regularly arranged.

上記規則的な配列としては、具体的には、例えば、格子状、千鳥状、ハニカム状などの配列、これら配列を傾斜させた配列などを例示することができる。本転写型10を用いて得られる粒子転写膜の用途などに応じて選択することができる。   Specific examples of the regular array include an array such as a lattice, a staggered pattern, and a honeycomb, and an array in which these arrays are inclined. It can be selected according to the application of the particle transfer film obtained using the present transfer mold 10.

凹部14aは、図1(a)に示すように、高分子層14を貫通していない非貫通孔であっても良いし、図1(b)に示すように、高分子層14を貫通する貫通孔であっても良い。凹部14aが貫通孔である場合には、高分子基材12として多孔質体を選択することで、例えば、高分子層14の積層面と反対側の面から吸引を行うことが可能になり、粒子導入性の向上に寄与することができる。   The recess 14a may be a non-through hole that does not penetrate the polymer layer 14 as shown in FIG. 1A, or penetrates the polymer layer 14 as shown in FIG. 1B. It may be a through hole. When the concave portion 14a is a through hole, by selecting a porous body as the polymer base material 12, for example, it becomes possible to perform suction from the surface opposite to the laminated surface of the polymer layer 14, It can contribute to improvement of particle introduction property.

図2は、本転写型の凹部に粒子が導入された場合を模式的に示した図である。なお、粒子16は、無機材料よりなっていても良いし、有機材料よりなっていても良い。あるいは、無機材料と有機材料との複合体よりなっていても良い。本転写型10を用いて得られる粒子転写膜の用途等に応じて選択することができる。   FIG. 2 is a diagram schematically showing a case where particles are introduced into the concave portion of the present transfer mold. Note that the particles 16 may be made of an inorganic material or an organic material. Or you may consist of the composite_body | complex of an inorganic material and an organic material. It can be selected according to the use of the particle transfer film obtained using the present transfer mold 10.

上記粒子16としては、具体的には、例えば、各種樹脂粒子の表面に1層または2層以上の導電性層(金、銀、白金属、ニッケル、銅などの各種金属やその合金等による金属めっき層やスパッタ層等)を有する粒子;上記金属やその合金等からなる各種金属粒子;カーボン粒子等の導電性粒子、各種樹脂粒子;シリカ粒子等の絶縁性粒子などを例示することができる。   Specific examples of the particles 16 include, for example, one or more conductive layers on the surface of various resin particles (metals such as various metals such as gold, silver, white metal, nickel, and copper, and alloys thereof). Examples thereof include particles having a plating layer, a sputtered layer, etc .; various metal particles made of the above metals and alloys thereof; conductive particles such as carbon particles; various resin particles; insulating particles such as silica particles.

ここで、図2に示すように、凹部14aは、導入された粒子16の頂部を凹部形成面14bから露出可能な深さに形成されていることが好ましい。粒子16の転写性を向上させることができるし、また、深さ方向に粒子16が積み重なって導入され難くなるからである。   Here, as shown in FIG. 2, the recess 14a is preferably formed to a depth that allows the top of the introduced particles 16 to be exposed from the recess forming surface 14b. This is because the transferability of the particles 16 can be improved, and the particles 16 are difficult to be introduced by being stacked in the depth direction.

粒子16の平均粒径に対する凹部14aの深さの比(=凹部14aの深さ/粒子16の平均粒径)の上限は、粒子16の転写性に優れるなどの観点から、好ましくは、1未満、より好ましくは、0.95以下、さらに好ましくは、0.9以下であると良い。   The upper limit of the ratio of the depth of the recesses 14a to the average particle diameter of the particles 16 (= depth of the recesses 14a / average particle diameter of the particles 16) is preferably less than 1 from the viewpoint of excellent transferability of the particles 16. More preferably, it is 0.95 or less, and further preferably 0.9 or less.

一方、粒子16の平均粒径に対する凹部14aの深さの比(=凹部14aの深さ/粒子16の平均粒径)の下限は、粒子保持性、粒子導入のしやすさの確保などの観点から、好ましくは、0.5以上、より好ましくは、0.6以上、さらに好ましくは、0.75以上であると良い。   On the other hand, the lower limit of the ratio of the depth of the recesses 14a to the average particle diameter of the particles 16 (= depth of the recesses 14a / average particle diameter of the particles 16) is from the viewpoint of ensuring particle retention and ease of particle introduction. Therefore, it is preferably 0.5 or more, more preferably 0.6 or more, and still more preferably 0.75 or more.

もっとも、本転写型10は、高分子により形成されているので、可撓性に富み、転写圧により若干変形可能である。そのため、凹部形成面14bから粒子16の頂部が若干露出していないものが含まれていても、転写しやすい利点がある。   However, since the transfer mold 10 is made of a polymer, it is highly flexible and can be slightly deformed by the transfer pressure. Therefore, there is an advantage that transfer is easy even if the tops of the particles 16 are not slightly exposed from the recess forming surface 14b.

図3は、ある1つの凹部に着目し、その凹部に粒子が導入されている状態の一例を示した図であり、(a)が断面図、(b)が平面図である。   FIGS. 3A and 3B are diagrams showing an example of a state in which particles are introduced into one concave portion, in which FIG. 3A is a cross-sectional view and FIG. 3B is a plan view.

図3に示すように、本転写型10は、凹部14a一つにつき、粒子16が一つずつ導入されるものであることが好ましい。粒子16一つ分の厚みで粒子層を転写することが可能になる。そのため、例えば、得られた粒子転写膜を異方性導電膜に用いた場合に、積み重なった粒子が流動して異方導電性が低下するなどといった不都合の少ない異方性導電膜を得るのに寄与することができるからである。   As shown in FIG. 3, the transfer mold 10 is preferably such that one particle 16 is introduced for each recess 14a. The particle layer can be transferred with a thickness of one particle 16. For this reason, for example, when the obtained particle transfer film is used for an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film with less inconvenience such as flow of stacked particles and a decrease in anisotropic conductivity is obtained. It is because it can contribute.

もっとも、図4に示すように、本転写型10は、凹部14a一つにつき、粒子16が複数個導入されるものであっても良い。また、本転写型10は、図3の状態と図4の状態とを組み合わせた状態で粒子16が導入されるものであっても良い。   However, as shown in FIG. 4, the transfer mold 10 may be one in which a plurality of particles 16 are introduced per recess 14a. Further, the transfer mold 10 may be one in which the particles 16 are introduced in a state where the state of FIG. 3 and the state of FIG. 4 are combined.

凹部14aは、図3に示すように、導入される粒子16の粒径よりも若干大きな開口を有していると良い。凹部14a一つにつき、粒子16が一つずつ導入されやすくなるし、粒子16の導入性を確保しやすいからである。   As shown in FIG. 3, the recess 14a preferably has an opening slightly larger than the particle diameter of the particles 16 to be introduced. This is because the particles 16 are easily introduced one by one for each recess 14a, and the ease of introduction of the particles 16 is easily secured.

粒子16の平均粒径に対する凹部14aの開口の大きさの比(=凹部14aの開口の大きさ/粒子16の平均粒径)の上限は、凹部14a一つにつき粒子16が一つずつ導入されやすくなるなどの観点から、好ましくは、2未満、より好ましくは、1.8以下、さらに好ましくは1.6以下であると良い。   The upper limit of the ratio of the opening size of the recesses 14a to the average particle size of the particles 16 (= opening size of the recesses 14a / average particle size of the particles 16) is that one particle 16 is introduced per recess 14a. From the viewpoint of facilitating, it is preferably less than 2, more preferably 1.8 or less, and even more preferably 1.6 or less.

一方、粒子16の平均粒径に対する凹部14aの開口の大きさの比(=凹部14aの開口の大きさ/粒子16の平均粒径)の下限は、粒子導入性の確保などの観点から、好ましくは、1以上、より好ましくは、1.05以上、さらに好ましくは、1.1以上であると良い。   On the other hand, the lower limit of the ratio of the size of the opening of the recess 14a to the average particle size of the particle 16 (= the size of the opening of the recess 14a / the average particle size of the particle 16) is preferable from the viewpoint of ensuring the particle introduction property. Is 1 or more, more preferably 1.05 or more, and even more preferably 1.1 or more.

高分子層14を主に構成する材料としては、例えば、凹部形成性、耐熱性、離型性、耐摩耗性、耐久性、耐薬品性などを考慮して、これに応じた各種の高分子材料を選択することができる。上記高分子材料としては、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などの各種樹脂や各種ゴムなどを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。これらのうち、好ましくは、後述する凸型から高分子層を引き剥がす際の作業性が良好であるなどの観点から、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂などであると良い。   As a material mainly constituting the polymer layer 14, for example, various polymers corresponding to the recess forming property, heat resistance, mold release property, wear resistance, durability, chemical resistance and the like are considered. The material can be selected. Examples of the polymer material include various resins such as thermoplastic resins, photocurable resins, and thermosetting resins, and various rubbers. These may be used alone or in combination. Among these, a thermoplastic resin, a photocurable resin, or the like is preferable from the viewpoint of good workability when the polymer layer is peeled off from a convex mold described later.

上記熱可塑性樹脂としては、具体的には、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂などを例示することができる。   Specific examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polystyrene, acrylic resin, polyimide resin, polyamide resin, and fluororesin.

上記光硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリイミド樹脂などを例示することができる。   Specific examples of the photocurable resin include acrylic resin, epoxy resin, silicon resin, and polyimide resin.

上記熱硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂などを例示することができる。   Specifically as said thermosetting resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin etc. can be illustrated, for example.

上記ゴムとしては、具体的には、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴムなどを例示することができる。   Specific examples of the rubber include silicone rubber and fluororubber.

なお、高分子層14中には、酸化防止剤、無機充填剤などの各種添加物が1種または2種以上混合されていても良い。   In the polymer layer 14, various additives such as an antioxidant and an inorganic filler may be mixed alone or in combination.

高分子層14の厚みは、本転写型10に付与したい耐久性、強度、柔軟性などや、本転写型10をロール状などに巻き取った際のロール外径などを考慮して選択することができる。   The thickness of the polymer layer 14 should be selected in consideration of durability, strength, flexibility, etc. desired to be imparted to the transfer mold 10 and the outer diameter of the roll when the transfer mold 10 is rolled up. Can do.

高分子層14の厚みとしては、孔深さの確保、ハンドリング性、コストなどの観点から、好ましくは、0.5〜50μmの範囲内、より好ましくは、1〜20μmの範囲内であると良い。   The thickness of the polymer layer 14 is preferably in the range of 0.5 to 50 μm, more preferably in the range of 1 to 20 μm, from the viewpoints of securing the hole depth, handling properties, cost, and the like. .

本転写型10は、ロール状に巻回したり、ベルト状に形成したりして使用することができる。ロール状とした場合には、型ロールから本転写型10を巻き出し、粒子を転写後に本転写型10を再びロール状に巻き取りするなどすれば、何度も繰り返し使用することができる。また、ベルト状に形成した場合には、型ベルトを循環させることにより、連続的に本転写型10を繰り返し使用することができる。   The transfer mold 10 can be used by being wound into a roll or formed into a belt. In the case of a roll shape, if the main transfer mold 10 is unwound from the mold roll, and after transferring the particles, the main transfer mold 10 is again wound into a roll shape, etc., it can be used repeatedly. When the belt is formed in a belt shape, the transfer mold 10 can be continuously used repeatedly by circulating the mold belt.

2.本転写型の製法
本転写型の製法は、以下の積層工程と、凹部形成工程とを有している。以下、順に説明する。
2. Manufacturing method of the present transfer mold The manufacturing method of the present transfer mold includes the following lamination process and recess forming process. Hereinafter, it demonstrates in order.

積層工程は、長尺の高分子基材の一方面に、高分子層またはその前駆体層を積層する工程である。   A lamination process is a process of laminating a polymer layer or its precursor layer on one side of a long polymer substrate.

高分子層、前駆体層の積層は、上述した高分子そのもの、または、上述した高分子に変換しうるモノマーやオリゴマーなどのポリマー前駆体、あるいは、これらを含む液を、各種コーティング法を用いて、高分子基材上に所定の厚みで塗工することにより行うことができる。   The lamination of the polymer layer and the precursor layer is performed by using the above-described polymer itself, a polymer precursor such as a monomer or an oligomer that can be converted into the above-described polymer, or a liquid containing these using various coating methods. The coating can be carried out by coating the polymer base material with a predetermined thickness.

各種コーティング法としては、ダイコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、コンマコート法、キスコート法、リバースグラビアコート法、小径リバースグラビアコート法、熱押出し製法などを例示することができる。   Examples of the various coating methods include a die coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a comma coating method, a kiss coating method, a reverse gravure coating method, a small diameter reverse gravure coating method, and a thermal extrusion manufacturing method.

凹部形成工程は、高分子層またはその前駆体層の表面に、粒子導入用の多数の凹部を規則的に配列形成する工程である。   The concave portion forming step is a step of regularly arranging a large number of concave portions for introducing particles on the surface of the polymer layer or its precursor layer.

なお、前駆体層を積層した場合には、凹部の形成前後、または、凹部の形成中に、加熱したり、紫外線等の活性エネルギー線を照射したりするなどして、ポリマー前駆体をポリマーに変換すれば良い。変換方法は、ポリマー前駆体の種類に合わせて最適な方法を選択すれば良い。   In addition, when the precursor layer is laminated, the polymer precursor is applied to the polymer by heating or irradiating active energy rays such as ultraviolet rays before or after the formation of the concave portion or during the formation of the concave portion. Convert it. As the conversion method, an optimum method may be selected according to the type of the polymer precursor.

ここで、凹部の形成方法は、上述した形態の凹部を形成することが可能な方法であれば、何れの方法でも適用することができる。   Here, any method can be applied as the method for forming the recess as long as the method can form the recess having the above-described form.

上記凹部の形成方法としては、具体的には、例えば、形成する凹部に対応する凸部を表面に有する平面体を、高分子層または前駆体層の表面に押しつける方法を第1の好適な方法として例示することができる。   As the method for forming the concave portion, specifically, for example, a first preferred method is a method of pressing a planar body having a convex portion corresponding to the concave portion to be formed on the surface of the polymer layer or the precursor layer. It can be illustrated as.

この方法は、凸部を有する平面体を比較的製造、入手しやすい。そのため、凹部の形態、深さ、配列などを各種組み合わせる自由度が高い。もっとも、この方法によると、バッチ式の平面凸型を使用することになる。そのため、本転写型の製造時に、間欠運転となったり、前回の凹部形成位置と今回の凹部形成位置との位置合わせが必要になったりする。しかし、一旦、本転写型を製造すれば、その後、繰り返し使用が可能なことから、特段、粒子転写膜の生産性に影響を及ぼすことはない。   This method is relatively easy to manufacture and obtain a planar body having a convex portion. For this reason, there is a high degree of freedom in combining various forms of recesses, depth, arrangement, and the like. However, according to this method, a batch-type planar convex mold is used. For this reason, at the time of manufacturing the transfer mold, intermittent operation is required, or alignment between the previous recess formation position and the current recess formation position is required. However, once the transfer mold is manufactured, it can be used repeatedly thereafter, so that the productivity of the particle transfer film is not particularly affected.

上記凹部の形成方法としては、具体的には、例えば、形成する凹部に対応する凸部を表面に有するロール体を、高分子層または前駆体層の表面に押しつける方法を第2の好適な方法として例示することができる。   As a method for forming the concave portion, specifically, for example, a method in which a roll body having a convex portion corresponding to the concave portion to be formed is pressed against the surface of the polymer layer or the precursor layer is a second preferred method. It can be illustrated as.

この方法によれば、連続的に凹部を形成することができる。また、凹部形成位置の位置合わせをしなくて済む。そのため、本転写型の生産性を向上させることができる。   According to this method, the concave portion can be continuously formed. Further, it is not necessary to align the recess forming position. Therefore, the productivity of this transfer mold can be improved.

上記凹部の形成方法としては、具体的には、例えば、形成する凹部に対応する凸部を表面に有するベルト体を、高分子層または前駆体層の表面に押しつける方法を第3の好適な方法として例示することができる。   As the method for forming the concave portion, specifically, for example, a method of pressing a belt body having a convex portion corresponding to the concave portion to be formed on the surface of the polymer layer or the precursor layer is a third preferred method. It can be illustrated as.

この方法によれば、連続的に凹部を形成することができる。また、凹部形成位置の位置合わせをしなくて済む。そのため、本転写型の生産性を向上させることができる。   According to this method, the concave portion can be continuously formed. Further, it is not necessary to align the recess forming position. Therefore, the productivity of this transfer mold can be improved.

凹部形成工程では、凹部形成時に、前工程で積層した高分子層や前駆体層の材質等を考慮し、必要に応じて、加熱、加圧、エネルギー線の照射などを行っても良い。加熱、加圧、エネルギー線の照射条件は、上記材質などに応じて最適な範囲を選択すれば良い。   In the recess formation step, heating, pressurization, energy beam irradiation, and the like may be performed as necessary in consideration of the material of the polymer layer and the precursor layer laminated in the previous step when forming the recess. As for the irradiation conditions of heating, pressurization, and energy rays, an optimal range may be selected according to the above materials.

例えば、熱可塑性樹脂等を積層した場合には、加熱を行うことにより、樹脂が柔らかくなるため、凹部を形成しやすくなる。この場合、加熱に加えて加圧も行うと、より凹部を形成しやすくなる。   For example, when a thermoplastic resin or the like is laminated, the resin is softened by heating, so that the concave portion is easily formed. In this case, when pressing is performed in addition to heating, it becomes easier to form the recess.

また例えば、熱硬化性樹脂等を積層した場合には、加熱を行うことにより、また、光硬化性樹脂等を積層した場合には、活性エネルギー線の照射を行うことにより、未硬化成分を凸部表面に沿わせつつ硬化させることができる。そのため、比較的良好な形状を有する凹部を形成しやすくなる。   Further, for example, when a thermosetting resin or the like is laminated, the uncured component is projected by heating, or when a photocurable resin or the like is laminated, the active energy ray is irradiated. It can be hardened along the part surface. Therefore, it becomes easy to form a recess having a relatively good shape.

本転写型の製法を図面を用いてより具体的に説明する。図5は、凸部を表面に有する平面体を高分子層の表面に押しつけ、本転写型を製造する方法の一例を模式的に示した図である。   The production method of this transfer mold will be described more specifically with reference to the drawings. FIG. 5 is a view schematically showing an example of a method for producing the present transfer mold by pressing a flat body having convex portions on the surface thereof against the surface of the polymer layer.

図5に示すように、高分子基材供給ロール20から高分子基材12を間欠的に繰り出し、高分子基材12の一方表面に、コーティング手段22を用いて、所定の厚みで高分子材料24を積層する。   As shown in FIG. 5, the polymer base material 12 is intermittently fed out from the polymer base material supply roll 20, and a polymer material having a predetermined thickness is formed on one surface of the polymer base material 12 using a coating means 22. 24 are stacked.

次いで、調温プレート26により高分子基材12、凹部形成前の高分子層14を加熱しながら、凸部を有する平面体28を、高分子層14の表面に押しつける。なお、この場合、前回押しつけ位置と今回押しつけ位置との位置合わせを行いながら、上記押しつけ動作を繰り返し行うことになる。なお、調温プレート26以外にも、凸部を有する平面体28を調温しても良いし、両者を調温しても構わない。   Next, the planar body 28 having convex portions is pressed against the surface of the polymer layer 14 while heating the polymer substrate 12 and the polymer layer 14 before forming the concave portions by the temperature control plate 26. In this case, the pressing operation is repeatedly performed while aligning the previous pressing position and the current pressing position. In addition to the temperature adjustment plate 26, the temperature of the planar body 28 having the convex portions may be adjusted, or both may be adjusted.

これにより、長尺の本転写型10を製造することでき、これをロール状に巻き取れば、型ロール30を得ることができる。   Thereby, the elongate this transfer mold | type 10 can be manufactured, and if this is wound up in roll shape, the type | mold roll 30 can be obtained.

図6は、凸部を表面に有するロール体を高分子層の表面に押しつけ、本転写型を製造する方法の一例を模式的に示した図である。   FIG. 6 is a diagram schematically showing an example of a method for manufacturing the present transfer mold by pressing a roll body having convex portions on the surface thereof against the surface of the polymer layer.

図6に示すように、高分子基材供給ロール20から高分子基材12を連続的に繰り出し、高分子基材12の一方表面に、コーティング手段22を用いて、所定の厚みで高分子材料24を積層する。   As shown in FIG. 6, the polymer substrate 12 is continuously fed out from the polymer substrate supply roll 20, and a polymer material having a predetermined thickness is formed on one surface of the polymer substrate 12 using a coating means 22. 24 are stacked.

次いで、調温ロール32により高分子基材12、凹部形成前の高分子層14を加熱しながら、凸部を有するロール体34を回転させつつ、高分子層14の表面に押しつける。なお、上記と同様に、調温ロール32以外にも、凸部を有するロール体34を調温しても良いし、両者を調温しても構わない。   Next, while the polymer substrate 12 and the polymer layer 14 before forming the recesses are heated by the temperature control roll 32, the roll body 34 having the projections is pressed against the surface of the polymer layer 14 while rotating. Similarly to the above, in addition to the temperature control roll 32, the roll body 34 having a convex portion may be temperature controlled, or both may be temperature controlled.

これにより、長尺の本転写型10を製造することができ、これをロール状に巻き取れば、型ロール30を得ることができる。   Thereby, the long main transfer mold 10 can be manufactured, and if this is wound up in a roll shape, the mold roll 30 can be obtained.

上述した本転写型の製法の変形例として、長尺の高分子基材の一方面に、その表面に粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成された高分子層またはその前駆体層を転写する工程を有する製法を挙げることができる。   As a modification of the above-described transfer mold manufacturing method, a polymer layer or a precursor layer thereof in which a large number of concave portions for introducing particles are regularly arranged on one surface of a long polymer substrate. The manufacturing method which has the process of transcribe | transferring can be mentioned.

この製法では、例えば、上述した高分子そのもの、または、上述した高分子に変換しうるモノマーやオリゴマーなどのポリマー前駆体、あるいは、これらを含む液を、各種コーティング法を用いて、凸部を有するロール体やベルト体、平面凸型の表面に所定の厚みで塗工する。   In this production method, for example, the polymer itself, or a polymer precursor such as a monomer or an oligomer that can be converted into the polymer, or a liquid containing the same has a convex portion by using various coating methods. Coating is carried out with a predetermined thickness on the surface of a roll body, a belt body, or a planar convex mold.

そして、この塗工層を高分子基材の表面に転写することで、基本的には、多数の凹部を有する高分子層を高分子基材上に形成することができる。もっとも、ポリマー前駆体を用いた場合には、転写前後、または、転写中に、上記と同様にしてポリマー前駆体をポリマーに変換すれば良い。   Then, by transferring this coating layer onto the surface of the polymer substrate, basically, a polymer layer having a large number of recesses can be formed on the polymer substrate. However, when a polymer precursor is used, the polymer precursor may be converted into a polymer in the same manner as described above before or during transfer or during transfer.

3.本転写膜の製法
本転写膜の製法は、上述した本転写型を用いて粒子転写膜を製造する方法である。具体的には、本転写膜の製法は、上述した粒子転写型の凹部に粒子を導入する粒子導入工程と、凹部に導入された粒子を高分子膜の表面に転写する転写工程とを有している。
3. Production method of the present transfer film The production method of the present transfer film is a method of producing a particle transfer film using the above-described present transfer mold. Specifically, the production method of the present transfer film includes a particle introduction step of introducing particles into the above-described particle transfer type recess, and a transfer step of transferring the particles introduced into the recess to the surface of the polymer film. ing.

図7は、ロール状に巻回した本転写型(型ロール)を用いて粒子転写膜を製造する方法の一例を模式的に示した図である。図8は、ベルト状に形成した本転写型(型ベルト)を用いて粒子転写膜を製造する方法の一例を模式的に示した図である。   FIG. 7 is a view schematically showing an example of a method for producing a particle transfer film using the main transfer mold (mold roll) wound in a roll shape. FIG. 8 is a view schematically showing an example of a method for producing a particle transfer film using a main transfer mold (mold belt) formed in a belt shape.

図7では、型ロール30から本転写型10が繰り出され、粒子導入部36にて本転写型10の凹部14a内に粒子16が導入される。次いで、高分子膜供給ロール38から繰り出された高分子膜40の表面に、凹部14a内に導入されていた粒子16が転写され、得られた粒子転写膜42は、ロール状に巻き取られる。一方、転写後の本転写型10は再び巻き取られ、型ロール30とされる。   In FIG. 7, the main transfer mold 10 is unwound from the mold roll 30, and the particles 16 are introduced into the concave portions 14 a of the main transfer mold 10 by the particle introduction part 36. Next, the particles 16 introduced into the recesses 14a are transferred to the surface of the polymer film 40 fed from the polymer film supply roll 38, and the obtained particle transfer film 42 is wound up in a roll shape. On the other hand, the main transfer mold 10 after the transfer is wound up again to form a mold roll 30.

図8では、循環する型ベルト44の凹部14a内に粒子16が導入される。次いで、高分子膜供給ロール38から繰り出された高分子膜40の表面に、凹部14a内に導入されていた粒子16が転写され、得られた粒子転写膜42は、ロール状に巻き取られる。一方、転写後の型ベルト44は、再び粒子導入部36に循環される。   In FIG. 8, the particles 16 are introduced into the recess 14 a of the circulating mold belt 44. Next, the particles 16 introduced into the recesses 14a are transferred to the surface of the polymer film 40 fed from the polymer film supply roll 38, and the obtained particle transfer film 42 is wound up in a roll shape. On the other hand, the transferred mold belt 44 is circulated to the particle introduction section 36 again.

ここで、本転写型の製法において、粒子の導入方法は、特に限定されるものではなく、各種の粒子導入方法を適用することができる。粒子の導入は、乾式・湿式の何れの方式で行っても良い。   Here, in the production method of the present transfer type, the particle introduction method is not particularly limited, and various particle introduction methods can be applied. Particles may be introduced by either dry or wet methods.

粒子導入方法としては、具体的には、例えば、乾燥した粒子粉末またはこれを溶媒中に分散させた分散液を本転写型の凹部形成面上に散布または塗布した後、刷毛、ブラシ、ブレードなどの擦り切り手段により擦り切り、凹部内に粒子を入れる方法、上記散布または塗布後、外部から振動や磁力を加えたり、吸引したりするなどして、凹部内に粒子を入れる方法、吸引型の吸引孔内に粒子を吸引させた後、吸引孔と凹部との位置合わせを行い、吸引孔内に吸引されていた粒子を凹部内へ移動させる方法、上記分散液中に本転写型を浸漬する方法、本転写型の凹部形成面と一定距離離間させて板状部材を配置し、形成された隙間に、上記分散液を導入し、本転写型および/または板状部材をスライド移動させる方法、これらの組み合わせなどを例示することができる。   Specifically, as the particle introduction method, for example, a dried particle powder or a dispersion in which this is dispersed in a solvent is sprayed or applied on the concave surface of the transfer mold, and then a brush, a brush, a blade, etc. The method of putting particles in the recesses by applying the scraping means, the method of putting particles in the recesses by applying vibration or magnetic force from the outside after the above-mentioned spraying or coating, or sucking, etc., the suction type suction hole After the particles are sucked inside, the suction holes and the recesses are aligned, the particles sucked in the suction holes are moved into the recesses, the transfer mold is immersed in the dispersion, A method in which a plate-like member is arranged at a certain distance from the recess forming surface of the transfer mold, the dispersion liquid is introduced into the formed gap, and the transfer mold and / or the plate-like member is slid. Combination etc. It can Shimesuru.

これらのうち、凹部一つにつき粒子を一つずつ導入しやすいなどの観点から、乾燥した粒子粉末を型上に散布後、刷毛、ブラシ、ブレードなどで擦り切り、粒子を入れる方法などが好ましい。   Among these, from the standpoint of easy introduction of particles one by one for each recess, a method in which the dried particle powder is sprayed on a mold and then scraped off with a brush, brush, blade or the like, and the particles are put in place.

また、本転写型の製法において、粒子の転写は、基本的には、本転写型の粒子導入面に高分子膜を接触させれば良い。   In addition, in the transfer type production method, the transfer of particles may basically be performed by bringing a polymer film into contact with the particle introduction surface of the transfer type.

上記転写時には、転写性を向上させるなどの観点から、加熱および/または加圧を行うことが好ましい。なお、加熱・加圧は、例えば、図7または図8に示すように、転写に関与させるロール46を用いて行うことができる。   During the transfer, it is preferable to perform heating and / or pressurization from the viewpoint of improving transferability. The heating and pressurization can be performed using a roll 46 that is involved in the transfer as shown in FIG. 7 or FIG. 8, for example.

上記転写時に加熱を行う場合、その加熱温度としては、高分子膜を構成する高分子の粘度(硬化するものは硬化前の状態)が、好ましくは、2×10Pa・s以下、より好ましくは、1.5×10Pa・s以下、さらにより好ましくは、1×10Pa・s以下となる温度を選択すると良い。高分子膜表面に粒子が食い込みやすく、転写率が良くなるからである。 When heating is performed at the time of the transfer, the heating temperature is preferably the viscosity of the polymer constituting the polymer film (the one to be cured is the state before curing), preferably 2 × 10 4 Pa · s or less. Is preferably 1.5 × 10 4 Pa · s or less, and more preferably 1 × 10 4 Pa · s or less. This is because the particles can easily bite into the polymer film surface and the transfer rate is improved.

なお、上記粘度は、応力制御型レオメータ(例えば、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株)製、「AR500」などが上市されている。)により測定することができる。   The viscosity can be measured by a stress control type rheometer (for example, “AR500”, marketed by T.A. Instruments Japan Co., Ltd.).

また、上記転写時に加圧を行う場合、その加圧力は特に限定されることはない。転写率、高分子膜の膜強度などを考慮して選択すれば良い。通常、0.01〜1MPa程度である。   Further, when pressure is applied during the transfer, the pressure is not particularly limited. The selection may be made in consideration of the transfer rate, the strength of the polymer film, and the like. Usually, it is about 0.01-1 MPa.

なお、高分子膜が粘着性を有する材料よりなる場合には、特に加熱、加圧などを行わなくても転写可能である。   In the case where the polymer film is made of an adhesive material, the transfer can be performed without particularly heating or pressing.

また、粒子転写型から高分子膜を引き剥がす前に、冷却工程などを追加しても良い。とりわけ、転写時に加熱を行った場合には、粒子転写型から高分子膜を引き剥がしやすくなる利点がある。   Further, a cooling step or the like may be added before the polymer film is peeled off from the particle transfer mold. In particular, when heating is performed during transfer, there is an advantage that the polymer film can be easily peeled off from the particle transfer mold.

また、粒子の転写後は、必要に応じて、粒子転写面に離型性を有する基材を貼り合わせつつ、得られた粒子転写膜をロール状に巻き取るなどしても良い。   Further, after the transfer of the particles, the obtained particle transfer film may be wound up in a roll shape while attaching a substrate having releasability to the particle transfer surface as necessary.

上記高分子膜を構成する材料としては、具体的には、各種の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂やゴムなどを用いることができる。粒子転写膜の用途などに応じて適宜選択することができる。   Specifically, various thermosetting resins, thermoplastic resins, rubbers, and the like can be used as the material constituting the polymer film. It can be appropriately selected depending on the use of the particle transfer film.

より具体的には、例えば、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ビスマレイミドトリアジン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリビニル系樹脂などの熱可塑性樹脂、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ビニル基、アミノ基、エポキシ基などの官能基を1種または2種以上含むゴムやエラストマーなどを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   More specifically, for example, epoxy resins, melamine resins, phenol resins, diallyl phthalate resins, bismaleimide triazine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, phenoxy resins, polyamide resins, polyimides Thermosetting resins such as polyamide resins, polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, polyacetal resins, polyvinyl acetal resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polyvinyl resins Examples thereof include thermoplastic resins such as, rubbers and elastomers containing one or more functional groups such as hydroxyl group, carboxyl group, vinyl group, amino group, and epoxy group. These may be contained alone or in combination of two or more.

これら材料中には、硬化剤、硬化促進剤、改質剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤が、必要に応じて、1種または2種以上添加されていても良い。   In these materials, various additives such as a curing agent, a curing accelerator, a modifier, an antioxidant, and a filler may be added, if necessary, one or more.

上記高分子膜の膜厚は、特に限定されるものではないが、粒子転写膜の用途、粒子の粒径、高分子膜の膜強度、製造性などを考慮して決定することができる。   The film thickness of the polymer film is not particularly limited, but can be determined in consideration of the application of the particle transfer film, the particle diameter of the particle, the film strength of the polymer film, the manufacturability, and the like.

例えば、粒子転写膜を異方性導電膜に利用する場合には、上記高分子膜の膜厚の上限としては、適正な抵抗値が得やすくなる、圧着時の粒子の動きなどの観点から、好ましくは、上記粒子の粒径の3/2倍以下、より好ましくは、上記粒子の粒径の1倍以下、さらに好ましくは、上記粒子の粒径の2/3倍以下などであると良い。   For example, when using a particle transfer film for an anisotropic conductive film, the upper limit of the film thickness of the polymer film is easy to obtain an appropriate resistance value, from the viewpoint of the movement of particles during pressure bonding, etc. Preferably, it is not more than 3/2 times the particle size of the particles, more preferably not more than 1 time the particle size of the particles, and more preferably not more than 2/3 times the particle size of the particles.

一方、上記高分子膜の膜厚の下限としては、粒子の転写性、圧着時の粒子の動きなどの観点から、好ましくは、上記粒子の粒径の1/10倍以上、より好ましくは、上記粒子の粒径の1/5倍以上、さらに好ましくは、上記粒子の粒径の1/3倍以上などであると良い。   On the other hand, the lower limit of the film thickness of the polymer film is preferably 1/10 or more times the particle diameter of the particle, more preferably, from the viewpoint of particle transferability, particle movement during pressure bonding, and the like. The particle size is 1/5 times or more of the particle size, more preferably 1/3 times or more the particle size of the particles.

なお、上記高分子膜は、上記高分子材料を適当な固形分量、粘度となるように調製した塗液を、コーターなどの公知の塗工手段を用いて基材上に塗工し、必要に応じて乾燥させる方法、上記高分子材料を平坦な膜状にプレス成形する方法などにより準備することができ、特に限定されるものではない。   The polymer film is prepared by applying a coating liquid prepared from the polymer material so as to have an appropriate solid content and viscosity on a substrate using a known coating means such as a coater. Accordingly, it can be prepared by a method of drying, a method of press-molding the polymer material into a flat film, and the like, and is not particularly limited.

4.本ACF
本ACFは、上述した本転写膜の製法により得られた粒子転写膜をその一部として用いている。なお、この場合には、粒子は、基本的に導電性を有している。
4). This ACF
This ACF uses, as a part thereof, a particle transfer film obtained by the above-described method for manufacturing the transfer film. In this case, the particles basically have conductivity.

図9は、本ACFの一例を模式的に示した断面図である。図9に示すように、本ACF50は、粒子転写膜42(導電性粒子16、高分子膜40)と、接着層48とを有している。   FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing an example of the present ACF. As shown in FIG. 9, the present ACF 50 has a particle transfer film 42 (conductive particles 16, polymer film 40) and an adhesive layer 48.

本ACFは、例えば、次のようにして製造することができる。粒子転写膜は、基本的には、高分子膜の一方面に粒子が転写されており、転写された粒子は、膜表面に突出している。   The present ACF can be manufactured, for example, as follows. In the particle transfer film, basically, the particles are transferred to one surface of the polymer film, and the transferred particles protrude from the film surface.

この転写面に接着層を被覆すれば、本ACFを製造することができる。   The ACF can be manufactured by coating the transfer surface with an adhesive layer.

また、転写された粒子の脱落などを抑制するなどの観点から、転写した粒子を高分子膜に確実に保持させ、その後、この膜の少なくとも一方面に接着層を形成することによっても、本ACFを製造するができる。   In addition, from the viewpoint of preventing the transferred particles from dropping off, the transferred particles are securely held on the polymer film, and then an adhesive layer is formed on at least one surface of the film. Can be manufactured.

転写した粒子を高分子膜に保持させる方法としては、例えば、(1)粒子を加圧する方法、(2)高分子膜を加熱して軟化させ、粒子の自重により粒子を膜内に埋没させる方法などを例示することができる。これら方法は、互いに組み合わせて行っても良い。   Examples of the method for holding the transferred particles in the polymer film include (1) a method of pressurizing the particles, and (2) a method of heating and softening the polymer film and burying the particles in the film by the weight of the particles. Etc. can be illustrated. These methods may be performed in combination with each other.

粒子を確実に膜に保持させやすいなどの観点から、(1)の方法が良い。より好ましくは、(1)の方法において、高分子膜を加熱しながら粒子を加圧すると良い。具体的には、ラミネート手法などを適用することができる。なお、上記加圧は、粒子の上にセパレータなどの介在物を任意に介して行うことができる。   The method (1) is preferable from the viewpoint of easily holding the particles in the film. More preferably, in the method (1), the particles may be pressurized while heating the polymer film. Specifically, a laminating method or the like can be applied. In addition, the said pressurization can be performed through inclusions, such as a separator, on particle | grains arbitrarily.

上記加圧を行う場合、その加圧力は特に限定されることはない。膜強度、型強度、膜厚、粒子の強度などを考慮して選択すれば良い。通常、0.01〜1MPa程度である。   When the pressurization is performed, the applied pressure is not particularly limited. Selection may be made in consideration of film strength, mold strength, film thickness, particle strength, and the like. Usually, it is about 0.01-1 MPa.

上記加熱を行う場合、その加熱温度は特に限定されることはない。加熱温度は、使用する高分子の種類、耐熱性などによっても異なるが、好ましくは、高分子のガラス転移温度+20℃〜+40℃程度の温度を選択すると良い。膜内に粒子を埋め込みやすくなるからである。   When performing the said heating, the heating temperature is not specifically limited. The heating temperature varies depending on the type of polymer to be used, heat resistance, and the like, but it is preferable to select a temperature of about 20 ° C. to + 40 ° C. of the polymer glass transition temperature. This is because it becomes easier to embed particles in the film.

粒子は、膜内にその全てが埋め込まれていても良いし、膜表面のうち、少なくとも一方面にその一部が露出していても良い。   All of the particles may be embedded in the film, or a part of the particles may be exposed on at least one surface of the film surface.

なお、上記粒子の埋め込み程度は、加圧力、加圧時間、加熱温度、加熱時間などを適宜調節することで可変させることができる。   Note that the degree of embedding of the particles can be varied by appropriately adjusting the pressing force, pressurizing time, heating temperature, heating time, and the like.

一方、上記接着層の形成方法としては、具体的には、例えば、接着層材料を適当な固形分量、粘度となるように調製した塗液を、コーターなどの公知の塗工手段を用いて粒子の保持面に塗工し、必要に応じて乾燥させる方法、上記方法などにより予め作製しておいた膜状の接着層を貼り合わせる方法などを例示することができる。   On the other hand, as the method for forming the adhesive layer, specifically, for example, a coating liquid prepared so that the adhesive layer material has an appropriate solid content and viscosity can be obtained using known coating means such as a coater. Examples thereof include a method of coating on the holding surface and drying as necessary, and a method of attaching a film-like adhesive layer prepared in advance by the above method.

上記接着層を構成する材料としては、具体的には、各種の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂やゴムなどを用いることができる。   Specifically, various thermosetting resins, thermoplastic resins, rubbers, and the like can be used as the material constituting the adhesive layer.

より具体的には、例えば、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ビスマレイミドトリアジン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シアネート系樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレンオキシド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリビニル系樹脂などの熱可塑性樹脂、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ビニル基、アミノ基、エポキシ基などの官能基を1種または2種以上含むゴムやエラストマーなどを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   More specifically, for example, epoxy resins, melamine resins, phenol resins, diallyl phthalate resins, bismaleimide triazine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, phenoxy resins, polyamide resins, polyimides Resins, cyanate resins and other thermosetting resins, polyamide resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, polyacetal resins, polyvinyl acetal resins, polyethylene resins, polypropylene resins Examples thereof include thermoplastic resins such as polyvinyl resins, rubbers and elastomers containing one or more functional groups such as hydroxyl group, carboxyl group, vinyl group, amino group and epoxy group. These may be contained alone or in combination of two or more.

なお、これら材料中には、硬化剤、硬化促進剤、改質剤、酸化防止剤、充填剤などの各種添加剤が、必要に応じて、1種または2種以上添加されていても良い。   In these materials, one or more kinds of additives such as a curing agent, a curing accelerator, a modifier, an antioxidant, and a filler may be added as necessary.

上記接着層を構成する材料としては、好ましくは、被接続物との密着性に優れるなどの観点から、熱硬化性樹脂を主に含んでいると良い。熱硬化性樹脂のうち、好ましくは、エポキシ系樹脂などである。   The material constituting the adhesive layer preferably contains a thermosetting resin mainly from the viewpoint of excellent adhesion to an object to be connected. Of the thermosetting resins, an epoxy resin is preferable.

なお、熱硬化性樹脂を用いる場合、当該熱硬化性樹脂は、半硬化されてプリプレグとされていても良い。   In addition, when using a thermosetting resin, the said thermosetting resin may be semi-hardened and made into the prepreg.

上記接着層の厚みは、接着層と接着する被接続物が有する導体(ICチップのバンプなど)の高さ、被接続物同士(ICチップと配線基板など)の間に生じる隙間量などを考慮して決定することができる。   The thickness of the adhesive layer takes into account the height of the conductor (IC chip bump, etc.) of the connected object to be bonded to the adhesive layer, and the amount of gap generated between the connected objects (IC chip and wiring board, etc.). Can be determined.

上記接着層の厚みの上限は、好ましくは、接着層と接着する被接続物が有する導体の高さの3倍以下、より好ましくは、2倍以下、さらにより好ましくは、1.75倍以下であると良い。   The upper limit of the thickness of the adhesive layer is preferably 3 times or less, more preferably 2 times or less, and even more preferably 1.75 times or less the height of the conductor of the connected object to be bonded to the adhesive layer. Good to have.

上記接着層の厚みの下限は、好ましくは、接着層と接着する被接続物が有する導体の高さの1倍以上、より好ましくは、1.2倍以上、さらにより好ましくは、1.3倍以上であると良い。   The lower limit of the thickness of the adhesive layer is preferably 1 time or more, more preferably 1.2 times or more, and even more preferably 1.3 times the height of the conductor of the connected object to be bonded to the adhesive layer. It is good to be above.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.

1.粒子転写型の製造
(長尺高分子基材の準備)
長尺の高分子基材として、長尺のポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製、「ルミラーT60」、幅:250mm、厚み:250μm)(以下、「PETフィルム」と称する。)を準備した。
1. Production of particle transfer mold (preparation of long polymer substrate)
As a long polymer substrate, a long polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Industries, Inc., “Lumirror T60”, width: 250 mm, thickness: 250 μm) (hereinafter referred to as “PET film”) was prepared.

(高分子層形成用組成物<1>の調製)
固形分量が50質量%となるようにポリカーボネート(アルドリッチ社製)をトルエンで希釈し、高分子層形成用組成物<1>を調製した。
(Preparation of polymer layer forming composition <1>)
Polycarbonate (manufactured by Aldrich) was diluted with toluene so that the solid content was 50% by mass, and a polymer layer forming composition <1> was prepared.

(高分子層形成用組成物<2>の調製)
固形分量が50質量%となるようにアクリル系モノマー(東洋合成(株)製、「PAK−02」)をN−ビニル−ピロリドンで希釈し、高分子層形成用組成物<2>を調製した。
(Preparation of polymer layer forming composition <2>)
An acrylic monomer (“PAK-02” manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.) was diluted with N-vinyl-pyrrolidone so that the solid content was 50% by mass, and a polymer layer forming composition <2> was prepared. .

(平面凸型の準備)
ドライエッチング法を用いて、シリコンウェハ表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列した略円柱状の凹部(断面:直径5μmの略円形状、凹深さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を形成し、Si型を作製した。
(Preparation of flat convex type)
Using a dry etching method, a substantially cylindrical concave portion (cross section: substantially circular shape with a diameter of 5 μm, concave depth: 3.5 μm, tilted at about 8 ° and regularly arranged in a staggered manner on the silicon wafer surface. (Pitch: 9 μm) was formed to produce a Si type.

次いで、このSi型を元型とし、電鋳法を用いて、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列した略円柱状の凸部(断面:直径5μmの略円形状、凸高さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を有するNi製の平面凸型(縦100mm、横100mm、厚み500μm)を準備した。   Next, this Si mold is used as a base mold, and by using an electroforming method, a substantially cylindrical convex portion (cross section: a substantially circular shape having a diameter of 5 μm, a convex height) that is inclined at about 8 ° and regularly arranged in a staggered manner. A planar convex mold (length: 100 mm, width: 100 mm, thickness: 500 μm) made of Ni having a thickness of 3.5 μm and a pitch of 9 μm was prepared.

(ロール凸型の準備)
表面にCrめっき層(厚み50μm)を有するロール体(直径150mm)を準備し、上記Crめっき層をバイトにて切削加工することにより、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列した略角柱状の凸部(断面:1辺6μmの菱形形状、凸高さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を形成した。これにより、ロール凸型を準備した。
(Preparation of roll convex type)
A roll body (diameter: 150 mm) having a Cr plating layer (thickness: 50 μm) on the surface was prepared, and the Cr plating layer was cut with a cutting tool so that it was regularly arranged in a staggered manner at an angle of about 8 °. Protrusions having a substantially prismatic shape (cross section: rhombus shape with a side of 6 μm, convex height: 3.5 μm, pitch: 9 μm) were formed. Thereby, a roll convex mold was prepared.

(実施例1に係る粒子転写型の作製)
ダイコータを用い、連続的に供給されるPETフィルムの一方面に、高分子層形成用組成物<1>を塗工した。その後、この塗工層を100℃で60秒間乾燥させた。これにより、長尺のPETフィルムの一方面にポリカーボネート層(厚み10μm)を積層した。なお、この積層体はロール状に巻き取った。
(Production of particle transfer mold according to Example 1)
Using a die coater, the polymer layer forming composition <1> was applied to one side of a continuously supplied PET film. Then, this coating layer was dried at 100 ° C. for 60 seconds. Thereby, a polycarbonate layer (thickness 10 μm) was laminated on one surface of the long PET film. In addition, this laminated body was wound up in roll shape.

次いで、平面凸型(加熱温度160℃)の凸面とSUS製の平板(加熱温度160℃)とを対向配置させた。その後、両者の間に、上記ロールから巻き出した積層体を供給し、ポリカーボネート層の表面に平面型の凸面を押しつけた(加圧力:0.5MPa、押しつけ時間:5秒)。   Next, a convex surface having a flat convex shape (heating temperature of 160 ° C.) and a SUS flat plate (heating temperature of 160 ° C.) were arranged to face each other. Thereafter, the laminate unwound from the roll was supplied between the two, and a flat convex surface was pressed against the surface of the polycarbonate layer (pressing force: 0.5 MPa, pressing time: 5 seconds).

なお、積層体の巻き出しは、ステップ&リピート方式にて行った。また、光学顕微鏡を用いて、前回押しつけ位置と今回押しつけ位置との位置合わせを行いながら、上記押しつけ動作を繰り返し行った。   In addition, unwinding of the laminated body was performed by the step & repeat method. In addition, the above pressing operation was repeated using the optical microscope while aligning the previous pressing position and the current pressing position.

これにより、長尺のPETフィルムの一方面にポリカーボネート層が積層されており、このポリカーボネート層の表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列形成された略円柱状の凹部(断面:直径5μmの略円形状、凹深さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を有する、実施例1に係る粒子転写型を得た。なお、得られた粒子転写型はロール状に巻き取った。   As a result, a polycarbonate layer is laminated on one surface of the long PET film, and a substantially cylindrical recess (inclined and arranged in a staggered manner at an angle of about 8 ° on the surface of the polycarbonate layer ( A particle transfer mold according to Example 1 having a cross section: a substantially circular shape with a diameter of 5 μm, a concave depth: 3.5 μm, and a pitch: 9 μm was obtained. The obtained particle transfer mold was wound into a roll.

(実施例2に係る粒子転写型の作製)
実施例1に係る粒子転写型の作製において、平面凸型の対向部材としてSUS製の平板に代えて、ゴム製ロール(外径150mm、加熱温度160℃)を用い、加圧しながらフィルムを5mm/秒で走行させた点以外は同様にして、実施例2に係る粒子転写型を作製した。
(Production of particle transfer mold according to Example 2)
In the production of the particle transfer mold according to Example 1, a rubber roll (outer diameter 150 mm, heating temperature 160 ° C.) was used instead of a SUS flat plate as a flat convex opposing member, and the film was pressed at 5 mm / mm while pressing. A particle transfer mold according to Example 2 was produced in the same manner except that the run was performed in seconds.

なお、実施例2に係る粒子転写型も、実施例1に係る粒子転写型と同様に、長尺のPETフィルムの一方面にポリカーボネート層が積層されており、このポリカーボネート層の表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列形成された略円柱状の凹部(断面:直径5μmの略円形状、凹深さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を有している。   In the particle transfer mold according to Example 2, as in the particle transfer mold according to Example 1, a polycarbonate layer is laminated on one side of a long PET film, and about 8 on the surface of this polycarbonate layer. It has substantially cylindrical recesses (cross-section: approximately circular shape with a diameter of 5 μm, recess depth: 3.5 μm, pitch: 9 μm) that are regularly arranged in a zigzag pattern with an inclination of °.

(実施例3に係る粒子転写型の作製)
実施例1に係る粒子転写型の作製において、平面凸型に代えてロール凸型(加熱温度160℃)を用いた点、このロール凸型の対向部材としてゴム製ロール(外径150mm、加熱温度160℃)を用いた点、ロールから巻き出した積層体をロール凸型とゴム製ロールとの間に真っ直ぐに連続供給し、ポリカーボネート層の表面にロール凸型の凸面を位置合わせを行わずに連続的に押しつけた(加圧力:0.5MPa、フィルムを5mm/秒で走行)点以外は同様にして、実施例3に係る粒子転写型を作製した。
(Production of particle transfer mold according to Example 3)
In the production of the particle transfer mold according to Example 1, a roll convex mold (heating temperature 160 ° C.) was used instead of the flat convex mold, and a rubber roll (outer diameter 150 mm, heating temperature) was used as an opposing member of the roll convex mold. 160 ° C), the laminate unwound from the roll is continuously supplied straight between the roll convex mold and the rubber roll, and the roll convex convex surface is not aligned with the surface of the polycarbonate layer. A particle transfer mold according to Example 3 was produced in the same manner except that the point was continuously pressed (pressing force: 0.5 MPa, the film was run at 5 mm / second).

なお、実施例3に係る粒子転写型は、長尺のPETフィルムの一方面にポリカーボネート層が積層されており、このポリカーボネート層の表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列形成された略角柱状の凹部(断面:1辺6μmの菱形形状、凸高さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を有している。   In the particle transfer mold according to Example 3, a polycarbonate layer is laminated on one surface of a long PET film, and the polycarbonate layer is regularly arranged in a zigzag pattern inclined at about 8 °. It has a substantially prismatic concave portion (cross section: rhombus shape with a side of 6 μm, convex height: 3.5 μm, pitch: 9 μm).

(実施例4に係る粒子転写型の作製)
ダイコータを用い、連続的に供給されるPETフィルムの一方面に、高分子層形成用組成物<2>を塗工した。その後、この塗工層を70℃で60秒間乾燥させた。これにより、長尺のPETフィルムの一方面にアクリル系モノマー層(厚み10μm)を積層した。なお、この積層体は、アクリル系モノマー層にセパレータ(ポリエチレンテレフタレートフィルム、リンテック(株)製「PET5011」、幅:250mm、厚み:50μm)を貼り合わせつつ、ロール状に巻き取った。上記セパレータは、雰囲気中の酸素により紫外線硬化が損なわれないようにするためのものである。
(Production of particle transfer mold according to Example 4)
Using a die coater, the polymer layer forming composition <2> was applied to one surface of a continuously supplied PET film. Then, this coating layer was dried at 70 ° C. for 60 seconds. Thus, an acrylic monomer layer (thickness 10 μm) was laminated on one side of the long PET film. In addition, this laminated body was wound up in roll shape, bonding a separator (A polyethylene terephthalate film, "PET5011" by Lintec Co., Ltd., width: 250 mm, thickness: 50 micrometers) on the acrylic monomer layer. The separator is for preventing ultraviolet curing from being impaired by oxygen in the atmosphere.

次いで、ロール凸型(加熱せず)の凸面とゴム製ロール(外径150mm、加熱せず)とを対向配置させた。その後、上記ロールから巻き出した積層体をロール凸型の表面に沿わせながら(巻きつけながら)連続供給し、アクリル系モノマー層の表面にロール凸型の凸面を押しつけた(加圧力:0.5MPa)。   Subsequently, the convex surface of the roll convex type (not heated) and the rubber roll (outer diameter 150 mm, not heated) were arranged to face each other. Thereafter, the laminate unwound from the roll was continuously supplied while being rolled along the roll convex surface, and the convex surface of the roll convex was pressed against the surface of the acrylic monomer layer (pressure: 0. 5 MPa).

そして、この押しつけ時に、紫外線照射機(高圧水銀ランプ、無電極)を用いて、PETフィルム面側から紫外線を照射(10mJ/cm)することにより、アクリル系モノマー層を紫外線硬化させ、アクリル系ポリマー層とした。 At the time of this pressing, the acrylic monomer layer is UV-cured by irradiating ultraviolet rays (10 mJ / cm 2 ) from the PET film surface side using an ultraviolet irradiator (high pressure mercury lamp, electrodeless). A polymer layer was obtained.

これにより、長尺のPETフィルムの一方面にアクリル系ポリマー層が積層されており、このアクリル系ポリマー層の表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列形成された略角柱状の凹部(断面:1辺6μmの菱形形状、凸高さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を有する、実施例4に係る粒子転写型を得た。なお、得られた粒子転写型はロール状に巻き取った。   As a result, an acrylic polymer layer is laminated on one side of a long PET film, and the surface of the acrylic polymer layer is inclined approximately 8 ° and is arranged in a regular pattern in a staggered manner. A particle transfer mold according to Example 4 having columnar concave portions (cross section: rhombus shape with a side of 6 μm, convex height: 3.5 μm, pitch: 9 μm) was obtained. The obtained particle transfer mold was wound into a roll.

(実施例5に係る粒子転写型の作製)
ロール凸型(加熱せず)の凸面とゴム製ロール(外径150mm、加熱せず)とを対向配置させた。その後、高分子層形成用組成物<2>をロール凸型の表面に直接塗工し、PETフィルムロールから巻き出したPETフィルムを、ゴム製ロール表面およびロール凸型の表面に沿わせつつ連続供給することにより、PETフィルム表面にアクリル系モノマー層を転写した。
(Production of particle transfer mold according to Example 5)
The convex surface of the roll convex type (not heated) and the rubber roll (outer diameter 150 mm, not heated) were arranged to face each other. Thereafter, the polymer layer forming composition <2> is directly applied to the roll convex surface, and the PET film unwound from the PET film roll is continuously applied along the rubber roll surface and the roll convex surface. By supplying, the acrylic monomer layer was transferred to the surface of the PET film.

そしてこの転写時に、紫外線照射機(高圧水銀ランプ、無電極)を用いて、PETフィルム面側から紫外線を照射(10mJ/cm)することにより、アクリル系モノマー層を紫外線硬化させ、アクリル系ポリマー層とした。 At the time of this transfer, the acrylic monomer layer is UV-cured by irradiating ultraviolet rays (10 mJ / cm 2 ) from the PET film surface side using an ultraviolet irradiator (high pressure mercury lamp, electrodeless). Layered.

これにより、長尺のPETフィルムの一方面にアクリル系ポリマー層が積層されており、このアクリル系ポリマー層の表面に、約8°に傾斜して千鳥状に規則的に配列形成された略角柱状の凹部(断面:1辺6μmの菱形形状、凸高さ:3.5μm、ピッチ:9μm)を有する、実施例5に係る粒子転写型を得た。なお、得られた粒子転写型はロール状に巻き取った。   As a result, an acrylic polymer layer is laminated on one side of a long PET film, and the surface of the acrylic polymer layer is inclined approximately 8 ° and is arranged in a regular pattern in a staggered manner. A particle transfer mold according to Example 5 having columnar concave portions (cross section: rhombus shape with a side of 6 μm, convex height: 3.5 μm, pitch: 9 μm) was obtained. The obtained particle transfer mold was wound into a roll.

2.粒子転写膜の製造
(高分子膜の準備)
アルコール可溶ポリアミド系樹脂23.39質量部と、フェノキシ系樹脂(東都化成(株)製、「EFR−0010M30」)25.16質量部と、エポキシ系樹脂(東都化成(株)製、「FX289EK75」)4.9質量部と、エポキシ系樹脂(東都化成(株)製、「FX305EK70」)2.67質量部と、メラミン系樹脂(三和ケミカル(株)製、「ニカラックMX−750」)1.37質量部と、硬化剤(四国化成(株)製、「C11Z」)0.38質量部と、硬化剤(三菱ガス化学(株)製、「F−TMA」)0.57質量部と、メタノール24.26質量部と、トルエン48.05質量部と、メチルセロソルブ69.2質量部とを混合し、高分子溶液を調製した。
2. Production of particle transfer film (preparation of polymer film)
23.39 parts by mass of an alcohol-soluble polyamide resin, 25.16 parts by mass of a phenoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “EFR-0010M30”), and an epoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “FX289EK75 ) 4.9 parts by mass, 2.67 parts by mass of an epoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “FX305EK70”), and a melamine resin (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., “Nicarac MX-750”) 1.37 parts by mass, 0.38 parts by mass of a curing agent (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., “C11Z”) and 0.57 parts by mass of a curing agent (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., “F-TMA”) Then, 24.26 parts by mass of methanol, 48.05 parts by mass of toluene, and 69.2 parts by mass of methyl cellosolve were mixed to prepare a polymer solution.

次いで、コンマコーターを用い、連続的に供給される支持フィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、リンテック(株)製「PET50X」、幅:250mm、厚み:50μm)の離型面に、上記高分子溶液を塗工した。   Next, using a comma coater, coat the above polymer solution on the release surface of a continuously supplied support film (polyethylene terephthalate film, “PET50X” manufactured by Lintec Corporation, width: 250 mm, thickness: 50 μm) did.

次いで、この塗工層を160℃で90秒間乾燥させ、ポリアミド系樹脂とフェノキシ系樹脂とを主成分とする樹脂よりなる平坦な高分子膜(厚み1.5μm)を形成した。その後、この高分子膜の表面に、セパレータ(ポリエチレンテレフタレートフィルム、リンテック(株)製、「PET5011」、厚み50μm、)の離型面を貼り合わせつつロール状に巻き取った。   Next, this coating layer was dried at 160 ° C. for 90 seconds to form a flat polymer film (thickness 1.5 μm) made of a resin mainly composed of a polyamide-based resin and a phenoxy-based resin. Thereafter, a release surface of a separator (polyethylene terephthalate film, manufactured by Lintec Corporation, “PET5011”, thickness 50 μm) was attached to the surface of the polymer film, and wound into a roll.

これにより、ポリアミド系樹脂とフェノキシ系樹脂とを主成分とする長尺な高分子膜を用意した。   As a result, a long polymer film mainly comprising a polyamide resin and a phenoxy resin was prepared.

(実施例1Tに係る粒子転写膜の作製)
ロール状に巻回されている実施例1に係る粒子転写型を連続的に巻き出し、走行する粒子転写型の凹面上に、樹脂めっき粒子(積水化学工業(株)「ミクロパールAU−204」、平均粒径:4μm)を散布した。
(Preparation of Particle Transfer Film According to Example 1T)
The particle transfer mold according to Example 1 wound in a roll is continuously unwound, and resin plating particles (Sekisui Chemical Co., Ltd. “Micropearl AU-204”) are formed on the concave surface of the traveling particle transfer mold. , Average particle size: 4 μm).

その後、凹面と反対側に設置した永久磁石((株)西興産業製、フェライト磁石、1000ガウス)にて、樹脂めっき粒子を型に引きつけつつ、刷毛にて表面を擦り切り、凹部一つにつき樹脂めっき粒子を一つずつ導入した。   Then, with a permanent magnet (manufactured by Seiko Sangyo Co., Ltd., ferrite magnet, 1000 gauss) installed on the opposite side of the concave surface, the resin plating particles are attracted to the mold, and the surface is scraped off with a brush. Plated particles were introduced one by one.

なお、凹部が形成されていない型表面に付着していた樹脂めっき粒子や、凹部に導入された樹脂めっき粒子に静電気力などで付着していた樹脂めっき粒子は、表面の擦り切り、および、極微粘着フィルム(JIS Z 0237に準拠して測定される粘着力が0.1N/25mm以下のテープ、ここでは、(株)きもと製「ビューフルEP50LS」を使用)を押しつけることにより除去した。   Resin plating particles adhering to the mold surface where no recesses are formed, or resin plating particles adhering to resin plating particles introduced into the recesses due to electrostatic force, etc., are scraped on the surface and are extremely finely adhered. The film was removed by pressing a film (tape having an adhesive strength measured in accordance with JIS Z 0237 of 0.1 N / 25 mm or less, here, using “Viewful EP50LS” manufactured by Kimoto Co., Ltd.).

次いで、セパレータを剥離させつつロールから巻き出した高分子膜の表面と、粒子転写型の樹脂めっき粒子の導入面とを重ね合わせ、これを、一対の加熱・加圧ロールにより挟み込んで熱ラミネートした。この際、加熱温度は120℃、加圧力は0.5MPa、ライン走行速度は5mm/秒とした。   Next, the surface of the polymer film unwound from the roll while peeling the separator and the introduction surface of the particle transfer type resin plating particles were overlapped, and this was sandwiched between a pair of heating / pressure rolls and thermally laminated. . At this time, the heating temperature was 120 ° C., the applied pressure was 0.5 MPa, and the line running speed was 5 mm / second.

次いで、一対の冷却ロール間を通過させることにより、貼り合わせたフィルムを徐冷した。その後、粒子転写型から高分子膜を引き剥がし、高分子膜の表面に粒子を転写させ、実施例1Tに係る粒子転写膜を得た。なお、得られた粒子転写膜は、粒子転写面にセパレータ(リンテック(株)製「PET5011」、幅:250mm、厚み:50μm))を貼り合わせつつロール状に巻き取った。また、高分子膜から分離された粒子転写型は、再びロール状に巻き取った。   Next, the bonded film was gradually cooled by passing between a pair of cooling rolls. Thereafter, the polymer film was peeled off from the particle transfer mold, and the particles were transferred to the surface of the polymer film to obtain a particle transfer film according to Example 1T. The obtained particle transfer film was wound up in a roll shape with a separator (“PET5011” manufactured by Lintec Corporation, width: 250 mm, thickness: 50 μm) attached to the particle transfer surface. Further, the particle transfer mold separated from the polymer film was again wound into a roll shape.

(実施例2Tに係る粒子転写膜の作製)
実施例1Tに係る粒子転写膜の作製において、実施例1に係る粒子転写型に代えて、実施例2に係る粒子転写型を用いた点以外は同様にして、実施例2Tに係る粒子転写膜を作製した。
(Preparation of Particle Transfer Film According to Example 2T)
In the production of the particle transfer film according to Example 1T, the particle transfer film according to Example 2T is similarly manufactured except that the particle transfer mold according to Example 2 is used instead of the particle transfer mold according to Example 1. Was made.

(実施例3Tに係る粒子転写膜の作製)
実施例1Tに係る粒子転写膜の作製において、実施例1に係る粒子転写型に代えて、実施例3に係る粒子転写型を用いた点以外は同様にして、実施例3Tに係る粒子転写膜を作製した。
(Preparation of Particle Transfer Film According to Example 3T)
In the production of the particle transfer film according to Example 1T, the particle transfer film according to Example 3T is similarly manufactured except that the particle transfer mold according to Example 3 is used instead of the particle transfer mold according to Example 1. Was made.

(実施例4Tに係る粒子転写膜の作製)
実施例1Tに係る粒子転写膜の作製において、実施例1に係る粒子転写型に代えて、実施例4に係る粒子転写型を用いた点以外は同様にして、実施例4Tに係る粒子転写膜を作製した。
(Preparation of Particle Transfer Film According to Example 4T)
In the production of the particle transfer film according to Example 1T, the particle transfer film according to Example 4T is similarly manufactured except that the particle transfer mold according to Example 4 is used instead of the particle transfer mold according to Example 1. Was made.

(実施例5Tに係る粒子転写膜の作製)
実施例1Tに係る粒子転写膜の作製において、実施例1に係る粒子転写型に代えて、実施例5に係る粒子転写型を用いた点以外は同様にして、実施例5Tに係る粒子転写膜を作製した。
(Preparation of Particle Transfer Film According to Example 5T)
In the production of the particle transfer film according to Example 1T, the particle transfer film according to Example 5T is similarly manufactured except that the particle transfer mold according to Example 5 is used instead of the particle transfer mold according to Example 1. Was made.

3.異方性導電膜の製造
(接着層の準備)
1,1,2,2−テトラキス(ヒドロキシフェニルエタン)型エポキシ系樹脂22.5質量部と、シクロペンタジエン型エポキシ系樹脂67.5質量部と、カルボキシル基含有ニトリルゴム10質量部と、潜在性硬化剤55.2質量部と、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール4.5質量部と、真球シリカ31.1質量部とを、固形分量が42%となるようにトルエン/酢酸エチル(=75/25重量比)にて希釈し、接着剤溶液を調製した。
3. Production of anisotropic conductive film (preparation of adhesive layer)
1,1,2,2-tetrakis (hydroxyphenylethane) type epoxy resin 22.5 parts by mass, cyclopentadiene type epoxy resin 67.5 parts by mass, carboxyl group-containing nitrile rubber 10 parts by mass, and potential 55.2 parts by mass of a curing agent, 4.5 parts by mass of 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, and 31.1 parts by mass of true spherical silica were added to toluene / ethyl acetate (solid content of 42%). = 75/25 weight ratio) to prepare an adhesive solution.

次いで、コンマコーターを用い、連続的に供給される支持フィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、リンテック(株)製「PET50C」、厚み:50μm)の離型面に、上記接着剤溶液を塗工した。   Next, the above adhesive solution was applied to a release surface of a continuously supplied support film (polyethylene terephthalate film, “PET50C” manufactured by Lintec Corporation, thickness: 50 μm) using a comma coater.

次いで、この塗工層を110℃で90秒間乾燥させ、接着層(厚み26μm)を形成した。その後、この接着層の表面に、セパレータ(ポリエチレンテレフタレートフィルム、リンテック(株)製、「PET5011」、厚み50μm)の離型面を貼り合わせつつロール状に巻き取った。   Subsequently, this coating layer was dried at 110 ° C. for 90 seconds to form an adhesive layer (thickness: 26 μm). Thereafter, the release surface of a separator (polyethylene terephthalate film, manufactured by Lintec Corporation, “PET5011”, thickness 50 μm) was bonded to the surface of the adhesive layer in a roll shape.

これにより、長尺な接着層を用意した。   Thereby, a long adhesive layer was prepared.

(実施例1Aに係る異方性導電膜の作製)
セパレータをつけたままロールから巻き出した実施例1Tに係る粒子転写膜を、一対の加熱・加圧ロールにより挟み込み、転写されていた樹脂めっき粒子の一部を高分子膜内に埋め込んで確実に保持させた。この際、加熱温度は130℃、加圧力は0.5MPa、ライン走行速度は0.5m/分とした。
(Preparation of anisotropic conductive film according to Example 1A)
The particle transfer film according to Example 1T unwound from the roll with the separator attached is sandwiched between a pair of heating / pressure rolls, and a part of the transferred resin plating particles are embedded in the polymer film to ensure Held. At this time, the heating temperature was 130 ° C., the applied pressure was 0.5 MPa, and the line running speed was 0.5 m / min.

次いで、セパレータを引き剥がし、実施例1Tに係る粒子転写膜の転写面と、セパレータを剥離させつつロールから巻き出した接着層の表面とを重ね合わせ、これを貼り合わせた。   Next, the separator was peeled off, and the transfer surface of the particle transfer film according to Example 1T was superposed on the surface of the adhesive layer that was unwound from the roll while the separator was peeled off.

その後、この貼り合わせフィルムを長手方向に複数に裁断しながらロール状に巻き取ることにより、実施例1Aに係る異方性導電膜を作製した。   Then, the anisotropic conductive film which concerns on Example 1A was produced by winding up this bonded film in roll shape, cut | judging in multiple to a longitudinal direction.

(実施例2Aに係る異方性導電膜の作製)
実施例1Aに係る異方性導電膜の作製において、実施例1Tに係る粒子転写膜に代えて、実施例2Tに係る粒子転写膜を用いた点以外は同様にして、実施例2Aに係る異方性導電膜を作製した。
(Preparation of anisotropic conductive film according to Example 2A)
In the production of the anisotropic conductive film according to Example 1A, the difference according to Example 2A was made in the same manner except that the particle transfer film according to Example 2T was used instead of the particle transfer film according to Example 1T. A isotropic conductive film was produced.

(実施例3Aに係る異方性導電膜の作製)
実施例1Aに係る異方性導電膜の作製において、実施例1Tに係る粒子転写膜に代えて、実施例3Tに係る粒子転写膜を用いた点以外は同様にして、実施例3Aに係る異方性導電膜を作製した。
(Preparation of anisotropic conductive film according to Example 3A)
In the production of the anisotropic conductive film according to Example 1A, the difference according to Example 3A was made in the same manner except that the particle transfer film according to Example 3T was used instead of the particle transfer film according to Example 1T. A isotropic conductive film was produced.

(実施例4Aに係る異方性導電膜の作製)
実施例1Aに係る異方性導電膜の作製において、実施例1Tに係る粒子転写膜に代えて、実施例4Tに係る粒子転写膜を用いた点以外は同様にして、実施例4Aに係る異方性導電膜を作製した。
(Production of Anisotropic Conductive Film According to Example 4A)
In the production of the anisotropic conductive film according to Example 1A, the difference according to Example 4A was made in the same manner except that the particle transfer film according to Example 4T was used instead of the particle transfer film according to Example 1T. A isotropic conductive film was produced.

(実施例5Aに係る異方性導電膜の作製)
実施例1Aに係る異方性導電膜の作製において、実施例1Tに係る粒子転写膜に代えて、実施例5Tに係る粒子転写膜を用いた点以外は同様にして、実施例5Aに係る異方性導電膜を作製した。
(Production of Anisotropic Conductive Film According to Example 5A)
In the production of the anisotropic conductive film according to Example 1A, the difference according to Example 5A was made in the same manner except that the particle transfer film according to Example 5T was used instead of the particle transfer film according to Example 1T. A isotropic conductive film was produced.

以上、本発明の一実施形態、一実施例について説明したが、本発明は上記実施形態、実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。   Although one embodiment and one example of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiment and example, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. is there.

本実施形態に係る粒子転写型の模式的な断面図の一例であり、(a)は、凹部が非貫通孔である場合、(b)は、凹部が貫通孔である場合を示す。It is an example of typical sectional drawing of the particle transfer type concerning this embodiment, (a) shows the case where a crevice is a non-through hole, and (b) shows the case where a crevice is a through hole. 本実施形態に係る粒子転写型の凹部に粒子が導入された場合を模式的に示した図であるIt is the figure which showed typically the case where a particle | grain is introduce | transduced into the recessed part of the particle transfer type | mold which concerns on this embodiment. ある1つの凹部に着目し、その凹部に粒子が導入されている状態の一例を示した図であり、(a)が断面図、(b)が平面図である。It is the figure which showed an example of the state in which particle | grains were introduced into the recessed part paying attention to one certain recessed part, (a) is sectional drawing, (b) is a top view. ある1つの凹部に着目し、その凹部に粒子が導入されている状態の他の一例を示した図であり、(a)が断面図、(b)が平面図である。It is the figure which showed another example of the state in which particle | grains were introduced into the recessed part paying attention to one certain recessed part, (a) is sectional drawing, (b) is a top view. 凸部を表面に有する平面体を高分子層の表面に押しつけ、粒子転写型を製造する方法の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the method of pressing the plane body which has a convex part on the surface against the surface of a polymer layer, and manufacturing a particle transfer type | mold. 凸部を表面に有するロール体を高分子層の表面に押しつけ、粒子転写型を製造する方法の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the method of pressing the roll body which has a convex part on the surface against the surface of a polymer layer, and manufacturing a particle transfer type | mold. ロール状に巻回した粒子転写型(型ロール)を用いて粒子転写膜を製造する方法の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the method of manufacturing a particle transfer film | membrane using the particle | grain transfer type | mold (die roll) wound by roll shape. ベルト状に形成した粒子転写型(型ベルト)を用いて粒子転写膜を製造する方法の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the method of manufacturing a particle transfer film | membrane using the particle transfer type | mold (die belt) formed in the shape of a belt. 本実施形態に係る異方性導電膜の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically an example of the anisotropic electrically conductive film which concerns on this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10 粒子転写型
12 高分子基材
14 高分子層
14a 凹部
14b 凹部形成面
16 粒子
20 高分子基材供給ロール
22 コーティング手段
24 高分子材料
26 調温プレート
28 凸部を有する平面体
30 型ロール
32 調温ロール
34 凸部を有するロール体
36 粒子導入部
38 高分子膜供給ロール
40 高分子膜
42 粒子転写膜
44 型ベルト
46 転写に関与させるロール
48 接着層
50 異方性導電膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Particle transfer type 12 Polymer base material 14 Polymer layer 14a Concave part 14b Concave formation surface 16 Particle 20 Polymer base material supply roll 22 Coating means 24 Polymer material 26 Temperature control plate 28 Flat body 30 with convex part Mold roll 32 Temperature control roll 34 Roll body 36 having projections Particle introduction part 38 Polymer film supply roll 40 Polymer film 42 Particle transfer film 44 Mold belt 46 Roll 48 involved in transfer Adhesive layer 50 Anisotropic conductive film

Claims (13)

長尺の高分子基材と、前記高分子基材の一方面に積層された高分子層とを有し、
前記高分子層の表面に、
粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成されていることを特徴とする粒子転写型。
A long polymer base material, and a polymer layer laminated on one surface of the polymer base material,
On the surface of the polymer layer,
A particle transfer mold characterized in that a large number of concave portions for introducing particles are regularly arranged.
前記凹部は、導入された粒子の一部を凹部形成面から露出可能な深さに形成されていることを特徴とする請求項1に記載の粒子転写型。   2. The particle transfer mold according to claim 1, wherein the concave portion is formed to a depth that allows a part of the introduced particles to be exposed from the concave surface. 実質的に、前記凹部一つにつき前記粒子が一つずつ導入されることを特徴とする請求項1または2に記載の粒子転写型。   3. The particle transfer mold according to claim 1, wherein substantially one particle is introduced per one recess. 4. 前記高分子層を構成する高分子は、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、および、熱硬化性樹脂から選択される1種または2種以上であることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載の粒子転写型。   4. The polymer according to claim 1, wherein the polymer constituting the polymer layer is one or more selected from a thermoplastic resin, a photocurable resin, and a thermosetting resin. The particle transfer type according to any one of the above. 長尺の高分子基材の一方面に、高分子層またはその前駆体層を積層する工程と、
前記高分子層またはその前駆体層の表面に、粒子導入用の多数の凹部を規則的に配列形成する工程と、
を有することを特徴とする粒子転写型の製造方法。
A step of laminating a polymer layer or a precursor layer thereof on one surface of a long polymer substrate;
A step of regularly arranging a plurality of concave portions for introducing particles on the surface of the polymer layer or a precursor layer thereof;
A method for producing a particle transfer mold, comprising:
前記凹部の形成は、
形成する凹部に対応する凸部を表面に有する、平面体、ロール体またはベルト体を、前記高分子層または前駆体層の表面に押しつけることによることを特徴とする請求項5に記載の粒子転写型の製造方法。
The formation of the recess is as follows:
6. The particle transfer according to claim 5, wherein a flat body, a roll body or a belt body having convex portions corresponding to the concave portions to be formed are pressed against the surface of the polymer layer or precursor layer. Mold manufacturing method.
前記前駆体層を積層した場合、前記凹部を形成しつつ、前駆体層を高分子層に変換することを特徴とする請求項5または6に記載の粒子転写型の製造方法。   The method for producing a particle transfer type according to claim 5 or 6, wherein when the precursor layer is laminated, the precursor layer is converted into a polymer layer while forming the concave portion. 長尺の高分子基材の一方面に、その表面に粒子導入用の多数の凹部が規則的に配列形成された高分子層またはその前駆体層を転写する工程を有することを特徴とする粒子転写型の製造方法。   Particles characterized by having a step of transferring a polymer layer or a precursor layer thereof, in which a large number of recesses for introducing particles are regularly arranged on one surface of a long polymer substrate. A method for producing a transfer mold. 請求項1から4の何れかに記載の粒子転写型の凹部に粒子を導入する工程と、
前記凹部に導入された粒子を高分子膜の表面に転写する工程と、
を有することを特徴とする粒子転写膜の製造方法。
A step of introducing particles into the concave portion of the particle transfer mold according to claim 1;
Transferring the particles introduced into the recesses to the surface of the polymer film;
A method for producing a particle transfer film, comprising:
実質的に、前記凹部一つにつき前記粒子を一つずつ導入することを特徴とする請求項9に記載の粒子転写膜の製造方法。   10. The method for producing a particle transfer film according to claim 9, wherein the particles are substantially introduced one by one for each of the recesses. 前記高分子膜の膜厚は、前記粒子の粒径の1/10倍〜3/2倍の範囲内にあることを特徴とする請求項9または10に記載の粒子転写膜の製造方法。   The method for producing a particle transfer film according to claim 9 or 10, wherein the film thickness of the polymer film is in a range of 1/10 to 3/2 times the particle diameter of the particles. 前記粒子は、導電性粒子であることを特徴とする請求項9から11の何れかに記載の粒子転写膜の製造方法。   The method for producing a particle transfer film according to claim 9, wherein the particles are conductive particles. 請求項12に記載の粒子転写膜の製造方法により得られた粒子転写膜を用いた異方性導電膜。   An anisotropic conductive film using a particle transfer film obtained by the method for producing a particle transfer film according to claim 12.
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