JP2009140588A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium Download PDF

Info

Publication number
JP2009140588A
JP2009140588A JP2007317649A JP2007317649A JP2009140588A JP 2009140588 A JP2009140588 A JP 2009140588A JP 2007317649 A JP2007317649 A JP 2007317649A JP 2007317649 A JP2007317649 A JP 2007317649A JP 2009140588 A JP2009140588 A JP 2009140588A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
transparent resin
resin layer
acrylate
acrylate compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007317649A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Ezaki
聡 江崎
Tomoaki Hiwatari
智章 樋渡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2007317649A priority Critical patent/JP2009140588A/en
Publication of JP2009140588A publication Critical patent/JP2009140588A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium with high surface durability, having less deformation even when an environment humidity changes. <P>SOLUTION: The optical recording medium has at least the substrate, transparent resin layer (b) and transparent resin layer (a) stacked in this order, wherein the elastic modulus of the transparent resin layer (a) is ≥1,000 MPa and ≤2,500 MPa, while the elastic modulus of the transparent resin layer (b) ≥100 MPa and ≤1,300 MPa. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、記録再生ディスク等の光記録媒体に関するものである。さらに詳しくは、環境湿度の変化に対応可能であり、かつ表面耐久性に優れ、高密度型光ディスク等にも利用可能な光記録媒体を提供するものである。   The present invention relates to an optical recording medium such as a recording / reproducing disk. More specifically, the present invention provides an optical recording medium that can cope with changes in environmental humidity, has excellent surface durability, and can be used for high-density optical discs and the like.

近年、動画情報等の膨大な情報を記録ないし保存する情報記録の媒体として再生専用光ディスクや光記録ディスク等の光情報媒体が多く用いられるようになってきた。その中の一つとして、例えば波長400nmのレーザー光を利用する高密度型光ディスク(いわゆるブルーレイディスク、以下適宜「ブルーレイディスク」ともいう。)が提案されている(特許文献1参照。)。   In recent years, optical information media such as read-only optical discs and optical recording discs have been widely used as information recording media for recording or storing vast amounts of information such as moving image information. As one of them, for example, a high-density optical disc (so-called Blu-ray disc, hereinafter also referred to as “Blu-ray disc” as appropriate) using a laser beam having a wavelength of 400 nm has been proposed (see Patent Document 1).

上記ブルーレイディスクは樹脂基板、反射層、記録層、保護層等の層を具備する光記録媒体であるが、ディスク表面に対しては局部的な圧力や傷への耐久性が求められる。一方、ディスク全体に対しては、温度や湿度といった環境が変化しても安定的に情報の読み書きができるように、温度や湿度を急激に変化させてもディスクの変形が小さいこと等が求められる。   The Blu-ray disc is an optical recording medium having layers such as a resin substrate, a reflective layer, a recording layer, and a protective layer. However, the disc surface requires durability against local pressure and scratches. On the other hand, for the entire disk, it is required that the deformation of the disk is small even if the temperature and humidity are suddenly changed so that information can be stably read and written even if the environment such as temperature and humidity changes. .

特許文献2には、透明性、耐磨耗性、記録膜保護性、及び機械特性に優れ、さらに耐熱・耐湿変形性にも優れる放射線硬化性組成物(ウレタンアクリレートを含有する放射線硬化性組成物)が記載されており、この放射線硬化性組成物を用いた光記録媒体が提案されている。上記特許文献2では、上記光記録媒体を長時間、高温高湿下に保存した後、室温に戻して長時間保存した後における変形が少ないことが記載されている。   Patent Document 2 discloses a radiation curable composition (a radiation curable composition containing urethane acrylate) that is excellent in transparency, abrasion resistance, recording film protection, mechanical properties, and also excellent in heat resistance and moisture deformation resistance. ), And an optical recording medium using this radiation-curable composition has been proposed. Patent Document 2 describes that the optical recording medium is less deformed after being stored at high temperature and high humidity for a long time and then returned to room temperature and stored for a long time.

特開平11−273147号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-273147 特開2003−263780号公報JP 2003-263780 A

しかしながら、特許文献1,2に記載の上記光記録媒体では、温度や湿度を急激に変化させたときのディスクの変形の抑制については不十分であり、同時に更に表面に対する局部的な圧力への耐久性を満足させることは難しかった。   However, the optical recording media described in Patent Documents 1 and 2 are insufficient in suppressing the deformation of the disk when the temperature and humidity are suddenly changed, and at the same time, further withstand the local pressure on the surface. It was difficult to satisfy sex.

本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的は、環境湿度が変化した場合であっても変形が少なく、また表面耐久性が高い光記録媒体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems. That is, an object of the present invention is to provide an optical recording medium that has little deformation and high surface durability even when the environmental humidity changes.

本発明者らが鋭意研究したところ、光記録媒体の保護において、比較的弾性率の低い層と、比較的弾性率の高い層とを2層構成にすることにより、環境湿度変化に対する変形抑制と、高い表面耐久性を両立しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive research by the present inventors, in the protection of optical recording media, a layer having a relatively low elastic modulus and a layer having a relatively high elastic modulus are formed into a two-layer structure, thereby suppressing deformation against environmental humidity changes. The inventors have found that high surface durability can be achieved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、少なくとも、基板、透明樹脂層b、及び透明樹脂層aをこの順に積層した光記録媒体であって、透明樹脂層aの弾性率が1000MPa以上2500MPa以下であり、透明樹脂層bの弾性率が100MPa以上1300MPa以下であることを特徴とする、光記録媒体に存する(請求項1)。   That is, the gist of the present invention is an optical recording medium in which at least a substrate, a transparent resin layer b, and a transparent resin layer a are laminated in this order, and the elastic modulus of the transparent resin layer a is 1000 MPa to 2500 MPa, and transparent The elastic modulus of the resin layer b is in the range of 100 MPa to 1300 MPa (claim 1).

このとき、該透明樹脂層aの弾性率が、該透明樹脂層bの弾性率より大きいことが好ましい(請求項2)。   At this time, the elastic modulus of the transparent resin layer a is preferably larger than the elastic modulus of the transparent resin layer b (Claim 2).

また、該透明樹脂層bの膜厚に対する、該透明樹脂層aの膜厚の膜厚比が、10/90以上60/40以下であることが好ましい(請求項3)。   The film thickness ratio of the transparent resin layer a to the film thickness of the transparent resin layer b is preferably 10/90 or more and 60/40 or less (Claim 3).

また、該透明樹脂層aが放射線硬化性組成物αの硬化物であって、該放射線硬化性組成物αが(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、及び(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物を含有し、該放射線硬化性組成物α中における(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物の含有量が、15重量%以上90重量%以下であることが好ましい(請求項4)。   The transparent resin layer a is a cured product of the radiation curable composition α, and the radiation curable composition α is (A) a urethane (meth) acrylate compound, and (C) (A) a urethane (meth). The polyfunctional (meth) acrylate compound other than the acrylate compound is contained, and the content of the polyfunctional (meth) acrylate compound other than the (C) (A) urethane (meth) acrylate compound in the radiation curable composition α is It is preferable that it is 15 to 90 weight% (Claim 4).

このとき、該(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物が、3官能以上の(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましい(請求項5)。   At this time, it is preferable that the polyfunctional (meth) acrylate compound other than the (C) (A) urethane (meth) acrylate compound includes a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound.

また、該透明樹脂層bが放射線硬化性組成物βの硬化物であって、該放射線硬化性組成物βが(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物、及び(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物を含有し、該放射線硬化性組成物β中における(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物の含有量が、10重量%以上70重量%以下であることが好ましい(請求項6)。   The transparent resin layer b is a cured product of a radiation curable composition β, and the radiation curable composition β is (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) (A) urethane (meth) acrylate. A monofunctional (meth) acrylate compound other than the compound, and a polyfunctional (meth) acrylate compound other than the (C) (A) urethane (meth) acrylate compound (B) in the radiation curable composition β (B) ( A) The content of the monofunctional (meth) acrylate compound other than the urethane (meth) acrylate compound is preferably 10% by weight or more and 70% by weight or less (Claim 6).

このとき、該(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物が、ポリエーテル骨格を含有することが好ましい(請求項7)。   At this time, it is preferable that the (A) urethane (meth) acrylate compound contains a polyether skeleton (Claim 7).

また、上記の光記録媒体が、青色レーザーを用いて再生を行うことが好ましい(請求項8)。   The optical recording medium is preferably reproduced using a blue laser (claim 8).

本発明によれば、環境湿度が変化した場合であっても変形が少ないため、安定して使用することが可能であり、かつ表面耐久性に優れた光記録媒体が得られる。   According to the present invention, an optical recording medium that can be used stably and has excellent surface durability can be obtained because deformation is small even when the environmental humidity changes.

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の例示に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々に変更して実施することができる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

なお、「(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物」、「(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物」、及び「(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物」の冒頭に付した、(A)、(B)、及び(C)は、各化合物を識別するための符合に過ぎない。   "(A) Urethane (meth) acrylate compound", "(B) (A) Monofunctional (meth) acrylate compound other than urethane (meth) acrylate compound", and "(C) (A) Urethane (meth)" (A), (B), and (C) attached to the beginning of the “polyfunctional (meth) acrylate compound other than acrylate compound” are only symbols for identifying each compound.

現在、一般的に用いられている光記録媒体としては、再生専用型の媒体(ROM媒体)、一度の記録のみ可能な追記型の媒体(Write Once媒体)、または記録消去を繰り返し行える書き換え可能型の媒体(Rewritable媒体)がある。   Currently, optical recording media that are generally used include read-only media (ROM media), write-once media that can be recorded only once (Write Once media), or rewritable media that can be repeatedly erased. Media (Rewritable media).

これらの光記録媒体は、それぞれの目的に応じた層構成を採用することができる。例えば、再生専用型の媒体においては、再生用の凹凸を形成した基板面に、通常、例えばアルミニウム、銀、金等の金属を含有する反射層が形成されていることが好ましい。
追記型の光記録媒体においては、記録再生機能層を形成した面に保護膜が形成されることが好ましい。記録再生機能層は、通常、例えばアルミニウム、銀、金等の金属を含有する反射層と有機色素を含有する記録層とをこの順に基板上に設けることによって構成される。
また、書き換え可能型の光記録媒体においても、記録再生機能層を形成した面に保護膜が形成されることが好ましい。記録再生機能層は、通常、例えばアルミニウム、銀、金等の金属を含有する反射層と、誘電体層と、記録層と、誘電体層とをこの順に基板上に設けることによって構成される。
These optical recording media can adopt a layer structure corresponding to each purpose. For example, in a read-only medium, it is preferable that a reflective layer containing a metal such as aluminum, silver, or gold is usually formed on a substrate surface on which unevenness for reproduction is formed.
In the write once optical recording medium, it is preferable that a protective film is formed on the surface on which the recording / reproducing functional layer is formed. The recording / reproducing functional layer is usually configured by providing a reflective layer containing a metal such as aluminum, silver and gold and a recording layer containing an organic dye on the substrate in this order.
Also in the rewritable optical recording medium, it is preferable that a protective film is formed on the surface on which the recording / reproducing functional layer is formed. The recording / reproducing functional layer is usually configured by providing a reflective layer containing a metal such as aluminum, silver, and gold, a dielectric layer, a recording layer, and a dielectric layer in this order on the substrate.

一方、光記録媒体の記録再生のためのレーザー(以下、適宜「記録再生光」ということがある。)の波長は、CD、DVD、ブルーレイディスク、HDDVD等、その規格によって、最適な波長の光を用いることができる。近年のリッチコンテンツの普及に伴い、光記録媒体の高密度化、高容量化の要請が高まる中で、より波長の短い青色レーザーを用いる研究が盛んに成されている。   On the other hand, the wavelength of a laser for recording / reproducing of an optical recording medium (hereinafter sometimes referred to as “recording / reproducing light” as appropriate) is a light having an optimum wavelength depending on the standard such as CD, DVD, Blu-ray disc, HDDVD, etc. Can be used. Along with the popularization of rich contents in recent years, research for using a blue laser with a shorter wavelength has been actively carried out as the demand for higher density and higher capacity of optical recording media is increasing.

この青色レーザーを記録再生に用いる光記録媒体のことを、本明細書においては「次世代高密度光記録媒体」という。具体的に次世代高密度光記録媒体とは、基板において誘電体膜、記録膜、反射膜など(以下、これらの層を総称して適宜「記録再生機能層」ということがある。)を形成した面に保護膜が形成される光記録媒体であって、波長が通常350nm以上、好ましくは380nm以上、また、通常450nm以下、好ましくは430nm以下の記録再生光を用いる光記録媒体を意味する。   An optical recording medium using this blue laser for recording and reproduction is referred to as a “next-generation high-density optical recording medium” in this specification. Specifically, the next-generation high-density optical recording medium is a substrate formed with a dielectric film, a recording film, a reflective film, and the like (hereinafter, these layers may be collectively referred to as “recording / reproducing functional layer” as appropriate). An optical recording medium in which a protective film is formed on the coated surface, and an optical recording medium using recording / reproducing light having a wavelength of usually 350 nm or more, preferably 380 nm or more, and usually 450 nm or less, preferably 430 nm or less.

本発明の光記録媒体は、上記のいずれの種類の光記録媒体にも適用することができる。則ち、ROM媒体、Wirte Once媒体、及びRewritable媒体の何れにも適用することができる。さらに、本発明の光記録媒体に用いる記録再生光の波長に関しても、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、中でも、高密度、高容量化の要請から青色レーザーを用いることが好ましく、則ち次世代高密度光記録媒体に適用することが好ましい。   The optical recording medium of the present invention can be applied to any of the above types of optical recording media. In other words, the present invention can be applied to any of ROM media, White Once media, and Rewritable media. Further, the wavelength of the recording / reproducing light used in the optical recording medium of the present invention is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Among them, it is preferable to use a blue laser because of the demand for high density and high capacity. That is, it is preferably applied to the next generation high density optical recording medium.

本発明の光記録媒体は、少なくとも基板、透明樹脂層b、及び透明樹脂層aをこの順に積層した光記録媒体である。また、これらの層の他に反射層、記録層等の他の層を備えていてもよい。
これらの層の構成は、光記録媒体として通常用いられている層構成であれば制限はない。従って、基板と透明樹脂層bとの間に他の層を有していてもよいし、透明樹脂層bと透明樹脂層aとの間に他の層を有していてもよいし、透明樹脂層bの透明樹脂層aとは反対側に他の層を有してもよい。
The optical recording medium of the present invention is an optical recording medium in which at least a substrate, a transparent resin layer b, and a transparent resin layer a are laminated in this order. In addition to these layers, other layers such as a reflective layer and a recording layer may be provided.
The configuration of these layers is not limited as long as it is a layer configuration normally used as an optical recording medium. Accordingly, another layer may be provided between the substrate and the transparent resin layer b, or another layer may be provided between the transparent resin layer b and the transparent resin layer a. You may have another layer on the opposite side to the transparent resin layer a of the resin layer b.

ここで、典型的な層構成の一例を挙げると、基板、反射層、記録層、透明樹脂層b、透明樹脂層aという順に層が形成された層構成がある。この層構成は追記型や書き換え可能型の光記録媒体に好ましく用いられる。
また、他の層構成の一例としては、基板、記録層、反射層、透明樹脂層b、透明樹脂層aという順に層が形成された層構成がある。この層構成は再生専用型の光記録媒体に好ましく用いられる。
Here, as an example of a typical layer configuration, there is a layer configuration in which layers are formed in the order of a substrate, a reflective layer, a recording layer, a transparent resin layer b, and a transparent resin layer a. This layer structure is preferably used for a write once or rewritable optical recording medium.
As another example of the layer configuration, there is a layer configuration in which layers are formed in the order of a substrate, a recording layer, a reflective layer, a transparent resin layer b, and a transparent resin layer a. This layer structure is preferably used for a read-only optical recording medium.

また、例えば、記録層と反射層とをそれぞれ2つ有する2層式の層構成をとってもよい。2層式の層構成の場合、基板の上に順に積層してもよいが、記録層と反射層とを一対積層したものを、2枚貼合せて形成していてもよい。貼り合わせるときには、貼合せる面に接着層を設けてもよい。また、3層式以上の層構成であってもよい。
さらには、必要に応じてハブを付け、カートリッジへ組み込んでもよい。
Further, for example, a two-layered structure having two recording layers and two reflective layers may be employed. In the case of a two-layer structure, the layers may be sequentially stacked on the substrate, but two layers of a recording layer and a reflective layer may be laminated to form a laminate. When bonding, an adhesive layer may be provided on the surfaces to be bonded. Further, it may have a layer structure of three or more layers.
Furthermore, if necessary, a hub may be attached and incorporated into the cartridge.

以下、本発明の光記録媒体において、上記の各層につき詳細に説明する。   Hereinafter, in the optical recording medium of the present invention, each of the above layers will be described in detail.

[1.透明樹脂層a・透明樹脂層b]
透明樹脂層bは、透明樹脂層b用材料を用いて形成される。透明樹脂層b用材料は、好ましくは放射線硬化性を有する液状の化合物である。透明樹脂層b用材料は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
透明樹脂層bの形成方法としては、例えば、複数種の透明樹脂層b用材料を混合した放射線硬化性組成物βを、スピンコート法によって塗布した後、放射線を照射する方法等が挙げられる。
[1. Transparent resin layer a / transparent resin layer b]
The transparent resin layer b is formed using a material for the transparent resin layer b. The material for the transparent resin layer b is preferably a liquid compound having radiation curability. As the material for the transparent resin layer b, one type may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.
Examples of the method for forming the transparent resin layer b include a method in which a radiation curable composition β in which a plurality of types of materials for the transparent resin layer b are mixed is applied by spin coating and then irradiated with radiation.

また、透明樹脂層aは、透明樹脂層a用材料を用いて形成される。透明樹脂層a用材料は、好ましくは放射線硬化性を有する液状化合物である。透明樹脂層a用材料は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
透明樹脂層aの形成方法としては、例えば、透明樹脂層bと同様に、複数種の透明樹脂材料aを混合した放射線硬化性組成物αをスピンコート法によって塗布した後、放射線を照射する方法等が挙げられる。
The transparent resin layer a is formed using a material for the transparent resin layer a. The material for the transparent resin layer a is preferably a liquid compound having radiation curability. As the material for the transparent resin layer a, one type may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.
As a method for forming the transparent resin layer a, for example, a method of irradiating with radiation after applying a radiation curable composition α mixed with a plurality of types of transparent resin materials a by a spin coating method, like the transparent resin layer b Etc.

なお、透明樹脂層bと透明樹脂層aとを合わせて保護層ということがある。以下、これらの層について詳述する。   The transparent resin layer b and the transparent resin layer a may be collectively referred to as a protective layer. Hereinafter, these layers will be described in detail.

<1−1.保護層>
本発明の光記録媒体における保護層は、透明樹脂層bと透明樹脂層aとを合わせて構成される。
<1-1. Protective layer>
The protective layer in the optical recording medium of the present invention is configured by combining the transparent resin layer b and the transparent resin layer a.

保護層を構成する透明樹脂層bの25℃における弾性率は、通常100MPa以上であり、好ましくは200MPa以上であり、より好ましくは400MPa以上であり、また、通常1300MPa以下であり、好ましくは1000MPa以下であり、より好ましくは800MPa以下であり、更に好ましくは600MPaである。これにより、環境温度が変化した際の光記録媒体の変形を少ないものとすることが可能となる。   The elastic modulus at 25 ° C. of the transparent resin layer b constituting the protective layer is usually 100 MPa or more, preferably 200 MPa or more, more preferably 400 MPa or more, and usually 1300 MPa or less, preferably 1000 MPa or less. More preferably, it is 800 MPa or less, More preferably, it is 600 MPa. As a result, it is possible to reduce the deformation of the optical recording medium when the environmental temperature changes.

また、保護層を構成する透明樹脂層aの25℃における弾性率は、通常1000MPa以上であり、好ましくは1350MPa以上であり、より好ましくは1500MPa以上であり、また、通常2500MPa以下であり、好ましくは2200MPa以下であり、より好ましくは2000MPa以下である。これにより、光記録媒体の保護層側表面が、局部的な圧力に対する変形によって信号特性が悪化するのを防止することが出来る。
上記弾性率とは、0.1mm厚のフィルムを形成し、引っ張り強度試験機を用い、引っ張り速度1mm/分にて引っ張り試験を行った際の弾性率を意味する。
The elastic modulus at 25 ° C. of the transparent resin layer a constituting the protective layer is usually 1000 MPa or more, preferably 1350 MPa or more, more preferably 1500 MPa or more, and usually 2500 MPa or less, preferably It is 2200 MPa or less, more preferably 2000 MPa or less. Thereby, it is possible to prevent the signal characteristics of the surface on the protective layer side of the optical recording medium from being deteriorated due to deformation with respect to local pressure.
The elastic modulus means an elastic modulus when a 0.1 mm thick film is formed and a tensile test is performed at a tensile speed of 1 mm / min using a tensile strength tester.

透明樹脂層aの弾性率は、透明樹脂層bの弾性率より大きい方が好ましい。具体的には、弾性率の差が200MPa以上、好ましくは400MPa以上、更に好ましくは600MPa以上である。   The elastic modulus of the transparent resin layer a is preferably larger than the elastic modulus of the transparent resin layer b. Specifically, the difference in elastic modulus is 200 MPa or more, preferably 400 MPa or more, and more preferably 600 MPa or more.

なお、保護層を構成する透明樹脂層aは、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験による表面硬度で、通常6B以上、好ましくは4B以上、さらに好ましくはB以上、好ましくはHB以上である。   In addition, the transparent resin layer a which comprises a protective layer is the surface hardness by the pencil hardness test based on JISK5400, and is 6B or more normally, Preferably it is 4B or more, More preferably, it is B or more, Preferably it is HB or more.

保護層は、通常、平面円環形状を有しており、記録再生に用いられるレーザー光を透過可能な材料により形成されている。保護層の透過率は、記録・再生に用いられる光の波長において、通常80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは89%以上である。このような範囲であれば、記録再生光の吸収による損失を最小限にすることができる。一方、透過率は100%になることが最も好ましいが、用いる材料の性能上、通常99%以下となる。   The protective layer usually has a planar annular shape and is formed of a material that can transmit laser light used for recording and reproduction. The transmittance of the protective layer is usually 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 89% or more at the wavelength of light used for recording / reproduction. Within such a range, loss due to absorption of recording / reproducing light can be minimized. On the other hand, the transmittance is most preferably 100%, but is usually 99% or less in view of the performance of the material used.

このような保護層は、光ディスクの記録再生に用いる波長付近のレーザー光に対して十分に透明性が高く、かつ基板上に形成された記録層を水や塵埃から保護するような性質を持つことが望ましい。
加えて、保護層の表面硬度はJIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験による表面硬度がB以上であるのが好ましい。硬度が小さすぎると、表面に傷が付きやすい可能性がある。また、硬度が大きすぎると、硬化物が脆くなる可能性となり、クラックや剥離が生じやすくなる可能性がある。保護層の表面硬度が不足している場合は、透明樹脂層aの上に、後述のハードコート層を形成し、その不足を補うこともできる。
Such a protective layer is sufficiently transparent to laser light in the vicinity of the wavelength used for optical disc recording / reproduction, and has a property of protecting the recording layer formed on the substrate from water and dust. Is desirable.
In addition, the surface hardness of the protective layer is preferably B or higher according to a pencil hardness test in accordance with JIS K5400. If the hardness is too small, the surface may be easily scratched. On the other hand, if the hardness is too high, the cured product may become brittle, and cracks and peeling may easily occur. When the surface hardness of the protective layer is insufficient, a hard coat layer described later can be formed on the transparent resin layer a to compensate for the shortage.

さらに、保護層は、その接する層との密着性が高いほうが好ましい。さらに経時密着性も高いほうが好ましく、温度80℃、相対湿度85%の環境下に100時間、さらに好ましくは200時間置いた後の前記保護層とその接する層の密着面積の割合が、置く前の密着面積の50%以上を保持しているのが好ましく、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは100%である。   Furthermore, it is preferable that the protective layer has high adhesion to the layer in contact therewith. Furthermore, it is preferable that the adhesiveness with time is higher, and the ratio of the contact area between the protective layer and the layer in contact with the protective layer after being placed in an environment of 80 ° C. and 85% relative humidity for 100 hours, more preferably 200 hours is It is preferable to hold 50% or more of the contact area, more preferably 80% or more, and particularly preferably 100%.

保護層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10μm以上、好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以上、さらに好ましくは70μm以上、特に好ましくは85μm以上、また、通常300μm以下、好ましくは130μm以下、より好ましくは115μm以下である。膜厚をこのような範囲とすれば、保護層表面に付着したゴミや傷の影響を低減することができ、また記録層や反射層を外気の水分等から保護するのに十分な厚さとすることができる。また、スピンコートなどで用いられる一般的な塗布方法で均一な膜厚を容易に形成することができる。保護層は記録層や反射層をカバーする範囲において均一な膜厚で形成されることが好ましい。   The thickness of the protective layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10 μm or more, preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, further preferably 70 μm or more, particularly preferably 85 μm or more, Usually, it is 300 μm or less, preferably 130 μm or less, more preferably 115 μm or less. When the film thickness is in such a range, the influence of dust and scratches attached to the surface of the protective layer can be reduced, and the thickness is sufficient to protect the recording layer and the reflective layer from moisture in the outside air. be able to. In addition, a uniform film thickness can be easily formed by a general coating method used in spin coating or the like. The protective layer is preferably formed with a uniform thickness in a range covering the recording layer and the reflective layer.

保護層を構成する透明樹脂層bの膜厚に対する、透明樹脂層aの膜厚の膜厚比は、好ましくは10/90以上、より好ましくは25/75以上、また、好ましくは60/40以下、より好ましくは40/60以下である。透明樹脂層aの膜厚比が高すぎると、環境温湿度に対する光記録媒体の変形量が大きくなり、情報の再生や記録に支障を来す可能性がある。逆に透明樹脂層bの膜厚比が高すぎると、表面強度が低下し、局所的な力が一定時間以上付加された際にクリープ変形を起こしやすく、表面平滑性が損なわれ、それが原因で情報の再生や記録に支障を来す可能性がある。   The film thickness ratio of the transparent resin layer a to the film thickness of the transparent resin layer b constituting the protective layer is preferably 10/90 or more, more preferably 25/75 or more, and preferably 60/40 or less. More preferably, it is 40/60 or less. If the film thickness ratio of the transparent resin layer a is too high, the amount of deformation of the optical recording medium with respect to the environmental temperature and humidity increases, which may hinder information reproduction and recording. On the other hand, if the film thickness ratio of the transparent resin layer b is too high, the surface strength decreases, and when the local force is applied for a certain time or more, creep deformation is likely to occur, and the surface smoothness is impaired, which is the cause. This may interfere with the playback and recording of information.

なお、保護層は、本発明の効果を著しく損なわない限り、透明樹脂層b及び透明樹脂層a以外の層を、任意の位置に有していてもよい。   In addition, the protective layer may have layers other than the transparent resin layer b and the transparent resin layer a in arbitrary positions, unless the effect of this invention is impaired remarkably.

<1−2.透明樹脂層b>
以下、透明樹脂層b用材料、及び放射線硬化性組成物βについて説明する。なお、放射線硬化性組成物βを用いた透明樹脂層bの製造方法については、<1−4.保護層の形成方法>で説明する。
<1-2. Transparent resin layer b>
Hereinafter, the material for the transparent resin layer b and the radiation curable composition β will be described. In addition, about the manufacturing method of the transparent resin layer b using the radiation curable composition (beta), it is <1-4. The method for forming the protective layer is described below.

<1−2−1.透明樹脂層b用材料>
透明樹脂層b用材料は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の材料を用いることが出来る。透明樹脂層bを形成するには、放射線硬化性を有する透明樹脂層b用材料を混合した液状組成物(放射線硬化性組成物β)を用いることが好ましい。
<1-2-1. Material for transparent resin layer b>
Any material can be used as the material for the transparent resin layer b as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In order to form the transparent resin layer b, it is preferable to use a liquid composition (a radiation curable composition β) in which a material for the transparent resin layer b having radiation curability is mixed.

透明樹脂層b用材料としては、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を含む放射線硬化性の化合物が好ましい。さらに透明樹脂層b用材料として、(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物(以下、適宜「(B)単官能アクリレート化合物」ということがある。)と、(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物(以下、適宜「(C)多官能アクリレート化合物」ということがある。)とを用いることが好ましい。また、その他の成分を含有していてもよい。   As the material for the transparent resin layer b, (A) a radiation curable compound containing a urethane (meth) acrylate compound is preferable. Furthermore, as the material for the transparent resin layer b, (B) (A) a monofunctional (meth) acrylate compound other than the urethane (meth) acrylate compound (hereinafter sometimes referred to as “(B) monofunctional acrylate compound”) and It is preferable to use a polyfunctional (meth) acrylate compound other than (C) (A) urethane (meth) acrylate compound (hereinafter sometimes referred to as “(C) polyfunctional acrylate compound” as appropriate). Moreover, the other component may be contained.

<(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物>
本発明に係る透明樹脂層b用材料としての(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の方法で得ることが出来るが、通常、ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を含有する化合物と、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とを反応させて得られる。(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、ウレタンアクリレート化合物が好ましい。表面硬化性に優れ、タックが残りにくいためである。
(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
<(A) Urethane (meth) acrylate compound>
The (A) urethane (meth) acrylate compound as the transparent resin layer b material according to the present invention can be obtained by any method as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. It is obtained by reacting a compound containing a group with a (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group. (A) As a urethane (meth) acrylate compound, a urethane acrylate compound is preferable. This is because the surface curability is excellent and tack is difficult to remain.
(A) A urethane (meth) acrylate compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

(a.ポリイソシアネート化合物)
ポリイソシアネート化合物とは、分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物である。本化合物を用いることで、本発明の光記録媒体が機械特性に優れるという利点を得ることが出来る。
(A. Polyisocyanate compound)
A polyisocyanate compound is a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule. By using this compound, the advantage that the optical recording medium of the present invention is excellent in mechanical properties can be obtained.

ポリイソシアネート化合物としては、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の化合物を用いることが出来るが、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等、およびこれらの多量体が挙げられる。   Any compound can be used as the polyisocyanate compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclohexane diisocyanate. Bis (isocyanatocyclohexyl) methane, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, and the like, and multimers thereof.

中でも、得られるウレタンオリゴマーの色相が良好であるため、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートおよびその多量体、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアネートが好ましい。
ポリイソシアネート化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
Especially, since the hue of the urethane oligomer obtained is favorable, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and its multimer, bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclohexane diisocyanate, bis (isocyanatocyclohexyl) methane, and isophorone diisocyanate are preferable.
A polyisocyanate compound may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

また、ポリイソシアネート化合物の分子量は、通常100以上、好ましくは150以上、また、通常1000以下、好ましくは500以下である。分子量がこの範囲にあると、強度と弾性率とのバランスが良好であるという利点を得ることが出来る。   The molecular weight of the polyisocyanate compound is usually 100 or more, preferably 150 or more, and usually 1000 or less, preferably 500 or less. When the molecular weight is in this range, an advantage that the balance between strength and elastic modulus is good can be obtained.

(b.ヒロドキシル基を含有する化合物)
ヒロドキシル基を含有する化合物としては、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の化合物を用いることが出来る。中でも、2個以上のヒドロキシル基を含有するポリオール類が好ましく、その具体例としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,3,5−トリメチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、1,2−ジメチロールシクロヘキサン、1,3−ジメチロールシクロヘキサン、1,4−ジメチロールシクロヘキサン等のアルキレンポリオール類が挙げられる。ヒロドキシル基を含有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
(B. Compound containing a hydroxyl group)
Any compound containing a hydroxyl group can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Among these, polyols containing two or more hydroxyl groups are preferable, and specific examples thereof include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,3 , 5-trimethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol, 1,8-octane Diol, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, mannitol, glycerin, 1,2-dimethylol Cyclohexane, 1,3-dimethylolcyclohexane, alkylene polyols such as 1,4-dimethylol cyclohexane. As the compound containing a hydroxyl group, one kind may be used alone, and two kinds or more may be used in optional ratio and combination.

中でも、上述のポリオール類が、多量体等を形成するためのエーテル結合を有する、ポリエーテルポリオール化合物;多塩基酸との反応によるエステル結合、又は環状エステルの開環重合によるエステル結合を有する、ポリエステルポリオール化合物;又は、カーボネートとの反応によるカーボネート結合を有する、ポリカーボネートポリオール化合物であることが好ましい。   Among them, the above-mentioned polyols have a polyether polyol compound having an ether bond for forming a multimer, etc .; a polyester having an ester bond by reaction with a polybasic acid or an ester bond by ring-opening polymerization of a cyclic ester Polyol compound; or a polycarbonate polyol compound having a carbonate bond by reaction with carbonate is preferable.

ポリエーテルポリオール化合物の具体例としては、前記ポリオール類の多量体の他に、テトラヒドロフラン等の環状エーテルの開環重合体としてのポリテトラメチレングリコール;前記ポリオール類の、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブチレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、エピクロルヒドリン等のアルキレンオキサイドの付加物;等が挙げられる。   Specific examples of the polyether polyol compound include polytetramethylene glycol as a ring-opening polymer of a cyclic ether such as tetrahydrofuran in addition to the multimers of the polyols; ethylene oxide, propylene oxide, 1, Examples include adducts of alkylene oxides such as 2-butylene oxide, 1,3-butylene oxide, 2,3-butylene oxide, tetrahydrofuran and epichlorohydrin;

ポリエステルポリオール化合物の具体例としては、前記ポリオール類と、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸等の多塩基酸との反応物、及び、カプロラクトン等の環状エステルの開環重合体としてのポリカプロラクトン等が挙げられる。   Specific examples of the polyester polyol compound include a reaction product of the polyol and a polybasic acid such as maleic acid, fumaric acid, adipic acid, sebacic acid, and phthalic acid, and a ring-opening polymer of a cyclic ester such as caprolactone. And polycaprolactone.

ポリカーボネートポリオール化合物の具体例としては、前記ポリオール類と、エチレンカーボネート、1,2−プロピレンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネート等のアルキレンカーボネート、又は、ジフェニルカーボネート、4−メチルジフェニルカーボネート、4−エチルジフェニルカーボネート、4−プロピルジフェニルカーボネート、4,4’−ジメチルジフェニルカーボネート、2−トリル−4−トリルカーボネート、4,4’−ジエチルジフェニルカーボネート、4,4’−ジプロピルジフェニルカーボネート、フェニルトルイルカーボネート、ビスクロロフェニルカーボネート、フェニルクロロフェニルカーボネート、フェニルナフチルカーボネート、ジナフチルカーボネート等のジアリールカーボネート、又は、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−n−プロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネート、ジ−t−ブチルカーボネート、ジ−n−アミルカーボネート、ジイソアミルカーボネート等のジアルキルカーボネート等との反応物等が挙げられる。   Specific examples of the polycarbonate polyol compound include the polyols and alkylene carbonates such as ethylene carbonate, 1,2-propylene carbonate, and 1,2-butylene carbonate, or diphenyl carbonate, 4-methyldiphenyl carbonate, and 4-ethyldiphenyl. Carbonate, 4-propyldiphenyl carbonate, 4,4′-dimethyldiphenyl carbonate, 2-tolyl-4-tolyl carbonate, 4,4′-diethyldiphenyl carbonate, 4,4′-dipropyldiphenyl carbonate, phenyltoluyl carbonate, bis Diaryl carbonates such as chlorophenyl carbonate, phenyl chlorophenyl carbonate, phenyl naphthyl carbonate, dinaphthyl carbonate, Dialkyl carbonates such as dicarbonate, diethyl carbonate, di-n-propyl carbonate, diisopropyl carbonate, di-n-butyl carbonate, diisobutyl carbonate, di-t-butyl carbonate, di-n-amyl carbonate, diisoamyl carbonate, etc. Examples include reactants.

これらのポリオール類の中でも、ポリエーテル骨格を導入できるポリエーテルポリオール化合物が好ましく、さらにポリアルキレングリコールが好ましい。また、アルキレングリコールの中でも、テトラメチレングリコールが特に好ましい。   Among these polyols, polyether polyol compounds capable of introducing a polyether skeleton are preferable, and polyalkylene glycol is more preferable. Of the alkylene glycols, tetramethylene glycol is particularly preferable.

これらのポリオール類は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   These polyols may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

また、通常ポリオール類の少なくとも一部、好ましくはポリオール類合計の15モル%以上、更に好ましくはポリオール類合計の30モル%以上のポリオール類の数平均分子量が、好ましくは200以上、より好ましくは400以上、また、好ましくは1500以下、より好ましくは800以下である。ポリオール類の数平均分子量がこの範囲であると、ウレタン結合を有するモノマーとしての吸水性や吸湿性が低くなり、硬化物として光記録媒体等に用いたときの記録層の腐食を抑制できるという利点が得られる。   Further, the number average molecular weight of the polyols is usually at least a part of the polyols, preferably 15 mol% or more of the total polyols, more preferably 30 mol% or more of the total polyols, preferably 200 or more, more preferably 400. In addition, it is preferably 1500 or less, more preferably 800 or less. When the number average molecular weight of the polyols is within this range, the water absorption and hygroscopicity as a monomer having a urethane bond is lowered, and the corrosion of the recording layer when used as an optical recording medium as a cured product can be suppressed. Is obtained.

従って、ヒロドキシル基を含有する化合物としては、数平均分子量800以下のポリアルキレングリコールが好ましく、数平均分子量800以下のポリテトラメチレングリコールが特に好ましい。   Therefore, the compound containing a hydroxyl group is preferably a polyalkylene glycol having a number average molecular weight of 800 or less, and particularly preferably a polytetramethylene glycol having a number average molecular weight of 800 or less.

(c.ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物)
ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とは、ヒドロキシル基と(メタ)アクリロイル基とを併せ持つ化合物である。本発明の効果を著しく損なわない限り任意の化合物を用いることができるが、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリシジルエーテル化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応物、グリコール化合物のモノ(メタ)アクリレート体等が挙げられる。これらのヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
(C. (Meth) acrylate compound containing hydroxyl group)
The (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group is a compound having both a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group. Any compound can be used as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. For example, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, glycidyl ether compound and (meth) acrylic. Examples include addition reaction products with acids and mono (meth) acrylates of glycol compounds. These (meth) acrylate compounds containing a hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination.

ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物の分子量は、通常40以上、好ましくは80以上、また、通常800以下、好ましくは400以下である。分子量が小さすぎると硬化収縮が増大する可能性があり、大きすぎると粘度が増大する可能性がある。   The molecular weight of the (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group is usually 40 or more, preferably 80 or more, and usually 800 or less, preferably 400 or less. If the molecular weight is too small, curing shrinkage may increase, and if it is too large, the viscosity may increase.

(d.(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物の製造方法)
ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を含有する化合物と、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とを付加反応させることにより、(メタ)アクリロイル基を有する(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造することができる。その際、用いる原料量は、イソシアネート基とヒドロキシル基とが化学量論的に等量になるように仕込むことが好ましい。特に、ヒドロキシル基を含有する化合物としてジオールを用いることにより、得られる(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は硬化物の密着性や表面硬化度がさらに増すという利点がある。
(D. (A) Method for producing urethane (meth) acrylate compound)
A (A) urethane (meth) acrylate compound having a (meth) acryloyl group is produced by addition reaction of a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing compound, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound. be able to. In that case, it is preferable that the amount of the raw material used is charged so that the isocyanate group and the hydroxyl group are stoichiometrically equivalent. In particular, by using a diol as a compound containing a hydroxyl group, the (A) urethane (meth) acrylate compound obtained has an advantage that the adhesion and the degree of surface hardening of the cured product are further increased.

なお、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造する際、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物の使用量を、上記ヒドロキシル基を含有する化合物と上記ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とを合わせた全化合物に対して、通常20重量%以上、好ましくは40重量%以上、また、通常80重量%以下、好ましくは60重量%以下とする。その割合に応じて、得られる(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物の分子量を制御することができる。使用量が少なすぎる場合、硬化収縮が大きくなる可能性がある。また、使用量が多すぎる場合、粘度が著しく増大する可能性がある。   In addition, when manufacturing (A) urethane (meth) acrylate compound, the usage-amount of the (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group, the compound containing the said hydroxyl group, and the (meth) acrylate compound containing the said hydroxyl group Is usually 20% by weight or more, preferably 40% by weight or more, and usually 80% by weight or less, preferably 60% by weight or less. Depending on the ratio, the molecular weight of the (A) urethane (meth) acrylate compound obtained can be controlled. If the amount used is too small, curing shrinkage may increase. Moreover, when there is too much usage-amount, a viscosity may increase remarkably.

これらのポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物との付加反応は、所望の(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造できる限り、公知の何れの方法で行うことができる。例えば、ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とを、通常40℃以上、好ましくは50℃以上、また、通常90℃以下、好ましくは75℃以下の条件下で反応させる。温度が低すぎる場合、所望の(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物が製造できない可能性があり、温度が高すぎる場合、原料が分解してしまう可能性がある。   The addition reaction between the polyisocyanate compound and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound can be carried out by any known method as long as the desired (A) urethane (meth) acrylate compound can be produced. For example, a polyisocyanate compound and a (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group are usually reacted at 40 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or higher, and usually 90 ° C. or lower, preferably 75 ° C. or lower. If the temperature is too low, the desired (A) urethane (meth) acrylate compound may not be produced. If the temperature is too high, the raw material may be decomposed.

この際、必要に応じて触媒を用いるが、この触媒はあらかじめヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物と混合しておくことが好ましい。   In this case, a catalyst is used as necessary, but this catalyst is preferably mixed with a (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group in advance.

反応時間は、所望の(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造できる限り、任意であるが、通常30分以上、好ましくは1時間以上、より好ましくは3時間以上、また、通常48時間以下、好ましくは24時間以下、より好ましくは18時間以下である。反応時間が短すぎる場合、所望の(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物が製造できない可能性がある。また、反応時間が長すぎる場合、着色やゲル化の可能性が増す。   The reaction time is arbitrary as long as the desired (A) urethane (meth) acrylate compound can be produced, but is usually 30 minutes or longer, preferably 1 hour or longer, more preferably 3 hours or longer, and usually 48 hours or shorter, Preferably it is 24 hours or less, More preferably, it is 18 hours or less. If the reaction time is too short, the desired (A) urethane (meth) acrylate compound may not be produced. Moreover, when reaction time is too long, the possibility of coloring and gelling increases.

なお、加熱の操作としては、前記原料混合物を所定の温度に加熱してもよいし、それぞれの原料及び必要に応じて用いられる触媒を単独又は2種以上の混合物の状態で所定の温度に加熱し、加熱した状態の原料及び必要に応じて用いられる触媒を混合してもよい。この際、加熱の方法、条件、装置等は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意に決定することが出来る。   As the heating operation, the raw material mixture may be heated to a predetermined temperature, or each raw material and the catalyst used as necessary may be heated to a predetermined temperature alone or in a mixture of two or more. In addition, the heated raw material and a catalyst used as necessary may be mixed. At this time, the heating method, conditions, apparatus, and the like can be arbitrarily determined as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.

混合の方法も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、中でも、ポリイソシアネート化合物存在下に、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物と、付加反応触媒との混合物を滴下することが好ましい。   The mixing method is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Among them, a mixture of a (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group and an addition reaction catalyst is dropped in the presence of a polyisocyanate compound. Is preferred.

付加反応の触媒としては、所望の(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造できる限り任意であるが、例えば、ジブチルスズラウレート、ジブチルスズジオクトエート、ジオクチルスズジラウレート、及び、ジオクチルスズジオクトエート等が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   The catalyst for the addition reaction is optional as long as the desired (A) urethane (meth) acrylate compound can be produced. Examples thereof include dibutyltin laurate, dibutyltin dioctoate, dioctyltin dilaurate, and dioctyltin dioctoate. Is preferred. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.

(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造する際、上述の材料の他に、本発明の効果を著しく損なわない限り、その他の成分を含有させてもよい。また、上記以外の条件も、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意に決定することが出来る。   (A) When manufacturing a urethane (meth) acrylate compound, in addition to the above-mentioned materials, other components may be included as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Further, conditions other than those described above can be arbitrarily determined as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.

(e.その他)
(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、透明性の高い材料であることが好ましい。透明性の高い化合物としては、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の化合物を用いることが出来るが、例えば、芳香環を有しない化合物であることが好ましい。芳香環を含有する放射線硬化性組成物β及びその硬化物は、得られる化合物が着色していたり、最初は着色していなくても保存中に着色したり着色が強まったりすること(いわゆる黄変)がある。この原因は、芳香環を形成する二重結合部分が、エネルギー線によってその構造を不可逆的に変化させるからであると考えられている。このため、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、芳香環を有さない構造を持つことで、色相の悪化が無く、かつ光線透過性も低下することなく、オプトエレクトロニクス用途など、無色透明が要求される用途への応用に特に適する利点がある。
(E. Other)
(A) The urethane (meth) acrylate compound is preferably a highly transparent material. As the highly transparent compound, any compound can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, a compound having no aromatic ring is preferable. The radiation-curable composition β and its cured product containing an aromatic ring are colored or intensely colored during storage even if the resulting compound is colored or initially uncolored (so-called yellowing) ) This is considered to be because the double bond part forming the aromatic ring irreversibly changes its structure by the energy rays. For this reason, (A) urethane (meth) acrylate compounds have a structure that does not have an aromatic ring, so there is no deterioration in hue and light transmittance, and there is no need for colorless and transparent applications such as optoelectronics. There are advantages that are particularly suitable for applications in the required applications.

芳香環を有しない(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、芳香環を有しないポリイソシアネート化合物と、芳香環を有しないヒドロキシル基を含有する化合物と、芳香環を有しないヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とを付加反応することにより製造できる。   The (A) urethane (meth) acrylate compound having no aromatic ring contains a polyisocyanate compound having no aromatic ring, a compound containing a hydroxyl group having no aromatic ring, and a hydroxyl group having no aromatic ring ( It can be produced by addition reaction with a (meth) acrylate compound.

芳香環を有しないポリイソシアネート化合物の具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   Specific examples of the polyisocyanate compound having no aromatic ring include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclohexane diisocyanate, bis (isocyanatocyclohexyl) methane, and isophorone diisocyanate. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.

芳香環を有しないヒドロキシル基を含有する化合物の具体例としては、アルキレンポリオール、アルキレンポリエステル、アルキレンカーボネートポリオール等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   Specific examples of the compound containing a hydroxyl group having no aromatic ring include alkylene polyol, alkylene polyester, alkylene carbonate polyol and the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.

芳香環を有しないヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   Specific examples of the (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group having no aromatic ring include hydroxyalkyl (meth) acrylate and the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.

以上の原料を反応させて得られる(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物の重量平均分子量は、通常1000以上、好ましくは1500以上、また、通常10000以下、好ましくは5000以下である。重量平均分子量がこの範囲だと、粘度と機械特性とのバランスが良好なためである。   The weight average molecular weight of the (A) urethane (meth) acrylate compound obtained by reacting the above raw materials is usually 1000 or more, preferably 1500 or more, and usually 10,000 or less, preferably 5000 or less. This is because when the weight average molecular weight is within this range, the balance between viscosity and mechanical properties is good.

また、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物の含有量は、放射線硬化性組成物β中、25重量%以上であることが好ましく、さらに好ましくは30重量%以上である。また、その上限は、95重量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは90重量%以下である。含有量が少なすぎると硬化物を形成するときの成形性や機械強度が低下し、クラックが生じやすくなる可能性がある。含有量が多すぎると、硬化物の表面硬度が低下する可能性がある。   Moreover, it is preferable that content of (A) urethane (meth) acrylate compound is 25 weight% or more in the radiation-curable composition (beta), More preferably, it is 30 weight% or more. Moreover, it is preferable that the upper limit is 95 weight% or less, More preferably, it is 90 weight% or less. When there is too little content, the moldability and mechanical strength at the time of forming hardened | cured material will fall, and it may become easy to produce a crack. When there is too much content, the surface hardness of hardened | cured material may fall.

<(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物>
本発明に係る透明樹脂層b用材料としての(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物(以下、単に「(B)単官能アクリレート化合物」ということがある。)としては、前記(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外であって、本発明の効果を著しく損なわない限り、公知のいずれの単官能(メタ)アクリレート化合物を用いることができるが、特に単官能アクリレート化合物が、表面硬化性に優れ、タックが残らない点から好ましい。
ここで、単官能とは分子内に(メタ)アクリロイル基が1つ含有される化合物と定義される。
<(B) (A) Monofunctional (meth) acrylate compound other than urethane (meth) acrylate compound>
Monofunctional (meth) acrylate compounds other than (B) (A) urethane (meth) acrylate compounds (hereinafter, simply referred to as “(B) monofunctional acrylate compounds”) as the material for the transparent resin layer b according to the present invention. As for ()) other than the above-mentioned (A) urethane (meth) acrylate compound, any known monofunctional (meth) acrylate compound can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. A functional acrylate compound is preferable in that it has excellent surface curability and no tack remains.
Here, the monofunctional is defined as a compound containing one (meth) acryloyl group in the molecule.

単官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ(メタ)アクリレート類や(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン骨格を有する(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート類等が挙げられる。   Specific examples of monofunctional (meth) acrylate compounds include (meth) acrylamides such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate. Such as hydroxy (meth) acrylates, (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate having a tricyclodecane skeleton And formula (meth) acrylates.

中でも(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン骨格を有する(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレートが好ましく、更には疎水性の高いテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン骨格を有する(メタ)アクリレートが好ましい。   Among them, (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, alicyclic (meth) acrylate such as (meth) acrylate having a tricyclodecane skeleton is preferable, Furthermore, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and (meth) acrylate having a tricyclodecane skeleton having high hydrophobicity are preferable.

これらの(B)単官能アクリレート化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   One of these (B) monofunctional acrylate compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.

なお、(B)単官能アクリレート化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常50以上、好ましくは100以上、更に好ましくは150以上、また、通常1000以下、好ましくは500以下である。分子量がこの範囲であると、粘度と収縮とのバランスが良いという利点が得られる。   The molecular weight of the (B) monofunctional acrylate compound is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 50 or more, preferably 100 or more, more preferably 150 or more, and usually 1000 or less, preferably 500 or less. When the molecular weight is within this range, there is an advantage that the balance between viscosity and shrinkage is good.

また、(B)単官能アクリレート化合物の含有量は、放射線硬化性組成物β中に10重量%以上であることが好ましく、さらに好ましくは15重量%以上であり、また、70重量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは50重量%以下であり、特に好ましくは40重量%以下である。これらの(B)単官能アクリレート化合物が少なすぎると、放射線硬化性組成物βの粘度が高くなる可能性がある。また、多すぎると、放射線硬化性組成物βの硬化物(透明樹脂層b)としての機械物性が低下する可能性がある。   Further, the content of the (B) monofunctional acrylate compound is preferably 10% by weight or more, more preferably 15% by weight or more, and 70% by weight or less in the radiation curable composition β. More preferably, it is 50 weight% or less, Most preferably, it is 40 weight% or less. If the amount of these (B) monofunctional acrylate compounds is too small, the viscosity of the radiation curable composition β may increase. Moreover, when there are too many, the mechanical physical property as a hardened | cured material (transparent resin layer b) of the radiation-curable composition (beta) may fall.

(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、後述の(C)多官能アクリレート化合物との総和100重量部に対する、(B)単官能アクリレート化合物の含有量は、通常10重量部以上、好ましくは20重量部以上、更に好ましくは30重量部以上、また、通常70重量部以下、好ましくは50重量部以下、より好ましくは40重量部以下である。(B)単官能アクリレート化合物が少ないと、粘度が上昇して作業性が著しく低下するとともに、硬化速度が低下し、タックが残りやすくなる傾向がある。逆に多すぎると、本発明の光記録媒体の機械特性が低下する傾向にある。   The content of the (B) monofunctional acrylate compound with respect to 100 parts by weight of the sum of the (A) urethane (meth) acrylate compound, the (B) monofunctional acrylate compound, and the later-described (C) polyfunctional acrylate compound is usually It is 10 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or more, more preferably 30 parts by weight or more, and usually 70 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, more preferably 40 parts by weight or less. (B) When there are few monofunctional acrylate compounds, while a viscosity will rise and workability | operativity will fall remarkably, there exists a tendency for a cure rate to fall and for a tack | tuck to remain easily. On the other hand, if the amount is too large, the mechanical properties of the optical recording medium of the present invention tend to deteriorate.

<(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物>
本発明に係る透明樹脂層b用材料としての(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物(以下、単に「(C)多官能アクリレート化合物」ということがある。)としては、前記(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外であって、本発明の効果を著しく損なわない限り、公知のいずれの多官能(メタ)アクリレート化合物を用いることができるが、多官能アクリレート化合物が、表面硬化性に優れる点から好ましい。
ここで、多官能とは、分子内に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有される化合物と定義される。
<(C) (A) Polyfunctional (meth) acrylate compound other than urethane (meth) acrylate compound>
Polyfunctional (meth) acrylate compounds other than (C) (A) urethane (meth) acrylate compounds (hereinafter referred to simply as “(C) polyfunctional acrylate compounds”) as the material for the transparent resin layer b according to the present invention. .) Can be any known polyfunctional (meth) acrylate compound other than the (A) urethane (meth) acrylate compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. An acrylate compound is preferable from the viewpoint of excellent surface curability.
Here, polyfunctionality is defined as a compound containing two or more (meth) acryloyl groups in the molecule.

(C)多官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、脂鎖式ポリ(メタ)アクリレート、脂環式ポリ(メタ)アクリレート、芳香族ポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the (C) polyfunctional (meth) acrylate compound include alicyclic poly (meth) acrylate, alicyclic poly (meth) acrylate, and aromatic poly (meth) acrylate.

(C)多官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリイソブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA、ビスフェノールF、またはビスフェノールS等のビスフェノールのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、またはブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA、ビスフェノールF、またはビスフェノールS等のビスフェノールの水添誘導体のジ(メタ)アクリレート、各種ポリエーテルポリオール化合物と他の化合物とのブロック、またはランダム共重合体のジ(メタ)アクリレート等のポリエーテル骨格を有する(メタ)アクリレート類、及び、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]プロパン、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート、p−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ]キシリレン、4,4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ]ジフェニルスルホン等の2価の(メタ)アクリレート類、トリメチロールプロパントリス(メタ)アクリレート、グリセリントリス(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリス(メタ)アクリレート等の3価の(メタ)アクリレート類、ペンタエリスリトールテトラキス(メタ)アクリレート等の4価の(メタ)アクリレート類、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の5価以上の(メタ)アクリレート類等の不定多価の(メタ)アクリレート類等が挙げられる。 (C) Specific examples of polyfunctional (meth) acrylate compounds include polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetra Methylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-polybutylene glycol di (meth) acrylate, polyisobutylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S such as ethylene oxide, propylene oxide, or Di (meth) acrylates of alkylene oxide adducts such as butylene oxide, hydrogenated derivatives of bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S ) Acrylate, block of various polyether polyol compounds and other compounds, or (meth) acrylates having a polyether skeleton such as di (meth) acrylate of random copolymer, and hexanediol di (meth) acrylate, Nonanediol di (meth) acrylate, decanediol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyphenyl] propane, 2,2-bis [4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ) Phenyl] propane, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate, p-bis [β- (meth) acryloyloxyethylthio] xylylene, 4,4′-bis 2 such as [β- (meth) acryloyloxyethylthio] diphenylsulfone (Meth) acrylates, trimethylolpropane tris (meth) acrylate, glycerol tris (meth) acrylate, trivalent (meth) acrylates such as pentaerythritol tris (meth) acrylate, pentaerythritol tetrakis (meth) acrylate, etc. Indefinite polyvalent (meth) acrylates such as tetravalent (meth) acrylates, pentavalent or higher (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

これらのうち、架橋生成反応の制御性から上記2価の(メタ)アクリレート類が好ましい。2価の(メタ)アクリレート類の具体例としては、脂鎖式ポリ(メタ)アクリレート、脂環式ポリ(メタ)アクリレート等が好ましく、さらには、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレートが好ましい。 Among these, the above-mentioned divalent (meth) acrylates are preferable in terms of controllability of the cross-linking formation reaction. As specific examples of the divalent (meth) acrylates, alicyclic poly (meth) acrylate, alicyclic poly (meth) acrylate and the like are preferable. Furthermore, hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di ( Preferred are (meth) acrylate and bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate.

又、硬化物の架橋構造の耐熱性、表面硬度の向上等を目的として、3官能以上の(メタ)アクリレート類が好ましく用いられる。その具体例としては、上記に例示されたトリメチロールプロパントリス(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリス(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、及び、イソシアヌレート骨格を有する3官能の(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Trifunctional or higher functional (meth) acrylates are preferably used for the purpose of improving the heat resistance of the cross-linked structure of the cured product and the surface hardness. Specific examples thereof include trimethylolpropane tris (meth) acrylate, pentaerythritol tris (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like exemplified above and trifunctional (meth) having an isocyanurate skeleton. ) Acrylate and the like.

これらの(C)多官能アクリレート化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常50以上、好ましくは100以上、また、通常1000以下、好ましくは500以下である。分子量がこの範囲であると、粘度と収縮とのバランスが良いという利点が得られる。   The molecular weight of these (C) polyfunctional acrylate compounds is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 50 or more, preferably 100 or more, and usually 1000 or less, preferably 500 or less. When the molecular weight is within this range, there is an advantage that the balance between viscosity and shrinkage is good.

また、(C)多官能アクリレート化合物の含有量は、放射線硬化性組成物β中に1重量%以上であることが好ましく、さらに好ましくは1.5重量%以上である。また、その上限は、通常30重量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは15重量%以下、特に好ましくは7重量%以下である。これらの(C)多官能アクリレート化合物が少なすぎると、放射線硬化性組成物βの弾性率が低くなりすぎる可能性がある。また、多すぎると、光記録媒体の変形が著しく増大する可能性がある。   Moreover, it is preferable that content of (C) polyfunctional acrylate compound is 1 weight% or more in the radiation-curable composition (beta), More preferably, it is 1.5 weight% or more. The upper limit is usually preferably 30% by weight or less, more preferably 15% by weight or less, and particularly preferably 7% by weight or less. If the amount of these (C) polyfunctional acrylate compounds is too small, the elastic modulus of the radiation curable composition β may be too low. If the amount is too large, the deformation of the optical recording medium may be significantly increased.

なお、(C)多官能アクリレート化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   In addition, (C) a polyfunctional acrylate compound may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、(C)多官能アクリレート化合物との総和100重量部に対する、(C)多官能アクリレート化合物の含有量は、好ましくは1重量部以上、より好ましくは5重量部以上、また、好ましくは30重量部以下、より好ましくは20重量部以下である。(C)多官能アクリレート化合物が少ないと、光記録媒体の表面硬度が低下する傾向があり、多すぎると光記録媒体の環境温湿度変化に対する変形が著しく増大する可能性がある。   The content of the (C) polyfunctional acrylate compound with respect to 100 parts by weight of the sum of the (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound is preferably 1 Part by weight or more, more preferably 5 parts by weight or more, preferably 30 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less. (C) If the polyfunctional acrylate compound is small, the surface hardness of the optical recording medium tends to decrease, and if it is too large, the deformation of the optical recording medium with respect to changes in environmental temperature and humidity may be remarkably increased.

<重合開始剤>
放射線硬化性組成物βは、放射線(例えば、活性エネルギー線、紫外線、電子線等)によって進行する重合反応を開始するために、重合開始剤を含有することが好ましい。中でも、放射線が活性エネルギー線、紫外線の場合、重合開始剤を含むことが特に好ましい。重合開始剤としては、光によりラジカルを発生する性質を有する化合物であるラジカル発生剤が一般的であり、本発明の効果を著しく損なわない限り、公知の何れのラジカル発生剤を使用することが出来る。
<Polymerization initiator>
The radiation curable composition β preferably contains a polymerization initiator in order to initiate a polymerization reaction that proceeds by radiation (for example, active energy rays, ultraviolet rays, electron beams, etc.). Especially, when a radiation is an active energy ray and an ultraviolet-ray, it is especially preferable that a polymerization initiator is included. As the polymerization initiator, a radical generator that is a compound having a property of generating radicals by light is generally used, and any known radical generator can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. .

このようなラジカル発生剤の具体例としては、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエート、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、2−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイルホルメート、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン−1−オン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、2−ヒドロキシ−1−〔4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル〕−2−メチル−プロパン−1−オン等が挙げられる。   Specific examples of such radical generators include benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4-phenylbenzophenone, methylorthobenzoylbenzoate, thioxanthone, diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone. Chlorothioxanthone, 2-ethylanthraquinone, t-butylanthraquinone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin methyl ether, Benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, methylbenzoyl formate, 2-methyl-1- [4 (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4 , 4-Trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl]- Phenyl] -2-methyl-propan-1-one and the like.

中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、及び、2−ヒドロキシ−1−〔4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル〕−2−メチル−プロパン−1−オンが好ましい。   Among them, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl]- Phenyl] -2-methyl-propan-1-one is preferred.

また、硬化速度が速く架橋密度を十分に上昇させることが出来るため、上記のラジカル発生剤のうち、ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−1−〔4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル〕−2−メチル−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが特に好ましい。   Further, since the curing speed is high and the crosslinking density can be sufficiently increased, among the above radical generators, benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone, 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl] -2-methyl-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyl Diphenylphosphine oxide is particularly preferred.

本発明に係る放射線硬化性組成物βの硬化物を、波長380〜800nmのレーザーを光源とする光記録媒体等に用いる場合には、読み取りに必要なレーザー光が十分に光透過層を通過するように、ラジカル発生剤の種類及び使用量を選択して用いることが好ましい。この場合、得られる光透過層がレーザー光を吸収し難い短波長感光型のラジカル発生剤を使用するのが特に好ましい。   When the cured product of the radiation curable composition β according to the present invention is used for an optical recording medium using a laser having a wavelength of 380 to 800 nm as a light source, the laser beam necessary for reading sufficiently passes through the light transmitting layer. Thus, it is preferable to select and use the type and amount of the radical generator. In this case, it is particularly preferable to use a short-wavelength photosensitive radical generator in which the obtained light transmission layer hardly absorbs laser light.

上記のラジカル発生剤のうち、このような短波長感光型のラジカル発生剤としては、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエート、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイルホルメート等が挙げられる。中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の水酸基を有するものが特に好ましい。   Among the above radical generators, such short wavelength photosensitive radical generators include benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-phenylbenzophenone, methylorthobenzoylbenzoate, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy Examples include 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and methyl benzoyl formate. Among them, those having a hydroxyl group such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone are particularly preferable.

なお、ラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   In addition, a radical generator may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

また、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、(C)多官能アクリレート化合物との総和100重量部に対する、ラジカル発生剤の使用量は、通常0.1重量部以上、好ましくは1重量部以上、更に好ましくは2重量部以上、また、通常10重量部以下、好ましくは9重量部以下、更に好ましくは7重量部以下である。使用量が少なすぎると、放射線硬化性組成物βを十分に硬化させることができなくなる可能性がある。また、使用量が多すぎると、重合反応が急激に進行して、光学歪みの増大をもたらすだけでなく、色相も悪化する可能性がある。   Moreover, the usage-amount of a radical generator with respect to the sum total of 100 weight part of (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound is 0.1 weight normally. Part or more, preferably 1 part by weight or more, more preferably 2 parts by weight or more, and usually 10 parts by weight or less, preferably 9 parts by weight or less, more preferably 7 parts by weight or less. If the amount used is too small, the radiation curable composition β may not be sufficiently cured. Moreover, when there is too much usage-amount, a superposition | polymerization reaction will advance rapidly and it may not only increase an optical distortion but a hue may also deteriorate.

これらのラジカル発生剤と共に、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の成分を併用してもよい。例えば、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸アミル、4−ジメチルアミノアセトフェノン等の公知の増感剤を併用することができる。増感剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   Any component may be used in combination with these radical generators as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, known sensitizers such as methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, amyl 4-dimethylaminobenzoate and 4-dimethylaminoacetophenone can be used in combination. A sensitizer may be used individually by 1 type and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

重合開始剤としてベンゾフェノン系重合開始剤を用いる場合、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、(C)多官能アクリレート化合物との総和100重量部に対する、ベンゾフェノン系重合開始剤の使用量は、通常0.5重量部以上、また、好ましくは2重量部以下、更に好ましくは1重量部以下である。ベンゾフェノン系重合開始剤量が多いと、硬化物中の揮発成分が多くなり、高温、高湿環境下での膜厚が減少する可能性がある。   When a benzophenone-based polymerization initiator is used as the polymerization initiator, the benzophenone-based compound is added to 100 parts by weight of the total of (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound. The amount of the polymerization initiator used is usually 0.5 parts by weight or more, preferably 2 parts by weight or less, more preferably 1 part by weight or less. When the amount of the benzophenone-based polymerization initiator is large, the volatile components in the cured product increase, and the film thickness under a high temperature and high humidity environment may decrease.

なお、放射線として、電子線によって重合反応を開始させる場合には、上記ラジカル発生剤を用いることも出来るが、ラジカル発生剤やその他の重合開始剤を使用しないことが好ましい。重合開始剤を使用しなくても十分硬化するためである。   In addition, when starting a polymerization reaction with an electron beam as radiation, although the said radical generator can also be used, it is preferable not to use a radical generator and other polymerization initiators. This is because sufficient curing can be achieved without using a polymerization initiator.

なお、ラジカル発生剤以外の重合開始剤としては、酸化剤等が挙げられる。
これらの重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
Examples of the polymerization initiator other than the radical generator include an oxidizing agent.
One of these polymerization initiators may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.

重合開始剤には、塩素原子、硫黄原子、燐原子、ナトリウム原子等の不純物を含有していることがあるが、そのような不純物含有量は少ないことが好ましい。それぞれの含有量は好ましくは100ppm以下、より好ましくは50ppm以下である。不純物量が多すぎると、所望の放射線硬化性組成物βの硬化物が得られない可能性がある。   The polymerization initiator may contain impurities such as a chlorine atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, and a sodium atom, but such an impurity content is preferably small. Each content is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less. If the amount of impurities is too large, a cured product of the desired radiation curable composition β may not be obtained.

<エポキシ基を含有する化合物>
本発明の光記録媒体の信号特性向上の目的で、放射線硬化性組成物β中に、エポキシ基を1個以上含有する化合物を含有させてもよい。エポキシ基はどのような形態、方法で含有されていても構わない。
<Compound containing epoxy group>
For the purpose of improving the signal characteristics of the optical recording medium of the present invention, the radiation curable composition β may contain a compound containing one or more epoxy groups. The epoxy group may be contained in any form and method.

本発明に係るエポキシ基を分子中に1個以上含有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物であれば特に制限されない。具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノール又はアルキルフェノールのノボラック等の多価フェノール;グリコール類;トリメチロールプロパン等の多価アルコールをグリシジル化して得られるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;アジピン酸、フタル酸等のポリカルボン酸をグリシジル化して得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンやイソシアヌレート等のポリアミンをグリシジル化して得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;アミノフェノール、アミノアルキルフェノール等をグリシジル化して得られるグリシジルアミノグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート等の脂環族エポキサイド;等が挙げられる。   The compound containing at least one epoxy group according to the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having an epoxy group. Specific examples include polyphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenol or alkylphenol novolacs; glycols; glycidyl ether type epoxy resins obtained by glycidylation of polyhydric alcohols such as trimethylolpropane; adipic acid Glycidyl ester type epoxy resins obtained by glycidylation of polycarboxylic acids such as phthalic acid; glycidyl amine type epoxy resins obtained by glycidylation of polyamines such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and isocyanurate; aminophenols, aminoalkylphenols, etc. Glycidylaminoglycidyl ether type epoxy resin obtained by glycidylation of 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3,4-epoxy 6-methyl cyclohexyl carboxylate, alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexyl carboxylate; and the like.

これらのエポキシ基を分子中に1個以上含有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   The compound which contains 1 or more of these epoxy groups in a molecule | numerator may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

<補助成分>
本発明に係る放射線硬化性組成物βには、本発明の効果を著しく損なわない限りにおいて、必要に応じて添加剤等の補助成分が含有されていてもよい。
その補助成分の具体例としては、酸化防止剤、熱安定剤、或いは光吸収剤等の安定剤類;ガラス繊維、ガラスビーズ、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、マイカ、タルク、カオリン、金属繊維、金属粉等のフィラー類;炭素繊維、カーボンブラック、黒鉛、カーボンナノチューブ、C60等のフラーレン類等の炭素材料類(フィラー類、炭素材料類を総称して無機成分と称する。);帯電防止剤、可塑剤、離型剤、消泡剤、レベリング剤、沈降防止剤、界面活性剤、チクソトロピー付与剤等の改質剤類;顔料、染料、色相調整剤等の着色剤類;モノマー及び/またはそのオリゴマー、または無機成分の合成に必要な硬化剤、触媒、硬化促進剤類等が挙げられ、これらの補助成分は、1種を単独で用いてもよく、また、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。これら補助成分の含有量は、放射線硬化性組成物βの通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下、さらに好ましくは5重量%以下である。
<Auxiliary component>
The radiation curable composition β according to the present invention may contain an auxiliary component such as an additive, if necessary, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.
Specific examples of the auxiliary components include stabilizers such as antioxidants, heat stabilizers, or light absorbers; glass fibers, glass beads, silica, alumina, zinc oxide, titanium oxide, mica, talc, kaolin, metal fibers, fillers metal powders and the like; carbon fiber, carbon black, graphite, carbon nanotube, a carbon material such as fullerene such as C 60 (fillers, referred to as an inorganic component are collectively a carbon material such.); charge Modifiers such as inhibitors, plasticizers, mold release agents, antifoaming agents, leveling agents, anti-settling agents, surfactants, thixotropy imparting agents; colorants such as pigments, dyes, hue modifiers; monomers and And / or oligomers thereof, or curing agents, catalysts, curing accelerators, and the like necessary for the synthesis of the inorganic component. These auxiliary components may be used alone or in combination of two or more. These ratios and combinations may be used. The content of these auxiliary components is usually 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less of the radiation curable composition β.

これらの中で、フィラー類としてのシリカについて詳述する。上記放射線硬化性組成物βに用いるシリカとは、珪素酸化物一般を指し、珪素と酸素との比率や、結晶であるかアモルファスであるかは問わない。上記シリカ粒子としては、工業的に生産されている、溶媒中に分散されている状態のシリカ粒子、または粉体のシリカ粒子;アルコキシシラン等の原料から誘導、合成されたシリカ粒子等を挙げることができる。中でも、上記放射線硬化性組成物βに用いる場合、混合や分散のしやすさから、溶媒中に分散されている状態のシリカ粒子、または、アルコキシシラン等の原料から誘導、合成されたシリカ粒子が好ましい。   Among these, silica as fillers will be described in detail. The silica used for the radiation curable composition β refers to silicon oxide in general, and it does not matter whether it is a ratio of silicon and oxygen or whether it is crystalline or amorphous. Examples of the silica particles include industrially produced silica particles dispersed in a solvent, or powdered silica particles; silica particles derived and synthesized from raw materials such as alkoxysilanes, and the like. Can do. Among them, when used in the radiation curable composition β, silica particles dispersed in a solvent or silica particles derived and synthesized from a raw material such as alkoxysilane are used for ease of mixing and dispersion. preferable.

上記シリカ粒子の粒径は任意であるが、TEM(透過型電子顕微鏡)等を用いた形態観察によって測定される数平均粒径として、好ましくは0.5nm以上、さらに好ましくは1nm以上であり、また、好ましくは50nm以下、より好ましくは30nm以下、さらに好ましくは15nm以下、特に好ましくは10nm以下、中でも好ましくは6nm以下である。シリカ粒子としては超微粒子であることが好ましいが、小さすぎると、超微粒子の凝集性が極端に増大して、硬化物の透明性や機械的強度が極端に低下する傾向があり、量子効果による特性が顕著でなくなる傾向があるためである。   Although the particle diameter of the silica particles is arbitrary, the number average particle diameter measured by morphological observation using a TEM (transmission electron microscope) or the like is preferably 0.5 nm or more, more preferably 1 nm or more, Further, it is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, further preferably 15 nm or less, particularly preferably 10 nm or less, and particularly preferably 6 nm or less. The silica particles are preferably ultrafine particles, but if they are too small, the cohesiveness of the ultrafine particles is extremely increased, and the transparency and mechanical strength of the cured product tend to be extremely decreased. This is because the characteristics tend not to be remarkable.

<1−2−2.放射線硬化性組成物βの製造方法>
放射線硬化性組成物βは、上記(A)ポリイソシアネート化合物、(B)単官能アクリレート化合物、及び(C)多官能アクリレート化合物、並びに必要に応じて用いられる上記重合開始剤や補助成分等を、放射線を遮断した状態で、攪拌し均一に混合することにより調製される。
<1-2-2. Method for producing radiation curable composition β>
The radiation curable composition β includes the (A) polyisocyanate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound, and the polymerization initiator and auxiliary components used as necessary. It is prepared by stirring and mixing uniformly while blocking radiation.

その際の各成分の混合順序としては、限定されるものではないが、低粘度の液体成分に高粘度の液体成分及び/または固体成分を加え攪拌することが好ましい。また重合開始剤は、最後に加えることが好ましい。   The order of mixing the components at that time is not limited, but it is preferable to add the high viscosity liquid component and / or solid component to the low viscosity liquid component and stir. The polymerization initiator is preferably added last.

また、その際の攪拌条件は、限定されるものではない。攪拌温度としては、通常常温とするが、通常90℃以下、好ましくは70℃以下の温度に加熱してもよい。
攪拌速度としては、通常100rpm以上、好ましくは300rpm以上、また、通常1000rpm以下である。
攪拌時間としては、通常10秒以上、好ましくは3時間以上、また、通常24時間以下である。
Moreover, the stirring conditions in that case are not limited. The stirring temperature is usually normal temperature, but may be heated to a temperature of usually 90 ° C. or lower, preferably 70 ° C. or lower.
The stirring speed is usually 100 rpm or more, preferably 300 rpm or more, and usually 1000 rpm or less.
The stirring time is usually 10 seconds or longer, preferably 3 hours or longer, and usually 24 hours or shorter.

<1−3.透明樹脂層a>
以下、透明樹脂層a用材料、及び放射線硬化性組成物αについて説明する。なお、放射線硬化性組成物αを用いた透明樹脂層aの製造方法については、<1−4.保護層の形成方法>で説明する。
<1-3. Transparent resin layer a>
Hereinafter, the material for the transparent resin layer a and the radiation curable composition α will be described. In addition, about the manufacturing method of the transparent resin layer a using the radiation curable composition (alpha), it is <1-4. The method for forming the protective layer is described below.

<1−3−1.透明樹脂層a用材料>
透明樹脂層a用材料は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の材料を用いることが出来る。透明樹脂層aを形成するには、好ましくは前記透明樹脂層bと同様、放射線硬化性を有する透明樹脂層a用材料を混合した液状組成物(放射線硬化性組成物α)を用いることが好ましい。
<1-3-1. Material for transparent resin layer a>
Any material can be used as the material for the transparent resin layer a as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In order to form the transparent resin layer a, it is preferable to use a liquid composition (radiation curable composition α) in which a material for the transparent resin layer a having radiation curability is mixed, as in the transparent resin layer b. .

透明樹脂層a用材料としては、前記(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を含む放射線硬化性の化合物が好ましい。さらに透明樹脂層a用材料として、前記(B)単官能アクリレート化合物を用いてもよいが、(B)単官能アクリレート化合物は用いないか、用いたとしてもなるべく少なくすることが好ましい。また、透明樹脂層a用材料として、前記(C)多官能アクリレート化合物を用いることが好ましい。また、その他の成分を含有していてもよい。   The material for the transparent resin layer a is preferably a radiation curable compound containing the (A) urethane (meth) acrylate compound. Furthermore, although the (B) monofunctional acrylate compound may be used as the material for the transparent resin layer a, it is preferable not to use the (B) monofunctional acrylate compound or to reduce it as much as possible. Moreover, it is preferable to use the said (C) polyfunctional acrylate compound as a material for transparent resin layer a. Moreover, the other component may be contained.

<(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物>
本発明に係る透明樹脂層a用材料としての(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、前記透明樹脂層b用材料と同様、通常、ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を含有する化合物と、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物とを反応させて得られる。(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、ウレタンアクリレート化合物が好ましい。表面硬化性に優れ、タックが残りにくいためである。
(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
<(A) Urethane (meth) acrylate compound>
The (A) urethane (meth) acrylate compound as the material for the transparent resin layer a according to the present invention is usually a polyisocyanate compound, a compound containing a hydroxyl group, and a hydroxyl group, like the material for the transparent resin layer b. It is obtained by reacting with a (meth) acrylate compound containing (A) As a urethane (meth) acrylate compound, a urethane acrylate compound is preferable. This is because the surface curability is excellent and tack is difficult to remain.
(A) A urethane (meth) acrylate compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

(a.ポリイソシアネート化合物)
ポリイソシアネート化合物としては、前記透明樹脂層bと同様の化合物を用いることができるが、中でも、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の多量体であるイソシアネート骨格を含む化合物が、本発明の光記録媒体の信号特性低下が起きにくく、好ましい。
ポリイソシアネート化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
(A. Polyisocyanate compound)
As the polyisocyanate compound, the same compound as the transparent resin layer b can be used. Among them, a compound containing an isocyanate skeleton that is a multimer such as tetramethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate is an optical recording medium of the present invention. This is preferable because the signal characteristics are less likely to deteriorate.
A polyisocyanate compound may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

(b.ヒロドキシル基を含有する化合物)
ヒドロキシル基を含有する化合物としては、前記透明樹脂層bと同様の化合物を用いることができるが、中でも、ポリエーテル骨格を導入できるポリエーテルポリオール化合物、及びポリエステル骨格を導入できるポリエステルポリオール化合物が好ましい。
ヒドロキシル基を含有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
(B. Compound containing a hydroxyl group)
As the compound containing a hydroxyl group, the same compound as that of the transparent resin layer b can be used. Among them, a polyether polyol compound capable of introducing a polyether skeleton and a polyester polyol compound capable of introducing a polyester skeleton are preferable.
The compound containing a hydroxyl group may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

(c.ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物)
ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物としては、前記透明樹脂層bと同様の化合物を用いることができる。
ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレート化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
(C. (Meth) acrylate compound containing hydroxyl group)
As the (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group, the same compound as the transparent resin layer b can be used.
As the (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group, one type may be used alone, or two or more types may be used in any ratio and combination.

(d.(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物の製造方法)
本発明に係る透明樹脂層a用材料としての(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、前記本発明に係る透明樹脂層b用材料としての(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と同様の方法で製造することができる。
(D. (A) Method for producing urethane (meth) acrylate compound)
The (A) urethane (meth) acrylate compound as the material for the transparent resin layer a according to the present invention is the same method as the (A) urethane (meth) acrylate compound as the material for the transparent resin layer b according to the present invention. Can be manufactured.

(e.その他)
(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、透明性の高い材料であることが好ましい。透明性の高い化合物としては、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の化合物を用いることが出来るが、例えば、透明樹脂層b用材料と同様にして、芳香環を有しない化合物であることが好ましい。
また、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物の重量平均分子量は、通常500以上、好ましくは800以上、また、通常5000以下、好ましくは2000以下である。重量平均分子量がこの範囲だと、低硬化収縮率と高表面耐久性とが両立することができるためである。
(E. Other)
(A) The urethane (meth) acrylate compound is preferably a highly transparent material. As the highly transparent compound, any compound can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, it is a compound having no aromatic ring in the same manner as the material for the transparent resin layer b. preferable.
The weight average molecular weight of the (A) urethane (meth) acrylate compound is usually 500 or more, preferably 800 or more, and usually 5000 or less, preferably 2000 or less. This is because when the weight average molecular weight is within this range, both low cure shrinkage and high surface durability can be achieved.

<(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物>
(B)単官能アクリレート化合物としては、前記透明樹脂層bと同様の化合物を用いることができるが、その含有量は少ないか、含有しないことが好ましい。(B)単官能アクリレート化合物は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
具体的に好ましい含有量としては、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、後述の(C)多官能アクリレート化合物の総和100重量部に対して、通常30重量部以下、好ましくは20重量部以下、より好ましくは10重量部以下、更に好ましくは0重量部である。(B)の含有量が多すぎると、光記録媒体の保護層側表面が、局部的な圧力に対して変形しやすく、その影響で信号特性が悪化する傾向にある。
<(B) (A) Monofunctional (meth) acrylate compound other than urethane (meth) acrylate compound>
(B) As the monofunctional acrylate compound, the same compound as the transparent resin layer b can be used, but the content is small or preferably not contained. (B) One type of monofunctional acrylate compound may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.
Specifically, the preferred content is usually 30 weights per 100 parts by weight of the total of (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound described later. Part or less, preferably 20 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, and still more preferably 0 parts by weight. When the content of (B) is too large, the surface of the optical recording medium on the protective layer side tends to be deformed with respect to local pressure, and the signal characteristics tend to deteriorate due to the influence.

<(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物>
(C)多官能アクリレート化合物としては、前記透明樹脂層bと同様の化合物を用いることができる。
中でも、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、等のポリアルキレングリコール骨格(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラキストリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラキステトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、等の脂肪族(メタ)アクリレート及びこれらのポリアルキレングリコール変性体が特に好ましい。
(C)多官能アクリレート化合物は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
<(C) (A) Polyfunctional (meth) acrylate compound other than urethane (meth) acrylate compound>
(C) As a polyfunctional acrylate compound, the compound similar to the said transparent resin layer b can be used.
Among them, polyalkylene glycol skeletons such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = dimethacrylate, trimethylolpropane tri (meta ) Aliphatic (meth) acrylates such as acrylate, pentaerythritol tetrakistri (meth) acrylate, pentaerythritol tetrakistetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Over preparative and these polyalkylene glycol modified products are particularly preferred.
(C) One type of polyfunctional acrylate compound may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.

特に放射線硬化性組成物αにおいては、(C)多官能(メタ)アクリレートとしては、3官能以上の(メタ)アクリレート化合物を含むことが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラキストリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラキステトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート及びこれらのポリアルキレングリコール変性体である。3官能以上の(メタ)アクリレート化合物の含有量は、多官能(メタ)アクリレート中に好ましくは10重量%以上、更に好ましくは20重量%以上、また、好ましくは90重量%以下、更に好ましくは80重量%以下である。   Particularly in the radiation curable composition α, the (C) polyfunctional (meth) acrylate preferably contains a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound. Specifically, aliphatic (meth) such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetrakistri (meth) acrylate, pentaerythroletetrakistetra (meth) acrylate, dipentaerystol hexa (meth) acrylate, etc. Acrylates and their modified polyalkylene glycols. The content of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and preferably 90% by weight or less, more preferably 80% in the polyfunctional (meth) acrylate. % By weight or less.

なお、(C)多官能アクリレート化合物は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   In addition, (C) a polyfunctional acrylate compound may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

また、(C)多官能アクリレート化合物の含有量は、放射線硬化性組成物α中に15重量%以上であることが好ましく、より好ましくは20重量%以上、更に好ましくは25重量%以上である。また、その上限は、通常90重量%以下であることが好ましく、より好ましくは70重量%以下、更に好ましくは50重量%以下、特に好ましくは35重量%以下である。これらの(C)多官能アクリレート化合物が少なすぎると、光記録媒体の保護層側表面が、局部的な圧力に対して変形しやすく、その影響で信号特性が悪化しやすくなる傾向がある。逆に多すぎると、光記録媒体の環境温湿度変化に対する変形が著しく増大する可能性がある。   Moreover, it is preferable that content of (C) polyfunctional acrylate compound is 15 weight% or more in the radiation-curable composition (alpha), More preferably, it is 20 weight% or more, More preferably, it is 25 weight% or more. The upper limit is usually preferably 90% by weight or less, more preferably 70% by weight or less, still more preferably 50% by weight or less, and particularly preferably 35% by weight or less. If the amount of these (C) polyfunctional acrylate compounds is too small, the surface of the protective layer side of the optical recording medium tends to be deformed with respect to local pressure, and the signal characteristics tend to deteriorate due to the influence. On the other hand, if the amount is too large, there is a possibility that the deformation of the optical recording medium with respect to environmental temperature and humidity changes will increase significantly.

(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、(C)多官能アクリレート化合物との総和に対する、(C)多官能アクリレート化合物の含有量は、好ましくは15重量部以上、より好ましくは20重量部以上、更に好ましくは25重量部以上、また、好ましくは90重量部以下、より好ましくは70重量部以下、更に好ましくは50重量部以下、特に好ましくは35重量部以下である。多官能アクリレート化合物が少ないと、光記録媒体の表面硬度が低下する傾向があり、多すぎると光記録媒体の環境温湿度変化に対する変形が著しく増大する可能性がある。   The content of (C) polyfunctional acrylate compound with respect to the sum of (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound is preferably 15 parts by weight or more. More preferably, it is 20 parts by weight or more, more preferably 25 parts by weight or more, preferably 90 parts by weight or less, more preferably 70 parts by weight or less, still more preferably 50 parts by weight or less, particularly preferably 35 parts by weight or less. is there. If the polyfunctional acrylate compound is small, the surface hardness of the optical recording medium tends to decrease. If the polyfunctional acrylate compound is too large, the deformation of the optical recording medium with respect to changes in environmental temperature and humidity may be remarkably increased.

<重合開始剤>
本発明に係る放射線硬化性組成物αは、放射線によって進行する重合反応を開始するために、重合開始剤としてラジカル発生剤を含有することが好ましい。ラジカル発生剤の具体例としては、前記透明樹脂層bに用いることのできる化合物と同様の化合物を挙げることができる。
重合開始剤は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
<Polymerization initiator>
The radiation curable composition α according to the present invention preferably contains a radical generator as a polymerization initiator in order to initiate a polymerization reaction that proceeds by radiation. Specific examples of the radical generator include compounds similar to the compounds that can be used for the transparent resin layer b.
One type of polymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.

(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物と、(B)単官能アクリレート化合物と、(C)多官能アクリレート化合物との総和100重量部に対する、ラジカル発生剤の使用量は、通常0.1重量部以上、好ましくは1重量部以上、また、通常10重量部以下、好ましくは6重量部以下、更に好ましくは4重量部以下、特に好ましくは2.5重量部以下である。使用量が少なすぎると、放射線硬化性組成物αを十分に硬化させることができなくなる可能性がある。また、使用量が多すぎると、重合反応が急激に進行して、光学歪みの増大をもたらすだけでなく、色相も悪化したり、光記録媒体の保護層側表面が、局部的な圧力に対して変形しやすく、その影響で信号特性が悪化しやすくなる傾向にある。   The amount of radical generator used is usually 0.1 parts by weight or more relative to 100 parts by weight of the total of (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) monofunctional acrylate compound, and (C) polyfunctional acrylate compound. 1 part by weight or more, preferably 10 parts by weight or less, preferably 6 parts by weight or less, more preferably 4 parts by weight or less, particularly preferably 2.5 parts by weight or less. If the amount used is too small, the radiation curable composition α may not be sufficiently cured. In addition, if the amount used is too large, the polymerization reaction proceeds rapidly and not only increases optical distortion, but also the hue deteriorates, or the surface of the protective layer side of the optical recording medium is not subjected to local pressure. Therefore, the signal characteristics tend to be deteriorated easily.

<エポキシ基を含有する化合物>
本発明の光記録媒体の信号特性向上の目的で、放射線硬化性組成物α中に、エポキシ基を1個以上含有する化合物を含有させてもよい。エポキシ基はどのような形態、方法で含有されていても構わない。
<Compound containing epoxy group>
For the purpose of improving the signal characteristics of the optical recording medium of the present invention, the radiation curable composition α may contain a compound containing one or more epoxy groups. The epoxy group may be contained in any form and method.

本発明に係るエポキシ基を分子中に1個以上含有する化合物の具体例としては、前記透明樹脂層bに用いることのできる化合物と同様の化合物を挙げることができる。
エポキシ基を分子中に1個以上含有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
Specific examples of the compound containing one or more epoxy groups in the molecule according to the present invention include compounds similar to the compounds that can be used for the transparent resin layer b.
A compound containing one or more epoxy groups in the molecule may be used alone, or two or more may be used in any ratio and combination.

<1−3−2.放射線硬化性組成物αの製造方法>
放射線硬化性組成物αは、前記放射線硬化性組成物βと同様の方法で製造することができる。
<1-3-2. Method for producing radiation curable composition α>
The radiation curable composition α can be produced by the same method as the radiation curable composition β.

<1−4.保護層の形成方法>
保護層の製造方法は、所望の保護層を形成できる限り任意である。例えば、光記録媒体の基板上に、前記透明樹脂層b用材料(放射線硬化性組成物β)を塗布し、放射線(活性エネルギー線や電子線)を照射して重合反応を開始させる、いわゆる「放射線硬化」を行い、続いて前記投影樹脂層a用材料(放射線硬化性組成物α)を、同様に塗布および放射線硬化を行うことによって製造できる。上記塗布方法に制限はなく、例えばスピンコート法等、一般的な方法とすることができる。
<1-4. Method for forming protective layer>
The manufacturing method of a protective layer is arbitrary as long as a desired protective layer can be formed. For example, the transparent resin layer b material (radiation curable composition β) is applied onto a substrate of an optical recording medium, and a polymerization reaction is started by irradiating with radiation (active energy rays or electron beams). It can be manufactured by performing “radiation curing” and subsequently applying and radiation curing the material for the projection resin layer a (radiation curable composition α). There is no restriction | limiting in the said coating method, For example, it can be set as general methods, such as a spin coat method.

なお、基板上に反射層や記録層を形成した上に、上記の透明樹脂材料aを形成してもよいし、透明樹脂層aと透明樹脂層bとの間に他の層を形成してもよい。斯かる場合でも、透明樹脂層a、及び透明樹脂層bの硬化は、放射線を照射して重合反応を用いて行なうことが好ましい。   In addition, after forming a reflective layer and a recording layer on a board | substrate, you may form said transparent resin material a, and form another layer between the transparent resin layer a and the transparent resin layer b. Also good. Even in such a case, it is preferable to cure the transparent resin layer a and the transparent resin layer b using a polymerization reaction by irradiating radiation.

上記放射線硬化性組成物α及び放射線硬化性組成物β(以下、これらの2種類を総称して単に「放射線硬化性組成物」ということがある。)の重合反応の形式に制限はなく、例えばラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、配位重合等の公知の重合形式を用いることができる。これら重合形式の例示のうち、特に好ましい重合形式はラジカル重合である。ラジカル重合では、重合反応の開始が重合系内で均質かつ短時間に進行することにより、生成物の均質性が高くなるものと推定されるためである。   There is no limitation on the type of polymerization reaction of the radiation curable composition α and the radiation curable composition β (hereinafter, these two types may be simply referred to as “radiation curable composition”). Known polymerization formats such as radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization, and coordination polymerization can be used. Among these examples of polymerization modes, a particularly preferable polymerization mode is radical polymerization. This is because in radical polymerization, it is presumed that the homogeneity of the product is increased by starting the polymerization reaction in the polymerization system in a uniform and short time.

ここで、上記放射線とは、必要とする重合反応を開始する重合開始剤に作用して上記重合反応を開始する化学種を発生させる働きを有する電磁波(ガンマ線、エックス線、紫外線、可視光線、赤外線、マイクロ波等)、または粒子線(電子線、α線、中性子線、各種原子線等)である。本発明において好ましく用いられる放射線の一例は、エネルギーと汎用光源とを使用可能であることから、紫外線、可視光線、及び電子線が好ましく、特に好ましくは紫外線及び電子線である。   Here, the radiation refers to an electromagnetic wave (gamma ray, X-ray, ultraviolet ray, visible ray, infrared ray, which acts on a polymerization initiator that initiates a necessary polymerization reaction and generates a chemical species that initiates the polymerization reaction. Microwave, etc.) or particle beam (electron beam, α-ray, neutron beam, various atomic beams, etc.). An example of the radiation preferably used in the present invention is preferably ultraviolet rays, visible rays, and electron beams, and particularly preferably ultraviolet rays and electron beams because energy and a general-purpose light source can be used.

放射線として紫外線を用いる場合、紫外線によりラジカルを発生する光ラジカル発生剤を上記重合開始剤として使用することが好ましい。この時、必要に応じて増感剤を併用してもよい。上記紫外線の波長は、通常200nm以上、好ましくは240nm以上、また、通常400nm以下、好ましくは350nm以下の範囲である。   When ultraviolet rays are used as radiation, it is preferable to use a photo radical generator that generates radicals by ultraviolet rays as the polymerization initiator. At this time, you may use a sensitizer together as needed. The wavelength of the ultraviolet ray is usually 200 nm or more, preferably 240 nm or more, and usually 400 nm or less, preferably 350 nm or less.

紫外線を照射する装置としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、マイクロ波によって紫外線を発生させる構造の紫外線ランプ等、公知の装置を好ましく用いることができる。上記装置の出力は通常10W/cm以上、好ましくは30W/cm以上、また、通常200W/cm以下、好ましくは180W/cm以下であり、上記装置は、被照射体に対して通常5cm以上、好ましくは30cm以上、また、通常80cm以下、好ましくは60cm以下の距離に設置するようにすると、被照射体の光劣化や熱劣化、熱変形等が少なく、好ましい。   As a device for irradiating ultraviolet rays, a known device such as a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an ultraviolet lamp having a structure for generating ultraviolet rays by microwaves can be preferably used. The output of the apparatus is usually 10 W / cm or more, preferably 30 W / cm or more, and usually 200 W / cm or less, preferably 180 W / cm or less. The apparatus is usually 5 cm or more, preferably Is preferably set at a distance of 30 cm or more, and usually 80 cm or less, preferably 60 cm or less, because there is little light deterioration, thermal deterioration, thermal deformation, etc. of the irradiated object.

上記放射線硬化性組成物は、電子線によっても好ましく硬化することができ、機械特性、特に引張伸び特性に優れた硬化物を得ることができる。電子線を用いる場合、その光源及び照射装置は高価であるものの、重合開始剤の使用が省略可能であること、及び酸素による重合阻害を受けず、従って表面硬度が良好となるという利点がある。電子線照射に用いられる電子線照射装置としては、特にその方式に制限はないが、例えばカーテン型、エリアビーム型、ブロードビーム型、パルスビーム型等が挙げられる。電子線照射の際の加速電圧は通常10kV以上、好ましくは100kV以上、また、通常1000kV以下、好ましくは200kV以下が好ましい。   The radiation curable composition can be cured preferably by an electron beam, and a cured product having excellent mechanical properties, particularly tensile elongation properties, can be obtained. When an electron beam is used, the light source and the irradiation device are expensive, but there are advantages that the use of a polymerization initiator can be omitted and that the polymerization is not hindered by oxygen and therefore the surface hardness is good. An electron beam irradiation apparatus used for electron beam irradiation is not particularly limited, and examples thereof include a curtain type, an area beam type, a broad beam type, and a pulse beam type. The acceleration voltage upon electron beam irradiation is usually 10 kV or more, preferably 100 kV or more, and usually 1000 kV or less, preferably 200 kV or less.

これらの放射線は、照射強度を、通常0.1J/cm2以上、好ましくは0.2J/cm2以上、また、通常20J/cm2以下、好ましくは10J/cm2以下、より好ましくは5J/cm2以下、さらに好ましくは3J/cm2以下、特に好ましくは2J/cm2以下で照射する。照射強度がこの範囲内であれば、放射線硬化性組成物の種類によって適宜選択可能である。 These radiation, the irradiation intensity, usually 0.1 J / cm 2 or more, preferably 0.2 J / cm 2 or more, and generally 20 J / cm 2 or less, preferably 10J / cm 2 or less, more preferably 5 J / Irradiation is performed at cm 2 or less, more preferably 3 J / cm 2 or less, and particularly preferably 2 J / cm 2 or less. If irradiation intensity is in this range, it can select suitably by the kind of radiation-curable composition.

放射線の照射時間は通常1秒以上、好ましくは10秒以上、また、通常3時間以下、反応促進と生産性の点で好ましくは1時間以下である。放射線の照射エネルギーや照射時間が極端に少ない場合、重合が不完全なため保護層の耐熱性、機械特性が十分に発現されない場合がある。また、逆に極端に過剰な場合は黄変等の光による色相悪化に代表される劣化を生じる場合がある。   The irradiation time of radiation is usually 1 second or longer, preferably 10 seconds or longer, and usually 3 hours or shorter, and preferably 1 hour or shorter from the viewpoint of reaction promotion and productivity. When the irradiation energy or irradiation time of radiation is extremely small, the heat resistance and mechanical properties of the protective layer may not be sufficiently exhibited due to incomplete polymerization. On the other hand, when it is extremely excessive, deterioration such as yellowing caused by light deterioration may occur.

上記放射線の照射は、一段階で照射してもよく、或いは複数段階で照射してもよい。その線源としては、通常、放射線が全方向に広がる拡散線源を用いる。放射線の照射は、通常、放射線硬化性組成物が塗布されたディスクを固定静置した状態、またはコンベアで搬送された状態で、放射線源を固定静置して行なう。   The irradiation with the radiation may be performed in one stage or may be performed in a plurality of stages. As the radiation source, a diffusion radiation source in which radiation spreads in all directions is usually used. The irradiation of radiation is usually carried out with the radiation source fixed and stationary in a state where the disk coated with the radiation curable composition is fixed and stationary or conveyed by a conveyor.

透明樹脂層b、及び透明樹脂層aの弾性率の制御は、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を構成するヒドロキシル基を含有する化合物の分子鎖の長さ、および(C)多官能アクリレート化合物の含有量と官能基数を変化させることによって行うことが出来る。
弾性率を上げるには、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を構成するヒドロキシル基を含有する化合物の分子鎖を短くしたり、(C)多官能アクリレート化合物の含有量を多くしたり、(C)多官能アクリレート化合物の官能基数を多くしたりすることによって可能となり、逆に弾性率を下げるには、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物を構成するヒドロキシル基を含有する化合物の分子鎖を長くしたり、(C)多官能アクリレート化合物の含有量を少なくしたり、(C)多官能アクリレート化合物の官能基数を少なくしたりすることによって可能となる。
The elastic modulus of the transparent resin layer b and the transparent resin layer a is controlled by (A) the molecular chain length of the compound containing the hydroxyl group constituting the urethane (meth) acrylate compound, and (C) the polyfunctional acrylate compound. The content can be changed by changing the number of functional groups and the number of functional groups.
In order to increase the elastic modulus, (A) the molecular chain of the hydroxyl group-containing compound constituting the urethane (meth) acrylate compound is shortened, (C) the content of the polyfunctional acrylate compound is increased, (C ) This is made possible by increasing the number of functional groups in the polyfunctional acrylate compound. Conversely, in order to lower the elastic modulus, (A) the molecular chain of the compound containing the hydroxyl group constituting the urethane (meth) acrylate compound is lengthened. Or (C) by reducing the content of the polyfunctional acrylate compound, or (C) by reducing the number of functional groups of the polyfunctional acrylate compound.

[2.ハードコート層]
本発明の光記録媒体は、前記保護層上にさらにハードコート層が形成されていてもよい。この場合のハードコート層は、表面硬度がB以上のものであれば、その種類は限定されず、一般的な光記録媒体におけるハードコート層として公知のものを用いることができる。また本発明におけるハードコート層の表面硬度は好ましくはB以上、より好ましくはHB以上、さらに好ましくはF以上、特に好ましくはH以上である。
なお、表面硬度はJIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験によって測定することができる。
[2. Hard coat layer]
In the optical recording medium of the present invention, a hard coat layer may be further formed on the protective layer. The hard coat layer in this case is not limited as long as the surface hardness is B or more, and a known hard coat layer in a general optical recording medium can be used. The surface hardness of the hard coat layer in the present invention is preferably B or more, more preferably HB or more, further preferably F or more, and particularly preferably H or more.
The surface hardness can be measured by a pencil hardness test in accordance with JIS K5400.

ハードコート層の波長550nmにおける光線透過率は、通常80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上である。また、水に対する接触角が90°以上、より好ましくは100°以上である。これにより、光記録媒体の防汚性を高いものとすることができる。水に対する接触角の測定は、接触角計等を用いた公知の方法で実施することができる。   The light transmittance of the hard coat layer at a wavelength of 550 nm is usually 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more. Moreover, the contact angle with respect to water is 90 degrees or more, More preferably, it is 100 degrees or more. Thereby, the antifouling property of the optical recording medium can be increased. The measurement of the contact angle with respect to water can be carried out by a known method using a contact angle meter or the like.

ハードコート層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.5μm以上、好ましくは1μm以上、より好ましくは1.5μm以上である。また通常5μm以下、好ましくは3μm以下、より好ましくは2μm以下である。膜厚が薄すぎると表面硬度が低下する可能性があり、厚すぎるとクラックを生じやすくなる可能性がある。   The thickness of the hard coat layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more, more preferably 1.5 μm or more. Moreover, it is 5 micrometers or less normally, Preferably it is 3 micrometers or less, More preferably, it is 2 micrometers or less. If the film thickness is too thin, the surface hardness may decrease, and if it is too thick, cracks may easily occur.

本発明に係るハードコート層は、前記水に対する接触角が高いこと等の防汚性を有していることが好ましい。防汚性を有するハードコート層の材料(以下、適宜「ハードコート剤」ということがある。)としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、公知の任意の材料を用いることが出来る。中でも、耐汚染性付与剤としてシリコーン化合物及び/又はフッ素化合物と、多官能(メタ)アクリレートモノマー、エポキシ化合物、無機ナノ粒子等の無機成分とを含有する放射線硬化性の組成物が好ましく用いられる。耐汚染性付与剤については具体的には、例えば、オルガノポリシロキサン骨格等のシリコーン骨格を有する重合体、シリコーン骨格とアクリル基とを有する放射線硬化性の化合物、シリコーン系界面活性剤等のシリコーン化合物、フッ素原子を含有する重合体、フッ素原子とアクリル基を有する放射線硬化性の化合物、フッ素系界面活性剤等のフッ素化合物が挙げられる。耐汚染性付与剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   The hard coat layer according to the present invention preferably has antifouling properties such as a high contact angle with water. As a material for the hard coat layer having antifouling properties (hereinafter sometimes referred to as “hard coat agent” as appropriate), any known material can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Among these, a radiation curable composition containing a silicone compound and / or a fluorine compound and an inorganic component such as a polyfunctional (meth) acrylate monomer, an epoxy compound, and inorganic nanoparticles is preferably used as a stain resistance imparting agent. Specific examples of the stain resistance imparting agent include, for example, a polymer having a silicone skeleton such as an organopolysiloxane skeleton, a radiation curable compound having a silicone skeleton and an acrylic group, and a silicone compound such as a silicone surfactant. , Fluorine-containing polymers, radiation-curable compounds having fluorine atoms and acrylic groups, and fluorine compounds such as fluorine-based surfactants. As the stain resistance imparting agent, one kind may be used alone, and two kinds or more may be used in optional ratio and combination.

ただし、青色レーザーを用いる光記録媒体等の高記録密度媒体の場合は、そのレーザースポット径が小さいため、指紋や塵、埃などの汚れに敏感である。特に指紋のように有機物を含む汚れについては、汚れが媒体のレーザー光入射側の表面に付着した場合、レーザーによる記録/再生エラー等の多大な影響を生じる可能性を有し、その除去もしにくいことがある。従って、本発明において用いることのできるハードコート剤は、耐汚染性付与剤としてのシリコーン化合物及び/又はフッ素化合物を含む活性エネルギー線硬化性ハードコート剤(以下、適宜「ハードコート剤」ということがある。)が特に好ましく、中でも、活性エネルギー線硬化性を有する前記の耐汚染性付与剤を含有することが好ましい。また、前記シリコーン化合物はポリシロキサンであることが好ましい。   However, in the case of a high recording density medium such as an optical recording medium using a blue laser, since the laser spot diameter is small, it is sensitive to dirt such as fingerprints, dust, and dust. In particular, for dirt containing organic substances such as fingerprints, if the dirt adheres to the surface on the laser beam incident side of the medium, there is a possibility of causing a great influence such as a recording / reproducing error by the laser, and it is difficult to remove it. Sometimes. Accordingly, the hard coat agent that can be used in the present invention is an active energy ray-curable hard coat agent containing a silicone compound and / or a fluorine compound as a stain resistance imparting agent (hereinafter, referred to as “hard coat agent” as appropriate). In particular, it is preferable to contain the antifouling agent having active energy ray curability. The silicone compound is preferably polysiloxane.

ハードコート剤の好ましい具体例としては、例えば、(1)末端に活性エネルギー線硬化性を有するシリコーン化合物及び/又はフッ素化合物を含み、無機成分を含まないハードコート剤、(2)活性エネルギー線硬化性基と、シリコーンユニット及び/又は有機フッ素基ユニットとを含む重合体を含有するハードコート剤、(3)側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有するシリコーン化合物及び/又はフッ素化合物を含有するハードコート剤、が挙げられる。なお、これらのハードコート剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   Preferable specific examples of the hard coat agent include, for example, (1) a hard coat agent containing an active energy ray-curable silicone compound and / or a fluorine compound at the terminal and not containing an inorganic component, and (2) active energy ray cure. Hard coat agent containing a polymer containing a functional group and a silicone unit and / or an organic fluorine group unit, (3) a hard containing a silicone compound and / or a fluorine compound having an active energy ray-curable group in the side chain Coating agents. In addition, these hard coat agents may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

なお、ハードコート層を形成するのに用いられる材料の塗布方法は、限定されるものではなく、例えばスピンコート法等の一般的な塗布方法とすることができる。また、上記の放射線硬化性を有する材料物等の硬化に用いられる放射線については限定されず、例えば保護層の形成の際に用いられる放射線と同様に行うことができる。   In addition, the coating method of the material used for forming a hard-coat layer is not limited, For example, it can be set as general coating methods, such as a spin coat method. Moreover, it does not limit about the radiation used for hardening of said radiation-curable material etc., For example, it can carry out similarly to the radiation used in the case of formation of a protective layer.

[3.背面層]
本発明の光記録媒体は、基板からみて、記録再生機能層とは反対の面に背面層が形成されていてもよい。本発明に用いられる背面層は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意に形成することが出来るが、25℃における弾性率が所定の範囲内であることが好ましく、具体的には、上限が2000MPa以下、好ましくは1500MPa以下である。また下限に制限はないが、保護層の弾性率より高いことが好ましい。上記背面層の弾性率が高すぎると、温度変化に対する光記録媒体の変形が大きくなり過ぎる可能性がある。上記弾性率の測定方法は、保護層の弾性率の測定方法と同様とすることができ、JIS K7127に準拠した方法にて測定することができる。
[3. Back layer]
The optical recording medium of the present invention may have a back layer formed on the surface opposite to the recording / reproducing functional layer when viewed from the substrate. The back layer used in the present invention can be arbitrarily formed as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but the elastic modulus at 25 ° C. is preferably within a predetermined range, and specifically, the upper limit is It is 2000 MPa or less, preferably 1500 MPa or less. Moreover, although there is no restriction | limiting in a minimum, it is preferable that it is higher than the elasticity modulus of a protective layer. If the elastic modulus of the back layer is too high, the optical recording medium may be deformed excessively with respect to temperature changes. The method for measuring the elastic modulus can be the same as the method for measuring the elastic modulus of the protective layer, and can be measured by a method based on JIS K7127.

背面層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されないが、通常3μm以上、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上、また、通常50μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは15μm以下である。背面層の膜厚が小さすぎると、背面層形成による光記録媒体変形の抑制効果がほとんど発揮されなくなる傾向にある。また大きすぎると、光記録媒体を積み重ねて保管したときに、光記録媒体同士が接触しやすくなり、外観を損ない、記録の読み出し時にエラーを生じやすくなる可能性がある。   The film thickness of the back layer is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 μm or more, preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and usually 50 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm. Hereinafter, it is more preferably 15 μm or less. If the thickness of the back layer is too small, the effect of suppressing deformation of the optical recording medium due to the back layer formation tends to be hardly exhibited. On the other hand, if the recording medium is too large, the optical recording media may be easily brought into contact with each other when stored, and the appearance may be impaired, and an error may easily occur during reading of the recording.

背面層の形成に用いられる材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、限定されない。具体的には、一般的に背面層の材料として公知のものを用いることができ、例えば上述した保護層と同様の材料を用いることができるが、上記弾性率が得られるものを選択的に用いることが好ましい。このような材料として、保護層の形成に用いられる放射線硬化性を有する化合物を用いることが特に好ましい。   The material used for forming the back layer is not limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Specifically, generally known materials can be used for the back layer, and for example, the same material as the above-described protective layer can be used, but a material capable of obtaining the elastic modulus is selectively used. It is preferable. As such a material, it is particularly preferable to use a radiation-curable compound used for forming the protective layer.

なお、背面層を形成する際に用いられる上記放射線硬化性を有する化合物の塗布方法は、限定されるものではなく、例えばスピンコート法等の一般的な塗布方法とすることができる。また、上記放射線硬化性を有する化合物の硬化に用いられる放射線についても限定されず、例えば保護層の形成の際に用いられる放射線と同様に行うことができる。   In addition, the coating method of the said radiation-curable compound used when forming a back layer is not limited, For example, it can be set as general coating methods, such as a spin coat method. Moreover, it is not limited about the radiation used for hardening of the compound which has the said radiation curing property, For example, it can carry out similarly to the radiation used in the case of formation of a protective layer.

本発明の光記録媒体は、基板の記録再生機能層とは反対の面に、温度変化に対する光記録媒体の変形を抑制する目的で、無機層等の薄膜がスパッタ等の手法で形成されていてもよいが、コストの面からは形成されないことが好ましい。   In the optical recording medium of the present invention, a thin film such as an inorganic layer is formed on the surface opposite to the recording / reproducing functional layer of the substrate by a technique such as sputtering for the purpose of suppressing deformation of the optical recording medium with respect to temperature change. However, it is preferably not formed from the viewpoint of cost.

[4.基板]
本発明に用いられる樹脂基板について制限は無く、光記録媒体の樹脂基板として公知のものを任意に用いることができる。光記録媒体の樹脂基板の形状は任意であるが、通常は円板形状に形成される。
[4. substrate]
There is no restriction | limiting about the resin substrate used for this invention, A well-known thing can be used arbitrarily as a resin substrate of an optical recording medium. The shape of the resin substrate of the optical recording medium is arbitrary, but is usually formed in a disc shape.

また、樹脂基板の材料は光透過性材料であれば他に制限は無い。即ち、光情報の記録や再生に用いる波長の光が透過しうる任意の素材で形成することができる。その具体例としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いることができる。中でもポリカーボネート樹脂は、CD−ROM等においても特に広く用いられているものであり、安価であるので特に好ましい。なお、樹脂基板の材料は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   Further, the material of the resin substrate is not limited as long as it is a light transmissive material. That is, it can be formed of any material that can transmit light having a wavelength used for recording and reproducing optical information. Specific examples thereof include thermoplastic resins such as polycarbonate resin, polymethacrylate resin, and polyolefin resin. Among these, polycarbonate resin is particularly widely used in CD-ROMs and the like, and is particularly preferable because it is inexpensive. In addition, the material of a resin substrate may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

さらに、樹脂基板の寸法にも制限は無く任意である。ただし、樹脂基板の厚さは、通常0.1mm以上、好ましくは0.3mm以上、より好ましくは0.5mm以上、また、通常20mm以下、好ましくは15mm以下、より好ましくは3mm以下である。中でも、1.2±0.2mm程度の厚さの樹脂基板がしばしば使用される。また、樹脂基板の外径は、一般的には120mm程度である。
また、樹脂基板の製造方法に制限は無く任意であるが、例えば、光透過性樹脂の射出成形などによって製造することができる。
Further, the dimensions of the resin substrate are not limited and are arbitrary. However, the thickness of the resin substrate is usually 0.1 mm or more, preferably 0.3 mm or more, more preferably 0.5 mm or more, and usually 20 mm or less, preferably 15 mm or less, more preferably 3 mm or less. Among them, a resin substrate having a thickness of about 1.2 ± 0.2 mm is often used. The outer diameter of the resin substrate is generally about 120 mm.
Moreover, although there is no restriction | limiting in the manufacturing method of a resin substrate, it is arbitrary, For example, it can manufacture by injection molding of a light transmissive resin, etc.

[5.反射層・記録層]
本発明の光記録媒体の反射層は、例えば、アルミニウム、銀、金等の金属を含有する物質をスパッタリング法等によって形成される。
本発明の光記録媒体の記録層は、基板に形成された凹凸層や、相変化物質や有機色素を含有する層が好ましく用いられる。
上記反射層や記録層等の他の層は、複数存在していてもよく、また、透明樹脂層bや透明樹脂層a中に存在してもよい。例えば、反射層及び記録層が2つずつ存在する光記録媒体の層構成の一例としては、基板、反射層、記録層、透明樹脂層bの一部、反射層、記録層、透明樹脂層bの残りの一部、透明樹脂層a、という層構成となる。
[5. Reflective layer / recording layer]
The reflective layer of the optical recording medium of the present invention is formed by sputtering a material containing a metal such as aluminum, silver, or gold.
The recording layer of the optical recording medium of the present invention is preferably a concavo-convex layer formed on a substrate, or a layer containing a phase change material or an organic dye.
A plurality of other layers such as the reflective layer and the recording layer may be present, or may be present in the transparent resin layer b or the transparent resin layer a. For example, as an example of a layer configuration of an optical recording medium in which two reflective layers and two recording layers exist, a substrate, a reflective layer, a recording layer, a part of a transparent resin layer b, a reflective layer, a recording layer, and a transparent resin layer b The remaining part of the layer structure is a transparent resin layer a.

[6.本発明の利点と本発明の効果が得られるメカニズム]
本発明により、環境湿度が変化した場合であっても変形が少なく、また表面耐久性が高い光記録媒体を提供することができる。
[6. Advantages of the present invention and mechanisms for obtaining the effects of the present invention]
According to the present invention, it is possible to provide an optical recording medium with little deformation and high surface durability even when the environmental humidity changes.

しかし、なぜその様な効果が得られるかは、明らかになっていない。このことについて発明者は以下のように推測する。   However, it is not clear why such an effect is obtained. The inventor infers this as follows.

従来、透明性、耐磨耗性、記録膜保護性、及び機械特性に優れ、さらに耐熱・耐湿変形性にも優れる放射線硬化性組成物は開発されていたものの、温度や湿度を急激に変化させたときの光記録媒体の変形の抑制については不十分であった。さらに、同時に表面に対する局部的な圧力への耐久性も満足できるものではなかった。   Conventionally, radiation curable compositions have been developed that excel in transparency, abrasion resistance, recording film protection, mechanical properties, and heat resistance and moisture deformation resistance. The suppression of deformation of the optical recording medium at that time was insufficient. Furthermore, at the same time, the durability against local pressure on the surface was not satisfactory.

例えば、局部的な圧力への耐久性も満足させようとすると、保護層の弾性率を上げることになる。しかし、弾性率を上げると、温度や湿度を急激に変化させたときの光記録媒体の変形が起きやすくなり、さらに急激に湿度を変化させなくても経時的に光記録媒体の反りが生じる傾向が強まる。経時的な光記録媒体の反りは硬化条件等で調整はできるもの、急激な湿度変化に対する変形は避けることができず、局部的な圧力への耐久性とトレードオフの関係にあった。   For example, if it is attempted to satisfy the durability against local pressure, the elastic modulus of the protective layer is increased. However, when the elastic modulus is increased, the optical recording medium is likely to be deformed when the temperature and humidity are suddenly changed, and the optical recording medium is warped over time even if the humidity is not suddenly changed. Becomes stronger. Although the warp of the optical recording medium over time can be adjusted by the curing conditions and the like, deformation due to a rapid change in humidity cannot be avoided, and there is a trade-off relationship with durability against local pressure.

そこで、局部的な圧力への耐久性を向上させるための弾性率の高い透明樹脂層aと、急激な湿度変化による光記録媒体の反りを抑制するための弾性率の低い透明樹脂層bとを積層して保護層を形成した。   Therefore, a transparent resin layer a having a high elastic modulus for improving durability against local pressure, and a transparent resin layer b having a low elastic modulus for suppressing warpage of the optical recording medium due to a sudden change in humidity. A protective layer was formed by laminating.

ここで、急激な湿度の変化によって光記録媒体の反りを生じさせる力は、以下の式で定められる。
力=応力σ×断面積A
=(脱水収縮量ε×弾性率E)×断面積A
すなわち、急激な湿度変化による反りを抑制するためには、高い弾性率を有する透明樹脂層aの断面積をなるべく少なく(厚みをなるべく薄く)することが好ましい。
Here, the force that causes the optical recording medium to warp due to a sudden change in humidity is determined by the following equation.
Force = stress σ x cross-sectional area A
= (Dehydration shrinkage ε × elastic modulus E) × cross-sectional area A
That is, in order to suppress warping due to a rapid change in humidity, it is preferable to reduce the cross-sectional area of the transparent resin layer a having a high elastic modulus as much as possible (thickness as thin as possible).

従って、弾性率の高い透明樹脂層aによって局部的な圧力への耐久性を維持しつつ、その厚みを薄くし、さらに弾性率の低い透明樹脂層bを厚く積層することによって、急激な湿度変化による光記録媒体の反りを抑制しているものと考えられる。   Therefore, by maintaining the durability to local pressure by the transparent resin layer a having a high elastic modulus, the thickness is reduced, and the transparent resin layer b having a low elastic modulus is further laminated, thereby rapidly changing the humidity. It is considered that the warp of the optical recording medium due to the is suppressed.

以下、本発明について、実施例を用いてされに詳細に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless it deviates from the summary.

(放射線硬化性組成物αの調製)
攪拌器、還流冷却器、滴下漏斗、温度計を取り付けた4つ口フラスコにイソホロンジイソシアネート41.9gとジブチルスズラウレート40mgとを入れ、オイルバスにて70〜80℃に加熱し、温度が一定になるまで静かに撹拌した。
(Preparation of radiation curable composition α)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 41.9 g of isophorone diisocyanate and 40 mg of dibutyltin laurate are placed and heated to 70-80 ° C. in an oil bath to keep the temperature constant. Gently stirred until

温度が一定になったら、1,6−ヘキサンジオール11.1gとヘキサメチレンジアミン3量体(ローディア社製「トロネートHDT」)88.0gとの混合物を滴下漏斗にて滴下し、温度を80℃に保ちながら2時間撹拌した。   When the temperature became constant, a mixture of 11.1 g of 1,6-hexanediol and 88.0 g of hexamethylenediamine trimer (“Tronate HDT” manufactured by Rhodia) was added dropwise with a dropping funnel, and the temperature was adjusted to 80 ° C. And stirred for 2 hours.

温度を70℃まで下げてから、ヒドロキシエチルアクリレート33.9gとメトキノン0.2gとの混合物を滴下漏斗にて滴下し、滴下が終わったら温度を80℃に保ち、10時間撹拌させ、ウレタンアクリレートオリゴマーを合成した。   After the temperature is lowered to 70 ° C., a mixture of 33.9 g of hydroxyethyl acrylate and 0.2 g of methoquinone is added dropwise with a dropping funnel. When the addition is completed, the temperature is kept at 80 ° C. and stirred for 10 hours to obtain a urethane acrylate oligomer. Was synthesized.

温度を50℃に下げた後、テトラヒドロフルフリルアクリレート(共栄社化学社製)25.0gを加え、更に3時間撹拌して、均一液状のウレタンアクリレートオリゴマー希釈液Aを得た。   After the temperature was lowered to 50 ° C., 25.0 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was added, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a uniform liquid urethane acrylate oligomer diluent A.

このウレタンアクリレートオリゴマー希釈液Aを、別のビーカーに72g取り、ノナンジオールジアクリレート(新中村化学社製)28.0g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャルティケミカルズ社製)3.0gを加え、撹拌翼を用いて室温にて3時間撹拌して、放射線硬化性組成物αを得た。
この組成物中の単官能アクリレート化合物の含有量は8.7重量%、多官能アクリレート化合物の含有量は27.2重量%である。
72 g of this urethane acrylate oligomer diluent A was taken in another beaker, 28.0 g of nonanediol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and 3.0 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours using a stirring blade to obtain a radiation curable composition α.
The content of the monofunctional acrylate compound in this composition is 8.7% by weight, and the content of the polyfunctional acrylate compound is 27.2% by weight.

この組成物を、ガラス板上に貼り付けたPETフィルム上にスピンコートによって100μmの厚みに塗布し、高圧水銀ランプ(ジャテック社製;J−cure100)を用いて、波長365nmにおける照射量1000mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させた後、PETフィルムから剥離して、放射線硬化性組成物αの硬化物のフィルムを得た。
このフィルムから10mm×100mmの短冊状のサンプルを5本切り出し、引っ張り強度試験機を用いて、テストスピード1mm/分の引っ張り試験を行って弾性率を求めたところ、その平均値は1750MPaであった。
This composition was applied to a PET film affixed on a glass plate to a thickness of 100 μm by spin coating, and using a high-pressure mercury lamp (manufactured by JATEC; J-cure 100), an irradiation amount of 1000 mJ / cm at a wavelength of 365 nm. After being cured by irradiating with ultraviolet rays of 2, the film was peeled from the PET film to obtain a film of a cured product of the radiation curable composition α.
Five strips of 10 mm × 100 mm strips were cut out from this film, and a tensile test was performed using a tensile strength tester to determine the elastic modulus. The average value was 1750 MPa. .

(放射線硬化性組成物βの調製)
攪拌器、還流冷却器、滴下漏斗、温度計を取り付けた4つ口フラスコにイソホロンジイソシアネート59.5gとジブチルスズラウレート40mgとを入れ、オイルバスにて70〜80℃に加熱し、温度が一定になるまで静かに撹拌した。
(Preparation of radiation curable composition β)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 59.5 g of isophorone diisocyanate and 40 mg of dibutyltin laurate are placed, and heated to 70-80 ° C. in an oil bath to keep the temperature constant. Gently stirred until

温度が一定になったら、1,6−ヘキサンジオール11.3gとポリテトラメチレングリコール(三菱化学社製;数平均分子量650)24.6gとの混合物を滴下漏斗にて滴下し、温度を80℃に保ちながら2時間撹拌した。   When the temperature became constant, a mixture of 11.3 g of 1,6-hexanediol and 24.6 g of polytetramethylene glycol (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd .; number average molecular weight 650) was dropped with a dropping funnel, and the temperature was changed to 80 ° C. And stirred for 2 hours.

温度を70℃まで下げてから、ヒドロキシエチルアクリレート31.1gとメトキノン0.2gとの混合物を滴下漏斗にて滴下し、滴下が終わったら温度を80℃に保ち、10時間撹拌させ、ウレタンアクリレートオリゴマーを合成した。   After the temperature is lowered to 70 ° C., a mixture of 31.1 g of hydroxyethyl acrylate and 0.2 g of methoquinone is added dropwise with a dropping funnel. When the addition is completed, the temperature is kept at 80 ° C. and stirred for 10 hours to obtain a urethane acrylate oligomer. Was synthesized.

温度を50℃に下げた後、テトラヒドロフルフリルアクリレート(共栄社化学社製)73.5gを加え、更に3時間撹拌して、均一液状のウレタンアクリレートオリゴマー希釈液Bを得た。   After the temperature was lowered to 50 ° C., 73.5 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was added and further stirred for 3 hours to obtain a uniform liquid urethane acrylate oligomer diluent B.

このウレタンアクリレートオリゴマー希釈液Bを、別のビーカーに98g取り、ノナンジオールジアクリレート(新中村化学社製)2.0g、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバスペシャルティケミカルズ社製)3.0gを加え、撹拌翼を用いて室温にて3時間撹拌して、放射線硬化性組成物βを得た。
この組成物中の単官能アクリレート化合物の含有量は35.0重量%、多官能アクリレート化合物の含有量は1.9重量%である。
98 g of this urethane acrylate oligomer diluent B is taken in another beaker, and 2.0 g of nonanediol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 3.0 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) are added. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours using a stirring blade to obtain a radiation curable composition β.
The content of the monofunctional acrylate compound in this composition is 35.0% by weight, and the content of the polyfunctional acrylate compound is 1.9% by weight.

この組成物を、ガラス板上に貼り付けたPETフィルム上にスピンコートによって100μmの厚みに塗布し、高圧水銀ランプ(ジャテック社製;J−cure100)を用いて、波長365nmにおける照射量1000mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させた後、PETフィルムから剥離して、放射線硬化性組成物βの硬化物のフィルムを得た。
このフィルムから10mm×100mmの短冊状のサンプルを5本切り出し、引っ張り強度試験機を用いて、テストスピード1mm/minの引っ張り試験を行って弾性率を求めたところ、その平均値は530MPaであった。
This composition was applied to a PET film affixed on a glass plate to a thickness of 100 μm by spin coating, and using a high-pressure mercury lamp (manufactured by JATEC; J-cure 100), an irradiation amount of 1000 mJ / cm at a wavelength of 365 nm. After being cured by irradiating with ultraviolet rays of 2, the film was peeled from the PET film to obtain a cured film of the radiation curable composition β.
Five strips of 10 mm × 100 mm strips were cut out from this film, and a tensile test at a test speed of 1 mm / min was performed using a tensile strength tester to determine the elastic modulus. The average value was 530 MPa. .

<実施例1>
(試験ディスクの作製)
直径120mm、厚み1.1mmの平滑なポリカーボネート製樹脂基板表面に、100nmの厚みのAg−Cu−Au反射層をスパッタにて形成した。
この反射層表面に、スピンコーターにて厚み80μmになるように放射線硬化性組成物βを塗布し、高圧水銀ランプ(ジャテック社製;J−cure100)を用いて、波長365nmにおける照射量1000mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させ、透明樹脂層bを得た。次いで、スピンコーターにて厚み20μmになるように放射線硬化性組成物αを塗布し、同様に硬化させて透明樹脂層aを得て、保護層を形成し、試験ディスクを得た。同様の操作により、試験ディスクを合計2枚得た。
<Example 1>
(Preparation of test disc)
An Ag—Cu—Au reflective layer having a thickness of 100 nm was formed by sputtering on a smooth polycarbonate resin substrate surface having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm.
The surface of this reflective layer was coated with a radiation curable composition β so as to have a thickness of 80 μm using a spin coater, and using a high-pressure mercury lamp (manufactured by JATEC; J-cure 100), an irradiation amount of 1000 mJ / cm at a wavelength of 365 nm. The resin was cured by irradiating the ultraviolet ray 2 to obtain a transparent resin layer b. Next, the radiation curable composition α was applied with a spin coater so as to have a thickness of 20 μm and cured in the same manner to obtain a transparent resin layer a, a protective layer was formed, and a test disk was obtained. A total of two test disks were obtained by the same operation.

(対湿度ディスク変形評価試験)
作製したディスクのうち1枚を25℃、45%RH(相対湿度)に設定した環境下に3日間静置したのち、このディスクを25℃、90%以上RHの設定した恒温恒湿槽に3日間放置した。その後25℃、45%RHに設定した環境にディスクを取り出し、取り出し直後のディスクの反りd0を、変位センサ(キーエンス社製;型番「LT−9010」)によって、ディスクの中心から35mmの位置の変位を測定することによって求めた。ただし、保護層側に凹反りの場合をプラス、凸反りの場合をマイナスとした。
以後取り出して1時間後、2時間後、4時間後、6時間のディスクの反りd1246を測定によって求め、次式により、D1〜D6を計算した。
(Humidity disk deformation evaluation test)
One of the manufactured discs was allowed to stand for 3 days in an environment set at 25 ° C. and 45% RH (relative humidity), and then this disc was placed in a constant temperature and humidity chamber set at 25 ° C. and 90% or more RH. Left for days. Thereafter, the disk is taken out in an environment set to 25 ° C. and 45% RH, and the warp d 0 of the disk immediately after the removal is measured at a position 35 mm from the center of the disk by a displacement sensor (manufactured by Keyence Corporation; model number “LT-9010”). It was determined by measuring the displacement. However, the case of concave warpage on the protective layer side was positive, and the case of convex warpage was negative.
Thereafter, the warp d 1 d 2 d 4 d 6 of the disc for 1 hour, 2 hours, 4 hours and 6 hours after the removal was obtained by measurement, and D 1 to D 6 were calculated by the following equations.

1=|d1−d0
2=|d2−d0
4=|d4−d0
6=|d6−d0
D 1 = | d 1 -d 0 |
D 2 = | d 2 −d 0 |
D 4 = | d 4 -d 0 |
D 6 = | d 6 -d 0 |

1、D2、D4、D6の中の最大値を、このディスクの「湿度変形値」とし、この値が0.06mm以上の場合を「×」、0.03以上0.06未満の場合を「△」、0.015以上0.03未満の場合を「○」、0.015未満の場合を「◎」と判定した。結果を表1に示す。 The maximum value among D 1 , D 2 , D 4 , and D 6 is the “humidity deformation value” of this disc, and when this value is 0.06 mm or more, “x”, 0.03 or more and less than 0.06 The case of “Δ” was judged as “Δ”, the case of 0.015 or more and less than 0.03 was judged as “◯”, and the case of less than 0.015 was judged as “◎”. The results are shown in Table 1.

(表面耐久性試験)
作製したディスクのうち残り1枚の保護層を上にして定盤の上に置き、保護層面上に、サンドブラストされた100mm角、厚み5mmのガラス板を重ね、その上に鋼鉄製のコルク台(重さ630g)を乗せ、1日間静置した。その後、コルク台とガラス板を静かに取り除き、すぐに目視及び偏光顕微鏡にて保護層表面を観察した。
(Surface durability test)
Place the remaining protective layer on the surface plate with the remaining protective layer on top of the manufactured disk, and lay a sandblasted 100 mm square, 5 mm thick glass plate on the protective layer surface. Weighed 630 g) and allowed to stand for 1 day. Thereafter, the cork base and the glass plate were gently removed, and immediately the surface of the protective layer was observed visually and with a polarizing microscope.

保護層表面にサンドブラストの跡が、全体面積の75%以上において目視観測された場合を「×」、全体面積の75%未満において目視観測された場合を「△」、目視で観測されないが偏光顕微鏡にて観測された場合を「○」、目視でも偏光顕微鏡でも観測されなかった場合を「◎」と判定した。結果を表1に示す。   When the surface of the protective layer is visually observed in 75% or more of the total area, “X” is indicated, and when it is visually observed in less than 75% of the entire area, “△” is indicated. When it was observed at ◯, it was judged as “◯”, and when it was not observed by visual observation or a polarizing microscope, it was judged as “◎”. The results are shown in Table 1.

<実施例2>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを75μm、透明樹脂層aの厚みを25μmとした以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Example 2>
A test disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was 75 μm and the thickness of the transparent resin layer a was 25 μm in the production of the test disk of Example 1. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<実施例3>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを70μm、透明樹脂層aの厚みを30μmとした以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Example 3>
A test disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was 70 μm and the thickness of the transparent resin layer a was 30 μm in the production of the test disk of Example 1. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<実施例4>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを60μm、透明樹脂層aの厚みを40μmとした以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Example 4>
A test disk was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was set to 60 μm and the thickness of the transparent resin layer a was set to 40 μm. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<実施例5>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを50μm、透明樹脂層aの厚みを50μmとした以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Example 5>
A test disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was 50 μm and the thickness of the transparent resin layer a was 50 μm in the production of the test disk of Example 1. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<実施例6>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを85μm、透明樹脂層aの厚みを15μmとした以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Example 6>
A test disk was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was 85 μm and the thickness of the transparent resin layer a was 15 μm. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<実施例7>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを45μm、透明樹脂層aの厚みを55μmとした以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Example 7>
A test disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was 45 μm and the thickness of the transparent resin layer a was 55 μm in the production of the test disk of Example 1. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<比較例1>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層bの厚みを100μmとし、透明樹脂層aを形成しなかった以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Comparative Example 1>
A test disk was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer b was set to 100 μm and the transparent resin layer a was not formed. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

<比較例2>
実施例1の試験ディスク作製において、透明樹脂層aの厚みを100μmとし、透明樹脂層bを形成しなかった以外は実施例1と同様に試験ディスクを作製した。対湿度ディスク変形評価試験、及び表面耐久性試験を表1に示す。
<Comparative example 2>
A test disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent resin layer a was 100 μm and the transparent resin layer b was not formed in the production of the test disk of Example 1. Table 1 shows the humidity disk deformation evaluation test and the surface durability test.

Figure 2009140588
Figure 2009140588

これらの結果から、本発明の光記録媒体は、環境湿度が変化した場合であっても変形が少なく、また表面耐久性が高いことが分かった。   From these results, it was found that the optical recording medium of the present invention has little deformation and high surface durability even when the environmental humidity changes.

本発明の光記録媒体は、環境湿度が変化した場合であっても変形が少なく、また表面耐久性が高い。したがって、本発明はブルーレイディスク等の次世代高密度光記録媒体等も含む光記録媒体に好適に利用可能である。   The optical recording medium of the present invention has little deformation and high surface durability even when the environmental humidity changes. Therefore, the present invention can be suitably used for optical recording media including next-generation high-density optical recording media such as Blu-ray discs.

Claims (8)

少なくとも、基板、透明樹脂層b、及び透明樹脂層aをこの順に積層した光記録媒体であって、
透明樹脂層aの弾性率が1000MPa以上2500MPa以下であり、
透明樹脂層bの弾性率が100MPa以上1300MPa以下である
ことを特徴とする、光記録媒体。
An optical recording medium in which at least a substrate, a transparent resin layer b, and a transparent resin layer a are laminated in this order,
The elastic modulus of the transparent resin layer a is 1000 MPa to 2500 MPa,
An optical recording medium, wherein the transparent resin layer b has an elastic modulus of 100 MPa to 1300 MPa.
該透明樹脂層aの弾性率が、該透明樹脂層bの弾性率より大きい
ことを特徴とする、請求項1に記載の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the elastic modulus of the transparent resin layer a is larger than the elastic modulus of the transparent resin layer b.
該透明樹脂層bの膜厚に対する、該透明樹脂層aの膜厚の膜厚比が、10/90以上60/40以下である
ことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の光記録媒体。
The film thickness ratio of the film thickness of the transparent resin layer a to the film thickness of the transparent resin layer b is 10/90 or more and 60/40 or less, The claim 1 or 2, Optical recording medium.
該透明樹脂層aが放射線硬化性組成物αの硬化物であって、
該放射線硬化性組成物αが(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、及び(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物を含有し、
該放射線硬化性組成物α中における(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物の含有量が、15重量%以上90重量%以下である
ことを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載の光記録媒体。
The transparent resin layer a is a cured product of the radiation curable composition α,
The radiation curable composition α contains a polyfunctional (meth) acrylate compound other than (A) urethane (meth) acrylate compound and (C) (A) urethane (meth) acrylate compound,
The content of the polyfunctional (meth) acrylate compound other than (C) (A) urethane (meth) acrylate compound in the radiation curable composition α is 15% by weight or more and 90% by weight or less. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 3.
該(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物が、3官能以上の(メタ)アクリレート化合物を含む
ことを特徴とする、請求項4記載の光記録媒体。
The optical recording medium according to claim 4, wherein the polyfunctional (meth) acrylate compound other than the (C) (A) urethane (meth) acrylate compound contains a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound.
該透明樹脂層bが放射線硬化性組成物βの硬化物であって、
該放射線硬化性組成物βが(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物、(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物、及び(C)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の多官能(メタ)アクリレート化合物を含有し、
該放射線硬化性組成物β中における(B)(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物以外の単官能(メタ)アクリレート化合物の含有量が、10重量%以上70重量%以下である
ことを特徴とする、請求項1〜5の何れか一項に記載の光記録媒体。
The transparent resin layer b is a cured product of the radiation curable composition β,
The radiation curable composition β is composed of (A) urethane (meth) acrylate compound, (B) (A) monofunctional (meth) acrylate compound other than urethane (meth) acrylate compound, and (C) (A) urethane (meth) ) Containing polyfunctional (meth) acrylate compounds other than acrylate compounds,
The content of the monofunctional (meth) acrylate compound other than (B) (A) urethane (meth) acrylate compound in the radiation curable composition β is 10% by weight or more and 70% by weight or less. The optical recording medium according to any one of claims 1 to 5.
該(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物が、ポリエーテル骨格を含有する
ことを特徴とする、請求項6に記載の光記録媒体。
The optical recording medium according to claim 6, wherein the (A) urethane (meth) acrylate compound contains a polyether skeleton.
青色レーザーを用いて再生を行う
ことを特徴とする、請求項1〜7の何れか一項に記載の光記録媒体。
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 7, wherein reproduction is performed using a blue laser.
JP2007317649A 2007-12-07 2007-12-07 Optical recording medium Pending JP2009140588A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007317649A JP2009140588A (en) 2007-12-07 2007-12-07 Optical recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007317649A JP2009140588A (en) 2007-12-07 2007-12-07 Optical recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009140588A true JP2009140588A (en) 2009-06-25

Family

ID=40871036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007317649A Pending JP2009140588A (en) 2007-12-07 2007-12-07 Optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009140588A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007131698A (en) Radiation-curable composition, cured material of the same and laminated material of the same
JP2006152289A (en) Radiation-curable composition and cured product thereof, and laminated form of the cured product
TWI400702B (en) Optical recording media
WO2003077243A1 (en) Optical information medium
TWI386936B (en) Optical recording medium and its recording and reproducing method
JP4225370B2 (en) Ultraviolet curable composition for light transmission layer and optical disk
US20100016520A1 (en) Radiation-curable composition for optical recording medium, and optical recording medium
JP2008226356A (en) Radiation curing composition for optical recording medium protective layer, and optical recording medium
JPWO2005019282A1 (en) Ultraviolet curable resin composition and cured product thereof
JP4323279B2 (en) Curable composition for intermediate layer of optical recording medium, and optical recording medium
JP2009292950A (en) Radiation-curable composition and cured product thereof, and optical recording medium using the cured product
JP2009026387A (en) Radiation curable composition for optical recording medium and its cured product, and its laminate
JP2010222451A (en) Radiation-curable composition, cured product using the same, and laminate
JP2010053167A (en) Ultraviolet curable composition for optical disc, and the optical disc
JP2010198677A (en) Active energy ray curable composition, cured product and laminate
JP2009185222A (en) Radiation-curable composition for optical recording medium, its cured product, and optical recording medium using the same
JP2009140588A (en) Optical recording medium
JP2010180300A (en) Active energy ray hardening composition, hardened body and laminate
JP2008024724A (en) Ultraviolet-curable resin composition and its cured product
JP2006152268A (en) Radiation-curable composition and the resultant cured product, and laminated form of the cured product
JP2009259318A (en) Radiation curable composition for protective layer of optical recording medium, its cured product, and optical recording medium using the same
JP2009048743A (en) Optical recording medium
JP5284723B2 (en) Radiation curable composition for back layer of optical recording medium, cured product thereof, and optical recording medium using the same
JP2010065192A (en) Radiation curable composition and cured product thereof
JP4555846B2 (en) Optical recording medium