JP4555846B2 - Optical recording medium - Google Patents

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Description

本発明は、記録再生ディスク等の光記録媒体に関するものであり、さらに詳しくは、温度変化及び環境湿度の変化に対応可能であり、高密度型光ディスク等にも利用可能な光記録媒体に係るものである。   The present invention relates to an optical recording medium such as a recording / reproducing disk. More specifically, the present invention relates to an optical recording medium that can cope with a change in temperature and a change in environmental humidity and can be used for a high-density optical disk. It is.

近年、動画情報等の膨大な情報を記録ないし保存する情報記録の媒体として再生専用光ディスクや光記録ディスク等の光情報媒体が多く用いられるようになってきた。その中の一つとして、例えば波長400nmのレーザー光を利用する高密度型光ディスク(いわゆるブルーレイディスク、以下適宜「ブルーレイディスク」ともいう)が提案されている(特許文献1参照)。上記ブルーレイディスクは、樹脂基板、記録再生機能層、保護層、及びハードコート層をこの順に具備する光記録媒体である。上記ハードコート層に対しては耐擦傷性および硬度が求められる。一方、ディスク全体に対しては、環境の温度や湿度が変化しても安定的に情報の読み書きができるように、環境温度や環境湿度が変化した際におけるディスクの変形が小さいことが求められる。   In recent years, optical information media such as read-only optical discs and optical recording discs have been widely used as information recording media for recording or storing vast amounts of information such as moving image information. As one of them, for example, a high-density optical disc (so-called Blu-ray disc, hereinafter also referred to as “Blu-ray disc” as appropriate) using a laser beam having a wavelength of 400 nm has been proposed (see Patent Document 1). The Blu-ray disc is an optical recording medium having a resin substrate, a recording / reproducing functional layer, a protective layer, and a hard coat layer in this order. The hard coat layer is required to have scratch resistance and hardness. On the other hand, the entire disk is required to be small in deformation when the environmental temperature or environmental humidity changes so that information can be stably read and written even if the environmental temperature and humidity change.

ここで、環境の温度変化に伴うディスクの変形は、上記保護層の弾性率に支配されることが本発明者らの検討によって明らかになっている。すなわち、保護層の弾性率が大きいと、温度変化に伴うディスクの変形が大きくなる。逆に保護層の弾性率が小さいと、上記変形は小さくなる。したがって、環境温度の変化に伴う変形が少ないという観点からは保護層の弾性率が小さいことが好ましい。   Here, it has been clarified by the present inventors that the deformation of the disk accompanying the environmental temperature change is governed by the elastic modulus of the protective layer. That is, when the elastic modulus of the protective layer is large, the deformation of the disk accompanying the temperature change increases. Conversely, when the elastic modulus of the protective layer is small, the deformation is small. Therefore, it is preferable that the elastic modulus of the protective layer is small from the viewpoint that deformation caused by changes in the environmental temperature is small.

しかしながら、一般的に保護層の弾性率が小さくなればなるほど、保護層上に形成されているハードコートの硬度が低下する。したがって、ハードコート層の硬度、すなわち光記録媒体の耐擦傷性や硬度等の観点からは、保護層の弾性率が大きいことが好ましい。   However, generally, the lower the elastic modulus of the protective layer, the lower the hardness of the hard coat formed on the protective layer. Therefore, from the viewpoint of the hardness of the hard coat layer, that is, the scratch resistance and hardness of the optical recording medium, it is preferable that the elastic modulus of the protective layer is large.

また環境の湿度変化に伴う光記録媒体の変形は、樹脂基板の吸脱水に伴う変形が支配的であると推定される。このことは、樹脂基板と記録再生機能層のみの光記録媒体の変形が非常に大きいことからも分かる。上記記録再生機能層上にさらに保護層やハードコート層を形成すると、通常、上記変形を小さくすることができる。これは、保護層やハードコート層の吸脱水に伴う変形が、記録再生機能層という比較的硬い層を介して反対側に存在する樹脂基板の変形を相殺するためであると考えられる。なお、上記変形を低減させる度合いは、膜厚が厚い層に依存すると考えられ、一般的にハードコート層より大きな膜厚を有する保護層の弾性率に主として依存すると考えられる。すなわち、保護層の弾性率が適度な範囲(比較的高弾性率)である場合は、環境湿度の変化に伴うディスクの変形が小さくなるので好ましい。保護層の弾性率が小さすぎる場合は、環境湿度の変化による樹脂基板の吸脱水に伴う変形を抑制しきれずに、結果として環境湿度の変化によるディスク全体の変形が大きくなることがある。また、保護層の弾性率が大きすぎる場合には、保護層の変形の方が樹脂基板の変形より大きくなり、樹脂基板とは逆側の変形を増大させる。したがって、環境湿度の変化に伴う変形が少ないという観点からは保護層の弾性率が比較的高弾性率である適度な範囲内であることが好ましい。   Further, it is presumed that the deformation of the optical recording medium accompanying the change in the humidity of the environment is dominated by the deformation accompanying the absorption and dehydration of the resin substrate. This can also be seen from the fact that the deformation of the optical recording medium having only the resin substrate and the recording / reproducing functional layer is very large. If a protective layer or a hard coat layer is further formed on the recording / reproducing functional layer, the deformation can usually be reduced. This is considered to be because the deformation accompanying the absorption and dehydration of the protective layer and the hard coat layer cancels out the deformation of the resin substrate existing on the opposite side through a relatively hard layer called the recording / reproducing functional layer. In addition, it is thought that the degree which reduces the said deformation | transformation is dependent on the layer with a thick film thickness, and generally is considered to depend mainly on the elasticity modulus of the protective layer which has a film thickness larger than a hard-coat layer. That is, it is preferable that the elastic modulus of the protective layer is in an appropriate range (relatively high elastic modulus) because the deformation of the disk accompanying the change in environmental humidity becomes small. When the elastic modulus of the protective layer is too small, the deformation due to the absorption and dehydration of the resin substrate due to the change in the environmental humidity cannot be suppressed, and as a result, the deformation of the entire disk due to the change in the environmental humidity may increase. When the elastic modulus of the protective layer is too large, the deformation of the protective layer becomes larger than the deformation of the resin substrate, and the deformation on the side opposite to the resin substrate is increased. Therefore, it is preferable that the elastic modulus of the protective layer is within an appropriate range where the elastic modulus is relatively high, from the viewpoint that deformation due to changes in environmental humidity is small.

以上の保護層の弾性率と要求される性能との関係性をまとめると、(1)光記録媒体の表面硬度の観点からは、保護層が高弾性率であることが好ましく、(2)環境温度変化に伴う変形の観点からは、保護層が低弾性率であることが好ましく、さらに(3)環境湿度変化に伴う変形の観点からは、比較的高弾性率である適度な範囲内であることが好ましい。   Summarizing the relationship between the elastic modulus of the protective layer and the required performance, (1) From the viewpoint of the surface hardness of the optical recording medium, the protective layer preferably has a high elastic modulus, and (2) the environment. From the viewpoint of deformation accompanying temperature change, the protective layer preferably has a low elastic modulus, and (3) from the viewpoint of deformation accompanying environmental humidity change, it is within an appropriate range having a relatively high elastic modulus. It is preferable.

ここで、上記(2)環境温度の変化及び(3)環境湿度の変化に対して変形が少ない材料については、例えば特許文献1に提案されている。上記文献には、ウレタンアクリレートとその他のアクリレートとを含有する組成物が光情報媒体の光透過層用材料として好適であることが示されており、本発明者らの検討によれば、上記光透過層用材料を用いると、環境の温湿度変化に伴う変形がさほど大きくならない光記録媒体を製造できる可能性がある。
また、(1)表面硬度が高く、かつ(3)環境湿度の変化に対する変形が少ない材料が、例えば特許文献2に提案されている。
特開2003−263780号公報 特開2007−131698号公報
Here, for example, Patent Document 1 proposes a material that is less deformed with respect to (2) environmental temperature change and (3) environmental humidity change. The above document shows that a composition containing urethane acrylate and other acrylates is suitable as a material for a light transmission layer of an optical information medium. When the material for the transmissive layer is used, there is a possibility that an optical recording medium in which deformation due to environmental temperature and humidity changes does not become so large can be manufactured.
Further, for example, Patent Document 2 proposes a material having (1) high surface hardness and (3) little deformation with respect to changes in environmental humidity.
JP 2003-263780 A JP 2007-131698 A

しかしながら、上記特許文献1に記載された光透過層用材料を用いた光記録媒体では、(1)表面硬度を十分とすることができない場合があった。また、上記特許文献2に記載された材料を用いた光記録媒体では、(2)環境温度の変化に対して変形が生じる可能性があることが、本発明者らの研究によって明らかになった。
また、(2)環境温度の変化に対する変形が少なく、さらに(1)表面硬度が高い光記録媒体については、報告がない。以上のことから、上記全ての要求を満たす光記録媒体、すなわち、環境温度湿度変化に伴う変形が少なく、さらに表面硬度が高い光記録媒体の提供が望まれている。
However, in the optical recording medium using the light transmission layer material described in Patent Document 1, (1) the surface hardness may not be sufficient. In addition, the present inventors have clarified that the optical recording medium using the material described in Patent Document 2 may be deformed with respect to changes in environmental temperature (2). .
In addition, there is no report on (2) optical recording media with little deformation due to changes in environmental temperature and (1) high surface hardness. In view of the above, it is desired to provide an optical recording medium that satisfies all the above requirements, that is, an optical recording medium that is less deformed due to changes in environmental temperature and humidity and that has a higher surface hardness.

本発明は上述の課題に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的は、十分な表面硬度を有し、かつ環境温度及び環境湿度が変化した際の変形が少ない、特性のバランスに優れた光記録媒体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide an optical recording medium that has a sufficient surface hardness and is less deformed when the environmental temperature and environmental humidity change, and has an excellent balance of characteristics.

本発明者らが、上記の目的を満足し得る光記録媒体について鋭意研究したところ、保護層を形成するための放射線硬化性組成物の材料、及び保護層の吸水時の弾性率が重要であることを見出した。具体的には、上記保護層がウレタン(メタ)アクリレート(A)、及びそれ以外の(メタ)アクリレート化合物(B)を含有すること、及び保護層の通常時における弾性率と、吸水時における弾性率との比を所定の値以上とすることにより、環境温度が変化した際の変形、及び環境湿度が変化した直後の変形が少なく、また十分な表面硬度を有する光記録媒体とすることが可能であることを見出し、本発明に至った。   When the present inventors diligently researched an optical recording medium that can satisfy the above-mentioned object, the material of the radiation curable composition for forming the protective layer and the elastic modulus at the time of water absorption of the protective layer are important. I found out. Specifically, the protective layer contains urethane (meth) acrylate (A) and other (meth) acrylate compound (B), and the elastic modulus of the protective layer during normal time and elasticity during water absorption By setting the ratio to the ratio to a predetermined value or more, an optical recording medium having a sufficient surface hardness can be obtained with little deformation when the environmental temperature is changed and immediately after the environmental humidity is changed. And found out that the present invention.

本発明の第1の要旨は、樹脂基板と、記録再生機能層と、ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)を含む放射線硬化性組成物の硬化物である保護層と、表面硬度がB以上であるハードコート層とをこの順に具備する光記録媒体であって、前記保護層の25℃、湿度45%における引っ張り弾性率に対する飽和吸水時における引っ張り弾性率の比が、0.20以上であることを特徴とする光記録媒体に存する(請求項1)。   The first gist of the present invention is a radiation containing a resin substrate, a recording / reproducing functional layer, a urethane (meth) acrylate (A) and a (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate (A). An optical recording medium comprising, in this order, a protective layer that is a cured product of a curable composition and a hard coat layer having a surface hardness of B or more, wherein the tensile elastic modulus of the protective layer at 25 ° C. and 45% humidity In the optical recording medium, the ratio of the tensile elastic modulus at the time of saturated water absorption with respect to is 0.20 or more (claim 1).

この際、前記保護層の25℃における吸水率が2(wt/wt)%以下であることが好ましく(請求項2)、また前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、(a1)ポリイソシアネート、(a2)分子量400未満のジオール、(a3)数平均分子量が400以上、1500未満のポリオール、(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール、及び(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートを含む組成物を反応させた反応生成物であることが好ましい(請求項3)。   At this time, the water absorption at 25 ° C. of the protective layer is preferably 2 (wt / wt)% or less (Claim 2), and the urethane (meth) acrylate (A) is (a1) polyisocyanate, (A2) a diol having a molecular weight of less than 400, (a3) a polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500, (a4) a polyol having a number average molecular weight of 1500 or more, and (a5) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. A reaction product obtained by reacting is preferred.

また前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)が、脂環式アクリレートであることが好ましく(請求項4)、さらに前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)が、単官能(メタ)アクリレート及び/または分子量が300以下である多官能(メタ)アクリレートであることが好ましい(請求項5)。   Moreover, it is preferable that (meth) acrylate compounds (B) other than the said urethane (meth) acrylate (A) are alicyclic acrylates (Claim 4), and also (other than said urethane (meth) acrylate (A) ( The (meth) acrylate compound (B) is preferably a monofunctional (meth) acrylate and / or a polyfunctional (meth) acrylate having a molecular weight of 300 or less (Claim 5).

本発明によれば、十分な表面硬度を有し、環境温度が変化した際の変形、及び環境湿度が変化した直後の変形が少ない、特性のバランスに優れた光記録媒体とすることが可能である。   According to the present invention, it is possible to provide an optical recording medium having a sufficient surface hardness, less deformation when the environmental temperature changes, and less deformation immediately after the environmental humidity changes, and having an excellent balance of characteristics. is there.

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の説明に限定されるものではなく、その要旨の範囲内において種々に変更して実施することができる。
本発明は、記録再生ディスク等の光記録媒体に関するものであり、本発明の光記録媒体は、樹脂基板と、記録再生機能層と、ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)を含む放射線硬化性組成物の硬化物である保護層と、表面硬度がB以上であるハードコート層とをこの順に具備する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following description, and various modifications can be made within the scope of the gist thereof.
The present invention relates to an optical recording medium such as a recording / reproducing disk. The optical recording medium of the present invention includes a resin substrate, a recording / reproducing functional layer, urethane (meth) acrylate (A), and the urethane (meth) acrylate. A protective layer, which is a cured product of a radiation curable composition containing a (meth) acrylate compound (B) other than (A), and a hard coat layer having a surface hardness of B or more are provided in this order.

また、本発明の光記録媒体は、下記式で示される上記保護層の25℃、湿度45%における引っ張り弾性率に対する飽和吸水時における引っ張り弾性率の比e(以下、適宜「引っ張り弾性率の比」ともいう。)が、0.20以上であることを特徴とする。
e=(飽和吸水時における引っ張り弾性率)/(25℃、45%RHにおける引っ張り弾性率)
In addition, the optical recording medium of the present invention has a tensile elastic modulus ratio e (hereinafter referred to as “tensile elastic modulus ratio” as appropriate) at the time of saturated water absorption to the tensile elastic modulus at 25 ° C. and 45% humidity of the protective layer represented by the following formula. Is also 0.20 or more.
e = (Tension elastic modulus at saturated water absorption) / (Tension elastic modulus at 25 ° C. and 45% RH)

上記引っ張り弾性率とは、0.1mm厚のフィルムを形成し、引っ張り強度試験機を用い、引っ張り速度1mm/minにて引っ張り試験を行った際の弾性率を意味する。また飽和吸水時における引張り弾性率とは、上記フィルムを25℃において水に3時間浸漬した直後のフィルムについて、上記引っ張り試験を行った際の弾性率を意味する。   The tensile elastic modulus means an elastic modulus when a film having a thickness of 0.1 mm is formed and a tensile test is performed at a tensile speed of 1 mm / min using a tensile strength tester. Further, the tensile elastic modulus at the time of saturated water absorption means an elastic modulus when the above-described tensile test is performed on a film immediately after the film is immersed in water at 25 ° C. for 3 hours.

本発明によれば、上記保護層が、所定の材料(ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B))を含有することから、光記録媒体の表面硬度を高いものとすることができ、さらに環境温度に対する変形性が少ないものとすることが可能となる。
表面硬度及び耐環境温度性を良好なものとすることができる理由は必ずしも明らかではないが、所定の材料を用いた場合は、その骨格に由来する微小な結晶ドメインに類するものが形成され、このドメインが無機フィラーのような役割を果たして高い表面硬度をもたらす一方で、架橋密度そのものは適度に低く、分子運動のバッファのようなものが存在し、これが熱膨張収縮を抑制していると推定される。
According to the present invention, the protective layer contains a predetermined material (urethane (meth) acrylate (A) and (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate (A)), The surface hardness of the optical recording medium can be increased, and further, the deformability with respect to the environmental temperature can be reduced.
The reason why the surface hardness and the environmental temperature resistance can be improved is not necessarily clear, but when a predetermined material is used, a material similar to a fine crystal domain derived from the skeleton is formed. While the domain plays a role like an inorganic filler and brings high surface hardness, the crosslinking density itself is reasonably low, and there is a kind of molecular motion buffer, which is presumed to suppress thermal expansion and contraction. The

また本発明においては、保護層の上記引っ張り弾性率の比が所定の値以上とされていることから、環境湿度が変化した直後の変形を少ないものとすることができる。このメカニズムは下記のように推測される。
上述したように、環境湿度が変化した際の光記録媒体の変形は、保護層及び樹脂基板の吸脱水に伴う変形が支配的である。本発明においては、吸湿時の引っ張り弾性率と通常時の引っ張り弾性率との比が所定の範囲内である保護層を記録再生機能層上に形成する。通常の放射線硬化性組成物等の樹脂材料は、吸湿時には膨潤して軟らかくなり、弾性率が大幅に低下する。その低下が大きい材料は、吸湿時の引っ張り弾性率と通常時の引っ張り弾性率との比が小さくなることになる。本発明においては、保護層の吸湿時弾性率の通常時弾性率に対する比が大きい、すなわち吸湿時に弾性率低下しにくいことから、吸湿時における保護層の、樹脂基材が吸湿時に起こす変形を相殺する応力が大きくなり、その変形を十分に抑制することができる。したがって、環境湿度変化が生じた場合でも光記録媒体が変形しにくいものとすることができると考えられる。
In the present invention, since the ratio of the tensile elastic modulus of the protective layer is not less than a predetermined value, the deformation immediately after the environmental humidity changes can be reduced. This mechanism is presumed as follows.
As described above, the deformation of the optical recording medium when the environmental humidity changes is dominated by the deformation accompanying the absorption and dehydration of the protective layer and the resin substrate. In the present invention, a protective layer in which the ratio of the tensile elastic modulus during moisture absorption to the normal tensile elastic modulus is within a predetermined range is formed on the recording / reproducing functional layer. A resin material such as a normal radiation curable composition swells and becomes soft at the time of moisture absorption, and its elastic modulus is greatly reduced. A material having such a large decrease will have a small ratio between the tensile elastic modulus at the time of moisture absorption and the tensile elastic modulus at the normal time. In the present invention, the ratio of the elastic modulus at the time of moisture absorption of the protective layer to the elastic modulus at normal time is large, i.e., the elastic modulus is difficult to decrease at the time of moisture absorption. The stress to be applied is increased, and the deformation can be sufficiently suppressed. Therefore, it is considered that the optical recording medium can be hardly deformed even when an environmental humidity change occurs.

以上のことから、本発明の光記録媒体では、表面硬度が十分であり、また環境温度が変化した際の変形が少なく、さらに環境湿度が変化した直後の変形も少ないものとすることができる。
以下、本発明の光記録媒体の各部材について説明する。
From the above, the optical recording medium of the present invention can have a sufficient surface hardness, little deformation when the environmental temperature changes, and little deformation immediately after the environmental humidity changes.
Hereinafter, each member of the optical recording medium of the present invention will be described.

[保護層]
まず、本発明の光記録媒体に用いられる保護層について説明する。本発明に用いられる保護層は、後述する記録再生機能層に接して設けられ、通常平面円環形状を有するものとすることができる。またこのような保護層は、記録再生に用いられるレーザー光を透過可能な材料により形成される。
以下、本発明の光記録媒体に用いられる保護層の物性、保護層の材料、及び形成方法について説明する。
[Protective layer]
First, the protective layer used in the optical recording medium of the present invention will be described. The protective layer used in the present invention is provided in contact with a later-described recording / reproducing functional layer, and can usually have a planar annular shape. Such a protective layer is formed of a material that can transmit laser light used for recording and reproduction.
The physical properties of the protective layer used in the optical recording medium of the present invention, the material of the protective layer, and the formation method will be described below.

(保護層の物性)
上記保護層における上記引っ張り弾性率の比eは通常0.2以上であり、好ましくは0.3以上であり、さらに好ましくは0.5以上であり、特に好ましくは0.7以上である。また上限としては、通常1以下である。上記引っ張り弾性率の比eが小さすぎると、吸湿時の弾性率が小さくなる傾向があり、環境湿度が変化した際に、樹脂基板の変形を抑制しきれず、光記録媒体の変形が大きくなる傾向がある。
(Physical properties of the protective layer)
The tensile modulus ratio e in the protective layer is usually 0.2 or more, preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and particularly preferably 0.7 or more. The upper limit is usually 1 or less. If the ratio e of the tensile elastic modulus is too small, the elastic modulus at the time of moisture absorption tends to be small, and when the environmental humidity changes, the deformation of the resin substrate cannot be suppressed, and the deformation of the optical recording medium tends to increase. There is.

また上記保護層の吸水率は、2(wt/wt)%以下であることが好ましく、より好ましくは1.5(wt/wt)%以下、更に好ましくは1(wt/wt)%以下、特に好ましくは0.7(wt/wt)%以下である。保護層の吸水率が高すぎると、前記引っ張り弾性率の比eが上記範囲より小さくなる傾向があり、環境湿度の変化に伴う光記録媒体の変形が大きくなることがある。上記吸水率は、下記の方法により求められる。0.1mm厚のフィルムを形成して初期重量Woを測定する。次いで、上記フィルムを25℃において純水で満たした容器に3時間浸漬させた後、フィルムを取り出し、付着している純水をワイパーで軽く拭き取り、ただちに重量Wを測定する。初期重量Woに対する浸漬後の重量増加(W−W0)を求めることにより算出される。すなわち、吸水率は下式で表される。
吸水率A(%)=(W−Wo/Wo)×100
The water absorption rate of the protective layer is preferably 2 (wt / wt)% or less, more preferably 1.5 (wt / wt)% or less, still more preferably 1 (wt / wt)% or less, particularly Preferably it is 0.7 (wt / wt)% or less. If the water absorption rate of the protective layer is too high, the tensile modulus ratio e tends to be smaller than the above range, and the optical recording medium may be greatly deformed due to changes in environmental humidity. The water absorption rate is determined by the following method. A 0.1 mm thick film is formed and the initial weight W o is measured. Next, after immersing the film in a container filled with pure water at 25 ° C. for 3 hours, the film is taken out, the attached pure water is gently wiped with a wiper, and the weight W is measured immediately. It is calculated by obtaining the weight increase after immersion (W−W 0 ) with respect to the initial weight W o . That is, the water absorption rate is expressed by the following equation.
Water absorption A (%) = (W−W o / W o ) × 100

また上記保護層の膜厚は、通常10μm以上、好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以上、さらに好ましくは70μm以上、特に好ましくは85μm以上、また、通常300μm以下、好ましくは130μm以下、より好ましくは115μm以下である。これにより、ゴミ等による情報の読み書きへの影響と透過率とのバランスを良好なものとすることができる。   The thickness of the protective layer is usually 10 μm or more, preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, further preferably 70 μm or more, particularly preferably 85 μm or more, and usually 300 μm or less, preferably 130 μm or less, more preferably 115 μm or less. Thereby, the balance between the influence on the reading and writing of information due to dust and the like and the transmittance can be improved.

また上記保護層は、通常、溶剤等に不溶不融の性質を示し、厚膜化した場合であっても光学部材の用途に有利な性質を備え、密着性、表面硬化度に優れていることが好ましい。具体的には、低い光学歪み性(低複屈折性)、高い光線透過率、機械的強度、寸法安定性、高密着性、高表面硬度、及び一定以上の耐熱・耐湿変形性、低収縮性を示すことが好ましい。また光記録媒体の記録再生に用いる波長付近のレーザー光に対して十分に透明性が高く、かつ後述する樹脂基板上に形成された記録再生機能層を、水や塵埃から保護し、劣化を防止するような性質を持つことが望ましい。   In addition, the protective layer usually exhibits insoluble and infusible properties in solvents and the like, has properties advantageous for the use of optical members even when thickened, and has excellent adhesion and surface curing. Is preferred. Specifically, low optical distortion (low birefringence), high light transmittance, mechanical strength, dimensional stability, high adhesion, high surface hardness, and a certain level of heat and humidity resistance, low shrinkage It is preferable to show. In addition, it is sufficiently transparent to laser light in the vicinity of the wavelength used for recording / reproducing of optical recording media, and the recording / reproducing functional layer formed on the resin substrate described later is protected from water and dust to prevent deterioration. It is desirable to have such properties.

上記保護層の硬度は、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験による表面硬度で、通常6B程度、好ましくは4B以上、より好ましくは3B以上である。これにより後述するハードコート層の表面硬度を高くすることができ、耐摩耗性や記録膜保護性に優れた光記録媒体とすることができる。   The hardness of the protective layer is a surface hardness according to a pencil hardness test in accordance with JIS K5400, and is usually about 6B, preferably 4B or more, more preferably 3B or more. As a result, the surface hardness of the hard coat layer, which will be described later, can be increased, and an optical recording medium excellent in wear resistance and recording film protection can be obtained.

また上記保護層の光線透過率は、波長550nmにおける光路長0.1mm当たりの光線透過率が、通常80%以上であり、好ましくは85%以上、さらに好ましくは89%以上である。また上限はなく、100%に近いほど好ましい。光線透過率が低すぎると、保護層の透明性が劣る。従って、光記録媒体において、記録された情報の読み出し時にエラーが増加する傾向がある。   The light transmittance of the protective layer is usually 80% or more, preferably 85% or more, and more preferably 89% or more per light path length of 0.1 mm at a wavelength of 550 nm. Moreover, there is no upper limit and it is so preferable that it is near 100%. When the light transmittance is too low, the transparency of the protective layer is poor. Accordingly, errors tend to increase when reading recorded information in an optical recording medium.

また保護層の光線透過率は、記録・再生に用いられる光の波長において、通常、80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは89%以上である。このような範囲であれば、記録再生光の吸収による損失を最小限にすることができる。一方、光線透過率は100%になることが特に好ましいが、用いる材料の性能上、通常、99%以下となる。上記光線透過率は、例えば、ヒューレットパッカード社製HP8453型紫外・可視吸光光度計にて公知の方法で、室温で測定することができる。   The light transmittance of the protective layer is usually 80% or more, preferably 85% or more, and more preferably 89% or more at the wavelength of light used for recording / reproduction. Within such a range, loss due to absorption of recording / reproducing light can be minimized. On the other hand, the light transmittance is particularly preferably 100%, but is usually 99% or less in view of the performance of the material used. The light transmittance can be measured at room temperature by a known method using, for example, an HP8453 ultraviolet / visible absorptiometer manufactured by Hewlett-Packard Company.

保護層の光線透過率を上記範囲とするには、後述する放射線硬化性組成物を構成する各成分として光線透過率の高いものを用いることが好ましい。具体的には、可視光領域の光線透過率を低下させないために、各成分中の有色物や分解物等の不純物量が少ないことが好ましい。また各成分を製造する際の触媒量が少ないことが好ましい。また紫外領域の光線透過率を低下させないためには、各成分に芳香環を含まない、脂肪族或いは脂環式骨格のものを選択することが好ましい。   In order to make the light transmittance of a protective layer into the said range, it is preferable to use what has a high light transmittance as each component which comprises the radiation-curable composition mentioned later. Specifically, in order not to reduce the light transmittance in the visible light region, it is preferable that the amount of impurities such as colored substances and decomposed substances in each component is small. Moreover, it is preferable that there is little catalyst amount at the time of manufacturing each component. In order not to reduce the light transmittance in the ultraviolet region, it is preferable to select an aliphatic or alicyclic skeleton that does not contain an aromatic ring in each component.

さらに、上記保護層と後述する記録再生機能層との密着性が高いことが好ましく、経時密着性も高いほうが好ましい。具体的には、80℃、80%RHの環境下に100時間、さらに好ましくは200時間置いた後の保護層と記録再生機能層との密着面積の割合が、当初密着面積の50%以上を保持していることが好ましく、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは100%である。   Furthermore, it is preferable that the adhesiveness between the protective layer and the recording / reproducing functional layer described later is high, and it is preferable that the adhesiveness with time is high. Specifically, the ratio of the adhesion area between the protective layer and the recording / reproducing functional layer after being placed in an environment of 80 ° C. and 80% RH for 100 hours, more preferably 200 hours, is 50% or more of the initial adhesion area. It is preferably held, more preferably 80% or more, and particularly preferably 100%.

(保護層の材料)
上記保護層は、ウレタン(メタ)アクリレート(A)、及び上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)を含む放射線硬化性組成物の硬化物である。上記放射線硬化性組成物中には、必要に応じて適宜上記以外の材料が含有されていてもよい。
(Protective layer material)
The protective layer is a cured product of a radiation curable composition containing urethane (meth) acrylate (A) and a (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate (A). In the said radiation curable composition, materials other than the above may contain suitably as needed.

<ウレタン(メタ)アクリレート(A)>
上記保護層の形成に用いられる放射線硬化性組成物中には、ウレタン(メタ)アクリレート(A)が含有される。これにより、光記録媒体の環境の温度変化に対する変形を小さいものとし、かつ光記録媒体が高い表面硬度を有するものとすることが可能となる。
上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、特に限定されるものではなく、通常、ヒドロキシル基を含有する化合物と、ポリイソシアネートと、ヒドロキシル基を含有する(メタ)アクリレートとを反応させて得られるものとすることができる。
<Urethane (meth) acrylate (A)>
The radiation curable composition used for forming the protective layer contains urethane (meth) acrylate (A). Thereby, it becomes possible to make the deformation of the optical recording medium with respect to the temperature change small and to make the optical recording medium have a high surface hardness.
The urethane (meth) acrylate (A) is not particularly limited, and is usually obtained by reacting a hydroxyl group-containing compound, polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. It can be.

本発明においては特に、上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、(a1)ポリイソシアネート、(a2)分子量400未満のジオール、(a3)数平均分子量が400以上、1500未満のポリオール、(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール、及び(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートを含む組成物を反応させた反応生成物であることが好ましい。   In the present invention, in particular, the urethane (meth) acrylate (A) is (a1) polyisocyanate, (a2) a diol having a molecular weight of less than 400, (a3) a polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500, (a4) A reaction product obtained by reacting a polyol having a number average molecular weight of 1500 or more and a composition containing (a5) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is preferable.

〔(a1)ポリイソシアネート〕
ポリイソシアネートとは、分子中に2個以上のイソシアネート基を有する化合物である。本発明に用いられるポリイソシアネートは特に限定されるものではなく、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート;ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート;トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネートが挙げられ、これらの1種を単独で用いてもよく、また2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。これらの中でも、得られるウレタン(メタ)アクリレート(A)の色相が良好である点で、ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン、及びイソホロンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが好ましい。
[(A1) Polyisocyanate]
A polyisocyanate is a compound having two or more isocyanate groups in the molecule. The polyisocyanate used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic diisocyanates such as tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and trimethylhexamethylene diisocyanate; bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclohexane diisocyanate, bis (isocyanate). Natocyclohexyl) alicyclic diisocyanates such as methane and isophorone diisocyanate; aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate and the like. Moreover, 2 or more types can be used in arbitrary ratios and combinations. Among these, alicyclic such as bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, cyclohexane diisocyanate, bis (isocyanatocyclohexyl) methane, and isophorone diisocyanate in that the hue of the urethane (meth) acrylate (A) to be obtained is good. Diisocyanate is preferred.

なお、(a1)ポリイソシアネートの分子量としては、保護層の強度と弾性率とのバランスの面から、通常100以上であり、好ましくは150以上である。また通常1000以下であり、好ましくは500以下である。   The molecular weight of (a1) polyisocyanate is usually 100 or more, preferably 150 or more, from the viewpoint of the balance between the strength and elastic modulus of the protective layer. Moreover, it is 1000 or less normally, Preferably it is 500 or less.

上記(a1)ポリイソシアネートは、上記(A)ウレタン(メタ)アクリレートと上記(B)ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物との総和において、通常2×10-4mol/g以上、好ましくは6×10-4mol/g以上用いられ、また通常22×10-4mol/g以下、好ましくは16×10-4mol/g以下用いられる。 The (a1) polyisocyanate is generally 2 × 10 −4 mol / in the sum of the (A) urethane (meth) acrylate and the (B) urethane (meth) acrylate (A) other than the (meth) acrylate compound. g or more, preferably 6 × 10 −4 mol / g or more, and usually 22 × 10 −4 mol / g or less, preferably 16 × 10 −4 mol / g or less.

〔(a2)分子量400未満のジオール〕
分子量400未満のジオールとは、2個のヒドロキシル基を含有する分子量400未満の化合物を意味する。本発明に用いられる分子量400未満のジオールは特に限定されるものではなく、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,3,5−トリメチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,2−ジメチロールシクロヘキサン、1,3−ジメチロールシクロヘキサン、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ジシクロペンタジエニルジメタノール等のアルキレンジオール類が挙げられ、これらを1種または2種以上、任意の比率及び組み合わせで用いることができる。
[(A2) Diol having a molecular weight of less than 400]
A diol having a molecular weight of less than 400 means a compound having a molecular weight of less than 400 containing two hydroxyl groups. The diol having a molecular weight of less than 400 used in the present invention is not particularly limited. For example, ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1 , 3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,3, 5-trimethyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol, 1,8-octanediol 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,2-dimethylolcyclohexane, 1,3-dimethyl Roll cyclohexane, 1,4-dimethylolcyclohexane, alkylenediols such as dicyclopentadienyl dimethanol and the like, one or more of them may be used in optional ratio and combination.

上記の中でも、炭素数4〜10の脂肪族ジオールが好ましく、具体的には1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオールが、光記録媒体の変形を生じにくいものとすることができ、かつ光記録媒体の表面硬度が高くなる傾向があるため、特に好ましい。   Among the above, aliphatic diols having 4 to 10 carbon atoms are preferable, specifically 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexane. Diol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, and 2-methyl-1,8-octanediol can make the optical recording medium less susceptible to deformation, and the surface hardness of the optical recording medium Is particularly preferable because of a tendency to increase.

なお、(a2)分子量400未満のジオールの分子量としては硬化収縮に由来する樹脂基板の変形と表面硬度のバランスの面から好ましくは250以下、より好ましくは150以下であり、また通常80以上、好ましくは100以上である。   (A2) The molecular weight of the diol having a molecular weight of less than 400 is preferably 250 or less, more preferably 150 or less, and usually 80 or more, preferably from the viewpoint of the balance between deformation of the resin substrate resulting from curing shrinkage and surface hardness. Is 100 or more.

また上記(a2)分子量400未満のジオールは、上記(A)ウレタン(メタ)アクリレートと上記(B)ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物との総和において、通常1×10-4mol/g以上、好ましくは3×10-4mol/g以上用いられ、また通常10×10-4mol/g以下、好ましくは8×10-4mol/g以下用いられる。 The diol having a molecular weight of less than 400 (a2) is usually 1 × 10 in the sum of the (A) urethane (meth) acrylate and the (B) urethane (meth) acrylate (A) other than the (meth) acrylate compound. −4 mol / g or more, preferably 3 × 10 −4 mol / g or more, and usually 10 × 10 −4 mol / g or less, preferably 8 × 10 −4 mol / g or less.

〔(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオール〕
数平均分子量が400以上1500未満のポリオールとは、数平均分子量が400以上1500未満であり、かつ分子中に2個以上の水酸基を有する化合物である。
上記数平均分子量が400以上1500未満のポリオールとしては、例えば上記(a2)分子量400未満のジオール(以下、適宜単に「ジオール」という場合がある。)の多量体であるポリエーテルポリオールや、上記ジオールと多塩基酸との反応によるエステル結合、或いは環状エステルの開環重合によるエステル結合を有するポリエステルポリオール、及び上記ジオールとカーボネートとの反応によるカーボネート結合を有するポリカーボネートポリオール等が挙げられる。
[(A3) polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500]
The polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500 is a compound having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500 and having two or more hydroxyl groups in the molecule.
Examples of the polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500 include, for example, a polyether polyol which is a polymer of (a2) a diol having a molecular weight of less than 400 (hereinafter sometimes referred to as “diol” as appropriate); And polyester polyols having an ester bond by reaction of a polybasic acid with each other, or an ester bond by ring-opening polymerization of a cyclic ester, and polycarbonate polyols having a carbonate bond by reaction of the diol and carbonate.

上記ポリエーテルポリオールの具体例としては、上記ジオールの多量体の他に、テトラヒドロフラン等の環状エーテルの開環重合体としてのポリテトラメチレングリコール、及び上記ジオールのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブチレンオキサイド、2,3−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、エピクロルヒドリン等のアルキレンオキサイドの付加物等が挙げられる。   Specific examples of the polyether polyol include polytetramethylene glycol as a ring-opening polymer of a cyclic ether such as tetrahydrofuran, ethylene oxide, propylene oxide, 1,2- Examples include adducts of alkylene oxides such as butylene oxide, 1,3-butylene oxide, 2,3-butylene oxide, tetrahydrofuran and epichlorohydrin.

上記ポリエステルポリオールの具体的としては、上記ジオールと、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸等の多塩基酸との反応物、及び、カプロラクトン等の環状エステルの開環重合体としてのポリカプロラクトン等が挙げられる。   Specific examples of the polyester polyol include a reaction product of the diol and a polybasic acid such as maleic acid, fumaric acid, adipic acid, sebacic acid, and phthalic acid, and a ring-opening polymer of a cyclic ester such as caprolactone. And polycaprolactone.

またポリカーボネートポリオールの具体例としては、上記ジオールと、エチレンカーボネート、1,2−プロピレンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネート等のアルキレンカーボネート、又は、ジフェニルカーボネート、4−メチルジフェニルカーボネート、4−エチルジフェニルカーボネート、4−プロピルジフェニルカーボネート、4,4’−ジメチルジフェニルカーボネート、2−トリル−4−トリルカーボネート、4,4’−ジエチルジフェニルカーボネート、4,4’−ジプロピルジフェニルカーボネート、フェニルトルイルカーボネート、ビスクロロフェニルカーボネート、フェニルクロロフェニルカーボネート、フェニルナフチルカーボネート、ジナフチルカーボネート等のジアリールカーボネート、又は、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−n−プロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネート、ジ−t−ブチルカーボネート、ジ−n−アミルカーボネート、ジイソアミルカーボネート等のジアルキルカーボネート等との反応物等が挙げられる。   Specific examples of the polycarbonate polyol include the above diol and alkylene carbonates such as ethylene carbonate, 1,2-propylene carbonate, 1,2-butylene carbonate, or diphenyl carbonate, 4-methyldiphenyl carbonate, 4-ethyldiphenyl carbonate. 4-propyl diphenyl carbonate, 4,4′-dimethyl diphenyl carbonate, 2-tolyl-4-tolyl carbonate, 4,4′-diethyl diphenyl carbonate, 4,4′-dipropyl diphenyl carbonate, phenyl toluyl carbonate, bischlorophenyl Diaryl carbonates such as carbonate, phenylchlorophenyl carbonate, phenyl naphthyl carbonate, dinaphthyl carbonate, or dimethyl carbonate Reaction with dialkyl carbonates such as sulfonate, diethyl carbonate, di-n-propyl carbonate, diisopropyl carbonate, di-n-butyl carbonate, diisobutyl carbonate, di-t-butyl carbonate, di-n-amyl carbonate, diisoamyl carbonate, etc. Thing etc. are mentioned.

これらのポリオール類は、1種を単独で用いてもよく、又、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。上記ポリオール類の中でも、ポリエーテルポリオールが好ましく、中でもポリアルキレングリコールが好ましく、ポリテトラメチレングリコールが特に好ましい。   These polyols may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types by arbitrary ratios and combinations. Among the polyols, polyether polyols are preferable, polyalkylene glycol is preferable, and polytetramethylene glycol is particularly preferable.

上記(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオールの数平均分子量の上限は、表面硬度が向上する点で、より好ましくは1100以下、更に好ましくは900以下、特に好ましくは800以下である。   The upper limit of the number average molecular weight of the polyol (a3) having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500 is more preferably 1100 or less, still more preferably 900 or less, and particularly preferably 800 or less, in view of improving surface hardness.

上記(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオールは、上記(A)ウレタン(メタ)アクリレートと上記(B)ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物との総和において、通常0.1×10-4mol/g以上、好ましくは0.5×10-4mol/g以上用いられ、また通常2.0×10-4mol/g以下、好ましくは1.3×10-4mol/g以下用いられる。 The (a3) polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500 is the sum of the (A) urethane (meth) acrylate and the (B) urethane (meth) acrylate (A) (meth) acrylate compound other than Usually 0.1 × 10 −4 mol / g or more, preferably 0.5 × 10 −4 mol / g or more is used, and usually 2.0 × 10 −4 mol / g or less, preferably 1.3 × 10 -4 mol / g or less is used.

〔(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール〕
数平均分子量が1500以上のポリオールとは、数平均数平均分子量が1500以上であり、かつ分子中に2個以上の水酸基を有する化合物である。
このような数平均分子量が1500以上のポリオールとしては、特に限定されるものではなく、例えば上記(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオールの欄で例示したポリオール等が挙げられる。上記の中でもポリエーテルポリオールが好ましく、ポリアルキレングリコールがより好ましく、ポリテトラメチレングリコールが特に好ましい。また上記(a4)数平均分子量が1500以上のポリオールは、1種を単独で用いてもよく、又、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
[(A4) polyol having a number average molecular weight of 1500 or more]
A polyol having a number average molecular weight of 1500 or more is a compound having a number average number average molecular weight of 1500 or more and having two or more hydroxyl groups in the molecule.
Such a polyol having a number average molecular weight of 1500 or more is not particularly limited, and examples thereof include (a3) the polyols exemplified in the column of polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500. Among the above, polyether polyol is preferable, polyalkylene glycol is more preferable, and polytetramethylene glycol is particularly preferable. In addition, the (a4) polyol having a number average molecular weight of 1500 or more may be used alone, or two or more may be used in any ratio and combination.

上記(a4)数平均分子量が1500以上のポリオールの数平均分子量の下限は、保護層の吸水時の弾性率低下が小さくなる点で、好ましくは1900以上である。
また上記(a4)数平均分子量が1500以上のポリオールは、上記(A)ウレタン(メタ)アクリレートと上記(B)ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物との総和において、通常0.05×10-4mol/g以上、好ましくは0.1×10-4mol/g以上用いられ、また通常1×10-4mol/g以下、好ましくは0.5×10-4mol/g以下用いられる。
The lower limit of the number average molecular weight of the polyol (a4) having a number average molecular weight of 1500 or more is preferably 1900 or more in that the decrease in elastic modulus at the time of water absorption of the protective layer is reduced.
The polyol (a4) having a number average molecular weight of 1500 or more is usually the sum of the (A) urethane (meth) acrylate and the (meth) acrylate compound other than the (B) urethane (meth) acrylate (A). 0.05 × 10 −4 mol / g or more, preferably 0.1 × 10 −4 mol / g or more is used, and usually 1 × 10 −4 mol / g or less, preferably 0.5 × 10 −4 mol / g or less. / G or less.

(a5)水酸基含有(メタ)アクリレート
水酸基含有(メタ)アクリレートとは、ヒドロキシル基と(メタ)アクリロイル基とを併せ持つ化合物である。水酸基含有(メタ)アクリレートは特に限定されるものではなく、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反応物、グリコールのモノ(メタ)アクリレート体等が挙げられ、これらの1種を単独で用いてもよく、又、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
(A5) Hydroxyl group-containing (meth) acrylate Hydroxyl group-containing (meth) acrylate is a compound having both a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group. The hydroxyl group-containing (meth) acrylate is not particularly limited. For example, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, addition reaction product of glycidyl ether and (meth) acrylic acid. And mono (meth) acrylates of glycols, etc., and one of these may be used alone, or two or more may be used in any ratio and combination.

なお、(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートの分子量としては、40以上、更には80以上であることが好ましく、また800以下、更には400以下であることが好ましい。   In addition, the molecular weight of the (a5) hydroxyl group-containing (meth) acrylate is preferably 40 or more, more preferably 80 or more, and is preferably 800 or less, and more preferably 400 or less.

上記(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートは、上記(A)ウレタン(メタ)アクリレートと上記(B)ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物との総和において、通常2×10-4mol/g以上、好ましくは6×10-4mol/g以上用いられ、また通常21×10-4mol/g以下、好ましくは17×10-4mol/g以下用いられる。 The (a5) hydroxyl group-containing (meth) acrylate is usually 2 × 10 in the sum of the (A) urethane (meth) acrylate and the (B) urethane (meth) acrylate (A) other than the (meth) acrylate compound. −4 mol / g or more, preferably 6 × 10 −4 mol / g or more, and usually 21 × 10 −4 mol / g or less, preferably 17 × 10 −4 mol / g or less.

〔(A)ウレタン(メタ)アクリレートの製造方法〕
上記(a1)ポリイソシアネート、(a2)分子量400未満のジオール、(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオール、(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール、及び(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートを含む組成物を付加反応させることにより、ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)を製造することができる。
上記付加反応の際、上記(a1)〜(a5)を含む組成物中のイソシアネート基及びヒドロキシル基が化学量論量になるように調整することが好ましい。
[(A) Method for producing urethane (meth) acrylate]
(A1) polyisocyanate, (a2) diol having a molecular weight of less than 400, (a3) polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500, (a4) a polyol having a number average molecular weight of 1500 or more, and (a5) hydroxyl group-containing (meta ) A urethane (meth) acrylate compound (A) can be produced by addition reaction of a composition containing acrylate.
It is preferable to adjust so that the isocyanate group and hydroxyl group in the composition containing said (a1)-(a5) may become stoichiometric amount in the case of the said addition reaction.

また、(A)ウレタン(メタ)アクリレートを製造する際、使用する上記(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオールに対する(a4)数平均分子量が1500以上のポリオールの重量比、すなわち{(a4)の重量}/{(a3)の重量}は、通常0.05以上、好ましくは0.1以上であり、また通常10以下、好ましくは7以下である。この比が小さすぎると保護層の吸水時における弾性率が低下する傾向がある。逆に大きすぎると表面硬度が低下する。   Moreover, when manufacturing (A) urethane (meth) acrylate, the weight ratio of the (a4) polyol having a number average molecular weight of 1500 or more to the polyol (a3) having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500, that is, {( The weight of a4)} / {weight of (a3)} is usually 0.05 or more, preferably 0.1 or more, and usually 10 or less, preferably 7 or less. If this ratio is too small, the elastic modulus of the protective layer during water absorption tends to decrease. Conversely, if it is too large, the surface hardness decreases.

また、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を製造する際に使用する上記(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートのヒドロキシル基量は、上記(a2)分子量400未満のジオール、(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオール、(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール、及び(a5)水酸基含有(メタ)アクリレート中に含有される全ヒドロキシル基量に対して、通常20モル%以上であり、好ましくは40モル%以上である。また、通常80モル%以下であり、好ましくは60モル%以下である。上記割合に応じて、得られる(A)ウレタン(メタ)アクリレートの分子量を制御することが可能となる。   Moreover, the hydroxyl group amount of the (a5) hydroxyl group-containing (meth) acrylate used when producing the urethane (meth) acrylate (A) is (a2) a diol having a molecular weight of less than 400, and (a3) a number average molecular weight. 400 to less than 1500 polyol, (a4) a polyol having a number average molecular weight of 1500 or more, and (a5) a total hydroxyl group content in the hydroxyl group-containing (meth) acrylate is usually 20 mol% or more, Preferably it is 40 mol% or more. Moreover, it is 80 mol% or less normally, Preferably it is 60 mol% or less. Depending on the ratio, it is possible to control the molecular weight of the (A) urethane (meth) acrylate obtained.

上記(a1)ポリイソシアネート、(a2)分子量400未満のジオール、(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオール、(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール、及び(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートを含む組成物の付加反応は、公知の何れの方法でも行うことができる。例えば、(a1)ポリイソシアネートと、(a2)〜(a5)を含む組成物(以下、水酸基含有組成物ともいう。)及び付加反応触媒を含む混合物とを、通常40℃以上、好ましくは50℃以上、また通常90℃以下、好ましくは75℃以下の条件下で混合する。その際の混合の方法としては、(a1)ポリイソシアネート存在下に、上記水酸基含有組成物と付加反応触媒とを含む混合物を同時に、または順次滴下する方法とすることができる。   (A1) polyisocyanate, (a2) diol having a molecular weight of less than 400, (a3) polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500, (a4) a polyol having a number average molecular weight of 1500 or more, and (a5) hydroxyl group-containing (meta ) The addition reaction of the acrylate-containing composition can be performed by any known method. For example, (a1) a polyisocyanate, a composition containing (a2) to (a5) (hereinafter also referred to as a hydroxyl group-containing composition) and a mixture containing an addition reaction catalyst are usually 40 ° C. or higher, preferably 50 ° C. In addition, the mixing is usually performed at a temperature of 90 ° C. or lower, preferably 75 ° C. or lower. As a mixing method at that time, (a1) a method of dropping the mixture containing the hydroxyl group-containing composition and the addition reaction catalyst simultaneously or sequentially in the presence of polyisocyanate can be used.

この際、用いられる付加反応触媒としては、例えば、ジブチルスズラウレート、ジブチルスズジオクトエート、ジオクチルスズジラウレート、及び、ジオクチルスズジオクトエート等が好ましく、これらの1種を単独で用いてもよく、また、2種以上を任意の比率及び組み合わせて用いてもよい。   In this case, as the addition reaction catalyst used, for example, dibutyltin laurate, dibutyltin dioctoate, dioctyltin dilaurate, and dioctyltin dioctoate are preferable, and one of these may be used alone, Two or more kinds may be used in any ratio and combination.

なお、(A)ウレタン(メタ)アクリレートを製造する際、上述したように、(a1)〜(a5)以外の成分を1種または2種以上、任意の比率及び組み合わせで含有させてもよい。また、(A)ウレタン(メタ)アクリレートは通常粘度が高く、作業性が低くなることがあるので、作業性を向上させるために、後述の(メタ)アクリレート等の低粘度液状の化合物を混合して粘度を低下させることができる。   In addition, when manufacturing (A) urethane (meth) acrylate, as above-mentioned, you may contain components other than (a1)-(a5) by 1 type (s) or 2 or more types and arbitrary ratios and combinations. In addition, (A) urethane (meth) acrylate usually has a high viscosity, and workability may be lowered. Therefore, in order to improve workability, a low viscosity liquid compound such as (meth) acrylate described later is mixed. Thus, the viscosity can be reduced.

〔ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)の特性〕
ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)としては、透明性が高いものが好ましく、例えば、芳香環を有していない化合物であることが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート化合物が芳香環を有する場合、芳香環を有する放射線硬化性組成物及びその硬化物は、得られるものが着色物であったり、最初は着色していなくても保存中に着色したり着色が強まること(いわゆる黄変)がある。これは芳香環を形成する二重結合部分が、エネルギー線によってその構造を不可逆的に変化させることが原因であると考えられている。このため、(A)ウレタン(メタ)アクリレート化合物は、芳香環を有しない構造を持つことで、色相の悪化がなく、かつ光線透過率が低下することないものとすることができる。芳香環を有しない(A)ウレタン(メタ)アクリレートは、上記(a1)〜(a5)として、それぞれ芳香環を有しないものを選択することにより製造できる。なお、本発明においては、組成物としての表面硬化性に優れ、タック(べたつき)が残りにくい面から、上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、ウレタンアクリレートであることが特に好ましい。
[Properties of urethane (meth) acrylate compound (A)]
As a urethane (meth) acrylate compound (A), a highly transparent thing is preferable, for example, it is preferable that it is a compound which does not have an aromatic ring. When the urethane (meth) acrylate compound has an aromatic ring, the radiation-curable composition having an aromatic ring and the cured product are colored during storage even if the resulting product is a colored product or is not colored. Or coloring (so-called yellowing). This is considered to be caused by the double bond portion forming the aromatic ring irreversibly changing its structure by energy rays. For this reason, the (A) urethane (meth) acrylate compound has a structure that does not have an aromatic ring, so that the hue does not deteriorate and the light transmittance does not decrease. The (A) urethane (meth) acrylate having no aromatic ring can be produced by selecting those having no aromatic ring as the above (a1) to (a5). In the present invention, the urethane (meth) acrylate (A) is particularly preferably urethane acrylate from the viewpoint of excellent surface curability as a composition and less stickiness.

また上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の重量平均分子量は、粘度と機械特性とのバランスの面から通常1,000以上であり、更には1,500以上であることが好ましく、また通常10,000以下であり、更には5,000以下であることが好ましい。   Further, the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate (A) is usually 1,000 or more, more preferably 1,500 or more from the viewpoint of the balance between viscosity and mechanical properties, and usually 10 ,. 000 or less, more preferably 5,000 or less.

なお、上記ウレタン(メタ)アクリレート(A)には、2種以上の数平均分子量の異なるポリオールが使用されているが、2種以上の数平均分子量の異なるポリオールがウレタン(メタ)アクリレート(A)中に含有されているか否かは、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を、熱分解GC/MSまたはアルカリメチル化熱分解GC/MS等の方法を組み合わせて用い、ポリオールの分子量を分析することにより判断可能である。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析を実施し、得られた分子量分布のプロファイルが2つの極大点を持つかどうかによっても判定することが出来る。   In the urethane (meth) acrylate (A), two or more types of polyols having different number average molecular weights are used, but two or more types of polyols having different number average molecular weights are urethane (meth) acrylates (A). Whether or not it is contained is determined by analyzing the molecular weight of the polyol using urethane (meth) acrylate (A) in combination with methods such as pyrolysis GC / MS or alkali methylation pyrolysis GC / MS. Judgment is possible. It can also be determined by performing gel permeation chromatography (GPC) analysis and whether the obtained molecular weight distribution profile has two local maximum points.

<ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)>
保護層の形成に用いられる放射線硬化性組成物中には、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)(以下、適宜「(メタ)アクリレート化合物(B)ともいう。」が含有される。(メタ)アクリレート化合物(B)はウレタン(メタ)アクリレート(A)の粘度を低下させる希釈剤の役割を果たし、平滑かつ均質な保護層形成を可能とすると同時に、高い表面硬度の発現を助ける働きを持つ。
<(Meth) acrylate compound (B) other than urethane (meth) acrylate compound (A)>
In the radiation-curable composition used for forming the protective layer, a (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate compound (A) (hereinafter referred to as “(meth) acrylate compound (B)” as appropriate. The (meth) acrylate compound (B) serves as a diluent that lowers the viscosity of the urethane (meth) acrylate (A), and enables formation of a smooth and homogeneous protective layer, Helps to develop high surface hardness.

上記(メタ)アクリレート(B)としては、単官能(メタ)アクリレートおよび多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。上記単官能(メタ)アクリレートおよび多官能(メタ)アクリレートは、1種単独で用いられてもよく、また2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   As said (meth) acrylate (B), monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate are mentioned. The said monofunctional (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン骨格を有する(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート類等が挙げられ、これらの中で、脂環式(メタ)アクリレート類が好ましい。また例えば、炭素数5以上、好ましくは炭素数5以上、7以下の脂環式炭化水素環の1つ以上の炭素原子が窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等のヘテロ原子で置換されている環基を1つ以上有する複素脂環式(メタ)アクリレートを好ましく用いることもできる。複素脂環式(メタ)アクリレートとしては、例えば、(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of monofunctional (meth) acrylates include (meth) acrylamides such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide; hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like. Hydroxyalkyl (meth) acrylates; (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having a tricyclodecane skeleton, etc. (Meth) acrylates and the like can be mentioned, and among these, alicyclic (meth) acrylates are preferable. Further, for example, one or more carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon ring having 5 or more carbon atoms, preferably 5 or more and 7 or less carbon atoms are substituted with a hetero atom such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. A heteroalicyclic (meth) acrylate having one or more cyclic groups can also be preferably used. Examples of the heteroalicyclic (meth) acrylate include (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, and the like. Is mentioned.

本発明においては、上記の中でも(メタ)アクリロイルモルフォリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン骨格を有する(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート類が特に好ましく、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン骨格を有する(メタ)アクリレートであるジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレートが吸水時の弾性率低下が小さいため、特に好ましい。   In the present invention, among the above, (meth) acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, alicyclic such as (meth) acrylate having a tricyclodecane skeleton (Meth) acrylates are particularly preferable, and isocyclonyl (meth) acrylate and dicyclopentadienyl (meth) acrylate, which is a (meth) acrylate having a tricyclodecane skeleton, are particularly preferable because the decrease in elastic modulus upon water absorption is small.

また多官能(メタ)アクリレート化合物としては、脂肪族ポリ(メタ)アクリレート類、脂環式ポリ(メタ)アクリレート類、芳香族ポリ(メタ)アクリレート類等が挙げられ、具体例としては、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2−ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリイソブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA、ビスフェノールF、或いはビスフェノールS等のビスフェノールのエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、或いはブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA、ビスフェノールF、或いはビスフェノールS等のビスフェノールの水添誘導体のジ(メタ)アクリレート、各種ポリエーテルポリオール化合物と他の化合物とのブロック、或いはランダム共重合体のジ(メタ)アクリレート等のポリエーテル骨格を有する(メタ)アクリレート類、及び、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、メチルオクタンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]プロパン、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、p−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ]キシリレン、4,4’−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ]ジフェニルスルホン等の2官能の(メタ)アクリレート類、トリメチロールプロパントリス(メタ)アクリレート、グリセリントリス(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリス(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート類、ペンタエリスリトールテトラキス(メタ)アクリレート等の4官能の(メタ)アクリレート類、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の5官能以上の(メタ)アクリレート類等の不定多官能の(メタ)アクリレート類等が挙げられる。 Polyfunctional (meth) acrylate compounds include aliphatic poly (meth) acrylates, alicyclic poly (meth) acrylates, aromatic poly (meth) acrylates, and specific examples include polyethylene glycol. Di (meth) acrylate, 1,2-polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,2-polybutylene glycol di (meth) ) Of alkylene oxide adducts such as ethylene oxide, propylene oxide or butylene oxide of bisphenol such as acrylate, polyisobutylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S Di (meth) acrylates of hydrogenated derivatives of bisphenols such as (meth) acrylate, bisphenol A, bisphenol F, or bisphenol S, blocks of various polyether polyol compounds with other compounds, or random copolymer di (meta) ) (Meth) acrylates having a polyether skeleton such as acrylate, and hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, methyloctanediol di (meth) acrylate , Decanediol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyphenyl] propane, 2,2-bis [4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] propane, bis ( Hydro Methyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decane = di (meth) acrylate, p- bis [beta-(meth) acryloyloxy ethyl thio] xylylene, 4,4'-bis [beta-(meth Trifunctional (meth) acrylates such as bifunctional (meth) acrylates such as) acryloyloxyethylthio] diphenylsulfone, trimethylolpropane tris (meth) acrylate, glycerin tris (meth) acrylate, pentaerythritol tris (meth) acrylate Indefinite polyfunctional (meth) acrylates such as acrylates, tetrafunctional (meth) acrylates such as pentaerythritol tetrakis (meth) acrylate, pentafunctional (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate And the like.

上記の中でも、架橋生成反応の制御性から2官能の(メタ)アクリレート類が好ましい。2官能の(メタ)アクリレート類としては脂肪族ポリ(メタ)アクリレートが好ましく、さらには、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、メチルオクタンジオールジ(メタ)アクリレートが特に好ましい。また保護層の環境温度変化に伴う変形の抑制、及び表面硬度の向上等を目的として、3官能以上の(メタ)アクリレート類を好ましく用いることもできる。3官能以上の(メタ)アクリレート類としては、上記に例示されたトリメチロールプロパントリス(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリス(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、及び、イソシアヌレート骨格を有する3官能の(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記の中でも特に、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート等の脂環式多官能(メタ)アクリレートが保護層の吸水時の弾性率低下が小さいため好ましい。
Among these, bifunctional (meth) acrylates are preferable from the viewpoint of controllability of the crosslinking formation reaction. As the bifunctional (meth) acrylates, aliphatic poly (meth) acrylates are preferable, and hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, and methyloctanediol di (meth) acrylate are particularly preferable. . Trifunctional or higher functional (meth) acrylates can also be preferably used for the purpose of suppressing deformation accompanying changes in the environmental temperature of the protective layer and improving surface hardness. Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylates include trimethylolpropane tris (meth) acrylate, pentaerythritol tris (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like exemplified above and an isocyanurate skeleton. And trifunctional (meth) acrylates.
Among these, alicyclic polyfunctional (meth) acrylates such as bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = di (meth) acrylate are elastic modulus of the protective layer upon water absorption. It is preferable because the decrease is small.

上記多官能モノマーの分子量は、硬化性及び表面硬度を向上させる点から通常300以下であることが好ましく、より好ましくは280以下である。逆に、硬化収縮が小さくなる点から好ましくは200以上、より好ましくは250以上である。   The molecular weight of the polyfunctional monomer is usually preferably 300 or less, more preferably 280 or less, from the viewpoint of improving curability and surface hardness. On the other hand, it is preferably 200 or more, more preferably 250 or more, from the point of decreasing curing shrinkage.

なお、保護層の形成に用いられる放射線硬化性組成物においては、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)、及びそれ以外の(メタ)アクリレート化合物(B)の合計重量に対する、上記(a3)数平均分子量が400以上1500未満のポリオール及び(a4)数平均分子量が1500以上のポリオールの合計重量の割合、すなわち、
{(a3)+(a4)の重量}/{(A)+(B)の重量}
が所定の範囲内であることが好ましい。具体的には下限が通常0.03以上、より好ましくは0.08以上であり、上限が通常0.3以下、より好ましくは0.1以下である。この割合が小さすぎると、放射線硬化性組成物を硬化させたときに、その硬化収縮率が大きくなり過ぎ、光記録媒体を変形させることがある。逆に割合が大きすぎると、表面硬度が低下することがある。
In addition, in the radiation curable composition used for formation of a protective layer, the said (a3) number with respect to the total weight of the said urethane (meth) acrylate compound (A) and the other (meth) acrylate compound (B). The ratio of the total weight of the polyol having an average molecular weight of 400 or more and less than 1500 and (a4) the polyol having a number average molecular weight of 1500 or more,
{(Weight of (a3) + (a4)} / {weight of (A) + (B)}
Is preferably within a predetermined range. Specifically, the lower limit is usually 0.03 or more, more preferably 0.08 or more, and the upper limit is usually 0.3 or less, more preferably 0.1 or less. If this ratio is too small, when the radiation curable composition is cured, its curing shrinkage rate becomes too large, and the optical recording medium may be deformed. On the other hand, if the ratio is too large, the surface hardness may decrease.

<その他>
保護層の形成に用いられる放射線硬化性組成物は、さらに、放射線(例えば、活性エネルギー線、紫外線、電子線等)によって進行する重合反応を開始するための、重合開始剤や補助成分等を含有してもよい。
<Others>
The radiation curable composition used for forming the protective layer further contains a polymerization initiator, auxiliary components, etc. for initiating a polymerization reaction that proceeds by radiation (for example, active energy rays, ultraviolet rays, electron beams, etc.). May be.

〔重合開始剤〕
重合開始剤としては、光によりラジカルを発生する性質を有する化合物であるラジカル発生剤が一般的であり、本発明の効果を著しく損なわない限り、公知の何れのラジカル発生剤でも使用可能であり、さらにラジカル発生剤と増感剤との併用系であってもよい。
(Polymerization initiator)
As the polymerization initiator, a radical generator that is a compound having a property of generating radicals by light is common, and any known radical generator can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Furthermore, a combined system of a radical generator and a sensitizer may be used.

このようなラジカル発生剤の具体例としては、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエート、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、2−エチルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロパン−1−オン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、2−ヒドロキシ−1−〔4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル〕−2−メチル−プロパン−1−オン等が挙げられる。   Specific examples of such radical generators include benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4-phenylbenzophenone, methylorthobenzoylbenzoate, thioxanthone, diethylthioxanthone, and isopropylthioxanthone. Chlorothioxanthone, 2-ethylanthraquinone, t-butylanthraquinone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin methyl ether, Benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, methylbenzoylformate, 2-methyl-1- [ -(Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2, 4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -Phenyl] -2-methyl-propan-1-one and the like.

これらの中でも、硬化速度が速く架橋密度を十分に上昇させることができることから、ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、及び、2−ヒドロキシ−1−〔4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル〕−2−メチル−プロパン−1−オンが好ましく、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、及び、2−ヒドロキシ−1−〔4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル〕−2−メチル−プロパン−1−オンがさらに好ましい。   Among these, since the curing speed is high and the crosslinking density can be sufficiently increased, benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2, 4, 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl] -2-methyl-propan-1-one 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and 2-hydroxy-1- [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -Phenyl] -2-methyl-propan-1-one is more preferred Arbitrariness.

なお、本発明の光記録媒体が、波長380〜800nmのレーザーを光源とする装置に用いられるものである場合には、読み取りに必要なレーザー光が十分に上記保護層を通過するように、ラジカル発生剤の種類及び使用量を選択して用いることが好ましい。この場合、放射線硬化性組成物にレーザー光を吸収し難い短波長感光型のラジカル発生剤を使用することが特に好ましい。   In the case where the optical recording medium of the present invention is used in an apparatus using a laser having a wavelength of 380 to 800 nm as a light source, radicals are used so that the laser light necessary for reading sufficiently passes through the protective layer. It is preferable to select and use the type and amount of the generator. In this case, it is particularly preferable to use a short wavelength photosensitive radical generator that hardly absorbs laser light in the radiation curable composition.

上記のラジカル発生剤のうち、このような短波長感光型のラジカル発生剤としては、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエート、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート等が挙げられ、中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の水酸基を有するものが特に好ましい。   Among the above radical generators, such short wavelength photosensitive radical generators include benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-phenylbenzophenone, methylorthobenzoylbenzoate, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy -2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, methyl benzoyl formate, etc. Among them, those having a hydroxyl group such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone are particularly preferable.

これらのラジカル発生剤は、1種を単独で用いてもよく、また、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。また、ラジカル発生剤の使用量は、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)、及びそれ以外の(メタ)アクリレート化合物(B)の合計100重量部に対し、通常0.1重量部以上、好ましくは1重量部以上、さらに好ましくは2重量部以上、また、通常10重量部以下、好ましくは7重量部以下、さらに好ましくは5重量部以下、最も好ましくは4重量部以下である。使用量が少なすぎると、放射線硬化性組成物を十分に硬化させることができなくなる傾向となり、一方、多すぎると、重合反応が急激に進行して、光学歪みの増大をもたらすだけでなく色相も悪化する傾向がある。   One of these radical generators may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination. Moreover, the usage-amount of a radical generator is normally 0.1 weight part or more with respect to a total of 100 weight part of the said urethane (meth) acrylate compound (A) and the other (meth) acrylate compound (B), Preferably Is 1 part by weight or more, more preferably 2 parts by weight or more, and usually 10 parts by weight or less, preferably 7 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, and most preferably 4 parts by weight or less. If the amount used is too small, the radiation curable composition tends to be unable to be cured sufficiently, while if too large, the polymerization reaction proceeds rapidly, causing not only an increase in optical distortion but also a hue. There is a tendency to get worse.

また、これらのラジカル発生剤と共に、例えば、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸アミル、4−ジメチルアミノアセトフェノン等の公知の増感剤を併用してもよい。増感剤は1種を単独で用いてもよく、また、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。   In addition to these radical generators, for example, a known sensitizer such as methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, amyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminoacetophenone, etc. is used in combination. May be. A sensitizer may be used individually by 1 type, and may be used 2 or more types by arbitrary ratios and combinations.

また特に重合開始剤としてベンゾフェノン系重合開始剤を用いる場合、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)、及びそれ以外の(メタ)アクリレート化合物(B)の総和100重量部に対して、ベンゾフェノン系重合開始剤は好ましくは2重量部以下、より好ましくは1重量部以下、また、通常0.5重量部以上用いる。ベンゾフェノン系重合開始剤量が多いと、保護層中の揮発成分が多くなり、高温、高湿環境下での膜厚が減少する場合があるためである。   In particular, when a benzophenone polymerization initiator is used as the polymerization initiator, the benzophenone polymerization is performed with respect to 100 parts by weight of the total of the urethane (meth) acrylate compound (A) and the other (meth) acrylate compound (B). The initiator is preferably used in an amount of 2 parts by weight or less, more preferably 1 part by weight or less, and usually 0.5 parts by weight or more. This is because if the amount of the benzophenone-based polymerization initiator is large, the volatile components in the protective layer increase, and the film thickness in a high temperature and high humidity environment may decrease.

なお、放射線として、電子線によって重合反応を開始させる場合には、上記ラジカル発生剤を用いることも出来るが、ラジカル発生剤やその他の開始剤を使用しない方が好ましい。重合開始剤を使用しなくても十分硬化するためである。また、上述したラジカル発生剤以外の重合開始剤としては、酸化剤等が挙げられる。   In addition, when starting a polymerization reaction with an electron beam as radiation, although the said radical generator can also be used, it is preferable not to use a radical generator and other initiators. This is because sufficient curing can be achieved without using a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator other than the radical generator described above include an oxidizing agent.

これらの重合開始剤は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   One of these polymerization initiators may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio.

〔補助成分〕
また保護層の形成に用いられる放射線硬化性組成物には、本発明の効果を著しく損なわない限りにおいて、必要に応じて添加剤等の補助成分が含有されていてもよい。その補助成分の具体例としては、酸化防止剤、熱安定剤、或いは光吸収剤等の安定剤類;ガラス繊維、ガラスビーズ、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、マイカ、タルク、カオリン、金属繊維、金属粉等のフィラー類;炭素繊維、カーボンブラック、黒鉛、カーボンナノチューブ、C60等のフラーレン類等の炭素材料類(フィラー類、炭素材料類を総称して無機成分と称する。);帯電防止剤、可塑剤、離型剤、消泡剤、レベリング剤、沈降防止剤、界面活性剤、チクソトロピー付与剤等の改質剤類;顔料、染料、色相調整剤等の着色剤類;モノマー及び/またはそのオリゴマー、または無機成分の合成に必要な硬化剤、触媒、硬化促進剤類等が挙げられ、これらの補助成分は、1種を単独で用いてもよく、また、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。これら補助成分の含有量は、放射線硬化性組成物の通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下、さらに好ましくは5重量%以下である。
[Auxiliary ingredients]
In addition, the radiation curable composition used for forming the protective layer may contain auxiliary components such as additives as necessary, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Specific examples of the auxiliary components include stabilizers such as antioxidants, heat stabilizers, or light absorbers; glass fibers, glass beads, silica, alumina, zinc oxide, titanium oxide, mica, talc, kaolin, metal fibers, fillers metal powders and the like; carbon fiber, carbon black, graphite, carbon nanotube, a carbon material such as fullerene such as C 60 (fillers, referred to as an inorganic component are collectively a carbon material such.); charge Modifiers such as inhibitors, plasticizers, mold release agents, antifoaming agents, leveling agents, anti-settling agents, surfactants, thixotropy imparting agents; colorants such as pigments, dyes, hue modifiers; monomers and And / or oligomers thereof, or curing agents, catalysts, curing accelerators, and the like necessary for the synthesis of the inorganic component. These auxiliary components may be used alone or in combination of two or more. of It may be used at a rate and in combination. The content of these auxiliary components is usually 20% by weight or less, preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less of the radiation curable composition.

これらの中で、フィラー類としてのシリカについて詳述する。上記放射線硬化性組成物に用いるシリカとは、珪素酸化物一般を指し、珪素と酸素の比率や、結晶であるかアモルファスであるかは問わない。上記シリカ粒子としては、工業的に生産されている、溶媒中に分散されている状態のシリカ粒子、または粉体のシリカ粒子;アルコキシシラン等の原料から誘導、合成されたシリカ粒子等を挙げることができる。中でも、上記放射線硬化性組成物に用いる場合、混合や分散のしやすさから、溶媒中に分散されている状態のシリカ粒子、または、アルコキシシラン等の原料から誘導、合成されたシリカ粒子が好ましい。   Among these, silica as fillers will be described in detail. Silica used in the radiation curable composition refers to silicon oxide in general, and it does not matter whether the ratio of silicon and oxygen is crystalline or amorphous. Examples of the silica particles include industrially produced silica particles dispersed in a solvent, or powdered silica particles; silica particles derived and synthesized from raw materials such as alkoxysilanes, and the like. Can do. Among these, when used in the radiation curable composition, silica particles dispersed in a solvent or silica particles derived and synthesized from a raw material such as alkoxysilane are preferable because of easy mixing and dispersion. .

上記シリカ粒子の粒径は任意であるが、TEM(透過型電子顕微鏡)等を用いた形態観察によって測定される数平均粒径として、好ましくは0.5nm以上、さらに好ましくは1nm以上であり、また、好ましくは50nm以下、より好ましくは40nm以下、さらに好ましくは30nm以下、特に好ましくは15nm以下、より好ましくは12nm以下である。シリカ粒子としては超微粒子であることが好ましいが、小さすぎると、超微粒子の凝集性が極端に増大して、硬化物の透明性や機械的強度が極端に低下する傾向があり、量子効果による特性が顕著でなくなる傾向があるためである。   Although the particle diameter of the silica particles is arbitrary, the number average particle diameter measured by morphological observation using a TEM (transmission electron microscope) or the like is preferably 0.5 nm or more, more preferably 1 nm or more, Further, it is preferably 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, still more preferably 30 nm or less, particularly preferably 15 nm or less, and more preferably 12 nm or less. The silica particles are preferably ultrafine particles, but if they are too small, the cohesiveness of the ultrafine particles is extremely increased, and the transparency and mechanical strength of the cured product tend to be extremely decreased. This is because the characteristics tend not to be remarkable.

(保護層の形成方法)
保護層の形成に用いられる放射線硬化性組成物は、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)、上記ウレタン(メタ)アクリレート化合物(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)、及び必要に応じて用いられる上記重合開始剤や補助成分等を、放射線を遮断した状態で、攪拌し均一に混合することにより調製される。その際の各成分の混合順序としては、特に限定されるものではないが、低粘度の液体成分に高粘度の液体成分及び/または固体成分を加え攪拌することが好ましい。また重合開始剤は、最後に加えることが好ましい。
(Method for forming protective layer)
The radiation curable composition used for forming the protective layer includes the urethane (meth) acrylate compound (A), a (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate compound (A), and as necessary. The polymerization initiator and auxiliary components used in the above are prepared by stirring and mixing uniformly in a state where radiation is blocked. The order of mixing the components at that time is not particularly limited, but it is preferable to add a high viscosity liquid component and / or a solid component to a low viscosity liquid component and stir. The polymerization initiator is preferably added last.

また、その際の攪拌条件は、特に限定されるものではない。攪拌温度としては、通常常温とするが、通常90℃以下、好ましくは70℃以下の温度に加熱してもよい。攪拌速度としては、通常100rpm以上、好ましくは300rpm以上、また、通常1000rpm以下とし、攪拌時間としては、通常10秒以上、好ましくは3時間以上、また、通常24時間以下とする。   Moreover, the stirring conditions in that case are not specifically limited. The stirring temperature is usually normal temperature, but may be heated to a temperature of usually 90 ° C. or lower, preferably 70 ° C. or lower. The stirring speed is usually 100 rpm or more, preferably 300 rpm or more, and usually 1000 rpm or less. The stirring time is usually 10 seconds or more, preferably 3 hours or more, and usually 24 hours or less.

また、上記保護層は、上記放射線硬化性組成物を後述する記録再生機能層上に塗布し、放射線(活性エネルギー線や電子線)を照射して重合反応を開始させる、いわゆる「放射線硬化」することによって得られる。上記塗布方法に制限はなく、例えばスピンコート法等、一般的な方法とすることができる。   The protective layer is so-called “radiation-cured” in which the radiation-curable composition is applied onto a recording / reproducing functional layer, which will be described later, and a polymerization reaction is started by irradiation with radiation (active energy rays or electron beams). Can be obtained. There is no restriction | limiting in the said coating method, For example, it can be set as general methods, such as a spin coat method.

また上記放射線硬化性組成物の重合反応の形式に制限はなく、例えばラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、配位重合等の公知の重合形式を用いることができる。これら重合形式の例示のうち、特に好ましい重合形式はラジカル重合である。理由は定かではないが、重合反応の開始が重合系内で均質かつ短時間に進行することによる生成物の均質性によるものと推定される。   Moreover, there is no restriction | limiting in the form of the polymerization reaction of the said radiation-curable composition, For example, well-known polymerization forms, such as radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization, and coordination polymerization, can be used. Among these examples of polymerization modes, a particularly preferable polymerization mode is radical polymerization. The reason is not clear, but it is presumed to be due to the homogeneity of the product due to the initiation of the polymerization reaction being homogeneous and proceeding in a short time within the polymerization system.

ここで、上記放射線とは、必要とする重合反応を開始する重合開始剤に作用して上記重合反応を開始する化学種を発生させる働きを有する電磁波(ガンマ線、エックス線、紫外線、可視光線、赤外線、マイクロ波等)、または粒子線(電子線、α線、中性子線、各種原子線等)である。本発明において好ましく用いられる放射線の一例は、エネルギーと汎用光源とを使用可能であることから、紫外線、可視光線、及び電子線が好ましく、特に好ましくは紫外線及び電子線である。   Here, the radiation refers to an electromagnetic wave (gamma ray, X-ray, ultraviolet ray, visible ray, infrared ray, which acts on a polymerization initiator that initiates a necessary polymerization reaction and generates a chemical species that initiates the polymerization reaction. Microwave, etc.) or particle beam (electron beam, α-ray, neutron beam, various atomic beams, etc.). An example of the radiation preferably used in the present invention is preferably ultraviolet rays, visible rays, and electron beams, and particularly preferably ultraviolet rays and electron beams because energy and a general-purpose light source can be used.

放射線として紫外線を用いる場合、紫外線によりラジカルを発生する光ラジカル発生剤を上記重合開始剤として使用することが好ましい。この時、必要に応じて増感剤を併用してもよい。上記紫外線の波長は、通常200nm以上、好ましくは240nm以上、また、通常400nm以下、好ましくは350nm以下の範囲である。   When ultraviolet rays are used as radiation, it is preferable to use a photo radical generator that generates radicals by ultraviolet rays as the polymerization initiator. At this time, you may use a sensitizer together as needed. The wavelength of the ultraviolet ray is usually 200 nm or more, preferably 240 nm or more, and usually 400 nm or less, preferably 350 nm or less.

紫外線を照射する装置としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、マイクロ波によって紫外線を発生させる構造の紫外線ランプ等、公知の装置を好ましく用いることができる。上記装置の出力は通常10W/cm以上、好ましくは30W/cm以上、また、通常200W/cm以下、好ましくは180W/cm以下であり、上記装置は、被照射体に対して通常5cm以上、好ましくは30cm以上、また、通常80cm以下、好ましくは60cm以下の距離に設置するようにすると、被照射体の光劣化や熱劣化、熱変形等が少なく、好ましい。   As a device for irradiating ultraviolet rays, a known device such as a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an ultraviolet lamp having a structure for generating ultraviolet rays by microwaves can be preferably used. The output of the apparatus is usually 10 W / cm or more, preferably 30 W / cm or more, and usually 200 W / cm or less, preferably 180 W / cm or less. The apparatus is usually 5 cm or more, preferably Is preferably set at a distance of 30 cm or more, and usually 80 cm or less, preferably 60 cm or less, because there is little light deterioration, thermal deterioration, thermal deformation, etc. of the irradiated object.

上記放射線硬化性組成物は、電子線によっても好ましく硬化することができ、機械特性、特に引張伸び特性に優れた硬化物を得ることができる。電子線を用いる場合、その光源及び照射装置は高価であるものの、重合開始剤の使用が省略可能であること、及び酸素による重合阻害を受けず、従って表面硬度が良好となるという利点がある。電子線照射に用いられる電子線照射装置としては、特にその方式に制限はないが、例えばカーテン型、エリアビーム型、ブロードビーム型、パルスビーム型等が挙げられる。電子線照射の際の加速電圧は通常10kV以上、好ましくは100kV以上、また、通常1000kV以下、好ましくは200kV以下が好ましい。   The radiation curable composition can be cured preferably by an electron beam, and a cured product having excellent mechanical properties, particularly tensile elongation properties, can be obtained. When an electron beam is used, the light source and the irradiation device are expensive, but there are advantages that the use of a polymerization initiator can be omitted and that the polymerization is not hindered by oxygen and therefore the surface hardness is good. An electron beam irradiation apparatus used for electron beam irradiation is not particularly limited, and examples thereof include a curtain type, an area beam type, a broad beam type, and a pulse beam type. The acceleration voltage upon electron beam irradiation is usually 10 kV or more, preferably 100 kV or more, and usually 1000 kV or less, preferably 200 kV or less.

これらの放射線は、照射強度を、通常0.1J/cm2 以上、好ましくは0.2J/cm2 以上、また、通常20J/cm2 以下、好ましくは10J/cm2 以下、より好ましくは5J/cm2 以下、さらに好ましくは3J/cm2 以下、特に好ましくは2J/cm2 以下で照射する。照射強度がこの範囲内であれば、放射線硬化性組成物の種類によって適宜選択可能である。 These radiation, the irradiation intensity, usually 0.1 J / cm 2 or more, preferably 0.2 J / cm 2 or more, and generally 20 J / cm 2 or less, preferably 10J / cm 2 or less, more preferably 5 J / Irradiation is performed at cm 2 or less, more preferably 3 J / cm 2 or less, and particularly preferably 2 J / cm 2 or less. If irradiation intensity is in this range, it can select suitably by the kind of radiation-curable composition.

放射線の照射時間は通常1秒以上、好ましくは10秒以上、また、通常3時間以下、反応促進と生産性の点で好ましくは1時間以下である。放射線の照射エネルギーや照射時間が極端に少ない場合、重合が不完全なため保護層の耐熱性、機械特性が十分に発現されない場合がある。また、逆に極端に過剰な場合は黄変等光による色相悪化に代表される劣化を生じる場合がある。   The irradiation time of radiation is usually 1 second or longer, preferably 10 seconds or longer, and usually 3 hours or shorter, and preferably 1 hour or shorter from the viewpoint of reaction promotion and productivity. When the irradiation energy or irradiation time of radiation is extremely small, the heat resistance and mechanical properties of the protective layer may not be sufficiently exhibited due to incomplete polymerization. On the other hand, when the amount is excessively large, deterioration such as hue deterioration due to light such as yellowing may occur.

上記放射線の照射は、一段階で照射してもよく、或いは複数段階で照射してもよい。その線源としては、通常、放射線が全方向に広がる拡散線源を用いる。放射線の照射は、通常、放射線硬化性組成物が塗布されたディスクを固定静置した状態、またはコンベアで搬送された状態で、放射線源を固定静置して行なう。   The irradiation with the radiation may be performed in one stage or may be performed in a plurality of stages. As the radiation source, a diffusion radiation source in which radiation spreads in all directions is usually used. The irradiation of radiation is usually carried out with the radiation source fixed and stationary in a state where the disk coated with the radiation curable composition is fixed and stationary or conveyed by a conveyor.

[ハードコート層]
本発明の光記録媒体は、保護層の上にハードコート層が形成されている。ハードコート層は、表面硬度がHB以上のものであれば、その種類は特に限定されず、一般的な光記録媒体におけるハードコート層として公知のものを用いることができる。また本発明において上記表面硬度は好ましくはB以上、さらに好ましくはHB以上、更に好ましくはF以上、最も好ましくはH以上である。本発明でいうハードコート層の表面硬度とは、光記録媒体(樹脂基板、記録再生機能層、保護層、及びハードコート層を積層した状態)のハードコート層表面について、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験により測定した表面硬度をいうこととする。
[Hard coat layer]
In the optical recording medium of the present invention, a hard coat layer is formed on the protective layer. The type of the hard coat layer is not particularly limited as long as the surface hardness is HB or more, and a known hard coat layer can be used as a hard coat layer in a general optical recording medium. In the present invention, the surface hardness is preferably B or more, more preferably HB or more, further preferably F or more, and most preferably H or more. The surface hardness of the hard coat layer as used in the present invention refers to a pencil conforming to JIS K5400 for the hard coat layer surface of an optical recording medium (a state in which a resin substrate, a recording / reproducing functional layer, a protective layer, and a hard coat layer are laminated). It shall be the surface hardness measured by a hardness test.

また上記ハードコート層は、波長550nmにおける光線透過率が80%以上であることが好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは89%以上である。光線透過率の測定は、上述した保護層の光線透過率の測定方法と同様とされる。
また水に対する接触角が90°以上であることが好ましく、より好ましくは100°以上である。これにより、光記録媒体の防汚性を高いものとすることができる。水に対する接触角の測定は、接触角計等を用いた公知の方法で実施することができる。
The hard coat layer preferably has a light transmittance at a wavelength of 550 nm of 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 89% or more. The measurement of the light transmittance is the same as the method for measuring the light transmittance of the protective layer described above.
Moreover, it is preferable that the contact angle with respect to water is 90 degrees or more, More preferably, it is 100 degrees or more. Thereby, the antifouling property of the optical recording medium can be increased. The measurement of the contact angle with respect to water can be carried out by a known method using a contact angle meter or the like.

上記ハードコート層の膜厚は、通常0.5μm以上、好ましくは1μm以上、より好ましくは1.5μm以上とされる。また通常5μm以下、好ましくは3μm以下、より好ましくは2μm以下とされる。   The film thickness of the hard coat layer is usually 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more, more preferably 1.5 μm or more. Further, it is usually 5 μm or less, preferably 3 μm or less, more preferably 2 μm or less.

本発明のハードコート層は、上述の水に対する接触角が高いこと等の防汚性を有していることが好ましい。防汚性を有するハードコート材料としては、耐汚染性付与剤としてシリコーン化合物やフッ素化合物を含有し、かつ多官能(メタ)アクリレートモノマーやエポキシ化合物、無機ナノ粒子等の無機成分を含有する放射線硬化性組成物が好ましく用いられる。耐汚染性付与剤については具体的には、オルガノポリシロキサン骨格等のシリコーン骨格を有する重合体、シリコーン骨格とアクリル基とを有する放射線硬化性化合物、シリコーン系界面活性剤等のシリコーン化合物、フッ素原子を含有する重合体、フッ素原子とアクリル基とを有する放射線硬化性化合物、フッ素系界面活性剤等のフッ素化合物が挙げられる。   The hard coat layer of the present invention preferably has antifouling properties such as a high contact angle with respect to the water. Hard coating materials with antifouling properties include radiation curing that contains silicone compounds and fluorine compounds as antifouling agents and contains inorganic components such as polyfunctional (meth) acrylate monomers, epoxy compounds, and inorganic nanoparticles. The composition is preferably used. Specific examples of the stain resistance imparting agent include a polymer having a silicone skeleton such as an organopolysiloxane skeleton, a radiation curable compound having a silicone skeleton and an acrylic group, a silicone compound such as a silicone surfactant, and a fluorine atom. , Fluorine-containing compounds such as a radiation curable compound having a fluorine atom and an acryl group, and a fluorine-based surfactant.

ただし、青色レーザーを用いる光記録媒体等の高記録密度媒体の場合は、そのレーザースポット径が小さいため、指紋や塵、埃などの汚れに敏感である。特に指紋のように有機物を含む汚れについては、汚れが光記録媒体のレーザー光入射側の表面に付着した場合、レーザーによる記録/再生エラー等の深刻な影響を生じる場合があり、またその除去もしにくいことがあることから、これらの点に留意することが好ましい。   However, in the case of a high recording density medium such as an optical recording medium using a blue laser, since the laser spot diameter is small, it is sensitive to dirt such as fingerprints, dust, and dust. In particular, dirt containing organic matter such as fingerprints may cause serious effects such as laser recording / playback errors if the dirt adheres to the surface of the optical recording medium on the laser beam incident side, and it may be removed. It is preferable to pay attention to these points because they may be difficult.

本発明において用いることのできる防汚ハードコート層形成用材料としては、基本的にはポリシロキサンまたはフッ素含有基を含む耐汚染性付与剤を含む活性エネルギー線硬化性ハードコート剤であれば特に制限されないが、耐汚染性付与剤に活性エネルギー線硬化性が付与されていることが好ましい。具体例としては、以下が挙げられる。
(1)末端に活性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキサン化合物および/またはフッ素化合物を含み、かつ無機成分を含まない活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
(2)活性エネルギー線硬化性基、およびポリシロキサンユニットおよび/または有機フッ素基ユニットを含む重合体を含有する活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
(3)側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキサン化合物および/またはフッ素化合物を含有する活性エネルギー線硬化性ハードコート剤。
The antifouling hard coat layer forming material that can be used in the present invention is basically limited as long as it is basically an active energy ray-curable hard coat agent containing a polysiloxane or a stain resistance imparting agent containing a fluorine-containing group. However, it is preferable that the contamination resistance imparting agent is imparted with active energy ray curability. Specific examples include the following.
(1) An active energy ray-curable hard coat agent containing a polysiloxane compound having an active energy ray-curable group at the terminal and / or a fluorine compound and not containing an inorganic component.
(2) An active energy ray-curable hard coating agent containing an active energy ray-curable group and a polymer containing a polysiloxane unit and / or an organic fluorine group unit.
(3) An active energy ray-curable hard coating agent containing a polysiloxane compound having an active energy ray-curable group in the side chain and / or a fluorine compound.

以下に、上記(1)〜(3)を詳述する。
活性エネルギー線硬化性ハードコート剤(1)は、末端に活性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキサン化合物および/またはフッ素化合物を0.01重量部以上、10重量部以下、1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを30重量%以上含有する(メタ)アクリレート組成物を88重量部以上、99.5重量部以下、光重合開始剤を0.1重量部以上、10重量部以下(合計100重量部)を必須成分として含むことが好ましい。また、さらに必要に応じ、粘度や塗布性などを調節するためにこれら必須成分を溶解しうる有機溶剤を加えてもよい。
Below, said (1)-(3) is explained in full detail.
The active energy ray-curable hard coat agent (1) comprises 0.01 to 10 parts by weight of a polysiloxane compound and / or fluorine compound having an active energy ray-curable group at the terminal, in one molecule. 88 parts by weight or more and 99.5 parts by weight or less of (meth) acrylate composition containing 30% by weight or more of (meth) acrylate having the above (meth) acryloyl groups, and 0.1 parts by weight or more of photopolymerization initiator. It is preferable to contain 10 parts by weight or less (100 parts by weight in total) as an essential component. Further, if necessary, an organic solvent capable of dissolving these essential components may be added in order to adjust the viscosity, coating property and the like.

末端に活性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキサン化合物としては、片末端あるいは両末端にアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するポリシロキサンであれば、特に限定されず、1種類を単独で、または2種類以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。上記の中でも、数平均分子量500以上、10000以下の、両末端に(メタ)アクリロイル基を有するポリジメチルシロキサンが好ましい。
また、末端に活性エネルギー線基を有するフッ素化合物としては、片末端あるいは両末端にアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するパーフルオロアルキル化合物、パーフルオロアルキレン化合物、パーフルオロアルキレンポリエーテル化合物等を例示することができ、これらを1種単独で、または2種類以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。
The polysiloxane compound having an active energy ray-curable group at the end is not particularly limited as long as it is a polysiloxane having an acryloyl group or a methacryloyl group at one end or both ends, one type alone, or two or more types Can be used in any ratio and combination. Among these, polydimethylsiloxane having a number average molecular weight of 500 or more and 10,000 or less and having (meth) acryloyl groups at both ends is preferable.
Examples of the fluorine compound having an active energy ray group at the terminal include perfluoroalkyl compounds, perfluoroalkylene compounds, perfluoroalkylene polyether compounds having an acryloyl group or a methacryloyl group at one or both terminals. These can be used alone, or two or more can be used in any ratio and combination.

1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを30重量%以上含有する(メタ)アクリレート組成物は、他に1分子内に1個以上、2個以下の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを含んでもよい。
1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを例示すると、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ポリエステルアクリレート類、多官能ウレタンアクリレート類、ポリエポキシアクリレート類、イソシアヌレート環を有するトリエトキシアクリレート(例えば、東亞合成製、アロニックスM315、M313等)が挙げられ、これらを1種単独で、または2種類以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。もちろんこれらに限定されるものではないことはいうまでもない。
A (meth) acrylate composition containing 30% by weight or more of (meth) acrylate having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is one or more and 2 or less (meta) in one molecule. ) A (meth) acrylate having an acryloyl group may be included.
Examples of (meth) acrylate having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule include pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate. , Polyester acrylates, polyfunctional urethane acrylates, polyepoxy acrylates, triethoxy acrylate having an isocyanurate ring (for example, manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M315, M313, etc.). More than one type can be used in any ratio and combination. Of course, it is needless to say that the present invention is not limited to these.

1分子中に1個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、ブチルメタクリレートやステアリルアクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルアクリレートやイソボルニルメタクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどのヘテロ原子含有環状構造含有アクリレート、等を挙げることができるが、その他芳香環を有する(メタ)アクリレート、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール鎖を有する(メタ)アクリレート等も好ましく用いることが可能である。これらは1種単独で、または2種類以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。もちろんこれら以外のものを排除するものではない。   Examples of (meth) acrylate compounds having one (meth) acryloyl group per molecule include alkyl (meth) acrylates such as butyl methacrylate and stearyl acrylate, and alicyclic (meth) acrylates such as cyclohexyl acrylate and isobornyl methacrylate. Examples include acrylates, heteroatom-containing cyclic structure-containing acrylates such as tetrahydrofurfuryl acrylate, etc., but other (meth) acrylates having an aromatic ring, (meth) acrylates having a hydroxy group, polyalkylene glycol chains ( A (meth) acrylate or the like can also be preferably used. These can be used singly or in combination of two or more in any ratio and combination. Of course, nothing other than these is not excluded.

1分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、ヘキサンジオールジアクリレート等の脂肪族または脂環式ジオールのジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート等のポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジアクリレート、ポリウレタンジアクリレート、二官能のエポキシアクリレート等が好ましく、これらを1種単独で、または2種類以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。もちろんこれら以外のものを排除するものではない。   Examples of the (meth) acrylate compound having two (meth) acryloyl groups in one molecule include aliphatic or cycloaliphatic di (meth) acrylates such as hexanediol diacrylate, and polyalkylenes such as polyethylene glycol diacrylate. Glycol di (meth) acrylate, polyester diacrylate, polyurethane diacrylate, bifunctional epoxy acrylate, and the like are preferable, and these can be used alone or in combination of two or more in any ratio and combination. Of course, nothing other than these is not excluded.

光重合開始剤としては、公知のものを広く採用できるが、好ましくは、アルキルフェノン型化合物(α−ヒドロキシアセトフェノン系、α−アミノアセトフェノン系、ベンジルケタール系)、アシルホスフィンオキシド型化合物、オキシムエステル化合物、オキシフェニル酢酸エステル類、ベンゾインエ−テル類、フェニルギ酸エステル類、ケトン/アミン化合物等である。具体的には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、メチルベンゾイルフォルメート、ミヒラーズケトン、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等が好ましい。これらの光重合開始剤は2種以上を適宜に併用することもできる。   As the photopolymerization initiator, known ones can be widely used, but preferably an alkylphenone type compound (α-hydroxyacetophenone type, α-aminoacetophenone type, benzyl ketal type), acylphosphine oxide type compound, oxime ester compound. Oxyphenyl acetates, benzoin ethers, phenyl formates, ketone / amine compounds, and the like. Specifically, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin butyl ether, diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, 2, 4,6-trimethylbenzoindiphenylphosphine oxide, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Butan-1-one, methylbenzoylformate, Michler's ketone, isoamyl N, N-dimethylaminobenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and the like are preferable. Two or more of these photopolymerization initiators can be used in combination as appropriate.

溶剤で希釈する場合、アルコール類(エタノール、イソプロパノール、イソブタノール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、アルコキシ基を有するアルコール類(メトキシエタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、エーテル類(エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等)、エーテルエステル類(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−エトキシエチルアセテート等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル等)等、が好ましい例として挙げられ、また、これらを1種単独で、または2種以上を任意の比率及び組み合わせで混合して使用することができる。なお、他の成分との相溶性および/または均一分散性に優れるものを適宜選択することが好ましい。   When diluted with a solvent, alcohols (ethanol, isopropanol, isobutanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), alcohols having an alkoxy group (methoxyethanol, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl) Ethers), ethers (ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, etc.), ether esters (propylene glycol monomethyl ether acetate, 2-ethoxyethyl acetate, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), esters (acetic acid, etc.) Ethyl, propyl acetate, etc.) are preferable examples, and these are used alone or in combination of two or more in any ratio and combination. To be able to use. In addition, it is preferable to select suitably what is excellent in compatibility with other components and / or uniform dispersibility.

活性エネルギー線硬化性基およびポリシロキサンユニットおよび/または有機フッ素基ユニットを含む重合体を含有する活性エネルギー線硬化性ハードコート剤(2)は、活性エネルギー線硬化性基およびポリシロキサンユニットおよび/または有機フッ素基ユニットを含む重合体を0.1重量部以上、20重量部以下、1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを30重量%以上含有する(メタ)アクリレート組成物を79.8重量部以上、99.5重量部以下、及び光重合開始剤を0.1重量部以上、10重量部以下(合計100重量部)を必須成分として含むことが好ましい。なお、(メタ)アクリレート組成物全体の50重量%を越えない範囲で、例えばシリカ等の無機(酸化物)微粒子を含むように、有機無機ハイブリッド型の(メタ)アクリレートを加えてもよい。また、さらに必要に応じ、粘度や塗布性などを調節するためにこれら必須成分を溶解しうる有機溶剤を加えてもよい。   The active energy ray-curable hard coating agent (2) containing a polymer containing an active energy ray-curable group and a polysiloxane unit and / or an organic fluorine group unit comprises an active energy ray-curable group and a polysiloxane unit and / or 0.1 to 20 parts by weight of a polymer containing an organic fluorine group unit contains 30% by weight or more of (meth) acrylate having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule (meth) It is preferable that 79.8 parts by weight or more and 99.5 parts by weight or less of the acrylate composition, and 0.1 to 10 parts by weight (total 100 parts by weight) of the photopolymerization initiator are included as essential components. In addition, an organic-inorganic hybrid type (meth) acrylate may be added so as to include inorganic (oxide) fine particles such as silica or the like within a range not exceeding 50% by weight of the entire (meth) acrylate composition. Further, if necessary, an organic solvent capable of dissolving these essential components may be added in order to adjust the viscosity, coating property and the like.

活性エネルギー線硬化性基およびポリシロキサンユニットおよび/または有機フッ素基ユニットを含む重合体としては、特に限定されないが、例えばジメルカプトシリコンおよび/またはパーフルオロアルキル(メタ)アクリレートとエポキシ基含有(メタ)アクリレートを必須成分として共重合し、その共重合体のエポキシ基に(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸を付加させて得られる重合体等を好ましい例として例示することができるが、もちろんこれに限定されるわけではない。   The polymer containing an active energy ray-curable group and a polysiloxane unit and / or an organic fluorine group unit is not particularly limited. For example, dimercaptosilicon and / or perfluoroalkyl (meth) acrylate and an epoxy group-containing (meth) A preferred example is a polymer obtained by copolymerizing acrylate as an essential component and adding a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group to the epoxy group of the copolymer, but of course it is limited to this. It is not done.

活性エネルギー線硬化性ハードコート剤(3)は、側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキサン化合物および/またはフッ素化合物を0.01重量部以上、10重量部以下、1分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートを30重量%以上含有する(メタ)アクリレート組成物を88重量部以上、99.5重量部以下、及び光重合開始剤を0.1重量部以上、10重量部以下(合計100重量部)を必須成分として含むことが好ましい。なお、(メタ)アクリレート組成物全体の50重量%を越えない範囲で、シリカなどの無機(酸化物)微粒子を含むように、有機無機ハイブリッド型の(メタ)アクリレートを加えてもよい。また、さらに必要に応じ、粘度や塗布性などを調節するためにこれら必須成分を溶解しうる有機溶剤を加えてもよい。   The active energy ray-curable hard coating agent (3) comprises 0.01 parts by weight or more and 10 parts by weight or less of a polysiloxane compound and / or a fluorine compound having an active energy ray-curable group in the side chain. 88 parts by weight or more and 99.5 parts by weight or less of (meth) acrylate composition containing 30% by weight or more of (meth) acrylate having at least one (meth) acryloyl group, and 0.1% by weight of photopolymerization initiator It is preferable to contain 10 parts by weight or more and 100 parts by weight or less (total 100 parts by weight) as an essential component. An organic / inorganic hybrid type (meth) acrylate may be added so as to include inorganic (oxide) fine particles such as silica within a range not exceeding 50% by weight of the total (meth) acrylate composition. Further, if necessary, an organic solvent capable of dissolving these essential components may be added in order to adjust the viscosity, coating property and the like.

側鎖に活性エネルギー線硬化性基を有するポリシロキサン化合物および/またはフッ素化合物としては、特に限定はされないが、好ましい例をいくつか例示すると、側鎖に1分子あたり2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する、ポリ(ジメチルシロキサン−メチル(メタ)アクリロイルオキシアルキルシロキサン)またはポリ(ジメチルシロキサン−メチル(メタ)アクリロイルシロキサン、ポリ(ジメチルシロキサン−メチル(メタ)アクリロイルオキシアルキルオキシシロキサン)、や、側鎖に1分子あたり2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する、ポリパーフルオロアルキレンポリエーテル、パーフルオロアルキルメルカプタン末端封止ポリグリシジルメタクリレートオリゴマーの(メタ)アクリル酸変性物等を挙げることができ、これらを1種単独で、または2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。   Although it does not specifically limit as a polysiloxane compound and / or a fluorine compound which have an active energy ray hardening group in a side chain, When some preferable examples are illustrated, two or more (meth) acryloyl per molecule will be in a side chain. Containing poly (dimethylsiloxane-methyl (meth) acryloyloxyalkylsiloxane) or poly (dimethylsiloxane-methyl (meth) acryloylsiloxane, poly (dimethylsiloxane-methyl (meth) acryloyloxyalkyloxysiloxane), List polyperfluoroalkylene polyether, perfluoroalkyl mercaptan end-capped polyglycidyl methacrylate oligomer (meth) acrylic acid modified products having two or more (meth) acryloyl groups per molecule in the side chain, etc. Can, and it can be used singly or two or more in optional ratio and combination.

また上記ハードコート層を形成する際のハードコート層形成用放射線硬化性組成物の塗布方法は特に限定されるものではなく、例えばスピンコート法等の一般的な塗布方法とすることができる。また上記ハードコート層形成用放射線硬化性組成物の硬化に用いられる放射線についても特に限定されず、例えば上記保護層の形成の際に用いられる放射線と同様とすることができる。   Moreover, the application | coating method of the radiation curable composition for hard-coat layer formation at the time of forming the said hard-coat layer is not specifically limited, For example, it can be set as general application methods, such as a spin coat method. Moreover, it does not specifically limit about the radiation used for hardening of the said radiation curable composition for hard-coat layer formation, For example, it can be made to be the same as that of the radiation used in the case of formation of the said protective layer.

[樹脂基板]
本発明に用いられる樹脂基板について制限は無く、光記録媒体の樹脂基板として公知のものを任意に用いることができる。光記録媒体の樹脂基板の形状は任意であるが、通常は円板形状に形成される。
[Resin substrate]
There is no restriction | limiting about the resin substrate used for this invention, A well-known thing can be used arbitrarily as a resin substrate of an optical recording medium. The shape of the resin substrate of the optical recording medium is arbitrary, but is usually formed in a disc shape.

また、樹脂基板の材料は光透過性材料であれば他に制限は無い。即ち、光情報の記録や再生に用いる波長の光が透過しうる任意の素材で形成することができる。その具体例としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いることができる。中でもポリカーボネート樹脂は、CD−ROM等においても特に広く用いられているものであり、安価であるので特に好ましい。なお、樹脂基板の材料は、1種を単独で用いても良く、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。   Further, the material of the resin substrate is not limited as long as it is a light transmissive material. That is, it can be formed of any material that can transmit light having a wavelength used for recording and reproducing optical information. Specific examples thereof include thermoplastic resins such as polycarbonate resin, polymethacrylate resin, and polyolefin resin. Among these, polycarbonate resin is particularly widely used in CD-ROMs and the like, and is particularly preferable because it is inexpensive. In addition, the material of a resin substrate may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

さらに、樹脂基板の寸法にも制限は無く任意である。ただし、樹脂基板の厚さは、通常0.1mm以上、好ましくは0.3mm以上、より好ましくは0.5mm以上、また、通常20mm以下、好ましくは15mm以下、より好ましくは3mm以下である。中でも、1.2±0.2mm程度の厚さの樹脂基板がしばしば使用される。また、樹脂基板の外径は、一般的には120mm程度である。
また、樹脂基板の製造方法に制限は無く任意であるが、例えば、光透過性樹脂の射出成形などによって製造することができる。
Further, the dimensions of the resin substrate are not limited and are arbitrary. However, the thickness of the resin substrate is usually 0.1 mm or more, preferably 0.3 mm or more, more preferably 0.5 mm or more, and usually 20 mm or less, preferably 15 mm or less, more preferably 3 mm or less. Among them, a resin substrate having a thickness of about 1.2 ± 0.2 mm is often used. The outer diameter of the resin substrate is generally about 120 mm.
Moreover, although there is no restriction | limiting in the manufacturing method of a resin substrate, it is arbitrary, For example, it can manufacture by injection molding of a light transmissive resin, etc.

[記録再生機能層]
本発明に用いられる記録再生機能層は、本発明の光記録媒体が、再生専用の媒体(ROM媒体)である場合と、一度の記録のみ可能な追記型の媒体(Write Once媒体)である場合と、記録消去を繰り返し行える書き換え可能型の媒体(Rewritable媒体)である場合とによって、それぞれの目的に応じた層構成を採用することができる。例えば、再生専用の媒体においては、記録再生機能層は、通常、Al、Ag、Au等の金属を含有する単層で構成される。また、追記型の媒体や書き換え可能型の媒体においては、記録再生機能層は、通常、反射層、誘電体層及び記録層等から構成される。例えば書き換え可能型の光記録媒体における記録再生機能層は、樹脂基板上に直接設けられた金属材料から形成された反射層と、相変化型材料により形成された記録層と、記録層を上下から挟むように設けられた2つの誘電体層とで構成されるもの等とすることができる。
[Recording / playback function layer]
In the recording / reproducing functional layer used in the present invention, the optical recording medium of the present invention is a reproduction-only medium (ROM medium) or a write-once medium (Write Once medium) that can be recorded only once. In addition, depending on the case of a rewritable medium (Rewriteable medium) in which recording and erasing can be repeated, a layer structure corresponding to each purpose can be adopted. For example, in a read-only medium, the recording / playback functional layer is usually composed of a single layer containing a metal such as Al, Ag, or Au. In addition, in a write-once medium or a rewritable medium, the recording / reproducing functional layer is usually composed of a reflective layer, a dielectric layer, a recording layer, and the like. For example, a recording / reproducing functional layer in a rewritable optical recording medium includes a reflective layer formed of a metal material directly provided on a resin substrate, a recording layer formed of a phase change material, and a recording layer from above and below. It can be composed of two dielectric layers provided so as to be sandwiched.

上記反射層としては、例えばAg、Ag合金、Al、Al合金、Au、Au合金等種々の材料を用いることができ、これらの1種を単独で用いても良く、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。より好ましくは、純Ag、AgにTi、Mg、Au、Cu、NdまたはPd等の元素を含む合金、AlにTa、Ti、Cr、Mo等の元素を含む合金が用いられる。また誘電体層としては、SiO2、ZnO、Al23、Ta25、Nb25等の酸化物、GeN、SiN、GeN、TaN等の窒化物、SiC等の炭化物、MgF2、CaF2等のフッ化物、ZnS、Y22S等の硫化物が好ましく用いられる。中でもZnS−SiO2、SiN、Ta25、Y22Sが成膜速度が大きく膜応力が小さい点で特に好ましい。 As the reflection layer, for example, various materials such as Ag, Ag alloy, Al, Al alloy, Au, and Au alloy can be used. One of these may be used alone, or two or more may be combined in any combination. And may be used in combination in a ratio. More preferably, pure Ag, an alloy containing elements such as Ti, Mg, Au, Cu, Nd, or Pd in pure Ag, and an alloy containing elements such as Ta, Ti, Cr, or Mo in Al are used. As the dielectric layer, oxides such as SiO 2 , ZnO, Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 and Nb 2 O 5 , nitrides such as GeN, SiN, GeN and TaN, carbides such as SiC, MgF 2 Fluorides such as CaF 2 and sulfides such as ZnS and Y 2 O 2 S are preferably used. Among these, ZnS—SiO 2 , SiN, Ta 2 O 5 , and Y 2 O 2 S are particularly preferable because they have a high film formation rate and a low film stress.

また記録層としては、無機元素で構成された材料や、有機色素等の有機化合物で構成された材料を用いることができる。無機元素で構成された材料としては、加熱して分解する物質と熱的に安定な物質の両方を含有する材料が挙げられる。加熱して分解する物質の具体例としては、Cr、Mo、W、Fe、Ge、Sn及びSbからなる群から選ばれる元素の窒化物やIr、Au、Ag及びPtからなる群から選ばれる元素の酸化物等が挙げられる。熱的に安定な物質の具体例としては、Ti、Zr、Hf、V,Nb、Ta、Al及びSiからなる群から選ばれる元素の窒化物やZn、Al、Y、Zr、Ti、Nb、Ni、Mg、Siからなる群から選ばれる元素の酸化物等が挙げられる。記録層には、これらの1種を単独で用いても良く、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。   As the recording layer, a material composed of an inorganic element or a material composed of an organic compound such as an organic dye can be used. Examples of the material composed of an inorganic element include a material containing both a substance that decomposes when heated and a thermally stable substance. Specific examples of the substance that decomposes when heated include nitrides of elements selected from the group consisting of Cr, Mo, W, Fe, Ge, Sn, and Sb, and elements selected from the group consisting of Ir, Au, Ag, and Pt. And the like. Specific examples of thermally stable materials include nitrides of elements selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al and Si, and Zn, Al, Y, Zr, Ti, Nb, Examples thereof include oxides of elements selected from the group consisting of Ni, Mg, and Si. In the recording layer, one of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

[光記録媒体]
本発明の光記録媒体は、上記樹脂基板上に記録再生機能層、保護層、及びハードコート層を有するものであれば、その構成や用途等は特に限定されるものではなく、上述した各層以外に、適宜必要な層を有していてもよい。本発明においては特に、上記光記録媒体が膜面入射型、またはブルーレーザーを用いる次世代高密度光記録媒体であることが好ましい。
次世代高密度光記録媒体とは、波長380〜800nmのレーザー光、好ましくは波長380〜450nmのレーザー光を用いる光記録媒体を意味する。
[Optical recording medium]
As long as the optical recording medium of the present invention has a recording / reproducing functional layer, a protective layer, and a hard coat layer on the resin substrate, its configuration and application are not particularly limited, and other than the above-described layers. In addition, a necessary layer may be appropriately provided. In the present invention, it is particularly preferable that the optical recording medium is a film surface incident type or a next generation high density optical recording medium using a blue laser.
The next generation high density optical recording medium means an optical recording medium using laser light having a wavelength of 380 to 800 nm, preferably laser light having a wavelength of 380 to 450 nm.

なお、本発明の光記録媒体は単板で用いられるものであってもよく、2枚以上を貼り合わせて用いられるものであってもよい。また、必要に応じてハブを付け、カートリッジへ組み込んで用いられるものであってもよい。   The optical recording medium of the present invention may be used as a single plate or may be used by bonding two or more sheets. Moreover, a hub may be attached if necessary and used by being incorporated into a cartridge.

以下、本発明について、実施例を用いてさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
(保護層用放射線硬化性組成物Aの調製)
攪拌器、還流冷却器、滴下漏斗、温度計を取り付けた4つ口フラスコに(a1)イソホロンジイソシアネート147gとジブチルスズラウレート0.1gとを入れ、オイルバスにて70〜80℃に加熱し、温度が一定になるまで静かに撹拌した。温度が一定になったら、(a2)1,4−ブタンジオール25.5gと(a3)ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量:約650)22.5gと(a4)ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量:約2000)24.7gとの混合物を滴下漏斗にて滴下し、温度を80℃に保ちながら2時間撹拌する。温度を70℃まで下げてから、(a5)ヒドロキシエチルアクリレート76.7gとメトキノン0.1gの混合物を滴下漏斗にて滴下し、滴下が終わったら温度を80℃に保ち、10時間撹拌させ、ウレタンアクリレートオリゴマー(A)を合成した。合成したウレタンアクリレートオリゴマー(A)にテトラヒドロフルフリルアクリレート(大阪有機社製)174.5g、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(B2)(共栄社化学社製)29g、及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本シイベルヘグナー社製)20gを加えて5時間混合して希釈し、均一液状の保護層用放射線硬化性組成物Aを調製した。また、(a3)および(a4)の量は、以下の如くであった。
{(a4)の重量}/{(a3)の重量}=1.10
{(a4)のモル数}/{(a3)のモル数}=0.36
{(a3)+(a4)の重量}/{(A)+(B)の重量}=0.094
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless it deviates from the summary.
(Preparation of radiation curable composition A for protective layer)
(A1) 147 g of isophorone diisocyanate and 0.1 g of dibutyltin laurate are placed in a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, heated to 70-80 ° C. in an oil bath, Gently stirred until was constant. When the temperature becomes constant, (a2) 25.5 g of 1,4-butanediol and (a3) 22.5 g of polytetramethylene glycol (number average molecular weight: about 650) and (a4) polytetramethylene glycol (number average molecular weight) : About 2000) 24.7 g of the mixture is added dropwise using a dropping funnel, and the mixture is stirred for 2 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. After the temperature is lowered to 70 ° C., a mixture of (a5) 76.7 g of hydroxyethyl acrylate and 0.1 g of methoquinone is added dropwise with a dropping funnel, and when the addition is completed, the temperature is kept at 80 ° C. and stirred for 10 hours. An acrylate oligomer (A) was synthesized. To the synthesized urethane acrylate oligomer (A), 174.5 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (produced by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 29 g of 1,6-hexanediol diacrylate (B2) (produced by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( 20 g) (manufactured by Nippon Shibel Hegner) was added and mixed for 5 hours for dilution to prepare a uniform liquid radiation-curable composition A for protective layer. The amounts of (a3) and (a4) were as follows.
{Weight of (a4)} / {weight of (a3)} = 1.10.
{Number of moles of (a4)} / {number of moles of (a3)} = 0.36
{(Weight of (a3) + (a4)} / {weight of (A) + (B)} = 0.094

(保護層用放射線硬化性組成物Bの調製)
保護層用放射線硬化性組成物Aの調製と同様にウレタンアクリレートオリゴマーAを合成した。合成したウレタンアクリレートオリゴマーAにテトラヒドロフルフリルアクリレート(B1)(大阪有機社製)116.9g、ジシクロペンタジエニルアクリレート(B2)(日立化成社製)57.6g、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(B3)(共栄社化学社製)29g及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本シイベルヘグナー社製)20gを加えて5時間混合して希釈し、均一液状の保護層用放射線硬化性組成物Bを調製した。(a3)および(a4)の量は、保護層用放射線硬化性組成物Aと同様である。
(Preparation of radiation curable composition B for protective layer)
The urethane acrylate oligomer A was synthesized in the same manner as the preparation of the radiation curable composition A for protective layer. 116.9 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (B1) (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 57.6 g of dicyclopentadienyl acrylate (B2) (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), 1,6-hexanediol di Add 29 g of acrylate (B3) (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 20 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Nippon Siebel Hegner), mix for 5 hours and dilute to prepare a uniform liquid radiation-curable composition B for protective layer. did. The amount of (a3) and (a4) is the same as that of the radiation curable composition A for protective layer.

(保護層用放射線硬化性組成物Cの調製)
保護層用放射線硬化性組成物Aの調製と同様にウレタンアクリレートオリゴマーAを合成した。合成したウレタンアクリレートオリゴマーAにテトラヒドロフルフリルアクリレート(B1)(大阪有機社製)174.5g、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジアクリレート(B2)(新中村化学社製)9.6g、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(B3)(共栄社化学社製)19.4g、及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本シイベルヘグナー社製)20gを加えて5時間混合して希釈し、均一液状の保護層用放射線硬化性組成物Cを調製した。(a3)および(a4)の量は、保護層用放射線硬化性組成物Aと同様である。
(Preparation of radiation-curable composition C for protective layer)
The urethane acrylate oligomer A was synthesized in the same manner as the preparation of the radiation curable composition A for protective layer. To the synthesized urethane acrylate oligomer A, 174.5 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (B1) (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = diacrylate (B2) ( 9.6 g of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 19.4 g of 1,6-hexanediol diacrylate (B3) (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and 20 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Nippon Siebel Hegner) for 5 hours. Dilution by mixing was performed to prepare a uniform liquid radiation-curable composition C for a protective layer. The amount of (a3) and (a4) is the same as that of the radiation curable composition A for protective layer.

(保護層用放射線硬化性組成物Dの調製)
保護層用放射線硬化性組成物Aの調製と同様にウレタンアクリレートオリゴマーAを合成した。合成したウレタンアクリレートオリゴマーAにテトラヒドロフルフリルアクリレート(B1)(大阪有機社製)122.2g、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(B2)(共栄社化学社製)29g、イソボルニルアクリレート(B3)(大阪有機社製)52.4g、及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本シイベルヘグナー社製)20gを加えて5時間混合して希釈し、均一液状の保護層用放射線硬化性組成物Dを調製した。(a3)および(a4)の量は、保護層用放射線硬化性組成物Aと同様である。
(Preparation of radiation curable composition D for protective layer)
The urethane acrylate oligomer A was synthesized in the same manner as the preparation of the radiation curable composition A for protective layer. 122.2 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (B1) (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 29 g of 1,6-hexanediol diacrylate (B2) (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), isobornyl acrylate (B3) 52.4 g (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and 20 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Nippon Siebel Hegner) were added and mixed for 5 hours to dilute to prepare a uniform liquid radiation-curable composition D for protective layer. . The amount of (a3) and (a4) is the same as that of the radiation curable composition A for protective layer.

(保護層用放射線硬化性組成物Eの調製)
攪拌器、還流冷却器、滴下漏斗、温度計を取り付けた4つ口フラスコに(a1)イソホロンジイソシアネート146.7gとジブチルスズラウレート0.1gを入れ、オイルバスにて70〜80℃に加熱し、温度が一定になるまで静かに撹拌した。温度が一定になったら、(a2)1,4−ブタンジオール23.8gと(a3)ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量:約650)42.9gの混合物を滴下漏斗にて滴下し、温度を80℃に保ちながら2時間撹拌した。温度を70℃まで下げてから、(a5)ヒドロキシエチルアクリレート76.6gとメトキノン0.1gの混合物を滴下漏斗にて滴下し、滴下が終わったら温度を80℃に保ち、10時間撹拌させ、ウレタンアクリレートオリゴマー(C)を合成した。合成したウレタンアクリレートオリゴマー(C)にテトラヒドロフルフリルアクリレート(B1)(大阪有機社製)195gおよび1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(B2)(共栄社化学社製)15g及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本シイベルヘグナー社製)20gを加えて5時間混合して希釈し、均一液状の保護層用放射線硬化性組成物Eを調製した。また、(a3)および(a4)の量は、以下の如くであった。
{(a4)の重量}/{(a3)の重量}=0
{(a4)のモル数}/{(a3)のモル数}=0
{(a3)+(a4)の重量}/{(C)+(B)の重量}=0.086
(Preparation of radiation-curable composition E for protective layer)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, (a1) 146.7 g of isophorone diisocyanate and 0.1 g of dibutyltin laurate were placed, and heated to 70-80 ° C. in an oil bath, Gently stirred until the temperature was constant. When the temperature became constant, a mixture of (a2) 13.8 g of 1,4-butanediol and 42.9 g of (a3) polytetramethylene glycol (number average molecular weight: about 650) was dropped with a dropping funnel, and the temperature was changed. The mixture was stirred for 2 hours while maintaining at 80 ° C. After the temperature is lowered to 70 ° C., (a5) A mixture of 76.6 g of hydroxyethyl acrylate and 0.1 g of methoquinone is dropped with a dropping funnel, and when the dropping is completed, the temperature is kept at 80 ° C. and stirred for 10 hours. An acrylate oligomer (C) was synthesized. To the synthesized urethane acrylate oligomer (C), 195 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (B1) (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and 15 g of 1,6-hexanediol diacrylate (B2) (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( 20 g) (manufactured by Nippon Shibel Hegner) was added and mixed for 5 hours for dilution to prepare a radiation-curable composition E for a protective layer in a uniform liquid state. The amounts of (a3) and (a4) were as follows.
{Weight of (a4)} / {weight of (a3)} = 0
{Number of moles of (a4)} / {number of moles of (a3)} = 0
{Weight of (a3) + (a4)} / {weight of (C) + (B)} = 0.086

(保護層用放射線硬化性組成物Fの調製)
攪拌器、還流冷却器、滴下漏斗、温度計を取り付けた4つ口フラスコに(a1)イソホロンジイソシアネート158gとジブチルスズラウレート0.1gを入れ、オイルバスにて70〜80℃に加熱し、温度が一定になるまで静かに撹拌した。温度が一定になったら、(a2)1,4−ブタンジオール28.8gと(a3)ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量:約650)23.1gの混合物を滴下漏斗にて滴下し、温度を80℃に保ちながら2時間撹拌した。温度を70℃まで下げてから、(a5)ヒドロキシエチルアクリレート82.6gとメトキノン0.1gの混合物を滴下漏斗にて滴下し、滴下が終わったら温度を80℃に保ち、10時間撹拌させ、ウレタンアクリレートオリゴマー(C)を合成した。合成したウレタンアクリレートオリゴマー(C)にテトラヒドロフルフリルアクリレート(B1)(大阪有機社製)172.5g、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(B2)(共栄社化学社製)35g及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(日本シイベルヘグナー社製)20gを加えて5時間混合して希釈し、均一液状の保護層用放射線硬化性組成物Fを調製した。また、(a3)および(a4)の量は、以下の如くであった。
{(a4)の重量}/{(a3)の重量}=0
{(a4)のモル数}/{(a3)のモル数}=0
{(a3)+(a4)の重量}/{(C)+(B)の重量}=0.046
(Preparation of radiation-curable composition F for protective layer)
(A1) 158 g of isophorone diisocyanate and 0.1 g of dibutyltin laurate are placed in a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, and heated to 70-80 ° C. in an oil bath. Gently stirred until constant. When the temperature became constant, a mixture of 28.8 g of (a2) 1,4-butanediol and 23.1 g of (a3) polytetramethylene glycol (number average molecular weight: about 650) was dropped with a dropping funnel, and the temperature was changed. The mixture was stirred for 2 hours while maintaining at 80 ° C. After the temperature is lowered to 70 ° C., a mixture of (a5) 82.6 g of hydroxyethyl acrylate and 0.1 g of methoquinone is added dropwise using a dropping funnel. When the addition is completed, the temperature is kept at 80 ° C. and stirred for 10 hours. An acrylate oligomer (C) was synthesized. To the synthesized urethane acrylate oligomer (C), 172.5 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (B1) (produced by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 35 g of 1,6-hexanediol diacrylate (B2) (produced by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 1-hydroxycyclohexylphenyl 20 g of a ketone (manufactured by Nippon Shibel Hegner) was added, mixed and diluted for 5 hours to prepare a uniform liquid radiation-curable composition F for a protective layer. The amounts of (a3) and (a4) were as follows.
{Weight of (a4)} / {weight of (a3)} = 0
{Number of moles of (a4)} / {number of moles of (a3)} = 0
{Weight of (a3) + (a4)} / {weight of (C) + (B)} = 0.046

(ハードコート層用組成物Aの調製)
ハードコート層用硬化性組成物としてジペンタエリスリトール(ヘキサ/ペンタ)アクリレート(商品名:カヤラッドDPHA(日本化薬社製))99.5g、撥水・撥油・低摩擦化剤として、TEGO(登録商標)Rad2200N(デグッサ社製、側鎖にアクリル基を含むポリジメチルシロキサン)を0.5g、光重合開始剤としてヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを2g加え、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)50g、及び1−アセトキシ−2−メトキシプロパン(PGMA)103gを、暗所/室温で、2時間攪拌し、ハードコート層用組成物A(固形分40重量%)を調製した。
(Preparation of composition A for hard coat layer)
Dipentaerythritol (hexa / penta) acrylate (trade name: Kayarad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) 99.5 g as a curable composition for a hard coat layer, TEGO (water repellent / oil repellent / low friction agent) (Registered trademark) Rad2200N (manufactured by Degussa, polydimethylsiloxane containing an acrylic group in the side chain) 0.5 g, 2 g of hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photopolymerization initiator, 50 g of propylene glycol monomethyl ether (PGM), and 1- 103 g of acetoxy-2-methoxypropane (PGMA) was stirred in the dark / room temperature for 2 hours to prepare composition A for hard coat layer (solid content: 40% by weight).

(ハードコート層用組成物Bの調製)
ハードコート層用硬化性組成物としてジペンタエリスリトール(ヘキサ/ペンタ)アクリレート(商品名:カヤラッドDPHA(日本化薬社製))90g、撥水・撥油・低摩擦化剤として、メタクリル酸メチル(MMA)とパーフルオロオクチルエチルメタクリレートとX−22−167B(両末端メルカプトのポリジメチルシロキサン、信越化学社製)とメタクリル酸グリシジル(GMA)の25/40/5/30(重量比)共重合体へのアクリル酸付加物(35%PGM溶液)を28.57g、光重合開始剤としてヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを2g加え、PGMAを固形分40重量%になる分の量だけ加え、暗所/室温で、2時間攪拌し、ハードコート層用組成物Bを調製した。
(Preparation of composition B for hard coat layer)
90 g of dipentaerythritol (hexa / penta) acrylate (trade name: Kayalad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) as a curable composition for a hard coat layer, and methyl methacrylate (water repellent / oil repellent / low friction agent) MMA), perfluorooctylethyl methacrylate, X-22-167B (both end mercapto polydimethylsiloxane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and glycidyl methacrylate (GMA) 25/40/5/30 (weight ratio) copolymer 28.57 g of an acrylic acid adduct (35% PGM solution) and 2 g of hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photopolymerization initiator were added, and PGMA was added in an amount corresponding to a solid content of 40% by weight. It stirred for 2 hours and the composition B for hard-coat layers was prepared.

(ハードコート層用組成物Cの調製)
ハードコート層用硬化性組成物としてジペンタエリスリトール(ヘキサ/ペンタ)アクリレート(商品名:カヤラッドDPHA(日本化薬社製))75g、無機成分として、PMA−ST(日産化学社製、平均粒径12nmのコロイダルシリカの30%濃度1−アセトキシ−2−メトキシプロパン分散液)とKBE9007(信越化学社製、3−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン)の20/1(重量比)反応物へのジペンタエリスリトールペンタアクリレート付加物20g、撥水・撥油・低摩擦化剤として、LMA(メタクリル酸ラウリル)とパーフルオロオクチルエチルメタクリレートとX−22−167B(両末端メルカプトのポリジメチルシロキサン、信越化学社製)とメタクリル酸グリシジル(GMA)の20/40/3/37(重量比)共重合体へのアクリル酸付加物(35%PGM溶液)を28.57g、光重合開始剤としてヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを1g加え、PGM/PGMAの1/1(重量比)混合溶媒を固形分35重量%になる分の量だけ加え、暗所/室温で、2時間攪拌し、ハードコート用組成物C(固形分35重量%)を調製した。
(Preparation of composition C for hard coat layer)
75 g of dipentaerythritol (hexa / penta) acrylate (trade name: Kayarad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) as the curable composition for the hard coat layer, PMA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, average particle size) as the inorganic component Dipenta to 20/1 (weight ratio) reaction product of 30% concentration 1-acetoxy-2-methoxypropane dispersion of 12 nm colloidal silica) and KBE9007 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 3-isocyanatopropyltriethoxysilane) Erythritol pentaacrylate adduct 20g, LMA (lauryl methacrylate), perfluorooctylethyl methacrylate and X-22-167B (both end mercapto polydimethylsiloxane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) And glycidyl methacrylate (GMA) 20/40/3 Add 27.57g of acrylic acid adduct (35% PGM solution) to 37 (weight ratio) copolymer, 1g of hydroxycyclohexyl phenyl ketone as photopolymerization initiator, and mix 1/1 (weight ratio) of PGM / PGMA The solvent was added in an amount corresponding to a solid content of 35% by weight and stirred for 2 hours in the dark / room temperature to prepare hard coat composition C (solid content 35% by weight).

(実施例1)
上記で調製した保護層用放射線硬化性組成物Aを、100mm角、厚さ3mmのフッ素コートガラス板上にスピンコーターにより塗布し、高圧水銀ランプにて照射強度1J/cm2で紫外線を照射することにより硬化させて、膜厚100μmの硬化塗膜とし、その塗膜を注意深く剥離した。同様の操作を繰り返し、剥離塗膜を3枚得た。このうち2枚の塗膜から10mm×80mmの短冊状サンプルを10本切り出して引っ張り弾性率測定用サンプルとし、また残り1枚の塗膜から80mm角の四角形フィルムを切り出して吸水率測定用サンプルとし、以下に示す評価を行った。結果を表2に示す。
Example 1
The radiation curable composition A for protective layer prepared above is applied onto a 100 mm square, 3 mm thick fluorine-coated glass plate with a spin coater, and irradiated with ultraviolet rays with a high pressure mercury lamp at an irradiation intensity of 1 J / cm 2. This was cured to form a cured coating film having a thickness of 100 μm, and the coating film was carefully peeled off. The same operation was repeated to obtain three release coating films. Of these, 10 strips of 10 mm x 80 mm were cut out from two coated films to make a tensile elastic modulus measurement sample, and an 80 mm square film was cut out from the remaining one coated film to make a water absorption measurement sample. The following evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

(吸水前引っ張り弾性率Eb)
テンシロン引っ張り試験器を用いて、室温25℃においてJIS K7127に準拠した方法にて弾性率Ebを測定した。
(Tensile elasticity modulus Eb before water absorption)
Using a Tensilon tensile tester, the elastic modulus Eb was measured by a method according to JIS K7127 at room temperature of 25 ° C.

(吸水後引っ張り弾性率Ea)
サンプルを、1Lの純水を入れた容器に25℃において3時間浸漬し、取り出して水滴を軽く拭き取り、ただちにテンシロン引っ張り試験器を用いて、室温25℃においてJIS K7127に準拠した方法にて弾性率Eaを測定した。
以下の定義に基づき、引っ張り弾性率の比eを求めた。
引っ張り弾性率の比e=Ea/Eb
(Tensile elastic modulus Ea after water absorption)
The sample is immersed in a container containing 1 L of pure water at 25 ° C. for 3 hours, taken out, wiped off with a light drop, and immediately subjected to elasticity using a Tensilon tensile tester at a room temperature of 25 ° C. according to JIS K7127. Ea was measured.
Based on the following definitions, the tensile modulus ratio e was determined.
Tensile modulus ratio e = Ea / Eb

(光記録媒体の作成)
直径120mm、厚み1.1mmのポリカーボネート製光記録媒体基板表面に、100nmの厚みのAg−Cu−Nd反射層、25nmの厚みのZnS−SiO2誘電体層、15nmの厚みのSn−Nb−N記録層、30nmの厚みのZnS−SiO2誘電体層をこの順にスパッタにて形成し、記録再生機能層を得た。記録再生機能層の最表層の誘電体層表面に、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物Aをスピンコーターにて厚み100μmになるように塗布し、高圧水銀ランプ(東芝ハリソン製;トスキュア752)を用いて、波長365nmにおける照射量100mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させ保護層を形成させた。紫外線照射量は、UVメーター(ウシオ電機社製;UIT−250)にて測定した。
次に保護層表面にハードコート層材料としてハードコート層用組成物Aをスピンコーターにより塗布し、高圧水銀ランプ(ジャテック社製;J−cure100)を用いて、波長365nmにおける照射量400mJ/cm2の紫外線を照射して硬化させ、厚み2μmのハードコート層を形成させた。同様の操作を繰り返し、光記録媒体を3枚得た。
上記で作成した光記録媒体のうちの1枚につき、下記の方法によりハードコート表面の表面硬度評価を行った。また、ハードコート表面の水およびヘキサデカン接触角を測定した。結果を表2に示す。
(Create optical recording media)
On the surface of a polycarbonate optical recording medium substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm, an Ag—Cu—Nd reflecting layer having a thickness of 100 nm, a ZnS—SiO 2 dielectric layer having a thickness of 25 nm, and an Sn—Nb—N layer having a thickness of 15 nm. A recording layer and a ZnS—SiO 2 dielectric layer having a thickness of 30 nm were formed in this order by sputtering to obtain a recording / reproducing functional layer. On the surface of the outermost dielectric layer of the recording / reproducing functional layer, a radiation curable composition A for protective layer is applied as a protective layer material to a thickness of 100 μm by a spin coater, and a high-pressure mercury lamp (manufactured by Toshiba Harrison; Using Toscure 752), the protective layer was formed by curing by irradiating with ultraviolet rays having a dose of 100 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 nm. The amount of ultraviolet irradiation was measured with a UV meter (USHIO Corporation; UIT-250).
Next, the hard coat layer composition A as a hard coat layer material was applied to the surface of the protective layer with a spin coater, and using a high-pressure mercury lamp (manufactured by JATEC; J-cure 100), the irradiation dose at a wavelength of 365 nm was 400 mJ / cm 2. Was cured by irradiating with UV rays, and a hard coat layer having a thickness of 2 μm was formed. The same operation was repeated to obtain three optical recording media.
For one of the optical recording media prepared above, the surface hardness of the hard coat surface was evaluated by the following method. Further, water and hexadecane contact angles on the hard coat surface were measured. The results are shown in Table 2.

(表面硬度評価)
JIS K5400に準拠した方法にて行った。具体的操作を下に示す。
硬度4B、3B、2B、B、HB、F、Hの鉛筆(三菱鉛筆社製;品番UNI、日塗検査済、鉛筆引っ掻き値試験用)を用意した。
鉛筆硬度測定装置(新東科学社製;トライボギアType18)を用いて、硬度4Bを装着し、加重750gf、引っ掻き速度30mm/minにて1cm走引し、走引痕の有無を目視で確認した。走引痕が観測されなかった場合は1段階硬い鉛筆に交換し、同様の操作を繰り返した。
結果は、以下のように整理した。

Figure 0004555846
(Surface hardness evaluation)
The method was performed in accordance with JIS K5400. Specific operations are shown below.
Pencils of hardness 4B, 3B, 2B, B, HB, F, and H (manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd .; part number UNI, Nikko inspection completed, for pencil scratch value test) were prepared.
Using a pencil hardness measuring device (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd .; Tribogear Type 18), a hardness of 4B was attached, and the load was crushed by 1 cm at a load of 750 gf and a scratching speed of 30 mm / min. When no running trace was observed, the pencil was replaced with a one-step hard pencil and the same operation was repeated.
The results are organized as follows.
Figure 0004555846

上記で作製した光記録媒体の2枚目につき、下記の方法により耐湿度ディスク変形評価試験を行った。結果を表2に示す。 With respect to the second optical recording medium produced as described above, a humidity-resistant disk deformation evaluation test was performed by the following method. The results are shown in Table 2.

(対湿度ディスク変形評価試験)
光記録媒体サンプルを恒温恒湿槽内に静置し、恒温恒湿槽内の温度を25℃、湿度を90%RHに設定して100時間保った。その後、ディスクを取り出し、気温25℃、45%RHの環境下にて変位センサ(キーエンス社製;LT−9010)を用いて、ディスクの変形を測定した。0時間後、1時間後、3時間後、5時間後、6時間後、8時間後、10時間後、24時間後に測定し、その経時変化を記録した。そのソリ変化のグラフを図1に示す。ただし、ハードコート層側に凸状に変形する場合のソリ値はマイナス、ハードコート層側に凹状の変形する場合のソリ値はプラスとした。
図1に見られるように、6〜8時間後にソリ変形の極大値が見られ、その変形値は131μmであった。この値を対湿度変形最大絶対値として表2に示す。変形値の絶対値が150μmより大きい場合は、代表的なレンズであるNA=0.85、口径3mmのレンズを使用する際の適切なワーキング距離を確保できないので、判定を「×」とし、それ以外の場合を判定「○」とした。
(Humidity disk deformation evaluation test)
The optical recording medium sample was allowed to stand in a constant temperature and humidity chamber, the temperature in the constant temperature and humidity chamber was set to 25 ° C., and the humidity was set to 90% RH and maintained for 100 hours. Thereafter, the disk was taken out, and the deformation of the disk was measured using a displacement sensor (manufactured by Keyence Corporation; LT-9010) in an environment of an air temperature of 25 ° C. and 45% RH. Measurement was performed after 0 hour, 1 hour, 3 hours, 5 hours, 6 hours, 8 hours, 10 hours, and 24 hours, and the change with time was recorded. A graph of the warpage change is shown in FIG. However, the warp value when deformed into a convex shape toward the hard coat layer was negative, and the warp value when deformed into a concave shape toward the hard coat layer was positive.
As shown in FIG. 1, the maximum value of warp deformation was observed after 6 to 8 hours, and the deformation value was 131 μm. This value is shown in Table 2 as the maximum absolute value of deformation against humidity. If the absolute value of the deformation value is larger than 150 μm, an appropriate working distance cannot be secured when using a lens with a representative lens of NA = 0.85 and a diameter of 3 mm. The cases other than were determined as “good”.

上記で作製した光記録媒体の3枚目につき、下記の方法により耐湿度ディスクソリ評価試験を行った。結果を表2に示す。   A humidity resistance disk warpage evaluation test was conducted on the third optical recording medium produced above by the following method. The results are shown in Table 2.

(対温度ディスクソリ評価試験)
ディスクドライブ(NEC製CD−ROMドライブ;型番PCCD60D)筐体上面に40mm角の窓を開け、この窓の上方に変位センサ(キーエンス社製;LT−9010)を固定して、ディスクドライブにディスクを挿入した際にディスクの中心から58mmの位置の垂直方向の変位をリアルタイムで検出し、データを計算機に出力できるようにしたディスク変形検出ユニットを作製した。このユニットを、恒温槽(日立社製恒温器コスモピア;型番EC−10HHP)のチャンバー内に設置した。このシステムの概要を図3に示した。図に示した通り、保護層・ハードコート側に凹変形の場合は変形値をマイナスとし、保護層・ハードコート側に凸変形の場合は変形値をプラスとした。
上記で作製した光記録媒体1枚をディスクドライブに挿入し、恒温槽を密閉した後、恒温槽内の温度を25℃に設定し、20分間保ち、ディスクの変形を測定した。この変形の値を変形基準値とした。
次に恒温槽内の温度を55℃に設定を変更し、1時間保ち、ディスクの変形を測定した。この変形値の基準値からの差を高温時変形値として記録した。
次に、25℃に設定を変更して3時間保った後、恒温槽内の温度を5℃に設定を変更し、1時間保ち、ディスクのソリを測定した。このソリ値の基準値からの差を低温時変形値として記録した。
ソリ基準値を変形値0として、高温時変形値および低温時変形値を図2にプロットした。図2に見られるように、高温時変形値は正であり、低温時変形値は負であった。高温変形値と低温変形値とで絶対値の大きい方を対温度変形最大絶対値として表2に示した。
変形値の絶対値が150μmより大きい場合は、代表的なレンズであるNA=0.85、口径3mmのレンズを使用する際の適切なワーキング距離を確保できないので、判定を「×」とし、それ以外の場合を判定「○」とした。
(Vs. temperature disk sled evaluation test)
Disk drive (NEC CD-ROM drive; model PCCD60D) A 40 mm square window is opened on the top of the housing, and a displacement sensor (Keyence Corp .; LT-9010) is fixed above the window, and the disk is inserted into the disk drive. When inserted, a disc deformation detection unit was prepared in which vertical displacement at a position 58 mm from the center of the disc was detected in real time and data could be output to a computer. This unit was installed in the chamber of a thermostat (Hitachi Co., Ltd. Cosmopia; model number EC-10HHP). The outline of this system is shown in FIG. As shown in the figure, the deformation value was negative in the case of concave deformation on the protective layer / hard coat side, and the deformation value was positive in the case of convex deformation on the protective layer / hard coat side.
One optical recording medium produced as described above was inserted into a disk drive, and the thermostatic chamber was sealed. Then, the temperature in the thermostatic chamber was set to 25 ° C., kept for 20 minutes, and the deformation of the disk was measured. This deformation value was used as a deformation reference value.
Next, the temperature in the thermostatic chamber was changed to 55 ° C., kept for 1 hour, and the deformation of the disk was measured. The difference of the deformation value from the reference value was recorded as the high temperature deformation value.
Next, after changing the setting to 25 ° C. and keeping it for 3 hours, the temperature in the thermostat was changed to 5 ° C. and kept for 1 hour, and the warpage of the disk was measured. The difference of the warp value from the reference value was recorded as the low temperature deformation value.
With the warp reference value as the deformation value 0, the deformation value at high temperature and the deformation value at low temperature are plotted in FIG. As seen in FIG. 2, the high temperature deformation value was positive and the low temperature deformation value was negative. The higher absolute value of the high temperature deformation value and the low temperature deformation value is shown in Table 2 as the maximum absolute value of temperature deformation.
If the absolute value of the deformation value is larger than 150 μm, an appropriate working distance cannot be secured when using a lens with a representative lens of NA = 0.85 and a diameter of 3 mm. The cases other than were determined as “good”.

(実施例2)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物A、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Bを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。
(Example 2)
In Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having used the radiation-curable composition A for protective layers as a material for protective layers, and the composition B for hard-coat layers as a hard-coat material. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, the protective layer Eb, Ea, e, the water absorption, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature of the optical recording medium.

(実施例3)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物A、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Cを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度ディスク変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。
(Example 3)
In Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having used the radiation-curable composition A for protective layers as a material for protective layers, and the composition C for hard-coat layers as a material for hard-coats. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, Eb, Ea, and e of the protective layer, the water absorption, the maximum absolute value of deformation of the optical disk against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature.

(実施例4)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物B、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Aを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。
Example 4
In Example 1, it carried out like Example 1 except having used radiation curable composition B for protective layers as a material for protective layers, and composition A for hard-coat layers as a material for hard-coats. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, the protective layer Eb, Ea, e, the water absorption, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature of the optical recording medium.

(実施例5)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物C、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Aを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。
(Example 5)
In Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having used the radiation-curable composition C for protective layers as a material for protective layers, and the composition A for hard-coat layers as a material for hard-coats. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, the protective layer Eb, Ea, e, the water absorption, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature of the optical recording medium.

(実施例6)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物D、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Aを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。対湿度ディスク変形評価試験においては、図1に示すように、3時間後に変形の極小値が見られ、その変形値は−98μmであった。また表2にはその絶対値98μmを示した。
(Example 6)
In Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having used the radiation-curable composition D for protective layers as a material for protective layers, and the composition A for hard-coat layers as a material for hard-coats. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, the protective layer Eb, Ea, e, the water absorption, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature of the optical recording medium. In the humidity disk deformation evaluation test, as shown in FIG. 1, a minimum value of deformation was observed after 3 hours, and the deformation value was −98 μm. Table 2 shows the absolute value of 98 μm.

(比較例1)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物E、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Aを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。対湿度ディスク変形評価試験においては、図1に示したように8時間後に変形の極大値が見られ、その変形値は194μmであった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, it carried out like Example 1 except having used radiation curable composition E for protective layers as a material for protective layers, and composition A for hard coat layers as a material for hard coats. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, the protective layer Eb, Ea, e, the water absorption, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature of the optical recording medium. In the deformation test for humidity disk, as shown in FIG. 1, the maximum value of deformation was observed after 8 hours, and the deformation value was 194 μm.

(比較例2)
実施例1において、保護層用材料として保護層用放射線硬化性組成物F、ハードコート用材料としてハードコート層用組成物Aを用いた以外は実施例1と同様に行った。ハードコートの表面硬度、保護層のEb、Ea、e、吸水率、光記録媒体の対湿度変形最大絶対値、対温度変形最大絶対値を表2に示す。対湿度ディスク変形評価試験においては、8時間後に変形の極大値が見られ、その変形値は177μmであった。対温度ディスクソリ評価試験においては、図2に示したように低温時変形値が−200μmと大きかった。

Figure 0004555846
(評価)
表2から明らかなように、本発明を用いた実施例1から実施例6までの光記録媒体では、対湿度ディスク変形最大絶対値及び対温度変形最大絶対値が好ましい値を示しており、耐湿度性及び耐温度性に優れているといえる。また表面硬度についても十分なものであった。
一方、比較例1の光記録媒体では、対湿度変形最大絶対値が大きく、耐湿度性が十分ではなかった。また比較例2は、対湿度変形最大絶対値、及び対温度変形最大絶対値が大きく、耐湿度性及び耐温度性が十分ではなかった。 (Comparative Example 2)
In Example 1, it carried out like Example 1 except having used radiation curable composition F for protective layers as a material for protective layers, and composition A for hard coat layers as a material for hard coats. Table 2 shows the surface hardness of the hard coat, the protective layer Eb, Ea, e, the water absorption, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature of the optical recording medium. In the test for evaluating deformation of the disk against humidity, a maximum value of deformation was observed after 8 hours, and the deformation value was 177 μm. In the temperature disk sled evaluation test, as shown in FIG. 2, the deformation value at low temperature was as large as −200 μm.
Figure 0004555846
(Evaluation)
As is apparent from Table 2, in the optical recording media of Examples 1 to 6 using the present invention, the maximum absolute value of deformation against humidity disk and the maximum absolute value of deformation against temperature show preferable values. It can be said that it is excellent in humidity and temperature resistance. Also, the surface hardness was sufficient.
On the other hand, in the optical recording medium of Comparative Example 1, the maximum absolute value of deformation against humidity was large and the humidity resistance was not sufficient. In Comparative Example 2, the maximum absolute value of deformation against humidity and the maximum absolute value of deformation against temperature were large, and the humidity resistance and temperature resistance were not sufficient.

本発明の光記録媒体は、環境の温度及び湿度変化にも対応可能であり、かつ耐摩耗性や記録保護層の保護性にも優れている。したがって、本発明はブルーレイディスク等の次世代高密度光記録媒体等も含む光記録媒体に好適に利用可能である。   The optical recording medium of the present invention can cope with changes in environmental temperature and humidity, and is excellent in wear resistance and protection of the recording protective layer. Therefore, the present invention can be suitably used for optical recording media including next-generation high-density optical recording media such as Blu-ray discs.

実施例1、6及び比較例1の対湿度ディスク変形試験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the anti-humidity disk deformation | transformation test of Examples 1 and 6 and Comparative Example 1. 実施例1及び比較例2の対温度ディスク変形評価試験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the temperature disk deformation | transformation evaluation test of Example 1 and Comparative Example 2 with respect to temperature. 対温度ディスク変形評価試験のシステムの概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the system of a vs. temperature disk deformation | transformation evaluation test.

Claims (5)

樹脂基板と、記録再生機能層と、ウレタン(メタ)アクリレート(A)及び前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)を含む放射線硬化性組成物の硬化物である保護層と、表面硬度がB以上であるハードコート層とをこの順に具備する光記録媒体であって、
前記保護層の25℃、湿度45%における引っ張り弾性率に対する飽和吸水時における引っ張り弾性率の比が、0.20以上である
ことを特徴とする光記録媒体。
A cured product of a radiation curable composition containing a resin substrate, a recording / reproducing functional layer, a urethane (meth) acrylate (A) and a (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate (A). An optical recording medium comprising a protective layer and a hard coat layer having a surface hardness of B or more in this order,
An optical recording medium, wherein a ratio of a tensile elastic modulus at the time of saturated water absorption to a tensile elastic modulus at 25 ° C. and a humidity of 45% of the protective layer is 0.20 or more.
前記保護層の25℃における吸水率が2(wt/wt)%以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the protective layer has a water absorption at 25 ° C. of 2 (wt / wt)% or less.
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、(a1)ポリイソシアネート、(a2)分子量400未満のジオール、(a3)数平均分子量が400以上、1500未満のポリオール、(a4)数平均分子量が1500以上のポリオール、及び(a5)水酸基含有(メタ)アクリレートを含む組成物を反応させた反応生成物である
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光記録媒体。
The urethane (meth) acrylate (A) is (a1) polyisocyanate, (a2) a diol having a molecular weight of less than 400, (a3) a polyol having a number average molecular weight of 400 or more and less than 1500, and (a4) a number average molecular weight of 1500 or more. 3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the reaction product is a reaction product obtained by reacting a polyol composition and a composition containing (a5) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)が、脂環式アクリレートである
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光記録媒体。
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate (A) is an alicyclic acrylate.
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)以外の(メタ)アクリレート化合物(B)が、単官能(メタ)アクリレート及び/または分子量が300以下である多官能(メタ)アクリレートである
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光記録媒体。
The (meth) acrylate compound (B) other than the urethane (meth) acrylate (A) is a monofunctional (meth) acrylate and / or a polyfunctional (meth) acrylate having a molecular weight of 300 or less. Item 5. The optical recording medium according to any one of Items 1 to 4.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002245672A (en) * 2000-11-30 2002-08-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd Optical disk
JP2004299263A (en) * 2003-03-31 2004-10-28 Mitsubishi Rayon Co Ltd Active energy ray curable composition for optical disk and optical disk
JP2007080448A (en) * 2005-09-16 2007-03-29 Mitsubishi Rayon Co Ltd Optical information medium
JP2007169580A (en) * 2005-12-22 2007-07-05 Jsr Corp Radiation-curable liquid resin composition for adhesive agent and bonding method
JP2007204651A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Kuraray Co Ltd Grinding pad and method for producing the same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10330442A (en) * 1997-05-28 1998-12-15 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition for lens and its cured product

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002245672A (en) * 2000-11-30 2002-08-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd Optical disk
JP2004299263A (en) * 2003-03-31 2004-10-28 Mitsubishi Rayon Co Ltd Active energy ray curable composition for optical disk and optical disk
JP2007080448A (en) * 2005-09-16 2007-03-29 Mitsubishi Rayon Co Ltd Optical information medium
JP2007169580A (en) * 2005-12-22 2007-07-05 Jsr Corp Radiation-curable liquid resin composition for adhesive agent and bonding method
JP2007204651A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Kuraray Co Ltd Grinding pad and method for producing the same

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