JP2009137205A - Optical recording medium - Google Patents

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Eiko Hibino
栄子 日比野
Hajime Yuzurihara
肇 譲原
Koji Deguchi
浩司 出口
Hiroyuki Iwasa
博之 岩佐
Hiroyoshi Sekiguchi
洋義 関口
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium which has an excellent recording characteristic while assuring process stability even in Blu-ray (R) Disc high speed recording. <P>SOLUTION: (1) The optical recording medium is characterized by containing Ge, Sb, Sn and S as principal components of a phase change recording layer. (2) The optical recording medium described in (1) is characterized by containing S in the recording layer in a range of 2 to 9 atom%. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、書き換え可能な相変化記録層を有するブルーレイディスク等の高密度記録用光記録媒体に関する。   The present invention relates to an optical recording medium for high density recording such as a Blu-ray disc having a rewritable phase change recording layer.

高密度記録用光記録媒体の記録層にGe−Sb−Snを用いたものが知られているが、GeSbSnのみでは所望の特性を得ることが困難であるため、記録特性、保存安定性を得るべく、各種添加元素が検討されており、特許文献1、2のような例がある。
特許文献1には、所定組成のSbSnGeTeM1(M1はIn、Ga、Pt、Pd、Ag、希土類元素、Se、N、O、C、Zn、Si、Al、Bi、Ta、W、Nb及びVからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素)を主成分とする記録材料について記載されている。Sb−Sn合金に結晶化速度を制御する働きを有するGeを添加したSbSnGe系の相変化記録材料を用いることにより、高速消去した場合の結晶の不均一性によるノイズの増大、記録信号の保存安定性の劣化といった問題を解決し、高速記録特性と保存安定性に優れた情報記録媒体を形成することができ、更にTeを加えることにより、長期保存後の記録特性を良好にすることができるとしている。添加元素M1の効果もそれぞれ記載されているが、Sに関する記載はなく、後述する本発明の課題に関係するような記載も見当たらない。
A recording layer of a high-density recording optical recording medium using Ge—Sb—Sn is known. However, since it is difficult to obtain desired characteristics only with GeSbSn, recording characteristics and storage stability are obtained. Therefore, various additive elements have been studied, and there are examples such as Patent Documents 1 and 2.
In Patent Document 1, SbSnGeTeM1 having a predetermined composition (M1 is In, Ga, Pt, Pd, Ag, rare earth element, Se, N, O, C, Zn, Si, Al, Bi, Ta, W, Nb, and V). A recording material comprising as a main component at least one element selected from the group consisting of: By using a SbSnGe phase change recording material in which Ge, which has a function of controlling the crystallization speed, is added to the Sb—Sn alloy, noise increases due to crystal non-uniformity in the case of high-speed erasure, and recording signal storage stability It is possible to form an information recording medium excellent in high-speed recording characteristics and storage stability, and to improve recording characteristics after long-term storage by adding Te. Yes. Although the effect of the additive element M1 is also described, there is no description about S, and no description relating to the problem of the present invention described later is found.

特許文献2には、GeSbSnMnX(Xは、In、Bi、Te、Ag、Al、Zn、Co、Ni、Cuから選ばれる少なくとも一つの元素)、更にはGaを添加した材料を用いた記録層について記載されている。Mnは高温環境下の保存信頼性の向上のため、Xは信頼性やDOWの向上のため、Gaは初期化を容易にするために用いている。しかし、Sに関する記載はなく、後述する本発明の課題に関係するような記載も見当たらない。
S(イオウ)を記録層に用いたものとしては、特許文献3の例がある。
この文献には、追記型記録媒体の記録層として、Sの他に、Sb、Sn、In、Ge、Oなどを含む材料を用いることが記載されており、形式的には、本発明で用いる記録層材料と元素の種類の組み合わせが同じになる場合も含まれる。
しかし、同文献に記載された記録層は、金属又は半金属の硫化物を主成分とする無機材料により構成されるものであるから、Ge−Sb−Sn3元系を基本とした本願の記録層とは根本的に異なる。しかも、同文献には、GeSbSnSの4元素を全て含む例は示されておらず、本発明のような相変化記録層に適した材料の組み合わせについては記載も示唆もされていないから、本発明の参考にはならない。
Patent Document 2 discloses a recording layer using a material to which GeSbSnMnX (X is at least one element selected from In, Bi, Te, Ag, Al, Zn, Co, Ni, and Cu) and Ga is added. Are listed. Mn is used to improve storage reliability in a high temperature environment, X is used to improve reliability and DOW, and Ga is used to facilitate initialization. However, there is no description about S, and there is no description related to the problem of the present invention described later.
An example in which S (sulfur) is used for the recording layer is disclosed in Patent Document 3.
This document describes that, in addition to S, a material containing Sb, Sn, In, Ge, O or the like is used as a recording layer of a write-once recording medium, and formally used in the present invention. The case where the combination of the recording layer material and the element type is the same is also included.
However, since the recording layer described in the document is composed of an inorganic material mainly composed of a metal or metalloid sulfide, the recording layer of the present application based on the Ge—Sb—Sn ternary system is used. Is fundamentally different. In addition, the document does not show an example including all four elements of GeSbSnS, and does not describe or suggest a combination of materials suitable for the phase change recording layer as in the present invention. Is not helpful.

特開2004−203011号公報JP 2004-203011 A 特開2006−192876号公報JP 2006-192876 A 特開平4−193586号公報JP-A-4-193586

本発明者らが、ブルーレイディスクに適した相変化材料を得る目的でGe−Sb−Snに種々の元素を添加し検討したところ、Mn、GaまたはZnを添加すると、ジッタや記録感度が改善されることが分かった。例えば、同じ転移線速(後述する)の場合に、Mn等を添加した場合と添加しない場合では大体0.5%から1%程度ジッタが改善される傾向にある。しかし、これらの元素を添加した場合には、基板の製造工程中の管理を従来(Mn等を添加しない場合)よりも厳密に行わないと、記録特性にばらつきを生じてしまうという問題があることが分かった。   The inventors have studied adding various elements to Ge—Sb—Sn for the purpose of obtaining a phase change material suitable for a Blu-ray disc. When Mn, Ga, or Zn is added, jitter and recording sensitivity are improved. I found out. For example, in the case of the same transition linear velocity (described later), jitter tends to be improved by about 0.5% to 1% when Mn is added or not. However, when these elements are added, there is a problem in that variations in recording characteristics occur unless management during the manufacturing process of the substrate is performed more strictly than in the past (when Mn or the like is not added). I understood.

以下、この問題について、具体的に説明する。
本発明者らは、同じスパッタ条件で作成した媒体の記録特性が著しく異なる場合があるのに気がつき、その原因を追究したところ、本基板の前に使用するダミー基板をベークしていないことが原因であることが分かった。
量産時は、基板成型後、スパッタ装置にライン投入されるが、種々の記録層組成の検討等を行う開発時には、既に成型してある基板を室温で保管しておいたものを取り出して使用する。基板の材質は通常、ポリカーボネートであり、室温で保管すると吸湿してしまうため、そのまま使用すると基板の水分の影響で保存信頼性等に悪影響を及ぼす。そこで、通常は60℃程度の恒温槽で十分ベークを行った後にスパッタ装置に投入して使用する。また、このようにベーク処理をした本基板を用いて製膜する前に、通常、最初にダミー基板と称する基板を数枚用いて製膜する。これは、スパッタの放電等を安定化するために行うものである。ダミー基板で作成した媒体は記録特性、保存特性等の評価を実施しないので、ダミー基板としては通常ベーク処理していない基板を用いる。従来はこのようなプロセスでも特に問題は生じていなかったが、ブルーレイディスクのような高密度記録媒体において、特に高速で記録する場合には問題となる。
Hereinafter, this problem will be specifically described.
The present inventors have noticed that the recording characteristics of the media prepared under the same sputtering conditions may be significantly different, and investigated the cause of the failure, because the dummy substrate used before this substrate was not baked. It turns out that.
At the time of mass production, the line is put into the sputtering equipment after the substrate is molded, but at the time of development to examine various recording layer compositions, the already molded substrate stored at room temperature is taken out and used. . The material of the substrate is usually polycarbonate and absorbs moisture when stored at room temperature. Therefore, if it is used as it is, the storage reliability is adversely affected by the moisture of the substrate. Therefore, normally, after sufficiently baking in a constant temperature bath of about 60 ° C., it is put into a sputtering apparatus and used. In addition, before forming a film using the substrate thus baked, the film is usually formed using several substrates called dummy substrates first. This is performed in order to stabilize the discharge of sputtering. Since a medium created with a dummy substrate does not evaluate recording characteristics, storage characteristics, etc., a substrate that is not normally baked is used as the dummy substrate. Conventionally, there has been no particular problem even in such a process, but it becomes a problem when recording at a high speed on a high-density recording medium such as a Blu-ray disc.

図1、図2に、相変化材料として、Ge(19.5)Sb(59.0)Sn(15.0)Mn(6.5)(原子%)を用い、ダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した2枚の媒体の転移線速を示す。
転移線速とは、本発明者らが、結晶化速度の代用特性として用いている指標の一つで、測定には通常の記録・再生に用いる評価機を用いる。媒体を一定線速で回転させ、記録層が溶融し得る充分なパワーのレーザ光を1周に渡って照射し、反射率を測定する。照射する連続光のパワーを一定とし線速を変えて同じ測定をすると、線速が遅い場合には反射率が高いが、ある線速以上になると反射率が低下し始める。この反射率が低下し始める時の線速を転移線速と呼ぶ。転移線速より遅い線速では、記録層は一旦溶融したのち全て再結晶化した状態であるが、転移線速より速い線速になると一旦溶融したのち全てが再結晶化することはできず、一部が非晶質として残っていることを示している。この転移線速は記録層組成の他に、照射する連続光のパワーと媒体を形成する各層の種類や膜厚、即ち光学的な条件と熱的な条件によって決まる。
1 and 2, Ge (19.5) Sb (59.0) Sn (15.0) Mn (6.5) (atomic%) is used as a phase change material, and a dummy substrate is used to form a film. Then, the transition linear velocity of the two media sequentially formed using the two main substrates is shown.
The transition linear velocity is one of the indices used by the present inventors as a substitute characteristic of the crystallization speed, and an evaluation machine used for normal recording / reproduction is used for the measurement. The medium is rotated at a constant linear velocity, and a laser beam with sufficient power that can melt the recording layer is irradiated over one round, and the reflectance is measured. When the same measurement is performed while changing the linear velocity with the power of the continuous light to be irradiated constant, the reflectance is high when the linear velocity is low, but the reflectance starts to decrease when the linear velocity is exceeded. The linear velocity when the reflectance starts to decrease is called the transition linear velocity. At a linear velocity slower than the transition linear velocity, the recording layer is once melted and then recrystallized.However, once the linear velocity is faster than the transition linear velocity, once it has melted, all cannot be recrystallized. It shows that a part remains as amorphous. In addition to the composition of the recording layer, the transition linear velocity is determined by the power of continuous light to be irradiated and the type and thickness of each layer forming the medium, that is, optical conditions and thermal conditions.

図1、図2の評価は、パルステック工業社製のBD−R/RE用評価装置ODU−1000(波長405nm、NA0.85)により、6.0mWの連続光を用いて実施した。
図1は、ベークしたダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した2枚の媒体B1(1枚目)、B2(2枚目)の結果であるが、B1、B2の線速に対する反射率の変化の仕方は同じであり、2枚の転移線速は8m/sと一致している。図2は、ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した2枚の媒体X1(1枚目)、X2(2枚目)の結果であるが、X1、X2の線速に対する反射率の変化の仕方は異なり、2枚の転移線速も、X1が10m/s、X2が9m/sと異なっている。
X1とX2では、X1を最初に製膜しているので、X1の方がダミー基板に吸着されていたガス等の影響をより多く受けているものと考えられる。X1の次に製膜したX2ではその影響は軽減されているが、完全に影響がなくなった訳ではないため、B1、B2と比較すると転移線速が速くなっていると考えられる。
Evaluation of FIG. 1, FIG. 2 was implemented using the continuous light of 6.0 mW by the evaluation apparatus ODU-1000 (wavelength 405nm, NA0.85) for BD-R / RE made from a pulse tech industry company.
FIG. 1 shows the results of two media B1 (first sheet) and B2 (second sheet), which were formed using a dummy substrate that was baked and then successively formed using two substrates. However, the way of changing the reflectance with respect to the linear velocities of B1 and B2 is the same, and the two transition linear velocities coincide with 8 m / s. FIG. 2 shows two media X1 (first sheet) and X2 (second sheet) sequentially formed using two non-baked dummy substrates and subsequently using two main substrates. As a result, the method of changing the reflectance with respect to the linear velocities of X1 and X2 is different, and the two transition linear velocities are also different from X1 of 10 m / s and X2 of 9 m / s.
In X1 and X2, since X1 is formed first, it is considered that X1 is more influenced by the gas etc. adsorbed on the dummy substrate. Although the influence is reduced in X2 formed after X1, the influence is not completely eliminated. Therefore, it is considered that the transition linear velocity is faster than B1 and B2.

これらの媒体に対し、ブルーレイディスク1倍速、2倍速で、繰り返し記録を10回行ったときのジッタを図3、図4示す。
B1、B2は、1倍速、2倍速とも2枚の記録特性は同じである。これに対し、X1、X2をみると、1倍速の場合には、X2はB1、B2と一致しているが、X1は低パワー側の記録特性が異なっている。更に、2倍速では、X2もB1、B2とは記録特性が異なり、X1とX2の記録特性の差も大きい。このように、本基板を用いて製膜する前に用いるダミー基板のベークの有無によって転移線速が異なり、その結果、記録特性も異なってきてしまう。特に、より高速で記録した場合の特性のばらつきが大きい。
CD−RWやDVD+RWでも、転移線速にばらつきを生じる場合があったが、記録特性は殆ど影響を受けなかった。しかし、ブルーレイディスクのような高密度記録媒体の場合には、特に高速で、よりばらつきが大きくなってしまうことが分かった。
FIG. 3 and FIG. 4 show jitters when these media are repeatedly recorded 10 times at the Blu-ray disc 1 × speed and 2 × speed.
B1 and B2 have the same recording characteristics for both the 1 × speed and the 2 × speed. On the other hand, when X1 and X2 are viewed, in the case of 1 × speed, X2 matches B1 and B2, but X1 has different recording characteristics on the low power side. Furthermore, at double speed, X2 is also different in recording characteristics from B1 and B2, and the difference in recording characteristics between X1 and X2 is large. As described above, the transition linear velocity varies depending on whether or not the dummy substrate used before film formation using the present substrate is baked, and as a result, the recording characteristics also vary. In particular, there is a large variation in characteristics when recording at higher speed.
Even with CD-RW and DVD + RW, the transition linear velocity sometimes varied, but the recording characteristics were hardly affected. However, in the case of a high-density recording medium such as a Blu-ray disc, it has been found that the variation becomes particularly large at a high speed.

ダミー基板をベークしていないと、ダミー基板を用いて製膜した後に、続いて本基板を用いて製膜する媒体が影響を受けてその特性が変わるということは、極微量のガスや水分の影響を受け易いということであり、量産時にも何らかの生産条件の変化を受け易いということが言える。例えば量産では基板成型から一定条件でスパッタ装置に投入されるが、トラブルで一時停止してしまった場合、滞留してしまった基板はガスや水分の吸着条件が異なると考えられるので使用できなくなり、無駄が生じる。また、何らかの理由によりスパッタ装置の背圧が通常より高くなってしまった場合なども影響を受け易いと考えられる。基本的には、滞留してしまった基板を廃棄したり、プロセス管理を厳密に行うなどの方策により、ばらつきは避けられると予想されるが、歩留まり等の観点から好ましくはない。また、ここでは2倍速の例を示したが、今後、より高速記録に対応した媒体が求められると、問題はより大きくなるものと予想される。
一方、Teを添加した場合には、ダミー基板のベークの有無による転移線速の変動はみられなかったが、ボトムジッタが高めであり、記録特性の改善が必要であった(後述する比較例1参照)。
そこで、本発明は、プロセス安定性を確保しながら、ブルーレイディスク高速記録においても記録特性の優れた光記録媒体の提供を目的とする。
If the dummy substrate is not baked, after the film is formed using the dummy substrate, the characteristics of the medium that is subsequently formed using this substrate are affected and the characteristics change. It is easy to be affected, and it can be said that it is susceptible to some change in production conditions even during mass production. For example, in mass production, it is thrown into the sputtering equipment under certain conditions from substrate molding, but if it is temporarily stopped due to trouble, the retained substrate can be used because it is thought that the adsorption conditions of gas and moisture are different, Waste occurs. In addition, it is considered that it is easily affected when the back pressure of the sputtering apparatus becomes higher than usual for some reason. Basically, it is expected that variations will be avoided by measures such as discarding the substrate that has accumulated, or strictly controlling the process, but this is not preferable from the viewpoint of yield. In addition, although an example of double speed is shown here, the problem is expected to become even greater if a medium that supports higher speed recording is required in the future.
On the other hand, when Te was added, the transition linear velocity did not fluctuate depending on whether or not the dummy substrate was baked, but the bottom jitter was high and the recording characteristics had to be improved (Comparative Example 1 described later). reference).
Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical recording medium having excellent recording characteristics even in high-speed Blu-ray disc recording while ensuring process stability.

上記課題は、次の1)〜2)の発明によって解決される。
1) 相変化記録層の主成分として、Ge、Sb、Sn及びSを含むことを特徴とする光記録媒体。
2) Sは、記録層中に2原子%以上、9原子%以下の範囲で含まれていることを特徴とする1)に記載の光記録媒体。
The above problems are solved by the following inventions 1) to 2).
1) An optical recording medium comprising Ge, Sb, Sn and S as main components of a phase change recording layer.
2) The optical recording medium according to 1), wherein S is contained in the recording layer in a range of 2 atomic% to 9 atomic%.

以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明では相変化記録層の材料として、Ge、Sb、Sn及びSを主成分としたものを用いる。ここで、主成分とは、材料全体の90原子%以上を占めることを意味する。
まず、Ge−Sb−Sn3元系について説明する。Sbは結晶と非晶質とで光学定数が大きく異なるため、相変化型の光記録媒体のベースとなる材料として用いられるが、単独では非晶質化しにくいため、非晶質化を促進する元素が加えられる。Geは非晶質化を促進する元素の一つであり、非晶質の安定性や信号振幅の増大にも優れた効果を有する。ただし、Ge−Sbの2元系だけでは結晶状態が不均一であるため、ノイズが大きく、記録した際のジッタも大きい。そこで更にSnを添加するとGe−Sbの結晶の不均一性が改善され、ノイズ、ジッタともに低下する。結晶の不均一性の改善効果を得るには、Sbに対してSnを10原子%以上添加することが望ましい。また、Snの量が多すぎると、保存後に記録した場合の特性劣化を招くことがあるため、多くともSbに対して25原子%以下とすることが望ましい。Geは、5原子%以上であれば、非晶質の安定性や信号振幅の増大に効果を発揮する。ただし、多すぎるとSnを添加した場合でも結晶の不均一性が改善されなくなり、ノイズやジッタの上昇、更には感度の低下も招くため、上限は30原子%とする。
もっとも、以上のGeSbSnの組成比はブルーレイの2倍速(9.84m/s)記録に適したものであり、これに限定されるものではない。即ち、所望の記録線速に応じて、各層(特に保護層)の材料や膜厚等と共に、GeSbSnの組成比を適宜調整可能であり、例えば、低線速記録の場合には、転移線速が遅くなるようにGeの比率を増やし、高線速記録の場合には、転移線速が速くなるようにGeの比率を減らすことが考えられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, a material containing Ge, Sb, Sn and S as main components is used as a material for the phase change recording layer. Here, the main component means that it accounts for 90 atomic% or more of the entire material.
First, the Ge—Sb—Sn ternary system will be described. Sb is used as a base material for phase change type optical recording media because the optical constants of crystal and amorphous are greatly different. However, since Sb is not easily amorphized by itself, it is an element that promotes amorphization. Is added. Ge is one of the elements that promotes amorphization, and has an excellent effect on the stability of the amorphous phase and the increase in signal amplitude. However, since the crystal state is not uniform only with the Ge—Sb binary system, the noise is large and the jitter during recording is also large. Therefore, if Sn is further added, the non-uniformity of the Ge—Sb crystal is improved and both noise and jitter are reduced. In order to obtain the effect of improving the non-uniformity of the crystal, it is desirable to add 10 atomic% or more of Sn with respect to Sb. Further, if the amount of Sn is too large, characteristic deterioration may occur when recording is performed after storage. Therefore, it is desirable that the amount be at most 25 atomic% with respect to Sb. If Ge is 5 atomic% or more, it is effective in increasing the stability of the amorphous material and the signal amplitude. However, if too much is added, even if Sn is added, the crystal non-uniformity will not be improved, and noise and jitter will increase, and further the sensitivity will decrease, so the upper limit is set to 30 atomic%.
However, the above composition ratio of GeSbSn is suitable for Blu-ray double speed (9.84 m / s) recording, and is not limited to this. That is, the composition ratio of GeSbSn can be adjusted as appropriate together with the material and film thickness of each layer (especially the protective layer) according to the desired recording linear velocity. For example, in the case of low linear velocity recording, the transition linear velocity In the case of high linear velocity recording, it is conceivable to decrease the Ge proportion so as to increase the transition linear velocity.

上記組成範囲のGe−Sb−Sn3元系でも、ある程度の記録特性を実現することはできる。しかし、ブルーレイディスクのような高密度記録媒体に適用する場合、1倍速程度であれば良好であるが、2倍速以上の高速記録になってくると、ボトムジッタがあまり低下せず、また記録感度も悪いため、マージンが狭くなってしまう。2倍速程度からこのような傾向がみられ、3倍速以上の高速では更に改善が必要な状況となってくる。そこで他の元素を添加して改善する必要があるが、前述したように、添加する元素の種類によっては、記録特性が改善されたとしてもプロセス安定性に問題を生じてしまう。
本発明者らはこの問題に対処するため、記録特性が改善でき且つプロセス安定性も損ねない添加元素を探索した結果、Sが適切であることを見出した。
実施例で詳しく説明するが、Sを添加した場合、ベークしていないダミー基板を用いても影響を受けないため、プロセス安定性は問題ないと判断できる。ベークしていないダミー基板を用いた場合に影響を受ける原因は解明されていないが、一つには添加元素の酸化され易さが原因ではないかと推測される。Sの場合には、記録層中のGe、Sb、Sn等との結合力が強いため酸化されにくいと考えられる。
Even with the Ge—Sb—Sn ternary system having the above composition range, a certain degree of recording characteristics can be realized. However, when applied to a high-density recording medium such as a Blu-ray disc, it is good if it is about 1 × speed. However, when high-speed recording of 2 × speed or more is achieved, bottom jitter does not decrease so much, and recording sensitivity also increases. Because it is bad, the margin becomes narrow. Such a tendency is seen from about double speed, and further improvement is required at high speed of 3 times speed or higher. Therefore, it is necessary to improve by adding other elements. However, as described above, depending on the type of element to be added, even if the recording characteristics are improved, a problem occurs in process stability.
In order to cope with this problem, the present inventors have found that S is appropriate as a result of searching for an additive element that can improve recording characteristics and does not impair process stability.
As will be described in detail in the examples, when S is added, even if a non-baked dummy substrate is used, it is not affected, and therefore it can be determined that there is no problem in process stability. Although the cause of the influence when using a non-baked dummy substrate has not been elucidated, it is presumed that the cause is that the additive element is easily oxidized. In the case of S, it is considered that it is difficult to oxidize because the bonding strength with Ge, Sb, Sn, etc. in the recording layer is strong.

Sの添加によりボトムジッタ、繰り返し記録耐久性、記録感度の改善がみられたが、何故このような効果があるのかは明らかではない。Sを添加した場合、転移線速が遅くなる傾向にあるので、通常、Geを減らすことにより適切な転移線速となるように調整する。Geは前述したように、非晶質化を促進するとともに非晶質の安定性や信号振幅の増大に効果を発揮する優れた元素であるが、多すぎるとノイズやジッタの上昇、感度の低下を招く。30原子%以下であれば概ね良好であるが、なるべく少ない方がジッタや感度は良い傾向がある。しかるに、Sを添加するとGeの効果を補うことができ、Geを減らすことができるので好ましい。例えばSを2原子%増やしたらGeを1原子%減らすような調整をするとよい。
Sの添加量は、少なすぎるとジッタの改善効果が見られないため、2原子%以上とすることが好ましい。また、多すぎるとジッタの上昇を招いてしまう弊害がみられるため、多くとも9原子%以下とすることが望ましい。
したがって、上記の記載と併せると、ブルーレイの2倍速の場合におけるGeSbSnSの好ましい組成比は、Geα(Sb100−βSnβ100−α−γγ(α、β、γは原子%)として、5≦α+(γ/2)≦30、10≦β≦25、2≦γ≦9と表わすことができる。
Although the addition of S has improved bottom jitter, repeated recording durability, and recording sensitivity, it is not clear why this effect is obtained. When S is added, the transition linear velocity tends to be slow. Therefore, adjustment is usually made so as to obtain an appropriate transition linear velocity by reducing Ge. As described above, Ge is an excellent element that promotes amorphization and is effective in increasing amorphous stability and signal amplitude. However, if it is too much, it increases noise, jitter, and sensitivity. Invite. If it is 30 atomic% or less, it is generally good, but as much as possible, jitter and sensitivity tend to be good. However, it is preferable to add S because the effect of Ge can be compensated and Ge can be reduced. For example, when S is increased by 2 atomic%, Ge may be adjusted to be decreased by 1 atomic%.
If the addition amount of S is too small, the effect of improving the jitter is not seen, so it is preferable to set it to 2 atomic% or more. Moreover, since an adverse effect of increasing the jitter is observed when the amount is too large, it is desirable that the amount be at most 9 atomic%.
Therefore, in combination with the above description, the preferred composition ratio of GeSbSnS at the double speed of Blu-ray is Ge α (Sb 100-β Sn β ) 100-α-γ S γ (α, β, γ are atomic%) 5 ≦ α + (γ / 2) ≦ 30, 10 ≦ β ≦ 25, and 2 ≦ γ ≦ 9.

次に、ブルーレイディスク(BD)の書き換え型光記録媒体であるBD−REの物理的構造の具体例について説明する。なお、本発明はブルーレイディスク規格に準拠した光記録媒体で有効性を確認しているが、ブルーレイディスク以外にもCDやDVD、HD DVDに準拠した光記録媒体に用いても良い。
図10に、記録層として相変化材料を用いた書き換え型の光記録媒体であるBD−REの断面構造を示した。案内溝を有する基板上に、光の入射側からみて、少なくとも、カバー層、第一保護層、記録層、第二保護層、反射層がこの順に積層形成されている。DVD、及び、HD DVDの場合は、反射層上に有機保護膜をスピンコートにより形成するが、ブルーレイディスクの場合は、第一保護層上に透明カバー層が形成される。
また、ここに示したのは記録層が1層のタイプの例であるが、透明中間層を介して記録層を2層有する2層タイプもある。この2層タイプの場合には、光の入射側からみて手前の層は、奥側の層の記録再生を行うために、半透明である必要がある。
Next, a specific example of the physical structure of a BD-RE that is a rewritable optical recording medium for a Blu-ray disc (BD) will be described. Although the present invention has been confirmed to be effective with an optical recording medium compliant with the Blu-ray Disc standard, it may be used with an optical recording medium compliant with CD, DVD, or HD DVD in addition to the Blu-ray Disc.
FIG. 10 shows a cross-sectional structure of a BD-RE that is a rewritable optical recording medium using a phase change material as a recording layer. On the substrate having the guide groove, at least a cover layer, a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflective layer are laminated in this order as viewed from the light incident side. In the case of DVD and HD DVD, an organic protective film is formed on the reflective layer by spin coating. In the case of Blu-ray Disc, a transparent cover layer is formed on the first protective layer.
In addition, although the example shown here is of a type having one recording layer, there is also a two-layer type having two recording layers via a transparent intermediate layer. In the case of this two-layer type, the layer on the near side as viewed from the light incident side needs to be translucent in order to perform recording / reproduction of the inner layer.

[透明基板]
基板の材料は、通常、ガラス、セラミックス、あるいは樹脂であり、樹脂基板が成形性、コストの点で好適である。樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、成形性、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
基板の大きさ、厚さ、溝形状は、準拠する規格に合うように成形する。
BDでは、直径12cm、厚さ1.1mm、トラックピッチ0.32μmであり、通常、幅0.14〜0.18μm、深さ20〜35nmの案内溝を設け、光の入射側からみて、凸部の溝に記録される、所謂、on groove記録が採用されている。
この案内溝は、通常は、記録装置が記録の際に周波数をサンプリングするために蛇行溝(ウォブル)となっており、ウォブルの位相を反転したり、周波数をある決められた領域で変更したりして、アドレスや、記録に必要な情報などを入力できるようにしてある。
特に本発明の光記録媒体の記録方法については、記録に必要なストラテジ情報や記録パワーなどの情報をディスク最内周部(リードイン領域)に入力することによって記録装置がこれを読み取り、最適な記録ストラテジとパワー条件で記録を行うことにより、記録速度に適した記録がなされる。
[Transparent substrate]
The material of the substrate is usually glass, ceramics, or resin, and the resin substrate is preferable in terms of moldability and cost. Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin, urethane resin, etc. Polycarbonate resins and acrylic resins that are excellent in terms of moldability, optical characteristics, and cost are preferred.
The size, thickness, and groove shape of the substrate are formed so as to conform to the standards that comply.
A BD has a diameter of 12 cm, a thickness of 1.1 mm, and a track pitch of 0.32 μm. Usually, a guide groove having a width of 0.14 to 0.18 μm and a depth of 20 to 35 nm is provided, and is projected from the light incident side. So-called on-groove recording, which is recorded in the groove of the part, is employed.
This guide groove is usually a meandering groove (wobble) in order for the recording device to sample the frequency during recording, and the phase of the wobble is reversed or the frequency is changed in a predetermined area. The address and information necessary for recording can be input.
In particular, in the recording method of the optical recording medium of the present invention, the recording apparatus reads the information necessary for recording such as strategy information and recording power into the innermost peripheral part (lead-in area) of the disc, By performing recording under the recording strategy and power conditions, recording suitable for the recording speed is performed.

[第一保護層]
第一保護層の材料としては、Si、Zn、Sn、In、Mg、Al、Ti、Zr、Nb、Taなどの各酸化物;Si、Ge、Al、Ti、B、Zrなどの各窒化物;Zn、Taなどの各硫化物;Si、Ta、B、W、Ti、Zrなどの各炭化物;ダイヤモンド状カーボン;或いはそれらの混合物が挙げられる。中でも、モル比が7:3から8:2近傍のZnSとSiOの混合物が好ましく、特に熱膨張変化、高温・室温変化の熱ダメージを伴う記録層と基板の間に位置する第一保護層としては、光学定数、熱膨張係数、弾性率が最適化されている(ZnS)80(SiO20(モル%)が望ましい。また、異なる材料を積層して用いてもよい。
第一保護層の膜厚は、反射率、変調度及び記録感度に大きく影響する。そこで、ディスク反射率が極小値となる膜厚にすれば、記録感度が増大するので望ましい。BD−REでは、20〜50nmの範囲が好適である。20nmより薄いと、基板への熱ダメージが大きくなり、溝形状の変化が起こる。また、50nmより厚いと、ディスク反射率が高くなり、記録感度が低下する。
[First protective layer]
Materials for the first protective layer include Si, Zn, Sn, In, Mg, Al, Ti, Zr, Nb, Ta and other oxides; Si, Ge, Al, Ti, B, Zr and other nitrides Each sulfide such as Zn and Ta; each carbide such as Si, Ta, B, W, Ti and Zr; diamond-like carbon; or a mixture thereof. Among these, a mixture of ZnS and SiO 2 having a molar ratio of from 7: 3 to 8: 2 is preferable, and the first protective layer is located between the recording layer and the substrate that are particularly susceptible to thermal expansion change and thermal damage due to high temperature / room temperature change. (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 (mol%) in which the optical constant, the thermal expansion coefficient, and the elastic modulus are optimized. In addition, different materials may be stacked and used.
The film thickness of the first protective layer greatly affects the reflectance, the degree of modulation, and the recording sensitivity. Therefore, it is desirable to use a film thickness at which the disk reflectivity becomes a minimum value, since the recording sensitivity increases. In BD-RE, the range of 20-50 nm is suitable. When the thickness is less than 20 nm, thermal damage to the substrate increases and the groove shape changes. On the other hand, if it is thicker than 50 nm, the disk reflectivity increases and the recording sensitivity decreases.

[相変化記録層]
GeSbSnの組成比は、上述したように、ブルーレイの2倍速(9.84m/s)記録の場合、組成式をGeα(Sb100−βSnβ100−α−γγ(α、β、γは原子%)として、5≦α+(γ/2)≦30、10≦β≦25、2≦γ≦9とすることが好ましい。
記録層の膜厚は6nm以上とする。これより薄くなると、結晶化速度や変調度が極端に低下してしまい、良好な記録が困難となる。また上限は、1層タイプ、又は2層タイプの奥側の層では30nm、より好ましくは22nm以下、2層タイプの手前側の層では10nm以下、より好ましくは8nm以下とする。これより厚くすると、記録感度の低下や、繰り返し記録耐久性の劣化を生じ、2層タイプの手前側の層の場合、透過光の確保が難しくなり、奥側の層の記録再生が困難となってしまう。
[Phase change recording layer]
As described above, the composition ratio of GeSbSn is the composition formula Geα (Sb 100-β Sn β ) 100-α-γ S γ (α, β, in the case of Blu-ray double speed (9.84 m / s) recording. It is preferable that 5 ≦ α + (γ / 2) ≦ 30, 10 ≦ β ≦ 25, 2 ≦ γ ≦ 9.
The film thickness of the recording layer is 6 nm or more. If it is thinner than this range, the crystallization speed and the degree of modulation will be extremely reduced, and good recording will be difficult. The upper limit is 30 nm for the back layer of the single layer type or the double layer type, more preferably 22 nm or less, and 10 nm or less, more preferably 8 nm or less for the near layer of the two layer type. If it is thicker than this, the recording sensitivity will decrease and the repeated recording durability will deteriorate, and in the case of a two-layer type front layer, it will be difficult to secure transmitted light, and it will be difficult to record / reproduce the back layer. End up.

[第二保護層]
第二保護層の材料としては、第一保護層と同様に、Si、Zn、Sn、In、Mg、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Sbなどの各酸化物;Si、Ge、Al、Ti、B、Zrなどの各窒化物;Zn、Taなどの各硫化物;Si、Ta、B、W、Ti、Zrなどの各炭化物;ダイヤモンド状カーボン;或いはそれらの混合物が挙げられる。
第二保護層も反射率、変調度に影響するが、記録感度への影響が最も大きく、適切な熱伝導率を有するものを用いることが重要である。モル比が7:3から8:2近傍のZnSとSiOの混合物は、熱伝導率が小さく、反射層への放熱速度を小さくするため、記録感度が良い。ただし、ブルーレイディスクのようにNAが高く、ビームのエネルギー密度が高い場合には、再生光劣化が起き易いので、熱伝導率は大きい方が好ましい。また記録密度も高いため、熱干渉によるジッタの上昇も防ぐためにも熱伝導率は大きい方がよい。
熱伝導率の大きい材料としては、透明導電膜として知られるIn、ZnO、SnOを主成分とするものやそれらの混合物、あるいは、TiO、Nb、ZrOを主成分とするものやそれらの混合物などを用いることができる。更に、異なる材料を積層して用いてもよい。
第二保護層の膜厚は、4〜50nmが好適である。4nmより薄いと、記録層の光吸収率が低下し、更に、記録層で発生した熱が反射層へ拡散されやすくなるため、記録感度が大幅に低下してしまうので好ましくない。50nmより厚くなると、クラックが発生し易くなるため、好ましくない。
[Second protective layer]
As the material of the second protective layer, similarly to the first protective layer, each oxide such as Si, Zn, Sn, In, Mg, Al, Ti, Zr, Nb, Ta, and Sb; Si, Ge, Al, Examples thereof include nitrides such as Ti, B, and Zr; sulfides such as Zn and Ta; carbides such as Si, Ta, B, W, Ti, and Zr; diamond-like carbon; or a mixture thereof.
Although the second protective layer also affects the reflectance and the degree of modulation, it is important to use a layer that has the greatest influence on the recording sensitivity and has an appropriate thermal conductivity. A mixture of ZnS and SiO 2 having a molar ratio in the vicinity of 7: 3 to 8: 2 has a low thermal conductivity and a low heat dissipation rate to the reflective layer, so that the recording sensitivity is good. However, when the NA is high and the energy density of the beam is high as in the case of a Blu-ray disc, the reproduction light is liable to deteriorate, so it is preferable that the thermal conductivity is large. Also, since the recording density is high, it is preferable that the thermal conductivity be large in order to prevent an increase in jitter due to thermal interference.
As a material having a high thermal conductivity, a material mainly containing In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 or a mixture thereof known as a transparent conductive film, or a mixture thereof, or TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 are the main components. Or a mixture thereof can be used. Furthermore, different materials may be used in a stacked manner.
The thickness of the second protective layer is preferably 4 to 50 nm. If it is thinner than 4 nm, the light absorptance of the recording layer is lowered, and further, heat generated in the recording layer is easily diffused to the reflective layer, so that the recording sensitivity is greatly lowered, which is not preferable. If it is thicker than 50 nm, cracks tend to occur, which is not preferable.

[反射層]
反射層には、Al、Au、Ag、Cu等の金属、及びそれらを主成分とする合金が好ましい。合金化する際の添加元素としては、Bi、In、Cr、Ti、Si、Cu、Ag、Pd、Ta、Ndなどが使用できる。
反射層は、記録再生時の光を反射して光の利用効率を高めると共に、記録時に発生した熱を逃がす放熱層の役割も担う。1層タイプの光記録媒体の場合、又は2層タイプの光記録媒体における光の入射側からみて奥側の記録層へ記録する場合の反射層は、光の利用効率と冷却速度の確保の観点から、70nm以上の厚さとすることが望ましい。しかし、光の利用効率、及び冷却速度はある程度の膜厚以上では飽和してしまい、また、厚過ぎると膜応力により基板の反りを生じたり、膜剥がれを起こす場合もあるので、300nm以下とすることが望ましい。
2層タイプの光記録媒体における光の入射側からみて手前側の層の反射層は、光を透過する必要があることからあまり厚くすることはできず、5〜15nmの範囲とすることが望ましい。しかし、これでは、放熱特性が悪いため、良好な記録ができない場合があるため、次に説明する放熱層を用いる。
[Reflective layer]
The reflective layer is preferably made of a metal such as Al, Au, Ag, or Cu and an alloy containing them as a main component. Bi, In, Cr, Ti, Si, Cu, Ag, Pd, Ta, Nd, etc. can be used as additive elements when alloying.
The reflective layer reflects the light at the time of recording / reproducing to increase the light use efficiency and also serves as a heat radiating layer for releasing the heat generated at the time of recording. In the case of a single-layer type optical recording medium, or in the case of recording on a recording layer on the back side when viewed from the light incident side in a two-layer type optical recording medium, the reflective layer has a viewpoint of ensuring the light use efficiency and the cooling rate. Therefore, the thickness is desirably 70 nm or more. However, the light utilization efficiency and the cooling rate are saturated at a certain film thickness or more, and if it is too thick, the substrate may be warped or the film may be peeled off due to film stress. It is desirable.
In the two-layer type optical recording medium, the reflection layer on the near side as viewed from the light incident side needs to transmit light, so it cannot be made too thick and is preferably in the range of 5 to 15 nm. . However, since heat dissipation characteristics are poor in this case, good recording may not be possible. Therefore, a heat dissipation layer described below is used.

[放熱層]
放熱層は、2層タイプの光記録媒体における光の入射側からみて手前側の層へ記録する場合の放熱性の確保と反射率の調整のために、反射層と中間層の間に設けられる。透過率が高く熱伝導率が大きいことが望ましく、透明導電膜として知られるIn、ZnO、SnOを主成分としたものやそれらの混合物、あるいは、TiO、Al、ZrO、Nbを主成分としたものやそれらの混合物などを用いることができる。記録層の組成によっては放熱性を必要としない場合もあるので、そのときは、保護膜としてよく用いられるZnSとSiOの混合物を用いてもよい。
放熱層の厚さは、10〜150nm程度が好ましい。10nmより薄いと、放熱層や光学調整層としての機能が不足し、150nmより厚いと、膜応力により基板の反りを生じたり、膜剥がれを起こす恐れがある。
[Heat dissipation layer]
The heat-dissipating layer is provided between the reflective layer and the intermediate layer in order to ensure heat dissipation and adjust the reflectivity when recording on the front layer as viewed from the light incident side in the two-layer type optical recording medium. . It is desirable that the transmittance is high and the thermal conductivity is high, and those containing In 2 O 3 , ZnO, SnO, which are known as transparent conductive films, and mixtures thereof, or TiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 are used. , Nb 2 O 5 as a main component, or a mixture thereof can be used. Depending on the composition of the recording layer, heat dissipation may not be required. In that case, a mixture of ZnS and SiO 2 often used as a protective film may be used.
The thickness of the heat dissipation layer is preferably about 10 to 150 nm. When the thickness is less than 10 nm, the function as a heat dissipation layer or an optical adjustment layer is insufficient. When the thickness is more than 150 nm, the substrate may be warped or peeled off due to film stress.

[硫化防止層]
反射層としてAg又はAg合金を用い、第二保護層としてZnSとSiOの混合物のようにSを含む膜を用いる場合には、保存中の反射層の硫化による欠陥の発生を防止するため、第二保護層と反射層の間に硫化防止層を設ける。硫化防止層の材料としては、Si、SiC、TiC、TiO、TiCとTiOの混合物等が適している。
硫化防止層の膜厚は、1nm以上にしないと均一な膜が形成できないため、硫化防止の機能が損なわれてしまう。好ましくは2nm以上とする。膜厚の上限は媒体の光学特性や熱特性のバランスをみながら決められるが、通常、10nm以下とした方がそのバランスがよく、良好な繰り返し記録特性を得られることが多い。
[中間層]
2層タイプの光記録媒体における二つの記録層を分離するための層であり、DVDやHD DVDでは通常、厚さ50μm程度、ブルーレイディスクでは通常、厚さ25μm程度の透明樹脂で形成される。
[カバー層]
ブルーレイディスクの場合には、光が入射、透過する層であり、1層タイプの媒体では通常、厚さ100μm程度、2層タイプの媒体では、通常、厚さ75μm程度の透明樹脂で形成される。
[Sulfurization prevention layer]
When using Ag or an Ag alloy as the reflective layer and using a film containing S as the mixture of ZnS and SiO 2 as the second protective layer, in order to prevent the occurrence of defects due to sulfurization of the reflective layer during storage, An antisulfurization layer is provided between the second protective layer and the reflective layer. Suitable materials for the sulfidation prevention layer include Si, SiC, TiC, TiO 2 , a mixture of TiC and TiO 2 , and the like.
Since the uniform film cannot be formed unless the film thickness of the sulfidation prevention layer is 1 nm or more, the sulfidation prevention function is impaired. Preferably it is 2 nm or more. The upper limit of the film thickness is determined while considering the balance of the optical characteristics and thermal characteristics of the medium. Usually, the balance is better when the thickness is 10 nm or less, and good repeated recording characteristics are often obtained.
[Middle layer]
It is a layer for separating two recording layers in a two-layer type optical recording medium, and is usually formed of a transparent resin having a thickness of about 50 μm for a DVD or HD DVD and a thickness of about 25 μm for a Blu-ray disc.
[Cover layer]
In the case of a Blu-ray disc, it is a layer through which light is incident and transmitted, and is usually formed of a transparent resin having a thickness of about 100 μm for a one-layer type medium and a thickness of about 75 μm for a two-layer type medium. .

上述のような膜を基板上に順次スパッタにより形成し、更にカバー層を形成したのち、初期化工程を経て光記録媒体として使用される。
初期化工程では、1×(数10〜数100)μm程度に成形された1〜2W程度のレーザ光を走査しながら照射し、成膜直後は非晶質状態である記録層を結晶化する。
A film as described above is sequentially formed on a substrate by sputtering, and after forming a cover layer, the film is used as an optical recording medium after an initialization process.
In the initializing step, laser light of about 1 to 2 W shaped to be about 1 × (several 10 to several 100) μm is irradiated while scanning, and the amorphous recording layer is crystallized immediately after film formation. .

相変化記録層の主成分として、Ge、Sb、Snに加えてSを含むことにより、プロセス安定性が劣化することなく、Ge、Sb、Snのみからなる相変化記録層に比べて記録特性及び記録感度が改善された光記録媒体を提供できる。   By including S in addition to Ge, Sb, and Sn as the main component of the phase change recording layer, the recording characteristics and the recording characteristics can be improved as compared with the phase change recording layer made only of Ge, Sb, and Sn without deteriorating process stability An optical recording medium with improved recording sensitivity can be provided.

以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.

実施例1、比較例1
螺旋状の連続グルーブを転写したBD−RE用ポリカーボネート基板に、反射層、第二保護層、相変化記録層、第一保護層、カバー層を順次積層し、記録層を初期結晶化したものを試料として用いた。
エリコン(旧Unaxis)社製のスパッタ装置DVD Sprinterを用いて、Ag−0.5重量%Bi合金からなる膜厚140nmの反射層、ZnO−2重量%Alからなる膜厚12nmの第二保護層、Ge(20.0)Sb(60.0)Sn(15.0)S(5.0)(原子%)からなる膜厚11nmの相変化記録層、ZnS−20モル%SiOからなる膜厚39nmの第一保護層を順に製膜した。
次いで、第一保護層上に紫外線硬化樹脂(日本化薬社製)をスピンコート法により塗布し、厚さ100μmのカバー層を形成し、実施例1の光記録媒体を得た。
また、相変化記録層の材料を、Ge(20.0)Sb(60.0)Sn(15.0)Te(5.0)(原子%)に変えた点以外は、実施例1と同様にして比較例1の光記録媒体を得た。
次いで、これらの光記録媒体の記録層を、波長830nm、ビーム径1×96μmのヘッドを有する日立CP社製の光ディスク初期化装置により初期結晶化した。
Example 1 and Comparative Example 1
A polycarbonate substrate for BD-RE to which a spiral continuous groove is transferred, a reflective layer, a second protective layer, a phase change recording layer, a first protective layer, and a cover layer are sequentially laminated, and the recording layer is initially crystallized. Used as a sample.
Using a sputtering apparatus DVD Sprinter manufactured by Oerlikon (formerly Unaxis), a reflective layer with a thickness of 140 nm made of an Ag-0.5 wt% Bi alloy, a 12 nm thick film made of ZnO-2 wt% Al 2 O 3 Two protective layers, a 11 nm-thick phase change recording layer comprising Ge (20.0) Sb (60.0) Sn (15.0) S (5.0) (atomic%), ZnS-20 mol% SiO 2 A first protective layer having a thickness of 39 nm was sequentially formed.
Next, an ultraviolet curable resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was applied on the first protective layer by a spin coating method to form a cover layer having a thickness of 100 μm, whereby an optical recording medium of Example 1 was obtained.
Moreover, it is the same as that of Example 1 except the point which changed the material of the phase change recording layer into Ge (20.0) Sb (60.0) Sn (15.0) Te (5.0) (atomic%). Thus, an optical recording medium of Comparative Example 1 was obtained.
Next, the recording layers of these optical recording media were initially crystallized by an optical disc initialization apparatus manufactured by Hitachi CP having a head having a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 1 × 96 μm.

上記のようにして得られた試料に、パルステック工業社製のBD−R/REの記録・再生信号評価装置ODU−1000を用いて、転移線速の測定、及び情報の記録を行った。使用した光ピックアップの仕様は、波長405nm、NA0.85である。記録する情報はBDの変調方式である1−7PPに準拠したランダムパターンとし、最短マーク長2Tが0.149μmに相当する記録密度とした。記録速度は1倍速(4.92m/s)及び2倍速(9.84m/s)、記録ストラテジはBD−REで用いられている(n−1)ストラテジに準拠したものを使用した。
リミットエコライズ後のジッタの記録パワー依存性を評価したが、このときの消去パワーは繰り返し記録10回のジッタが最も小さくなるときの記録パワーをPwo、消去パワーをPeo、ε=Peo/Pwoとしたときのεが一定となるように設定した。
図5に、ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した実施例1の2枚の媒体S1(1枚目)、S2(2枚目)の転移線速を示す。また、図6に、ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した比較例1の2枚の媒体T1(1枚目)、T2(2枚目)の転移線速を示す。図5をみると、S1、S2ともに転移線速は11m/sであり、図6をみると、T1、T2ともに転移線速は8m/sであるから、実施例1、比較例1ともに2枚の媒体の転移線速は一致し、ベークしていないダミー基板の影響を受けていないことが分かる。
しかし、同じ層構成であるのに、全て結晶である場合の反射率は実施例1の方が高く、設計の自由度は実施例1の方が高い。
図7、図8には、上記実施例1及び比較例1の媒体について、各々、1倍速、2倍速で繰り返し記録を10回行ったときのジッタを示した。BD−REの2倍速までの規格では、ジッタは7%以下である必要がある。「転移線速>記録線速」の関係にあると比較的良好な記録が可能であることから、転移線速が遅い比較例1の場合、2倍速記録には不利な状況にあるため、ジッタは悪い。しかし、比較例1でも、1倍速記録には十分な転移線速を持つとみなすことができるが、1倍速記録のジッタもそれほど良くはない。従って、最適化の余地はあるものの、TeよりはSを添加する方が有利であると言える。
なお、再生光安定性に関しては、どちらも問題なかった。
Using the BD-R / RE recording / reproduction signal evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., the transition linear velocity was measured and information was recorded on the sample obtained as described above. The specifications of the optical pickup used are a wavelength of 405 nm and NA of 0.85. The information to be recorded was a random pattern based on 1-7PP, which is a BD modulation method, and the recording density was such that the shortest mark length 2T corresponds to 0.149 μm. The recording speed was 1 × (4.92 m / s) and 2 × (9.84 m / s), and the recording strategy was based on the (n-1) strategy used in BD-RE.
The recording power dependency of jitter after the limit eco-evaluation was evaluated. At this time, the erasing power is Pwo, the erasing power is Peo, and ε = Peo / Pwo, when the jitter of 10 repeated recordings is the smallest. Ε was set to be constant.
FIG. 5 shows two media S1 (first sheet) and S2 (2) of Example 1 that were formed using a dummy substrate that was not baked, and then sequentially formed using two main substrates. The transition linear velocity of the first sheet) is shown. FIG. 6 shows two media T1 (first sheet) and T2 of Comparative Example 1 in which a film was formed using a non-baked dummy substrate and subsequently formed using two main substrates. The transition linear velocity of (second sheet) is shown. Referring to FIG. 5, the transition linear velocity is 11 m / s for both S1 and S2, and the transition linear velocity is 8 m / s for both T1 and T2 in FIG. It can be seen that the transition linear velocities of the sheets of media coincide and are not affected by the unbaked dummy substrate.
However, even though the layers are the same, the reflectance in the case of all crystals is higher in the first embodiment, and the degree of design freedom is higher in the first embodiment.
FIGS. 7 and 8 show the jitters of the media of Example 1 and Comparative Example 1 when repeated recording was performed 10 times at 1 × speed and 2 × speed, respectively. In the standard up to double speed of BD-RE, the jitter needs to be 7% or less. Since comparatively good recording is possible when the relationship of “transition linear velocity> recording linear velocity” is satisfied, in the case of Comparative Example 1 where the transition linear velocity is slow, there is a disadvantage in the double-speed recording. Is bad. However, even in Comparative Example 1, it can be regarded that the transition linear velocity is sufficient for 1 × speed recording, but the jitter of 1 × speed recording is not so good. Therefore, although there is room for optimization, it can be said that it is more advantageous to add S than Te.
Note that there was no problem with respect to the stability of reproduction light.

実施例2〜6、比較例2
記録層の組成を表1に示すように変えた点以外は、実施例1と同様にして実施例2〜6及び比較例2の光記録媒体を作成し初期化した。これらはSの量を0から11原子%まで変化させたものであるが、Sは非晶質化を促進する作用もあるので、Sの添加量が増えると転移線速、即ち結晶化速度が遅くなってしまい、2倍速での繰り返し記録が困難となってしまう。そこで、Sを2原子%増やす度に、Geを1原子%減らすことにより転移線速を調整した。また、SbとSnはSb:Snが一定となるように決めた。これにより転移線速はほぼ同様の値が得られた。また、プロセス安定性チェックのため、ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後に、続いて、2枚の本基板を用いて製膜した媒体の転移線速を調べたが、比較例2も含めていずれの場合も2枚の転移線速はほぼ一致しており、プロセス安定性には問題ないことを確認した。
表1に、実施例1、比較例1とともに、記録層組成のSの量を変化させた場合の2倍速の繰り返し記録特性、記録感度、及び転移線速差の評価結果を示した。
記録特性の評価は、BDの2倍速(9.84m/s)で、(n−1)ストラテジを用い、まず繰り返し記録10回のときのジッタが最低となるような記録パワーPwoと消去パワーPeoを決めた。このときの繰り返し記録10回のジッタが7%以下である場合、繰り返し記録10回は「○」とし、7%を超えてしまった場合は「×」とした。また、Pwo、Peoで繰り返し記録1000回のときのジッタが、8.5%以下である場合、繰り返し記録1000回は「○」とし、8.5%を超えてしまった場合は「×」とした。
記録感度はPwoが7mW以下の場合を「○」、7mWを超えてしまう場合を「×」とした。ジッタやパワーの上限はBD−RE規格を参考に設定した。規格では、ジッタはマークの前端と後端を個別に評価することになっているが、ここでは平均の値で判断した。
転移線速差は、基板投入時間を変えた試料の転移線速差が1m/s未満の場合を「〇」、1m/s以上の場合を「×」とした。
表1の結果から、Ge−Sb−SnにSを添加することにより繰り返し記録10回のジッタが低下し、繰り返し記録1000回のジッタの劣化や記録感度も改善されることが分かる。また、比較例2との対比で分かるように、Sは実施例2の1%程度の添加でも繰り返し記録や記録感度の改善効果が得られるが、繰り返し記録10回のジッタ低下が十分でない。しかし、実施例3のように3%添加すれば問題ない。また、実施例6の11%のように添加量が多すぎても繰り返し記録10回のジッタが悪くなってしまうので、上限は9%以下とすることが望ましい。
また、再生光安定性に関してはいずれの場合も問題なかった。
なお、比較例1の媒体の2倍速における繰り返し記録1000回のジッタは8.5%より大きく「×」であった。
Examples 2-6, Comparative Example 2
Except for changing the composition of the recording layer as shown in Table 1, optical recording media of Examples 2 to 6 and Comparative Example 2 were prepared and initialized in the same manner as in Example 1. These are obtained by changing the amount of S from 0 to 11 atomic%. However, since S also has an action of promoting amorphization, the transition linear velocity, that is, the crystallization speed increases as the amount of S increases. It becomes slow and it becomes difficult to repeatedly record at double speed. Therefore, every time S was increased by 2 atomic%, the transition linear velocity was adjusted by decreasing Ge by 1 atomic%. Sb and Sn were determined so that Sb: Sn was constant. As a result, the transition linear velocity was almost the same value. In addition, for the process stability check, after forming a film using a non-baked dummy substrate, the transition linear velocity of the medium formed using two main substrates was examined. Comparative Example 2 In both cases including the above, the transition linear velocities of the two sheets were almost the same, and it was confirmed that there was no problem in process stability.
Table 1 shows evaluation results of double-speed repeated recording characteristics, recording sensitivity, and transition linear velocity difference when the amount of S in the recording layer composition is changed together with Example 1 and Comparative Example 1.
The recording characteristics are evaluated at the double speed (9.84 m / s) of BD, using the (n-1) strategy, and first, the recording power Pwo and the erasing power Peo that minimize the jitter when repeated recording is performed 10 times. Decided. When the jitter of 10 repeated recordings at this time is 7% or less, the 10 times of repeated recording is “◯”, and when it exceeds 7%, it is “X”. In addition, when the repeat recording is 1000 times with Pwo and Peo, the jitter is 8.5% or less, the repeat recording 1000 times is “◯”, and when it exceeds 8.5%, it is “X”. did.
The recording sensitivity was “◯” when Pwo was 7 mW or less, and “X” when it exceeded 7 mW. The upper limit of jitter and power was set with reference to the BD-RE standard. According to the standard, the jitter is evaluated individually for the front and rear ends of the mark, but here, the jitter is determined by an average value.
The transition linear velocity difference was defined as “◯” when the transition linear velocity difference of the sample with different substrate loading time was less than 1 m / s, and “x” when the sample was 1 m / s or more.
From the results of Table 1, it can be seen that the addition of S to Ge—Sb—Sn reduces the jitter of 10 repeated recordings, and improves the deterioration and recording sensitivity of 1000 repeated recordings. Further, as can be seen from comparison with Comparative Example 2, even when S is added at about 1% of Example 2, the effect of improving the repeated recording and the recording sensitivity can be obtained, but the jitter reduction of 10 times of repeated recording is not sufficient. However, there is no problem if 3% is added as in Example 3. In addition, even if the amount of addition is too large as in Example 6 (11%), the jitter of repeated recording 10 times deteriorates, so the upper limit is desirably 9% or less.
In addition, there was no problem in any case regarding the stability of the reproduction light.
Incidentally, the jitter of 1000 times repeated recording at double speed of the medium of Comparative Example 1 was greater than 8.5% and was “x”.

実施例7〜12
記録層の組成を表1に示すように変えた点以外は、実施例1と同様にして、実施例7〜12の光記録媒体を作成し初期化した。Sの量を変化させ、概ねSを2原子%増やす度にGeを1原子%減らすことにより転移線速を調整した。また、SbとSnはSb:Snがほぼ一定となるように決めた。これにより転移線速はほぼ同様の値が得られた。また、プロセス安定性チェックのため、ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後に、続いて、2枚の本基板を用いて製膜した媒体の転移線速を調べたが、いずれの場合も2枚の転移線速はほぼ一致しており、プロセス安定性には問題ないことを確認した。
表1に、2倍速の繰り返し記録特性、記録感度、及び転移線速差の評価結果を示した。評価手段及び評価基準は実施例2〜6の場合と同様である。
表1の結果から、実施例2〜6と同様に、Ge−Sb−SnにSを添加することにより繰り返し記録10回のジッタが低下し、繰り返し記録1000回のジッタの劣化や記録感度も改善されることが分かる。また、Sは実施例7の1%程度の添加でも繰り返し記録や記録感度の改善効果が得られるが、繰り返し記録10回のジッタ低下が十分でないため、2原子%以上添加することが好ましい。また、実施例12の11%のように添加量が多すぎても繰り返し記録10回のジッタが悪くなってしまうので、上限は9%以下とすることが望ましい。
また、再生光安定性に関してはいずれの場合も問題なかった。
Examples 7-12
Except that the composition of the recording layer was changed as shown in Table 1, optical recording media of Examples 7 to 12 were prepared and initialized in the same manner as in Example 1. The transition linear velocity was adjusted by changing the amount of S and decreasing Ge by 1 atomic% each time S was increased by 2 atomic%. Sb and Sn were determined so that Sb: Sn was almost constant. As a result, the transition linear velocity was almost the same value. In addition, for the process stability check, after forming a film using a non-baked dummy substrate, the transition linear velocity of the medium formed using two main substrates was investigated. The two transition linear velocities were almost the same, and it was confirmed that there was no problem in process stability.
Table 1 shows the evaluation results of the double-speed repetition recording characteristics, recording sensitivity, and transition linear velocity difference. Evaluation means and evaluation criteria are the same as those in Examples 2-6.
From the results of Table 1, as in Examples 2 to 6, the addition of S to Ge—Sb—Sn reduces the jitter of 10 repeated recordings, and improves the deterioration and recording sensitivity of 1000 repeated recordings. You can see that Further, S can be added repeatedly in about 7% as in Example 7, but the effect of improving the repeated recording and the recording sensitivity can be obtained. Further, even if the addition amount is too large, such as 11% in Example 12, the jitter of 10 repeated recordings deteriorates, so the upper limit is desirably 9% or less.
In addition, there was no problem in any case regarding the stability of the reproduction light.

Figure 2009137205
Figure 2009137205

実施例13
第二保護層としてSnO−5モル%Sbを用いた点以外は、実施例1と同様にして光記録媒体を作成し初期化して評価した。プロセス安定性及び記録特性について評価したが、評価の内容は実施例1と同様である。
ベークをしていないダミー基板を用いて製膜した後に、続いて本基板を用いて製膜した2枚の媒体の転移線速は一致し、プロセス安定性に問題がないことを確認した。1倍速、及び2倍速で繰り返し記録10回行ったときのジッタを図9に示す。
図から、記録感度、ボトムジッタともに良好であることが分かる。また、Pwoで繰り返し記録1000回まで記録したが、ジッタは2倍速で8.5%以下であり、繰り返し記録耐久性も良好であり、再生光安定性も問題なかった。
Example 13
An optical recording medium was prepared, initialized and evaluated in the same manner as in Example 1 except that SnO 2 -5 mol% Sb 2 O 3 was used as the second protective layer. The process stability and recording characteristics were evaluated, and the contents of the evaluation are the same as in Example 1.
After the film was formed using the dummy substrate that was not baked, the transition linear velocities of the two media that were subsequently formed using this substrate were the same, and it was confirmed that there was no problem in process stability. FIG. 9 shows the jitter when repeated recording is performed 10 times at 1 × speed and 2 × speed.
From the figure, it can be seen that both the recording sensitivity and the bottom jitter are good. Further, repeated recording was performed up to 1000 times with Pwo, but the jitter was 8.5% or less at double speed, the repeated recording durability was good, and the reproduction light stability was satisfactory.

ベークしたダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した2枚の媒体(B1、B2)の転移線速を示す図。The figure which shows the transfer linear velocity of two sheets of media (B1, B2) which formed into a film using the baked dummy board | substrate and then formed into a film sequentially using two main board | substrates. ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した2枚の媒体(X1、X2)の転移線速を示す図。The figure which shows the transition linear velocity of two media (X1, X2) formed into a film using two dummy substrates after forming into a film using the dummy substrate which is not baked. 媒体B1、B2、X1、X2について、ブルーレイディスク1倍速で、繰り返し記録を10回行ったときのジッタを示す図。The figure which shows the jitter when repeated recording is performed 10 times at Blu-ray Disc 1 time speed about medium B1, B2, X1, and X2. 媒体B1、B2、X1、X2について、ブルーレイディスク2倍速で、繰り返し記録を10回行ったときのジッタを示す図。The figure which shows the jitter when repeated recording is performed 10 times by Blu-ray Disc 2 times speed about medium B1, B2, X1, X2. 実施例1の媒体を、ベークしていないダミー基板を用いて作成した後に続いて2枚の本基板を用いて順次作成した2枚の媒体の転移線速(S1、S2)を示す図。The figure which shows the transition linear velocity (S1, S2) of two media produced sequentially using two main board | substrates after producing the medium of Example 1 using the unbaked dummy board | substrate. 比較例1の媒体を、ベークしていないダミー基板を用いて作成した後に続いて2枚の本基板を用いて順次作成した2枚の媒体の転移線速(T1、T2)を示す図。The figure which shows the transition linear velocity (T1, T2) of two media produced sequentially using two main board | substrates after producing the medium of the comparative example 1 using the dummy substrate which is not baked. 実施例1及び比較例1の媒体について、1倍速で繰り返し記録を10回行ったときのジッタを示す図。The figure which shows the jitter when the recording of 1 time is repeated 10 times about the medium of Example 1 and Comparative Example 1. FIG. 実施例1及び比較例1の媒体について、2倍速で繰り返し記録を10回行ったときのジッタを示す図。The figure which shows the jitter when the recording of 2 times is repeated about the medium of Example 1 and Comparative Example 1 ten times. 実施例13の媒体について、1倍速及び2倍速で繰り返し記録10回行ったときのジッタを示す図。The figure which shows the jitter when the medium of Example 13 is repeatedly recorded 10 times at 1 time and 2 times speed. 記録層として相変化材料を用いた書き換え型の光記録媒体であるBD−REの断面構造を示す図。The figure which shows the cross-section of BD-RE which is a rewritable optical recording medium using a phase change material as a recording layer.

符号の説明Explanation of symbols

B1 相変化材料として、Ge(19.5)Sb(59.0)Sn(15.0)Mn(6.5)(原子%)を用い、ベークしたダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した場合の1枚目の媒体
B2 B1に続く2枚目の媒体
X1 相変化材料として、Ge(19.5)Sb(59.0)Sn(15.0)Mn(6.5)(原子%)を用い、ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後に、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した場合の1枚目の媒体
X2 X1に続く2枚目の媒体
S1 ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した実施例1の1枚目の媒体
S2 S1に続く2枚目の媒体
T1 ベークしていないダミー基板を用いて製膜した後、続いて2枚の本基板を用いて順次製膜した比較例1の1枚目の媒体
T2 T1に続く2枚目の媒体
As a B1 phase change material, Ge (19.5) Sb (59.0) Sn (15.0) Mn (6.5) (atomic%) was used, and after the film was formed using a baked dummy substrate, As a phase change material, the first medium B2 B1 following the first medium B2 B1 is formed by using Ge substrate (19.5) Sb (59.0) Sn (15 0.0) Mn (6.5) (atomic%), after forming a film using a non-baked dummy substrate, and subsequently forming the film sequentially using two main substrates Medium X2 X1 Second medium following S1 S1 Film formed using a non-baked dummy substrate, and then sequentially formed using two main substrates S1 First medium S2 S1 After the second medium T1 is formed using a non-baked dummy substrate, two books are subsequently First medium of Comparative Example 1 sequentially formed using a substrate T2 Second medium following T2 T1

Claims (2)

相変化記録層の主成分として、Ge、Sb、Sn及びSを含むことを特徴とする光記録媒体。   An optical recording medium comprising Ge, Sb, Sn and S as a main component of a phase change recording layer. Sは、記録層中に2原子%以上、9原子%以下の範囲で含まれていることを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。   2. The optical recording medium according to claim 1, wherein S is contained in the recording layer in a range of 2 atomic% to 9 atomic%.
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