JP2009123983A - 半導体基板の裏面を研削する方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】極薄半導体基板をチッピングやクラッキングを生じさせることなく平面研削加工する方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板Wの片面に配線プリントPrが施された半導体基板の表面側に粘着保護テープTを貼付し、半導体基板の外周縁がチャックテーブル4の外周縁からはみ出るように粘着保護テープ側を下にして吸着保持し、ついで、チャックテーブルを回転しつつ、粘着保護テープ面側下方側からレーザー光線を半導体基板のシリコン基板外周縁内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁近傍を貫通する第一環状溝Tv1および半導体基板のシリコン基板面に研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝Tv2を形成する。その後、研削砥石で第二環状溝Tv2に到達する位置もしくはそれを超えて基板厚みが所望の厚みとなるまで基板面を平面研削して基板面の厚みを薄くする。
【選択図】図2
【解決手段】シリコン基板Wの片面に配線プリントPrが施された半導体基板の表面側に粘着保護テープTを貼付し、半導体基板の外周縁がチャックテーブル4の外周縁からはみ出るように粘着保護テープ側を下にして吸着保持し、ついで、チャックテーブルを回転しつつ、粘着保護テープ面側下方側からレーザー光線を半導体基板のシリコン基板外周縁内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁近傍を貫通する第一環状溝Tv1および半導体基板のシリコン基板面に研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝Tv2を形成する。その後、研削砥石で第二環状溝Tv2に到達する位置もしくはそれを超えて基板厚みが所望の厚みとなるまで基板面を平面研削して基板面の厚みを薄くする。
【選択図】図2
Description
本発明は、配線プリント側が保護樹脂テープで粘着された半導体基板の裏面を研削砥石で平面研削し、10〜100μmの厚みに薄くする半導体基板にする研削方法に関する。
基板ホルダー機構の円盤状基板ホルダーテーブル表面に載置された円盤状半導体基板裏面をダイヤモンドカップホイール型研削砥石でインフィード平面研削加工することは知られている。円盤状半導体基板とカップホイール型砥石の刃先が摺擦する加工点には、研削液が供給され、半導体基板の平面加工面の熱焼けを防止する(例えば、特許文献1参照。)。
半導体基板の径が300mm、450mmと拡径するとともに、厚みが10〜80μmと極薄の半導体基板の出現が望まれている。配線プリント面が保護テープで被覆されている半導体基板のシリコン基板裏面を研削砥石で研削加工し、ついで、研削加工シリコン面を研磨加工または/およびエッチング加工して基板の厚みを10〜80μmと薄肉化および鏡面化する平坦化装置として、基板を真空吸着保持できる基板ホルダーテーブルの複数を下方に配置し、それぞれの基板ホルダーテーブルの上方に粗研削砥石を備える回転スピンドル、仕上研削砥石を備える回転スピンドル、および研磨工具を備える回転スピンドルを配置し、基板収納カセット内に保管されている基板を位置合わせ用の仮置台へ搬送する多関節型搬送ロボット、基板ホルダーテーブル上の基板を次ぎの加工ステージへと搬送する搬送パッドを備えた搬送器具および基板洗浄機器を備える平坦化装置が使用されている。
例えば、ローディング/アンローディングステージ、第1粗研削ステージ、第2仕上研削ステージおよび研磨ステージに区画した一台のインデックス型回転テーブルに半導体基板を真空チャックできる基板ホルダーテーブル4組みを前記インデックス回転テ−ブルの軸心に対し同一円周上に等間隔で配設した平面研削・研磨装置を用い、各基板ホルダーテーブルに対してインデックス型回転テ−ブルの90度の回転に伴うそれぞれのステージで多関節型搬送ロボットによる半導体基板のローディング、粗研削平砥石による基板裏面の粗研削加工、仕上研削平砥石による基板裏面の仕上研削加工、研磨パッドによる鏡面研磨加工および搬送機器によるアンローディングの処理を順次行うことは知られている(例えば、特許文献2参照。)。
また、基板収納ステージを室外に、多関節型搬送ロボット、位置合わせ用仮置台、研削加工ステージ、移動型搬送パッド、研磨加工ステージ、および洗浄ステージを室内に備える平坦化装置において、該平坦化装置の正面側から背面側に向かって、室外の右側に基板収納ステージを設け、室内においては、室内の前列目に前記基板収納ステージ近傍位置に多関節型搬送ロボットを、その多関節型搬送ロボットの後列の右側に、位置合わせ用仮置台および後列中央側に移動型搬送パッドを設置し、それらの最後列に、時計廻り方向に基板ローディング/アンローディングステージ、粗研削ステージ、および仕上研削ステージの3つのステ−ジを構成する基板ホルダーテーブルを第1インデックス型回転テーブルに同心円上に配置した研削加工ステージを設け、前記基板ローディングテーブル上面を洗浄する回転式チャッククリーナおよび研削加工された基板面を洗浄する回転式洗浄ブラシ一対を備える洗浄機器を基板ホルダーテーブル上面に対し垂直方向および平行方向に移動可能に設け、前記粗研削ステージを構成する基板ホルダーテーブル上方に粗研削ダイヤモンドカップホイール型研削砥石を備えるスピンドルを基板ホルダーテーブル上面に対し昇降可能に設け、前記仕上研削ステージを構成する基板ホルダーテーブル上方に、仕上研削カップホイール型ダイヤモンド砥石を備えるスピンドルを基板ホルダーテーブル上面に対し昇降可能に設け、前記クリーナおよび回転式洗浄ブラシを備える洗浄機器とで基板ローディング/アンローディングステージを構成し、基板ホルダーテーブルと粗研削カップホイール型ダイヤモンド砥石で粗研削ステージを構成し、基板ホルダーテーブルと仕上研削カップホイール型ダイヤモンド砥石で仕上研削ステージを構成させ、前記多関節型搬送ロボットの左側に、基板ローディング/アンローディング/仕上研磨ステージを構成する基板ホルダーテーブルと、粗研磨ステージを構成する基板ホルダーテーブルを別の1台の第2インデックス型回転テーブルに同心円上に配置した研磨加工ステ−ジを設け、前記仕上研磨ステ−ジを構成する基板ホルダーテーブル上方に、洗浄液供給機構および研磨パッドを回転可能に軸承するスピンドルを基板ホルダーテーブル上面に対し昇降可能および平行に揺動可能に設け、この基板ホルダーテーブルと研磨パッドと洗浄液供給機構と前記移動型搬送パッドと多関節型搬送ロボットまたは別の搬送パッドまたは多関節型搬送ロボットとで基板ローディング/アンローディングテーブル上方に、研磨剤スラリー液供給機構および研磨パッドを回転可能に軸承するスピンドルを基板ホルダーテーブル上面に対し昇降可能および平行に揺動可能に設け、この基板ホルダーテーブルと研磨パッドと研磨剤スラリー液供給機構とで基板粗研磨ステージを構成した半導体基板の平坦化装置も知られている(例えば、特許文献3参照。)。
半導体基板厚みが120〜220μmの平面研削加工時、平面研磨加工時、もしくは、平面加工された半導体基板の搬送時に平面加工半導体基板のエッジ部にチッピングやクラッキングが見受けられ、ダイシング工程で得られる半導体チップのロス率が増加する傾向があったので、研削加工前、または研削加工後の半導体基板のエッジ部をシリコン基板面側からエッジ研削砥石または切削ブレードを用いエッジ加工することが提案されている(例えば、特許文献2、特許文献4参照。)。
また、図4(a)に示すように、先ず、吸引手段によってチャックテーブル31上に半導体基板3を吸着保持し、そして、チャックテーブル31を0.1rpmで回転しつつ、半導体基板の配線プリントPrが施された表面側から外周縁より所定量内側の位置で外周縁に沿って半導体基板に対して吸収性を有する波長のレーザー光線(シリコン基板では波長 355nm)を集光器324から照射し、半導体基板の表面から少なくとも半導体基板の仕上がり厚さより深い環状のレーザー加工溝を形成する加工溝形成工程を実施する。加工溝周辺には変質層が形成され、半導体基板のエッジ部の割れやチッピングが生じにくくなっている。
次に、図4(b)に示すように、外周縁にレーザー加工溝を設けた半導体基板の配線プリント面側に粘着保護テープTを貼付し、粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板w面を上方にしてチャックテーブル51上に半導体基板を吸着保持し、そして、チャックテーブルを300rpmで回転しつつ、研削砥石を備えた研削ホイール50を6,000rpmで回転せしめて半導体基板裏面に接触することにより、所定の仕上がり厚さ、例えば100μmになるまで裏面研削する方法も提案されている(例えば、特許文献5、特許文献6参照。)。
このようにレーザー加工によって外周部にレーザー加工溝が形成された半導体基板は、切削ブレードによって切断した際に生ずるストレスが残存しない。このように半導体基板を薄くなるまで研削しても、半導体基板の外周部の一部が除去され、溝近傍に変質層が設けられてストレスが残留していないので、研削中に半導体基板に割れやチッピングが生じる機会が極めて減少する。
通常、平面加工される半導体基板の半導体チップが形成されない余白部のシリコン基板外周縁には、パルルレーザをシリコンウエハに照射してSEMI準拠のOCR文字、バーコード、二次元コードなどがドット配列で表示されたウエハIDマークが付されている(例えば、非特許文献1参照。)。
次々世代の厚み10〜50μmの半導体基板の平面
加工(研削加工や研磨加工)試作をDRAM製造メーカーが行ったところ、エッジ部周縁にレーザーダイシング溝加工された半導体基板のこれらウエハIDマークが付されている外周縁部でチッピングやクラッキングが発生する現象が見出された。
加工(研削加工や研磨加工)試作をDRAM製造メーカーが行ったところ、エッジ部周縁にレーザーダイシング溝加工された半導体基板のこれらウエハIDマークが付されている外周縁部でチッピングやクラッキングが発生する現象が見出された。
特許文献5に記載のレーザーエッジング加工された半導体基板を研削する方法は、粘着保護テープを半導体基板表面に貼付後、半導体基板をひっくり返し、シリコン基板面を上方に、粘着保護テープ面を下方に向けてチャックテーブルに載置する工程が加わり、粘着保護テープの貼付工程、半導体基板の裏返し工程の半導体基板搬送にストレスが生じ、半導体基板エッジ部にチッピングや割れを誘う機会が増加する。
本発明は、半導体基板の径が300mm、あるいは次々世代の450mmであり、その半導体基板の厚みが10〜50μmの極薄であっても、半導体基板の平面研削加工時、平面研磨加工時、あるいは基板の搬送時に平面加工された半導体基板にチッピングやクラッキングを生じさせない半導体基板の研削方法を提供するものである。
請求項1の発明は、1)シリコン基板の片面に配線プリントが施された半導体基板の表面側に粘着保護テープを貼付し、この粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にして円盤状チャックテーブル上に半導体基板の外周縁が円盤状チャックテーブル外周縁からはみ出るように吸着保持し、2)ついで、チャックテーブルを回転しつつ、粘着保護テープ面側下方側からレーザー光線を半導体基板のシリコン基板外周縁より0.5〜1.2mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁近傍を貫通する第一環状溝、および、半導体基板のシリコン基板面に深さ10〜120μmの研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝を形成させた後、3)前記外周縁にレーザー加工溝を設けた半導体基板を保持するチャックテーブルを回転しつつ、研削砥石を備えた研削砥石軸を下降させて前記半導体基板のシリコン基板面に研削砥石を接触、摺擦して前記半導体基板のシリコン基板の第二環状溝に到達する位置もしくはそれを超えてシリコン基板面厚みが所望の10〜100μm厚みとなるまでシリコン基板面を平面研削してシリコン基板面の厚みを薄くすることを特徴とする、半導体基板の裏面研削方法を提供するものである。
請求項2の発明は、1)シリコン基板の片面に配線プリントが施された半導体基板の表面側に粘着保護テープを貼付し、この粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にして円盤状チャックテーブル上に半導体基板の外周縁が円盤状チャックテーブル外周縁からはみ出るように吸着保持し、2)ついで、チャックテーブルを回転しつつ、粘着保護テープ面側下方側から炭酸ガスレーザー光線を半導体基板のシリコン基板外周縁より0.5〜1.2mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁近傍に粘着保護テープの厚みの50〜100%深さに幅10〜100μmの環状溝を形成させた後、3)回転しているチャックテーブルに保持されている前記半導体基板の粘着保護テープに設けられた第一環状溝にYAG高周波レーザー光線を集光器から照射し、半導体基板のシリコン基板面に深さ10〜120μmの研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝を形成させた後、4)前記外周縁にレーザー加工溝を設けた半導体基板を保持するチャックテーブルを回転しつつ、研削砥石を備えた研削砥石軸を下降させて前記半導体基板のシリコン基板面に研削砥石を接触、摺擦して前記半導体基板のシリコン基板の第二環状溝に到達する位置もしくはそれを超えてシリコン基板面厚みが所望の10〜100μm厚みとなるまでシリコン基板面を平面研削してシリコン基板面の厚みを薄くすることを特徴とする、半導体基板の裏面研削方法を提供するものである。
レーザー加工溝が設けられた半導体基板のシリコン基板の環状加工溝面は変質層となっているので、チッピングや割れ(クラッキング)が生じにくくなっており、また、このレーザー加工時には、半導体基板の配線プリント面が粘着保護テープにより被覆され保護されているので、後工程の半導体基板の裏面研削時や半導体基板の搬送時に半導体基板にチッピングや割れが生じにくくなっている。
また、環状溝のレーザー加工と半導体基板のシリコン基板面の平面研削加工を別々のチャックテーブルを用いて、あるいは、同一のチャックテーブルを用いて同時に並行して実施することもでき、半導体基板の薄肉化加工時間を短縮することができる。
以下、図を用いて本発明をさらに詳細に説明する。図1は配線プリント面が粘着保護テープにより保護された半導体基板のシリコン基板面を上方に向けてチャックテーブル上に載置された半導体基板外周縁にレーザー光を照射して環状溝を設けている状態を示す部分断面図、図2は別の態様を示す半導体基板外周縁にレーザー光を照射して環状溝を設けている状態を示す部分断面図、および、図3は半導体基板の平面研削装置の一部を切り欠いた正面図である。
図1において、半導体基板3は、厚み200〜770μmのシリコン基板wの片面に配線プリントPrが施された半導体基板の表面側に厚み120〜200μmの粘着保護テープTが貼付されたものである。この粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にしてチャックテーブル4上に半導体基板の外周縁が円盤状チャックテーブル外周縁から1〜5mmはみ出るように半導体基板3を吸着保持し、チャックテーブル4を30〜2,000mm/秒の速度で回転しつつ、粘着保護テープ面側から炭酸ガスレーザー光線を照射角75〜90度、出力2〜60mjで粘着保護テープの外周縁より0.5〜1.2mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁に幅5〜100μmの第一貫通環状溝TV1と半導体基板のシリコン基板面に深さ10〜120μmの研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝TV2を形成させ、次いで図3で示す研削砥石50によりシリコン基板面を平面研削加工する。
図2において、半導体基板3は、厚み200〜770μmのシリコン基板wの片面に配線プリントPrが施された半導体基板の表面側に厚み120〜200μmの粘着保護テープTが貼付されたものである。この粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にしてチャックテーブル4上に半導体基板の外周縁が円盤状チャックテーブル外周縁から1〜5mmはみ出るように半導体基板3を吸着保持し、チャックテーブル4を30〜100mm/秒の速度で回転しつつ、粘着保護テープ面側から炭酸ガスレーザー光線を照射角75〜90度、出力2〜60mjで粘着保護テープの外周縁より0.5〜1.2mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁に粘着保護テープ厚みの50〜100%深さ、幅10〜100μmの第一貫通環状溝TV1を形成させた後、回転しているチャックテーブルに保持されている前記半導体基板の粘着保護テープに設けられた第一環状溝にYAG高周波レーザー光線(波長355nm)を集光器から照射し、半導体基板のシリコン基板面に深さ10〜120μmの研削加工仕上げ所望厚みより深い幅5〜100μmの第二環状溝を溝TV2を形成させ、ついで、図3で示す研削砥石50によりシリコン基板面を平面研削加工する。
粘着保護テープTは、厚み120〜200μmの線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリウレタンエラストマー(PU)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)等の樹脂製テープ表面に紫外線照射硬化性アクリル系樹脂粘着剤、あるいは熱分解性樹脂粘着剤を塗布し、粘着剤層側に剥離テープを裏打ちしたもので、リンテック株式会社、日東電工株式会社、積水化学工業株式会社、三井化学株式会社、JSR株式会社などより市販されている。半導体基板に貼付するときは、剥離テープを剥がして、粘着剤層側を配線プリント面に向けて貼着する。
レーザー加工に用いる発振器70としては、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー(アシストガスはアルゴン)、UV−YAGレーザー、TEA−炭酸ガスレーザー等のレーザー発振器が用いられるが、安価な炭酸ガスレーザー発振器が好ましい。環状溝幅の5〜20μm細加工精度面からは、YAGレーザー発振器が好ましい。レーザー加工機7の発振器70より発信されるレーザー光のオリジナル波長は、YAGレーザー発振器では1,064nm(赤外線)で、LBO結晶で波長を粘着保護テープの吸収波長532nm(緑)またはシリコン基板の吸収波長355nm(紫外線)に変換し、被対象物(粘着保護テープまたはシリコン基板)に照射される。炭酸ガスレーザー発振器では、オリジナル波長は10,600nmである。
図1および図2に示すYAGレーザー加工機7は、LD光源とレーザーコントローラを備えるLD励起ユニット71と、発振器70、Q−SW、反射ミラー、LBO、内部シャッタを含む伝送光学系76、反射ミラー、ビームエキスパンダ、外部シャッタ、反射ミラーおよび偏光アッテネータを含む集光光学系77および被対象物距離を測定する測定長器78より構成される。前記LD励起ユニット71と伝送光学系76は光ファイバーケーブル79で結ばれる。
環状溝の幅は、照射されたレーザー光線が被対象物(粘着保護テープまたはシリコン基板)上で結ぶ焦点位置(スポット)により5〜100μmと調整できる。それゆえ、測定長器78が集光光学系77を保護するハウジング7aの上位置に設置されている。YAGレーザー加工機7は、チャックテーブル4の回転速度に応じた溝切り込み深さ加工能力を選択すべきであり、スポット径およびこの溝切り込み深さ加工能力に応じた種々のグレードのレーザー加工機が市販されている。例えば、株式会社アルプスエンジニアリングより、YAGレーザー発信器としてAliStar(商品グレード名)シリーズがG(スポット径7μm、R(スポット径10μm)、HF(スポット径20μm)の付記号で市販されている。環状溝の幅5〜100μmは、半導体基板の外周縁から配線プリントPrが施されている最外位置の距離が約3mmなので、十分な幅である。
図3に示す基板の平面研削装置1は、研削ヘッド構造Hと半導体基板ホルダー機構VCを有する。研削ヘッド構造Hにおいて、8はスピンドル、9は軸受、11はカップホイール型砥石の取り付け板、12はスピンドルケーシング取り付け部材、13は傾斜調整ボルト駆動用モータ、14はスピンドル8を回転駆動させるビルド・イン・モータ、22は空気軸受、23は空気供給管、24は取り付け板11とスピンドルを軸承する固定板25との連結軸、26はスピンドルケーシング10冷却液供給管、27は空気軸受22と該空気軸受の周壁下に設けた囲板(砥石カバー)28とからなるヘッドH内に設けられた空間部、50はカップホイール型研削砥石、55は砥石刃、56は環状溝、57は研削液導入孔、59は研削液供給ノズル、60は研削液供給管、61は研削液取入口であり、この研削液供給管は図示されていないが、昇降機構の取付部材に固定されており、研削液タンクと可撓性ホースで接続されている。
カップホイール型砥石50は、ビルド・イン・モータ14の回転駆動をスピンドル8、固
定板25、連結軸24、取り付け板11を経て伝達し、回転させる。ヘッドは取付部材12に固定されているのでカップホイール型砥石50が回転しても、ヘッド自身は回転駆動しない。従って、研削液供給ノズル59と研削液供給タンクを連結する可撓性ホースが捻れて破損することはない。研削液供給ノズル59よりカップホイール型研削砥石50の環状溝56に供給された研削液は、導入孔57,57を経て砥石周壁内56面に導かれ、さらにスリット50fを通過してカップホイール型砥石の周壁外側へ排出される。研削液の供給量は、基板の直径により異なるが0.5〜10リットル/分が好ましい。
定板25、連結軸24、取り付け板11を経て伝達し、回転させる。ヘッドは取付部材12に固定されているのでカップホイール型砥石50が回転しても、ヘッド自身は回転駆動しない。従って、研削液供給ノズル59と研削液供給タンクを連結する可撓性ホースが捻れて破損することはない。研削液供給ノズル59よりカップホイール型研削砥石50の環状溝56に供給された研削液は、導入孔57,57を経て砥石周壁内56面に導かれ、さらにスリット50fを通過してカップホイール型砥石の周壁外側へ排出される。研削液の供給量は、基板の直径により異なるが0.5〜10リットル/分が好ましい。
カップホイール型研削砥石50の砥石刃55群の直径は、環状ドレッサ砥石の直径の0.9〜1.2倍である。半導体基板直径と比較すると、カップホイール型研削砥石50の砥石刃55群の直径は、研削される半導体基板3の直径の1.05〜1.6倍が好ましい。カップホイール型研削砥石50は、カップホイール型研削砥石の砥石刃55が研削加工されるシリコン基板の略中心点を通過する回転軌跡を描くようにチャックテーブルに対して配置される。
砥石刃55,55間のスリットは斜めであっても、平行であってもよい。台金に研削液供給ようの環状溝とこの環状溝の上部より砥石刃に向けて斜め孔を穿ったカップホイール型砥石も使用できる(特開平6−23674号公報)。
粗研削カップホイール型研削砥石50としては、砥番(JIS一般砥粒粒度)300〜1,800のレジンボンドダイヤモンド砥石が、仕上研削カップホイール型ダイヤモンド砥石としては、砥番2,000〜8,000のメタルボンドダイヤモンド砥石またはビトリファイドボンドダイヤモンド砥石が好ましい。これらカップホイール型研削砥石には、特開2004−167617号公報の図1に開示されるように研削液給水ガイドが設けられている。
カップホイール型研削砥石50を備える研削ヘッドHの取り付け部12下部には半球状凹部19が設けられ、下部には前記半球状凹部に嵌合する半球状凸部18が設けられ、半球状凹部19と半球状凸部18間には0.05〜0.1mmの隙間が形成されている。 傾斜調整ボルト15をモ−タ13の駆動力で締めたり緩めたりすることにより昇降機構の下部の半球状凸部18を中心に取り付け部下部の半球状凹部19前に設けた前記隙間を利用してスピンドル8が傾斜する。
図3に示される半導体基板ホルダー機構VCは、円盤状半導体基板チャックテーブル4と、この円盤状半導体基板ホルダーテーブルを収納するフレーム5と、このフレームを軸承する中空スピンドル2と、このスピンドルの回転機構(図示されていない)を有する。中空スピンドル2は、図示されていない純水供給機構と減圧機構に接続されている。円盤状半導体基板チャックテーブル4の直径は、半導体基板3の直径より例えば、約2〜6mm小さい。言い換えれば、円盤状半導体基板チャックテーブル4の外周縁は、半導体基板3の外周縁より約1〜3mm内側に存在する。円盤状半導体基板チャックテーブル4を回転させながらこの円盤状半導体基板チャックテーブル4の外周縁より外側にはみ出ている半導体基板の外周縁部0.5〜1.2mmのスポットにレーザー加工機7の集光光学系77よりレーザー光を照射する。
円盤状半導体基板チャックテーブル4は、中央部41が円盤状ポーラスアルミナセラミック製で、環状堤40を形成している部分およびその1〜10mm幅部分が非通気性のアルミナセラミック製43と成っている。円盤状半導体基板チャックテーブル4は、上記円盤状ポーラスアルミナセラミック製材料の途中部分であって、非通気性アルミナセラミック製部分に連続する間に非通気性の環状アルミナセラミック製仕切壁42を設け、中央部円盤状ポーラスアルミナセラミック製部分の減圧度を、外側環状ポーラスアルミナセラミック製部分の減圧度より高く真空引きできる構造としてもよい。円盤状半導体基板チャックテーブル4底部の真空引きは、2つの真空ポンプ、減圧管よりなる減圧機構を以って実施される。円盤状半導体基板チャックテーブル4の外側環状ポーラスアルミナセラミック製部分の減圧度は、−550〜−850mmHgで、中央部円盤状ポーラスアルミナセラミック製部分の減圧度−450〜830mmHgより−20mmHgから−100mmHgより低い水銀圧力が好ましい。外側の減圧度を低くすることにより、半導体基板のエッジ部(縁部)の下方向傾斜がより小さくなり半導体基板3の縁部におけるチッピング、クラッキングが更に生じにくくなる。
円盤状半導体基板チャックテーブル4は、成形セラミック砥石か、チャックテーブルクリーナ砥石で焼成成形された円盤状半導体基板チャックテーブル表面を5〜10μm研削加工することにより得られる。
半導体基板ホルダー機構VCの円盤状半導体基板チャックテーブル4上に、半導体基板3をシリコン基板w面が上向きとなるよう、かつ、半導体基板の配線がプリントされていない外周縁部が円盤状半導体基板チャックテーブル4外周縁より約1〜3mmはみ出るように載置し、中空スピンドル2内を真空ポンプ(図示されていない)で減圧して半導体基板3を円盤状半導体基板チャックテーブル4に固定保持し、中空スピンドル2をモータ(図示されていない)で水平方向に回転させながらカップホイール型砥石50を軸承するスピンドル8をモータ14で回転させつつ下降させて前記半導体基板3のシリコン基板面に当接させて前記カップホイール型砥石の砥石刃55による基板面の切り込みを開始するとともにこのシリコン基板面と前記カップホイール型砥石の砥石刃55とを摺擦させて半導体基板3のシリコン基板の平面研削加工を行う。この平面研削加工と同時に環状ドレッサ砥石6によりカップホイール型砥石の砥石刃55をドレッシング加工する。
半導体基板3のシリコン基板面の平面研削加工時、研削液を研削液供給管59および供給ノズル90よりシリコン基板表面に供給しつつカップホイ−ル型砥石50の砥石刃先55が前記シリコン基板の略中心点を通過するようにスピンドル8を回転させてカップホイ−ル型砥石50を基板面上で摺動させてシリコン基板面を平面研削する。中空スピンドル2の回転数は、30〜300rpm、スピンドル8の回転数は1,000〜4,000rpmが好ましい。
半導体基板のシリコン基板面の平面研削加工後、真空ポンプの稼動を止めた後、切換バルブを純水供給側へ切り換え、加圧純水を中空スピンドル2の中空部を経由してポーラスセラミック製半導体基板テーブル4底面に導くことにより研削加工された半導体基板3の円盤状半導体基板チャックテーブル4からの剥離を容易とする。
粘着保護テープ、半導体基板へのレーザー加工機による環状溝加工と同時にシリコン基板面の平面研削加工を同時に行ってもよい。但し、チャックテーブル4の回転速度が遅く、レーザー光出力エネルギィが高いとき、レーザー光が照射された粘着保護テープスポット部分位置の樹脂テープ膨れが生じることがあるので、レーザー光スポット径、レーザーエネルギィを考慮して樹脂テープ膨れが生じないチャックテーブル回転速度を設定する必要がある。
また、粘着保護テープに形成される環状溝幅より半導体基板3のシリコン基板に形成される環状溝幅を小さくするために、レーザー光発信器を炭酸ガスレーザー光発信器からYAGレーザー光発信器に交代、あるいは、スポット径の大きい炭酸ガスレーザー光発信器からスポット径の小さい、レーザー加工速度の速いYAGガスレーザー光発信器に交代させたり、被対象物とレーザー発信器間の距離を粘着保護テープ環状溝レーザー加工時と半導体基板環状溝レーザー加工時とで変えること、あるいは、途中でレーザー光照射角度を変えることは有意義なことである。
実施例1被加工基板として、厚みが750μm、直径300mmのシリコン基板の片面に配線プリントPrが施された半導体基板の表面側に厚み180μmの粘着保護テープが貼付された被加工基板を用いた。前記粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にして直径298mmの円盤状チャックテーブル4上に半導体基板を吸着保持し、チャックテーブルを60mm/秒の速度で回転しつつ、粘着保護テープ面側から炭酸ガスレーザー光線(波長は1,064nm)を照射角85度、出力50mjで粘着保護テープの外周縁より0.5mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁に幅60μmの第一貫通環状溝TVを約30秒かけて形成し、ついで、YAGガスレーザー加工機に変えて波長354nmのレーザー光線を照射して半導体基板のシリコン基板面に深さ150μm、幅約55μmの第二環状溝TVを約20秒かけて形成させた。
次いで、チャックテーブルを100rpm回転速度で回転しつつ、砥番325のダイヤモンドカップホイール型研削砥石を用いシリコン基板面を712μm厚み粗研削加工した。さらに、チャックテーブルの回転速度を80rpmに変え、研削砥石を砥番2,000のダイヤモンド研削砥石に変え粗研削加工シリコン基板面を10μm厚み仕上げ研削加工し、シリコン基板面の厚みを722μm薄くした。得られた半導体基板にチッピングや割れは見出されなかった。
上記と同様なレーザー環状溝加工およびシリコン基板面研削加光を半導体基板100枚について実施したが、いずれの半導体基板にもチッピングや割れは見出されなかった。
実施例2被加工基板として、厚みが750μm、直径300mmのシリコン基板の片面に配線プリントPrが施された半導体基板の表面側に厚み180μmの粘着保護テープ(LLDPEフィルム厚みは150μm)が貼付された被加工基板を用いた。前記粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にして直径298mmの円盤状チャックテーブル4上に半導体基板を吸着保持し、チャックテーブルを60mm/秒の速度で回転しつつ、粘着保護テープ面側から炭酸ガスレーザー光線(波長は1,064nm)を照射角85度、出力50mjで粘着保護テープの外周縁より0.5mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁に幅60μmの第一貫通環状溝TVを約30秒かけて粘着保護テープ2/3の深さまで形成した。ついで、YAGレーザー加工機を用い、光線の波長を354nmに変えて半導体基板のシリコン基板面に深さ150μm、幅約20μmの第二環状溝TVを約15秒かけて形成させた。
次いで、チャックテーブルを100rpm回転速度で回転しつつ、砥番325のダイヤモンドカップホイール型研削砥石を用いシリコン基板面を717μm厚み粗研削加工した。さらに、チャックテーブルの回転速度を80rpmに変え、研削砥石を砥番2,000のダイヤモンド研削砥石に変え粗研削加工シリコン基板面を5μm厚み仕上げ研削加工し、シリコン基板面の厚みを725μm薄くした。得られた半導体基板にチッピングや割れは見出されなかった。
本発明の半導体基板の裏面研削方法は、シリコン基板外周縁近傍に環状溝を形成するが、その環状溝深さも10〜120μmと浅く、従来方法のシリコン基板面上方側から厚み200〜770μmの半導体基板外周縁をレーザー光で環状に切り落とす方法と比較し、レーザー加工時間が1/2〜1/7短縮される。また、レーザー溝加工と半導体基板の平面研削加工を同一チャックテーブル上で行うときは、半導体基板の裏返しや搬送の機会が減り、半導体基板にチッピングやクラッキングが生じる機会が特許文献5に記載の方法より減少する。
1 半導体基板裏面研削装置 H 研削ヘッド 2 中空スピンドル VC 半導体基板ホルダー機構 3 半導体基板 w シリコン基板 Pr 配線プリント T 粘着保護テープ 4 円盤状半導体基板チャックテーブル 7 YAGレーザー加工機 70 LD光源(発振器) 71 LD励起ユニット 76 伝送光学系 77 集光光学系 78 測定長器 8 スピンドル 50 カップホイール型研削砥石 55 砥石刃
Claims (2)
- 1)シリコン基板の片面に配線プリントが施された半導体基板の表面側に粘着保護テープを貼付し、この粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にして円盤状チャックテーブル上に半導体基板の外周縁が円盤状チャックテーブル外周縁からはみ出るように吸着保持し、2)ついで、チャックテーブルを回転しつつ、粘着保護テープ面側下方側からレーザー光線を半導体基板のシリコン基板外周縁より0.5〜1.2mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁近傍を貫通する第一環状溝、および、半導体基板のシリコン基板面に深さ10〜120μmの研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝を形成させた後、3)前記外周縁にレーザー加工溝を設けた半導体基板を保持するチャックテーブルを回転しつつ、研削砥石を備えた研削砥石軸を下降させて前記半導体基板のシリコン基板面に研削砥石を接触、摺擦して前記半導体基板のシリコン基板の第二環状溝に到達する位置もしくはそれを超えてシリコン基板面厚みが所望の10〜100μm厚みとなるまでシリコン基板面を平面研削してシリコン基板面の厚みを薄くすることを特徴とする、半導体基板の裏面研削方法。
- 1)シリコン基板の片面に配線プリントが施された半導体基板の表面側に粘着保護テープを貼付し、この粘着保護テープ面を下方向にシリコン基板面を上方にして円盤状チャックテーブル上に半導体基板の外周縁が円盤状チャックテーブル外周縁からはみ出るように吸着保持し、2)ついで、チャックテーブルを回転しつつ、粘着保護テープ面側下方側から炭酸ガスレーザー光線を半導体基板のシリコン基板外周縁より0.5〜1.2mmの所定量内側の位置で外周縁に沿って照射して粘着保護テープ外周縁近傍に粘着保護テープの厚みの50〜100%深さに幅10〜100μmの環状溝を形成させた後、3)回転しているチャックテーブルに保持されている前記半導体基板の粘着保護テープに設けられた第一環状溝にYAG高周波レーザー光線を集光器から照射し、半導体基板のシリコン基板面に深さ10〜120μmの研削加工仕上げ所望厚みより深い第二環状溝を形成させた後、4)前記外周縁にレーザー加工溝を設けた半導体基板を保持するチャックテーブルを回転しつつ、研削砥石を備えた研削砥石軸を下降させて前記半導体基板のシリコン基板面に研削砥石を接触、摺擦して前記半導体基板のシリコン基板の第二環状溝に到達する位置もしくはそれを超えてシリコン基板面厚みが所望の10〜100μm厚みとなるまでシリコン基板面を平面研削してシリコン基板面の厚みを薄くすることを特徴とする、半導体基板の裏面研削方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007297469A JP2009123983A (ja) | 2007-11-16 | 2007-11-16 | 半導体基板の裏面を研削する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
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Cited By (3)
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JP2013089713A (ja) * | 2011-10-17 | 2013-05-13 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの研削方法 |
JP2018206930A (ja) * | 2017-06-02 | 2018-12-27 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
CN114193000A (zh) * | 2021-12-10 | 2022-03-18 | 北京航星机器制造有限公司 | 一种柔性三维激光切割机 |
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2007
- 2007-11-16 JP JP2007297469A patent/JP2009123983A/ja active Pending
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