JP2009117665A - Laminated inductor and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated inductor capable of making compatible both the suppression of the occurrence of inter-layer separation and reduction in connection failure, and to provide a manufacturing method of the laminated inductor. <P>SOLUTION: The laminated inductor 10 includes: a laminate 12; and a coil arranged in the laminate 12 and formed by electrically connecting a plurality of strip-shaped conductor patterns. The conductor patterns have a pair of broad faces S1, S2, intersecting the lamination direction and mutually opposing. The laminate 12 is arranged at the edge of the conductor pattern at the side of the broad face S1. Therefore, the conductor patterns have an overlapping part 20a overlapping with the laminate 12 at the edge and the other non-overlapping sections 20b when viewed from the lamination direction. A gap V is formed between one portion of a region in the non-overlapping section 20b in the broad face S1 and the laminate 12. The conductor patterns are connected to a through-hole conductor via a connection conductor provided on the broad face S1. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、積層型インダクタ及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer inductor and a method for manufacturing the same.

従来、磁性体グリーンシートを用意する工程と、磁性体グリーンシート上に導体パターンを形成する工程と、磁性体グリーンシート上に、導体パターンの周囲を取り囲むと共に導体パターンの厚みよりも厚い補助磁性材料層を形成する工程とを備える積層型インダクタの製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特公平7−123091号公報
Conventionally, a step of preparing a magnetic green sheet, a step of forming a conductor pattern on the magnetic green sheet, and an auxiliary magnetic material surrounding the conductor pattern on the magnetic green sheet and thicker than the thickness of the conductor pattern A method for manufacturing a multilayer inductor including a step of forming a layer is known (see, for example, Patent Document 1).
Japanese Patent Publication No. 7-123091

近年、例えば携帯電話の電源用のチョークコイルとして用いられるような積層型インダクタとして、大きな直流電流(例えば、1A〜5A程度)を流してもインダクタンス値の低下が少ない、直流重畳特性の良好なもの(直流抵抗値の小さいもの)が求められている。   In recent years, for example, a multilayer inductor used as a choke coil for a power source of a mobile phone has a good direct current superposition characteristic with little decrease in inductance value even when a large direct current (for example, about 1 A to 5 A) is passed. (A DC resistance value is small).

積層型インダクタの直流抵抗値を低くする手法として、積層型インダクタの内部に配置されているコイルを構成している導体パターンの幅を広くすることが考えられる。しかしながら、この場合にコイルの外径を変更しないとすると、インダクタンス値が小さくなってしまう。そこで、一般に、導体パターンの厚さを大きくすることが行われている。   As a technique for reducing the DC resistance value of the multilayer inductor, it is conceivable to increase the width of the conductor pattern constituting the coil disposed inside the multilayer inductor. However, in this case, if the outer diameter of the coil is not changed, the inductance value becomes small. Therefore, in general, increasing the thickness of the conductor pattern is performed.

このとき、積層型インダクタの製造方法として一般的なシート積層工法により導体パターンの厚さが大きい積層型インダクタを製造しようとすると、グリーンシート上に導体ペーストを所定のパターンにて塗布して乾燥することで、導電塗膜が表面上に形成されたグリーンシートを複数枚積層したときに、導電塗膜の厚さが厚くなっていることから、グリーンシートが積層されたグリーンシート積層体全体を均一に圧着することができない。そのため、製造された積層型インダクタにおいて、電気特性にばらつきが生じたり、層間剥離が生じたりすることがあった。   At this time, when a multilayer inductor having a large conductor pattern thickness is manufactured by a general sheet lamination method as a multilayer inductor manufacturing method, a conductor paste is applied in a predetermined pattern on a green sheet and dried. Thus, when multiple sheets of green sheets with conductive coatings formed on them are stacked, the thickness of the conductive coatings is increased, so the entire green sheet stack with green sheets stacked is uniform. Can not be crimped to. For this reason, in the manufactured multilayer inductor, variations in electrical characteristics or delamination may occur.

そこで、この問題を解決するため、特許文献1に記載されたような従来の積層型インダクタの製造方法では、磁性体グリーンシート上に、導体パターンの周囲を取り囲むと共に導体パターンの厚みよりも厚い補助磁性材料層を形成している。しかしながら、このようにして製造された積層型インダクタにおいては、帯状の導体パターンの幅広面のうち一方の幅広面が積層体と離間してしまっていた。そのため、積層方向において隣り合う導体パターン同士がスルーホール導体によって電気的に接続されず、接続不良が発生してしまうことがあった。   Therefore, in order to solve this problem, in the conventional method of manufacturing a multilayer inductor as described in Patent Document 1, an auxiliary material that surrounds the periphery of the conductor pattern and is thicker than the thickness of the conductor pattern on the magnetic green sheet. A magnetic material layer is formed. However, in the multilayer inductor manufactured as described above, one of the wide surfaces of the strip-shaped conductor pattern is separated from the multilayer body. For this reason, conductor patterns adjacent in the stacking direction are not electrically connected by the through-hole conductor, and connection failure may occur.

これに対して、磁性体グリーンシート上に、導体パターンの周囲を取り囲むと共に導体パターンの厚みよりも薄い補助磁性材料層を形成することも考えられる(例えば、特許第3582454号公報参照)。しかしながら、この場合には、やはりグリーンシートが積層されたグリーンシート積層体全体を均一に圧着することができず、製造された積層型インダクタにおいて、層間剥離が生じてしまうという問題があった。   On the other hand, it is also conceivable to form an auxiliary magnetic material layer that surrounds the periphery of the conductor pattern and is thinner than the thickness of the conductor pattern on the magnetic green sheet (see, for example, Japanese Patent No. 3582454). However, in this case, the entire green sheet laminate in which the green sheets are laminated cannot be uniformly crimped, and there is a problem that delamination occurs in the manufactured multilayer inductor.

本発明は、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが可能な積層型インダクタ及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a multilayer inductor capable of achieving both suppression of delamination and reduction of connection failure, and a method for manufacturing the same.

本発明に係る積層型インダクタは、複数の絶縁体層が積層されて構成された積層体と、積層体の外表面にそれぞれ配置された第1及び第2の外部電極と、帯状の複数の導体パターンが互いに電気的に接続されて構成され、積層体の内部に配置されたコイルと、コイルの一端に電気的に接続されると共に第1の外部導体に電気的に接続される第1の引き出し導体と、コイルの他端に電気的に接続されると共に第2の外部電極に電気的に接続される第2の引き出し導体とを備え、導体パターンは、積層体の積層方向において互いに対向する第1及び第2の幅広面を有し、第1の幅広面側における導体パターンの縁部には、積層体の一部が配置され、縁部に積層体の一部が配置されていることにより、導体パターンは、積層方向から見たときに、積層体のうち縁部に配置された部分と導体パターンとが重なり合っている重複部分と、重複部分以外の部分である非重複部分とを有し、第1の幅広面のうち非重複部分における領域の一部と積層体との間には空隙が形成され、導体パターンは、積層方向に沿って延びるスルーホール導体と接続される端部を有し、導体パターンとスルーホール導体とは、導体パターンの端部にのみ設けられた接続導体を介して接続されており、接続導体は、積層方向から見たときに、スルーホール導体よりも大きく、且つ、第1の幅広面のうち非重複部分における領域内に配置されていることを特徴とする。   A multilayer inductor according to the present invention includes a multilayer body formed by laminating a plurality of insulator layers, first and second external electrodes respectively disposed on the outer surface of the multilayer body, and a plurality of strip-shaped conductors The coil is configured to be electrically connected to each other, and is arranged inside the laminated body, and the first lead that is electrically connected to one end of the coil and electrically connected to the first outer conductor. A conductor and a second lead conductor that is electrically connected to the other end of the coil and electrically connected to the second external electrode, and the conductor patterns are arranged to face each other in the stacking direction of the stacked body. The first and second wide surfaces are provided, and a part of the multilayer body is disposed at the edge of the conductor pattern on the first wide surface side, and a part of the multilayer body is disposed at the edge. When the conductor pattern is viewed from the stacking direction, An overlapping portion in which the conductor pattern is overlapped with a portion arranged at the edge of the body, and a non-overlapping portion that is a portion other than the overlapping portion, and the region of the non-overlapping portion of the first wide surface A gap is formed between a part and the laminate, and the conductor pattern has an end connected to a through-hole conductor extending in the lamination direction. The conductor pattern and the through-hole conductor The connection conductor is connected via a connection conductor provided only at the end, and the connection conductor is larger than the through-hole conductor when viewed from the stacking direction, and is a region in a non-overlapping portion of the first wide surface. It is arranged inside.

本発明に係る積層型インダクタでは、第1の幅広面側における導体パターンの縁部に積層体の一部が配置されている。このような構成は、本発明に係る積層型インダクタの製造の際に、導電塗膜の縁部を覆うようにセラミック塗膜を形成することによってもたらされるものである。そのため、導体パターンの周囲を取り囲むように補助磁性材料層を形成していた従来の製造方法と比較して、複数のグリーンシートを積層した場合に、一のグリーンシート上に形成されたセラミック塗膜と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとが接触する面積が増え、また、導電塗膜の縁部によって、一のグリーンシート上に形成されたセラミック塗膜と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとがより強く押圧されることとも相俟って、製造される積層型インダクタにおいて層間剥離が発生し難くなる。また、本発明に係る積層型インダクタでは、導体パターンが第1の幅広面に設けられた接続導体を介して第1のスルーホール導体と接続されており、接続導体が、積層方向から見たときに、スルーホール導体よりも大きく、また、第1の幅広面のうち非重複部分における領域内に配置されている。そのため、この接続導体によって、導体パターンとスルーホール導体とが確実に接続され、接続信頼性が大きく向上する。従って、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが可能となる。   In the multilayer inductor according to the present invention, a part of the multilayer body is arranged at the edge of the conductor pattern on the first wide surface side. Such a configuration is brought about by forming a ceramic coating film so as to cover the edge of the conductive coating film when the multilayer inductor according to the present invention is manufactured. Therefore, compared to the conventional manufacturing method in which the auxiliary magnetic material layer is formed so as to surround the conductor pattern, when a plurality of green sheets are laminated, the ceramic coating film formed on one green sheet And an area where the one green sheet and another adjacent green sheet are in contact with each other, and the ceramic coating formed on the one green sheet by the edge of the conductive coating and the one green sheet Combined with the fact that other adjacent green sheets are more strongly pressed, delamination is less likely to occur in the manufactured multilayer inductor. In the multilayer inductor according to the present invention, the conductor pattern is connected to the first through-hole conductor via the connection conductor provided on the first wide surface, and the connection conductor is viewed from the lamination direction. In addition, it is larger than the through-hole conductor, and is disposed in a region in the non-overlapping portion of the first wide surface. For this reason, the connection pattern reliably connects the conductor pattern and the through-hole conductor, and the connection reliability is greatly improved. Therefore, it is possible to achieve both suppression of delamination and reduction of connection failure.

一方、本発明に係る積層型インダクタの製造方法は、グリーンシートを用意するグリーンシート用意工程と、グリーンシートに、厚み方向に貫通するスルーホールを形成するスルーホール形成工程と、導体ペーストをスルーホールに充填すると共にグリーンシート上に所定のパターンで導体ペーストを塗布して乾燥することで、帯状の導電塗膜を形成する導電塗膜形成工程と、導電塗膜の縁部を覆うと共に導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミックスラリーを塗布して乾燥することで、グリーンシートからの高さが導電塗膜のグリーンシートからの高さよりも高いセラミック塗膜を形成するセラミック塗膜形成工程と、導電塗膜の露出面上であって前記導電塗膜の端部にのみ導体ペーストを塗布して乾燥することで、グリーンシートからの高さがセラミック塗膜のグリーンシートからの高さよりも高い接続用導電塗膜を形成する接続用導電塗膜形成工程とを備えることを特徴とする。   On the other hand, the multilayer inductor manufacturing method according to the present invention includes a green sheet preparing step of preparing a green sheet, a through hole forming step of forming a through hole penetrating in the thickness direction in the green sheet, and a conductive paste through hole. A conductive coating film forming step for forming a belt-shaped conductive coating film by applying a conductive paste in a predetermined pattern on the green sheet and drying, and covering the edge of the conductive coating film and the conductive coating film The ceramic coating film that forms a ceramic coating film whose height from the green sheet is higher than the height of the conductive coating film from the green sheet by applying and drying the ceramic slurry so as to expose the upper surface other than the edge of By forming a conductive paste on the exposed surface of the conductive coating film and drying the conductive paste only on the edge of the conductive coating film, Height from over bets is characterized in that it comprises a connecting conductive coating film forming step of forming a high connection conductive coating than the height of the ceramic coating of the green sheet.

本発明に係る積層型インダクタの製造方法では、導電塗膜の縁部を覆うと共に導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミック塗膜を形成しており、セラミック塗膜のグリーンシートからの高さが導電塗膜のグリーンシートからの高さよりも高くなっている。そのため、導体パターンの周囲を取り囲むように補助磁性材料層を形成していた従来の製造方法と比較して、複数のグリーンシートを積層した場合に、一のグリーンシート上に形成されたセラミック塗膜と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとが接触する面積が増え、また、導電塗膜の縁部によって、一のグリーンシート上に形成されたセラミック塗膜と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとがより強く押圧されることとも相俟って、製造される積層型インダクタにおいて層間剥離が発生し難くなる。また、本発明に係る積層型インダクタの製造方法では、導電塗膜の露出面上に、グリーンシートからの高さがセラミック塗膜のグリーンシートからの高さよりも高い接続用導電塗膜を形成している。そのため、複数のグリーンシートを積層した場合に、一のグリーンシートにおける導電塗膜の露出面上に形成されている接続用導電塗膜が当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートによって押しつぶされ、この接続用導電塗膜によって、一のグリーンシートにおける導電塗膜と、他のグリーンシートにおける導電塗膜のうち他のグリーンシートに形成されたスルーホールに充填された部分とが確実に接続され、接続信頼性が大きく向上する。従って、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが可能となる。   In the method for manufacturing a multilayer inductor according to the present invention, the ceramic coating film is formed so as to cover the edge of the conductive coating film and to expose the upper surface other than the edge of the conductive coating film. Is higher than the height of the conductive coating film from the green sheet. Therefore, compared to the conventional manufacturing method in which the auxiliary magnetic material layer is formed so as to surround the conductor pattern, when a plurality of green sheets are laminated, the ceramic coating film formed on one green sheet And an area where the one green sheet and another adjacent green sheet are in contact with each other, and the ceramic coating formed on the one green sheet by the edge of the conductive coating and the one green sheet Combined with the fact that other adjacent green sheets are more strongly pressed, delamination is less likely to occur in the manufactured multilayer inductor. In the multilayer inductor manufacturing method according to the present invention, a conductive conductive coating film for connection is formed on the exposed surface of the conductive coating film so that the height from the green sheet is higher than the height of the ceramic coating film from the green sheet. ing. Therefore, when a plurality of green sheets are stacked, the conductive conductive film for connection formed on the exposed surface of the conductive film in one green sheet is crushed by another green sheet adjacent to the one green sheet. The conductive coating film for connection securely connects the conductive coating film on one green sheet to the portion filled in the through hole formed on the other green sheet in the conductive coating film on the other green sheet. Connection reliability is greatly improved. Therefore, it is possible to achieve both suppression of delamination and reduction of connection failure.

好ましくは、接続用導電塗膜の焼成時における収縮率は、導電塗膜の焼成時における収縮率よりも小さい。このようにすると、焼成時に、接続用導電塗膜が収縮し難くなるので、焼成後においても、一のグリーンシートにおける導電塗膜と、他のグリーンシートにおける導電塗膜のうち他のグリーンシートに形成されたスルーホールに充填された部分との接続を確実に維持できるようになる。その結果、接続不良をより低減することが可能となる。   Preferably, the shrinkage ratio during firing of the conductive conductive coating film is smaller than the shrinkage ratio during firing of the conductive paint film. In this way, since the conductive film for connection is less likely to shrink during firing, the conductive film on one green sheet and the other green sheet among the conductive films on the other green sheet even after firing. The connection with the portion filled in the formed through hole can be reliably maintained. As a result, connection failures can be further reduced.

また、本発明に係る積層型インダクタの製造方法は、グリーンシートを用意するグリーンシート用意工程と、グリーンシートに、厚み方向に貫通するスルーホールを形成するスルーホール形成工程と、導体ペーストをスルーホールに充填すると共にグリーンシート上に所定のパターンで導体ペーストを塗布して乾燥することで、帯状の第1の導電塗膜を形成する第1の導電塗膜形成工程と、第1の導電塗膜の縁部を覆うと共に第1の導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミックスラリーを塗布して乾燥することで、グリーンシートからの高さが第1の導電塗膜のグリーンシートからの高さよりも高い第1のセラミック塗膜を形成する第1のセラミック塗膜形成工程と、帯状の第n(ただし、nは2以上の整数)の導電塗膜を形成する第nの導電塗膜形成工程と、第nのセラミック塗膜を形成する第nのセラミック塗膜形成工程と、接続用導電塗膜形成工程とを備え、第nの導電塗膜形成工程では、第m(ただし、mは、m=n−1を満たす整数)の導電塗膜の露出面及び第mのセラミック塗膜上に所定のパターンで導体ペーストを塗布して乾燥することで、積層方向から見たときに第mの導電塗膜と重なると共にグリーンシートからの高さが第mのセラミック塗膜のグリーンシートからの高さよりも高くなるように、帯状の第nの導電塗膜を形成し、第nのセラミック塗膜形成工程では、第nの導電塗膜の縁部を覆うと共に第nの導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミックスラリーを塗布して乾燥することで、グリーンシートからの高さが第nの導電塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高くなるように、第nのセラミック塗膜を形成し、接続用導電塗膜形成工程では、第nの導電塗膜の露出面上であって前記導電塗膜の端部にのみ導体ペーストを塗布して乾燥することで、グリーンシートからの高さが第nのセラミック塗膜のグリーンシートからの高さよりも高い接続用導電塗膜を形成することを特徴とする。   The multilayer inductor manufacturing method according to the present invention includes a green sheet preparing step of preparing a green sheet, a through hole forming step of forming a through hole penetrating in the thickness direction in the green sheet, and a conductive paste through hole. A first conductive coating film forming step for forming a strip-shaped first conductive coating film by applying a conductive paste in a predetermined pattern on the green sheet and then drying the conductive paste; The ceramic sheet is applied so as to cover the edge of the first conductive film and the upper surface other than the edge of the first conductive coating film is exposed and dried, so that the height from the green sheet is the green sheet of the first conductive coating film. A first ceramic coating film forming step for forming a first ceramic coating film that is higher than the height of the film and a band-shaped nth conductive film (where n is an integer of 2 or more) The nth conductive coating film forming step, the nth ceramic coating film forming step for forming the nth ceramic coating film, and the connecting conductive coating film forming step, The conductive paste is applied in a predetermined pattern on the exposed surface of the mth conductive film (where m is an integer satisfying m = n-1) and the mth ceramic coating, and then dried. The band-shaped nth conductive coating film is overlapped with the mth conductive coating film when viewed from the direction and the height from the green sheet is higher than the height of the mth ceramic coating film from the green sheet. In the nth ceramic coating film forming step, the ceramic slurry is applied and dried so as to cover the edge portion of the nth conductive coating film and expose the upper surface other than the edge portion of the nth conductive coating film. The height from the green sheet is the nth conductive coating The nth ceramic coating film is formed so as to be higher than the height of the green sheet, and in the conductive coating film forming step for connection, the conductive coating film is on the exposed surface of the nth conductive coating film. It is characterized in that a conductive coating film for connection is formed in which the height from the green sheet is higher than the height from the green sheet of the nth ceramic coating film by applying a conductive paste only to the end of the substrate and drying. To do.

本発明に係る積層型インダクタの製造方法では、第nの導電塗膜の縁部を覆うと共に導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるように第nのセラミック塗膜を形成しており、第nのセラミック塗膜のグリーンシートからの高さが第nの導電塗膜のグリーンシートからの高さよりも高くなっている。そのため、導体パターンの周囲を取り囲むように補助磁性材料層を形成していた従来の製造方法と比較して、複数のグリーンシートを積層した場合に、一のグリーンシート上に形成された第nのセラミック塗膜と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとが接触する面積が増え、また、第nの導電塗膜の縁部によって、一のグリーンシート上に形成された第nのセラミック塗膜と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとがより強く押圧されることとも相俟って、製造される積層型インダクタにおいて層間剥離が発生し難くなる。また、本発明に係る積層型インダクタの製造方法では、第nの導電塗膜の露出面上に、グリーンシートからの高さが第nのセラミック塗膜のグリーンシートからの高さよりも高い接続用導電塗膜を形成している。そのため、複数のグリーンシートを積層した場合に、一のグリーンシートにおける第nの導電塗膜の露出面上に形成されている接続用導電塗膜が当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートによって押しつぶされ、この接続用導電塗膜によって、一のグリーンシートにおける第nの導電塗膜と、他のグリーンシートにおける第1の導電塗膜のうち他のグリーンシートに形成されたスルーホールに充填された部分とが確実に接続され、接続信頼性が大きく向上する。従って、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが可能となる。   In the manufacturing method of the multilayer inductor according to the present invention, the nth ceramic coating film is formed so as to cover the edge of the nth conductive coating film and to expose the upper surface other than the edge of the conductive coating film, The height of the nth ceramic coating film from the green sheet is higher than the height of the nth conductive coating film from the green sheet. Therefore, in comparison with the conventional manufacturing method in which the auxiliary magnetic material layer is formed so as to surround the conductor pattern, when the plurality of green sheets are stacked, the nth nth formed on one green sheet is formed. The area of contact between the ceramic coating and the other green sheet adjacent to the one green sheet increases, and the nth ceramic formed on the one green sheet by the edge of the nth conductive coating Combined with the fact that the coating film and the other green sheet adjacent to the one green sheet are more strongly pressed, delamination hardly occurs in the manufactured multilayer inductor. In the multilayer inductor manufacturing method according to the present invention, on the exposed surface of the nth conductive coating film, the height from the green sheet is higher than the height of the nth ceramic coating film from the green sheet. A conductive coating film is formed. Therefore, when a plurality of green sheets are stacked, another conductive green sheet adjacent to the green sheet is connected to the conductive conductive film formed on the exposed surface of the nth conductive film in the green sheet. By this conductive film for connection, the nth conductive film in one green sheet and the through hole formed in the other green sheet among the first conductive films in the other green sheet are filled. The connected portion is securely connected, and the connection reliability is greatly improved. Therefore, it is possible to achieve both suppression of delamination and reduction of connection failure.

好ましくは、接続用導電塗膜の焼成時における収縮率は、第1〜第nの導電塗膜の焼成時における収縮率よりも小さい。このようにすると、焼成時に、接続用導電塗膜が収縮し難くなるので、焼成後においても、一のグリーンシートにおける第nの導電塗膜と、他のグリーンシートにおける第1の導電塗膜のうち他のグリーンシートに形成されたスルーホールに充填された部分との接続を確実に維持できるようになる。その結果、接続不良をより低減することが可能となる。   Preferably, the shrinkage rate at the time of firing the conductive conductive film for connection is smaller than the shrinkage rate at the time of firing the first to nth conductive paint films. If it does in this way, since it will become difficult to shrink | contract the conductive film for a connection at the time of baking, even after baking, the nth conductive film in one green sheet and the 1st conductive film in another green sheet The connection with the portion filled in the through hole formed in the other green sheet can be reliably maintained. As a result, connection failures can be further reduced.

本発明によれば、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが可能な積層型インダクタ及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a multilayer inductor capable of achieving both suppression of delamination and reduction of connection failure and a method for manufacturing the same.

本発明の好適な実施形態について、図面を参照して説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and a duplicate description is omitted.

(積層型インダクタの構成)
まず、図1〜図5を参照して、本実施形態に係る積層型インダクタ10の構成について説明する。積層型インダクタ10は、図1及び図2に示されるように、略直方体形状の積層体12と、積層体12の長手方向の両側面にそれぞれ形成された一対の外部電極14,16と、積層体12の内部において導体パターンC1〜C12がそれぞれ互いに電気的に接続されてなるコイルLとを備える。
(Configuration of multilayer inductor)
First, the configuration of the multilayer inductor 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 1 and 2, the multilayer inductor 10 includes a substantially rectangular parallelepiped multilayer body 12, a pair of external electrodes 14 and 16 formed on both side surfaces of the multilayer body 12 in the longitudinal direction, Inside the body 12, a conductor pattern C1 to C12 is provided with a coil L that is electrically connected to each other.

積層体12は、互いに略平行となるように対向する一対の主面12a,12bを有している。主面12a,12bのうちの一方は、積層型インダクタ10が外部基板(図示せず)に実装されたときに、当該外部基板に対向する面である。   The laminated body 12 has a pair of main surfaces 12a and 12b facing each other so as to be substantially parallel to each other. One of the main surfaces 12a and 12b is a surface facing the external substrate when the multilayer inductor 10 is mounted on the external substrate (not shown).

積層体12は、図2に示されるように、磁性体層A1〜A4、非磁性体層B1、磁性体層A5〜A7、非磁性体層B2及び磁性体層A8〜A12がこの順に積層されることで構成される。すなわち、磁性体層A1の上面が積層体12の主面12aを構成し、磁性体層A12の下面が積層体12の主面12bを構成することとなり(図2参照)、主面12a,12bの対向方向(以下、対向方向と称する)は本実施形態において積層体12(磁性体層A1〜A12及び非磁性体層B1,B2)の積層方向(以下、積層方向と称する)と一致する。   As shown in FIG. 2, the laminated body 12 is formed by laminating magnetic layers A1 to A4, nonmagnetic layer B1, magnetic layers A5 to A7, nonmagnetic layer B2, and magnetic layers A8 to A12 in this order. It is composed by. That is, the upper surface of the magnetic layer A1 constitutes the main surface 12a of the multilayer body 12, the lower surface of the magnetic layer A12 constitutes the main surface 12b of the multilayer body 12 (see FIG. 2), and the main surfaces 12a and 12b. The facing direction (hereinafter referred to as the facing direction) of the laminated body 12 (hereinafter referred to as the stacking direction) of the stacked body 12 (magnetic layers A1 to A12 and nonmagnetic layers B1 and B2) in the present embodiment.

磁性体層A1〜A12、非磁性体層B1,B2及び後述する磁性体膜F1〜F10は、電気絶縁性を有する絶縁体として機能する。磁性体層A1〜A12及び磁性体膜F1〜F10は、例えば、Ni−Cu−Zn系フェライト、Cu−Zn系フェライト又はNi−Cu−Zn−Mg系フェライト等のフェライトを用いて形成することができる。非磁性体層B1,B2は、例えば、Cu−Zn系非磁性フェライト等の非磁性フェライトを用いて形成することができる。実際の積層型インダクタ1では、磁性体層A1〜A12、非磁性体層B1,B2及び磁性体膜F1〜F10の境界が視認できない程度に一体化されている。   The magnetic layers A1 to A12, the nonmagnetic layers B1 and B2, and magnetic films F1 to F10 described later function as an insulator having electrical insulation. The magnetic layers A1 to A12 and the magnetic films F1 to F10 may be formed using ferrite such as Ni—Cu—Zn based ferrite, Cu—Zn based ferrite, or Ni—Cu—Zn—Mg based ferrite, for example. it can. The nonmagnetic layers B1 and B2 can be formed using nonmagnetic ferrite such as Cu—Zn nonmagnetic ferrite, for example. In the actual multilayer inductor 1, the boundaries of the magnetic layers A1 to A12, the nonmagnetic layers B1 and B2, and the magnetic films F1 to F10 are integrated so as not to be visible.

磁性体層A2の表面には、導体パターンC1及び引き出し導体D1が形成されている。導体パターンC1は、コイルLの一端に位置するように配置されている。導体パターンC1の一端には、引き出し導体D1が一体的に形成されている。引き出し導体D1は、磁性体層A2の外部電極12が形成される側の縁に引き出され、その端部が磁性体層A2の端面に露出している。このため、導体パターンC1は、引き出し導体D1を介して、外部電極12と電気的に接続される。導体パターンC1の他端は、磁性体層A2を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E1と電気的に接続される。このため、導体パターンC1は、積層された状態で、スルーホール導体E1及び接続導体G1(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC2と電気的に接続される。   A conductor pattern C1 and a lead conductor D1 are formed on the surface of the magnetic layer A2. The conductor pattern C1 is disposed so as to be positioned at one end of the coil L. A lead conductor D1 is integrally formed at one end of the conductor pattern C1. The lead conductor D1 is drawn to the edge of the magnetic layer A2 on the side where the external electrode 12 is formed, and its end is exposed at the end face of the magnetic layer A2. For this reason, the conductor pattern C1 is electrically connected to the external electrode 12 through the lead conductor D1. The other end of the conductor pattern C1 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E1 formed through the magnetic layer A2 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C1 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C2 through the through-hole conductor E1 and the connection conductor G1 (described in detail later) in a stacked state.

磁性体層A3の表面には導体パターンC2及び磁性体膜F1が形成されている。導体パターンC2は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A3上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC2の一端には、その表面に接続導体G1が設けられており、この接続導体G1は、積層された状態で、スルーホール導体E1と接続されている。つまり、導体パターンC2は、接続導体G1を介してスルーホール導体E1と接続される端部を有している。導体パターンC2の他端は、磁性体層A3を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E2と電気的に接続される。このため、導体パターンC2は、積層された状態で、スルーホール導体E2及び接続導体G2(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC3と電気的に接続される。   A conductor pattern C2 and a magnetic film F1 are formed on the surface of the magnetic layer A3. The conductor pattern C2 has a strip shape, corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A3. One end of the conductor pattern C2 is provided with a connection conductor G1 on the surface, and this connection conductor G1 is connected to the through-hole conductor E1 in a stacked state. That is, the conductor pattern C2 has an end connected to the through-hole conductor E1 via the connection conductor G1. The other end of the conductor pattern C2 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E2 formed through the magnetic layer A3 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C2 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C3 through the through-hole conductor E2 and the connection conductor G2 (details will be described later) in a stacked state.

磁性体層A4の表面には導体パターンC3及び磁性体膜F2が形成されている。導体パターンC3は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A4上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC3の一端には、その表面に接続導体G2が設けられており、この接続導体G2は、積層された状態で、スルーホール導体E2と接続されている。つまり、導体パターンC3は、接続導体G2を介してスルーホール導体E2と接続される端部を有している。導体パターンC3の他端は、磁性体層A4を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E3と電気的に接続される。このため、導体パターンC3は、積層された状態で、スルーホール導体E3及び接続導体G3(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC4と電気的に接続される。   A conductor pattern C3 and a magnetic film F2 are formed on the surface of the magnetic layer A4. The conductor pattern C3 has a strip shape, corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A4. A connection conductor G2 is provided on one surface of the conductor pattern C3, and the connection conductor G2 is connected to the through-hole conductor E2 in a stacked state. That is, the conductor pattern C3 has an end connected to the through-hole conductor E2 via the connection conductor G2. The other end of the conductor pattern C3 is electrically connected to a cylindrical through-hole conductor E3 formed through the magnetic layer A4 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C3 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C4 through the through-hole conductor E3 and the connection conductor G3 (details will be described later) in a stacked state.

非磁性体層B1の表面には導体パターンC4及び磁性体膜F3が形成されている。導体パターンC4は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、非磁性体層B1上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC4の一端には、その表面に接続導体G3が設けられており、この接続導体G3は、積層された状態で、スルーホール導体E3と接続されている。つまり、導体パターンC4は、接続導体G3を介してスルーホール導体E3と接続される端部を有している。導体パターンC4の他端は、非磁性体層B1を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E4と電気的に接続される。このため、導体パターンC4は、積層された状態で、スルーホール導体E4及び接続導体G4(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC5と電気的に接続される。   A conductor pattern C4 and a magnetic film F3 are formed on the surface of the nonmagnetic material layer B1. The conductor pattern C4 has a strip shape, which corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the nonmagnetic layer B1. One end of the conductor pattern C4 is provided with a connection conductor G3 on its surface, and this connection conductor G3 is connected to the through-hole conductor E3 in a stacked state. That is, the conductor pattern C4 has an end connected to the through-hole conductor E3 through the connection conductor G3. The other end of the conductor pattern C4 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E4 formed through the nonmagnetic layer B1 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C4 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C5 through the through-hole conductor E4 and the connection conductor G4 (details will be described later) in a stacked state.

磁性体層A5の表面には導体パターンC5及び磁性体膜F4が形成されている。導体パターンC5は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A5上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC5の一端には、その表面に接続導体G4が設けられており、この接続導体G4は、積層された状態で、スルーホール導体E4と接続されている。つまり、導体パターンC5は、接続導体G4を介してスルーホール導体E4と接続される端部を有している。導体パターンC5の他端は、磁性体層A5を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E5と電気的に接続される。このため、導体パターンC5は、積層された状態で、スルーホール導体E5及び接続導体G5(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC6と電気的に接続される。   A conductor pattern C5 and a magnetic film F4 are formed on the surface of the magnetic layer A5. The conductor pattern C5 has a strip shape, which corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A5. A connection conductor G4 is provided on the surface of one end of the conductor pattern C5, and this connection conductor G4 is connected to the through-hole conductor E4 in a stacked state. That is, the conductor pattern C5 has an end connected to the through-hole conductor E4 through the connection conductor G4. The other end of the conductor pattern C5 is electrically connected to a cylindrical through-hole conductor E5 formed through the magnetic layer A5 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). Therefore, the conductor pattern C5 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C6 through the through-hole conductor E5 and the connection conductor G5 (details will be described later) in a stacked state.

磁性体層A6の表面には導体パターンC6及び磁性体膜F5が形成されている。導体パターンC6は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A6上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC6の一端には、その表面に接続導体G5が設けられており、この接続導体G5は、積層された状態で、スルーホール導体E5と接続されている。つまり、導体パターンC6は、接続導体G5を介してスルーホール導体E5と接続される端部を有している。導体パターンC6の他端は、磁性体層A6を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E6と電気的に接続される。このため、導体パターンC6は、積層された状態で、スルーホール導体E6及び接続導体G6(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC7と電気的に接続される。   A conductor pattern C6 and a magnetic film F5 are formed on the surface of the magnetic layer A6. The conductor pattern C6 has a strip shape, which corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A6. One end of the conductor pattern C6 is provided with a connection conductor G5 on its surface, and this connection conductor G5 is connected to the through-hole conductor E5 in a stacked state. That is, the conductor pattern C6 has an end connected to the through-hole conductor E5 through the connection conductor G5. The other end of the conductor pattern C6 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E6 formed through the magnetic layer A6 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). Therefore, the conductor pattern C6 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C7 through the through-hole conductor E6 and the connection conductor G6 (described later in detail) in a stacked state.

磁性体層A7の表面には導体パターンC7及び磁性体膜F6が形成されている。導体パターンC7は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A7上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC7の一端には、その表面に接続導体G6が設けられており、この接続導体G6は、積層された状態で、スルーホール導体E6と接続されている。つまり、導体パターンC7は、接続導体G6を介してスルーホール導体E6と接続される端部を有している。導体パターンC7の他端は、磁性体層A7を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E7と電気的に接続される。このため、導体パターンC7は、積層された状態で、スルーホール導体E7及び接続導体G7(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC8と電気的に接続される。   A conductor pattern C7 and a magnetic film F6 are formed on the surface of the magnetic layer A7. The conductor pattern C7 has a strip shape, which corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A7. One end of the conductor pattern C7 is provided with a connection conductor G6 on its surface, and this connection conductor G6 is connected to the through-hole conductor E6 in a stacked state. That is, the conductor pattern C7 has an end connected to the through-hole conductor E6 via the connection conductor G6. The other end of the conductor pattern C7 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E7 formed through the magnetic layer A7 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C7 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C8 through the through-hole conductor E7 and the connection conductor G7 (described in detail later) in a stacked state.

非磁性体層B2の表面には導体パターンC8及び磁性体膜F7が形成されている。導体パターンC8は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、非磁性体層B2上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC8の一端には、その表面に接続導体G7が設けられており、この接続導体G7は、積層された状態で、スルーホール導体E7と接続されている。つまり、導体パターンC8は、接続導体G7を介してスルーホール導体E7と接続される端部を有している。導体パターンC8の他端は、非磁性体層B2を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E8と電気的に接続される。このため、導体パターンC8は、積層された状態で、スルーホール導体E8及び接続導体G8(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC9と電気的に接続される。   A conductor pattern C8 and a magnetic film F7 are formed on the surface of the nonmagnetic material layer B2. The conductor pattern C8 has a strip shape, corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the nonmagnetic layer B2. One end of the conductor pattern C8 is provided with a connection conductor G7 on its surface, and this connection conductor G7 is connected to the through-hole conductor E7 in a stacked state. That is, the conductor pattern C8 has an end connected to the through-hole conductor E7 via the connection conductor G7. The other end of the conductor pattern C8 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E8 formed through the nonmagnetic layer B2 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C8 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C9 through the through-hole conductor E8 and the connection conductor G8 (details will be described later) in a stacked state.

磁性体層A8の表面には導体パターンC9及び磁性体膜F8が形成されている。導体パターンC9は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A8上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC9の一端には、その表面に接続導体G8が設けられており、この接続導体G8は、積層された状態で、スルーホール導体E8と接続されている。つまり、導体パターンC9は、接続導体G8を介してスルーホール導体E8と接続される端部を有している。導体パターンC9の他端は、磁性体層A8を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E9と電気的に接続される。このため、導体パターンC9は、積層された状態で、スルーホール導体E9及び接続導体G9(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC10と電気的に接続される。   A conductor pattern C9 and a magnetic film F8 are formed on the surface of the magnetic layer A8. The conductor pattern C9 has a strip shape, corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A8. One end of the conductor pattern C9 is provided with a connection conductor G8 on its surface, and this connection conductor G8 is connected to the through-hole conductor E8 in a stacked state. That is, the conductor pattern C9 has an end connected to the through-hole conductor E8 via the connection conductor G8. The other end of the conductor pattern C9 is electrically connected to a cylindrical through-hole conductor E9 formed through the magnetic layer A8 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C9 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C10 through the through-hole conductor E9 and the connection conductor G9 (described in detail later) in a stacked state.

磁性体層A9の表面には導体パターンC10及び磁性体膜F9が形成されている。導体パターンC10は、帯状を呈しており、コイルLの略1ターンに相当し、磁性体層A9上でスパイラル状に巻回されている。導体パターンC10の一端には、その表面に接続導体G9が設けられており、この接続導体G9は、積層された状態で、スルーホール導体E9と接続されている。つまり、導体パターンC10は、接続導体G9を介してスルーホール導体E9と接続される端部を有している。導体パターンC10の他端は、磁性体層A9を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E10と電気的に接続される。このため、導体パターンC10は、積層された状態で、スルーホール導体E10及び接続導体G10(詳しくは後述する)を介して、対応する導体パターンC11と電気的に接続される。   A conductor pattern C10 and a magnetic film F9 are formed on the surface of the magnetic layer A9. The conductor pattern C10 has a strip shape, corresponds to approximately one turn of the coil L, and is wound spirally on the magnetic layer A9. One end of the conductor pattern C10 is provided with a connection conductor G9 on its surface, and this connection conductor G9 is connected to the through-hole conductor E9 in a stacked state. That is, the conductor pattern C10 has an end connected to the through-hole conductor E9 via the connection conductor G9. The other end of the conductor pattern C10 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E10 formed through the magnetic layer A9 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C10 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C11 through the through-hole conductor E10 and the connection conductor G10 (details will be described later) in a stacked state.

磁性体層A10の表面には導体パターンC11及び磁性体膜F10が形成されている。導体パターンC11は、帯状を呈しており、コイルLの略3/8ターンに相当し、磁性体層A10上でL字状に形成されている。導体パターンC11の一端には、その表面に接続導体G10が設けられており、この接続導体G10は、積層された状態で、スルーホール導体E10と接続されている。つまり、導体パターンC11は、接続導体G10を介してスルーホール導体E10と接続される端部を有している。導体パターンC11の他端は、磁性体層A10を厚み方向に貫通して形成された(すなわち、積層方向に沿って延びる)円柱状のスルーホール導体E11と電気的に接続される。このため、導体パターンC11は、積層された状態で、スルーホール導体E11を介して、対応する導体パターンC12と電気的に接続される。   A conductor pattern C11 and a magnetic film F10 are formed on the surface of the magnetic layer A10. The conductor pattern C11 has a strip shape, which corresponds to approximately 3/8 turn of the coil L, and is formed in an L shape on the magnetic layer A10. One end of the conductor pattern C11 is provided with a connection conductor G10 on the surface thereof, and this connection conductor G10 is connected to the through-hole conductor E10 in a stacked state. That is, the conductor pattern C11 has an end connected to the through-hole conductor E10 via the connection conductor G10. The other end of the conductor pattern C11 is electrically connected to a columnar through-hole conductor E11 formed through the magnetic layer A10 in the thickness direction (that is, extending along the stacking direction). For this reason, the conductor pattern C11 is electrically connected to the corresponding conductor pattern C12 through the through-hole conductor E11 in a stacked state.

磁性体層A11の表面には、導体パターンC12及び引き出し導体D2が形成されている。導体パターンC12の一端には、積層された状態でスルーホール電極E11と電気的に接続される領域が含まれている。導体パターンC12の他端には、引き出し導体D2が一体的に形成されている。引き出し導体D2は、磁性体層A11の外部電極14が形成される側の縁に引き出され、その端部が磁性体層A11の端面に露出している。このため、導体パターンC12は、引き出し導体D2を介して、外部電極14と電気的に接続される。   A conductor pattern C12 and a lead conductor D2 are formed on the surface of the magnetic layer A11. One end of the conductor pattern C12 includes a region electrically connected to the through-hole electrode E11 in a stacked state. A lead conductor D2 is integrally formed at the other end of the conductor pattern C12. The lead conductor D2 is drawn to the edge of the magnetic layer A11 on the side where the external electrode 14 is formed, and its end is exposed at the end face of the magnetic layer A11. For this reason, the conductor pattern C12 is electrically connected to the external electrode 14 through the lead conductor D2.

ここで、図3〜図5を参照して、導体パターンC2〜C11の構成についてより詳しく説明する。なお、図3〜図5では導体パターンC2〜C11のうち一部のみを示しているが、以下に述べる導体パターンC2〜C11の構成はいずれも共通している。   Here, the configuration of the conductor patterns C2 to C11 will be described in more detail with reference to FIGS. 3 to 5 show only a part of the conductor patterns C2 to C11, the configurations of the conductor patterns C2 to C11 described below are common.

導体パターンC2〜C11は、その厚さが20μm以上となるように設定されており、その厚さが40μm〜80μm程度となるように設定されていると好ましい。導体パターンC2〜C11の厚さが20μm未満となると、導体パターンC2〜C11の断面積が相対的に小さくなり、積層型インダクタ10の直流抵抗値が大きくなる傾向にあり、このような積層型インダクタ10は大電流用途として好適でない。   The conductor patterns C2 to C11 are set to have a thickness of 20 μm or more, and are preferably set to have a thickness of about 40 μm to 80 μm. When the thickness of the conductor patterns C2 to C11 is less than 20 μm, the cross sectional area of the conductor patterns C2 to C11 tends to be relatively small, and the DC resistance value of the multilayer inductor 10 tends to be large. 10 is not suitable for high current applications.

導体パターンC2〜C11は、積層方向において互いに対向する一対の幅広面S1,S2と、この一対の幅広面S1,S2の全周にわたって幅広面S1と幅広面S2とを連結する周側面S3とを有している。導体パターンC2〜C11は、幅広面S1が主面12a寄りとなると共に幅広面S2が主面12b寄りとなるように、積層体12内に配置されている(特に図4参照)。   The conductor patterns C2 to C11 include a pair of wide surfaces S1 and S2 that face each other in the stacking direction, and a peripheral side surface S3 that connects the wide surface S1 and the wide surface S2 over the entire circumference of the pair of wide surfaces S1 and S2. Have. The conductor patterns C2 to C11 are arranged in the laminate 12 so that the wide surface S1 is close to the main surface 12a and the wide surface S2 is close to the main surface 12b (see particularly FIG. 4).

導体パターンC2〜C11の周側面S3は、図3〜図5に示されるように、凹部18aと凸部18bとが積層方向に沿って交互に並んだ凹凸面とされている。凹部18a及び凸部18bは、周側面S3の全周にわたって、周側面S3の周方向に沿うように延びている。凹部18aには、図4及び図5に示されるように、積層体12(磁性体膜F1〜F10)の一部が入り込んでいる。そのため、導体パターンC2〜C11は、図5に示されるように、積層方向から見たときに、積層体12(磁性体膜F1〜F10)のうち凹部18aに入り込んだ部分と導体パターンC2〜C11とが重なり合っている重複部分20aと、重複部分20a以外の部分である非重複部分20bとを有している。一方、凸部18bは、その先端が先細形状となっている。凸部18bの先端は、積層方向から見たときに幅広面S1,S2の縁と略一致している。そのため、凹部18aの底は、積層方向から見たときに幅広面S1,S2と重なっている。   As shown in FIGS. 3 to 5, the peripheral side surface S3 of the conductor patterns C2 to C11 is an uneven surface in which the concave portions 18a and the convex portions 18b are alternately arranged in the stacking direction. The concave portion 18a and the convex portion 18b extend along the circumferential direction of the peripheral side surface S3 over the entire circumference of the peripheral side surface S3. As shown in FIGS. 4 and 5, a part of the laminated body 12 (magnetic films F <b> 1 to F <b> 10) enters the recess 18 a. Therefore, as shown in FIG. 5, the conductor patterns C2 to C11 and the portions of the laminate 12 (magnetic films F1 to F10) that have entered the recess 18a and the conductor patterns C2 to C11 when viewed from the lamination direction. And a non-overlapping part 20b which is a part other than the overlapping part 20a. On the other hand, the convex part 18b has a tapered tip. The tip of the convex portion 18b substantially coincides with the edges of the wide surfaces S1, S2 when viewed from the stacking direction. Therefore, the bottom of the recess 18a overlaps the wide surfaces S1 and S2 when viewed from the stacking direction.

導体パターンC2〜C11の幅W1(図5参照)は、60μmよりも大きくなるように設定されており、200μm〜300μm程度となるように設定されていると好ましい。重複部分20aの幅W2(図5参照)は、20μm以上で且つ非重複部分20bの幅W3(図5参照)よりも小さくなるように設定されている。重複部分20aの幅W2が20μm未満であると、周側面S3が凹凸状とされていることによって生ずるアンカー効果(凹凸状の周側面S3から積層体12が剥離し難くなる効果)が十分に発揮されない傾向にある。重複部分20aの幅W2が非重複部分20bの幅W3以上であると、導体パターンC2〜C11の断面積が相対的に小さくなり、積層型インダクタ10の直流抵抗値が大きくなる傾向にあり、このような積層型インダクタ10は大電流用途として好適でない。   The width W1 (see FIG. 5) of the conductor patterns C2 to C11 is set to be larger than 60 μm, and is preferably set to be about 200 μm to 300 μm. The width W2 (see FIG. 5) of the overlapping portion 20a is set to be 20 μm or more and smaller than the width W3 (see FIG. 5) of the non-overlapping portion 20b. When the width W2 of the overlapping portion 20a is less than 20 μm, the anchor effect (an effect that makes it difficult for the laminated body 12 to be peeled off from the uneven peripheral side surface S3) is exhibited sufficiently. There is a tendency not to be. When the width W2 of the overlapping portion 20a is equal to or larger than the width W3 of the non-overlapping portion 20b, the cross-sectional areas of the conductor patterns C2 to C11 are relatively small, and the DC resistance value of the multilayer inductor 10 tends to increase. Such a multilayer inductor 10 is not suitable for large current applications.

導体パターンC2〜C11の幅広面S1のうち重複部分20aにおける領域S1aは、図5に示されるように、積層体12(磁性体膜F1〜F10)と接している。一方、導体パターンC2〜C11の幅広面S1のうち非重複部分20bにおける領域S1bは、図5に示されるように、積層体12(磁性体膜F1〜F10)とは接していない。また、領域S1bのうちスルーホール導体E1〜E10に対応する部分には、円柱状又は切頭半球状を呈し、且つ、積層方向から見たときにスルーホール導体E1〜E10よりも大きい接続導体G1〜G10が配置されている。つまり、接続導体G1〜G10は、導体パターンC2〜C11の端部にのみ設けられている。なお、接続導体G1〜G10が配置されている部分を除く領域S1b(すなわち、図3において斜線で示される領域)の一部と、積層体12との間には、空隙Vが形成されている(図5参照)。   Of the wide surface S1 of the conductor patterns C2 to C11, the region S1a in the overlapping portion 20a is in contact with the multilayer body 12 (magnetic films F1 to F10) as shown in FIG. On the other hand, the region S1b in the non-overlapping portion 20b of the wide surface S1 of the conductor patterns C2 to C11 is not in contact with the multilayer body 12 (magnetic films F1 to F10) as shown in FIG. In addition, a portion corresponding to the through-hole conductors E1 to E10 in the region S1b has a columnar shape or a truncated hemispherical shape, and is larger than the through-hole conductors E1 to E10 when viewed from the stacking direction. To G10 are arranged. That is, the connection conductors G1 to G10 are provided only at the ends of the conductor patterns C2 to C11. Note that a gap V is formed between a part of the region S1b (that is, a region indicated by hatching in FIG. 3) excluding the portion where the connection conductors G1 to G10 are disposed and the multilayer body 12. (See FIG. 5).

導体パターンC2〜C11の幅広面S2は、図3〜図5に示されるように、その全面又は大部分が積層体12と接している。   The wide surface S2 of the conductor patterns C2 to C11 is in contact with the multilayer body 12 as shown in FIGS.

なお、上述した導体パターンC1〜C12及び引き出し導体D1,D2は、例えば、Ag等の金属材料を用いて形成することができる。また、上述した導体パターンC1,C12及び引き出し導体D1,D2は、その厚さを10μm〜25μm程度に設定することができ、上述した導体パターンC1,C12は、その幅を200μm〜300μm程度に設定することができる。   The conductor patterns C1 to C12 and the lead conductors D1 and D2 described above can be formed using a metal material such as Ag, for example. The conductor patterns C1 and C12 and the lead conductors D1 and D2 can be set to have a thickness of about 10 μm to 25 μm, and the conductor patterns C1 and C12 can be set to have a width of about 200 μm to 300 μm. can do.

(積層型インダクタの製造方法)
続いて、図6〜図9を参照して、本実施形態に係る積層型インダクタ10の製造方法について説明する。なお、図6〜図9では後述する磁性体グリーンシートGS1及び非磁性体グリーンシートGS2のうち一部のみを示しているが、磁性体グリーンシートGS1上又は非磁性体グリーンシートGS2上に後述する導電塗膜H1〜H4及び磁性体塗膜I1〜I4を形成する工程はいずれも共通している。
(Manufacturing method of multilayer inductor)
Subsequently, a method for manufacturing the multilayer inductor 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 9 show only a part of a magnetic green sheet GS1 and a non-magnetic green sheet GS2, which will be described later, but will be described later on the magnetic green sheet GS1 or on the non-magnetic green sheet GS2. The steps of forming the conductive coatings H1 to H4 and the magnetic coatings I1 to I4 are common.

まず、磁性体スラリー、非磁性体スラリー、導体ペースト及び接続用導体ペーストを用意する。具体的には、磁性体スラリーは、例えば、Ni−Cu−Zn系フェライト粉末、Cu−Zn系フェライト粉末又はNi−Cu−Zn−Mg系フェライト粉末等の磁性体粉末を、バインダ及び溶剤と共に混練することによって得られる。非磁性体スラリーは、例えば、Cu−Zn系非磁性フェライト粉末等の非磁性体粉末を、バインダ及び溶剤と共に混練することによって得られる。導体ペースト及び接続用導体ペーストは、例えば、導体粉末をバインダ及び有機溶剤と共に所定の比率で配合した後、混練することによって作成される。導体粉末としては、通常、Ag、Ag合金、Cu、Cu合金等を用いることができるが、抵抗率の小さいAgを用いるとより好ましい。なお、混練には、三本ロール、ホモジナイザー、サンドミル等を用いることができる。また、接続用導体ペーストの焼成後縮率が導体ペーストの焼成後縮率よりも低くなるようにするため、導体ペーストと接続用導体ペーストとで、例えば、バインダ及び溶剤の種類、量を変えている。   First, a magnetic slurry, a non-magnetic slurry, a conductor paste, and a connecting conductor paste are prepared. Specifically, the magnetic slurry is, for example, a magnetic powder such as Ni-Cu-Zn ferrite powder, Cu-Zn ferrite powder or Ni-Cu-Zn-Mg ferrite powder is kneaded together with a binder and a solvent. It is obtained by doing. The nonmagnetic material slurry is obtained, for example, by kneading nonmagnetic material powder such as Cu—Zn-based nonmagnetic ferrite powder together with a binder and a solvent. The conductor paste and the connecting conductor paste are prepared, for example, by blending a conductor powder together with a binder and an organic solvent at a predetermined ratio and then kneading. As the conductor powder, Ag, an Ag alloy, Cu, Cu alloy, or the like can be usually used, but it is more preferable to use Ag having a low resistivity. In addition, a three-roll, a homogenizer, a sand mill, etc. can be used for kneading | mixing. Moreover, in order to make the shrinkage ratio after firing of the conductor paste for connection lower than the shrinkage ratio after firing of the conductor paste, for example, the type and amount of the binder and the solvent are changed between the conductor paste and the conductor paste for connection. Yes.

続いて、例えばドクターブレード法や印刷法を用いて、磁性体スラリーをPETフィルム等の支持体上に塗布し、磁性体層A1〜A12となる磁性体グリーンシートGS1(図9参照)を形成する。また、例えばドクターブレード法や印刷法を用いて、非磁性体スラリーをPETフィルム等の支持体上に塗布し、非磁性体層B1,B2となる非磁性体グリーンシートGS2(図6〜図9参照)を形成する。これらの磁性体グリーンシートGS1及び非磁性体グリーンシートGS2の厚さは、例えば10μm〜30μm程度に設定することができる。そして、レーザ加工等によって、磁性体グリーンシートGS1及び非磁性体グリーンシートGS2を厚み方向に貫通するスルーホール(貫通孔)TH(図9参照)を所定位置に形成し、このスルーホールTHに導体ペーストを充填する。   Subsequently, for example, using a doctor blade method or a printing method, the magnetic material slurry is applied onto a support such as a PET film to form the magnetic material green sheet GS1 (see FIG. 9) to be the magnetic material layers A1 to A12. . Further, for example, by using a doctor blade method or a printing method, a nonmagnetic material slurry is applied on a support such as a PET film to form a nonmagnetic material green sheet GS2 (FIGS. 6 to 9) to become nonmagnetic material layers B1 and B2. Reference). The thickness of the magnetic green sheet GS1 and the non-magnetic green sheet GS2 can be set to about 10 μm to 30 μm, for example. Then, through holes (through holes) TH (see FIG. 9) penetrating the magnetic green sheet GS1 and the non-magnetic green sheet GS2 in the thickness direction are formed at predetermined positions by laser processing or the like, and conductors are formed in the through holes TH. Fill with paste.

続いて、磁性体層A2となる磁性体グリーンシートGS1上に導体ペーストを所定のパターンにて塗布し、40℃〜80℃程度にて1時間未満乾燥することで、導体パターンC1及び引き出し導体D1となる帯状の導電塗膜を形成する。同様に、磁性体層A11となる磁性体グリーンシートGS1上に導体ペーストを所定のパターンにて塗布して乾燥することで、導体パターンC12及び引き出し導体D2となる帯状の導電塗膜を形成する。これらの導体パターンC1,C12及び引き出し導体D1,D2となる導電塗膜は、その厚さを10μm〜25μm程度に設定することができ、これらの導体パターンC1,C12となる導電塗膜は、その幅を200μm〜300μm程度に設定することができる。   Subsequently, a conductive paste is applied in a predetermined pattern on the magnetic green sheet GS1 to be the magnetic layer A2, and dried at about 40 ° C. to 80 ° C. for less than 1 hour, whereby the conductive pattern C1 and the lead conductor D1 A band-shaped conductive coating film is formed. Similarly, a conductive paste is applied in a predetermined pattern on the magnetic green sheet GS1 serving as the magnetic layer A11 and dried to form a strip-shaped conductive coating film serving as the conductor pattern C12 and the lead conductor D2. The conductive coating film that becomes the conductor patterns C1, C12 and the lead conductors D1, D2 can have a thickness of about 10 μm to 25 μm. The conductive coating film that becomes the conductor patterns C1, C12 The width can be set to about 200 μm to 300 μm.

続いて、磁性体層A3〜A10となる磁性体グリーンシートGS1上及び非磁性体層B1,B2となる非磁性体グリーンシートGS2上に、導体パターンC2〜C11となる導電塗膜及び磁性体膜F1〜F10となる磁性体塗膜をそれぞれ形成する。具体的には、まず、図6に示されるように磁性体層A3〜A10となる磁性体グリーンシートGS1上及び非磁性体層B1,B2となる非磁性体グリーンシートGS2上にそれぞれ導体ペーストを所定のパターンにて塗布し、40℃〜80℃程度にて1時間未満乾燥することで、帯状の導電塗膜H1を形成する。この導電塗膜H1は、その厚さを15μm〜30μm程度に設定することができ、その幅を200μm〜300μm程度に設定することができる。   Subsequently, on the magnetic green sheet GS1 to be the magnetic layers A3 to A10 and on the nonmagnetic green sheet GS2 to be the nonmagnetic layers B1 and B2, the conductive coating film and the magnetic film to be the conductor patterns C2 to C11 Magnetic coating films to be F1 to F10 are formed. Specifically, first, as shown in FIG. 6, the conductor pastes are respectively formed on the magnetic green sheets GS1 to be the magnetic layers A3 to A10 and the nonmagnetic green sheets GS2 to be the nonmagnetic layers B1 and B2. The belt-shaped conductive coating film H1 is formed by applying in a predetermined pattern and drying at about 40 ° C. to 80 ° C. for less than 1 hour. The thickness of the conductive coating film H1 can be set to about 15 μm to 30 μm, and the width can be set to about 200 μm to 300 μm.

そして、導電塗膜H1の縁部H1aを覆うと共に導電塗膜H1の縁部H1a以外の中央部H1bの上面を露出させるように磁性体スラリーを塗布し、40℃〜80℃程度にて1時間未満乾燥することで、磁性体塗膜I1を形成する。この磁性体塗膜I1の厚さは、導電塗膜H1の厚さよりも大きくなるように設定されており、20μm〜40μm程度に設定されていると好ましい。つまり、磁性体塗膜I1の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さは、導電塗膜H1の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さよりも高くなっている。   Then, the magnetic material slurry is applied so as to cover the edge H1a of the conductive coating film H1 and expose the upper surface of the central portion H1b other than the edge H1a of the conductive coating film H1, and at about 40 ° C. to 80 ° C. for 1 hour. The magnetic coating film I1 is formed by drying less. The thickness of the magnetic coating film I1 is set to be larger than the thickness of the conductive coating film H1, and is preferably set to about 20 μm to 40 μm. That is, the height of the magnetic coating film I1 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2 is higher than the height of the conductive coating film H1 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2. ing.

導電塗膜H1の縁部H1aの幅T1は、20μm〜40μm程度に設定されていると好ましい。導電塗膜H1の中央部H1bの幅T2は、150μm〜270μm程度に設定されていると好ましい。   The width T1 of the edge H1a of the conductive coating film H1 is preferably set to about 20 μm to 40 μm. The width T2 of the central portion H1b of the conductive coating film H1 is preferably set to about 150 μm to 270 μm.

次に、図7に示されるように、導電塗膜H1の露出面及び磁性体塗膜I1上に、導体ペーストを導電塗膜H1と同じパターンにて塗布し、40℃〜80℃程度にて1時間未満乾燥することで、帯状の導電塗膜H2を形成する。この導電塗膜H2は、その厚さ及びその幅を導電塗膜H1と同程度に設定することができる。   Next, as shown in FIG. 7, a conductive paste is applied in the same pattern as the conductive coating film H1 on the exposed surface of the conductive coating film H1 and the magnetic coating film I1, and at about 40 ° C. to 80 ° C. By drying for less than 1 hour, a strip-like conductive coating film H2 is formed. The conductive coating film H2 can be set to have the same thickness and width as the conductive coating film H1.

そして、導電塗膜H2の縁部H2aを覆うと共に導電塗膜H2の縁部H2a以外の中央部H2bの上面を露出させるように磁性体スラリーを塗布し、40℃〜80℃程度にて1時間未満乾燥することで、磁性体塗膜I2を形成する。この磁性体塗膜I2の厚さは、導電塗膜H2の厚さよりも大きくなるように設定されており、磁性体塗膜I1の厚さと同程度に設定されていると好ましい。つまり、磁性体塗膜I2の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さは、導電塗膜H2の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さよりも高くなっている。   Then, the magnetic material slurry is applied so as to cover the edge H2a of the conductive coating film H2 and to expose the upper surface of the central portion H2b other than the edge H2a of the conductive coating film H2, and at about 40 ° C. to 80 ° C. for 1 hour. The magnetic coating film I2 is formed by drying less. The thickness of the magnetic coating film I2 is set to be larger than the thickness of the conductive coating film H2, and is preferably set to be approximately the same as the thickness of the magnetic coating film I1. That is, the height of the magnetic coating film I2 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2 is higher than the height of the conductive coating film H2 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2. ing.

次に、図7に示されるように、導電塗膜H2及び磁性体塗膜I2と同様にして、導電塗膜H3、磁性体塗膜I3、導電塗膜H4及び磁性体塗膜I4をこの順に形成する。そのため、磁性体塗膜I1〜I4のうち最も上方に位置する磁性体塗膜I4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さは、導電塗膜H1〜H4のうち最も上方に位置する導電塗膜H4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さよりも高くなっている。   Next, as shown in FIG. 7, similarly to the conductive coating film H2 and the magnetic coating film I2, the conductive coating film H3, the magnetic coating film I3, the conductive coating film H4, and the magnetic coating film I4 are arranged in this order. Form. Therefore, the height of the magnetic coating film I4 located at the uppermost position among the magnetic coating films I1 to I4 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2 is the uppermost position among the conductive coating films H1 to H4. The height of the conductive coating film H4 located at the height from the magnetic green sheet GS1 or the non-magnetic green sheet GS2 is higher.

続いて、図8に示されるように、導電塗膜H1〜H4のうち最も上方に位置する導電塗膜H4の露出面上に、半球状となるように接続用導体ペーストを塗布し、40℃〜80℃程度にて1時間未満乾燥することで、接続用導電塗膜H5を形成する。つまり、接続用導電塗膜H5は、磁性体塗膜I4上に塗布されず、導電塗膜H4の端部にのみ形成されることとなる。   Subsequently, as shown in FIG. 8, a conductive paste for connection is applied on the exposed surface of the conductive coating film H4 located at the uppermost position among the conductive coating films H1 to H4 so as to form a hemispherical shape. The conductive coating film H5 for connection is formed by drying at about ~ 80 ° C for less than 1 hour. In other words, the conductive conductive film H5 for connection is not applied on the magnetic coating film I4 and is formed only at the end of the conductive coating film H4.

接続用導電塗膜H5の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さは、磁性体塗膜I1〜I4のうち最も上方に位置する磁性体塗膜I4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さよりも高くなっている。接続用導電塗膜H5は、その厚さを10μm〜30μm程度に設定することができる。   The height of the conductive conductive film H5 for connection from the magnetic green sheet GS1 or the non-magnetic green sheet GS2 is the magnetic green sheet GS1 of the magnetic coating film I4 located at the uppermost position among the magnetic coating films I1 to I4. Alternatively, the height is higher than the height from the nonmagnetic green sheet GS2. The thickness of the conductive conductive film H5 for connection can be set to about 10 μm to 30 μm.

続いて、磁性体層A1〜A12となる磁性体グリーンシートGS1及び非磁性体層B1,B2となる非磁性体グリーンシートGS2を図2に示される順序で積層して、積層方向に圧力を加えて圧着し、グリーンシート積層体(図示せず)を形成する。このとき、図9に示されるように、接続用導電塗膜H5が積層方向に隣り合う他のグリーンシートによって押しつぶされ、接続用導電塗膜H5と、当該他のグリーンシートにおける導電塗膜H1のうち当該他のグリーンシートのスルーホールTH内に充填された部分とが接続されることとなる。   Subsequently, the magnetic green sheet GS1 to be the magnetic layers A1 to A12 and the nonmagnetic green sheet GS2 to be the nonmagnetic layers B1 and B2 are stacked in the order shown in FIG. 2, and pressure is applied in the stacking direction. To form a green sheet laminate (not shown). At this time, as shown in FIG. 9, the conductive conductive film H5 for connection is crushed by another green sheet adjacent in the laminating direction, and the conductive conductive film H5 for connection and the conductive conductive film H1 in the other green sheet Of these, the portion filled in the through hole TH of the other green sheet is connected.

続いて、グリーンシート積層体をチップ単位に切断した後に、850℃〜900℃程度にて10時間以上焼成し、積層体12を生成する。積層体12は、例えば、焼成後における長手方向の長さが2.5mm程度、幅が2.0mm程度、高さが1.0mm程度となるようにする。これにより、磁性体グリーンシートGS1が各磁性体層A1〜A12となり、非磁性体グリーンシートGS2が各非磁性体層B1,B2となり、導電塗膜H1〜H4が各導体パターンC2〜C11となり、磁性体塗膜I1〜I4が各磁性体膜F1〜F10となり、接続用導電塗膜H5が各接続導体G1〜G10となる。なお、導電塗膜の焼成時における収縮率は例えば15%〜25%程度に設定されており、各グリーンシートGS1,GS2及び磁性体塗膜の焼成時における収縮率は例えば10%〜20%程度に設定されている。また、導体ペーストと接続用導体ペーストとが上記のように相違していることにより、接続用導電塗膜H5の焼成時における収縮率は、導電塗膜の焼成時における収縮率よりも小さくなっている。   Subsequently, the green sheet laminate is cut into units of chips, and then fired at about 850 ° C. to 900 ° C. for 10 hours or more to produce the laminate 12. For example, the length of the laminate 12 in the longitudinal direction after firing is approximately 2.5 mm, the width is approximately 2.0 mm, and the height is approximately 1.0 mm. Thus, the magnetic green sheet GS1 becomes each magnetic layer A1 to A12, the nonmagnetic green sheet GS2 becomes each nonmagnetic layer B1, B2, and the conductive coating H1 to H4 becomes each conductor pattern C2 to C11. The magnetic coating films I1 to I4 become the magnetic films F1 to F10, and the connecting conductive coating film H5 becomes the connection conductors G1 to G10. In addition, the shrinkage | contraction rate at the time of baking of an electrically conductive coating film is set to about 15%-25%, for example, and the shrinkage ratio at the time of baking of each green sheet GS1, GS2 and a magnetic body coating film is about 10%-about 20%. Is set to Further, since the conductive paste and the conductive paste for connection are different as described above, the shrinkage rate during firing of the conductive conductive film H5 for connection is smaller than the shrinkage rate during firing of the conductive paint film. Yes.

続いて、この積層体12に外部電極14,16を形成する。これにより、積層型インダクタ10が形成されることとなる。外部電極14,16は、積層体12の長手方向の両側面にAg、Cu又はNiを主成分とする導体ペーストをそれぞれ転写した後に所定温度(例えば、700〜800℃)にて焼き付け、更に電気めっきを施すことにより形成される。電気めっきには、例えばCu、Ni及びSnを用いることができる。   Subsequently, external electrodes 14 and 16 are formed on the laminate 12. As a result, the multilayer inductor 10 is formed. The external electrodes 14 and 16 are baked at a predetermined temperature (for example, 700 to 800 ° C.) after transferring a conductor paste mainly composed of Ag, Cu, or Ni to both side surfaces of the laminate 12 in the longitudinal direction, It is formed by plating. For electroplating, for example, Cu, Ni and Sn can be used.

(作用)
ところで、従来の積層型インダクタの製造方法では、磁性体グリーンシート上に、導体パターンの周囲を取り囲むと共に導体パターンの厚みよりも厚い補助磁性材料層を形成していた。しかしながら、このようにして製造された積層型インダクタにおいては、帯状の導体パターンの幅広面のうち一方の幅広面が積層体と離間してしまっていた。そのため、積層方向において隣り合う導体パターン同士がスルーホール導体によって電気的に接続されず、接続不良が発生してしまうことがあった。
(Function)
By the way, in the conventional method of manufacturing a multilayer inductor, an auxiliary magnetic material layer that surrounds the conductor pattern and is thicker than the conductor pattern is formed on the magnetic green sheet. However, in the multilayer inductor manufactured as described above, one of the wide surfaces of the strip-shaped conductor pattern is separated from the multilayer body. For this reason, conductor patterns adjacent in the stacking direction are not electrically connected by the through-hole conductor, and connection failure may occur.

これに対して、磁性体グリーンシート上に、導体パターンの周囲を取り囲むと共に導体パターンの厚みよりも薄い補助磁性材料層を形成することも考えられる。しかしながら、この場合には、やはりグリーンシートが積層されたグリーンシート積層体全体を均一に圧着することができず、製造された積層型インダクタにおいて、層間剥離が生じてしまうという問題があった。   On the other hand, it is also conceivable to form an auxiliary magnetic material layer that surrounds the conductor pattern and is thinner than the conductor pattern on the magnetic green sheet. However, in this case, the entire green sheet laminate in which the green sheets are laminated cannot be uniformly crimped, and there is a problem that delamination occurs in the manufactured multilayer inductor.

これらを本実施形態に照らして説明すると次のようになる。すなわち、導電塗膜H1〜H4のうち最も上方に位置する導電塗膜H4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さと、磁性体塗膜I1〜I4のうち最も上方に位置する磁性体塗膜I4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さとの差を、導電塗膜H4の磁性体塗膜I4からの突出量X(図10の(a)参照)と規定した場合、図10の(b)に示されるように、突出量Xが小さいほど、層間剥離発生率は小さくなるものの断線発生率が高くなり、一方、突出量Xが大きいほど、断線発生率は小さくなるものの層間剥離発生率が高くなる。そのため、従来は、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが困難であった。   These will be described in the light of this embodiment as follows. That is, the uppermost position of the conductive coating film H4 among the conductive coating films H1 to H4 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2 and the uppermost position of the magnetic coating films I1 to I4. The difference between the height of the magnetic coating film I4 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2 is the amount of protrusion X of the conductive coating film H4 from the magnetic coating film I4 (see FIG. 10A). 10), as shown in FIG. 10B, the smaller the protrusion amount X, the lower the delamination rate, but the higher the disconnection rate, while the larger the protrusion amount X, the more the wire breakage occurs. Although the generation rate decreases, the delamination generation rate increases. Therefore, conventionally, it has been difficult to achieve both suppression of delamination and reduction of connection failure.

しかしながら、以上のような本実施形態においては、導電塗膜H1〜H4の縁部を覆うと共に導電塗膜H1〜H4の縁部以外の上面を露出させるように磁性体塗膜I1〜I4をそれぞれ形成しており、磁性体塗膜I4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さが導電塗膜H4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さよりも高くなっている。そのため、突出量Xが小さくなるので、一のグリーンシート上に形成された磁性体塗膜I4と当該一のグリーンシートと隣り合う他のグリーンシートとが接触する面積が増え、また、導電塗膜H4の縁部によって、磁性体塗膜I4と他のグリーンシートとがより強く押圧されることとも相俟って、積層型インダクタ10において層間剥離が発生し難くなる。また、本実施形態においては、導電塗膜H1〜H4のうち最も上方に位置する導電塗膜H4の露出面上に接続用導電塗膜H5を形成しており、接続用導電塗膜H5の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さが、磁性体塗膜I4の磁性体グリーンシートGS1又は非磁性体グリーンシートGS2からの高さよりも高くなっている。そのため、磁性体層A1〜A12となる磁性体グリーンシートGS1及び非磁性体層B1,B2となる非磁性体グリーンシートGS2を図2に示される順序で積層した場合、接続用導電塗膜H5が積層方向に隣り合う他のグリーンシートによって押しつぶされ、接続用導電塗膜H5と、当該他のグリーンシートにおける導電塗膜H1のうち当該他のグリーンシートのスルーホールTH内に充填された部分とが確実に接続されて、接続信頼性が大きく向上する。従って、層間剥離の発生の抑制と接続不良の低減とを両立することが可能となる。   However, in the present embodiment as described above, the magnetic coating films I1 to I4 are respectively covered so as to cover the edges of the conductive coating films H1 to H4 and to expose the upper surfaces other than the edges of the conductive coating films H1 to H4. The height of the magnetic coating film I4 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2 is higher than the height of the conductive coating film H4 from the magnetic green sheet GS1 or the nonmagnetic green sheet GS2. It is high. Therefore, since the protrusion amount X becomes small, the area where the magnetic coating film I4 formed on one green sheet and another green sheet adjacent to the one green sheet increase, and the conductive coating film Combined with the fact that the magnetic coating film I4 and other green sheets are more strongly pressed by the edge of H4, delamination does not easily occur in the multilayer inductor 10. Moreover, in this embodiment, the conductive film H5 for connection is formed on the exposed surface of the conductive film H4 located in the uppermost position among the conductive films H1 to H4, and the magnetic property of the conductive film H5 for connection is formed. The height from the green body sheet GS1 or the nonmagnetic body green sheet GS2 is higher than the height from the magnetic body sheet GS1 or the nonmagnetic body green sheet GS2 of the magnetic coating film I4. Therefore, when the magnetic green sheet GS1 to be the magnetic layers A1 to A12 and the nonmagnetic green sheet GS2 to be the nonmagnetic layers B1 and B2 are laminated in the order shown in FIG. The conductive coating film H5 for connection, which is crushed by another green sheet adjacent in the stacking direction, and the portion filled in the through hole TH of the other green sheet in the conductive coating film H1 in the other green sheet. It is securely connected and connection reliability is greatly improved. Therefore, it is possible to achieve both suppression of delamination and reduction of connection failure.

また、本実施形態においては、接続用導電塗膜H5の焼成時における収縮率が、導電塗膜の焼成時における収縮率よりも小さくなっている。そのため、焼成時に、接続用導電塗膜H5が収縮し難くなるので、焼成後においても、一のグリーンシートにおける導電塗膜H4と、他のグリーンシートにおける導電塗膜H1のうち他のグリーンシートに形成されたスルーホールTHに充填された部分との接続を確実に維持できるようになる。その結果、接続不良をより低減することが可能となる。   Moreover, in this embodiment, the shrinkage rate at the time of baking of the conductive film H5 for connection is smaller than the shrinkage rate at the time of baking of the conductive film. For this reason, the conductive conductive film H5 for connection is less likely to shrink during firing. Therefore, even after firing, the conductive paint film H4 on one green sheet and the other conductive sheets H1 on the other green sheets can be applied to other green sheets. The connection with the portion filled in the formed through hole TH can be reliably maintained. As a result, connection failures can be further reduced.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、本実施形態では積層体12が磁性体層A1〜A12及び非磁性体層B1,B2によって構成されていたが、これに限られず、全体が磁性材料によって構成されていてもよく、全体が非磁性材料によって構成されていてもよい。ただし、磁気飽和を抑制し、大電流を流した場合におけるインダクタンス値の低下を抑えることで、直流重畳特性の一層の改善を図るという観点から、本実施形態のように、磁性体層A4と磁性体層A5との間に非磁性体層B1が介在し、磁性体層A7と磁性体層A8との間に非磁性体層B2が介在した状態にて積層体12が構成されていると好ましい。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, in the present embodiment, the laminate 12 is composed of the magnetic layers A1 to A12 and the nonmagnetic layers B1 and B2. However, the present invention is not limited to this, and the entirety may be composed of a magnetic material. You may be comprised with the nonmagnetic material. However, from the viewpoint of further improving the DC superposition characteristics by suppressing the magnetic saturation and suppressing the decrease in the inductance value when a large current is passed, the magnetic layer A4 and the magnetic layer A4 are magnetically The laminated body 12 is preferably configured in such a manner that the nonmagnetic layer B1 is interposed between the magnetic layer A5 and the nonmagnetic layer B2 is interposed between the magnetic layer A7 and the magnetic layer A8. .

また、本実施形態では半球状の接続用導電塗膜H5を形成しているために、接続導体G1〜G10が円柱状又は切頭半球状とされていたが、これに限られない。すなわち、接続導体G1〜G10は、四角柱状、切頭四角錐状(四角錐台状)、三角柱状、切頭三角錐状(三角錐台状)等の種々の形状とすることができる。   In this embodiment, since the hemispherical conductive conductive film H5 is formed, the connection conductors G1 to G10 are columnar or truncated hemispherical. However, the present invention is not limited to this. That is, the connection conductors G1 to G10 can have various shapes such as a quadrangular prism shape, a truncated quadrangular pyramid shape (quadratic pyramid shape), a triangular prism shape, and a truncated triangular pyramid shape (triangular frustum shape).

また、本実施形態では導電塗膜H1〜H4及び磁性体塗膜I1〜I4を交互に4層ずつ形成したが、接続導体G1〜G10によって接続信頼性を高めるという観点からは、導電塗膜及び磁性体塗膜を交互に1層以上形成するものであればよい。   In the present embodiment, the conductive coating films H1 to H4 and the magnetic coating films I1 to I4 are alternately formed by four layers. From the viewpoint of improving the connection reliability by the connection conductors G1 to G10, the conductive coating films and What is necessary is just to form one or more magnetic coating films alternately.

また、本実施形態では周側面S3の凸部18bが導体パターンC2〜C11から離れる方向に向かうにつれて先鋭化された先細形状とされていたが、周側面S3が凹凸面となっていれば凸部18bが先鋭化されていなくてもよい。   In the present embodiment, the convex portion 18b of the peripheral side surface S3 has a tapered shape that is sharpened toward the direction away from the conductor patterns C2 to C11. However, if the peripheral side surface S3 is an uneven surface, the convex portion 18b may not be sharpened.

図1は、本実施形態に係る積層型インダクタを示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a multilayer inductor according to the present embodiment. 図2は、本実施形態に係る積層型インダクタが備える積層体の構成を説明するための分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view for explaining the configuration of the multilayer body included in the multilayer inductor according to the present embodiment. 図3は、図2の一部を拡大して示す分解斜視図である。FIG. 3 is an exploded perspective view showing a part of FIG. 2 in an enlarged manner. 図4は、積層体を図2のIV−IV線にて切断した状態で示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the stacked body taken along line IV-IV in FIG. 図5は、図4の一部を拡大して示す断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a part of FIG. 図6は、本実施形態に係る積層型インダクタを製造する一工程を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a process for manufacturing the multilayer inductor according to the present embodiment. 図7は、図6の後続の工程を示す図である。FIG. 7 is a view showing a step subsequent to FIG. 図8は、図7の後続の工程を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 図9は、図8の後続の工程を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 図10の(a)は、導体塗膜の突出量Xを説明するための図であり、図10の(b)は、導体塗膜の突出量Xと断線発生率及びクラック発生率との関係を示す図である。(A) of FIG. 10 is a figure for demonstrating the protrusion amount X of a conductor coating film, (b) of FIG. 10 is the relationship between the protrusion amount X of a conductor coating film, a disconnection generation rate, and a crack generation rate. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10…積層型インダクタ、12…積層体、12a,12b…主面、14,16…外部電極、A1〜A12…磁性体層、B1,B2…非磁性体層、C1〜C12…導体パターン、E1〜E11…スルーホール導体、F1〜F10…磁性体膜、G1〜G10…接続導体、H1〜H4…導電塗膜、H5…接続用導電塗膜、I1〜I4…磁性体塗膜、TH…スルーホール、V…空隙。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Multilayer inductor, 12 ... Laminated body, 12a, 12b ... Main surface, 14, 16 ... External electrode, A1-A12 ... Magnetic body layer, B1, B2 ... Nonmagnetic body layer, C1-C12 ... Conductor pattern, E1 ~ E11 ... through-hole conductor, F1-F10 ... magnetic film, G1-G10 ... connecting conductor, H1-H4 ... conductive film, H5 ... conductive film for connection, I1-I4 ... magnetic film, TH ... through Hall, V ... Void.

Claims (5)

複数の絶縁体層が積層されて構成された積層体と、
前記積層体の外表面にそれぞれ配置された第1及び第2の外部電極と、
帯状の複数の導体パターンが互いに電気的に接続されて構成され、前記積層体の内部に配置されたコイルと、
前記コイルの一端に電気的に接続されると共に前記第1の外部導体に電気的に接続される第1の引き出し導体と、
前記コイルの他端に電気的に接続されると共に前記第2の外部電極に電気的に接続される第2の引き出し導体とを備え、
前記導体パターンは、前記積層体の積層方向において互いに対向する第1及び第2の幅広面を有し、
前記第1の幅広面側における前記導体パターンの縁部には、前記積層体の一部が配置され、
前記縁部に前記積層体の一部が配置されていることにより、前記導体パターンは、前記積層方向から見たときに、前記積層体のうち前記縁部に配置された部分と前記導体パターンとが重なり合っている重複部分と、前記重複部分以外の部分である非重複部分とを有し、
前記第1の幅広面のうち前記非重複部分における領域の一部と前記積層体との間には空隙が形成され、
前記導体パターンは、前記積層方向に沿って延びるスルーホール導体と接続される端部を有し、
前記導体パターンと前記スルーホール導体とは、前記導体パターンの前記端部にのみ設けられた接続導体を介して接続されており、
前記接続導体は、前記積層方向から見たときに、前記スルーホール導体よりも大きく、且つ、前記第1の幅広面のうち前記非重複部分における領域内に配置されていることを特徴とする積層型インダクタ。
A laminate formed by laminating a plurality of insulator layers;
First and second external electrodes respectively disposed on the outer surface of the laminate;
A plurality of strip-shaped conductor patterns are configured to be electrically connected to each other, and a coil disposed inside the laminate,
A first lead conductor electrically connected to one end of the coil and electrically connected to the first outer conductor;
A second lead conductor electrically connected to the other end of the coil and electrically connected to the second external electrode;
The conductor pattern has first and second wide surfaces facing each other in the stacking direction of the stacked body,
A part of the laminate is disposed on an edge of the conductor pattern on the first wide surface side,
By arranging a part of the multilayer body at the edge, the conductor pattern has a portion disposed at the edge and the conductor pattern when viewed from the stacking direction. And overlapping portions and non-overlapping portions other than the overlapping portions,
A gap is formed between a part of the region in the non-overlapping portion of the first wide surface and the laminate,
The conductor pattern has an end connected to a through-hole conductor extending along the stacking direction,
The conductor pattern and the through-hole conductor are connected via a connection conductor provided only at the end of the conductor pattern,
The connection conductor is larger than the through-hole conductor when viewed from the stacking direction, and is disposed in a region in the non-overlapping portion of the first wide surface. Type inductor.
グリーンシートを用意するグリーンシート用意工程と、
前記グリーンシートに、厚み方向に貫通するスルーホールを形成するスルーホール形成工程と、
導体ペーストを前記スルーホールに充填すると共に前記グリーンシート上に所定のパターンで導体ペーストを塗布して乾燥することで、帯状の導電塗膜を形成する導電塗膜形成工程と、
前記導電塗膜の縁部を覆うと共に前記導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミックスラリーを塗布して乾燥することで、前記グリーンシートからの高さが前記導電塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高いセラミック塗膜を形成するセラミック塗膜形成工程と、
前記導電塗膜の露出面上であって前記導電塗膜の端部にのみ導体ペーストを塗布して乾燥することで、前記グリーンシートからの高さが前記セラミック塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高い接続用導電塗膜を形成する接続用導電塗膜形成工程とを備えることを特徴とする積層型インダクタの製造方法。
A green sheet preparation process for preparing a green sheet;
A through hole forming step for forming a through hole penetrating in the thickness direction in the green sheet;
A conductive coating film forming step for forming a belt-shaped conductive coating film by filling the through-hole with the conductive paste and applying the conductive paste in a predetermined pattern on the green sheet and drying the conductive paste;
A ceramic slurry is applied and dried so as to cover an edge of the conductive coating and expose an upper surface other than the edge of the conductive coating, so that the height from the green sheet is the height of the conductive coating. A ceramic coating film forming step for forming a ceramic coating film higher than the height from the green sheet;
By applying and drying a conductive paste only on the exposed surface of the conductive coating film and on the edge of the conductive coating film, the height from the green sheet is high from the green sheet of the ceramic coating film. And a connecting conductive coating film forming step for forming a higher connecting conductive coating film.
前記接続用導電塗膜の焼成時における収縮率は、前記導電塗膜の焼成時における収縮率よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載された積層型インダクタの製造方法。   3. The method for manufacturing a multilayer inductor according to claim 2, wherein a shrinkage rate during firing of the conductive conductive film for connection is smaller than a shrinkage rate during firing of the conductive paint film. グリーンシートを用意するグリーンシート用意工程と、
前記グリーンシートに、厚み方向に貫通するスルーホールを形成するスルーホール形成工程と、
導体ペーストを前記スルーホールに充填すると共に前記グリーンシート上に所定のパターンで導体ペーストを塗布して乾燥することで、帯状の第1の導電塗膜を形成する第1の導電塗膜形成工程と、
前記第1の導電塗膜の縁部を覆うと共に前記第1の導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミックスラリーを塗布して乾燥することで、前記グリーンシートからの高さが前記第1の導電塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高い第1のセラミック塗膜を形成する第1のセラミック塗膜形成工程と、
帯状の第n(ただし、nは2以上の整数)の導電塗膜を形成する第nの導電塗膜形成工程と、
第nのセラミック塗膜を形成する第nのセラミック塗膜形成工程と、
接続用導電塗膜形成工程とを備え、
前記第nの導電塗膜形成工程では、前記第m(ただし、mは、m=n−1を満たす整数)の導電塗膜の露出面及び前記第mのセラミック塗膜上に前記所定のパターンで導体ペーストを塗布して乾燥することで、積層方向から見たときに前記第mの導電塗膜と重なると共に前記グリーンシートからの高さが前記第mのセラミック塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高くなるように、前記第nの導電塗膜を形成し、
前記第nのセラミック塗膜形成工程では、前記第nの導電塗膜の縁部を覆うと共に前記第nの導電塗膜の縁部以外の上面を露出させるようにセラミックスラリーを塗布して乾燥することで、前記グリーンシートからの高さが前記第nの導電塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高くなるように、前記第nのセラミック塗膜を形成し、
前記接続用導電塗膜形成工程では、前記第nの導電塗膜の露出面上であって前記導電塗膜の端部にのみ導体ペーストを塗布して乾燥することで、前記グリーンシートからの高さが前記第nのセラミック塗膜の前記グリーンシートからの高さよりも高い前記接続用導電塗膜を形成することを特徴とする積層型インダクタの製造方法。
A green sheet preparation process for preparing a green sheet;
A through hole forming step for forming a through hole penetrating in the thickness direction in the green sheet;
A first conductive coating film forming step of forming a strip-shaped first conductive coating film by filling the through-hole with a conductive paste and applying and drying the conductive paste on the green sheet in a predetermined pattern; ,
The ceramic slurry is applied and dried so as to cover the edge portion of the first conductive coating film and to expose the upper surface other than the edge portion of the first conductive coating film, so that the height from the green sheet is increased. A first ceramic coating film forming step of forming a first ceramic coating film higher than a height of the first conductive coating film from the green sheet;
An nth conductive coating film forming step of forming a strip-shaped nth (where n is an integer of 2 or more) conductive coating film;
An nth ceramic coating film forming step of forming an nth ceramic coating film;
A conductive coating film forming step for connection,
In the nth conductive coating film forming step, the predetermined pattern is formed on the exposed surface of the mth conductive coating film (where m is an integer satisfying m = n−1) and the mth ceramic coating film. The conductive paste is applied and dried, and when overlapped with the mth conductive coating film when viewed from the stacking direction, the height from the green sheet is from the green sheet of the mth ceramic coating film. Forming the nth conductive coating film so as to be higher than the height;
In the n-th ceramic coating film forming step, the ceramic slurry is applied and dried so as to cover an edge portion of the n-th conductive coating film and expose an upper surface other than the edge portion of the n-th conductive coating film. Then, the n-th ceramic coating film is formed so that the height from the green sheet is higher than the height of the n-th conductive coating film from the green sheet,
In the connecting conductive coating film forming step, a conductive paste is applied only to an end portion of the conductive coating film on the exposed surface of the n-th conductive coating film and dried, so that the height from the green sheet is increased. A method for manufacturing a multilayer inductor, comprising: forming the connection conductive coating film having a height higher than a height of the nth ceramic coating film from the green sheet.
前記接続用導電塗膜の焼成時における収縮率は、前記第1〜第nの導電塗膜の焼成時における収縮率よりも小さいことを特徴とする請求項4に記載された積層型インダクタの製造方法。   5. The multilayer inductor according to claim 4, wherein a shrinkage ratio during firing of the connection conductive coating film is smaller than a shrinkage ratio during firing of the first to nth conductive paint films. Method.
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