JP2009114290A - Photocurable composition, inkjet recording ink composition, and method for inkjet-recording - Google Patents

Photocurable composition, inkjet recording ink composition, and method for inkjet-recording Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable composition avoiding risk of deterioration of dispersibility during utilization of a pigment and having good color tone and high light rigidity. <P>SOLUTION: The photocurable composition contains a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a dye represented by general formula I, wherein R<SP>1</SP>, R<SP>2</SP>, R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heteroaryl group, R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>may be bonded to each other to form a ring, Z<SP>1</SP>, Z<SP>2</SP>, Z<SP>3</SP>and Z<SP>4</SP>are each independently a hydrogen atom or a monovalent substituent, and Z<SP>1</SP>and Z<SP>2</SP>, and Z<SP>3</SP>and Z<SP>4</SP>may be bonded to each other to form a ring. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光硬化性組成物、該光硬化性組成物を用いたインクジェット記録用インク組成物、および、インクジェット記録方法に関する。   The present invention relates to a photocurable composition, an ink composition for ink jet recording using the photocurable composition, and an ink jet recording method.

水性のインク組成物は、普通紙に印字した場合に耐水性が劣ったり、滲みが生じやすく、さらに、プラスチックなど非吸水性の被記録材に印字した場合には、インク液滴の付着が悪いために画像形成ができなかったり、溶剤の乾燥が極めて遅いために印字直後には記録物を重ねずに乾燥させる必要があったり、画像がにじみやすいといった欠点があった。   A water-based ink composition has poor water resistance when printed on plain paper, and is likely to bleed. In addition, when printed on a non-water-absorbing recording material such as plastic, adhesion of ink droplets is poor. For this reason, image formation could not be performed, and drying of the solvent was extremely slow, so that it was necessary to dry without overlapping the recorded material immediately after printing, and the image was liable to blur.

非吸水性の被記録材に対する印刷に適するものとして、被記録材との接着性に優れた多官能モノマーを用いた紫外線硬化性インクが提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかし、このインクは、水分散型のインクであるために乾燥が遅く、フルカラーの画像を形成するには不十分であった。乾燥性を解決するために、インクの溶剤として揮発性の有機溶剤を用いる方法が行われてきたが、急速に乾燥させるためにはメチルエチルケトンおよびエタノールなどの、揮発性の高い溶剤を主成分として用いる必要があった。   As a material suitable for printing on a non-water-absorbing recording material, an ultraviolet curable ink using a polyfunctional monomer excellent in adhesiveness to the recording material has been proposed (for example, see Patent Document 1). However, since this ink is a water-dispersed ink, it dries slowly and is insufficient to form a full-color image. In order to solve the drying property, a method using a volatile organic solvent as an ink solvent has been carried out. However, in order to dry quickly, a highly volatile solvent such as methyl ethyl ketone and ethanol is used as a main component. There was a need.

これらの問題点を解決するために、インク溶媒の揮発ではなく、放射線によって硬化し固着するインクジェッ用インクが提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかしこのインクは、着色成分として顔料分散物を用いているために、顔料の凝集によりノズルが目詰りするために、安定してインクを吐出させることが困難であった。   In order to solve these problems, an ink jet ink that is cured and fixed by radiation instead of volatilization of the ink solvent has been proposed (see, for example, Patent Document 2). However, since this ink uses a pigment dispersion as a coloring component, the nozzle is clogged due to aggregation of the pigment, and it is difficult to stably eject the ink.

一方、着色剤に顔料を用いると透明性が劣り、色調が不十分であるために写真画質を得ることが困難である。その問題を解決する手段として、着色剤に染料を用いた紫外線硬化型インクが提案されている(特許文献3参照)。しかし、このインクでは、インクの保存中に好ましくない重合反応が起こりやすく、保存安定性が十分ではないといった問題点を有していた。加えて、従来顔料代替として利用した染料化合物は光堅牢性が不十分であるものであり、硬化時ないし硬化後に退色してしまう問題があった。さらには、導電性塩類を含んでおり、それらのインク中での溶解性が悪い場合があるため、長期保存状態での析出による印字不良の懸念があった。
特表2001−512777号公報 特開平5−214279号公報 米国特許第4303924号明細書
On the other hand, when a pigment is used as the colorant, the transparency is inferior and the color tone is insufficient, so that it is difficult to obtain a photographic image quality. As means for solving this problem, an ultraviolet curable ink using a dye as a colorant has been proposed (see Patent Document 3). However, this ink has a problem that an undesirable polymerization reaction tends to occur during storage of the ink and storage stability is not sufficient. In addition, dye compounds conventionally used as an alternative to pigments have insufficient light fastness and have a problem of fading during or after curing. Furthermore, since conductive salts are contained and the solubility in these inks may be poor, there is a concern of poor printing due to precipitation in a long-term storage state.
JP-T-2001-512777 Japanese Patent Laid-Open No. 5-214279 U.S. Pat. No. 4,303,924

本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、顔料利用に伴う分散性悪化の懸念を回避し、かつ良好な色調と高い光堅牢性を有する光硬化性組成物、該光硬化性組成物を用いたインクジェット記録用インク組成物、および、インクジェット記録方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention avoids the concern about deterioration of dispersibility associated with the use of pigments, and has a good color tone and high light fastness, and an ink composition for ink jet recording using the photocurable composition. It is an object to provide a product and an ink jet recording method.

本発明者らは、顔料に代えて、耐光性に優れた油溶性の染料を着色剤として用いることにより前記課題を解決することを見出した。すなわち、前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
<1>
重合性化合物、重合開始剤、および下記一般式(I)で表される染料を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
The present inventors have found that the above-mentioned problem can be solved by using an oil-soluble dye having excellent light resistance as a colorant instead of a pigment. That is, the means for solving the above problems are as follows. That is,
<1>
A photocurable composition comprising a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a dye represented by the following general formula (I).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

式中、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、置換または無置換の、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。RおよびRは、互いに結合して環を形成してもよい。Z、Z、ZおよびZは、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表わす。ZおよびZ、ZおよびZはそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heteroaryl group. R 3 and R 4 may combine with each other to form a ring. Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Z 1 and Z 2 , Z 3 and Z 4 may be bonded to each other to form a ring.

<2>
前記一般式(I)で表される染料が下記一般式(II)で表される染料であることを特徴とする前記<1>に記載の光硬化性組成物。
<2>
The photocurable composition according to <1>, wherein the dye represented by the general formula (I) is a dye represented by the following general formula (II).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

式中、R11、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表わす。R16およびR17は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。 In the formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and R 15 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. R 16 and R 17 each independently represents an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and may be bonded to each other to form a ring.

<3>
前記<1>または<2>に記載の光硬化性組成物を用いたことを特徴とするインクジェット記録用インク組成物。
<4>
(i−1)被記録媒体上に、前記<3>に記載のインクジェット記録用インク組成物を吐出する工程、および、(i−2)吐出されたインクジェット記録用インク組成物に活性放射線を照射して、該インク組成物を硬化する工程、を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
<3>
An ink composition for inkjet recording, wherein the photocurable composition according to <1> or <2> is used.
<4>
(I-1) A step of ejecting the ink composition for ink jet recording according to <3> above onto a recording medium; and (i-2) irradiating the ejected ink composition for ink jet recording with active radiation. And a step of curing the ink composition.

本発明によれば、顔料利用に伴う分散性悪化の懸念を回避し、かつ良好な色調と高い光堅牢性を有する光硬化性組成物、該光硬化性組成物を用いたインクジェット記録用インク組成物、および、インクジェット記録方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photocurable composition which avoids the concern of the dispersibility deterioration accompanying use of a pigment, and has a favorable color tone and high light fastness, and the ink composition for inkjet recording using this photocurable composition Product and an ink jet recording method can be provided.

本発明の光硬化性組成物は、重合性化合物、重合開始剤、および下記一般式(I)で表される染料を含有することを特徴とする。
本発明の光硬化性組成物は、顔料利用に伴う分散性悪化の懸念を回避し、かつ良好な色調と高い光堅牢性を有する。
The photocurable composition of the present invention comprises a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a dye represented by the following general formula (I).
The photocurable composition of the present invention avoids the concern of deterioration of dispersibility associated with the use of a pigment, and has a good color tone and high light fastness.

本発明の光硬化性組成物は、放射線の照射により硬化が可能な光硬化性組成物である。ここで、本発明で言う「放射線」とは、その照射により組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線、可視光線、電子線などを包含するものである。中でも、硬化感度および装置の入手容易性の観点からは、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。従って、本発明の光硬化性組成物としては、放射線として、紫外線を照射することにより硬化可能な光硬化性組成物であることが好ましい。
以下、本発明の光硬化性組成物を構成する各種成分について説明する。
The photocurable composition of the present invention is a photocurable composition that can be cured by irradiation with radiation. Here, the “radiation” referred to in the present invention is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating an initial species in the composition by irradiation, and widely used as α-ray, γ-ray, X-rays, ultraviolet rays, visible rays, electron beams and the like are included. Among these, from the viewpoint of curing sensitivity and device availability, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferable. Therefore, the photocurable composition of the present invention is preferably a photocurable composition that can be cured by irradiating ultraviolet rays as radiation.
Hereinafter, various components constituting the photocurable composition of the present invention will be described.

<染料>
本発明に用いられる染料は、下記一般式(I)で表されるアゾメチン色素である。
以下、一般式(I)に示す染料について詳細に説明する。
<Dye>
The dye used in the present invention is an azomethine dye represented by the following general formula (I).
Hereinafter, the dye represented by formula (I) will be described in detail.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

上記一般式(I)中、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、置換または無置換の、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。RおよびRは、互いに結合して環を形成してもよい。Z、Z、ZおよびZは、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表わす。ZおよびZ、ZおよびZはそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。 In the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or heteroaryl group. R 3 and R 4 may combine with each other to form a ring. Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Z 1 and Z 2 , Z 3 and Z 4 may be bonded to each other to form a ring.

一般式(I)において、R〜Rで表される置換または無置換のアルキル基としては、炭素数1〜30の直鎖状、炭素数3〜30の分岐状、炭素数3〜30の環状のアルキル基が挙げられ、より好ましくは、炭素数2〜20の直鎖状、炭素数3〜20の分岐状、炭素数3〜20の環状のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数2〜12の直鎖状、炭素数3〜12の分岐状、炭素数3〜12の環状のアルキル基である。 In the general formula (I), the substituted or unsubstituted alkyl group represented by R 1 to R 4 is a straight chain having 1 to 30 carbon atoms, a branched chain having 3 to 30 carbon atoms, or 3 to 30 carbon atoms. And more preferably a linear alkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, more preferably carbon. A linear alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a branched chain having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms.

具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロデシルが挙げられ、エチル、イソプロピル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、シクロヘキシルがより好ましくエチル、イソプロピル、t−ブチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、シクロヘキシルがさらに好ましい。   Specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, sec-butyl, t-butyl, hexyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclodecyl, and ethyl, isopropyl, sec-butyl, t-butyl. Hexyl, 2-ethylhexyl and cyclohexyl are more preferable, and ethyl, isopropyl, t-butyl, hexyl, 2-ethylhexyl and cyclohexyl are more preferable.

上記アルキル基は、置換基をさらに有していてもよく、導入可能な置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、またはイミド基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シリル基がより好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基がさらに好ましい。   The alkyl group may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and a cyano group. Group, hydroxyl group, nitro group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group) Group), acylamino group (amide group), aminocarbonylamino group (ureido group), alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkylthio group, Thiol group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, phosphino group, phosphinyl group, phosphini Examples include a ruoxy group, a phosphinylamino group, a silyl group, an azo group, or an imide group, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a hydroxyl group, and an alkoxy group. Group, aryloxy group, silyloxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), aminocarbonylamino group (ureido group), sulfamoylamino , Alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkylthio group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, silyl group are more preferable, halogen atom, alkyl group, aryl Group, heterocyclic group, cyano group, hydroxyl group, alkoxy group, silyloxy group, acyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), sulfamoylamino group, alkylthio group, sulfamoyl group More preferably a group, an alkylsulfonyl group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group.

〜Rで表される置換または無置換のアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が挙げられ、炭素数6〜18のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基がさらに好ましい。
員数としては、6〜14が挙げられ、6〜10がより好ましく、6がさらに好ましい。
環数としては1〜5が挙げられ、1〜3がより好ましく、1〜2がさらに好ましい。また単環であっても、縮合環であってもよい。
Examples of the substituted or unsubstituted aryl group represented by R 1 to R 4 include an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and an aryl having 6 to 12 carbon atoms. More preferred are groups.
As a number, 6-14 is mentioned, 6-10 are more preferable, and 6 is still more preferable.
1-5 are mentioned as a ring number, 1-3 are more preferable, and 1-2 are more preferable. Further, it may be a single ring or a condensed ring.

また、置換アリール基である場合、導入可能な置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、またはイミド基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シリル基がより好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基がさらに好ましい。   In the case of a substituted aryl group, the substituents that can be introduced include halogen atoms, alkyl groups, cycloalkyl groups, aralkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups. , Alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide) Group), aminocarbonylamino group (ureido group), alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkylthio group, arylthio group, hete Ring thio group, sulfamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, Examples include a phosphinylamino group, a silyl group, an azo group, or an imide group. A halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, a hydroxyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Group, silyloxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), aminocarbonylamino group (ureido group), sulfamoylamino group, alkylsulfo More preferred are a ruamino group, an arylsulfonylamino group, an alkylthio group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, and a silyl group, and a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hetero group Ring group, cyano group, hydroxyl group, alkoxy group, silyloxy group, acyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), sulfamoylamino group, alkylthio group, sulfamoyl group, alkyl More preferred are a sulfonyl group, an acyl group, and an alkoxycarbonyl group.

〜Rで表される置換または無置換のヘテロアリール基としては、炭素数5〜30が挙げられ、炭素数6〜18がより好ましく、炭素数6〜12がさらに好ましい。
員数としては、5〜14が挙げられ、6〜10がより好ましく、6がさらに好ましい。
環数としては1〜5が挙げられ、1〜3がより好ましく、1〜2がさらに好ましい。また単環であっても、縮合環であってもよい。
ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられる。
The substituted or unsubstituted heteroaryl group represented by R 1 to R 4, include 5 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
As a member, 5-14 is mentioned, 6-10 are more preferable, and 6 is still more preferable.
1-5 are mentioned as a ring number, 1-3 are more preferable, and 1-2 are more preferable. Further, it may be a single ring or a condensed ring.
Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom.

ヘテロアリール基としては、具体的には、例えば、トリアゾール残基、イミダゾリル残基、ピリジニル残基等の含窒素芳香環基、チオフェン残基、チアゾール残基等の含硫黄芳香環基、フラン残基、オキサゾール残基等の含酸素芳香環基等が挙げられる。   Specific examples of the heteroaryl group include nitrogen-containing aromatic ring groups such as triazole residues, imidazolyl residues, and pyridinyl residues, sulfur-containing aromatic ring groups such as thiophene residues and thiazole residues, and furan residues. And oxygen-containing aromatic ring groups such as oxazole residues.

また、置換ヘテロアリール基である場合、導入可能な置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、またはイミド基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シリル基がより好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基がさらに好ましい。   In the case of a substituted heteroaryl group, the substituents that can be introduced include halogen atoms, alkyl groups, cycloalkyl groups, aralkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups. Group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group ( Amide group), aminocarbonylamino group (ureido group), alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkylthio group, arylthio group Heterocyclic thio group, sulfamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group Phosphinylamino group, silyl group, azo group or imide group, halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxyl group, alkoxy group, aryl Oxy group, silyloxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), aminocarbonylamino group (ureido group), sulfamoylamino group, alkyl A sulfonylamino group, an arylsulfonylamino group, an alkylthio group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, and a silyl group are more preferable, and a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, and a hetero group are preferred. Ring group, cyano group, hydroxyl group, alkoxy group, silyloxy group, acyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), sulfamoylamino group, alkylthio group, sulfamoyl group, alkyl More preferred are a sulfonyl group, an acyl group, and an alkoxycarbonyl group.

一般式(I)におけるRとRは、互いに結合して環を形成することができるが、この場合、形成しうる環としては、5員環または6員環が好ましい。 R 3 and R 4 in the general formula (I) can be bonded to each other to form a ring. In this case, the ring that can be formed is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.

次に、Z〜Zで表される一価の置換基について詳しく説明する。
一価の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基)、アシルアミノ基(アミド基)、アミノカルボニルアミノ基(ウレイド基)、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、アゾ基、またはイミド基を挙げることができ、各々はさらに置換基を有していてもよい。
Next, the monovalent substituent represented by Z 1 to Z 4 will be described in detail.
Monovalent substituents include halogen atoms, alkyl groups, cycloalkyl groups, aralkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups, alkoxy groups, aryloxy groups, Silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (alkylamino group, arylamino group), acylamino group (amide group), aminocarbonylamino group ( (Ureido group), alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, al Rusulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, silyl A group, an azo group, or an imide group, each of which may further have a substituent.

上記ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。中でも塩素原子、または臭素原子が好ましく、さらに塩素原子が好ましい。   The halogen atom represents a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. Of these, a chlorine atom or a bromine atom is preferable, and a chlorine atom is more preferable.

上記アルキル基は、置換または無置換のアルキル基が含まれる。置換または無置換のアルキル基は、炭素数が1〜30のアルキル基が好ましく、炭素数1〜20のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜12のアルキル基がさらに好ましい。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基が挙げられる。   The alkyl group includes a substituted or unsubstituted alkyl group. The substituted or unsubstituted alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and further preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, and a dodecyl group.

上記アルキル基に導入可能な置換基の例としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐鎖アルキル基、炭素数7〜18の直鎖または分岐鎖アラルキル基、炭素数2〜12の直鎖または分岐鎖アルケニル基、炭素数2〜12の直鎖または分岐鎖アルキニル基、炭素数3〜12の直鎖または分岐鎖シクロアルキル基、炭素数3〜12の直鎖または分岐鎖シクロアルケニル基(以上の各基は分岐鎖を有するものが染料の溶解性およびインクの安定性を向上させる理由から好ましく、不斉炭素を有するものがさらに好ましい。例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、sec−ブチル、t−ブチル、2−エチルヘキシル、2−メチルスルホニルエチル、3−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル、シクロペンチルが挙げられる)、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、アリール基(例えば、フェニル、4−t−ブチルフェニル、2,4−ジ−t−アミルフェニル)、ヘテロ環基(例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、2−フリル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルオキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、2−メトキシエトキシ、2−メチルスルホニルエトキシ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブチルフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、3−t−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、3−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基(例えば、アセトアミド、ベンズアミド、4−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)ブタンアミド)、アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ)、アリールアミノ基(例えば、フェニルアミノ、2−クロロアニリノ)、ウレイド基(例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、N,N−ジブチルウレイド)、スルファモイルアミノ基(例えば、N,N−ジプロピルスルファモイルアミノ)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、オクチルチオ、2−フェノキシエチルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、2−ブトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ、2−カルボキシフェニルチオ)、アルキルオキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ)、アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基(例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、p−トルエンスルホニルアミノ)、カルバモイル基(例えば、N−エチルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル)、スルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−フェニルスルファモイル)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、p−トルエンスルホニル)、アルキルオキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル)、ヘテロ環オキシ基(例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、アゾ基(例えば、フェニルアゾ、4−メトキシフェニルアゾ、4−ピバロイルアミノフェニルアゾ、2−ヒドロキシ−4−プロパノイルフェニルアゾ)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ)、カルバモイルオキシ基(例えば、N−メチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオキシ)、シリルオキシ基(例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ)、アリールオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカルボニルアミノ)、イミド基(例えば、N−スクシンイミド、N−フタルイミド)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、2,4−ジ−フェノキシ−1,3,5−トリアゾール−6−チオ、2−ピリジルチオ)、スルフィニル基(例えば、3−フェノキシプロピルスルフィニル)、ホスホニル基(例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル)、アシル基(例えば、アセチル、3−フェニルプロパノイル、ベンゾイル)、イオン性親水性基(例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基および4級アンモニウム基)が挙げられる。   Examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group include a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, and a linear chain having 2 to 12 carbon atoms. Or a branched chain alkenyl group, a linear or branched alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms, a linear or branched cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, a linear or branched cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms ( Each of the above groups preferably has a branched chain because it improves the solubility of the dye and the stability of the ink, and more preferably has an asymmetric carbon, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, sec-butyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, 2-methylsulfonylethyl, 3-phenoxypropyl, trifluoromethyl, cyclopentyl), halogen Child (for example, chlorine atom, bromine atom), aryl group (for example, phenyl, 4-t-butylphenyl, 2,4-di-t-amylphenyl), heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyrazolyl, triazolyl, 2 -Furyl, 2-thienyl, 2-pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl), cyano group, hydroxyl group, nitro group, amino group, alkyloxy group (for example, methoxy, ethoxy, 2-methoxyethoxy, 2-methylsulfonylethoxy), Aryloxy groups (for example, phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-t-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy, 3-t-butyloxycarbonylphenoxy, 3-methoxycarbonylphenyloxy, acylamino groups (for example, acetamide, benzamide, 4- (3-tert-butyl-4-butyl Loxyphenoxy) butanamide), alkylamino groups (eg, methylamino, butylamino, diethylamino, methylbutylamino), arylamino groups (eg, phenylamino, 2-chloroanilino), ureido groups (eg, phenylureido, methylureido, N, N-dibutylureido), sulfamoylamino group (for example, N, N-dipropylsulfamoylamino), alkylthio group (for example, methylthio, octylthio, 2-phenoxyethylthio), arylthio group (for example, phenylthio, 2-butoxy-5-t-octylphenylthio, 2-carboxyphenylthio), alkyloxycarbonylamino group (for example, methoxycarbonylamino), alkylsulfonylamino group and arylsulfonylamino group ( For example, methylsulfonylamino, phenylsulfonylamino, p-toluenesulfonylamino), carbamoyl group (for example, N-ethylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl), sulfamoyl group (for example, N-ethylsulfamoyl, N, N -Dipropylsulfamoyl, N-phenylsulfamoyl), sulfonyl groups (eg methylsulfonyl, octylsulfonyl, phenylsulfonyl, p-toluenesulfonyl), alkyloxycarbonyl groups (eg methoxycarbonyl, butyloxycarbonyl), hetero A ring oxy group (for example, 1-phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), an azo group (for example, phenylazo, 4-methoxyphenylazo, 4-pivaloylaminophenylazo, 2- Droxy-4-propanoylphenylazo), acyloxy group (for example, acetoxy), carbamoyloxy group (for example, N-methylcarbamoyloxy, N-phenylcarbamoyloxy), silyloxy group (for example, trimethylsilyloxy, dibutylmethylsilyloxy) , Aryloxycarbonylamino group (for example, phenoxycarbonylamino), imide group (for example, N-succinimide, N-phthalimide), heterocyclic thio group (for example, 2-benzothiazolylthio, 2,4-di-phenoxy- 1,3,5-triazole-6-thio, 2-pyridylthio), sulfinyl group (for example, 3-phenoxypropylsulfinyl), phosphonyl group (for example, phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl) An aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl), an acyl group (for example, acetyl, 3-phenylpropanoyl, benzoyl), an ionic hydrophilic group (for example, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, and a quaternary ammonium group). Can be mentioned.

上記シクロアルキル基は、置換または無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換または無置換のシクロアルキル基は、炭素数が5〜30のシクロアルキル基が好ましく、炭素数5〜20のシクロアルキル基がより好ましく、炭素数5〜12のシクロアルキル基がさらに好ましい。具体的には、シクロヘキシル、シクロペンチル、シクロオクチル、シクロデシル、または4−n−ドデシルシクロヘキシルが挙げられる。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。 The cycloalkyl group includes a substituted or unsubstituted cycloalkyl group. The substituted or unsubstituted cycloalkyl group is preferably a cycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, more preferably a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms, and further preferably a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms. Specific examples include cyclohexyl, cyclopentyl, cyclooctyl, cyclodecyl, or 4-n-dodecylcyclohexyl. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.

上記アラルキル基は、置換または無置換のアラルキル基が含まれる。置換または無置換のアラルキル基としては、炭素数が7〜30のアラルキル基が好ましく、炭素数7〜20のアラルキル基がより好ましく、炭素数7〜12のアラルキル基がさらに好ましい。具体的には、ベンジルおよび2−フェネチルが挙げられる。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。 The aralkyl group includes a substituted or unsubstituted aralkyl group. As the substituted or unsubstituted aralkyl group, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms is preferable, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms is more preferable, and an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms is more preferable. Specific examples include benzyl and 2-phenethyl. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.

上記アルケニル基は、直鎖、分岐、または環状のアルケニル基を表し、それぞれ置換または無置換のアルケニル基を含む。好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、2−シクロペンテンー1−イル、2−シクロヘキセンー1−イルなどを挙げることができる。より好ましくは炭素数3〜20の置換または無置換のアルケニル基であり、さらに好ましくは炭素数3〜12の置換または無置換のアルケニル基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。 The alkenyl group represents a linear, branched, or cyclic alkenyl group, and includes a substituted or unsubstituted alkenyl group, respectively. Preferred examples include C2-C30 substituted or unsubstituted alkenyl groups such as vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl and the like. More preferred is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms, and further preferred is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.

上記アルキニル基は、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル、またはプロパルギルを挙げることができる。より好ましくは炭素数3〜18の置換または無置換のアルキニル基であり、さらに好ましくは炭素数3〜12の置換または無置換のアルキニル基である。   The alkynyl group is a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, and examples thereof include ethynyl and propargyl. More preferred is a substituted or unsubstituted alkynyl group having 3 to 18 carbon atoms, and further preferred is a substituted or unsubstituted alkynyl group having 3 to 12 carbon atoms.

上記アリール基は、炭素数6〜30の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル、p−トリル、ナフチル、m−クロロフェニル、またはo−ヘキサデカノイルアミノフェニルである。より好ましくは炭素数6〜18の置換または無置換のアリール基であり、さらに好ましくは炭素数6〜12の置換または無置換のアリール基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。 The aryl group is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, or o-hexadecanoylaminophenyl. More preferred is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and further preferred is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.

上記ヘテロ環基は、5または6員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、それらはさらに縮環していてもよい。より好ましくは、炭素数3〜30の5または6員の芳香族のヘテロ環基である。
置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
The heterocyclic group is a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound, and these are further condensed. Also good. More preferably, it is a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms.
Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.

前記ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。   Examples of the heterocyclic group include, but are not limited to, substitution positions: pyridine, pyrazine, pyridazine, pyrimidine, triazine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, cinnoline, phthalazine, quinoxaline, pyrrole, indole, furan, benzofuran, thiophene Benzothiophene, pyrazole, imidazole, benzimidazole, triazole, oxazole, benzoxazole, thiazole, benzothiazole, isothiazole, benzisothiazole, thiadiazole, isoxazole, benzisoxazole, pyrrolidine, piperidine, piperazine, imidazolidine, thiazoline, etc. Can be mentioned.

上記アルコキシ基は、置換または無置換のアルコキシ基が含まれる。置換または無置換のアルコキシ基としては、炭素数が1〜30のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜18のアルコキシ基がより好ましく、炭素数1〜12のアルコキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、n−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび3−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。 The alkoxy group includes a substituted or unsubstituted alkoxy group. As a substituted or unsubstituted alkoxy group, a C1-C30 alkoxy group is preferable, A C1-C18 alkoxy group is more preferable, A C1-C12 alkoxy group is further more preferable. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above. Examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, isopropoxy, n-octyloxy, methoxyethoxy, hydroxyethoxy and 3-carboxypropoxy.

上記アリールオキシ基は、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールオキシ基が好ましく、炭素数6〜20の置換または無置換のアリールオキシ基がより好ましく、炭素数6〜16の置換または無置換のアリールオキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシ基の例には、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−t−ブチルフェノキシ、3−ニトロフェノキシ、2−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。 The aryloxy group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted group having 6 to 16 carbon atoms. A substituted aryloxy group is more preferred. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above. Examples of the aryloxy group include phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-t-butylphenoxy, 3-nitrophenoxy, 2-tetradecanoylaminophenoxy and the like.

上記シリルオキシ基は、炭素数3〜20のシリルオキシ基が好ましく、炭素数3〜16のシリルオキシ基がより好ましく、炭素数3〜9のシリルオキシ基がさらに好ましい。例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシなどを挙げることがる。   The silyloxy group is preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, more preferably a silyloxy group having 3 to 16 carbon atoms, and further preferably a silyloxy group having 3 to 9 carbon atoms. Examples thereof include trimethylsilyloxy and t-butyldimethylsilyloxy.

上記ヘテロ環オキシ基は、炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環オキシ基が好ましく、炭素数3〜20の置換または無置換のヘテロ環オキシ基がより好ましく、炭素数3〜16の置換または無置換のヘテロ環オキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記ヘテロ環オキシ基の例には、例えば、1−フェニルテトラゾールー5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシなどを挙げることが出来る。
The heterocyclic oxy group is preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group having 3 to 20 carbon atoms, and 3 to 16 carbon atoms. A substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group is more preferable. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the heterocyclic oxy group include 1-phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy and the like.

上記アシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましく、より好ましくは、炭素数2〜20の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜18の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基である。さらに好ましくは、炭素数2〜12の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜12の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記アシルオキシ基の例には、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。
The acyloxy group is preferably a formyloxy group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 20 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 18 carbon atoms. More preferably, they are a C2-C12 substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group, and a C6-C12 substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the acyloxy group include formyloxy, acetyloxy, pivaloyloxy, stearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyphenylcarbonyloxy and the like.

上記カルバモイルオキシ基は、炭素数1〜30の置換または無置換のカルバモイルオキシ基が好ましく、炭素数3〜18の置換または無置換のカルバモイルオキシ基がより好ましく、炭素数3〜12の置換または無置換のカルバモイルオキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記カルバモイルオキシ基の例には、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ、N−n−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。
The carbamoyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 3 to 18 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted group having 3 to 12 carbon atoms. A substituted carbamoyloxy group is more preferred. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the carbamoyloxy group include, for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy, N, N-diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyl. Examples include oxy.

上記アルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数2〜30の置換または無置換のアルコキシカルボニルオキシ基が好ましく、炭素数2〜18の置換または無置換のアルコキシカルボニルオキシ基がより好ましく、炭素数2〜10の置換または無置換のアルコキシカルボニルオキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記アルコキシカルボニルオキシ基の例には、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、n−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。
The alkoxycarbonyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 18 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group is more preferable. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkoxycarbonyloxy group include methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, n-octylcarbonyloxy and the like.

上記アリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましく、炭素数7〜18の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基がより好ましく、炭素数7〜12の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。
The aryloxycarbonyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 18 carbon atoms, and a carbon number of 7 Even more preferred are -12 substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy groups. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the aryloxycarbonyloxy group include phenoxycarbonyloxy, p-methoxyphenoxycarbonyloxy, pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy and the like.

上記アミノ基は、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールアミノ基が好ましく、より好ましくは、炭素数1〜18の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数6〜18の置換または無置換のアリールアミノ基である。さらに好ましくは、炭素数1〜12の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数6〜12の置換または無置換のアリールアミノ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、3,5−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。
The amino group is preferably a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms or a substituted or unsubstituted arylamino group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted group having 1 to 18 carbon atoms. A substituted alkylamino group and a substituted or unsubstituted arylamino group having 6 to 18 carbon atoms. More preferably, they are a C1-C12 substituted or unsubstituted alkylamino group, and a C6-C12 substituted or unsubstituted arylamino group. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the amino group include, for example, amino, methylamino, dimethylamino, anilino, N-methyl-anilino, diphenylamino, hydroxyethylamino, carboxyethylamino, sulfoethylamino, 3,5-dicarboxyanilino And so on.

上記アシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましく、より好ましくは、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜24の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基である。さらに好ましくは、炭素数1〜14の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜18の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記アシルアミノ基の例には、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。
The acylamino group is preferably a formylamino group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom. A substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 20 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 24 carbon atoms. More preferred are a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 14 carbon atoms and a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 18 carbon atoms. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the acylamino group include formylamino, acetylamino, pivaloylamino, lauroylamino, benzoylamino, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino, and the like.

上記アミノカルボニルアミノ基は、炭素数1〜30の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましく、炭素数1〜18の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基がより好ましく、炭素数3〜12の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基として挙げた置換基と同じものが挙げられる。
前記アミノカルボニルアミノ基の例には、例えば、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。
The aminocarbonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted aminocarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted aminocarbonylamino group having 1 to 18 carbon atoms, and 3 to 12 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aminocarbonylamino group is more preferred. Examples of the substituent include those similar to the substituents exemplified as the substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the aminocarbonylamino group include carbamoylamino, N, N-dimethylaminocarbonylamino, N, N-diethylaminocarbonylamino, morpholinocarbonylamino and the like.

上記アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数2〜30の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましく、炭素数2〜18の置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基がより好ましく、炭素数2〜12の置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。
The alkoxycarbonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 18 carbon atoms, and a substituted group having 2 to 12 carbon atoms. Or an unsubstituted alkoxycarbonylamino group is more preferable. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, n-octadecyloxycarbonylamino, N-methyl-methoxycarbonylamino and the like.

上記アリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましく、炭素数7〜24の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基がより好ましく、炭素数7〜16の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。
The aryloxycarbonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 24 carbon atoms, and a carbon number of 7 More preferred are -16 substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the aryloxycarbonylamino group include phenoxycarbonylamino, p-chlorophenoxycarbonylamino, mn-octyloxyphenoxycarbonylamino and the like.

上記スルファモイルアミノ基は、炭素数0〜30の置換または無置換のスルファモイルアミノ基が好ましく、炭素数1〜18の置換または無置換のスルファモイルアミノ基がより好ましく、炭素数2〜12の置換または無置換のスルファモイルアミノ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記スルファモイルアミノ基の例には、例えば、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることが出来る。
The sulfamoylamino group is preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 1 to 18 carbon atoms, and 2 carbon atoms. Even more preferred are -12 substituted or unsubstituted sulfamoylamino groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the sulfamoylamino group include sulfamoylamino, N, N-dimethylaminosulfonylamino, Nn-octylaminosulfonylamino and the like.

上記アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基は、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜30の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。より好ましくは、炭素数1〜18の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜24の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基である。さらに好ましくは、炭素数1〜12の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜18の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、p−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。
The alkylsulfonylamino group and arylsulfonylamino group are preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms and a substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group having 6 to 30 carbon atoms. More preferably, they are a C1-C18 substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino group, and a C6-C24 substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group. More preferred are a substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino group having 1 to 12 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group having 6 to 18 carbon atoms. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkylsulfonylamino group and arylsulfonylamino group include, for example, methylsulfonylamino, butylsulfonylamino, phenylsulfonylamino, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino, p-methylphenylsulfonylamino and the like. Can do.

上記アルキルチオ基は、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルチオ基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜24の置換または無置換のアルキルチオ基であり、さらに好ましくは炭素数1〜16の置換または無置換のアルキルチオ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、n−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。
The alkylthio group is preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 24 carbon atoms, and still more preferably a substituted group having 1 to 16 carbon atoms. Or it is an unsubstituted alkylthio group. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkylthio group include methylthio, ethylthio, n-hexadecylthio and the like.

上記アリールチオ基は炭素数6〜30の置換または無置換のアリールチオ基が好ましく、より好ましくは炭素数6〜18の置換または無置換のアリールチオ基であり、さらに好ましくは炭素数6〜12の置換または無置換のアリールチオ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アリールチオ基の例には、例えば、フェニルチオ、p−クロロフェニルチオ、m−メトキシフェニルチオなどを挙げることができる。
The arylthio group is preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 18 carbon atoms, and still more preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 12 carbon atoms. An unsubstituted arylthio group. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the arylthio group include phenylthio, p-chlorophenylthio, m-methoxyphenylthio and the like.

上記ヘテロ環チオ基は、炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環チオ基が好ましく、より好ましくは炭素数3〜18の置換または無置換のヘテロ環チオ基であり、さらに好ましくは炭素数3〜12の置換または無置換のヘテロ環チオ基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記ヘテロ環チオ基の例には、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオなどを挙げることができる。
The heterocyclic thio group is preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably carbon. It is a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group of formula 3-12. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the heterocyclic thio group include 2-benzothiazolylthio, 1-phenyltetrazol-5-ylthio and the like.

上記スルファモイル基は、炭素数0〜30の置換または無置換のスルファモイル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜18の置換または無置換のスルファモイル基であり、さらに好ましくは炭素数2〜12の置換または無置換のスルファモイル基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記スルファモイル基の例には、例えば、N−エチルスルファモイル、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、N−アセチルスルファモイル、N−ベンゾイルスルファモイル、N−(N’−フェニルカルバモイル)スルファモイルなどを挙げることができる。
The sulfamoyl group is preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 1 to 18 carbon atoms, and further preferably a substituted group having 2 to 12 carbon atoms. Or it is an unsubstituted sulfamoyl group. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the sulfamoyl group include, for example, N-ethylsulfamoyl, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N-acetylsulfamoyl, N-benzoylsulfamoyl. N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl and the like.

上記アルキルスルフィニル基およびアリールスルフィニル基は、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。より好ましくは炭素数1〜18の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜18の置換または無置換のアリールスルフィニル基である。さらに好ましくは炭素数1〜12の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜12の置換または無置換のアリールスルフィニル基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アルキルルフィニル基およびアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、p−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。
The alkylsulfinyl group and arylsulfinyl group are preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms and a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms. More preferred are a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 18 carbon atoms and a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 18 carbon atoms. More preferred are a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkylsulfinyl group and arylsulfinyl group include methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl, p-methylphenylsulfinyl and the like.

上記アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基は、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルホニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルホニル基が好ましい。より好ましくは炭素数1〜18の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素数6〜18の置換または無置換のアリールスルホニル基である。さらに好ましくは炭素数1〜12の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素数6〜12の置換または無置換のアリールスルホニル基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基の例には、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、p−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。
The alkylsulfonyl group and arylsulfonyl group are preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms and a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms. More preferably, it is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 18 carbon atoms. More preferably, it is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkylsulfonyl group and arylsulfonyl group include methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, p-toluenesulfonyl and the like.

上記アシル基は、ホルミル基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4〜30の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。より好ましくは炭素数2〜24の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜24の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4〜24の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基である。さらに好ましくは炭素数2〜16の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜16の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4〜16の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基である。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、2−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル、2―ピリジルカルボニル、2―フリルカルボニルなどを挙げることができる。
The acyl group includes a formyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted carbon group having 4 to 30 carbon atoms. A heterocyclic carbonyl group bonded to the carbonyl group by an atom is preferred. More preferably, it is a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 24 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 24 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon atom having 4 to 24 carbon atoms, and a carbonyl group. It is a bonded heterocyclic carbonyl group. More preferably, it is a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 16 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 16 carbon atoms, a carbonyl group at a substituted or unsubstituted carbon atom having 4 to 16 carbon atoms, and It is a bonded heterocyclic carbonyl group. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the acyl group include acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, pn-octyloxyphenylcarbonyl, 2-pyridylcarbonyl, 2-furylcarbonyl and the like.

上記アリールオキシカルボニル基は、炭素数7〜30の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましく、炭素数7〜18の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基がより好ましく、炭素数7〜12の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニル基の例には、例えば、フェノキシカルボニル、o−クロロフェノキシカルボニル、m−ニトロフェノキシカルボニル、p−t−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。
The aryloxycarbonyl group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 18 carbon atoms, and 7 to 12 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group is more preferable. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the aryloxycarbonyl group include phenoxycarbonyl, o-chlorophenoxycarbonyl, m-nitrophenoxycarbonyl, pt-butylphenoxycarbonyl, and the like.

上記アルコキシカルボニル基は、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましく、炭素数2〜24の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基がより好ましく、炭素数2〜12の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基の例には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。
The alkoxycarbonyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 24 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 2 to 12 carbon atoms. More preferred is a carbonyl group. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, n-octadecyloxycarbonyl and the like.

上記カルバモイル基は、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましく、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のカルバモイル基がより好ましく、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のカルバモイル基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記カルバモイル基の例には、例えば、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル、N−(メチルスルホニル)カルバモイルなどを挙げることができる。
The carbamoyl group is preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 1 to 18 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 2 to 12 carbon atoms. More preferred are groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the carbamoyl group include carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N, N-di-n-octylcarbamoyl, N- (methylsulfonyl) carbamoyl and the like.

上記ホスフィノ基は、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィノ基が好ましく、炭素数2〜16の置換もしくは無置換のホスフィノ基がより好ましく、炭素数2〜10の置換もしくは無置換のホスフィノ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記ホスフィノ基の例には、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノなどを挙げることができる。
The phosphino group is preferably a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 16 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 10 carbon atoms. More preferred are groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the phosphino group include dimethylphosphino, diphenylphosphino, methylphenoxyphosphino and the like.

上記ホスフィニル基は、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニル基が好ましく、炭素数2〜18の置換もしくは無置換のホスフィニル基がより好ましく、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のホスフィニル基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記ホスフィニル基の例には、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニルなどを挙げることができる。
The phosphinyl group is preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 18 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 12 carbon atoms. More preferred are groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the phosphinyl group include phosphinyl, dioctyloxyphosphinyl, diethoxyphosphinyl and the like.

上記ホスフィニルオキシ基は、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基が好ましく、炭素数2〜18の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基がより好ましく、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記ホスフィニルオキシ基の例には、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシなどを挙げることができる。
The phosphinyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 18 carbon atoms, and 2 carbon atoms. More preferred are -12 substituted or unsubstituted phosphinyloxy groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the phosphinyloxy group include diphenoxyphosphinyloxy and dioctyloxyphosphinyloxy.

上記ホスフィニルアミノ基は、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基が好ましく、炭素数2〜18の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基がより好ましく、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記ホスフィニルアミノ基の例には、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノなどを挙げることができる。
The phosphinylamino group is preferably a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 2 to 18 carbon atoms, and 2 carbon atoms. More preferred are -12 substituted or unsubstituted phosphinylamino groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the phosphinylamino group include dimethoxyphosphinylamino and dimethylaminophosphinylamino.

上記シリル基は、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のシリル基が好ましく、炭素数3〜18の置換もしくは無置換のシリル基がより好ましく、炭素数2〜10の置換もしくは無置換のシリル基がさらに好ましい。置換基の例としては、前述のZ〜Zで表されるアルキル基がさらに置換基を有する場合に導入可能な置換基と同じものが挙げられる。
前記シリル基の例には、例えば、トリメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリルなどを挙げることができる。
The silyl group is preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms, more preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 18 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted silyl group having 2 to 10 carbon atoms. More preferred are groups. Examples of the substituent include the same substituent that may be introduced when having an alkyl group is further substituted group represented by Z 1 to Z 4 above.
Examples of the silyl group include trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, phenyldimethylsilyl and the like.

上記アゾ基は、例えば、フェニルアゾ、4−メトキシフェニルアゾ、4−ピバロイルアミノフェニルアゾ、2−ヒドロキシ−4−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。   Examples of the azo group include phenylazo, 4-methoxyphenylazo, 4-pivaloylaminophenylazo, 2-hydroxy-4-propanoylphenylazo, and the like.

上記イミド基は、例えば、N−スクシンイミド、N−フタルイミドなどを挙げることができる。   Examples of the imide group include N-succinimide and N-phthalimide.

一般式(I)において、ZおよびZ、ZおよびZはそれぞれ互いに結合して環を形成することができるが、この場合、形成しうる環としては、5員環または6員環が好ましい。 In the general formula (I), Z 1 and Z 2 , Z 3 and Z 4 can be bonded to each other to form a ring. In this case, the ring that can be formed is a 5-membered ring or a 6-membered ring. Is preferred.

一般式(I)における置換基の好ましい組合せとしては、Rは置換または無置換のアルキル基であり、Rは置換または無置換のアリール基であり、RおよびRは置換または無置換のアルキル基であり、Zは置換または無置換のアルキル基であり、Z、ZおよびZは水素原子である。 As a preferred combination of substituents in the general formula (I), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, R 2 is a substituted or unsubstituted aryl group, and R 3 and R 4 are substituted or unsubstituted. Z 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group, and Z 2 , Z 3 and Z 4 are hydrogen atoms.

また溶解度の観点から、好ましくは一般式(I)で表される化合物のLogP値が6以上であることが好ましく、特にLogP値が8以上であることがより好ましい。   Further, from the viewpoint of solubility, the LogP value of the compound represented by the general formula (I) is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.

一般式(I)で表される染料のうち、好ましくは、下記一般式(II)で表される染料である。
以下、一般式(II)について詳細に説明する。
Of the dyes represented by the general formula (I), a dye represented by the following general formula (II) is preferable.
Hereinafter, the general formula (II) will be described in detail.

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上記一般式(II)中、R11、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表わす。R16およびR17は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。
なお、R16およびR17で表されるアルキル基、アリール基、およびヘテロアリール基は、導入可能な場合にはさらに置換基を有していてもよい。
In the general formula (II), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and R 15 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. R 16 and R 17 each independently represents an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and may be bonded to each other to form a ring.
In addition, the alkyl group, aryl group, and heteroaryl group represented by R 16 and R 17 may further have a substituent when it can be introduced.

一般式(II)中、R11、R12、R13、R14およびR15で表される一価の置換基としては、前記一般式(I)のZ〜Zで挙げた一価の置換基と同じものが挙げられる。
また、R16およびR17で表される置換基としては、前記一般式(I)のRおよびRで挙げた置換基と同じものが挙げられる。
In the general formula (II), as the monovalent substituents represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and R 15 , the monovalent groups exemplified in Z 1 to Z 4 of the general formula (I) And the same substituents as
As the substituents represented by R 16 and R 17, the same as those of a substituent mentioned in R 3 and R 4 in the general formula (I).

前記一般式(I)で表される染料の具体例(例示色素DYE−1〜30)を以下に示すが、本発明に用いられる染料は、下記の例に限定されるものではない。   Specific examples of the dye represented by the general formula (I) (exemplary dye DYE-1 to 30) are shown below, but the dye used in the present invention is not limited to the following examples.

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上記例示色素のなかでも、DYE−1、DYE−3、DYE−6、DYE−8、DYE−10、DYE−13、DYE−17、DYE−24がより好ましく、DYE−1、DYE−6、DYE−10がさらに好ましい。   Among the above exemplified dyes, DYE-1, DYE-3, DYE-6, DYE-8, DYE-10, DYE-13, DYE-17, and DYE-24 are more preferable, DYE-1, DYE-6, DYE-10 is more preferred.

本発明における一般式(I)で表される染料は、その骨格に対して、特に、パラフェニレンジアミン部位への置換基導入・変さらによる酸化電位の調整や、立体障害付与などによる光堅牢性向上、およびニトロ基などの重合阻害能のある官能基を避けた官能基の選択など構造因子の変更を行うことにより、種々の性能を調整することができる。また、構造因子の変更を骨格に反映させることが合成化学的にも比較的容易に実現可能であり、例えば、併用するモノマー種の構造にあわせて、一般式(I)で表される染料を適切な構造へファインチューニングすることが可能となる。   The dye represented by the general formula (I) in the present invention has a light fastness with respect to its skeleton, in particular, adjustment of an oxidation potential by introducing / modifying a substituent to the paraphenylenediamine site, and addition of steric hindrance. Various performances can be adjusted by changing structural factors such as improvement and selection of functional groups that avoid polymerization-inhibiting functional groups such as nitro groups. In addition, it is possible to relatively easily realize the change of the structure factor in the skeleton in terms of synthetic chemistry. For example, the dye represented by the general formula (I) may be used in accordance with the structure of the monomer species used together. Fine tuning to an appropriate structure becomes possible.

一般式(I)で表される染料の含有量は、光硬化性組成物全量に対し、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.2〜6質量%がさらに好ましい。   The content of the dye represented by the general formula (I) is preferably 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and more preferably 0.2 to 6% with respect to the total amount of the photocurable composition. More preferred is mass%.

なお、本発明の効果を妨げない範囲で、色相調整などの目的で、上記一般式(I)で表される染料以外の染料を併用することができる。この場合他の染料は、一般式(I)で表される染料に対し、等量以下であることが好ましく、また、染料の総含有量(一般式(I)で表される染料+他の染料)は、光硬化性組成物全量に対し、0.1〜40質量%が好ましく、0.2〜25質量%がより好ましく、0.3〜12質量%がさらに好ましい。   In addition, in the range which does not prevent the effect of this invention, dyes other than the dye represented by the said general formula (I) can be used together for the purpose of hue adjustment. In this case, the other dye is preferably equal to or less than the dye represented by the general formula (I), and the total content of the dye (the dye represented by the general formula (I) + the other 0.1-40 mass% is preferable with respect to the photocurable composition whole quantity, 0.2-25 mass% is more preferable, and 0.3-12 mass% is further more preferable.

<重合性化合物>
本発明の光硬化性組成物は、カチオン重合性化合物やラジカル重合性化合物等の、重合性化合物を含有することを必須とする。
<Polymerizable compound>
It is essential that the photocurable composition of the present invention contains a polymerizable compound such as a cationic polymerizable compound or a radical polymerizable compound.

−カチオン重合性化合物−
本発明に用いうるカチオン重合性化合物としては、後述する、放射線の照射により酸を発生する化合物から発生する酸により重合反応を開始し、硬化する化合物が好ましく、光カチオン重合性化合物として知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性化合物としては、例えば、特開平6−9714号、特開2001−31892号、同2001−40068号、同2001−55507号、同2001−310938号、同2001−310937号、同2001−220526号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
-Cationically polymerizable compound-
The cationically polymerizable compound that can be used in the present invention is preferably a compound that initiates a polymerization reaction with an acid generated from a compound that generates an acid upon irradiation with radiation and cures, and is known as a photocationically polymerizable compound. A known cationic polymerizable monomer can be used. Examples of the cationic polymerizable compound include JP-A-6-9714, JP-A-2001-31892, JP-A-2001-40068, JP-A-2001-55507, JP-A-2001-310938, JP-A-2001-310937, and JP-A-2001-2001. Examples thereof include epoxy compounds, vinyl ether compounds, oxetane compounds and the like described in each publication such as No. 220526.

エポキシ化合物としては、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドなどが挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルが挙げられ、例えば、ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。
Examples of the epoxy compound include aromatic epoxides and alicyclic epoxides.
Aromatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers produced by the reaction of polyphenols having at least one aromatic nucleus or their alkylene oxide adducts and epichlorohydrin, such as bisphenol A or its alkylene oxides. Examples thereof include di- or polyglycidyl ethers of adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adducts, and novolak-type epoxy resins. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。
As the alicyclic epoxide, cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Or a cyclopentene oxide containing compound is mentioned preferably.
Examples of the aliphatic epoxide include dihydric polyhydridyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol or 1,6. -Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or its alkylene oxide adduct, diglycidyl of polyethylene glycol or its adduct of alkylene oxide Polyalkylene glycol diglycol represented by diglycidyl ether of ether, polypropylene glycol or its alkylene oxide adduct Jill ether, and the like. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

本発明に用いることのできる単官能および多官能のエポキシ化合物を詳しく例示する。
単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジエンモノオキサイド、1,2−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
The monofunctional and polyfunctional epoxy compounds that can be used in the present invention are exemplified in detail.
Examples of monofunctional epoxy compounds include, for example, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, 1,3-butadiene. Monooxide, 1,2-epoxydodecane, epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-vinylcyclohexene oxide, etc. Is mentioned.

また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、1,1,3−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、1,2,7,8−ジエポキシオクタン、1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。   Examples of polyfunctional epoxy compounds include, for example, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol. S diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxy 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxy Hexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene oxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy- 6'-methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate) ), Dioctyl epoxyhexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl Ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers, 1,1,3-tetradecadiene dioxide, limonene dioxide, 1,2,7,8 -Diepoxyoctane, 1,2,5,6-diepoxycyclooctane and the like.

これらのエポキシ化合物のなかでも、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。   Among these epoxy compounds, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable from the viewpoint of excellent curing speed, and alicyclic epoxides are particularly preferable.

ビニルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジまたはトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。   Examples of the vinyl ether compound include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, and trimethylol. Di- or trivinyl ether compounds such as propane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, n-propyl Pills vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether -O- propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.

以下に、単官能ビニルエーテルと多官能ビニルエーテルを詳しく例示する。
単官能ビニルエーテルの例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、n−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
Below, monofunctional vinyl ether and polyfunctional vinyl ether are illustrated in detail.
Examples of monofunctional vinyl ethers include, for example, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4 -Methylcyclohexyl methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl D Ter, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexyl methyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloro Examples thereof include ethoxyethyl vinyl ether, phenylethyl vinyl ether, phenoxy polyethylene glycol vinyl ether and the like.

また、多官能ビニルエーテルの例としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類;トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジまたはトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
Examples of the polyfunctional vinyl ether include, for example, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, butylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, and bisphenol F. Divinyl ethers such as alkylene oxide divinyl ether; trimethylolethane trivinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol Hexavinyl ether, ethylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, propylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, ethylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, propylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, ethylene oxide-added pentaerythritol tetravinyl ether, propylene oxide addition Examples thereof include polyfunctional vinyl ethers such as pentaerythritol tetravinyl ether, ethylene oxide-added dipentaerythritol hexavinyl ether, and propylene oxide-added dipentaerythritol hexavinyl ether.
As the vinyl ether compound, di- or trivinyl ether compounds are preferable from the viewpoints of curability, adhesion to a recording medium, surface hardness of the formed image, and the like, and divinyl ether compounds are particularly preferable.

本発明に使用できるオキセタン化合物としては、特開2001−220526号、同2001−310937号、同2003−341217号の各公報に記載される如き、公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。本発明の光硬化性組成物に使用しうるオキセタン環を有する化合物としては、その構造内にオキセタン環を1〜4個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となる。   As the oxetane compound that can be used in the present invention, a known oxetane compound can be arbitrarily selected and used as described in JP-A Nos. 2001-220526, 2001-310937, and 2003-341217. As the compound having an oxetane ring that can be used in the photocurable composition of the present invention, a compound having 1 to 4 oxetane rings in its structure is preferable. By using such a compound, it becomes easy to maintain the viscosity of the composition in a favorable range of handling properties.

本発明の光硬化性組成物に使用される分子内に1〜2個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式(1)〜(3)で示される化合物等が挙げられる。   Examples of the compound having 1 to 2 oxetane rings in the molecule used in the photocurable composition of the present invention include compounds represented by the following formulas (1) to (3).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

a1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基を表す。分子内に2つのRa1が存在する場合、それらは同じであっても異なるものであってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、フルオロアルキル基としては、これらアルキル基の水素のいずれかがフッ素原子で置換されたものが好ましく挙げられる。
R a1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, an aryl group, a furyl group, or a thienyl group. When two R a1 are present in the molecule, they may be the same or different.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Preferred examples of the fluoroalkyl group include those in which any hydrogen of these alkyl groups is substituted with a fluorine atom.

a2は、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基、炭素数2〜6個のアルケニル基、芳香環を有する基、炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、アルケニル基としては、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等が挙げられ、芳香環を有する基としては、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等が、アルキコキシカルボニル基としては、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が、N−アルキルカルバモイル基としては、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ra2は置換基を有していてもよく、置換基としては、1〜6のアルキル基、フッ素原子が挙げられる。 R a2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a group having an aromatic ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, or 2 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxycarbonyl group, and an N-alkylcarbamoyl group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Examples of the alkenyl group include a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and 2-methyl-2. -Propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group and the like. Examples of the group having an aromatic ring include phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, phenoxyethyl group and the like. Can be mentioned. As the alkylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, a butylcarbonyl group, etc., as an alkoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc., as an N-alkylcarbamoyl group, Examples thereof include an ethylcarbamoyl group, a propylcarbamoyl group, a butylcarbamoyl group, and a pentylcarbamoyl group. R a2 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group of 1 to 6 and a fluorine atom.

a3は、線状または分枝状アルキレン基、線状または分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、または、以下に示す基を表す。アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられ、ポリ(アルキレンオキシ)基としては、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。 R a3 is a linear or branched alkylene group, a linear or branched unsaturated hydrocarbon group, an alkylene group containing a carbonyl group or a carbonyl group, an alkylene group containing a carboxyl group, an alkylene group containing a carbamoyl group, or Represents a group shown below. Examples of the alkylene group include an ethylene group, a propylene group, and a butylene group. Examples of the poly (alkyleneoxy) group include a poly (ethyleneoxy) group and a poly (propyleneoxy) group. Examples of the unsaturated hydrocarbon group include a propenylene group, a methylpropenylene group, and a butenylene group.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

a3が上記多価基である場合、Ra4は、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基を表す。
a5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO、C(CF、または、C(CHを表す。
a6は、炭素数1〜4個のアルキル基、または、アリール基を表し、nは0〜2,000の整数である。
a7は炭素数1〜4個のアルキル基、アリール基、または、下記構造を有する一価の基を表す。
下記式中、Ra8は炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基であり、mは0〜100の整数である。
When R a3 is the above polyvalent group, R a4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, A lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group is represented.
R a5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2 , C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .
R a6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group, and n is an integer of 0 to 2,000.
R a7 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, or a monovalent group having the following structure.
In the following formula, R a8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group, and m is an integer of 0 to 100.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

式(1)で表される化合物としては、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(OXT−101:東亞合成(株)製)、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン(OXT−212:東亞合成(株)製)、3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン(OXT−211:東亞合成(株)製)が挙げられる。式(2)で表される化合物としては、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン(OXT−121:東亞合成(株))が挙げられる。また、式(3)で表される化合物としては、ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル(OXT−221:東亞合成(株))が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (1) include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (OXT-101: manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane ( OXT-212: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane (OXT-211: manufactured by Toagosei Co., Ltd.). Examples of the compound represented by the formula (2) include 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene (OXT-121: Toagosei Co., Ltd.). Examples of the compound represented by the formula (3) include bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether (OXT-221: Toagosei Co., Ltd.).

3〜4個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式(4)で示される化合物が挙げられる。   Examples of the compound having 3 to 4 oxetane rings include a compound represented by the following formula (4).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

式(4)において、Ra1は、前記式(1)におけるのと同義である。また、多価連結基であるRa9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基または下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは、3または4である。 In Formula (4), R a1 has the same meaning as in Formula (1). In addition, examples of R a9 that is a polyvalent linking group include branched alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by A to C below, and branched poly ( An alkyleneoxy) group or a branched polysiloxy group such as a group represented by E below. j is 3 or 4.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

上記Aにおいて、Ra10はメチル基、エチル基またはプロピル基を表す。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In the above A, R a10 represents a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.

また、本発明に好適に使用しうるオキセタン化合物の別の態様として、側鎖にオキセタン環を有する下記式(5)で示される化合物が挙げられる。   Another embodiment of the oxetane compound that can be suitably used in the present invention includes a compound represented by the following formula (5) having an oxetane ring in the side chain.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

式(5)において、Ra1は、前記式(1)におけるのと同義であり、Ra8は前記式におけるのと同義である。Ra11はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。 In formula (5), R a1 has the same meaning as in formula (1), and R a8 has the same meaning as in formula. R a11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4.

このようなオキセタン環を有する化合物については、特開2003−341217号公報、段落番号[0021]乃至[0084]に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に使用しうる。
特開2004−91556号公報に記載されたオキセタン化合物も本発明に併用することができる。当該化合物は、同公報の段落番号[0022]乃至[0058]に詳細に記載されている。
本発明に併用される他のオキセタン化合物のなかでも、組成物の粘度と粘着性の観点から、オキセタン環を1個有する化合物を使用することが好ましい。
The compounds having such an oxetane ring are described in detail in JP-A No. 2003-341217, paragraph numbers [0021] to [0084], and the compounds described therein can be suitably used in the present invention.
Oxetane compounds described in JP-A-2004-91556 can also be used in the present invention. The compounds are described in detail in paragraph numbers [0022] to [0058] of the publication.
Among the other oxetane compounds used in combination with the present invention, it is preferable to use a compound having one oxetane ring from the viewpoint of the viscosity and tackiness of the composition.

本発明の光硬化性組成物にカチオン重合性化合物が用られる場合、光硬化性組成物の全固形分に対して60質量%以上含有することが好ましく、70質量%以上含有することがより好ましい。尚、カチオン重合性化合物の添加量の上限としては、95質量%以下であることが好ましい。
またさらに、カチオン重合性化合物の中でもカチオン重合性単官能モノマーを50質量%以上含有することが好ましく、60質量%以上含有することがより好ましい。カチオン重合性単官能モノマーを上記範囲含有することにより、硬化膜の柔軟性が向上する効果が得られる。
When a cationically polymerizable compound is used in the photocurable composition of the present invention, it is preferably contained in an amount of 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more based on the total solid content of the photocurable composition. . In addition, as an upper limit of the addition amount of a cationically polymerizable compound, it is preferable that it is 95 mass% or less.
Furthermore, it is preferable to contain 50 mass% or more of a cation polymerizable monofunctional monomer in a cation polymerizable compound, and it is more preferable to contain 60 mass% or more. By containing the cationic polymerizable monofunctional monomer in the above range, an effect of improving the flexibility of the cured film can be obtained.

−ラジカル重合性化合物−
また、本発明の光硬化性組成物に用いうるラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。好ましくは2種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。
-Radically polymerizable compounds-
The radically polymerizable compound that can be used in the photocurable composition of the present invention is a compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond, and at least one radically polymerizable ethylenically unsaturated bond in the molecule. And any compound having a chemical form such as a monomer, oligomer, or polymer. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties. It is preferable to use two or more kinds in combination for controlling performance such as reactivity and physical properties.

ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。   Examples of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and salts thereof, Examples thereof include radically polymerizable compounds such as anhydrides having a saturated group, acrylonitrile, styrene, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated urethanes.

具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー、およびポリマーを用いることができる。   Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaery Acrylic acid derivatives such as lithol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylol Methacryl derivatives such as tan trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and other derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate More specifically, Yamashita Junzo, “Crosslinker Handbook”, (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB Curing Handbook (Materials)” (1985, Polymer Publication) ); Rad-Tech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) A commercially available product as described above or a radically polymerizable or crosslinkable monomer known in the industry, Oligomers and polymers can be used.

また、ラジカル重合性化合物としては、例えば、特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平8−224982号、特開平10−863号、特開平9−134011号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性化合物材料が知られており、これらも本発明の光硬化性組成物に適用することができる。   Examples of the radical polymerizable compound include those disclosed in JP-A-7-159983, JP-B-7-31399, JP-A-8-224982, JP-A-10-863, JP-A-9-134011, and the like. Photocurable polymerizable compound materials used for the described photopolymerizable compositions are known and can also be applied to the photocurable compositions of the present invention.

さらに、ラジカル重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いることも好ましい。好適に用いられるビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジまたはトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度の観点から、ジビニルエーテル化合物、トリビニルエーテル化合物が好ましく、特に、ジビニルエーテル化合物が好ましい。ビニルエーテル化合物は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
Furthermore, it is also preferable to use a vinyl ether compound as the radical polymerizable compound. Suitable vinyl ether compounds include, for example, ethylene glycol divinyl ether, ethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol. Di- or trivinyl ether compounds such as divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, hydroxyethyl monovinyl ether, hydroxynonyl monovinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octa Monovinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether-O-propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, octadecyl vinyl ether, etc. Examples include vinyl ether compounds.
Of these vinyl ether compounds, divinyl ether compounds and trivinyl ether compounds are preferable from the viewpoints of curability, adhesion, and surface hardness, and divinyl ether compounds are particularly preferable. A vinyl ether compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type as appropriate.

本発明の光硬化性組成物にラジカル重合性化合物が用られる場合、光硬化性組成物全固形分中、ラジカル重合性化合物は60質量%以上含有することが好ましく、70質量%以上含有することがより好ましい。尚、ラジカル重合性化合物の添加量の上限としては、95質量%以下であることが好ましい。   When a radically polymerizable compound is used in the photocurable composition of the present invention, the radically polymerizable compound is preferably contained in an amount of 60% by mass or more in the total solid content of the photocurable composition, and 70% by mass or more. Is more preferable. In addition, as an upper limit of the addition amount of a radically polymerizable compound, it is preferable that it is 95 mass% or less.

<重合開始剤>
本発明の光硬化性組成物は重合開始剤を含有することを必須する。
使用する重合開始剤は、外部エネルギーを吸収して重合開始種を生成する化合物であればよく、併用する重合性化合物の種類に応じて、適宜選択することができる。
本発明の光硬化性組成物に用いることのできる重合開始剤としては、光カチオン重合の光重合開始剤、光ラジカル重合の光重合開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている光(400nm〜200nmの紫外線、遠紫外線、特に好ましくは、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光)、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線またはイオンビームなどの照射により酸を発生する化合物を適宜選択して使用することができる。
<Polymerization initiator>
It is essential that the photocurable composition of the present invention contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator to be used may be a compound that absorbs external energy and generates a polymerization initiating species, and can be appropriately selected according to the type of the polymerizable compound to be used in combination.
Examples of the polymerization initiator that can be used in the photocurable composition of the present invention include a photopolymerization initiator for photocationic polymerization, a photopolymerization initiator for photoradical polymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, or Light (400 nm to 200 nm ultraviolet light, deep ultraviolet light, particularly preferably g-line, h-line, i-line, KrF excimer laser beam), ArF excimer laser beam, electron beam, X-ray, molecule A compound that generates an acid upon irradiation with a line or an ion beam can be appropriately selected and used.

−放射線の照射により酸を発生する化合物−
本発明において、例えば、重合性化合物として、カチオン重合性化合物が用いられる場合、重合開始剤としては、放射線の照射により酸を発生する化合物を用いることが好ましい。これらの化合物を用いることにより、放射線の照射により発生した酸により、前記したカチオン重合性化合物の重合反応が生起し、硬化する。
-Compounds that generate acid upon irradiation-
In the present invention, for example, when a cationic polymerizable compound is used as the polymerizable compound, it is preferable to use a compound that generates an acid upon irradiation with radiation as the polymerization initiator. By using these compounds, the polymerization reaction of the cationically polymerizable compound described above is caused by the acid generated by the irradiation of radiation and is cured.

このような重合開始剤としては、放射線の照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、o−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。   Examples of such a polymerization initiator include an onium salt compound such as a diazonium salt, a phosphonium salt, a sulfonium salt, and an iodonium salt, which decomposes upon irradiation with radiation, an imide sulfonate, an oxime sulfonate, a diazodisulfone, a disulfone, o -Sulfonate compounds, such as nitrobenzyl sulfonate, etc. can be mentioned.

また、その他の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(1980)等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、同Re27,992号、特開平3−140140号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、同第339,049号、同第410,201号、特開平2−150848号、特開平2−296514号等に記載のヨードニウム塩、   Examples of other compounds that generate an acid upon irradiation with actinic rays or radiation include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. 18, 387 (1974), T .; S. For example, diazonium salts described in Bal etal, Polymer, 21, 423 (1980), U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, Re27,992, JP-A-3-140140, etc. Ammonium salts as described, D. C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and the like; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent Nos. 104,143, 339,049, 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-296514 and the like,

J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73 (1985)、J.V.Crivello etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt etal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivelloetal,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第3,902,114号、同4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号、特開平7−28237号、同8−27102号等に記載のスルホニウム塩、   J. et al. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. MoI. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al., Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 161,811, 410,201, 339,049, 233,567, 297,443, and 297,442. U.S. Pat.Nos. 3,902,114, 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2, Nos. 904, 626, 3,604, 580, 3,604, 581, JP-A-7-28237, 8-27102 and the like,

J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill et al,Inorg.Chem.,19,3007(1980)、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1986)、特開平2−161445号等に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、   J. et al. V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), etc., selenonium salts, C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988) and other onium salts such as arsonium salts, US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-36281, Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-55. -32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-70243 , Organic halogen compounds described in JP-A-63-298339 and the like; Meier et al, J.A. Rad. Curing, 13 (4), 26 (1986), T.A. P. Gill et al, Inorg. Chem. , 19, 3007 (1980), D.M. Astruc, Acc. Chem. Res. , 19 (12), 377 (1986), and organometallic / organic halides described in JP-A-2-161445, etc.

S.Hayase etal,J.Polymer Sci.,25,753(1987)、E.Reichmanis etal,J.Pholymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)2205(1973)、D.H.R.Barton etal,J.Chem.Soc.,3571(1965)、P.M.Collins et al,J.Chem.Soc.,Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1975)、J.W.Walker etal,J.Am.Chem.Soc.,110,7170(1988)、S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191(1985)、H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(1988)、P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532(1972)、S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(1985)、E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan etal,Macromolcules,21,2001(1988)、 欧州特許第0290,750号、同046,083号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60−198538号、特開昭53−133022号等に記載のO−ニトロベンジル型保護基を有する重合開始剤、   S. Hayase et al. Polymer Sci. 25, 753 (1987), E.I. Reichmanis et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 23, 1 (1985), Q.M. Q. Zhu etal, J. et al. Photochem. 36, 85, 39, 317 (1987), B.R. Amit etal, Tetrahedron Lett. , (24) 2205 (1973), D.M. H. R. Barton et al. Chem. Soc. , 3571 (1965), p. M.M. Collins et al, J.A. Chem. Soc. Perkin I, 1695 (1975), M .; Rudinstein et al., Tetrahedron Lett. , (17), 1445 (1975), J. MoI. W. Walker et al. Am. Chem. Soc. 110, 7170 (1988), S.A. C. Busman et al. Imaging Technol. 11 (4), 191 (1985), H. et al. M.M. Houlihan et al, Macormolecules, 21, 2001 (1988), p. M.M. Collins et al. Chem. Soc. , Chem. Commun. 532 (1972), S.A. Hayase et al., Macromolecules, 18, 1799 (1985), E.I. Reichmanis et al. Electrochem. Soc. , Solid State Sci. Technol. , 130 (6), F.M. M.M. Houlihan et al, Macromolecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, 156,535, 271,851, 0,388,343, US Patent No. 3 , 901,710, 4,181,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022 and the like, a polymerization initiator having an O-nitrobenzyl type protecting group,

M.TUNOOKA etal,Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、W.J.Mijs etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、H.Adachi etal,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515号、同044,115号、同第618,564号、同0101,122号、米国特許第4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64−18143号、特開平2−245756号、特開平3−140109号等に記載のイミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61−166544号、特開平2−71270号等に記載のジスルホン化合物、特開平3−103854号、同3−103856号、同4−210960号等に記載のジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物を挙げることができる。   M.M. TUNOOKA et al, Polymer Preprints Japan, 35 (8), G.M. Berner et al. Rad. Curing, 13 (4), W.M. J. et al. Mijs et al, Coating Technol. , 55 (697), 45 (1983), Akzo, H .; Adachi et al, Polymer Preprints, Japan, 37 (3), European Patent No. 0199,672, No. 84515, No. 044,115, No. 618,564, No. 0101,122, US Pat. No. 4,371 , 605, 4,431,774, JP-A 64-18143, JP-A-2-245756, JP-A-3-140109, etc. Compounds generating an acid, disulfone compounds described in JP-A-61-1166544 and JP-A-2-71270, diazo compounds described in JP-A-3-103854, JP-A-3-103856, and JP-A-4-210960 Examples thereof include ketosulfone and diazodisulfone compounds.

また、これらの光により酸を発生する基、あるいは化合物をポリマーの主鎖または側鎖に導入した化合物、例えば、M.E.Woodhouse et al,J.Am.Chem.Soc.,104,5586(1982)、S.P.Pappas et al,J.Imaging Sci.,30(5),218(1986)、S.Kondo etal,Makromol.Chem.,Rapid Commun.,9,625(1988)、Y.Yamada etal,Makromol.Chem.,152,153,163(1972)、J.V.Crivello et al,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,849,137号、独国特許第3,914,407号、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号等に記載の化合物を用いることができる。例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する重合開始剤、イミノスルフォネート等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物を挙げることができる。   Further, a group in which an acid is generated by light, or a compound in which a compound is introduced into the main chain or side chain of the polymer, for example, M.P. E. Woodhouse et al., J. MoI. Am. Chem. Soc. 104, 5586 (1982), S .; P. Pappas et al. Imaging Sci. , 30 (5), 218 (1986), S .; Kondo et al, Makromol. Chem. , Rapid Commun. , 9, 625 (1988), Y. et al. Yamada et al, Makromol. Chem. 152, 153, 163 (1972), J. Am. V. Crivello et al, J.A. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. 17, 3845 (1979), U.S. Pat. No. 3,849,137, German Patent No. 3,914,407, JP-A 63-26653, JP-A 55-164824, JP-A 62- 69263, JP-A 63-146038, JP-A 63-163452, JP-A 62-153853, JP-A 63-146029, and the like can be used. For example, diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, onium salts such as arsonium salts, organic halogen compounds, organic metal / organic halides, polymerization initiators having o-nitrobenzyl type protecting groups And compounds capable of generating a sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonate, disulfone compounds, diazoketosulfones, and diazodisulfone compounds.

さらにV.N.R.Pillai,Synthesis,(1),1(1980)、A.Abad etal,Tetrahedron Lett.,(47)4555(1971)、D.H.R.Barton et al,J.Chem.Soc.,(C),329(1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。   Furthermore, V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A.M. Abad et al., Tetrahedron Lett. , (47) 4555 (1971), D.M. H. R. Barton et al, J.A. Chem. Soc. , (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, European Patent No. 126,712, and the like, compounds that generate an acid by light can also be used.

本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい化合物として、下記式(b1)、(b2)、または(b3)で表される化合物を挙げることができる。   Preferred examples of the polymerization initiator that can be used in the present invention include compounds represented by the following formula (b1), (b2), or (b3).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

上記式(b1)において、R201、R202およびR203は、各々独立に有機基を表す。
-は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオ
ン、ビス(アルキルスルホニル)アミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオン、BF -、PF -、SbF -や、以下に示す基などが挙げられ、好ましくは炭素原子を有する有機アニオンである。
In the above formula (b1), R 201 , R 202 and R 203 each independently represents an organic group.
X represents a non-nucleophilic anion, preferably a sulfonate anion, a carboxylate anion, a bis (alkylsulfonyl) amide anion, a tris (alkylsulfonyl) methide anion, BF 4 , PF 6 , SbF 6 , The following groups are exemplified, and an organic anion having a carbon atom is preferable.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

好ましい有機アニオンとしては下式に示す有機アニオンが挙げられる。   Preferable organic anions include organic anions represented by the following formula.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

Rcは、有機基を表す。
Rcにおける有機基として炭素数1〜30のものが挙げられ、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの複数が、単結合、−O−、−CO−、−S−、−SO−、−SON(Rd)−などの連結基で連結された基を挙げることができる。
Rdは、水素原子、アルキル基を表す。
Rc 1 represents an organic group.
Examples of the organic group in Rc 1 include those having 1 to 30 carbon atoms, and preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a plurality of these are a single bond, —O—, —CO 2 —, —S—. , —SO 3 —, —SO 2 N (Rd 1 ) — and the like.
Rd 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

Rc、Rc、およびRcは、各々独立に、有機基を表す。
Rc、Rc、Rcで表される有機基として、好ましくはRcにおける好ましい有機基と同じものを挙げることができ、最も好ましくは炭素数1〜4のパーフロロアルキル基である。
また、RcとRcとが結合して環を形成していてもよい。
RcとRcとが結合して形成される基としては、アルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数2〜4のパーフロロアルキレン基である。
Rc 3 , Rc 4 and Rc 5 each independently represents an organic group.
Examples of the organic group represented by Rc 3 , Rc 4 , and Rc 5 are preferably the same as the preferable organic group in Rc 1 , and most preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Rc 3 and Rc 4 may be bonded to form a ring.
Examples of the group formed by combining Rc 3 and Rc 4 include an alkylene group and an arylene group. Preferably, it is a C2-C4 perfluoroalkylene group.

Rc、Rc〜Rcの有機基として、最も好ましくは1位がフッ素原子またはフロロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子またはフロロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子またはフロロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。 As the organic groups of Rc 1 and Rc 3 to Rc 5 , the most preferable one is an alkyl group substituted at the 1-position with a fluorine atom or a fluoroalkyl group, or a phenyl group substituted with a fluorine atom or a fluoroalkyl group. By having a fluorine atom or a fluoroalkyl group, the acidity of the acid generated by light irradiation is increased and the sensitivity is improved.

201、R202およびR203としての有機基の炭素数は、一般的に1〜30、好ましくは1〜20である。
また、R201〜R203のうち2つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。R201〜R203の内の2つが結合して形成する基としては、アルキレン基(例えば、ブチレン基、ペンチレン基)を挙げることができる。
The carbon number of the organic group as R 201, R 202 and R 203 is generally from 1 to 30, preferably 1 to 20.
Two of R 201 to R 203 may be bonded to form a ring structure, and the ring may contain an oxygen atom, a sulfur atom, an ester bond, an amide bond, or a carbonyl group. Examples of the group formed by combining two of R 201 to R 203 include an alkylene group (eg, butylene group, pentylene group).

201、R202およびR203としての有機基の具体例としては、後述する化合物(b1−1)、(b1−2)、(b1−3)における対応する基を挙げることができる。 Specific examples of the organic group as R 201 , R 202 and R 203 include corresponding groups in the compounds (b1-1), (b1-2) and (b1-3) described later.

なお、前記式(b1)で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式(b1)で表される化合物のR201〜R203のうち少なくともひとつが、式(b1)で表される他の化合物におけるR201〜R203の少なくともひとつと直接、または、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。 In addition, the compound which has two or more structures represented by the said formula (b1) may be sufficient. For example, at least one of R 201 to R 203 of a compound represented by the formula (b1) is at least one directly with R 201 to R 203 of another compound represented by formula (b1), or a linking group It may be a compound having a structure bonded via

さらに好ましい(b1)成分として、以下に説明する化合物(b1−1)、(b1−2)、および(b1−3)を挙げることができる。   More preferable components (b1) include compounds (b1-1), (b1-2), and (b1-3) described below.

化合物(b1−1)は、上記式(b1)のR201〜R203の少なくとも1つがアリール基である、アリールスルホニム化合物、即ち、アリールスルホニウムをカチオンとする化合物である。 Compound (b1-1) is in which at least one aryl group R 201 to R 203 in formula (b1), arylsulfonium compound, i.e., a compound having arylsulfonium as a cation.

アリールスルホニウム化合物は、R201〜R203の全てがアリール基でもよいし、R201〜R203の一部がアリール基で、残りがアルキル基、シクロアルキル基でもよい。 In the arylsulfonium compound, all of R 201 to R 203 may be an aryl group, or a part of R 201 to R 203 may be an aryl group, and the rest may be an alkyl group or a cycloalkyl group.

アリールスルホニウム化合物としては、例えば、トリアリールスルホニウム化合物、ジアリールアルキルスルホニウム化合物、アリールジアルキルスルホニウム化合物、ジアリールシクロアルキルスルホニウム化合物、アリールジシクロアルキルスルホニウム化合物等を挙げることができる。   Examples of the arylsulfonium compound include triarylsulfonium compounds, diarylalkylsulfonium compounds, aryldialkylsulfonium compounds, diarylcycloalkylsulfonium compounds, aryldicycloalkylsulfonium compounds, and the like.

アリールスルホニウム化合物のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などのアリール基、インドール残基、ピロール残基、などのヘテロアリール基が好ましく、さらに好ましくはフェニル基、インドール残基である。アリールスルホニム化合物が2つ以上のアリール基を有する場合に、2つ以上あるアリール基は同一であっても異なっていてもよい。   The aryl group of the arylsulfonium compound is preferably an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, or a heteroaryl group such as an indole residue or a pyrrole residue, and more preferably a phenyl group or an indole residue. When the arylsulfonium compound has two or more aryl groups, the two or more aryl groups may be the same or different.

アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているアルキル基としては、炭素数1〜15の直鎖または分岐状アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等を挙げることができる。
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているシクロアルキル基としては、炭素数3〜15のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
As the alkyl group that the arylsulfonium compound has as necessary, a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is preferable. For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, sec -A butyl group, a t-butyl group, etc. can be mentioned.
The cycloalkyl group that the arylsulfonium compound has as necessary is preferably a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group.

201〜R203のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、アルキル基(例えば炭素数1〜15)、シクロアルキル基(例えば炭素数3〜15)、アリール基(例えば炭素数6〜14)、アルコキシ基(例えば炭素数1〜15)、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基を置換基として有してもよい。好ましい置換基としては、炭素数1〜12の直鎖または分岐状アルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜12の直鎖、分岐または環状のアルコキシ基であり、最も好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基である。置換基は、3つのR201〜R203のうち、いずれか1つに置換していてもよいし、3つ全てに置換していてもよい。また、R201〜R203がアリール基の場合に、置換基はアリール基のp−位に置換していることが好ましい。 The aryl group, alkyl group and cycloalkyl group of R 201 to R 203 are an alkyl group (for example, 1 to 15 carbon atoms), a cycloalkyl group (for example, 3 to 15 carbon atoms), an aryl group (for example, 6 to 14 carbon atoms). , An alkoxy group (for example, having 1 to 15 carbon atoms), a halogen atom, a hydroxyl group, or a phenylthio group may be substituted. Preferable substituents are a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and most preferable. Is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. The substituent may be substituted with any one of the three R 201 to R 203 , or may be substituted with all three. When R 201 to R 203 are an aryl group, the substituent is preferably substituted at the p-position of the aryl group.

次に、化合物(b1−2)について説明する。
化合物(b1−2)は、式(b1)におけるR201〜R203が、各々独立に、芳香環を含有しない有機基を表す場合の化合物である。ここで芳香環とは、ヘテロ原子を含有する芳香族環も包含するものである。
201〜R203としての芳香環を含有しない有機基は、一般的に炭素数1〜30、好ましくは炭素数1〜20である。
201〜R203は、各々独立に、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、ビニル基であり、より好ましくは直鎖、分岐、環状2−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、特に好ましくは直鎖、分岐2−オキソアルキル基である。
Next, the compound (b1-2) will be described.
The compound (b1-2) is a compound when R 201 to R 203 in the formula (b1) each independently represents an organic group that does not contain an aromatic ring. Here, the aromatic ring includes an aromatic ring containing a hetero atom.
The organic group not containing an aromatic ring as R 201 to R 203 generally has 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms.
R 201 to R 203 are each independently preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an allyl group, or a vinyl group, more preferably a linear, branched, cyclic 2-oxoalkyl group, or an alkoxycarbonylmethyl group, particularly preferably Is a linear, branched 2-oxoalkyl group.

201〜R203としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数1〜10の直鎖または分岐アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基)を挙げることができ、直鎖、分岐2−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基がより好ましい。 The alkyl group as R 201 to R 203 may be either linear or branched, and is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group). Group, a butyl group, a pentyl group), and a linear, branched 2-oxoalkyl group, and an alkoxycarbonylmethyl group are more preferable.

201〜R203としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数3〜10のシクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基)を挙げることができ、環状2−オキソアルキル基がより好ましい。 The cycloalkyl group as R 201 to R 203 preferably includes a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms (cyclopentyl group, cyclohexyl group, norbornyl group), and a cyclic 2-oxoalkyl group is more preferable.

201〜R203の直鎖、分岐、環状2−オキソアルキル基としては、好ましくは、上記のアルキル基、シクロアルキル基の2位に>C=Oを有する基を挙げることができる。
201〜R203としてのアルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基としては、好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基)を挙げることができる。
201〜R203は、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、炭素数1〜5)、水酸基、シアノ基、ニトロ基によってさらに置換されていてもよい。
Preferred examples of the linear, branched and cyclic 2-oxoalkyl group represented by R 201 to R 203 include a group having> C═O at the 2-position of the above alkyl group or cycloalkyl group.
The alkoxy group in the alkoxycarbonylmethyl group as R 201 to R 203 is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentoxy group).
R 201 to R 203 may be further substituted with a halogen atom, an alkoxy group (eg, having 1 to 5 carbon atoms), a hydroxyl group, a cyano group, or a nitro group.

化合物(b1−3)とは、下記式(b1−3)で表される化合物であり、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物である。   The compound (b1-3) is a compound represented by the following formula (b1-3), and is a compound having a phenacylsulfonium salt structure.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

上記式(b1−3)において、R1c〜R5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子を表す。
6cおよびR7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。
およびRは、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、またはビニル基を表す。
1c〜R5c中のいずれか2つ以上、R6cとR7c、および、RとRは、それぞれ結合して環構造を形成してもよい。
Zc-は、非求核性アニオンを表し、式(b1)におけるX-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
In the above formula (b1-3), R 1c to R 5c each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.
R 6c and R 7c each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a cycloalkyl group.
R x and R y each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an allyl group, or a vinyl group.
Any two or more of R 1c to R 5c , R 6c and R 7c , and R x and R y may be bonded to each other to form a ring structure.
Zc represents a non-nucleophilic anion, and examples thereof include the same as the non-nucleophilic anion of X in formula (b1).

1c〜R7cとしてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、例えば炭素数1〜20個、好ましくは炭素数1〜12個の直鎖および分岐アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、直鎖または分岐プロピル基、直鎖または分岐ブチル基、直鎖または分岐ペンチル基)を挙げることができる。 The alkyl group as R 1c to R 7c may be either linear or branched, and for example, a linear and branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms (for example, Methyl group, ethyl group, linear or branched propyl group, linear or branched butyl group, linear or branched pentyl group).

1c〜R7cのシクロアルキル基として、好ましくは、炭素数3〜8個のシクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基)を挙げることができる。 Preferred examples of the cycloalkyl group represented by R 1c to R 7c include cycloalkyl groups having 3 to 8 carbon atoms (for example, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group).

1c〜R5cとしてのアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えば炭素数1〜10のアルコキシ基、好ましくは、炭素数1〜5の直鎖および分岐アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、直鎖または分岐プロポキシ基、直鎖または分岐ブトキシ基、直鎖または分岐ペントキシ基)、炭素数3〜8の環状アルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基)を挙げることができる。 The alkoxy group as R 1c to R 5c may be linear, branched or cyclic, for example, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. (For example, methoxy group, ethoxy group, linear or branched propoxy group, linear or branched butoxy group, linear or branched pentoxy group), cyclic alkoxy group having 3 to 8 carbon atoms (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group) ).

1c〜R5c中のいずれか2つ以上、R6cとR7c、および、RとRが結合して形成する基としては、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることができる。この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。 Examples of the group formed by combining any two or more of R 1c to R 5c , R 6c and R 7c , and R x and R y include a butylene group and a pentylene group. This ring structure may contain an oxygen atom, a sulfur atom, an ester bond, or an amide bond.

好ましくはR1c〜R5cのうちいずれかが直鎖状もしくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基または直鎖、分岐、環状アルコキシ基であり、さらに好ましくはR1cからR5cの炭素数の和が2〜15である。これにより、溶剤溶解性がより向上し、保存時にパーティクルの発生が抑制されるので好ましい。 Preferably, any one of R 1c to R 5c is a linear or branched alkyl group, a cycloalkyl group, or a linear, branched or cyclic alkoxy group, and more preferably the sum of the carbon number of R 1c to R 5c is 2-15. This is preferable because solvent solubility is further improved and generation of particles is suppressed during storage.

およびRとしてのアルキル基、シクロアルキル基は、R1c〜R7cとしてのアルキル基、シクロアルキル基と同様のものを挙げることができる。
およびRは、2−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基であることが好ましい。
2−オキソアルキル基は、R1c〜R5cとしてのアルキル基、シクロアルキル基の2位に>C=Oを有する基を挙げることができる。
アルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基については、R1c〜R5cとしてのアルコキシ基と同様のものを挙げることができる。
Examples of the alkyl group and cycloalkyl group as R x and R y include the same alkyl groups and cycloalkyl groups as R 1c to R 7c .
R x and R y are preferably a 2-oxoalkyl group or an alkoxycarbonylmethyl group.
Examples of the 2-oxoalkyl group include a group having> C═O at the 2-position of the alkyl group or cycloalkyl group as R 1c to R 5c .
The alkoxy group in the alkoxycarbonylmethyl group may be the same as the alkoxy group as R 1c to R 5c.

、Rは、好ましくは炭素数4以上のアルキル基、シクロアルキル基であり、より好ましくは炭素数6個以上のアルキル基、シクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数8個以上のアルキル基、シクロアルキル基である。 R x and R y are preferably an alkyl group or cycloalkyl group having 4 or more carbon atoms, more preferably an alkyl group or cycloalkyl group having 6 or more carbon atoms, and still more preferably 8 or more carbon atoms. An alkyl group and a cycloalkyl group;

式(b2)、(b3)中、R204〜R207は、各々独立に、アリール基、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。X-は、非求核性アニオンを表し、式(b1)におけるX-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。 In formulas (b2) and (b3), R 204 to R 207 each independently represents an aryl group, an alkyl group, or a cycloalkyl group. X represents a non-nucleophilic anion, and examples thereof include the same as the non-nucleophilic anion of X in formula (b1).

204〜R207のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましく、さらに好ましくはフェニル基である。
204〜R207としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数1〜10の直鎖または分岐アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基)を挙げることができる。R204〜R207としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数3〜10のシクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基)を挙げることができる。
204〜R207が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基(例えば、炭素数1〜15)、シクロアルキル基(例えば、炭素数3〜15)、アリール基(例えば、炭素数6〜15)、アルコキシ基(例えば、炭素数1〜15)、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。
The aryl group of R 204 to R 207, a phenyl group, a naphthyl group are preferred, more preferably a phenyl group.
The alkyl group as R 204 to R 207 may be either linear or branched, and is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group). Group, butyl group, pentyl group). The cycloalkyl group as R 204 to R 207 is preferably, and a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms (e.g., cyclopentyl, cyclohexyl, norbornyl).
Examples of the substituent that R 204 to R 207 may have include, for example, an alkyl group (eg, having 1 to 15 carbon atoms), a cycloalkyl group (eg, having 3 to 15 carbon atoms), an aryl group (eg, carbon (Chemical formula 6-15), an alkoxy group (for example, C1-C15), a halogen atom, a hydroxyl group, a phenylthio group etc. can be mentioned.

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物として、さらに、下記式(b4)、(b5)、(b6)で表される化合物を挙げることができる。   Examples of the compound that generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation further include compounds represented by the following formulas (b4), (b5), and (b6).

Figure 2009114290
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式(b4)〜(b6)中、ArおよびArは、各々独立に、アリール基を表す。
206、R207およびR208は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表す。
Aは、アルキレン基、アルケニレン基、またはアリーレン基を表す。
In formulas (b4) to (b6), Ar 3 and Ar 4 each independently represent an aryl group.
R 206 , R 207 and R 208 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group.
A represents an alkylene group, an alkenylene group, or an arylene group.

放射線の照射により酸を発生する化合物の中でも好ましいものとしては、式(b1)〜(b3)で表される化合物を挙げることができる。これらの中でも、スルホニウム塩構造を有するものが好ましく、トリアリールスルホニウム塩構造を有するものがより好ましく、トリ(クロロフェニル)スルホニウム塩構造を有するものが特に好ましい。トリ(クロロフェニル)スルホニウム塩構造を有する重合開始剤としては、例えば、重合開始剤の好ましい化合物例として以下に列挙される、化合物例(b−37)〜(b−40)が挙げられる。   Among the compounds that generate an acid upon irradiation with radiation, preferred are compounds represented by formulas (b1) to (b3). Among these, those having a sulfonium salt structure are preferable, those having a triarylsulfonium salt structure are more preferable, and those having a tri (chlorophenyl) sulfonium salt structure are particularly preferable. Examples of the polymerization initiator having a tri (chlorophenyl) sulfonium salt structure include compound examples (b-37) to (b-40) listed below as preferred compound examples of the polymerization initiator.

本発明に用いることのできる重合開始剤(放射線の照射により酸を発生する化合物)の好ましい化合物例〔(b−1)〜(b−96)〕を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Preferable compound examples [(b-1) to (b-96)] of polymerization initiators (compounds that generate an acid upon irradiation with radiation) that can be used in the present invention are listed below, but the present invention is limited to these. Is not to be done.

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また、特開2002−122994号公報、段落番号〔0029〕乃至〔0030〕に記載のオキサゾール誘導体、s−トリアジン誘導体なども好適に用いられる。
特開2002−122994号公報、段落番号〔0037〕乃至〔0063〕に例示されるオニウム塩化合物、スルホネート系化合物も本発明に好適に使用しうる。
Further, oxazole derivatives and s-triazine derivatives described in JP-A No. 2002-122994, paragraph numbers [0029] to [0030] are also preferably used.
The onium salt compounds and sulfonate compounds exemplified in JP-A-2002-122994, paragraphs [0037] to [0063] can also be suitably used in the present invention.

−ラジカル重合開始剤−
本発明において、例えば、重合性化合物として、ラジカル重合性化合物が用いられる場合、以下に示すような従来公知のラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。これらの化合物を用いることにより、ラジカル重合開始剤から発生したラジカル等により、前記したラジカル重合性化合物の重合反応が生起し、硬化する。
-Radical polymerization initiator-
In the present invention, for example, when a radical polymerizable compound is used as the polymerizable compound, it is preferable to use a conventionally known radical polymerization initiator as shown below. By using these compounds, the polymerization reaction of the radically polymerizable compound described above is caused by the radicals generated from the radical polymerization initiator, and is cured.

ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンジル誘導体、ベンゾイン誘導体、ベンゾインエーテル誘導体、ベンジルジアルキルケタール誘導体、チオキサントン誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体、金属錯体、p−ジアルキルアミノ安息香酸、アゾ化合物、パーオキシド化合物等が一般的に知られ、中でも、アセトフェノン誘導体、ベンジル誘導体、ベンゾインエーテル誘導体、ベンジルジアルキルケタール誘導体、チオキサントン誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体が好ましく、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテル誘導体、ベンジルジアルキルケタール誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体が特に好ましい。   As radical polymerization initiators, acetophenone derivatives, benzophenone derivatives, benzyl derivatives, benzoin derivatives, benzoin ether derivatives, benzyldialkyl ketal derivatives, thioxanthone derivatives, acylphosphine oxide derivatives, metal complexes, p-dialkylaminobenzoic acids, azo compounds, Peroxide compounds are generally known, among which acetophenone derivatives, benzyl derivatives, benzoin ether derivatives, benzyl dialkyl ketal derivatives, thioxanthone derivatives, acylphosphine oxide derivatives are preferred, acetophenone derivatives, benzoin ether derivatives, benzyl dialkyl ketal derivatives, Acylphosphine oxide derivatives are particularly preferred.

ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、p,p’−ジクロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,2−ジメチルプロピオイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、2−メチル−2−エチルヘキサノイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6−ジメチルベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6−ジメトキシベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、2,3,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,3,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメトキシベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリクロロベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル ナフチルフォスフォネート、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フィニル)チタニウム、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジエチルアミノ安息香酸、アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、ベンゾインパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of radical polymerization initiators include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, p, p'-dichlorobenzophenone, p, p'-bisdiethylamino. Benzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-propyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthone, 2-chloro Thioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,2-dimethylpropioyl diphenylphosphine oxide, 2-methyl-2 -Ethylhexanoyl diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl diphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, bis (2,6- Dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, 2,3,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, bis (2,3,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4 , 6-Trimethoxybenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,4,6-trichlorobenzoyl diphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl naphthylphospho Bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -finyl) titanium, p-dimethylaminobenzoic acid, Examples include p-diethylaminobenzoic acid, azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), benzoin peroxide, di-tert-butyl peroxide, and the like.

さらにラジカル重合開始剤の他の例としては、加藤清視著「紫外線硬化システム」(株式会社総合技術センター発行:平成元年)の第65〜148頁に記載されている光重合開始剤などを挙げることができる。
これらの光重合開始剤は1種あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、後述する増感剤と併用してもよい。
Furthermore, other examples of radical polymerization initiators include photopolymerization initiators described on pages 65 to 148 of “UV Curing System” written by Kayo Kiyomi (General Technology Center Co., Ltd .: 1989). Can be mentioned.
These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with a sensitizer described later.

また、光重合開始剤は、80℃まで熱分解を起こさないものであることが好ましい。80℃以下で熱分解を起こす開始剤を用いると、製品保存上問題があるため好ましくない。   Moreover, it is preferable that a photoinitiator does not raise | generate a thermal decomposition to 80 degreeC. Use of an initiator that causes thermal decomposition at 80 ° C. or lower is not preferable because there is a problem in product storage.

重合開始剤は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
光硬化性組成物中の重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物の全固形分換算で、0.1質量%〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5質量%〜10質量%、さらに好ましくは1質量%〜7質量%である。
A polymerization initiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content of the polymerization initiator in the photocurable composition is preferably 0.1% by mass to 20% by mass, more preferably 0.5% by mass to 10% by mass in terms of the total solid content of the photocurable composition. %, More preferably 1% by mass to 7% by mass.

<その他の成分>
以下に、必要に応じて本発明に用いることのできる種々の添加剤について述べる。
<Other ingredients>
The various additives that can be used in the present invention as necessary are described below.

−紫外線吸収剤−
本発明においては、得られる硬化物の耐候性向上、退色防止の観点から、紫外線吸収剤を用いることができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、特開昭58−185677号公報、同61−190537号公報、特開平2−782号公報、同5−197075号公報、同9−34057号公報等に記載されたベンゾトリアゾール系化合物、特開昭46−2784号公報、特開平5−194483号公報、米国特許第3214463号等に記載されたベンゾフェノン系化合物、特公昭48−30492号公報、同56−21141号公報、特開平10−88106号公報等に記載された桂皮酸系化合物、特開平4−298503号公報、同8−53427号公報、同8−239368号公報、同10−182621号公報、特表平8−501291号公報等に記載されたトリアジン系化合物、リサーチディスクロージャーNo.24239号に記載された化合物やスチルベン系、ベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物、いわゆる蛍光増白剤、などが挙げられる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、固形分換算で0.5質量%〜15質量%であることが好ましい。
-UV absorber-
In the present invention, an ultraviolet absorber can be used from the viewpoint of improving the weather resistance of the resulting cured product and preventing discoloration.
Examples of the ultraviolet absorber are described in JP-A-58-185679, JP-A-61-190537, JP-A-2-782, JP-A-5-97075, JP-A-9-34057, and the like. Benzotriazole compounds, benzophenone compounds described in JP-A No. 46-2784, JP-A No. 5-194843, US Pat. No. 3,214,463, etc., JP-B Nos. 48-30492 and 56-21141 Cinnamic acid compounds described in JP-A-10-88106, JP-A-4-298503, JP-A-8-53427, JP-A-8-239368, JP-A-10-182621, JP The triazine compounds described in JP-A-8-501291, Research Disclosure No. Examples thereof include compounds described in No. 24239, compounds that emit ultraviolet light by absorbing ultraviolet rays typified by stilbene and benzoxazole compounds, so-called fluorescent brighteners, and the like.
The addition amount is appropriately selected according to the purpose, but generally it is preferably 0.5% by mass to 15% by mass in terms of solid content.

−増感剤−
増感剤は、単独では光照射によって活性化しないが、重合開始剤と一緒に使用した場合に重合開始剤単独で用いた場合よりも効果があるもので、一般にアミン類が用いられる。 アミン類の添加により硬化速度が速くなるのは、第1に、水素引き抜き作用により重合開始剤に水素を供給するためであり、第2に、生成ラジカルが大気中の酸素分子と結合して反応性が悪くなるのに対して、アミンが組成中に溶け込んでいる酸素を捕獲する作用があるためである。
-Sensitizer-
Sensitizers are not activated by light irradiation alone, but are more effective when used together with a polymerization initiator than when used alone, and amines are generally used. The reason why the curing rate is increased by the addition of amines is to supply hydrogen to the polymerization initiator first by the hydrogen abstraction action, and secondly, the generated radicals react with oxygen molecules in the atmosphere to react. This is because the amine has an action of trapping oxygen dissolved in the composition, whereas the property is deteriorated.

増感剤として、具体的には、アミン化合物(脂肪族アミン、芳香族基を含むアミン、ピペリジン、エポキシ樹脂とアミンの反応生成物、トリエタノールアミントリアクリレートなど)、尿素化合物(アリルチオ尿素、o−トリルチオ尿素など)、イオウ化合物(ナトリウムジエチルジチオホスフェート、芳香族スルフィン酸の可溶性塩など)、ニトリル系化合物(N,N−ジエチル−p−アミノベンゾニトリルなど)、リン化合物(トリ−n−ブチルホスフィン、ナトリウムジエチルジチオホスファイドなど)、窒素化合物(ミヒラーケトン、N−ニトリソヒドロキシルアミン誘導体、オキサゾリジン化合物、テトラヒドロ−1,3−オキサジン化合物、ホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとジアミンの縮合物など)、塩素化合物(四塩化炭素、ヘキサクロロエタンなど)等が挙げられる。   Specific examples of the sensitizer include amine compounds (aliphatic amines, amines containing aromatic groups, piperidine, reaction products of epoxy resins and amines, triethanolamine triacrylate, etc.), urea compounds (allylthiourea, o -Tolylthiourea, etc.), sulfur compounds (sodium diethyldithiophosphate, soluble salts of aromatic sulfinic acid, etc.), nitrile compounds (N, N-diethyl-p-aminobenzonitrile, etc.), phosphorus compounds (tri-n-butyl, etc.) Phosphine, sodium diethyldithiophosphide, etc.), nitrogen compounds (Michler ketone, N-nitrisohydroxylamine derivatives, oxazolidine compounds, tetrahydro-1,3-oxazine compounds, formaldehyde or condensates of acetaldehyde and diamines), chlorine compounds (four Carbon, hexachloroethane, etc.) and the like.

また、本発明では、重合開始剤の酸発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、必要に応じ、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、重合開始剤に対し、電子移動機構またはエネルギー移動機構で増感させるものであれば、何れでもよい。好ましくは、アントラセン、9,10−ジアルコキシアントラセン、ピレン、ペリレンなどの芳香族多縮環化合物、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーケトンなどの芳香族ケトン化合物、フェノチアジン、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物が挙げられる。   In the present invention, a sensitizer may be added as necessary for the purpose of improving the acid generation efficiency of the polymerization initiator and increasing the photosensitive wavelength. Any sensitizer may be used as long as it sensitizes the polymerization initiator by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism. Preferably, aromatic polycondensed compounds such as anthracene, 9,10-dialkoxyanthracene, pyrene and perylene, aromatic ketone compounds such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone and Michlerketone, heterocyclic compounds such as phenothiazine and N-aryloxazolidinone Is mentioned.

増感剤の使用量は、重合開始剤と増感剤の選定や組み合わせ、使用する重合性化合物等適宜選定でき、一般には、光硬化性組成物に対し0〜10質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、0.2〜5質量%が特に好ましい。   The amount of the sensitizer used can be appropriately selected from the selection and combination of the polymerization initiator and the sensitizer, the polymerizable compound to be used, and the like. Generally, 0 to 10% by mass is preferable with respect to the photocurable composition. 1-10 mass% is more preferable, and 0.2-5 mass% is especially preferable.

−酸化防止剤−
組成物の安定性向上のため、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許、同第223739号公報、同309401号公報、同第309402号公報、同第310551号公報、同第310552号公報、同第459416号公報、ドイツ公開特許第3435443号公報、特開昭54−48535号公報、同62−262047号公報、同63−113536号公報、同63−163351号公報、特開平2−262654号公報、特開平2−71262号公報、特開平3−121449号公報、特開平5−61166号公報、特開平5−119449号公報、米国特許第4814262号明細書、米国特許第4980275号明細書等に記載のものを挙げることができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で0.1質量%〜8質量%であることが好ましい。
-Antioxidant-
An antioxidant can be added to improve the stability of the composition. Examples of the antioxidant include European published patents, 223739, 309401, 309402, 310551, 310552, 359416, and 3435443. JP, 54-85535, 62-262417, 63-113536, 63-163351, JP-A-2-262654, JP-A-2-71262, Examples thereof include those described in Kaihei 3-121449, JP-A-5-61166, JP-A-5-119449, US Pat. No. 4,814,262, US Pat. No. 4,980,275, and the like.
Although the addition amount is appropriately selected according to the purpose, it is preferably 0.1% by mass to 8% by mass in terms of solid content.

−褪色防止剤−
本発明には、各種の有機系および金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。前記有機系の褪色防止剤としては、ハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類、などが挙げられる。前記金属錯体系の褪色防止剤としては、ニッケル錯体、亜鉛錯体、などが挙げられ、具体的には、リサーチディスクロージャーNo.17643の第VIIのI〜J項、同No.15162、同No.18716の650頁左欄、同No.36544の527頁、同No.307105の872頁、同No.15162に引用された特許に記載された化合物や、特開昭62−215272号公報の127頁〜137頁に記載された代表的化合物の一般式および化合物例に含まれる化合物を使用することができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で0.1質量%〜8質量%であることが好ましい。
-Anti-fading agent-
In the present invention, various organic and metal complex anti-fading agents can be used. Examples of the organic anti-fading agent include hydroquinones, alkoxyphenols, dialkoxyphenols, phenols, anilines, amines, indanes, chromans, alkoxyanilines, and heterocycles. Examples of the metal complex anti-fading agent include nickel complexes and zinc complexes. No. 17643, No. VII, I to J, ibid. 15162, ibid. No. 18716, page 650, left column, ibid. No. 36544, page 527, ibid. No. 307105, page 872, ibid. The compounds described in the patent cited in No. 15162 and the compounds included in the general formulas and compound examples of representative compounds described in JP-A-62-215272, pages 127 to 137 can be used. .
Although the addition amount is appropriately selected according to the purpose, it is preferably 0.1% by mass to 8% by mass in terms of solid content.

−導電性塩類−
本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用のインク組成物として用いる場合、吐出物性の制御を目的として、チオシアン酸カリウム、硝酸リチウム、チオシアン酸アンモニウム、ジメチルアミン塩酸塩などの導電性塩類を添加することができる。
-Conductive salts-
When the photocurable composition of the present invention is used as an ink composition for inkjet recording, conductive salts such as potassium thiocyanate, lithium nitrate, ammonium thiocyanate and dimethylamine hydrochloride are added for the purpose of controlling ejection properties. can do.

−溶剤−
本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用のインク組成物として用いる場合、被記録媒体との密着性を改良するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。
溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、1−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、などが挙げられる。
この場合、耐溶剤性やVOCの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その量は光硬化性組成物全体に対し0.1質量%〜5質量%が好ましく、より好ましくは0.1質量%〜3質量%の範囲である。
-Solvent-
When the photocurable composition of the present invention is used as an ink composition for ink jet recording, it is also effective to add a trace amount of an organic solvent in order to improve the adhesion to a recording medium.
Examples of the solvent include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and diethyl ketone, alcohol solvents such as methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, 1-butanol, and tert-butanol, and chlorine such as chloroform and methylene chloride. Solvents, aromatic solvents such as benzene and toluene, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and isopropyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, glycols such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol dimethyl ether And ether solvents.
In this case, it is effective to add the solvent within a range that does not cause the problem of solvent resistance and VOC. It is in the range of 1% by mass to 3% by mass.

−高分子化合物−
本発明には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することができる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。これらのうち、アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合が好ましい。さらに、高分子結合材の共重合組成として、「カルボキシル基含有モノマー」、「メタクリル酸アルキルエステル」、または「アクリル酸アルキルエステル」を構造単位として含む共重合体も好ましく用いられる。
-Polymer compound-
Various polymer compounds can be added to the present invention in order to adjust film properties. High molecular compounds include acrylic polymers, polyvinyl butyral resins, polyurethane resins, polyamide resins, polyester resins, epoxy resins, phenol resins, polycarbonate resins, polyvinyl butyral resins, polyvinyl formal resins, shellacs, vinyl resins, acrylic resins. Rubber resins, waxes and other natural resins can be used. Two or more of these may be used in combination. Of these, vinyl copolymer obtained by copolymerization of acrylic monomers is preferred. Furthermore, as a copolymer composition of the polymer binder, a copolymer containing “carboxyl group-containing monomer”, “methacrylic acid alkyl ester”, or “acrylic acid alkyl ester” as a structural unit is also preferably used.

−界面活性剤−
本発明には、界面活性剤を添加してもよい。
界面活性剤としては、特開昭62−173463号、同62−183457号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。なお、前記界面活性剤の代わりに有機フルオロ化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物(例、フッ素油)および固体状フッ素化合物樹脂(例、四フッ化エチレン樹脂)が含まれ、特公昭57−9053号(第8〜17欄)、特開昭62−135826号の各公報に記載されたものが挙げられる。
-Surfactant-
A surfactant may be added to the present invention.
Examples of the surfactant include those described in JP-A Nos. 62-173463 and 62-183457. For example, anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene blocks Nonionic surfactants such as copolymers, and cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts. An organic fluoro compound may be used in place of the surfactant. The organic fluoro compound is preferably hydrophobic. Examples of the organic fluoro compounds include fluorine surfactants, oily fluorine compounds (eg, fluorine oil) and solid fluorine compound resins (eg, tetrafluoroethylene resin). No. (columns 8 to 17) and those described in JP-A Nos. 62-135826.

−貯蔵安定剤−
貯蔵安定剤は、光硬化性組成物の保存中の好ましくない重合を抑制するもので、光硬化性組成物に溶解できるものを用いる。例としては、4級アンモニウム塩、ヒドロキシアミン類、環状アミド類、ニトリル類、置換尿素類、複素環化合物、有機酸、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノエーテル類、有機ホスフィン類、銅化合物などが挙げられ、具体的にはベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ジエチルヒドロキシルアミン、ベンゾチアゾール、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、クエン酸、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ハイドロキノンモノブチルエーテル、ナフテン酸銅などが挙げられる。
-Storage stabilizer-
The storage stabilizer is used to suppress undesired polymerization during storage of the photocurable composition, and a storage stabilizer that can be dissolved in the photocurable composition is used. Examples include quaternary ammonium salts, hydroxyamines, cyclic amides, nitriles, substituted ureas, heterocyclic compounds, organic acids, hydroquinones, hydroquinone monoethers, organic phosphines, copper compounds, etc. Specific examples include benzyltrimethylammonium chloride, diethylhydroxylamine, benzothiazole, 4-amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, citric acid, hydroquinone monomethyl ether, hydroquinone monobutyl ether, and copper naphthenate.

貯蔵安定剤の使用量は用いる重合開始剤の活性や重合性化合物の重合性、貯蔵安定剤の種類に基づいて適宜調整するのが好ましいが、光硬化性組成物中に0.005〜1質量%が好ましく、0.01〜0.5質量%がより好ましく、0.01〜0.2質量%がさらに好ましい。添加量が少ないと保存安定性が劣り、添加量が多いと硬化が起こりにくいといった問題が生じる。   The amount of the storage stabilizer used is preferably adjusted as appropriate based on the activity of the polymerization initiator used, the polymerizability of the polymerizable compound, and the type of the storage stabilizer, but is 0.005 to 1 mass in the photocurable composition. % Is preferable, 0.01 to 0.5 mass% is more preferable, and 0.01 to 0.2 mass% is more preferable. If the addition amount is small, the storage stability is inferior, and if the addition amount is large, there is a problem that curing is difficult to occur.

この他にも、必要に応じて、例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのワックス類、ポリオレフィンやPET等の被記録媒体への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤーなどを含有させることができる。
タッキファイヤーとしては、具体的には、特開2001−49200号公報の5〜6pに記載されている高分子量の粘着性ポリマー(例えば、(メタ)アクリル酸と炭素数1〜20のアルキル基を有するアルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数3〜14の脂環属アルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数6〜14の芳香属アルコールとのエステルからなる共重合物)や、重合性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などである。
In addition to this, if necessary, for example, leveling additives, matting agents, waxes for adjusting film physical properties, polymerization to inhibit the adhesion to recording media such as polyolefin and PET, and the like, The tackifier which does not do can be contained.
As the tackifier, specifically, a high molecular weight adhesive polymer described in JP-A-2001-49200, 5-6p (for example, (meth) acrylic acid and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). An ester with an alcohol having, an ester of (meth) acrylic acid with an alicyclic alcohol having 3 to 14 carbon atoms, a copolymer comprising an ester of (meth) acrylic acid with an aromatic alcohol having 6 to 14 carbon atoms) And a low molecular weight tackifying resin having a polymerizable unsaturated bond.

(光硬化性組成物の好ましい態様)
本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用インクとして使用する場合には、吐出性を考慮し、吐出時の温度(例えば、40℃〜80℃、好ましくは25℃〜30℃)において、粘度が、好ましくは7mPa・s〜30mPa・sであり、より好ましくは7mPa・s〜20mPa・sである。例えば、本発明の光硬化性組成物の室温(25℃〜30℃)における粘度は、好ましくは35〜500mPa・s、より好ましくは35mPa・s〜200mPa・sである。本発明の光硬化性組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク浸透を回避し、未硬化モノマーの低減、臭気低減が可能となる。さらにインク液滴着弾時のインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善されるので好ましい。
(Preferred embodiment of the photocurable composition)
When the photocurable composition of the present invention is used as an ink for inkjet recording, the viscosity at the temperature at the time of discharge (for example, 40 ° C. to 80 ° C., preferably 25 ° C. to 30 ° C.) in consideration of discharge properties. However, it is preferably 7 mPa · s to 30 mPa · s, more preferably 7 mPa · s to 20 mPa · s. For example, the viscosity at room temperature (25 ° C. to 30 ° C.) of the photocurable composition of the present invention is preferably 35 to 500 mPa · s, more preferably 35 mPa · s to 200 mPa · s. It is preferable that the composition ratio of the photocurable composition of the present invention is appropriately adjusted so that the viscosity is in the above range. By setting the viscosity at room temperature high, even when a porous recording medium is used, ink penetration into the recording medium can be avoided, and uncured monomers and odors can be reduced. Furthermore, it is preferable that ink bleeding at the time of ink droplet landing can be suppressed, and as a result, the image quality is improved.

本発明の光硬化性組成物の表面張力は、好ましくは20mN/m〜30mN/m、より好ましくは23mN/m〜28mN/mである。ポリオレフィン、PET、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲みおよび浸透の観点から、20mN/m以上が好ましく、濡れ性の点はで30mN/m以下が好ましい。   The surface tension of the photocurable composition of the present invention is preferably 20 mN / m to 30 mN / m, more preferably 23 mN / m to 28 mN / m. When recording on various recording media such as polyolefin, PET, coated paper, and non-coated paper, 20 mN / m or more is preferable from the viewpoint of bleeding and penetration, and the wettability is preferably 30 mN / m or less.

本発明の光硬化性組成物は、インクジェット記録用インク組成物として好適に用いられる。インクジェット記録用インク組成物として用いる場合には、光硬化性組成物をインクジェットプリンターにより被記録媒体に射出し、その後、射出された光硬化性組成物に放射線を照射して硬化して記録を行う。   The photocurable composition of the present invention is suitably used as an ink composition for ink jet recording. When used as an ink composition for ink jet recording, a photocurable composition is ejected onto a recording medium by an ink jet printer, and then the ejected photocurable composition is cured by irradiation with radiation to perform recording. .

このインクにより得られた印刷物は、画像部が紫外線などの放射線照射により硬化しており、画像部の強度に優れるため、インクによる画像形成以外にも、例えば、平版印刷版のインク受容層(画像部)の形成など、種々の用途に使用しうる。   In the printed matter obtained with this ink, the image portion is cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays, and the strength of the image portion is excellent. Therefore, in addition to image formation with ink, for example, an ink receiving layer (image image of a lithographic printing plate) Part), and can be used for various purposes.

<インクジェット記録方法、および印刷物>
本発明の光硬化性組成物が好適に適用されるインクジェット記録方法(本発明のインクジェット記録方法)について、以下説明する。
本発明のインクジェット記録方法は、上記した本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用インク組成物として用い、これを被記録媒体(支持体、記録材料等)上に吐出する工程、および、吐出された光硬化性組成物に活性放射線を照射して光硬化性組成物を硬化する工程、を含むことを特徴とする。硬化した光硬化性組成物は、被記録媒体上に画像を形成する。
<Inkjet recording method and printed matter>
The ink jet recording method to which the photocurable composition of the present invention is suitably applied (the ink jet recording method of the present invention) will be described below.
The ink jet recording method of the present invention uses the above-described photocurable composition of the present invention as an ink composition for ink jet recording, and discharges the ink composition onto a recording medium (support, recording material, etc.) A step of irradiating the photocurable composition with active radiation to cure the photocurable composition. The cured photocurable composition forms an image on the recording medium.

本発明のインクジェット記録方法に適用しる被記録媒体としては、特に制限はなく、通常の非コート紙、コート紙などの紙類、いわゆる軟包装に用いられる各種非吸収性樹脂材料あるいは、それをフィルム状に成形した樹脂フィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルム、PEフィルム、TACフィルム等を挙げることができる。その他、被記録媒体材料として使用しうるプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、PVA、ゴム類などが挙げられる。また、金属類や、ガラス類も被記録媒体として使用可能である。
さらに、本発明に適用しうる被記録材料としては、平版印刷版の支持体が挙げられる。
The recording medium to be applied to the ink jet recording method of the present invention is not particularly limited, and various non-absorbing resin materials used for ordinary non-coated paper, coated paper, and so-called soft packaging, or the like. A resin film formed into a film can be used, and examples of the various plastic films include PET film, OPS film, OPP film, ONy film, PVC film, PE film, and TAC film. In addition, examples of the plastic that can be used as a recording medium material include polycarbonate, acrylic resin, ABS, polyacetal, PVA, and rubbers. Metals and glasses can also be used as the recording medium.
Furthermore, examples of the recording material applicable to the present invention include a lithographic printing plate support.

本発明のインクジェット記録方法に適用される活性放射線としては、α線、γ線、X線、紫外線、可視光線、赤外光線、電子線などが挙げられる。活性放射線のピーク波長は、200〜600nmであることが好ましく、300〜450nmであることがより好ましく、350〜420nmであることがさらに好ましい。また、活性放射線の出力は、2,000mJ/cm以下であることが好ましく、より好ましくは、10〜2,000mJ/cmであり、さらに好ましくは、20〜1,000mJ/cmであり、特に好ましくは、50〜800mJ/cmである。
特に、本発明のインクジェット記録方法では、放射線照射が、発光波長ピークが350〜420nmであり、かつ、前記被記録媒体表面での最高照度が10〜2,000mW/cmとなる紫外線を発生する発光ダイオードから照射されることが好ましい。
Examples of the actinic radiation applied to the ink jet recording method of the present invention include α rays, γ rays, X rays, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, and electron beams. The peak wavelength of the actinic radiation is preferably 200 to 600 nm, more preferably 300 to 450 nm, and still more preferably 350 to 420 nm. The output of active radiation is preferably 2,000 mJ / cm 2 or less, more preferably from 10 to 2,000 mJ / cm 2, more preferably, be 20 to 1,000 mJ / cm 2 Particularly preferably, it is 50 to 800 mJ / cm 2 .
In particular, in the ink jet recording method of the present invention, the radiation irradiation generates ultraviolet rays having an emission wavelength peak of 350 to 420 nm and a maximum illuminance on the surface of the recording medium of 10 to 2,000 mW / cm 2. Irradiation from a light emitting diode is preferred.

本発明のインクジェット記録法により得られた印刷物は、本発明の光硬化性組成物により画像が形成されたものである。そのため、光堅牢性に優れた画像を有する印刷物となる。また、本発明の光硬化性組成物は、顔料ではなく油溶性の染料を用いているため、顔料利用に伴う分散性悪化を考慮する必要がなく、光硬化性組成物中により多くの染料を含有させることもできる。それゆえ、膜厚の薄い画像でも容易に鮮やかな発色を得ることができる。   The printed matter obtained by the ink jet recording method of the present invention is an image formed with the photocurable composition of the present invention. Therefore, it becomes a printed matter having an image excellent in light fastness. In addition, since the photocurable composition of the present invention uses an oil-soluble dye instead of a pigment, it is not necessary to consider the deterioration of dispersibility associated with the use of the pigment, and more dye is added to the photocurable composition. It can also be contained. Therefore, a vivid color can be easily obtained even with an image having a small film thickness.

−インクジェット記録装置−
本発明のインクジェット記録方法に適用しうるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、市販のインクジェット記録装置が使用できる。即ち、本発明においては、市販のインクジェット記録装置を用いて被記録媒体へ記録することができる。
本発明で用いることのできるインクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、活性放射線源を含むものが挙げられる。
インク供給系は、例えば、本発明の光硬化性組成物(本発明のインクジェット記録用インク組成物)を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなるものが挙げられる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、1pl〜100pl、好ましくは、8pl〜30plのマルチサイズドットを例えば、320dpi×320dpi〜4000dpi×4000dpi、好ましくは、400dpi×400dpi〜1600dpi×1600dpi、より好ましくは、720dpi×720dpiの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうdpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す。
-Inkjet recording device-
The ink jet recording apparatus applicable to the ink jet recording method of the present invention is not particularly limited, and a commercially available ink jet recording apparatus can be used. That is, in the present invention, recording can be performed on a recording medium using a commercially available inkjet recording apparatus.
Examples of the ink jet recording apparatus that can be used in the present invention include an ink supply system, a temperature sensor, and an actinic radiation source.
The ink supply system includes, for example, an original tank containing the photocurable composition of the present invention (ink composition for inkjet recording of the present invention), a supply pipe, an ink supply tank immediately before the inkjet head, a filter, and a piezo-type inkjet head. The thing which becomes. The piezo-type inkjet head has a multi-size dot of 1 pl to 100 pl, preferably 8 pl to 30 pl. It can drive so that it can discharge with the resolution of. In the present invention, dpi represents the number of dots per 2.54 cm.

上述したように、本発明のインクジェット記録用インク組成物の如き放射線硬化型インクは、吐出されるインクを一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱および加温を行うことができることが好ましい。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、あるいは熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うとともに、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。   As described above, the radiation curable ink such as the ink composition for ink jet recording according to the present invention desirably has a constant temperature for the ejected ink. It is preferred that the temperature can be achieved. The temperature control method is not particularly limited, but for example, it is preferable to provide a plurality of temperature sensors at each piping site and perform heating control according to the ink flow rate and the environmental temperature. The temperature sensor can be provided in the vicinity of the ink supply tank and the nozzle of the inkjet head. Further, the head unit to be heated is preferably thermally shielded or insulated so that the apparatus main body is not affected by the temperature from the outside air. In order to shorten the printer start-up time required for heating or to reduce the loss of thermal energy, it is preferable to insulate from other parts and reduce the heat capacity of the entire heating unit.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下において「部」および「%」は、特に断りがない限り、「質量部」および「質量%」を表す。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In the following, “parts” and “%” represent “parts by mass” and “% by mass” unless otherwise specified.

(実施例1−1)
−インク1−1の作製−
以下の成分を高速水冷式攪拌機により撹拌し、イエロー色のUVインクジェット用インクを得た。
(イエロー色インク組成物)
・Actilane 421 55.8部
(Akcros社製、アクリレートモノマー)
・Photomer 2017(EChem社製、UV希釈剤) 20.0部
・染料(DYE−1)(前記例示色素) 3.6部
・Genorad 16(Rahn社製、安定剤) 0.05部
・Rapi−Cure DVE−3 4.0部
(ISP Europe社製、ビニルエーテル)
・Lucirin TPO(BASF社製、光重合開始剤) 8.5部
・ベンゾフェノン(光重合開始剤) 4.0部
・Irgacure 184 4.0部
(Ciba Specialty Chemicals社製、光重合開始剤)
・Byk 307(BYK Chemie社製、消泡剤) 0.05部
(Example 1-1)
-Preparation of ink 1-1-
The following components were stirred with a high-speed water-cooled stirrer to obtain a yellow UV inkjet ink.
(Yellow color ink composition)
-Actilane 421 55.8 parts (Akcros acrylate monomer)
・ Photomer 2017 (manufactured by EChem, UV diluent) 20.0 parts ・ Dye (DYE-1) (previously exemplified pigment) 3.6 parts ・ Genorad 16 (manufactured by Rahn, stabilizer) 0.05 part ・ Rapi- Cure DVE-3 4.0 parts (manufactured by ISP Europe, vinyl ether)
・ Lucirin TPO (manufactured by BASF, photopolymerization initiator) 8.5 parts ・ benzophenone (photopolymerization initiator) 4.0 parts ・ Irgacure 184 4.0 parts (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, photopolymerization initiator)
・ Byk 307 (by anti-foaming agent manufactured by BYK Chemie) 0.05 parts

製造したイエロー色インクをPET製のシート上に印刷し、そして鉄ドープ処理した紫外線ランプ(パワー120W/cm)の光線下に40m/minの速度で通過させることにより照射を行ってインクを硬化させ、印刷物を得た。   The produced yellow color ink is printed on a sheet made of PET, and cured by passing through an iron-doped ultraviolet lamp (power 120 W / cm) at a speed of 40 m / min to cure the ink. A printed matter was obtained.

(インクの評価)
前述のようにして得られたインク1−1(光硬化性組成物)の吐出安定性、および保存安定性について、また、上記のようにして得られた印刷物の硬化性、および耐光性について、以下のようにして評価を行った。
(Evaluation of ink)
Regarding the ejection stability and storage stability of the ink 1-1 (photocurable composition) obtained as described above, and the curability and light resistance of the printed matter obtained as described above, Evaluation was performed as follows.

(硬化性)
硬化性は、このインク1−1による印刷物の硬化後の画像部を触診により評価した。
評価指標は以下の通りである。
A:硬化性 良好(べたつきが無いもの)。
B:硬化性 許容(べたつきが少しあるが接触したものを汚すほどではないもの)。
C:硬化性 不良(べたつきが著しいもの)。
(Curable)
Curability was evaluated by palpation of the image area after the printed material was cured with this ink 1-1.
The evaluation index is as follows.
A: Curability is good (no stickiness).
B: Curability Acceptable (Slightly sticky but not so much as to contaminate the contacted object).
C: Hardness is poor (stickiness is remarkable).

(耐光性)
前述のようにして得られた印刷物の画像部に、ウェザーメーター(アトラスC.I65)を用いて、キセノン光(140000lx)を14日間照射し、キセノン照射前後の画像濃度を、反射濃度計(X−Rite310TR)を用いて測定し、色素残存率を評価した。
評価指標は以下の通りである。
A:耐光性 良好(色素残存率 >80%)。
B:耐光性 許容(色素残存率 40〜80%)。
C:耐光性 不良(色素残存率 <40%)。
(Light resistance)
The image portion of the printed matter obtained as described above was irradiated with xenon light (140000 lx) for 14 days using a weather meter (Atlas C.I65), and the image density before and after the xenon irradiation was measured using a reflection densitometer (X -Rite310TR), and the dye residual ratio was evaluated.
The evaluation index is as follows.
A: Light resistance is good (dye residual ratio> 80%).
B: Light resistance acceptable (dye residual ratio 40-80%).
C: Poor light resistance (dye residual ratio <40%).

(吐出安定性)
前述のようにして得られたインク1−1を、下記のインクジェットプリンタを用いて、30分間連続吐出後、印字物上でノズル詰りによる欠陥(未印字部の有無)、印字ドット周辺の設定していない微小なドット(サテライト)の有無を目視により評価した。
インクジェットプリンタとしては、ヘッドとして、せん断モードピエゾヘッド(コニカミノルタ社製KM512SH:最小液滴量4pL、ノズル数512個、ノズル密度360ノズル/25.4mm)を3個、ノズルが千鳥状に配列されるように3被記録媒体移動方向に並べた、ノズル密度1080dpiヘッドユニットを、被記録媒体の幅方向に印字可能なように、15セット配設したワンパスヘッドユニット(記録幅542mm)を搭載したものである。
評価指標は以下の通りである。
A:ノズル欠陥およびサテライトの発生が無い。
B:ノズル欠陥またはサテライトが僅かに発生。
C:ノズル欠陥またはサテライトが顕著に発生。
(Discharge stability)
After the ink 1-1 obtained as described above is continuously ejected for 30 minutes using the ink jet printer described below, defects due to nozzle clogging (the presence or absence of unprinted parts) on the printed matter and the setting around the printing dots are set. The presence or absence of minute dots (satellite) that were not observed was visually evaluated.
As an inkjet printer, three shear mode piezo heads (KM512SH manufactured by Konica Minolta, minimum droplet volume 4 pL, nozzle number 512, nozzle density 360 nozzles / 25.4 mm) are arranged as a head, and the nozzles are arranged in a staggered manner. Mounted with 15 sets of one-pass head units (recording width of 542 mm) so that the nozzle density of 1080 dpi head units arranged in the moving direction of the recording medium can be printed in the width direction of the recording medium. It is.
The evaluation index is as follows.
A: No nozzle defects or satellites are generated.
B: Nozzle defects or satellites are slightly generated.
C: Nozzle defects or satellites are remarkably generated.

(保存安定性)
前述のようにして得られたインク1−1を、75%RH、60℃で3日保存した後、吐出温度(45℃)でのインク粘度を測定し、インク粘度の増加分を、粘度比(保存後の粘度/保存前の粘度の比)として評価した。粘度が変化せず1.0に近いほうが保存安定性が良好であり、1.5を超えると射出時に目詰まりを起こす場合があり好ましくない。
具体的な評価指標は以下の通りである。
A:保存安定性 良好(粘度比が1以上1.2未満)。
B:保存安定性 許容(粘度比が1.2以上1.5未満)。
C:保存安定性 不良(粘度比が1.5以上)。
(Storage stability)
After the ink 1-1 obtained as described above was stored at 75% RH and 60 ° C. for 3 days, the ink viscosity at the discharge temperature (45 ° C.) was measured, and the increase in the ink viscosity was determined as the viscosity ratio. It was evaluated as (ratio of viscosity after storage / viscosity before storage). If the viscosity does not change and is close to 1.0, the storage stability is good, and if it exceeds 1.5, clogging may occur at the time of injection, which is not preferable.
Specific evaluation indexes are as follows.
A: Storage stability is good (viscosity ratio is 1 or more and less than 1.2).
B: Storage stability acceptable (viscosity ratio is 1.2 or more and less than 1.5).
C: Storage stability is poor (viscosity ratio is 1.5 or more).

(実施例1−2〜1−5および比較例1−1〜1−4)
<インク1−2〜1−9の作製>
前記インク1−1の作製において、染料(DYE−1)を、以下に記載の染料または比較化合物に代え、また、必要に応じて、他の組成を変更した以外は、前記インク1−1の作製と同様にして、インク組成物を調製し、評価した。
(Examples 1-2 to 1-5 and Comparative Examples 1-1 to 1-4)
<Preparation of Inks 1-2 to 1-9>
In the preparation of the ink 1-1, the dye (DYE-1) was replaced with the dye or the comparative compound described below, and other compositions were changed as necessary. Ink compositions were prepared and evaluated in the same manner as in the production.

(実施例1−2)
<インク1−2>
染料としてDYE−1の代わりにDYE−6を用いた。
(Example 1-2)
<Ink 1-2>
DYE-6 was used instead of DYE-1 as the dye.

(実施例1−3)
<インク1−3>
染料としてDYE−1の代わりにDYE−10を用いた。
(Example 1-3)
<Ink 1-3>
DYE-10 was used instead of DYE-1 as a dye.

(実施例1−4)
<インク1−4>
染料としてDYE−1の代わりにDYE−13を用いた。
(Example 1-4)
<Ink 1-4>
DYE-13 was used in place of DYE-1 as the dye.

(実施例1−5)
<インク1−5>
染料としてDYE−1の代わりにDYE−24を用いた。
(Example 1-5)
<Ink 1-5>
As a dye, DYE-24 was used instead of DYE-1.

(比較例1−1)
<インク1−6>
染料(DYE−1)の代わりに比較化合物としてCromophtal Yellow LA (Ciba Specialty Chemicals社製、顔料)を用い、また、分散剤として、Solsperse 32000(Noveon社製)0.4部を添加し、さらに、Actilane 421(Akcros社製、アクリレートモノマー)を55.4部に変えた。
(Comparative Example 1-1)
<Ink 1-6>
In place of the dye (DYE-1), Chrophtal Yellow LA (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, pigment) is used as a comparative compound, and 0.4 part of Solsperse 32000 (manufactured by Noveon) is added as a dispersant. Actilane 421 (Akcros, acrylate monomer) was changed to 55.4 parts.

(比較例1−2)
<インク1−7>
染料(DYE−1)の代わりに下記構造式で示される比較化合物Aを用いた。
(Comparative Example 1-2)
<Ink 1-7>
Comparative compound A represented by the following structural formula was used in place of the dye (DYE-1).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

(比較例1−3)
<インク1−8>
染料(DYE−1)の代わりに下記構造式で示される比較化合物Bを用いた。
(Comparative Example 1-3)
<Ink 1-8>
Comparative compound B represented by the following structural formula was used in place of the dye (DYE-1).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

(比較例1−4)
<インク1−9>
染料(DYE−1)の代わりに下記構造式で示される比較化合物Cを用いた。
(Comparative Example 1-4)
<Ink 1-9>
Comparative compound C represented by the following structural formula was used in place of the dye (DYE-1).

Figure 2009114290
Figure 2009114290

得られたインク1−1〜1−9の評価結果をまとめて下記表1に示す。   The evaluation results of the obtained inks 1-1 to 1-9 are summarized in Table 1 below.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

表1の結果から明らかなように、一般式(I)で表される染料を含む本発明のインク(インク1−1〜1−5)は従来の顔料を用いたインク(インク1−6)と比較し硬化性や耐光性、保存安定性は同等性能でありながら問題であった吐出安定性を大きく改善したことがわかる。
また、インク1−1〜1−5と、従来の染料を用いたインク(インク1−7〜1−9)とを比較しても、耐光性、保存安定性が大きく改善していることがわかる。
As is apparent from the results in Table 1, the inks (inks 1-1 to 1-5) of the present invention containing the dye represented by the general formula (I) are inks using conventional pigments (inks 1-6). It can be seen that the ejection stability, which is a problem, is greatly improved while the curability, light resistance, and storage stability are equivalent to those of
Further, even when the ink 1-1 to 1-5 is compared with the ink using the conventional dye (ink 1-7 to 1-9), the light resistance and the storage stability are greatly improved. Recognize.

(実施例2−1〜2−5および比較例2−1〜2−4)
−インクの作製−
実施例1−1と同様に、以下の成分を高速水冷式攪拌機により撹拌し、イエロー色のUVインクジェット用インク(インク2−1〜2−9)を得た。
なお、インク2−1〜2−9で各々用いた色材(染料または顔料)は、各々インク1−1〜1−9と同様のものを用いた。
・ライトアクリレートL−A 15.4部
(共栄社化学製、アクリレートモノマー)
・Actilane 421 36.4部
(Akcros社製、アクリレートモノマー)
・Photomer 2017(EChem社製、UV希釈剤) 20.0部
・色材 3.6部
・Genorad 16(Rahn社製、安定剤) 0.05部
・Rapi−Cure DVE−3 8.0部
(ISP Europe社製、ビニルエーテル)
・Lucirin TPO(BASF社製、光重合開始剤) 8.5部
・ベンゾフェノン(光重合開始剤) 4.0部
・Irgacure 184 4.0部
(Ciba Specialty Chemicals社製、光重合開始剤)
・Byk 307(BYK Chemie社製、消泡剤) 0.05部
前記ライトアクリレートL−Aはアクリル酸ラウリルエステル(単官能アクリレート)である。
(Examples 2-1 to 2-5 and Comparative Examples 2-1 to 2-4)
-Preparation of ink-
In the same manner as in Example 1-1, the following components were stirred using a high-speed water-cooled stirrer to obtain yellow UV inkjet inks (inks 2-1 to 2-9).
The color materials (dyes or pigments) used in inks 2-1 to 2-9 were the same as those used in inks 1-1 to 1-9.
・ Light acrylate LA 15.4 parts (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., acrylate monomer)
-Actilane 421 36.4 parts (Akcros acrylate monomer)
・ Photomer 2017 (manufactured by EChem, UV diluent) 20.0 parts ・ Coloring material 3.6 parts ・ Genorad 16 (manufactured by Rahn, stabilizer) 0.05 part ・ Rapi-Cure DVE-3 8.0 parts ( ISP Europe, vinyl ether)
・ Lucirin TPO (manufactured by BASF, photopolymerization initiator) 8.5 parts ・ benzophenone (photopolymerization initiator) 4.0 parts ・ Irgacure 184 4.0 parts (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, photopolymerization initiator)
-Byk 307 (BYK Chemie company make, antifoamer) 0.05 part The said light acrylate LA is acrylic acid lauryl ester (monofunctional acrylate).

なお、インク2−6は、分散剤として、Solsperse 32000(Noveon社製)0.4部を添加し、さらに、Actilane 421(Akcros社製、アクリレートモノマー)を36.0部に変えて、調製した。   Ink 2-6 was prepared by adding 0.4 part of Solsperse 32000 (manufactured by Noveon) as a dispersant, and further changing Actylene 421 (manufactured by Akcros, acrylate monomer) to 36.0 parts. .

得られたインク2−1〜2−9を実施例1−1と同様に評価した結果を、下記表2にまとめて示す。   The results of evaluating the obtained inks 2-1 to 2-9 in the same manner as in Example 1-1 are summarized in Table 2 below.

Figure 2009114290
Figure 2009114290

表2の結果から明らかなように、インク組成を変更した場合でも本発明の染料を利用したインク(インク2−1〜2−5)は従来の顔料(インク2−6)と比較し、吐出安定性を大きく改善することができたことがわかる。
また、実施例1−1同様に、インク2−1〜2−5と、従来の染料(インク2−7〜2−9)とを比較しても、耐光性、保存安定性は大きく改善していることがわかる。
As is apparent from the results in Table 2, even when the ink composition is changed, the inks (inks 2-1 to 2-5) using the dye of the present invention are ejected in comparison with the conventional pigments (inks 2-6). It can be seen that the stability has been greatly improved.
Further, as in Example 1-1, even when the inks 2-1 to 2-5 and the conventional dyes (inks 2-7 to 2-9) are compared, the light resistance and storage stability are greatly improved. You can see that

Claims (4)

重合性化合物、重合開始剤、および下記一般式(I)で表される染料を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
Figure 2009114290
(式中、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、置換または無置換の、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。RおよびRは、互いに結合して環を形成してもよい。Z、Z、ZおよびZは、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表わす。ZおよびZ、ZおよびZはそれぞれ互いに結合して環を形成してもよい。)
A photocurable composition comprising a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a dye represented by the following general formula (I).
Figure 2009114290
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heteroaryl group. R 3 and R 4 are bonded to each other. Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and Z 1 and Z 2 , Z 3 and Z 4 are each They may combine with each other to form a ring.)
前記一般式(I)で表される染料が、下記一般式(II)で表される染料であることを特徴とする請求項1に記載の光硬化性組成物。
Figure 2009114290
(式中、R11、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表わす。R16およびR17は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。)
The photocurable composition according to claim 1, wherein the dye represented by the general formula (I) is a dye represented by the following general formula (II).
Figure 2009114290
(Wherein R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and R 15 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. R 16 and R 17 each independently represent an alkyl group, aryl, Represents a group or a heteroaryl group, and may be bonded to each other to form a ring.)
請求項1または請求項2に記載の光硬化性組成物を用いたことを特徴とするインクジェット記録用インク組成物。   An ink composition for ink jet recording, wherein the photocurable composition according to claim 1 or 2 is used. (i−1)被記録媒体上に、請求項3に記載のインクジェット記録用インク組成物を吐出する工程、および、
(i−2)吐出されたインクジェット記録用インク組成物に活性放射線を照射して、該インク組成物を硬化する工程、
を含むことを特徴とするインクジェット記録方法。
(I-1) a step of discharging the ink composition for ink jet recording according to claim 3 onto a recording medium; and
(I-2) a step of irradiating the discharged ink composition for inkjet recording with active radiation to cure the ink composition;
An ink jet recording method comprising:
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Cited By (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2371911A1 (en) 2010-03-29 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter
EP2371912A1 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
EP2412769A1 (en) 2010-07-27 2012-02-01 Fujifilm Corporation Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method
EP2423277A2 (en) 2010-08-27 2012-02-29 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
WO2012117944A1 (en) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 Ink composition, image forming method and printed material
EP2505622A1 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
WO2012133335A1 (en) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 Ink composition and image forming method
WO2013008626A1 (en) 2011-07-08 2013-01-17 富士フイルム株式会社 Ink composition and image formation method
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
WO2014041940A1 (en) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 Curable composition and image-forming method
WO2014050992A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Functional polymer membrane, and method for producing same
WO2014050993A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Functional polymer membrane, and method for producing same
WO2014125942A1 (en) 2013-02-15 2014-08-21 富士フイルム株式会社 Polymer functional film and method for producing same
WO2014136697A1 (en) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 Functional polymer membrane, manufacturing method therefor, ion exchange membrane and proton conducting membrane equipped with functional polymer membrane, and ion exchange device
WO2017135084A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Aqueous dispersion, production method for same, and image formation method
WO2017135085A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Aqueous dispersion, production method for same, and image formation method
WO2017135088A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Aqueous dispersion, production method therefor, and image formation method
WO2017138434A1 (en) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 Inkjet recording method
WO2018139658A1 (en) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 Active-ray-curable ink composition and inkjet recording method
WO2018155174A1 (en) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image forming method
WO2018155515A1 (en) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition, and image forming method
WO2018179947A1 (en) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image formation method
WO2018186224A1 (en) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 Ink composition, production method therefor, and image formation method
WO2018186225A1 (en) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 Ink composition, production method therefor, and image formation method
WO2018198993A1 (en) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 Photo-curable ink composition and image forming method
WO2018235534A1 (en) 2017-06-20 2018-12-27 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image formation method
WO2019021639A1 (en) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 Ink composition, method for producing same, and image formation method
WO2019044511A1 (en) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 Ink composition, method for producing same, and image forming method
WO2019064979A1 (en) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 Actinic-ray-curable ink-jet ink, light-shielding film, and production method for light-shielding film
WO2019188482A1 (en) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image forming method
WO2019188481A1 (en) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image forming method
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2020058666A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020058665A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
EP3686225A1 (en) 2015-08-27 2020-07-29 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2020179155A1 (en) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 Ink-jet ink composition, method for recording image, and object with recorded image
WO2020201714A1 (en) 2019-04-02 2020-10-08 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes and processes for their preparation and use
WO2020202628A1 (en) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and method for image recording
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2022014292A1 (en) 2020-07-15 2022-01-20 富士フイルム株式会社 Ink set for recording security image, security image recording method, and security image record
WO2022069384A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compositions and polymer films
WO2022069385A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
WO2022069383A1 (en) 2020-09-29 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069386A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022162083A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207470A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Cationically charged membranes
WO2022207469A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2023052052A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Films and their uses
WO2023052225A1 (en) 2021-09-30 2023-04-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023151941A1 (en) 2022-02-11 2023-08-17 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186622A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023186620A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2023186619A1 (en) 2022-03-31 2023-10-05 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Bipolar membranes
WO2023227502A1 (en) 2022-05-24 2023-11-30 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024132502A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Cited By (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2371911A1 (en) 2010-03-29 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition for inkjet recording, printed matter, method of manufacturing printed matter, molded article of printed matter, and method of manufacturing molded article of printed matter
EP2371912A1 (en) 2010-03-31 2011-10-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
EP2412769A1 (en) 2010-07-27 2012-02-01 Fujifilm Corporation Actinic ray curable inkjet ink composition, printed article, shaped printed product, and printed article forming method
EP2423277A2 (en) 2010-08-27 2012-02-29 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
EP3124557A1 (en) 2011-02-28 2017-02-01 Fujifilm Corporation Ink composition, image forming method, and printed matter
WO2012117944A1 (en) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 Ink composition, image forming method and printed material
WO2012133335A1 (en) 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 Ink composition and image forming method
EP2505622A1 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
WO2013008626A1 (en) 2011-07-08 2013-01-17 富士フイルム株式会社 Ink composition and image formation method
WO2013046679A2 (en) 2011-09-29 2013-04-04 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
WO2014041940A1 (en) 2012-09-14 2014-03-20 富士フイルム株式会社 Curable composition and image-forming method
WO2014050992A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Functional polymer membrane, and method for producing same
WO2014050993A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Functional polymer membrane, and method for producing same
WO2014125942A1 (en) 2013-02-15 2014-08-21 富士フイルム株式会社 Polymer functional film and method for producing same
WO2014136697A1 (en) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 Functional polymer membrane, manufacturing method therefor, ion exchange membrane and proton conducting membrane equipped with functional polymer membrane, and ion exchange device
EP3686225A1 (en) 2015-08-27 2020-07-29 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
WO2017135085A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Aqueous dispersion, production method for same, and image formation method
WO2017135084A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Aqueous dispersion, production method for same, and image formation method
WO2017135088A1 (en) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 Aqueous dispersion, production method therefor, and image formation method
WO2017138434A1 (en) 2016-02-10 2017-08-17 富士フイルム株式会社 Inkjet recording method
WO2018139658A1 (en) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 Active-ray-curable ink composition and inkjet recording method
WO2018155174A1 (en) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image forming method
WO2018155515A1 (en) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition, and image forming method
WO2018179947A1 (en) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image formation method
WO2018186224A1 (en) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 Ink composition, production method therefor, and image formation method
WO2018186225A1 (en) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 Ink composition, production method therefor, and image formation method
WO2018198993A1 (en) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 Photo-curable ink composition and image forming method
WO2018235534A1 (en) 2017-06-20 2018-12-27 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image formation method
WO2019021639A1 (en) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 Ink composition, method for producing same, and image formation method
WO2019044511A1 (en) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 Ink composition, method for producing same, and image forming method
WO2019064979A1 (en) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 Actinic-ray-curable ink-jet ink, light-shielding film, and production method for light-shielding film
WO2019188482A1 (en) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image forming method
WO2019188481A1 (en) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and image forming method
WO2020058665A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes formed from cationic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
WO2020058666A1 (en) 2018-09-21 2020-03-26 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes made from anionic monomers suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020179155A1 (en) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 Ink-jet ink composition, method for recording image, and object with recorded image
WO2020202628A1 (en) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 Photocurable ink composition and method for image recording
WO2020201714A1 (en) 2019-04-02 2020-10-08 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes and processes for their preparation and use
WO2021110468A1 (en) 2019-12-04 2021-06-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2021110467A1 (en) 2019-12-04 2021-06-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
WO2022014292A1 (en) 2020-07-15 2022-01-20 富士フイルム株式会社 Ink set for recording security image, security image recording method, and security image record
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
WO2022049193A1 (en) 2020-09-03 2022-03-10 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Composite membrane
WO2022069383A1 (en) 2020-09-29 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069385A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
WO2022069386A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2022069384A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Compositions and polymer films
WO2022122931A1 (en) 2020-12-10 2022-06-16 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Purifying polar liquids
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
WO2022162083A1 (en) 2021-01-28 2022-08-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
WO2022207470A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Cationically charged membranes
WO2022207469A1 (en) 2021-03-29 2022-10-06 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Polymer films
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
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WO2023227502A1 (en) 2022-05-24 2023-11-30 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
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WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
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