JP2009109445A - Circuit substrate inspection device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit substrate inspection device capable of shortening the inspection time without lowering the inspection precision. <P>SOLUTION: The circuit substrate inspection device comprises: a common electrode plate 2 arranged along the under surface of the circuit substrate 11; a signal impressing part 4 for generating and impressing an inspection signal Sc1 on the common electrode plate 2; inspection probes 5a to 5d capable of contact with wiring patterns 12a to 12d formed on the circuit substrate 11 on a portions exposing on the upper surface of the circuit substrate 11; operational amplifiers 31a to 31d, the noninverting terminals of which are connected with a common reference potential Vr, also the corresponding inspection probes among the inspection probes 5a to 5d are connected with the inverting input terminals; a capacitance detection part 7 for detecting the static capacity of each of wiring patterns 12a to 12d being in contact with each of inspection probes 5a to 5d; and a process part 9 for discriminating qualities of each of wiring patterns 12a to 12d in terms of the detected static capacities. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、回路基板に形成された配線パターンの良否を検査する回路基板検査装置に関するものである。   The present invention relates to a circuit board inspection apparatus for inspecting the quality of a wiring pattern formed on a circuit board.

この種の回路基板検査装置として、下記の特許文献1に開示された回路基板検査装置が知られている。この回路基板検査装置では、回路基板(回路板)の一方の面に独立パターンとして形成されている複数の配線パターン(接続導体)の良否を検査するにあたって、複数の配線パターンと対向してその各々との間で静電容量をもつ共通電極板(導電プレート)を回路基板の他方の面側に配置し、配線パターンを一つずつ選択し、その選択された配線パターンと共通電極板との間の静電容量を測定し、その静電容量が基準値の範囲内であれば短絡なし、静電容量が基準値の範囲を超えているときには隣接の配線パターンと短絡ありと判別している。
特公平4−17394号公報(第7頁、第1図)
As this type of circuit board inspection apparatus, a circuit board inspection apparatus disclosed in Patent Document 1 below is known. In this circuit board inspection device, when inspecting the quality of a plurality of wiring patterns (connection conductors) formed as independent patterns on one surface of a circuit board (circuit board), each of the wiring patterns faces each other. A common electrode plate (conductive plate) having a capacitance between the circuit board and the other side of the circuit board, and selecting a wiring pattern one by one, between the selected wiring pattern and the common electrode plate When the capacitance is within the reference value range, no short circuit is detected, and when the capacitance exceeds the reference value range, it is determined that there is a short circuit with the adjacent wiring pattern.
Japanese Examined Patent Publication No. 4-17394 (page 7, Fig. 1)

ところが、従来の回路基板検査装置には、以下の課題が存在している。すなわち、この回路基板検査装置では、配線パターンを一つずつ選択して静電容量を測定し、測定した静電容量に基づいて良否を判別するため、検査に要する時間が長時間化するという解決すべき課題が存在している。この課題を解決する方法として、複数の配線パターンに検査プローブを同時に接触させて、各配線パターンと共通電極板との間の静電容量を同時に測定する方法も考えられる。しかしながら、この方法では、各配線パターンと共通電極板との間の静電容量が互いに相違していることに起因して、各検査プローブで検出される信号が位相の異なる信号となっており、かつ各検査プローブ間には浮遊容量および各配線パターン間の寄生容量が存在していることから、各浮遊容量等を介して検査プローブ相互間に信号が流れる現象が発生し、この現象により、各配線パターンと共通電極板との間の静電容量を正確に測定できない。このため、この方法には、静電容量に基づく配線パターンの検査精度が低下するという課題が存在している。   However, the following problems exist in the conventional circuit board inspection apparatus. That is, in this circuit board inspection apparatus, the wiring pattern is selected one by one, the capacitance is measured, and the quality is determined based on the measured capacitance, so that the time required for the inspection is increased. There are issues to be addressed. As a method for solving this problem, a method in which an inspection probe is simultaneously brought into contact with a plurality of wiring patterns, and a capacitance between each wiring pattern and the common electrode plate can be simultaneously measured. However, in this method, the capacitance detected between each wiring pattern and the common electrode plate is different from each other, so that the signal detected by each inspection probe is a signal having a different phase, In addition, there is a stray capacitance between each inspection probe and a parasitic capacitance between each wiring pattern.Therefore, a phenomenon occurs in which a signal flows between inspection probes via each stray capacitance. The capacitance between the wiring pattern and the common electrode plate cannot be measured accurately. For this reason, this method has a problem that the inspection accuracy of the wiring pattern based on the capacitance decreases.

本発明は、上記の課題を解決すべくなされたものであり、検査精度を低下させることなく検査に要する時間を短縮し得る回路基板検査装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and has as its main object to provide a circuit board inspection apparatus capable of reducing the time required for inspection without degrading inspection accuracy.

上記目的を達成すべく請求項1記載の回路基板検査装置は、回路基板の一方の面に沿って配設される共通電極板と、検査信号を生成して前記共通電極板に印加する信号印加部と、前記回路基板に形成された複数の配線パターンにおける当該回路基板の他方の面に露出する部位に接触可能なn(nは2以上の整数)個の検査プローブと、前記n個の検査プローブのうちの対応する検査プローブが反転入力端子に接続されると共に非反転入力端子が共通の基準電位に接続されたn個の演算増幅器を有して、当該n個の検査プローブが接触しているn個の前記配線パターンの静電容量を検出する容量検出部と、前記検出された静電容量に基づいて前記n個の配線パターンの良否を判別する処理部とを備えている。   To achieve the above object, a circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein a common electrode plate disposed along one surface of the circuit board and a signal application for generating an inspection signal and applying the inspection signal to the common electrode plate. And n (n is an integer greater than or equal to 2) inspection probes that can come into contact with a portion exposed on the other surface of the circuit board in the plurality of wiring patterns formed on the circuit board, and the n inspections A corresponding inspection probe among the probes is connected to the inverting input terminal and the non-inverting input terminal has n operational amplifiers connected to a common reference potential, and the n inspection probes are in contact with each other. A capacitance detection unit that detects the capacitances of the n number of wiring patterns, and a processing unit that determines the quality of the n number of wiring patterns based on the detected capacitances.

また、請求項2記載の回路基板検査装置は、請求項1記載の回路基板検査装置において、前記信号印加部は、周波数の異なる2種以上の前記検査信号を生成して前記共通電極板に同時に印加する。   The circuit board inspection apparatus according to claim 2 is the circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein the signal applying unit generates two or more types of the inspection signals having different frequencies and simultaneously applies them to the common electrode plate. Apply.

また、請求項3記載の回路基板検査装置は、請求項1または2記載の回路基板検査装置において、前記n個の検査プローブを移動させる移動部と、前記複数の配線パターンにおける前記検査プローブとの接触部位の位置情報が記憶された記憶部とを備え、前記処理部は、前記記憶部に記憶されている前記位置情報に基づいて前記移動部を制御して前記各検査プローブを前記各配線パターンにおける前記接触部位に移動させる。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the circuit board inspection apparatus according to the first or second aspect, wherein a moving unit that moves the n inspection probes and the inspection probes in the plurality of wiring patterns are provided. A storage unit in which position information of a contact part is stored, and the processing unit controls the moving unit based on the position information stored in the storage unit so that the inspection probes are connected to the wiring patterns. And move to the contact site.

請求項1記載の回路基板検査装置では、n個の検査プローブが容量検出部における対応する演算増幅器の反転入力端子に接続されると共に、各演算増幅器の非反転入力端子が共通の基準電位に接続されているため、各演算増幅器のイマジナリーショートにより、反転入力端子に接続されたすべての検査プローブは同電位(基準電位)となっている。したがって、この回路基板検査装置によれば、すべての検査プローブを回路基板に形成された各配線パターンに同時に接続して、これら配線パターンに対する検査を同時に実行することで検査時間の短縮を図ることができると共に、この際にも、各検査プローブ間に存在する浮遊容量の影響を受けることなく、各配線パターンと共通電極板との間に形成される静電容量の容量値に基づいて、各配線パターンに対する検査を精度よく実行することができる。   In the circuit board inspection apparatus according to claim 1, n inspection probes are connected to the inverting input terminal of the corresponding operational amplifier in the capacitance detection unit, and the non-inverting input terminal of each operational amplifier is connected to a common reference potential. Therefore, all inspection probes connected to the inverting input terminal are at the same potential (reference potential) due to an imaginary short of each operational amplifier. Therefore, according to this circuit board inspection apparatus, it is possible to shorten the inspection time by simultaneously connecting all the inspection probes to the respective wiring patterns formed on the circuit board and simultaneously inspecting these wiring patterns. At this time, each wiring is not affected by the stray capacitance existing between each inspection probe, and based on the capacitance value of the capacitance formed between each wiring pattern and the common electrode plate. The inspection for the pattern can be executed with high accuracy.

請求項2記載の回路基板検査装置では、信号印加部は、周波数の異なる2種以上の検査信号を生成して共通電極板に同時に印加する。したがって、この検査装置によれば、容量検出部において、面積の小さな配線パターンと接触する検査プローブが接続された演算増幅器の出力信号に基づいてこの配線パターンについての静電容量を検出するときには周波数の高い検査信号を使用し、一方、面積の大きな配線パターンと接触する検査プローブが接続された演算増幅器の出力信号に基づいてこの配線パターンについての静電容量を検出するときには周波数の低い検査信号を使用することができるため、共通電極板との間に形成される各配線パターンの静電容量の容量値をより正確に検出できる結果、回路基板の各配線パターンに対する検査の精度をさらに高めることができる。   In the circuit board inspection apparatus according to claim 2, the signal applying unit generates two or more kinds of inspection signals having different frequencies and applies them simultaneously to the common electrode plate. Therefore, according to this inspection apparatus, when the capacitance detection unit detects the capacitance of the wiring pattern based on the output signal of the operational amplifier to which the inspection probe that contacts the wiring pattern having a small area is connected, While using a high inspection signal, use a low-frequency inspection signal when detecting capacitance for this wiring pattern based on the output signal of an operational amplifier connected to an inspection probe that contacts a wiring pattern with a large area. Since the capacitance value of the capacitance of each wiring pattern formed between the common electrode plates can be detected more accurately, the accuracy of inspection of each wiring pattern on the circuit board can be further increased. .

請求項3記載の回路基板検査装置によれば、記憶部に記憶されている各配線パターンについての接触部位の位置情報に基づいて処理部が移動部を制御して各検査プローブを検査対象となる配線パターンの接触部位に移動させて接触させるため、回路基板に形成された複数の配線パターンに対して、高速で、かつ高精度な検査を自動で実施することができる。   According to the circuit board inspection apparatus according to claim 3, the processing unit controls the moving unit based on the position information of the contact site for each wiring pattern stored in the storage unit, and each inspection probe becomes an inspection target. Since the wiring pattern is moved to and brought into contact with the wiring pattern, a high-speed and high-precision inspection can be automatically performed on a plurality of wiring patterns formed on the circuit board.

以下、添付図面を参照して、本発明に係る回路基板検査装置の最良の形態について説明する。   The best mode of a circuit board inspection apparatus according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

最初に、回路基板検査装置1(以下、「検査装置1」ともいう)について、図面を参照して説明する。   First, a circuit board inspection apparatus 1 (hereinafter also referred to as “inspection apparatus 1”) will be described with reference to the drawings.

検査装置1は、図1に示すように、共通電極板2、絶縁板3、信号印加部4、n(nは2以上の整数)個の検査プローブ5(本例では一例として検査プローブ5a,5b,5c,5dの4個。特に区別しないときには「検査プローブ5」ともいう)、移動部6、容量検出部7、記憶部8、処理部9および出力部10を備え、回路基板11に形成されている複数の配線パターン12に対する検査を実行可能に構成されている。本例では一例として、同図に示すように、4つの配線パターン12が形成された回路基板11、具体的には、上面(本発明における他方の面)に3つの配線パターン12a,12b,12cが形成され、かつ上面から下面(本発明における一方の面)に亘って1つの配線パターン12dが形成された回路基板11を例に挙げて説明する。   As shown in FIG. 1, the inspection apparatus 1 includes a common electrode plate 2, an insulating plate 3, a signal application unit 4, and n (n is an integer of 2 or more) inspection probes 5 (in this example, inspection probes 5 a, 5b, 5c, and 5d (also referred to as “inspection probe 5” unless otherwise distinguished), a moving unit 6, a capacitance detecting unit 7, a storage unit 8, a processing unit 9, and an output unit 10 are formed on the circuit board 11. The plurality of wiring patterns 12 that have been configured can be inspected. In this example, as an example, as shown in the figure, a circuit board 11 having four wiring patterns 12 formed thereon, specifically, three wiring patterns 12a, 12b, 12c on the upper surface (the other surface in the present invention). The circuit board 11 in which one wiring pattern 12d is formed from the upper surface to the lower surface (one surface in the present invention) will be described as an example.

共通電極板2および絶縁板3は、図1に示すように、一例として同じ平面形状に形成されて互いに積層されている。また、絶縁板3は全体が均一な厚みに形成されている。回路基板11は、検査時には、その下面が絶縁板3の表面(同図中の上面)に密着するように配置される。   As shown in FIG. 1, the common electrode plate 2 and the insulating plate 3 are formed in the same planar shape as an example and are stacked on each other. The insulating plate 3 is formed to have a uniform thickness as a whole. At the time of inspection, the circuit board 11 is arranged so that the lower surface thereof is in close contact with the surface of the insulating plate 3 (upper surface in the figure).

信号印加部4は、図1に示すように、所定の周波数f1の交流信号である検査信号Sc1を生成して、共通電極板2に印加する。検査プローブ5は、回路基板11の上面に露出する配線パターン12の所定部位に接触可能に配設されている。移動部6は、対応する検査プローブ5a,5b,5c,5dにそれぞれ連結された検査プローブ5と同数の移動アーム21a,21b,21c,21d(以下、特に区別しないときには「移動アーム21」ともいう)を備えている。また、移動部6は、処理部9の制御下で各移動アーム21を駆動することにより、各検査プローブ5を回路基板11に形成されている複数の配線パターン12のうちの任意の配線パターン12における検査プローブとの接触部位(配線パターン12における回路基板11の他方の面に露出する部位に規定された接触部位)に接触させる。   As shown in FIG. 1, the signal applying unit 4 generates an inspection signal Sc <b> 1 that is an AC signal having a predetermined frequency f <b> 1 and applies it to the common electrode plate 2. The inspection probe 5 is disposed so as to be in contact with a predetermined portion of the wiring pattern 12 exposed on the upper surface of the circuit board 11. The moving unit 6 has the same number of moving arms 21a, 21b, 21c, and 21d as the inspection probes 5 connected to the corresponding inspection probes 5a, 5b, 5c, and 5d (hereinafter referred to as “moving arm 21” unless otherwise specified). ). In addition, the moving unit 6 drives each moving arm 21 under the control of the processing unit 9, so that each inspection probe 5 is an arbitrary wiring pattern 12 among the plurality of wiring patterns 12 formed on the circuit board 11. In contact with the inspection probe (contact part defined in the part exposed on the other surface of the circuit board 11 in the wiring pattern 12).

容量検出部7は、図1,2に示すように、n個(検査プローブ5と同数)の演算増幅器(オペアンプ)31a,31b,31c,31d(以下、特に区別しないときには「演算増幅器31」ともいう)、n個の帰還回路32a,32b,32c,32d(本例では一例として帰還用抵抗(以下、特に区別しないときには「帰還回路32」ともいう))、n個の同期検波回路33a,33b,33c,33d(以下、特に区別しないときには「同期検波回路33」ともいう)、n個のバンドパスフィルタ34a,34b,34c,34d(以下、特に区別しないときには「フィルタ34」ともいう)、およびn個の位相比較回路35a,35b,35c,35d(以下、特に区別しないときには「位相比較回路35」ともいう)を備えている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the capacitance detector 7 includes n operational amplifiers (op-amps) 31a, 31b, 31c, 31d (hereinafter referred to as “operational amplifier 31” unless otherwise specified). N feedback circuits 32a, 32b, 32c, 32d (in this example, feedback resistors (hereinafter also referred to as “feedback circuit 32” unless otherwise specified)), n synchronous detection circuits 33a, 33b. , 33c, 33d (hereinafter also referred to as “synchronous detection circuit 33” unless otherwise distinguished), n band-pass filters 34a, 34b, 34c, and 34d (hereinafter also referred to as “filter 34” unless otherwise distinguished), and n phase comparison circuits 35a, 35b, 35c, and 35d (hereinafter also referred to as “phase comparison circuit 35” unless otherwise specified) are provided.

具体的には、各演算増幅器31a,31b,31c,31dは、対応する帰還回路32a,32b,32c,32dが反転入力端子と出力端子との間に接続され、かつ非反転入力端子が共通の基準電位Vr(本例では一例としてグランド電位)に接続され、かつ対応する検査プローブ5a,5b,5c,5dがケーブルなど(不図示)を介して反転入力端子に接続されて、反転増幅回路として構成されている。各同期検波回路33a,33b,33c,33dは、対応する演算増幅器31a,31b,31c,31dに接続されて、対応する演算増幅器31a,31b,31c,31dの出力信号S2a,S2b,S2c,S2d(以下、特に区別しないときには「出力信号S2」ともいう)を検査信号Sc1で同期検波する。各バンドパスフィルタ34a,34b,34c,34dは、対応する同期検波回路33a,33b,33c,33dに接続されて、対応する同期検波回路33a,33b,33c,33dの出力信号に含まれている検査信号Sc1の周波数f1を中心とする所定の周波数帯域の信号を選択的に通過させる。各位相比較回路35a,35b,35c,35dは、対応するバンドパスフィルタ34a,34b,34c,34dに接続されて、対応するバンドパスフィルタ34a,34b,34c,34dの出力信号および検査信号Sc1の位相差を検出して、この位相差に応じてレベルが変化する(一例として、位相差の増加・減少に応じてレベルが増加・減少する)直流信号S3a,S3b,S3c,S3d(以下、特に区別しないときには「直流信号S3」ともいう)を出力する。   Specifically, each operational amplifier 31a, 31b, 31c, 31d has a corresponding feedback circuit 32a, 32b, 32c, 32d connected between the inverting input terminal and the output terminal, and a common non-inverting input terminal. Connected to a reference potential Vr (in this example, a ground potential as an example), and corresponding inspection probes 5a, 5b, 5c, and 5d are connected to an inverting input terminal via a cable or the like (not shown) to form an inverting amplifier circuit. It is configured. The synchronous detection circuits 33a, 33b, 33c, and 33d are connected to the corresponding operational amplifiers 31a, 31b, 31c, and 31d, and output signals S2a, S2b, S2c, and S2d of the corresponding operational amplifiers 31a, 31b, 31c, and 31d. (Hereinafter, also referred to as “output signal S2” unless otherwise distinguished) is synchronously detected by the inspection signal Sc1. Each bandpass filter 34a, 34b, 34c, 34d is connected to a corresponding synchronous detection circuit 33a, 33b, 33c, 33d and is included in the output signal of the corresponding synchronous detection circuit 33a, 33b, 33c, 33d. A signal in a predetermined frequency band centered on the frequency f1 of the inspection signal Sc1 is selectively passed. Each phase comparison circuit 35a, 35b, 35c, 35d is connected to the corresponding bandpass filter 34a, 34b, 34c, 34d, and outputs the output signal of the corresponding bandpass filter 34a, 34b, 34c, 34d and the inspection signal Sc1. DC signal S3a, S3b, S3c, S3d (hereinafter, in particular, the level changes according to the phase difference (for example, the level increases / decreases as the phase difference increases / decreases) by detecting the phase difference) When not distinguished, it is also called “DC signal S3”).

すなわち、演算増幅器31a、同期検波回路33a、バンドパスフィルタ34aおよび位相比較回路35aは、1つの直流信号S3aを出力するための1つの容量検出回路7aを構成する。同様にして、演算増幅器31b、同期検波回路33b、バンドパスフィルタ34bおよび位相比較回路35bは、1つの直流信号S3bを出力するための他の1つの容量検出回路7bを構成し、また演算増幅器31c、同期検波回路33c、バンドパスフィルタ34cおよび位相比較回路35cは、1つの直流信号S3cを出力するための他の1つの容量検出回路7cを構成し、また演算増幅器31d、同期検波回路33d、バンドパスフィルタ34dおよび位相比較回路35dは、1つの直流信号S3dを出力するための他の1つの容量検出回路7dを構成する。また、これらの4つの容量検出回路7a〜7dは、各演算増幅器31、各同期検波回路33、各バンドパスフィルタ34、および各位相比較回路35がそれぞれ同一の構成に形成されている結果、共に同一に構成されている。   That is, the operational amplifier 31a, the synchronous detection circuit 33a, the band pass filter 34a, and the phase comparison circuit 35a constitute one capacitance detection circuit 7a for outputting one DC signal S3a. Similarly, the operational amplifier 31b, the synchronous detection circuit 33b, the bandpass filter 34b, and the phase comparison circuit 35b constitute another capacitance detection circuit 7b for outputting one DC signal S3b, and the operational amplifier 31c. , The synchronous detection circuit 33c, the band pass filter 34c and the phase comparison circuit 35c constitute another capacitance detection circuit 7c for outputting one DC signal S3c, and the operational amplifier 31d, the synchronous detection circuit 33d, the band The pass filter 34d and the phase comparison circuit 35d constitute another one capacitance detection circuit 7d for outputting one DC signal S3d. In addition, these four capacitance detection circuits 7a to 7d are configured such that each operational amplifier 31, each synchronous detection circuit 33, each band pass filter 34, and each phase comparison circuit 35 are formed in the same configuration. It is configured identically.

この場合、共通電極板2への検査信号Sc1の印加時において、各演算増幅器31a,31b,31c,31dから出力される出力信号S2a,S2b,S2c,S2dの検査信号Sc1に対する位相差は、各検査プローブ5と容量検出部7との間の抵抗値成分(主として各検査プローブ5を容量検出部7に接続するためのケーブルの抵抗値)と相俟って、対応する検査プローブ5a,5b,5c,5dが接触している配線パターン12と共通電極板2との間に形成されている静電容量の容量値に応じて変化する(具体的には、容量値が小さくなる程、位相差は大きくなる)。したがって、各位相比較回路35a,35b,35c,35dから出力される直流信号S3a,S3b,S3c,S3dのレベルは、検査プローブ5a,5b,5c,5dが接触している配線パターン12と共通電極板2との間に形成されている静電容量の容量値を示すものとなることから、容量検出部7は、検査プローブ5a,5b,5c,5dが接触している配線パターン12と共通電極板2との間に形成されている静電容量の容量値を実質的に検出することになる。   In this case, when the inspection signal Sc1 is applied to the common electrode plate 2, the phase difference of the output signals S2a, S2b, S2c, and S2d output from the operational amplifiers 31a, 31b, 31c, and 31d with respect to the inspection signal Sc1 is In combination with the resistance component between the inspection probe 5 and the capacitance detection unit 7 (mainly the resistance value of the cable for connecting each inspection probe 5 to the capacitance detection unit 7), the corresponding inspection probe 5a, 5b, It changes according to the capacitance value of the capacitance formed between the wiring pattern 12 in contact with 5c and 5d and the common electrode plate 2 (specifically, the smaller the capacitance value, the more the phase difference Will grow). Therefore, the levels of the DC signals S3a, S3b, S3c, and S3d output from the phase comparison circuits 35a, 35b, 35c, and 35d are common to the wiring pattern 12 in contact with the inspection probes 5a, 5b, 5c, and 5d. Since the capacitance value of the capacitance formed between the plate 2 and the plate 2 is indicated, the capacitance detection unit 7 is connected to the wiring pattern 12 in contact with the inspection probes 5a, 5b, 5c, 5d and the common electrode. The capacitance value of the capacitance formed between the plate 2 is substantially detected.

記憶部8は、ROMやRAMなどの半導体メモリで構成されて、処理部9の動作を規定するための動作プログラム、直流信号S3のレベルに対する判定データ(一例として上限値Duおよび下限値Dl)、および回路基板11の各配線パターン12a〜12dに規定された複数の接触部位についての位置情報Dpが記憶されている。なお、判定データは、すべての配線パターン12において断線や短絡の発生していない良品の回路基板11を検査装置1で複数枚検査して得られた配線パターン12毎の直流信号S3のレベルに基づいて決定されており、回路基板11が良品であるときにこの回路基板11に形成された各配線パターン12についての直流信号S3のレベルの上限値が上限値Duであり、下限値が下限値Dlである。この場合、一部の配線パターン12間に短絡が発生している不良品としての回路基板11では、この配線パターン12についての静電容量が良品の場合よりも増加し、これに伴い、この配線パターン12について測定された直流信号S3のレベルが下限値Dlを下回る。一方、一部の配線パターン12に断線が発生している不良品としての回路基板11では、この配線パターン12についての静電容量が良品の場合よりも減少し、これに伴い、この配線パターン12について測定された直流信号S3のレベルが上限値Duを超える。したがって、各配線パターン12についての直流信号S3のレベルと、判定データとを比較することにより、回路基板11の配線パターン12に断線や短絡が発生しているか否かの検査が可能となっている。   The storage unit 8 is configured by a semiconductor memory such as a ROM or a RAM, an operation program for defining the operation of the processing unit 9, determination data for the level of the DC signal S3 (for example, an upper limit Du and a lower limit Dl), In addition, position information Dp for a plurality of contact parts defined in the wiring patterns 12a to 12d of the circuit board 11 is stored. The determination data is based on the level of the DC signal S3 for each wiring pattern 12 obtained by inspecting a plurality of non-defective circuit boards 11 in which all the wiring patterns 12 are not disconnected or short-circuited by the inspection apparatus 1. When the circuit board 11 is a non-defective product, the upper limit value of the level of the DC signal S3 for each wiring pattern 12 formed on the circuit board 11 is the upper limit value Du, and the lower limit value is the lower limit value Dl. It is. In this case, in the circuit board 11 as a defective product in which a short circuit occurs between some of the wiring patterns 12, the capacitance of the wiring pattern 12 is increased as compared with the non-defective product. The level of the DC signal S3 measured for the pattern 12 is below the lower limit value Dl. On the other hand, in the circuit board 11 as a defective product in which a part of the wiring pattern 12 is broken, the capacitance of the wiring pattern 12 is smaller than that in the case of a non-defective product. The level of the DC signal S3 measured with respect to exceeds the upper limit Du. Therefore, by comparing the level of the DC signal S3 for each wiring pattern 12 with the determination data, it is possible to inspect whether the wiring pattern 12 of the circuit board 11 is broken or short-circuited. .

処理部9は、一例としてn個のA/D変換器およびCPU(いずれも図示せず)を備えて構成されている。また、処理部9では、各A/D変換器が、対応する直流信号S3をディジタルデータに変換し、CPUが、記憶部8に記憶されている動作プログラムに従って作動して、この変換されたディジタルデータに基づいて回路基板11に対する検査処理を実行する。出力部10は、一例として表示装置で構成されて、処理部9が実行した検査処理の結果を出力(表示)する。   As an example, the processing unit 9 includes n A / D converters and a CPU (none of which are shown). In the processing unit 9, each A / D converter converts the corresponding DC signal S 3 into digital data, and the CPU operates according to the operation program stored in the storage unit 8. An inspection process for the circuit board 11 is executed based on the data. The output unit 10 includes a display device as an example, and outputs (displays) the result of the inspection process executed by the processing unit 9.

次に、検査装置1による回路基板11に対する検査動作について説明する。なお、検査対象となる回路基板11は、図1,2に示すように絶縁板3上に予め配置されているものとする。また、この状態において、絶縁板3の表面に配設された回路基板11の各配線パターン12a,12b,12c,12dと、共通電極板2との間には、図2に示すように、各配線パターン12a,12b,12c,12dの面積および位置(共通電極板2からの距離)に応じた容量値の静電容量C1,C2,C3,C4が形成される。   Next, an inspection operation for the circuit board 11 by the inspection apparatus 1 will be described. It is assumed that the circuit board 11 to be inspected is previously arranged on the insulating plate 3 as shown in FIGS. Further, in this state, as shown in FIG. 2, each wiring pattern 12a, 12b, 12c, 12d of the circuit board 11 disposed on the surface of the insulating plate 3 and the common electrode plate 2 have each Capacitances C1, C2, C3, C4 having capacitance values corresponding to the areas and positions (distances from the common electrode plate 2) of the wiring patterns 12a, 12b, 12c, 12d are formed.

検査装置1の作動状態において、信号印加部4は、検査信号Sc1を生成して、共通電極板2に印加する。また、容量検出部7は、各演算増幅器31の反転入力端子に入力される電圧に基づく直流信号S3の生成を開始する。処理部9は、この状態において、回路基板11に対する検査処理を開始する。この検査処理では、処理部9は、まず、記憶部8から検査対象とするn個(本例では4個)の配線パターン12についての接触部位の位置情報Dpを読み出し、読み出した位置情報Dpに基づいて移動部6を制御して各移動アーム21を駆動させて、n個の検査プローブ5を検査対象とするn個の配線パターン12上に規定された接触部位に移動させて接触させる。一例として、図1,2に示すように、検査プローブ5a,5b,5c,5dが、配線パターン12a,12b,12c,12dにそれぞれ接触させられたものとする。この状態において、隣接する検査プローブ5相互間には浮遊容量が存在した状態となる。本例では、発明の理解を容易にするため、一例として、隣接する検査プローブ5a,5b間に浮遊容量C5が存在し、隣接する検査プローブ5b,5c間に浮遊容量C6が存在し、隣接する検査プローブ5c,5d間に浮遊容量C7が存在している状態であるものとする。   In the operating state of the inspection apparatus 1, the signal application unit 4 generates an inspection signal Sc 1 and applies it to the common electrode plate 2. Further, the capacitance detection unit 7 starts generating the DC signal S3 based on the voltage input to the inverting input terminal of each operational amplifier 31. In this state, the processing unit 9 starts an inspection process for the circuit board 11. In this inspection process, the processing unit 9 first reads out the position information Dp of the contact site for the n (four in this example) wiring patterns 12 to be inspected from the storage unit 8, and uses the read position information Dp as the read position information Dp. Based on this, the moving unit 6 is controlled to drive each moving arm 21 so that the n inspection probes 5 are moved to the contact parts defined on the n wiring patterns 12 to be inspected and brought into contact with each other. As an example, as shown in FIGS. 1 and 2, it is assumed that the inspection probes 5a, 5b, 5c, and 5d are brought into contact with the wiring patterns 12a, 12b, 12c, and 12d, respectively. In this state, a stray capacitance exists between the adjacent inspection probes 5. In this example, in order to facilitate understanding of the invention, as an example, the stray capacitance C5 exists between the adjacent inspection probes 5a and 5b, and the stray capacitance C6 exists between the adjacent inspection probes 5b and 5c. It is assumed that the stray capacitance C7 exists between the inspection probes 5c and 5d.

各検査プローブ5の配線パターン12との接触が完了した状態では、信号印加部4から共通電極板2に対して供給されている検査信号Sc1は、静電容量C1を介して配線パターン12aに伝達され、さらに検査プローブ5aを介して演算増幅器31aに入力される。同様にして、検査信号Sc1は、静電容量C2、配線パターン12bおよび検査プローブ5bを介して演算増幅器31bに入力され、また静電容量C3、配線パターン12cおよび検査プローブ5cを介して演算増幅器31cに入力され、また静電容量C4、配線パターン12dおよび検査プローブ5dを介して演算増幅器31dに入力される。容量検出部7では、4つの容量検出回路7a〜7dが同時に作動して、それぞれ直流信号S3a〜S3dを出力する。この場合、隣接する検査プローブ5間には、図2に示すように、浮遊容量C5,C6,C7が存在し、また各検査プローブ5a〜5dが接触している各配線パターン12a〜12d間には、寄生容量C8,C9,C10が存在しているが、容量検出部7の入力段としての各演算増幅器31の非反転入力端子は基準電位Vr(グランド電位)に接続されて、各演算増幅器31ではいわゆる「イマジナリーショート」によって反転入力端子と非反転入力端子との間の電位差がほぼゼロになるため、非反転入力端子の電位も基準電位Vrとなる。これにより、すべての検査プローブ5の電位が同電位(基準電位Vr)となる結果、浮遊容量C5,C6,C7や寄生容量C8,C9,C10の存在下においても、この浮遊容量C5〜C7や寄生容量C8〜C10を介して各検査プローブ5間に電気信号が流れる事態が回避される。したがって、同時に作動している状況下であっても、4つの容量検出回路7a〜7dは、それぞれ対応する配線パターン12a,12b,12c,12dに静電容量C1,C2,C3,C4を介して共通電極板2から流れ込む検査信号Sc1を正確に入力して、この入力した検査信号Scと、信号印加部4から直接入力した検査信号Sc1との位相差に応じたレベルの直流信号S3a〜S3dを出力する。   When the contact of each inspection probe 5 with the wiring pattern 12 is completed, the inspection signal Sc1 supplied from the signal applying unit 4 to the common electrode plate 2 is transmitted to the wiring pattern 12a via the capacitance C1. Further, it is input to the operational amplifier 31a via the inspection probe 5a. Similarly, the inspection signal Sc1 is input to the operational amplifier 31b via the capacitance C2, the wiring pattern 12b, and the inspection probe 5b, and the operational amplifier 31c via the capacitance C3, the wiring pattern 12c, and the inspection probe 5c. And is input to the operational amplifier 31d through the capacitance C4, the wiring pattern 12d, and the inspection probe 5d. In the capacitance detection unit 7, the four capacitance detection circuits 7a to 7d operate simultaneously to output DC signals S3a to S3d, respectively. In this case, between the adjacent inspection probes 5, as shown in FIG. 2, stray capacitances C5, C6 and C7 exist, and between the wiring patterns 12a to 12d with which the inspection probes 5a to 5d are in contact. Have parasitic capacitances C8, C9, C10, but the non-inverting input terminal of each operational amplifier 31 as an input stage of the capacitance detection unit 7 is connected to a reference potential Vr (ground potential), and each operational amplifier In 31, the so-called “imaginary short” causes the potential difference between the inverting input terminal and the non-inverting input terminal to be almost zero, so that the potential of the non-inverting input terminal also becomes the reference potential Vr. As a result, the potentials of all the inspection probes 5 become the same potential (reference potential Vr). As a result, even in the presence of the stray capacitances C5, C6, C7 and the parasitic capacitances C8, C9, C10, the stray capacitances C5 to C7 and A situation in which an electric signal flows between the inspection probes 5 via the parasitic capacitors C8 to C10 is avoided. Therefore, even in a situation where they are operating simultaneously, the four capacitance detection circuits 7a to 7d are respectively connected to the corresponding wiring patterns 12a, 12b, 12c, and 12d via the capacitances C1, C2, C3, and C4. The inspection signal Sc1 flowing from the common electrode plate 2 is accurately input, and DC signals S3a to S3d having levels according to the phase difference between the input inspection signal Sc and the inspection signal Sc1 directly input from the signal applying unit 4 are obtained. Output.

次いで、処理部9が、容量検出部7から入力した各直流信号S3a〜S3dをディジタルデータに変換し、記憶部8から読み出した検査対象としている4つの配線パターン12についての判定データ(上限値Duおよび下限値Dl)と比較する。この場合、上記したように、容量検出部7から出力される各直流信号S3a〜S3dのレベルは、検査プローブ5a,5b,5c,5dが接触している配線パターン12と共通電極板2との間に形成されている静電容量C1,C2,C3,C4の容量値を示すものである。このため、検査対象の配線パターン12が、隣接する他の配線パターン12と短絡している異常状態のとき(不良のとき)には、共通電極板2との間に形成される静電容量Cが正常状態のとき(良のとき)と比較して大きくなるため、この検査対象の配線パターン12についての直流信号S3のレベルは、判定データの下限値Dl未満の値となる。また、検査対象の配線パターン12が、断線している異常状態のとき(不良のとき)には、共通電極板2との間に形成される静電容量Cが正常状態のときと比較して小さくなるため、この検査対象の配線パターン12についての直流信号S3のレベルは、判定データの上限値Duを超える値となる。一方、検査対象の配線パターン12が、短絡や断線などしていない正常状態のとき(良のとき)には、共通電極板2との間に形成される静電容量Cは、良品の回路基板11における配線パターン12の静電容量が含まれる所定の範囲内の静電容量となるため、この検査対象の配線パターン12についての直流信号S3のレベルは、判定データの下限値Dl以上で、かつ上限値Du以下の範囲内の値となる。   Next, the processing unit 9 converts each of the DC signals S3a to S3d input from the capacitance detection unit 7 into digital data, and the determination data (upper limit Du) for the four wiring patterns 12 to be inspected read from the storage unit 8 And the lower limit value Dl). In this case, as described above, the levels of the DC signals S3a to S3d output from the capacitance detection unit 7 are the levels of the wiring pattern 12 and the common electrode plate 2 in contact with the inspection probes 5a, 5b, 5c, and 5d. The capacitance values of the capacitances C1, C2, C3, and C4 formed therebetween are shown. For this reason, when the wiring pattern 12 to be inspected is in an abnormal state where it is short-circuited with another adjacent wiring pattern 12 (when it is defective), the capacitance C formed between the common electrode plate 2 Therefore, the level of the DC signal S3 for the wiring pattern 12 to be inspected is a value less than the lower limit value D1 of the determination data. Further, when the wiring pattern 12 to be inspected is in an abnormal state in which the wiring pattern 12 is disconnected (in a defective state), the capacitance C formed between the common electrode plate 2 and the common electrode plate 2 is in a normal state. Therefore, the level of the DC signal S3 for the wiring pattern 12 to be inspected becomes a value exceeding the upper limit Du of the determination data. On the other hand, when the wiring pattern 12 to be inspected is in a normal state where it is not short-circuited or disconnected (good), the capacitance C formed between the common electrode plate 2 and the common electrode plate 2 is a good circuit board. 11, the level of the DC signal S3 for the wiring pattern 12 to be inspected is equal to or higher than the lower limit value D1 of the determination data. It becomes a value within the range below the upper limit value Du.

したがって、処理部9は、検査対象の配線パターン12についての直流信号S3のレベルが判定データの下限値Dl未満の値のときには、この配線パターン12に短絡が発生していると判別し、判定データの上限値Duを超える値のときには、この配線パターン12に断線が発生していると判別し、判定データの下限値Dl以上で、かつ上限値Du以下の範囲内の値のときには正常であると判別して、その判別結果を配線パターン12の識別符号に対応させて記憶部8に記憶させる。最後に、処理部9は、記憶部8に記憶させた各配線パターン12a〜12dについての判別結果(検査結果)を出力部10に出力(表示)させる。これにより、検査装置1による回路基板11に対する検査処理が完了する。   Therefore, when the level of the DC signal S3 for the wiring pattern 12 to be inspected is a value less than the lower limit value Dl of the determination data, the processing unit 9 determines that a short circuit has occurred in the wiring pattern 12, and the determination data When the value exceeds the upper limit value Du, it is determined that the wiring pattern 12 is disconnected. When the value is not less than the lower limit value Dl of the determination data and not more than the upper limit value Du, it is normal. The determination result is stored in the storage unit 8 in correspondence with the identification code of the wiring pattern 12. Finally, the processing unit 9 causes the output unit 10 to output (display) the discrimination results (inspection results) for the wiring patterns 12 a to 12 d stored in the storage unit 8. Thereby, the inspection process for the circuit board 11 by the inspection apparatus 1 is completed.

このように、この検査装置1では、すべての検査プローブ5が容量検出部7における対応する演算増幅器31の反転入力端子に接続されると共に、この演算増幅器31の非反転入力端子が共通の基準電位Vrに接続されているため、各演算増幅器31のイマジナリーショートにより、反転入力端子に接続されたすべての検査プローブ5は同電位(非反転入力端子の電位(基準電位Vr))となっている。したがって、この検査装置1によれば、すべての検査プローブ5a〜5dを回路基板11に形成された各配線パターン12a〜12dに同時に接続して、これら配線パターン12に対する検査を同時に実行することで検査時間の短縮を図ることができると共に、この際にも、各検査プローブ5間に存在する浮遊容量C5〜C7や、各検査プローブ5a〜5dが接触している各配線パターン12a〜12d間に存在する寄生容量C8,C9,C10の影響を受けることなく、各配線パターン12と共通電極板2との間に形成される静電容量C1〜C4の容量値に基づいて、各配線パターン12に対する検査を精度よく実行することができる。   Thus, in this inspection apparatus 1, all the inspection probes 5 are connected to the inverting input terminal of the corresponding operational amplifier 31 in the capacitance detection unit 7, and the non-inverting input terminal of the operational amplifier 31 has a common reference potential. Since it is connected to Vr, all the inspection probes 5 connected to the inverting input terminal are at the same potential (the potential of the non-inverting input terminal (reference potential Vr)) due to an imaginary short of each operational amplifier 31. . Therefore, according to the inspection apparatus 1, all inspection probes 5a to 5d are connected to the wiring patterns 12a to 12d formed on the circuit board 11 at the same time, and the inspection for the wiring patterns 12 is executed at the same time. The time can be shortened, and also at this time, the stray capacitances C5 to C7 that exist between the inspection probes 5 and the wiring patterns 12a to 12d that are in contact with the inspection probes 5a to 5d exist. Inspecting each wiring pattern 12 based on the capacitance values of the capacitances C1 to C4 formed between each wiring pattern 12 and the common electrode plate 2 without being affected by the parasitic capacitances C8, C9, and C10. Can be executed with high accuracy.

また、この検査装置1では、処理部9が、記憶部8に記憶されている各配線パターン12についての接触部位の位置情報Dpに基づいて移動部6を制御して各検査プローブ5を検査対象となる配線パターン12の接触部位に移動させて接触させる。したがって、回路基板11に形成された複数の配線パターン12に対して、高速で、かつ高精度な検査を自動的に実施することができる。   Further, in this inspection apparatus 1, the processing unit 9 controls the moving unit 6 based on the position information Dp of the contact site for each wiring pattern 12 stored in the storage unit 8 to inspect each inspection probe 5. The contact part of the wiring pattern 12 to be moved is brought into contact with it. Therefore, high-speed and high-precision inspection can be automatically performed on the plurality of wiring patterns 12 formed on the circuit board 11.

なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、上記した検査装置1では、共通電極板2に対して信号印加部4から1種類の検査信号Sc1(周波数f1)を供給する構成を採用したが、例えば、共通電極板2と各配線パターン12との間に形成される静電容量C1〜C4の容量値が大きく異なっているときには、容量値が小さい配線パターン12に対する検査信号の周波数は高くし、かつ容量値が大きな配線パターン12に対する検査信号の周波数は低くするのが好ましい。例えば、図1,2に示すように、回路基板11の上面から下面に亘って形成された配線パターン12dや、回路基板11の上面にのみ形成されている配線パターン12であっても、配線パターン12bのように面積の大きな配線パターンについては周波数の低い検査信号で検査し、他の配線パターン12a,12cのように面積の小さな配線パターンについては周波数の高い検査信号で検査するのが好ましい。   In addition, this invention is not limited to said structure. For example, in the inspection apparatus 1 described above, a configuration in which one type of inspection signal Sc1 (frequency f1) is supplied from the signal applying unit 4 to the common electrode plate 2 is employed. For example, the common electrode plate 2 and each wiring pattern When the capacitance values of the capacitances C1 to C4 formed between the wiring patterns 12 and 12 are greatly different from each other, the frequency of the inspection signal for the wiring pattern 12 having a small capacitance value is increased and the inspection for the wiring pattern 12 having a large capacitance value is performed. The signal frequency is preferably low. For example, as shown in FIGS. 1 and 2, even if the wiring pattern 12d is formed from the upper surface to the lower surface of the circuit board 11 or the wiring pattern 12 is formed only on the upper surface of the circuit board 11, the wiring pattern A wiring pattern with a large area such as 12b is preferably inspected with a low frequency inspection signal, and a wiring pattern with a small area such as the other wiring patterns 12a and 12c is preferably inspected with a high frequency inspection signal.

このため、図1,3に示す検査装置1Aのように、周波数f1の検査信号Sc1と共に周波数f2(>f1)の検査信号Sc2を同時に生成して共通電極板2に印加する信号印加部4Aと、面積の小さな配線パターン12a,12cと接触する検査プローブ5a,5cが接続される容量検出回路7a,7cでは検査信号Sc1(周波数f1)を用いて同期検波および位相比較を実行し、かつ面積の大きな配線パターン12b,12dと接触する検査プローブ5b,5dが接続される容量検出回路7b,7dでは検査信号Sc2(周波数f2)を用いて同期検波および位相比較を実行する容量検出部7Aとを備えた構成とすることもできる。なお、検査装置1における対応する各構成要素と同一の機能を有する検査装置1Aの各構成要素には、同一の符号を付して重複する説明を省略する。また、各容量検出回路7を構成するフィルタ34は、同期検波回路33および位相比較回路35で使用する周波数に対応したものを使用する。この検査装置1Aによれば、面積に応じて適切な周波数の検査信号を各配線パターン12に供給できるため、共通電極板2との間に形成される各配線パターン12の静電容量の容量値がより正確に反映された直流信号S3を容量検出部7Aにおいて生成することができ、この直流信号S3に基づいて、回路基板11の各配線パターン12に対する検査の精度をさらに高めることができる。さらに、図示はしないが、各配線パターンについての静電容量の容量値が広範囲に亘る回路基板に対しては、周波数が異なる3種以上の検査信号を発生可能な信号印加部を使用して、共通電極板2に印加させる構成を採用することもできる。   Therefore, as in the inspection apparatus 1A shown in FIGS. 1 and 3, the signal applying unit 4A that simultaneously generates the inspection signal Sc2 having the frequency f2 (> f1) and applies it to the common electrode plate 2 together with the inspection signal Sc1 having the frequency f1. In the capacitance detection circuits 7a and 7c to which the inspection probes 5a and 5c that are in contact with the wiring patterns 12a and 12c having a small area are connected, synchronous detection and phase comparison are performed using the inspection signal Sc1 (frequency f1). The capacitance detection circuits 7b and 7d to which the inspection probes 5b and 5d that are in contact with the large wiring patterns 12b and 12d are connected include a capacitance detection unit 7A that performs synchronous detection and phase comparison using the inspection signal Sc2 (frequency f2). It is also possible to adopt a configuration. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to each component of 1 A of inspection apparatuses which have the same function as each corresponding component in the inspection apparatus 1, and the overlapping description is abbreviate | omitted. Further, the filter 34 constituting each capacitance detection circuit 7 uses a filter corresponding to the frequency used in the synchronous detection circuit 33 and the phase comparison circuit 35. According to this inspection apparatus 1A, since an inspection signal having an appropriate frequency can be supplied to each wiring pattern 12 according to the area, the capacitance value of the capacitance of each wiring pattern 12 formed between the common electrode plate 2 Can be generated in the capacitance detection unit 7A, and the accuracy of inspection of each wiring pattern 12 on the circuit board 11 can be further improved based on the DC signal S3. Furthermore, although not shown, for a circuit board in which the capacitance value of each wiring pattern covers a wide range, a signal applying unit capable of generating three or more types of inspection signals having different frequencies is used. A configuration of applying to the common electrode plate 2 can also be adopted.

また、上記の例では、回路基板11に形成されたすべての配線パターン12に対して同時に検査プローブ5を接触させて、すべての配線パターン12についての検査を同時に実行する構成を採用したが、検査プローブ5の数(n個)を超える数の配線パターン12が形成されている回路基板11に対しても検査装置1を適用できるのは勿論である。この場合には、n個の検査プローブ5を同数の配線パターン12に同時に接触させて、これらの配線パターン12に対する検査を実行した後、残りの配線パターン12のうちのn個の配線パターン12にn個の検査プローブ5を移動させて接触させて検査するという工程を繰り返し実行する。これにより、検査プローブ5の数(n個)を超える数の配線パターン12が形成されている回路基板11に対しても、配線パターン12を1つずつ検査する構成と比較して大幅な検査時間の短縮を図りつつ、検査精度も十分に向上させることができる。   In the above example, the inspection probe 5 is simultaneously brought into contact with all the wiring patterns 12 formed on the circuit board 11 and the inspection for all the wiring patterns 12 is simultaneously performed. Of course, the inspection apparatus 1 can also be applied to the circuit board 11 on which the number of the wiring patterns 12 exceeding the number (n) of the probes 5 is formed. In this case, the n number of inspection probes 5 are simultaneously brought into contact with the same number of wiring patterns 12, and inspection of these wiring patterns 12 is performed, and then n wiring patterns 12 among the remaining wiring patterns 12 are applied. The process of moving and inspecting the n inspection probes 5 is repeatedly performed. As a result, even for the circuit board 11 on which the number of wiring patterns 12 exceeding the number (n) of the inspection probes 5 is formed, the inspection time is significantly longer than the configuration in which the wiring patterns 12 are inspected one by one. Inspection accuracy can be sufficiently improved while shortening.

検査装置1,1Aの構成図である。It is a lineblock diagram of inspection device 1 and 1A. 図1における回路基板11のW−W線断面図、および容量検出部7の構成図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the circuit board 11 in FIG. 図1における回路基板11のW−W線断面図、および容量検出部7Aの構成図である。It is the WW sectional view taken on the line of the circuit board 11 in FIG. 1, and the block diagram of the capacitance detection part 7A.

符号の説明Explanation of symbols

1,1A 検査装置
2 共通電極板
4,4A 信号印加部
5 検査プローブ
6 移動部
7,7A 容量検出部
8 記憶部
9 処理部
11 回路基板
12 配線パターン
31 演算増幅器
C1,C2,C3,C4 静電容量
Dp 位置情報
Sc1,Sc2 検査信号
Vr 基準電位
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A Inspection apparatus 2 Common electrode plate 4, 4A Signal application part 5 Inspection probe 6 Moving part 7, 7A Capacity | capacitance detection part 8 Memory | storage part 9 Processing part 11 Circuit board 12 Wiring pattern 31 Operational amplifier C1, C2, C3, C4 Static Capacitance Dp Position information Sc1, Sc2 Inspection signal Vr Reference potential

Claims (3)

回路基板の一方の面に沿って配設される共通電極板と、
検査信号を生成して前記共通電極板に印加する信号印加部と、
前記回路基板に形成された複数の配線パターンにおける当該回路基板の他方の面に露出する部位に接触可能なn(nは2以上の整数)個の検査プローブと、
前記n個の検査プローブのうちの対応する検査プローブが反転入力端子に接続されると共に非反転入力端子が共通の基準電位に接続されたn個の演算増幅器を有して、当該n個の検査プローブが接触しているn個の前記配線パターンの静電容量を検出する容量検出部と、
前記検出された静電容量に基づいて前記n個の配線パターンの良否を判別する処理部とを備えている回路基板検査装置。
A common electrode plate disposed along one surface of the circuit board;
A signal applying unit that generates an inspection signal and applies the inspection signal to the common electrode plate;
N (n is an integer of 2 or more) inspection probes that can contact a portion exposed on the other surface of the circuit board in the plurality of wiring patterns formed on the circuit board;
Of the n test probes, the corresponding test probe is connected to the inverting input terminal, and the non-inverting input terminal has n operational amplifiers connected to a common reference potential. A capacitance detector that detects the capacitance of the n wiring patterns in contact with the probe;
A circuit board inspection apparatus comprising: a processing unit that determines whether or not the n wiring patterns are good based on the detected capacitance.
前記信号印加部は、周波数の異なる2種以上の前記検査信号を生成して前記共通電極板に同時に印加する請求項1記載の回路基板検査装置。   The circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein the signal applying unit generates two or more types of inspection signals having different frequencies and applies them simultaneously to the common electrode plate. 前記n個の検査プローブを移動させる移動部と、
前記複数の配線パターンにおける前記検査プローブとの接触部位の位置情報が記憶された記憶部とを備え、
前記処理部は、前記記憶部に記憶されている前記位置情報に基づいて前記移動部を制御して前記各検査プローブを前記各配線パターンにおける前記接触部位に移動させる請求項1または2記載の回路基板検査装置。
A moving unit for moving the n inspection probes;
A storage unit in which position information of a contact part with the inspection probe in the plurality of wiring patterns is stored;
The circuit according to claim 1, wherein the processing unit controls the moving unit based on the position information stored in the storage unit to move the inspection probes to the contact sites in the wiring patterns. Board inspection equipment.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103245905A (en) * 2012-02-09 2013-08-14 日本电产理德株式会社 Built-in substrate inspection method
JP2014096520A (en) * 2012-11-12 2014-05-22 Hioki Ee Corp Substrate inspection apparatus, and substrate inspection method
JP2019124671A (en) * 2018-01-19 2019-07-25 浜松ホトニクス株式会社 Inspection device and inspection method
WO2021220942A1 (en) * 2020-04-28 2021-11-04 日本電産リード株式会社 Inspection device and inspection method
JP7468164B2 (en) 2020-06-04 2024-04-16 Toppanホールディングス株式会社 Wiring board and inspection method thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001153911A (en) * 1999-11-29 2001-06-08 Yokogawa Precision Kk Method and apparatus for inspecting wiring pattern
JP2003207529A (en) * 2001-09-06 2003-07-25 Sumitomo Metal Ind Ltd Sensor capacity sensing apparatus and sensor capacity sensing method
JP2005017221A (en) * 2003-06-27 2005-01-20 Nidec-Read Corp Substrate inspecting method and device therefor
JP2006200973A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Hioki Ee Corp Circuit board inspection method and its device
JP2007071774A (en) * 2005-09-08 2007-03-22 Chubu Electric Power Co Inc Insulation measuring method and apparatus therefor

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001153911A (en) * 1999-11-29 2001-06-08 Yokogawa Precision Kk Method and apparatus for inspecting wiring pattern
JP2003207529A (en) * 2001-09-06 2003-07-25 Sumitomo Metal Ind Ltd Sensor capacity sensing apparatus and sensor capacity sensing method
JP2005017221A (en) * 2003-06-27 2005-01-20 Nidec-Read Corp Substrate inspecting method and device therefor
JP2006200973A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Hioki Ee Corp Circuit board inspection method and its device
JP2007071774A (en) * 2005-09-08 2007-03-22 Chubu Electric Power Co Inc Insulation measuring method and apparatus therefor

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103245905A (en) * 2012-02-09 2013-08-14 日本电产理德株式会社 Built-in substrate inspection method
JP2013164264A (en) * 2012-02-09 2013-08-22 Nidec-Read Corp Inspection method for component built-in board
JP2014096520A (en) * 2012-11-12 2014-05-22 Hioki Ee Corp Substrate inspection apparatus, and substrate inspection method
JP2019124671A (en) * 2018-01-19 2019-07-25 浜松ホトニクス株式会社 Inspection device and inspection method
WO2019142554A1 (en) * 2018-01-19 2019-07-25 浜松ホトニクス株式会社 Inspection device and inspection method
WO2021220942A1 (en) * 2020-04-28 2021-11-04 日本電産リード株式会社 Inspection device and inspection method
JP7468164B2 (en) 2020-06-04 2024-04-16 Toppanホールディングス株式会社 Wiring board and inspection method thereof

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