JP2009096867A - Resin composition, resin molded product and its manufacturing method, belt-stretching apparatus, process cartridge, and image-forming device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition to be molded into a resin molded product that permits easy adjustment of an initial resistivity value and suppression of increase of the resistivity value with time. <P>SOLUTION: The resin composition comprises an organic acid having a total carbon number of at least 10 in the portion other than an acid group, an inorganic protonic acid, an electroconductive polymer, and a resin. The resin molded product for an image-forming device is molded using the resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂組成物、樹脂成形物及びその製造方法、ベルト張架装置、プロセスカートリッジ、並びに画像形成装置に関する。   The present invention relates to a resin composition, a resin molded product, a manufacturing method thereof, a belt stretching device, a process cartridge, and an image forming apparatus.

転写ベルト等の電子写真機器部材に用いる導電性組成物は、好適に使用するためには電気抵抗の制御が必須である。
従来、導電性組成物には、イオン導電剤、カーボンブラック等の導電剤を添加して抵抗の制御を行なってきた。
In order to use a conductive composition used for an electrophotographic apparatus member such as a transfer belt suitably, it is essential to control electric resistance.
Conventionally, resistance has been controlled by adding a conductive agent such as an ionic conductive agent or carbon black to the conductive composition.

また、抵抗変動の原因となる水分の影響を受けにくく、かつ、電圧を変化させた場合の抵抗変動も小さい導電剤として、酸を添加することにより導電性を発現するポリアニリンが知られている(例えば、特許文献1又は特許文献2参照)。
特許第3409232号公報 特開2005−194528号公報
In addition, polyaniline that exhibits conductivity by adding an acid is known as a conductive agent that is not easily affected by moisture that causes resistance fluctuations, and also has a small resistance fluctuation when the voltage is changed ( For example, see Patent Document 1 or Patent Document 2).
Japanese Patent No. 3409232 JP 2005-194528 A

しかしながら、上記ポリアニリンのような導電性高分子を用いる場合、添加する酸の種類によっては、初期において適切な抵抗値が得られなかったり、初期の抵抗値は適切でも経時において抵抗値が上昇したりすることが明らかとなった。   However, when a conductive polymer such as polyaniline is used, depending on the type of acid added, an appropriate resistance value cannot be obtained in the initial stage, or even if the initial resistance value is appropriate, the resistance value increases over time. It became clear to do.

本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、樹脂成形物を成形したときに、初期おける抵抗値の調整が容易で、かつ、繰り返し使用時における抵抗値の上昇を抑制できる樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記樹脂組成物を利用した樹脂成形物及びその製造方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、上記樹脂組成物を利用した画像形成装置用プロセスカートリッジ、ベルト張架装置及び画像形成装置を提供することをも目的とするものである。
This invention is made | formed in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objectives.
That is, an object of the present invention is to provide a resin composition in which, when a resin molded product is molded, the resistance value in the initial stage can be easily adjusted, and an increase in the resistance value during repeated use can be suppressed. To do.
Moreover, an object of this invention is to provide the resin molding using the said resin composition, and its manufacturing method. Another object of the present invention is to provide a process cartridge for an image forming apparatus, a belt stretching apparatus, and an image forming apparatus using the resin composition.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、本発明は、
請求項1に係る発明は、
酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸と、無機プロトン酸と、導電性高分子と、樹脂と、を含有する樹脂組成物である。
The above problem is solved by the following means. That is, the present invention
The invention according to claim 1
It is a resin composition containing an organic acid having a total carbon number of 10 or more at a site excluding an acid group, an inorganic protonic acid, a conductive polymer, and a resin.

請求項2に係る発明は、
前記酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸と前記無機プロトン酸との配合比(モル比〔前記酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸/前記無機プロトン酸〕)が、3/7以上7/3以下であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物である。
The invention according to claim 2
The mixing ratio of the organic acid having a total carbon number of 10 or more excluding the acid group and the inorganic protonic acid (molar ratio [the organic acid having the total carbon number of the site excluding the acid group of 10 or more / the inorganic 2. The resin composition according to claim 1, wherein the protonic acid]) is 3/7 or more and 7/3 or less.

請求項3に係る発明は、
請求項1又は請求項2に記載の樹脂組成物を用いて成形されることを特徴とする画像形成装置用の樹脂成形物である。
The invention according to claim 3
A resin molded product for an image forming apparatus, which is molded using the resin composition according to claim 1.

請求項4に係る発明は、
ロール形状であることを特徴とする請求項3に記載の画像形成装置用の樹脂成形物である。
The invention according to claim 4
The resin molded product for an image forming apparatus according to claim 3, which has a roll shape.

請求項5に係る発明は、
ベルト形状であることを特徴とする請求項3に記載の画像形成装置用の樹脂成形物である。
The invention according to claim 5
The resin molded product for an image forming apparatus according to claim 3, wherein the resin molded product is a belt shape.

請求項6に係る発明は、
帯電ロール、中間転写ベルト、記録媒体搬送ベルト、定着ベルト、又は転写ロールに用いることを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれか1項に記載の画像形成装置用の樹脂成形物である。
The invention according to claim 6
6. The resin molded product for an image forming apparatus according to claim 3, which is used for a charging roll, an intermediate transfer belt, a recording medium conveyance belt, a fixing belt, or a transfer roll. .

請求項7に係る発明は、
請求項3乃至請求項6のいずれか1項に記載の画像形成装置用の樹脂成形物を製造する方法であって、請求項1又は請求項2に記載の樹脂組成物を200℃以上300℃以下の温度で熱処理する工程を含むことを特徴とする画像形成装置用の樹脂成形物の製造方法である。
The invention according to claim 7 provides:
A method for producing a resin molded product for an image forming apparatus according to any one of claims 3 to 6, wherein the resin composition according to claim 1 or 2 is 200 ° C to 300 ° C. It is a manufacturing method of the resin molding for image forming apparatuses characterized by including the process heat-processed at the following temperatures.

請求項8に係る発明は、
請求項5に記載のベルト形状の樹脂成形物と、該ベルト形状の樹脂成形物を内面側から張架する複数の張架部材と、を備えることを特徴とする画像形成装置用のベルト張架装置である。
The invention according to claim 8 provides:
6. A belt stretcher for an image forming apparatus, comprising: the belt-shaped resin molded product according to claim 5; and a plurality of stretching members that stretch the belt-shaped resin molded product from the inner surface side. Device.

請求項9に係る発明は、
請求項3乃至請求項6のいずれか1項に記載の樹脂成形物を備えることを特徴とする画像形成装置用のプロセスカートリッジである。
The invention according to claim 9 is:
A process cartridge for an image forming apparatus comprising the resin molded product according to any one of claims 3 to 6.

請求項10に係る発明は、
請求項9に記載のプロセスカートリッジを備えることを特徴とする画像形成装置である。
The invention according to claim 10 is:
An image forming apparatus comprising the process cartridge according to claim 9.

請求項11に係る発明は、
請求項8に記載のベルト張架装置を備えることを特徴とする画像形成装置である。
The invention according to claim 11 is:
An image forming apparatus comprising the belt stretching device according to claim 8.

本発明によれば、樹脂成形物を成形したときに、初期おける抵抗値の調整が容易で、かつ、経時における抵抗値の上昇を抑制できる樹脂組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、前記樹脂組成物を利用した樹脂成形物及びその製造方法を提供することができる。さらに、本発明によれば、前記樹脂組成物を利用した画像形成装置用プロセスカートリッジ、ベルト張架装置及び画像形成装置を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when a resin molding is shape | molded, the adjustment of the resistance value in an initial stage is easy, and the resin composition which can suppress the raise of a resistance value with time can be provided.
Moreover, according to this invention, the resin molding using the said resin composition and its manufacturing method can be provided. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a process cartridge for an image forming apparatus, a belt stretching apparatus, and an image forming apparatus using the resin composition.

<樹脂組成物>
本実施形態に係る樹脂組成物は、酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸と、無機プロトン酸と、導電性高分子と、樹脂と、を含有して構成される。
樹脂組成物を上記構成とすることで、前記樹脂組成物を用いて樹脂成形物を成形した際、初期おける抵抗値の調整が容易となり、かつ、繰り返し使用時における抵抗値の上昇を抑制できる効果を奏する。
<Resin composition>
The resin composition according to the present embodiment is configured to include an organic acid having a total carbon number of 10 or more in a portion excluding acid groups, an inorganic protonic acid, a conductive polymer, and a resin.
When the resin composition has the above-described configuration, it is easy to adjust the resistance value in the initial stage when the resin composition is molded using the resin composition, and the effect of suppressing an increase in the resistance value during repeated use. Play.

上記効果が得られる原因の1つとして以下の理由が推定される。
即ち、抵抗調整に優れる無機プロトン酸は前記導電性高分子の内部にまで浸透するため、樹脂成形物を成形した際、初期の抵抗値を調整しやすい利点を有する一方で、前記導電性高分子の表面付近に結合した場合、外乱の影響を受けやすく、ドーピング効果を維持しづらく、加熱時や繰り返し使用時に抵抗上昇を引き起こしやすい欠点を有する。一方、酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸は、そのかさ高さにより、樹脂成形物を成形した際、外乱の影響を防ぐことができ、抵抗値を維持しやすい利点を有する一方、導電性高分子内部へは浸透しにくく初期の抵抗値には寄与しづらい欠点を有する。そこで、これらの酸を組み合わせて用いることで、各々の有する利点を同時に得るに留まらず、各々の有する欠点を相互に補うことも可能となり、その結果、初期抵抗値調整の容易性と繰り返し使用時の抵抗値上昇抑制との両立を図ることできるものと推定される。
The following reason is presumed as one of the causes for obtaining the above effect.
That is, since the inorganic protonic acid excellent in resistance adjustment penetrates into the inside of the conductive polymer, it has an advantage that the initial resistance value can be easily adjusted when a resin molded product is molded. In the case of bonding near the surface of the metal, there is a drawback that it is easily affected by disturbances, it is difficult to maintain the doping effect, and resistance is likely to increase during heating and repeated use. On the other hand, the organic acid having a total carbon number of 10 or more excluding the acid group can prevent the influence of disturbance when molding a resin molded product due to its bulkiness, and can easily maintain a resistance value. On the other hand, it has a drawback that it does not easily penetrate into the inside of the conductive polymer and hardly contributes to the initial resistance value. Therefore, by using these acids in combination, it is possible not only to obtain the advantages of each at the same time, but also to make up for each of the disadvantages of each, resulting in ease of initial resistance adjustment and repeated use. It is presumed that it is possible to achieve coexistence with the suppression of the increase in resistance value.

以下、樹脂組成物の各成分について説明する。
本実施形態に係る樹脂組成物は、導電性高分子に対するドーパントとして、酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸の少なくとも1種と、無機プロトン酸の少なくとも1種と、を含有する。
Hereinafter, each component of the resin composition will be described.
The resin composition according to the present embodiment includes, as a dopant for the conductive polymer, at least one organic acid having a total carbon number of 10 or more excluding acid groups and at least one inorganic protonic acid. contains.

〔酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸〕
本実施形態に係る樹脂組成物は、酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸(以下、「ドーパントA」ともいう)を少なくとも1種含有する。
即ち、前記ドーパントAは、1分子内に、少なくとも1つの酸基を有する。酸基は前記ドーパントAの1分子内に複数含まれていてもよい。
前記酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基、水酸基が挙げられる。中でも、前記効果をより効果的に得る観点からは、スルホ基が好ましい。
[Organic acid in which the total number of carbon atoms in the site excluding the acid group is 10 or more]
The resin composition according to the present embodiment contains at least one organic acid (hereinafter, also referred to as “dopant A”) having a total carbon number of 10 or more in the portion excluding the acid group.
That is, the dopant A has at least one acid group in one molecule. A plurality of acid groups may be contained in one molecule of the dopant A.
Examples of the acid group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, and a hydroxyl group. Among these, a sulfo group is preferable from the viewpoint of obtaining the above effect more effectively.

さらに、ドーパントAは、1分子内に、総炭素数が10以上である炭化水素基を少なくとも1つ有することが好ましい。
前記総炭素数が10以上である炭化水素基としては、直鎖若しくは分岐の鎖状若しくは環状アルキル基、直鎖若しくは分岐の鎖状若しくは環状アルケニル基、直鎖若しくは分岐の鎖状若しくは環状アルキニル基、アリール基、又は、これらを組み合わせた基であって、総炭素数が10以上の基が挙げられる。
中でも、前記効果をより効果的に得る観点からは、直鎖若しくは分岐のアルキル基で置換されたアリール基であって、総炭素数が10以上の基が好ましく、直鎖アルキル基で置換されたアリール基であって、総炭素数が10以上の基がより好ましい。
Further, the dopant A preferably has at least one hydrocarbon group having a total carbon number of 10 or more in one molecule.
Examples of the hydrocarbon group having a total carbon number of 10 or more include a linear or branched chain or cyclic alkyl group, a linear or branched chain or cyclic alkenyl group, a linear or branched chain or cyclic alkynyl group. , An aryl group, or a combination of these, a group having a total carbon number of 10 or more.
Among them, from the viewpoint of obtaining the above effect more effectively, an aryl group substituted with a linear or branched alkyl group, preferably a group having a total carbon number of 10 or more, and substituted with a linear alkyl group An aryl group having a total carbon number of 10 or more is more preferable.

また、前記総炭素数が10以上である炭化水素基は、酸基及び炭化水素基以外の置換基で置換されていてもよい。   The hydrocarbon group having 10 or more carbon atoms may be substituted with a substituent other than the acid group and the hydrocarbon group.

酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸の好ましい具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
例えば、アミノナフトールスルホン酸、アリルスルホン酸、ラウリル硫酸、1−デカンスルホン酸、1−ドデカンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ペンチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン酸、ジエチルベンゼンスルホン酸、ジプロピルベンゼンスルホン酸、ジブチルベンゼンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、エチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ペンチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、ヘプチルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ノニルナフタレンスルホン酸、デシルナフタレンスルホン酸、ウンデシルナフタレンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸、ペンタデシルナフタレンスルホン酸、オクタデシルナフタレンスルホン酸、ジメチルナフタレンスルホン酸、ジエチルナフタレンスルホン酸、ジプロピルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジペンチルナフタレンスルホン酸、ジヘキシルナフタレンスルホン酸、ジヘプチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、トリメチルナフタレンスルホン酸、トリエチルナフタレンスルホン酸、トリプロピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、カンファースルホン酸、アクリルアミド−t−ブチルスルホン酸、チモールブルー等を挙げることができる。
更に、多塩基酸としては、例えば、ポリビニルスルホン酸、ポリビニル硫酸、ポリスチレンスルホン酸、スルホン化スチレン−ブタジエン共重合体、ポリアリルスルホン酸、ポリメタリルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、等を挙げることができる。
これらのうち、特に、ドデシルベンゼンスルホン酸が好ましい。
Although the preferable specific example of the organic acid whose total carbon number of the site | part except an acid group is 10 or more is shown below, it is not limited to these.
For example, aminonaphtholsulfonic acid, allylsulfonic acid, laurylsulfuric acid, 1-decanesulfonic acid, 1-dodecanesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, pentylbenzenesulfonic acid, hexylbenzenesulfonic acid, heptylbenzenesulfonic acid, Octylbenzenesulfonic acid, nonylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, undecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, pentadecylbenzenesulfonic acid, octadecylbenzenesulfonic acid, diethylbenzenesulfonic acid, dipropylbenzenesulfonic acid, dibutylbenzenesulfone Acid, methylnaphthalenesulfonic acid, ethylnaphthalenesulfonic acid, propylnaphthalenesulfonic acid, butylnaphthalenesulfonic acid, pentylnaphthalene Sulfonic acid, hexylnaphthalenesulfonic acid, heptylnaphthalenesulfonic acid, octylnaphthalenesulfonic acid, nonylnaphthalenesulfonic acid, decylnaphthalenesulfonic acid, undecylnaphthalenesulfonic acid, dodecylnaphthalenesulfonic acid, pentadecylnaphthalenesulfonic acid, octadecylnaphthalenesulfonic acid, Dimethylnaphthalenesulfonic acid, diethylnaphthalenesulfonic acid, dipropylnaphthalenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, dipentylnaphthalenesulfonic acid, dihexylnaphthalenesulfonic acid, diheptylnaphthalenesulfonic acid, dioctylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, trimethylnaphthalene Sulfonic acid, triethylnaphthalenesulfonic acid, tripropylnaphthalenesulfonic acid, Li butyl naphthalenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, acrylamide -t- butyl sulfonic acid, and thymol blue, and the like.
Furthermore, examples of the polybasic acid include polyvinyl sulfonic acid, polyvinyl sulfuric acid, polystyrene sulfonic acid, sulfonated styrene-butadiene copolymer, polyallyl sulfonic acid, polymethallyl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methyl. Examples thereof include propane sulfonic acid and polyisoprene sulfonic acid.
Of these, dodecylbenzenesulfonic acid is particularly preferable.

〔無機プロトン酸〕
本実施形態に係る樹脂組成物は、無機プロトン酸(以下、「ドーパントB」ともいう)を少なくとも1種含有する。
無機プロトン酸の種類としては特に限定はなく、リン酸、塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、ホウ酸、炭酸、過塩素酸等を挙げることができる。
中でも、リン酸、塩酸、硫酸が好ましく、リン酸がより好ましい。
[Inorganic protonic acid]
The resin composition according to the present embodiment contains at least one inorganic protonic acid (hereinafter also referred to as “dopant B”).
There are no particular limitations on the type of inorganic protonic acid, and examples include phosphoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrofluoric acid, hydrobromic acid, boric acid, carbonic acid, and perchloric acid.
Among these, phosphoric acid, hydrochloric acid, and sulfuric acid are preferable, and phosphoric acid is more preferable.

前述のドーパントA又は前述のドーパントBとしては、以下の酸解離定数を示す酸を少なくとも1種含むことが好ましい。
即ち、酸解離定数pKaが5以下であるプロトン酸を用いることが好ましく、pKaが1以上4以下の範囲のプロトン酸が特に好ましく用いられる。プロトン酸の形態としては1塩基酸、2塩基酸、3塩基酸、多塩基酸などいかなる形態の酸も用いることができる。例えば、3塩基酸であるリン酸の場合、リン酸に含まれる3個のプロトンのpKaは:pKa1=2.1,pKa2=7.2,pKa3=12.3であり、プロトンの2個分はpKaが5を超えるため、本実施形態においては、リン酸は、プロトン1個のみが有効なプロトン酸としてポリアニリンの構成単位ユニットに対して使用されるよう制御して添加する。プロトン酸の種類としては、例えば、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物、ホスホン酸化合物が好適に用いられる。
The dopant A or the dopant B preferably includes at least one acid having the following acid dissociation constant.
That is, it is preferable to use a protonic acid having an acid dissociation constant pKa of 5 or less, and a protonic acid having a pKa in the range of 1 to 4 is particularly preferably used. As the form of the protonic acid, any form of acid such as monobasic acid, dibasic acid, tribasic acid, and polybasic acid can be used. For example, in the case of phosphoric acid which is a tribasic acid, the pKa of three protons contained in phosphoric acid is: pKa1 = 2.1, pKa2 = 7.2, pKa3 = 12.3, and two protons In this embodiment, phosphoric acid is added in a controlled manner so that only one proton is used as an effective protonic acid for the structural unit of polyaniline. As the type of proton acid, for example, a sulfonic acid compound, a carboxylic acid compound, and a phosphonic acid compound are preferably used.

〔ドーパントの好ましい形態〕
以上で説明したドーパントAとドーパントBとの好ましい組み合わせとしては、前記効果をより効果的に得る観点からは、ドーパントAが、直鎖アルキル基で置換されたアリール基を有する有機酸(より好ましくは、ドデシルベンゼンスルホン酸)であって、ドーパントBが、リン酸である組み合わせが好ましい。
[Preferred form of dopant]
As a preferable combination of the dopant A and the dopant B described above, from the viewpoint of obtaining the above effect more effectively, the dopant A is an organic acid having an aryl group substituted with a linear alkyl group (more preferably , Dodecylbenzenesulfonic acid), and the dopant B is preferably phosphoric acid.

次に、前記効果をより効果的に得る観点から、ドーパントAとドーパントBとの好ましい添加量について説明する。
即ち、前記樹脂組成物中における、前記ドーパントAと前記ドーパントBとのモル比〔前記ドーパントA/前記ドーパントB〕は、3/7以上7/3以下が好ましく、5/5以上7/3以下がより好ましい。
また、前記樹脂組成物中における、ドーパントA及びドーパントBの総添加量は、導電性高分子の繰り返し単位1モルに対し、0.25モル以上1.2モル以下が好ましく、0.25モル以上0.75モル以下がより好ましい。
Next, from the viewpoint of obtaining the above effect more effectively, preferable addition amounts of the dopant A and the dopant B will be described.
That is, the molar ratio of the dopant A to the dopant B [the dopant A / the dopant B] in the resin composition is preferably 3/7 or more and 7/3 or less, and preferably 5/5 or more and 7/3 or less. Is more preferable.
The total amount of dopant A and dopant B in the resin composition is preferably 0.25 mol or more and 1.2 mol or less, and 0.25 mol or more, with respect to 1 mol of the repeating unit of the conductive polymer. 0.75 mol or less is more preferable.

〔導電性高分子〕
本実施形態に係る樹脂組成物は、導電性高分子を少なくとも1種含有する。
前記導電性高分子の粒径としては、0.1μm以上1.0μm以下であることが好ましい。
前記導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等を挙げることができるが、中でも、ポリアニリンが好ましい。本実施形態におけるポリアニリンは、上述の通り、導電材料として用いられるもので、該ポリアニリンの合成・構造については、特開平3−28229号公報に詳しく述べられている。
本実施形態におけるポリアニリンは、アニリン又はアニリン誘導体から酸化重合法にて容易に製造することができる。以下に示すように、ポリアニリンの主鎖中の構造単位は、酸化還元により、A:ロイコエメラルジン、B:エメラルジン、C:ペルニグラニリン、D:エメラルジン塩の4構造を取るとされている。
[Conductive polymer]
The resin composition according to this embodiment contains at least one conductive polymer.
The particle size of the conductive polymer is preferably 0.1 μm or more and 1.0 μm or less.
Examples of the conductive polymer include polyaniline, polypyrrole, polythiophene, etc. Among them, polyaniline is preferable. The polyaniline in this embodiment is used as a conductive material as described above, and the synthesis and structure of the polyaniline are described in detail in JP-A-3-28229.
The polyaniline in this embodiment can be easily produced from aniline or an aniline derivative by oxidative polymerization. As shown below, the structural unit in the main chain of polyaniline is supposed to take four structures of A: leuco emeraldine, B: emeraldine, C: pernigraniline, D: emeraldine salt by oxidation-reduction.

Figure 2009096867
Figure 2009096867

この中でも、エメラルジン構造を持つポリアニリンがドーピングの時に一番高い電気伝導度を持ち、空気の中で安定なので一番有用である。ポリアニリンは通常においては酸化されやすいため、導電性向上、安定化のためにはパーニグルアニリン構造がより少ないことが好ましく、より還元状態からドーピング処理することで効率よくドーピングすることができる。本実施形態では還元剤を用いて還元処理し、溶媒中に溶解し、ドーピング処理を行なうことで本実施形態の中間転写体を形成しうる樹脂組成物が得られる。
ここで、上記還元剤としては、フェニルヒドラジン、ヒドラジン、ヒドラジン水和物、硫酸ヒドラジン、塩酸ヒドラジン等のヒドラジン化合物、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等の還元性水素化金属化合物等が好適に用いられる。
Of these, polyaniline having an emeraldine structure is most useful because it has the highest electrical conductivity during doping and is stable in air. Since polyaniline is usually easily oxidized, it is preferable that there is less perniguraniline structure in order to improve and stabilize conductivity, and it can be efficiently doped by doping from a reduced state. In this embodiment, the resin composition which can form the intermediate transfer body of this embodiment is obtained by carrying out the reduction process using a reducing agent, melt | dissolving in a solvent, and performing a doping process.
Here, as the reducing agent, phenylhydrazine, hydrazine, hydrazine hydrate, hydrazine compounds such as hydrazine sulfate and hydrazine hydrochloride, and reducing metal hydride compounds such as lithium aluminum hydride and lithium borohydride are preferable. Used.

ポリアニリンの合成は、特開平3−28229号公報に詳細に記載されているように、プロトン酸の存在下に溶剤中にてアニリンに温度を5℃以下、好ましくは0℃以下の温度を保持しつつ、酸化剤を作用させて酸化重合を行い、プロトン酸を用いてドープされたアニリンの酸化重合体(以下、ドープされたポリアニリンという。)を生成させる。次いで、このドープされたポリアニリンを塩基性物質によって脱ドープすることによって得ることができる。
また、市販品としては、パニポール社製「Panipol PA」が挙げられる。
In the synthesis of polyaniline, as described in detail in JP-A-3-28229, the temperature of aniline is maintained at 5 ° C. or lower, preferably 0 ° C. or lower in a solvent in the presence of a protonic acid. Meanwhile, an oxidizing agent is allowed to act to conduct oxidative polymerization to produce an oxidized polymer of aniline doped with protonic acid (hereinafter referred to as doped polyaniline). This doped polyaniline can then be obtained by undoping with a basic material.
Moreover, as a commercial item, "Panipol PA" by Panipol is mentioned.

なお、ポリアニリンは通常においては酸化されやすいため、導電性向上、安定化のためにはパーニグルアニリン構造がより少ないことが好ましく、より還元状態からドーピング処理することで効率よくドーピングすることができる。本実施形態では、フェニルヒドラジン、ヒドラジン、ヒドラジン水和物、硫酸ヒドラジン、塩酸ヒドラジン等のヒドラジン化合物や、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等の還元性水素化金属化合物等の還元剤を用いて還元処理し、溶媒中に溶解し、ドーピング処理を行なうことで、脱ドープ状態のポリアニリンを得る。   In addition, since polyaniline is usually easily oxidized, it is preferable that there is less perniguraniline structure in order to improve conductivity and stabilize it, and it can be efficiently doped by doping treatment from a reduced state. In this embodiment, a reducing agent such as phenylhydrazine, hydrazine, hydrazine hydrate, hydrazine compounds such as hydrazine sulfate and hydrazine hydrochloride, and reducible metal hydride compounds such as lithium aluminum hydride and lithium borohydride is used. A reduction treatment, dissolution in a solvent, and a doping treatment are performed to obtain polyaniline in a dedope state.

樹脂組成物中の脱ドープ状態のポリアニリンの添加量(使用量)は、発現させる導電度によって適宜調整される。一般的には、樹脂組成物中の樹脂100質量部に対して、添加されるポリアニリンは、3質量部以上20質量部以下が好ましく、より好ましくは5質量部以上15質量部以下である。
また、脱ドープ状態のポリアニリンの数平均分子量は、4000以上400000以下であることが好ましい。
The addition amount (use amount) of the dedope polyaniline in a resin composition is suitably adjusted with the electrical conductivity made to express. Generally, the added polyaniline is preferably 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and more preferably 5 parts by mass or more and 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin in the resin composition.
Moreover, it is preferable that the number average molecular weights of polyaniline in a dedope state are 4000 or more and 400000 or less.

〔樹脂〕
本実施形態に係る樹脂組成物は、樹脂を少なくとも1種含有する。
前記樹脂としては、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネートが挙げられる。
〔resin〕
The resin composition according to this embodiment contains at least one resin.
Examples of the resin include polyamic acid, polyimide, polyamideimide, and polycarbonate.

(ポリアミドイミド)
前記ポリアミドイミドは、酸クロリド法またはイソシアネート法など公知の方法で製造することができる。
例えば、ポリアミドイミドは、酸成分と、ジアミンと、を有機極性溶媒中で、60℃以上200℃以下、好ましくは100℃以上180℃以下に加熱しながら攪拌することで容易に製造することができる。
(Polyamideimide)
The polyamideimide can be produced by a known method such as an acid chloride method or an isocyanate method.
For example, polyamideimide can be easily produced by stirring the acid component and the diamine in an organic polar solvent while heating at 60 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. .

上記酸成分としてはトリメリット酸およびその酸無水物または酸塩化物、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルスルホンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、プロピレングリコールビストリメリテート等のテトラカルボン酸およびこれらの酸無水物、シュウ酸、アジピン酸、マロン酸、セバチン酸、アゼライン酸、ドデカンジカルボン酸、ジカルボキシポリブタジエン、ジカルボキシポリ(アクリロニトリル−ブタジエン)、ジカルボキシポリ(スチレン−ブタジエン)等の脂肪族ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジカルボン酸、ダイマー酸等の脂環族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸等が挙げられ、これらの中では反応性、耐熱性、溶解性などの点からトリメリット酸無水物および1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸等のシクロヘキサンジカルボン酸が好ましい。   Examples of the acid component include trimellitic acid and its acid anhydride or acid chloride, pyromellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, biphenylsulfonetetracarboxylic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, biphenylethertetracarboxylic acid, ethylene glycol bistrimellitate, Tetracarboxylic acids such as propylene glycol bis trimellitate and their anhydrides, oxalic acid, adipic acid, malonic acid, sebacic acid, azelaic acid, dodecanedicarboxylic acid, dicarboxypolybutadiene, dicarboxypoly (acrylonitrile-butadiene), di Aliphatic dicarboxylic acids such as carboxypoly (styrene-butadiene), 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 4,4'-dicyclohexylmethane dicar Examples include alicyclic dicarboxylic acids such as acid and dimer acid, aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, and naphthalenedicarboxylic acid. Among these, reactivity, heat resistance And cyclohexanedicarboxylic acid such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid are preferable from the viewpoints of solubility and solubility.

上記ジアミン(ジイソシアネート)としてはエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミンおよびこれらのジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジアミン、1,3−シクロヘキサンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の脂環族ジアミンおよびこれらのジイソシアネート、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン、o−トリジン、2,4−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、キシリレンジアミン等の芳香族ジアミンおよびこれらのジイソシアネート等が挙げられ、これらの中では耐熱性、機械的特性、溶解性などから4,4’−ジアミノジフェニルメタン(ジイソシアネート)、イソホロンジアミン(ジイソシアネート)、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン(ジイソシアネート)等が好ましい。   Examples of the diamine (diisocyanate) include aliphatic diamines such as ethylenediamine, propylenediamine, and hexamethylenediamine, and diisocyanates thereof, 1,4-cyclohexanediamine, 1,3-cyclohexanediamine, isophoronediamine, and 4,4′-diaminodicyclohexylmethane. Alicyclic diamines such as these and their diisocyanates, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, benzidine, o- Examples include aromatic diamines such as toridine, 2,4-tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine, and xylylenediamine, and diisocyanates thereof. Properties, etc. solubility of 4,4'-diaminodiphenylmethane (diisocyanate), isophorone diamine (diisocyanate), 4,4'-diaminodicyclohexylmethane (diisocyanate) and the like are preferable.

前記有機極性溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド等を挙げることができる。これらの有機極性溶媒には、必要に応じて、クレゾール、フェノール、キシレノール等のフェノール類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類を混合することができる、これらの溶剤も、単独で又は2種類以上の混合物として用いることができる。   Examples of the organic polar solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphortriamide and the like. These organic polar solvents can be mixed with phenols such as cresol, phenol, and xylenol, and hydrocarbons such as hexane, benzene, and toluene as necessary. These solvents can be used alone or in two kinds. It can be used as a mixture of the above.

(ポリアミック酸)
前記ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを重縮合させてなるものであり、例えば、前記両性分を実質的に等モル量を有機極性溶媒中で重合反応させて得られるものである。なお、ポリアミック酸は、部分イミド化していてもよい。
以下、テトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物について説明する。
(Polyamic acid)
The polyamic acid is obtained by polycondensation of tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound. For example, the polyamic acid is obtained by polymerizing a substantially equimolar amount of the amphoteric component in an organic polar solvent. It is. In addition, the polyamic acid may be partially imidized.
Hereinafter, the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound will be described.

〜テトラカルボン酸二無水物〜
ポリアミック酸の製造に用いられ得るテトラカルボン酸二無水物としては、特に制限はなく、芳香族系、脂肪族系いずれの化合物も使用できる。
芳香族系テトラカルボン酸としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン二無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン二無水物等を挙げることができる。
-Tetracarboxylic dianhydride-
There is no restriction | limiting in particular as tetracarboxylic dianhydride which can be used for manufacture of a polyamic acid, Either an aromatic type or an aliphatic type compound can be used.
Examples of the aromatic tetracarboxylic acid include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzoenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl sulfone. Tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyl Ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-tetraphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 1, 2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) Diphenylsulfo Dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-perfluoroisopropylidenediphthalic dianhydride, 3,3 ′ , 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthal Acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenyl ether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4′-diphenylmethane dianhydride, and the like.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族又は脂環式テトラカルボン酸二無水物;1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン等の芳香環を有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。   Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides include butane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutane. Tetracarboxylic acid, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 3,5,6-tricarboxynorbonane-2-acetic acid dianhydride Anhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofural) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic dianhydride, An aliphatic or alicyclic tetracarboxylic dianhydride such as bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride; 4 5,9b-Hexahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5-methyl -5- (Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl Examples include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides having an aromatic ring such as -5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione. Can do.

本実施形態に使用されるテトラカルボン酸二無水物としては、芳香族系テトラカルボン酸二無水物が好ましく、更に、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、が最適に使用される。
これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
The tetracarboxylic dianhydride used in the present embodiment is preferably an aromatic tetracarboxylic dianhydride, and more preferably pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic. Acid dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, is optimally used.
These tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more.

〜ジアミン化合物〜
次に、ポリアミック酸の製造に用いられ得るジアミン化合物は、分子構造中に2つのアミノ基を有するジアミン化合物であれば特に限定されない。
具体的には、例えば、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、5−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、3,5−ジアミノ−3’−トリフルオロメチルベンズアニリド、3,5−ジアミノ−4’−トリフルオロメチルベンズアニリド、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,7−ジアミノフルオレン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)、2,2’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノ−5,5’−ジメトキシビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’ −ビス(4−アミノフェノキシ)−ビフェニル、1,3’ −ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’ −(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’ −(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル等の芳香族ジアミン;ジアミノテトラフェニルチオフェン等の芳香環に結合された2個のアミノ基と当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン;1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソフォロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6,2,1,02.7]−ウンデシレンジメチルジアミン、4,4’ −メチレンビス(シクロヘキシルアミン)等の脂肪族ジアミン及び脂環式ジアミン等を挙げることができる。
~ Diamine compound ~
Next, the diamine compound that can be used for the production of the polyamic acid is not particularly limited as long as it is a diamine compound having two amino groups in the molecular structure.
Specifically, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 5-amino-1- (4′-aminophenyl) -1,3,3 -Trimethylindane, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,5-diamino-3'-trifluoromethylbenzanilide 3,5-diamino-4′-trifluoromethylbenzanilide, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 2,7-dia Nofluorene, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4'-methylene-bis (2-chloroaniline), 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'- Diaminobiphenyl, 2,2′-dichloro-4,4′-diamino-5,5′-dimethoxybiphenyl, 3,3′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diamino-2,2 '-Bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 1, 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) -biphenyl, 1,3′-bis (4-aminophenoxy) benzene, 9,9-bis (4-a Nophenyl) fluorene, 4,4 ′-(p-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 4,4 ′-(m-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 2,2′-bis [4- (4-amino-2-trifluoro) Aromatic diamines such as methylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4′-bis [4- (4-amino-2-trifluoromethyl) phenoxy] -octafluorobiphenyl; aromatic rings such as diaminotetraphenylthiophene An aromatic diamine having two bonded amino groups and a hetero atom other than the nitrogen atom of the amino group; 1,1-metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, octa Methylenediamine, nonamethylenediamine, 4,4-diaminoheptamethyle Diamine, 1,4-diaminocyclohexane, isophorone diamine, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro-4,7-methanoindanylene methylene diamine, tricyclo [6,2,1,02.7] -undecylenedimethyl Examples include diamines, aliphatic diamines such as 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), and alicyclic diamines.

本実施形態に使用されるジアミン化合物としては、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’ −ジアミノジフェニルエーテル、4,4’ −ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’ −ジアミノジフェニルスルフォン、が好ましい。
これらのジアミン化合物は単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
Examples of the diamine compound used in the present embodiment include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, and 4,4′-diaminodiphenylsulfone. Are preferred.
These diamine compounds can be used alone or in combination of two or more.

〜テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との好ましい組み合わせ〜
本実施形態におけるポリアミック酸としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族系ジアミンとからなるものが好ましい。さらにはビフェニルテトラカルボン酸二無水物とオキシジアニリンからなるものが好ましい。
~ Preferable combination of tetracarboxylic dianhydride and diamine compound ~
As a polyamic acid in this embodiment, what consists of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine is preferable. Furthermore, what consists of biphenyltetracarboxylic dianhydride and oxydianiline is preferable.

〜合成溶媒〜
このポリアミック酸の生成反応に使用される有機極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−、又はp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系或いはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更には、キシレン、トルエンのような芳香族炭化水素も使用可能である。
~ Synthetic solvent ~
Examples of the organic polar solvent used in the polyamic acid production reaction include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, N, Acetamide solvents such as N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m-, or p-cresol Phenol solvents such as xylenol, halogenated phenol and catechol, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and dioxolane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and butanol, cellosolve such as butyl cellosolve and hexamethyl. Phosphoramides, .gamma.-butyrolactone, etc. can be mentioned, but it is desirable to use them alone or as a mixture, further, xylene, aromatic hydrocarbons such as toluene can be used.

〜ポリアミック酸重合時の固形分濃度〜
ポリアミック酸重合時の反応溶液中の固形分濃度は特に規定されるものではないが、5質量%以上50質量%以下が好ましく、特に10質量%以上30質量%以下が好適である。固形分濃度が5質量%未満であるとポリアミック酸の重合度が低く、最終的に得られる成型体の強度が低下する場合がある。また、重合時の固形分濃度が、50質量%より高いと原料モノマーの不溶部が生じ反応が進行しない場合がある。
-Solid content concentration during polyamic acid polymerization-
The solid content concentration in the reaction solution during the polyamic acid polymerization is not particularly specified, but is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less. When the solid content concentration is less than 5% by mass, the polymerization degree of the polyamic acid is low, and the strength of the finally obtained molded product may be lowered. Moreover, when the solid content concentration at the time of polymerization is higher than 50% by mass, an insoluble part of the raw material monomer may be generated and the reaction may not proceed.

〜ポリアミック酸重合温度〜
ポリアミック酸重合時の反応温度としては、0℃以上80℃以下の範囲で行われることが好ましい。反応温度が0℃以下であると、溶液の粘度が高くなる場合があり、反応系の攪拌が十分に行うことができなくなる場合がある。また、反応温度が80℃より高くなると、ポリアミック酸の重合と平行して、一部イミド化反応が起こる場合があるため、反応制御の点で問題がある場合がある。
~ Polyamic acid polymerization temperature ~
The reaction temperature during the polyamic acid polymerization is preferably 0 ° C or higher and 80 ° C or lower. If the reaction temperature is 0 ° C. or lower, the viscosity of the solution may increase, and the reaction system may not be sufficiently stirred. Further, when the reaction temperature is higher than 80 ° C., a part of imidization reaction may occur in parallel with the polymerization of polyamic acid, which may cause a problem in terms of reaction control.

〔溶媒〕
本実施形態にかかる樹脂組成物は、溶媒の少なくとも1種を含有してもよい。
前記溶媒としては特に限定はないが、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−、又はp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系或いはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトンなどを挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、更には、キシレン、トルエンのような芳香族炭化水素も使用可能である。
〔solvent〕
The resin composition according to this embodiment may contain at least one solvent.
The solvent is not particularly limited. For example, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N , N-diethylacetamide and other acetamide solvents, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone and other pyrrolidone solvents, phenol, o-, m-, or p-cresol, xylenol, halogenated phenol , Phenol solvents such as catechol, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and dioxolane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and butanol, cellosolve such as butyl cellosolve or hexamethylphosphoramide, γ-butyro Etc. can be exemplified lactone, but it is desirable to use them alone or as a mixture, further, xylene, aromatic hydrocarbons such as toluene can be used.

この溶媒は樹脂組成物を調製する際に用いられてもよい。また、この溶媒は、上述のポリアミック酸重合時から使用しても、ポリアミック酸重合後に所定の溶媒に置換してもよい。溶媒の置換には、ポリアミック酸重合後の溶液に、所定量の溶剤を添加して希釈する方法、ポリイミドポリマーを再沈殿した後に、所定の溶媒中に再溶解させる方法、溶剤を徐々に留去しながら所定の溶媒を添加して組成を調整する方法のいずれでもよい。
ポリアミック酸組成物中のポリアミック酸の濃度は、10質量部以上50質量部以下の範囲で調整されることが好ましい。
This solvent may be used in preparing the resin composition. Moreover, this solvent may be used from the above-mentioned polyamic acid polymerization or may be replaced with a predetermined solvent after the polyamic acid polymerization. For solvent replacement, a method in which a predetermined amount of solvent is added to the polyamic acid polymerization solution for dilution, a method in which the polyimide polymer is reprecipitated and then re-dissolved in the predetermined solvent, and the solvent is gradually distilled off. Any of the methods for adjusting the composition by adding a predetermined solvent may be used.
The concentration of the polyamic acid in the polyamic acid composition is preferably adjusted in the range of 10 to 50 parts by mass.

また、この溶媒はポリアニリン液を調製する際に用いられてもよい。その場合、ポリアニリン液中のポリアニリンの含有量は、0.1質量%以上30質量%以下の範囲で調整されることが好ましい。   This solvent may also be used when preparing a polyaniline solution. In that case, the content of polyaniline in the polyaniline liquid is preferably adjusted in the range of 0.1% by mass to 30% by mass.

〔添加剤〕
また、樹脂組成物に添加することができる任意成分(添加剤)としては、カーボンブラック等が挙げられる。
〔Additive〕
Moreover, carbon black etc. are mentioned as an arbitrary component (additive) which can be added to a resin composition.

(カーボンブラック)
任意成分であるカーボンブラックは、例えば、樹脂組成物を用いて得られる樹脂成形物の抵抗値を調整する目的で用いられる。
例えば、ポリアミック酸組成物を用いて、電子写真方式の画像形成装置に適用されるポリイミド無端ベルトを得る場合、カーボンブラックの添加量は、ポリアミック酸組成物中のポリアミック酸100質量部に対して、0質量部以上20質量部以下であることが好ましく、5質量部以上10質量部以下であることがより好ましい。カーボンブラックの添加量が20質量部を超えると所望の抵抗値が得られ難くなる。更に、カーボンブラックを5質量部以上10質量部以下含有させることにより、その効果が最大限発揮させることができ、表面抵抗率の面内ムラや電界依存性を顕著に向上させることができる。
(Carbon black)
Carbon black, which is an optional component, is used, for example, for the purpose of adjusting the resistance value of a resin molded product obtained using the resin composition.
For example, when using a polyamic acid composition to obtain a polyimide endless belt applied to an electrophotographic image forming apparatus, the amount of carbon black added is 100 parts by mass of the polyamic acid in the polyamic acid composition. It is preferably 0 to 20 parts by mass, and more preferably 5 to 10 parts by mass. When the added amount of carbon black exceeds 20 parts by mass, it becomes difficult to obtain a desired resistance value. Furthermore, by containing 5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less of carbon black, the effect can be exhibited to the maximum, and the in-plane unevenness and electric field dependency of the surface resistivity can be remarkably improved.

以上、樹脂組成物について説明したが、これらの実施の態様のみについて限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の知識に基づき、種々なる改良、変更、修正を加えた態様で実施しうるものである。   Although the resin composition has been described above, the present invention is not limited only to these embodiments, and various improvements, changes, and modifications are made based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the resin composition. Can be implemented.

<画像形成装置用の樹脂成形物及びその製造方法>
本実施形態に係る画像形成装置用の樹脂成形物は、前述の樹脂組成物を用いて成形される。この際、ロール形状やベルト形状に成形される形態が好適である。
<Resin molding for image forming apparatus and method for producing the same>
The resin molded product for an image forming apparatus according to the present embodiment is molded using the above-described resin composition. At this time, a form formed into a roll shape or a belt shape is preferable.

ロール形状の画像形成装置用の樹脂成形物は、帯電ロール、又は転写ロールなどに適用することができる。
また、ベルト形状の画像形成装置用の樹脂成形物は、中間転写ベルト、記録媒体搬送ベルト、又は定着ベルトなどに適用することができる。当該ベルトを複数の回転可能な張架部材に張架させて、ベルト張架装置とすることができる。
The roll-shaped resin molded product for an image forming apparatus can be applied to a charging roll or a transfer roll.
Further, the resin molded product for the belt-shaped image forming apparatus can be applied to an intermediate transfer belt, a recording medium conveyance belt, a fixing belt, or the like. The belt can be stretched on a plurality of rotatable stretching members to form a belt stretching device.

以下、樹脂成形物の製造方法の例として、無端ベルトの製造方法の例について説明する。
無端ベルトの製造方法は、以下(1)〜(4)の4つの形態に大別することができる。
(1) 前述の樹脂組成物を塗布液状に構成し、円筒状の金型を用い、その内側または外側に、前記樹脂組成物を塗布し、熱処理して乾燥あるいは硬化させた後、金型から取り出し、継目のない無端ベルトとする形態である。
(2) 前述の樹脂組成物を熱処理し、リングダイ等よりチューブ押し出し成形し、適当な長さに切り取り、継目のない無端ベルトとする形態である。
(3) 前述の樹脂組成物を熱処理し、Tダイなどよりフィルム状に押出し成形し、適当な大きさに切り出し、対向する両端部を互いに継ぎ合せ、無端状ベルトとする形態である。
(4) 前述の樹脂組成物を塗布液状に構成し、前記樹脂組成物をTダイ等の押し出しコートにより成膜し、熱処理して乾燥あるいは硬化させてシート状に成形した後、該シートを必要な大きさに切り出し、対向する両端部を互いに継ぎ合せて無端状ベルトとする形態である。
Hereinafter, the example of the manufacturing method of an endless belt is demonstrated as an example of the manufacturing method of a resin molding.
The manufacturing method of the endless belt can be roughly divided into the following four forms (1) to (4).
(1) The above-mentioned resin composition is applied in a liquid form, a cylindrical mold is used, the resin composition is applied to the inside or outside of the mold, heat-treated and dried or cured, and then from the mold. It is a form which is taken out and is a seamless endless belt.
(2) The above-described resin composition is heat-treated, extruded through a ring die or the like, cut into an appropriate length, and formed into a seamless endless belt.
(3) The above resin composition is heat-treated, extruded into a film shape from a T-die or the like, cut into an appropriate size, and opposite ends are joined together to form an endless belt.
(4) The above resin composition is made into a coating liquid, the resin composition is formed into a film by extrusion coating such as a T-die, heat-treated and dried or cured to form a sheet, and then the sheet is required It is a form which cuts out to a large size and joins both opposite ends to each other to form an endless belt.

以下、上記(1)の形態について、ポリアミドイミド樹脂組成物を用いた場合の具体例について説明する。
この形態は、ポリアミドイミド樹脂組成物を、200℃以上300℃以下の最高温度で加熱する加熱工程を有する形態である。
Hereinafter, specific examples in the case of using the polyamideimide resin composition will be described with respect to the form (1).
This form is a form having a heating step of heating the polyamideimide resin composition at a maximum temperature of 200 ° C. or higher and 300 ° C. or lower.

詳細には、まず、ポリアミドイミド樹脂組成物を、円筒形基材である円筒状金型の内面若しくは外面に塗布する(塗布工程)。
なお、金型の代わりに、樹脂製、ガラス製、セラミック製など、従来既知の様々な素材の円筒形の成形型を用いることもできる。また、金型や成形型の表面にガラスコートやセラミックコートなどを設けること、また、シリコーン系やフッ素系の剥離剤を使用することも適宜選択されうる。
なお、円筒状金型に対するクリアランス調整がなされた膜厚制御用金型を、円筒形金型に通し平行移動させることで、余分な溶液を排除し、円筒状金型上の溶液の厚みを均一にする方法を適用してもよい。ここで、円筒状金型上へ塗布液を塗布する段階で、塗布液の均一な厚み制御がなされていれば、特に、膜厚制御用金型を用いなくてもよい。
Specifically, first, the polyamideimide resin composition is applied to the inner surface or the outer surface of a cylindrical mold that is a cylindrical substrate (application step).
Instead of the mold, cylindrical molds of various known materials such as resin, glass, and ceramic can be used. It is also possible to appropriately select to provide a glass coat, a ceramic coat or the like on the surface of the mold or mold, and to use a silicone-based or fluorine-based release agent.
In addition, by moving the film thickness control mold with the clearance adjusted to the cylindrical mold parallel through the cylindrical mold, the excess solution is eliminated and the thickness of the solution on the cylindrical mold is uniform. You may apply the method. Here, as long as the uniform thickness control of the coating liquid is performed at the stage of applying the coating liquid onto the cylindrical mold, it is not particularly necessary to use a film thickness control mold.

次に、ポリアミドイミド樹脂組成物が塗布された円筒状金型を、回転しながら加熱する環境に置き、ポリアミドイミド樹脂組成物中の溶媒の30質量%以上好ましくは50質量%以上を揮発させるための乾燥を行う(1次乾燥処理)。
この際、乾燥温度は50℃以上150℃以下の範囲であることが好ましい。
Next, in order to volatilize 30% by mass or more, preferably 50% by mass or more, of the solvent in the polyamide-imide resin composition by placing the cylindrical mold coated with the polyamide-imide resin composition in an environment where it is heated while rotating. Is dried (primary drying treatment).
At this time, the drying temperature is preferably in the range of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.

更に、この円筒状金型を、少なくとも200℃以上300℃以下の最高温度で10分間以上60分間以下加熱して、溶剤を揮発させる(2次乾燥処理)。
なお、この2次乾燥処理が、樹脂成形物の製造方法の熱処理する工程に相当する。なお、以下では、この2次乾燥処理を適宜、加熱工程と称する。
Further, the cylindrical mold is heated at a maximum temperature of at least 200 ° C. to 300 ° C. for 10 minutes to 60 minutes to volatilize the solvent (secondary drying treatment).
In addition, this secondary drying process is corresponded to the process of heat-processing of the manufacturing method of a resin molding. Hereinafter, this secondary drying process is appropriately referred to as a heating process.

加熱工程において、最高温度が200℃を下回ると、得られる半導電性部材の1次乾燥処理及び2次乾燥処理が不十分となる場合があり、機械的特性が低下する場合がある。加熱工程において、最高温度が300℃を上回る場合には、ポリアニリンの分解劣化を生じることにより、得られる半導電性部材の機械的特性が低下する場合があると共に、導電効率が低下する場合がある。   In the heating step, when the maximum temperature is lower than 200 ° C., the primary drying process and the secondary drying process of the obtained semiconductive member may be insufficient, and the mechanical characteristics may be deteriorated. In the heating step, when the maximum temperature exceeds 300 ° C., degradation of polyaniline may cause degradation of mechanical properties of the obtained semiconductive member, and conductivity efficiency may be reduced. .

この加熱工程における最高温度を、200℃以上300℃以下内の何れの温度に設定するかは、得られる部材の膜厚や金型の伝熱状況に応じて適宜設定することが好ましい。   It is preferable that the maximum temperature in the heating step is set to 200 ° C. or more and 300 ° C. or less as appropriate depending on the film thickness of the obtained member and the heat transfer state of the mold.

なお、円筒形金型上に塗布したポリアミドイミド組成物による塗膜中に、溶剤が残留していると、塗膜に膨れを生じることがあるため、上記最高温度に達するまでに、完全に残留溶剤を除去することが好ましい。このため、この加熱工程では、温度を最高温度まで段階的に上昇させたり、ゆっくりと上昇させたりすることが好ましい。   In addition, if the solvent remains in the coating film made of the polyamideimide composition applied on the cylindrical mold, the coating film may swell, so that it remains completely until the maximum temperature is reached. It is preferable to remove the solvent. For this reason, in this heating process, it is preferable to raise the temperature stepwise up to the maximum temperature or slowly.

また、この加熱工程における最高温度の保持時間は、得られる部材の膜厚や金型の伝熱状況や、最高温度により異なるが、10分以上であればよく、具体的には下記関係を満たせばよい。
すなわち、上記加熱工程における、ポリアミドイミド樹脂組成物を加熱するときの最高温度X(℃)と、この最高温度の保持時間Y(hr)と、は、アレニウス則の反応速度と温度との関係に基づき、
(式) Y・2(X−200)/10≦128の関係を満たしていればよい。
In addition, the maximum temperature holding time in this heating step varies depending on the film thickness of the obtained member, the heat transfer state of the mold, and the maximum temperature, but it may be 10 minutes or more, and specifically satisfies the following relationship. That's fine.
That is, in the heating step, the maximum temperature X (° C.) when heating the polyamideimide resin composition and the maximum temperature holding time Y (hr) are related to the relationship between the reaction rate and temperature of the Arrhenius rule. Based on
(Formula) Y · 2 (X−200) / 10 It is sufficient that the relationship of ≦ 128 is satisfied.

上記「Y・2(X−200)/10」によって示される値が128より大きいと、ポリアニリンの導電効率が悪く、ポリアニリンが熱劣化するという問題が生じることがある。 If the value indicated by “Y · 2 (X−200) / 10 ” is greater than 128, there may be a problem that the polyaniline is poorly conductive and the polyaniline is thermally deteriorated.

上記加熱工程の後に、円筒状金型からポリアミドイミド樹脂を取り外し、半導電性部材を得ることができる。   After the heating step, the polyamideimide resin can be removed from the cylindrical mold to obtain a semiconductive member.

次に、上記(3)、(4)の方法において、対向する両端部を継ぎ合わせる構成について説明する。
当該構成としては、(a)一端部及び他端部を互いに噛合させるパズルカットシーム(例えば、特開平11−325189号公報、特開平8−99737号公報、特開2000−145895参照)や、(b)一端部及び他端部を互いに重ね合わせるオーバーラップシーム(例えば、特開2000−66907号公報参照)、(c)一端部及び他端部を互いに突き合わせる突き合せシーム(例えば、実開平4−70668号公報参照、特開平11−282260号公報参照、特開2001−215817号公報参照)、等が挙げられる。
上記のうち、継ぎ合わせ部の段差低減の観点、継ぎ合わせ部の強度の観点、形成された無端ベルトを繰り返し使用したときの位置精度向上及びバンディング低減の観点、等からは、(a)パズルカットシームが好ましい。
Next, in the methods (3) and (4) described above, a configuration in which opposite ends are joined together will be described.
As the configuration, (a) a puzzle cut seam (see, for example, JP-A-11-325189, JP-A-8-99737, JP-A-2000-145895) in which one end and the other end are engaged with each other, b) an overlap seam (see, for example, JP-A-2000-66907) in which one end and the other end are overlapped with each other, (c) a butt seam in which one end and the other end are brought into contact with each other (eg, actual open flat 4) -70668, JP-A-11-282260, JP-A-2001-215817), and the like.
Among the above, from the viewpoint of reducing the level difference of the seamed part, the viewpoint of the strength of the seamed part, the viewpoint of improving the positional accuracy and reducing the banding when the formed endless belt is used repeatedly, (a) puzzle cut Seams are preferred.

ここで、(a)パズルカットシームの好ましい形態について、図1から図3を参照して説明する。
図1は、ベルト状樹脂成形物の一端部1及び他端部2に、パズルカットシームを設けた様子を示す図である。パズルカットシームにより、一端部1及び他端部2が互いに噛み合って結合し、無端ベルトが形成される。
この際、図2に示すように、噛合部(継ぎ合わせ部)3に補助シート剤4を沿わせて補強することができる。補助シート剤4としては、熱可塑性又は熱硬化性のシート状接着剤を用いてもよいが、生産性の観点等からは、樹脂成形物と同一素材の補助シート剤を用い、超音波溶着にて、一端部1と他端部2と補助シート剤4とを一体に溶着することが好ましい。
また、図3に示すように、噛合部(継ぎ合わせ部)3がベルト状樹脂成形物周方向Lに対して傾斜する構成とすることが好ましい。このときのベルト状樹脂成形物幅方向に対する噛合部(継ぎ合わせ部)3の傾斜角θ(鋭角)としては2°以上5°以下が好適である。
Here, (a) A preferred form of the puzzle cut seam will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a view showing a state in which puzzle cut seams are provided at one end 1 and the other end 2 of a belt-shaped resin molded product. By the puzzle cut seam, the one end 1 and the other end 2 are engaged with each other and joined to form an endless belt.
At this time, as shown in FIG. 2, the auxiliary sheet agent 4 can be reinforced along the meshing portion (joining portion) 3. As the auxiliary sheet agent 4, a thermoplastic or thermosetting sheet adhesive may be used, but from the viewpoint of productivity, etc., an auxiliary sheet agent made of the same material as the resin molded product is used for ultrasonic welding. Thus, it is preferable to weld the one end 1, the other end 2, and the auxiliary sheet agent 4 together.
Further, as shown in FIG. 3, it is preferable that the meshing portion (joining portion) 3 is inclined with respect to the circumferential direction L of the belt-shaped resin molded product. The inclination angle θ (acute angle) of the meshing portion (joining portion) 3 with respect to the width direction of the belt-shaped resin molded product at this time is preferably 2 ° or more and 5 ° or less.

また、上記(3)、(4)の方法において、継ぎ合わせ部を固定する手段としては、(A)継ぎ合わせ部を、熱可塑性又は熱硬化性のシート状接着剤により、熱圧を用いて固定する手段(例えば、特開平11−325189号公報、特開平8−99737号公報、特開2000−145895参照)、(B)継ぎ合わせ部を、超音波を用いて溶着して固定する超音波溶着手段(例えば、特開2001−187423号公報、実開平4−70668号公報参照、特開平11−282260号公報参照、特開2001−215817号公報参照)が挙げられる。
上記のうち、継ぎ合わせ部の段差低減の観点、継ぎ合わせ部の強度の観点、形成された無端ベルトを繰り返し使用したときの位置精度向上及びバンディング低減の観点、等からは、(B)超音波溶着手段が好ましい。
(B)超音波溶着手段に用いる超音波溶着機としては、ブランソン社(日本エマソン(株))やプロソニック(株)から提供されている各種の超音波溶着機を用いることができる。超音波溶着機の振動子(コンバータ)の周波数は高い方がよく、40kHz以上が望ましい。出力は大きい方が良く、800W以上が好ましく、1000W以上がより好ましい。
In the above methods (3) and (4), as means for fixing the joining portion, (A) the joining portion is heated with a thermoplastic or thermosetting sheet-like adhesive by using hot pressure. Means for fixing (for example, see JP-A-11-325189, JP-A-8-99737, JP-A-2000-145895), (B) ultrasonic waves for welding and fixing a splicing portion using ultrasonic waves There are welding means (for example, see JP-A-2001-187423, JP-A-4-70668, JP-A-11-282260, JP-A-2001-215817).
Among the above, from the viewpoint of reducing the level difference of the seamed part, the viewpoint of the strength of the seamed part, the viewpoint of improving the positional accuracy when the formed endless belt is repeatedly used and reducing the banding, etc., (B) Ultrasound Welding means are preferred.
(B) As the ultrasonic welding machine used for the ultrasonic welding means, various ultrasonic welding machines provided by Branson (Nippon Emerson Corporation) and Prosonic Corporation can be used. The frequency of the vibrator (converter) of the ultrasonic welder is preferably high, and is preferably 40 kHz or more. A larger output is better, preferably 800 W or more, and more preferably 1000 W or more.

以上、無端ベルトの製造方法について説明したが、前記製造方法は無端ベルトに限らず、帯電ロール、中間転写ベルト、記録媒体搬送ベルト、定着ベルト等、その他の樹脂成形物にも同様に適用できる。
即ち、本実施形態に係る樹脂成形物は、前記樹脂組成物を200℃以上300℃以下で熱処理する工程を含んで製造できる。樹脂組成物中に前記ドーパントAを含有せず、前記ドーパントBのみを含有した場合、前記温度範囲の熱処理によりドーピング効果が失われ、形成された樹脂成形物の抵抗値が上昇することがあるが、ドーパントAとドーパントBとを併用することで、抵抗値上昇を抑制することができる。
The manufacturing method of the endless belt has been described above, but the manufacturing method is not limited to the endless belt, but can be similarly applied to other resin moldings such as a charging roll, an intermediate transfer belt, a recording medium conveyance belt, and a fixing belt.
That is, the resin molded product according to the present embodiment can be manufactured including a step of heat-treating the resin composition at 200 ° C. or more and 300 ° C. or less. When the dopant A is not contained in the resin composition and only the dopant B is contained, the doping effect is lost by the heat treatment in the temperature range, and the resistance value of the formed resin molding may be increased. By using both dopant A and dopant B in combination, it is possible to suppress an increase in resistance value.

前記熱処理の温度は、200℃以上300℃以下であることが必要であり、200℃以上250℃以下であることがより好ましい。
また熱処理は、樹脂組成物を調製した後であれば、いかなる時期に行なってもよいが、好ましくは、150℃以下の1次乾燥処理後、200℃以上300℃以下(好ましくは200以上250℃以下)の熱処理を行うことが好ましい。
The temperature of the heat treatment needs to be 200 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, and more preferably 200 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.
Further, the heat treatment may be performed at any time after the resin composition is prepared, but preferably after the primary drying treatment at 150 ° C. or less, 200 ° C. or more and 300 ° C. or less (preferably 200 or more and 250 ° C. The following heat treatment is preferably performed.

以上で説明した樹脂成形物は、前述の樹脂組成物を用いて形成されるため、初期において適切な抵抗値を示し、繰り返し使用時における抵抗値上昇が抑制される。このため、画像形成装置に適用した場合、初期及び繰り返し使用時における画質の向上に寄与する。   Since the resin molded product described above is formed using the above-described resin composition, it exhibits an appropriate resistance value in the initial stage and suppresses an increase in resistance value during repeated use. For this reason, when applied to an image forming apparatus, it contributes to an improvement in image quality during initial use and repeated use.

<画像形成装置用プロセスカートリッジ、画像形成装置>
本実施形態に係る画像形成装置は、上記樹脂成形物を具備するものであれば如何なる構成であってもよい。具体的には、例えば、装置内に単色(通常は黒色)画像を形成するモノカラー電子写真装置や、感光体上に担持されたトナー像を中間転写ベルトに順次一次転写を繰り返すカラー電子写真装置や、色毎の現像器を備えた複数の感光体を中間転写ベルト上に直列に配列した、タンデム型カラー電子写真装置のいずれであってもよい。
上記樹脂成形物を備えた画像形成装置用プロセスカートリッジおよび画像形成装置は、上記樹脂成形物を備えるため、初期及び繰り返し使用時において優れた画像性能を発揮することができる。
<Process cartridge for image forming apparatus, image forming apparatus>
The image forming apparatus according to the present embodiment may have any configuration as long as it includes the resin molded product. Specifically, for example, a monocolor electrophotographic apparatus that forms a single-color (usually black) image in the apparatus, or a color electrophotographic apparatus that sequentially repeats primary transfer of a toner image carried on a photoreceptor onto an intermediate transfer belt Alternatively, it may be any of tandem type color electrophotographic apparatuses in which a plurality of photoconductors each having a developing device for each color are arranged in series on an intermediate transfer belt.
Since the process cartridge for an image forming apparatus and the image forming apparatus provided with the resin molded product include the resin molded product, the image forming apparatus can exhibit excellent image performance at the initial and repeated use.

図4は、画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図4に示す画像形成装置100は、画像形成装置本体(図示せず)に、電子写真感光体10を備えるプロセスカートリッジ20と、露光装置(潜像形成装置)30と、転写装置40と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置30はプロセスカートリッジ20の開口部から電子写真感光体10に露光可能な位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体10に対向する位置に配置されており、中間転写体50は電子写真感光体10に突き当たった状態で接触できるように配置されている。   FIG. 4 is a schematic diagram showing a preferred embodiment of the image forming apparatus. An image forming apparatus 100 shown in FIG. 4 includes, in an image forming apparatus main body (not shown), a process cartridge 20 including an electrophotographic photosensitive member 10, an exposure device (latent image forming device) 30, a transfer device 40, and an intermediate device. A transfer body 50. In the image forming apparatus 100, the exposure device 30 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 10 can be exposed from the opening of the process cartridge 20, and the transfer device 40 is interposed between the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. The intermediate transfer member 50 is disposed so as to be in contact with the electrophotographic photosensitive member 10 while being in contact therewith.

プロセスカートリッジ20は、ケース内に電子写真感光体10とともに、帯電装置21、現像装置25、クリーニング装置27及び繊維状部材(平ブラシ状)29を組み合わせて一体化し、画像形成装置本体に取り付けレールにより取り付けられるものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。   The process cartridge 20 is integrated in the case with the electrophotographic photosensitive member 10 together with the charging device 21, the developing device 25, the cleaning device 27, and the fibrous member (flat brush shape) 29, and is attached to the image forming apparatus main body by a mounting rail. It can be attached. The case is provided with an opening for exposure.

図4における帯電装置21に、前述の樹脂成形物を適用することができる。
また、現像装置25は、電子写真感光体10上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。
The above-described resin molded product can be applied to the charging device 21 in FIG.
The developing device 25 develops the electrostatic latent image on the electrophotographic photoreceptor 10 to form a toner image.

クリーニング装置27は、繊維状部材(ロール形状)27aやクリーニングブレード(ブレード部材)27bを備える。図4に示すクリーニング装置27では、繊維状部材27a及びクリーニングブレード27bが設けられているが、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。繊維状部材27aとしては、ロール形状の他に歯ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材27aは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向に往復動作可能に支持されていてもよい。   The cleaning device 27 includes a fibrous member (roll shape) 27a and a cleaning blade (blade member) 27b. In the cleaning device 27 shown in FIG. 4, the fibrous member 27 a and the cleaning blade 27 b are provided, but the cleaning device 27 may include either one. The fibrous member 27a may have a toothbrush shape in addition to the roll shape. Further, the fibrous member 27a may be fixed to the cleaning device main body, may be supported so as to be rotatable, and may be supported so as to be capable of reciprocating in the photosensitive member axial direction.

クリーニング装置27には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物(例えば、放電生成物)を除去することが求められ、繊維状部材27aに、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質(潤滑成分)14を接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが好適である。
The cleaning device 27 is required to remove deposits (for example, discharge products) on the surface of the photoreceptor with a cleaning blade and a cleaning brush, and the fibrous member 27a includes metal soap, higher alcohol, wax, silicone oil, and the like. It is preferable to supply the lubricating component (lubricating component) 14 to the surface of the electrophotographic photosensitive member.

以上説明したプロセスカートリッジ20は、画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。   The process cartridge 20 described above is detachable from the image forming apparatus main body, and constitutes the image forming apparatus together with the image forming apparatus main body.

露光装置30としては、帯電した電子写真感光体10を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。また、露光装置30の光源としては、マルチビーム方式の面発光レーザーを用いることが好ましい。   The exposure device 30 may be any device that exposes the charged electrophotographic photoreceptor 10 to form an electrostatic latent image. Further, it is preferable to use a multi-beam surface emitting laser as the light source of the exposure apparatus 30.

転写装置40としては、電子写真感光体10上のトナー像を被転写媒体(図4では被転写媒体として中間転写体50を示しているが、中間転写体50の代わりに記録媒体搬送ベルト(図示せず)を用い、その記録媒体搬送ベルトに保持された用紙や、中間転写体50を用いずに、直接転写するための用紙であってもよい。)に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。   As the transfer device 40, the toner image on the electrophotographic photosensitive member 10 is a transfer medium (in FIG. 4, an intermediate transfer body 50 is shown as the transfer medium. However, instead of the intermediate transfer body 50, a recording medium conveying belt (FIG. Or a sheet for direct transfer without using the intermediate transfer member 50). A commonly used roll shape is used.

中間転写体50としては、前述の樹脂成形物を適用し、ベルト形状(例えば、前述の無端ベルト)に構成することができる。中間転写体50の形態としては、ベルト形状以外にドラム形状のものを用いることもできる。
また、中間転写体50の代わりに記録媒体搬送ベルトを用いた場合、この記録媒体搬送ベルトには、前述の樹脂成形物を適用することができる。
As the intermediate transfer member 50, the above-described resin molded product can be applied to form a belt shape (for example, the above-mentioned endless belt). As the form of the intermediate transfer member 50, a drum-shaped member can be used in addition to the belt-shaped member.
When a recording medium conveyance belt is used instead of the intermediate transfer member 50, the above-described resin molded product can be applied to the recording medium conveyance belt.

本実施態様でいう被転写媒体とは、電子写真感光体10上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体10から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体50を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。   The transfer medium referred to in this embodiment is not particularly limited as long as it is a medium that transfers a toner image formed on the electrophotographic photoreceptor 10. For example, when transferring directly from the electrophotographic photoreceptor 10 to paper or the like, paper or the like is a transfer medium, and when the intermediate transfer body 50 is used, the intermediate transfer body is a transfer medium.

図5は、画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。図5に示す画像形成装置110は、電子写真感光体10が画像形成装置本体に固定され、帯電装置22、現像装置25及びクリーニング装置27がそれぞれカートリッジ化されており、それぞれ帯電カートリッジ、現像カートリッジ、クリーニングカートリッジとして独立して備えられている。なお、図5における帯電装置22は、コロナ放電方式により帯電させる帯電装置を備えているが、接触方式の帯電装置であってもよい。   FIG. 5 is a schematic diagram illustrating another embodiment of the image forming apparatus. In the image forming apparatus 110 shown in FIG. 5, the electrophotographic photosensitive member 10 is fixed to the image forming apparatus main body, and the charging device 22, the developing device 25, and the cleaning device 27 are respectively formed into cartridges. It is provided independently as a cleaning cartridge. Note that the charging device 22 in FIG. 5 includes a charging device that charges by a corona discharge method, but may be a contact-type charging device.

画像形成装置110においては、電子写真感光体10とそれ以外の各装置が分離されており、帯電装置22、現像装置25及びクリーニング装置27が画像形成装置本体に固定されることなく、例えば引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能である。   In the image forming apparatus 110, the electrophotographic photosensitive member 10 and other devices are separated, and the charging device 22, the developing device 25, and the cleaning device 27 are not fixed to the image forming apparatus main body, for example, drawn out, Detachable by push-in operation.

本実施態様の電子写真感光体では、カートリッジ化することが不要となる場合がある。したがって、帯電装置22、現像装置25又はクリーニング装置27をそれぞれ本体に固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能な構成とすることで、1プリント当りの部材コストを低減することができる。また、これらの装置のうち2つ以上を一体化したカートリッジとして着脱可能とすることもできる。   In the electrophotographic photosensitive member of this embodiment, it may be unnecessary to form a cartridge. Therefore, the charging device 22, the developing device 25, or the cleaning device 27 is not fixed to the main body, and can be detached and attached by an operation by pulling out and pushing in, thereby reducing the member cost per print. Can do. Further, two or more of these devices can be detachable as an integrated cartridge.

なお、画像形成装置110は、帯電装置22、現像装置25及びクリーニング装置27がそれぞれカートリッジ化されている以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。   The image forming apparatus 110 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that the charging device 22, the developing device 25, and the cleaning device 27 are each formed as a cartridge.

図6は、画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置120は、プロセスカートリッジ20を4つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ20がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用できる構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。   FIG. 6 is a schematic diagram illustrating another embodiment of the image forming apparatus. The image forming apparatus 120 is a tandem full-color image forming apparatus equipped with four process cartridges 20. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 20 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member can be used for one color. The image forming apparatus 120 has the same configuration as that of the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.

以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例において「部」は質量部を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated using an Example, this invention is not limited at all by these Examples. In the following examples, “part” means part by mass.

〔実施例1〕
<ポリアニリン溶液の調製>
10L−セパラブル・フラスコに、イオン交換水6000g、35%塩酸400ml、及びアニリン400g(4.295モル)を仕込み、攪拌を行ってアニリンを溶解させた。
ビーカー容器に、氷水にて冷却しながら、イオン交換水1493gに、酸解離定数pka値4.0以下のプロトン酸である濃硫酸434g(4.295モル、97%濃硫酸)を添加・混合して、硫酸水溶液を調製した。この硫酸水溶液をアニリン溶液に氷冷しながら徐々に加えた。
[Example 1]
<Preparation of polyaniline solution>
In a 10 L-separable flask, 6000 g of ion-exchanged water, 400 ml of 35% hydrochloric acid, and 400 g (4.295 mol) of aniline were charged and stirred to dissolve aniline.
While cooling with ice water, add and mix 434 g of concentrated sulfuric acid (4.295 mol, 97% concentrated sulfuric acid), a protonic acid having an acid dissociation constant pka value of 4.0 or less, with 1493 g of ion-exchanged water while cooling with ice water. A sulfuric acid aqueous solution was prepared. This sulfuric acid aqueous solution was gradually added to the aniline solution while cooling with ice.

次に、ペルオキソ二硫酸アンモニウム980g(4.295モル)をイオン交換水2300gに溶解させた酸化剤水溶液を、アニリン溶液に−4℃以下に氷冷しながら徐々に滴下した。滴下後、無色透明の溶液は、酸化重合の進行に伴って緑青色から黒緑色となり、次いで、黒緑色の粉末が析出した。そして、ペルオキソ二硫酸アンモニウム水溶液の滴下後、更に1時間、攪拌を続けた。
得られた粉末を濾別し、水洗、アセトン洗浄し、室温で真空乾燥して、硫酸にてドープされた導電性ポリアニリン430gを黒緑色の粉末として得た。
Next, an oxidizing agent aqueous solution in which 980 g (4.295 mol) of ammonium peroxodisulfate was dissolved in 2300 g of ion-exchanged water was gradually added dropwise to the aniline solution while cooling with ice at −4 ° C. or lower. After dropping, the colorless and transparent solution changed from greenish blue to blackish green as the oxidative polymerization progressed, and then a blackish green powder precipitated. And stirring was further continued for 1 hour after dripping ammonium peroxodisulfate aqueous solution.
The obtained powder was filtered off, washed with water, washed with acetone, and vacuum dried at room temperature to obtain 430 g of conductive polyaniline doped with sulfuric acid as a black-green powder.

続いて、ドープ状態の導電性ポリアニリン粉末350gを、2Nアンモニア水4L中に加え、オートホモミキサーにて回転数5000rpmにて5時間攪拌することにより、脱ドープ状態のポリアニリン分散液(濃度7質量%)を得た。この分散液を、ブフナー漏斗にて濾別し、蒸留水にて洗浄し、更に中性になるまでアセトンにて洗浄した。その後粉末を10時間乾燥し、黒褐色の脱ドープ粉体280gを得た。この粉末50gをN−メチル−2ピロリドン950gに溶解して5質量%の脱ドープ状態のポリアニリン溶液を得た。   Subsequently, 350 g of doped conductive polyaniline powder was added to 4 L of 2N ammonia water, and the mixture was stirred with an auto homomixer at a rotation speed of 5000 rpm for 5 hours, whereby a polyaniline dispersion in a dedope state (concentration: 7% by mass) ) The dispersion was filtered with a Buchner funnel, washed with distilled water, and further washed with acetone until neutral. Thereafter, the powder was dried for 10 hours to obtain 280 g of a black-brown dedope powder. 50 g of this powder was dissolved in 950 g of N-methyl-2pyrrolidone to obtain a 5% by mass dedope polyaniline solution.

<塗液(ポリアミドイミド樹脂組成物)の調製>
上記の方法で調製した脱ドープ状態のポリアニリン溶液300gに、ドデシルベンゼンスルホン酸0.7モル及びリン酸0.3モルを加えた溶液を、ポリアミドイミド樹脂のN−メチル−2ピロリドン溶液(東洋紡績(株)バイロマックス HR16NN 濃度15質量%)900gに加え、攪拌羽根付き容器を用いて30分間攪拌した。これにより、脱ドープ状態のポリアニリンと、ドーパントAであるドデシルベンゼンスルホン酸と、ドーパントBであるリン酸と、ポリアミドイミドとからなる塗液(ポリアミドイミド樹脂組成物)を得た。
<Preparation of coating liquid (polyamideimide resin composition)>
A solution obtained by adding 0.7 mol of dodecylbenzenesulfonic acid and 0.3 mol of phosphoric acid to 300 g of the dedope polyaniline solution prepared by the above method was used as an N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyamideimide resin (Toyobo Co., Ltd.). In addition to 900 g of Viromax HR16NN (concentration 15% by mass), the mixture was stirred for 30 minutes using a container with stirring blades. This obtained the coating liquid (polyamideimide resin composition) which consists of polyaniline in a dedope state, dodecylbenzenesulfonic acid which is the dopant A, phosphoric acid which is the dopant B, and polyamideimide.

<ポリアミドイミド無端ベルトの製造>
上記で得られた塗液(ポリアミドイミド樹脂組成物)を、Φ170mm、長さ500mmのアルミ製円筒状金型表面に厚さ640μmに均一に塗布した。なお、この円筒状金型には、表面にシリコーン系の離型剤を予め塗布することで、成形後の半導電性部材の剥離性を向上させている。
その後、円筒状金型を回転させながら、温度120℃の条件で30分間乾燥処理(一次乾燥処理)を行った。一次乾燥処理後、円筒状金型をオーブンに入れ、200℃で30分、260℃で30分、と段階的に昇温して二次乾燥処理(加熱工程)を行った。
続いて、円筒状金型を室温で放冷し、金型から半導電性部材を取り外し、厚さ80μmのポリアミドイミド無端ベルトを得た。
<Manufacture of polyamide-imide endless belt>
The coating solution (polyamideimide resin composition) obtained above was uniformly applied to the surface of an aluminum cylindrical mold having a diameter of 170 mm and a length of 500 mm to a thickness of 640 μm. The cylindrical mold is preliminarily coated with a silicone-based release agent to improve the peelability of the semiconductive member after molding.
Thereafter, a drying process (primary drying process) was performed for 30 minutes at a temperature of 120 ° C. while rotating the cylindrical mold. After the primary drying treatment, the cylindrical mold was placed in an oven, and the temperature was increased stepwise at 200 ° C. for 30 minutes and 260 ° C. for 30 minutes to perform secondary drying treatment (heating step).
Subsequently, the cylindrical mold was allowed to cool at room temperature, the semiconductive member was removed from the mold, and a polyamideimide endless belt having a thickness of 80 μm was obtained.

<評価> <Evaluation>

(表面抵抗率の測定)
上記で得られたポリアミドイミド無端ベルトについて、初期(下記装置に組み込む前)の表面抵抗率及び富士ゼロックス社製電子写真装置(DocuCentreColor400CP)に中間転写ベルトとして組み込み10万枚通紙した後の表面抵抗率を、それぞれ測定した。
表面抵抗率は、ベルトの表面に沿って流れる電流と平行方向の電位傾度を、表面の単位幅当たりの電流で除した数値である。この数値は、各辺1cmの正方形の相対する辺を電極とする二つの電極間の表面抵抗に等しい。表面抵抗率の単位は、正式には(Ω)だが、単なる抵抗と区別するため(Ω/□)と記載されるのが一般的である。従って、本願においては、(Ω/□)と(Ω/cm2)は同等の単位である。
得られたポリアミドイミド無端ベルトの表面抵抗率の測定には、R8340A デジタル超高抵抗/微小電流計(株式会社アドバンテスト社製)、接続部をR8340A用に改造した二重リング電極構造のURプローブMCP−HTP12、及びレジテーブルUFL MCP−ST03(何れも、株式会社ダイアインスツルメンツ社製)を用い、JIS K6911(1995)に準拠して行った。
なお、測定の際の試験片は、実施例・比較例にて製造したベルト片を用いた。
(Measurement of surface resistivity)
About the polyamideimide endless belt obtained above, the initial surface resistivity (before being incorporated into the following device) and the surface resistance after passing 100,000 sheets as an intermediate transfer belt in Fuji Xerox's electrophotographic device (DocuCentreColor400CP) The rate was measured respectively.
The surface resistivity is a numerical value obtained by dividing the potential gradient in the direction parallel to the current flowing along the surface of the belt by the current per unit width of the surface. This numerical value is equal to the surface resistance between two electrodes each having an opposite side of a square of 1 cm on each side as an electrode. The unit of surface resistivity is formally (Ω), but is generally written as (Ω / □) to distinguish it from simple resistance. Therefore, in this application, (Ω / □) and (Ω / cm 2 ) are equivalent units.
The surface resistivity of the obtained polyamide-imide endless belt was measured using an R8340A digital ultra-high resistance / microammeter (manufactured by Advantest Co., Ltd.), and a UR probe MCP with a double ring electrode structure modified for R8340A. -HTP12 and register table UFL MCP-ST03 (both manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.) were used, and the test was performed in accordance with JIS K6911 (1995).
In addition, the belt piece manufactured in the Example and the comparative example was used for the test piece in the case of a measurement.

レジテーブルUFL MCP−ST03(フッ素樹脂面を使用)上に、測定面を上にして、試験片を置き、測定面に接するようにURプローブMCP−HTP12の二重電極を当てた。なお、URプローブMCP−HTP12の上部には質量2.00kg±0.10kg(19.6N±1.0N)の錘を取り付け、試験片に一様な荷重がかかるようにした。   On the register table UFL MCP-ST03 (using a fluororesin surface), the test surface was placed with the measurement surface facing up, and the double electrode of the UR probe MCP-HTP12 was applied so as to contact the measurement surface. A weight of 2.00 kg ± 0.10 kg (19.6 N ± 1.0 N) was attached to the top of the UR probe MCP-HTP 12 so that a uniform load was applied to the test piece.

R8340A デジタル超高抵抗/微小電流計の測定条件は、チャージタイムを30sec、ディスチャージタイムを1sec、印加電圧を100Vとした。
この時、試験片の表面抵抗率をρs、R8340Aデジタル超高抵抗/微小電流計の読み値をR、URプローブMCP−HTP12の表面抵抗率補正係数をRCF(S)とすると、三菱化学「抵抗率計シリーズ」カタログによればRCF(S)=10.00なので、下記式(1)のようになる。
すなわち、式(1):ρs[Ω/□]=R×RCF(S)=R×10.00となる。
The measurement conditions of the R8340A digital ultra-high resistance / microammeter were a charge time of 30 sec, a discharge time of 1 sec, and an applied voltage of 100V.
At this time, assuming that the surface resistivity of the test piece is ρs, the reading value of the R8340A digital ultrahigh resistance / microammeter is R, and the surface resistivity correction coefficient of the UR probe MCP-HTP12 is RCF (S), According to the “Rate meter series” catalog, since RCF (S) = 10.00, the following equation (1) is obtained.
That is, formula (1): ρs [Ω / □] = R × RCF (S) = R × 10.00.

本実施例の条件下では、初期の表面抵抗率(logΩ/□)が9.0以上13.0以下であれば実用上許容範囲内である。また、本実施例の条件下では、10万枚処理後の表面抵抗率(logΩ/□)−初期の表面抵抗率(logΩ/□)が1.0以下であれば、実用上許容範囲内である。   Under the conditions of this example, if the initial surface resistivity (log Ω / □) is 9.0 or more and 13.0 or less, it is practically acceptable. Also, under the conditions of this example, if the surface resistivity after processing 100,000 sheets (logΩ / □) −the initial surface resistivity (logΩ / □) is 1.0 or less, it is within a practically acceptable range. is there.

(画質評価)
得られたポリアミドイミド無端ベルトを富士ゼロックス社製電子写真装置(DocuCentreColor400CP)に中間転写ベルトとして組み込み、100,000枚通紙後に画質評価を行った。
画質評価の項目としては、ブラーの有無および黒点の有無を、目視にて確認した。評価基準は以下の通りである。
(Image quality evaluation)
The obtained polyamideimide endless belt was incorporated into an electrophotographic apparatus (DocuCentreColor400CP) manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd. as an intermediate transfer belt, and image quality evaluation was performed after passing 100,000 sheets.
As the image quality evaluation items, the presence or absence of blur and the presence or absence of black spots were visually confirmed. The evaluation criteria are as follows.

−ブラーの有無−
A:ブラーの存在が全く確認されない。
B:ブラーの存在は確認されたが、実用上問題の無い範囲。
C:ブラーが多数存在し、実用上問題がある。
なお、ブラーとは、画像のエッジ部のトナーの飛散をいう。
-Presence or absence of blur-
A: The presence of blur is not confirmed at all.
B: Although the presence of blur was confirmed, there was no practical problem.
C: There are many blurs and there are practical problems.
Note that blur refers to toner scattering at the edge of an image.

−黒点の有無−
A:黒点の存在が全く確認されない。
B:黒点の存在は確認されたが(1個以上5個以下)、実用上問題の無い範囲。
C:黒点が多数存在し(6個以上)、実用上問題がある。
なお、黒点については、100,000枚通紙後に、全面が白の画像をプリントし、この画像中の黒点を確認することにより評価した。
-Existence of black spots-
A: The presence of black spots is not confirmed at all.
B: Although the presence of black spots was confirmed (1 to 5), there was no practical problem.
C: There are many black spots (6 or more), and there is a problem in practical use.
The black spots were evaluated by printing a white image on the entire surface after passing 100,000 sheets and checking the black spots in the image.

〔実施例2〜12、比較例1〜3〕
実施例1において、樹脂組成物の各成分を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様にして無端ベルトを作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を表1に示す。
[Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 3]
In Example 1, an endless belt was produced in the same manner as in Example 1 except that each component of the resin composition was changed as shown in Table 1, and the same evaluation as in Example 1 was performed. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2009096867
Figure 2009096867

〜表1中の用語の説明〜
・ドーパントA ・・・ 酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸
・ドーパントB・・・ 無機プロトン酸
・PAI ・・・ ポリアミドイミド
・PI ・・・ ポリイミド
~ Explanation of terms in Table 1 ~
· Dopant A · · · Organic acid having a total carbon number of 10 or more excluding acid groups · Dopant B · · · Inorganic proton acid · PAI · Polyamideimide · PI · Polyimide

表1に示すように、実施例1〜実施例12では、樹脂成形物を成形したときに、初期おける抵抗値が適切で、かつ、経時における抵抗値の上昇を抑制できた。実施例3、4は、20万枚処理した後も、ブラー、黒点の発生が見られなかった。
一方、ドーパントAを含有しなかった比較例1、ドーパントAの代わりに酸基を除く部位の総炭素数が10未満である有機酸を用いた比較例3では、経時における抵抗値の上昇が認められ、ドーパントBを含有しなかった比較例2では、初期における抵抗値が高く、いずれも実用上の許容範囲を超えていた。
As shown in Table 1, in Examples 1 to 12, when a resin molded product was molded, the initial resistance value was appropriate, and an increase in resistance value over time could be suppressed. In Examples 3 and 4, no blur or black spot was observed even after 200,000 sheets were processed.
On the other hand, in Comparative Example 1 containing no dopant A, and Comparative Example 3 using an organic acid having a total carbon number of less than 10 excluding the acid group instead of the dopant A, an increase in resistance over time was observed. In Comparative Example 2 that did not contain dopant B, the resistance value in the initial stage was high, and both exceeded the practically acceptable range.

本実施形態に係るベルト形状の樹脂成形物の好ましい形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the preferable form of the belt-shaped resin molding which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るベルト形状の樹脂成形物の好ましい形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the preferable form of the belt-shaped resin molding which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るベルト形状の樹脂成形物の好ましい形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the preferable form of the belt-shaped resin molding which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。1 is a schematic diagram illustrating an image forming apparatus according to an exemplary embodiment. 他の実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。It is a schematic diagram showing an image forming apparatus according to another embodiment. 他の実施形態に係る画像形成装置を示す模式図である。It is a schematic diagram showing an image forming apparatus according to another embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10 電子写真感光体
20 プロセスカートリッジ
21、22 帯電装置
25 現像装置
27 クリーニング装置
30 露光装置
40 転写装置
50 中間転写体
100、110、120 画像形成装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electrophotographic photosensitive member 20 Process cartridge 21, 22 Charging device 25 Developing device 27 Cleaning device 30 Exposure device 40 Transfer device 50 Intermediate transfer body 100, 110, 120 Image forming device

Claims (11)

酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸と、無機プロトン酸と、導電性高分子と、樹脂と、を含有する樹脂組成物。   A resin composition comprising an organic acid having a total carbon number of 10 or more except for an acid group, an inorganic protonic acid, a conductive polymer, and a resin. 前記酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸と前記無機プロトン酸との配合比(モル比〔前記酸基を除く部位の総炭素数が10以上である有機酸/前記無機プロトン酸〕)が、3/7以上7/3以下であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。   The mixing ratio of the organic acid having a total carbon number of 10 or more excluding the acid group and the inorganic protonic acid (molar ratio [the organic acid having the total carbon number of the site excluding the acid group of 10 or more / the inorganic 2. The resin composition according to claim 1, wherein the protonic acid]) is 3/7 or more and 7/3 or less. 請求項1又は請求項2に記載の樹脂組成物を用いて成形されることを特徴とする画像形成装置用の樹脂成形物。   A resin molded product for an image forming apparatus, which is molded using the resin composition according to claim 1. ロール形状であることを特徴とする請求項3に記載の画像形成装置用の樹脂成形物。   The resin molded product for an image forming apparatus according to claim 3, wherein the resin molded product is a roll shape. ベルト形状であることを特徴とする請求項3に記載の画像形成装置用の樹脂成形物。   The resin molded product for an image forming apparatus according to claim 3, wherein the resin molded product is a belt shape. 帯電ロール、中間転写ベルト、記録媒体搬送ベルト、定着ベルト、又は転写ロールに用いることを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれか1項に記載の画像形成装置用の樹脂成形物。   6. The resin molded product for an image forming apparatus according to claim 3, which is used for a charging roll, an intermediate transfer belt, a recording medium conveyance belt, a fixing belt, or a transfer roll. 請求項3乃至請求項6のいずれか1項に記載の画像形成装置用の樹脂成形物を製造する方法であって、請求項1又は請求項2に記載の樹脂組成物を200℃以上300℃以下の温度で熱処理する工程を含むことを特徴とする画像形成装置用の樹脂成形物の製造方法。   A method for producing a resin molded product for an image forming apparatus according to any one of claims 3 to 6, wherein the resin composition according to claim 1 or 2 is 200 ° C to 300 ° C. The manufacturing method of the resin molding for image forming apparatuses characterized by including the process heat-processed at the following temperatures. 請求項5に記載のベルト形状の樹脂成形物と、該ベルト形状の樹脂成形物を内面側から張架する複数の張架部材と、を備えることを特徴とする画像形成装置用のベルト張架装置。   6. A belt stretcher for an image forming apparatus, comprising: the belt-shaped resin molded product according to claim 5; and a plurality of stretching members that stretch the belt-shaped resin molded product from the inner surface side. apparatus. 請求項3乃至請求項6のいずれか1項に記載の樹脂成形物を備えることを特徴とする画像形成装置用のプロセスカートリッジ。   A process cartridge for an image forming apparatus, comprising the resin molded product according to any one of claims 3 to 6. 請求項9に記載のプロセスカートリッジを備えることを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising the process cartridge according to claim 9. 請求項8に記載のベルト張架装置を備えることを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising the belt stretching device according to claim 8.
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