JP2009094927A - Buffer, level shifting circuit, and display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability of a buffer by suppressing deterioration and malfunction of a transistor in the buffer comprising transistors of the same conductivity type and using bootstrap effect. <P>SOLUTION: An output signal/02 from a level shifter is supplied to an input terminal in. The output signal/02 is having flotation in Low level and the potential of the Low level is VEE' a little higher than VEE. As a transistor Tr312 which is supplied at its gate with the output signal/02 having the Low-level flotation like this and also supplied at its drain with a potential raised almost to twice as high as a high-potential power source VDD through the bootstrap effect, a TFT having a body structure is employed and its body B is connected to the source S. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、片チャネル構成、すなわち同一導電型のトランジスタで構成され、ブートストラップ効果を利用したバッファ、これを利用したレベルシフト回路及び表示装置に関する。   The present invention relates to a buffer having a one-channel configuration, that is, a transistor having the same conductivity type and using a bootstrap effect, a level shift circuit using the same, and a display device.

例えば、特許文献1に記載されているように、ブートストラップ効果を利用した片チャネル構成のインバータを2段接続してレベルシフタを構成することが知られている。このようなレベルシフタは、入力信号のHi側の振幅レベルより高い電圧を電源として用いるインバータを複数用いることで、入力信号よりHi側の振幅レベルが高い電圧となる出力信号を生成する。このとき、ブートストラップ効果により、出力信号のHi側の振幅落ちを防ぐことができる。
特開2002−328643号公報(図6等参照)
For example, as described in Patent Document 1, it is known to configure a level shifter by connecting two stages of single-channel inverters using the bootstrap effect. Such a level shifter uses a plurality of inverters that use a voltage higher than the amplitude level on the Hi side of the input signal as a power source, thereby generating an output signal that has a voltage having a higher amplitude level on the Hi side than the input signal. At this time, the amplitude drop on the Hi side of the output signal can be prevented by the bootstrap effect.
JP 2002-328643 A (refer to FIG. 6 etc.)

特許文献1には、入力信号の振幅を負方向にシフトする負方向レベルシフタについては言及されていないが、仮に、Nチャネルのトランジスタで構成されたブートストラップ方式のインバータを用いて負方向のレベルシフト回路を構成すると、例えば、図17(a)に示すような回路400が考えられる。すなわち、2入力の片チャネルブートストラップ方式のレベルシフタ300と、2入力の片チャネルブートストラップ方式のバッファ240a、240bとを組み合わせた構成である。図17(b)にレベルシフタ300の回路構成を示し、図17(c)にバッファ240aの回路構成を示す。なお、バッファ240aとバッファ240bの回路構成は同じであるため、図17(c)にはバッファ240aの回路構成のみを示している。   Patent Document 1 does not mention a negative-direction level shifter that shifts the amplitude of an input signal in the negative direction. However, it is assumed that a level shift in the negative direction is performed using a bootstrap inverter configured with an N-channel transistor. When the circuit is configured, for example, a circuit 400 as shown in FIG. That is, the two-input single-channel bootstrap type level shifter 300 and the two-input single-channel bootstrap type buffers 240a and 240b are combined. FIG. 17B shows a circuit configuration of the level shifter 300, and FIG. 17C shows a circuit configuration of the buffer 240a. Note that since the circuit configurations of the buffer 240a and the buffer 240b are the same, only the circuit configuration of the buffer 240a is shown in FIG.

図17(b)及び図17(c)において、VDDは正電源(8V程度)であり、VEEは負電源(−0.5VDD=−4V程度)である。また、レベルシフタ300に供給される入力信号01は、VDD−GND(0V)間の振幅を有している。すなわち、入力信号01は、HiレベルがVDDで、LowレベルがGNDとなる。また、この入力信号01を反転したものが入力信号/01となる。同様に、レベルシフタ300からの出力についても、出力信号02を反転したものが出力信号/02となる。また、レベルシフタ300とバッファ240a、240bを構成する全てのトランジスタTr101〜106,Tr201〜204は、Nチャネルの薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)である。   In FIGS. 17B and 17C, VDD is a positive power supply (about 8V), and VEE is a negative power supply (−0.5VDD = about −4V). The input signal 01 supplied to the level shifter 300 has an amplitude between VDD and GND (0 V). That is, the input signal 01 has a Hi level of VDD and a Low level of GND. Further, an inverted version of the input signal 01 becomes an input signal / 01. Similarly, for the output from the level shifter 300, the output signal 02 is obtained by inverting the output signal 02. Further, all the transistors Tr101 to 106 and Tr201 to 204 constituting the level shifter 300 and the buffers 240a and 240b are N-channel thin film transistors (TFTs).

図17(b)に示すレベルシフタ300において、入力端子inに供給される入力信号01がHiレベルになると、トランジスタTr102のゲートには、VDDからトランジスタTr101の閾値電圧Vth分だけ降下したVDD−Vthが供給される。その結果、トランジスタTr102はオンする。この時、トランジスタTr102のゲート・ソース間電圧は、入力信号01がHiレベルに切り替わる前の段階、すなわち入力信号01がLowレベルの場合において容量C107に保持されているGND−VEEから、(VDD−Vth)−VEEへと変化する。また、トランジスタTr103は、出力端子outからの出力信号02がVDD−2*Vthとなり、トランジスタTr106がオンすることで、ゲートの電位がVEEとなりオフする。   In the level shifter 300 shown in FIG. 17B, when the input signal 01 supplied to the input terminal “in” becomes Hi level, VDD−Vth that is lowered from VDD by the threshold voltage Vth of the transistor Tr101 is applied to the gate of the transistor Tr102. Supplied. As a result, the transistor Tr102 is turned on. At this time, the voltage between the gate and the source of the transistor Tr102 is (VDD−−) from GND−VEE held in the capacitor C107 before the input signal 01 is switched to the Hi level, that is, when the input signal 01 is at the Low level. Vth) -VEE. Further, the transistor Tr103 is turned off when the output signal 02 from the output terminal out becomes VDD-2 * Vth and the transistor Tr106 is turned on, so that the gate potential becomes VEE.

なお、トランジスタTr102がオンしても容量107の電荷は保持されるため、トランジスタTr102は、ゲートの電位が(VDD−Vth)+VDDに高まり、充分にオンする状態となる。すなわち、トランジスタTr102は、容量107によるブートストラップ効果によってゲートの電位が2*VDD−Vthとなり、出力端子outからの出力信号02はVDDとなる。なお、トランジスタTr101は、トランジスタTr102のゲートの電位がVDDよりも高くなることでオフする。   Note that since the charge of the capacitor 107 is held even when the transistor Tr102 is turned on, the potential of the gate of the transistor Tr102 is increased to (VDD−Vth) + VDD and the transistor Tr102 is sufficiently turned on. In other words, the transistor Tr102 has a gate potential of 2 * VDD−Vth due to the bootstrap effect of the capacitor 107, and the output signal 02 from the output terminal out becomes VDD. Note that the transistor Tr101 is turned off when the potential of the gate of the transistor Tr102 becomes higher than VDD.

一方、出力信号02がVDDになったことを受けてトランジスタTr106がオンするが、この時点において入力端子/inには、入力信号/01のLowレベル(GND)が供給されているため、トランジスタTr105は、ゲート・ソース間電圧がGND−VEE(4V程度)となり、これが閾値電圧より若干高い値となるため、弱くオンしてしまう。この場合、出力端子/outからの出力信号/02は、トランジスタTr105とトランジスタTr106のオン抵抗の比率できまる電位となり、出力信号/02のLowレベルがVEEよりも若干高いVEE’になってしまう。つまり、出力信号/02にLowレベルの浮きが発生する。   On the other hand, the transistor Tr106 is turned on in response to the output signal 02 becoming VDD. At this time, the low level (GND) of the input signal / 01 is supplied to the input terminal / in. In this case, the gate-source voltage becomes GND-VEE (about 4 V), which is slightly higher than the threshold voltage, so it is weakly turned on. In this case, the output signal / 02 from the output terminal / out becomes a potential determined by the on-resistance ratio of the transistor Tr105 and the transistor Tr106, and the Low level of the output signal / 02 becomes VEE 'slightly higher than VEE. That is, a low level float occurs in the output signal / 02.

これは、出力端子outからの出力信号02についても共通する問題である。すなわち、逆に、出力信号/02がVDDになるとトランジスタTr103がオンするが、この時点において入力端子inには、入力信号01のLowレベル(GND)が供給されている。したがって、トランジスタTr102は、ゲート・ソース間電圧がGND−VEE(4V程度)となり、これが閾値電圧より若干高い値となるため、弱くオンしてしまう。よって、出力端子outからの出力信号02は、トランジスタTr102とトランジスタTr103のオン抵抗の比率できまる電位となり、出力信号02のLowレベルについてもVEEより若干高いVEE’になってしまう。   This is a problem common to the output signal 02 from the output terminal out. That is, conversely, when the output signal / 02 becomes VDD, the transistor Tr103 is turned on. At this time, the Low level (GND) of the input signal 01 is supplied to the input terminal in. Therefore, the transistor Tr102 is turned on weakly because the gate-source voltage is GND-VEE (about 4 V), which is slightly higher than the threshold voltage. Therefore, the output signal 02 from the output terminal out becomes a potential determined by the ratio of the on-resistance of the transistor Tr102 and the transistor Tr103, and the Low level of the output signal 02 is also slightly higher than VEE '.

図18は、負方向レベルシフト回路400における入出力信号の波形図である。同図からも、レベルシフタ300の出力信号02,/02にLowレベルの浮きが発生していることが確認できる。このようにレベルシフタ300からの出力信号02,/02にLowレベルの浮きが発生すると、後段のバッファ240a、240bに備わるトランジスタTr201〜204のうち、出力信号02,/02の供給を受けるトランジスタTr201,202,204には、ホットキャリアによる性能の劣化や誤動作が生じてしまう場合がある。   FIG. 18 is a waveform diagram of input / output signals in the negative direction level shift circuit 400. From this figure, it can also be confirmed that low level floating occurs in the output signals 02 and / 02 of the level shifter 300. When the low level floating occurs in the output signals 02 and 02 from the level shifter 300 as described above, the transistors Tr201 and Tr201 that receive the supply of the output signals 02 and / 02 among the transistors Tr201 to 204 provided in the buffers 240a and 240b in the subsequent stage. In 202 and 204, performance degradation and malfunction may occur due to hot carriers.

すなわち、図17(c)に示す回路において、トランジスタTr201,202,204のゲートには、出力信号02,/02のLowレベルとしてVEEよりも若干高いVEE’が供給される。したがって、トランジスタTr201,202,204として駆動能力が高く閾値電圧が低いTFTを用いている場合、出力信号02,/02のLowレベル(VEE’)が供給されると、トランジスタTr201,202,204では、ゲート・ソース間電圧がVEE’−VEEとなり、これが閾値電圧付近の値をとる場合がある。このような場合、トランジスタTr201,202,204には、出力信号02,/02のLowレベルが供給されている間、閾値電圧付近のゲート電圧が絶えず印加されることになる。このため、ホットキャリアによる性能の劣化や誤動作が生じてしまう。   That is, in the circuit shown in FIG. 17C, VEE ′ that is slightly higher than VEE is supplied to the gates of the transistors Tr201, 202, and 204 as the low level of the output signals 02 and 02. Therefore, in the case where TFTs having high driving capability and low threshold voltage are used as the transistors Tr201, 202, 204, when the low level (VEE ′) of the output signals 02, 02 is supplied, the transistors Tr201, 202, 204 The gate-source voltage becomes VEE′−VEE, which may take a value near the threshold voltage. In such a case, the gate voltage near the threshold voltage is constantly applied to the transistors Tr201, 202, and 204 while the low level of the output signals 02 and 02 is supplied. For this reason, performance degradation and malfunction due to hot carriers occur.

さらに、トランジスタTr202については、ホットキャリアによる問題に加え、ブートストラップ効果によりVDDの2倍程度にまで高められた電位がドレインに供給されることになるため、劣化の進み具合がさらに大きくなる。仮に、トランジスタTr202が劣化してしまうと、この劣化はバッファ240a、240bの出力信号OA,OBにLowレベルに浮きを発生させ、次段以降の回路に備わるTFTにも同様の劣化を生じさせてしまう。   Further, in addition to the problem due to hot carriers, the transistor Tr202 is supplied with a potential increased to about twice the VDD due to the bootstrap effect, so that the degree of deterioration further increases. If the transistor Tr202 deteriorates, this deterioration causes the output signals OA and OB of the buffers 240a and 240b to float to a low level, and causes the same deterioration to the TFTs provided in the circuits in the subsequent stages. End up.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ブートストラップ効果を利用した片チャネル構成のバッファに備わるトランジスタの劣化や誤動作を抑え、バッファの信頼性を向上することである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to suppress deterioration and malfunction of a transistor included in a buffer having a one-channel configuration using a bootstrap effect and to improve the reliability of the buffer. It is.

上述した課題を解決するため、本発明に係るバッファは、入力信号の論理レベルを反転した出力信号を生成するバッファであって、ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される第1トランジスタと、ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第1トランジスタのソースと接続され、ソースに第2電位が供給される第2トランジスタと、ゲートが前記第1トランジスタのソースと接続され、ドレインに前記第1電位が供給される第3トランジスタと、前記第3トランジスタのソースと前記第3トランジスタのゲートとの間に設けられる第1容量素子と、ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第3トランジスタのソースと接続され、ソースに前記第2電位が供給される第4トランジスタとを備え、前記第3トランジスタのソースから前記出力信号を取り出し、前記第1乃至第4トランジスタの導電型は同一であり、前記第2トランジスタは、ボディを備え、前記ボディと前記第2トランジスタのソースとを接続する、ことを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, a buffer according to the present invention is a buffer that generates an output signal obtained by inverting the logic level of an input signal, and a first potential is supplied to a drain, and a gate is connected to the drain. A first transistor, a gate connected to the input signal, a drain connected to the source of the first transistor, a source connected to the second potential, and a gate connected to the source of the first transistor. A third transistor whose drain is supplied with the first potential; a first capacitor provided between the source of the third transistor and the gate of the third transistor; and the gate receiving the input signal. , A drain connected to the source of the third transistor, and a fourth transistor to which the second potential is supplied to the source. The output signal is extracted from the source of the third transistor, the first to fourth transistors have the same conductivity type, the second transistor has a body, and connects the body and the source of the second transistor. It is characterized by that.

この発明によれば、第2トランジスタのボディとソースを接続しているので、例えば、第1〜第4トランジスタの導電型がN型の場合は、第2トランジスタにおいて、ゲートに入力信号のLowレベルの電位(低電位)が供給され、ゲート・ソース間電圧が入力信号の低電位−第2電位(低電位電源)となり、これが閾値電圧付近の値となっても、ホットキャリアによる第2トランジスタの劣化や誤動作を抑制することができる一方、第1〜第4トランジスタの導電型がP型の場合は、第2トランジスタにおいて、ゲートに入力信号のHiレベルの電位(高電位)が供給され、ゲート・ソース間電圧が入力信号の高電位−第2電位(高電位電源)となり、これが閾値電圧付近の値となっても、ホットキャリアによる第2トランジスタの劣化や誤動作を抑制することができる。したがって、バッファの信頼性を向上することができる。   According to the present invention, since the body and source of the second transistor are connected, for example, when the conductivity type of the first to fourth transistors is N-type, in the second transistor, the low level of the input signal at the gate. Is supplied, and the gate-source voltage becomes the low potential-second potential (low-potential power supply) of the input signal, and even if this becomes a value near the threshold voltage, While deterioration and malfunction can be suppressed, when the conductivity type of the first to fourth transistors is P-type, the Hi level potential (high potential) of the input signal is supplied to the gate in the second transistor, and the gate Even if the source-to-source voltage becomes the high potential-second potential (high potential power supply) of the input signal and this becomes a value near the threshold voltage, the deterioration of the second transistor due to hot carriers, It is possible to suppress the operation. Therefore, the reliability of the buffer can be improved.

なお、上述したバッファにおいて、前記第4トランジスタは、ボディを備え、前記第4トランジスタのボディと前記第4トランジスタのソースとを接続する構成であってもよい。この構成であれば、第4トランジスタについてもホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができる。   In the above-described buffer, the fourth transistor may include a body, and the body of the fourth transistor may be connected to the source of the fourth transistor. With this configuration, it is possible to suppress deterioration and malfunction due to hot carriers in the fourth transistor as well.

また、本発明に係るバッファは、入力信号の論理レベルを反転した出力信号を生成するバッファであって、ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される第1トランジスタと、ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第1トランジスタのソースと接続され、ソースに第2電位が供給される第2トランジスタと、ゲートが前記第1トランジスタのソースと接続され、ドレインに前記第1電位が供給される第3トランジスタと、前記第3トランジスタのソースと前記第3トランジスタのゲートとの間に設けられる第1容量素子と、ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第3トランジスタのソースと接続され、ソースに前記第2電位が供給される第4トランジスタとを備え、前記第3トランジスタのソースから前記出力信号を取り出し、前記第1乃至第4トランジスタの導電型は同一であり、前記第2トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、前記バックゲートと前記第2トランジスタのソースとを接続する、ことを特徴とする。   According to another aspect of the present invention, there is provided a buffer for generating an output signal obtained by inverting the logic level of an input signal, wherein a first potential is supplied to a drain and a gate is connected to the drain; The input signal is supplied, the drain is connected to the source of the first transistor, the source is supplied with the second potential, the gate is connected to the source of the first transistor, and the drain is connected to the first transistor. A third transistor to which one potential is supplied; a first capacitor provided between a source of the third transistor and a gate of the third transistor; the input signal being supplied to a gate; and a drain being the third transistor A fourth transistor connected to the source of the transistor and supplied with the second potential to the source. The first to fourth transistors have the same conductivity type, and the second transistor includes a back gate in addition to the gate, and the back gate, the source of the second transistor, Are connected.

この発明によれば、第2トランジスタのバックゲートとソースを接続しているので、例えば、第1〜第4トランジスタの導電型がN型の場合は、第2トランジスタにおいて、ゲートに入力信号のLowレベルの電位(低電位)が供給され、ゲート・ソース間電圧が入力信号の低電位−第2電位(低電位電源)となり、これが閾値電圧付近の値となっても、ホットキャリアによる第2トランジスタの劣化や誤動作を抑制することができる一方、第1〜第4トランジスタの導電型がP型の場合は、第2トランジスタにおいて、ゲートに入力信号のHiレベルの電位(高電位)が供給され、ゲート・ソース間電圧が入力信号の高電位−第2電位(高電位電源)となり、これが閾値電圧付近の値となっても、ホットキャリアによる第2トランジスタの劣化や誤動作を抑制することができる。したがって、バッファの信頼性を向上することができる。   According to the present invention, since the back gate and the source of the second transistor are connected, for example, when the conductivity type of the first to fourth transistors is N-type, in the second transistor, the low level of the input signal is applied to the gate. Level potential (low potential) is supplied, and the gate-source voltage becomes the low potential-second potential (low potential power supply) of the input signal, and even if this becomes a value near the threshold voltage, the second transistor due to hot carriers. On the other hand, when the conductivity type of the first to fourth transistors is P type, the Hi level potential (high potential) of the input signal is supplied to the gate in the second transistor, Even if the gate-source voltage becomes the high potential-second potential (high potential power supply) of the input signal, and this becomes a value in the vicinity of the threshold voltage, It is possible to suppress the reduction or malfunction. Therefore, the reliability of the buffer can be improved.

なお、上述したバッファにおいて、前記第4トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、前記第4トランジスタのバックゲートと前記第4トランジスタのソースとを接続する構成であってもよい。この構成であれば、第4トランジスタについてもホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができる。   In the above-described buffer, the fourth transistor may include a back gate in addition to the gate, and the back gate of the fourth transistor may be connected to the source of the fourth transistor. With this configuration, it is possible to suppress deterioration and malfunction due to hot carriers in the fourth transistor as well.

また、本発明に係るバッファは、高電位と低電位との振幅レベルを有する入力信号の論理レベルを反転した出力信号を生成するバッファであって、ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される第1トランジスタと、ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第1トランジスタのソースと接続され、ソースに第2電位が供給される第2トランジスタと、ゲートが前記第1トランジスタのソースと接続され、ドレインに前記第1電位が供給される第3トランジスタと、前記第3トランジスタのソースと前記第3トランジスタのゲートとの間に設けられる第1容量素子と、ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第3トランジスタのソースと接続され、ソースに前記第2電位が供給される第4トランジスタとを備え、前記第3トランジスタのソースから前記出力信号を取り出し、前記第1乃至第4トランジスタの導電型は同一であり、前記第2トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、前記バックゲートには、前記導電型がN型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記低電位である期間において、前記第2トランジスタの閾値電圧を前記低電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより大きくする電位が供給される一方、前記導電型がP型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記高電位である期間において、前記第2トランジスタの閾値電圧を前記高電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより小さくする電位が供給される、ことを特徴とする。   The buffer according to the present invention is a buffer for generating an output signal obtained by inverting the logic level of an input signal having amplitude levels of a high potential and a low potential, wherein a first potential is supplied to a drain, and a gate is A first transistor connected to a drain; a gate supplied with the input signal; a drain connected to a source of the first transistor; a source supplied with a second potential; and a gate connected to the first transistor A third transistor connected to a source of the transistor and supplied with the first potential to a drain; a first capacitor provided between a source of the third transistor and a gate of the third transistor; A fourth transistor in which an input signal is supplied, a drain is connected to a source of the third transistor, and the second potential is supplied to the source; The output signal is extracted from the source of the third transistor, the first to fourth transistors have the same conductivity type, the second transistor includes a back gate in addition to the gate, and the back transistor When the conductivity type is N type, the gate has a voltage value obtained by subtracting the second potential from the low potential during the period when the amplitude level of the input signal is the low potential. In order to deviate from the threshold voltage, a potential for increasing the threshold voltage is supplied. On the other hand, when the conductivity type is P type, the threshold voltage of the second transistor is applied during the period in which the amplitude level of the input signal is the high potential. Is shifted from a voltage value obtained by subtracting the second potential from the high potential, a potential for lowering the threshold voltage is supplied.

この発明によれば、第2トランジスタのバックゲートに供給する電位を制御し、オフの状態にある第2トランジスタの閾値電圧を、第1〜第4トランジスタの導電型がN型の場合は、入力信号の低電位から第2電位(低電位電源)を減じた電圧値より大きくすることができる一方、第1〜第4トランジスタの導電型がP型の場合は、入力信号の高電位から第2電位(高電位電源)を減じた電圧値より小さくすることができる。したがって、第1〜第4トランジスタの導電型がN型の場合は、第2トランジスタにおいて、ゲートに入力信号の低電位が供給され、ゲート・ソース間電圧が入力信号の低電位−第2電位(低電位電源)となっても、これが閾値電圧付近の値にはならず、また、第1〜第4トランジスタの導電型がP型の場合は、第2トランジスタにおいて、ゲートに入力信号の高電位が供給され、ゲート・ソース間電圧が入力信号の高電位−第2電位(高電位電源)となっても、これが閾値電圧付近の値にはならない。よって、ホットキャリアによる第2トランジスタの劣化や誤動作を抑制することができ、さらに第2トランジスタにおけるリークの発生を防ぐこともできる。したがって、バッファの信頼性を向上することができる。   According to the present invention, the potential supplied to the back gate of the second transistor is controlled so that the threshold voltage of the second transistor in the off state is input when the conductivity type of the first to fourth transistors is N type. While the voltage value obtained by subtracting the second potential (low potential power supply) from the low potential of the signal can be made larger, when the conductivity type of the first to fourth transistors is P type, the second potential is increased from the high potential of the input signal. The potential (high potential power supply) can be made smaller than the reduced voltage value. Therefore, when the conductivity type of the first to fourth transistors is N-type, the low potential of the input signal is supplied to the gate in the second transistor, and the gate-source voltage is the low potential-second potential (second potential) of the input signal ( Even if it is a low-potential power supply), this does not become a value near the threshold voltage, and when the conductivity type of the first to fourth transistors is P-type, the second transistor has a high potential of the input signal at the gate. Even when the gate-source voltage becomes the high potential-second potential (high potential power supply) of the input signal, this does not become a value near the threshold voltage. Therefore, the deterioration and malfunction of the second transistor due to hot carriers can be suppressed, and the occurrence of leakage in the second transistor can be prevented. Therefore, the reliability of the buffer can be improved.

なお、上述したバッファにおいて、前記バックゲートと前記第2トランジスタのゲートとを接続する構成であってもよい。この構成であれば、第2トランジスタのバックゲートとゲートを接続するだけでよいので、バッファの回路構成を簡素化することができる。   In the above-described buffer, the back gate and the gate of the second transistor may be connected. With this configuration, it is only necessary to connect the back gate and gate of the second transistor, so that the circuit configuration of the buffer can be simplified.

また、上述したバッファにおいて、前記第4トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、前記第4トランジスタのバックゲートには、前記導電型がN型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記低電位である期間において、前記第4トランジスタの閾値電圧を前記低電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより大きくする電位が供給される一方、前記導電型がP型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記高電位である期間において、前記第4トランジスタの閾値電圧を前記高電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより小さくする電位が供給される構成であってもよい。この構成であれば、第4トランジスタについてもホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができ、さらに第4トランジスタにおけるリークの発生も防ぐことができる。また、この場合に、前記第4トランジスタのバックゲートと前記第4トランジスタのゲートとを接続する構成であってもよい。この構成であれば、バッファの回路構成を簡素化することができる。   In the above-described buffer, the fourth transistor includes a back gate in addition to the gate. When the conductivity type is N type, the amplitude level of the input signal is included in the back gate of the fourth transistor. In order to shift the threshold voltage of the fourth transistor from the voltage value obtained by subtracting the second potential from the low potential in the period of the low potential, a potential for increasing the threshold voltage is supplied. Is P-type, the threshold voltage of the fourth transistor is shifted from the voltage value obtained by subtracting the second potential from the high potential in a period in which the amplitude level of the input signal is the high potential. It is also possible to use a configuration in which a potential for reducing the voltage is supplied. With this configuration, it is possible to suppress degradation and malfunction due to hot carriers in the fourth transistor, and it is also possible to prevent occurrence of leakage in the fourth transistor. In this case, the back gate of the fourth transistor and the gate of the fourth transistor may be connected. With this configuration, the buffer circuit configuration can be simplified.

また、上述したバッファにおいて、前記第1電位が供給される第1電源端子と、前記第2電位が供給される第2電源端子と、前記第3トランジスタのゲートと、前記第1電源端子または前記第2電源端子との間に設けられる第2容量素子とを備える構成であってもよい。この構成であれば、第1容量素子と第2容量素子による容量分割によって、ブートストラップ効果が可能な範囲で第2トランジスタのドレインに供給される電位を下げることができるので、第2トランジスタの劣化を軽減することができる。   In the above-described buffer, the first power supply terminal to which the first potential is supplied, the second power supply terminal to which the second potential is supplied, the gate of the third transistor, the first power supply terminal, or the The structure provided with the 2nd capacitive element provided between 2nd power supply terminals may be sufficient. With this configuration, the potential supplied to the drain of the second transistor can be lowered within a range in which the bootstrap effect can be achieved by capacitive division by the first capacitive element and the second capacitive element. Can be reduced.

また、上述したバッファにおいて、前記第1トランジスタは、ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される、ことの代わりに、ドレインに第1電位が供給され、ゲートに前記入力信号の論理レベルを反転した反転入力信号が供給される構成であってもよい。この構成であれば、例えば、図17(c)に示すような2入力1出力タイプのバッファにも本発明を適用することができる。   In the above-described buffer, the first transistor is supplied with the first potential at the drain, and the gate is connected to the drain. Instead, the first transistor is supplied with the first potential, and the input signal is supplied to the gate. A configuration may be employed in which an inverted input signal obtained by inverting the logic level is supplied. With this configuration, for example, the present invention can be applied to a 2-input 1-output type buffer as shown in FIG.

また、上述したバッファにおいて、これを構成する全てのトランジスタは薄膜トランジスタであってもよい。   In the above-described buffer, all the transistors constituting the buffer may be thin film transistors.

また、本発明に係るレベルシフト回路は、基準電位と第3電位との振幅レベルを有する第1入力信号に対して、前記第3電位側の振幅レベルの電位を、前記基準電位との差分が前記第3電位より大きくなる第4電位とする第1出力信号を生成するレベルシフタと、前記レベルシフタの後段に接続される上述したいずれかのバッファとを備え、前記レベルシフタと前記バッファとを構成する全てのトランジスタの導電型は同一であり、前記第1出力信号が前記バッファの前記入力信号として供給される、ことを特徴とする。この発明によれば、レベルシフト回路の信頼性を向上することができる。   In addition, the level shift circuit according to the present invention is configured such that the difference between the amplitude level on the third potential side and the reference potential is different from the first input signal having the amplitude level between the reference potential and the third potential. A level shifter that generates a first output signal having a fourth potential that is higher than the third potential, and any one of the above-described buffers that is connected to the subsequent stage of the level shifter, and all that constitute the level shifter and the buffer The transistors have the same conductivity type, and the first output signal is supplied as the input signal of the buffer. According to the present invention, the reliability of the level shift circuit can be improved.

また、本発明に係る表示装置は、複数の走査線と、複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との交差に対応して設けられた複数の画素回路とを備えた表示装置であって、前記複数の走査線の各々に走査信号を供給する走査線駆動回路と、前記複数のデータ線の各々にデータ信号を供給するデータ線駆動回路とを備え、前記走査線駆動回路の出力段に上述したレベルシフト回路を用いる、ことを特徴とする。この発明によれば、表示装置の信頼性を向上することができる。   The display device according to the present invention includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixel circuits provided corresponding to intersections of the plurality of scanning lines and the plurality of data lines. A scanning line driving circuit for supplying a scanning signal to each of the plurality of scanning lines, and a data line driving circuit for supplying a data signal to each of the plurality of data lines, The level shift circuit described above is used for the output stage of the drive circuit. According to the present invention, the reliability of the display device can be improved.

<第1実施形態>
図1は、第1実施形態に係る負方向レベルシフト回路401の全体構成を示すブロック図である。同図に示すように負方向レベルシフト回路401は、レベルシフタ300にバッファ241を接続して構成される。この負方向レベルシフト回路401は、振幅がVDD−GNDとなる入力信号01,/01の信号レベルを負方向にシフトし、振幅がVDD−VEEとなる出力信号03を生成する。各電圧の大小関係は、VDD(8V程度)>GND(0V)>VEE(−4V程度)である。また、レベルシフタ300とバッファ241を構成する全てのトランジスタは、NチャネルのTFTである。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a negative direction level shift circuit 401 according to the first embodiment. As shown in the figure, the negative direction level shift circuit 401 is configured by connecting a buffer 241 to the level shifter 300. The negative direction level shift circuit 401 shifts the signal level of the input signals 01 and / 01 having an amplitude of VDD-GND in the negative direction, and generates an output signal 03 having an amplitude of VDD-VEE. The magnitude relationship of each voltage is VDD (about 8 V)> GND (0 V)> VEE (about −4 V). Further, all the transistors constituting the level shifter 300 and the buffer 241 are N-channel TFTs.

なお、同図において、図17(a)に示した負方向レベルシフト回路400と共通する回路には同一の符号を付している。すなわち、本実施形態に係る負方向レベルシフト回路401のうち、図17(a)に示した負方向レベルシフト回路400と異なるのは、バッファ241のみである。レベルシフタ300については、負方向レベルシフト回路400と同じであり、その回路構成は図17(b)に示したとおりである。   In the figure, the same reference numerals are assigned to circuits common to the negative direction level shift circuit 400 shown in FIG. That is, in the negative direction level shift circuit 401 according to the present embodiment, only the buffer 241 is different from the negative direction level shift circuit 400 shown in FIG. The level shifter 300 is the same as the negative direction level shift circuit 400, and its circuit configuration is as shown in FIG.

また、図1に示すように、レベルシフタ300は、入力信号01が供給される第1入力端子inと、入力信号01を反転した入力信号/01が供給される第2入力端子/inと、入力信号01と同相の出力信号02を出力する第1出力端子outと、入力信号/01と同相の出力信号/02を出力する第2出力端子/outに加え、高電位電源VDDが供給される第1電源端子と、低電位電源VEEが供給される第2電源端子とを備える。また、バッファ241は、レベルシフタ300の第2出力端子/outと接続される入力端子inと、出力信号03を出力する出力端子outに加え、高電位電源VDDが供給される第1電源端子と、低電位電源VEEが供給される第2電源端子とを備える。   As shown in FIG. 1, the level shifter 300 includes a first input terminal in to which an input signal 01 is supplied, a second input terminal / in to which an input signal / 01 obtained by inverting the input signal 01 is supplied, and an input In addition to the first output terminal out that outputs the output signal 02 in phase with the signal 01 and the second output terminal / out that outputs the output signal 02 in phase with the input signal / 01, the first output terminal out is supplied with the high potential power VDD. 1 power supply terminal and a second power supply terminal to which the low potential power supply VEE is supplied. The buffer 241 includes an input terminal in connected to the second output terminal / out of the level shifter 300, an output terminal out for outputting the output signal 03, a first power supply terminal to which the high potential power supply VDD is supplied, And a second power supply terminal to which the low potential power supply VEE is supplied.

図2は、第1実施形態に係るバッファ241の構成を示す回路図である。
本実施形態に係るバッファ241は、レベルシフタ300からの出力信号/02を入力信号として、その論理レベルを反転した出力信号03を生成するインバータである。また、本実施形態に係るバッファ241は、図17(c)に示したバッファ240aとは異なり、1入力1出力タイプのバッファである。このため、トランジスタTr201をダイオード接続している点で、図17(c)に示したバッファ240aと相違する。加えて、本実施形態に係るバッファ241は、図17(c)に示したトランジスタTr202を、ボディ構造を有するNチャネルのトランジスタTr312(TFT)に置き換え、そのボディBをソースSに接続した点で、図17(c)に示したバッファ240aと異なる。トランジスタTr312の構造を図3に示す。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the buffer 241 according to the first embodiment.
The buffer 241 according to the present embodiment is an inverter that generates an output signal 03 obtained by inverting the logic level using the output signal 02 from the level shifter 300 as an input signal. Further, the buffer 241 according to the present embodiment is a one-input one-output type buffer, unlike the buffer 240a shown in FIG. This is different from the buffer 240a shown in FIG. 17C in that the transistor Tr201 is diode-connected. In addition, the buffer 241 according to the present embodiment is such that the transistor Tr202 shown in FIG. 17C is replaced with an N-channel transistor Tr312 (TFT) having a body structure, and the body B is connected to the source S. This is different from the buffer 240a shown in FIG. A structure of the transistor Tr312 is illustrated in FIG.

図3に示すように、トランジスタTr312は、絶縁性の基板の表面に形成された半導体層12(例えば、ポリシリコンの膜体)を有する。半導体層12を覆うゲート絶縁膜(図示略)を挟んで半導体層12と対向するようにゲート電極13(図2のゲートG)が形成される。半導体層12には、ソース領域12Sとドレイン領域12Dとチャネルコンタクト領域Aとがゲート電極13の作成後に形成される。ソース領域12S及びドレイン領域12Dは、N型の不純物が導入された領域である。これに対し、チャネルコンタクト領域Aは、トランジスタTr312のチャネルとは逆の導電型であるP型の不純物が導入された領域である。   As shown in FIG. 3, the transistor Tr312 has a semiconductor layer 12 (for example, a polysilicon film body) formed on the surface of an insulating substrate. A gate electrode 13 (gate G in FIG. 2) is formed so as to face the semiconductor layer 12 with a gate insulating film (not shown) covering the semiconductor layer 12 interposed therebetween. A source region 12S, a drain region 12D, and a channel contact region A are formed in the semiconductor layer 12 after the gate electrode 13 is formed. The source region 12S and the drain region 12D are regions into which N-type impurities are introduced. On the other hand, the channel contact region A is a region into which a P-type impurity having a conductivity type opposite to that of the channel of the transistor Tr312 is introduced.

また、半導体層12及びゲート電極13を被覆するように層間絶縁層(図示略)が形成され、この層間絶縁層には、複数の貫通孔H1,H2,H3が形成される。半導体層12のソース領域12Sには、貫通孔H1を介してソース電極14(図2のソースS)が接続され、ドレイン領域12Dには、貫通孔H2を介してドレイン電極15(図2のドレインD)が接続される。また、半導体層12のチャネルコンタクト領域Aには、貫通孔H3を介してボディ電極(図2のボディB)16が接続される。   An interlayer insulating layer (not shown) is formed so as to cover the semiconductor layer 12 and the gate electrode 13, and a plurality of through holes H1, H2, and H3 are formed in the interlayer insulating layer. A source electrode 14 (source S in FIG. 2) is connected to the source region 12S of the semiconductor layer 12 through a through hole H1, and a drain electrode 15 (drain in FIG. 2 is connected to the drain region 12D through a through hole H2. D) is connected. A body electrode (body B in FIG. 2) 16 is connected to the channel contact region A of the semiconductor layer 12 through the through hole H3.

次に、図2に示したバッファ241の動作について説明する。
バッファ241の入力端子inには、レベルシフタ300の出力信号/02が供給される。入力端子inに供給される出力信号/02がHiレベル(VDD)になると、プルダウン側の2つのトランジスタTr312,204が両方ともオンする。また、トランジスタTr201はダイオード接続されているので、ノードαの電位は、トランジスタTr201とトランジスタTr312のオン抵抗の比率できまる値になる。例えば、トランジスタTr201のオン抵抗がトランジスタTr312のオン抵抗よりも極めて小さければ、ノードαの電位は、≒VDD−Vth(トランジスタTr201の閾値電圧)となり、トランジスタTr203がオンする。
Next, the operation of the buffer 241 shown in FIG. 2 will be described.
The output signal 02 of the level shifter 300 is supplied to the input terminal in of the buffer 241. When the output signal / 02 supplied to the input terminal in becomes Hi level (VDD), the two transistors Tr312 and 204 on the pull-down side are both turned on. Further, since the transistor Tr201 is diode-connected, the potential of the node α is a value determined by the ratio of the on-resistance of the transistor Tr201 and the transistor Tr312. For example, if the on-resistance of the transistor Tr201 is extremely smaller than the on-resistance of the transistor Tr312, the potential of the node α is approximately VDD−Vth (the threshold voltage of the transistor Tr201), and the transistor Tr203 is turned on.

したがって、出力端子outから出力される出力信号03の電位は、トランジスタTr203とトランジスタTr204のオン抵抗の比率できまる値になる。但し、トランジスタTr204の駆動能力はトランジスタTr203に比べて高く設定されており、トランジスタTr204のオン抵抗はトランジスタTr203のオン抵抗よりも極めて小さい。このため、出力信号03の電位は、≒VEEとなる。また、ノードαの電位が≒VDD−Vthとなる一方、出力信号03の電位が≒VEEとなるので、容量205には、≒(VDD−Vth)−VEEに相当する電荷が保持される。   Therefore, the potential of the output signal 03 output from the output terminal out becomes a value determined by the ratio of the on-resistance of the transistor Tr203 and the transistor Tr204. However, the driving capability of the transistor Tr204 is set higher than that of the transistor Tr203, and the on-resistance of the transistor Tr204 is extremely smaller than the on-resistance of the transistor Tr203. For this reason, the potential of the output signal 03 becomes ≈VEE. Further, since the potential of the node α becomes ≈VDD−Vth, while the potential of the output signal 03 becomes ≈VEE, the capacitor 205 holds a charge corresponding to ≈ (VDD−Vth) −VEE.

一方、入力端子inに供給される出力信号/02がLowレベル(VEE’)になると、プルダウン側の2つのトランジスタTr312,204は、ゲート・ソース間電圧がVEE’−VEEとなり、これが閾値電圧より若干高い値をとるため、完全にオフしきれないものの、ほぼオフの状態になる。したがって、出力段の2つのトランジスタTr203,204のうち、トランジスタTr203のみが完全にオンしている状態となり、出力信号03の電位が上がり始める。   On the other hand, when the output signal / 02 supplied to the input terminal in becomes Low level (VEE ′), the two transistors Tr312 and 204 on the pull-down side have a gate-source voltage of VEE′−VEE, which is higher than the threshold voltage. Since it takes a slightly high value, it cannot be completely turned off, but is almost turned off. Therefore, of the two transistors Tr203 and 204 in the output stage, only the transistor Tr203 is completely turned on, and the potential of the output signal 03 starts to rise.

また、容量205には、≒(VDD−Vth)−VEEに相当する電荷が保持されているため、出力信号03の電位の上昇に伴い、ノードαの電位、すなわちトランジスタTr203のゲートに供給される電位を更に高めていく。この容量205によるブートストラップ効果によってトランジスタTr203は充分にオンする状態となる。なお、トランジスタTr201は、ノードαの電位がVDDよりも高くなることでオフする。出力信号03の電位は、トランジスタTr204を完全にオフしきれていないため、VDDよりも若干低いVDD’となる。また、容量205によるブートストラップ効果によって、ノードαの電位は、≒{(VDD−Vth)−VEE}+VDD’、すなわち、高電位電源VDDの2倍強にまで高められる。   Further, since the charge corresponding to ≈ (VDD−Vth) −VEE is held in the capacitor 205, it is supplied to the potential of the node α, that is, the gate of the transistor Tr203 as the potential of the output signal 03 rises. Increase the potential further. Due to the bootstrap effect of the capacitor 205, the transistor Tr203 is sufficiently turned on. Note that the transistor Tr201 is turned off when the potential of the node α becomes higher than VDD. The potential of the output signal 03 is VDD ′ slightly lower than VDD because the transistor Tr204 is not completely turned off. Further, due to the bootstrap effect of the capacitor 205, the potential of the node α is increased to approximately {(VDD−Vth) −VEE} + VDD ′, that is, slightly more than twice the high potential power supply VDD.

ところで、前述したように、レベルシフタ300の出力信号/02には、Lowレベルの浮きが発生しており、Lowレベルの電位はVEEよりも若干高いVEE’になっている。この出力信号/02は、バッファ241において、トランジスタTr312のゲートGとトランジスタTr204のゲートに供給されている。したがって、トランジスタTr312,204として駆動能力が高く閾値電圧が低いTFTを用いている場合、入力端子inに出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給されると、トランジスタTr312,204では、ゲート・ソース間電圧がVEE’−VEEとなり、これが閾値電圧付近の値をとる場合がある。このような場合、トランジスタTr312,204には、出力信号/02のLowレベルが供給されている間、閾値電圧付近のゲート電圧が絶えず印加されることになるため、ホットキャリアによる性能の劣化や誤動作が生じてしまう。   By the way, as described above, low level floating occurs in the output signal 02 of the level shifter 300, and the low level potential is VEE ′ slightly higher than VEE. In the buffer 241, the output signal / 02 is supplied to the gate G of the transistor Tr312 and the gate of the transistor Tr204. Therefore, when a TFT having a high driving capability and a low threshold voltage is used as the transistors Tr312, 204, when the low level (VEE ′) of the output signal / 02 is supplied to the input terminal in, the transistors Tr312, 204 The source-to-source voltage becomes VEE'-VEE, which may take a value near the threshold voltage. In such a case, since the gate voltage near the threshold voltage is constantly applied to the transistors Tr312 and 204 while the low level of the output signal / 02 is supplied, performance degradation or malfunction due to hot carriers is applied. Will occur.

さらに、トランジスタTr312については、ホットキャリアによる問題に加え、上述したようにブートストラップ効果によって高電位電源VDDの2倍強にまで高められたドレイン電圧が印加されることになるため、劣化の進み具合がさらに大きくなる。仮に、トランジスタTr312が劣化してしまうと、この劣化はバッファ241の出力信号03にLowレベルの浮きを発生させ、次段以降の回路に備わるTFTにも同様の劣化を生じさせてしまう。   Furthermore, in addition to the problem due to hot carriers, the transistor Tr312 is applied with a drain voltage that has been increased to more than twice that of the high potential power supply VDD by the bootstrap effect as described above. Becomes even larger. If the transistor Tr312 deteriorates, this deterioration causes a low level floating in the output signal 03 of the buffer 241, and the same deterioration occurs in the TFTs provided in the circuits in the subsequent stages.

以上のようなことから本実施形態では、トランジスタTr312を、図3に示したボディ構造を有するTFTとし、そのボディBをソースSに接続することで、ホットキャリアによるトランジスタTr312の劣化や誤動作を低減し、バッファ241の信頼性を高めている。なお、TFTにおいてボディBをソースSに接続することで、ホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制できる理由については、諸説あり、確定的なことは未だ解明されていない。しかしながら、TFTにおいてボディBをソースSに接続することでホットキャリアによる劣化や誤動作が低減することは、シミュレーションや実験によって確認されている。   As described above, in this embodiment, the transistor Tr312 is a TFT having the body structure shown in FIG. 3, and the body B is connected to the source S, thereby reducing deterioration and malfunction of the transistor Tr312 due to hot carriers. In addition, the reliability of the buffer 241 is increased. Note that there are various theories about the reason why deterioration and malfunction due to hot carriers can be suppressed by connecting the body B to the source S in the TFT, and the definite thing has not yet been elucidated. However, it has been confirmed by simulations and experiments that the deterioration and malfunction due to hot carriers are reduced by connecting the body B to the source S in the TFT.

このように本実施形態によれば、バッファ241に備わる4つのトランジスタTr201,312,203,204のうち、レベルシフタ300からの出力信号/02がゲートに供給され、かつ、ブートストラップ効果によって高電位電源VDDの2倍強にまで高められた電位がドレインに供給されるトランジスタTr312を、ボディ構造を有するTFTとし、そのボディBをソースSに接続しているので、レベルシフタ300の出力信号/02にLowレベルの浮きが生じていても、ホットキャリアによるトランジスタTr312の劣化や誤動作を抑制することができる。したがって、バッファ241や負方向レベルシフト回路401の信頼性を高めることができる。   As described above, according to the present embodiment, among the four transistors Tr201, 312, 203, and 204 provided in the buffer 241, the output signal / 02 from the level shifter 300 is supplied to the gate, and the high potential power supply is generated by the bootstrap effect. Since the transistor Tr312 to which the potential increased to slightly higher than VDD is supplied to the drain is a TFT having a body structure, and the body B is connected to the source S, the output signal / 02 of the level shifter 300 is low. Even if the level is lifted, deterioration or malfunction of the transistor Tr312 due to hot carriers can be suppressed. Therefore, the reliability of the buffer 241 and the negative direction level shift circuit 401 can be improved.

なお、レベルシフタ300からの出力信号/02は、トランジスタTr204のゲートにも供給されているので、図2に示すトランジスタTr204についても、ボディ構造を有するトランジスタTr312(図3)に置き換え、そのボディBをソースSに接続する構成としてもよい。このようにすれば、トランジスタTr204についてもホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができる。   Since the output signal 02 from the level shifter 300 is also supplied to the gate of the transistor Tr204, the transistor Tr204 shown in FIG. 2 is also replaced with a transistor Tr312 (FIG. 3) having a body structure, and its body B is replaced by It may be configured to connect to the source S. In this way, the transistor Tr204 can also be prevented from being deteriorated or malfunctioning due to hot carriers.

<第2実施形態>
図4は、第2実施形態に係るバッファ242の構成を示す回路図である。
なお、同図において、第1実施形態で説明したバッファ241と共通する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態に係るバッファ242は、ノードα(トランジスタTr203のゲート)と第2電源端子(VEE)との間に容量206を接続している点で、第1実施形態におけるバッファ241と異なる。
Second Embodiment
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of the buffer 242 according to the second embodiment.
In the figure, components common to the buffer 241 described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. The buffer 242 according to the present embodiment is different from the buffer 241 according to the first embodiment in that a capacitor 206 is connected between the node α (the gate of the transistor Tr203) and the second power supply terminal (VEE).

このように容量206を追加した場合、入力端子inに出力信号/02のHiレベル(VDD)が供給されると、容量205及び容量206には、≒(VDD−Vth)−VEEに相当する電荷が保持される。一方、入力端子inに出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給されると、出力信号03の電位が上がり始めるが、この際、トランジスタTr204がほぼオフの状態に移行したことに伴い、容量205及び容量206に保持されている電荷が、その容量値に反比例する形で再分配される(容量分割)。したがって、ノードαの電位を、ブートストラップ動作が十分可能な範囲でより低い値に設定することができる。つまり、第1実施形態では、ブートストラップ効果によってノードαの電位が{(VDD−Vth)−VEE}+VDD’となるが、本実施形態では、ノードαの電位を、ブートストラップ動作が可能な範囲で、{(VDD−Vth)−VEE}+VDD’よりも低い値に下げることができる。よって、トランジスタTr312のドレインDに印加される電位を下げることができ、第1実施形態の場合よりもトランジスタTr312の劣化を軽減することができる。   When the capacitor 206 is added in this way, when the Hi level (VDD) of the output signal 02 is supplied to the input terminal in, the capacitor 205 and the capacitor 206 have a charge corresponding to ≈ (VDD−Vth) −VEE. Is retained. On the other hand, when the low level (VEE ′) of the output signal / 02 is supplied to the input terminal in, the potential of the output signal 03 starts to rise. At this time, the transistor Tr204 is shifted to an almost OFF state. The charges held in the capacitors 205 and 206 are redistributed in a manner inversely proportional to the capacitance values (capacitance division). Therefore, the potential of the node α can be set to a lower value as long as the bootstrap operation is sufficiently possible. That is, in the first embodiment, the potential of the node α becomes {(VDD−Vth) −VEE} + VDD ′ due to the bootstrap effect, but in this embodiment, the potential of the node α is within a range where the bootstrap operation is possible. Therefore, it can be lowered to a value lower than {(VDD−Vth) −VEE} + VDD ′. Therefore, the potential applied to the drain D of the transistor Tr312 can be lowered, and deterioration of the transistor Tr312 can be reduced as compared with the case of the first embodiment.

なお、図4において、容量206は、ノードαと第2電源端子(VEE)との間ではなく、ノードαと第1電源端子(VDD)との間に接続される構成であってもよい。また、図4において、トランジスタTr204についても、ボディ構造を有するトランジスタTr312(図3)に置き換え、そのボディBをソースSに接続する構成としてもよい。   In FIG. 4, the capacitor 206 may be connected not between the node α and the second power supply terminal (VEE) but between the node α and the first power supply terminal (VDD). In FIG. 4, the transistor Tr204 may be replaced with the transistor Tr312 (FIG. 3) having a body structure, and the body B may be connected to the source S.

<第3実施形態>
図5は、第3実施形態に係るバッファ243の構成を示す回路図である。
なお、同図において、第1実施形態で説明したバッファ241と共通する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態に係るバッファ243が、第1実施形態におけるバッファ241(図2)と異なるのは、ボディ構造を有するNチャネルのトランジスタTr312(TFT)の代わりに、バックゲート構造を有するNチャネルのトランジスタTr322(TFT)を使用し、そのバックゲートBGをソースSに接続している点である。トランジスタTr322の構造を図6に示す。
<Third Embodiment>
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of the buffer 243 according to the third embodiment.
In the figure, components common to the buffer 241 described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. The buffer 243 according to the present embodiment is different from the buffer 241 (FIG. 2) according to the first embodiment in that an N-channel transistor having a back gate structure is used instead of the N-channel transistor Tr312 (TFT) having a body structure. The Tr322 (TFT) is used and the back gate BG is connected to the source S. A structure of the transistor Tr322 is illustrated in FIG.

図6に示すように、トランジスタTr322は、絶縁性の基板20の表面に形成される。基板20を被覆する下地層21の表面にバックゲートBGが形成される。バックゲートBGは、ゲート絶縁膜23で覆われ、ゲート絶縁膜23の表面に半導体層25(例えばポリシリコンの膜体)が形成される。半導体層25の表面上のゲート絶縁膜27を挟んで半導体層25のチャネル領域と対向するようにゲートGが形成される。半導体層25のソース領域には層間絶縁層29の貫通孔を介してソースSが接続され、半導体層25のドレイン領域には層間絶縁層29の貫通孔を介してドレインDが接続される。   As shown in FIG. 6, the transistor Tr322 is formed on the surface of the insulating substrate 20. A back gate BG is formed on the surface of the base layer 21 covering the substrate 20. The back gate BG is covered with a gate insulating film 23, and a semiconductor layer 25 (for example, a polysilicon film body) is formed on the surface of the gate insulating film 23. A gate G is formed so as to face the channel region of the semiconductor layer 25 with the gate insulating film 27 on the surface of the semiconductor layer 25 interposed therebetween. A source S is connected to the source region of the semiconductor layer 25 through a through hole of the interlayer insulating layer 29, and a drain D is connected to the drain region of the semiconductor layer 25 through a through hole of the interlayer insulating layer 29.

このように本実施形態では、ボディ構造を有するトランジスタTr312の代わりに、バックゲート構造を有するトランジスタTr322を使用し、そのバックゲートBGをソースSに接続しているが、このような構成であっても、第1実施形態の場合と同様に、ホットキャリアによるトランジスタTr322の劣化や誤動作を低減することができる。なお、TFTにおいてバックゲートBGをソースSに接続することで、ホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制できる理由については、ボディBをソースSに接続する場合と同様に、確定的なことは未だ解明されていない。しかしながら、TFTにおいてバックゲートBGをソースSに接続することでホットキャリアによる劣化や誤動作が低減することは、シミュレーションや実験によって確認されている。   As described above, in this embodiment, the transistor Tr322 having the back gate structure is used instead of the transistor Tr312 having the body structure, and the back gate BG is connected to the source S. However, as in the case of the first embodiment, deterioration and malfunction of the transistor Tr322 due to hot carriers can be reduced. As to the reason why deterioration and malfunction due to hot carriers can be suppressed by connecting the back gate BG to the source S in the TFT, as with the case where the body B is connected to the source S, the definite thing has not yet been elucidated. Not. However, it has been confirmed by simulations and experiments that the deterioration and malfunction due to hot carriers are reduced by connecting the back gate BG to the source S in the TFT.

また、LDD(Lightly Doped Drain)領域を有する前提の下で、ソース・ドレイン間耐圧の向上については、以下のように説明することができる。すなわち、バックゲート電極の電位をソース電位に近い電位に固定し、ソース・ドレイン間の電圧を大きな値にすると、ドレイン領域とバックゲート電極との間に電圧差が生じる。この時の電界は低濃度不純物領域の実効的なキャリア濃度を低下させるように働く。したがって、バックゲート構造を有していない場合に不純物濃度を下げた時と同じ効果によって、ソース・ドレイン間耐圧が向上されるものと考えられる(高濃度領域に近い低濃度領域に新たにキャリアの少ない部分が生じ、この部分にソース・ドレイン間の電圧の一部がかかり、低濃度領域のゲート電極端に集中していたソース・ドレイン間の電圧が分散される)。   Further, under the premise of having an LDD (Lightly Doped Drain) region, the improvement in the breakdown voltage between the source and the drain can be explained as follows. That is, when the potential of the back gate electrode is fixed to a potential close to the source potential and the voltage between the source and the drain is set to a large value, a voltage difference is generated between the drain region and the back gate electrode. The electric field at this time works to lower the effective carrier concentration in the low concentration impurity region. Therefore, it can be considered that the breakdown voltage between the source and the drain is improved by the same effect as when the impurity concentration is lowered when the back gate structure is not provided (the carrier concentration is newly added to the low concentration region close to the high concentration region). A small part is generated, and a part of the voltage between the source and the drain is applied to this part, and the voltage between the source and the drain concentrated on the gate electrode end in the low concentration region is dispersed).

このように本実施形態によれば、バッファ243に備わる4つのトランジスタTr201,322,203,204のうち、レベルシフタ300からの出力信号/02がゲートに供給され、かつ、ブートストラップ効果によって高電位電源VDDの2倍強にまで高められた電位がドレインに供給されるトランジスタTr322を、バックゲート構造を有するTFTとし、そのバックゲートBGをソースSに接続しているので、レベルシフタ300の出力信号/02にLowレベルの浮きが生じていても、ホットキャリアによるトランジスタTr322の劣化や誤動作を抑制することができる。したがって、バッファ243やこれを用いて構成される負方向レベルシフト回路の信頼性を高めることができる。   As described above, according to the present embodiment, among the four transistors Tr201, 322, 203, and 204 provided in the buffer 243, the output signal / 02 from the level shifter 300 is supplied to the gate, and the high potential power supply is generated by the bootstrap effect. Since the transistor Tr322 to which the potential increased to slightly higher than VDD is supplied to the drain is a TFT having a back gate structure, and the back gate BG is connected to the source S, the output signal 02 of the level shifter 300 Even when a low level float occurs, deterioration or malfunction of the transistor Tr322 due to hot carriers can be suppressed. Therefore, the reliability of the buffer 243 and the negative direction level shift circuit configured using the buffer 243 can be improved.

なお、レベルシフタ300からの出力信号/02は、トランジスタTr204のゲートにも供給されているので、図5に示すトランジスタTr204についても、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGをソースSに接続する構成としてもよい。このようにすれば、トランジスタTr204についてもホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができる。   Since the output signal 02 from the level shifter 300 is also supplied to the gate of the transistor Tr204, the transistor Tr204 shown in FIG. 5 is also replaced with a transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure, and its back gate. The BG may be connected to the source S. In this way, the transistor Tr204 can also be prevented from being deteriorated or malfunctioning due to hot carriers.

<第4実施形態>
図7は、第4実施形態に係るバッファ244の構成を示す回路図である。
なお、同図において、第3実施形態で説明したバッファ243と共通する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態に係るバッファ244は、ノードαと第2電源端子(VEE)との間に容量206を接続している点で、第3実施形態におけるバッファ243と異なる。このように容量206を追加すると、上述した第2実施形態で説明したように、容量205と容量206による容量分割によって、ノードαの電位をブートストラップ動作が可能な範囲でより低い値にすることができる。したがって、トランジスタTr322のドレインDに印加される電位を下げることができ、第3実施形態の場合よりもトランジスタTr322の劣化を軽減することができる。
<Fourth embodiment>
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of the buffer 244 according to the fourth embodiment.
In the figure, components common to the buffer 243 described in the third embodiment are denoted by the same reference numerals. The buffer 244 according to the present embodiment is different from the buffer 243 according to the third embodiment in that a capacitor 206 is connected between the node α and the second power supply terminal (VEE). When the capacitor 206 is added in this way, as described in the second embodiment, the potential of the node α is set to a lower value within the range in which the bootstrap operation can be performed by dividing the capacitor 205 and the capacitor 206. Can do. Therefore, the potential applied to the drain D of the transistor Tr322 can be lowered, and the deterioration of the transistor Tr322 can be reduced as compared with the case of the third embodiment.

なお、図7において、容量206は、ノードαと第2電源端子(VEE)との間ではなく、ノードαと第1電源端子(VDD)との間に接続される構成であってもよい。また、図7において、トランジスタTr204についても、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGをソースSに接続する構成としてもよい。   In FIG. 7, the capacitor 206 may be connected not between the node α and the second power supply terminal (VEE) but between the node α and the first power supply terminal (VDD). In FIG. 7, the transistor Tr204 may be replaced with the transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure, and the back gate BG may be connected to the source S.

<第5実施形態>
図8は、第5実施形態に係るバッファ245の構成を示す回路図である。
なお、同図において、第3実施形態で説明したバッファ243と共通する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態に係るバッファ245が、第3実施形態におけるバッファ243(図5)と異なるのは、トランジスタTr322のバックゲートBGをソースSに接続するのではなく、バックゲートBGに入力信号VBGを供給している点である。また、このように入力信号VBGを供給するようにしたので、バッファ245には第2入力端子in2が設けられている。
<Fifth Embodiment>
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of the buffer 245 according to the fifth embodiment.
In the figure, components common to the buffer 243 described in the third embodiment are denoted by the same reference numerals. The buffer 245 according to the present embodiment is different from the buffer 243 (FIG. 5) according to the third embodiment in that the input signal V BG is applied to the back gate BG instead of connecting the back gate BG of the transistor Tr322 to the source S. This is the point of supply. Since the input signal V BG is supplied in this way, the buffer 245 is provided with the second input terminal in2.

図9は、Nチャネル型のトランジスタTr322において、ゲートGに印加される電圧VG(横軸)とソースS・ドレインD間に流れるドレイン電流ID(縦軸)との関係をバックゲートBGに印加される電圧VBG毎に示したグラフである。このグラフから明らかとなるように、バックゲートBGに正電圧を印加すると閾値電圧は左(マイナス)方向にシフトする一方、バックゲートBGに負電圧を印加すると閾値電圧は右(プラス)方向にシフトする。このようにバックゲート構造を有するNチャネル型のトランジスタTr322では、バックゲートBGに印加する電圧VBGが低いほど閾値電圧が高くなり、オン状態に遷移しにくくなる。 FIG. 9 shows the relationship between the voltage V G (horizontal axis) applied to the gate G and the drain current I D (vertical axis) flowing between the source S and the drain D in the N-channel transistor Tr322 as the back gate BG. It is the graph shown for every applied voltage VBG . As is apparent from this graph, when a positive voltage is applied to the back gate BG, the threshold voltage shifts in the left (minus) direction, while when a negative voltage is applied to the back gate BG, the threshold voltage shifts in the right (plus) direction. To do. As described above, in the N-channel transistor Tr322 having the back gate structure, the threshold voltage increases as the voltage V BG applied to the back gate BG decreases, and the transition to the ON state becomes difficult.

図10は、第1入力端子inに供給されるレベルシフタ300の出力信号/02と、第2入力端子in2に供給される入力信号VBGのタイミングチャートである。同図に示すように、入力信号VBG は、出力信号/02と同相の波形を有しており、LowレベルとHiレベルの値のみが異なる。同図に示すタイミングチャートと図8に示す回路図から明らかとなるように、本実施形態に係るバッファ245では、第1入力端子inに出力信号/02のHiレベル(VDD)が供給される場合には、トランジスタTr322のバックゲートBGに入力信号VBGのHiレベル(VEE=−4V程度)が供給される。一方、第1入力端子inに出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給される場合には、トランジスタTr322のバックゲートBGに入力信号VBGのLowレベル(VEE−VDD=−12V程度)が供給される。 Figure 10 is an output signal / 02 of the level shifter 300 is supplied to the first input terminal in, a timing chart of the input signal V BG to be supplied to the second input terminal in2. As shown in the figure, the input signal VBG has a waveform in phase with the output signal / 02, and only the values of the Low level and the Hi level are different. As is clear from the timing chart shown in FIG. 8 and the circuit diagram shown in FIG. 8, in the buffer 245 according to this embodiment, the Hi level (VDD) of the output signal / 02 is supplied to the first input terminal in. the, Hi level of the input signal V BG to the back gate BG of the transistor Tr322 (VEE = about -4 V) is supplied. On the other hand, when the Low level of the output signal / 02 to the first input terminal in (VEE ') is supplied, the Low level of the input signal V BG to the back gate BG of the transistor Tr322 (VEE-VDD = about -12V) Is supplied.

このようにバッファ245では、トランジスタTr322のバックゲートBGに印加する電位を入力信号VBGを用いて制御し、トランジスタTr322について、オンしている場合の閾値電圧VthONと、オフしている場合の閾値電圧VthOFFとを異ならせ、かつ閾値電圧VthOFF>閾値電圧VthONとすることで、オフの状態にあるトランジスタTr322をオンしにくくしている。 In this way the buffer 245, controlled by using an input signal V BG the voltage applied to the back gate BG of the transistor Tr322, the transistor Tr322, and the threshold voltage Vth ON when turned on, when turned off By making the threshold voltage Vth OFF different and setting threshold voltage Vth OFF > threshold voltage Vth ON , it is difficult to turn on the transistor Tr322 in the off state.

また、本実施形態に係るバッファ245では、入力信号VBGのLowレベル、すなわち、オフの状態にあるトランジスタTr322のバックゲートBGに印加する電位を、VEE−VDD(−12V程度)とすることで、閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEよりも大きな値に変更する。 Further, in the buffer 245 according to the present embodiment, Low level of the input signal V BG, i.e., the potential applied to the back gate BG of the transistor Tr322 in the OFF state, by the VEE-VDD (about -12V) The threshold voltage Vth OFF is changed to a value larger than VEE′−VEE.

なお、閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEよりも大きな値に変更するためにバックゲートBGに印加しなければならない電位は、トランジスタTr322として使用するトランジスタの特性(閾値電圧Vthと、バックゲートBGに印加されるバックゲート電圧VBGとの関係)によって異なる。上述したVEE−VDDは例示に過ぎず、使用するトランジスタの特性に従って、閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEよりも大きくすることのできるバックゲート電圧VBGを適宜選択し、これを、出力信号/02がLowレベルの期間において、トランジスタTr322のバックゲートBGに印加してやればよい。 Note that the potential that must be applied to the back gate BG in order to change the threshold voltage Vth OFF to a value larger than VEE′−VEE is the characteristics of the transistor used as the transistor Tr322 (the threshold voltage Vth and the back gate BG). It depends on the relationship with the applied back gate voltage VBG . The VEE-VDD described above is merely an example, and a back gate voltage V BG that can make the threshold voltage Vth OFF larger than VEE′-VEE is appropriately selected according to the characteristics of the transistor to be used. It may be applied to the back gate BG of the transistor Tr322 during a period in which 02 is at a low level.

このようにオフの状態にあるトランジスタTr322の閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEよりも大きくすると、トランジスタTr322では、ゲートGに出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給され、ゲート・ソース間電圧がVEE’−VEEとなっても、これが閾値電圧VthOFF付近の値にはならないため、ホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができる。 When the threshold voltage Vth OFF of the transistor Tr322 in the off state is made larger than VEE′−VEE in this way, the transistor Tr322 supplies the gate G with the low level (VEE ′) of the output signal / 02, and the gate source Even if the inter-voltage becomes VEE′−VEE, this does not become a value in the vicinity of the threshold voltage Vth OFF , so that deterioration or malfunction due to hot carriers can be suppressed.

このように本実施形態によれば、トランジスタTr322のバックゲートBGに印加する電圧を入力信号VBGを用いて制御し、オフの状態にあるトランジスタTr322の閾値電圧VthOFFを、出力信号/02のLowレベル(VEE’)−低電位電源VEEよりも大きな値にずらすことができるので、レベルシフタ300の出力信号/02にLowレベルの浮きが生じていても、ホットキャリアによるトランジスタTr322の劣化や誤動作を抑制することができる。また、トランジスタTr322におけるリークの発生も防ぐことができる。したがって、バッファ245やこれを用いて構成される負方向レベルシフト回路の信頼性を高めることができる。 According to this embodiment, controlled by using an input signal V BG the voltage applied to the back gate BG of the transistor Tr322, the threshold voltage Vth OFF of the transistor Tr322 in the OFF state, the output signal / 02 Low level (VEE ′) — Because it can be shifted to a value larger than the low-potential power supply VEE, even if a low level float occurs in the output signal 02 of the level shifter 300, deterioration or malfunction of the transistor Tr322 due to hot carriers is caused. Can be suppressed. In addition, occurrence of leakage in the transistor Tr322 can be prevented. Therefore, the reliability of the buffer 245 and the negative direction level shift circuit configured using the buffer 245 can be improved.

なお、レベルシフタ300からの出力信号/02は、トランジスタTr204のゲートにも供給されているので、図8に示すトランジスタTr204についても、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGに入力信号VBGを供給する構成としてもよい。また、図8において、ノードαと、第1電源端子(VDD)または第2電源端子(VEE)との間に容量素子を接続し、トランジスタTr322のドレインDに印加される電位をブートストラップ動作が可能な範囲でより低い値に下げるようにしてもよい。 Since the output signal 02 from the level shifter 300 is also supplied to the gate of the transistor Tr204, the transistor Tr204 shown in FIG. 8 is also replaced with a transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure, and its back gate. The input signal VBG may be supplied to the BG . Further, in FIG. 8, a capacitor is connected between the node α and the first power supply terminal (VDD) or the second power supply terminal (VEE), and the potential applied to the drain D of the transistor Tr322 is changed to the bootstrap operation. It may be lowered to a lower value as much as possible.

<第6実施形態>
図11は、第6実施形態に係るバッファ246の構成を示す回路図である。
なお、同図において、第5実施形態におけるバッファ245と共通する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態に係るバッファ246は、トランジスタTr322のバックゲートBGをゲートGに接続している点で、第5実施形態におけるバッファ245と異なる。また、バックゲートBGをゲートGに接続することで、レベルシフタ300の出力信号/02をトランジスタTr322のバックゲートBGにも供給しているので、第5実施形態の場合とは異なり、入力信号VBGが不要となる。このため、バッファ246には第2入力端子in2がない。バッファ246の入力端子inに供給されるレベルシフタ300の出力信号/02を図12に示す。
<Sixth Embodiment>
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of the buffer 246 according to the sixth embodiment.
In the figure, components common to the buffer 245 in the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals. The buffer 246 according to the present embodiment is different from the buffer 245 according to the fifth embodiment in that the back gate BG of the transistor Tr322 is connected to the gate G. Further, since the output signal / 02 of the level shifter 300 is also supplied to the back gate BG of the transistor Tr322 by connecting the back gate BG to the gate G, the input signal V BG is different from the case of the fifth embodiment. Is no longer necessary. For this reason, the buffer 246 does not have the second input terminal in2. An output signal 02 of the level shifter 300 supplied to the input terminal in of the buffer 246 is shown in FIG.

本実施形態に係るバッファ246では、入力端子inに出力信号/02のHiレベル(VDD)が供給される場合には、トランジスタTr322のバックゲートBGにも出力信号/02のHiレベル(VDD)が供給される。一方、入力端子inに出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給される場合には、トランジスタTr322のバックゲートBGにも出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給される。   In the buffer 246 according to this embodiment, when the Hi level (VDD) of the output signal / 02 is supplied to the input terminal in, the Hi level (VDD) of the output signal / 02 is also applied to the back gate BG of the transistor Tr322. Supplied. On the other hand, when the low level (VEE ′) of the output signal 02 is supplied to the input terminal in, the low level (VEE ′) of the output signal 02 is also supplied to the back gate BG of the transistor Tr322.

このように本実施形態に係るバッファ246では、バックゲートBGにVDD(8V)を印加することで、オンの状態にあるトランジスタTr322の閾値電圧VthONの値を設定する一方、バックゲートBGにVEE’(−4V程度)を印加することで、オフの状態にあるトランジスタTr322の閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEよりも大きな値に変更する。このようにオフの状態にあるトランジスタTr322の閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEよりも大きくすると、トランジスタTr322では、ゲートGに出力信号/02のLowレベル(VEE’)が供給され、ゲート・ソース間電圧がVEE’−VEEとなっても、これが閾値電圧VthOFF付近の値にはならないため、ホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制することができる。 As described above, in the buffer 246 according to the present embodiment, by applying VDD (8 V) to the back gate BG, the threshold voltage Vth ON value of the transistor Tr322 in the on state is set, while the VEE is applied to the back gate BG. By applying '(about -4V), the threshold voltage Vth OFF of the transistor Tr322 in the off state is changed to a value larger than VEE'-VEE. When the threshold voltage Vth OFF of the transistor Tr322 in the off state is made larger than VEE′−VEE in this way, the transistor Tr322 supplies the gate G with the low level (VEE ′) of the output signal / 02, and the gate source Even if the inter-voltage becomes VEE′−VEE, this does not become a value in the vicinity of the threshold voltage Vth OFF , so that deterioration or malfunction due to hot carriers can be suppressed.

以上説明したように本実施形態に係るバッファ246においても、オフの状態にあるトランジスタTr322の閾値電圧VthOFFを、出力信号/02のLowレベル(VEE’)−低電位電源VEEよりも大きな値にずらすことができるので、上述した第5実施形態の場合と同様の効果を奏する。また、トランジスタTr322のバックゲートBGをゲートGに接続するだけでよいので、第5実施形態の場合よりも回路構成を簡素化できる。 As described above, also in the buffer 246 according to the present embodiment, the threshold voltage Vth OFF of the transistor Tr322 in the off state is set to a value larger than the low level (VEE ′) of the output signal / 02−the low potential power supply VEE. Since it can be shifted, the same effect as in the case of the fifth embodiment described above can be obtained. Further, since it is only necessary to connect the back gate BG of the transistor Tr322 to the gate G, the circuit configuration can be simplified as compared with the case of the fifth embodiment.

なお、トランジスタTr322として使用するトランジスタの特性(閾値電圧Vthと、バックゲートBGに印加されるバックゲート電圧VBGとの関係)によっては、トランジスタTr322のバックゲートBGに出力信号/02をそのまま供給しても、閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEより大きな値に変更できない場合がある。すなわち、バックゲート電圧VBGを出力信号/02のLowレベルとしても、トランジスタTr322の閾値電圧VthOFFをVEE’−VEEより大きくすることができない場合がある。 The characteristic of the transistor used as a transistor Tr322 some (and the threshold voltage Vth, the relationship between the back gate voltage V BG that is applied to the back gate BG), and it supplies an output signal / 02 to the back gate BG of the transistor Tr322 However, the threshold voltage Vth OFF may not be changed to a value larger than VEE′−VEE. That is, even if the back gate voltage V BG is set to the low level of the output signal / 02, the threshold voltage Vth OFF of the transistor Tr322 may not be made larger than VEE′−VEE.

また、図11において、トランジスタTr204についても、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGにゲートGに接続する構成としてもよい。また、図11において、ノードαと、第1電源端子(VDD)または第2電源端子(VEE)との間に容量素子を接続し、トランジスタTr322のドレインDに印加される電位をブートストラップ動作が可能な範囲でより低い値に下げるようにしてもよい。   In FIG. 11, the transistor Tr204 may be replaced with a transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure and connected to the gate G of the back gate BG. In FIG. 11, a capacitor is connected between the node α and the first power supply terminal (VDD) or the second power supply terminal (VEE), and the potential applied to the drain D of the transistor Tr322 is changed to the bootstrap operation. It may be lowered to a lower value as much as possible.

<第7実施形態>
次に、レベルシフタ300と、第1〜第6実施形態において説明したバッファ241〜246のいずれかによって構成された負方向レベルシフト回路Xを用いた電子機器について説明する。この例では、負方向レベルシフト回路Xを、液晶や有機発光ダイオード素子を用いた表示装置に適用する。表示装置は、複数の走査線と、複数のデータ線と、これら交差に対応してマトリクス状に配置された複数の画素回路を備える。画素回路は、データ線を介して供給されるデータ信号を、走査線を介して供給される走査信号に従って取り込むスイッチングトランジスタを備える。また、表示装置は、複数の走査線を駆動する走査線駆動回路と、複数のデータ線を駆動するデータ線駆動回路とを備える。上述した負方向レベルシフト回路Xは、走査線駆動回路やデータ線駆動回路に適用することができる。以下、液晶表示装置の走査線駆動回路に負方向レベルシフト回路Xを用いる場合について説明する。なお、表示装置の全体が同一導電型のTFTで構成されている。
<Seventh embodiment>
Next, an electronic apparatus using the level shifter 300 and the negative direction level shift circuit X configured by any of the buffers 241 to 246 described in the first to sixth embodiments will be described. In this example, the negative direction level shift circuit X is applied to a display device using a liquid crystal or an organic light emitting diode element. The display device includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixel circuits arranged in a matrix corresponding to the intersections. The pixel circuit includes a switching transistor that captures a data signal supplied via the data line in accordance with a scanning signal supplied via the scanning line. In addition, the display device includes a scanning line driving circuit that drives a plurality of scanning lines and a data line driving circuit that drives a plurality of data lines. The negative direction level shift circuit X described above can be applied to a scanning line driving circuit and a data line driving circuit. Hereinafter, a case where the negative direction level shift circuit X is used in the scanning line driving circuit of the liquid crystal display device will be described. Note that the entire display device is composed of TFTs of the same conductivity type.

図13に走査線駆動回路100の構成の一部を示す。
走査線駆動回路100は、開始パルスSPをYクロック信号YCKに従って順次転送して、転送信号y1、y2…ymを出力するシフトレジスタ110と、m個のドライバU1〜Umを備える。また、画素回路Pは、スイッチングトランジスタ40と液晶素子41とを備える。液晶素子41は、スイッチングトランジスタ40と接続される画素電極と対向電極とを備え、画素電極と対向電極との間に液晶を挟持して構成される。データ線30を介して供給されるデータ信号Vdataは、走査信号YがHiレベルのときに画素回路Pに取り込まれ、液晶素子に印加される。そして、走査信号YがLowレベルに遷移しても液晶容量によって、印加電圧が保持される。なお、液晶素子41と並列に保持容量を設けてもよい。
FIG. 13 shows part of the configuration of the scanning line driving circuit 100.
The scanning line driving circuit 100 includes a shift register 110 that sequentially transfers the start pulse SP according to the Y clock signal YCK and outputs transfer signals y1, y2,... Ym, and m drivers U1 to Um. The pixel circuit P includes a switching transistor 40 and a liquid crystal element 41. The liquid crystal element 41 includes a pixel electrode connected to the switching transistor 40 and a counter electrode, and is configured by sandwiching liquid crystal between the pixel electrode and the counter electrode. The data signal Vdata supplied through the data line 30 is taken into the pixel circuit P and applied to the liquid crystal element when the scanning signal Y is at the Hi level. The applied voltage is held by the liquid crystal capacitance even when the scanning signal Y transitions to the low level. Note that a storage capacitor may be provided in parallel with the liquid crystal element 41.

ここで、データ信号VdataはGNDとVDDとの間で変化する。この場合、スイッチングトランジスタ40を充分オン状態にして、充分オフ状態にするためには、走査信号Yの振幅をVEE(<GND)からVDH(>VDD)とすることが好ましい。シフトレジスタ110において、振幅がVEE−VDHとなる転送信号yを生成し、これを走査信号Yとすることも可能である。しかしながら、そのような場合には、シフトレジスタ110の消費電力が増大してしまう。このため、シフトレジスタ110には高電位電源VDDと低電位電源GNDを供給し、振幅がGND−VDDとなる転送信号yを生成する。   Here, the data signal Vdata changes between GND and VDD. In this case, in order to sufficiently turn on the switching transistor 40 and to turn it off sufficiently, it is preferable that the amplitude of the scanning signal Y is changed from VEE (<GND) to VDH (> VDD). In the shift register 110, a transfer signal y having an amplitude of VEE-VDH can be generated and used as the scanning signal Y. However, in such a case, the power consumption of the shift register 110 increases. Therefore, the high potential power supply VDD and the low potential power supply GND are supplied to the shift register 110, and the transfer signal y having the amplitude GND-VDD is generated.

ドライバU1〜Umは、シフトレジスタ110から供給される転送信号y1〜ymに基づいて、走査信号Y1〜Ymを生成する。このドライバU1〜Umは、上述した負方向レベルシフト回路Xによって構成されており、負方向レベルシフト回路Xを構成するレベルシフタとバッファには、高電位電源としてVDH(>VDD)が供給され、低電位電源としてVEE(<GND)が供給される。   The drivers U1 to Um generate the scanning signals Y1 to Ym based on the transfer signals y1 to ym supplied from the shift register 110. The drivers U1 to Um are configured by the above-described negative direction level shift circuit X, and VDH (> VDD) is supplied to the level shifter and the buffer constituting the negative direction level shift circuit X as a high potential power source. VEE (<GND) is supplied as a potential power source.

負方向レベルシフト回路Xでは、レベルシフタにおいて、振幅がVDD−GNDとなる入力信号01,/01(転送信号y)の信号レベルを負方向にシフトし、HiレベルがVDHで、LowレベルがVEEより若干高いVEE’となる出力信号02,/02を生成する。また、バッファでは、レベルシフタからの出力信号/02の論理レベルを反転し、LowレベルがVEEで、HiレベルがVDHよりも若干低いVDH’となる出力信号03(走査信号Y)を生成する。したがって、ドライバU1〜Umから出力される走査信号Y1〜Ymの振幅は、LowレベルがVEE(<GND)で、HiレベルがVDHよりも若干低いVDH’となる。   In the negative direction level shift circuit X, in the level shifter, the signal level of the input signals 01 and / 01 (transfer signal y) whose amplitude is VDD-GND is shifted in the negative direction, the Hi level is VDH, and the Low level is from VEE. Output signals 02 and / 02 that are slightly higher VEE ′ are generated. Further, the buffer inverts the logic level of the output signal / 02 from the level shifter, and generates an output signal 03 (scanning signal Y) in which the Low level is VEE and the Hi level is VDH 'slightly lower than VDH. Therefore, the amplitudes of the scanning signals Y1 to Ym output from the drivers U1 to Um are VDH ′ whose Low level is VEE (<GND) and whose Hi level is slightly lower than VDH.

このように負方向レベルシフト回路Xでは、レベルシフタの出力信号02,/02に生じるLowレベルの浮きや、バッファの出力信号03に生じるHiレベルの落ちを解消することはできないが、上述した第1〜第6実施形態において説明したように、バッファ241〜246に備わるプルダウン側のトランジスタTr312,322,204について、ホットキャリアによる劣化や誤動作を抑制しているので、表示装置についてもその信頼性を向上することができる。なお、上述した負方向レベルシフト回路Xをデータ線駆動回路やシフトレジスタに組み込んでもよい。これらは、表示装置、特に、アモルファスTFTを用いた液晶表示装置や、低温ポリシリコンTFTを用いた液晶表示装置に適用することができる。   Thus, in the negative direction level shift circuit X, the low level floating generated in the output signals 02 and 02 of the level shifter and the drop in the Hi level generated in the buffer output signal 03 cannot be eliminated. As described in the sixth embodiment, since the pull-down transistors Tr312, 322, and 204 provided in the buffers 241 to 246 are suppressed from deterioration and malfunction due to hot carriers, the reliability of the display device is also improved. can do. The negative direction level shift circuit X described above may be incorporated in a data line driving circuit or a shift register. These can be applied to display devices, in particular, liquid crystal display devices using amorphous TFTs and liquid crystal display devices using low-temperature polysilicon TFTs.

<変形例>
(1)上述した各実施形態では、1入力1出力タイプのバッファ241〜246に本発明を適用した場合について説明したが、2入力1出力タイプのバッファに本発明を適用することも可能である。例えば、図17(c)に示すバッファ240aは、トランジスタTr201がダイオード接続されておらず、このトランジスタTr201のゲートに、レベルシフタ300からの出力信号02(出力信号/02を反転した信号)が供給される。
<Modification>
(1) In the above-described embodiments, the case where the present invention is applied to the 1-input 1-output type buffers 241 to 246 has been described. However, the present invention can also be applied to a 2-input 1-output type buffer. . For example, in the buffer 240a shown in FIG. 17C, the transistor Tr201 is not diode-connected, and the output signal 02 (a signal obtained by inverting the output signal / 02) from the level shifter 300 is supplied to the gate of the transistor Tr201. The

この図17(c)に示すバッファ240aにおいて、トランジスタTr202を、ボディ構造を有するトランジスタTr312(図3)に置き換え、そのボディBをソースSに接続する構成としてもよい(第1実施形態)。また、この場合に、トランジスタTr203のゲートと、第1電源端子(VDD)または第2電源端子(VEE)との間に容量素子を追加する構成してもよい(第2実施形態)。また、レベルシフタ300からの出力信号02,/02は、トランジスタTr201,204のゲートにも供給されているので、トランジスタTr201やトランジスタTr204についても、これをボディ構造を有するトランジスタTr312に置き換え、そのボディBをソースSに接続する構成としてもよい。   In the buffer 240a shown in FIG. 17C, the transistor Tr202 may be replaced with a transistor Tr312 (FIG. 3) having a body structure, and the body B may be connected to the source S (first embodiment). In this case, a capacitor may be added between the gate of the transistor Tr203 and the first power supply terminal (VDD) or the second power supply terminal (VEE) (second embodiment). Since the output signals 02 and / 02 from the level shifter 300 are also supplied to the gates of the transistors Tr201 and 204, the transistor Tr201 and the transistor Tr204 are also replaced with a transistor Tr312 having a body structure, and the body B May be connected to the source S.

また、図17(c)に示すバッファ240aにおいて、トランジスタTr202を、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGをソースSに接続する構成としてもよい(第3実施形態)。また、この場合に、トランジスタTr203のゲートと、第1電源端子(VDD)または第2電源端子(VEE)との間に容量素子を追加する構成してもよい(第4実施形態)。また、トランジスタTr201やトランジスタTr204についても、これをバックゲート構造を有するトランジスタTr322に置き換え、そのバックゲートBGをソースSに接続する構成としてもよい。   Further, in the buffer 240a shown in FIG. 17C, the transistor Tr202 may be replaced with a transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure, and the back gate BG may be connected to the source S (third embodiment). ). In this case, a capacitor may be added between the gate of the transistor Tr203 and the first power supply terminal (VDD) or the second power supply terminal (VEE) (fourth embodiment). Further, the transistor Tr201 and the transistor Tr204 may be replaced with the transistor Tr322 having a back gate structure, and the back gate BG may be connected to the source S.

また、図17(c)に示すバッファ240aにおいて、トランジスタTr202を、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGに入力信号VBGを供給する構成としてもよい(第5実施形態)。また、この場合に、トランジスタTr203のゲートと、第1電源端子(VDD)または第2電源端子(VEE)との間に容量素子を追加する構成してもよい。また、トランジスタTr201やトランジスタTr204についても、これをバックゲート構造を有するトランジスタTr322に置き換え、そのバックゲートBGに入力信号VBGを供給する構成としてもよい。 Further, in the buffer 240a shown in FIG. 17C, the transistor Tr202 may be replaced with a transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure, and the input signal V BG may be supplied to the back gate BG (fifth). Embodiment). In this case, a capacitor may be added between the gate of the transistor Tr203 and the first power supply terminal (VDD) or the second power supply terminal (VEE). As for the transistor Tr201 and transistor Tr204, replaced by a transistor Tr322 having a back gate structure this may be configured to supply an input signal V BG to the back gate BG.

また、図17(c)に示すバッファ240aにおいて、トランジスタTr202を、バックゲート構造を有するトランジスタTr322(図6)に置き換え、そのバックゲートBGをゲートGに接続する構成としてもよい(第6実施形態)。また、この場合に、トランジスタTr203のゲートと、第1電源端子(VDD)または第2電源端子(VEE)との間に容量素子を追加する構成してもよい。また、トランジスタTr201やトランジスタTr204についても、これをバックゲート構造を有するトランジスタTr322に置き換え、そのバックゲートBGをゲートGに接続する構成としてもよい。   In the buffer 240a shown in FIG. 17C, the transistor Tr202 may be replaced with a transistor Tr322 (FIG. 6) having a back gate structure, and the back gate BG may be connected to the gate G (sixth embodiment). ). In this case, a capacitor may be added between the gate of the transistor Tr203 and the first power supply terminal (VDD) or the second power supply terminal (VEE). Further, the transistor Tr201 and the transistor Tr204 may be replaced with the transistor Tr322 having a back gate structure, and the back gate BG may be connected to the gate G.

さらに、以上のようにして構成された2入力1出力タイプのバッファと、図17(b)に示したレベルシフタ300とを用いて負方向レベルシフト回路を構成したり、このようにして構成された負方向レベルシフト回路を、表示装置の走査線駆動回路やデータ線駆動回路に組み込んでもよい。   Further, a negative direction level shift circuit is configured by using the 2-input 1-output type buffer configured as described above and the level shifter 300 shown in FIG. 17B, or configured in this way. The negative direction level shift circuit may be incorporated in a scanning line driving circuit or a data line driving circuit of the display device.

(2)上述した各実施形態及び変形例(1)では、Nチャネルのトランジスタで構成された負方向のレベルシフタ回路について説明したが、本発明は、Pチャネルのトランジスタで構成された正方向のレベルシフタ回路にも適用可能である。つまり、バッファに備わる全てのトランジスタをPチャネルのトランジスタとしてもよい。以下に、Pチャネルのトランジスタで構成されたバッファに対して本発明を適用した場合について説明する。 (2) In each of the embodiments and the modification example (1) described above, the negative direction level shifter circuit constituted by N-channel transistors has been described. However, the present invention relates to a positive direction level shifter constituted by P-channel transistors. It can also be applied to circuits. That is, all the transistors included in the buffer may be P-channel transistors. The case where the present invention is applied to a buffer composed of P-channel transistors will be described below.

図14は、図2に示した回路(Nチャネルのトランジスタで構成されたバッファ241:第1実施形態)を、Pチャネルのトランジスタで構成した場合の回路図である。同図において、第1〜第4トランジスタは全てPチャネルのTFTであるが、第2トランジスタのみがボディ構造を有している。また、第2トランジスタのゲートには、入力信号として、レベルシフタ300からの出力信号/02が供給されるが、この出力信号/02には、Hiレベルの落ちが発生しており、Hiレベルの電位はVDDよりも若干低いVDD’となる一方、Lowレベルの電位はVEEとなる。   FIG. 14 is a circuit diagram in a case where the circuit shown in FIG. 2 (buffer 241 configured by N-channel transistors: the first embodiment) is configured by P-channel transistors. In the figure, the first to fourth transistors are all P-channel TFTs, but only the second transistor has a body structure. Further, an output signal 02 from the level shifter 300 is supplied as an input signal to the gate of the second transistor, but a drop in the Hi level occurs in the output signal 02, and the potential of the Hi level Becomes VDD ′ slightly lower than VDD, while the low-level potential becomes VEE.

図14において、第2トランジスタとしてボディ構造を有さないPチャネルのTFTを使用した場合、第2トランジスタのゲートに入力信号のHiレベル(VDD’)が供給されると、第2トランジスタでは、ゲート・ソース間電圧がVDD’−VDDとなるが、第2トランジスタとして駆動能力が高く閾値電圧が低いTFTを用いている場合、これが閾値電圧付近の値をとる場合がある。このような場合、第2トランジスタには、出力信号/02のHiレベルが供給されている間、閾値電圧付近のゲート電圧が絶えず印加されることになるため、ホットキャリアによる性能の劣化や誤動作が生じてしまう。さらに、第2トランジスタには、容量素子によるブートストラップ効果によって高電位電源VDDの2倍強にまで高められたドレイン電圧が印加されることになるため、劣化の進み具合がさらに大きくなる。以上のようなことから、Pチャネルのトランジスタで構成されたバッファ251においても、第2トランジスタをボディ構造を有するTFTとし、そのボディBをソースSに接続することで、第2トランジスタの劣化や誤動作を低減し、バッファ251の信頼性を高めることができる。   In FIG. 14, when a P-channel TFT having no body structure is used as the second transistor, when the Hi level (VDD ′) of the input signal is supplied to the gate of the second transistor, The source voltage is VDD′−VDD, but when a TFT having a high driving capability and a low threshold voltage is used as the second transistor, this may take a value near the threshold voltage. In such a case, since the gate voltage near the threshold voltage is constantly applied to the second transistor while the Hi level of the output signal / 02 is supplied, performance degradation or malfunction due to hot carriers is caused. It will occur. Furthermore, since the drain voltage, which is increased to slightly more than twice that of the high-potential power supply VDD due to the bootstrap effect by the capacitive element, is applied to the second transistor, the progress of deterioration is further increased. As described above, even in the buffer 251 configured with a P-channel transistor, the second transistor is a TFT having a body structure, and the body B is connected to the source S. And the reliability of the buffer 251 can be increased.

また、図15は、図8に示した回路(Nチャネルのトランジスタで構成されたバッファ245:第5実施形態)を、Pチャネルのトランジスタで構成した場合の回路図である。同図において、第1〜第4トランジスタは全てPチャネルのTFTであるが、第2トランジスタのみがバックゲート構造を有している。また、第2トランジスタのゲートには、レベルシフタ300からの出力信号/02が供給されるが、この出力信号/02には、Hiレベルの落ちが発生しており、Hiレベルの電位はVDDよりも若干低いVDD’となる。なお、図16に示すように、バックゲート構造を有するPチャネル型のトランジスタでは、バックゲートBGに印加する電圧VBGが高いほど閾値電圧が低くなり、オン状態に遷移しにくくなる。 FIG. 15 is a circuit diagram in the case where the circuit shown in FIG. 8 (buffer 245 configured by N-channel transistors: the fifth embodiment) is configured by P-channel transistors. In the figure, the first to fourth transistors are all P-channel TFTs, but only the second transistor has a back gate structure. Further, the output signal / 02 from the level shifter 300 is supplied to the gate of the second transistor, but a drop in the Hi level occurs in the output signal / 02, and the Hi level potential is higher than VDD. Slightly lower VDD '. Note that as shown in FIG. 16, in a P-channel transistor having a back gate structure, the threshold voltage decreases as the voltage V BG applied to the back gate BG increases, and the transition to the on state becomes difficult.

図15に示すバッファ255では、第2トランジスタとしてバックゲート構造を有するTFTを使用し、そのバックゲートBGに印加する電位を入力信号VBGを用いて制御している。そして、入力信号の振幅レベルがHiレベル(VDD’)の期間において、第2トランジスタのバックゲートBGに、第2トランジスタの閾値電圧をVDD’−VDD[入力信号のHiレベル(高電位)−高電位電源VDD(第2電位)]よりも小さくすることのできる電位を供給する。これにより、入力信号がHiレベル(高電位)の期間において、第2ランジスタの閾値電圧はVDD’−VDDよりも小さな電圧値にずれる。したがって、第2トランジスタのゲートに入力信号のHiレベル(VDD’)が供給される場合に、第2トランジスタでは、ゲート・ソース間電圧がVDD’−VDDとなっても、これが閾値電圧付近の値にはならないため、ホットキャリアによる第2トランジスタの劣化や誤動作を抑制することができる。また、これにより第2トランジスタにおけるリークの発生も防ぐことができる。 In the buffer 255 shown in FIG. 15, a TFT having a back gate structure is used as the second transistor, and the potential applied to the back gate BG is controlled using the input signal V BG . Then, in a period in which the amplitude level of the input signal is Hi level (VDD ′), the threshold voltage of the second transistor is set to VDD′−VDD [Hi level (high potential) of input signal−high]. A potential that can be made smaller than the potential power supply VDD (second potential)] is supplied. As a result, the threshold voltage of the second transistor is shifted to a voltage value smaller than VDD′−VDD during the period when the input signal is at the Hi level (high potential). Therefore, when the Hi level (VDD ′) of the input signal is supplied to the gate of the second transistor, even if the gate-source voltage becomes VDD′−VDD in the second transistor, this is a value near the threshold voltage. Therefore, deterioration and malfunction of the second transistor due to hot carriers can be suppressed. This can also prevent the occurrence of leakage in the second transistor.

以上説明したように、本発明は、Pチャネルのトランジスタで構成されたバッファにも適用可能である。つまり、上述した各実施形態及び変形例(1)において、Nチャネルのトランジスタで構成されたバッファを、Pチャネルのトランジスタで構成されたバッファに置き換えた場合にも本発明が適用可能である。   As described above, the present invention can also be applied to a buffer composed of P-channel transistors. That is, in each of the embodiments and the modification example (1) described above, the present invention can also be applied to the case where the buffer configured with an N-channel transistor is replaced with a buffer configured with a P-channel transistor.

第1実施形態に係る負方向レベルシフト回路401の全体構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the whole structure of the negative direction level shift circuit 401 which concerns on 1st Embodiment. 同実施形態に係るバッファ241の構成を示す回路図である。3 is a circuit diagram showing a configuration of a buffer 241 according to the same embodiment. FIG. トランジスタTr312の構造を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view illustrating a structure of a transistor Tr312. 第2実施形態に係るバッファ242の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 242 which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係るバッファ243の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 243 which concerns on 3rd Embodiment. トランジスタTr322の構造を示す断面図である。7 is a cross-sectional view illustrating a structure of a transistor Tr322. 第4実施形態に係るバッファ244の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 244 which concerns on 4th Embodiment. 第5実施形態に係るバッファ245の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 245 concerning 5th Embodiment. Nチャネル型のトランジスタTr322において、バックゲートBGに印加される電圧VBGに応じて閾値電圧が変化することを示すグラフである。6 is a graph showing that a threshold voltage changes according to a voltage V BG applied to a back gate BG in an N-channel transistor Tr322. バッファ245の第1入力端子inに供給されるレベルシフタ300の出力信号/02と、第2入力端子in2に供給される入力信号VBGのタイミングチャートである。And the output signal / 02 of the level shifter 300 is supplied to the first input terminal in the buffer 245 is a timing chart of the input signal V BG to be supplied to the second input terminal in2. 第6実施形態に係るバッファ246の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 246 which concerns on 6th Embodiment. バッファ246の入力端子inに供給されるレベルシフタ300の出力信号/02の波形図である。6 is a waveform diagram of an output signal / 02 of the level shifter 300 supplied to an input terminal in of a buffer 246. FIG. 第7実施形態に係る走査線駆動回路100の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the scanning line drive circuit 100 which concerns on 7th Embodiment. 変形例(2)に係るバッファ251の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 251 which concerns on a modification (2). 変形例(2)に係るバッファ255の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the buffer 255 which concerns on a modification (2). Pチャネル型のトランジスタにおいて、バックゲートBGに印加される電圧VBGに応じて閾値電圧が変化することを示すグラフである。5 is a graph showing that a threshold voltage changes according to a voltage V BG applied to a back gate BG in a P-channel transistor. 負方向レベルシフト回路の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a negative direction level shift circuit. 図17に示した負方向レベルシフト回路における入出力信号の波形図である。FIG. 18 is a waveform diagram of input / output signals in the negative direction level shift circuit shown in FIG. 17.

符号の説明Explanation of symbols

400,401…負方向レベルシフト回路、300…レベルシフタ、240a,240b,241〜246,251,255…バッファ、Tr101〜106,Tr201〜204…トランジスタ、312…トランジスタ(ボディ有)、322…トランジスタ(バックゲート有)、G…ゲート、S…ソース、D…ドレイン、B…ボディ、BG…バックゲート、C107,108,205,206…容量、100…走査線駆動回路、110…シフトレジスタ、U1〜Um…ドライバ(負方向レベルシフト回路)、30…データ線、P…画素回路、40…スイッチングトランジスタ、41…液晶素子。   400, 401 ... negative direction level shift circuit, 300 ... level shifter, 240a, 240b, 241-246, 251, 255 ... buffer, Tr101-106, Tr201-204 ... transistor, 312 ... transistor (with body), 322 ... transistor ( G ... gate, S ... source, D ... drain, B ... body, BG ... back gate, C107, 108, 205, 206 ... capacitance, 100 ... scanning line drive circuit, 110 ... shift register, U1- Um ... driver (negative direction level shift circuit), 30 ... data line, P ... pixel circuit, 40 ... switching transistor, 41 ... liquid crystal element.

Claims (13)

入力信号の論理レベルを反転した出力信号を生成するバッファであって、
ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される第1トランジスタと、
ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第1トランジスタのソースと接続され、ソースに第2電位が供給される第2トランジスタと、
ゲートが前記第1トランジスタのソースと接続され、ドレインに前記第1電位が供給される第3トランジスタと、
前記第3トランジスタのソースと前記第3トランジスタのゲートとの間に設けられる第1容量素子と、
ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第3トランジスタのソースと接続され、ソースに前記第2電位が供給される第4トランジスタとを備え、
前記第3トランジスタのソースから前記出力信号を取り出し、
前記第1乃至第4トランジスタの導電型は同一であり、
前記第2トランジスタは、ボディを備え、
前記ボディと前記第2トランジスタのソースとを接続する、
ことを特徴とするバッファ。
A buffer for generating an output signal obtained by inverting the logic level of an input signal,
A first transistor in which a first potential is supplied to a drain and a gate is connected to the drain;
A second transistor having the gate supplied with the input signal, the drain connected to the source of the first transistor, and the source supplied with a second potential;
A third transistor having a gate connected to a source of the first transistor and a drain supplied with the first potential;
A first capacitive element provided between a source of the third transistor and a gate of the third transistor;
A fourth transistor having the gate supplied with the input signal, the drain connected to the source of the third transistor, and the source supplied with the second potential;
Taking the output signal from the source of the third transistor;
The first to fourth transistors have the same conductivity type,
The second transistor includes a body,
Connecting the body and the source of the second transistor;
A buffer characterized by that.
前記第4トランジスタは、ボディを備え、
前記第4トランジスタのボディと前記第4トランジスタのソースとを接続する、
ことを特徴とする請求項1に記載のバッファ。
The fourth transistor includes a body,
Connecting the body of the fourth transistor and the source of the fourth transistor;
The buffer according to claim 1.
入力信号の論理レベルを反転した出力信号を生成するバッファであって、
ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される第1トランジスタと、
ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第1トランジスタのソースと接続され、ソースに第2電位が供給される第2トランジスタと、
ゲートが前記第1トランジスタのソースと接続され、ドレインに前記第1電位が供給される第3トランジスタと、
前記第3トランジスタのソースと前記第3トランジスタのゲートとの間に設けられる第1容量素子と、
ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第3トランジスタのソースと接続され、ソースに前記第2電位が供給される第4トランジスタとを備え、
前記第3トランジスタのソースから前記出力信号を取り出し、
前記第1乃至第4トランジスタの導電型は同一であり、
前記第2トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、
前記バックゲートと前記第2トランジスタのソースとを接続する、
ことを特徴とするバッファ。
A buffer for generating an output signal obtained by inverting the logic level of an input signal,
A first transistor in which a first potential is supplied to a drain and a gate is connected to the drain;
A second transistor having the gate supplied with the input signal, the drain connected to the source of the first transistor, and the source supplied with a second potential;
A third transistor having a gate connected to a source of the first transistor and a drain supplied with the first potential;
A first capacitive element provided between a source of the third transistor and a gate of the third transistor;
A fourth transistor having the gate supplied with the input signal, the drain connected to the source of the third transistor, and the source supplied with the second potential;
Taking the output signal from the source of the third transistor;
The first to fourth transistors have the same conductivity type,
The second transistor includes a back gate in addition to the gate,
Connecting the back gate and the source of the second transistor;
A buffer characterized by that.
前記第4トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、
前記第4トランジスタのバックゲートと前記第4トランジスタのソースとを接続する、
ことを特徴とする請求項3に記載のバッファ。
The fourth transistor includes a back gate in addition to the gate,
Connecting the back gate of the fourth transistor and the source of the fourth transistor;
The buffer according to claim 3.
高電位と低電位との振幅レベルを有する入力信号の論理レベルを反転した出力信号を生成するバッファであって、
ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される第1トランジスタと、
ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第1トランジスタのソースと接続され、ソースに第2電位が供給される第2トランジスタと、
ゲートが前記第1トランジスタのソースと接続され、ドレインに前記第1電位が供給される第3トランジスタと、
前記第3トランジスタのソースと前記第3トランジスタのゲートとの間に設けられる第1容量素子と、
ゲートに前記入力信号が供給され、ドレインが前記第3トランジスタのソースと接続され、ソースに前記第2電位が供給される第4トランジスタとを備え、
前記第3トランジスタのソースから前記出力信号を取り出し、
前記第1乃至第4トランジスタの導電型は同一であり、
前記第2トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、
前記バックゲートには、前記導電型がN型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記低電位である期間において、前記第2トランジスタの閾値電圧を前記低電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより大きくする電位が供給される一方、前記導電型がP型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記高電位である期間において、前記第2トランジスタの閾値電圧を前記高電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより小さくする電位が供給される、
ことを特徴とするバッファ。
A buffer for generating an output signal obtained by inverting the logic level of an input signal having amplitude levels of a high potential and a low potential,
A first transistor in which a first potential is supplied to a drain and a gate is connected to the drain;
A second transistor having the gate supplied with the input signal, the drain connected to the source of the first transistor, and the source supplied with a second potential;
A third transistor having a gate connected to a source of the first transistor and a drain supplied with the first potential;
A first capacitive element provided between a source of the third transistor and a gate of the third transistor;
A fourth transistor having the gate supplied with the input signal, the drain connected to the source of the third transistor, and the source supplied with the second potential;
Taking the output signal from the source of the third transistor;
The first to fourth transistors have the same conductivity type,
The second transistor includes a back gate in addition to the gate,
In the back gate, when the conductivity type is N type, the threshold voltage of the second transistor is reduced from the low potential to the second potential in a period in which the amplitude level of the input signal is the low potential. In order to deviate from the voltage value, a potential for increasing the threshold voltage is supplied. On the other hand, when the conductivity type is P-type, the amplitude of the input signal is set to the high potential during the period of the second transistor. In order to shift the threshold voltage from a voltage value obtained by subtracting the second potential from the high potential, a potential for reducing the threshold voltage is supplied.
A buffer characterized by that.
前記バックゲートと前記第2トランジスタのゲートとを接続する、
ことを特徴とする請求項5に記載のバッファ。
Connecting the back gate and the gate of the second transistor;
The buffer according to claim 5.
前記第4トランジスタは、前記ゲートの他にバックゲートを備え、
前記第4トランジスタのバックゲートには、前記導電型がN型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記低電位である期間において、前記第4トランジスタの閾値電圧を前記低電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより大きくする電位が供給される一方、前記導電型がP型の場合は、前記入力信号の振幅レベルが前記高電位である期間において、前記第4トランジスタの閾値電圧を前記高電位から前記第2電位を減じた電圧値からずらすため、前記閾値電圧をより小さくする電位が供給される、
ことを特徴とする請求項5に記載のバッファ。
The fourth transistor includes a back gate in addition to the gate,
In the back gate of the fourth transistor, when the conductivity type is N type, the threshold voltage of the fourth transistor is changed from the low potential to the second potential during a period in which the amplitude level of the input signal is the low potential. In order to deviate from the voltage value obtained by reducing the potential, a potential for increasing the threshold voltage is supplied. On the other hand, when the conductivity type is P-type, the amplitude level of the input signal is the high potential in the period. In order to shift the threshold voltage of the fourth transistor from the voltage value obtained by subtracting the second potential from the high potential, a potential for reducing the threshold voltage is supplied.
The buffer according to claim 5.
前記第4トランジスタのバックゲートと前記第4トランジスタのゲートとを接続する、
ことを特徴とする請求項7に記載のバッファ。
Connecting the back gate of the fourth transistor and the gate of the fourth transistor;
The buffer according to claim 7.
前記第1電位が供給される第1電源端子と、
前記第2電位が供給される第2電源端子と、
前記第3トランジスタのゲートと、前記第1電源端子または前記第2電源端子との間に設けられる第2容量素子とを備える、
ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のバッファ。
A first power supply terminal to which the first potential is supplied;
A second power supply terminal to which the second potential is supplied;
A second capacitor provided between the gate of the third transistor and the first power supply terminal or the second power supply terminal;
The buffer according to claim 1, wherein the buffer is a buffer.
前記第1トランジスタは、
ドレインに第1電位が供給され、ゲートが前記ドレインと接続される、ことの代わりに、
ドレインに第1電位が供給され、ゲートに前記入力信号の論理レベルを反転した反転入力信号が供給される、
ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のバッファ。
The first transistor includes:
Instead of the first potential being supplied to the drain and the gate being connected to the drain,
A first potential is supplied to the drain, and an inverted input signal obtained by inverting the logic level of the input signal is supplied to the gate.
The buffer according to claim 1, wherein the buffer is a buffer.
前記バッファを構成する全てのトランジスタは薄膜トランジスタである、
ことを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のバッファ。
All the transistors constituting the buffer are thin film transistors.
The buffer according to claim 1, wherein the buffer is a buffer.
基準電位と第3電位との振幅レベルを有する第1入力信号に対して、前記第3電位側の振幅レベルの電位を、前記基準電位との差分が前記第3電位より大きくなる第4電位とする第1出力信号を生成するレベルシフタと、
前記レベルシフタの後段に接続される請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のバッファとを備え、
前記レベルシフタと前記バッファとを構成する全てのトランジスタの導電型は同一であり、
前記第1出力信号が前記バッファの前記入力信号として供給される、
ことを特徴とするレベルシフト回路。
With respect to a first input signal having an amplitude level between a reference potential and a third potential, a potential having an amplitude level on the third potential side is set to a fourth potential at which a difference from the reference potential is larger than the third potential. A level shifter for generating a first output signal that
The buffer according to any one of claims 1 to 11 connected to a subsequent stage of the level shifter,
The conductivity types of all the transistors constituting the level shifter and the buffer are the same,
The first output signal is provided as the input signal of the buffer;
A level shift circuit characterized by that.
複数の走査線と、複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記複数のデータ線との交差に対応して設けられた複数の画素回路とを備えた表示装置であって、
前記複数の走査線の各々に走査信号を供給する走査線駆動回路と、
前記複数のデータ線の各々にデータ信号を供給するデータ線駆動回路とを備え、
前記走査線駆動回路の出力段に請求項12に記載のレベルシフト回路を用いる、
ことを特徴とする表示装置。
A display device comprising a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixel circuits provided corresponding to intersections of the plurality of scanning lines and the plurality of data lines,
A scanning line driving circuit for supplying a scanning signal to each of the plurality of scanning lines;
A data line driving circuit for supplying a data signal to each of the plurality of data lines,
The level shift circuit according to claim 12 is used for an output stage of the scanning line driving circuit.
A display device characterized by that.
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