JP2009092766A - Display device and its manufacturing method - Google Patents

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Hiroki Makino
洋樹 牧野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device whose frame area is reduced by narrowing the width of a region in which a sealing material is disposed and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: In the display device having a pair of substrates disposed opposite to each other and the sealing material sticking the pair of substrates in an outer side region of a display region, the substrate has an underlayer of the sealing material in a region in contact with the sealing material and a contact angle to the sealing material in the region in contact with the sealing material is smaller than a contact angle to the sealing material in a peripheral region of the region in contact with the sealing material. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。より詳しくは、携帯電話等のモバイル機器に好適な表示装置及び上記表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a display device and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to a display device suitable for a mobile device such as a mobile phone and a method for manufacturing the display device.

近年、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス(EL)表示装置等のフラットパネルディスプレイ(FPD)が実装される携帯電話等の携帯型の電子機器において、より一層の小型化及び軽量化が要求されている。それに伴い、表示領域周辺の小型化、すなわち、狭額縁化を図っていく傾向があり、盛んに開発が行われている。 In recent years, there has been a demand for further downsizing and weight reduction in portable electronic devices such as mobile phones on which flat panel displays (FPD) such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence (EL) display devices are mounted. Yes. Along with this, there is a tendency to reduce the size of the display area, that is, to narrow the frame, and development has been actively conducted.

例えば、電子手帳や携帯電話機等に広く用いられている液晶表示装置では、表示領域の外周と液晶表示パネルの端部との間に、表示に使用することができない非表示領域(額縁領域)を有している。非表示領域には、画素を表示するための配線を形成した領域や、シール印刷領域等が含まれるが、この非表示領域を狭くすることで、パネルの外形サイズを大きくすることなく表示領域を広くすることが可能となる。 For example, in a liquid crystal display device widely used in electronic notebooks, cellular phones, etc., a non-display area (frame area) that cannot be used for display is provided between the outer periphery of the display area and the edge of the liquid crystal display panel. Have. The non-display area includes an area in which wiring for displaying pixels, a sticker print area, and the like are included. By narrowing the non-display area, the display area can be increased without increasing the outer size of the panel. It can be widened.

しかしながら、液晶表示装置、有機EL表示装置、プラズマディスプレイ等の表示装置では、額縁領域を狭くすると、硬化する前のシール材料が額縁領域の外側に染み出す可能性があり、シール材料が外側に染み出すことで表示装置の外周端部が製造不良となるおそれがあった。このような染み出しを防止するために、額縁領域とシール印刷領域との間にはマージンを設けておく必要があり、非表示領域が大きくなる点で改善の余地があった。 However, in a display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device, or a plasma display, if the frame region is narrowed, the sealing material before curing may ooze out to the outside of the frame region, and the sealing material oozes out to the outside. As a result, the outer peripheral edge of the display device may become defective in manufacturing. In order to prevent such bleeding, it is necessary to provide a margin between the frame area and the seal printing area, and there is room for improvement in that the non-display area becomes large.

そこで、額縁領域を小型化する方法の一つとして、シール材の一部にそって壁部を設けることにより、シール材の染み出し及び濡れ広がりを物理的な力で阻止する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。 Therefore, as one of the methods for reducing the size of the frame region, a method is disclosed in which a wall portion is provided along a part of the sealing material to prevent the sealing material from seeping out and spreading by physical force. (For example, refer to Patent Document 1).

なお、シール材料を配置する観点からは、シール材料から溶出するイオン性不純物や、紫外線が照射されることにより生成するイオン性不純物が液晶中に拡散するという課題もあり、イオン性不純物の拡散を抑制するため、表示領域とその外側のシールラインとの間の領域にポリイミド樹脂膜を配置する方法が開示されている(例えば、特許文献2及び3参照。)。更に、特許文献3では、配向膜と表示領域との間の配向膜に紫外線を照射することによって、配向膜と表示領域との間の配向膜の表面エネルギーを表示領域の配向膜の表面エネルギーより高くする方法が開示されている。 From the viewpoint of disposing the sealing material, there is a problem that ionic impurities eluted from the sealing material and ionic impurities generated by irradiating with ultraviolet rays diffuse into the liquid crystal. In order to suppress this, a method of disposing a polyimide resin film in a region between the display region and the outer seal line has been disclosed (for example, see Patent Documents 2 and 3). Further, in Patent Document 3, the surface energy of the alignment film between the alignment film and the display region is changed from the surface energy of the alignment film in the display region by irradiating the alignment film between the alignment film and the display region with ultraviolet rays. A method of raising is disclosed.

また、配向膜の印刷位置を制御する技術としては、シールと表示領域との間に、配向材の濡れ広がりを制御する撥水性の高い印刷制御パターンを設ける方法が開示されている(例えば、特許文献4参照。)。
特開2007−10783号公報 特開平10−260406号公報 特開平10−339883号公報 特開2007−114586号公報
In addition, as a technique for controlling the printing position of the alignment film, a method of providing a highly water-repellent print control pattern for controlling the wetting and spreading of the alignment material between the seal and the display area is disclosed (for example, patents). Reference 4).
JP 2007-10784 A JP-A-10-260406 Japanese Patent Laid-Open No. 10-339883 JP 2007-114586 A

しかしながら、特許文献1では、シール材に沿って壁部を設け、シール材の染み出しを防止しているが、壁部を設けるためのスペースとそれを設けるためのマージン領域とが必要となるため、液晶表示パネルの狭額縁化を妨げる要因となり改善の余地があった。 However, in Patent Document 1, a wall portion is provided along the sealing material to prevent the sealing material from leaking out, but a space for providing the wall portion and a margin region for providing the wall portion are required. There was room for improvement because it became a factor that hindered the narrowing of the frame of liquid crystal display panels.

なお、特許文献2では、表示領域とその外側のシールラインとの間の領域に表示領域の表面エネルギーよりも高い表面エネルギーを有する配向膜を配置しているが、この形態では、シール材料が表示領域側に濡れ広がるおそれがある。特許文献3では、ポリイミド樹脂膜のエッジの外側で、液晶を封入する注入口を含むシール樹脂の注入口側シールパターンに一部重ねるかまたはその近傍に、そのシールパターンに平行に付加型ポリイミド樹脂膜を設けているが、この形態においてもシール材料が表示領域側に濡れ広がるおそれがある。また、特許文献4では、シール材と表示領域の間に、配向材の濡れ広がりを制御する撥水性の高い領域が形成されているが、シール材料の外側に撥水領域が設けられていることはなく、シール材料がパネル外側に広がるおそれがある。 In Patent Document 2, an alignment film having a surface energy higher than the surface energy of the display region is arranged in a region between the display region and the seal line outside the display region. There is a risk of spreading to the area side. In Patent Document 3, an addition type polyimide resin that is partially overlapped with or close to an injection-side seal pattern of a sealing resin including an injection port that encloses liquid crystal outside the edge of the polyimide resin film, in parallel with the seal pattern. Although a film is provided, even in this form, the sealing material may spread wet to the display region side. In Patent Document 4, a region with high water repellency that controls the wetting and spreading of the alignment material is formed between the sealing material and the display region, but a water-repellent region is provided outside the sealing material. There is a possibility that the sealing material spreads outside the panel.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、額縁面積を削減した表示装置及びその製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above situation, and an object thereof is to provide a display device with a reduced frame area and a method for manufacturing the same.

本発明者は、表示装置の額縁領域(非表示領域)を小面積化することについて種々検討したところ、一対の基板を貼り合わせるシールの配置領域に着目した。そして、シールと接する領域にシールの下地層を設け、シールと接する領域におけるシール材料(シールを硬化させる前の流動材料)に対する接触角を、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角よりも小さくすることにより、シール材料の染み出しを防止することができ、額縁領域の小型化を図ることができることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 The inventor has made various studies on reducing the frame area (non-display area) of the display device, and has paid attention to the arrangement area of the seal for bonding a pair of substrates. Then, a base layer of the seal is provided in the area in contact with the seal, and the contact angle with the seal material in the area in contact with the seal (the flow material before the seal is cured) is determined from the contact angle with the seal material in the peripheral area in the area in contact with the seal. It has been found that the sealing material can be prevented from seeping out and the frame area can be reduced in size, and the above problem can be solved brilliantly, and the present invention has been achieved. Is.

すなわち、本発明は、対向して配置された一対の基板と、表示領域よりも外側の領域で上記一対の基板を貼り合わせるシールとを有する表示装置であって、上記基板は、シールと接する領域にシールの下地層を有し、シールと接する領域におけるシール材料に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角よりも小さい表示装置である。
以下に本発明を詳述する。
That is, the present invention is a display device having a pair of substrates disposed opposite to each other and a seal for bonding the pair of substrates in a region outside the display region, wherein the substrate is a region in contact with the seal In the display device, the contact angle with the seal material in the region in contact with the seal is smaller than the contact angle with the seal material in the peripheral region in the region in contact with the seal.
The present invention is described in detail below.

本発明の表示装置は、対向して配置された一対の基板と、表示領域よりも外側の領域(外周領域)で上記一対の基板を貼り合わせるシールとを有する。上記一対の基板は、表示領域と表示領域よりも外側の、表示に用いられない外周領域とを有する。外周領域には、一対の基板を貼り合わせるためのシールが配置されている。本明細書で「表示領域」とは、画像を表示することができる領域のことであり、例えば、液晶表示装置の場合には、液晶表示装置を構成する基板を平面視した時に、画像の表示に用いる最も端の画素を構成するカラーフィルタ、画素電極等が配置される領域を含む基板平面における内側の領域のことである。また、有機EL表示装置の場合には、画像の表示に用いる最も端の画素を構成する有機発光素子が配置される領域を含む基板平面における内側の領域のことであり、プラズマディスプレイの場合には、画像の表示に用いる最も端の画素を構成する蛍光体が配置された領域を含む基板平面における内側の領域のことである。なお、画素は画像を構成する最小の単位要素であり、例えば、赤、緑、青等の単色を示すものである。 The display device of the present invention includes a pair of substrates arranged to face each other, and a seal that bonds the pair of substrates in a region outside the display region (outer peripheral region). The pair of substrates has a display area and an outer peripheral area outside the display area and not used for display. A seal for bonding the pair of substrates is disposed in the outer peripheral region. In the present specification, the “display region” is a region where an image can be displayed. For example, in the case of a liquid crystal display device, the image is displayed when the substrate constituting the liquid crystal display device is viewed in plan view. This is an inner region in the substrate plane including a region where a color filter, a pixel electrode, etc. constituting the endmost pixel used in the above are disposed. Further, in the case of an organic EL display device, it is an inner region in a substrate plane including a region where an organic light emitting element constituting the endmost pixel used for displaying an image is arranged. In the case of a plasma display, This is an inner region in the plane of the substrate including the region where the phosphor constituting the endmost pixel used for image display is arranged. Note that the pixel is the smallest unit element constituting the image, and indicates, for example, a single color such as red, green, or blue.

上記一対の基板は、例えば、液晶表示装置である場合には、TFT素子がガラス基板等の上に設けられたTFTアレイ基板と、無アルカリガラス等からなる基板上に画素領域に対応する形状で、赤、緑及び青等の感光性材料等からなる着色層が表示領域内に配置されたCF基板とであることが好ましい。また、有機EL表示装置である場合には、TFT素子と有機発光材料を含んでなる発光素子とが配置された基板と、パネル内部を封止する封止基板とであることが好ましい。更に、プラズマディスプレイである場合には、画素を構成する蛍光体等が配置された基板と、アドレス電極等が配置された基板とであることが好ましい。 For example, in the case of a liquid crystal display device, the pair of substrates has a shape corresponding to a pixel region on a TFT array substrate in which TFT elements are provided on a glass substrate or the like and a substrate made of non-alkali glass or the like. It is preferable that a colored layer made of a photosensitive material such as red, green, and blue is a CF substrate disposed in the display region. In the case of an organic EL display device, a substrate on which a TFT element and a light-emitting element containing an organic light-emitting material are arranged and a sealing substrate for sealing the inside of the panel are preferable. Furthermore, in the case of a plasma display, it is preferable that the substrate is a substrate on which phosphors constituting the pixels are arranged and a substrate on which address electrodes are arranged.

上記基板は、少なくともシールと接する領域にシールの下地層を有する。上記下地層は、表示領域よりも外側の外周領域に配置される限り、表示領域の全体を囲んで配置されていてもよいし、部分的に囲んで配置されていてもよいが、シール材料の広がりを抑制する観点からは、表示領域の全体を囲んでいることが好ましい。例えば、外周領域に配置されたシールが四つの辺から構成される場合、シールで構成される四辺のうち、少なくとも一辺の下に下地層が設けられていればよいが、四辺全ての下に下地層が設けられ、表示領域の全体を囲んでいることが好ましい。また、下地層はシール側の表面全体がシールと接して配置される必要はないが、シールは下地層側の全てが下地層と接している。なお、下地層の側面(基板面内方向側の面)は、シールと接する必要はない。 The substrate has a seal underlayer at least in a region in contact with the seal. The underlayer may be disposed so as to surround the entire display region or may be partially disposed as long as it is disposed in the outer peripheral region outside the display region. From the viewpoint of suppressing the spread, it is preferable to surround the entire display area. For example, when the seal disposed in the outer peripheral region is composed of four sides, it is sufficient that the base layer is provided below at least one side of the four sides constituted by the seal, but the bottom layer is provided below all four sides. It is preferable that a stratum is provided and surrounds the entire display area. In addition, the entire surface on the seal side does not have to be in contact with the seal, but the seal is in contact with the entire base layer. Note that the side surface of the base layer (the surface on the substrate in-plane direction side) need not be in contact with the seal.

上記基板は、シールと接する領域におけるシール材料に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角よりも小さい。本明細書で「周辺領域」とは、シールと接する領域の表示領域側とパネルの外側との両方を指す。すなわち、上記基板は、シールが接する領域における接触角が、シールと接する領域の周辺領域の表示領域側とパネルの外側との両方におけるシール材料に対する接触角よりも小さい。これによれば、上記下地層は、シールと接する領域の表面のシール材料に対する接触角が小さいため、シール材料を塗布したときの、シール材料の広がりを抑制することができ、シールの塗り分けが容易になる。また、シールを形成するパターンを細線化することができる。その結果、シールからパネルの外側までの距離、及び、シールから表示領域までの距離を短く設計することが可能となり、非表示領域の面積を小さくすることができる。 In the substrate, the contact angle with the sealing material in the region in contact with the seal is smaller than the contact angle with the sealing material in the peripheral region of the region in contact with the seal. In this specification, the “peripheral region” refers to both the display region side of the region in contact with the seal and the outside of the panel. That is, the contact angle of the substrate in the region in contact with the seal is smaller than the contact angle with respect to the seal material on both the display region side and the outside of the panel in the peripheral region of the region in contact with the seal. According to this, since the base layer has a small contact angle with respect to the seal material on the surface of the region in contact with the seal, the spread of the seal material can be suppressed when the seal material is applied, and the seal can be applied separately. It becomes easy. Further, the pattern forming the seal can be thinned. As a result, the distance from the seal to the outside of the panel and the distance from the seal to the display area can be designed to be short, and the area of the non-display area can be reduced.

なお、本明細書で「シール」とは、一対の基板を貼り合わせるとともに、パネル内部を封止するものであり、「シール材料」とは、シールを硬化させる前の流動材料を指し、その形態としては例えば、重合硬化する前の液状のプレポリマー、溶媒中にシールを構成する材料を溶かした溶液、シールを構成する材料を分散させた分散液等が挙げられる。硬化する「接触角」とは、下地層のシール側の表面にシール材料を配置したときに、下地層のシール側の表面と静止しているシール材料の表面とがなす角のことをいう。接触角は、例えば、θ/2法、接線法等を用いて測定することができる。θ/2法は、平面上に配置された液滴を断面から観察したときに、液滴の左右端点と頂点とを結ぶ直線が、液滴が配置された平面となす角を2倍することによって接触角を求める方法である。接線法は、液滴の輪郭形状を円の一部と仮定し、円の中心を求め、円の接線と液滴が配置された平面とでなす角度を接触角として求める方法である。
なお、シールと接する領域の階層と周辺領域の階層とは、同じ階層(同一平面)にあってもよいし、異なる階層にあってもよく特に限定されない。例えば、シールと接する領域の表示領域側の階層がシールと接する領域の階層よりも高く、かつシールと接する領域の外側の階層がシールと接する領域の階層と同一平面上にあってもよいし、シールと接する領域の外側の階層がシールと接する領域の階層よりも高く、かつシールと接する領域の表示領域側の階層がシールと接する領域の階層と同一平面上にあってもよい。
In the present specification, “seal” is to bond a pair of substrates and seal the inside of the panel, and “seal material” refers to a fluid material before the seal is cured, and its form Examples thereof include a liquid prepolymer before polymerization and curing, a solution in which a material constituting the seal is dissolved in a solvent, a dispersion in which the material constituting the seal is dispersed, and the like. The “contact angle” to be cured refers to an angle formed by the surface of the sealing layer of the base layer and the surface of the stationary sealing material when the sealing material is disposed on the surface of the base layer on the seal side. The contact angle can be measured using, for example, the θ / 2 method, the tangent method, or the like. In the θ / 2 method, when a droplet placed on a plane is observed from a cross section, the angle formed by the straight line connecting the left and right end points and the apex of the droplet with the plane on which the droplet is placed is doubled. This is a method for obtaining the contact angle. The tangent method is a method in which the contour shape of a droplet is assumed to be a part of a circle, the center of the circle is obtained, and the angle formed by the tangent of the circle and the plane on which the droplet is placed is obtained as the contact angle.
In addition, the hierarchy of the area | region which touches a seal | sticker, and the hierarchy of a periphery area | region may be in the same hierarchy (same plane), may be in a different hierarchy, and is not specifically limited. For example, the level on the display area side of the area in contact with the seal may be higher than the level of the area in contact with the seal, and the level outside the area in contact with the seal may be on the same plane as the level of the area in contact with the seal, The layer outside the region in contact with the seal may be higher than the layer in the region in contact with the seal, and the layer on the display region side of the region in contact with the seal may be on the same plane as the layer in the region in contact with the seal.

上記下地層は、一対の基板のうち一方の基板にのみ設けられてもよいし、両方の基板に設けられていてもよい。一対の基板の一方にのみ設けられる場合には、両方に設ける場合と比較して製造工程数の削減を図ることができる。また、一対の基板の両方に設けられる場合には、両方の基板で、シール材料の広がりを抑制することができることから、非表示領域をより狭くすることができる。 The underlayer may be provided only on one of the pair of substrates, or may be provided on both substrates. In the case where it is provided only on one of the pair of substrates, the number of manufacturing steps can be reduced as compared with the case where it is provided on both. Further, in the case of being provided on both of the pair of substrates, since the spread of the sealing material can be suppressed by both the substrates, the non-display area can be further narrowed.

上記下地層は、表示装置を構成する部材の一部、例えば、液晶表示装置の場合には、配向膜の一部であってもよい。下地層は、表示領域よりも外周領域に配置されており、シールと接する領域のシール材料に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域に対して小さいものであれば、特に限定されない。 The underlayer may be a part of a member constituting the display device, for example, a part of an alignment film in the case of a liquid crystal display device. The underlayer is not particularly limited as long as it is disposed in the outer peripheral region rather than the display region, and the contact angle of the seal material in the region in contact with the seal is smaller than the peripheral region in the region in contact with the seal.

上記下地層は、シール材料に対する接触角が小さい、言い換えれば、シール材料に対する濡れ性が大きい材料によって構成されることが好ましい。また、シールと接する領域の周辺領域を構成する材料は、シール材料に対する接触角が大きい、言い換えれば、シール材料に対する濡れ性が小さい材料によって構成されていることが好ましい。これによれば、シール材料の広がりをより抑制することができるため、狭額縁化を図ることができる。更に、下地層は、表示装置を構成する部材から構成されることが好ましい。これによれば、製造工程数の増加を抑制することができ、生産性の向上を図ることができる。 The underlayer is preferably made of a material having a small contact angle with respect to the sealing material, in other words, a material having high wettability with respect to the sealing material. Moreover, it is preferable that the material which comprises the peripheral region of the area | region which contact | connects a seal | sticker is comprised by the material with a large contact angle with respect to a sealing material, in other words, the wettability with respect to a sealing material is small. According to this, since the spread of the sealing material can be further suppressed, the frame can be narrowed. Furthermore, it is preferable that the underlayer is composed of a member constituting the display device. According to this, an increase in the number of manufacturing steps can be suppressed, and productivity can be improved.

上記下地層は、C−C結合、C−H結合等の比較的結合エネルギーの低い結合を有する有機膜であることが好ましい。C−C結合、C−H結合等を切断することによって、切断された原子が空気中の酸素と結合する酸化反応が進行する。その結果、下地層の表面に孤立電子対を有する酸素原子を多く存在させ、配向膜の分極率が増大する。これによれば、シール材料中に、アルキル基やカルボニル基等の極性の大きい部位が含まれる場合、接触角を小さくすることができる。下地層を構成する材料としては、例えば、ポリイミド系の樹脂、ポリアミド系の樹脂等が挙げられる。また、下地層を構成する材料としては、紫外線照射により電子状態の変化を受けやすいアルキル基を多く持つ材料であることが好ましい。 The underlayer is preferably an organic film having a bond with a relatively low bond energy such as a C—C bond or a C—H bond. By cleaving the C—C bond, C—H bond, etc., an oxidation reaction in which the cleaved atom is bonded to oxygen in the air proceeds. As a result, many oxygen atoms having lone electron pairs are present on the surface of the underlayer, and the polarizability of the alignment film is increased. According to this, when the site | part with high polarity, such as an alkyl group and a carbonyl group, is contained in a sealing material, a contact angle can be made small. Examples of the material constituting the base layer include a polyimide resin and a polyamide resin. In addition, the material constituting the underlayer is preferably a material having many alkyl groups that are susceptible to change in the electronic state by ultraviolet irradiation.

上記基板は、シールと接する領域における水に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角よりも小さいことが好ましい。すなわち、上記基板は、シールと接する領域における撥水性が、シールと接する領域の周辺領域における撥水性よりも低いことが好ましい。シールと接する領域及びその周辺領域における水に対する接触角を測定することで、それらの領域における表面エネルギーの指標とすることができる。例えば、下地層表面に水を乗せたときの水と下地層表面との接触角が大きい場合には薄膜表面は低表面エネルギーであり、接触角が小さい場合には薄膜表面は高表面エネルギーであるということができる。また、シール材料においても水の場合と同様に表面エネルギーでその接触角が変化するため、水に対する接触角を測定することでシール材料に対する接触角の指標とすることができる。上記シールと接する領域は、水に対する接触角が10〜30°であることが好ましく、10〜15°であることがより好ましい。また、シールと接する領域の周辺領域は、水に対する接触角が90〜120°であることが好ましい。更に、シールと接する領域とその周辺領域との水に対する接触角の差が60°以上であることが好ましく、水に対する接触角の差が75°以上であることがより好ましい。
上記シールと接する領域における水に対する接触角が30°を超える、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角が90°未満である、又は、シールと接する領域とその周辺領域との接触角の差が60°未満であると、シール材料が濡れ広がることを充分には防止することができないおそれがある。また、下地層のシール側の表面全体にシールが配置されており、水に対する接触角が10〜30°以下であることによって、下地層上にシール材料を留め、シール材料の広がりを充分に抑制することができる。その結果、シールを配置する面積を小さくすることができ、非表示領域の面積を小さくすることができる。
The substrate preferably has a contact angle with water in a region in contact with the seal smaller than a contact angle with a seal material in a peripheral region of the region in contact with the seal. That is, it is preferable that the substrate has a lower water repellency in a region in contact with the seal than in a peripheral region of the region in contact with the seal. By measuring the contact angle with water in the region in contact with the seal and in the peripheral region, it can be used as an index of the surface energy in those regions. For example, when the contact angle between water and the surface of the underlayer when water is placed on the underlayer surface is large, the surface of the thin film has a low surface energy, and when the contact angle is small, the surface of the thin film has a high surface energy. It can be said. In addition, since the contact angle of the sealing material varies depending on the surface energy as in the case of water, the contact angle with respect to the sealing material can be used as an index of the sealing material by measuring the contact angle with water. The region in contact with the seal preferably has a contact angle with water of 10 to 30 °, and more preferably 10 to 15 °. Moreover, it is preferable that the peripheral area | region of the area | region which contact | connects a seal | sticker is 90-120 degrees in the contact angle with respect to water. Furthermore, the difference in contact angle with water between the region in contact with the seal and the surrounding region is preferably 60 ° or more, and more preferably the difference in contact angle with water is 75 ° or more.
The contact angle with water in the region in contact with the seal exceeds 30 °, the contact angle with the seal material in the peripheral region of the region in contact with the seal is less than 90 °, or the contact angle between the region in contact with the seal and the peripheral region If the difference is less than 60 °, the sealing material may not be sufficiently prevented from spreading. In addition, the seal is arranged on the entire surface of the base layer on the seal side, and the contact angle with water is 10 to 30 ° or less, so that the seal material is kept on the base layer and the spread of the seal material is sufficiently suppressed. can do. As a result, the area for arranging the seal can be reduced, and the area of the non-display area can be reduced.

上記シール及びシール材料は、アルキル基及び/又はカルボニル基を含む材料で構成されることが好ましい。アルキル基及びカルボニル基は極性が大きい。そのため、下地層の表面が極性を有する場合、下地層の表面とより強く引き合うことから、シール材料の下地層に対する接触角が小さくなる。その結果、シール材料の濡れ拡がり及び貼り合わせによる広がりを抑制することができ、額縁面積を小さくすることができる。なお、シールは、シール材料に紫外線照射を行うことによって硬化させる紫外線硬化樹脂、又は、シール材料に加熱処理を行うことによって硬化させる熱硬化樹脂であることが好ましい。また、シール及びシール材料を構成する材料としては、イオン性が強い材料を好ましく用いることができ、例えば、エポキシ樹脂とその硬化材に極性の大きなオリゴマーとを用いたエポキシ系封止材等を用いることができる。上記オリゴマーとしては多価アルコール類、ケトン類、エステル類等を用いることができる。上記エポキシ系封止材をシール材料として用いることによって、例えば、紫外線照射等により表面エネルギーが大きくなった領域に、シール材料をより効果的に留めることができる。 The seal and the seal material are preferably composed of a material containing an alkyl group and / or a carbonyl group. Alkyl groups and carbonyl groups are highly polar. Therefore, when the surface of the underlayer has polarity, the contact angle of the sealing material with respect to the underlayer is reduced because it attracts more strongly with the surface of the underlayer. As a result, wetting and spreading of the sealing material can be suppressed, and the frame area can be reduced. Note that the seal is preferably an ultraviolet curable resin that is cured by irradiating the sealing material with ultraviolet rays, or a thermosetting resin that is cured by performing a heat treatment on the sealing material. Further, as the material constituting the seal and the seal material, a material having strong ionicity can be preferably used. For example, an epoxy-based sealing material using an epoxy resin and a highly polar oligomer as a curing material thereof is used. be able to. As the oligomer, polyhydric alcohols, ketones, esters and the like can be used. By using the epoxy-based sealing material as a sealing material, for example, the sealing material can be more effectively retained in a region where the surface energy is increased by ultraviolet irradiation or the like.

本発明の表示装置における好ましい形態について以下に詳しく説明する。
上記表示装置は、一対の基板間に狭持された液晶層をシールよりも表示領域側に有し、かつ配向膜を基板の表示領域に有し、上記下地層は、配向膜を構成する材料を含んで構成されていることが好ましく、上記下地層は、配向膜と同じ材料で形成されていることがより好ましい。上記配向膜は、液晶層中の液晶分子を配列させるために設けられる膜のことであり、一般的にポリイミド、又は、ポリアミド等の高分子膜からなり、表面の改質を簡易に行うことができるため、接触角を小さくすることができる。また、液晶表示装置では一般的に、カラーフィルタ基板とTFTアレイ基板とからなる一対の基板に、配向膜を設けるため、製造工程を増加させることなくシールの下地層を配置することができる。なお、従来の液晶表示装置では、共通電極等の上にのみ下地層を配置していたためシールと接する領域におけるシール材料に対する接触角を変化させることは困難であった。
A preferred embodiment of the display device of the present invention will be described in detail below.
The display device has a liquid crystal layer sandwiched between a pair of substrates on the display region side of the seal, and has an alignment film in the display region of the substrate, and the base layer is a material constituting the alignment film Preferably, the underlayer is formed of the same material as the alignment film. The alignment film is a film provided for aligning the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer, and is generally made of a polymer film such as polyimide or polyamide, and the surface can be easily modified. Therefore, the contact angle can be reduced. In general, in a liquid crystal display device, since an alignment film is provided on a pair of substrates including a color filter substrate and a TFT array substrate, a base layer of a seal can be disposed without increasing the number of manufacturing steps. In the conventional liquid crystal display device, since the base layer is disposed only on the common electrode or the like, it is difficult to change the contact angle with respect to the seal material in the region in contact with the seal.

上記下地層は、シールと接する領域が改質されていることが好ましい。上記下地層は、シールと接する領域の表面が改質されることにより、下地層の表面が活性化され、シール材料に対する接触角をより小さくすることもできる。また、下地層を配向膜と同じ材料で形成する場合には、紫外線により改質されることが好ましい。紫外線の波長及び強度は、下地層の表面を改質することができる波長範囲、強度であればよく、C−C結合、C−H結合を切断することができることが好ましい。下地層がC−C結合、C−H結合を有する有機膜である場合、下地層表面のC−C結合、C−H結合を切断することにより、下地層表面のシール材料に対する接触角を小さくすることができる。改質する領域は、シールと接する領域の全面が改質されていてもよいし、シールと接する領域の一部が改質されていてもよい。また、シールは、下地層が改質された領域からはみ出すことなく配置されていることが好ましい。 The underlayer preferably has a modified region in contact with the seal. In the underlayer, the surface of the region in contact with the seal is modified, whereby the surface of the underlayer is activated and the contact angle with respect to the seal material can be further reduced. Moreover, when forming a base layer with the same material as an orientation film, it is preferable to modify | reform with an ultraviolet-ray. The wavelength and intensity of the ultraviolet rays may be in a wavelength range and intensity that can modify the surface of the underlayer, and it is preferable that the C—C bond and the C—H bond can be cut. When the underlayer is an organic film having a C—C bond and a C—H bond, the contact angle of the underlayer surface with the sealing material is reduced by cutting the C—C bond and the C—H bond on the surface of the underlayer. can do. In the region to be modified, the entire region in contact with the seal may be modified, or a part of the region in contact with the seal may be modified. The seal is preferably arranged without protruding from the region where the underlayer is modified.

上記下地層は、一対の基板のそれぞれに設けられることが好ましい。これによれば、一対の基板の両方で、シールと接する領域におけるシール材料に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角よりも小さくするため、シール材料の広がりを抑制することができる。例えば、一対の基板に第一の下地層を配置し、第一の下地層上にシール材料を配置した場合、シール材料を配置した基板に対向する基板に第二の下地層を設けることによって、一対の基板を貼り合わせるときに、上記対向する基板側でもシール材料の広がりを抑制することができる。なお、一対の基板のそれぞれに設けられる下地層は、同じ材料で構成されていてもよいし、異なる材料で構成されていてもよい。また、上記下地層は、一対の基板のそれぞれに設けられ、上記シールは、それぞれの下地層の上に配置されていることが好ましい。一対の基板は、それぞれの下地層上に設けられたシール材料同士を重ね合わせることによって貼り合わせられる。一対の基板の両方にシール材料を塗布する場合には、一対の基板を貼り合わせるときのシール材料の広がりを抑制することができるとともに、一方の基板のみにシール材料を塗布する場合よりも、片方の基板に塗布するシール材料の量が少なくて済むため、塗布したときの広がりをより抑制することができる。 The underlayer is preferably provided on each of the pair of substrates. According to this, in both of the pair of substrates, the contact angle with respect to the sealing material in the region in contact with the seal is made smaller than the contact angle with respect to the sealing material in the peripheral region in the region in contact with the seal, thereby suppressing the spread of the sealing material. be able to. For example, when a first base layer is disposed on a pair of substrates and a sealing material is disposed on the first base layer, by providing a second base layer on the substrate facing the substrate on which the sealing material is disposed, When a pair of substrates are bonded together, the spread of the sealing material can be suppressed even on the opposing substrate side. Note that the base layer provided on each of the pair of substrates may be made of the same material or may be made of different materials. Moreover, it is preferable that the said base layer is provided in each of a pair of board | substrate, and the said seal | sticker is arrange | positioned on each base layer. A pair of board | substrates are bonded together by making the sealing materials provided on each base layer overlap. When applying the sealing material to both of the pair of substrates, the spread of the sealing material when the pair of substrates is bonded can be suppressed, and one side can be applied rather than applying the sealing material to only one of the substrates. Since the amount of the sealing material applied to the substrate can be small, the spread when applied can be further suppressed.

本発明はまた、上記表示装置を製造する方法でもあって、上記製造方法は、基板の外周領域にシールの下地層を配置する工程と、上記下地層のシールと接する領域を改質する工程と、上記下地層上にシール材料を配置する工程と、一対の基板を貼り合わせる工程と、上記シール材料を固化する工程とをこの順番で含む表示装置の製造方法でもある。 The present invention is also a method for manufacturing the display device, wherein the manufacturing method includes a step of disposing a base layer of the seal in an outer peripheral region of the substrate, and a step of modifying a region in contact with the seal of the base layer. Also, the display device manufacturing method includes a step of arranging a sealing material on the base layer, a step of bonding a pair of substrates, and a step of solidifying the sealing material in this order.

上記製造方法を用いて表示装置を製造することにより、額縁面積を小型化した表示装置を製造することができる。また、パネルの外側、及び、表示領域にシール材料が染み出すことがないため、歩留りの向上を図ることができる。 By manufacturing a display device using the above manufacturing method, a display device with a reduced frame area can be manufactured. Further, since the sealing material does not ooze out to the outside of the panel and the display area, the yield can be improved.

上記下地層を配置する工程は、表示装置を構成する他の部材を形成する工程と同じ工程で行ってもよいし、別の工程で行ってもよく、特に限定されないが、表示装置を構成する他の部材と同じ工程で形成する場合には、製造工程数の増加を抑制することができる。 The step of disposing the base layer may be performed in the same step as the step of forming other members constituting the display device, or may be performed in another step, and is not particularly limited, but constitutes the display device. When forming by the same process as another member, the increase in the number of manufacturing processes can be suppressed.

上記下地層のシールと接する領域を改質する工程では、下地層のシールと接する表面を改質することによって、シール材料に対する接触角をより小さくすることもできる。例えば、ポリイミド、ポリアミド等で形成された下地層である場合には、紫外線を下地層に照射することによって、紫外線が照射されたポリイミドのC−C結合、C−H結合を切断することができる。その結果、空気中の酸素と結合する酸化反応が進行することから、下地層の表面に孤立電子対を有する酸素原子が多く存在することになる。これにより、シール材料が、アルキル基、カルボニル基等の極性の大きい部位を有する場合には、下地層の表面とアルキル基及び/又はカルボニル基等が引き合い、表面の濡れ性が改質され、接触角を小さくすることができる。 In the step of modifying the region in contact with the seal of the underlayer, the contact angle with respect to the seal material can be further reduced by modifying the surface in contact with the seal of the underlayer. For example, in the case of a base layer formed of polyimide, polyamide or the like, the C—C bond and C—H bond of polyimide irradiated with ultraviolet rays can be cut by irradiating the base layer with ultraviolet rays. . As a result, since an oxidation reaction that combines with oxygen in the air proceeds, there are many oxygen atoms having lone electron pairs on the surface of the underlayer. As a result, when the sealing material has a highly polar part such as an alkyl group or a carbonyl group, the surface of the underlayer attracts the alkyl group and / or the carbonyl group, and the wettability of the surface is improved, and the contact is improved. The corner can be reduced.

上記シール材料を固化する工程は、シール材料によって決定される。例えば、シール材料が熱硬化型樹脂である場合には、加熱することによって固化することができる。また、シール材料が紫外線硬化型樹脂である場合には、紫外線を照射することによって固化することができる。 The step of solidifying the sealing material is determined by the sealing material. For example, when the sealing material is a thermosetting resin, it can be solidified by heating. When the sealing material is an ultraviolet curable resin, it can be solidified by irradiating with ultraviolet rays.

本発明の表示装置によれば、基板とシールとが接する領域におけるシール材料に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域よりも小さいため、両基板の貼り合わせによるシール材料の押し広がりを抑制することができる。シール材料の押し広がりが抑制されることから、シール印刷領域に下地層を設けない場合よりも、シールとパネルの外側までの間隔及びシールと表示領域までの長さを短く設計することができる。このため、表示領域の外側に存在する非表示領域を狭くすることができる。すなわち、狭額縁化を図ることができる。 According to the display device of the present invention, since the contact angle with respect to the sealing material in the region where the substrate and the seal are in contact is smaller than the peripheral region of the region in contact with the seal, the spread of the sealing material due to the bonding of the two substrates is suppressed. be able to. Since the spread of the seal material is suppressed, the distance between the seal and the outside of the panel and the length between the seal and the display area can be designed to be shorter than when no base layer is provided in the seal print area. For this reason, the non-display area existing outside the display area can be narrowed. That is, a narrow frame can be achieved.

以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。なお、本明細書では液晶表示装置についての実施形態を挙げているが、液晶表示装置に限らず、2枚の基板をシールを用いて表示領域の外側のパネル外周領域で貼り合わせている表示装置である限り特に限定されず、有機エレクトロルミネセンス表示装置、プラズマディスプレイ等にも本発明を適応することができる。 Embodiments will be described below, and the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited only to these embodiments. In the present specification, an embodiment of a liquid crystal display device is described. However, the present invention is not limited to a liquid crystal display device, and a display device in which two substrates are bonded to each other in a panel outer peripheral region using a seal. However, the present invention is not particularly limited, and the present invention can be applied to an organic electroluminescence display device, a plasma display, and the like.

(実施形態1)
以下に、本発明の実施形態1に係る液晶表示装置の構成について説明する。
図1は、実施形態1に係る液晶表示装置の構成を示す断面模式図である。実施形態1に係る液晶表示装置では、図1に示すように、対向して配置されたTFTアレイ基板120とカラーフィルタ基板110とに狭持された液晶層131をシール130によって封止することで液晶表示パネルが構成されている。シール130は、TFTアレイ基板120に塗布されたシール材料とCF基板110に塗布されたシール材料とが接合されて形成されたものであり、接合面131は、各基板に塗布されたシール材料同士の境界を示している。また、TFTアレイ基板120には外部接続端子(図示せず)が設けられ、液晶表示パネルには、液晶表示駆動用ドライバ(図示せず)が実装されている。
(Embodiment 1)
The configuration of the liquid crystal display device according to Embodiment 1 of the present invention will be described below.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment. In the liquid crystal display device according to the first embodiment, as shown in FIG. 1, the liquid crystal layer 131 sandwiched between the TFT array substrate 120 and the color filter substrate 110 arranged to face each other is sealed with a seal 130. A liquid crystal display panel is configured. The seal 130 is formed by bonding a seal material applied to the TFT array substrate 120 and a seal material applied to the CF substrate 110, and the bonding surface 131 is formed between the seal materials applied to each substrate. Indicates the boundary. The TFT array substrate 120 is provided with external connection terminals (not shown), and a liquid crystal display driver (not shown) is mounted on the liquid crystal display panel.

(CF基板の構成)
まず、CF基板の構成について説明する。
図1に示すように、CF基板110は、無アルカリガラスからなる基板111上に、画素領域に対応する形状で、赤、緑及び青等の感光性材料等からなる着色層113が表示領域150内に配置されている。そして、着色層113が配置されていない領域には、着色層113を囲むように、金属クロム、アクリル系感光性樹脂等からなる遮光性のブラックマトリクス(BM)112が配置されている。着色層113及びBM112の上には、酸化インジウム錫(ITO)等からなる透明電極114が設けられている。ここで、表示領域とは、最も外側に配置された着色層、及び、着色層と着色層との間に配置されたBMが配置されている領域を含む液晶表示パネルの内側領域を指す。また、外周領域とは、液晶表示パネルの表示領域よりも外側の領域を指す。
(Configuration of CF substrate)
First, the configuration of the CF substrate will be described.
As shown in FIG. 1, a CF substrate 110 has a shape corresponding to a pixel region on a substrate 111 made of alkali-free glass, and a colored layer 113 made of a photosensitive material such as red, green, and blue, etc. Is placed inside. In a region where the colored layer 113 is not disposed, a light-shielding black matrix (BM) 112 made of metal chromium, acrylic photosensitive resin, or the like is disposed so as to surround the colored layer 113. A transparent electrode 114 made of indium tin oxide (ITO) or the like is provided on the coloring layer 113 and the BM 112. Here, the display area refers to the inner area of the liquid crystal display panel including the outermost colored layer and the area where the BM arranged between the colored layer and the colored layer is arranged. The outer peripheral area refers to an area outside the display area of the liquid crystal display panel.

図2は、実施形態1に係るCF基板の配向膜とシールの下地層116との配置関係を示す平面模式図である。図1及び2に示すように、基板111上には、ポリイミド等からなる配向性の高分子樹脂膜が、表示領域150には配向膜115として設けられている。また、配向性の高分子樹脂膜は、シール130の下地層116として、シールと接する領域165及びシールと接する領域の周辺領域166を含む外周領域160に設けられている。配向膜115は、ラビングローラーによりラビング処理が行われている。なお、下地層116は、配向膜115をラビング処理する際にラビング処理されていてもよいし、されていなくてもよいが、下地層は、ラビング処理されていないことが好ましい。ラビング処理により下地層が分子配向を持つとシール材料に対する接触角が大きくなるおそれがある。また、下地層116は、紫外線の照射により改質された下地層の上層116bと改質されていない下地層の下層116aにより構成されている。 FIG. 2 is a schematic plan view showing the positional relationship between the alignment film of the CF substrate and the seal underlayer 116 according to the first embodiment. As shown in FIGS. 1 and 2, an alignment polymer resin film made of polyimide or the like is provided on the substrate 111 as an alignment film 115 in the display region 150. Further, the oriented polymer resin film is provided as an underlayer 116 of the seal 130 in an outer peripheral region 160 including a region 165 in contact with the seal and a peripheral region 166 in the region in contact with the seal. The alignment film 115 is rubbed with a rubbing roller. Note that the base layer 116 may or may not be rubbed when the alignment film 115 is rubbed, but the base layer is preferably not rubbed. If the underlying layer has molecular orientation by rubbing, the contact angle with the sealing material may be increased. The underlayer 116 includes an upper layer 116b modified by ultraviolet irradiation and a lower layer 116a of the unmodified underlayer.

(TFTアレイ基板の構成)
次に、TFTアレイ基板の構成について説明する。
実施形態1に係るTFTアレイ基板120は、素子基板121上に配向膜125及び下地層126が配置されて構成されている。素子基板121は、無アルカリガラス等からなる基板上に、TFT素子が設けられている。TFT素子は、直交する方向に相互に並行に延びるように設けられた複数のゲート線とソース線との各交差部分に設けられている。そして、TFT素子のドレイン電極が酸化インジウム錫(ITO)等から構成される画素電極に接続されており表示を行っている。また、素子基板121には外部からの信号入力を受け付ける外部接続端子が形成されており、この外部接続端子がゲート線及びソース線に繋がっている。
(Configuration of TFT array substrate)
Next, the configuration of the TFT array substrate will be described.
The TFT array substrate 120 according to the first embodiment is configured by arranging an alignment film 125 and a base layer 126 on an element substrate 121. The element substrate 121 is provided with a TFT element on a substrate made of alkali-free glass or the like. The TFT element is provided at each intersection of a plurality of gate lines and source lines provided so as to extend in parallel to each other in an orthogonal direction. Then, the drain electrode of the TFT element is connected to a pixel electrode made of indium tin oxide (ITO) or the like to perform display. The element substrate 121 is formed with an external connection terminal for receiving a signal input from the outside, and the external connection terminal is connected to the gate line and the source line.

素子基板121上には、ポリイミド等からなる配向性の高分子樹脂膜が、シール130の下地層126として、シールと接する領域165を含む外周領域160に設けられている。また、配向性の高分子樹脂膜は、配向膜125として、表示領域150に設けられている。下地層126は、紫外線の照射により改質された下地層の上層126bと、改質されていない下地層の下層126aとにより構成されている。 On the element substrate 121, an oriented polymer resin film made of polyimide or the like is provided as an underlayer 126 of the seal 130 in an outer peripheral region 160 including a region 165 in contact with the seal. In addition, the alignment polymer resin film is provided in the display region 150 as the alignment film 125. The underlayer 126 is composed of an upper layer 126b of the underlayer modified by ultraviolet irradiation and a lower layer 126a of the unmodified underlayer.

TFTアレイ基板120の四隅(シールより外の最外部)には、CF基板110の共通電極との導通をとるための導電性のペースト(コモンペースト)が塗布されている。なお、TFTアレイ基板とCF基板との導通をとる方法としては、後述するシール材料の中に周囲を導線性の材料で覆われたプラスチックビーズ等を混入することによって行うこともできる。この場合、導線性の材料で覆われたプラスチックビーズ等はスペーサとしても機能する。また、TFTアレイ基板120とCF基板110とを貼り合わせたときに、対向する2枚の基板の間隔を一定に保つためのスペーサ(図示せず)がTFTアレイ基板120上には散布されている。スペーサとしては、シリカ(SiO)又はプラスチックの真球状の粒子を用いることができる。 Conductive paste (common paste) for conducting with the common electrode of the CF substrate 110 is applied to the four corners (outermost part outside the seal) of the TFT array substrate 120. In addition, as a method for establishing electrical connection between the TFT array substrate and the CF substrate, it is also possible to mix plastic beads or the like whose periphery is covered with a conductive material into a seal material described later. In this case, a plastic bead covered with a conductive material also functions as a spacer. Further, when the TFT array substrate 120 and the CF substrate 110 are bonded together, spacers (not shown) for keeping the distance between the two opposing substrates constant are scattered on the TFT array substrate 120. . As the spacer, silica (SiO 2 ) or plastic spherical particles can be used.

(下地層の改質工程)
次に、下地層の上層を改質する工程について、図3−1〜図3−3、及び、図4を用いてCF基板を例にとって説明する。
図3−1〜図3−3は、CF基板上に設けられた下地層116の改質工程を示す図であり、図4は、ポリイミドからなる下地層116を改質した時の表面状態を示す断面模式図である。図4は、下地層116の上層の表面状態を示す断面模式図である。なお、図3−2中の矢印は、照射する紫外線を示している。図3−1に示すような配向膜115及び下地層116が配置されたCF基板110に、図3−2に示すように、フォトマスク170を用いて外周領域160に形成した下地層116に紫外線を照射する。紫外線には、波長が100〜300nm、エネルギー5.0〜7.0eVの紫外線を用いて、30〜600秒の照射を行う。紫外線を照射することにより、図1−3に示すように、下地層の上層116bが改質される。これによれば、図4に示すように、下地層116が紫外線照射を受けた区域は、原子間の結合エネルギーの低い、C−C、C−H結合が切断され、空気中の酸素によって酸化される。このため、下地層116表面には孤立電子対を有する酸素原子が存在することとなる。その結果、下地層116表面の分極が強まることになる。ポリイミドからなる下地層である場合には、紫外線が照射される前の水に対する下地層の接触角は、90〜110°であるのに対し、紫外線が照射された後のシールと接する領域における、水に対する接触角を10〜30°とすることができる。シール材料が濡れ広がることをより防止する観点からは、シールと接する領域における水に対する接触角を10〜15°にすることがより好ましい。接触角は、θ/2法、接線法等を用いて測定する。また、TFTアレイ基板120においても同様に、下地層の改質を行う。
(Underlayer reforming process)
Next, the process of modifying the upper layer of the underlayer will be described with reference to FIGS. 3-1 to 3-3 and FIG. 4 taking the CF substrate as an example.
FIGS. 3A to 3C are diagrams illustrating a modification process of the base layer 116 provided on the CF substrate, and FIG. 4 illustrates a surface state when the base layer 116 made of polyimide is modified. It is a cross-sectional schematic diagram shown. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the surface state of the upper layer of the base layer 116. In addition, the arrow in FIG. 3-2 has shown the ultraviolet-ray to irradiate. As shown in FIG. 3-2, UV light is applied to the underlayer 116 formed in the outer peripheral region 160 using the photomask 170 on the CF substrate 110 on which the alignment film 115 and the underlayer 116 as shown in FIG. Irradiate. The ultraviolet rays are irradiated for 30 to 600 seconds using ultraviolet rays having a wavelength of 100 to 300 nm and an energy of 5.0 to 7.0 eV. By irradiating with ultraviolet rays, the upper layer 116b of the underlayer is modified as shown in FIG. According to this, as shown in FIG. 4, in the area where the underlayer 116 is irradiated with ultraviolet rays, the C—C and C—H bonds with low bond energy between atoms are cut and oxidized by oxygen in the air. Is done. For this reason, oxygen atoms having lone electron pairs exist on the surface of the base layer 116. As a result, the polarization of the surface of the underlayer 116 is strengthened. In the case of a base layer made of polyimide, the contact angle of the base layer with respect to water before irradiation with ultraviolet rays is 90 to 110 °, whereas in a region in contact with the seal after irradiation with ultraviolet rays, The contact angle with respect to water can be 10 to 30 °. From the viewpoint of further preventing the sealing material from spreading wet, it is more preferable that the contact angle with water in the region in contact with the seal is 10 to 15 °. The contact angle is measured using a θ / 2 method, a tangent method, or the like. Similarly, in the TFT array substrate 120, the base layer is modified.

(シール配置工程)
次に、シール配置工程についてもCF基板を例にとって説明する。
図2に示す、紫外線照射を行った下地層116に、ディスペンサ塗布、スクリーン印刷等の方式によりシール材料を配置する。下地層の表面は、紫外線照射により活性化され、孤立電子対を有する酸素原子が存在し、分極が強まっている。そのため、シール材料中のアルキル基、カルボニル基等の極性の大きい部位が、下地層116表面の孤立電子対を有する酸素原子と引き合い、下地層116に対するシール材料の接触角が小さくなる。その結果、シール材料を下地層116上に留める力が強くなり、シール材料の広がりを抑制することができる。また、シール材料中には、ガラスファイバ片、プラスチック球等からなるスペーサが含まれており、TFTアレイ基板とCF基板とを貼り合わせた時の基板間の距離を一定にしている。また、TFTアレイ基板においても同様に、下地層にシール材料を配置する。
(Seal placement process)
Next, the seal arrangement process will be described taking the CF substrate as an example.
A sealing material is disposed on the underlayer 116 irradiated with ultraviolet rays shown in FIG. 2 by a method such as dispenser application or screen printing. The surface of the underlayer is activated by ultraviolet irradiation, oxygen atoms having lone electron pairs are present, and polarization is increased. Therefore, a highly polar site such as an alkyl group or a carbonyl group in the sealing material attracts oxygen atoms having a lone pair of electrons on the surface of the base layer 116, and the contact angle of the seal material with the base layer 116 becomes small. As a result, the force for retaining the sealing material on the base layer 116 is increased, and the spread of the sealing material can be suppressed. Further, the seal material includes a spacer made of glass fiber pieces, plastic spheres, etc., and the distance between the substrates when the TFT array substrate and the CF substrate are bonded together is made constant. Similarly, in the TFT array substrate, a sealing material is disposed on the base layer.

(液晶表示装置の作製工程)
TFTアレイ基板120とCF基板110とを、スペーサを配置した二枚の基板間に所定間隔で設けることによって、液晶材料を封入する空間とする。この空間に液晶材料を滴下し、CF基板110及びTFTアレイ基板120の作製工程で塗布されたシール材料により貼り合わせ、液晶材料を封入する。シール材料としては、イオン性を強く持つ材料を好ましく用いることができ、例えば、エポキシ樹脂とその硬化材に極性の大きなオリゴマーとを用いたエポキシ系封止材等を用いることができる。液晶材料を封入した後、UV照射により仮硬化を行い、その後200℃で本硬化させる。また、TFTアレイ基板120及びCF基板110は、CF基板の共通電極とTFTアレイ基板の補助容量との導通をとるために、炭素、銀等を含む導電性ペースト材を貼り合わされた一対の基板の四隅(シールより外の最外部)に備えている。そして、貼り合わせを行った液晶表示パネルに偏光板、駆動ドライバ等を実装することによって液晶表示装置は完成する。
(Manufacturing process of liquid crystal display device)
The TFT array substrate 120 and the CF substrate 110 are provided at a predetermined interval between two substrates on which spacers are arranged, thereby forming a space for enclosing a liquid crystal material. A liquid crystal material is dropped into this space and bonded together by a sealing material applied in the manufacturing process of the CF substrate 110 and the TFT array substrate 120, and the liquid crystal material is sealed. As the sealing material, a material having strong ionicity can be preferably used. For example, an epoxy-based sealing material using an epoxy resin and a highly polar oligomer as a curing material thereof can be used. After encapsulating the liquid crystal material, provisional curing is performed by UV irradiation, followed by main curing at 200 ° C. In addition, the TFT array substrate 120 and the CF substrate 110 are a pair of substrates bonded with a conductive paste material containing carbon, silver, etc. in order to establish conduction between the common electrode of the CF substrate and the auxiliary capacitance of the TFT array substrate. Provided at the four corners (outermost outside the seal). Then, a liquid crystal display device is completed by mounting a polarizing plate, a driving driver and the like on the bonded liquid crystal display panel.

実施形態1に係る液晶表示装置は、各画素においてゲート線を介してTFTのゲート電極に所定電圧が印加され、TFTがオン状態となった際に、ソース電極にソース線を介して信号電圧が印加されることにより透明電極とCF基板側の透明電極との間に形成される液晶容量及び補助容量でドレイン電極を介して流れ込む電荷を保持する。その電荷量に応じて液晶層の液晶分子の配向状態が変わることを利用して光透過度を調整し、画像表示を行うものである。 In the liquid crystal display device according to the first embodiment, when a predetermined voltage is applied to the gate electrode of the TFT via the gate line in each pixel and the TFT is turned on, the signal voltage is applied to the source electrode via the source line. By being applied, the liquid crystal capacitance and the auxiliary capacitance formed between the transparent electrode and the transparent electrode on the CF substrate side hold the charge flowing through the drain electrode. By utilizing the change in the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer in accordance with the amount of charge, the light transmittance is adjusted to display an image.

本発明の液晶表示装置は、シール材料の広がりを抑制することができ、表示領域を広くすることができる。そのため、狭額縁化を図ることができる。また、実施形態1の液晶表示装置では、紫外線を照射する工程を追加するだけで、狭額縁化を図ることができる。なお、実施形態1では、下地層の形成、下地層の改質及びシール材料の配置を、TFTアレイ基板及びCF基板の両方に行ったが、それぞれの工程を一方の基板にのみ行ってもよく特に限定されないが、シール材料の濡れ広がりを抑制する観点からは、両方の基板にそれぞれの工程を行うことが好ましい。 The liquid crystal display device of the present invention can suppress the spread of the seal material and can widen the display area. Therefore, a narrow frame can be achieved. Further, in the liquid crystal display device of Embodiment 1, the frame can be narrowed only by adding a step of irradiating ultraviolet rays. In the first embodiment, the formation of the underlayer, the modification of the underlayer, and the arrangement of the sealing material are performed on both the TFT array substrate and the CF substrate. However, each step may be performed only on one substrate. Although not particularly limited, it is preferable to perform the respective steps on both substrates from the viewpoint of suppressing the wetting and spreading of the sealing material.

(実施形態2)
図5は、実施形態2に係るCF基板の構成を示す平面模式図である。実施形態2に係るCF基板210は、図5に示すように、基板211の表示領域より外側の外周領域の3辺のみに配向性の高分子樹脂膜からなるシールの下地層216を配置している。また、TFTアレイ基板は、基板211上に配置した下地層216に対応する領域に下地層が配置されており、下地層を配置していない側には、外部接続端子及び画素を駆動するためのドライバ回路等が設けられている。TFTアレイ基板の外部接続端子側に、画素を駆動するためのドライバ回路等を配置する液晶表示パネルの場合には、外部接続端子側では外部接続端子に接続するための配線が集中した領域が形成されており、シールを配置する面積を削減しても、表示領域を広くすることができないため、シールを配置する4辺のうち、3辺について配向性高分子樹脂膜を設ける形態としてもよい。この場合、表示領域のサイズはそのままでパネルサイズのみを小さくすることが可能となる。
(Embodiment 2)
FIG. 5 is a schematic plan view showing the configuration of the CF substrate according to the second embodiment. In the CF substrate 210 according to the second embodiment, as shown in FIG. 5, a seal base layer 216 made of an oriented polymer resin film is disposed only on the three sides of the outer peripheral region outside the display region of the substrate 211. Yes. Further, in the TFT array substrate, a base layer is disposed in a region corresponding to the base layer 216 disposed on the substrate 211. On the side where the base layer is not disposed, an external connection terminal and a pixel are driven. A driver circuit and the like are provided. In the case of a liquid crystal display panel in which a driver circuit for driving pixels is arranged on the external connection terminal side of the TFT array substrate, a region where wiring for connecting to the external connection terminal is concentrated is formed on the external connection terminal side. Even if the area for arranging the seal is reduced, the display area cannot be widened. Therefore, an orientation polymer resin film may be provided on three sides of the four sides on which the seal is arranged. In this case, it is possible to reduce only the panel size without changing the size of the display area.

(実施形態3)
図6は、実施形態3に係る表示パネルの断面模式図である。実施形態3に係る液晶表示パネルは、図6に示すように、TFTアレイ基板320とCF基板310とに狭持された液晶層331をシール330によって封止することで構成されている。
(Embodiment 3)
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a display panel according to the third embodiment. As shown in FIG. 6, the liquid crystal display panel according to Embodiment 3 is configured by sealing a liquid crystal layer 331 sandwiched between a TFT array substrate 320 and a CF substrate 310 with a seal 330.

図6に示すように、CF基板310は、無アルカリガラスからなる基板311上に、画素領域に対応する形状で、赤、緑及び青等の感光性材料からなる着色層313が配置されている。そして、着色層313が配置されていない領域には、着色層313を囲むように、金属クロム、アクリル系感光性樹脂等からなる遮光性のブラックマトリクス(BM)312が配置されている。着色層313及びBM312の上には、酸化インジウム錫(ITO)等からなる透明電極314が設けられている。また、図6に示すように、透明電極314上には、ポリイミド等からなる配向膜315が、表示領域350から外周領域360にわたって設けられている。この場合の配向膜315は、表示領域350内に設けられた配向膜315aと外周領域360に設けられた下地層316とから構成されることとなる。下地層316の一部の表面は、紫外線が照射されることにより改質され、改質されていない部分316aと改質された部分316bとが形成される。これによって、シールが接する領域365のシール材料に対する接触角が、シールが接する領域の周辺領域366よりも小さくなる。 As shown in FIG. 6, in the CF substrate 310, a colored layer 313 made of a photosensitive material such as red, green, and blue is arranged on a substrate 311 made of alkali-free glass in a shape corresponding to the pixel region. . In a region where the colored layer 313 is not disposed, a light-shielding black matrix (BM) 312 made of metal chromium, acrylic photosensitive resin, or the like is disposed so as to surround the colored layer 313. A transparent electrode 314 made of indium tin oxide (ITO) or the like is provided on the coloring layer 313 and the BM 312. As shown in FIG. 6, an alignment film 315 made of polyimide or the like is provided on the transparent electrode 314 from the display region 350 to the outer peripheral region 360. In this case, the alignment film 315 includes an alignment film 315 a provided in the display region 350 and a base layer 316 provided in the outer peripheral region 360. A part of the surface of the base layer 316 is modified by being irradiated with ultraviolet rays, and an unmodified part 316a and a modified part 316b are formed. As a result, the contact angle of the region 365 where the seal is in contact with the seal material is smaller than the peripheral region 366 of the region where the seal is in contact.

TFTアレイ基板320は、素子基板321上に配向膜125及び下地層126が配置されて構成されている。素子基板321は、無アルカリガラス等からなる基板上に、TFT素子が設けられている。TFT素子は、直交する方向に相互に並行に延びるように設けられた複数のゲート線とソース線との各交差部分に設けられている。そして、TFT素子のドレイン電極が酸化インジウム錫(ITO)等から構成される画素電極に接続されており表示を行っている。また、素子基板321には外部からの信号入力を受け付ける外部接続端子が形成されており、この外部接続端子がゲート電極及びソース電極に繋がっている。また、素子基板321上の表示領域350には配向膜315が設けられている。素子基板320及び配向膜からTFTアレイ基板320は構成され、シールの下地層は設けられていない。 The TFT array substrate 320 is configured by arranging an alignment film 125 and a base layer 126 on an element substrate 321. The element substrate 321 is provided with a TFT element on a substrate made of alkali-free glass or the like. The TFT element is provided at each intersection of a plurality of gate lines and source lines provided so as to extend in parallel to each other in an orthogonal direction. Then, the drain electrode of the TFT element is connected to a pixel electrode made of indium tin oxide (ITO) or the like to perform display. The element substrate 321 is formed with an external connection terminal for receiving an external signal input, and the external connection terminal is connected to the gate electrode and the source electrode. An alignment film 315 is provided in the display region 350 on the element substrate 321. The TFT array substrate 320 is composed of the element substrate 320 and the alignment film, and no seal underlayer is provided.

(比較例1)
図7は、比較例1に係るCF基板の配向膜の配置を示す平面模式図である。図8は、比較例1に係るCF基板の構成を示す断面模式図である。比較例に係るCF基板10は、図8に示すように、無アルカリガラスからなる基板11上に、画素領域に対応する形状で、赤、緑及び青等の感光性材料からなる着色層13が配置されている。また、着色層13を挟むように、金属クロム、アクリル系感光性樹脂等からなる遮光性のブラックマトリクス(BM)12が配置されており、着色層13及びBM12の上に酸化インジウム錫(ITO)等からなる透明電極12が設けられている。また、図7及び8に示すように、CF基板10上では、配向膜15が表示領域50に配置されているが、シール材料の押し広がりを抑制するためのシールの下地層が外周領域60に配置されていない。また、TFTアレイ基板においても同様に、シールの下地層は、表示領域の外側の外周領域に配置されていない。そのため、CF基板とTFTアレイ基板とを貼り合わせる際のシールの押し広がりによって、シール材料がパネル外側に染み出すことがないように、シール材料を印刷する領域とカラーフィルタ基板の端部との間に、間隔を設ける必要がある。その結果、液晶表示装置の額縁領域が広くなる。
(Comparative Example 1)
FIG. 7 is a schematic plan view showing the arrangement of the alignment films on the CF substrate according to Comparative Example 1. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a CF substrate according to Comparative Example 1. As shown in FIG. 8, the CF substrate 10 according to the comparative example has a colored layer 13 made of a photosensitive material such as red, green, and blue in a shape corresponding to a pixel region on a substrate 11 made of alkali-free glass. Has been placed. Further, a light-shielding black matrix (BM) 12 made of metallic chromium, acrylic photosensitive resin, or the like is disposed so as to sandwich the colored layer 13, and indium tin oxide (ITO) is disposed on the colored layer 13 and the BM 12. A transparent electrode 12 made of or the like is provided. As shown in FIGS. 7 and 8, the alignment film 15 is disposed in the display region 50 on the CF substrate 10, but the seal underlayer for suppressing the spread of the seal material is formed in the outer peripheral region 60. Not placed. Similarly, in the TFT array substrate, the base layer of the seal is not disposed in the outer peripheral region outside the display region. Therefore, between the area where the seal material is printed and the end of the color filter substrate so that the seal material does not bleed out to the outside of the panel due to the spread of the seal when the CF substrate and the TFT array substrate are bonded together. It is necessary to provide an interval. As a result, the frame area of the liquid crystal display device is widened.

実施形態1に係る液晶表示パネルの構成を示す断面模式図である。3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display panel according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係るCF基板の配向膜とシールの下地層との配置関係を示す平面模式図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing an arrangement relationship between the alignment film of the CF substrate according to the first embodiment and a base layer of a seal. 下地層が設けられているCF基板の構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the structure of CF board | substrate with which the base layer is provided. CF基板上に設けられた下地層の表面に紫外線を照射する工程を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the process of irradiating the surface of the base layer provided on the CF substrate with ultraviolet rays. CF基板上に設けられた下地層の表面が改質されていることを示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows that the surface of the base layer provided on the CF substrate is modified. 下地層の上層の表面状態を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the surface state of the upper layer of a base layer. 実施形態2に係るCF基板の構成を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view illustrating a configuration of a CF substrate according to Embodiment 2. FIG. 実施形態3に係る表示パネルの断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view of a display panel according to Embodiment 3. FIG. 比較例1に係るカラーフィルタ基板の配向膜の配置を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view illustrating an arrangement of alignment films of a color filter substrate according to Comparative Example 1. FIG. 比較例1に係るカラーフィルタ基板の構成を示す断面模式図である。6 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a color filter substrate according to Comparative Example 1. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10、110、310:カラーフィルタ(CF)基板
11、111、311:基板
12、112、312:ブラックマトリクス(BM)
13、113、313:着色層
14、114、314:共通電極
15、115、125、315、325:配向膜
116、216、316:下地層
116b、126b:下地層の上層
116a、126a:下地層の下層
120、320:薄膜トランジスタ(TFT)アレイ基板
121、321:素子基板
130、330:シール
131:接合面
150、350:表示領域
160、360:外周領域
165、365:シールと接する領域
166、366:周辺領域
170:フォトマスク
315a:表示領域内の配向膜
316a:改質されていない部分
316b:改質された部分
10, 110, 310: Color filter (CF) substrates 11, 111, 311: Substrates 12, 112, 312: Black matrix (BM)
13, 113, 313: Colored layers 14, 114, 314: Common electrodes 15, 115, 125, 315, 325: Alignment films 116, 216, 316: Underlayer 116b, 126b: Upper layers 116a, 126a: Underlayer Lower layer 120, 320: thin film transistor (TFT) array substrate 121, 321: element substrate 130, 330: seal 131: bonding surface 150, 350: display region 160, 360: outer peripheral region 165, 365: regions 166, 366 in contact with the seal : Peripheral region 170: Photomask 315a: Alignment film 316a in display region: Unmodified portion 316b: Modified portion

Claims (5)

対向して配置された一対の基板と、表示領域よりも外側の領域で該一対の基板を貼り合わせるシールとを有する表示装置であって、
該基板は、シールと接する領域にシールの下地層を有し、
シールと接する領域におけるシール材料に対する接触角が、シールと接する領域の周辺領域におけるシール材料に対する接触角よりも小さいことを特徴とする表示装置。
A display device having a pair of substrates disposed opposite to each other and a seal for bonding the pair of substrates in a region outside the display region,
The substrate has a base layer of the seal in a region in contact with the seal,
A display device, wherein a contact angle with a seal material in a region in contact with a seal is smaller than a contact angle with a seal material in a peripheral region in a region in contact with the seal.
前記表示装置は、一対の基板間に狭持された液晶層をシールよりも表示領域側に有し、かつ配向膜を基板の表示領域に有し、
前記下地層は、配向膜を構成する材料を含んで構成されていることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
The display device has a liquid crystal layer sandwiched between a pair of substrates on the display region side of the seal, and has an alignment film on the display region of the substrate,
The display device according to claim 1, wherein the underlayer includes a material constituting the alignment film.
前記下地層は、シールと接する領域が改質されていることを特徴とする請求項1又は2記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein the base layer is modified in a region in contact with the seal. 前記下地層は、一対の基板のそれぞれに設けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein the base layer is provided on each of the pair of substrates. 請求項1記載の表示装置を製造する方法であって、
該製造方法は、基板の表示領域よりも外側の領域にシールの下地層を配置する工程と、
該下地層のシールと接する領域を改質する工程と、
該下地層上にシール材料を配置する工程と、
一対の基板を貼り合わせる工程と、
該シール材料を固化する工程とをこの順番で含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
A method of manufacturing the display device according to claim 1,
The manufacturing method includes a step of disposing a base layer of the seal in a region outside the display region of the substrate;
Modifying the region in contact with the underlayer seal;
Disposing a sealing material on the underlayer;
Bonding a pair of substrates;
And a step of solidifying the sealing material in this order.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013015760A (en) * 2011-07-06 2013-01-24 Shibaura Mechatronics Corp Adhesive supply device and adhesive supply method
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JP2022121568A (en) * 2013-02-21 2022-08-19 株式会社半導体エネルギー研究所 Liquid crystal display device

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