JP2009079154A - Temperature responsive surface member and manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a temperature responsive surface member which can exhibit hydrophilic/hydrophobic change by temperature and is excellent in durability, particularly, in wear resistance, and a manufacturing method of temperature responsive surface member, capable of easily manufacturing a temperature responsive surface member excellent in durability which can maintain a hydrophilic/hydrophobic change effect by temperature. <P>SOLUTION: The temperature responsive surface member comprises a polymer layer including an amido group-containing polymer having a phase transfer temperature ranging from 20 to 50°C, the polymer layer being formed on a polymerization initiatable substrate, chemically bonded with the substrate, and derived from a compound containing an amido group and a polymerizable group in the molecule. As an amido group-containing monomer which constitutes the compound and can give temperature responsiveness to the generated polymer, N-isopropyl acrylamide is preferred. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、温度応答性表面部材及びその製造方法に関する。詳細には、温度により表面の親/疎水性が大きく変化する温度応答性を付与しうる特定のアミド結合を有する化合物由来の、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層を備えた温度応答性表面部材及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a temperature-responsive surface member and a manufacturing method thereof. Specifically, a polymer layer comprising a polymer having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., derived from a compound having a specific amide bond capable of imparting temperature responsiveness in which surface hydrophilicity / hydrophobicity changes greatly depending on temperature. And a method for manufacturing the same.

温度の変化により物性が変化する温度応答性高分子としてポリN−イソプロピルアクリルアミド(PNIPAAm)が知られている。このPNIPAAmは32℃未満では水溶性であるが、32℃以上では急激な脱水和を生じ、疎水性相互作用により高分子鎖が凝集して相分離を起こす化合物である。この物性変化を生じる温度は下限臨界溶解温度(Lower Critical Solution Temperature; LCST)と呼ばれており(例えば、非特許文献1、参照)、このようなPNIPAAmを基板表面に導入すると、表面の親疎水性を温度によって大きく変えることができる、即ち、上記構造変化に起因してこのような表面における水の接触角が変化を示す。例えば、シリコン基板上に、表面開始リビングラジカル重合によりNIPAAmをグラフト化した膜で、25℃で63°、40℃で93°の水の接触角を示すことが知られている(例えば、非特許文献2、参照)。また、シリカ粒子上にリビングラジカル重合によりNIPAAmをグラフト化した例も知られている(例えば、特許文献1、参照)。
このような温度応答性表面材料は、親水性・疎水性のバランスが急激に変化するという特徴からドラッグデリバリーシステムにおける薬剤の担持体としての利用や(非特許文献3)、タンパクの吸脱着膜(非特許文献4)、アフィニティーの変化するクロマト材料(非特許文献5)などへの利用が提案されている。
Poly N-isopropylacrylamide (PNIPAAm) is known as a temperature-responsive polymer whose physical properties change with changes in temperature. This PNIPAAm is a water-soluble compound at a temperature lower than 32 ° C., but rapidly dehydrates at a temperature higher than 32 ° C., and a polymer chain aggregates due to hydrophobic interaction to cause phase separation. The temperature at which this physical property change occurs is called the lower critical solution temperature (LCST) (see Non-Patent Document 1, for example). When such PNIPAAm is introduced into the substrate surface, the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface is increased. Can be greatly changed by the temperature, that is, the contact angle of water on such a surface changes due to the structural change. For example, it is known that a film obtained by grafting NIPAAm on a silicon substrate by surface-initiated living radical polymerization exhibits a contact angle of water of 63 ° at 25 ° C. and 93 ° at 40 ° C. (for example, non-patent Reference 2). An example in which NIPAAm is grafted onto silica particles by living radical polymerization is also known (see, for example, Patent Document 1).
Such a temperature-responsive surface material is used as a drug carrier in a drug delivery system because of a rapid change in the balance between hydrophilicity and hydrophobicity (Non-Patent Document 3), protein adsorption / desorption membrane ( Non-patent document 4), use for chromatographic materials with varying affinity (non-patent document 5) and the like has been proposed.

基板上にPNIPAAmを固定化する方法としては、基板をN−イソプロピルアクリルアミド(NIPAAm)と接触させ、電子線を照射することによって基板上にPNIPAAmを形成する、電子線グラフト重合と呼ばれる方法(例えば、特許文献2、特許文献3、参照)や、前記特許文献1に記載の如き表面開始リビングラジカル重合によるNIPAAmのグラフト重合法が知られている。しかしながら、電子線グラフト重合法では、形成されるPNIPAAmの耐久性(耐擦性)が良くないこと、電子線照射を行うために、基板内部へのダメージが大きく、元来基板自体が有している物性が損なわれてしまうこと、電子線照射装置を使用するため装置のコストがかかってしまうこと、などの問題がある。
一方、表面開始リビングラジカル重合法では、重合工程に至るまでの基板前処理工程が煩雑で、且つ、重合時間も通常、1〜20時間と長時間を要すること、形成されるPNIPAAmの耐久性(耐擦性)が良くないこと、などが問題である。
このような温度変化により表面の親疎水性が変化する温度応答性表面部材の用途としては、上記に示したように剥離性や転写性を利用した剥離材料・転写材料が挙げられるが、これらの用途に使用する場合、複数回操作しても表面物性が変化しない耐久性、特に、擦りに対する耐久性(耐擦性)が要求されるが、未だこれを満足する表面改質方法が見出されていないのが現状である。
特開2007−69193公報 特開平2−211865号公報 特開2004−261532公報 Prog.Polym.Sci.,17,P163−249(1992年) Angew.Chem.Int.Ed.,43,P357−360(2004年) J.Controlled.Release,59,P287(1999年) J.Controlled.Release,55,P121(1998年) Anal.Chem.,6,P1125(1999年)
As a method for immobilizing PNIPAAm on a substrate, a method called electron beam graft polymerization (for example, forming PNIPAAm on a substrate by contacting the substrate with N-isopropylacrylamide (NIPAAm) and irradiating an electron beam (for example, NIPAAm graft polymerization methods by surface-initiated living radical polymerization as described in Patent Document 2 and Patent Document 3) and Patent Document 1 are known. However, in the electron beam graft polymerization method, the formed PNIPAAm has poor durability (abrasion resistance), and the electron beam irradiation causes large damage to the inside of the substrate. There are problems such as the physical properties being damaged, and the use of an electron beam irradiation apparatus, which increases the cost of the apparatus.
On the other hand, in the surface-initiated living radical polymerization method, the substrate pretreatment process up to the polymerization process is complicated, and the polymerization time usually requires a long time of 1 to 20 hours, and the durability of the formed PNIPAAm ( The problem is that the (rubbing resistance) is not good.
Examples of the use of the temperature-responsive surface member whose surface hydrophilicity / hydrophobicity changes due to such a temperature change include a release material and a transfer material using releasability and transferability as described above. When it is used in the process, durability that does not change the physical properties of the surface even when operated multiple times, particularly durability against rubbing (rubbing resistance) is required, but a surface modification method that satisfies this has not yet been found. There is no current situation.
JP 2007-69193 A JP-A-2-21865 JP 2004-261532 A Prog. Polym. Sci. , 17, P163-249 (1992) Angew. Chem. Int. Ed. , 43, P357-360 (2004) J. et al. Controlled. Release, 59, P287 (1999) J. et al. Controlled. Release, 55, P121 (1998) Anal. Chem. , 6, P1125 (1999)

前記問題点に鑑みてなされた本発明の目的は、温度による親/疎水性変化が発現され、その耐久性、特に、耐摩擦性に優れた温度応答性表面部材を提供することにある。本発明のさらなる目的は、温度による親/疎水性変化効果が持続する、耐久性に優れた温度応答性表面部材を簡便に製造しうる、温度応答性表面部材の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention made in view of the above problems is to provide a temperature-responsive surface member that exhibits a change in hydrophilicity / hydrophobicity due to temperature and is excellent in durability, in particular, friction resistance. A further object of the present invention is to provide a method for producing a temperature-responsive surface member, which can easily produce a temperature-responsive surface member having excellent durability and having a hydrophilic / hydrophobic change effect depending on temperature. .

本発明者は、基板上に、架橋構造を有する重合開始層を設け、その表面に温度応答性を付与しうる特定のアミド基を有するポリマー層を設けることで、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成した。
<1> 重合開始能を有する基板上に、該重合開始能を有する基板と化学的に結合し、分子内にアミド基と重合性基を含む化合物由来の、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層とを備える温度応答性表面部材。
<2> 前記重合開始能を有する基板が、支持体表面に架橋性重合開始剤を含んで形成される重合開始層を有する基板であり、該架橋性重合開始剤が熱架橋性光ラジカル重合開始剤であり、且つ、前記分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物における重合性基が、ラジカル重合性の二重結合であることを特徴とする<1>に記載の温度応答性表面部材。
<3> 前記分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物が、ポリマーであることを特徴とする<1>又は<2>に記載の温度応答性表面部材。
<4> 前記分子内にアミド基と重合性基とを含むポリマーが、アクリル系ポリマーであることを特徴とする<3>に記載の温度応答性表面部材。
The present inventor can achieve the above object by providing a polymerization initiation layer having a crosslinked structure on a substrate and providing a polymer layer having a specific amide group capable of imparting temperature responsiveness on the surface thereof. The headline and the present invention were completed.
<1> On a substrate having a polymerization initiating ability, a phase transition in the range of 20 to 50 ° C. derived from a compound chemically bonded to the substrate having the initiating ability and having an amide group and a polymerizable group in the molecule. A temperature-responsive surface member comprising a polymer layer made of a polymer having temperature.
<2> The substrate having the polymerization initiating ability is a substrate having a polymerization initiating layer formed by including a crosslinkable polymerization initiator on the support surface, and the crosslinkable polymerization initiator starts thermal crosslinkable photoradical polymerization. The temperature-responsive surface according to <1>, wherein the polymerizable group in the compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is a radical polymerizable double bond Element.
<3> The temperature-responsive surface member according to <1> or <2>, wherein the compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is a polymer.
<4> The temperature-responsive surface member according to <3>, wherein the polymer containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is an acrylic polymer.

<5> 前記アミド基が、N−イソプロピルアクリルアミドであることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1項に記載の温度応答性表面部材。
<6> 前記架橋性重合開始剤が、架橋性基と重合開始性部分構造を有するポリマーであることを特徴とする<2>〜<5>のいずれか1項に記載の温度応答性表面部材。
<7> 前記架橋性重合開始剤が、分子内にベンゾフェノン構造を有するポリマーであることを特徴とする<6>に記載の温度応答性表面部材。
<8> 前記基板が樹脂フィルムであることを特徴とする<1>〜<7>のいずれか1項に記載の温度応答性表面部材。
<9> 前記樹脂フィルムが、ポリエステル樹脂又はポリイミド樹脂かならなる樹脂フィルムであることを特徴とする<8>に記載の温度応答性表面部材。
<10> (I)重合開始能を有する基板表面に、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物を接触させる工程と、(II)該基板の全面あるいは特定領域にエネルギーを付与して、エネルギー付与領域にアミド基を有し、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、を含むことを特徴とする温度応答性表面部材の製造方法。
<11> 前記重合開始能を有する基板が、支持体上に、架橋性重合開始剤を含有する重合開始層塗布液層を設け、その後、エネルギーを付与して架橋構造を形成させ、支持体表面に重合開始層を形成することにより得られる<10>記載の温度応答性表面部材の製造方法。
<5> The temperature-responsive surface member according to any one of <1> to <4>, wherein the amide group is N-isopropylacrylamide.
<6> The temperature-responsive surface member according to any one of <2> to <5>, wherein the crosslinkable polymerization initiator is a polymer having a crosslinkable group and a polymerization initiating partial structure. .
<7> The temperature-responsive surface member according to <6>, wherein the crosslinkable polymerization initiator is a polymer having a benzophenone structure in the molecule.
<8> The temperature-responsive surface member according to any one of <1> to <7>, wherein the substrate is a resin film.
<9> The temperature-responsive surface member according to <8>, wherein the resin film is a resin film made of a polyester resin or a polyimide resin.
<10> (I) a step of bringing a compound having an amide group and a polymerizable group into contact with the surface of a substrate having polymerization initiating ability; and (II) applying energy to the entire surface or a specific region of the substrate. And a step of forming a polymer layer made of a polymer having an amide group in the energy imparting region and having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., and a method for producing a temperature-responsive surface member.
<11> The substrate having the polymerization initiating ability is provided with a polymerization initiating layer coating liquid layer containing a crosslinkable polymerization initiator on a support, and thereafter, energy is applied to form a cross-linked structure, thereby supporting the surface of the support. The method for producing a temperature-responsive surface member according to <10>, which is obtained by forming a polymerization initiation layer on the surface.

本発明によれば、温度による親/疎水性変化が発現され、その耐久性、特に、耐摩擦性に優れた温度応答性表面部材、及び、温度による親/疎水性変化効果が持続する、耐久性に優れた温度応答性表面部材を簡便に製造しうる、温度応答性表面部材の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, a change in hydrophilicity / hydrophobicity due to temperature is manifested, and the durability, in particular, a temperature-responsive surface member excellent in friction resistance, and the durability / hydrophobicity change effect due to temperature persists. It is possible to provide a method for producing a temperature-responsive surface member that can easily produce a temperature-responsive surface member having excellent properties.

以下本発明を詳細に説明する。
本発明の温度応答性表面部材は、重合開始能を有する基板上に、該基材と化学的に結合し、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物であって、その化合物由来のポリマーに20〜50℃の範囲に相転移温度を有する特性を付与しうる化合物、即ち、分子内にアミド基と重合性基とを含み、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーを生成しうる化合物により形成される、アミド基を有し、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層とを備えることを特徴とするものであり、好ましくは、(I)重合開始能を有する基板表面に、該分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物を接触させる工程と、(II)該基板の全面あるいは特定領域にエネルギーを付与して、エネルギー付与領域にアミド基を有し、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、を含む製造方法により得ることができる。
以下、本発明の温度応答性表面部材について、製造方法に従い、その構成を詳細に述べる。
The present invention will be described in detail below.
The temperature-responsive surface member of the present invention is a compound that chemically binds to the base material on a substrate having polymerization initiating ability and contains an amide group and a polymerizable group in the molecule, and is derived from the compound. A compound capable of imparting a property having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C. to the polymer, that is, a polymer having an amide group and a polymerizable group in the molecule and having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C. And a polymer layer made of a polymer that has an amide group and has a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., preferably (I) A step of bringing a compound having an amide group and a polymerizable group into contact with the surface of the substrate having a polymerization initiating ability; and (II) applying energy to the entire surface or a specific region of the substrate, Has an amide group Forming a polymer layer comprising a polymer having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., it can be obtained by a production method including.
Hereinafter, the structure of the temperature-responsive surface member of the present invention will be described in detail according to the production method.

[基板]
先ず、本発明において用いられる基板について説明する。本発明における基板は、重合開始能を有することを要するが、基板自体が重合開始能を有する材料からなるものであっても、適切な支持体表面に重合開始剤を含む重合開始層を形成したものを基板としてもよい。
本発明に使用される基板用支持体は、寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリイミド、エポキシ、ビスマレインイミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド、液晶ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が含まれる。本発明に使用される基材としては、ポリエステル樹脂又はポリイミド樹脂が好ましい。
なお、これらの基板用支持体上に、前記の如き分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有する化合物を直接化学結合しうる場合には、これらの基板用支持体は、そのまま本発明における基板として用いられる。
[substrate]
First, the substrate used in the present invention will be described. Although the substrate in the present invention is required to have a polymerization initiating ability, a polymerization initiating layer containing a polymerization initiator is formed on an appropriate support surface even if the substrate itself is made of a material having a polymerization initiating ability. A thing may be used as a substrate.
The substrate support used in the present invention is preferably a dimensionally stable plate, such as paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate, and the like. (For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl Acetal, polyimide, epoxy, bismaleimide resin, polyphenylene oxide, liquid crystal polymer, polytetrafluoroethylene, etc.), paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals, etc. It is included. As a base material used for this invention, a polyester resin or a polyimide resin is preferable.
In addition, when a compound having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule as described above can be directly chemically bonded to these substrate supports, these substrate supports are used as they are. Used as a substrate in the invention.

基板用支持体が樹脂フィルムである場合、本発明において用いうる樹脂フィルムは、グラフトポリマーを保持できるフィルムであれば特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。
具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性カーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂などから選択される樹脂により形成される樹脂フィルムが挙げられる。これらのフィルム形成用樹脂のうち、Tgが120℃以上の樹脂が好ましく、具体的な例としては(括弧内の数字は「ガラス転移温度(Tg)」を示す)、ポリエステル樹脂で特にポリエチレンナフタレート樹脂(PEN:121℃)、ポリアリレート樹脂(PAr:210℃)、ポリエーテルスルホン樹脂(PES:220℃)、フルオレン環変性カーボネート樹脂(BCF−PC:特開2000−227603号公報の実施例4の化合物:225℃)、脂環変性ポリカーボネート樹脂(IP−PC:特開2000−227603号公報の実施例5の化合物:205℃)、アクリロイル化合物(特開2002−80616号公報の実施例−1の化合物:300℃以上)等の化合物からなるフィルムが挙げられる。
このような基材用支持体を構成する樹脂フィルムの厚みは、使用目的に応じて選択され、特に限定はないが、一般的には、10μm〜1mm程度である。
When the substrate support is a resin film, the resin film that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a film capable of holding a graft polymer, and can be appropriately selected according to the purpose of use.
Specifically, polyester resin, methacrylic resin, methacrylic acid-maleic acid copolymer, polystyrene, transparent fluororesin, polyimide resin, fluorinated polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, cellulose acylate resin , Polyurethane resin, polyether ether ketone resin, polycarbonate resin, alicyclic polyolefin resin, polyarylate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, cycloolefin copolymer, fluorene ring modified carbonate resin, alicyclic modified polycarbonate resin, acryloyl compound And a resin film formed of a resin selected from thermoplastic resins such as Of these resins for film formation, resins having a Tg of 120 ° C. or higher are preferred. Specific examples (numbers in parentheses indicate “glass transition temperature (Tg)”) are polyester resins, particularly polyethylene naphthalate. Resin (PEN: 121 ° C.), polyarylate resin (PAr: 210 ° C.), polyethersulfone resin (PES: 220 ° C.), fluorene ring-modified carbonate resin (BCF-PC: Example 4 of JP-A-2000-227603) Compound: 225 ° C.), alicyclic modified polycarbonate resin (IP-PC: compound of Example 5 of JP 2000-227603 A: 205 ° C.), acryloyl compound (Example 1 of JP 2002-80616 A) A film made of a compound such as:
The thickness of the resin film constituting such a substrate support is selected according to the purpose of use and is not particularly limited, but is generally about 10 μm to 1 mm.

本発明においては、下記に示すような、骨格中に重合開始部位を有するポリイミド(以下、適宜、特定ポリイミドと称する。)を含んで形成される基板を用いることもできる。このような素材からなる樹脂フィルムは、それ自体が重合開始能を有するため、以下に詳述する重合開始層を形成することなく、そのまま、本発明における基板として用いることができる。
この特定ポリイミドを含んでなる重合開始能を有する基板は、ポリイミド前駆体化合物を作製し、このポリイミド前駆体化合物を所望の基板形状に成形した後、加熱処理を施し、ポリイミド前駆体を、重合開始能を有する特定ポリイミド構造へ変化させることで作製することができる。
In the present invention, a substrate formed by including a polyimide having a polymerization initiation site in the skeleton (hereinafter, appropriately referred to as a specific polyimide) as shown below can also be used. Since the resin film made of such a material itself has a polymerization initiating ability, it can be used as it is as a substrate in the present invention without forming a polymerization initiating layer described in detail below.
The substrate having the ability to initiate polymerization comprising this specific polyimide is prepared by preparing a polyimide precursor compound, molding the polyimide precursor compound into a desired substrate shape, and then performing heat treatment to start polymerization of the polyimide precursor. It can be produced by changing to a specific polyimide structure having a function.

上記のようにして作製される特定ポリイミドの具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   Although the specific example of the specific polyimide produced as mentioned above is shown, it is not limited to these.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

Figure 2009079154
Figure 2009079154

前記式においてnは、表記構造単位の重合数を示し、好ましくは2〜10000、より好ましくは50〜600の範囲である。
このような重合開始能を有する樹脂フィルムは、そのまま本発明における基板として用いることができるが、前記基板用支持体において例示した重合開始能を有しない樹脂フィルムを支持体として用いる場合には、その表面に後述する重合開始層を形成し、基板とする。
In the above formula, n represents the number of polymerization of the notation structural unit, preferably 2 to 10000, more preferably 50 to 600.
A resin film having such a polymerization initiating ability can be used as it is as a substrate in the present invention, but when a resin film having no polymerization initiating ability exemplified in the substrate support is used as a support, A polymerization initiation layer to be described later is formed on the surface to form a substrate.

[重合開始層]
重合開始層は、高分子化合物と重合開始剤とを含む層、或いは、重合性化合物と重合開始剤とを含む層であることが好ましい。
本発明における重合開始層は、必要な成分を溶解可能な溶媒に溶解し、塗布などの方法で基材表面に塗布層を設け、加熱又は光照射により硬膜することで、形成することができる。
[Polymerization initiation layer]
The polymerization initiation layer is preferably a layer containing a polymer compound and a polymerization initiator, or a layer containing a polymerizable compound and a polymerization initiator.
The polymerization initiating layer in the present invention can be formed by dissolving a necessary component in a solvent capable of dissolving, providing a coating layer on the substrate surface by a method such as coating, and hardening by heating or light irradiation. .

本発明における重合開始層に用いられる化合物としては、基板との密着性が良好であり、且つ、活性光線照射などのエネルギー付与により、活性種を発生するものであれば特に制限なく用いることができる。具体的には、多官能モノマーや分子内に重合性基を有する疎水性ポリマーと、重合開始剤とを混合したものを挙げることができる。   The compound used for the polymerization initiation layer in the present invention can be used without particular limitation as long as it has good adhesion to the substrate and generates active species by energy application such as irradiation with actinic rays. . Specific examples include a mixture of a polyfunctional monomer or a hydrophobic polymer having a polymerizable group in the molecule and a polymerization initiator.

このような分子内に重合性基を有する疎水性ポリマーとしては、具体的には、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリぺンタジエンなどのジエン系単独重合体、アリル(メタ)アクリレー卜、2−アリルオキシエチルメタクリレー卜などのアリル基含有モノマーの単独重合体;ブタジエン、イソプレン、ペンタジエンなどのジエン系単量体又はアリル基含有モノマーを構成単位として含む、スチレン、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルなどの二元又は多元共重合体;不飽和ポリエステル、不飽和ポリエポキシド、不飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリル、高密度ポリエチレンなどの分子中に炭素−炭素二重結合を有する線状高分子又は3次元高分子類;などが挙げられる。
なお、本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「(メタ)アクリル」と表記することがある。
これらの重合性化合物の含有量は、重合開始層中、固形分で10〜95質量%の範囲が好ましく、10〜80質量%の範囲が特に好ましい。
Specific examples of the hydrophobic polymer having a polymerizable group in the molecule include diene homopolymers such as polybutadiene, polyisoprene and polypentadiene, allyl (meth) acrylate, 2-allyloxyethyl. Homopolymers of allyl group-containing monomers such as methacrylic soot; styrene, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylonitrile containing diene monomers such as butadiene, isoprene and pentadiene or allyl group-containing monomers as constituent units Binary or multi-component copolymers such as: unsaturated polyester, unsaturated polyepoxide, unsaturated polyamide, unsaturated polyacryl, linear polymer having a carbon-carbon double bond in the molecule, such as high-density polyethylene, or three-dimensional Macromolecules; and the like.
In this specification, when referring to both or one of “acrylic and methacrylic”, it may be expressed as “(meth) acrylic”.
The content of these polymerizable compounds is preferably in the range of 10 to 95% by mass and particularly preferably in the range of 10 to 80% by mass in the polymerization start layer.

重合開始層には、エネルギー付与により重合開始能を発現させるための重合開始剤を含有する。ここで用いられる重合開始剤は、所定のエネルギー、例えば、活性光線の照射、加熱、電子線の照射などにより、重合開始能を発現し得る公知の熱重合開始剤、光重合開始剤などを、目的に応じて、適宜選択して用いることができる。なかでも、光重合を利用することが製造適性の観点から好適であり、このため、光重合開始剤を用いることが好ましい。
光重合開始剤は、照射される活性光線に対して活性であり、これを含む重合開始層から表面グラフト重合が可能なものであれば、特に制限はなく、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤などを用いることができるが、反応性の観点からはラジカル重合開始剤が好ましい。
The polymerization initiation layer contains a polymerization initiator for expressing polymerization initiation ability by applying energy. The polymerization initiator used here is a known thermal polymerization initiator, photopolymerization initiator, etc. that can exhibit polymerization initiation ability by predetermined energy, for example, irradiation with actinic rays, heating, irradiation with electron beam, etc. Depending on the purpose, it can be appropriately selected and used. Among these, use of photopolymerization is preferable from the viewpoint of production suitability, and therefore, a photopolymerization initiator is preferably used.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is active with respect to irradiated actinic rays and can be subjected to surface graft polymerization from the polymerization initiation layer containing the photopolymerization initiator, and examples thereof include radical polymerization initiators and anionic polymerizations. An initiator, a cationic polymerization initiator, and the like can be used, but a radical polymerization initiator is preferable from the viewpoint of reactivity.

そのような光重合開始剤としては、具体的には、例えば、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンの如きアセトフェノン類;ベンゾフェノン(4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、の如きケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルの如きベンゾインエーテル類;ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの如きベンジルケタール類、などが挙げられる。
重合開始剤の含有量は、重合開始層中、固形分で0.1〜70質量%の範囲が好ましく、1〜40質量%の範囲が特に好ましい。
Specific examples of such a photopolymerization initiator include p-tert-butyltrichloroacetophenone, 2,2′-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one. Acetophenones such as: benzophenone (4,4′-bisdimethylaminobenzophenone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, ketones; benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl Examples thereof include benzoin ethers such as ether and benzoin isobutyl ether; benzyl ketals such as benzyl dimethyl ketal and hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and the like.
The content of the polymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 70% by mass, particularly preferably in the range of 1 to 40% by mass in terms of solid content in the polymerization initiator layer.

また、重合開始剤自身がポリマーであってもよく、そのような例としては以下の(1)〜(15)で表される構造単位からなる化合物を挙げることができる。これらの化合物は、特開平9−77891号、特開平10−45927号、特願2006−053430号、特願2006−264706号、Photochemistry&Photobiology,Vol.5,p46(1999)等に記載の、活性カルボニル基、トリクロロメチルトリアジン、チオキサントンを側鎖に有する高分子の光ラジカル重合開始剤である。   In addition, the polymerization initiator itself may be a polymer, and examples thereof include compounds composed of structural units represented by the following (1) to (15). These compounds are disclosed in JP-A-9-77891, JP-A-10-45927, Japanese Patent Application No. 2006-053430, Japanese Patent Application No. 2006-264706, Photochemistry & Photobiology, Vol. 5, p46 (1999), etc., and is a polymer radical photopolymerization initiator having an active carbonyl group, trichloromethyltriazine, and thioxanthone in the side chain.

Figure 2009079154
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高分子型の光ラジカル重合開始剤の重量平均分子量としては、10000以上が好ましく、30000以上がより好ましい。また、重量平均分子量の上限値としては、溶解性の点から100000が好ましい。分子量が上記範囲となるように、各構造単位の重合数nを適宜、決定することができる。ここで、(15)中、x、yは、モル分率を表し、x+y=100(x≠0、y≠0)である。   The weight average molecular weight of the polymer type photoradical polymerization initiator is preferably 10,000 or more, and more preferably 30,000 or more. The upper limit of the weight average molecular weight is preferably 100,000 from the viewpoint of solubility. The polymerization number n of each structural unit can be appropriately determined so that the molecular weight falls within the above range. Here, in (15), x and y represent mole fractions, and x + y = 100 (x ≠ 0, y ≠ 0).

上記重合性化合物及び重合開始剤を塗布する際に用いる溶媒は、それらの成分が溶解するものであれば特に制限されない。乾燥の容易性、作業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、具体的には、沸点40℃〜150℃程度のものを選択すればよい。
具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、3−メトキシプロパノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテートなどが挙げられる。
これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
The solvent used when applying the polymerizable compound and the polymerization initiator is not particularly limited as long as these components can be dissolved. From the viewpoint of easy drying and workability, a solvent having a boiling point that is not too high is preferable. Specifically, a solvent having a boiling point of about 40 ° C to 150 ° C may be selected.
Specifically, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, methanol, Ethanol, 1-methoxy-2-propanol, 3-methoxypropanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, - such as methoxypropyl acetate.
These solvents can be used alone or in combination. The concentration of the solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

重合開始層を基板上に形成する場合の塗布量は、十分な重合開始能の発現、及び、膜性を維持して膜剥がれを防止するといった観点からは、乾燥後の質量で、0.1〜20g/mが好ましく、更に、0.5〜15g/mが好ましい。 The coating amount when forming the polymerization initiating layer on the substrate is 0.1 in terms of the mass after drying, from the viewpoint of sufficient polymerization initiating ability and maintaining film properties to prevent film peeling. -20 g / m 2 is preferable, and 0.5-15 g / m 2 is more preferable.

本発明においては、上記のように、基板上に上記の重合開始層形成用の組成物を塗布などにより配置し、溶剤を除去することにより成膜させて重合開始層を形成するが、この時、加熱及び/又は光照射を行って硬膜することが好ましい。特に、加熱により乾燥した後、光照射を行って予備硬膜しておくと、重合性化合物のある程度の硬化が予め行なわれるので、重合開始層上にグラフトポリマーが生成した後に重合開始層ごと脱落するといった事態を効果的に抑制し得るため好ましい。
加熱温度と時間は、塗布溶剤が充分乾燥し得る条件を選択すればよいが、製造適正の点からは、温度が100℃以下、乾燥時間は30分以内が好ましく、乾燥温度40〜80℃、乾燥時間10分以内の範囲の加熱条件を選択することがより好ましい。
In the present invention, as described above, the composition for forming the polymerization initiation layer is disposed on the substrate by coating or the like, and the film is formed by removing the solvent to form the polymerization initiation layer. The film is preferably hardened by heating and / or light irradiation. In particular, if the film is dried by heating and then preliminarily cured by light irradiation, the polymerizable compound is cured to some extent in advance, so that after the polymerization polymer is formed on the polymerization initiation layer, the polymerization initiation layer is removed. This is preferable because it is possible to effectively suppress such a situation.
The heating temperature and time may be selected under conditions that allow the coating solvent to be sufficiently dried. However, from the viewpoint of production suitability, the temperature is 100 ° C. or less, the drying time is preferably within 30 minutes, and the drying temperature is 40 to 80 ° C. It is more preferable to select heating conditions within a drying time of 10 minutes.

加熱乾燥後に所望により行われる光照射は、後述するグラフトポリマーの生成反応に用いる光源を用いることができる。引き続き行われるグラフトポリマー生成工程において、エネルギー付与により発生する重合開始層の活性点と、グラフトポリマーの生成を阻害しないという観点からは、重合開始層中に存在する重合開始剤が重合性化合物を硬化する際にラジカル重合しても、完全に消費しない程度に光照射することが好ましい。光照射時間については、光源の強度により異なるが、一般的には30分以内であることが好ましい。このような予備硬化の目安としては、溶剤洗浄後の膜残存率が80%以下となり、且つ、予備硬化後の開始剤残存率が1%以上であることが、挙げられる。   The light irradiation performed as desired after heat-drying can use the light source used for the production | generation reaction of the graft polymer mentioned later. In the subsequent graft polymer generation step, the polymerization initiator existing in the polymerization start layer cures the polymerizable compound from the viewpoint of not inhibiting the active point of the polymerization start layer generated by energy application and the generation of the graft polymer. Even when radical polymerization is performed, it is preferable to irradiate with light so that it is not completely consumed. About light irradiation time, although it changes with the intensity | strength of a light source, generally it is preferable within 30 minutes. As a standard for such pre-curing, it can be mentioned that the film remaining rate after solvent cleaning is 80% or less and the initiator remaining rate after pre-curing is 1% or more.

また、上記の重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合開始層以外に、特開2004−161995公報に記載の重合開始基が側鎖にペンダントしてなるポリマーを用いた重合開始層が更に好ましい。このポリマーは、具体的には、側鎖に重合開始能を有する官能基(重合開始基)及び架橋性基を有するポリマー(以下、特定重合開始ポリマーと称する。)であり、このポリマーにより、ポリマー鎖に結合した重合開始基を有し、かつ、そのポリマー鎖が架橋反応により固定化された形態の重合開始層を形成することができる。
このようにして形成される重合開始層が、本願の重合開始層として最も好適である。
In addition to the polymerization initiation layer containing the polymerizable compound and the polymerization initiator, a polymerization initiation layer using a polymer in which a polymerization initiation group described in JP-A-2004-161995 is pendant on a side chain is more preferable. . Specifically, this polymer is a polymer having a functional group (polymerization initiating group) having a polymerization initiating ability in the side chain and a crosslinkable group (hereinafter referred to as a specific polymerization initiating polymer). A polymerization initiating layer having a polymerization initiating group bonded to a chain and in which the polymer chain is immobilized by a crosslinking reaction can be formed.
The polymerization initiating layer thus formed is most suitable as the polymerization initiating layer of the present application.

ここで用いられる特定重合開始ポリマーは、特開2004−161995号公報の段落番号〔0011〕〜〔0158〕に記載の、架橋性基として、水酸基、アミノ基、カルボキシル基を有するポリマーが挙げられる。特定重合開始ポリマーの特に好ましいものの具体例としては、以下に示す構造単位を以下に示すモル分率で含むポリマーが挙げられる。これらのポリマーの好ましい分子量は前記したものと同様である。   Examples of the specific polymerization initiating polymer used here include polymers having a hydroxyl group, an amino group, and a carboxyl group as the crosslinkable groups described in paragraphs [0011] to [0158] of JP-A No. 2004-161995. Specific examples of particularly preferred specific polymerization initiating polymers include polymers containing the structural units shown below in the molar fractions shown below. Preferred molecular weights of these polymers are the same as those described above.

Figure 2009079154
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さらに、重合開始能を有する部分構造ととともに、架橋性基としてエポキシ基を有するポリマー(特定重合開始ポリマー)も好ましい例として挙げることができ、そのような化合物としては、以下に示す(16)〜(30)で表される構造単位からなる化合物を具体的に挙げることができる。
ここで、(16)〜(30)中、x、yは、モル分率を表し、x+y=100(x≠0、y≠0)である。
Furthermore, a polymer (specific polymerization initiating polymer) having an epoxy group as a crosslinkable group together with a partial structure having a polymerization initiating ability can also be mentioned as a preferred example. Examples of such compounds include (16) to (16) to Specific examples include compounds composed of the structural unit represented by (30).
Here, in (16) to (30), x and y represent mole fractions, and x + y = 100 (x ≠ 0, y ≠ 0).

Figure 2009079154
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更に、重合開始基としてオキシムエステル基を有するポリマー(特定重合開始ポリマー)も好ましい例として挙げることができ、そのような化合物としては、以下に示す(31)〜(40)で表される構造単位を以下に示すモル分率で含む化合物を具体的に挙げることができる。   Furthermore, a polymer having a oxime ester group as a polymerization initiating group (specific polymerization initiating polymer) can also be mentioned as a preferred example, and as such a compound, structural units represented by (31) to (40) shown below Can be specifically mentioned.

Figure 2009079154
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−重合開始層の成膜−
このような、重合開始能を有する部分構造を含む特定重合開始ポリマーを用いて重合開始層を形成する場合には、上述の特定重合開始ポリマーを適当な溶剤に溶解し、塗布液を調製し、その塗布液を基板上に塗布などにより配置し、溶剤を除去して製膜するが、この製膜の際に架橋反応が進行する。つまり、この架橋反応が進行することにより、特定重合開始ポリマーが固定化される。この架橋反応による固定化には、特定重合開始ポリマーの自己縮合反応を使用する方法、及び、架橋剤を併用する方法があり、架橋剤を用いることが好ましい。架橋剤は、重合性化合物(低分子量化合物)により重合開始層を形成する場合にも添加することが好ましい。
特定重合開始ポリマーの自己縮合反応を使用する方法としては、例えば、架橋性基が−NCOやエポキシ基やアルコキシシリル基である場合、必要に応じて反応触媒存在下で熱をかけることにより自己縮合反応が進行する性質を利用したものである。この自己縮合反応が進行することにより、架橋構造を形成することができる。
-Formation of polymerization initiation layer-
When forming a polymerization initiating layer using such a specific polymerization initiating polymer containing a partial structure having a polymerization initiating ability, dissolve the above-mentioned specific polymerization initiating polymer in an appropriate solvent to prepare a coating solution, The coating solution is disposed on the substrate by coating or the like, and the solvent is removed to form a film. During this film formation, the crosslinking reaction proceeds. That is, the specific polymerization initiating polymer is immobilized by the progress of the crosslinking reaction. The immobilization by the crosslinking reaction includes a method using a self-condensation reaction of a specific polymerization initiating polymer and a method using a crosslinking agent in combination, and it is preferable to use a crosslinking agent. The crosslinking agent is also preferably added when the polymerization initiating layer is formed from a polymerizable compound (low molecular weight compound).
As a method of using the self-condensation reaction of the specific polymerization initiating polymer, for example, when the crosslinkable group is —NCO, an epoxy group or an alkoxysilyl group, self-condensation is performed by applying heat in the presence of a reaction catalyst as necessary. This utilizes the nature of the reaction. As this self-condensation reaction proceeds, a crosslinked structure can be formed.

重合開始層を形成するに際し、架橋剤を併用する方法をとる場合に、用いられる架橋剤としては、山下信二編「架橋剤ハンドブック」に掲載されているような従来公知のものを用いることができる。
特定重合開始ポリマー中の架橋性基と架橋剤との好ましい組み合わせとしては、(架橋性基,架橋剤)=(−COOH,多価アミン)、(−COOH,多価アジリジン)、(−COOH,多価イソシアネート)、(−COOH,多価エポキシ)、(−NH,多価イソシアネート)、(−NH,アルデヒド類)、(−NCO,多価アミン)、(−NCO,多価イソシアネート)、(−NCO,多価アルコール)、(−NCO,多価エポキシ)、(−OH,多価イソシアネート)、(−OH,多価ハロゲン化化合物)、(−OH,多価アミン)、(−OH,多価酸無水物)、(エポキシ,多価アミン)、(エポキシ,多価フェノール性OH)、(エポキシ,多価イソシアネート)、(エポキシ,多価カルボン酸)、(エポキシ,多価酸無水物)、(エポキシ,多価エポキシ)、(アルコキシシリル,アルコキシシリル)が挙げられる。中でも、架橋の後にウレタン結合が生成し、高い強度の架橋が形成可能であるという点で、(官能基,架橋剤)=(−OH,多価イソシアネート)が、更に好ましい組み合わせである。
When the polymerization initiating layer is formed, when a method of using a crosslinking agent in combination is employed, as the crosslinking agent used, a conventionally known one as described in Shinji Yamashita “Crosslinking agent handbook” can be used. .
Preferred combinations of the crosslinkable group and the crosslinker in the specific polymerization initiating polymer include (crosslinkable group, crosslinker) = (— COOH, polyvalent amine), (—COOH, polyvalent aziridine), (—COOH, Polyvalent isocyanate), (—COOH, polyvalent epoxy), (—NH 2 , polyvalent isocyanate), (—NH 2 , aldehydes), (—NCO, polyvalent amine), (—NCO, polyvalent isocyanate) , (—NCO, polyhydric alcohol), (—NCO, polyhydric epoxy), (—OH, polyvalent isocyanate), (—OH, polyvalent halogenated compound), (—OH, polyvalent amine), (− OH, polyhydric acid anhydride), (epoxy, polyhydric amine), (epoxy, polyhydric phenolic OH), (epoxy, polyhydric isocyanate), (epoxy, polycarboxylic acid), (epoxy, polyhydric acid) anhydrous Product), (epoxy, polyvalent epoxy), (alkoxysilyl, alkoxysilyl). Among these, (functional group, cross-linking agent) = (— OH, polyvalent isocyanate) is a more preferable combination in that a urethane bond is formed after the cross-linking and a high-strength cross-linking can be formed.

本発明に好適に用いうる架橋剤の具体例としては、以下に示す構造のものが挙げられる。   Specific examples of the crosslinking agent that can be suitably used in the present invention include those having the following structures.

Figure 2009079154
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このような架橋剤は、重合開始層の成膜の際、上述の特定重合開始ポリマーを含有する塗布液に添加される。その後、塗膜の加熱乾燥時の熱により、架橋反応が進行し、強固な架橋構造を形成することができる。より詳細には、下記のex1.で示される脱水反応やex2.で示される付加反応により架橋反応が進行し、架橋構造が形成される。これらの反応における温度条件としては、50℃以上300℃以下が好ましく、更に好ましくは80℃以上200℃以下である。   Such a crosslinking agent is added to the coating solution containing the above-mentioned specific polymerization initiating polymer when the polymerization initiating layer is formed. Thereafter, the crosslinking reaction proceeds by the heat during the drying of the coating film, and a strong crosslinked structure can be formed. More specifically, the following ex1. Or the dehydration reaction indicated by ex2. The cross-linking reaction proceeds by the addition reaction represented by the above, and a cross-linked structure is formed. The temperature conditions in these reactions are preferably 50 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.

Figure 2009079154
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また、塗布液中の架橋剤の添加量としては、特定重合開始ポリマー中に導入されている架橋性基の量により変化するが、架橋度合や、未反応の架橋成分の残留による重合反応への影響の観点から、通常、架橋性基のモル数に対して0.01〜50当量であることが好ましく、0.01〜10当量であることがより好ましく、0.5〜3当量であることが更に好ましい。   The amount of the crosslinking agent added in the coating solution varies depending on the amount of the crosslinkable group introduced into the specific polymerization initiating polymer, but the degree of crosslinking and the polymerization reaction due to the remaining unreacted crosslinking component remain. From the viewpoint of influence, it is usually preferably 0.01 to 50 equivalents, more preferably 0.01 to 10 equivalents, and 0.5 to 3 equivalents relative to the number of moles of the crosslinkable group. Is more preferable.

また、重合開始層を塗布する際に用いる溶媒は、上述の特定重合開始ポリマーが溶解するものであれば特に制限されない。乾燥の容易性、作業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、具体的には、沸点40℃〜150℃程度のものを選択すればよい。
具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、3−メトキシプロパノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテートなどが挙げられる。
これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
Moreover, the solvent used when apply | coating a polymerization start layer will not be restrict | limited especially if the above-mentioned specific polymerization start polymer melt | dissolves. From the viewpoint of easy drying and workability, a solvent having a boiling point that is not too high is preferable. Specifically, a solvent having a boiling point of about 40 ° C to 150 ° C may be selected.
Specifically, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, methanol, Ethanol, 1-methoxy-2-propanol, 3-methoxypropanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, - such as methoxypropyl acetate.
These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by weight.

特定重合開始ポリマーを用いてなる重合開始層の塗布量は、表面グラフト重合の開始能や、膜性の観点から、乾燥後の重量で、0.1〜20g/mが好ましく、更に、1〜1
5g/mが好ましい。
The coating amount of the polymerization initiating layer using the specific polymerization initiating polymer is preferably 0.1 to 20 g / m 2 in terms of weight after drying, from the viewpoint of the ability to initiate surface graft polymerization and film properties, and more preferably 1 ~ 1
5 g / m 2 is preferred.

〔ポリマー層形成工程〕
本発明においては、重合開始能を有する基板表面、即ち、開始能を有する基板の場合には基板自体の表面、基板用支持体表面に重合開始層が形成される場合には、その重合開始層の表面、に少なくとも片末端が直接化学結合してなるポリマーからなるポリマー層を形成する。ここで、基板上に、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物を直接化学結合させることで、アミド基を有し、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層が形成される。このようなポリマー層の形成に用いられる分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物としては、モノマー、オリゴマーであってもよく、また、分子内にアミド基と重合性基を有するポリマー(重合性ポリマー)であってもよい。
本発明において、基板上に、分子内にアミド基と重合性基とを含む特定の化合物を化学的に結合させ、少なくとも片末端が基板上に結合してなるポリマーを形成するためには、一般的な表面グラフト重合と呼ばれる手段を用いる。重合性基としては、ラジカル重合性の二重結合であることが反応性の観点から好ましい。このように基板表面に片末端が固定化されて形成されるポリマーを、以下、適宜、表面グラフトポリマーと称する。
[Polymer layer forming step]
In the present invention, in the case of a substrate surface having polymerization initiating ability, that is, in the case of a substrate having initiating ability, when the polymerization initiating layer is formed on the surface of the substrate itself or the substrate support surface, the polymerization initiating layer A polymer layer made of a polymer having at least one end directly chemically bonded to the surface of the substrate is formed. Here, a polymer comprising a polymer having an amide group and a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C. by directly chemically bonding a compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule on the substrate. A layer is formed. The compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule used for forming such a polymer layer may be a monomer or an oligomer, and a polymer having an amide group and a polymerizable group in the molecule ( Polymerizable polymer).
In the present invention, on a substrate, a specific compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is chemically bonded to form a polymer having at least one terminal bonded on the substrate. A means called surface graft polymerization is used. The polymerizable group is preferably a radical polymerizable double bond from the viewpoint of reactivity. The polymer formed by fixing one end on the substrate surface in this manner is hereinafter appropriately referred to as a surface graft polymer.

[表面グラフトポリマーの生成]
一般に、グラフト重合とは、高分子化合物鎖上に活性種を与え、これによって重合を開始する化合物を更に重合させ、グラフト(接ぎ木)重合体を合成する方法である。なかでも、特に、活性種を与える高分子化合物が固体表面を形成する時には、表面グラフト重合と呼ばれる。
[Formation of surface graft polymer]
In general, graft polymerization is a method of synthesizing a graft (grafting) polymer by providing an active species on a polymer compound chain and further polymerizing a compound that initiates polymerization. Especially, when the polymer compound which gives active species forms a solid surface, it is called surface graft polymerization.

本発明に適用される表面グラフト重合法としては、文献記載の公知の方法をいずれも使用することができる。例えば、新高分子実験学10、高分子学会編、1994年、共立出版(株)発行、p135には表面グラフト重合法として光グラフト重合法、プラズマ照射グラフト重合法が記載されている。また、吸着技術便覧、NTS(株)、竹内監修、1999.2発行、p203、p695には、γ線、電子線などの放射線照射グラフト重合法が記載されている。
光グラフト重合法の具体的方法としては、特開昭63−92658号公報、特開平10−296895号公報及び特開平11−119413号公報に記載の方法を使用することができる。より多くの表面グラフトポリマーを生成する観点からは、光グラフト重合法が好ましく、簡便な装置で形成可能である点でUV光を用いるのが好ましい。
Any known method described in the literature can be used as the surface graft polymerization method applied to the present invention. For example, New Polymer Experimental Science 10, edited by Polymer Society, 1994, published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., p135 describes a photograft polymerization method and a plasma irradiation graft polymerization method as surface graft polymerization methods. In addition, the adsorption technique manual, NTS Co., Ltd., supervised by Takeuchi, 1999.2, p203, p695 describes radiation-induced graft polymerization methods such as γ rays and electron beams.
As a specific method of the photograft polymerization method, the methods described in JP-A-63-92658, JP-A-10-296895, and JP-A-11-119413 can be used. From the viewpoint of producing more surface graft polymer, photograft polymerization is preferred, and UV light is preferably used because it can be formed with a simple apparatus.

本発明においては、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物を基板表面に直接化学的に結合させる手段として、具体的には、基板上に、分子内にアミド基と重合性基を有する化合物を接触させた後、基板表面にエネルギー付与を行い、活性種(例えばラジカル)を発生させ、基板表面の活性種との重合性基とを反応させる方法が用いられる。
このように、基板表面の活性種と重合性基との間で表面グラフト重合反応が引き起こされることにより、本発明では、分子内にアミド基と重合性基を有する化合物を用いて生成した表面グラフトポリマーによるポリマー層が形成される。
In the present invention, as a means for directly chemically bonding a compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule to the substrate surface, specifically, an amide group and a polymerizable group are formed in the molecule on the substrate. A method is used in which energy is imparted to the substrate surface after contacting the compound having the active compound to generate active species (for example, radicals) and react with a polymerizable group with the active species on the substrate surface.
As described above, the surface graft polymerization reaction is caused between the active species on the substrate surface and the polymerizable group, so that in the present invention, the surface graft formed by using a compound having an amide group and a polymerizable group in the molecule. A polymer layer is formed from the polymer.

次に、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物について説明する。この化合物は、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーを生成しうる化合物であり、分子内にアミド基と重合性基とを含むことを特徴とする。
このような化合物における重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラン基、オキセタン基などの酸(カチオン)で重合する重合性基、(メタ)アクリル基などのラジカルで重合する二重結合が挙げられるが、反応性の観点からラジカル重合性の二重結合が好ましい。
Next, a compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule will be described. This compound is a compound that can form a polymer having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., and is characterized by containing an amide group and a polymerizable group in the molecule.
Examples of the polymerizable group in such a compound include a polymerizable group that polymerizes with an acid (cation) such as a vinyl ether group, an oxirane group, and an oxetane group, and a double bond that polymerizes with a radical such as a (meth) acryl group. From the viewpoint of reactivity, a radical polymerizable double bond is preferred.

分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物としては、特定のアミド基を有しており、その特定のアミド基を含む化合物を使用して生成されたポリマーは、20〜50℃の温度範囲に相転移温度を有し、該相転移温度において、親水性/疎水性が変化する物性を持つ。特定のアミド基を含む化合物としてはCON構造を有するアミド基を含む化合物を好ましく挙げることができる。
分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有する化合物としては、N−(もしくはN,N−ジ)アルキル置換(メタ)アクリルアミド誘導体を挙げることができる。具体例としては、以下の化合物を挙げることができる。ここで、化合物に付記された(括弧)内に示す温度は、このような生成されたポリマーに温度応答性を付与しうるようなアミド基を部分構造として含み、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーを生成しうる化合物由来のポリマーの相転移温度であり、生成されたポリマーは、この温度を境界として、親水性(水溶性)/疎水性の物性変化を生起するものである。
The compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule has a specific amide group, and the polymer produced using the compound containing the specific amide group has a temperature of 20 to 50 ° C. It has a phase transition temperature in the range, and has physical properties that change hydrophilicity / hydrophobicity at the phase transition temperature. Preferred examples of the compound containing a specific amide group include compounds containing an amide group having a CON structure.
Examples of the compound having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule include N- (or N, N-di) alkyl-substituted (meth) acrylamide derivatives. Specific examples include the following compounds. Here, the temperature indicated in parentheses attached to the compound includes an amide group as a partial structure capable of imparting temperature responsiveness to such a produced polymer, and has a phase in the range of 20 to 50 ° C. This is a phase transition temperature of a polymer derived from a compound capable of forming a polymer having a transition temperature, and the generated polymer causes a change in physical properties of hydrophilic (water-soluble) / hydrophobic with this temperature as a boundary. .

以下、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーを生成しうる分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有する化合物の具体例と、その化合物から生成されるポリマーの相転移温度を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
N−n−プロピルアクリルアミド(21℃)、N−イソプロピルアクリルアミド(32℃)、N−n−プロピルメタクリルアミド(27℃)、N−イソプロピルメタクリルアミド(43℃)、N−シクロプロピルアクリルアミド(45℃)、N−エトキシエチルアクリルアミド(約35℃)、N−エトキシエチルメタクリルアミド(約45℃)、N,N−ジエチルアクリルアミド(32℃)など。
これらの中で、室温付近に相転移温度を示し、加熱或いは冷却などの温度制御により基板表面物性を制御できるポリマーを生成しうるN−n−プロピルアクリルアミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−エトキシエチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミドが機能材料として利用しやすい。特に、親疎水性のバランスが良好であるという観点から、相転移温度が32℃であるN−イソプロピルアクリルアミドが最も好ましい。
Specific examples of a compound having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule capable of producing a polymer having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., and a phase transition of the polymer produced from the compound Although temperature is mentioned, this invention is not restrict | limited to these.
N-n-propylacrylamide (21 ° C), N-isopropylacrylamide (32 ° C), Nn-propylmethacrylamide (27 ° C), N-isopropylmethacrylamide (43 ° C), N-cyclopropylacrylamide (45 ° C) ), N-ethoxyethylacrylamide (about 35 ° C.), N-ethoxyethyl methacrylamide (about 45 ° C.), N, N-diethylacrylamide (32 ° C.) and the like.
Among these, Nn-propylacrylamide, Nn-propylmethacrylamide, N-, which exhibits a phase transition temperature near room temperature and can produce a polymer capable of controlling the substrate surface properties by temperature control such as heating or cooling. Isopropylacrylamide, N-ethoxyethylacrylamide, and N, N-diethylacrylamide are easy to use as functional materials. In particular, N-isopropylacrylamide having a phase transition temperature of 32 ° C. is most preferable from the viewpoint of good balance between hydrophilicity and hydrophobicity.

前記表面グラフト重合法により表面グラフトポリマーを形成する素材となりうる分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有する化合物は、モノマー、オリゴマーであっても、以下に示すようなポリマーであってもよい。予め分子量が確定した高分子化合物を基板表面に化学的に結合させてポリマー層を形成することで、分子内の特定アミド基の導入数やポリマー鎖長が制御されたポリマー層を形成することができる。
[分子内に特定アミド基とラジカル重合性の二重結合を有するポリマー]
本発明において、分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有するポリマーとしては、少なくとも、前記ポリマーに温度応答性を付与しうる特定のアミド基を有するモノマーを、1種以上用いて得られるポリマーに、重合性基を導入したものが用いられる。
導入する重合性基としては、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリル基などのエチレン付加重合性不飽和基が挙げられる。
The compound having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule that can be a material for forming the surface graft polymer by the surface graft polymerization method is a polymer as shown below, even if it is a monomer or oligomer. Also good. It is possible to form a polymer layer in which the number of specific amide groups introduced in the molecule and the polymer chain length are controlled by chemically bonding a polymer compound with a predetermined molecular weight to the substrate surface to form a polymer layer. it can.
[Polymer having specific amide group and radical polymerizable double bond in molecule]
In the present invention, the polymer having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule is obtained by using at least one monomer having a specific amide group that can impart temperature responsiveness to the polymer. A polymer in which a polymerizable group is introduced is used.
Examples of the polymerizable group to be introduced include ethylene addition polymerizable unsaturated groups such as a vinyl group, an allyl group, and a (meth) acryl group.

以下に分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有するポリマーについて説明する。
即ち、本発明に使用される、分子内にアミド基とラジカル重合性の二重結合を有するポリマーは、下記一般式(1)で表されるユニット、及び、下記一般式(2)で表されるユニットを含むことを特徴とする。
Hereinafter, a polymer having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule will be described.
That is, the polymer having an amide group and a radical polymerizable double bond in the molecule used in the present invention is represented by the unit represented by the following general formula (1) and the following general formula (2). It is characterized by including a unit.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

一般式(1)、一般式(2)中、R〜Rは、各々独立に、水素原子、又はアルキル基を表し、Yは、単結合、−NR−、酸素原子、二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、ここで、Rは水素原子又はアルキル基を表す。Zは、単結合、二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、Lは、二価の有機基を表す。但し、RとRは同時に水素原子を表すことはない。
ここで、アルキル基及び二価の有機基は、さらに置換基を有するものであってもよく、アルキル基に導入可能な置換基としては、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、エーテル基、エステル基、アシル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基などが挙げられ、二価の有機基に導入可能な置換基としても、同様の置換基を挙げることができる。
In general formula (1) and general formula (2), R 1 to R 7 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and Y represents a single bond, —NR—, an oxygen atom, or a divalent organic compound. Represents a group, an ester group, an amide group or an ether group, wherein R represents a hydrogen atom or an alkyl group. Z represents a single bond, a divalent organic group, an ester group, an amide group, or an ether group, and L 1 represents a divalent organic group. However, R 6 and R 7 do not represent a hydrogen atom at the same time.
Here, the alkyl group and the divalent organic group may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group include a phenyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, and a hydroxyl group. , Carboxyl group, amino group, ether group, ester group, acyl group, amide group, urethane group, urea group, etc., and the same substituent may be mentioned as a substituent that can be introduced into a divalent organic group. Can do.

前記一般式(1)及び一般式(2)において、R〜Rが、置換若しくは無置換のアルキル基である場合、無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基が挙げられ、また、置換アルキル基としては、メトキシ基、塩素、臭素、フッ等で置換された、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。
なお、Rとしては、水素原子、メチル基が好ましい。
としては、水素原子、メチル基が好ましい。
としては、水素原子が好ましい。
としては、水素原子が好ましい。
としては、水素原子、メチル基が好ましい。
一般式(2)における(R、R)の組み合わせとしては、(水素原子、イソプロピル基)が好ましい。
In the general formula (1) and the general formula (2), when R 1 to R 7 are substituted or unsubstituted alkyl groups, the unsubstituted alkyl group may be a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group. , Isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, and the substituted alkyl group is a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group substituted with methoxy group, chlorine, bromine, fluorine, etc. Is mentioned.
R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 2 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 3 is preferably a hydrogen atom.
R 4 is preferably a hydrogen atom.
R 5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
As a combination of (R 6 , R 7 ) in the general formula (2), (hydrogen atom, isopropyl group) is preferable.

Y及びZが、置換若しくは無置換の二価の有機基の場合、該二価の有機基の有機基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、又はこれらの基が、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素、臭素、フッ等で置換されたものが好ましい。
芳香族炭化水素基としては、無置換のフェニル基、若しくは、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素、臭素、フッ等で置換されたフェニル基が好ましい。
中でも、−(CH−(nは1〜3の整数)が好ましく、更に好ましくは−CH−である。
When Y and Z are substituted or unsubstituted divalent organic groups, examples of the organic group of the divalent organic group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group.
As the aliphatic hydrocarbon group, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or a group in which these groups are substituted with a methoxy group, a hydroxy group, chlorine, bromine, fluorine, or the like is preferable.
As the aromatic hydrocarbon group, an unsubstituted phenyl group or a phenyl group substituted with a methoxy group, a hydroxy group, chlorine, bromine, fluorine, or the like is preferable.
Among them, - (CH 2) n - (n is an integer of 1 to 3) are preferred, more preferably -CH 2 -.

は、ウレタン結合又はウレア結合を有する二価の有機基が好ましく、中でも、総炭素数1〜9であるものが好ましい。
の構造として、より具体的には、下記式(1−1)で表される構造であることが好ましい。
L 1 is preferably a divalent organic group having a urethane bond or a urea bond, and among them, those having a total carbon number of 1 to 9 are preferable.
More specifically, the structure of L 1 is preferably a structure represented by the following formula (1-1).

Figure 2009079154
Figure 2009079154

上記式(1−1)中、R及びRは、各々独立して、置換若しくは無置換の、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基を表す。 In the above formula (1-1), R a and R b each independently represent a substituted or unsubstituted methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group.

本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーにおいて、前記一般式(1)で表されるユニットが、下記一般式(3)で表されるユニットであることが好ましい。   In the amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention, the unit represented by the general formula (1) is preferably a unit represented by the following general formula (3).

Figure 2009079154
Figure 2009079154

前記一般式(3)中、R、R、Z、及び、Lは、それぞれ一般式(1)におけるのと同義であり、好ましい例も同様である。Wは、−NR−、又は酸素原子を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表す。 In the general formula (3), R 1 , R 2 , Z, and L 1 have the same meanings as in the general formula (1), and preferred examples are also the same. W represents -NR- or an oxygen atom, and R represents a hydrogen atom or an alkyl group.

本発明に用いうる分子内にアミド基と重合性基とを含むみ、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーを生成しうるポリマー(以下、適宜、アミド基含有重合性ポリマーと称する)としては、前記一般式(3)で表されるユニットが、下記一般式(4)で表されるユニットであることが好ましい。   A polymer that contains an amide group and a polymerizable group in a molecule that can be used in the present invention, and that can form a polymer having a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C. (hereinafter, appropriately referred to as an amide group-containing polymerizable polymer). ), The unit represented by the general formula (3) is preferably a unit represented by the following general formula (4).

Figure 2009079154
Figure 2009079154

一般式(4)中、R、R、及び、Lは、それぞれ一般式(1)におけるのと同義である。V及びWは、各々独立して、−NR−、又は酸素原子を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表す。 In General Formula (4), R 1 , R 2 , and L 1 have the same meanings as in General Formula (1). V and W each independently represent —NR— or an oxygen atom, and R represents a hydrogen atom or an alkyl group.

ここで、前記一般式(4)におけるWが酸素原子であることが好ましい態様である。
また、前記一般式(4)におけるLがウレタン結合又はウレア結合を有する二価の有機基であることが好ましい。
更に、前記一般式(4)におけるLが総炭素数1〜9である二価の有機基であることがより好ましい。
Here, it is a preferred embodiment that W in the general formula (4) is an oxygen atom.
Further, it is preferable that the L 1 in the general formula (4) is a divalent organic group having a urethane bond or a urea bond.
Furthermore, it is more preferable that L 1 in the general formula (4) is a divalent organic group having 1 to 9 carbon atoms in total.

前記式(3)及び式(4)において、Wは、酸素原子であることが好ましい。
また、前記式(3)及び式(4)において、Lは、ウレタン結合又はウレア結合を有する二価の有機基が好ましく、中でも、総炭素数1〜9であるものが特に好ましい。
In Formula (3) and Formula (4), W is preferably an oxygen atom.
In Formulas (3) and (4), L 1 is preferably a divalent organic group having a urethane bond or a urea bond, and among them, those having 1 to 9 carbon atoms are particularly preferable.

本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーは、前記式(1)〜式(4)で表されるユニットを含んで構成されるものであり、重合性基とアミド基とを側鎖に有するポリマーである。
このアミド基含有重合性ポリマーは、例えば、以下のように合成することができる。
The amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention includes a unit represented by the above formulas (1) to (4), and has a polymer group and an amide group in the side chain. It is.
This amide group-containing polymerizable polymer can be synthesized, for example, as follows.

重合反応の種類としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合が知られているが、反応制御の観点から、ラジカル重合、カチオン重合を用いることが好ましい。
本発明のニトリル基含有重合性ポリマーは、1)ポリマー主鎖を形成する重合形態と側鎖に導入される重合性基の重合形態とが異なる場合と、2)ポリマー主鎖を形成する重合形態と側鎖に導入される重合性基の重合形態とが同一の場合とで、その合成方法が異なる。
As the type of polymerization reaction, radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization are known, but radical polymerization and cationic polymerization are preferably used from the viewpoint of reaction control.
The nitrile group-containing polymerizable polymer of the present invention includes: 1) the case where the polymerization form forming the polymer main chain is different from the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain, and 2) the polymerization form forming the polymer main chain. And the synthesis method of the polymerizable group introduced into the side chain is different in the synthesis method.

1)ポリマー主鎖を形成する重合形態と側鎖に導入される重合性基の重合形態が異なる場合
ポリマー主鎖を形成する重合形態と側鎖に導入される重合性基の重合形態が異なる場合は、ポリマー主鎖形成がラジカル重合で行われ、側鎖に導入される重合性基の重合形態がカチオン重合である態様がある。
1) When the polymerization form forming the polymer main chain is different from the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain When the polymerization form forming the polymer main chain is different from the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain The polymer main chain formation is performed by radical polymerization, and there is an embodiment in which the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain is cationic polymerization.

ポリマー主鎖形成がラジカル重合で行われ、側鎖に導入される重合性基の重合形態がカチオン重合である態様において用いられるモノマーとしては、以下の化合物が挙げられる。   Examples of the monomer used in the embodiment in which the polymer main chain is formed by radical polymerization and the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain is cationic polymerization include the following compounds.

・重合性基含有ユニットを形成するために用いられるモノマー
本態様に用いられる重合性基含有ユニットを形成するために用いられるモノマーとしては、ビニル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、4−(メタ)アクリロイルブタンビニルエーテル、2−(メタ)アクリロイルエタンビニルエーテル、3−(メタ)アクリロイルプロパンビニルエーテル、(メタ)アクリロイロキシジエチレングリコールビニルエーテル、(メタ)アクリロイロキシトリエチレングリコールビニルエーテル、(メタ)アクリロイル1stテルピオネール、1−(メタ)アクリロイロキシ−2−メチル−2−プロペン、1−(メタ)アクリロイロキシ−3−メチル−3−ブテン、3−メチレン−2−(メタ)アクリロイロキシ−ノルボルナン、4,4’−エチリデンジフェノールジ(メタ)アクリレート、メタクロレインジ(メタ)アクリロイルアセタール、p−((メタ)アクリロイルメチル)スチレン、アリル(メタ)アクリレート、2−(ブロモメチル)アクリル酸ビニル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アリルなどが挙げられる。
-Monomers used to form polymerizable group-containing units As monomers used to form polymerizable group-containing units used in this embodiment, vinyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 4- ( (Meth) acryloylbutane vinyl ether, 2- (meth) acryloylethane vinyl ether, 3- (meth) acryloylpropane vinyl ether, (meth) acryloyloxydiethylene glycol vinyl ether, (meth) acryloyloxytriethylene glycol vinyl ether, (meth) acryloyl 1st ter Pioneer, 1- (meth) acryloyloxy-2-methyl-2-propene, 1- (meth) acryloyloxy-3-methyl-3-butene, 3-methylene-2- (meth) acryloyloxy-norbornane, 4,4′-ethylidene diphenol di (meth) acrylate, methacrolein di (meth) acryloyl acetal, p-((meth) acryloylmethyl) styrene, allyl (meth) acrylate, 2- (bromomethyl) vinyl acrylate, 2- (Hydroxymethyl) allyl acrylate and the like.

・アミド基含有ユニット形成するために用いられるモノマー
本態様に用いられるアミド基含有ユニット形成するために用いられるモノマーとしては、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド及びこれらのメタクリル誘導体などが挙げられる。
また、上記モノマーの水素の一部を、アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基などで置換した構造を持つモノマーも使用可能である。
Monomers used to form amide group-containing units Monomers used to form amide group-containing units used in this embodiment include N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, Nn-propylacrylamide, N- Examples thereof include isopropylacrylamide, Nn-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, and methacryl derivatives thereof.
A monomer having a structure in which a part of hydrogen of the monomer is substituted with an alkoxy group, a halogen, a cyano group, or the like can also be used.

重合方法は、実験化学講座「高分子化学」2章−2(p34)に記載の方法や、「高分子合成の実験方法」大津隆行著 5章(p125)に記載の一般的なラジカル重合法が使用できる。なお、ラジカル重合の開始剤には、100℃以上の加熱が必要な高温開始剤、40〜100℃の加熱で開始する通常開始剤、極低温で開始するレドックス開始剤などが知られているが、開始剤の安定性、重合反応のハンドリングのし易さから、通常開始剤が好ましい。
通常開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ペルオキソ2硫酸塩、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビル−2,4−ジメチルバレロニトリルが挙げられる。
Polymerization methods include general radical polymerization methods described in Experimental Chemistry Course “Polymer Chemistry” Chapter 2-2 (p34) and “Experimental Methods for Polymer Synthesis” written by Takayuki Otsu Chapter 5 (p125). Can be used. As the initiator for radical polymerization, a high-temperature initiator that requires heating at 100 ° C. or higher, a normal initiator that starts by heating at 40 to 100 ° C., a redox initiator that starts at a very low temperature, and the like are known. In general, an initiator is preferred from the viewpoint of stability of the initiator and ease of handling of the polymerization reaction.
Usual initiators include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, peroxodisulfate, azobisisobutyronitrile, azovir-2,4-dimethylvaleronitrile.

2)ポリマー主鎖を形成する重合形態と側鎖に導入される重合性基の重合形態とが同一の場合
ポリマー主鎖を形成する重合形態と側鎖に導入される重合性基の重合形態とが同一の場合は、両者がラジカル重合である態様がある。
2) When the polymerization form forming the polymer main chain is the same as the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain Polymerization form forming the polymer main chain and the polymerization form of the polymerizable group introduced into the side chain Are the same, there is an embodiment in which both are radical polymerization.

両者がラジカル重合である態様では、合成方法としては、i)アミド基を有するモノマーと重合性基を有するモノマーとを共重合する方法、ii)アミド基を有するモノマーと二重結合前駆体を有するモノマーとを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、iii)アミド基を有するポリマーと重合性基を有するモノマーとを反応させ、二重結合を導入(重合性基を導入する)方法が挙げられる。好ましいのは、合成適性の観点から、ii)アミド基を有するモノマーと二重結合前駆体を有するモノマーとを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、iii)アミド基を有するポリマーと重合性基を有するモノマーとを反応させ、重合性基を導入する方法である。   In an embodiment in which both are radical polymerization, the synthesis methods include i) a method of copolymerizing a monomer having an amide group and a monomer having a polymerizable group, and ii) a monomer having an amide group and a double bond precursor. A method in which a monomer is copolymerized and then a double bond is introduced by treatment with a base or the like; iii) a polymer having an amide group is reacted with a monomer having a polymerizable group to introduce a double bond (polymerizable group) Method). From the viewpoint of synthesis suitability, ii) a method in which a monomer having an amide group and a monomer having a double bond precursor are copolymerized and then a double bond is introduced by treatment with a base or the like, iii) an amide In this method, a polymer having a group and a monomer having a polymerizable group are reacted to introduce a polymerizable group.

前記i)の合成方法で用いられる重合性基を有するモノマーとしては、アリルアルコールや以下に示す化合物などが挙げられる。   Examples of the monomer having a polymerizable group used in the synthesis method i) include allyl alcohol and the following compounds.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

前記ii)の合成方法で用いられる二重結合前駆体を有するモノマーとしては、下記式(a)で表される化合物などが挙げられる。   Examples of the monomer having a double bond precursor used in the synthesis method ii) include compounds represented by the following formula (a).

Figure 2009079154
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上記式(a)中、Aは重合性基を有する有機原子団、R〜Rは、各々独立して、水素原子又は1価の有機基、B及びCは脱離反応により除去される脱離基であり、ここでいう脱離反応とは、塩基の作用によりCが引き抜かれ、Bが脱離するものである。Bはアニオンとして、Cはカチオンとして脱離するものが好ましい。
式(a)で表される化合物としては、具体的には以下の化合物を挙げることができる。
In the above formula (a), A is an organic atomic group having a polymerizable group, R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, and B and C are removed by elimination reaction. It is a leaving group, and the elimination reaction here means that C is extracted by the action of a base and B is eliminated. B is preferably eliminated as an anion and C as a cation.
Specific examples of the compound represented by the formula (a) include the following compounds.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

Figure 2009079154
Figure 2009079154

また、前記ii)の合成方法において、二重結合前駆体を二重結合に変換するには、下記に示すように、B、Cで表される脱離基を脱離反応により除去する方法、つまり、塩基の作用によりCを引き抜き、Bが脱離する反応を使用する。   Further, in the synthesis method of ii), in order to convert the double bond precursor to a double bond, as shown below, a method of removing leaving groups represented by B and C by an elimination reaction, That is, a reaction in which C is extracted by the action of a base and B is eliminated is used.

Figure 2009079154
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上記の脱離反応において用いられる塩基としては、アルカリ金属類の水素化物、水酸化物又は炭酸塩、有機アミ化合物、金属アルコキシド化合物が好ましい例として挙げられる。アルカリ金属類の水素化物、水酸化物、又は炭酸塩の好ましい例としては、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。有機アミン化合物の好ましい例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N−ジエチルシクロヘキシルアミン、N−メチルジシクロヘキシルアミン、N−エチルジシクロヘキシルアミン、ピロリジン、1−メチルピロリジン、2,5−ジメチルピロリジン、ピペリジン、1−メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ピペラジン、1,4−ジメチルピペラジン、キヌクリジン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]−オクタン、ヘキサメチレンテトラミン、モルホリン、4−メチルモルホリン、ピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、ルチジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン(DBU)、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、ジイソプロピルエチルアミン、Schiff塩基などが挙げられる。金属アルコキシド化合物の好ましい例としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどが挙げられる。これらの塩基は、1種或いは2種以上の混合であってもよい。   Preferred examples of the base used in the elimination reaction include alkali metal hydrides, hydroxides or carbonates, organic amino compounds, and metal alkoxide compounds. Preferred examples of alkali metal hydrides, hydroxides or carbonates include sodium hydride, calcium hydride, potassium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, Examples include potassium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate. Preferable examples of the organic amine compound include trimethylamine, triethylamine, diethylmethylamine, tributylamine, triisobutylamine, trihexylamine, trioctylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, N, N-diethylcyclohexylamine, N- Methyldicyclohexylamine, N-ethyldicyclohexylamine, pyrrolidine, 1-methylpyrrolidine, 2,5-dimethylpyrrolidine, piperidine, 1-methylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, piperazine, 1,4-dimethyl Piperazine, quinuclidine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] -octane, hexamethylenetetramine, morpholine, 4-methylmorpholine, pyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, Cytidine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (DBU), N, N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), diisopropylethylamine, Schiff base, and the like. Preferable examples of the metal alkoxide compound include sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide and the like. These bases may be used alone or in combination of two or more.

また、前記脱離反応において、塩基を付与(添加)する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、水などが挙げられる。これらの溶媒は単独或いは2種以上混合してもよい。   Examples of the solvent used for adding (adding) the base in the elimination reaction include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono Ethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate , Ethyl lactate, water and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

使用される塩基の量は、化合物中の特定官能基(B、Cで表される脱離基)の量に対して、当量以下であってもよく、また、当量以上であってもよい。また、過剰の塩基を使用した場合、脱離反応後、余剰の塩基を除去する目的で酸などを添加することも好ましい形態である。   The amount of the base used may be equal to or less than the equivalent to the amount of the specific functional group (the leaving group represented by B or C) in the compound, or may be equal to or more than the equivalent. Moreover, when an excess base is used, it is also a preferred form to add an acid or the like for the purpose of removing the excess base after the elimination reaction.

前記iii)の合成方法において、アミド基を有するポリマーと反応させる重合性基を有するモノマーとしては、アミド基を有するポリマー中の反応性基の種類によって異なるが、以下の組合せの官能基を有するモノマーを使用することができる。
即ち、(ポリマーの反応性基、モノマーの官能基)=(カルボキシル基、カルボキシル基)、(カルボキシル基、エポキシ基)、(カルボキシル基、イソシアネート基)、(水酸基、カルボキシル基)、(水酸基、エポキシ基)、(水酸基、イソシアネート基)等を挙げることができる。
具体的には以下のモノマーを使用することができる。
In the synthesis method of iii), the monomer having a polymerizable group to be reacted with a polymer having an amide group varies depending on the type of the reactive group in the polymer having an amide group, but has the following combinations of functional groups: Can be used.
That is, (polymer reactive group, monomer functional group) = (carboxyl group, carboxyl group), (carboxyl group, epoxy group), (carboxyl group, isocyanate group), (hydroxyl group, carboxyl group), (hydroxyl group, epoxy) Group), (hydroxyl group, isocyanate group) and the like.
Specifically, the following monomers can be used.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

以上のようにして合成された本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーは、共重合成分全体に対し、重合性基含有ユニット、アミド基含有ユニットの割合が以下の範囲であることが好ましい。
即ち、重合性基含有ユニットが、共重合成分全体に対し5〜50mol%で含まれることが好ましく、更に好ましくは5〜40mol%である。5mol%以下では反応性(硬化性、重合性)が落ち、50mol%以上では合成の際にゲル化しやすく合成しにくい。
また、アミド基含有ユニットは、共重合成分全体に対し10〜95mol%で含まれることが好ましく、更に好ましくは20〜95mol%である。10mol%以下では、得られたポリマーが十分な温度応答性を示さない。
The ratio of the polymerizable group-containing unit and the amide group-containing unit of the amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention synthesized as described above is preferably in the following range with respect to the entire copolymerization component.
That is, it is preferable that a polymeric group containing unit is contained with 5-50 mol% with respect to the whole copolymerization component, More preferably, it is 5-40 mol%. If it is 5 mol% or less, the reactivity (curability and polymerizability) is lowered, and if it is 50 mol% or more, it is easily gelled during synthesis and is difficult to synthesize.
Moreover, it is preferable that an amide group containing unit is contained by 10-95 mol% with respect to the whole copolymerization component, More preferably, it is 20-95 mol%. When the amount is 10 mol% or less, the obtained polymer does not exhibit sufficient temperature response.

なお、本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーは、アミド基含有ユニット、重合性基含有ユニット以外に、他のユニットを含んでいてもよい。この他のユニットを形成するために用いられるモノマーとしては、本発明の効果を損なわないものであれば、いかなるモノマーも使用することができる。
具体的には、ラジカル重合でポリマー主鎖を形成する場合は、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどの無置換(メタ)アクリル酸エステル類、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、3,3,3−トリフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)アクリレートなどのハロゲン置換(メタ)アクリル酸エステル類、2−(メタ)アクリルロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアンモニウム基置換(メタ)アクリル酸エステル類、ブチル(メタ)アクリルアミド、イソプロピル(メタ)アクリルアミド、オクチル(メタ)アクリルアミド、ジメチル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類、スチレン、ビニル安息香酸、p−ビニルベンジルアンモニウムクロライドなどのスチレン類、N−ビニルカルバゾール、酢酸ビニル、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルカプロラクタムなどのビニル化合物類や、その他にジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−エチルチオ−エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどが使用できる。
また、上記記載のモノマーを用いて得られたマクロモノマーも使用できる。
In addition, the amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention may contain other units in addition to the amide group-containing unit and the polymerizable group-containing unit. As the monomer used to form the other unit, any monomer can be used as long as it does not impair the effects of the present invention.
Specifically, when the polymer main chain is formed by radical polymerization, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl Unsubstituted (meth) acrylates such as (meth) acrylate and stearyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 3,3,3-trifluoropropyl (meth) acrylate, Halogen-substituted (meth) acrylic esters such as 2-chloroethyl (meth) acrylate, ammonium group-substituted (meth) acrylic esters such as 2- (meth) acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, butyl (meth) acrylamide, Iso (Meth) acrylamides such as propyl (meth) acrylamide, octyl (meth) acrylamide, dimethyl (meth) acrylamide, styrenes such as styrene, vinylbenzoic acid, p-vinylbenzylammonium chloride, N-vinylcarbazole, vinyl acetate, Vinyl compounds such as N-vinylacetamide and N-vinylcaprolactam, and dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-ethylthio-ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2 -Hydroxyethyl (meth) acrylate etc. can be used.
Moreover, the macromonomer obtained using the monomer of the said description can also be used.

本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、3000〜20万が好ましく、更に好ましくは4000〜10万である。   The weight average molecular weight (Mw) of the amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention is preferably 3000 to 200,000, more preferably 4000 to 100,000.

本発明に用いられるアミド基含有重合性ポリマーの具体例を以下に示す。但し、本願発明で用いることができる共重合ポリマーは、これらに限定されるものではない。
なお、これらの具体例の重量平均分子量は、いずれも、10000〜60000の範囲である。
Specific examples of the amide group-containing polymerizable polymer used in the present invention are shown below. However, the copolymer which can be used in the present invention is not limited to these.
In addition, the weight average molecular weights of these specific examples are all in the range of 10,000 to 60000.

Figure 2009079154
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Figure 2009079154
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Figure 2009079154
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<使用態様>
なお、本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーは、他の成分(例えば、溶剤)と混合して組成物として使用することができる。その場合、本発明のアミド基含有重合性ポリマーの組成物中の含有量としては、2質量%〜50質量%の範囲が好ましく、5質量%〜20質量%の範囲がより好ましい。
<Usage>
The amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention can be mixed with other components (for example, a solvent) and used as a composition. In that case, as content in the composition of the amide group containing polymeric polymer of this invention, the range of 2 mass%-50 mass% is preferable, and the range of 5 mass%-20 mass% is more preferable.

本発明に係るアミド基含有重合性ポリマーを含有する組成物に使用する溶剤は、該ポリマーが溶解可能ならば特に制限はない。また、溶剤には、更に、界面活性剤を添加してもよい。
使用できる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコールモノメチルエーテルの如きアルコール系溶剤、酢酸の如き酸、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンの如きケトン系溶剤、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンの如きアミド系溶剤、アセトニトリル、プロピロニトリルの如きニトリル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチルの如きエステル系溶剤などが挙げられる。
この中でも、アミド系、ケトン系、ニトリル系溶剤が好ましく、ケトン系、ニトリル系がより好ましい。具体的には、アセトン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、プロピオニトリルが好ましい。
また、本発明のアミド基含有重合性ポリマーを含有する組成物を塗布液として用いる場合には、取り扱い安さから沸点が50〜150℃の溶剤を用いることが好ましい。
なお、これらの溶剤は単一で使用してもよいし、混合して使用してもよい。
The solvent used in the composition containing the amide group-containing polymerizable polymer according to the present invention is not particularly limited as long as the polymer can be dissolved. Further, a surfactant may be further added to the solvent.
Examples of the solvent that can be used include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol, glycerin, propylene glycol monomethyl ether, acids such as acetic acid, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, formamide, dimethylacetamide, Examples thereof include amide solvents such as N-methylpyrrolidone, nitrile solvents such as acetonitrile and propylonitrile, and ester solvents such as methyl acetate and ethyl acetate.
Of these, amide, ketone, and nitrile solvents are preferable, and ketone and nitrile solvents are more preferable. Specifically, acetone, dimethylacetamide, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, acetonitrile, and propionitrile are preferable.
Moreover, when using the composition containing the amide group containing polymeric polymer of this invention as a coating liquid, it is preferable to use the solvent whose boiling point is 50-150 degreeC from handling ease.
In addition, these solvents may be used alone or in combination.

必要に応じて組成物に添加することのできる界面活性剤は、溶剤に溶解するものであればよく、そのような界面活性剤としては、例えば、n−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの如きアニオン性界面活性剤や、n−ドデシルトリメチルアンモニウムクロライドの如きカチオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル(市販品としては、例えば、エマルゲン910、花王(株)製など)、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(市販品としては、例えば、商品名「ツイーン20」など)、ポリオキシエチレンラウリルエーテルの如き非イオン性界面活性剤等が挙げられる。   The surfactant that can be added to the composition as necessary may be any that dissolves in the solvent. Examples of such a surfactant include an anionic interface such as sodium n-dodecylbenzenesulfonate. Activators, cationic surfactants such as n-dodecyltrimethylammonium chloride, polyoxyethylene nonylphenol ether (commercially available products include, for example, Emulgen 910, manufactured by Kao Corporation), polyoxyethylene sorbitan monolaurate ( Examples of commercially available products include non-ionic surfactants such as trade name “Tween 20” and polyoxyethylene lauryl ether.

また、前記組成物には、必要に応じて可塑剤を添加することもできる。使用できる可塑剤としては、一般的な可塑剤が使用でき、フタル酸エステル類(ジメチルエステル、ジエチルエステル、ジブチルエステル、ジ−2−エチルヘキシルエステル、ジノルマルオクチルエステル、ジイソノニルエステル、ジノニルエステル、ジイソデシルエステル、ブチルベンジルエステル)、アジピン酸エステル類(ジオクチルエステル、ジイソノニルエステル)、アゼラインサンジオクチル、セバシンサンエステル類(ジブチルエステル、ジオクチルエステル)リン酸トリクレシル、アセチルクエン酸トリブチル、エポキシ化大豆油、トリメリット酸トリオクチル、塩素化パラフィンやジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンのような高沸点溶媒も使用することができる。   Moreover, a plasticizer can also be added to the said composition as needed. Usable plasticizers include general plasticizers such as phthalates (dimethyl ester, diethyl ester, dibutyl ester, di-2-ethylhexyl ester, dinormal octyl ester, diisononyl ester, dinonyl ester, diisodecyl ester). Ester, butyl benzyl ester), adipic acid ester (dioctyl ester, diisononyl ester), azelain san dioctyl, sebacin sun ester (dibutyl ester, dioctyl ester) tricresyl phosphate, acetyl citrate tributyl, epoxidized soybean oil, trimellit High boiling solvents such as trioctyl acid, chlorinated paraffin, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone can also be used.

[エネルギー付与]
これら、分子内にアミド基と重合性基とを含む特定アミド化合物を、重合開始能を有する基板、例えば、基板支持体上に設けられた重合開始層、へ化学結合させる際のエネルギー付与方法としては、重合開始パート(部位)にもよるが、例えば、加熱や露光等の輻射線照射を用いることができる。例えば、UVランプ、可視光線などによる光照射、ホットプレートなどでの加熱等が可能である。光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、等がある。また、g線、i線も使用される。エネルギー付与に要する時間としては、目的とするグラフトポリマーの生成量及び光源により異なるが、通常、10秒〜10分の間である。このエネルギー付与を基板の必要な領域全面にわたって行うと、基板表面全面にわたり、ポリマー層が形成され、パターン状のエネルギー付与により、パターン状のポリマー層が形成される。
[Energy provision]
As a method of imparting energy when these specific amide compounds containing an amide group and a polymerizable group in the molecule are chemically bonded to a substrate having a polymerization initiating ability, for example, a polymerization initiating layer provided on a substrate support. Depending on the polymerization initiation part (site), for example, radiation irradiation such as heating or exposure can be used. For example, light irradiation with a UV lamp, visible light, or the like, heating with a hot plate, or the like is possible. Examples of the light source include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Moreover, g line and i line are also used. The time required for applying energy is usually 10 seconds to 10 minutes, although it varies depending on the amount of the target graft polymer produced and the light source. When this energy application is performed over the entire required region of the substrate, a polymer layer is formed over the entire substrate surface, and a patterned polymer layer is formed by applying pattern energy.

以上説明した工程により、表面グラフト重合により、基板上にアミド基を有し、20〜50℃の範囲に相転移温度を有する表面グラフトポリマーが生成し、該ポリマーからなるポリマー層を形成することができ、本発明の温度応答性表面部材を得ることができる。
かくして得られた本発明の温度応答性表面部材は、温度の変化により、その表面の親/疎水性が変化する。
前記本発明の製造方法によれば、任意の基材表面に温度応答性の機能を付与することができ、その応用範囲は広い。
Through the above-described steps, surface graft polymerization can produce a surface graft polymer having an amide group on the substrate and a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., and forming a polymer layer composed of the polymer. The temperature responsive surface member of the present invention can be obtained.
The thus-obtained temperature-responsive surface member of the present invention changes its surface hydrophilicity / hydrophobicity with changes in temperature.
According to the production method of the present invention, a temperature responsive function can be imparted to the surface of an arbitrary base material, and its application range is wide.

以下、実施例により、本発明の温度応答性表面部材について具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, although the temperature-responsive surface member of the present invention will be specifically described with reference to examples, the present invention is not limited to these examples.

〔合成例1:本発明のアミド基含有重合性ポリマーAの合成〕
(step1)
窒素雰囲気下の300mL三口フラスコにDMAc 16gを入れ75℃で攪拌した。その中に2−ヒドロキシルエチルアクリレート(HEA)3.25g(0.028mol)、N−イソプロピルアクリルアミド(NIPAAm)13.06g(0.11mol)、ジメチル2,2’−アゾビス(イソブチレート)(V−601)0.3222g((1.4×10−3mol)をDMAc 16gに溶解させた溶液をプランジャーポンプを用いて2.5時間かけて滴下した。
滴下終了後、内温を75℃から80℃に昇温し3.0時間攪拌した。
その後、23℃まで放冷した。
[Synthesis Example 1: Synthesis of amide group-containing polymerizable polymer A of the present invention]
(Step 1)
16 g of DMAc was placed in a 300 mL three-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred at 75 ° C. Among them, 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) 3.25 g (0.028 mol), N-isopropylacrylamide (NIPAAm) 13.06 g (0.11 mol), dimethyl 2,2′-azobis (isobutyrate) (V-601) ) A solution of 0.3222 g ((1.4 × 10 −3 mol) dissolved in 16 g of DMAc was added dropwise over 2.5 hours using a plunger pump.
After completion of dropping, the internal temperature was raised from 75 ° C. to 80 ° C. and stirred for 3.0 hours.
Then, it stood to cool to 23 degreeC.

(Step2)
上記の反応液を攪拌下、2,5−ジ−tert−アミルヒドロキノン 0.14g(0.6×10−3mol)、ジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ 0.18g(0.3×10−3mol)を23℃で加えた。
その後、滴下ロートにてカレンズAOI 9.59g(0.068mol)及びDMAc 9.59gを5分かけて滴下した。
滴下終了後、内温23℃から55℃に昇温し4.0時間攪拌した。
次いで、メタノールを加え1.5時間攪拌した。
その後、23℃まで放冷した。
(Step 2)
While stirring the reaction solution, 0.14 g (0.6 × 10 −3 mol) of 2,5-di-tert-amylhydroquinone, 0.18 g (0.3 × 10 −3 mol) of di-n-butyltin dilaurate. mol) was added at 23 ° C.
Thereafter, 9.59 g (0.068 mol) of Karenz AOI and 9.59 g of DMAc were dropped over 5 minutes with a dropping funnel.
After completion of the dropping, the temperature was raised from 23 ° C. to 55 ° C. and stirred for 4.0 hours.
Next, methanol was added and stirred for 1.5 hours.
Then, it stood to cool to 23 degreeC.

(再沈工程)
蒸留水3L中に反応液を一時間かけて滴下して目的物を再沈させた。更に、蒸留水1Lによる1時間のリスラリー、デカンテーションを2回行い、ポリマーAを得た(収率52.5%)。H−NMRにより目的物の確認を行い、上記の重合比を求めた。また、GPC測定により分子量を測定した結果、54200であった。
合成スキームを以下に示す。
(Reprecipitation process)
The reaction solution was dropped into 3 L of distilled water over 1 hour to reprecipitate the target product. Further, reslurry and decantation for 1 hour with 1 L of distilled water were performed twice to obtain polymer A (yield 52.5%). The target product was confirmed by 1 H-NMR, and the polymerization ratio was determined. Moreover, it was 54200 as a result of measuring molecular weight by GPC measurement.
A synthesis scheme is shown below.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

〔温度応答性表面部材の作成〕
(実施例1)
PET基板(「東洋紡エステル」フイルム、品名:A4100、厚さ:188μm、製造番号:145102071−3)を5cm×5cmにカットして基板を用意した。
重合開始層は、以下のようにして形成した。下記構造のポリマー開始剤(B)0.4gにメチルエチルケトン1.6gを加え溶解させた。この溶液に、架橋剤としてトルエンジイソシアネート(TDI)を0.085g添加し、攪拌溶解後すぐに、上記PET基板上に18番バーで塗布後、110℃で10分乾燥して重合開始層を形成した。
[Creation of temperature-responsive surface member]
Example 1
A PET substrate (“Toyobo Ester” film, product name: A4100, thickness: 188 μm, production number: 145102071-3) was cut into 5 cm × 5 cm to prepare a substrate.
The polymerization initiation layer was formed as follows. 1.6 g of methyl ethyl ketone was added and dissolved in 0.4 g of the polymer initiator (B) having the following structure. To this solution, 0.085 g of toluene diisocyanate (TDI) as a cross-linking agent was added, and after stirring and dissolving, it was coated on the PET substrate with a No. 18 bar and dried at 110 ° C. for 10 minutes to form a polymerization initiation layer. did.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

グラフト化用塗布液として、合成例1で示したポリマーAのアセトニトリル10wt%溶液を調液した。調液後フィルターろ過(0.2μ)を行い、グラフト化用塗布液とした。
このグラフト化用塗布液を、重合開始層を形成済みのPET基板にスピンコーターで、(300rpm/5s→750rpm/20s)の条件で塗布し、80℃で5分間乾燥した。
次いで、基板を密着機に固定し、0.5分間UV露光した。光源は、1500W高圧水銀灯(UVX−02516S1LP01、ウシオ電気(株)製、254nmにおける光強度38mW/cm)を使用した。
UV露光後、アセトニトリルに5分浸漬して現像を行い、エアーガンで乾燥させ、温度応答性表面部材を得た。
As a coating solution for grafting, a 10 wt% acetonitrile solution of polymer A shown in Synthesis Example 1 was prepared. After the preparation, filter filtration (0.2 μ) was performed to obtain a coating solution for grafting.
This grafting coating solution was applied to a PET substrate on which a polymerization initiating layer had been formed with a spin coater under the conditions of (300 rpm / 5 s → 750 rpm / 20 s) and dried at 80 ° C. for 5 minutes.
Next, the substrate was fixed to an adhesion machine, and UV exposure was performed for 0.5 minutes. As the light source, a 1500 W high-pressure mercury lamp (UVX-02516S1LP01, manufactured by Ushio Electric Co., Ltd., light intensity at 254 nm: 38 mW / cm 2 ) was used.
After UV exposure, the film was immersed in acetonitrile for 5 minutes for development and dried with an air gun to obtain a temperature-responsive surface member.

(実施例2)
重合開始層を形成したPET基板は、実施例1と同じ基板を使用した。
リボフラビン0.005wt%を加えたN−イソプロピルアクリルアミドの20wt%水溶液を調液し、窒素によるバブリングを10分間行い、グラフト化用浸漬液とした。
上記の重合開始層を形成したPET基板を、グラフト化用浸漬液に浸漬させ、ラップでカバーし0.5分間UV露光した。光源は実施例1と同じものを使用した。
UV露光後、蒸留水に30分間浸漬して残存モノマー及びPETに結合していないモノマーを取り除き、エアーガンで乾燥させ、温度応答性表面部材を得た。
(Example 2)
The same substrate as in Example 1 was used as the PET substrate on which the polymerization initiation layer was formed.
A 20 wt% aqueous solution of N-isopropylacrylamide with 0.005 wt% riboflavin added was prepared, and bubbling with nitrogen was performed for 10 minutes to obtain a grafting immersion liquid.
The PET substrate on which the polymerization initiation layer was formed was immersed in a grafting immersion solution, covered with a wrap, and exposed to UV for 0.5 minutes. The same light source as in Example 1 was used.
After UV exposure, it was immersed in distilled water for 30 minutes to remove residual monomers and monomers not bound to PET, and dried with an air gun to obtain a temperature-responsive surface member.

(比較例1:電子線グラフト重合)
特開2004−261532の実施例1に記載の方法で行った。すなわち、上記実施例1及び実施例2で使用したのと同じPET基板(重合開始層は形成していない)上に、N−イソプロピルアクリルアミドの30wt%イソプロピルアルコール溶液0.08ml塗布した。その後、0.25MGyの強度の電子線を照射し、PET表面上にN−イソプロピルアクリルアミドポリマーを固定化した。照射後、蒸留水に30分間浸漬して残存モノマー及びPETに結合していないモノマーを取り除き、エアーガンで乾燥させ、温度応答性表面部材を得た。
(Comparative Example 1: Electron beam graft polymerization)
This was carried out by the method described in Example 1 of JP-A No. 2004-261532. That is, 0.08 ml of a 30 wt% isopropyl alcohol solution of N-isopropylacrylamide was applied on the same PET substrate (no polymerization initiation layer was formed) as used in Example 1 and Example 2 above. Thereafter, an electron beam having an intensity of 0.25 MGy was irradiated to immobilize the N-isopropylacrylamide polymer on the PET surface. After irradiation, it was immersed in distilled water for 30 minutes to remove residual monomer and monomer not bound to PET, and dried with an air gun to obtain a temperature-responsive surface member.

〔接触角の評価〕
実施例1、実施例2、比較例1で得られた温度応答性表面部材の水に対する接触角を、英弘精機(株)製自動接触角測定装置(OCA20)を用いて、23℃及び50℃で測定した。その結果を表1に示す。
いずれの温度応答性表面部材もほぼ同等の接触角を示した。
[Evaluation of contact angle]
The contact angle with respect to the water of the temperature-responsive surface member obtained in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 was 23 ° C. and 50 ° C. using an automatic contact angle measuring device (OCA20) manufactured by Eihiro Seiki Co., Ltd. Measured with The results are shown in Table 1.
All of the temperature-responsive surface members exhibited almost the same contact angle.

Figure 2009079154
Figure 2009079154

〔耐擦性の評価〕
実施例1、実施例2、比較例1で得られた温度応答性表面部材の表面を、(株)安田精機製作所製摩擦試験機(クロックメーター、摩擦試験機I形、No.416)を用いて、750g荷重でウエットの状態(ウエット磨耗)で100回擦った後の水に対する接触角を、上記の接触角計を用いて23℃及び50℃で測定した。その結果を表2に示す。
[Evaluation of abrasion resistance]
Using the surface of the temperature-responsive surface member obtained in Example 1, Example 2, and Comparative Example 1, a friction tester manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd. (clock meter, friction tester I type, No. 416) was used. Then, the contact angle to water after rubbing 100 times in a wet state (wet wear) under a load of 750 g was measured at 23 ° C. and 50 ° C. using the above contact angle meter. The results are shown in Table 2.

Figure 2009079154
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表2に明らかなように、本発明の温度応答性表面部材によれば、耐擦性の高く、耐久性に優れた温度応答性表面を与えることがわかる。このように、本発明の製造方法によれば、電子線照射装置を必要とせず、汎用装置であるUV露光装置を用いて優れた機能とその耐擦性に優れた温度応答性表面部材を作製できるという効果を奏することがわかる。   As is apparent from Table 2, it can be seen that the temperature-responsive surface member of the present invention provides a temperature-responsive surface having high abrasion resistance and excellent durability. Thus, according to the manufacturing method of the present invention, an electron beam irradiation apparatus is not required, and a temperature-responsive surface member having excellent functions and excellent abrasion resistance is produced using a UV exposure apparatus that is a general-purpose apparatus. It turns out that there exists an effect that it can do.

Claims (11)

重合開始能を有する基板上に、該重合開始能を有する基板と化学的に結合し、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物由来の、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層を備える温度応答性表面部材。   A phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C. derived from a compound chemically bonded to the substrate having the polymerization initiating ability and derived from a compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule A temperature-responsive surface member comprising a polymer layer comprising a polymer having the same. 前記重合開始能を有する基板が、支持体表面に架橋性重合開始剤を含んで形成される重合開始層を有する基板であり、該架橋性重合開始剤が熱架橋性光ラジカル重合開始剤であり、且つ、前記分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物における重合性基が、ラジカル重合性の二重結合であることを特徴とする請求項1に記載の温度応答性表面部材。   The substrate having the polymerization initiating ability is a substrate having a polymerization initiating layer formed by including a crosslinkable polymerization initiator on the surface of the support, and the crosslinkable polymerization initiator is a heat crosslinkable photoradical polymerization initiator. The temperature-responsive surface member according to claim 1, wherein the polymerizable group in the compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is a radical polymerizable double bond. 前記分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物が、ポリマーであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の温度応答性表面部材。   The temperature-responsive surface member according to claim 1 or 2, wherein the compound containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is a polymer. 前記分子内にアミド基と重合性基とを含むポリマーが、アクリル系ポリマーであることを特徴とする請求項3に記載の温度応答性表面部材。   The temperature-responsive surface member according to claim 3, wherein the polymer containing an amide group and a polymerizable group in the molecule is an acrylic polymer. 前記アミド基が、N−イソプロピルアクリルアミドであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の温度応答性表面部材。   The temperature responsive surface member according to any one of claims 1 to 4, wherein the amide group is N-isopropylacrylamide. 前記架橋性重合開始剤が、架橋性基と重合開始性部分構造を有するポリマーであることを特徴とする請求項2から請求項5のいずれか1項に記載の温度応答性表面部材。   The temperature-responsive surface member according to any one of claims 2 to 5, wherein the crosslinkable polymerization initiator is a polymer having a crosslinkable group and a polymerization initiating partial structure. 前記架橋性重合開始剤が、分子内にベンゾフェノン構造を有するポリマーであることを特徴とする請求項6に記載の温度応答性表面部材。   The temperature-responsive surface member according to claim 6, wherein the crosslinkable polymerization initiator is a polymer having a benzophenone structure in the molecule. 前記基板が樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の温度応答性表面部材。   The temperature-responsive surface member according to any one of claims 1 to 7, wherein the substrate is a resin film. 前記樹脂フィルムが、ポリエステル樹脂又はポリイミド樹脂かならる樹脂フィルムであることを特徴とする請求項8に記載の温度応答性表面部材。   The temperature-responsive surface member according to claim 8, wherein the resin film is a resin film made of a polyester resin or a polyimide resin. (I)重合開始能を有する基板表面に、分子内にアミド基と重合性基とを含む化合物を接触させる工程と、(II)該基板の全面あるいは特定領域にエネルギーを付与して、エネルギー付与領域に、アミド基を有し、20〜50℃の範囲に相転移温度を有するポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、を含むことを特徴とする温度応答性表面部材の製造方法。   (I) a step of bringing a compound having an amide group and a polymerizable group into contact with the surface of a substrate having a polymerization initiating ability; and (II) applying energy to the entire surface or a specific region of the substrate. Forming a polymer layer made of a polymer having an amide group in the region and a phase transition temperature in the range of 20 to 50 ° C., and a method for producing a temperature-responsive surface member. 前記重合開始能を有する基板が、支持体上に、架橋性重合開始剤を含有する重合開始層塗布液層を設け、その後、エネルギーを付与して架橋構造を形成させ、支持体表面に重合開始層を形成することにより得られる請求項10記載の温度応答性表面部材の製造方法。   The substrate having the polymerization initiating ability is provided with a coating liquid layer containing a cross-linkable polymerization initiator on the support, and thereafter, energy is applied to form a cross-linked structure, and polymerization is started on the support surface. The manufacturing method of the temperature-responsive surface member of Claim 10 obtained by forming a layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015130804A (en) * 2014-01-09 2015-07-23 大日本印刷株式会社 Temperature-responsive cell culture substrate and method of producing the same
JP2015130803A (en) * 2014-01-09 2015-07-23 大日本印刷株式会社 Method of producing temperature-responsive cell culture substrate

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