JP2009064960A - Solid electrolytic capacitor and method of manufacturing the same - Google Patents

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Junichi Sawayama
淳一 澤山
Takehisa Kitamura
武久 北村
Yasunori Hata
康規 畑
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To strengthen the framework of a sintered compact and its connection with a lead terminal, while controlling its capacity from being lowered, to decrease external stress and stabilize LC even if it is a sheet-like tantalum sintered compact, because the sheet-like tantalum sintered compact is likely to increase a distance between the sintered compact and the lead wire, enough conduction need be secured between one sintered body and another and between the sintered compact and the lead wire, and further, if a sintered compact is assembled by resin-molding, etc., a defective LC product is easily increased by stress and strengthening this aggravates the impregnating property of electrolyte and lowers its capacity. <P>SOLUTION: The solid electrolytic capacitor, whose sintered compact is 0.2 mm to 0.5 mm thick, has a tantalum sintered body with a sintered density of 7.5 g/cm<SP>3</SP>to 8.0 g/cm<SP>3</SP>, and a conductive polymer solid electrolyte layer impregnated into this sintered compact. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、タンタル固体電解コンデンサおよびその製造方法に関するものである。特に、薄板状タンタル焼結体を使用したタンタル固体電解コンデンサおよびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a tantalum solid electrolytic capacitor and a method for manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a tantalum solid electrolytic capacitor using a thin plate-like tantalum sintered body and a manufacturing method thereof.

タンタル固体電解コンデンサは、タンタルの粉体に、カンファーやアクリル系樹脂等を有機溶剤と混合したバインダーを添加して混合し、その後、有機溶剤を揮発して除去した粉体を用いる。そしてこの粉体を、予じめタンタルの弁作用金属からなる陽極用リード線の一端を埋め込んで、プレス加圧成形する。成形後、真空中、高温度で加熱して焼結し、焼結体を形成する。次に、この焼結体に酸化皮膜、二酸化マンガンまたはポリピロールやポリアニリン等の有機導電性高分子からなる固体電解質層、グラファイト層及び銀層を順次形成してコンデンサ素子を形成していた。特許文献1には、嵩密度が0.50〜1.85g/cmのタンタル粉末を、密度4.5〜7.0g/cmで、体積が5mm未満の成形体とする成形工程を含む製造方法を採用することにより、小型コンデンサ、および、大型コンデンサのどちらであっても、漏れ電流が少なく、容量低下も抑制されたタンタル固体電解コンデンサ製造できることが開示されている。
特開2002−60803号公報
The tantalum solid electrolytic capacitor uses a powder obtained by adding and mixing a binder obtained by mixing camphor, acrylic resin, or the like with an organic solvent into tantalum powder, and then volatilizing and removing the organic solvent. And this powder is press-press-molded by embedding one end of a lead wire for an anode made of tantalum valve action metal in advance. After forming, the sintered body is formed by heating and sintering in vacuum at a high temperature. Next, a capacitor element was formed by sequentially forming an oxide film, manganese dioxide or a solid electrolyte layer made of an organic conductive polymer such as polypyrrole or polyaniline, a graphite layer, and a silver layer on the sintered body. Patent Document 1, the tantalum powder of bulk density 0.50~1.85g / cm 3, a density 4.5~7.0g / cm 3, a molding step of volume a compact of less than 5 mm 3 It is disclosed that a tantalum solid electrolytic capacitor with a small leakage current and a suppressed capacity reduction can be manufactured by employing a manufacturing method including a small capacitor and a large capacitor.
JP 2002-60803 A

解決しようとする問題点は、タンタル固体電解コンデンサにおいても、ほかの電子部品と同様に薄型化の要求は大きい。タンタル固体電解コンデンサの陽極は、焼結体であって中心部分から陽極用のリード線を引き出す構造で、特に薄板状のタンタル焼結体にあっては、焼結体とリード線との距離が遠くなる割合が多くなるので、焼結体と焼結体との間と、焼結体とリード線との間の導通を十分確保する必要がある。また、特に薄板状のタンタル焼結体にあっては、焼結体を樹脂モールドなどして組み立てるとストレスにより漏れ電流不良が増加しやすい。しかしこれを強固にすると電解質の含浸性が悪化して容量が低下してしまう。
したがって、薄板状のタンタル焼結体であっても、容量が低下を抑えながら、焼結体の骨格、焼結体とリード端子の接続を強固にして、外部ストレスを緩和し、漏れ電流の安定化をはかる点が課題である。
The problem to be solved is that there is a great demand for a thin tantalum solid electrolytic capacitor as well as other electronic components. The anode of a tantalum solid electrolytic capacitor is a sintered body and has a structure in which the lead wire for the anode is drawn out from the central portion. Especially in the case of a thin plate-like tantalum sintered body, the distance between the sintered body and the lead wire is Since the proportion of the distance increases, it is necessary to ensure sufficient conduction between the sintered body and the sintered body and between the sintered body and the lead wire. In particular, in the case of a thin plate-like tantalum sintered body, when the sintered body is assembled by resin molding or the like, leakage current defects are likely to increase due to stress. However, if this is strengthened, the impregnation of the electrolyte deteriorates and the capacity decreases.
Therefore, even with a thin plate-like tantalum sintered body, while suppressing the decrease in capacity, the skeleton of the sintered body, the connection between the sintered body and the lead terminal are strengthened, the external stress is reduced, and the leakage current is stabilized. The problem is to make it easier.

本発明は、焼結密度が7.5から8.0g/cmのタンタル焼結体と、この焼結体に形成される導電性高分子の固体電解質層と、を有する固体電解コンデンサを提供することである。
また、本発明は、焼結体の厚さが0.2から0.5mmで、焼結密度が7.5から8.0g/cmのタンタル焼結体と、この焼結体に形成される導電性高分子の固体電解質層と、を有する固体電解コンデンサを提供することである。
また、焼結体の厚さが0.2から0.5mmで、焼結密度が7.5から8.0g/cmの状タンタル焼結体を、酸化剤と、濃度が2から10w%のモノマー含有溶液で含浸して、導電性高分子の固体電解質層を形成する工程を有する固体電解コンデンサの製造方法を提供することである。
The present invention provides a solid electrolytic capacitor having a tantalum sintered body having a sintered density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 and a solid electrolyte layer of a conductive polymer formed on the sintered body. It is to be.
The present invention also provides a tantalum sintered body having a sintered body thickness of 0.2 to 0.5 mm and a sintered density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 , and the sintered body. A solid electrolytic capacitor having a conductive polymer solid electrolyte layer.
Further, a tantalum sintered body having a sintered body thickness of 0.2 to 0.5 mm and a sintered density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 , an oxidizing agent, and a concentration of 2 to 10 w%. It is to provide a method for producing a solid electrolytic capacitor having a step of forming a solid electrolyte layer of a conductive polymer by impregnating with a monomer-containing solution.

本発明のタンタル固体電解コンデンサは、固体電解質層に導電性高分子を使用して導電性を上げると共に、タンタル焼結体の焼結密度を7.5から8.0g/cmに上げることにより、骨格、焼結体とリード端子の接続を強固にして、外部ストレスを緩和し、漏れ電流の安定化をはかることができる。
また、酸化剤と、濃度が2から10w%のモノマー含有溶液で含浸して導電性高分子の固体電解質層を形成する工程を有するので、焼結密度が高くとも導電性高分子が十分含浸と定着ができる。
The tantalum solid electrolytic capacitor of the present invention increases the conductivity by using a conductive polymer in the solid electrolyte layer and increases the sintered density of the tantalum sintered body from 7.5 to 8.0 g / cm 3. In addition, the connection between the skeleton and the sintered body and the lead terminal can be strengthened, the external stress can be reduced, and the leakage current can be stabilized.
In addition, since it has a step of forming a solid electrolyte layer of a conductive polymer by impregnating with an oxidant and a monomer-containing solution having a concentration of 2 to 10%, the conductive polymer is sufficiently impregnated even if the sintered density is high. Fixing is possible.

本発明に述べる焼結密度は、タンタル微粉末にバインダーを混合した粉末を、プレス加圧成形し、次いで真空中において焼結して形成した海綿状の陽極焼結体の、体積あたりの重さで、単位はg/cmで表記する。 The sintered density described in the present invention is the weight per volume of a spongy anode sintered body formed by press-pressing a powder obtained by mixing a binder with a fine tantalum powder and then sintering in vacuum. The unit is expressed in g / cm 3 .

本発明に述べる薄板状タンタル焼結体は、この焼結体の端面中心に埋め込んだタンタルの線状からなる陽極用リードからの距離が、高さと幅で異なる断面の焼結体で、高さに対して幅が3倍程度ある薄いタンタル焼結体をさす。   The thin plate-like tantalum sintered body described in the present invention is a sintered body having a cross section in which the distance from the anode lead made of tantalum embedded in the center of the end face of the sintered body differs in height and width. This refers to a thin tantalum sintered body having a width about three times that of the tantalum.

本発明に述べる導電性高分子の固体電解質層は、導電性高分子からなる層で、チオフェンモノマーを化学酸化重合させて得たポリチオフェンのほか、例えばポリピロール或いはポリアニリンなどを用いることもできる。また、形成方法についても、化学酸化重合に限らず、電解酸化重合によって形成することもできる。   The solid electrolyte layer of the conductive polymer described in the present invention is a layer made of a conductive polymer. In addition to polythiophene obtained by chemical oxidative polymerization of a thiophene monomer, for example, polypyrrole or polyaniline can also be used. The forming method is not limited to chemical oxidative polymerization, and can be formed by electrolytic oxidative polymerization.

本発明に述べるモノマーは、重合性化合物で重合して導電性高分子となるもので、化学酸化重合の場合はp−トルエンスルホン酸などの酸化剤で、電解酸化重合の場合には電気分解の際にアノードにおいて生じる酸化反応を利用して重合する。
一般に、電解酸化重合により生成される導電性高分子の層は、化学的酸化重合の場合に比べて、強度が強く、導電率が高く、且つ均一な、良質の導電性高分子層となる。しかしながら、電解酸化重合により誘電体酸化皮膜上に導電性高分子層を直接形成することは、誘電体酸化皮膜が絶縁体であるため、不可能かまたは非常に困難である。そこで、まず、誘電体酸化皮膜上に、化学的酸化重合による第1の導電性高分子層を形成し、次に、該第1導電性高分子層上に、電解酸化重合による第2の導電性高分子層を形成する。
The monomers described in the present invention are polymerized with a polymerizable compound to become a conductive polymer. In the case of chemical oxidative polymerization, an oxidizing agent such as p-toluenesulfonic acid is used. In the case of electrolytic oxidative polymerization, electrolysis is performed. In this case, polymerization is performed by utilizing an oxidation reaction that occurs in the anode.
In general, a conductive polymer layer formed by electrolytic oxidation polymerization is a high-quality conductive polymer layer having higher strength, higher conductivity, and uniformity than chemical oxidation polymerization. However, it is impossible or very difficult to form the conductive polymer layer directly on the dielectric oxide film by electrolytic oxidation polymerization because the dielectric oxide film is an insulator. Therefore, first, a first conductive polymer layer by chemical oxidative polymerization is formed on the dielectric oxide film, and then a second conductive by electrolytic oxidative polymerization is formed on the first conductive polymer layer. A conductive polymer layer is formed.

以下、本発明を具体的に説明する。   The present invention will be specifically described below.

タンタル固体電解コンデンサの陽極用タンタル焼結体の製造方法は、(1)タンタル一次粉体、二次凝集粉体と有機バインダーとを混合する工程、(2)それを圧縮・成形する工程、(3)得られた成形体を焼結する工程を含む。   The method for producing a tantalum sintered body for an anode of a tantalum solid electrolytic capacitor includes (1) a step of mixing tantalum primary powder, secondary agglomerated powder and an organic binder, (2) a step of compressing and molding it, 3) The process which sinters the obtained molded object is included.

本発明で用いるタンタル粉体は、10000μF・V/gからの200000μF・V/g程度の粉末を使用する。
タンタル以外の成分としては、必要に応じて、水素、イットリウム、ジルコニウム、ハフニウム、ニオブ、モリブデン、マンガン、タングステン、酸素、亜鉛、硼素、アルミニウム、珪素、窒素、リンなどから選ばれる少なくとも1種の元素である。
As the tantalum powder used in the present invention, a powder of about 20,000 μF · V / g to 200,000 μF · V / g is used.
As a component other than tantalum, if necessary, at least one element selected from hydrogen, yttrium, zirconium, hafnium, niobium, molybdenum, manganese, tungsten, oxygen, zinc, boron, aluminum, silicon, nitrogen, phosphorus, and the like It is.

本発明におけるバインダーは、公知の有機系バインダーが使用できる。例えば、ポリビニルアルコール,ポリビニルブチラール、メチルセルロース,カルボキシルメチルセルロース或いはカンファーなどが使用できる。これらのバインダーは、通常溶液に溶かして用いられる。使用できる溶媒としては、水、アルコール類、エーテル類、セルソルブ類、ケトン類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。 有機バインダーの使用量は、全体を100質量部としたときに、通常1〜15質量部であり、好ましくは3〜10質量部である。   A known organic binder can be used as the binder in the present invention. For example, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose or camphor can be used. These binders are usually used after being dissolved in a solution. Examples of the solvent that can be used include water, alcohols, ethers, cellosolves, ketones, aliphatic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons. The usage-amount of an organic binder is 1-15 mass parts normally, when the whole is 100 mass parts, Preferably it is 3-10 mass parts.

コンデンサ用タンタル粉体及び有機バインダーを溶剤に入れ、十分に混合する。混合機としては、振とう混合機、V型混合機、ビーズ混合機、ナウターミキサーなど、通常の混合機が使用できる。混合に要する時間は、10分以上であれば特に制限はないが、通常1〜6時間である。 Capacitor tantalum powder and organic binder are put in a solvent and mixed thoroughly. As the mixer, a normal mixer such as a shake mixer, a V-type mixer, a bead mixer, and a nauter mixer can be used. The time required for mixing is not particularly limited as long as it is 10 minutes or longer, but is usually 1 to 6 hours.

次に、タンタル粉体とバインダーの混合物を圧縮成形するときに、併せてタンタル線の一端を埋め込ませ、成形体の片端面より導出させる。
成形体の形状は、この焼結体の端面中心に埋め込んだタンタルの線状からなる陽極用リード線からの距離が、高さと幅で異なる断面の焼結体で、高さに対して幅が3倍程度ある、高さが0.2から0.5mm程度と薄い形状からなる。焼結後の厚さが0.2から0.5mmになるように、また、焼結後の密度が7.5から8.0g/cmになるように成形する。焼結後の厚さが0.2から0.5mmになるようにすると、タンタルコンデンサを薄型にすることができる。焼結後の厚さが0.2未満だと外装形成時の製造ストレスに徐々に弱く、外装形成後の漏れ電流が徐々に大きくなってしまう。
タンタル線の断面は、円、楕円、正方形または長方形で、径は、焼結体の、焼結後の厚さの半分から9割程度で、焼結体の厚さ方向にはみ出さないようにする。
Next, when the mixture of the tantalum powder and the binder is compression molded, one end of the tantalum wire is embedded together and led out from one end surface of the molded body.
The shape of the molded body is a sintered body having a cross section in which the distance from the lead wire for the anode made of tantalum embedded in the center of the end face of the sintered body is different in height and width. It is about three times as thin as 0.2 to 0.5 mm in height. Molding is performed so that the thickness after sintering is 0.2 to 0.5 mm, and the density after sintering is 7.5 to 8.0 g / cm 3 . If the thickness after sintering is 0.2 to 0.5 mm, the tantalum capacitor can be made thin. If the thickness after sintering is less than 0.2, the manufacturing stress at the time of forming the exterior is gradually weakened, and the leakage current after the formation of the exterior is gradually increased.
The cross section of the tantalum wire is a circle, ellipse, square or rectangle, and the diameter is about half to 90% of the thickness of the sintered body after sintering, so that it does not protrude in the thickness direction of the sintered body. To do.

次に、このようにして得られた成形体は焼結処理される。焼結温度に達する前に有機バインダーを除去する工程を設ける。有機バインダーの除去は、例えば減圧下(10〜10Pa)、焼結温度よりも低い200〜600℃で10分〜10時間処理することにより行なうことができる。焼結条件は、タンタル粉体の融点、有機バインダーの沸点により左右されるが、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス存在下、または高減圧下(例えば10−4〜10−1Pa)、700℃〜2000℃で1分から100時間加熱して行われる。好ましい焼結温度は800℃〜1500℃、さらに好ましい焼結温度は1000℃〜1300℃である。焼結終了後、タンタル焼結体の温度が室温程度になるまで冷却し取り出す。 Next, the molded body thus obtained is sintered. A step of removing the organic binder is provided before the sintering temperature is reached. The removal of the organic binder can be performed, for example, by treating at 200 to 600 ° C., which is lower than the sintering temperature, for 10 minutes to 10 hours under reduced pressure (10 to 10 3 Pa). The sintering conditions depend on the melting point of the tantalum powder and the boiling point of the organic binder, but in the presence of an inert gas such as argon or helium, or under a high vacuum (for example, 10 −4 to 10 −1 Pa), 700 ° C. It is performed by heating at ˜2000 ° C. for 1 minute to 100 hours. A preferable sintering temperature is 800 ° C to 1500 ° C, and a more preferable sintering temperature is 1000 ° C to 1300 ° C. After completion of the sintering, the tantalum sintered body is cooled and taken out until the temperature reaches about room temperature.

次に、上記の陽極用タンタル焼結体を使用したコンデンサ素子の製造について説明する。この焼結体に酸化皮膜、導電性高分子からなる固体電解質層、グラファイト層及び銀層を順次形成してコンデンサ素子を形成する。   Next, production of a capacitor element using the above tantalum sintered body for anode will be described. A capacitor element is formed by sequentially forming an oxide film, a solid electrolyte layer made of a conductive polymer, a graphite layer, and a silver layer on the sintered body.

まず、陽極用リード線の根本に、ポリテトラフルオロエチレンやシリコーンゴム,シリコーン樹脂等からなる円板状の絶縁板を配置する。この絶縁板は、例えば厚さが0.2mmより薄く、好ましくは0.1mm程度の厚さがよい。すなわち、絶縁板の厚さの薄い方が、コンデンサ全体の寸法を変えることなく焼結体の寸法を大きくでき、容量を増加でき、また、容量を一定にした場合にはコンデンサを小形化できる。
次に、硝酸やリン酸等の化成液中に目視等により所定のレベルまで浸漬するとともに、これに定格電圧に応じた直流電圧を印加し、化成処理する。この化成処理により約16Å/V程度の割合で酸化皮膜を生成し、最終的に厚さ200〜6000Å程度の酸化皮膜を形成する。
First, a disc-shaped insulating plate made of polytetrafluoroethylene, silicone rubber, silicone resin, or the like is disposed at the root of the anode lead wire. The insulating plate has a thickness of, for example, less than 0.2 mm, preferably about 0.1 mm. That is, when the insulating plate is thinner, the size of the sintered body can be increased without changing the overall size of the capacitor, the capacity can be increased, and the capacitor can be reduced in size when the capacity is constant.
Next, it is immersed in a chemical conversion solution such as nitric acid or phosphoric acid to a predetermined level by visual observation or the like, and a direct current voltage corresponding to the rated voltage is applied thereto for chemical conversion treatment. By this chemical conversion treatment, an oxide film is generated at a rate of about 16 Å / V, and finally an oxide film having a thickness of about 200 to 6000 Å is formed.

次に、酸化皮膜の表面に有機導電性高分子からなる固体電解質層を設ける。導電性高分子としては、ポリアセチレンやポリパラフェニレン、ポリピロール、ポリ−p−フェニレンビニレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリイミダゾール、ポリチアゾール、ポリフラン、これらの誘導体等の電子共役系高分子にドーパントを付与する物質を含んでいる。
ドーパントを付与する物質としては、スルホン酸化合物やカルボン酸化合物,リン酸化合物,硫酸等を用いる。特にスルホン酸化合物としては、例えば、P−トルエンスルホン酸,スルホンイソフタル酸やスルホコハク酸,メタンスルホン酸,フェノールスルホン酸,スルホサリチル酸,ベンゼンスルホン酸,ベンゼンジスルホン酸,アルキルベンゼンスルホン酸及びその誘導体、カンファースルホン酸,スルホン酢酸,ジフェノールスルホン酸,ナフタレンスルホン酸及びその誘導体、アントラキノンスルホン酸及びその誘導体等の酸を用いる。この酸化合物の濃度は0.05〜1.0mol/L程度にする。また、ドーパントを付与する物質として用いる塩化合物には、前記の酸化合物のアンモニウム塩やナトリウム塩,カリウム塩を用いる。すなわち、スルホン酸化合物の場合には、アンモニウム塩としてスルホイソフタル酸アンモニウムやスルホコハク酸アンモニウム,メタンスルホン酸アンモニウム,フェノールスルホン酸アンモニウム,スルホサリチル酸アンモニウム,ベンゼンスルホン酸アンモニウム,ベンゼンジスルホン酸アンモニウム,アルキルベンゼンスルホン酸アンモニウム及びその誘導体、カンファースルホン酸アンモニウム,スルホン酢酸アンモニウム,ジフェノールスルホン酸アンモニウム等の塩を用いる。そしてナトリウム塩としては、スルホイソフタル酸ナトリウム,スルホコハク酸ナトリウム,メタンスルホン酸ナトリウム,フェノールスルホン酸ナトリウム,スルホサリチル酸ナトリウム,ベンゼンスルホン酸ナトリウム,ベンゼンジスルホン酸ナトリウム,アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム及びその誘導体、カンファースルホン酸ナトリウム,スルホン酢酸ナトリウム,ジフェノールスルホン酸ナトリウム等の塩を用いる。さらに、カリウム塩としては、スルホイソフタル酸カリウムやスルホコハク酸カリウム,メタンスルホン酸カリウム,フェノールスルホン酸カリウム,スルホサリチル酸カリウム,ベンゼンスルホン酸カリウム,ベンゼンジスルホン酸カリウム,アルキルベンゼンスルホン酸カリウム及びその誘導体、カンファースルホン酸カリウム,スルホン酢酸カリウム,スルホアニリン,ジフェノールスルホン酸カリウム等の塩を用いる。そしてこれらのアンモニウム塩やナトリウム塩,カリウム塩の化合物の濃度も0.05〜1.00mol/L程度にする。また塩化合物の溶解度を高めて液中の濃度を下げるために塩酸や硫酸等を添加してもよい。これらの化合物は単独で、又は二種以上混合して用いることができる。
Next, a solid electrolyte layer made of an organic conductive polymer is provided on the surface of the oxide film. As a conductive polymer, a substance that imparts a dopant to an electron conjugated polymer such as polyacetylene, polyparaphenylene, polypyrrole, poly-p-phenylene vinylene, polyaniline, polythiophene, polyimidazole, polythiazole, polyfuran, and derivatives thereof. Is included.
As the substance imparting the dopant, a sulfonic acid compound, a carboxylic acid compound, a phosphoric acid compound, sulfuric acid, or the like is used. In particular, examples of the sulfonic acid compound include P-toluenesulfonic acid, sulfoneisophthalic acid and sulfosuccinic acid, methanesulfonic acid, phenolsulfonic acid, sulfosalicylic acid, benzenesulfonic acid, benzenedisulfonic acid, alkylbenzenesulfonic acid and derivatives thereof, camphorsulfone. Acids such as acid, sulfonic acetic acid, diphenol sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid and its derivatives, anthraquinone sulfonic acid and its derivatives are used. The concentration of the acid compound is about 0.05 to 1.0 mol / L. In addition, ammonium salts, sodium salts, and potassium salts of the aforementioned acid compounds are used as the salt compound used as the dopant-imparting substance. That is, in the case of sulfonic acid compounds, ammonium sulfoisophthalate, ammonium sulfosuccinate, ammonium methanesulfonate, ammonium phenolsulfonate, ammonium sulfosalicylate, ammonium benzenesulfonate, ammonium benzenedisulfonate, ammonium alkylbenzenesulfonate as ammonium salts. And derivatives thereof, salts of ammonium camphorsulfonate, ammonium sulfonate acetate, ammonium diphenolsulfonate, and the like. Sodium salts include sodium sulfoisophthalate, sodium sulfosuccinate, sodium methanesulfonate, sodium phenolsulfonate, sodium sulfosalicylate, sodium benzenesulfonate, sodium benzenedisulfonate, sodium alkylbenzenesulfonate and its derivatives, camphorsulfonic acid. Salts such as sodium, sodium sulfonate acetate, sodium diphenolsulfonate are used. Further, potassium salts include potassium sulfoisophthalate, potassium sulfosuccinate, potassium methanesulfonate, potassium phenolsulfonate, potassium sulfosalicylate, potassium benzenesulfonate, potassium benzenedisulfonate, potassium alkylbenzenesulfonate and derivatives thereof, camphorsulfone. Salts of potassium acid, potassium sulfonate, sulfoaniline, potassium diphenolsulfonate, etc. are used. And the density | concentration of these ammonium salt, sodium salt, and the compound of potassium salt shall also be about 0.05-1.00 mol / L. Hydrochloric acid or sulfuric acid may be added to increase the solubility of the salt compound and reduce the concentration in the liquid. These compounds can be used alone or in admixture of two or more.

導電性高分子からなる固体電解質層を製造する方法としては、例えばアセチレンやパラフェニレン、ピロール、p−フェニレンビニレン、アニリン、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、またはこれらの置換誘導体の重合性化合物であるモノマーを溶媒に溶解し、酸化剤の作用で重合する方法が採用される。   Examples of a method for producing a solid electrolyte layer made of a conductive polymer include polymerizable compounds of acetylene, paraphenylene, pyrrole, p-phenylene vinylene, aniline, thiophene, imidazole, thiazole, furan, or substituted derivatives thereof. A method in which a monomer is dissolved in a solvent and polymerized by the action of an oxidizing agent is employed.

酸化剤としては、具体的には、例えばFeClやFeClO、Fe(有機酸アニオン)塩等のFe(III)系化合物類、または無水塩化アルミニウム/塩化第一銅、アルカリ金属過硫酸塩類、過硫酸アンモニウム塩類、過酸化物類、過マンガン酸カリウム等のマンガン類、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)、テトラクロロ−1,4−ベンゾキノン、テトラシアノ−1,4−ベンゾキノン等のキノン類、よう素、臭素等のハロゲン類、過酸、硫酸、発煙硫酸、三酸化硫黄、クロロ硫酸、フルオロ硫酸、アミド硫酸等のスルホン酸、オゾン等及びこれら複数の酸化剤の組み合わせが挙げられる。
これらの中で、前記Fe(有機酸アニオン)塩を形成する有機酸アニオンの基本化合物としては、有機スルホン酸または有機カルボン酸、有機リン酸、有機ホウ酸等が挙げられる。有機スルホン酸の具体例としては、ベンゼンスルホン酸やp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、α−スルホ−ナフタレン、β−スルホ−ナフタレン、ナフタレンジスルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸(アルキル基としてはブチル、トリイソプロピル、ジ−t−ブチル等)等が使用される。
一方、有機カルボン酸の具体例としては、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、シュウ酸等が挙げられる。さらに本発明においては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリビニル硫酸ポリ−α−メチルスルホン酸、ポリエチレンスルホン酸、ポリリン酸等の高分子電解質アニオンも使用される。なお、これら有機スルホン酸または有機カルボン酸は単なる例示であり、これらに限定されるものではない。また、前記アニオンの対カチオンとしては、H、Na、K等のアルカリ金属イオン、または水素原子やテトラメチル基、テトラエチル基、テトラブチル基、テトラフェニル基等で置換されたアンモニウムイオン等が例示されるが、これらに限定されるものではない。前記の酸化剤のうち、特に好ましいのは、3価のFe系化合物類、または塩化第一銅系、過硫酸アルカリ塩類、過硫酸アンモニウム塩類酸類、キノン類を含む酸化剤である。
Specific examples of the oxidizing agent include Fe (III) compounds such as FeCl 3 and FeClO 4 , Fe (organic acid anion) salts, or anhydrous aluminum chloride / cuprous chloride, alkali metal persulfates, Manganese such as ammonium persulfate, peroxides, potassium permanganate, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone (DDQ), tetrachloro-1,4-benzoquinone, tetracyano- Quinones such as 1,4-benzoquinone, halogens such as iodine and bromine, peracid, sulfuric acid, fuming sulfuric acid, sulfur trioxide, sulfonic acid such as chlorosulfuric acid, fluorosulfuric acid and amidosulfuric acid, ozone and the like A combination of oxidizing agents may be mentioned.
Among these, examples of the basic compound of the organic acid anion that forms the Fe (organic acid anion) salt include organic sulfonic acid or organic carboxylic acid, organic phosphoric acid, and organic boric acid. Specific examples of the organic sulfonic acid include benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, α-sulfo-naphthalene, β-sulfo-naphthalene, naphthalene disulfonic acid, alkylnaphthalenesulfonic acid (alkyl group). As butyl, triisopropyl, di-t-butyl, etc.).
On the other hand, specific examples of the organic carboxylic acid include acetic acid, propionic acid, benzoic acid, oxalic acid and the like. Furthermore, in the present invention, polyelectrolyte anions such as polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyvinyl sulfate poly-α-methyl sulfonic acid, polyethylene sulfonic acid, and polyphosphoric acid are also used. These organic sulfonic acids or organic carboxylic acids are merely examples, and are not limited thereto. Examples of the counter cation of the anion include alkali metal ions such as H + , Na + , K + , or ammonium ions substituted with hydrogen atoms, tetramethyl groups, tetraethyl groups, tetrabutyl groups, tetraphenyl groups, or the like. Although illustrated, it is not limited to these. Of the above oxidizing agents, particularly preferred are oxidizing agents containing trivalent Fe compounds, or cuprous chloride, alkali persulfates, ammonium persulfates, and quinones.

溶媒としては、アルコール系やグリコール系,エーテル系,ケトン系あるいはこれ等に水を加えたものを使用する。アルコール系の溶媒には、メタノールやエタノール,n−プロピルアルコール,イソプロピルアルコール,n−ブチルアルコール,t−ブチルアルコール等を用いる。グリコール系の溶媒は、エチレングリコールやジエチレングリコール,トリエチレングリコール,プロピレングリコール,ジプロピレングリコール,トリプロピレングリコール等を用いる。エーテル系の溶媒は、メチルセロソルブやエチルセロソルブ,トリエチレングリコールモノメチルエーテル,トリエチレングリコールモノブチルエーテル,プロピレングリコールモノメチルエーテル,プロピレングリコールモノブチルエーテル,ジプロピレングリコールモノメチルエーテル,エチレングリコールジメチルエーテル,エチレングリコールジエチルエーテル,ジエチレングリコールジエチルエーテル,ジエチレングリコールエチルメチルエーテル,ジグライム,トリグライム,テトラエチレングリコールジメチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサン等を用いる。ケトン系の溶媒はアセトン等を用いる。   As the solvent, an alcohol-based, glycol-based, ether-based, ketone-based solvent or the like with water added thereto is used. As the alcohol solvent, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, t-butyl alcohol, or the like is used. As the glycol solvent, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, or the like is used. The ether solvents are methyl cellosolve and ethyl cellosolve, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol Diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diglyme, triglyme, tetraethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc. are used. As the ketone solvent, acetone or the like is used.

誘電体層を形成したタンタル焼結体に固体電解質層を設ける方法には、酸化剤、ドーパント、モノマーを混合し、重合が進行している溶液に浸漬させる方法と、モノマーとドーパントと酸化剤とを次の2種類の溶液に分けて、焼結体を交互に浸漬して重合させる方法とを採用できる。2種類の分け方は、a)モノマーとドーパントとを溶解した溶液及び酸化剤を溶解した溶液,b)モノマーを溶解した溶液及び酸化剤とドーパントとを溶解した溶液,c)モノマーとドーパントとを溶解した溶液及び酸化剤とドーパントとを溶解した溶液の3通りとする。浸漬したタンタル焼結体は、空気中に放置・乾燥中に重合が完了し、固体電解質がタンタル焼結体表面に定着する。さらに第3の方法は、上記二つの方法を組み合わせて、固体電解質層の表面に同様に導電性高分子からなる別の固体電解質層を積層するものである。このような重合工程の操作は1回以上、好ましくは5〜20回繰り返すことによって緻密で層状の導電性高分子層を容易に形成することができる。   A method for providing a solid electrolyte layer on a tantalum sintered body having a dielectric layer formed thereon is a method in which an oxidant, a dopant, and a monomer are mixed and immersed in a solution in which polymerization is in progress, and a monomer, a dopant, and an oxidant. Can be divided into the following two types of solutions, and the sintered body can be alternately immersed and polymerized. The two methods are: a) a solution in which a monomer and a dopant are dissolved and a solution in which an oxidizing agent is dissolved, b) a solution in which a monomer is dissolved and a solution in which an oxidizing agent and a dopant are dissolved, and c) a monomer and a dopant. There are three types: a dissolved solution and a solution in which an oxidizing agent and a dopant are dissolved. The immersed tantalum sintered body is left to stand in the air and the polymerization is completed during drying, and the solid electrolyte is fixed on the surface of the tantalum sintered body. Further, the third method is a method of stacking another solid electrolyte layer made of a conductive polymer on the surface of the solid electrolyte layer by combining the above two methods. The operation of such a polymerization step is repeated once or more, preferably 5 to 20 times, whereby a dense and layered conductive polymer layer can be easily formed.

焼結密度が7.5から8.0g/cmと高い、本発明のタンタル焼結体の場合、浸漬する溶液の粘度濃度1から10w%のモノマー含有溶液で含浸して下げた方が含浸しやすいが、そのために溶剤に対する溶質の量を少なくすると、上記のモノマーとドーパントと酸化剤とを2種類の溶液に分けて、焼結体2を交互に浸漬して重合させる上記の方法では、焼結体に定着した酸化剤、またはモノマーが次の操作による多量の溶剤によって洗い流され場合があるため、好ましくは、酸化剤、ドーパント、モノマーを混合し、重合が進行している溶液に浸漬させる方法のほうが好ましい。重合が進まないように、より好ましくは、濃度が1から10w%のモノマー含有の溶液中で含浸するのが好ましい。タンタル焼結体の奥の方に導電性高分子層が定着してきたときには、モノマー含有の濃度を徐々に増加させてもかまわない。そうすることにより含浸回数を低減することができる。 In the case of the tantalum sintered body of the present invention having a sintered density as high as 7.5 to 8.0 g / cm 3 , it is impregnated by impregnating with a monomer-containing solution having a viscosity concentration of 1 to 10 w% of the solution to be immersed. However, if the amount of the solute with respect to the solvent is reduced for that purpose, the monomer, the dopant and the oxidizing agent are divided into two types of solutions, and the sintered body 2 is alternately immersed and polymerized, Since the oxidizing agent or monomer fixed on the sintered body may be washed away by a large amount of solvent by the following operation, preferably, the oxidizing agent, the dopant and the monomer are mixed and immersed in a solution in which polymerization is in progress. The method is preferred. More preferably, the impregnation is performed in a monomer-containing solution having a concentration of 1 to 10% by weight so that the polymerization does not proceed. When the conductive polymer layer is fixed in the back of the tantalum sintered body, the monomer-containing concentration may be gradually increased. By doing so, the number of impregnations can be reduced.

導電性高分子層を形成した後、カーボンペーストを表面に塗布して、カーボン層を形成する。その後、カーボン層の表面に銀ペーストを塗布して銀層を形成する。銀層を形成後、焼結体をこの銀層と陽極用リード線の箇所で各々導電性ペーストや溶接によりリードフレーム等に接続し、樹脂モールド法により樹脂を被覆したり、銀層に陰極端子を接続するとともに、陽極用リード線に陽極端子を接続し、樹脂ディップ法により樹脂を被覆したりして、外装を形成し、固体電解コンデンサとする。   After forming the conductive polymer layer, a carbon paste is applied to the surface to form a carbon layer. Thereafter, a silver paste is applied to the surface of the carbon layer to form a silver layer. After forming the silver layer, the sintered body is connected to a lead frame or the like by conductive paste or welding at each of the silver layer and the anode lead wire, and the resin layer is coated with a resin, or the silver layer is a cathode terminal In addition, an anode terminal is connected to the anode lead wire, and a resin is coated by a resin dipping method to form an exterior, thereby obtaining a solid electrolytic capacitor.

以下、本発明の実施例について説明する。
実施例1:定格10V、100μFのタンタルチップ型固体電解コンデンサの製造方法について述べる。弁作用金属として、タンタルの微粉末(40000μF・V/g)を用い、これにアクリル樹脂をバインダーとして加えた微粉末を、タンタル製の直径が0.2mmの陽極用リード線の一端を埋め込んだ状態にして、プレス機により圧縮成形する。そしてこの成形体を真空中で加熱処理し、焼結して、幅2.0mm、高さ0.4mm、長さ2.5mm、焼結密度が7.7g/cmの薄板状の焼結体を形成する。
次に、この焼結体を、陽極用リード線の箇所で、幅2cm、長さ10cmのステンレス製の板に等間隔に複数個溶接して一体化する。そしてこのステンレス板に溶接した状態で、焼結体を希燐酸液中に浸漬し、直流電圧30Vを印加して、誘電体皮膜を形成する。
誘電体皮膜を形成後、0℃〜10℃に冷却した濃度が5w%の3,4−エチレンジオキシチオフェンと、16mmolのp−トルエンスルホン酸第2鉄のブタノール溶液50mlからなる酸化剤及びドーパンの混合溶液中に、焼結体を1分間浸漬する。なお、この浸漬処理は、溶液を調合してから10分以内に行なう。浸漬後、焼結体を空気中に20分間放置する。そして、この浸漬から放置までの工程を30回繰り返して導電性ポリチオフェン又はその誘導体からなる固体電解質層を得る。この乾燥後、p−トルエンスルホン酸の5w%水溶液中に焼結体を浸漬し、14Vの電圧を印加する。この電圧印加処理後、焼結体を液から取り出して、空気中において110℃の温度で30分間乾燥する。
加熱乾燥後、焼結体をコロイダルカーボン中に浸漬して、固体電解質層の表面にカーボンを付着する。その後、素子を取り出して窒素ガス雰囲気中、温度150℃で乾燥してカーボン層を形成する。カーボン層を形成後、銀ペーストを塗布し、窒素ガス雰囲気中において150℃の温度で加熱乾燥して銀ペースト層を形成する。
銀層を形成後、リードフレームの陰極端子部に素子の銀層を銀導電性ペーストにより接続するとともに、リードフレームの陽極端子部に陽極用リード線を溶接して、焼結体をリードフレームに取り付ける。
素子をリードフレームに取り付け後、エポキシ樹脂を用いてトランスファーモールド法により外装を形成する。外装を形成後、エージング処理を行ない、リードフレームを切断除去し、陰極端子及び陽極端子をフォーミングし、チップ型の固体電解コンデンサとする。
Examples of the present invention will be described below.
Example 1 A method for manufacturing a tantalum chip type solid electrolytic capacitor having a rating of 10 V and 100 μF will be described. As a valve metal, tantalum fine powder (40000 μF · V / g) was used, and fine powder obtained by adding acrylic resin as a binder was embedded in one end of a tantalum lead wire having a diameter of 0.2 mm. Then, compression molding is performed with a press. Then, the compact is heat-treated in a vacuum, sintered, and sintered in a thin plate shape having a width of 2.0 mm, a height of 0.4 mm, a length of 2.5 mm, and a sintered density of 7.7 g / cm 3. Form the body.
Next, a plurality of the sintered bodies are welded and integrated at equal intervals to a stainless steel plate having a width of 2 cm and a length of 10 cm at the location of the anode lead wire. And in the state welded to this stainless steel plate, a sintered compact is immersed in a dilute phosphoric acid liquid, DC voltage 30V is applied, and a dielectric film is formed.
Oxidant and dopan comprising 50 ml of 3,4-ethylenedioxythiophene having a concentration of 5 w% cooled to 0 ° C. to 10 ° C. and 16 mmol of ferric p-toluenesulfonate ferric butanol after forming the dielectric film The sintered body is immersed in the mixed solution for 1 minute. This immersion treatment is performed within 10 minutes after the solution is prepared. After immersion, the sintered body is left in the air for 20 minutes. Then, the steps from immersion to standing are repeated 30 times to obtain a solid electrolyte layer made of conductive polythiophene or a derivative thereof. After this drying, the sintered body is immersed in a 5 w% aqueous solution of p-toluenesulfonic acid, and a voltage of 14 V is applied. After this voltage application treatment, the sintered body is taken out of the liquid and dried in air at a temperature of 110 ° C. for 30 minutes.
After heat drying, the sintered body is immersed in colloidal carbon, and carbon is adhered to the surface of the solid electrolyte layer. Thereafter, the device is taken out and dried at a temperature of 150 ° C. in a nitrogen gas atmosphere to form a carbon layer. After the carbon layer is formed, a silver paste is applied and dried by heating at a temperature of 150 ° C. in a nitrogen gas atmosphere to form a silver paste layer.
After forming the silver layer, the silver layer of the element is connected to the cathode terminal portion of the lead frame with a silver conductive paste, and the anode lead wire is welded to the anode terminal portion of the lead frame, and the sintered body is used as the lead frame. Install.
After the element is attached to the lead frame, an exterior is formed by transfer molding using epoxy resin. After forming the exterior, aging treatment is performed, the lead frame is cut and removed, the cathode terminal and the anode terminal are formed, and a chip-type solid electrolytic capacitor is obtained.

実施例2、実施例3:焼結密度を表1に示す通り、7.5g/cmと8.0g/cmにする以外は、実施例1と同一の条件で製造する。
実施例4、実施例5:モノマー濃度を表1に示す通り、2w%と8w%にする以外は、実施例1と同一の条件で製造する。
比較例1、比較例2:焼結密度を表1に示す通り、7.3g/cmと8.2g/cmにする以外は、実施例1と同一の条件で製造する。
比較例4、比較例5:モノマー濃度を表1に示す通り、1w%と12w%にする以外は、実施例1と同一の条件で製造する。
Example 2 and Example 3 As shown in Table 1, the sintered density is manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the density is 7.5 g / cm 3 and 8.0 g / cm 3 .
Examples 4 and 5: Manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the monomer concentration is 2 w% and 8 w% as shown in Table 1.
Comparative Example 1 and Comparative Example 2: As shown in Table 1, the sintered density is manufactured under the same conditions as in Example 1 except that the sintered density is set to 7.3 g / cm 3 and 8.2 g / cm 3 .
Comparative Example 4 and Comparative Example 5: Manufacture under the same conditions as in Example 1 except that the monomer concentration is 1 w% and 12 w% as shown in Table 1.

次に、実施例1〜実施例5のタンタル固体電解コンデンサについて、従来例とともに、引き抜き強度、容量達成率、漏れ電流、たわみ強度を測定する。
なお、引き抜き強度とは、焼結後、焼結体を固定し、この焼結体の端面中心に埋め込んだ陽極用リード線をくわえて引っ張り上げたときの焼結体と陽極用リード線との間の密着強度をさす。
また、容量達成率とは、コンデンサ素子の30%硫酸水溶液での容量測定値に対する、固体電解質層を有する場合の、コンデンサ素子の容量測定値の割合をさす。
また、たわみ強度とは、焼結体の両端底部に枕部を設けておいて、焼結体の中央上面から下方向に力を加えたときの耐強度をさす。
また、漏れ電流は、外装形成後、試料を空気中に放置して温度125℃で10時間加熱して行なう。10Vの直流電圧を印加して1分間経過後の値とする。
以上、測定結果は表1に示す。
Next, with respect to the tantalum solid electrolytic capacitors of Examples 1 to 5, together with the conventional examples, the drawing strength, the capacity achievement rate, the leakage current, and the deflection strength are measured.
The pullout strength is the ratio between the sintered body and the anode lead wire when the sintered body is fixed after sintering and the anode lead wire embedded in the center of the end face of the sintered body is pulled up. It indicates the adhesion strength between.
The capacity achievement rate refers to the ratio of the measured capacitance value of the capacitor element when the solid electrolyte layer is provided to the measured capacitance value of the capacitor element in a 30% sulfuric acid aqueous solution.
In addition, the bending strength refers to strength resistance when a pillow portion is provided at both bottoms of the sintered body and a force is applied downward from the center upper surface of the sintered body.
The leakage current is measured by leaving the sample in the air and heating at 125 ° C. for 10 hours after the exterior is formed. Apply a DC voltage of 10V and set the value after 1 minute.
The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2009064960
Figure 2009064960

この表1から明らかな通り、実施例とくらべて、焼結密度が7.5g/cmより小さい7.3g/cmの比較例1だと、引き抜き強度やたわみ強度が小さく、焼結体厚さが0.2から0.5mmと薄いために外装形成時の製造ストレスに弱く、外装形成後の漏れ電流が大きくなっている。
また、実施例とくらべて、焼結密度が8.0g/cmより大きい8.2g/cmの比較例2だと、容量達成率が悪化し、そのために漏れ電流が大きくなっている。
また、実施例1とくらべて、モノマー濃度が2w%より小さい1w%の比較例3だと、導電性高分子の含浸量が少なく容量達成率が悪化し、そのために漏れ電流が大きくなっている。
また、実施例1とくらべて、モノマー濃度が8w%より大きい12w%の比較例4だと、導電性高分子の含浸性が悪化し容量達成率が悪化し、そのために漏れ電流が大きくなっている。
As is clear from Table 1, the comparative example 1 having a sintered density of 7.3 g / cm 3 smaller than 7.5 g / cm 3 compared to the example has a small pulling strength and deflection strength, and the sintered body Since the thickness is as thin as 0.2 to 0.5 mm, it is weak against manufacturing stress during the formation of the exterior, and the leakage current after the formation of the exterior is increased.
Further, as compared with the embodiment, when the sintered density but Comparative Example 2 of 8.0 g / cm 3 greater than 8.2 g / cm 3, the capacity achievement ratio deteriorates, the leakage current for the increases.
Further, compared with Example 1, in Comparative Example 3 in which the monomer concentration is 1 w% smaller than 2 w%, the impregnation amount of the conductive polymer is small and the capacity achievement rate is deteriorated, so that the leakage current is increased. .
Further, compared with Example 1, in Comparative Example 4 in which the monomer concentration is 12 w% which is larger than 8 w%, the impregnating property of the conductive polymer is deteriorated and the capacity achievement rate is deteriorated, and thus the leakage current is increased. Yes.

Claims (3)

焼結密度が7.5から8.0g/cmのタンタル焼結体と、この焼結体に形成される導電性高分子の固体電解質層と、を有する固体電解コンデンサ。 A solid electrolytic capacitor comprising a tantalum sintered body having a sintered density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 and a solid electrolyte layer of a conductive polymer formed on the sintered body. 焼結体の厚さが0.2から0.5mmで、焼結密度が7.5から8.0g/cmのタンタル焼結体と、この焼結体に形成される導電性高分子の固体電解質層と、を有する固体電解コンデンサ。 A tantalum sintered body having a sintered body thickness of 0.2 to 0.5 mm and a sintered density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 , and a conductive polymer formed on the sintered body. A solid electrolytic capacitor having a solid electrolyte layer. 焼結体の厚さが0.2から0.5mmで、焼結密度が7.5から8.0g/cmのタンタル焼結体を、酸化剤と、濃度が2から10w%のモノマー含有溶液で含浸して、導電性高分子の固体電解質層を形成する工程を有する固体電解コンデンサの製造方法。
A tantalum sintered body having a sintered body thickness of 0.2 to 0.5 mm and a sintered density of 7.5 to 8.0 g / cm 3 , containing an oxidizing agent and a monomer having a concentration of 2 to 10 w% A method for producing a solid electrolytic capacitor comprising a step of impregnating with a solution to form a solid electrolyte layer of a conductive polymer.
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