JP2009064489A - Manufacturing method of glass substrate - Google Patents

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Mara Adisson
マラ アディソン
Naswan Suthichai
ナスワン ステッィチャイ
Kenichi Nishimori
賢一 西森
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Hoya Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a glass substrate to obtain a glass substrate in which the size and number of surface defect are managed and defects are reduced when used as a magnetic disk. <P>SOLUTION: In a method of manufacturing a glass substrate, a glass blank material is prepared; the glass substrate which has a nearly circular shape using the glass blank material is obtained; the glass substrate is irradiated with light having a directivity from circumference and radial direction of the glass substrate to the glass substrate; a defect of 1 μm or less is detected by light reflected from the glass substrate; and defect of the glass substrate is removed if the number of defects is more than a predetermined number. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハードディスクドライブ装置に搭載される磁気ディスク用のガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk mounted on a hard disk drive device.

ハードディスクドライブ装置(HDD装置)に搭載される磁気記録媒体として磁気ディスクがある。磁気ディスクは、アルミニウム−マグネシウム合金などで構成された金属基板上にNiP膜を被着したり、ガラス基板やセラミックス基板上に磁性層や保護層を積層したりして作製される。従来では、磁気ディスク用の基板としてアルミニウム合金基板が広く用いられていたが、近年の磁気ディスクの小型化、薄板化、高密度記録化に伴って、アルミニウム合金基板に比べて表面の平坦度や薄板での強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。   There is a magnetic disk as a magnetic recording medium mounted on a hard disk drive device (HDD device). The magnetic disk is manufactured by depositing a NiP film on a metal substrate made of an aluminum-magnesium alloy or the like, or laminating a magnetic layer or a protective layer on a glass substrate or a ceramic substrate. Conventionally, an aluminum alloy substrate has been widely used as a substrate for a magnetic disk. However, with recent downsizing, thinning, and high-density recording of magnetic disks, surface flatness and A glass substrate having excellent strength with a thin plate has been used.

ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成してなる磁気ディスクについては、表面に存在する欠陥を検査している。例えば、特許文献1には、主走査方向に対して直角な方向に幅のある光ビームを照射して透過性基板を相対的に走査する投光系と、透過性基板からの散乱光を透過性基板の表面に垂直な方向で受光する高倍率の対物レンズ及び直角な方向に対応する結像の方向に沿って配列され対物レンズからの光を受ける受光素子を備える受光器を有し、透過性基板の走査位置の映像を受光素子に結像する受光系と、を含む欠陥検出光学系により磁気ディスク用基板の欠陥検出を行うことが開示されている。
特開2002−55061号公報
For magnetic disks formed by forming at least a magnetic layer on a glass substrate, defects present on the surface are inspected. For example, Patent Document 1 discloses a light projecting system that irradiates a light beam having a width in a direction perpendicular to the main scanning direction and relatively scans the transmissive substrate, and transmits scattered light from the transmissive substrate. Having a high-magnification objective lens that receives light in a direction perpendicular to the surface of the conductive substrate and a light receiver that receives light from the objective lens arranged along the direction of imaging corresponding to a direction perpendicular to the surface. It is disclosed that defect detection of a magnetic disk substrate is performed by a defect detection optical system including a light receiving system that forms an image of a scanning position of a magnetic substrate on a light receiving element.
JP 2002-55061 A

近年、HDD装置においては、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の距離(フライングハイト)が小さくなってきており、フライングハイトが小さくなるにつれて、磁気ディスクとしたときの不良を抑えるために、磁気ディスクとして許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなってきている。また、これに対応して、磁気ディスク用基板の表面欠陥についても大きさ及び個数に対する要求が厳しくなってきている。   In recent years, in HDD devices, the distance (flying height) between the magnetic head and the magnetic disk has become smaller, and as the flying height becomes smaller, as a magnetic disk, in order to suppress defects when used as a magnetic disk, Acceptable substrate surface defects are also becoming smaller. Correspondingly, the requirements for the size and number of surface defects of the magnetic disk substrate are becoming stricter.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、表面欠陥の大きさ及び個数が管理されて、磁気ディスクとしたときの不良を抑えられるガラス基板を得ることができるガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and provides a glass substrate manufacturing method capable of obtaining a glass substrate in which the size and number of surface defects are controlled to suppress defects when used as a magnetic disk. The purpose is to do.

本発明のガラス基板の製造方法は、ガラスブランク材を準備する工程と、前記ガラスブランク材を用いて略円形状を有するガラス基板を得る工程と、前記ガラス基板に対して前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により1μm以下の欠陥を検出する工程と、前記欠陥が所定の個数以上である場合に、前記ガラス基板に対して欠陥除去処理を行う工程と、を具備することを特徴とする。   The method for producing a glass substrate of the present invention includes a step of preparing a glass blank material, a step of obtaining a glass substrate having a substantially circular shape using the glass blank material, and a circumference of the glass substrate with respect to the glass substrate. Irradiating the glass substrate with light having directivity from a direction and a radial direction, detecting a defect of 1 μm or less by reflected light from the glass substrate, and when the number of defects is a predetermined number or more, the glass And a step of performing defect removal processing on the substrate.

この方法によれば、表面欠陥の大きさ及び個数が管理されているので、磁気ディスクとしたときの不良を抑えられ、HDD装置に搭載した際の不具合の発生を抑えることができるガラス基板を得ることができる。   According to this method, since the size and number of surface defects are managed, a glass substrate that can suppress defects when used as a magnetic disk and can suppress occurrence of defects when mounted on an HDD device is obtained. be able to.

本発明のガラス基板の製造方法においては、前記欠陥を検出する工程は、前記ガラス基板の主面を鏡面研磨する鏡面研磨工程の後に行われることが好ましい。   In the manufacturing method of the glass substrate of this invention, it is preferable that the process of detecting the said defect is performed after the mirror polishing process of mirror-polishing the main surface of the said glass substrate.

本発明のガラス基板の製造方法においては、前記ガラス基板を構成するガラスに対して化学強化する化学強化工程を含む場合においては、前記欠陥を検出する工程が、前記ガラス基板の主面を鏡面研磨する前記化学強化工程の後に行われることが好ましい。   In the method for producing a glass substrate of the present invention, in the case of including a chemical strengthening step for chemically strengthening the glass constituting the glass substrate, the step of detecting the defect includes mirror polishing the main surface of the glass substrate. It is preferable to be performed after the chemical strengthening step.

本発明のガラス基板の製造方法においては、前記欠陥除去処理は、前記ガラス基板を鏡面研磨する処理又は前記ガラス基板を洗浄する処理する処理であることが好ましい。この場合において、前記ガラス基板を洗浄する処理で、前記欠陥の個数及び大きさに応じて条件を変えることが好ましい。   In the manufacturing method of the glass substrate of this invention, it is preferable that the said defect removal process is a process which carries out the process which mirror-polishes the said glass substrate, or the process which wash | cleans the said glass substrate. In this case, it is preferable to change the conditions according to the number and size of the defects in the process of cleaning the glass substrate.

本発明のガラス基板の製造方法においては、前記欠陥の所定の個数は、前記ガラス基板に少なくとも磁性層を形成してなる磁気ディスクのサーマルアスペリティ(TA)テストによるTA率が所定値以下になる個数であることが好ましい。   In the method for producing a glass substrate of the present invention, the predetermined number of defects is a number at which a TA ratio by a thermal asperity (TA) test of a magnetic disk formed with at least a magnetic layer on the glass substrate is not more than a predetermined value. It is preferable that

本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、少なくとも略平坦な主表面を備え、略円形状を有する磁気ディスク用ガラス基板であって、前記主表面上に、前記ガラス基板に対して、前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により検出される1μm以下の欠陥が、前記ガラス基板に少なくとも磁性層を形成してなる磁気ディスクのサーマルアスペリティ(TA)テストによるTA率が所定値以下になる個数存在することを特徴とする。   The glass substrate for a magnetic disk of the present invention is a glass substrate for a magnetic disk having at least a substantially flat main surface and having a substantially circular shape, wherein the glass substrate is formed on the main surface with respect to the glass substrate. Magnetism formed by irradiating the glass substrate with light having directivity from the circumferential direction and the radial direction, and defects of 1 μm or less detected by reflected light from the glass substrate forming at least a magnetic layer on the glass substrate. It is characterized in that there are a number in which the TA rate by the thermal asperity (TA) test of the disk is a predetermined value or less.

この構成によれば、表面欠陥の大きさ及び個数が管理されているので、磁気ディスクとしたときの不良を抑えられ、HDD装置に搭載した際の不具合の発生を抑えることができる。   According to this configuration, since the size and number of surface defects are managed, it is possible to suppress defects when the magnetic disk is used, and it is possible to suppress the occurrence of problems when mounted on the HDD device.

本発明の基板の製造方法は、ブランク材を準備する工程と、前記ブランク材を用いて略円形状を有する基板を得る工程と、前記基板に対して前記基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記基板に照射し、前記基板からの反射光により1μm以下の欠陥を検出する工程と、前記欠陥が所定の個数以上である場合に、前記基板に対して欠陥除去処理を行う工程と、を具備することを特徴とする。   The method for manufacturing a substrate according to the present invention includes a step of preparing a blank material, a step of obtaining a substrate having a substantially circular shape using the blank material, and a direction from a circumferential direction and a radial direction of the substrate with respect to the substrate. Irradiating the substrate with light having the property, detecting a defect of 1 μm or less by reflected light from the substrate, and performing defect removal processing on the substrate when the number of defects is a predetermined number or more And a process.

本発明のガラス基板の製造方法によれば、ガラスブランク材を準備し、前記ガラスブランク材を用いて略円形状を有するガラス基板を得て、前記ガラス基板に対して前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により1μm以下の欠陥を検出し、前記欠陥が所定の個数以上である場合に、前記ガラス基板に対して欠陥除去処理を行うので、表面欠陥の大きさ及び個数が管理されて、磁気ディスクとしたときの不良を抑えられるガラス基板を得ることができる。   According to the method for producing a glass substrate of the present invention, a glass blank material is prepared, a glass substrate having a substantially circular shape is obtained using the glass blank material, and the circumferential direction of the glass substrate with respect to the glass substrate When the glass substrate is irradiated with light having directivity from the radial direction, a defect of 1 μm or less is detected by reflected light from the glass substrate, and when the number of defects is a predetermined number or more, Since the defect removal process is performed, the size and number of surface defects can be managed, and a glass substrate that can suppress defects when used as a magnetic disk can be obtained.

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
磁気ディスク用基板、例えばガラス基板の表面の欠陥を検査する装置としては、図1に示す構成の装置と、図2に示す構成の装置とがある。本明細書において、欠陥とは、基板を製造する種々の工程において使用される副資材の残存、製造装置自身あるいは基板加工中の発塵が主な原因となり、それが基板表面に付着してなる凸欠陥;基板加工中に発生したキズや基板流動/移載において発生するダメージなどの凹欠陥;ブランク材に起因する凹凸欠陥などを含む。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
As an apparatus for inspecting defects on the surface of a magnetic disk substrate, for example, a glass substrate, there are an apparatus having the configuration shown in FIG. 1 and an apparatus having the configuration shown in FIG. In the present specification, the defect is mainly caused by residual materials used in various processes for manufacturing a substrate, dust generation during the manufacturing apparatus itself or substrate processing, and it adheres to the substrate surface. Convex defects: Concave defects such as scratches generated during substrate processing and damages generated during substrate flow / transfer; uneven defects due to blank materials, etc.

図1に示す装置は、光学式欠陥検査装置(Optical Surface Analyzer)であり、2つのレーザ11,12と、レーザ光の反射光を検出する検出器13とを備えている。レーザ11は、半径方向から測定対象物であるガラス基板Sに指向性を持つ光を照射し、レーザ12は、円周方向から測定対象物であるガラス基板Sに指向性を持つ光を照射する。このような装置においては、半径方向に長さを持った欠陥と、円周方向に長さを持った欠陥とを検出することが可能である。また、それぞれのレーザはレーザ光を分光可能であり、すなわちガラス基板Sに対して垂直方向のレーザ光と、ガラス基板Sに対して水平方向のレーザ光とに分けることが可能である。欠陥については、その種類により適したレーザ光の方向性があるので、前述のようにレーザ光を分光することにより、種々の欠陥の検出を正確に行うことが可能となる。さらに、図1に示す装置においては、レーザ径が例えば4μm×5μm程度で小さく、レーザ波長が短くパワーが大きいので欠陥検出感度が高い。   The apparatus shown in FIG. 1 is an optical defect inspection apparatus (Optical Surface Analyzer), and includes two lasers 11 and 12 and a detector 13 that detects reflected light of the laser light. The laser 11 irradiates the glass substrate S, which is a measurement object, with directivity from the radial direction, and the laser 12 irradiates the glass substrate S, which is a measurement object, with directivity from the circumferential direction. . In such an apparatus, it is possible to detect a defect having a length in the radial direction and a defect having a length in the circumferential direction. Further, each laser can split the laser beam, that is, it can be divided into a laser beam perpendicular to the glass substrate S and a laser beam horizontal to the glass substrate S. As for the defects, the direction of the laser beam is more suitable depending on the type of the defect. Therefore, it becomes possible to accurately detect various defects by dispersing the laser beam as described above. Furthermore, in the apparatus shown in FIG. 1, since the laser diameter is small, for example, about 4 μm × 5 μm, the laser wavelength is short, and the power is large, the defect detection sensitivity is high.

図1に示す装置は、上述した特徴を有するので、様々な欠陥種を正確に検出することが可能となる。すなわち、ガラス基板Sからの反射光により1μm以下の欠陥を検出することが可能である。なお、図1に示す装置は一例であり、ガラス基板に対して、その円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を照射し、ガラス基板からの反射光により欠陥を検出するタイプの装置であれば、本発明において同様に使用することができる。   Since the apparatus shown in FIG. 1 has the above-described characteristics, it is possible to accurately detect various defect types. That is, it is possible to detect a defect of 1 μm or less by reflected light from the glass substrate S. The apparatus shown in FIG. 1 is an example, and is an apparatus of a type that irradiates a glass substrate with light having directivity from the circumferential direction and the radial direction, and detects defects by reflected light from the glass substrate. If present, it can be used in the present invention as well.

図2に示す装置は、レーザ21と、レーザ光を測定対象物であるガラス基板Sに光路変更すると共に、レーザ21と反対側に配置されたミラー23側に透過するビームスプリッタ22と、ガラス基板Sの反射光を検出するAPD(Avalanche Photo Diode)検出器24とを備えている。この装置においては、レーザ光を分光していないので、種々の欠陥の検出を正確に行うことが難しい。また、この装置においては、図1に示す装置よりも、レーザ径が大きく(例えば2μm×64μm)、欠陥からの信号と欠陥以外の場所からの信号との間の比(SNR:Signal-to-Noise Ratio)が悪く、レーザ波長も長いので、欠陥検出感度が低い。   The apparatus shown in FIG. 2 changes the optical path of the laser 21, the laser beam to the glass substrate S that is the object to be measured, and transmits the beam splitter 22 that passes through the mirror 23 disposed on the opposite side of the laser 21, and the glass substrate. And an APD (Avalanche Photo Diode) detector 24 for detecting S reflected light. In this apparatus, since laser light is not dispersed, it is difficult to accurately detect various defects. Further, in this apparatus, the laser diameter is larger than that of the apparatus shown in FIG. 1 (for example, 2 μm × 64 μm), and the ratio between the signal from the defect and the signal from a place other than the defect (SNR: Signal-to- Noise ratio is poor and the laser wavelength is long, so the defect detection sensitivity is low.

このように、図1に示す装置においては、図2に示す装置に比べて、より微細な欠陥まで、例えば1μm以下の欠陥まで検出することができる。ここで、図1に示す装置で検出された欠陥と図2に示す装置で検出された欠陥との間の相関を調べた。その結果を図3(a)〜(f)に示す。図3は、ガラスブランク材に対して研削加工、形状加工、及び研磨加工を施したガラス基板について図1に示す装置と図2に示す装置とで欠陥を検査した結果を示す図であり、図3(a),(b)は、0.3μm未満の大きさの欠陥を検査した結果を示し、図3(c),(d)は、0.3μm以上1μm未満の大きさの欠陥を検査した結果を示し、図3(e),(f)は、1μm以上の大きさの欠陥を検査した結果を示す。また、図3(a),(c),(e)は、凹欠陥を検査した結果を示し、図3(b),(d),(f)は、凸欠陥を検査した結果を示す。   Thus, the apparatus shown in FIG. 1 can detect even finer defects, for example, defects of 1 μm or less, compared to the apparatus shown in FIG. Here, the correlation between the defect detected by the apparatus shown in FIG. 1 and the defect detected by the apparatus shown in FIG. 2 was examined. The results are shown in FIGS. FIG. 3 is a diagram showing the results of inspecting the glass substrate obtained by grinding, shaping, and polishing the glass blank material with the apparatus shown in FIG. 1 and the apparatus shown in FIG. 3 (a) and 3 (b) show the results of inspecting defects having a size of less than 0.3 μm, and FIGS. 3 (c) and 3 (d) show the inspection of defects having a size of 0.3 μm or more and less than 1 μm. 3 (e) and 3 (f) show the results of inspecting defects having a size of 1 μm or more. 3A, 3C, and 3E show the results of inspecting the concave defects, and FIGS. 3B, 3D, and 3F show the results of inspecting the convex defects.

図3(e),(f)から分かるように、1μmを超える大きさの欠陥については、凹欠陥、凸欠陥共に、両装置のカウント数に比較的良好な相関関係が見える。一方、図3(a)〜(d)から分かるように、1μm以下の大きさの欠陥については、凹欠陥、凸欠陥共に、両装置のカウント数に全く相関関係が見えない。これは、上述したように、図1に示す装置では、ガラス基板の円周方向及び半径方向から、レーザ径が小さく、パワーの大きい光をガラス基板に照射しているので、様々な欠陥種を検出できるが、図2に示す装置では、レーザ径が大きく、SNRが悪い状況でレーザをガラス基板に照射しているので、あまり小さい欠陥を検出することができないためであると考えられる。   As can be seen from FIGS. 3 (e) and 3 (f), for defects having a size exceeding 1 μm, both the concave defect and the convex defect have a relatively good correlation between the count numbers of both apparatuses. On the other hand, as can be seen from FIGS. 3 (a) to 3 (d), regarding the defect having a size of 1 μm or less, there is no correlation between the count numbers of both devices for both the concave defect and the convex defect. As described above, the apparatus shown in FIG. 1 irradiates the glass substrate with light having a small laser diameter and high power from the circumferential direction and the radial direction of the glass substrate. Although it can be detected, in the apparatus shown in FIG. 2, it is considered that a very small defect cannot be detected because the laser is irradiated onto the glass substrate in a situation where the laser diameter is large and the SNR is poor.

また、磁性層形成前の洗浄前のガラス基板上の欠陥について、図1に示す装置で検出した結果と図2に示す装置で検出した結果を、SEM(走査型電子顕微鏡)/EDX(エネルギー分散型蛍光X線分析装置)により分析した。その結果を図4(a),(b)に示す。図4(a)は、図2に示す装置で検出した欠陥についての分析結果であり、図4(b)は、図1に示す装置で検出した欠陥についての分析結果である。図4(b)に示すように、図1に示す装置においては、研磨剤、金属、微欠陥のような、磁性層形成前の洗浄では洗い落すことが困難な欠陥を検出しているが、図4(a)に示すように、図2に示す装置においては、研磨剤、金属、微欠陥のような微細な欠陥を正確に検出していない。これは、上述したように、両装置では、1μm以下の大きさの欠陥についての検出精度が大きく異なるためであると考えられる。   Further, the results detected by the apparatus shown in FIG. 1 and the results detected by the apparatus shown in FIG. 2 with respect to defects on the glass substrate before the cleaning before forming the magnetic layer are expressed as SEM (scanning electron microscope) / EDX (energy dispersion). Type X-ray fluorescence analyzer). The results are shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). FIG. 4A shows the analysis results for the defects detected by the apparatus shown in FIG. 2, and FIG. 4B shows the analysis results for the defects detected by the apparatus shown in FIG. As shown in FIG. 4 (b), the apparatus shown in FIG. 1 detects defects that are difficult to wash away by cleaning before forming the magnetic layer, such as abrasives, metals, and fine defects. As shown in FIG. 4A, the apparatus shown in FIG. 2 does not accurately detect fine defects such as abrasives, metals, and fine defects. As described above, this is considered to be because the detection accuracy of defects having a size of 1 μm or less differs greatly between the two apparatuses.

このように、図1に示すようなガラス基板に対して、ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光をガラス基板に照射するタイプの装置を用いて欠陥検出を行うことにより、1μm以下の大きさの欠陥を正確に検出することが可能である。本発明者らは、この1μm以下の大きさの欠陥がHDD装置に対してどのような影響があるかについて鋭意検討した結果、1μm以下の大きさの欠陥と、磁気ディスクへの磁気ヘッドの衝突とに関連性があることを見出した。そして、本発明者らは、この1μm以下の大きさの欠陥の個数を管理することにより、磁気ディスクとしたときの不良を抑えて、HDD装置における不具合を抑えることができることを見出し本発明をするに至った。   Thus, by performing defect detection on a glass substrate as shown in FIG. 1 using a type of device that irradiates the glass substrate with light having directivity from the circumferential direction and the radial direction of the glass substrate, It is possible to accurately detect defects having a size of 1 μm or less. As a result of intensive studies on the influence of the defect having a size of 1 μm or less on the HDD device, the present inventors have found that the defect having a size of 1 μm or less and the collision of the magnetic head with the magnetic disk. And found that there is a relationship. Then, the present inventors have found that by managing the number of defects having a size of 1 μm or less, defects in the HDD can be suppressed and defects in the HDD device can be suppressed. It came to.

ここで、1μm以下の大きさの欠陥と、磁気ディスクへの磁気ヘッドの衝突とに関連性については、サーマルアスペリティ(Thermal Asperity:TA(磁気ディスクに磁気ヘッドが衝突する際に起こる現象))テストによるTA率により表すことができる。ガラス基板上の1μm以下の大きさの欠陥の個数を変えてTAテストを行った結果を図5に示す。なお、TAテストは、GMR(Giant MagnetoResistance)ヘッドを備えたHDD装置に磁気ディスクを装着し、ディスク周速度を8m/sとし、GMRヘッドから出力される信号を増幅してそれをデジタルオシロスコープで観察し、そこで見られたTA波形をカウントすることにより行った。図5から分かるように、ガラス基板上の1μm以下の大きさの欠陥の個数が多くなるにしたがってTA率が増加している。この結果より、ガラス基板上の1μm以下の大きさの欠陥の個数を少なくすることにより、TA率を減少させることができる。   Here, the thermal asperity (TA (Phenomenon that occurs when a magnetic head collides with a magnetic disk)) test is conducted on the relationship between a defect of 1 μm or less and the collision of a magnetic head with a magnetic disk. It can be expressed by the TA rate. FIG. 5 shows the result of the TA test performed by changing the number of defects having a size of 1 μm or less on the glass substrate. In the TA test, a magnetic disk is mounted on an HDD device equipped with a GMR (Giant MagnetoResistance) head, the disk peripheral speed is set to 8 m / s, and the signal output from the GMR head is amplified and observed with a digital oscilloscope. The TA waveform observed there was counted. As can be seen from FIG. 5, the TA ratio increases as the number of defects having a size of 1 μm or less on the glass substrate increases. From this result, the TA rate can be reduced by reducing the number of defects having a size of 1 μm or less on the glass substrate.

したがって、TA率と1μm以下の大きさの欠陥の個数との間の関係を予め求めておき、HDD装置の方式や磁気ヘッドの種類などからの要求に基づくTA率の値を決定し、その値に対応する1μm以下の大きさの欠陥の個数を前記関係から求めて、その個数になるようにガラス基板を加工する。すなわち、TA率の値から前記関係を介して求められた欠陥の個数になるように製造工程を管理する。例えば、所定の加工工程後にガラス基板上の1μm以下の欠陥の個数を求め、その個数が所定値を超えた場合には、ガラス基板に対して欠陥除去処理を行う。なお、TA率の値については、限定されず、HDD装置の方式や磁気ヘッドの種類などから適宜決定する。   Therefore, a relationship between the TA rate and the number of defects having a size of 1 μm or less is obtained in advance, and a TA rate value is determined based on a request from the HDD device type, magnetic head type, and the like. The number of defects having a size of 1 μm or less corresponding to is obtained from the above relationship, and the glass substrate is processed so as to be the number. That is, the manufacturing process is managed so that the number of defects obtained from the TA ratio value through the above relationship is obtained. For example, after a predetermined processing step, the number of defects of 1 μm or less on the glass substrate is obtained, and when the number exceeds a predetermined value, a defect removal process is performed on the glass substrate. Note that the TA ratio value is not limited, and is appropriately determined from the type of the HDD device, the type of the magnetic head, and the like.

このように管理されたガラス基板は、少なくとも略平坦な主表面を備え、略円形状を有する磁気ディスク用ガラス基板であって、前記主表面上に、前記ガラス基板に対して、前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により検出される1μm以下の欠陥が、前記ガラス基板に少なくとも磁性層を形成してなる磁気ディスクのTAテストによるTA率が所定値以下になる個数存在するという構成を有することとなる。このガラス基板は、表面欠陥の大きさ及び個数が管理されているので、磁気ディスクとしたときの不良を抑えられ、HDD装置に搭載した際の不具合の発生を抑えることができる。   The glass substrate thus managed is a glass substrate for a magnetic disk having at least a substantially flat main surface and having a substantially circular shape, and the glass substrate has a substantially circular shape on the main surface of the glass substrate. Magnetism formed by irradiating the glass substrate with light having directivity from the circumferential direction and the radial direction, and defects of 1 μm or less detected by reflected light from the glass substrate forming at least a magnetic layer on the glass substrate. This means that there are a number in which the TA rate by the TA test of the disk is a predetermined value or less. Since the size and number of surface defects of this glass substrate are controlled, defects when used as a magnetic disk can be suppressed, and occurrence of problems when mounted on an HDD device can be suppressed.

このようにして、ガラス基板上の1μm以下の欠陥の個数をグライド試験から求められた値に対応する個数以下に管理することにより、磁気ディスクへの磁気ヘッドの衝突を起こすような不良品を少なくすることができる。また、磁気ディスクは、上述したガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成して構成されている。すなわち、磁気ディスクは、通常、必要に応じ表面の化学強化処理を施したガラス基板上に、下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次積層することにより製造される。なお、磁気ディスクにおける下地層は、磁性層に応じて適宜、選択される。   In this way, by controlling the number of defects of 1 μm or less on the glass substrate to be equal to or less than the number obtained from the glide test, the number of defective products that cause the magnetic head to collide with the magnetic disk is reduced. can do. The magnetic disk is formed by forming at least a magnetic layer on the glass substrate described above. That is, a magnetic disk is usually manufactured by sequentially laminating an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer on a glass substrate that has been subjected to chemical strengthening treatment on the surface as necessary. The underlayer in the magnetic disk is appropriately selected according to the magnetic layer.

上記欠陥除去処理は、例えば、ガラス基板を鏡面研磨する処理又はガラス基板を洗浄する処理である。なお、ガラス基板を洗浄する処理としては、液体を用いた洗浄処理だけではなく、気体を用いた洗浄処理、レーザ照射による洗浄処理など種々の洗浄処理を含む。また、欠陥を検出する工程において欠陥の個数及び大きさを求める場合には、欠陥の個数及び大きさに応じてガラス基板を洗浄する処理の条件を変えることが好ましい。このように欠陥の個数及び大きさに応じて洗浄する処理の条件を変えることにより、ガラス基板上から1μm以下の欠陥を効果的に除去することができ、グライド試験の所定値以下に対応する個数にすることができる。   The defect removal process is, for example, a process of mirror polishing a glass substrate or a process of cleaning the glass substrate. Note that the glass substrate cleaning process includes not only a cleaning process using a liquid but also various cleaning processes such as a cleaning process using a gas and a cleaning process using laser irradiation. Further, when obtaining the number and size of defects in the step of detecting defects, it is preferable to change processing conditions for cleaning the glass substrate in accordance with the number and size of defects. Thus, by changing the conditions of the cleaning process according to the number and size of defects, defects of 1 μm or less can be effectively removed from the glass substrate, and the number corresponding to a predetermined value or less of the glide test. Can be.

ガラス基板の製造においては、(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程、(2)端部形状工程(穴部を形成するコアリング工程、端部(外周端部及び内周端部)に面取り面を形成するチャンファリング工程(面取り面形成工程))、(3)端面研磨工程(外周端部及び内周端部)、(4)第2ラッピング工程、(5)主表面研磨工程(第1及び第2研磨工程)、(6)化学強化工程、(7)テクスチャー処理工程を備えている。なお、端部研磨工程と第2ラッピング工程とは前後する場合もある。また、テクスチャー処理工程については、垂直磁気記録方式のHDD装置に使用する磁気ディスク用基板には不要となる。   In the production of a glass substrate, (1) shape processing step and first lapping step, (2) end shape step (coring step for forming a hole, chamfering at the end (outer peripheral end and inner peripheral end) Chamfering step for forming a surface (chamfered surface forming step)), (3) end surface polishing step (outer peripheral end and inner peripheral end), (4) second lapping step, (5) main surface polishing step (first And a second polishing step), (6) a chemical strengthening step, and (7) a texture treatment step. Note that the end polishing step and the second lapping step may be mixed. Further, the texture processing step is not required for a magnetic disk substrate used in a perpendicular magnetic recording type HDD apparatus.

本発明のガラス基板の製造方法においては、ガラスブランク材を準備し、前記ガラスブランク材を用いて略円形状を有するガラス基板を得て、前記ガラス基板に対して、前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により1μm以下の欠陥を検出し、前記欠陥が所定の個数以上である場合に、前記ガラス基板に対して欠陥除去処理を行う。このような方法によれば、表面欠陥の大きさ及び個数が管理されているので、磁気ディスクとしたときの不良を抑えられ、HDD装置に搭載した際の不具合の発生を抑えることができるガラス基板を得ることができる。   In the manufacturing method of the glass substrate of this invention, a glass blank material is prepared, the glass substrate which has a substantially circular shape is obtained using the said glass blank material, The circumferential direction of the said glass substrate with respect to the said glass substrate When the glass substrate is irradiated with light having directivity from the radial direction, a defect of 1 μm or less is detected by reflected light from the glass substrate, and when the number of defects is a predetermined number or more, The defect removal process is performed. According to such a method, since the size and number of surface defects are managed, a glass substrate that can suppress defects when it is used as a magnetic disk and can suppress occurrence of defects when mounted on an HDD device. Can be obtained.

このような製造工程において、1μm以下の欠陥を検出する工程は、ガラス基板の主面を鏡面研磨する鏡面研磨工程の後に行われることが好ましい。また、1μm以下の欠陥を検出する工程は、ガラス基板を構成するガラスに対して化学強化する化学強化工程を含む場合においては、ガラス基板の主面を鏡面研磨する前記化学強化工程の後に行われることが好ましい。   In such a manufacturing process, the step of detecting a defect of 1 μm or less is preferably performed after the mirror polishing step of mirror polishing the main surface of the glass substrate. In addition, the step of detecting defects of 1 μm or less is performed after the chemical strengthening step of mirror-polishing the main surface of the glass substrate in the case of including a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass constituting the glass substrate. It is preferable.

次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
(実施例)
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。次いで、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から、直径29mmのガラス基板を切り出した。ガラス母材の直径は96mmであり、1枚のガラス母材から、6枚のガラス基板を採取することができた。次に、円筒状のコアドリルを用いて、このガラス基板の中心部に穴部を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。
Next, examples performed for clarifying the effects of the present invention will be described.
(Example)
First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a glass substrate having a diameter of 29 mm was cut out from the glass base material. The diameter of the glass base material was 96 mm, and six glass substrates could be collected from one glass base material. Next, using a cylindrical core drill, a hole was formed in the center of the glass substrate to obtain an annular glass substrate (coring).

次いで、ガラス基板の端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。また、内周端部については、磁気研磨法により鏡面研磨を行った。そして、鏡面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。これにより、ガラス基板の直径は27.4mmとなり、1インチ型磁気ディスクに用いる基板とすることができた。   Next, the end surface of the glass substrate was subjected to mirror polishing by a brush polishing method. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used. Further, the inner peripheral end portion was mirror polished by a magnetic polishing method. And the glass substrate which finished the mirror polishing process was washed with water. As a result, the diameter of the glass substrate was 27.4 mm, and the substrate used for the 1-inch magnetic disk could be obtained.

次いで、得られたガラス基板の両主表面について、上記ラッピングと同様にしてラッピング加工を行った。次いで、主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。そして、この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   Next, lapping processing was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as the above lapping. Next, a first polishing step was first performed as a main surface polishing step. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used. And the glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process is immersed in each washing tank of neutral detergent, pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) sequentially. , Washed.

次いで、ガラス基板の両主表面について、主表面を鏡面状に仕上げる第2研磨工程を施した。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。そして、この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤(1)、中性洗剤(2)、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   Next, a second polishing step for finishing the main surface into a mirror surface was performed on both main surfaces of the glass substrate. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used. And the glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process is made into neutral detergent (1), neutral detergent (2), pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), IPA (vapor drying) ) Were sequentially immersed in each washing tank and washed. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

次いで、上述したラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を380°Cに加熱し、その中に洗浄済みのガラス基板を約4時間浸漬することによって行った。   Next, chemical strengthening was performed on the glass substrate after the lapping step and the polishing step described above. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution in which potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) are mixed is prepared, this chemical strengthening solution is heated to 380 ° C., and the cleaned glass substrate is placed therein for about 4 hours. This was done by dipping.

次いで、このように化学強化を施したガラス基板を図1に示すOSA装置で欠陥を検査した。このとき、検査装置としては、光学式欠陥検査装置OSA6100(KLA社製、商品名)を用い、レーザ波長405nm、レーザ径5μm×4μmとした。また、このとき、TAテストのTA率の所定の値に対応する1μm以下の欠陥の個数(閾値)を1個とした。   Subsequently, the glass substrate thus chemically strengthened was inspected for defects using the OSA apparatus shown in FIG. At this time, an optical defect inspection apparatus OSA6100 (trade name, manufactured by KLA) was used as the inspection apparatus, and the laser wavelength was 405 nm and the laser diameter was 5 μm × 4 μm. At this time, the number (threshold value) of defects of 1 μm or less corresponding to a predetermined value of the TA ratio of the TA test was set to one.

ガラス基板100枚について、上記のような工程でガラス基板を作製して欠陥検査を行い、1μm以下の欠陥の個数が閾値を超えたガラス基板については、欠陥除去処理として、上記第2研磨工程における研磨処理を行った。このようにして、1μm以下の欠陥の個数が閾値以下に管理されたガラス基板を作製した。   About 100 glass substrates, a glass substrate is produced in the process as described above, and defect inspection is performed. For a glass substrate in which the number of defects of 1 μm or less exceeds a threshold value, as the defect removal process, in the second polishing process. Polishing treatment was performed. In this way, a glass substrate in which the number of defects of 1 μm or less was controlled to be equal to or less than the threshold value was produced.

このようなガラス基板を、20°Cの水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。   Such a glass substrate was immersed in a 20 ° C. water bath to be rapidly cooled and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Further, the glass substrate after the sulfuric acid cleaning was cleaned by immersing in a cleaning tank of pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

これらのガラス基板に、テクスチャー処理及び精密洗浄を行った後に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑層を順次積層して磁気ディスクを作製し、この磁気ディスクをロ−ド/アンロード方式のHDD装置に搭載して耐久性試験を行った。耐久性試験は、GMR素子を用いた磁気ヘッドを使用し、磁気ヘッドの浮上量は10nmとしてロードアンロード動作の繰り返しを行った。その結果。本実施例の磁気ディスクは、100万回のLUL(ロ−ド/アンロード)動作に故障することなく耐久した。   After performing texture treatment and precision cleaning on these glass substrates, a magnetic disk is manufactured by sequentially laminating an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer, and this magnetic disk is loaded / unloaded. Durability test was performed by mounting on HDD device. In the durability test, a magnetic head using a GMR element was used, and the flying height of the magnetic head was 10 nm, and the load / unload operation was repeated. as a result. The magnetic disk of this example was durable without failure in 1 million LUL (load / unload) operations.

(比較例)
ガラス基板上の1μm以下の欠陥の個数を管理することなく、実施例と同様にしてガラス基板を作製し、これらのガラス基板に、実施例と同様にして下地層、磁性層、保護層及び潤滑層を順次積層して磁気ディスクを作製し、この磁気ディスクをロ−ド/アンロード方式のHDD装置に搭載して上記耐久性試験を行った。その結果、ガラス基板から作製された磁気ディスクのいくつかについて、60万回のLUL動作でヘッドクラッシュなどの不具合が生じた。これは、1μm以下の欠陥の個数を管理していないので、このような微細な欠陥が高い割合で存在して、ヘッドクラッシュなどを起こしたと考えられる。
(Comparative example)
Without controlling the number of defects of 1 μm or less on the glass substrate, glass substrates were produced in the same manner as in the examples, and the underlayer, magnetic layer, protective layer, and lubrication were applied to these glass substrates in the same manner as in the examples. The layers were sequentially laminated to produce a magnetic disk, and this magnetic disk was mounted on a load / unload type HDD device and the durability test was conducted. As a result, for some of the magnetic disks manufactured from the glass substrate, problems such as a head crash occurred after 600,000 LUL operations. Since the number of defects of 1 μm or less is not managed, it is considered that such fine defects exist at a high rate and cause a head crash or the like.

本発明は上記実施の形態に限定されず、適宜変更して実施することができる。例えば、上記実施の形態においては、ガラス基板における1μm以下の欠陥の個数を管理することについて説明しているが、本発明はこれに限定されず、アルミニウム合金基板などの他の磁気ディスク用基板における1μm以下の欠陥の個数を管理する場合にも適用することができる。ガラス基板とアルミニウム合金基板などの他の基板とでは、欠陥の種類は異なるが、アルミニウム合金基板などの他の基板においても1μm以下の欠陥の個数とTAテストのTA率との間の相関を得ることが可能であると考えられるので、その相関関係を用いて1μm以下の欠陥の個数を管理することにより、そして、その相関関係を用いて磁気ディスクとしたときの不良を抑えられる磁気ディスク用基板を得ることができる。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with appropriate modifications. For example, in the above embodiment, the management of the number of defects of 1 μm or less in the glass substrate is described, but the present invention is not limited to this, and in other magnetic disk substrates such as an aluminum alloy substrate. The present invention can also be applied when managing the number of defects of 1 μm or less. Although the types of defects differ between the glass substrate and other substrates such as an aluminum alloy substrate, the correlation between the number of defects of 1 μm or less and the TA rate of the TA test is also obtained in other substrates such as the aluminum alloy substrate. Therefore, by managing the number of defects of 1 μm or less using the correlation, and by using the correlation, a magnetic disk substrate that can suppress defects when a magnetic disk is used Can be obtained.

また、上記実施の形態においては、磁気ディスクへの磁気ヘッドの衝突についてTAテストを用いた場合について説明しているが、本発明はこれに限定されず、磁気ディスクへの磁気ヘッドの衝突についてグライド試験やサーティファイ試験を用いても良い。また、上記実施の形態における部材の個数、サイズ、処理手順などは一例であり、本発明の効果を発揮する範囲内において種々変更して実施することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。   In the above embodiment, the case where the TA test is used for the collision of the magnetic head with the magnetic disk has been described. However, the present invention is not limited to this, and the glide for the collision of the magnetic head with the magnetic disk is described. A test or a certification test may be used. In addition, the number, size, processing procedure, and the like of the members in the above embodiment are merely examples, and various changes can be made within the range where the effects of the present invention are exhibited. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

ガラス基板上の欠陥を検出する装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the apparatus which detects the defect on a glass substrate. ガラス基板上の欠陥を検出する装置の概略構成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of schematic structure of the apparatus which detects the defect on a glass substrate. (a)〜(f)は、種々の大きさの欠陥のカウントについて、図1に示す装置と図2に示す装置との間の相関を示す図である。(A)-(f) is a figure which shows the correlation between the apparatus shown in FIG. 1, and the apparatus shown in FIG. 2 about the count of the defect of various magnitude | sizes. (a)は、図2に示す装置で検出された欠陥の分析結果を示す図であり、(b)は、図1に示す装置で検出された欠陥の分析結果を示す図である。(A) is a figure which shows the analysis result of the defect detected with the apparatus shown in FIG. 2, (b) is a figure which shows the analysis result of the defect detected with the apparatus shown in FIG. TA率と1μm以下の大きさの欠陥の個数との間の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between TA rate and the number of the defects of a magnitude | size of 1 micrometer or less.

符号の説明Explanation of symbols

11,12,21 レーザ
13 検出器
23 ミラー
24 APD検出器
S ガラス基板
11, 12, 21 Laser 13 Detector 23 Mirror 24 APD detector S Glass substrate

Claims (8)

ガラスブランク材を準備する工程と、前記ガラスブランク材を用いて略円形状を有するガラス基板を得る工程と、前記ガラス基板に対して前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により1μm以下の欠陥を検出する工程と、前記欠陥が所定の個数以上である場合に、前記ガラス基板に対して欠陥除去処理を行う工程と、を具備することを特徴とするガラス基板の製造方法。   A step of preparing a glass blank, a step of obtaining a glass substrate having a substantially circular shape using the glass blank, and light having directivity from the circumferential direction and the radial direction of the glass substrate with respect to the glass substrate Irradiating the glass substrate, detecting a defect of 1 μm or less by reflected light from the glass substrate, and performing a defect removing process on the glass substrate when the number of defects is a predetermined number or more And a method of manufacturing a glass substrate. 前記欠陥を検出する工程は、前記ガラス基板の主面を鏡面研磨する鏡面研磨工程の後に行われることを特徴とする請求項1記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 1, wherein the step of detecting the defect is performed after a mirror polishing step of mirror polishing the main surface of the glass substrate. 前記ガラス基板を構成するガラスに対して化学強化する化学強化工程を含む場合においては、前記欠陥を検出する工程が、前記ガラス基板の主面を鏡面研磨する前記化学強化工程の後に行われることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のガラス基板の製造方法。   In the case of including a chemical strengthening step of chemically strengthening the glass constituting the glass substrate, the step of detecting the defect is performed after the chemical strengthening step of mirror-polishing the main surface of the glass substrate. The method for producing a glass substrate according to claim 1 or 2, wherein the glass substrate is a glass substrate. 前記欠陥除去処理は、前記ガラス基板を鏡面研磨する処理又は前記ガラス基板を洗浄する処理であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。   The method for manufacturing a glass substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the defect removing process is a process of mirror polishing the glass substrate or a process of cleaning the glass substrate. 前記ガラス基板を洗浄する処理において、前記欠陥の個数及び大きさに応じて条件を変えることを特徴とする請求項4記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 4, wherein in the process of cleaning the glass substrate, conditions are changed according to the number and size of the defects. 前記欠陥の所定の個数は、前記ガラス基板に少なくとも磁性層を形成してなる磁気ディスクのサーマルアスペリティ(TA)テストによるTA率が所定値以下になる個数であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。   2. The predetermined number of the defects is a number in which a TA ratio according to a thermal asperity (TA) test of a magnetic disk formed by forming at least a magnetic layer on the glass substrate is a predetermined value or less. The manufacturing method of the glass substrate in any one of Claim 5. 少なくとも略平坦な主表面を備え、略円形状を有する磁気ディスク用ガラス基板であって、前記主表面上に、前記ガラス基板に対して、前記ガラス基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記ガラス基板に照射し、前記ガラス基板からの反射光により検出される1μm以下の欠陥が、前記ガラス基板に少なくとも磁性層を形成してなる磁気ディスクのサーマルアスペリティ(TA)テストによるTA率が所定値以下になる個数存在することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。   A glass substrate for a magnetic disk having at least a substantially flat main surface and having a substantially circular shape, and having directivity from a circumferential direction and a radial direction of the glass substrate on the main surface with respect to the glass substrate. When the glass substrate is irradiated with light having a defect of 1 μm or less detected by reflected light from the glass substrate, a TA by a thermal asperity (TA) test of a magnetic disk in which at least a magnetic layer is formed on the glass substrate. A glass substrate for a magnetic disk, characterized in that there are a number in which the rate is a predetermined value or less. ブランク材を準備する工程と、前記ブランク材を用いて略円形状を有する基板を得る工程と、前記基板に対して前記基板の円周方向及び半径方向から指向性を持つ光を前記基板に照射し、前記基板からの反射光により1μm以下の欠陥を検出する工程と、前記欠陥が所定の個数以上である場合に、前記基板に対して欠陥除去処理を行う工程と、を具備することを特徴とする基板の製造方法。   A step of preparing a blank material, a step of obtaining a substrate having a substantially circular shape using the blank material, and irradiating the substrate with light having directivity from the circumferential direction and the radial direction of the substrate And a step of detecting a defect of 1 μm or less by reflected light from the substrate and a step of performing a defect removal process on the substrate when the number of defects is a predetermined number or more. A method for manufacturing a substrate.
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