JP2009053258A - Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device - Google Patents

Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device Download PDF

Info

Publication number
JP2009053258A
JP2009053258A JP2007217344A JP2007217344A JP2009053258A JP 2009053258 A JP2009053258 A JP 2009053258A JP 2007217344 A JP2007217344 A JP 2007217344A JP 2007217344 A JP2007217344 A JP 2007217344A JP 2009053258 A JP2009053258 A JP 2009053258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
deflection element
light
signal path
optical signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007217344A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumasa Saito
和正 齋藤
Tomoyuki Akaboshi
知幸 赤星
Akio Sugama
明夫 菅間
Shigenori Aoki
重憲 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2007217344A priority Critical patent/JP2009053258A/en
Publication of JP2009053258A publication Critical patent/JP2009053258A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical signal path changing device which is high in the reliability of an electric connection between an optical deflecting element and a wiring on a substrate, and to improve the manufacture yield of the optical signal path changing device. <P>SOLUTION: In the case of manufacturing the optical signal path changing device, which includes the optical deflecting element, an incident portion and a projection portion for light, and a substrate mounted with the wiring for applying a voltage to one surface of the optical deflecting element, a solvent-free conductive paste containing an addition type thermosetting compound and a conductive material is sandwiched between the electrode on the one surface of the optical deflecting element and the wiring, and half-cured into a half-cured body having a glass transition point not higher than 0°C, and an underfill agent is flowed into a space formed between the optical deflecting element and substrate as the optical deflecting element is mounted on the substrate; and then an optical waveguide is positioned, the underfill agent is cured, and the conductive paste is subjected to final curing. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光通信における光信号経路変更装置の製造方法および光信号経路変更装置に関するものである。   The present invention relates to an optical signal path changing device manufacturing method and an optical signal path changing device in optical communication.

近年、光通信の伝送帯域は増加の一途をたどり、波長多重化(WDM:Wavelength Division Multiplex)技術の進展と相俟って高速かつ大容量化が進んでいる。基幹通信ネットワークにおける光ファイバー網のハードウェアインフラを構築するためには、光信号の伝達先を切換える光信号経路変更装置が必要である。なお、光信号経路変更装置は光信号の経路を切換える意味から、光信号切換え装置とも呼ばれる。単に光スイッチと呼ばれることもある。   In recent years, the transmission band of optical communication has been steadily increasing, and with the progress of wavelength division multiplexing (WDM) technology, the speed and capacity have been increased. In order to construct a hardware infrastructure of an optical fiber network in a backbone communication network, an optical signal path changing device that switches an optical signal transmission destination is necessary. The optical signal path changing device is also called an optical signal switching device in the sense of switching the optical signal path. Sometimes simply called an optical switch.

従来、光信号経路変更装置としては、光信号を一旦電気信号に変換して信号の伝達先をクロスバースイッチで切換え、その後再び光信号に変換する光クロスコネクト装置が主流である。しかし、データ転送速度が10Gb/sを超えると、従来のように電気的なスイッチイング素子を用いて切換え装置を構成することが困難になってくる。   2. Description of the Related Art Conventionally, as an optical signal path changing device, an optical cross-connect device that converts an optical signal into an electrical signal, switches a signal transmission destination with a crossbar switch, and then converts the signal again into an optical signal has been mainstream. However, when the data transfer rate exceeds 10 Gb / s, it becomes difficult to configure a switching device using an electrical switching element as in the prior art.

電気的なスイッチング素子の替わりに光学的なスイッチング素子を用いて光伝播パスを切換えるようにすると、光と電気との間の変換が不要になり、光信号の速度(周波数)に依存しない光クロスコネクト装置を構成することができる。現在、入力ポート数が32、出力ポート数が32(32×32チャネル)の光スイッチモジュールが実現されており、このような光スイッチモジュールを多段接続して非閉塞のスイッチ網(光信号経路変更装置)を構築した例もある。   If the optical propagation path is switched using an optical switching element instead of an electrical switching element, conversion between light and electricity becomes unnecessary, and the optical cross does not depend on the speed (frequency) of the optical signal. A connect device can be configured. At present, an optical switch module with 32 input ports and 32 output ports (32 × 32 channels) has been realized, and such an optical switch module is connected in multiple stages to provide a non-blocking switch network (optical signal path change). There is also an example of constructing a device.

従来の光スイッチモジュールでは、一般的に、光学的スイッチイング素子として可動式のマイクロミラーが用いられている。すなわち、電気信号によりマイクロミラーの向きを制御して、光信号の伝播する方向を切換えている。マイクロミラーはMEMS(マイクロエレクトロメカニカルシステムズ)技術を使用して形成される。光スイッチモジュールは、多数のマイクロミラーを2方向(X方向及びY方向)に配列して構成されている。   In a conventional optical switch module, generally, a movable micromirror is used as an optical switching element. That is, the direction in which the optical signal propagates is switched by controlling the direction of the micromirror with an electric signal. Micromirrors are formed using MEMS (microelectromechanical systems) technology. The optical switch module is configured by arranging a large number of micromirrors in two directions (X direction and Y direction).

また、電気光学効果を利用したスイッチング素子(光偏向素子)も開発されている(たとえば特許文献1参照。)。図1Aは光偏向素子の一例を示す平面図、図1Bは同じくその断面図である。この図1A,1Bに示すように、光偏向素子は、導電性又は半導電性の単結晶基板7の上に電気光学効果を有する光導波路5が形成され、更にその上に上部電極6が形成されている。上部電極6は、入射光の光軸に対し直交する辺(底辺という)と斜めに交差する辺(斜辺という)とを有するくさび形状(直角三角形状)に形成されている。   In addition, a switching element (light deflecting element) using an electro-optic effect has been developed (see, for example, Patent Document 1). FIG. 1A is a plan view showing an example of an optical deflection element, and FIG. 1B is a sectional view of the same. As shown in FIGS. 1A and 1B, in the optical deflection element, an optical waveguide 5 having an electrooptic effect is formed on a conductive or semiconductive single crystal substrate 7, and an upper electrode 6 is further formed thereon. Has been. The upper electrode 6 is formed in a wedge shape (right triangle shape) having a side (referred to as a base) perpendicular to the optical axis of incident light and a side (referred to as a hypotenuse) that crosses obliquely.

このように構成された光偏向素子において、光は、図1Aに示すように、上部電極6の底辺側から光導波路5に入射し、上部電極6の斜辺側から出射する。基板7を下部電極とし、上部電極6との間に電圧を印加することにより、光導波路5のうち上部電極6の下方の部分の屈折率が変化し、周囲との間に屈折率の差が生じる。光導波路5を通る光は、屈折率が変化する部分で屈折して進行方向が変化する。すなわち、上部電極6と基板7との間に印加する電圧を変化させて、光の出射方向を制御することができる。
特開2002−318398号公報(請求の範囲)
In the optical deflection element configured as described above, light enters the optical waveguide 5 from the bottom side of the upper electrode 6 and exits from the oblique side of the upper electrode 6 as shown in FIG. 1A. By applying a voltage between the substrate 7 as the lower electrode and the upper electrode 6, the refractive index of the portion of the optical waveguide 5 below the upper electrode 6 changes, and there is a difference in refractive index from the surroundings. Arise. The light passing through the optical waveguide 5 is refracted at the portion where the refractive index changes, and the traveling direction changes. That is, the light emission direction can be controlled by changing the voltage applied between the upper electrode 6 and the substrate 7.
JP 2002-318398 A (Claims)

上記の光信号経路変更装置を製造する場合には、入射光の入射経路(導波路)と光偏向素子の光導波路および光偏向素子の光導波路と出射光の出射経路(導波路)の位置合わせをミクロンオーダーで行う。具体的には、基板上に置かれた光入射経路や光出射経路との間に光偏向素子を設置するに当たり、光偏向素子への電圧印加の際に誘電率を低く抑え、光信号経路変更装置の絶縁破壊を防止するために光偏向素子と基板との間に樹脂(アンダーフィル剤)を注入し、光偏向素子を基板上に載置された導電性ペーストに位置合わせし、かつ、光入射経路を通って入射する光が光偏向素子の光導波路部分を通って光出射経路に達するように位置合わせし、その後、導電性ペーストおよびアンダーフィル剤を硬化させて光偏向素子を基板上に固定する。   When manufacturing the above optical signal path changing device, alignment of the incident path (waveguide) of the incident light with the optical waveguide of the optical deflection element and the optical waveguide of the optical deflection element and the output path (waveguide) of the outgoing light To the micron order. Specifically, when installing a light deflection element between the light incident path and light emission path placed on the substrate, the dielectric constant is kept low when voltage is applied to the light deflection element, and the optical signal path is changed. In order to prevent breakdown of the device, a resin (underfill agent) is injected between the optical deflection element and the substrate, the optical deflection element is aligned with the conductive paste placed on the substrate, and the light Alignment is performed so that light incident through the incident path reaches the light exit path through the optical waveguide portion of the light deflection element, and then the conductive paste and the underfill agent are cured to place the light deflection element on the substrate. Fix it.

このとき、光偏向素子と基板上の配線との間を導電性ペーストの硬化物で電気的に接続するのであるが、この電気的接続がうまく行かない場合が多い。検討の結果、電気的接続がうまく行かないのは、アンダーフィル剤を光偏向素子と基板との間に注入する際の表面張力により、導電性ペーストの硬化物と基板との間あるいは導電性ペーストの硬化物と光偏向素子との間にアンダーフィル剤が侵入するためであることが判明した。   At this time, the light deflection element and the wiring on the substrate are electrically connected with a cured product of the conductive paste, but this electrical connection often fails. As a result of investigation, electrical connection does not work well because of the surface tension when the underfill agent is injected between the light deflecting element and the substrate, or between the cured paste of the conductive paste and the substrate or the conductive paste. It was found that this is because an underfill agent entered between the cured product and the light deflection element.

本発明は上記問題を解決する方法を提供することを目的としている。本発明の更に他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。   The present invention aims to provide a method for solving the above problems. Still other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の一態様によれば、電圧印加による屈折率の変化により光を偏向させる光偏向素子と、当該光偏向素子に光を入射するための入射部と、当該光偏向素子から光を出射するための出射部と、当該光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とを含んでなる光信号経路変更装置の製造方法であって、
前記光偏向素子には、その両面に電圧を印加するための電極が設けられており、
前記光偏向素子の一方の面上の電極と前記配線との間に、当該電極を前記配線に電気的に接続するための、付加型熱硬化性化合物と導電性材料とを含んでなる無溶媒の導電性ペーストを挟み込み、
前記挟み込みの前、途中、または後に、前記導電性ペーストを半硬化してガラス転移点が0℃以下である半硬化物となし、
その後、前記挟み込みによって生じた、前記光偏向素子と前記基板との間の空間にアンダーフィル剤を流し込み、
その後、光導波路の位置合わせを行い、
その後、前記アンダーフィル剤の硬化と前記導電性ペーストの最終硬化とを行う、
光信号経路変更装置の製造方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, an optical deflection element that deflects light by a change in refractive index caused by voltage application, an incident portion for entering light into the optical deflection element, and light is emitted from the optical deflection element And a manufacturing method of an optical signal path changing device comprising a substrate on which wiring for applying a voltage to one surface of the light deflection element is placed,
The light deflection element is provided with electrodes for applying a voltage to both sides thereof,
Solvent-free comprising an addition-type thermosetting compound and a conductive material for electrically connecting the electrode to the wiring between the electrode on one surface of the light deflection element and the wiring Sandwich the conductive paste of
Before, during, or after the sandwiching, the conductive paste is semi-cured to form a semi-cured product having a glass transition point of 0 ° C. or less,
Thereafter, an underfill agent is poured into the space between the optical deflection element and the substrate, which is generated by the sandwiching,
Then, align the optical waveguide,
Thereafter, curing the underfill agent and final curing of the conductive paste,
A method of manufacturing an optical signal path changing device is provided.

本発明態様により、光偏向素子と基板上の配線との間の電気的接続の信頼性の高い光信号経路変更装置が得られ、光信号経路変更装置の製造歩留まりを向上できる。   According to the aspect of the present invention, an optical signal path changing device with high reliability of electrical connection between the optical deflection element and the wiring on the substrate can be obtained, and the manufacturing yield of the optical signal path changing device can be improved.

前記導電性ペーストの半硬化物の室温における50%伸張時のモジュラスが5.0〜50.0N/cmの間にあること、前記導電性ペーストの前記半硬化から前記最終硬化までの間の線収縮率が0.5%以下であること、および、前記付加型熱硬化性化合物が、アクリロニトリルとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、液状シリコーン樹脂、液状ウレタンゴム、スチレンとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、1,2−ポリブタジエンを主構成要素として含む液状の樹脂、ポリクロロプレンを主構成要素として含む液状の樹脂およびこれらの混合物からなる群から選ばれたものであることが好ましい。 The modulus at 50% elongation at room temperature of the semi-cured product of the conductive paste is between 5.0 and 50.0 N / cm 2 , and between the semi-curing and the final curing of the conductive paste. The linear shrinkage rate is 0.5% or less, and the addition-type thermosetting compound is a liquid resin, liquefied silicone resin, liquid urethane rubber, styrene and butadiene containing acrylonitrile and butadiene as main components. Selected from the group consisting of a liquid resin containing as a main component, a liquid resin containing 1,2-polybutadiene as a main component, a liquid resin containing polychloroprene as a main component, and a mixture thereof. It is preferable.

本発明の他の一態様によれば、上記の方法によって製造された光信号経路変更装置が提供される。   According to another aspect of the present invention, an optical signal path changing device manufactured by the above method is provided.

本発明により、光偏向素子と基板上の配線との間の電気的接続の信頼性の高い光信号経路変更装置が得られ、光信号経路変更装置の製造歩留まりを向上できる。   According to the present invention, an optical signal path changing device with high reliability of electrical connection between an optical deflection element and a wiring on a substrate can be obtained, and the manufacturing yield of the optical signal path changing device can be improved.

以下に、本発明の実施の形態を図、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。図中、同一の記号は同一の要素を表す。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, examples and the like. In addition, these figures, Examples, etc. and description illustrate the present invention, and do not limit the scope of the present invention. It goes without saying that other embodiments may belong to the category of the present invention as long as they match the gist of the present invention. In the drawings, the same symbol represents the same element.

本発明によれば、電圧印加による屈折率の変化により光を偏向させる光偏向素子と、当該光偏向素子に光を入射するための入射部と、当該光偏向素子から光を出射するための出射部と、当該光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とを含んでなる光信号経路変更装置を製造するに当たり、
前記光偏向素子には、その両面に電圧を印加するための電極が設けられており、
前記光偏向素子の一方の面上の電極と前記配線との間に、当該電極を前記基板上の配線に電気的に接続するための、付加型熱硬化性化合物と導電性材料とを含んでなる無溶媒の導電性ペーストを挟み込み、
前記挟み込みの前、途中、または後に、前記導電性ペーストを半硬化してガラス転移点が0℃以下である半硬化物となし、
前記挟み込みによって生じた、前記光偏向素子と前記基板との間の空間にアンダーフィル剤を流し込み、
その後、光導波路の位置合わせを行い、
その後、前記アンダーフィル剤の硬化と前記導電性ペーストの最終硬化とを行う。
According to the present invention, an optical deflection element that deflects light by a change in refractive index due to voltage application, an incident part for entering light into the optical deflection element, and an emission for emitting light from the optical deflection element And an optical signal path changing device including a substrate on which wiring for applying a voltage is applied to one surface of the optical deflection element,
The light deflection element is provided with electrodes for applying a voltage to both sides thereof,
An additive thermosetting compound and a conductive material for electrically connecting the electrode to the wiring on the substrate are included between the electrode on one surface of the light deflection element and the wiring. Insert a solvent-free conductive paste
Before, during, or after the sandwiching, the conductive paste is semi-cured to form a semi-cured product having a glass transition point of 0 ° C. or less,
An underfill agent is poured into the space between the light deflection element and the substrate, which is generated by the sandwiching,
Then, align the optical waveguide,
Thereafter, the underfill agent is cured and the conductive paste is finally cured.

光偏向素子に光を入射するための入射部と、光偏向素子から光を出射するための出射部と、光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とからなる部分の様子を図2,3に例示する。図2,3において、基板1上に配線2が設けられている。入射部3と出射部4とは配線2を挟んで基板1上に設置されている。ただし、入射部3と出射部4とが配線2を挟んで基板1上に配置されている条件は必須ではない。入射部3および出射部4と配線2との関係は任意であり、どのような配置関係になっていてもよい。なお、図2〜7において、横方向の点線は、入射部3と出射部4については導波路を示している。   From an incident part for making light incident on the optical deflection element, an emission part for emitting light from the optical deflection element, and a substrate on which a wiring for applying a voltage to one surface of the optical deflection element is placed The state of this part is illustrated in FIGS. 2 and 3, the wiring 2 is provided on the substrate 1. The incident portion 3 and the emission portion 4 are installed on the substrate 1 with the wiring 2 interposed therebetween. However, the condition that the incident portion 3 and the emission portion 4 are arranged on the substrate 1 with the wiring 2 interposed therebetween is not essential. The relationship between the incident portion 3 and the emission portion 4 and the wiring 2 is arbitrary, and may be any arrangement relationship. 2 to 7, the dotted line in the horizontal direction indicates the waveguide for the incident portion 3 and the emission portion 4.

入射部3と出射部4とにはたとえば光ファイバーを接続することができるが、入射部3に光を導き入れ、出射部4から光を導き出せる部品であればどのような部品に接続されていてもよい。   For example, an optical fiber can be connected to the incident portion 3 and the emission portion 4, but any component can be used as long as it can introduce light into the incidence portion 3 and extract light from the emission portion 4. Good.

このような入射部と出射部と基板とからなる部分の基板上に光偏向素子を載置する。光偏向素子には、その両面に電圧を印加するための電極が設けられており、両電極間に電圧を印加することによって光偏向素子の屈折率を変化させ、この屈折率の変化により光を偏向させることができる。   The light deflection element is placed on the substrate of the portion composed of the incident part, the emission part, and the substrate. The light deflection element is provided with electrodes for applying a voltage to both sides thereof, and the refractive index of the light deflection element is changed by applying a voltage between both electrodes, and the light is changed by the change of the refractive index. Can be deflected.

本発明に係る光偏向素子は、光導波路部分とその両側にある電極とからなる。その一例は図1A,1Bに示されている。図1Bでは、光導波路部分5の両側に電極6,7が描かれている。電極7は光導波路部分5を支持する基板の役割を兼ねている。その意味で、電極7を光導波路支持基板と呼ぶこともできる。   The optical deflection element according to the present invention comprises an optical waveguide portion and electrodes on both sides thereof. An example is shown in FIGS. 1A and 1B. In FIG. 1B, electrodes 6 and 7 are drawn on both sides of the optical waveguide portion 5. The electrode 7 also serves as a substrate that supports the optical waveguide portion 5. In that sense, the electrode 7 can also be called an optical waveguide support substrate.

光導波路部分の材質は、光の透過率が実用上問題ないほど高く、ポッケルス効果(電気光学効果)を示すものであれば特に制限はなく、主にPLZT光学素子が使用される。光導波路部分の形状は、本願発明の趣旨に合致する限り特に制限はなく、屈折率の変化する領域は電極の形状で決まるので電極の形状が重要である。通常、一方の面の電極(電極7)を、光導波路部分を一面で覆う共通電極とし、もう一方の面の電極(電極6)の形状により屈折率の変化する領域を決める。電極6の形状は上記のごとく直角三角形が多いが、その他の形状でもよい場合もある。電極7も複数に分け、電極6の形状と同様にしてもよい。   The material of the optical waveguide portion is not particularly limited as long as the light transmittance is so high that there is no practical problem and exhibits the Pockels effect (electro-optic effect), and a PLZT optical element is mainly used. The shape of the optical waveguide portion is not particularly limited as long as it matches the purpose of the present invention, and the shape of the electrode is important because the region where the refractive index changes is determined by the shape of the electrode. Usually, the electrode on one surface (electrode 7) is a common electrode that covers the optical waveguide portion on one surface, and the region where the refractive index changes is determined by the shape of the electrode (electrode 6) on the other surface. The shape of the electrode 6 is often a right triangle as described above, but may be other shapes. The electrode 7 may be divided into a plurality of parts and may have the same shape as the electrode 6.

光導波路部分を通過する光は、この直角三角形に直交する光偏向素子面(以下、一般的に、電極のある面に直交する方向から見た場合に見られる光偏向素子面を「表面」と呼び、表面に直交する面を「断面」と呼称する)を通過するが、その断面上の通過位置については、光導波路部分でありさえすれば、特に制限はない。ただし、光導波路部分の断面の厚さは通常数μm程度であるので、入射部の光導波路および出射部の光導波路と光導波路部分の断面との位置合わせには厳密な調節が必要になる。たとえば、入射部からの光を出射部側から観察して光が届いたこと(または、観察される光の強さが最大になること)を確認することで入射部の光導波路および出射部の光導波路と光偏向素子の光導波路部分の断面とがうまく位置合わせされたことが把握できる。なお、入射部の光導波路と出射部の光導波路とは事前に位置合わせしておく。位置合わせは電圧を印加しない状態で行われるので、この「出射部の光導波路」は光が偏向されていないときの出射部の光導波路である。   The light passing through the optical waveguide portion is an optical deflection element surface orthogonal to this right triangle (hereinafter, the optical deflection element surface generally seen when viewed from the direction orthogonal to the surface with the electrodes is referred to as “surface”. The plane perpendicular to the surface is referred to as a “cross section”), but the passage position on the cross section is not particularly limited as long as it is the optical waveguide portion. However, since the thickness of the cross section of the optical waveguide portion is usually about several μm, strict adjustment is required for alignment of the optical waveguide of the incident portion and the optical waveguide of the output portion with the cross section of the optical waveguide portion. For example, by observing the light from the incident part from the emission part side and confirming that the light has arrived (or the intensity of the observed light is maximized), the optical waveguide of the incident part and the emission part It can be understood that the optical waveguide and the cross section of the optical waveguide portion of the optical deflection element are well aligned. Note that the optical waveguide at the entrance and the optical waveguide at the exit are aligned in advance. Since the alignment is performed in a state where no voltage is applied, this “optical waveguide of the emission part” is the optical waveguide of the emission part when the light is not deflected.

このようにして、入射部の光導波路および出射部の光導波路が光偏向素子の断面とうまく位置合わせでき、更に、光偏向素子上の導電性ペースト(またはその半硬化物あるいは最終硬化物)と配線との位置的接続が取れていれば光偏向素子の位置合わせが完成する。   In this manner, the optical waveguide at the entrance and the optical waveguide at the exit can be aligned with the cross section of the optical deflection element, and the conductive paste on the optical deflection element (or a semi-cured product or a final cured product thereof) If the positional connection with the wiring is taken, the alignment of the optical deflection element is completed.

本発明に係る光偏向素子には、その両面に電圧を印加するための電極が設けられており、その一方(基板に対向する側)を基板上の配線と電気的に接続する。他方の電極は、電圧を印加するための他の部品に接続される。他方の電極はそれ自体が光導波路部分を支持する基板(光導波路支持基板)としての役割を有することが多い。本発明に係る電極の材質としては特に制限はなく公知のものを使用できる。図1Bの基板に対向する側の電極6には、金、銅、ITO等が使用され、反対側の電極7には、PLZT光学素子の場合にはNb÷STO等が使用されることが多い。   The light deflection element according to the present invention is provided with electrodes for applying a voltage to both surfaces thereof, and one of the electrodes (the side facing the substrate) is electrically connected to the wiring on the substrate. The other electrode is connected to other components for applying a voltage. In many cases, the other electrode itself serves as a substrate (optical waveguide support substrate) for supporting the optical waveguide portion. There is no restriction | limiting in particular as a material of the electrode which concerns on this invention, A well-known thing can be used. Gold, copper, ITO or the like is often used for the electrode 6 on the side facing the substrate of FIG. 1B, and Nb / STO or the like is often used for the electrode 7 on the opposite side in the case of a PLZT optical element. .

本発明に係る光偏向素子は複数個あってもよいが、電極を複数設置することによって、屈折率の異なる領域を複数設けることが容易であるので、複数の光偏向素子を設ける価値は少ない。複数の光偏向素子が存在する場合、光偏向素子同士の間の光の通過には、別の部品が介在してもよいが、介在しなくてもよい。   Although there may be a plurality of light deflecting elements according to the present invention, it is easy to provide a plurality of regions having different refractive indexes by providing a plurality of electrodes, and thus it is not worth providing a plurality of light deflecting elements. In the case where there are a plurality of light deflection elements, another part may or may not intervene in the passage of light between the light deflection elements.

本発明に係る入射部は光を光偏向素子に導き入れる機能を有する部分を意味し、その他のどのような機能を持っていてもよい。単なる光ファイバーの他、複数個のコア部をクラッド層でくるんだ導波路や後述するようなコリメートレンズであってもよい。本発明に係る出射部についても同様に考えることができる。   The incident portion according to the present invention means a portion having a function of introducing light into the light deflection element, and may have any other function. In addition to a simple optical fiber, a waveguide in which a plurality of core portions are wrapped with a clad layer or a collimating lens as described later may be used. The same applies to the emission part according to the present invention.

光偏向素子は基板上に載置される。その際、光偏向素子の一方の面上の電極と上記配線との間に、この電極を基板上の配線に電気的に接続するための、付加型熱硬化性化合物と導電性材料とを含んでなる無溶媒の導電性ペーストが挟み込まれる。   The light deflection element is placed on the substrate. At that time, an additive-type thermosetting compound and a conductive material for electrically connecting the electrode to the wiring on the substrate are included between the electrode on one surface of the optical deflection element and the wiring. A solvent-free conductive paste consisting of

このためには、事前に導電性ペーストを上記配線上に配置することが多い。図4を参照されたい。図4では、導電性ペースト8が基板1の配線2上に配置されている。この配置には、スクリーン印刷やディスペンサ方式等公知の方法を採用し得る。   For this purpose, a conductive paste is often placed on the wiring in advance. Please refer to FIG. In FIG. 4, the conductive paste 8 is disposed on the wiring 2 of the substrate 1. For this arrangement, a known method such as screen printing or a dispenser method can be employed.

その後光偏向素子の電極が導電性ペーストに接するように光偏向素子を基板上に載置する。図4の下側には光偏向素子の平面図(左側)および横断面図(右側)が示されている。光偏向素子の平面図から、この例では屈折率を変化させられる領域が12個存在することが分かる。なお、電極6は丸印で示されているが、これは簡略化のためであり、実際の形状を示すものではない。   Thereafter, the light deflection element is placed on the substrate so that the electrode of the light deflection element is in contact with the conductive paste. 4 shows a plan view (left side) and a cross-sectional view (right side) of the light deflection element. From the plan view of the optical deflection element, it can be seen that there are twelve regions in which the refractive index can be changed in this example. The electrode 6 is indicated by a circle, but this is for simplification and does not indicate the actual shape.

図5は載置の様子を例示している。図5では、光偏向素子9の電極6が、基板1の配線2上にある導電性ペースト8と接して置かれている。事前に導電性ペーストを光偏向素子上に配置するやり方を採用してもよいが、位置決めの容易さからは前者の方が有利である。なお、電極上に導電性ペーストに接するための端子部分があってもよい。本発明で「電極」という場合にはこの「端子部分」も含めて考えることができる。   FIG. 5 illustrates the state of placement. In FIG. 5, the electrode 6 of the light deflection element 9 is placed in contact with the conductive paste 8 on the wiring 2 of the substrate 1. Although a method of arranging the conductive paste on the light deflection element in advance may be adopted, the former is more advantageous from the viewpoint of easy positioning. Note that a terminal portion for contacting the conductive paste may be provided on the electrode. In the present invention, the term “electrode” may be considered including this “terminal portion”.

この挟み込みの前、途中、または後に、前記導電性ペーストを半硬化させ、ガラス転移点が0℃以下である半硬化物となす。「半硬化」とはある程度硬化が進んだことを意味する。半硬化は、後で注入されるアンダーフィル剤によって導電性ペーストが溶解または変形しないようにするために行う。また、アンダーフィル剤の注入前であっても、導電性ペーストに与えられた形状がある程度保たれるようにするために行ってもよい。   Before, during or after the sandwiching, the conductive paste is semi-cured to obtain a semi-cured product having a glass transition point of 0 ° C. or less. “Semi-cured” means that curing has progressed to some extent. Semi-curing is performed to prevent the conductive paste from being dissolved or deformed by an underfill agent to be injected later. Further, even before the underfill agent is injected, the shape given to the conductive paste may be maintained to some extent.

硬化の程度は実情に応じて適宜選択すればよい。半硬化を、挟み込みの前、途中または後のいずれの条件で行うかは、実情に応じて適宜定めればよい。挟み込みの前、途中または後のいずれかの段階を通して連続的に行ってもよく、複数回行ってもよい。半硬化は普通加熱によって行われるがその条件に特に制限はない。なお、ガラス転移点はある程度硬化が進んだ後はそれほど変化しないのが普通である。   The degree of curing may be appropriately selected according to the actual situation. Whether semi-curing is performed before, during or after sandwiching may be appropriately determined according to the actual situation. It may be performed continuously through any of the stages before, during or after the sandwiching, or may be performed a plurality of times. Semi-curing is usually performed by heating, but the conditions are not particularly limited. In general, the glass transition point does not change so much after curing has progressed to some extent.

時期的には、導電性ペーストの流動性が大きく、形状が崩れやすい場合には挟み込みの前に行う方がよい場合もある。ただし、硬化しすぎると光偏向素子の位置合わせの際に変形しがたくなるので注意を要する。   In terms of time, if the fluidity of the conductive paste is large and the shape is liable to collapse, it may be better to perform it before sandwiching. However, if it is hardened too much, it will be difficult to deform when aligning the light deflection element, so care must be taken.

その後、光偏向素子の基板上への載置によって生じた、光偏向素子と基板との間の空間にアンダーフィル剤を流し込み、その後、光導波路の位置合わせを行い、その後、アンダーフィル剤の硬化と導電性ペーストの最終硬化とを行う。図6は、光偏向素子と基板との間の空間にアンダーフィル剤10を流し込んだ後の状態を表し、図7は位置合わせの済んだ後の状態を表している。図7の横方向の点線は、光偏向素子の光導波路部分と入射部および出射部との位置合わせが済み、入射部から出た光がCCDカメラで観察できたことを示すものである。これに対し、図6では、点線が一本になっておらず、位置合わせができていないことが理解される。   Thereafter, the underfill agent is poured into the space between the light deflection element and the substrate, which is generated by placing the light deflection element on the substrate, and then the optical waveguide is aligned, and then the underfill agent is cured. And final curing of the conductive paste. FIG. 6 shows a state after the underfill agent 10 is poured into the space between the light deflection element and the substrate, and FIG. 7 shows a state after the alignment. The dotted line in the horizontal direction in FIG. 7 indicates that the optical waveguide portion of the light deflection element has been aligned with the incident portion and the emission portion, and the light emitted from the incidence portion has been observed with the CCD camera. In contrast, in FIG. 6, it is understood that the dotted lines are not single and alignment is not possible.

アンダーフィル剤の流し込み方法には特に制限はないが、通常、アンダーフィル剤の粘度がそれほど高くないので、何らかの手段で光偏向素子と基板との間の空間にアンダーフィル剤を注入するだけで十分である。   There is no particular restriction on the method of pouring the underfill agent, but since the viscosity of the underfill agent is usually not so high, it is sufficient to inject the underfill agent into the space between the light deflection element and the substrate by some means. It is.

光導波路の位置合わせにはどのような方法を採用してもよいが、上から力を加えつつ、上述のごとく、入射部からの光を出射部側から観察して光が届いたことまたは届いた光の強度が最大になったことを確認することで入射部の光導波路および出射部の光導波路と光偏向素子の光導波路部分の断面とがうまく位置合わせしたことが把握できる。図7ではCCDカメラで入射部からの光を出射部側から観察して光が届いたことを確認している。   Any method may be employed for alignment of the optical waveguide, but as described above, light from the incident part is observed or arrived from the exit part side while applying force from above. By confirming that the intensity of the obtained light is maximized, it can be understood that the optical waveguide of the incident part and the optical waveguide of the output part and the cross-section of the optical waveguide part of the optical deflection element are well aligned. In FIG. 7, the light from the incident part is observed from the exit part side with a CCD camera to confirm that the light has arrived.

その後のアンダーフィル剤の硬化と導電性ペーストの最終硬化とは、加熱によって行うのが普通であるが光等の他のエネルギーを利用してもよい。アンダーフィル剤の硬化や導電性ペーストの最終硬化の終点は、実情に応じて任意に定めればよい。   Subsequent curing of the underfill agent and final curing of the conductive paste are usually performed by heating, but other energy such as light may be used. The end point of the curing of the underfill agent and the final curing of the conductive paste may be arbitrarily determined according to the actual situation.

本発明に係る導電性ペーストは、導電材料と熱硬化性化合物とを含んでなる、いわゆる導電性ペーストの中から適宜選択し得る。導電材料としては、銀、金、銅、カーボン等の導電性粒子を例示することができる。導電性粒子の量は、必要とされる導電性のレベルにより適宜選択し得るが、通常は導電性ペースト中40〜90重量%の間である。   The conductive paste according to the present invention can be appropriately selected from so-called conductive pastes containing a conductive material and a thermosetting compound. Examples of the conductive material include conductive particles such as silver, gold, copper, and carbon. The amount of the conductive particles can be appropriately selected depending on the required level of conductivity, but is usually between 40 and 90% by weight in the conductive paste.

本発明に係る導電性ペーストは、溶媒を含まない。溶媒を含む導電性ペーストでは、硬化時に溶媒の逃散に応じて硬化物の寸法が変化し、入射部の光導波路および出射部の光導波路と光偏向素子の光導波路部分の断面との位置合わせが不良になる恐れが生じ得る。また、溶媒の逃散に長時間を有するため、生産効率上も好ましくない。   The conductive paste according to the present invention does not contain a solvent. In a conductive paste containing a solvent, the dimensions of the cured product change according to the escape of the solvent during curing, and the alignment of the optical waveguide of the incident part and the optical waveguide of the output part with the cross section of the optical waveguide part of the optical deflection element There is a risk of failure. Moreover, since it takes a long time to escape the solvent, it is not preferable in terms of production efficiency.

本発明に係る導電性ペーストに含まれる付加型熱硬化性化合物は複数種の混合物であってもよい。ここで言う「付加型」とは、物質同士が反応したときに、第三成分を発生しないことを意味する。二重結合等の不飽和結合を持つ化合物同士の反応がこれに属する。反応の結果ウレタン結合を生じ、第三成分を発生しないものもこの範疇に属する。酸とアルコールとの反応やエステルとアルコールとの反応では水やアルコールを第三成分として生じるので、この範疇には属さない。「付加型」である熱硬化性化合物を使用するのは、溶媒の場合と同様、硬化物の寸法変化(収縮)の問題や生産効率の問題があるからである。   The addition type thermosetting compound contained in the conductive paste according to the present invention may be a mixture of plural kinds. The “additional type” mentioned here means that the third component is not generated when the substances react with each other. The reaction between compounds having an unsaturated bond such as a double bond belongs to this. Those that generate urethane bonds as a result of the reaction and do not generate a third component also belong to this category. Since the reaction between an acid and an alcohol or the reaction between an ester and an alcohol produces water or an alcohol as a third component, it does not belong to this category. The reason why the “addition type” thermosetting compound is used is that there is a problem of dimensional change (shrinkage) of the cured product and a problem of production efficiency as in the case of the solvent.

本発明においては、導電性ペーストを半硬化した場合にガラス転移点が0℃以下である半硬化物となることが要件に含まれている。この条件は硬化の程度にも依存するが、本発明に係る付加型熱硬化性化合物に依存するところが大きいので、この観点から適切な付加型熱硬化性化合物を選択することが重要である。半硬化物のガラス転移点が0℃以下であるかどうかはモデル試験で確認できる。   In the present invention, it is included in the requirement that a semi-cured product having a glass transition point of 0 ° C. or lower when the conductive paste is semi-cured. Although this condition depends on the degree of curing, it largely depends on the addition-type thermosetting compound according to the present invention. Therefore, it is important to select an appropriate addition-type thermosetting compound from this viewpoint. Whether the glass transition point of the semi-cured product is 0 ° C. or less can be confirmed by a model test.

半硬化物のガラス転移点が0℃以下であると、アンダーフィル剤を光偏向素子と基板との間に注入する際に、アンダーフィル剤の表面張力により、導電性ペーストの硬化物と基板との間にアンダーフィル剤が侵入することが防止できる。これは、導電性ペーストの硬化物が弾性を有するため、アンダーフィル剤を光偏向素子と基板との間に注入する際の表面張力により、導電性ペーストの硬化物と基板との間の距離が増大しても、導電性ペーストの硬化物が基板や光偏向素子に強固に付着したままに保てるためであろうと推察される。この導電性ペーストの硬化物の弾性は典型的には「ゴム弾性」と呼んでもよい。これに対して、従来のエポキシ樹脂やポリエステル樹脂等のゴム弾性のない樹脂では、導電性ペーストの硬化物と基板および/または光偏向素子との間が剥離し電気的接続が破壊されるのであろう。   When the glass transition point of the semi-cured product is 0 ° C. or lower, when the underfill agent is injected between the light deflecting element and the substrate, the cured product of the conductive paste and the substrate are affected by the surface tension of the underfill agent. It is possible to prevent the underfill agent from entering between. This is because the cured product of the conductive paste has elasticity, and the distance between the cured product of the conductive paste and the substrate is caused by the surface tension when the underfill agent is injected between the light deflection element and the substrate. Even if it increases, it is surmised that it is because the hardened | cured material of an electrically conductive paste can remain firmly attached to a board | substrate or an optical deflection element. The elasticity of the cured product of the conductive paste may typically be referred to as “rubber elasticity”. On the other hand, conventional non-rubber resins such as epoxy resins and polyester resins peel off the cured paste of the conductive paste from the substrate and / or the light deflecting element and break the electrical connection. Let's go.

本発明に係る付加型熱硬化性化合物としては、いわゆるゴム材料を使用することができる。本発明に係る付加型熱硬化性化合物は、アクリロニトリルとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、液状シリコーン樹脂、液状ウレタンゴム、スチレンとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、1,2−ポリブタジエンを主構成要素として含む液状の樹脂、ポリクロロプレンを主構成要素として含む液状の樹脂およびこれらの混合物からなる群から選ばれたものを例示することができる。   A so-called rubber material can be used as the addition-type thermosetting compound according to the present invention. The addition-type thermosetting compound according to the present invention includes a liquid resin containing acrylonitrile and butadiene as main components, a liquid silicone resin, a liquid urethane rubber, a liquid resin containing styrene and butadiene as main components, Examples thereof include those selected from the group consisting of a liquid resin containing 2-polybutadiene as a main constituent, a liquid resin containing polychloroprene as a main constituent, and a mixture thereof.

「主構成要素として含む」とは全成分の50重量%以上が、上記のアクリロニトリルとブタジエンのように記名された成分であることを意味する。80重量%以上が記名された成分であることが好ましく、90重量%以上が記名された成分であることがより好ましい。液状シリコーン樹脂についてはいわゆるシリコーン類の内液状のものから適宜選択することができる。   “Contained as a main constituent” means that 50% by weight or more of all components are components named as acrylonitrile and butadiene. 80% by weight or more of the named component is preferable, and 90% by weight or more of the named component is more preferable. The liquid silicone resin can be appropriately selected from so-called silicone liquids.

これらの物質は、いわゆる、液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム、付加型液状シリコーンゴム、ウレタンゴム、液状スチレンーブタジエンゴム、液状1,2−ポリブタジエンゴム、液状ポリクロロプレンゴムと呼ばれる物質やそれらの混合物から適宜選択することができる。   These substances are appropriately selected from so-called liquid acrylonitrile-butadiene rubber, addition-type liquid silicone rubber, urethane rubber, liquid styrene-butadiene rubber, liquid 1,2-polybutadiene rubber, liquid polychloroprene rubber, and mixtures thereof. can do.

なお、導電性ペーストの半硬化物の物性としての観点からは、室温における50%伸張時のモジュラスが5.0〜50.0N/cmの間にあることが好ましい。この範囲より小さいと柔らかすぎ、この範囲より大きいと硬すぎて、光偏向素子の位置合わせが困難になり得る。 In addition, from the viewpoint of the physical properties of the semi-cured product of the conductive paste, the modulus at 50% elongation at room temperature is preferably between 5.0 and 50.0 N / cm 2 . If it is smaller than this range, it may be too soft, and if it is larger than this range, it may be too hard, making it difficult to align the light deflection element.

また、収縮の観点からは、導電性ペーストの半硬化から最終硬化までの間の線収縮率が0.5%以下であることが好ましい。この範囲を超えると光偏向素子の位置合わせが困難になり得る。導電性ペーストの半硬化から最終硬化までの間の線収縮率は、導電性ペーストに使用する材料の選択と共に、半硬化のレベルの選択によっても調整し得る。   Further, from the viewpoint of shrinkage, it is preferable that the linear shrinkage rate from the semi-curing to the final curing of the conductive paste is 0.5% or less. If this range is exceeded, alignment of the optical deflection element can be difficult. The linear shrinkage rate between the semi-curing and final curing of the conductive paste can be adjusted by selecting the level of semi-curing as well as the material used for the conductive paste.

なお、硬化は加熱によって行うことが多いので、熱膨張率も考慮する必要があるが、熱膨張率の小さいアンダーフィルを使用することにより、導電性ペーストの熱膨張による位置ずれを抑えることができる。   In addition, since hardening is often performed by heating, it is necessary to consider the coefficient of thermal expansion, but by using an underfill with a small coefficient of thermal expansion, misalignment due to the thermal expansion of the conductive paste can be suppressed. .

本発明に係る導電性ペーストには、本発明の趣旨に反しない限り上記以外の第三成分が存在していてもよい。本発明の趣旨に反しない限り、付加型熱硬化性化合物以外の熱硬化性化合物が混在していてもよいが、一般的には好ましくない。熱硬化性化合物でない化合物が混ざっていたとしても、結果として、導電性ペースト自体が硬化し、あるいは外見上硬くなるものであれば差し支えない場合もある。たとえば架橋性の化合物と一緒に非架橋性化合物を使用する場合である。結果として硬化に寄与しないものであってもよい場合もある。たとえば、導電性ペーストの硬化物の弾性を増すのに寄与し得、好ましい場合もあるからである。また、本発明に係る導電性ペーストの粘度を変えて、形状付与性を制御することにも役立ち得る。このようなものとしては熱可塑性ポリマーが考えられる。更に、本発明に係る導電性ペーストには、含まれる物質の反応を開始しおよび/または促進するための触媒や反応促進剤が含まれていてもよい。   In the conductive paste according to the present invention, a third component other than the above may be present unless it is contrary to the spirit of the present invention. Unless it is contrary to the gist of the present invention, a thermosetting compound other than the addition-type thermosetting compound may be present, but it is generally not preferable. Even if a compound that is not a thermosetting compound is mixed, there is a case in which the conductive paste itself is cured or hardened in appearance as a result. For example, when a non-crosslinkable compound is used together with a crosslinkable compound. As a result, it may be one that does not contribute to curing. For example, it may contribute to increase the elasticity of the cured product of the conductive paste, and may be preferable. Moreover, it can also be useful to control the shape imparting property by changing the viscosity of the conductive paste according to the present invention. A thermoplastic polymer can be considered as such. Furthermore, the conductive paste according to the present invention may contain a catalyst or a reaction accelerator for initiating and / or promoting the reaction of contained substances.

本発明に係る導電性ペーストの粘度は、実情に応じて適宜選択すればよい。図5のように、光偏向素子の電極や基板の配線と接触でき、最終的に光入射経路や光出射経路と光偏向素子との間の位置合わせができ、余分に広がって短絡を起こさないものであればよい。   What is necessary is just to select suitably the viscosity of the electrically conductive paste which concerns on this invention according to the actual condition. As shown in FIG. 5, it is possible to contact the electrode of the light deflection element and the wiring on the substrate, and finally the alignment between the light incident path and the light emission path and the light deflection element can be performed, and it does not cause a short circuit due to excessive spread. Anything is acceptable.

本発明に係るアンダーフィル剤は、系の誘電率を低下させ、光信号経路変更装置の絶縁破壊を防止することを目的とするため絶縁破壊防止オイルと呼ばれることもある。   The underfill agent according to the present invention is sometimes referred to as dielectric breakdown prevention oil because it aims to lower the dielectric constant of the system and prevent dielectric breakdown of the optical signal path changing device.

本発明に係るアンダーフィル剤は強い接着性が要求され、かつ、低硬化収縮率、低熱膨張率が要求される。硬化の際に線収縮率が大きいと光偏向素子の位置合わせに狂いが生じるので、小さい方が好ましい。また、硬化を加熱によって行うことが多いので熱膨張率も小さい方が好ましい。アンダーフィル剤としては、エポキシ樹脂やアクリル樹脂が一般に使用されるが、一般的には線収縮率が0.5%以下、熱膨張率が100ppm/℃以下が好ましい。   The underfill agent according to the present invention is required to have strong adhesiveness, and low curing shrinkage and low thermal expansion. If the linear shrinkage rate is large during curing, the alignment of the optical deflecting element will be misaligned. Further, since curing is often performed by heating, it is preferable that the coefficient of thermal expansion is small. As the underfill agent, an epoxy resin or an acrylic resin is generally used, and generally a linear shrinkage rate of 0.5% or less and a thermal expansion rate of 100 ppm / ° C. or less are preferable.

本発明に係る方法で製造した光信号経路変更装置は、光偏向素子と基板上の配線との間の電気的接続の信頼性が高い。従って、光信号経路変更装置の製造歩留まりも向上する。   The optical signal path changing device manufactured by the method according to the present invention has high reliability of electrical connection between the optical deflection element and the wiring on the substrate. Therefore, the manufacturing yield of the optical signal path changing device is also improved.

次に本発明の実施例および比較例を詳述するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   Next, although the Example and comparative example of this invention are explained in full detail, this invention is not limited by these.

[実施例1]
本発明に係る光信号経路変更装置の詳細例を以下に示す。図8は本発明に係る光信号経路変更装置の構成の一例である光スイッチモジュールを示す模式図である。この光スイッチモジュールは、入射側光導波路部101、コリメート部102、入射側光偏向素子部103、共通光導波路104、出射側光偏向素子部105、集光部106及び出射側光導波路部107により構成されている。これらの入射側光導波路部101、コリメート部102、入射側光偏向素子部103、共通光導波路104、出射側光偏向素子部105、集光部106及び出射側光導波路部107は、基板上に一体的に形成されている。
[Example 1]
Detailed examples of the optical signal path changing apparatus according to the present invention will be described below. FIG. 8 is a schematic diagram showing an optical switch module which is an example of the configuration of the optical signal path changing device according to the present invention. This optical switch module includes an incident side optical waveguide unit 101, a collimator unit 102, an incident side optical deflection element unit 103, a common optical waveguide 104, an output side optical deflection element unit 105, a condensing unit 106, and an output side optical waveguide unit 107. It is configured. These incident-side optical waveguide section 101, collimating section 102, incident-side optical deflection element section 103, common optical waveguide 104, exit-side optical deflection element section 105, condensing section 106, and exit-side optical waveguide section 107 are placed on the substrate. It is integrally formed.

入射側光導波路部101は、複数本の光導波路(コア)101aと、これらの光導波路101aを被覆して屈折率の差により光を光導波路101a内に閉じ込めるクラッド層101bとにより構成されている。出射側光導波路部107も、これと同様に、複数本の光導波路(コア)107aと、これらの光導波路107aを被覆して屈折率の差により光を光導波路107a内に閉じ込めるクラッド層107bとにより構成されている。   The incident-side optical waveguide unit 101 includes a plurality of optical waveguides (cores) 101a and a clad layer 101b that covers these optical waveguides 101a and confines light in the optical waveguide 101a due to a difference in refractive index. . Similarly, the output-side optical waveguide unit 107 includes a plurality of optical waveguides (cores) 107a, and a clad layer 107b that covers these optical waveguides 107a and confines light in the optical waveguide 107a due to a difference in refractive index. It is comprised by.

本実施の形態では、入射側光導波路部101の光導波路101aの数と、出射側光導波路部107の光導波路107aの数が同じであるとする。以下、光導波路101aの数(=光導波路107aの数)をn(nは2以上の整数)とする。但し、本発明はこれに限定されるものではなく、入射側光導波路の数と出射側光導波路の数とが異なっていてもよい。   In the present embodiment, it is assumed that the number of the optical waveguides 101a in the incident side optical waveguide unit 101 is the same as the number of the optical waveguides 107a in the output side optical waveguide unit 107. Hereinafter, the number of optical waveguides 101a (= the number of optical waveguides 107a) is n (n is an integer of 2 or more). However, the present invention is not limited to this, and the number of incident side optical waveguides may be different from the number of output side optical waveguides.

コリメート部102はn個のコリメートレンズ102aにより構成されている。各コリメートレンズ102aは、それぞれ光導波路101aの端部から若干離れた位置に配置されている。光導波路101aから出射された光は放射状に広がるが、コリメートレンズ102aによって平行光となる。   The collimator 102 is composed of n collimator lenses 102a. Each collimating lens 102a is disposed at a position slightly away from the end of the optical waveguide 101a. The light emitted from the optical waveguide 101a spreads radially, but becomes parallel light by the collimating lens 102a.

入射側光偏向素子部103にはn個の光偏向素子103aが設けられている。各光偏向素子103aはそれぞれコリメートレンズ102aからその光軸方向に若干離れた位置に配置されている。光偏向素子103aの詳細な説明は後述するが、光偏向素子103aは、ポッケルス効果(電気光学効果)を利用して光信号の伝播方向を変更する。   The incident-side light deflection element unit 103 is provided with n light deflection elements 103a. Each light deflection element 103a is disposed at a position slightly away from the collimating lens 102a in the optical axis direction. Although the detailed description of the optical deflection element 103a will be described later, the optical deflection element 103a changes the propagation direction of the optical signal using the Pockels effect (electro-optic effect).

共通光導波路104は、スラブ(slab)型導波路で構成されている。この共通光導波路104は、入射側光偏向素子部103を通過した光を出射側光偏向素子部105に伝達する。共通光導波路104には複数の光信号が同時に通るが、これらの光信号は共通光導波路104内を決められた方向に直進するので、他の光信号と干渉することなく伝達される。   The common optical waveguide 104 is composed of a slab type waveguide. The common optical waveguide 104 transmits light that has passed through the incident-side light deflection element unit 103 to the emission-side light deflection element unit 105. A plurality of optical signals pass through the common optical waveguide 104 at the same time, but these optical signals travel straight through the common optical waveguide 104 in a predetermined direction, so that they are transmitted without interfering with other optical signals.

出射側光偏向素子部105にはn個の光偏向素子105aが設けられている。これらの光偏向素子105aは、共通光導波路104を通って光偏向素子105aに到達した光を、光導波路107aに平行な方向に偏向する。なお、光偏向素子103a,105aは基本的に同じ構造である。   The exit side optical deflection element unit 105 is provided with n optical deflection elements 105a. These light deflecting elements 105a deflect the light that has reached the light deflecting element 105a through the common optical waveguide 104 in a direction parallel to the optical waveguide 107a. The light deflection elements 103a and 105a have basically the same structure.

集光部106は、n個の集光レンズ106aにより構成されている。これらの集光レンズ106aは、光偏向素子105aを通過した光を集光して光導波路107aに導くという働きがある。   The condensing part 106 is comprised by the n condensing lens 106a. These condensing lenses 106a have a function of condensing the light that has passed through the light deflection element 105a and guiding it to the optical waveguide 107a.

図9,10を参照して、コリメート部102、入射側光偏向素子部103、出射側光偏向素子部105及び集光部106の詳細を説明する。   With reference to FIGS. 9 and 10, details of the collimating unit 102, the incident side light deflection element unit 103, the emission side light deflection element unit 105, and the light collecting unit 106 will be described.

コリメート部102を構成するコリメートレンズ102aは、図9,10に示すように、屈折率が異なる2つの部分102c,102dからなる2次元レンズである。屈折率の高い部分(凸レンズ部分)102cは光導波路(コア)101a、107aと同じ材料により形成され、屈折率の低い部分102dは屈折率の高い部分102cとの屈折率の差により光をコリメート可能な材料で形成されている。   As shown in FIGS. 9 and 10, the collimating lens 102 a configuring the collimating unit 102 is a two-dimensional lens including two portions 102 c and 102 d having different refractive indexes. The high refractive index portion (convex lens portion) 102c is formed of the same material as the optical waveguides (cores) 101a and 107a, and the low refractive index portion 102d can collimate light due to the difference in refractive index from the high refractive index portion 102c. It is made of a simple material.

集光部106の集光レンズ106aも、コリメートレンズ102aと同様に、屈折率の高い部分(凸レンズ部分)106cと屈折率の低い部分106dとにより構成されている。但し、集光レンズ106aでは、レンズの向きがコリメートレンズ102aと逆である。   Similarly to the collimating lens 102a, the condensing lens 106a of the condensing unit 106 is also composed of a high refractive index portion (convex lens portion) 106c and a low refractive index portion 106d. However, in the condensing lens 106a, the direction of the lens is opposite to that of the collimating lens 102a.

入射側光偏向子部103を構成する光偏向素子103aは、1又は複数のプリズムペア103pにより構成されている。1個のプリズムペア103pは、図3に示すように、電気光学効果を有する材料で形成されたスラブ型導波路103bと、そのスラブ型導波路103bの上側に形成された第1及び第2の上部電極103c,103dと、スラブ型導波路103bの下側に形成された第1及び第2の下部電極103e,103fとにより構成されている。これらの第1及び第2の上部電極103c,103dと第1及び第2の下部電極103e,103fはいずれも直角三角形の形状(くさび形状)に形成されている。   The light deflection element 103a constituting the incident side light deflector 103 is composed of one or a plurality of prism pairs 103p. As shown in FIG. 3, one prism pair 103p includes a slab waveguide 103b formed of a material having an electro-optic effect, and first and second slab waveguides 103b formed above the slab waveguide 103b. The upper electrodes 103c and 103d and the first and second lower electrodes 103e and 103f formed below the slab waveguide 103b are configured. The first and second upper electrodes 103c, 103d and the first and second lower electrodes 103e, 103f are both formed in a right triangle shape (wedge shape).

第1の上部電極103cと第1の下部電極103eとはスラブ型導波路103bを挟んで相互に対向している。第1の上部電極103cと第2の上部電極103dは相互に斜辺を対向させ、且つ近接して配置されており、第2の上部電極103dと第2の下部電極103eとはスラブ型導波路103bを挟んで相互に対向している。なお、スラブ型導波路103bは、各プリズムペア103pで共通である。   The first upper electrode 103c and the first lower electrode 103e are opposed to each other with the slab waveguide 103b interposed therebetween. The first upper electrode 103c and the second upper electrode 103d are arranged close to each other with their hypotenuses facing each other, and the second upper electrode 103d and the second lower electrode 103e are slab-type waveguides 103b. It faces each other across the. The slab waveguide 103b is common to each prism pair 103p.

出射側光偏向部105の光偏向素子105aも、入射側光偏向素子103aと同様に、電気光学効果を有する材料で形成されたスラブ型導波路と、1又は複数のプリズムペア105pで構成されている。各プリズムペア105pは、一対の第1の電極(第1の上部電極及び第2の下部電極)と、一対の第2の電極(第2の上部電極及び第2の下部電極)とにより構成されている。   Similarly to the incident side optical deflection element 103a, the optical deflection element 105a of the emission side optical deflection unit 105 is also composed of a slab waveguide formed of a material having an electro-optic effect and one or a plurality of prism pairs 105p. Yes. Each prism pair 105p includes a pair of first electrodes (a first upper electrode and a second lower electrode) and a pair of second electrodes (a second upper electrode and a second lower electrode). ing.

[実施例2]
図1〜7に従って、光信号経路変更装置を作製した。導電性ペーストとして、付加型液状シリコーンゴムを母材とする銀ペースト(銀を約80重量%含有)を使用した。
[Example 2]
An optical signal path changing device was manufactured according to FIGS. As the conductive paste, a silver paste (containing about 80% by weight of silver) using an addition-type liquid silicone rubber as a base material was used.

シリンジにより、配線形成してある基板の所定の配線部分に、直径約100μm×高さ50μmの銀バンプ(導電性ペースト)を形成した。   A silver bump (conductive paste) having a diameter of about 100 μm and a height of 50 μm was formed on a predetermined wiring portion of the substrate on which wiring was formed, using a syringe.

光偏向素子を真空チャックにより吸いつけ、銀バンプの頭部分がつぶれる程度に近接接着し、そのギャップを維持しつつ、銀ペーストを70℃で30分間半硬化させた。   The light deflection element was sucked with a vacuum chuck, and was closely bonded to such an extent that the head portion of the silver bump was crushed, and the silver paste was semi-cured at 70 ° C. for 30 minutes while maintaining the gap.

次に、エポキシ樹脂系のアンダーフィル剤を充填させ、光偏向素子を押圧装置で徐々に押しつつ、入射部側から光信号を入射して、出射部側でCCDカメラで、光導波路部分を通ってくる光を検証し、最適位置で固定した。その後150℃で1時間加熱して、銀ペーストの最終硬化とアンダーフィル剤の硬化を行った。   Next, an epoxy resin-based underfill agent is filled, an optical signal is incident from the incident side while the optical deflecting element is gradually pushed by the pressing device, and the optical waveguide is passed by the CCD camera on the outgoing side. The incoming light was verified and fixed at the optimal position. Thereafter, heating was performed at 150 ° C. for 1 hour, and final curing of the silver paste and curing of the underfill agent were performed.

この結果、入射部および出射部と光偏向素子との位置合わせは完全に行われており、かつ12個の銀ペーストのバンプはすべて基板の配線と電気的に連絡していた。   As a result, the alignment of the incident portion and the emitting portion with the light deflection element was completely performed, and all the 12 silver paste bumps were in electrical communication with the wiring of the substrate.

なお、別途、上記銀ペーストを上記半硬化の状態まで処理して得られた半硬化物について、示差走査熱量計(DSC装置)を用いてガラス転移点を測定したところ、−55℃であった。また、引っ張り試験機を用いて50%伸張時のモジュラスを測定したところ、9.0N/cmであった。更に、この半硬化物を最終硬化物になるまで熱処理した結果、線収縮率は0.1%以下であった。 In addition, it was -55 degreeC when the glass transition point was measured separately about the semi-hardened material obtained by processing the said silver paste to the said semi-hardened state using a differential scanning calorimeter (DSC apparatus). . Further, the modulus at 50% elongation was measured using a tensile tester and found to be 9.0 N / cm 2 . Furthermore, as a result of heat-treating this semi-cured product to a final cured product, the linear shrinkage rate was 0.1% or less.

[比較例1]
導電性ペーストとして、不飽和ポリエステル樹脂を母材とする銀ペーストを使用した以外は実施例2と同様にした。この場合、図5の近接接着のときは、すべてのバンプにつき電気的連絡があったが、アンダーフィル剤を充填後には、すべて電気的連絡が切断してしまった。
[Comparative Example 1]
The same operation as in Example 2 was performed except that a silver paste having an unsaturated polyester resin as a base material was used as the conductive paste. In this case, in the close adhesion shown in FIG. 5, all the bumps were electrically connected, but after filling the underfill agent, all the electrical contacts were cut off.

別途、上記不飽和ポリエステル樹脂を母材とする銀ペーストを上記半硬化の状態まで処理して得られた半硬化物について、実施例2と同じ装置を用いてガラス転移点を測定したところ、110℃であった。また、50%伸張以前に破断したので、50%伸張時のモジュラスは測定不能であった。更に、この半硬化物を最終硬化物になるまで熱処理した結果、線収縮率は0.1%以下であった。   Separately, when the glass transition point of the semi-cured product obtained by treating the silver paste containing the unsaturated polyester resin as a base material to the semi-cured state was measured using the same apparatus as in Example 2, 110 was obtained. ° C. Further, since the fracture occurred before 50% elongation, the modulus at 50% elongation was not measurable. Furthermore, as a result of heat-treating this semi-cured product to a final cured product, the linear shrinkage rate was 0.1% or less.

なお、上記に開示した内容から、下記の付記に示した発明が導き出せる。   In addition, the invention shown to the following additional remarks can be derived from the content disclosed above.

(付記1) 電圧印加による屈折率の変化により光を偏向させる光偏向素子と、当該光偏向素子に光を入射するための入射部と、当該光偏向素子から光を出射するための出射部と、当該光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とを含んでなる光信号経路変更装置の製造方法であって、
前記光偏向素子には、その両面に電圧を印加するための電極が設けられており、
前記光偏向素子の一方の面上の電極と前記配線との間に、当該電極を前記配線に電気的に接続するための、付加型熱硬化性化合物と導電性材料とを含んでなる無溶媒の導電性ペーストを挟み込み、
前記挟み込みの前、途中、または後に、前記導電性ペーストを半硬化してガラス転移点が0℃以下である半硬化物となし、
その後、前記挟み込みによって生じた、前記光偏向素子と前記基板との間の空間にアンダーフィル剤を流し込み、
その後、光導波路の位置合わせを行い、
その後、前記アンダーフィル剤の硬化と前記導電性ペーストの最終硬化とを行う、
光信号経路変更装置の製造方法。
(Supplementary Note 1) An optical deflecting element that deflects light by a change in refractive index due to voltage application, an incident part for making light incident on the optical deflecting element, and an emitting part for emitting light from the optical deflecting element; A method of manufacturing an optical signal path changing device including a substrate on which wiring for applying a voltage is applied to one surface of the optical deflection element,
The light deflection element is provided with electrodes for applying a voltage to both sides thereof,
Solvent-free comprising an addition-type thermosetting compound and a conductive material for electrically connecting the electrode to the wiring between the electrode on one surface of the light deflection element and the wiring Sandwich the conductive paste of
Before, during, or after the sandwiching, the conductive paste is semi-cured to form a semi-cured product having a glass transition point of 0 ° C. or less,
Thereafter, an underfill agent is poured into the space between the optical deflection element and the substrate, which is generated by the sandwiching,
Then, align the optical waveguide,
Thereafter, curing the underfill agent and final curing of the conductive paste,
Manufacturing method of optical signal path changing device.

(付記2) 前記導電性ペーストの半硬化物の室温における50%伸張時のモジュラスが5.0〜50.0N/cmの間にある、付記1に記載の光信号経路変更装置の製造方法。 (Additional remark 2 ) The manufacturing method of the optical signal path changing apparatus of Additional remark 1 whose modulus at the time of 50% expansion | extension at room temperature of the semi-hardened | cured material of the said electrically conductive paste is between 5.0-50.0N / cm < 2 >. .

(付記3) 前記導電性ペーストの前記半硬化から前記最終硬化までの間の線収縮率が0.5%以下である、付記1または2に記載の光信号経路変更装置の製造方法。   (Additional remark 3) The manufacturing method of the optical signal path changing apparatus of Additional remark 1 or 2 whose linear shrinkage rate between the said semi-hardening of the said electrically conductive paste and the said final hardening is 0.5% or less.

(付記4) 前記付加型熱硬化性化合物が、アクリロニトリルとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、液状シリコーン樹脂、液状ウレタンゴム、スチレンとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、1,2−ポリブタジエンを主構成要素として含む液状の樹脂、ポリクロロプレンを主構成要素として含む液状の樹脂およびこれらの混合物からなる群から選ばれたものである、付記1〜3のいずれかに記載の光信号経路変更装置の製造方法。   (Appendix 4) The addition-type thermosetting compound is a liquid resin containing acrylonitrile and butadiene as main components, a liquid silicone resin, a liquid urethane rubber, a liquid resin containing styrene and butadiene as main components, 1, 2-polybutadiene as a main constituent, a liquid resin containing polychloroprene as a main constituent, and a group consisting of a mixture thereof, Manufacturing method of optical signal path changing device.

(付記5) 付記1〜4のいずれかの方法によって製造された光信号経路変更装置。   (Additional remark 5) The optical signal path changing apparatus manufactured by the method in any one of Additional remarks 1-4.

光偏向素子を示す模式的平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing an optical deflection element. 光偏向素子を示す模式的横断面図である。It is a typical cross-sectional view showing an optical deflection element. 光偏向素子に光を入射するための入射部と、光偏向素子から光を出射するための出射部と、光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とからなる部分の様子を示す模式的平面図である。From an incident part for making light incident on the optical deflection element, an emission part for emitting light from the optical deflection element, and a substrate on which a wiring for applying a voltage to one surface of the optical deflection element is placed It is a typical top view which shows the mode of the part which becomes. 光偏向素子に光を入射するための入射部と、光偏向素子から光を出射するための出射部と、光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とからなる部分の様子を示す模式的横断面図である。From an incident part for making light incident on the optical deflection element, an emission part for emitting light from the optical deflection element, and a substrate on which a wiring for applying a voltage to one surface of the optical deflection element is placed It is a typical cross-sectional view which shows the mode of the part which becomes. 導電性ペーストが基板の配線上に配置されている様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that the electrically conductive paste is arrange | positioned on the wiring of a board | substrate. 光偏向素子の電極が導電性ペーストに接するように光偏向素子を基板上に載置した様子を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a mode that the light deflection | deviation element was mounted on the board | substrate so that the electrode of a light deflection | deviation element may contact | connect an electrically conductive paste. 光偏向素子と基板との間の空間にアンダーフィル剤を流し込んだ後の状態を表す模式図である。It is a schematic diagram showing the state after pouring an underfill agent into the space between the light deflection element and the substrate. 光偏向素子の位置合わせの済んだ後の状態を表す模式図である。It is a schematic diagram showing the state after the alignment of an optical deflection element is completed. 本発明に係る光信号経路変更装置の構成の一例である光スイッチモジュールを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical switch module which is an example of a structure of the optical signal path changing apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る光信号経路変更装置の構成の一例である光スイッチモジュールを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical switch module which is an example of a structure of the optical signal path changing apparatus which concerns on this invention. コリメート部102と入射側光偏向素子部103との関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the relationship between the collimating part 102 and the incident side light deflection | deviation element part 103. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 配線
3 入射部
4 出射部
5 光導波路部分
6 電極
7 電極
8 導電性ペースト
9 光偏向素子
10 アンダーフィル剤
101 入射側光導波路部
101a 光導波路(コア)
101b クラッド層
102 コリメート部
102a コリメートレンズ
102c 屈折率の高い部分(凸レンズ部分)
102d 屈折率の低い部分
103 入射側光偏向素子部
103a 光偏向素子
103b スラブ型導波路
103c,103d
上部電極
103e,103f
下部電極
103p プリズムペア
104 共通光導波路
105 出射側光偏向素子部
105a 光偏向素子
105p プリズムペア
106 集光部
106a 集光レンズ
106c 屈折率の高い部分(凸レンズ部分)
106d 屈折率の低い部分
107 出射側光導波路部
107a 光導波路(コア)
107b クラッド層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Wiring 3 Incident part 4 Outgoing part 5 Optical waveguide part 6 Electrode 7 Electrode 8 Conductive paste 9 Optical deflection element 10 Underfill agent 101 Incident side optical waveguide part 101a Optical waveguide (core)
101b Cladding layer 102 Collimating part 102a Collimating lens 102c High refractive index part (convex lens part)
102d Low refractive index portion 103 Incident side optical deflection element portion 103a Optical deflection element 103b Slab waveguide 103c, 103d
Upper electrode 103e, 103f
Lower electrode 103p Prism pair 104 Common optical waveguide 105 Emission side optical deflection element part 105a Optical deflection element 105p Prism pair 106 Condensing part 106a Condensing lens 106c High refractive index part (convex lens part)
106d Low refractive index portion 107 Output side optical waveguide portion 107a Optical waveguide (core)
107b cladding layer

Claims (5)

電圧印加による屈折率の変化により光を偏向させる光偏向素子と、当該光偏向素子に光を入射するための入射部と、当該光偏向素子から光を出射するための出射部と、当該光偏向素子の一方の面に電圧を印加するための配線を載置した基板とを含んでなる光信号経路変更装置の製造方法であって、
前記光偏向素子には、その両面に電圧を印加するための電極が設けられており、
前記光偏向素子の一方の面上の電極と前記配線との間に、当該電極を前記配線に電気的に接続するための、付加型熱硬化性化合物と導電性材料とを含んでなる無溶媒の導電性ペーストを挟み込み、
前記挟み込みの前、途中、または後に、前記導電性ペーストを半硬化してガラス転移点が0℃以下である半硬化物となし、
その後、前記挟み込みによって生じた、前記光偏向素子と前記基板との間の空間にアンダーフィル剤を流し込み、
その後、光導波路の位置合わせを行い、
その後、前記アンダーフィル剤の硬化と前記導電性ペーストの最終硬化とを行う、
光信号経路変更装置の製造方法。
An optical deflection element that deflects light by a change in refractive index caused by voltage application, an incident part for making light incident on the optical deflection element, an emission part for emitting light from the optical deflection element, and the optical deflection A manufacturing method of an optical signal path changing device comprising a substrate on which wiring for applying a voltage to one surface of an element is placed,
The light deflection element is provided with electrodes for applying a voltage to both sides thereof,
Solvent-free comprising an addition-type thermosetting compound and a conductive material for electrically connecting the electrode to the wiring between the electrode on one surface of the light deflection element and the wiring Sandwich the conductive paste of
Before, during, or after the sandwiching, the conductive paste is semi-cured to form a semi-cured product having a glass transition point of 0 ° C. or less,
Thereafter, an underfill agent is poured into the space between the optical deflection element and the substrate, which is generated by the sandwiching,
Then, align the optical waveguide,
Thereafter, curing the underfill agent and final curing of the conductive paste,
Manufacturing method of optical signal path changing device.
前記導電性ペーストの半硬化物の室温における50%伸張時のモジュラスが5.0〜50.0N/cmの間にある、請求項1に記載の光信号経路変更装置の製造方法。 The method of manufacturing an optical signal path changing device according to claim 1, wherein the semi-cured product of the conductive paste has a modulus at 50% elongation at room temperature of 5.0 to 50.0 N / cm 2 . 前記導電性ペーストの前記半硬化から前記最終硬化までの間の線収縮率が0.5%以下である、請求項1または2に記載の光信号経路変更装置の製造方法。   The method of manufacturing an optical signal path changing device according to claim 1 or 2, wherein a linear shrinkage ratio between the semi-curing and the final curing of the conductive paste is 0.5% or less. 前記付加型熱硬化性化合物が、アクリロニトリルとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、液状シリコーン樹脂、液状ウレタンゴム、スチレンとブタジエンとを主構成要素として含む液状の樹脂、1,2−ポリブタジエンを主構成要素として含む液状の樹脂、ポリクロロプレンを主構成要素として含む液状の樹脂およびこれらの混合物からなる群から選ばれたものである、請求項1〜3のいずれかに記載の光信号経路変更装置の製造方法。   The addition type thermosetting compound is a liquid resin containing acrylonitrile and butadiene as main constituents, a liquid silicone resin, a liquid urethane rubber, a liquid resin containing styrene and butadiene as main constituents, 1,2-polybutadiene. The optical signal path according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical signal path is selected from the group consisting of a liquid resin containing as a main component, a liquid resin containing polychloroprene as a main component, and a mixture thereof. Manufacturing method of change device. 請求項1〜4のいずれかの方法によって製造された光信号経路変更装置。   An optical signal path changing device manufactured by the method according to claim 1.
JP2007217344A 2007-08-23 2007-08-23 Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device Withdrawn JP2009053258A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007217344A JP2009053258A (en) 2007-08-23 2007-08-23 Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007217344A JP2009053258A (en) 2007-08-23 2007-08-23 Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009053258A true JP2009053258A (en) 2009-03-12

Family

ID=40504417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007217344A Withdrawn JP2009053258A (en) 2007-08-23 2007-08-23 Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009053258A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014002221A (en) * 2012-06-15 2014-01-09 Ricoh Co Ltd Light-deflecting element
JP2015515029A (en) * 2012-04-25 2015-05-21 エイチピーオー アセッツ エルエルシー Conductive lens connecting portion and manufacturing method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015515029A (en) * 2012-04-25 2015-05-21 エイチピーオー アセッツ エルエルシー Conductive lens connecting portion and manufacturing method thereof
US9690117B2 (en) 2012-04-25 2017-06-27 Mitsui Chemicals, Inc. Electrically conductive lens connection and methods of making the same
JP2014002221A (en) * 2012-06-15 2014-01-09 Ricoh Co Ltd Light-deflecting element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3862995B2 (en) Optical switch module
EP0961139B1 (en) Polymer optical waveguide, optica integrated circuit , optical module and optical communication apparatus
US6839492B2 (en) Packaging device for optical waveguide element
KR100713498B1 (en) Optical Waveguide Device and Manufacturing Method Thereof
US11333909B2 (en) Optical waveguide element, optical modulator, optical modulation module, and optical transmission device
US7229219B2 (en) Apparatuses and methods for integrating opto-electric components into the optical pathways of routing substrates with precision optical coupling and compact electrical interconnection
JP2000019345A (en) Optical integrated module
JP2009053258A (en) Manufacturing method of optical signal path changing device, and optical signal path changing device
JP2008233471A (en) Connection structure of electrode terminal in planar optical circuit
JP4090286B2 (en) Light switch
JP2014085417A (en) Ferrule and optical waveguide assembly
JP3946514B2 (en) Optical device
JP3954069B2 (en) Optical module manufacturing method and optical module
JP3644037B2 (en) Method for manufacturing waveguide optical device
US20210165299A1 (en) Optical waveguide element, optical modulator, optical modulation module, and optical transmission apparatus
JP2001242332A (en) Optical waveguide and optical waveguide module using it
US20100054655A1 (en) Dynamic Reconfigurable Optical Interconnect System
WO2014196043A1 (en) Optical module and method for manufacturing optical module
JP4090295B2 (en) Optical switch module and manufacturing method thereof
JP2006084501A (en) Optical module
JP2008107648A (en) Optical switching module
JP2004029519A (en) Optical switch
WO2020245875A1 (en) Optical wave guide chip
JP3268562B2 (en) Optical switch manufacturing method
JP5998427B2 (en) Opto-electric hybrid board

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20101102