JP2009049389A - Method of manufacturing solar battery - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solar battery which has high efficiency and is lightweight and flexible, and to provide a method of manufacturing thereof. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the solar battery includes forming a sodium chloride layer (12) on a glass substrate (11) and forming a solar battery layer (20) thereupon. The solar battery layer includes an Mo layer, a Cu(In, Ga)Se<SB>2</SB>(CIGS) layer, a CdS layer, and a ZnO layer. A transparent film layer (16 ) is stuck on the solar battery layer with an adhesive layer (15) interposed therebetween. The method includes a step of dipping the glass substrate having the formed laminate in water to dissolve the sodium chloride layer in the water and of peeling the laminate comprising a silicon dioxide layer, the solar battery layer, the adhesive layer, and a polymer film layer from the glass substrate. Further, the method includes a step of sticking a polymer film (18) on the side of the silicon dioxide layer of the laminate with an adhesive (17) interposed therebetween. The method preferably includes a step of protecting an outer circumferential portion of a lift-off layer with a protective layer after forming the lift-off layer, and of removing the protective layer after forming the solar battery layer. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリマーフィルム上に形成されたフレキシブルな太陽電池とその製造方法に関する。   The present invention relates to a flexible solar cell formed on a polymer film and a manufacturing method thereof.

光電変換を利用した高効率の太陽電池としては、吸収層としてCu(In,Ga)Se2（CIGS）薄膜を用いた太陽電池が知られている。CIGS薄膜を含む太陽電池は、一般にガラス基板上に形成している。結晶性がよく、高効率のCIGS薄膜を得るには500℃以上の温度で成膜する必要がある。
一方、太陽電池は、軽量で、フレキシブルで自由に曲げることができるものが求められている。ポリマーフィルム上にCIGS薄膜を含む太陽電池を形成することにより、フレキシブルな太陽電池を得ることができる。しかし、ポリマーフィルムはCIGS薄膜を形成するのに最適な温度（500℃以上）まで耐えられない。例えば、ポリイミドフィルムは400℃以上の温度では変形し、化学的変化が起こる。そのため、ポリマーフィルム上にCIGS薄膜を形成する場合は、結晶性の良いCIGS薄膜を得るのに最適な温度より低い温度で形成しなければならない。そのため、ポリマーフィルム上に形成したCIGS薄膜は、光の変換効率が劣っていた。 As a highly efficient solar cell using photoelectric conversion, a solar cell using a Cu (In, Ga) Se 2 (CIGS) thin film as an absorption layer is known. A solar cell including a CIGS thin film is generally formed on a glass substrate. In order to obtain a highly efficient CIGS thin film with good crystallinity, it is necessary to form the film at a temperature of 500 ° C. or higher.
On the other hand, solar cells are required to be lightweight, flexible and bendable freely. A flexible solar cell can be obtained by forming a solar cell including a CIGS thin film on a polymer film. However, the polymer film cannot withstand the optimum temperature (500 ° C. or higher) for forming the CIGS thin film. For example, a polyimide film is deformed at a temperature of 400 ° C. or more, and a chemical change occurs. Therefore, when a CIGS thin film is formed on a polymer film, it must be formed at a temperature lower than the optimum temperature for obtaining a CIGS thin film with good crystallinity. For this reason, the CIGS thin film formed on the polymer film has poor light conversion efficiency.

また、CIGS薄膜の結晶性を向上し、高い効率を得るためにNaは重要な元素である。ガラス基板上にCIGS薄膜を形成する場合は、基板からCIGS薄膜へNaが拡散する。しかし、一般にポリマーフィルムはNaを含有していないので、ポリマーフィルム上にCIGS薄膜を形成する場合には、CIGS薄膜にNaが拡散していかない。そのため、ポリマーフィルム上に成膜した太陽電池は、ガラス基板上に形成した太陽電池と比較して、結晶性が良くなく、欠陥が多いため、光の変換効率が劣っていた。   Na is an important element for improving the crystallinity of CIGS thin film and obtaining high efficiency. When a CIGS thin film is formed on a glass substrate, Na diffuses from the substrate to the CIGS thin film. However, since a polymer film generally does not contain Na, when a CIGS thin film is formed on the polymer film, Na does not diffuse into the CIGS thin film. For this reason, the solar cell formed on the polymer film has poor crystallinity and has many defects, and therefore the light conversion efficiency is inferior, compared with the solar cell formed on the glass substrate.

そのため、変換効率が高く、軽量で、フレキシブルな太陽電池が望まれている。   Therefore, a solar cell with high conversion efficiency, light weight and flexibility is desired.

特許文献１は、基板上に電極層を介して光吸収層としてのCIS又はCIGS系の薄膜を形成した太陽電池において、基板がナトリウム含有の第１の基板と高融点材料からなる第２の基板との結合体からなる太陽電池を開示する。第１の基板からNa成分が拡散して結晶成長を促し、高融点材料からなる第２の基板により、熱膨張による基板の反りを防止している。   Patent Document 1 discloses a solar cell in which a CIS or CIGS-based thin film as a light absorption layer is formed on a substrate via an electrode layer. The substrate is a first substrate containing sodium and a second substrate made of a high melting point material. The solar cell which consists of a combination with these is disclosed. The Na component diffuses from the first substrate to promote crystal growth, and the warpage of the substrate due to thermal expansion is prevented by the second substrate made of a high melting point material.

しかし、特許文献１の太陽電池は、ガラス基板上に形成されたものであり、フレキシブルではない。   However, the solar cell of Patent Document 1 is formed on a glass substrate and is not flexible.

特開平１１−３１２８１７号JP-A-11-312817

本発明の目的は、リフトオフ技術を使用して、変換効率が高く、しかも軽量で、フレキシブルな太陽電池を提供することである。また、そのような太陽電池の製造方法を提供することである。
また、本発明の別の目的は、太陽電池層の溶液成長のプロセスでは、リフトオフ層が溶解しないように保護し、品質の良いフレキシブルな太陽電池を得ることである。 It is an object of the present invention to provide a flexible solar cell that uses lift-off technology and has high conversion efficiency and is lightweight. Moreover, it is providing the manufacturing method of such a solar cell.
Another object of the present invention is to obtain a high-quality flexible solar cell by protecting the lift-off layer from being dissolved in the solution growth process of the solar cell layer.

本発明ではリフトオフ技術を使用する。リフトオフとは、半導体デバイスの任意の箇所に電極、絶縁膜等を形成するのに用いられる。フォトレジストを用いて、膜を形成したくない場所にレジスト膜を形成し、全面に蒸着した後、アセトン等の有機溶媒でレジストを溶解させ、レジストの上の薄膜も同時に剥離する技術である。
本発明では、塩化ナトリウム（NaCl）を利用してリフトオフを行う。NaClは、融点が約800℃と高いので、NaCl層上に別の薄膜を高温で成膜することができる。またNaClは無機材質なので高温真空中でもアウターガスを発生しにくい。また、NaClは水に溶解するので、特別な薬品を用いることなく、室温でNaClを水で溶解するので、上に形成された膜を容易に剥離することができる。リフトオフ層として、フッ化バリウム層を使用することもできる。 In the present invention, a lift-off technique is used. Lift-off is used to form an electrode, an insulating film, etc. at an arbitrary location of a semiconductor device. This is a technique in which a resist film is formed in a place where a film is not desired to be formed using a photoresist, vapor-deposited on the entire surface, the resist is dissolved with an organic solvent such as acetone, and the thin film on the resist is peeled off at the same time.
In the present invention, lift-off is performed using sodium chloride (NaCl). Since NaCl has a high melting point of about 800 ° C., another thin film can be formed on the NaCl layer at a high temperature. NaCl is an inorganic material, so it is difficult to generate outer gas even in high-temperature vacuum. In addition, since NaCl dissolves in water, NaCl is dissolved in water at room temperature without using a special chemical, so that the film formed thereon can be easily peeled off. A barium fluoride layer can also be used as the lift-off layer.

本発明では、ガラス基板上に、リフトオフ層（NaCl）を形成する。その上に太陽電池を形成する。太陽電池の上に透明フィルムをラミネートする。その後、太陽電池を含む積層体が形成されたガラス基板をエッチング溶液（NaClに対しては水）に浸漬し、リフトオフ層を溶解し、基板上の積層体をガラス基板からリフトオフする。その後、積層体の裏面にもポリマーフィルムをラミネートし、フレキシブルな太陽電池が形成される。   In the present invention, a lift-off layer (NaCl) is formed on a glass substrate. A solar cell is formed thereon. A transparent film is laminated on the solar cell. Thereafter, the glass substrate on which the laminated body including solar cells is formed is immersed in an etching solution (water for NaCl), the lift-off layer is dissolved, and the laminated body on the substrate is lifted off from the glass substrate. Thereafter, a polymer film is laminated on the back surface of the laminate to form a flexible solar cell.

本発明の１態様は、太陽電池の製造方法であって、
(a) ガラス基板の上に、水に容易に溶解する材料でリフトオフ層を形成し、
(b) 前記リフトオフ層の上に太陽電池層を形成し、
(c) 前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付け、
(d) 前記(a)〜(c)により前記太陽電池層と、前記接着剤層と、前記透明フィルム層とを含む積層体が形成されたガラス基板を水に浸漬して、前記リフトオフ層を水に溶解し、前記積層体を前記ガラス基板から剥離する、ステップを備えることを特徴とする太陽電池の製造方法である。 One aspect of the present invention is a method of manufacturing a solar cell,
(a) On the glass substrate, a lift-off layer is formed with a material that easily dissolves in water,
(b) forming a solar cell layer on the lift-off layer;
(c) pasting a transparent film layer on the solar cell layer via an adhesive layer,
(d) A glass substrate on which a laminate including the solar cell layer, the adhesive layer, and the transparent film layer according to the above (a) to (c) is immersed in water, and the lift-off layer is A method for producing a solar cell, comprising the steps of dissolving in water and peeling the laminate from the glass substrate.

前記太陽電池層は、Mo層と、Cu(In,Ga)Se2（CIGS）層と、バッファ層と、透明電極層とを備えることが好ましい。
バッファ層はCdS層であり、透明電極層はZnO層であることが好ましい。
これにより、高効率の太陽電池を得ることができる。 The solar cell layer preferably includes a Mo layer, a Cu (In, Ga) Se 2 (CIGS) layer, a buffer layer, and a transparent electrode layer.
The buffer layer is preferably a CdS layer, and the transparent electrode layer is preferably a ZnO layer.
Thereby, a highly efficient solar cell can be obtained.

前記リフトオフ層は、塩化ナトリウム層又はフッ化バリウム層であることが好ましい。
これにより、塩化ナトリウム層からCIGS層へナトリウムを拡散させることができる。 The lift-off layer is preferably a sodium chloride layer or a barium fluoride layer.
Thereby, sodium can be diffused from the sodium chloride layer to the CIGS layer.

前記リフトオフ層を形成した後、前記太陽電池層を形成する前に、前記リフトオフ層の上に、拡散防止層を形成するステップを備えることが好ましい。
前記拡散防止層は、二酸化珪素又はアルミナを含む酸化物層であることが好ましい。これにより、リフトオフ層からナトリウムその他の不純物の拡散を制御することができる。又は、前記拡散防止層は、モリブテン、銅、又はアルミニウムを含む金属層であることが好ましい。
拡散防止層に金属を使用すると、太陽電池の形状を維持するのに役立ち、また屈曲させても割れにくいという利点がある。 It is preferable that a step of forming a diffusion preventing layer on the lift-off layer after forming the lift-off layer and before forming the solar cell layer is provided.
The diffusion preventing layer is preferably an oxide layer containing silicon dioxide or alumina. Thereby, diffusion of sodium and other impurities from the lift-off layer can be controlled. Or it is preferable that the said diffusion prevention layer is a metal layer containing molybdenum, copper, or aluminum.
Use of a metal for the diffusion prevention layer has an advantage that it helps to maintain the shape of the solar cell and is difficult to break even when bent.

前記(a)ステップでリフトオフ層を形成した後、前記リフトオフ層の外周部を保護層で保護し、前記(b)ステップで前記太陽電池層を形成した後、前記保護層を除去するステップを備えることが好ましい。
前記(c)ステップで前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付けた後、前記保護層を除去することが好ましい。
前記保護層は、前記リフトオフ層の外周部と上部に形成する拡散防止層であることが好ましい。
前記保護層は、前記リフトオフ層を形成し、前記太陽電池層のうち前記Mo層と、前記CIGS層を形成した後に前記基板の外周部に塗布した接着材層であることが好ましい。
前記保護層を除去するステップは、前記積層体が形成されたガラス基板の外周部をカットすることにより行うことが好ましい。
これにより、太陽電池層の溶液成長のプロセスでは、リフトオフ層を保護し、リフトオフ工程で確実にリフトオフ層が溶解し、品質の良い太陽電池を得ることができる。 After the lift-off layer is formed in the step (a), an outer peripheral portion of the lift-off layer is protected with a protective layer, and after the solar cell layer is formed in the step (b), the step of removing the protective layer is provided. It is preferable.
In the step (c), it is preferable that the transparent layer is pasted on the solar cell layer via an adhesive layer, and then the protective layer is removed.
It is preferable that the protective layer is a diffusion preventing layer formed on an outer peripheral portion and an upper portion of the lift-off layer.
The protective layer is preferably an adhesive layer applied to the outer peripheral portion of the substrate after forming the lift-off layer and forming the Mo layer and the CIGS layer in the solar cell layer.
The step of removing the protective layer is preferably performed by cutting an outer peripheral portion of the glass substrate on which the laminate is formed.
Thereby, in the process of solution growth of the solar cell layer, the lift-off layer is protected, and the lift-off layer is surely dissolved in the lift-off process, so that a high-quality solar cell can be obtained.

更に、前記積層体の前記二酸化珪素層の側に、接着剤を介してポリマーフィルムを貼り付けるステップを備えることが好ましい。
これにより、ポリマーフィルムに貼り付けたフレキシブルな太陽電池を得ることができる。 Furthermore, it is preferable to provide a step of attaching a polymer film to the silicon dioxide layer side of the laminate through an adhesive.
Thereby, the flexible solar cell affixed on the polymer film can be obtained.

本発明の他の態様は、太陽電池の製造方法であって、
(a) ガラス基板の上面の外周部をマスキングして、前記ガラス基板の上に塩化ナトリウム層又はフッ化バリウム層からなるリフトオフ層を形成し、マスキング層を除去し、
(b) 前記リフトオフ層の上に前記リフトオフ層の外周部を含めて、拡散防止層を形成し、
(c) 前記拡散防止層の上にMo層と、CIGS層と、バッファ層と、透明電極層とを有する太陽電池層を形成し、
(c) 前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付け、
(d) 前記太陽電池層の外周部をカットして、前記リフトオフ層の外周部が露出するようにし、
(e) 前記(a)〜(d)ステップにより前記太陽電池層と、前記接着剤層と、前記透明フィルム層とを含む積層体が形成されたガラス基板を水に浸漬して、前記リフトオフ層を水に溶解し、前記積層体を前記ガラス基板から剥離する、
ステップを備える太陽電池の製造方法である。 Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a solar cell,
(a) masking the outer periphery of the upper surface of the glass substrate, forming a lift-off layer consisting of a sodium chloride layer or a barium fluoride layer on the glass substrate, removing the masking layer;
(b) A diffusion prevention layer is formed on the lift-off layer, including the outer periphery of the lift-off layer,
(c) forming a solar cell layer having a Mo layer, a CIGS layer, a buffer layer, and a transparent electrode layer on the diffusion prevention layer;
(c) pasting a transparent film layer on the solar cell layer via an adhesive layer,
(d) cutting the outer periphery of the solar cell layer so that the outer periphery of the lift-off layer is exposed;
(e) The lift-off layer is obtained by immersing a glass substrate on which a laminate including the solar cell layer, the adhesive layer, and the transparent film layer is formed in the steps (a) to (d) in water. Is dissolved in water, and the laminate is peeled from the glass substrate.
It is a manufacturing method of a solar cell provided with a step.

本発明の他の態様は、太陽電池の製造方法であって、
(a) ガラス基板の上に、塩化ナトリウム層又はフッ化バリウム層からなるリフトオフ層を形成し、
(b) 前記リフトオフ層の上に拡散防止層を形成し、
(c) 前記拡散防止層の上に太陽電池層のうちMo層と、CIGS層とを形成し、
(d) 前記基板の外周部に接着材層からなる保護層を形成し、
(e) 前記CIGS層の上に、太陽電池層のうちバッファ層と、透明電極層を形成し、
(f) 前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付け、
(g) 前記保護層と前記太陽電池層の外周部をカットして、前記リフトオフ層の外周部が露出するようにし、
(h) 前記(a)〜(g)ステップにより前記太陽電池層と、前記接着剤層と、前記透明フィルム層とを含む積層体が形成されたガラス基板を水に浸漬して、前記リフトオフ層を水に溶解し、前記積層体を前記ガラス基板から剥離する、
ステップを備える太陽電池の製造方法である。 Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a solar cell,
(a) forming a lift-off layer consisting of a sodium chloride layer or a barium fluoride layer on a glass substrate;
(b) forming a diffusion prevention layer on the lift-off layer;
(c) forming a Mo layer and a CIGS layer of the solar cell layer on the diffusion prevention layer,
(d) forming a protective layer made of an adhesive layer on the outer periphery of the substrate;
(e) forming a buffer layer and a transparent electrode layer of the solar cell layer on the CIGS layer;
(f) A transparent film layer is pasted on the solar cell layer via an adhesive layer,
(g) cutting the outer periphery of the protective layer and the solar cell layer so that the outer periphery of the lift-off layer is exposed;
(h) A glass substrate on which a laminate including the solar cell layer, the adhesive layer, and the transparent film layer is formed by the steps (a) to (g) is immersed in water, and the lift-off layer Is dissolved in water, and the laminate is peeled from the glass substrate.
It is a manufacturing method of a solar cell provided with a step.

本発明の別の態様は、Mo層と、CIGS層と、バッファ層と、透明電極層とを含む太陽電池と、前記太陽電池の上側の接着剤層及び透明フィルム層と、下側の接着剤層及びポリマーフィルム層とを備え、全体が可撓性である太陽電池である。
バッファ層はCdS層であり、透明電極層はZnO層であることが好ましい。 Another aspect of the present invention is a solar cell including a Mo layer, a CIGS layer, a buffer layer, and a transparent electrode layer, an upper adhesive layer and a transparent film layer of the solar cell, and a lower adhesive The solar cell is provided with a layer and a polymer film layer, and is entirely flexible.
The buffer layer is preferably a CdS layer, and the transparent electrode layer is preferably a ZnO layer.

本発明によれば、太陽電池のCIGS層をガラス基板上に形成するので、CIGS層を高温で形成することができる。また、リフトオフ層としてNaCl層を使用する場合は、ガラス基板上のNaCl層から、CIGS層の高品質化に重要な元素であるNaが、CIGS層に拡散する。そのため、本発明による太陽電池は、ポリマーフィルム上に形成した太陽電池と比較して、結晶性がよく、欠陥が少ない。そのため、高い変換効率を得ることができる。
また、本発明では通常のガラス基板上に太陽電池を形成するプロセスを使用するので、容易に変換効率の良いCIGS層を使用したフレキシブルな太陽電池を製造することができる。
また、太陽電池層の溶液成長のプロセスでは、NaCl層を保護し、その後保護層を除去してリフトオフするので、品質の良い太陽電池を得ることができる。 According to the present invention, since the CIGS layer of the solar cell is formed on the glass substrate, the CIGS layer can be formed at a high temperature. When a NaCl layer is used as the lift-off layer, Na, which is an element important for improving the quality of the CIGS layer, diffuses from the NaCl layer on the glass substrate into the CIGS layer. Therefore, the solar cell according to the present invention has better crystallinity and fewer defects than the solar cell formed on the polymer film. Therefore, high conversion efficiency can be obtained.
In the present invention, since a process for forming a solar cell on a normal glass substrate is used, a flexible solar cell using a CIGS layer with good conversion efficiency can be easily manufactured.
In the solution growth process of the solar cell layer, the NaCl layer is protected, and then the protective layer is removed and lifted off, so that a high quality solar cell can be obtained.

以下、本発明の実施の形態を説明する。本実施の形態では、吸収層としてCIGS層を用いた太陽電池について説明するが、本発明はCIGS層を用いた太陽電池に限定されず、色々の太陽電池に適用することができる。
図１Ａ〜Ｅは、本発明の第１の実施形態によるCIGS層を用いた太陽電池の製造プロセスを示す概略断面図である。 Embodiments of the present invention will be described below. In this embodiment, a solar cell using a CIGS layer as an absorption layer will be described. However, the present invention is not limited to a solar cell using a CIGS layer, and can be applied to various types of solar cells.
1A to 1E are schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of a solar cell using a CIGS layer according to the first embodiment of the present invention.

図１Ａを参照する。ガラス基板11を準備する。ガラス基板11としては、１ｍｍ厚さのソーダライムガラスを使用した。ガラス基板11上にリフトオフ層として塩化ナトリウム（NaCl）層12を蒸着する。NaCl層12の膜厚は、100μｍ以下が適している。蒸着は、室温で行った。後述するように、NaCl層12からCIGS層にNaが拡散する。
NaCl層12の代わりとして、融点が高く、高温真空中でアウターガスを発生しにくく、水に溶解し易いものであれば使用することができ、フッ化バリウム等を使用することができる。NaCl等の材料は耐熱性も高いので、NaCl等で形成されたリフトオフ層上には、真空蒸着法、スパッタリング法等により、膜を成形することができる。 Reference is made to FIG. 1A. A glass substrate 11 is prepared. As the glass substrate 11, soda lime glass having a thickness of 1 mm was used. A sodium chloride (NaCl) layer 12 is deposited on the glass substrate 11 as a lift-off layer. The film thickness of the NaCl layer 12 is suitably 100 μm or less. Deposition was performed at room temperature. As will be described later, Na diffuses from the NaCl layer 12 to the CIGS layer.
Instead of the NaCl layer 12, any material can be used as long as it has a high melting point, hardly generates an outer gas in a high-temperature vacuum, and easily dissolves in water, and barium fluoride or the like can be used. Since a material such as NaCl has high heat resistance, a film can be formed on the lift-off layer formed of NaCl or the like by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like.

不純物の拡散を防ぐため、NaCl層12の上に拡散防止層として二酸化珪素層（SiO2層）13を形成してもよい。SiO2層13は必須ではない。SiO2層13は、蒸着、スパッタリング等により形成することができ、SiO2層13の厚さは100μｍ以下が好ましい。SiO2層13は、NaCl層12からCIGS層へNaが過剰に拡散することを防止する。拡散防止層としてSiO2層の代わりに、アルミナ等の酸化物を用いることもできる。又は、拡散防止層として、モリブテン、銅、アルミニウム等の金属層を使用することもできる。金属層を使用すると、太陽電池を屈曲させても割れにくいという利点がある。 In order to prevent diffusion of impurities, a silicon dioxide layer (SiO 2 layer) 13 may be formed on the NaCl layer 12 as a diffusion preventing layer. The SiO 2 layer 13 is not essential. The SiO 2 layer 13 can be formed by vapor deposition, sputtering or the like, and the thickness of the SiO 2 layer 13 is preferably 100 μm or less. The SiO 2 layer 13 prevents excessive diffusion of Na from the NaCl layer 12 to the CIGS layer. An oxide such as alumina can be used as the diffusion preventing layer instead of the SiO 2 layer. Alternatively, a metal layer such as molybdenum, copper, or aluminum can be used as the diffusion preventing layer. The use of a metal layer has the advantage that it is difficult to break even when the solar cell is bent.

図１Ｂを参照する。SiO2層13上に太陽電池層20を形成する。太陽電池層20は、基板11側から順にMo電極21と、CIGS層からなる光吸収層22と、CdSからなるバッファ層23と、ZnOからなる透明電極24とを有する。 Refer to FIG. 1B. A solar cell layer 20 is formed on the SiO 2 layer 13. The solar cell layer 20 includes, in order from the substrate 11 side, a Mo electrode 21, a light absorbing layer 22 made of a CIGS layer, a buffer layer 23 made of CdS, and a transparent electrode 24 made of ZnO.

太陽電池層20の形成方法を説明する。まず、SiO2層13上にMo電極21を形成する。Mo電極21は、窒素をスパッタガスとして、RFスパッタ法により約１μｍの厚さに形成した。次に、吸収層としてCIGS層22を形成する。基板温度を550℃に上げた状態で、銅、インジウム、ガリウム、セレンを同時に蒸着して、CIGS層22を、約１μｍの厚さに成形した。CIGS22の組成は、Cu(In,Ga)Se2であり、Cu、In、Ga、Seの原子数比は1：0.75：0.25：2であった。 A method for forming the solar cell layer 20 will be described. First, the Mo electrode 21 is formed on the SiO 2 layer 13. The Mo electrode 21 was formed to a thickness of about 1 μm by RF sputtering using nitrogen as a sputtering gas. Next, a CIGS layer 22 is formed as an absorption layer. With the substrate temperature raised to 550 ° C., copper, indium, gallium, and selenium were simultaneously deposited to form the CIGS layer 22 to a thickness of about 1 μm. The composition of CIGS22 is, Cu (In, Ga) is Se 2, Cu, In, Ga , atomic ratio of Se is 1: 0.75: 0.25: 2.

蒸着以外に、スパッタリング法により太陽電池層20を形成することもできる。   In addition to vapor deposition, the solar cell layer 20 can also be formed by sputtering.

CIGS層22の上にCdSバッファ層23を形成する。CdSバッファ層23は、ケミカルバスデポション法により約0.1μｍの厚さに形成した。バッファ層としては、CdS以外にZnOSOH等を使用することもできる。
次に、ZnO透明電極24を形成した。ZnO透明電極24は、窒素をスパッタガスとして、スパッタ法により約0.1μｍの厚さに形成した。透明電極としては、ZnO以外にITO等を使用することもできる。こうして、太陽電池層20が形成された。 A CdS buffer layer 23 is formed on the CIGS layer 22. The CdS buffer layer 23 was formed to a thickness of about 0.1 μm by a chemical bath deposition method. As the buffer layer, ZnOSOH or the like can be used in addition to CdS.
Next, a ZnO transparent electrode 24 was formed. The ZnO transparent electrode 24 was formed to a thickness of about 0.1 μm by sputtering using nitrogen as a sputtering gas. As the transparent electrode, ITO or the like can be used in addition to ZnO. Thus, the solar cell layer 20 was formed.

図１Ｃを参照する。次に、太陽電池層20の上に接着剤15のついた透明なポリマーフィルム16を貼り付けた。接着剤15はシリコン系接着剤である。フィルム16は0.05ｍｍ厚さの透明テフロン（登録商標）フィルムを用いた。   Reference is made to FIG. 1C. Next, a transparent polymer film 16 with an adhesive 15 was attached on the solar cell layer 20. The adhesive 15 is a silicon-based adhesive. As the film 16, a transparent Teflon (registered trademark) film having a thickness of 0.05 mm was used.

図１Ｄを参照する。太陽電池層20と、接着剤15と、透明フィルム16とを含む積層体が形成されたガラス基板11を水に浸漬する。リフトオフ層であるNaCl層12が水に溶解し、SiO2層13、太陽電池層20、接着剤15、ポリマーフィルム16からなる積層体がガラス基板11から剥離する（リフトオフ）。 Reference is made to FIG. 1D. A glass substrate 11 on which a laminate including the solar cell layer 20, the adhesive 15, and the transparent film 16 is formed is immersed in water. The NaCl layer 12, which is a lift-off layer, dissolves in water, and the laminate composed of the SiO 2 layer 13, the solar cell layer 20, the adhesive 15, and the polymer film 16 peels from the glass substrate 11 (lift-off).

図１Ｅを参照する。ガラス基板11からリフトオフしたSiO2層13からポリマーフィルム16までの積層体のSiO2層13の側に接着剤17を介してポリマーフィルム18を貼り付けた。本実施の形態では、ポリマーフィルム18はポリイミドフィルムとした。
こうして、両面にポリマーフィルム16,18を貼り付けたフレキシブルな太陽電池ができた。 Reference is made to FIG. 1E. A polymer film 18 was bonded to the SiO 2 layer 13 side of the laminate from the SiO 2 layer 13 to the polymer film 16 lifted off from the glass substrate 11 via an adhesive 17. In the present embodiment, the polymer film 18 is a polyimide film.
In this way, a flexible solar cell was obtained in which the polymer films 16 and 18 were attached to both sides.

図２Ａ〜Ｇは、本発明の第２の実施形態によるCIGS層を用いた太陽電池の製造プロセスを示す概略断面図である。太陽電池層20を形成する工程で溶液成長のプロセスがある。具体的には、ケミカルデポジション法によりCdSバッファ層23を形成するときである。このとき、リフトオフ層としてのNaCl層12が溶解して、太陽電池層20が剥離し易くなる。第２の実施形態は、NaCl層12の外周部を上に形成するSiO2層13で保護することにより、NaCl層12が溶解しにくくする。 2A to 2G are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a solar cell using a CIGS layer according to the second embodiment of the present invention. There is a solution growth process in the step of forming the solar cell layer 20. Specifically, this is when the CdS buffer layer 23 is formed by the chemical deposition method. At this time, the NaCl layer 12 as the lift-off layer is dissolved, and the solar cell layer 20 is easily peeled off. In the second embodiment, the outer peripheral portion of the NaCl layer 12 is protected by the SiO 2 layer 13 formed thereon, thereby making the NaCl layer 12 difficult to dissolve.

図２Ａを参照する。ガラス基板11の外周部をマスキングして、外周部を除いてNaCl層12を蒸着し、その後、マスキングを除去する。図２Ａには一方向の断面を示すが、これと直角方向の断面も外周部にはNaCl層12は形成されていない。
図２Ｂを参照する。NaCl層12の上に、NaCl層12の着いていないガラス基板11の外周部も含めて、SiO2層13を蒸着する。これにより、NaCl層12の外周部はSiO2の保護層13aで覆われ、露出していない。
図２Ｃに示す太陽電池層20（Mo電極21、CIGS層22、CdSバッファ層23、ZnO透明電極24）の形成は、第１の実施形態と同様である。CdSバッファ層23を形成するとき、NaCl層12は外周部のSiO2の保護層13aにより保護されているので、溶解しにくい。 Refer to FIG. 2A. The outer peripheral portion of the glass substrate 11 is masked, and the NaCl layer 12 is deposited except for the outer peripheral portion, and then the masking is removed. FIG. 2A shows a cross section in one direction, but the NaCl layer 12 is not formed on the outer peripheral portion of the cross section in the direction perpendicular to this.
Refer to FIG. 2B. A SiO 2 layer 13 is deposited on the NaCl layer 12 including the outer periphery of the glass substrate 11 on which the NaCl layer 12 is not attached. As a result, the outer peripheral portion of the NaCl layer 12 is covered with the SiO 2 protective layer 13a and is not exposed.
The formation of the solar cell layer 20 (Mo electrode 21, CIGS layer 22, CdS buffer layer 23, ZnO transparent electrode 24) shown in FIG. 2C is the same as in the first embodiment. When the CdS buffer layer 23 is formed, the NaCl layer 12 is protected by the SiO 2 protective layer 13a on the outer peripheral portion, and thus is hardly dissolved.

図２Ｄに示す接着剤15によるポリマーフィルム16の貼り付けは、第１の実施形態と同様である。
図２Ｅを参照する。太陽電池のNaCl層12の形成されていない外周部をカットする。カットする幅は、保護層13aの幅より若干広くして、NaCl層12の断面が確実に出るようにする。図２Ｅに示す断面と直角方向の断面についても同様にカットする。これにより、NaCl層12が外周部に露出し、リフトオフするときに、NaCl層12が確実に溶解するようになる。 The application of the polymer film 16 with the adhesive 15 shown in FIG. 2D is the same as in the first embodiment.
Refer to FIG. 2E. The outer peripheral portion where the NaCl layer 12 of the solar cell is not formed is cut. The width to be cut is slightly wider than the width of the protective layer 13a so that the cross section of the NaCl layer 12 can be surely obtained. The cross section in the direction perpendicular to the cross section shown in FIG. This ensures that the NaCl layer 12 is dissolved when the NaCl layer 12 is exposed to the outer peripheral portion and lifted off.

図２Ｆに示すNaCl層12を水に溶解するリフトオフ工程は、第１の実施形態と同様である。
図２Ｇに示す接着剤17によるポリマーフィルム18の貼り付けは、第１の実施形態と同様である。
第２の実施形態では、CdSバッファ層23を形成するとき、NaCl層12を保護層13aで保護し、リフトオフするときは保護層13aがないので、NaCl層12が容易に溶解する。
第２の実施形態では、接着剤15によりポリマーフィルム16を貼り付けてから、外周部をカットした。保護層13aは、CdSバッファ層23を形成するときNaCl層12保護するため形成するので、外周部をカットするのは、CdSバッファ層23を形成した後であればよい。接着剤15によりポリマーフィルム16を貼り付ける前でもよい。 The lift-off process for dissolving the NaCl layer 12 in water shown in FIG. 2F is the same as in the first embodiment.
The attachment of the polymer film 18 with the adhesive 17 shown in FIG. 2G is the same as in the first embodiment.
In the second embodiment, when the CdS buffer layer 23 is formed, the NaCl layer 12 is protected by the protective layer 13a, and when the lift-off is performed, the NaCl layer 12 is easily dissolved because there is no protective layer 13a.
In the second embodiment, the outer peripheral portion was cut after the polymer film 16 was pasted with the adhesive 15. Since the protective layer 13a is formed to protect the NaCl layer 12 when forming the CdS buffer layer 23, the outer peripheral portion may be cut only after the CdS buffer layer 23 is formed. It may be before the polymer film 16 is attached by the adhesive 15.

図３Ａ〜Ｇは、本発明の第３の実施形態によるCIGS層を用いた太陽電池の製造プロセスを示す概略断面図である。第３の実施形態は、NaCl層12の外周部に接着剤等の保護層25を形成することにより、NaCl層12が溶解しにくくする。   3A to 3G are schematic cross-sectional views showing a manufacturing process of a solar cell using a CIGS layer according to the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, the NaCl layer 12 is hardly dissolved by forming a protective layer 25 such as an adhesive on the outer periphery of the NaCl layer 12.

図３Ａに示すガラス基板11上へのNaCl層12と、SiO2層13の蒸着は、第１の実施形態と同様である。
図３Ｂを参照する。太陽電池層20のうち、Mo電極21と、CIGS光吸収層22を形成する。
図３Ｃを参照する。NaCl層12と、SiO2層13と、Mo電極21と、CIGS光吸収層22を形成した基板の外周部に保護層25を形成する。保護層25は例えば接着剤を塗布する。図３Ｃには一方向の断面を示すが、これと直角方向の断面にも保護層25を形成する。
CIGS光吸収層22を形成するときは高温（約550℃）になるので、保護層25を形成するのは、Mo電極21と、CIGS光吸収層22を形成した後が好ましい。
図３Ｄを参照する。次に、CdSバッファ層23を形成する。このとき、NaCl層12は外周部の保護層25により保護されているので、溶解しにくい。次に、ZnO透明電極24を形成する。 The deposition of the NaCl layer 12 and the SiO 2 layer 13 on the glass substrate 11 shown in FIG. 3A is the same as in the first embodiment.
Refer to FIG. 3B. Of the solar cell layer 20, a Mo electrode 21 and a CIGS light absorption layer 22 are formed.
Refer to FIG. 3C. A protective layer 25 is formed on the outer periphery of the substrate on which the NaCl layer 12, the SiO 2 layer 13, the Mo electrode 21, and the CIGS light absorption layer 22 are formed. For example, an adhesive is applied to the protective layer 25. Although FIG. 3C shows a cross section in one direction, the protective layer 25 is also formed in a cross section perpendicular to the cross section.
Since the CIGS light absorption layer 22 is formed at a high temperature (about 550 ° C.), the protective layer 25 is preferably formed after the Mo electrode 21 and the CIGS light absorption layer 22 are formed.
Reference is made to FIG. 3D. Next, the CdS buffer layer 23 is formed. At this time, the NaCl layer 12 is protected by the protective layer 25 at the outer peripheral portion, and thus is hardly dissolved. Next, the ZnO transparent electrode 24 is formed.

図３Ｅに示す接着剤15によるポリマーフィルム16の貼り付けは、第１の実施形態と同様である。
図３Ｆを参照する。太陽電池の外周部の保護層25と太陽電池の外周部をカットする。カットする幅は、保護層25の幅より若干広くして、NaCl層12の断面が確実に出るようにする。図３Ｆに示す断面と直角方向の断面についても同様にカットする。これにより、NaCl層12が外周部に露出し、リフトオフするときに、NaCl層12が確実に溶解するようになる。これにより、NaCl層12が外周部に露出し、リフトオフするときに、NaCl層12が溶解するようになる。 The application of the polymer film 16 with the adhesive 15 shown in FIG. 3E is the same as in the first embodiment.
Reference is made to FIG. 3F. The protective layer 25 on the outer periphery of the solar cell and the outer periphery of the solar cell are cut. The width to be cut is slightly wider than the width of the protective layer 25 to ensure that the cross section of the NaCl layer 12 appears. The cross section in the direction perpendicular to the cross section shown in FIG. This ensures that the NaCl layer 12 is dissolved when the NaCl layer 12 is exposed to the outer peripheral portion and lifted off. Accordingly, the NaCl layer 12 is dissolved when the NaCl layer 12 is exposed to the outer peripheral portion and lifted off.

図３Ｇに示すNaCl層12を水に溶解するリフトオフ工程は、第１の実施形態と同様である。
図３Ｈに示す接着剤17によるポリマーフィルム18の貼り付けは、第１の実施形態と同様である。
第３の実施形態では、CdSバッファ層23を形成するとき、保護層25によりNaCl層12を保護し、リフトオフするときは、保護層25がないので、NaCl層12が容易に溶解する。
第３の実施形態では、接着剤15によりポリマーフィルム16を貼り付けてから、外周部をカットした。保護層25は、CdSバッファ層23を形成するときNaCl層12保護するため形成するので、外周部をカットするのは、CdSバッファ層23を形成した後であればよい。接着剤15によりポリマーフィルム16を貼り付ける前でもよい。 The lift-off process for dissolving the NaCl layer 12 in water shown in FIG. 3G is the same as in the first embodiment.
The application of the polymer film 18 with the adhesive 17 shown in FIG. 3H is the same as in the first embodiment.
In the third embodiment, when the CdS buffer layer 23 is formed, the NaCl layer 12 is protected by the protective layer 25, and when the lift-off is performed, the NaCl layer 12 is easily dissolved because there is no protective layer 25.
In the third embodiment, the outer peripheral portion was cut after the polymer film 16 was pasted with the adhesive 15. Since the protective layer 25 is formed to protect the NaCl layer 12 when the CdS buffer layer 23 is formed, the outer peripheral portion may be cut only after the CdS buffer layer 23 is formed. It may be before the polymer film 16 is attached by the adhesive 15.

図４は、本発明の実施例によるCIGS層を用いた太陽電池の外観図である。太陽電池層20の上側にポリマーフィルム16が貼り付けられ、下側にポリイミドからなるポリマーフィルム18が貼り付けられている。ポリイミドフィルムは柔軟性があるので、CIGS薄膜を使用した太陽電池を曲面状に曲げることができる。   FIG. 4 is an external view of a solar cell using a CIGS layer according to an embodiment of the present invention. A polymer film 16 is attached to the upper side of the solar cell layer 20, and a polymer film 18 made of polyimide is attached to the lower side. Since the polyimide film is flexible, a solar cell using a CIGS thin film can be bent into a curved surface.

本発明を使用して、高性能でフレキシブルな太陽電池を簡単に製造することができる。そのため、宇宙用の軽量の太陽電池として使用することができる。また、広く民生用の太陽電池として使用することができる。例えば、本発明の太陽電池をテント等の柔軟な構造物に貼り付けて使用することができる。   Using the present invention, high performance and flexible solar cells can be easily manufactured. Therefore, it can be used as a lightweight solar cell for space use. Moreover, it can be widely used as a consumer solar cell. For example, the solar cell of the present invention can be used by being attached to a flexible structure such as a tent.

本発明の第１の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１の実施形態による太陽電池の概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view of a solar cell according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第２の実施形態による太陽電池の概略断面図。The schematic sectional drawing of the solar cell by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の製造工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the manufacturing process of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施形態による太陽電池の概略断面図。The schematic sectional drawing of the solar cell by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の実施例による太陽電池の外観図。The external view of the solar cell by the Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11 ガラス基板
12 リフトオフ層（塩化ナトリウム（NaCl）層）
13 拡散防止層（SiO2）層
15 接着剤
16 透明フィルム
17 接着剤
18 ポリマーフィルム
20 太陽電池層
21 Mo電極
22 CIGS光吸収層
23 CdSバッファ層
24 ZnO透明電極
25 保護層 11 Glass substrate
12 Lift-off layer (sodium chloride (NaCl) layer)
13 Diffusion prevention layer (SiO 2 ) layer
15 Adhesive
16 Transparent film
17 Adhesive
18 Polymer film
20 Solar cell layer
21 Mo electrode
22 CIGS light absorption layer
23 CdS buffer layer
24 ZnO transparent electrode
25 Protective layer

Claims (15)

太陽電池の製造方法であって、
(a) ガラス基板の上に、水に容易に溶解する材料でリフトオフ層を形成し、
(b) 前記リフトオフ層の上に太陽電池層を形成し、
(c) 前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付け、
(d) 前記(a)〜(c)ステップにより前記太陽電池層と、前記接着剤層と、前記透明フィルム層とを含む積層体が形成されたガラス基板を水に浸漬して、前記リフトオフ層を水に溶解し、前記積層体を前記ガラス基板から剥離する、
ステップを備えることを特徴とする太陽電池の製造方法。 A solar cell manufacturing method comprising:
(a) On the glass substrate, a lift-off layer is formed with a material that easily dissolves in water,
(b) forming a solar cell layer on the lift-off layer;
(c) pasting a transparent film layer on the solar cell layer via an adhesive layer,
(d) The lift-off layer is obtained by immersing a glass substrate on which a laminate including the solar cell layer, the adhesive layer, and the transparent film layer is formed in the steps (a) to (c) in water. Is dissolved in water, and the laminate is peeled from the glass substrate.
The manufacturing method of the solar cell characterized by including a step. 前記太陽電池層は、Mo層と、Cu(In,Ga)Se2（CIGS）層と、バッファ層と、透明電極層とを備える請求項１に記載の太陽電池の製造方法。 The solar cell layer according to claim 1, wherein the solar cell layer includes a Mo layer, a Cu (In, Ga) Se 2 (CIGS) layer, a buffer layer, and a transparent electrode layer. 前記バッファ層はCdS層であり、前記透明電極層はZnO層である請求項２に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 2, wherein the buffer layer is a CdS layer, and the transparent electrode layer is a ZnO layer. 前記リフトオフ層は、塩化ナトリウム層又はフッ化バリウム層である請求項１に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 1, wherein the lift-off layer is a sodium chloride layer or a barium fluoride layer. 前記リフトオフ層を形成した後、前記太陽電池層を形成する前に、前記リフトオフ層の上に拡散防止層を形成するステップを備える請求項１に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 1, further comprising: forming a diffusion prevention layer on the lift-off layer after forming the lift-off layer and before forming the solar cell layer. 前記拡散防止層は、二酸化珪素又はアルミナを含む酸化物層である請求項５に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 5, wherein the diffusion preventing layer is an oxide layer containing silicon dioxide or alumina. 前記拡散防止層は、モリブテン、銅、又はアルミニウムを含む金属層である請求項５に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 5, wherein the diffusion prevention layer is a metal layer containing molybdenum, copper, or aluminum. 前記(a)ステップでリフトオフ層を形成した後、前記リフトオフ層の外周部を保護層で保護し、
前記(b)ステップで前記太陽電池層を形成した後、前記保護層を除去するステップを備える請求項５に記載の太陽電池の製造方法。 After forming the lift-off layer in the step (a), the outer periphery of the lift-off layer is protected with a protective layer,
The method for manufacturing a solar cell according to claim 5, further comprising the step of removing the protective layer after forming the solar cell layer in the step (b). 前記(c)ステップで前記太陽電池層の上に接着材層を介して透明フィルムを貼り付けた後、前記保護層を除去する請求項８に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 8, wherein the protective layer is removed after a transparent film is attached on the solar cell layer through an adhesive layer in the step (c). 前記保護層は、前記リフトオフ層の外周部と上部に形成する拡散防止層である請求項８に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 8, wherein the protective layer is a diffusion prevention layer formed on an outer peripheral portion and an upper portion of the lift-off layer. 前記保護層は、前記リフトオフ層を形成し、前記太陽電池層のうち前記Mo層と、前記CIGS層を形成した後に前記基板の外周部に塗布した接着材層である請求項８に記載の太陽電池の製造方法。   9. The sun according to claim 8, wherein the protective layer is an adhesive layer formed on the outer periphery of the substrate after forming the lift-off layer and forming the Mo layer and the CIGS layer among the solar cell layers. Battery manufacturing method. 更に、(e) 前記積層体の前記太陽電池層の側に、接着剤を介してフィルムを貼り付けるステップを備える請求項１に記載の太陽電池の製造方法。   The method for manufacturing a solar cell according to claim 1, further comprising: (e) a step of attaching a film to the solar cell layer side of the laminate through an adhesive. 太陽電池の製造方法であって、
(a) ガラス基板の上面の外周部をマスキングして、前記ガラス基板の上に塩化ナトリウム層又はフッ化バリウム層からなるリフトオフ層を形成し、マスキング層を除去し、
(b) 前記リフトオフ層の上に前記リフトオフ層の外周部を含めて、拡散防止層を形成し、
(c) 前記拡散防止層の上にMo層と、CIGS層と、バッファ層と、透明電極層とを有する太陽電池層を形成し、
(c) 前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付け、
(d) 前記太陽電池層の外周部をカットして、前記リフトオフ層の外周部が露出するようにし、
(e) 前記(a)〜(d)ステップにより前記太陽電池層と、前記接着剤層と、前記透明フィルム層とを含む積層体が形成されたガラス基板を水に浸漬して、前記リフトオフ層を水に溶解し、前記積層体を前記ガラス基板から剥離する、
ステップを備えることを特徴とする太陽電池の製造方法。 A solar cell manufacturing method comprising:
(a) masking the outer periphery of the upper surface of the glass substrate, forming a lift-off layer consisting of a sodium chloride layer or a barium fluoride layer on the glass substrate, removing the masking layer;
(b) A diffusion prevention layer is formed on the lift-off layer, including the outer periphery of the lift-off layer,
(c) forming a solar cell layer having a Mo layer, a CIGS layer, a buffer layer, and a transparent electrode layer on the diffusion prevention layer;
(c) pasting a transparent film layer on the solar cell layer via an adhesive layer,
(d) cutting the outer periphery of the solar cell layer so that the outer periphery of the lift-off layer is exposed;
(e) The lift-off layer is obtained by immersing a glass substrate on which a laminate including the solar cell layer, the adhesive layer, and the transparent film layer is formed in the steps (a) to (d) in water. Is dissolved in water, and the laminate is peeled from the glass substrate.
The manufacturing method of the solar cell characterized by including a step. 太陽電池の製造方法であって、
(a) ガラス基板の上に、塩化ナトリウム層又はフッ化バリウム層からなるリフトオフ層を形成し、
(b) 前記リフトオフ層の上に拡散防止層を形成し、
(c) 前記拡散防止層の上に太陽電池層のうちMo層と、CIGS層とを形成し、
(d) 前記基板の外周部に接着材層からなる保護層を形成し、
(e) 前記CIGS層の上に、太陽電池層のうちバッファ層と、透明電極層を形成し、
(f) 前記太陽電池層の上に接着剤層を介して透明フィルム層を貼り付け、
(g) 前記保護層と前記太陽電池層の外周部をカットして、前記リフトオフ層の外周部が露出するようにし、
(h) 前記(a)〜(g)ステップにより前記太陽電池層と、前記接着剤層と、前記透明フィルム層とを含む積層体が形成されたガラス基板を水に浸漬して、前記リフトオフ層を水に溶解し、前記積層体を前記ガラス基板から剥離する、
ステップを備えることを特徴とする太陽電池の製造方法。 A solar cell manufacturing method comprising:
(a) forming a lift-off layer consisting of a sodium chloride layer or a barium fluoride layer on a glass substrate;
(b) forming a diffusion prevention layer on the lift-off layer;
(c) forming a Mo layer and a CIGS layer of the solar cell layer on the diffusion prevention layer,
(d) forming a protective layer made of an adhesive layer on the outer periphery of the substrate;
(e) forming a buffer layer and a transparent electrode layer of the solar cell layer on the CIGS layer;
(f) A transparent film layer is pasted on the solar cell layer via an adhesive layer,
(g) cutting the outer periphery of the protective layer and the solar cell layer so that the outer periphery of the lift-off layer is exposed;
(h) A glass substrate on which a laminate including the solar cell layer, the adhesive layer, and the transparent film layer is formed by the steps (a) to (g) is immersed in water, and the lift-off layer Is dissolved in water, and the laminate is peeled from the glass substrate.
The manufacturing method of the solar cell characterized by including a step. Mo層と、CIGS層と、バッファ層と、透明電極層とを含む太陽電池層と、
前記太陽電池層の上側の接着剤層及び透明フィルム層と、
前記太陽電池層の下側の接着剤層及びポリマーフィルム層とを備え、
全体が可撓性であることを特徴とする太陽電池。 A solar cell layer including a Mo layer, a CIGS layer, a buffer layer, and a transparent electrode layer;
An adhesive layer and a transparent film layer on the upper side of the solar cell layer;
An adhesive layer and a polymer film layer below the solar cell layer,
A solar cell characterized by being flexible as a whole.
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