JP2009034692A - Solder ball, and solder bump using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solder ball which can solve the problem of defects in the deletion judgement, the height measurement, and the visual inspection of a solder bump defect due to the discoloration of the solder bump in soldering, and further to provide the solder bump using the same solder ball. <P>SOLUTION: The solder ball comprises 0.5 to 4.0 mass% of Ag, 0 to 1.0 mass% of Cu, 0.2 to 3 ppm of Cr, and the remainder composed of Sn and inevitable impurities. It is preferable that the density of Cr is higher in the surface than in the inside. Further, it is preferable that in the solder bump formed from the solder ball, the density of Cr in the surface is higher than that in the inside. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品等のはんだ付けに使用されるはんだボールおよびそれを用いたはんだバンプに関するものである。   The present invention relates to a solder ball used for soldering an electronic component or the like and a solder bump using the same.

近年、携帯電話などのモバイル機器における実装面積の減少とI/O端子の多ピン化に伴って、半導体パッケージも小型化、高集積化の傾向にある。これにより、半導体パッケージをマザーボードに接続する実装形態も、従来のリードを用いた周辺端子型から、半導体パッケージの底面に格子状に電極端子を形成したタイプへと変遷している。その代表的なものがBGA(Ball Grid Array)である。BGAの電極は、球状に成形されたはんだ、つまりはんだボールを用いてマザーボードの電極へと接続される。   In recent years, with the reduction in mounting area and the increase in the number of I / O terminals in mobile devices such as mobile phones, semiconductor packages are also becoming smaller and more highly integrated. As a result, the mounting form in which the semiconductor package is connected to the mother board is also changing from the conventional peripheral terminal type using leads to a type in which electrode terminals are formed in a lattice shape on the bottom surface of the semiconductor package. A typical example is BGA (Ball Grid Array). The electrodes of the BGA are connected to the electrodes of the mother board using solder formed in a spherical shape, that is, solder balls.

はんだボールによる接続は次の手順で行われる。まず、半導体パッケージ上に並ぶ複数の電極上にはんだボールを搭載した後、はんだの融点以上の温度まで加熱してはんだを溶かし、はんだバンプと称されるはんだの突起を電極上に形成する。
次に、マザーボードの電極の位置と、先に半導体パッケージ側に形成したはんだバンプの位置が重なるように半導体パッケージをマザーボードに搭載した後、はんだの融点以上の温度まで再度加熱することで、半導体パッケージの電極とマザーボードの電極とを接合する。
Connection by solder balls is performed in the following procedure. First, after mounting solder balls on a plurality of electrodes arranged on a semiconductor package, the solder is melted by heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder, and solder protrusions called solder bumps are formed on the electrodes.
Next, after mounting the semiconductor package on the motherboard so that the position of the electrodes on the motherboard and the position of the solder bumps previously formed on the semiconductor package overlap, the semiconductor package is heated again to a temperature above the melting point of the solder. And the mother board electrode are joined.

半導体パッケージの電極とマザーボードの電極がはんだバンプによって接合する際、はんだボールの搭載不良やはんだ濡れ不良によって半導体パッケージの電極にはんだバンプが形成されず欠損していた場合、不良品として扱うために欠損率の管理は重要である。
また、はんだバンプが欠損していなくても、バンプの高さが電極ごとに大きく異なる場合、高さの低いバンプはマザーボードの電極と接することができないため接合されない。このため、半導体パッケージの電極上にはんだバンプが形成された時点で、CCDカメラなどからなる画像認識装置によりはんだバンプの欠損を確認したり、レーザー測長計によりはんだバンプの高さばらつきを測定したりする検査が行われ、はんだバンプが全ての電極に形成されており、かつその高さバラつきが許容範囲にあるもののみがマザーボードに搭載される。
When the electrodes of the semiconductor package and the electrodes of the motherboard are joined by solder bumps, if the solder bumps are not formed on the electrodes of the semiconductor package due to poor mounting of solder balls or poor solder wettability, they are missing to be treated as defective products. Rate management is important.
Even if the solder bumps are not missing, if the bump heights differ greatly from one electrode to another, the bumps with a low height cannot be joined because they cannot contact the electrodes on the motherboard. For this reason, when solder bumps are formed on the electrodes of the semiconductor package, the defect of the solder bumps can be confirmed by an image recognition device such as a CCD camera, or the height variation of the solder bumps can be measured by a laser length meter. The solder bumps are formed on all the electrodes, and only those whose height variations are within an allowable range are mounted on the motherboard.

接合に用いられる代表的なはんだ合金としては、特許文献1や特許文献2に開示されているような、Snを主体とし、AgやCuが添加された合金が挙げられる。これらの合金は融点が220〜225℃程度であり、一般的なはんだ付け温度はそれよりも15〜20℃高い240℃である。これらの温度は、Sn単体の場合と比較して5〜10℃程度低いため、半導体パッケージやマザーボードに使用されている樹脂材料の熱損傷による劣化を低減できるといった利点を有する。
特許第3027441号 特開2002−239780
As a typical solder alloy used for joining, an alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu as disclosed in Patent Documents 1 and 2 can be cited. These alloys have a melting point of about 220 to 225 ° C., and a general soldering temperature is 240 ° C., which is 15 to 20 ° C. higher than that. Since these temperatures are about 5 to 10 ° C. lower than the case of Sn alone, there is an advantage that deterioration due to thermal damage of a resin material used for a semiconductor package or a mother board can be reduced.
Patent No. 3027441 JP2002-239780

このように、Snを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金は、はんだ付け時の半導体パッケージやマザーボードの熱損傷を低減することが可能である。
しかしながら、本発明者がSnを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金からなるはんだボールについて検討した結果、半導体パッケージの電極上にはんだバンプを形成した時点で黄色く変色(以下、黄化という。)しており、良好な金属光沢がなくなってしまうという問題が発生した。
この黄化したはんだバンプでは、画像処理装置における照射光、レーザー測長計におけるレーザー光の反射に乱れが生じる。このため、欠損判定やバンプ高さ測定ができないという問題が発生しており、特にはんだ付け時の雰囲気中酸素濃度が高い場合にこの問題は顕著になった。
また、黄化したはんだバンプが、欠損判定やバンプ高さ測定を何とか合格することができた場合でも、金属光沢を有さないため見た目が悪いため、その後の目視検査で不良と判断される不具合が発生した。結果として、半導体パッケージの生産性と歩留まりが大幅に低下した。
As described above, the solder alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu can reduce the thermal damage of the semiconductor package or the mother board at the time of soldering.
However, as a result of studying a solder ball made of a solder alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu, the present inventor has turned yellow when solder bumps are formed on the electrodes of the semiconductor package (hereinafter referred to as yellowing). )), And there was a problem that good metallic luster was lost.
In this yellowed solder bump, the reflection of the irradiation light in the image processing apparatus and the laser light in the laser length meter is disturbed. For this reason, there is a problem that the defect determination and the bump height measurement cannot be performed, and this problem becomes remarkable particularly when the oxygen concentration in the atmosphere at the time of soldering is high.
In addition, even if the solder bumps that have been yellowed can pass the defect determination and bump height measurement somehow, they do not have a metallic luster, so they do not look good. There has occurred. As a result, the productivity and yield of semiconductor packages has been significantly reduced.

本発明の目的は、Snを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金において、はんだ付け時の変色に起因したはんだバンプの欠損判定、高さ測定、ならびに目視検査での不良の問題を解決するはんだボールおよびそれを用いたはんだバンプを提供することにある。   The object of the present invention is to solve the problem of defect in solder bump defect determination, height measurement, and visual inspection due to discoloration during soldering in a solder alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu. An object of the present invention is to provide a solder ball and a solder bump using the same.

本発明者らは、Snを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金からなるはんだボールにおけるはんだ付け時の変色は、Snの酸化によるものであり、厳密に制御されたわずかな量のCrを添加することで、はんだ付け性を損ねることなく変色の発生を大幅に抑制できることを見出し、本発明に到達した。   The present inventors have observed that the discoloration at the time of soldering in a solder ball made of a solder alloy mainly composed of Sn and to which Ag or Cu is added is due to oxidation of Sn, and a small amount of Cr that is strictly controlled. As a result, it was found that the occurrence of discoloration can be greatly suppressed without impairing the solderability, and the present invention has been achieved.

すなわち本発明は、質量で0.5〜4.0%のAgと、0〜1.0%のCuと、0.2〜3ppmのCrと、残部Sn及び不可避的不純物からなるはんだボールである。
また、本発明のはんだボールは、表面にCrが濃化していることが好ましい。
また、本発明のはんだボールから形成されるはんだバンプにおいて、表面にCrが濃化されることが好ましい。
That is, the present invention is a solder ball composed of 0.5 to 4.0% Ag by mass, 0 to 1.0% Cu, 0.2 to 3 ppm Cr, the remainder Sn and inevitable impurities. .
Moreover, it is preferable that Cr is concentrated on the surface of the solder ball of the present invention.
In the solder bump formed from the solder ball of the present invention, it is preferable that Cr is concentrated on the surface.

本発明によって、Snを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金からなるはんだボールにおいて、はんだ付け性を損ねることなく、はんだ付け時の変色に起因する、はんだバンプの欠損判定、高さ測定、ならびに目視検査での不良の問題が飛躍的に改善される。   According to the present invention, in a solder ball made of a solder alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu, solder bump defect determination and height measurement caused by discoloration during soldering without impairing solderability. In addition, the problem of defects in visual inspection is drastically improved.

上述のように本発明の重要な特徴は、Snを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金からなるはんだボールに、厳密に制御したわずかな量のCrを添加したことにある。   As described above, an important feature of the present invention is that a small amount of strictly controlled Cr is added to a solder ball made of a solder alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu.

Snを主体とし、AgやCuが添加されたはんだ合金からなるはんだボールの場合、最も酸化されやすい元素はSnであり、はんだ付け時に雰囲気中の酸素と反応してはんだバンプ表面に酸化皮膜を形成する。はんだバンプの色は表面酸化皮膜の厚さによって変化し、厚みが増すにつれて金属光沢のある銀白色から光沢のない黄色へと変化する。つまり、はんだ付けによるはんだバンプの黄化は、はんだ中のSnと酸素とが反応した結果、酸化皮膜が厚くなることで発生する。   In the case of a solder ball made of a solder alloy mainly composed of Sn and added with Ag or Cu, the most easily oxidized element is Sn, which reacts with oxygen in the atmosphere during soldering to form an oxide film on the surface of the solder bump. To do. The color of the solder bump changes depending on the thickness of the surface oxide film, and changes from a silvery white with a metallic luster to a yellow with no luster as the thickness increases. That is, yellowing of the solder bumps due to soldering occurs as a result of the reaction between Sn and oxygen in the solder resulting in a thickened oxide film.

一方、前記はんだ合金にCrを添加した場合、CrはSnよりも酸化されやすい元素であるため、はんだ中のCrは優先的に酸素と反応し、Crが濃化したSn酸化皮膜が形成される。このCr濃度が高いSn酸化皮膜は熱的に安定であり、加熱してもその厚みはほとんど変化しない。このため、Crが添加されたはんだ合金からなるはんだボールによって形成されたはんだバンプは、はんだ付け後もはんだボールとほぼ同様な金属光沢のある銀白色を得ることが可能である。銀白色のはんだバンプは、はんだバンプの欠損判定や高さ測定で不具合が発生する頻度が大幅に低減されるとともに、目視検査においても外観上問題にならない。このようにして、はんだ付け時の変色に起因する半導体パッケージの生産性と歩留まりの問題が飛躍的に改善される。   On the other hand, when Cr is added to the solder alloy, since Cr is an element that is more easily oxidized than Sn, Cr in the solder preferentially reacts with oxygen to form an Sn oxide film in which Cr is concentrated. . This Sn oxide film having a high Cr concentration is thermally stable, and its thickness hardly changes even when heated. For this reason, a solder bump formed of a solder ball made of a solder alloy to which Cr is added can obtain a silvery white color with a metallic luster substantially the same as that of the solder ball even after soldering. The silver-white solder bumps are greatly reduced in the frequency of occurrence of defects in solder bump defect determination and height measurement, and are not problematic in visual inspection. In this way, the problem of semiconductor package productivity and yield due to discoloration during soldering is dramatically improved.

Crの添加量を0.2〜3ppmとするのは以下の理由である。添加量が0.2ppmに満たない場合、Sn酸化皮膜を熱的に安定化するにはCrが不足しており、はんだ付け時の加熱によって酸化皮膜は成長し黄化が進行してしまう。
添加量が0.2ppm以上になると、Sn酸化皮膜を熱的に安定化するには十分に濃化できる量であり、黄化の進行が抑制される。
一方、Crはわずかな量であってもSnの融点を著しく上昇させる元素であるため、必要量以上に添加するとはんだ合金の融点が上昇し、はんだ付け温度も高くしなければならない。はんだ付け温度が高くなると、結果として半導体パッケージやマザーボードに使用されている樹脂材料の熱損傷による劣化を誘発する恐れがある。本発明者は、Crの添加量が3ppmまでは、はんだ付け温度として一般的な240℃でのはんだ付けが可能であることを確認している。
The reason why the amount of Cr added is 0.2 to 3 ppm is as follows. When the addition amount is less than 0.2 ppm, Cr is insufficient to thermally stabilize the Sn oxide film, and the oxide film grows and yellows due to heating during soldering.
When the addition amount is 0.2 ppm or more, the amount can be sufficiently concentrated to thermally stabilize the Sn oxide film, and the progress of yellowing is suppressed.
On the other hand, Cr is an element that remarkably increases the melting point of Sn even in a small amount. Therefore, if it is added more than the necessary amount, the melting point of the solder alloy increases and the soldering temperature must be increased. When the soldering temperature is increased, there is a risk that the resin material used for the semiconductor package or the mother board is deteriorated due to thermal damage. The present inventor has confirmed that soldering at a general 240 ° C. as a soldering temperature is possible up to 3 ppm of Cr.

Agの含有量を0.5〜4.0%とする理由は、AgをSnに添加することでSnの融点が下がるため、はんだ付け温度を低くすることができるためである。これにより、半導体パッケージやマザーボードに使用されている樹脂材料の熱損傷による劣化を低減することができる。
ただし、4.0%を超えるAgの添加はかえって融点の上昇を招き、はんだ付け温度を高める必要があるため、熱損傷を引き起こしてしまう。
The reason for setting the Ag content to 0.5 to 4.0% is that the soldering temperature can be lowered because the melting point of Sn is decreased by adding Ag to Sn. Thereby, deterioration by the heat damage of the resin material currently used for a semiconductor package or a motherboard can be reduced.
However, addition of Ag exceeding 4.0% causes an increase in melting point, and it is necessary to increase the soldering temperature, which causes thermal damage.

Cuの含有量を0〜1.0%とする理由は、Agを添加した場合と同様に、CuをSnに添加することでSnの融点が下がるため、はんだ付け温度を低くすることができるためである。但し、はんだ付け温度を低くする必要がない場合は、Cuの含有量を0としてもよい。
ただし、1.0%を超えるCuの添加は、かえって融点の上昇を招き、はんだ付け温度を高める必要があるため、熱損傷を増大してしまう。
The reason for setting the Cu content to 0 to 1.0% is that, similarly to the case of adding Ag, the melting point of Sn is lowered by adding Cu to Sn, so that the soldering temperature can be lowered. It is. However, if it is not necessary to lower the soldering temperature, the Cu content may be zero.
However, addition of Cu exceeding 1.0% causes an increase in melting point, and it is necessary to increase the soldering temperature, which increases thermal damage.

純度99.9%以上のSnにAg、CuおよびCrを添加した合金を作製した後、直径約0.4mmのはんだボールに成形した。評価したはんだボールの合金組成を表1に示す。はんだボールへの成形には均一液滴噴霧法を用いた。均一液滴噴霧法とは、るつぼ内ではんだ合金を溶解し、溶融はんだをるつぼから排出することにより微小球を製造する方法であり、排出する際に溶融はんだに振動を付与することで、排出された溶融金属を体積の均一な微小球とする方法である。尚、該成形方法における雰囲気は窒素中で行なった。
また、Crの添加量はごくわずかであることから、はんだボールのCr含有量の測定はVGエレメンタル社のVG9000を用いたGD−MS分析により行った。Crの分析に使用した同位体はCr(52)であり、検出下限値は0.001ppmである。
An alloy in which Ag, Cu and Cr were added to Sn having a purity of 99.9% or more was produced, and then formed into a solder ball having a diameter of about 0.4 mm. Table 1 shows the alloy composition of the evaluated solder balls. A uniform droplet spray method was used for forming the solder balls. The uniform droplet spraying method is a method of producing microspheres by melting the solder alloy in the crucible and discharging the molten solder from the crucible, and discharging it by applying vibration to the molten solder when discharging. In this method, the molten metal is made into a microsphere having a uniform volume. The atmosphere in the molding method was performed in nitrogen.
Further, since the amount of Cr added was very small, the Cr content of the solder balls was measured by GD-MS analysis using VG9000 manufactured by VG Elemental. The isotope used for the analysis of Cr is Cr (52), and the lower limit of detection is 0.001 ppm.

作製したはんだボールの黄色度を測定し、金属光沢の度合いを評価した。
測定は色彩計により行い、15mm角のトレイにはんだボールが互いに重ならないように一様に並べた後、白色光を当てて、JIS Z 8729 で規定するL表色系における黄色度bを求めた。
次に、はんだ付け時の黄化度合いを評価するため、はんだボールを230℃で30sまたは60s加熱する変色試験を実施し、黄色度bを測定した。Snを主体とし、AgやCuを含むはんだ合金をはんだ付けする場合、通常窒素雰囲気中で行われるが、今回、表面酸化による黄化がより進行しやすい過酷な条件として、大気中で加熱した。
The yellowness of the produced solder balls was measured to evaluate the degree of metallic luster.
The measurement is performed with a colorimeter, and the solder balls are uniformly arranged on a 15 mm square tray so that they do not overlap each other, and then exposed to white light, and yellow in the L * a * b * color system defined by JIS Z 8729 The degree b * was determined.
Next, in order to evaluate the degree of yellowing during soldering, a discoloration test was performed in which the solder balls were heated at 230 ° C. for 30 s or 60 s, and the yellowness b * was measured. When soldering a solder alloy mainly composed of Sn and containing Ag or Cu, it is usually performed in a nitrogen atmosphere, but this time, heating was performed in the atmosphere as a severe condition in which yellowing due to surface oxidation is more likely to proceed.

黄色度の測定結果を表2に、60s後の黄色度をCr添加量の関数としてグラフにしたものを図1に示す。表2および図1が示すように、本発明におけるCrが0.2ppm以上添加されたはんだ合金からなるはんだボールは、添加量が0.2ppm未満のはんだボールと比較して、大気中加熱という非常に酸化しやすい環境にあっても加熱後の黄色度が10未満であり、黄化の進行が大幅に抑制されていることがわかる。このように、厳密に制御されたわずかな量のCrを添加することで金属光沢が加熱後も維持されることにより、半導体パッケージの生産性や歩留まりを飛躍的に改善できる。   The measurement result of yellowness is shown in Table 2, and the yellowness after 60 s as a function of Cr addition is shown in FIG. As shown in Table 2 and FIG. 1, the solder ball made of a solder alloy to which Cr is added in an amount of 0.2 ppm or more in the present invention is extremely heated in the atmosphere as compared with the solder ball having an addition amount of less than 0.2 ppm. Even in an environment that is easily oxidized, the yellowness after heating is less than 10, indicating that the progress of yellowing is greatly suppressed. In this way, by adding a small amount of Cr that is strictly controlled, the metallic luster is maintained even after heating, so that the productivity and yield of the semiconductor package can be drastically improved.

黄化の抑制におけるCr添加の効果を明らかにするため、表1に示した合金組成からなるはんだボールをはんだバンプを想定して、240℃で5min加熱したのち、EPMAを用いてはんだボール表面近傍のCr濃度を測定した。ここでの加熱雰囲気は、通常のはんだ付け時と同じ窒素(純度99.99%、残部は主に酸素)とした。なお、EPMA表面分析におけるCrの検出限界は50質量ppmである。
表3に、加熱前後におけるはんだボールの表面Cr濃度を示す。表3より、本発明の黄化しないはんだボールは、加熱により表面Cr濃度が大幅に上昇しており、表1に示したはんだに添加したCr量と比較して10倍以上と2桁高い。つまり、はんだ中のCrが窒素雰囲気中のごくわずかな酸素と積極的に反応し、はんだボールの表面に濃化し、黄化を抑制していることがわかる。
また、はんだ中のAg量が少ないほど、言い換えれば母材となるSnの割合が高いほどSnが酸化しやすいが、Crを添加した場合は、かえってCrの酸化が促進され、表面への濃化が顕著であることが確認できた。
In order to clarify the effect of Cr addition in suppressing yellowing, a solder ball composed of the alloy composition shown in Table 1 is assumed to be a solder bump, heated at 240 ° C. for 5 minutes, and then near the surface of the solder ball using EPMA. The Cr concentration of was measured. The heating atmosphere here was the same nitrogen as in normal soldering (purity 99.99%, the balance being mainly oxygen). In addition, the detection limit of Cr in EPMA surface analysis is 50 mass ppm.
Table 3 shows the surface Cr concentration of the solder balls before and after heating. From Table 3, the solder balls of the present invention that are not yellowed have a significantly increased surface Cr concentration by heating, which is 10 times or more and two orders of magnitude higher than the amount of Cr added to the solder shown in Table 1. That is, it can be seen that Cr in the solder positively reacts with a very small amount of oxygen in the nitrogen atmosphere, concentrates on the surface of the solder ball, and suppresses yellowing.
In addition, the smaller the amount of Ag in the solder, in other words, the higher the proportion of Sn as the base material, the more likely it is to oxidize. However, when Cr is added, the oxidation of Cr is promoted and the concentration on the surface is rather enhanced. Has been confirmed to be remarkable.

はんだボールの黄色度b*とCr添加量の関係を示す。The relationship between the yellowness b * of a solder ball and the amount of Cr added is shown.

Claims (3)

質量で0.5〜4.0%のAgと、0〜1.0%のCuと、0.2〜3ppmのCrと、残部Sn及び不可避的不純物からなることを特徴とするはんだボール。 A solder ball comprising, by mass, 0.5 to 4.0% Ag, 0 to 1.0% Cu, 0.2 to 3 ppm Cr, the balance Sn and inevitable impurities. 表面にCrが濃化していることを特徴とする請求項1に記載のはんだボール。 The solder ball according to claim 1, wherein Cr is concentrated on the surface. 請求項1または2に記載されるはんだボールにより形成されるはんだバンプにおいて、表面にCrが濃化していることを特徴とするはんだバンプ。 3. A solder bump formed by the solder ball according to claim 1, wherein Cr is concentrated on the surface.
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