JP2009026863A - Printing method of semiconductor wafer - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily perform precise positioning without using a complicated positioning means and the like, and to perform printing by simple screen printing without using an expensive printing device such as laser equipment in a process for performing printing at the rear face of each chip of a semiconductor wafer. <P>SOLUTION: At the time of performing printing on the rear face so as to correspond to a plurality of semiconductor chips 2 with function regions which are formed on the surface of the semiconductor wafer 1, a part of the semiconductor wafer 1 is cut by two orthogonal straight lines in parallel to orthogonal scribe lines 6 and 7 and two orthogonal positioning cutting edges 8 and 9 which are formed of straight lines are formed. The semiconductor wafer 1 is turned over, and the semiconductor wafer 1 is positioned with respect to the printing device with the two positioning cutting edges 8 and 9 as references. Screen printing is performed on corresponding positions of rear faces of the plurality of semiconductor chips 2. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウェハの印刷方法に関し、特に、半導体ウェハの表面に機能領域が形成される複数の半導体チップのそれぞれの裏面に、品種、ロット番号、記号等の各半導体チップの識別事項を印刷(マーキングとも言う。)をする方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor wafer printing method, and in particular, prints identification items of each semiconductor chip such as a product type, a lot number, and a symbol on the back surface of each of a plurality of semiconductor chips in which a functional region is formed on the front surface of the semiconductor wafer. (Also referred to as marking).

1枚の半導体ウェハでは、通常、表面に回路パターン等の機能領域(例えば、ショットキー回路等)を有する複数の半導体チップ(例えば3万個の半導体チップ)が作り込まれる。このような半導体チップとしては、ウェハレベルチップサイズパッケージ(WL−CSP)、フリップチップ(Flip Chip)等がある。   In one semiconductor wafer, usually, a plurality of semiconductor chips (for example, 30,000 semiconductor chips) having a functional region (for example, a Schottky circuit) such as a circuit pattern on the surface are formed. Examples of such semiconductor chips include a wafer level chip size package (WL-CSP), a flip chip (Flip Chip), and the like.

このような半導体チップは、1枚の半導体ウェハに複数品種の半導体チップを形成し、その後切断して個々の半導体チップを得るような場合には、各半導体チップの品種等が識別できなくなってしまう。また、このような半導体チップは、通常、その機能領域の形成された表面を下向きにして回路基板に実装するが、実装後、半導体チップの品種等の識別ができなくなってしまう。   In such a semiconductor chip, when a plurality of types of semiconductor chips are formed on one semiconductor wafer and then cut to obtain individual semiconductor chips, the type of each semiconductor chip cannot be identified. . In addition, such a semiconductor chip is usually mounted on a circuit board with the surface on which the functional region is formed facing downward. However, after the mounting, the type of the semiconductor chip cannot be identified.

そこで、 表面に、機能領域が形成された各半導体チップの裏面に、品種、ロット番号、マーク等の当該半導体チップの所要の識別事項を印刷(マーキング)することが行われている。   Therefore, necessary identification items such as product type, lot number, and mark are printed (marked) on the back surface of each semiconductor chip having a functional region formed on the front surface.

例えば、ウェハの複数の半導体チップの表面に素子活性領域(機能領域)が形成された裏面に、品種識別用の記号を写真製版又はレーザ加工で形成し、切断分割して得られた半導体チップを下向きにして回路基板に実装する構成は公知である(特許文献1参照)。   For example, a semiconductor chip obtained by forming a product identification symbol by photoengraving or laser processing on the back surface of a plurality of semiconductor chips on a wafer where element active regions (functional regions) are formed, and cutting and dividing the chip. A configuration for mounting on a circuit board facing downward is known (see Patent Document 1).

また、バンプ方式等のICパターン面がマザーボード側へ向けて搭載されるようなICチップの裏面に品名等の表示を有するように、レーザマーキング方式等で書き込む構成は公知である(特許文献2参照)。   In addition, a configuration in which writing is performed by a laser marking method or the like is known so that an IC pattern surface such as a bump method is mounted on the back surface of the IC chip mounted on the motherboard side (see Patent Document 2). ).

さらに、半導体ウェハの表面に、回路を有する複数のチップ形成領域を形成する工程の後であって、各チップ形成領域上にバンプ電極を形成する工程の前に、各チップ形成領域と対応する半導体ウェハの裏面側の領域に夫々レーザマーキング法又はインクマーキング法によって識別マークを形成する工程を備え半導体装置の製造方法は公知である(特許文献3参照)。   Furthermore, after the step of forming a plurality of chip formation regions having circuits on the surface of the semiconductor wafer, and before the step of forming the bump electrodes on each chip formation region, the semiconductor corresponding to each chip formation region A method for manufacturing a semiconductor device is known, which includes a step of forming an identification mark by a laser marking method or an ink marking method in a region on the back side of a wafer, respectively (see Patent Document 3).

なお、半導体検査の後で、その検査結果に基づいて、半導体ウェハに、インクジェット印刷法により、非接触でマーキング用液体を吐出させ均一のマーキングを行う構成は公知である(特許文献4参照)。   In addition, after semiconductor test | inspection, based on the test result, the structure which discharges the liquid for marking to a semiconductor wafer by an inkjet printing method and performs uniform marking is known (refer patent document 4).

特開昭58−175820号公報JP 58-175820 A 特開平4−106960号公報JP-A-4-106960 特開2000−294607号公報JP 2000-294607 A 特開2004−096097号公報JP 2004-096097 A

半導体ウェハの各チップに、それぞれ品種、ロット番号、マーク等を印刷(マーキング)する手段は、上記のとおり従来知られているが、機能領域が表面に形成された各チップに対応して、裏面に印刷するために位置決めを正確に行わなくてはならない。   The means for printing (marking) the product type, lot number, mark, etc. on each chip of the semiconductor wafer is conventionally known as described above, but the back surface corresponds to each chip having the functional area formed on the surface. In order to print on, it must be accurately positioned.

しかしながら、上記従来技術では、裏面に位置決め用のマーク等を付して、これを光学的に読み取る等して位置決めしなくてはならず、そのための位置決め手段の構造が複雑となる等の問題があった。   However, in the above prior art, a positioning mark or the like must be attached to the back surface, and the positioning must be performed by optical reading or the like, and the structure of the positioning means therefor is complicated. there were.

また、従来の印刷(マーキング)に使用されているレーザ装置は高価であり、半導体ウェハの各チップの所定の位置に所定の文字やマーク等を印刷するために必要な、半導体ウェハに対するレーザ装置の位置決め手段等も上述のとおり複雑で高価となり、特に、他品種少量生産の半導体ウェハの各チップの印刷等に使用する場合は、経済的にも採算上問題があった。   In addition, laser devices used for conventional printing (marking) are expensive, and laser devices for semiconductor wafers that are necessary for printing predetermined characters, marks, etc. at predetermined positions on each chip of the semiconductor wafer. The positioning means and the like are also complicated and expensive as described above, and particularly when used for printing each chip of a semiconductor wafer produced in a small quantity of other varieties, there is a problem in terms of profitability.

本発明は、上記従来の半導体ウェハの各チップの裏面に印刷する場合に必要である位置決めについて、複雑な位置決め手段等を使用することなく簡単に精度のよい位置決めを可能とする方法を実現し、しかも、レーザ装置等の高価な印刷装置を使用することなく、簡易なスクリーン印刷やインクジェット印刷を利用した半導体ウェハの印刷方法を実現することを課題とする。   The present invention realizes a method that enables easy and accurate positioning without using complicated positioning means, etc., for positioning required when printing on the back surface of each chip of the conventional semiconductor wafer, Moreover, it is an object to realize a semiconductor wafer printing method using simple screen printing or ink jet printing without using an expensive printing device such as a laser device.

本発明は上記課題を解決するために、スクライブラインを切断することにより、多数のチップに分割される半導体ウェハにおいて、表面に機能領域の形成された前記多数のチップのそれぞれに対応して裏面に印刷を行う半導体ウェハの印刷方法であって、前記半導体ウェハの一部を、2つの直線で切断して、2つの位置決め用切断縁を形成し、前記半導体ウェハを裏返しにして、前記2つの位置決め用切断縁を基準に印刷装置に対して前記半導体ウェハを位置決めして、前記多数のチップのそれぞれ対応する裏面の位置に印刷を行うことを特徴とする半導体ウェハの印刷方法を提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a semiconductor wafer that is divided into a large number of chips by cutting a scribe line, and a back surface corresponding to each of the large number of chips having functional regions formed on the front surface. A method of printing a semiconductor wafer for printing, wherein a part of the semiconductor wafer is cut by two straight lines to form two positioning cutting edges, the semiconductor wafer is turned over, and the two positioning is performed. A method for printing a semiconductor wafer is provided, wherein the semiconductor wafer is positioned with respect to a printing apparatus with reference to a cutting edge for printing, and printing is performed at the position of the back surface corresponding to each of the plurality of chips.

本発明は上記課題を解決するために、スクライブラインを切断することにより、多数のチップに分割される半導体ウェハにおいて、表面に機能領域の形成された前記多数のチップのそれぞれに対応して裏面に印刷を行う半導体ウェハの印刷方法であって、前記半導体ウェハの一部を、互いに直交するスクライブラインと平行に、互いに直交する2つの直線で切断して、それぞれ直線から成り互いに直交する2つの位置決め用切断縁を形成し、前記半導体ウェハを裏返しにして、前記2つの位置決め用切断縁を基準に印刷装置に対して前記半導体ウェハを位置決めして、前記多数のチップのそれぞれ対応する裏面の位置に印刷を行うことを特徴とする半導体ウェハの印刷方法を提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a semiconductor wafer that is divided into a large number of chips by cutting a scribe line, and a back surface corresponding to each of the large number of chips having functional regions formed on the front surface. A method for printing a semiconductor wafer for printing, wherein a part of the semiconductor wafer is cut by two straight lines orthogonal to each other in parallel to a scribe line orthogonal to each other, and two positionings each consisting of a straight line and orthogonal to each other Forming a cutting edge for the semiconductor wafer, turning the semiconductor wafer upside down, positioning the semiconductor wafer with respect to the printing apparatus with reference to the two cutting edges for positioning, Provided is a method for printing a semiconductor wafer, wherein printing is performed.

前記半導体ウェハを切断し2つの位置決め用切断縁を得るために切断する箇所は、それぞれ前記半導体ウェハにおけるチップが形成されていない領域内にあることが好ましい。   It is preferable that the portions to be cut in order to cut the semiconductor wafer to obtain two positioning cutting edges are in regions where no chips are formed on the semiconductor wafer.

前記半導体ウェハを切断し2つの位置決め用切断縁を得るために切断する箇所は、それぞれ半導体ウェハの端部にあるスクライブラインであってもよい。   The portions to be cut to cut the semiconductor wafer to obtain two positioning cutting edges may be scribe lines at the ends of the semiconductor wafer.

前記印刷は、スクリーン印刷により行うことが好ましい。   The printing is preferably performed by screen printing.

前記スクリーン印刷装置に使用するマスクには、互いに直交する2つの直線上にそれぞれ形成された1又は2以上の長細いスリットを形成し、該長細いスリットの全てと、前記位置決め用切断縁を合わせて、前記半導体ウェハに対する前記マスクの位置決めを行うことが好ましい。   The mask used in the screen printing apparatus is formed with one or two or more long and narrow slits formed on two straight lines orthogonal to each other, and all the long and narrow slits are aligned with the positioning cutting edge. The mask is preferably positioned with respect to the semiconductor wafer.

前記印刷は、インクジェット印刷により行い、該インクジェット印刷において、インクジェットヘッドが、前記半導体ウェハの互いに直交するスクライブラインに平行に相対的に移動するように、前記位置決め用切断縁に基づいてインクジェット印刷の装置を位置決めする構成としてもよい。   The printing is performed by ink-jet printing, and in the ink-jet printing, an ink-jet printing apparatus based on the positioning cutting edges so that an ink-jet head moves relatively in parallel to scribe lines orthogonal to each other of the semiconductor wafer. It is good also as a structure which positions.

本発明に係る半導体ウェハの印刷方法によれば次のような効果を生じる。
(1)半導体ウェハの各チップの裏面に印刷するために、複雑な位置決め手段等を使用することなく、簡単に精度のよい位置決めを行うことができる。
(2)レーザ装置等の高価で複雑なマーキングを使用する必要がないので、経済的であり、特に、半導体ウェハから半導体チップを多品種少量生産するような場合には、きわめて有用である。
The semiconductor wafer printing method according to the present invention produces the following effects.
(1) Since printing is performed on the back surface of each chip of the semiconductor wafer, it is possible to easily perform accurate positioning without using complicated positioning means or the like.
(2) Since it is not necessary to use expensive and complicated markings such as a laser device, it is economical, and is extremely useful particularly in the case where a large variety of semiconductor chips are produced from a semiconductor wafer.

(3)半導体ウェハの上部及び側端部における、互いに直交するスクライブラインをダイシングすれば、位置決め用切断縁をより簡単かつ正確に得ることができ、本発明の半導体ウェハの印刷方法をより、簡単かつ正確に実施可能である。 (3) If the scribe lines perpendicular to each other are diced at the upper and side edges of the semiconductor wafer, the positioning cutting edge can be obtained more easily and accurately, and the semiconductor wafer printing method of the present invention is easier. And can be implemented accurately.

本発明に係る半導体ウェハの印刷方法を実施するための最良の形態を実施例に基づき図面を参照して、以下説明する。   The best mode for carrying out a semiconductor wafer printing method according to the present invention will be described below with reference to the drawings based on the embodiments.

(全体)
図1(a)は、本発明に係る半導体ウェハの印刷方法により、その裏面に印刷される半導体ウェハ1(シリコンウェハ)を示す平面図である。この半導体ウェハ1には、表面に回路パターン等の機能領域(例えば、ショットキー回路や集積回路等)やバンプ電極等を有する複数(例えば、1×1mm程度の寸法の半導体チップが3万個等)の半導体チップ2が、すでに形成されている。
(The entire)
FIG. 1A is a plan view showing a semiconductor wafer 1 (silicon wafer) printed on the back surface thereof by the semiconductor wafer printing method according to the present invention. The semiconductor wafer 1 has a plurality of (for example, 30,000 semiconductor chips having a size of about 1 × 1 mm) having functional areas such as circuit patterns (for example, Schottky circuits and integrated circuits), bump electrodes, and the like on the surface. ) Semiconductor chip 2 has already been formed.

この半導体チップ2としては、例えば、ウェハレベルチップサイズパッケージ(WL−CSP)、フリップチップ(Flip Chip)等、その表面の機能領域が、回路基板に対向して向けられ、回路基板にバンプ電極等を介して電気的に取り付けられ実装されるものである。本発明に係る半導体ウェハの印刷方法により、複数の半導体チップ2の裏面に、各半導体チップ2の位置に対応して品種、ロット番号、マーク等の各半導体チップ2に所定の識別事項等が印刷される。   As the semiconductor chip 2, for example, a functional area on the surface thereof such as a wafer level chip size package (WL-CSP), a flip chip (Flip Chip) or the like is directed to the circuit board, and a bump electrode is provided on the circuit board. It is electrically attached and mounted via. With the semiconductor wafer printing method according to the present invention, predetermined identification items, etc. are printed on each semiconductor chip 2 such as product type, lot number, and mark corresponding to the position of each semiconductor chip 2 on the back surface of the plurality of semiconductor chips 2. Is done.

(位置決め用切断縁のダイシング)
本発明に係る半導体ウェハの印刷方法では、まず、半導体ウェハ1の半導体チップ2の形成されていない周囲の領域3における2箇所4、5において、縦及び横のスクライブライン6、7と平行である、互いに直交する縦方向及び横方向に直線12、13(図1(b)の1点鎖線参照)で切断する。
(Dicing cutting edge for positioning)
In the method for printing a semiconductor wafer according to the present invention, first, the vertical and horizontal scribe lines 6 and 7 are parallel at two locations 4 and 5 in the peripheral region 3 where the semiconductor chip 2 of the semiconductor wafer 1 is not formed. Cut along straight lines 12 and 13 in the vertical and horizontal directions perpendicular to each other (see the dashed line in FIG. 1B).

これによって、直線で切断された半導体ウェハ1の裏面に(表面にも当然である)、図1(b)に示すように、それぞれ縦及び横のスクライブライン6、7と平行な直線から成り、互いに直交する2本の位置決め用切断縁8、9が形成される。   As a result, on the back surface of the semiconductor wafer 1 cut along a straight line (which is of course also on the front surface), as shown in FIG. 1 (b), each consists of straight lines parallel to the vertical and horizontal scribe lines 6 and 7, respectively. Two positioning cutting edges 8 and 9 which are orthogonal to each other are formed.

半導体ウェハ1の切断は、半導体ウェハ1を切断用の作業台上にテープを用いて貼り付け、チップ表面のパターンをアライメントとしダイシング(ダイヤモンド刃による切断)により行う。このダイシング工程では、縦及び横のスクライブライン6、7に平行となるように、互いに直交する縦方向及び横方向に直線12、13(図1(b)の1点鎖線参照)で切断する。そのために、ダイヤモンド刃の向き(切断方向)と、スクライブライン6、7とを平行となるように半導体ウェハ1を位置決めしなくてはならない。   The semiconductor wafer 1 is cut by dicing (cutting with a diamond blade) by attaching the semiconductor wafer 1 on a cutting work table using a tape and using the chip surface pattern as an alignment. In this dicing process, cutting is performed by straight lines 12 and 13 (see the alternate long and short dash lines in FIG. 1B) in the vertical and horizontal directions orthogonal to each other so as to be parallel to the vertical and horizontal scribe lines 6 and 7. Therefore, the semiconductor wafer 1 must be positioned so that the direction of the diamond blade (cutting direction) and the scribe lines 6 and 7 are parallel.

具体的には、市販されている周知のダイシング装置を用い、ウェハ表面に形成されているスクライブラインにアライメントを行い、互いに直交する直線12、13を切断すればよい。   Specifically, using a known dicing apparatus that is commercially available, alignment is performed on a scribe line formed on the wafer surface, and the straight lines 12 and 13 that are orthogonal to each other may be cut.

ところで、2本の位置決め用切断縁8、9のうちの1本を、半導体ウェハ1のオリエンテーションフラット15(通称「オリフラ」)を利用してもよい。即ち、半導体ウェハ1は、通常、図1(a)、(b)に示すように、その一部が予め直線的に切断されてオリエンテーションフラット15が形成されている。   By the way, one of the two positioning cutting edges 8 and 9 may use the orientation flat 15 (commonly referred to as “orientation flat”) of the semiconductor wafer 1. That is, as shown in FIGS. 1A and 1B, a part of the semiconductor wafer 1 is linearly cut in advance and an orientation flat 15 is formed.

従って、半導体ウェハ1の裏面におけるオリエンテーションフラット15の縁16(図1(c)参照)が、スクライブライン6、7に対して完全に平行して(又は直交して)切断されている直線から成る縁であれば、2本の位置決め用切断縁8、9のうちの1本は、このオリエンテーションフラット15の縁16を利用しても良い。しかし、通常は、オリエンテーションフラット15は、比較的ラフ(精度の良い直載面ではない)に切断されている場合が多い。   Therefore, the edge 16 (see FIG. 1C) of the orientation flat 15 on the back surface of the semiconductor wafer 1 is formed of a straight line that is cut completely parallel (or orthogonal) to the scribe lines 6 and 7. If it is an edge, one of the two positioning cutting edges 8 and 9 may use the edge 16 of the orientation flat 15. However, usually, the orientation flat 15 is often cut relatively rough (not a highly accurate direct mounting surface).

(スクリーン印刷)
半導体ウェハ1の複数の半導体チップ2のそれぞれの裏面における印刷は、本実施例ではスクリーン印刷(シルク印刷)により行う。上記のように、2本の位置決め用切断縁8、9が形成された半導体ウェハ1を、裏返しにして図2(a)のスクリーン印刷用の支持台17に載置する。
(Screen printing)
In the present embodiment, printing on the back surfaces of the plurality of semiconductor chips 2 of the semiconductor wafer 1 is performed by screen printing (silk printing). As described above, the semiconductor wafer 1 on which the two positioning cutting edges 8 and 9 are formed is turned over and placed on the screen printing support base 17 in FIG.

スクリーン印刷用の支持台17は、図2(a)、(b)に示すように、矩形のスクリーンマスク18(以下、単に「マスク」という。)が嵌合する矩形の支持枠19を備えており、この支持枠19の内周に沿って、嵌合されたマスク18を支持して載置するマスク支持面20が形成されている。このマスクの支持面20の表面には、半導体ウェハ1を嵌合して支持するウェハ支持用凹部21が形成されている。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the screen printing support 17 includes a rectangular support frame 19 into which a rectangular screen mask 18 (hereinafter simply referred to as “mask”) is fitted. A mask support surface 20 for supporting and placing the fitted mask 18 is formed along the inner periphery of the support frame 19. On the surface of the support surface 20 of the mask, a wafer support recess 21 for fitting and supporting the semiconductor wafer 1 is formed.

ウェハ支持用凹部21には、その内周に沿って浅い段面22が形成されている。半導体ウェハ1が裏返しにされてウェハ支持用凹部21内に嵌合された際、段面22に、半導体チップ2の形成されていない領域3の部分が当接して支持される。   A shallow step surface 22 is formed along the inner periphery of the recess 21 for supporting the wafer. When the semiconductor wafer 1 is turned upside down and fitted into the wafer support recess 21, a portion of the region 3 where the semiconductor chip 2 is not formed is in contact with and supported by the step surface 22.

ウェハ支持用凹部21における、段面22より内側の部分には、いずれの半導体チップ2の機能領域の表面も接触しない程度の深さの底部23が形成されており、この底部23に、真空引き用のチューブ24の先端が開口している。チューブ24の基端は、真空引きポンプ25に接続されている。   A bottom portion 23 having a depth that does not come into contact with the surface of the functional region of any semiconductor chip 2 is formed in a portion inside the stepped surface 22 in the recess 21 for supporting the wafer. The tip of the tube 24 for use is open. The proximal end of the tube 24 is connected to a vacuum pump 25.

スクリーン印刷用の支持台17は、以上のとおりの構成であるから、半導体ウェハ1は、裏返しにしてウェハ支持用凹部21に嵌合すれば、真空引きポンプ25によって吸着し保持することができる。いったん、半導体ウェハ1をウェハ支持用凹部21内に嵌合して位置決めすれば、スクリーン印刷において外力が加わっても、位置ずれするようなことがない。   Since the support base 17 for screen printing is configured as described above, the semiconductor wafer 1 can be sucked and held by the vacuum pump 25 if the semiconductor wafer 1 is turned upside down and fitted into the recess 21 for supporting the wafer. Once the semiconductor wafer 1 is fitted and positioned in the wafer support recess 21, the position does not shift even when an external force is applied in screen printing.

このようにして、半導体ウェハ1を、裏返しにして機能領域を有する表面を下方に向けて支持台17上に支持してから、図2(c)、(d)に示すように、半導体ウェハ1の裏面及びマスク支持面20上に、マスク18を、矩形の支持枠19内に嵌合するようにして載置する。   In this way, after the semiconductor wafer 1 is turned upside down and supported on the support base 17 with the surface having the functional region facing downward, as shown in FIGS. 2 (c) and 2 (d), the semiconductor wafer 1 The mask 18 is placed on the back surface and the mask support surface 20 so as to fit into a rectangular support frame 19.

図3(a)は、マスク18を示す平面図である。マスク18は、金属(例.SUS等の材料)の薄板(厚さは10μm程度)で形成されており、周囲は補強枠26で補強され支持されている。マスク18には、複数の半導体チップのそれぞれに対して品種、ロット番号、マーク等の所定の事項を印刷するためのスクリーン印刷の孔版27が形成されている。   FIG. 3A is a plan view showing the mask 18. The mask 18 is formed of a thin plate (thickness of about 10 μm) of metal (for example, a material such as SUS), and the periphery thereof is reinforced and supported by a reinforcing frame 26. The mask 18 is formed with a screen printing stencil 27 for printing predetermined items such as a product type, a lot number, and a mark on each of a plurality of semiconductor chips.

具体的には、マスク18を半導体ウェハ1の上に位置決めして載置した場合に、各半導体チップ2に対応する裏面の位置に、品種、ロット番号、マーク等、各半導体チップ2に印刷すべき所定の識別事項を表示する文字を表示する微細な文字孔27’が形成されている。   Specifically, when the mask 18 is positioned and placed on the semiconductor wafer 1, the product type, lot number, mark, and the like are printed on each semiconductor chip 2 at the position on the back surface corresponding to each semiconductor chip 2. A fine character hole 27 ′ for displaying a character for displaying a predetermined identification item is formed.

さらに、マスク18には、半導体ウェハ1の半導体チップ2が形成されていない領域3に対応する位置であって、マスク18を半導体ウェハ1の上に位置決めして載置した場合に、互いに直交する2本の位置決め用切断縁8、9に対応する線12’、13’上の位置に、長細い位置決め用のスリット28、29が、それぞれ1又は2本以上形成されている(図3(a)、(b)では3本形成されている)。位置決め用スリット28、29のそれぞれの寸法は、例えば、0.20×1.0mm程度である。   Further, the mask 18 is a position corresponding to the region 3 where the semiconductor chip 2 of the semiconductor wafer 1 is not formed, and is orthogonal to each other when the mask 18 is positioned and placed on the semiconductor wafer 1. One or two or more long and narrow positioning slits 28 and 29 are formed at positions on the lines 12 ′ and 13 ′ corresponding to the two positioning cutting edges 8 and 9 (FIG. 3A). 3 is formed in (b)). Each dimension of the positioning slits 28 and 29 is, for example, about 0.20 × 1.0 mm.

マスク18を、支持枠19内に嵌合して半導体ウェハ1及び支持面22上に載置すれば、位置決め用スリット28、29が、半導体ウェハ1の互いに直交する2本の位置決め用切断縁8、9と一致し、位置決めスリット28、29を通して上方から2本の位置決め用切断縁8、9が視認できるように、予め支持台17が形成されている。   When the mask 18 is fitted into the support frame 19 and placed on the semiconductor wafer 1 and the support surface 22, the positioning slits 28 and 29 are formed by the two positioning cutting edges 8 perpendicular to each other of the semiconductor wafer 1. , 9 and the support base 17 is formed in advance so that the two positioning cutting edges 8, 9 can be visually recognized from above through the positioning slits 28, 29.

しかし、位置決めスリット28、29と位置決め用切断縁8、9が微小にずれている場合は、支持枠19内でマスク18を微動させて、位置決め用スリット28、29と位置決め用切断縁8、9を完全に一致するように微調整する。   However, when the positioning slits 28 and 29 and the positioning cutting edges 8 and 9 are slightly displaced, the mask 18 is slightly moved within the support frame 19 to position the positioning slits 28 and 29 and the positioning cutting edges 8 and 9. Tweaks to match exactly.

このように支持枠19内にマスク18を嵌合して、半導体ウェハ1の裏面及びマスク支持面22上に載置して微調整を行って完全に位置決めをしてから、支持枠19に装着されているネジ19’によってマスク18の補強枠26を固定する。これにより、マスク18も位置決めされて固定された状態となり、スクリーン印刷中もずれるようなことがない。   In this way, the mask 18 is fitted into the support frame 19, placed on the back surface of the semiconductor wafer 1 and the mask support surface 22, finely adjusted, and completely positioned, and then mounted on the support frame 19. The reinforcing frame 26 of the mask 18 is fixed by the screw 19 '. As a result, the mask 18 is also positioned and fixed, and is not displaced during screen printing.

このように半導体ウェハ1の裏面上にマスク18を載置してから、マスク18上にインクを塗布したローラ(図示せず)を転動する。これにより、マスク18の孔版27を通してインクを半導体ウェハ1の裏面に付与して印刷を行うことができる。インクは、耐久性のあるエポシキ系のインクを使用することが好ましい。   After placing the mask 18 on the back surface of the semiconductor wafer 1 in this manner, a roller (not shown) coated with ink on the mask 18 is rolled. Thus, printing can be performed by applying ink to the back surface of the semiconductor wafer 1 through the stencil 27 of the mask 18. As the ink, it is preferable to use a durable epoxy ink.

以上の工程から成る本発明に係る半導体ウェハの印刷方法によって、半導体ウェハ1の表面に形成された各半導体チップ2に対応した裏面上の各位置に、品種、ロット番号、マーク等を、位置ずれすることなく精度よく、しかも簡単に印刷することが可能である。   By the semiconductor wafer printing method according to the present invention comprising the above steps, the type, lot number, mark, etc. are misaligned at each position on the back surface corresponding to each semiconductor chip 2 formed on the front surface of the semiconductor wafer 1. It is possible to print accurately and easily without the need for printing.

本発明に係る半導体ウェハの印刷方法の実施例2を以下説明する。この実施例2は、実施例1と同様に、表面に回路パターン等の機能領域を有する複数の半導体チップ2の裏面に、それぞれ品種、ロット番号、マーク等の識別事項を印刷するものであり、その具体的な工程等は、実施例1とほぼ同じである。   A second embodiment of the semiconductor wafer printing method according to the present invention will be described below. In the second embodiment, as in the first embodiment, identification items such as a product type, a lot number, and a mark are printed on the back surface of a plurality of semiconductor chips 2 having a functional area such as a circuit pattern on the front surface. The specific steps and the like are almost the same as those in the first embodiment.

しかし、実施例2は、その印刷の対象とする半導体ウェハ31は、実施例1と異なり、図4(a)に示すように、半導体ウェハ31の全面に、複数の半導体チップ2の機能領域が形成されているものである。要するに、実施例2の半導体ウェハ31は、実施例1の半導体ウェハ1のように、複数の半導体チップ2の機能領域が形成されていない領域3は存在しないものである。   However, in the second embodiment, unlike the first embodiment, the semiconductor wafer 31 to be printed is different from the first embodiment in that the functional regions of the plurality of semiconductor chips 2 are formed on the entire surface of the semiconductor wafer 31 as shown in FIG. Is formed. In short, the semiconductor wafer 31 of the second embodiment does not include the region 3 in which the functional regions of the plurality of semiconductor chips 2 are not formed, unlike the semiconductor wafer 1 of the first embodiment.

この実施例2では、それぞれ直線から成り、互いに直交する2本の位置決め用切断縁8、9を得るには、図4(b)に示すように、半導体ウェハ1の上部及び側端部(本実施例では左端部であるが、右端部でもよい。)における、互いに直交するスクライブライン32、33をダイシングすることにより行う。   In the second embodiment, in order to obtain two positioning cutting edges 8 and 9 each consisting of a straight line and orthogonal to each other, as shown in FIG. In the embodiment, it is the left end portion, but it may be the right end portion.) The scribe lines 32 and 33 orthogonal to each other are diced.

この実施例2によれば、実施例1のように、ダイヤモンド刃の切断方向の直線34、35を、スクライブライン32、33と平行となるような位置合わせ作業やそのための装置を設ける必要がないので、より簡単な作業及び装置で、互いに直交する2本の位置決め用切断縁8、9を得ることができる。   According to the second embodiment, unlike the first embodiment, it is not necessary to provide an alignment work and a device for the same so that the straight lines 34 and 35 in the cutting direction of the diamond blade are parallel to the scribe lines 32 and 33. Therefore, the two positioning cutting edges 8 and 9 orthogonal to each other can be obtained with a simpler work and apparatus.

本発明に係る半導体ウェハの印刷方法の実施例3を、図5(a)〜(c)を参照して以下説明する。この実施例3は、実施例1と同様に、表面に回路パターン等の機能領域を有する複数の半導体チップ2の裏面に、それぞれ印刷するものであり、その一連の具体的な工程等は、実施例1とほぼ同じである。   A third embodiment of the semiconductor wafer printing method according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In the third embodiment, as in the first embodiment, printing is performed on the back surfaces of a plurality of semiconductor chips 2 having a functional region such as a circuit pattern on the front surface, and a series of specific steps are performed. It is almost the same as Example 1.

しかし、実施例3は、印刷手段が、実施例1のようにスクリーン印刷ではなく、インクジェット印刷装置により行う点で相違する。具体的には、次のように構成されている。この実施例3は、XY可動台装置36を備えている。このXY可動台装置36は、半導体ウェハ1を支持し、インクジェット印刷装置のインクジェットヘッド37に対して、XY方向に相対的に移動する位置決め用支持台38を有している。   However, the third embodiment is different in that the printing unit is not screen printing as in the first embodiment but an inkjet printing apparatus. Specifically, the configuration is as follows. The third embodiment includes an XY movable table device 36. The XY movable table device 36 has a positioning support table 38 that supports the semiconductor wafer 1 and moves relative to the inkjet head 37 of the inkjet printing apparatus in the XY direction.

XY可動台装置36において、基台39の上面に形成された凸条ガイドレール40に、X方向可動台41の凹溝部42が摺動可能に装着され、X方向可動台41はX方向に移動可能である。さらに、X方向可動台41の上面に形成された凸条ガイドレール43に、位置決め用支持台38の凹溝部44がY方向に摺動可能に装着され、位置決め用支持台38はY方向に移動可能である。   In the XY movable table device 36, the groove 42 of the X direction movable table 41 is slidably mounted on the ridge guide rail 40 formed on the upper surface of the base 39, and the X direction movable table 41 moves in the X direction. Is possible. Further, the groove 44 of the positioning support base 38 is slidably mounted in the Y direction on the ridge guide rail 43 formed on the upper surface of the X direction movable base 41, and the positioning support base 38 moves in the Y direction. Is possible.

XY可動台装置36のX方向可動台及び位置決め用支持台38は、図示はしないが、それぞれ送りネジ直動機構、歯車機構、リニアモータ機構等により、X方向及びY方向に移動可能に構成されている。このXY可動台装置36に対向するように、インクジェット印刷装置のインクジェットヘッド37が配設されている。   Although not shown, the X-direction movable table and the positioning support table 38 of the XY movable table device 36 are configured to be movable in the X direction and the Y direction by a feed screw linear motion mechanism, a gear mechanism, a linear motor mechanism, and the like, respectively. ing. An ink jet head 37 of the ink jet printing apparatus is disposed so as to face the XY movable table device 36.

そして、位置決め用支持台38の上面には、半導体ウェハ1を裏返しにして嵌合して受け入れるための半導体ウェハ支持用凹部45が形成されている。この半導体ウェハ支持用凹部45の内周縁には、半導体ウェハ1の互いに直交する2本の位置決め用切断縁8、9に当接して、半導体ウェハ1をインクジェットヘッド37に対して、精度良くXY方向に相対的に位置決めするために、2本の位置決め用直線縁46、47が形成されている。   On the upper surface of the positioning support base 38, a semiconductor wafer support recess 45 is formed for fitting the semiconductor wafer 1 upside down and receiving it. The semiconductor wafer supporting recess 45 is in contact with two positioning cutting edges 8 and 9 orthogonal to each other at the inner peripheral edge of the semiconductor wafer 1, so that the semiconductor wafer 1 is accurately placed in the XY direction with respect to the inkjet head 37. Two positioning straight edges 46 and 47 are formed for positioning relative to each other.

なお、半導体ウェハ支持用凹部45には、実施例1のウェハ支持用凹部21と同様に、半導体チップ2の機能領域が接触しないような底部23が形成されており、この底部23には、真空引きポンプ25に接続されたチューブ24が開口するように設けられている。   The semiconductor wafer supporting recess 45 is formed with a bottom 23 so that the functional region of the semiconductor chip 2 does not come into contact with the bottom 23 as in the wafer supporting recess 21 of the first embodiment. A tube 24 connected to the pulling pump 25 is provided so as to open.

実施例3では、実施例1と同様に、半導体ウェハ1に、互いに直交するように形成された2本の位置決め用切断縁8、9を形成し、裏返しにして表面を下にして、位置決め用支持台38の半導体ウェハ支持用凹部45に嵌合する。これにより、半導体ウェハ1は、印刷されるべき裏面が上に向いて、インクジェットヘッド37に対向して、精度よくXY方向に相対的に位置決めされる。   In the third embodiment, as in the first embodiment, two positioning cutting edges 8 and 9 are formed on the semiconductor wafer 1 so as to be orthogonal to each other. It fits into the semiconductor wafer support recess 45 of the support base 38. Thereby, the semiconductor wafer 1 is positioned relatively accurately in the XY direction with the back surface to be printed facing upward and facing the inkjet head 37.

そして、XY可動台装置36によって、半導体ウェハ1をインクジェットヘッド37に対してXY方向に相対的に移動して印刷することにより、複数の半導体チップ2の裏面に、それぞれ品種、ロット番号、マーク等の所定の識別事項を印刷することが可能となる。なお、半導体ウェハ1を支持した支持台38を固定して、インクジェットヘッド37をXY方向に相対的に走査して印刷するインクジェット印刷装置を利用してもよい。   Then, the semiconductor wafer 1 is moved relative to the inkjet head 37 in the XY direction by the XY movable stand device 36 and printed, so that the kind, lot number, mark, etc. are respectively formed on the back surface of the plurality of semiconductor chips 2. It is possible to print the predetermined identification items. Note that an ink jet printing apparatus that fixes the support base 38 that supports the semiconductor wafer 1 and prints by scanning the ink jet head 37 relatively in the XY directions may be used.

以上、本発明に係る半導体ウェハの印刷方法を実施するための最良の形態を実施例に基づいて説明したが、本発明はこのような実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲内でいろいろな実施例があることは言うまでもない。   The best mode for carrying out the method for printing a semiconductor wafer according to the present invention has been described based on the embodiments. However, the present invention is not limited to such embodiments, and the scope of the claims is as follows. It goes without saying that there are various embodiments within the technical scope described.

なお、本発明に係る半導体ウェハの印刷方法では、半導体ウェハ1の2本の位置決め用切断縁8、9は、スクライブライン6、7と平行となるように互いに直交するように形成したが、印刷装置に対して位置決めされ、複数の半導体チップのそれぞれに対応してその裏面に所定の識別事項等がずれることなく印刷されるのであれば、必ずしも2本の位置決め用切断縁8、9は、スクライブライン6、7と平行となるように互いに直交するように形成しなくてもよい。   In the semiconductor wafer printing method according to the present invention, the two positioning cutting edges 8 and 9 of the semiconductor wafer 1 are formed so as to be orthogonal to each other so as to be parallel to the scribe lines 6 and 7. The two positioning cutting edges 8 and 9 are not necessarily provided if they are positioned with respect to the apparatus and printed on the back surface of each of the plurality of semiconductor chips so that predetermined identification items and the like do not deviate. The lines 6 and 7 may not be formed so as to be orthogonal to each other.

例えば、1本の位置決め用切断縁8又は位置決め用切断縁9は、スクライブライン6又はスクライブライン7に平行に形成し、この位置決め用切断縁8又は位置決め用切断縁9に対して、他の1本は所定角度(例.100度等)で形成してもよい。この場合は、印刷装置における半導体ウェハの位置決め台も対応して、半導体ウェハを印刷装置に対してその裏面に所定の識別事項等がずれることなく印刷されるように位置決めする構成とする必要がある。   For example, one positioning cutting edge 8 or positioning cutting edge 9 is formed in parallel to the scribe line 6 or the scribe line 7, and the positioning cutting edge 8 or the positioning cutting edge 9 is different from the other one. The book may be formed at a predetermined angle (eg, 100 degrees). In this case, the semiconductor wafer positioning table in the printing apparatus is also compatible, and the semiconductor wafer needs to be positioned so as to be printed on the back surface of the printing apparatus without shifting predetermined identification items. .

本発明に係る半導体ウェハの印刷方法は、上記のような構成であり、特にウェハレベルチップサイズパッケージ(WL−CSP)、フリップチップ(Flip Chip)等の半導体チップの裏面の印刷に適しているが、ICチップや、その他チップの履歴を識別する為のマークを有するチップの印刷方法として有用である。   The semiconductor wafer printing method according to the present invention is configured as described above, and is particularly suitable for printing on the back surface of a semiconductor chip such as a wafer level chip size package (WL-CSP), a flip chip (Flip Chip) or the like. It is useful as a printing method for IC chips and other chips having marks for identifying the history of chips.

(a)は本発明の半導体ウェハの印刷方法の実施例1の半導体ウェハを説明する図であり、(b)はその切断を説明する図であり、(c)は半導体ウェハの斜視図である。(A) is a figure explaining the semiconductor wafer of Example 1 of the printing method of the semiconductor wafer of this invention, (b) is a figure explaining the cutting | disconnection, (c) is a perspective view of a semiconductor wafer. . (a)、(b)は、実施例1の半導体ウェハの印刷のための位置決めのためのスクリーン支持台の平面図及びA−A断面図であり、(c)、(d)は支持台に半導体ウェハ及びマスクをセットした状態を説明する平面図及びB−B断面図である。(A), (b) is the top view and AA sectional drawing of the screen support stand for the positioning for the printing of the semiconductor wafer of Example 1, (c), (d) is a support stand It is the top view explaining the state which set the semiconductor wafer and the mask, and BB sectional drawing. (a)はマスクの平面図であり、(b)はマスクを半導体ウェハに被せた状態を説明する図である。(A) is a top view of a mask, (b) is a figure explaining the state which covered the mask on the semiconductor wafer. (a)は本発明の半導体ウェハの印刷方法の実施例2の半導体ウェハを説明する図であり、(b)はその切断を説明する図である。(A) is a figure explaining the semiconductor wafer of Example 2 of the printing method of the semiconductor wafer of this invention, (b) is a figure explaining the cutting | disconnection. (a)は本発明の半導体ウェハの印刷方法の実施例3を説明する平面図であり、(b)、(c)はそれぞれ(a)のA−A断面図及びB−B断面図である。(A) is a top view explaining Example 3 of the printing method of the semiconductor wafer of this invention, (b), (c) is AA sectional drawing and BB sectional drawing of (a), respectively. .

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体ウェハ
2 半導体チップ
3 半導体チップの形成されていない領域
4、5 位置決め用切断縁の形成される2箇所
6、7 縦及び横のスクライブライン
8、9 位置決め用切断縁
12、13 互いに直交する切断線
15 オリエンテーションフラット
16 オリエンテーションフラットの縁
17 スクリーン印刷用の支持台
18 スクリーンマスク
19 マスクの支持枠
19’ ネジ
20 マスク支持面
21 ウェハ支持用凹部
22 段面
23 底部
24 チューブ
25 真空引きポンプ
26 スクリーンマスクの補強枠
27 孔版
27’ 孔版における文字孔
28、29 位置決め用スリット
31 半導体ウェハ
32、33 スクライブライン
34、35 ダイヤモンド刃の切断方向の直線
36 XY可動台装置
37 インクジェットヘッド
38 位置決め用支持台
39 基台
41 X方向可動台
40 凸条ガイドレール
42 X方向可動台の凹溝部
43 凸条ガイドレール
44 位置決め用支持台の凹溝部
45 半導体ウェハ支持用凹部
46、47 半導体ウェハ支持用凹部の位置決め用直線縁
1 Semiconductor wafer
2 Semiconductor chip
3 Region where no semiconductor chip is formed 4, 5 Two places where positioning cutting edges are formed 6, 7 Vertical and horizontal scribing lines 8, 9 Positioning cutting edges 12, 13 Crossing lines orthogonal to each other 15 Orientation flat
16 Orientation flat edge 17 Support base for screen printing
18 Screen mask
19 Mask support frame 19 'Screw
20 Mask support surface
21 Recess for wafer support
22 steps
23 Bottom
24 tubes
25 Vacuum pump
26 Reinforcing frame for screen mask
27 stencil 27 'letter hole in stencil
28, 29 Slit for positioning 31 Semiconductor wafer 32, 33 Scribe line 34, 35 Straight line in cutting direction of diamond blade 36 XY movable table device
37 Inkjet head
38 Positioning support
39 Base 41 X direction movable stand
40 Convex guide rail
42 X-direction movable stand groove
43 Convex guide rail
44 Concave groove of positioning support
45 Recess for supporting semiconductor wafer
46, 47 Linear edge for positioning of recess for supporting semiconductor wafer

Claims (7)

スクライブラインを切断することにより、多数のチップに分割される半導体ウェハにおいて、表面に機能領域の形成された前記多数のチップのそれぞれに対応して裏面に印刷を行う半導体ウェハの印刷方法であって、
前記半導体ウェハの一部を、2つの直線で切断して、2つの位置決め用切断縁を形成し、
前記半導体ウェハを裏返しにして、前記2つの位置決め用切断縁を基準に印刷装置に対して前記半導体ウェハを位置決めして、前記多数のチップのそれぞれ対応する裏面の位置に印刷を行うことを特徴とする半導体ウェハの印刷方法。
A method for printing a semiconductor wafer, in which, on a semiconductor wafer divided into a large number of chips by cutting a scribe line, printing is performed on the back surface corresponding to each of the large number of chips having functional areas formed on the front surface. ,
Cutting a portion of the semiconductor wafer with two straight lines to form two positioning cutting edges;
The semiconductor wafer is turned upside down, the semiconductor wafer is positioned with respect to a printing apparatus with reference to the two positioning cutting edges, and printing is performed on the corresponding back surface positions of the multiple chips. A method for printing a semiconductor wafer.
スクライブラインを切断することにより、多数のチップに分割される半導体ウェハにおいて、表面に機能領域の形成された前記多数のチップのそれぞれに対応して裏面に印刷を行う半導体ウェハの印刷方法であって、
前記半導体ウェハの一部を、互いに直交するスクライブラインと平行に、互いに直交する2つの直線で切断して、それぞれ直線から成り互いに直交する2つの位置決め用切断縁を形成し、
前記半導体ウェハを裏返しにして、前記2つの位置決め用切断縁を基準に印刷装置に対して前記半導体ウェハを位置決めして、前記多数のチップのそれぞれ対応する裏面の位置に印刷を行うことを特徴とする半導体ウェハの印刷方法。
A method for printing a semiconductor wafer, in which, on a semiconductor wafer divided into a large number of chips by cutting a scribe line, printing is performed on the back surface corresponding to each of the large number of chips having functional areas formed on the front surface. ,
A part of the semiconductor wafer is cut by two straight lines orthogonal to each other in parallel to the scribe lines orthogonal to each other to form two positioning cutting edges each made of a straight line and orthogonal to each other,
The semiconductor wafer is turned upside down, the semiconductor wafer is positioned with respect to a printing apparatus with reference to the two positioning cutting edges, and printing is performed on the corresponding back surface positions of the multiple chips. A method for printing a semiconductor wafer.
前記半導体ウェハを切断し2つの位置決め用切断縁を得るために切断する箇所は、それぞれ前記半導体ウェハにおけるチップが形成されていない領域内にあることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体ウェハの印刷方法。   3. The semiconductor wafer according to claim 1, wherein the semiconductor wafer is cut to obtain two positioning cutting edges in a region where no chip is formed in the semiconductor wafer. 4. Printing method. 前記半導体ウェハを切断し2つの位置決め用切断縁を得るために切断する箇所は、それぞれ半導体ウェハの端部にあるスクライブラインであることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体ウェハの印刷方法。   3. The method of printing a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the portions to be cut in order to cut the semiconductor wafer to obtain two positioning cutting edges are scribe lines at the ends of the semiconductor wafer, respectively. . 前記印刷は、スクリーン印刷により行うことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体ウェハの印刷方法。   The method for printing a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the printing is performed by screen printing. 前記スクリーン印刷装置に使用するマスクには、互いに直交する2つの直線上にそれぞれ形成された1又は2以上の長細いスリットを形成し、該長細いスリットの全てと、前記位置決め用切断縁を合わせて、前記半導体ウェハに対する前記マスクの位置決めを行うことを特徴とする請求項5に記載の半導体ウェハの印刷方法。   The mask used in the screen printing apparatus is formed with one or two or more long and narrow slits formed on two straight lines orthogonal to each other, and all the long and narrow slits are aligned with the positioning cutting edge. 6. The method for printing a semiconductor wafer according to claim 5, wherein the mask is positioned with respect to the semiconductor wafer. 前記印刷は、インクジェット印刷により行い、該インクジェット印刷において、インクジェットヘッドが、前記半導体ウェハの互いに直交するスクライブラインに平行に相対的に移動するように、前記位置決め用切断縁に基づいてインクジェット印刷の装置を位置決めすることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体ウェハの印刷方法。   The printing is performed by ink jet printing, and in the ink jet printing, an ink jet printing apparatus based on the positioning cutting edges so that an ink jet head moves relatively in parallel to scribe lines orthogonal to each other of the semiconductor wafer. The method for printing a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the semiconductor wafer is positioned.
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