JP2009023967A - Method for producing alicyclic saturated hydrocarbon compound - Google Patents

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泰一 古川
Takanori Kishida
高典 岸田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound by using a purification method of using an adsorbent, removing impurities contained in the alicyclic saturated hydrocarbon compound suitable as a liquid immersion light exposure and excellent in transmittance at 193 nm, in a good efficiency, and having good reproducibility and a stable optical property. <P>SOLUTION: This alicyclic saturated hydrocarbon compound having ≥99% mean value of transmittance per 1 mm optical path length of the liquid at 193 nm with ≤0.1 3σ values is produced by bringing 1,1'-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene or trans-decahydronaphthalene becoming a raw material, into contact with an adsorbent in an inert gas atmosphere having ≤0.1 vol.% oxygen concentration and ≤1 vol. ppm hydrocarbon concentration. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法に関し、特に液浸露光装置または液浸露光方法に用いるために透過率を向上させることができる製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound, and more particularly to a production method capable of improving the transmittance for use in an immersion exposure apparatus or an immersion exposure method.

半導体素子等を製造するのに際し、フォトマスクとしてのレチクルのパターンを投影光学系を介して、フォトレジストが塗布されたウエハ上の各ショット領域に転写するステッパー型、またはステップアンドスキャン方式の投影露光装置が使用されている。
投影露光装置に備えられている投影光学系の解像度の理論限界値は、使用する露光波長が短く、投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される放射線の波長である露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大してきている。
このように、半導体素子等の製造分野においては、従来、露光光源の短波長化、開口数の増大により集積回路の微細化要求に応えてきており、現在では露光光源としてArFエキシマレーザ(波長193nm)を用いた1L1S(1:1ラインアンドスペース)ハーフピッチ90nmノードの量産化が検討されている。しかしながら、更に微細化が進んだ次世代のハーフピッチ65nmノードあるいは45nmノードについてはArFエキシマレーザの使用のみによる達成は困難であるといわれている。そこで、これらの次世代技術についてはF2エキシマレーザ(波長157nm)、EUV(波長13nm)等の短波長光源の使用が検討されている。しかしながら、これらの光源の使用については技術的難易度が高く、現状ではまだ使用が困難な状況にある。
Stepper-type or step-and-scan projection exposure that transfers a reticle pattern as a photomask to each shot area on a photoresist-coated wafer via a projection optical system when manufacturing semiconductor elements, etc. The device is in use.
The theoretical limit value of the resolution of the projection optical system provided in the projection exposure apparatus becomes higher as the exposure wavelength used is shorter and the numerical aperture of the projection optical system is larger. For this reason, with the miniaturization of integrated circuits, the exposure wavelength, which is the wavelength of radiation used in the projection exposure apparatus, has become shorter year by year, and the numerical aperture of the projection optical system has also increased.
As described above, in the field of manufacturing semiconductor devices and the like, conventionally, the exposure light source has been shortened in wavelength and the numerical aperture has been increased to meet the demand for miniaturization of an integrated circuit. At present, an ArF excimer laser (wavelength: 193 nm) is used as an exposure light source. ) Using 1L1S (1: 1 line and space) half pitch 90 nm node is under study. However, it is said that it is difficult to achieve the next generation half pitch 65 nm node or 45 nm node, which is further miniaturized, only by using an ArF excimer laser. Thus, for these next-generation technologies, the use of short-wavelength light sources such as F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), EUV (wavelength 13 nm), etc. is being studied. However, the use of these light sources is technically difficult and is still difficult to use.

ところで、上記の露光技術においては、露光されるウエハ表面にはフォトレジスト膜が形成されており、このフォトレジスト膜にパターンが転写される。従来の投影露光装置では、ウエハが配置される空間は屈折率が1の空気または窒素で満たされている。
屈折率nの液体を投影露光装置のレンズとウエハの間に満たし、適当な光学系を設定することにより、解像度の限界値および焦点深度をそれぞれn分の1、n倍にすることが理論的に可能である。例えば、ArFプロセスで、レンズとウエハの間に満たす液体として水を使用すると波長193nmの光の水中での屈折率nはn=1.44であるから、空気または窒素を媒体とする露光時と比較し、解像度が69.4%、焦点深度が144%となる光学系の設計が理論上可能となる。
このように露光するための放射線の実効波長を短波長化し、より微細なパターンを転写できる投影露光する方法を液浸露光といい、今後のリソグラフィーの微細化、特に数10nm単位のリソグラフィーには、必須の技術と考えられている。
In the above exposure technique, a photoresist film is formed on the exposed wafer surface, and a pattern is transferred to the photoresist film. In a conventional projection exposure apparatus, a space in which a wafer is placed is filled with air or nitrogen having a refractive index of 1.
Theoretically, the limit value of resolution and the depth of focus are increased to 1 / n and n times, respectively, by filling a liquid of refractive index n between the lens of the projection exposure apparatus and the wafer and setting an appropriate optical system. Is possible. For example, in the ArF process, when water is used as the liquid filled between the lens and the wafer, the refractive index n of water having a wavelength of 193 nm in water is n = 1.44. In comparison, it is theoretically possible to design an optical system with a resolution of 69.4% and a focal depth of 144%.
A projection exposure method capable of shortening the effective wavelength of radiation for exposure and transferring a finer pattern is referred to as immersion exposure, and for future miniaturization of lithography, particularly lithography of several tens of nanometers, It is considered an essential technology.

本願出願人は、液浸露光方法において、従来液浸露光用液体として使用されている純水よりも屈折率が大きく、優れた透過性を有し、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分(とりわけ親水性成分)の溶出や溶解を防ぎ、レンズを浸食せずレジストパターンの生成時の欠陥を抑えることができ、液浸用液体として使用した場合、より解像度および焦点深度の優れたパターンを形成できる液浸露光用液体の提供を目的として、種々の化合物について検討を行なった結果、遠紫外領域における吸収が小さく、液浸露光用液体として好適な高屈折率を有する脂環式飽和炭化水素化合物について出願している(特許文献1)。
しかし、公知の方法で合成され、または市場で入手できる脂環式飽和炭化水素化合物を液浸露光用液体に用いた場合、一般に遠紫外領域に大きな吸収を有するため、透過率の不足により、感度低下に伴うスループットの低下、液体の光吸収による液体の発熱による屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題が生じる場合があった。
In the immersion exposure method, the applicant of the present invention has a refractive index larger than that of pure water conventionally used as a liquid for immersion exposure, and has excellent transparency, and a photoresist film or its upper layer film component (especially hydrophilic layer). Liquid) that can prevent elution and dissolution of the active ingredient), suppress the defects during resist pattern generation without eroding the lens, and can form patterns with better resolution and depth of focus when used as an immersion liquid. As a result of investigating various compounds for the purpose of providing immersion exposure liquids, we have filed applications for alicyclic saturated hydrocarbon compounds that have low absorption in the far ultraviolet region and have a high refractive index suitable as immersion exposure liquids. (Patent Document 1).
However, when an alicyclic saturated hydrocarbon compound synthesized by a known method or available on the market is used as a liquid for immersion exposure, it generally has a large absorption in the far ultraviolet region. There are cases where problems such as degradation of throughput due to decrease in throughput due to reduction, optical image defocus and distortion due to refractive index fluctuation due to heat generation of liquid due to light absorption of liquid, degradation of pattern shape, etc. due to defocus of optical image there were.

遠紫外領域における吸収は、非常に微量であっても透過率に大きく影響する炭素−炭素不飽和結合または芳香族環を有する化合物、カルボニル基、水酸基等の官能基を有する化合物が不純物として原料となる脂環式飽和炭化水素化合物に僅かに存在しているためと考えられることから、処理温度の異なる複数の硫酸洗浄処理工程を含み、少なくとも最終硫酸洗浄処理工程の処理温度が該洗浄処理工程より前の処理工程の処理温度よりも低い処理温度で処理することを特徴とする方法を本発明者等は既に提案している(特許文献2)。 また、吸着剤を用いて脂環式飽和炭化水素化合物を精製する方法が開示されている(特許文献3および4)。
しかしながら、上記精製方法であっても脂環式飽和炭化水素化合物の193nmにおける透過率が十分に向上しなかったり、工数が煩雑になったりするという問題がある。例えば特許文献3の方法では193nmにおける透過率を光路長1mmあたり99%以上に高められない。また特許文献4の方法では透過率を高めるのに2種類の吸着剤を使用しなくてはならないという問題がある。更に、特許文献3および特許文献4の方法では、液浸露光用液体の工業的製造を図ろうとした場合に、効率よく脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤で処理できないという問題がある。また、工業化においては、再現良く、光学的性質の安定した液浸露光用液体を製造する方法が求められていた。
WO2005/114711 特願2006−329265 WO2005/119371 WO2006/115268
Absorption in the far-ultraviolet region is a compound having a carbon-carbon unsaturated bond or an aromatic ring, which has a large influence on the transmittance even in a very small amount, and a compound having a functional group such as a carbonyl group or a hydroxyl group as impurities. The alicyclic saturated hydrocarbon compound is considered to be slightly present, and therefore includes a plurality of sulfuric acid washing treatment steps having different treatment temperatures, and at least the final sulfuric acid washing treatment step has a treatment temperature higher than that of the washing treatment step. The present inventors have already proposed a method characterized by processing at a processing temperature lower than the processing temperature of the previous processing step (Patent Document 2). Moreover, the method of refine | purifying an alicyclic saturated hydrocarbon compound using an adsorbent is disclosed (patent documents 3 and 4).
However, even with the above purification method, there are problems that the transmittance at 193 nm of the alicyclic saturated hydrocarbon compound is not sufficiently improved, and the man-hours are complicated. For example, in the method of Patent Document 3, the transmittance at 193 nm cannot be increased to 99% or more per 1 mm of the optical path length. Further, the method of Patent Document 4 has a problem that two kinds of adsorbents must be used to increase the transmittance. Furthermore, the methods of Patent Document 3 and Patent Document 4 have a problem that when an attempt is made to industrially manufacture a liquid for immersion exposure, an alicyclic saturated hydrocarbon compound cannot be efficiently treated with an adsorbent. In industrialization, there has been a demand for a method for producing a liquid for immersion exposure that has good reproducibility and stable optical properties.
WO2005 / 114711 Japanese Patent Application No. 2006-329265 WO2005 / 119371 WO2006 / 115268

本発明はこのような問題に対処するためになされたもので、吸着剤を用いる精製方法で、193nmにおける透過率に優れる液浸露光用液体として好適な脂環式飽和炭化水素化合物中に含まれる不純物を効率よく除去し、再現性よく、光学的性質が安定している液浸露光用液体の製造方法の提供を目的とする。   The present invention has been made to cope with such problems, and is a purification method using an adsorbent, and is contained in an alicyclic saturated hydrocarbon compound suitable as an immersion exposure liquid excellent in transmittance at 193 nm. It is an object of the present invention to provide a method for producing a liquid for immersion exposure that efficiently removes impurities, is reproducible, and has stable optical properties.

吸着剤を用いる精製方法で、再現性よく、脂環式飽和炭化水素化合物に含まれる不純物を効率よくかつ再現性よく除去することに関して種々の検討を行なった。
吸着剤を用いる精製方法は、吸着剤の種類だけでなく、吸着剤の精製能力を決定する重要な因子として精製時の雰囲気が挙げられる。例えば、大気下で精製した場合には、大気中に含まれる酸素が液体に溶解することにより、193nmにおける透過率を劣化させるため、吸着剤を用いて精製した後に脱酸素工程が必要となる。また、大気中に含まれる不純物も液体に溶解し、吸着剤に吸着することで、吸着剤の精製能力の低下を招くおそれがある。精製時の雰囲気を不活性ガスとすることで、精製後の脱酸素工程を必要とせず、かつ精製処理を複数回実施しても193nmにおける透過率のばらつきが大気下で実施した場合よりも小さくできることを見出した。
本発明は上記知見に基づきなされたものである。すなわち、本発明の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤に接触させることにより、波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上であり、3σ値が0.1以下である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を不活性ガス雰囲気内で上記吸着剤と接触させる工程を含むことを特徴とする。
また、上記不活性ガスは、酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下であることを特徴とする。
また、上記脂環式飽和炭化水素化合物は、1,1’−ビシクロヘキシル、exo−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびtrans−デカヒドロナフタレンから選ばれた少なくとも1つの脂環式飽和炭化水素化合物であることを特徴とする。
また、上記吸着剤は、アルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする。
上記脂環式飽和炭化水素化合物と上記吸着剤との組み合せにおいて、脂環式飽和炭化水素化合物が1,1’−ビシクロヘキシルまたはexo−テトラジシクロペンタジエンの場合は、上記吸着剤がシリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であり、trans−デカヒドロナフタレンの場合は、アルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする。
また、上記原料となる脂環式飽和炭化水素化合物のガスクロマトグラフィ法による純度(以下、GC純度と略称する)が99質量%以上であることを特徴とする。
Various studies were made on the removal of impurities contained in the alicyclic saturated hydrocarbon compound efficiently and reproducibly with a refining method using an adsorbent.
In the purification method using an adsorbent, not only the type of adsorbent, but also the atmosphere during purification is an important factor that determines the purification capability of the adsorbent. For example, in the case of purification in the atmosphere, oxygen contained in the atmosphere dissolves in the liquid, thereby deteriorating the transmittance at 193 nm. Therefore, a deoxygenation step is required after purification using an adsorbent. Further, impurities contained in the atmosphere are also dissolved in the liquid and adsorbed by the adsorbent, which may cause a reduction in the purification capacity of the adsorbent. By making the atmosphere at the time of purification inert gas, there is no need for a deoxygenation step after purification, and even if the purification treatment is performed multiple times, the variation in transmittance at 193 nm is smaller than when performed in the atmosphere. I found out that I can do it.
The present invention has been made based on the above findings. That is, in the method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound of the present invention, an average of transmittance per 1 mm of optical path length of a liquid at a wavelength of 193 nm is obtained by bringing an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material into contact with an adsorbent. A method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound having a value of 99% or more and a 3σ value of 0.1 or less, wherein the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as a raw material is the above in an inert gas atmosphere It includes a step of contacting with an adsorbent.
The inert gas has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less and a hydrocarbon concentration of 1 volume ppm or less.
The alicyclic saturated hydrocarbon compound is at least one alicyclic saturated hydrocarbon compound selected from 1,1′-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene, and trans-decahydronaphthalene. It is characterized by.
The adsorbent is at least one adsorbent selected from alumina, silica alumina, and zeolite.
In the combination of the alicyclic saturated hydrocarbon compound and the adsorbent, when the alicyclic saturated hydrocarbon compound is 1,1′-bicyclohexyl or exo-tetradicyclopentadiene, the adsorbent is silica alumina and It is at least one adsorbent selected from zeolite, and in the case of trans-decahydronaphthalene, it is characterized by being at least one adsorbent selected from alumina, silica alumina and zeolite.
The purity of the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as the raw material by gas chromatography (hereinafter abbreviated as GC purity) is 99% by mass or more.

本発明の製造方法は、原料脂環式飽和炭化水素化合物を不活性ガス雰囲気内で上記吸着剤と接触させる工程を含むので、精製後の脱酸素工程を必要とせず、効率よく極微量の不純物を除去できる。また、精製処理を複数回実施しても193nmにおける透過率のばらつきが大気下で実施した場合よりも小さくできる。
この製造方法で精製された脂環式飽和炭化水素化合物を使用することにより、光吸収による発熱を抑えることができ、屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題を抑えることができる。
Since the production method of the present invention includes a step of bringing the raw material alicyclic saturated hydrocarbon compound into contact with the adsorbent in an inert gas atmosphere, a deoxygenation step after purification is not required, and a very small amount of impurities can be efficiently obtained. Can be removed. Further, even if the purification treatment is performed a plurality of times, the variation in transmittance at 193 nm can be made smaller than that in the case of being performed in the atmosphere.
By using an alicyclic saturated hydrocarbon compound purified by this production method, heat generation due to light absorption can be suppressed, and defocusing, distortion, or defocusing of the optical image due to refractive index variation. Problems such as resolution and pattern shape deterioration due to the above can be suppressed.

本発明の製造方法により製造される脂環式飽和炭化水素化合物は、波長193nmにおける光の透過率が液体の光路長1mmあたり99%以上である。
光路長1mmあたりの透過率Tと光路長1cmあたりの吸光度Aとの間には、

T(%) = 100 × 10−0.1A

の関係があるので、光路長1mmあたり99%以上の透過率は、光路長1cmあたりの吸光度0.0437以下に相当する。
本発明の製造方法において、透過率は複数の測定結果の平均値として表される値である。また、3σ値は0.1以下である。ここでσ値は透過率の測定値が正規分布をするとして計算された測定試料の標準偏差である。好ましくは測定数が5以上の統計値である。
透過率の平均値および3σ値が上記範囲となることにより、光吸収による発熱を抑えることができ、屈折率変動に起因する光学像のデフォーカス、歪み、あるいは光学像のデフォーカスによる解像度、パターン形状の劣化等の問題を再現性よく抑えることができる。
The alicyclic saturated hydrocarbon compound produced by the production method of the present invention has a light transmittance at a wavelength of 193 nm of 99% or more per 1 mm of the optical path length of the liquid.
Between the transmittance T per 1 mm of the optical path length and the absorbance A per 1 cm of the optical path length,

T (%) = 100 × 10 −0.1 A

Therefore, a transmittance of 99% or more per 1 mm of the optical path length corresponds to an absorbance of 0.0437 or less per 1 cm of the optical path length.
In the production method of the present invention, the transmittance is a value expressed as an average value of a plurality of measurement results. Further, the 3σ value is 0.1 or less. Here, the σ value is a standard deviation of the measurement sample calculated on the assumption that the measured value of transmittance has a normal distribution. Preferably, the number of measurements is a statistical value of 5 or more.
When the average value of transmittance and the 3σ value are within the above ranges, heat generation due to light absorption can be suppressed, and the resolution and pattern due to defocusing or distortion of the optical image due to refractive index fluctuations, or defocusing of the optical image. Problems such as shape deterioration can be suppressed with good reproducibility.

原料となる脂環式飽和炭化水素化合物と吸着剤との接触は、吸着剤を適当な時間原料化合物に浸漬させる方法、吸着剤と原料化合物を適当な時間撹拌混合する方法、吸着剤をカラムに充填して原料化合物を通過させるカラムクロマトグラフィー法が挙げられる。
吸着剤との接触は、複数回接触させることが好ましい。具体的には、吸着剤を適当な時間原料化合物に浸漬または吸着ろ過させた後に、その吸着剤を新しい吸着剤に代えて浸漬または吸着ろ過させる方法、複数本のカラムを用いる方法が挙げられる。複数本のカラムは、未使用カラムを2本以上準備して直列に接続して使用することが好ましい。カラムの形状は、同一であっても異なっていてもよい。同一の吸着剤が充填された2本以上のカラムを使用することが吸着剤の品質管理のし易さの理由で好ましい。複数の吸着剤を使用する場合には、吸着剤の種類の数だけ品質管理に労力がかかるためである。
The contact between the alicyclic saturated hydrocarbon compound as the raw material and the adsorbent is performed by immersing the adsorbent in the raw material compound for an appropriate time, stirring the adsorbent and the raw material compound for an appropriate time, and adsorbing the adsorbent to the column. A column chromatography method in which the raw material compound is allowed to pass through is packed.
The contact with the adsorbent is preferably performed a plurality of times. Specific examples include a method in which an adsorbent is immersed or adsorbed and filtered in a raw material compound for an appropriate time, and then the adsorbent is immersed or adsorbed and filtered in place of a new adsorbent, and a method using a plurality of columns. The plurality of columns are preferably used by preparing two or more unused columns and connecting them in series. The column shape may be the same or different. It is preferable to use two or more columns packed with the same adsorbent because of easy quality control of the adsorbent. This is because when a plurality of adsorbents are used, as much effort is required for quality control as the number of adsorbent types.

上記カラムは、吸着剤が内部に充填されている容器である。好ましくは両端に開口部を有する筒状の容器であり、一方の開口部より原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を投入し、精製物が他方の開口部より回収できる容器である。カラムに充填した吸着剤の粒子密度(ρp(g/cm3))と嵩密度(ρ(g/cm3))とから算出される充填率(100ρb/ρp)は15%以上が好ましい。粒子密度ρpは、ピクノメーターを用いて測定することができ、嵩密度ρb(g/cm3)はカラムに吸着剤をいれ、そのときの単位体積あたりの吸着剤の質量として算出できる。 The column is a container filled with an adsorbent. Preferably, it is a cylindrical container having openings at both ends, and is a container in which an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material is introduced from one opening and the purified product can be recovered from the other opening. The packing ratio (100ρ b / ρ p ) calculated from the particle density (ρ p (g / cm 3 )) and bulk density (ρ b (g / cm 3 )) of the adsorbent packed in the column is 15% or more. Is preferred. The particle density ρ p can be measured using a pycnometer, and the bulk density ρ b (g / cm 3 ) can be calculated as the mass of the adsorbent per unit volume when an adsorbent is placed in the column.

本発明で使用できる吸着剤は、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらを組み合わせて得られる酸化物である。
アルミナは組成式がAl23で表される酸化物である。シリカアルミナは無定形シリカ・アルミナと称されるものであり、ゼオライトは、結晶性アルミノケイ酸塩と称されるものである。
本発明で使用できる吸着剤は、以下の方法により評価したとき、上記吸着剤に接触させた後の吸光度と、上記吸着剤に接触させる前の脂環式飽和炭化水素化合物の吸光度との比が1.1以下であれば使用できる。
<評価方法>
ガラス製容器内に波長193nmにおける液体の光路長1cmあたり0.0437以下の脂環式飽和炭化水素化合物30mlを入れ、この脂環式飽和炭化水素化合物中に1.5gの吸着剤を加えて窒素雰囲気下において、25℃で72時間静置する。吸着剤に接触させる前の吸光度(A)と、接触させた後の吸光度(B)とを波長193nmの光で測定し、その吸光度比(B/A)を算出する。
The adsorbent that can be used in the present invention is alumina, silica alumina, zeolite, or an oxide obtained by combining these.
Alumina is an oxide whose composition formula is represented by Al 2 O 3 . Silica alumina is called amorphous silica-alumina, and zeolite is called crystalline aluminosilicate.
When the adsorbent that can be used in the present invention is evaluated by the following method, the ratio between the absorbance after contacting with the adsorbent and the absorbance of the alicyclic saturated hydrocarbon compound before contacting with the adsorbent is 1.1 or less can be used.
<Evaluation method>
30 ml of alicyclic saturated hydrocarbon compound of 0.0437 or less per 1 cm of optical path length of liquid at a wavelength of 193 nm is put in a glass container, and 1.5 g of adsorbent is added to this alicyclic saturated hydrocarbon compound to form nitrogen. Let stand at 25 ° C. for 72 hours under atmosphere. The absorbance (A) before contact with the adsorbent and the absorbance (B) after contact are measured with light having a wavelength of 193 nm, and the absorbance ratio (B / A) is calculated.

本発明で使用するために、吸着剤は200〜500℃、好ましくは250〜500℃の温度で使用前に焼成することが好ましい。200℃未満の焼成であったり、未焼成であったりする場合は、上記評価の値を達成することができなくなる。   For use in the present invention, the adsorbent is preferably calcined before use at a temperature of 200-500 ° C, preferably 250-500 ° C. In the case of firing below 200 ° C. or unfired, the above evaluation value cannot be achieved.

本発明の製造方法において、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を上記吸着剤と不活性ガス雰囲気内で接触させる。
本発明に使用できる不活性ガスは、25℃で大気圧下において脂環式飽和炭化水素化合物と接触することにより、該化合物の193nmにおける透過率を低下させない気体をいう。
上記不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴンなどの希ガス、窒素ガス等が挙げられる。工業的利用のしやすさから窒素ガスが好ましい。
また、上記不活性ガスは脂環式飽和炭化水素化合物の透過率を低下させる要因となる成分を含まないことが好ましい。透過率を低下させる成分としては酸素、炭化水素(特に不飽和炭化水素)等が挙げられる。
本発明の製造方法において、酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下である不活性ガス、特に酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下である窒素ガスが好ましい。酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下である窒素ガス雰囲気下で原料となる脂環式飽和炭化水素化合物と吸着剤とを接触させることにより、透過率の平均値が99%以上、3σ値が0.1以下の脂環式飽和炭化水素化合物が得られる。
なお、酸素濃度の測定は大気圧イオン化質量分析法により、炭化水素濃度は水素炎イオン化検出器付ガスクロマトグラフィ法により、それぞれ測定できる。
In the production method of the present invention, an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material is brought into contact with the adsorbent in an inert gas atmosphere.
The inert gas that can be used in the present invention refers to a gas that does not decrease the transmittance of the compound at 193 nm by contact with an alicyclic saturated hydrocarbon compound at 25 ° C. under atmospheric pressure.
Examples of the inert gas include noble gases such as helium and argon, nitrogen gas, and the like. Nitrogen gas is preferred because of its ease of industrial use.
Moreover, it is preferable that the said inert gas does not contain the component used as the factor which reduces the transmittance | permeability of an alicyclic saturated hydrocarbon compound. Examples of components that lower the transmittance include oxygen and hydrocarbons (particularly unsaturated hydrocarbons).
In the production method of the present invention, an inert gas having an oxygen concentration of 0.1 volume% or less and a hydrocarbon concentration of 1 volume ppm or less, particularly an oxygen concentration of 0.1 volume% or less, and a hydrocarbon concentration of 1 volume ppm or less. Nitrogen gas is preferred. By contacting the adsorbent with an alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material in an atmosphere of nitrogen gas having an oxygen concentration of 0.1 vol% or less and a hydrocarbon concentration of 1 vol ppm or less, the average value of the transmittance Is 99% or more, and an alicyclic saturated hydrocarbon compound having a 3σ value of 0.1 or less is obtained.
The oxygen concentration can be measured by atmospheric pressure ionization mass spectrometry, and the hydrocarbon concentration can be measured by gas chromatography with a flame ionization detector.

上記吸着剤を用いる精製法において、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物としては、1,1’−ビシクロヘキシル、exo−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびtrans−デカヒドロナフタレンから選ばれる少なくとも1つの脂環式飽和炭化水素化合物であることが本発明の製造方法により透過率を99%/mm以上としやすいため、好ましい。
また、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物は吸着剤に接触させる前のGC純度が99質量%以上であることが好ましい。GC純度は、Agilent6890ガスクロマトグラフィシステム、カラム(TC1701)、キャリアガス(ヘリウム)、検出器(TCD)で測定できる。
In the purification method using the adsorbent, the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as a raw material is at least one fat selected from 1,1′-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene, and trans-decahydronaphthalene. A cyclic saturated hydrocarbon compound is preferable because the transmittance is easily set to 99% / mm or more by the production method of the present invention.
Moreover, it is preferable that GC purity before making the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as a raw material contact an adsorbent is 99 mass% or more. The GC purity can be measured with an Agilent 6890 gas chromatography system, a column (TC1701), a carrier gas (helium), and a detector (TCD).

脂環式飽和炭化水素化合物と吸着剤との組み合わせは、脂環式飽和炭化水素化合物が1,1’−ビシクロヘキシルまたはexo−テトラヒドロジシクロペンタジエンの場合、吸着剤はシリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらの混合物が原料となる脂環式炭化水素化合物中に含まれている不純物を効率的に除去できるという理由で好ましい。
また、脂環式飽和炭化水素化合物がtrans−デカヒドロナフタレンの場合、アルミナ、シリカアルミナ、ゼオライト、またはこれらの混合物が原料となる脂環式炭化水素化合物中に含まれている不純物を効率的に除去できるという理由で好ましい。
The combination of the alicyclic saturated hydrocarbon compound and the adsorbent is such that when the alicyclic saturated hydrocarbon compound is 1,1′-bicyclohexyl or exo-tetrahydrodicyclopentadiene, the adsorbent is silica alumina, zeolite, or these This mixture is preferable because the impurities contained in the alicyclic hydrocarbon compound as a raw material can be efficiently removed.
Further, when the alicyclic saturated hydrocarbon compound is trans-decahydronaphthalene, the impurities contained in the alicyclic hydrocarbon compound from which alumina, silica alumina, zeolite, or a mixture thereof is used as a raw material can be efficiently removed. It is preferable because it can be removed.

本発明方法で製造された脂環式飽和炭化水素化合物は、レジスト成分とりわけ、揮発性不純物の溶出が少ないため、簡便な方法で回収、精製を行なうことにより、光学特性を再現性よく回復し、再利用することができる。
再利用する場合の精製の方法としては、水洗処理、酸洗浄(硫酸洗浄)、アルカリ洗浄、精密蒸留、適当なフィルター(充填カラム)を用いた精製、ろ過等の方法および、上記本発明方法による精製法、あるいはこれらの精製法の組み合わせによる方法が挙げられる。この中で、本発明方法による精製処理、水洗処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、精密蒸留、酸化物吸着あるいはこれらの精製法の組み合わせにより精製を行なうのが好ましい。
上記アルカリ洗浄は液浸露光用液体に溶出した露光により発生した酸の除去、酸洗浄は液浸露光用液体に溶出したレジスト中の塩基性成分の除去、水洗処理は液浸露光用液体に溶出したレジスト膜中の光酸発生剤、塩基性添加剤、露光時に発生した酸等の溶出物の除去に対して有効である。
本発明で開示した脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は上記回収、精製においても有効であり、本方法により、樹脂中の酸解離性保護基の分解または、液体への放射線の照射により生じる光反応生成物である炭素、炭素不飽和結合を有する不純物の除去を有効にできるため、透過率の変動を防ぐことが可能である。
なお、精製時において精密蒸留を行なうことができる。精密蒸留は、上記添加剤のうち低揮発性の化合物の除去に対して有効な他、露光時にレジスト中の保護基の分解により発生する疎水性成分を除去するのに有効である。
Since the alicyclic saturated hydrocarbon compound produced by the method of the present invention has little elution of volatile impurities, particularly the resist components, the optical properties are recovered with good reproducibility by performing recovery and purification by a simple method. Can be reused.
As a purification method in the case of reusing, a method such as washing with water, acid washing (sulfuric acid washing), alkali washing, precision distillation, purification using an appropriate filter (packed column), filtration, etc., and the above-described method of the present invention Examples thereof include a purification method or a method using a combination of these purification methods. Among these, it is preferable to carry out purification by the purification treatment, water washing treatment, alkali washing, acid washing, precision distillation, oxide adsorption or a combination of these purification methods according to the method of the present invention.
The above alkali cleaning removes the acid generated by the exposure eluted in the immersion exposure liquid, the acid cleaning removes the basic components in the resist eluted in the immersion exposure liquid, and the water washing process elutes in the immersion exposure liquid. It is effective for removal of a photoacid generator, a basic additive, and an eluate such as an acid generated during exposure in the resist film.
The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound disclosed in the present invention is also effective in the above recovery and purification, and is caused by the decomposition of an acid-dissociable protecting group in a resin or irradiation of a liquid with radiation by this method. Since removal of impurities having carbon and carbon unsaturated bonds, which are photoreaction products, can be effectively performed, fluctuations in transmittance can be prevented.
In addition, precision distillation can be performed at the time of purification. Precision distillation is effective for removing low-volatile compounds among the above additives, and is effective for removing hydrophobic components generated by the decomposition of protecting groups in the resist during exposure.

フォトレジスト膜、または液浸用上層膜が形成されたフォトレジスト膜に本発明で製造された脂環式飽和炭化水素化合物を媒体として、所定のパターンを有するマスクを通して放射線を照射し、次いで現像することにより、レジストパターンを形成することができる。
液浸露光に用いられる放射線は、使用されるフォトレジスト膜およびフォトレジスト膜と液浸用上層膜との組み合わせに応じて、例えば可視光線;g線、i線等の紫外線;エキシマレーザ等の遠紫外線;シンクロトロン放射線等のX線;電子線等の荷電粒子線の如き各種放射線を選択使用することができる。特にArFエキシマレーザ(波長193nm)あるいはKrFエキシマレーザ(波長248nm)が好ましい。
The photoresist film or the photoresist film on which the upper layer film for immersion is formed is irradiated with radiation through a mask having a predetermined pattern using the alicyclic saturated hydrocarbon compound produced in the present invention as a medium, and then developed. Thus, a resist pattern can be formed.
The radiation used for immersion exposure depends on the photoresist film used and the combination of the photoresist film and the upper layer film for immersion, for example, visible rays; ultraviolet rays such as g rays and i rays; Various types of radiation such as ultraviolet rays; X-rays such as synchrotron radiation; and charged particle beams such as electron beams can be selectively used. In particular, an ArF excimer laser (wavelength 193 nm) or a KrF excimer laser (wavelength 248 nm) is preferable.

以下に実施例を示す。なお、吸光度は0.5ppm以下に管理した窒素雰囲気のグローブボックス中でポリテトラフルオロエチレン製蓋付の光路長1cmおよび2cmのセルに液体のサンプリングを行ない、日本分光社製JASCO−V7100を用いて、上記液体の入ったセルをサンプル、空気をリファレンスとして吸光度を測定し、両者の差を1cmあたりの吸光度とした。測定温度は23℃である。この値を元にランベルトベールの法則により1mmあたりの透過率を算出した。サンプルの透過光強度をl0、リファレンスの透過光強度をlとすると、吸光度はlog10(l0/l)で示される。各実施例で示す表中の値はセルの反射を計算により補正した値である。 Examples are shown below. In addition, in a glove box with a nitrogen atmosphere controlled to have a light absorbance of 0.5 ppm or less, liquids were sampled in cells with optical path lengths of 1 cm and 2 cm with a lid made of polytetrafluoroethylene, and JASCO-V7100 manufactured by JASCO Corporation was used. The absorbance was measured using the cell containing the liquid as a sample and air as a reference, and the difference between the two was defined as the absorbance per 1 cm. The measurement temperature is 23 ° C. Based on this value, the transmittance per mm was calculated according to Lambert Beer's law. If the transmitted light intensity of the sample is l 0 and the transmitted light intensity of the reference is l, the absorbance is expressed as log 10 (l 0 / l). The values in the table shown in each example are values obtained by correcting the reflection of the cells by calculation.

吸着剤は以下のものを使用した。各吸着剤は500℃で3時間焼成して使用した。
シリカアルミナ:日揮化学社製、N633L
ゼオライト−1:東ソー社製、HSZ−341NHA
ゼオライト−2:東ソー社製、F−9
アルミナ:住友化学社製、KHD−12
The following adsorbents were used. Each adsorbent was used after baking at 500 ° C. for 3 hours.
Silica alumina: N633L, manufactured by JGC
Zeolite-1: HSZ-341NHA manufactured by Tosoh Corporation
Zeolite-2: manufactured by Tosoh Corporation, F-9
Alumina: Sumitomo Chemical Co., Ltd., KHD-12

実施例1
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm、炭化水素濃度 0.1ppm)で、GC純度が99.9質量%である1,1’−ビシクロヘキシル 100ml に対してシリカアルミナを4g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、95.50%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにシリカアルミナを1g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、99.54%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は99.54%/mm、3σは0.044%/mmであった。
Example 1
In an atmosphere of nitrogen (oxygen concentration 50 ppm, hydrocarbon concentration 0.1 ppm), after adsorption filtration using 4 g of silica alumina to 100 ml of 1,1′-bicyclohexyl having a GC purity of 99.9% by mass, 193 nm The transmittance was measured and was 95.50% / mm.
The adsorbed and filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 1 g of silica alumina, and the transmittance at 193 nm was measured to be 99.54% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 99.54% / mm, and 3σ was 0.044% / mm.

実施例2
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm、炭化水素濃度 0.1ppm)で、GC純度が99.9質量%である1,1’−ビシクロヘキシル 100ml に対してゼオライト−2を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、95.75%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにゼオライト−2を2g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、99.54%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は99.54%/mm、3σは0.045%/mmであった。
Example 2
In an atmosphere of nitrogen (oxygen concentration 50 ppm, hydrocarbon concentration 0.1 ppm), after adsorption filtration using 5 g of zeolite-2 against 100 ml of 1,1′-bicyclohexyl having a GC purity of 99.9% by mass, The transmittance at 193 nm was measured and found to be 95.75% / mm.
The adsorption-filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 2 g of zeolite-2, and the transmittance at 193 nm was measured. As a result, it was 99.54% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 99.54% / mm, and 3σ was 0.045% / mm.

実施例3
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm、炭化水素濃度 0.1ppm)で、GC純度が99.9質量%であるexo−テトラジシクロペンタジエン 100ml に対してゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、97.61%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、99.75%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は99.75%/mm、3σは0.056%/mmであった。
Example 3
In an atmosphere of nitrogen (oxygen concentration 50 ppm, hydrocarbon concentration 0.1 ppm), after adsorption filtration using 5 g of zeolite-1 against 100 ml of exo-tetradicyclopentadiene having a GC purity of 99.9% by mass, 193 nm The transmittance was measured and found to be 97.61% / mm.
The adsorption-filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 5 g of zeolite-1, and the transmittance at 193 nm was measured. As a result, it was 99.75% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 99.75% / mm, and 3σ was 0.056% / mm.

実施例4
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm、炭化水素濃度 0.1ppm)で、GC純度が99.9質量%であるtrans−デカヒドロナフタレン 100ml に対してゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、91.20%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、98.70%/mmであった。
更にこの液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、99.11%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は99.10%/mm、3σは0.039%/mmであった。
Example 4
Under an atmosphere of nitrogen (oxygen concentration 50 ppm, hydrocarbon concentration 0.1 ppm), after adsorption filtration using 5 g of zeolite-1 against 100 ml of trans-decahydronaphthalene having a GC purity of 99.9% by mass, The transmittance was measured and found to be 91.20% / mm.
The adsorption-filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 5 g of zeolite-1, and the transmittance at 193 nm was measured and found to be 98.70% / mm.
Further, the liquid was adsorbed and filtered using 5 g of zeolite-1 and the transmittance at 193 nm was measured and found to be 99.11% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 99.10% / mm, and 3σ was 0.039% / mm.

実施例5
窒素雰囲気下(酸素濃度50ppm、炭化水素濃度 0.1ppm)で、GC純度が99.9質量%であるtrans−デカヒドロナフタレン 100ml に対してアルミナを5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、91.40%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにアルミナを5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、98.50%/mmであった。
更にこの液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、193nmにおける透過率を測定したところ、99.07%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は99.06%/mm、3σは0.052%/mmであった。
Example 5
In an atmosphere of nitrogen (oxygen concentration: 50 ppm, hydrocarbon concentration: 0.1 ppm), after performing adsorption filtration using 5 g of alumina with respect to 100 ml of trans-decahydronaphthalene having a GC purity of 99.9% by mass, the transmittance at 193 nm Was measured and found to be 91.40% / mm.
The adsorption-filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 5 g of alumina, and the transmittance at 193 nm was measured and found to be 98.50% / mm.
Further, the liquid was adsorbed and filtered using 5 g of zeolite-1 and measured for transmittance at 193 nm. As a result, it was 99.07% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 99.06% / mm, and 3σ was 0.052% / mm.

比較例1
大気下で、GC純度が99.9質量%である1,1’−ビシクロヘキシル 100ml に対してシリカアルミナを5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、96.24%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにシリカアルミナを5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、98.89%/mmであった。
更にこの液体を新たにシリカアルミナを5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、99.34%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は99.42%/mm、3σは0.318%/mmであった。
Comparative Example 1
Under atmospheric pressure, adsorption filtration was performed using 5 g of silica alumina to 100 ml of 1,1′-bicyclohexyl having a GC purity of 99.9% by mass, followed by deoxygenation by nitrogen bubbling and measuring the transmittance at 193 nm. As a result, it was 96.24% / mm.
The adsorbed and filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 5 g of silica alumina, deoxygenated by nitrogen bubbling, and the transmittance at 193 nm was measured. As a result, it was 98.89% / mm.
Further, this liquid was adsorbed and filtered using 5 g of silica alumina, deoxygenated by nitrogen bubbling, and the transmittance at 193 nm was measured. As a result, it was 99.34% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 99.42% / mm, and 3σ was 0.318% / mm.

比較例2
大気下で、GC純度が99.9質量%であるtrans−デカヒドロナフタレン 100ml に対してゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、88.31%/mmであった。
この吸着ろ過をした液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、95.38%/mmであった。
更にこの液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、98.12%/mmであった。
更にこの液体を新たにゼオライト−1を5g用いて吸着ろ過した後に、窒素バブリングにより脱酸素をし、193nmにおける透過率を測定したところ、99.03%/mmであった。
この精製工程を合計5回実施して得られた5ロットの透過率の平均は98.96%/mm、3σは0.343%/mmであった。
Comparative Example 2
In the atmosphere, adsorption filtration was performed using 5 g of zeolite-1 with respect to 100 ml of trans-decahydronaphthalene having a GC purity of 99.9% by mass, followed by deoxygenation by nitrogen bubbling, and the transmittance at 193 nm was measured. However, it was 88.31% / mm.
The adsorbed and filtered liquid was newly adsorbed and filtered using 5 g of zeolite-1, deoxygenated by nitrogen bubbling, and the transmittance at 193 nm was measured. As a result, it was 95.38% / mm.
Further, the liquid was adsorbed and filtered with 5 g of zeolite-1 and then deoxygenated by nitrogen bubbling. The transmittance at 193 nm was measured and found to be 98.12% / mm.
Further, this liquid was adsorbed and filtered using 5 g of zeolite-1 again, deoxygenated by nitrogen bubbling, and the transmittance at 193 nm was measured. As a result, it was 99.03% / mm.
The average transmittance of 5 lots obtained by carrying out this purification step 5 times in total was 98.96% / mm, and 3σ was 0.343% / mm.

実施例1〜5および比較例1〜2より、1,1’−ビシクロヘキシル、exo−テトラジシクロペンタジエン、trans−デカヒドロナフタレンを、不活性ガス雰囲気中で吸着剤と接触させることにより、193nmにおける透過率が99%/mm以上となり、大気中で同様の操作を実施した比較例と比較して、得られる液体の透過率のばらつきを小さくでき、かつ接触工程数の削減、脱酸素工程の省略ができた。   From Examples 1-5 and Comparative Examples 1-2, 1,1′-bicyclohexyl, exo-tetradicyclopentadiene, trans-decahydronaphthalene was brought into contact with an adsorbent in an inert gas atmosphere to obtain 193 nm. As compared with the comparative example in which the same operation was performed in the atmosphere, the transmittance in the liquid crystal was 99% / mm or more, and the variation in the transmittance of the liquid obtained was reduced, and the number of contact processes was reduced, and the deoxygenation process I could omit it.

本発明の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法は、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤に接触させることにより、波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上であり、3σ値が0.1以下である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を不活性ガス雰囲気内で上記吸着剤と接触させる工程を含むので、脂環式飽和炭化水素化合物中に含まれる不純物を効率よく除去し、再現性よく、光学的性質が安定している液浸露光用液体が製造できる。そのため、今後更に微細化が進行すると予想される半導体デバイスの製造に必須の技術である液浸露光に用いられる液体として極めて好適に使用することができる。   In the method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound of the present invention, the average value of the transmittance per 1 mm of the optical path length of a liquid at a wavelength of 193 nm is obtained by bringing the alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material into contact with an adsorbent. 99% or more and a method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound having a 3σ value of 0.1 or less, the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as a raw material in the inert gas atmosphere. In this way, the liquid contained in the alicyclic saturated hydrocarbon compound can be efficiently removed, and the liquid for immersion exposure having good reproducibility and stable optical properties can be produced. Therefore, it can be used very suitably as a liquid used in immersion exposure, which is an essential technique for manufacturing semiconductor devices that are expected to be further miniaturized in the future.

Claims (8)

原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を吸着剤に接触させることにより、波長193nmにおける液体の光路長1mmあたりの透過率の平均値が99%以上であり、3σ値が0.1以下である脂環式飽和炭化水素化合物を製造する方法であって、
前記原料となる脂環式飽和炭化水素化合物を不活性ガス雰囲気内で前記吸着剤と接触させる工程を含むことを特徴とする脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。
By bringing the alicyclic saturated hydrocarbon compound as a raw material into contact with the adsorbent, the average value of the transmittance per 1 mm of the optical path length of the liquid at a wavelength of 193 nm is 99% or more, and the 3σ value is 0.1 or less. A method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound comprising:
The manufacturing method of the alicyclic saturated hydrocarbon compound characterized by including the process of making the alicyclic saturated hydrocarbon compound used as the said raw material contact with the said adsorption agent in inert gas atmosphere.
前記不活性ガスは、該ガス中に含まれる酸素濃度が0.1体積%以下、炭化水素濃度が1体積ppm以下であることを特徴とする請求項1記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   2. The alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 1, wherein the inert gas has an oxygen concentration of 0.1 vol% or less and a hydrocarbon concentration of 1 vol ppm or less. Production method. 前記脂環式飽和炭化水素化合物は、1,1’−ビシクロヘキシル、exo−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびtrans−デカヒドロナフタレンから選ばれた少なくとも1つの脂環式飽和炭化水素化合物であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   The alicyclic saturated hydrocarbon compound is at least one alicyclic saturated hydrocarbon compound selected from 1,1′-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene, and trans-decahydronaphthalene. A method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 1 or 2. 前記吸着剤は、アルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする請求項1、請求項2または請求項3記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   4. The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 1, wherein the adsorbent is at least one adsorbent selected from alumina, silica alumina, and zeolite. . 前記脂環式飽和炭化水素化合物が1,1’−ビシクロヘキシルであり、前記吸着剤がシリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする請求項3または請求項4記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   5. The alicyclic saturated hydrocarbon compound is 1,1′-bicyclohexyl, and the adsorbent is at least one adsorbent selected from silica alumina and zeolite. The manufacturing method of alicyclic saturated hydrocarbon compound of description. 前記脂環式飽和炭化水素化合物がexo−テトラジシクロペンタジエンであり、前記吸着剤がシリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの吸着剤であることを特徴とする請求項3または請求項4記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   5. The alicyclic saturated hydrocarbon compound is exo-tetradicyclopentadiene, and the adsorbent is at least one adsorbent selected from silica alumina and zeolite. Of producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound. 前記脂環式飽和炭化水素化合物がtrans−デカヒドロナフタレンであることを特徴とする請求項3記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon compound according to claim 3, wherein the alicyclic saturated hydrocarbon compound is trans-decahydronaphthalene. 前記原料となる脂環式炭化水素化合物のガスクロマトグラフィ法による純度が99質量%以上であることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項記載の脂環式飽和炭化水素化合物の製造方法。   The alicyclic saturated hydrocarbon compound according to any one of claims 1 to 7, wherein the purity of the alicyclic hydrocarbon compound as the raw material by gas chromatography is 99% by mass or more. Production method.
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