JP2009023306A - Method and device for manufacturing releasing paper - Google Patents

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田 智 上
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島 正 幸 長
Mineaki Eto
藤 峰 明 衛
Tomohiko Anazawa
澤 朝 彦 穴
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method capable of manufacturing a releasing paper capable of transferring pattern having high contrast with high productivity. <P>SOLUTION: The manufacturing method is a method which forms irregularity pattern 12 on a raw film 20 to manufacture the releasing paper 10. The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing, and a step of forming the irregularity pattern of the raw film having a fine irregularity formed by embossing. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する製造方法に係り、とりわけ、優れたコントラストを有する模様を転写することができる離型紙を製造する製造方法に関する。また、本発明は、原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する製造装置に係り、とりわけ、優れたコントラストを有する模様を転写することができる離型紙を製造する製造装置に関する。   The present invention relates to a production method for producing a release paper by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and more particularly to a production method for producing a release paper capable of transferring a pattern having excellent contrast. The present invention also relates to a manufacturing apparatus for manufacturing a release paper by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and particularly to a manufacturing apparatus for manufacturing a release paper capable of transferring a pattern having excellent contrast.

合皮製品、化粧シート、内装材等に用いられるシート状材料は、離型紙を型紙として、離型紙に形成された凹凸模様を転写されることによって製造され得る。離型紙は、一般的に、原反にエンボス加工を施すことによって作製され得る(例えば、特許文献1)。
特開2002−205311号公報
Sheet-like materials used for synthetic leather products, decorative sheets, interior materials and the like can be manufactured by transferring a concavo-convex pattern formed on a release paper using the release paper as a pattern paper. The release paper can be generally produced by embossing an original fabric (for example, Patent Document 1).
JP 2002-205311 A

ところで、エンボス加工によって離型紙を作製する場合、エンボス加工中に大きな圧力が加わりやすいことから、離型紙の凹部を精度良く形成することができる。その一方で、加工圧力が比較的小さくなりやすいことから、離型紙の凸部を精度良く形成することは難しい。したがって、離型紙上の凹部と凸部とのギャップを大きくすることには限界がある。この結果、離型紙を用いて作製されたシート状材料のコントラスト(明暗の差)が十分ではない、つまり、シート状材料の模様が平坦化して視認される、という不具合が生じてしまう。   By the way, when producing release paper by embossing, since a big pressure is easy to be applied during embossing, the recessed part of release paper can be formed accurately. On the other hand, since the processing pressure tends to be relatively small, it is difficult to accurately form the convex portion of the release paper. Therefore, there is a limit to increasing the gap between the concave portion and the convex portion on the release paper. As a result, there arises a problem that the contrast (brightness difference) of the sheet-like material produced using the release paper is not sufficient, that is, the pattern of the sheet-like material is flattened and visually recognized.

また、加工圧力を増大することにより、離型紙上の凹部と凸部とのギャップをいくらか大きくすることができる。しかしながら、加工圧力を増大させると、生産効率を悪化させることになり、また、加工装置や原反への負荷も増大することとなる。   Also, by increasing the processing pressure, the gap between the concave and convex portions on the release paper can be somewhat increased. However, when the processing pressure is increased, the production efficiency is deteriorated, and the load on the processing apparatus and the raw material is also increased.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する製造方法であって、優れたコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を高い生産効率で製造することができる製造方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸模様を転写する離型紙の製造装置であって、優れたコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を高い生産効率で製造することができる離型紙の製造装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and is a manufacturing method for manufacturing a release paper by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and is a release paper that can transfer a pattern having excellent contrast An object of the present invention is to provide a production method capable of producing a product with high production efficiency. Furthermore, the present invention is an apparatus for manufacturing a release paper for transferring a concavo-convex pattern to a raw fabric, and an apparatus for manufacturing a release paper capable of manufacturing a release paper capable of transferring a pattern having excellent contrast with high production efficiency. The purpose is to provide.

ところで、昨今においては、特殊な用途に応じた離型紙(典型的には、過酷な使用条件に耐え得る離型紙)を製造するため、基材と、基材上に接合された樹脂層と、を有する原反が用いられることもある。このような原反は、通常、基材上に樹脂をコーティングすることにより製造され、樹脂層は光沢を有するようになる。そして、このような原反を用いて得られた離型紙によりシート状材料を作製した場合、シート状材料のコントラストが不十分であるという上述の不具合が顕著に現れやすくなる。本発明による離型紙の製造方法および離型紙の製造装置によって、このような原反から、優れたコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を製造することができるようになれば都合が良い。   By the way, in recent years, in order to manufacture a release paper (typically, a release paper that can withstand severe use conditions) according to a special application, a base material, a resin layer bonded on the base material, An original fabric having s may be used. Such an original fabric is usually produced by coating a resin on a substrate, and the resin layer becomes glossy. And when a sheet-like material is produced with the release paper obtained using such an original fabric, the above-mentioned problem that the contrast of the sheet-like material is insufficient tends to appear remarkably. It would be advantageous if a release paper capable of transferring a pattern having excellent contrast could be manufactured from such an original fabric by the release paper manufacturing method and the release paper manufacturing apparatus according to the present invention.

本発明による離型紙の製造方法は、原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する方法であって、ブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸を前記原反の表面に形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備えることを特徴とする。   A method for producing a release paper according to the present invention is a method for producing a release paper by forming a concavo-convex pattern on a raw fabric, and a concavo-convex microscopic unevenness on the surface of the original fabric by blasting. And a step of forming the concavo-convex pattern on the surface of the original fabric on which fine irregularities are formed by embossing.

本発明による離型紙の製造方法において、前記ブラスト加工において、平均粒径が0.1μm以上150μm以下の珪砂または金属片が前記原反に吹きつけられるようにしてもよい。   In the release paper manufacturing method according to the present invention, in the blasting process, silica sand or metal pieces having an average particle size of 0.1 μm or more and 150 μm or less may be sprayed on the original fabric.

また、本発明による離型紙の製造方法が、前記微小な凹凸を形成する工程の後であって前記凹凸模様を形成する工程の前に、前記ブラスト加工によって吹き飛ばされた研磨剤を前記原反の前記表面上から除去する工程をさらに備えるようにしてもよい。   Further, in the release paper manufacturing method according to the present invention, after the step of forming the fine unevenness and before the step of forming the uneven pattern, the abrasive blown off by the blasting is applied to the original fabric. You may make it further provide the process of removing from the said surface.

さらに、本発明による離型紙の製造方法の前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面での光沢度の値が、エンボス加工において用いられるエンボス型の表面での光沢度の値、好ましくは少なくともエンボス型の凹凸部の凸部の表面での光沢度の値よりも小さくなるように、ブラスト加工を行ってもよい。   Further, in the step of forming the minute unevenness of the method for producing a release paper according to the present invention, the gloss value on the surface of the original fabric is the gloss value on the surface of the embossing mold used in embossing. Preferably, the blasting may be performed so that at least the glossiness value on the surface of the convex portion of the embossed uneven portion is smaller.

さらに、本発明による離型紙の製造方法の前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面での光沢度が4以上8以下となるように、ブラスト加工を行うようにしてもよい。このような離型紙の製造方法の前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面での平均長さSmが30μm以上80μm以下となり、前記原反の前記表面での十点平均粗さRzが5μm以上20μm以下となるように、ブラスト加工を行うようにしてもよい。   Furthermore, in the step of forming the minute unevenness of the method for producing a release paper according to the present invention, blasting may be performed so that the glossiness of the surface of the original fabric is 4 or more and 8 or less. . In the step of forming the minute irregularities of the method for producing a release paper, the average length Sm of the original fabric on the surface is 30 μm or more and 80 μm or less, and the ten-point average roughness on the surface of the original fabric is Blasting may be performed so that the thickness Rz is 5 μm or more and 20 μm or less.

さらに、本発明による離型紙の製造方法の前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面のうちの前記凹凸模様が形成されるようになる領域に微小な凹凸を形成するようにしてもよい。   Furthermore, in the step of forming the fine unevenness of the method for producing a release paper according to the present invention, the fine unevenness is formed in a region of the surface of the raw fabric where the uneven pattern is to be formed. May be.

さらに、本発明による離型紙の製造方法において、前記原反は、基材と、前記基材に積層された合成樹脂層と、を有し、前記合成樹脂層が、前記微小な凹凸を形成される表面をなすようにしてもよい。   Furthermore, in the method for producing release paper according to the present invention, the original fabric has a base material and a synthetic resin layer laminated on the base material, and the synthetic resin layer is formed with the minute irregularities. The surface may be formed.

さらに、本発明による離型紙の製造方法の前記凹凸模様を形成する工程において、前記凹凸模様の凸部に位置するようになる前記原反の表面に形成された微小な凹凸を残しながら、前記凹凸模様の凹部に位置するようになる前記原反の表面に形成された微小な凹凸をならすようにしてもよい。   Furthermore, in the step of forming the concavo-convex pattern of the method for producing a release paper according to the present invention, the concavo-convex while leaving the minute concavo-convex formed on the surface of the original fabric that is positioned on the convex portion of the concavo-convex pattern You may make it the fine unevenness | corrugation formed in the surface of the said original fabric which comes to be located in the recessed part of a pattern level.

本発明による離型紙の製造装置は、原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する製造装置であって、前記原反の表面に研磨剤を吹きつけて当該表面に前記凹凸模様よりも微小な凹凸を形成するブラスト装置と、前記ブラスト装置の下流側に配置され、前記原反に前記凹凸模様を形成するエンボス装置と、を備えることを特徴とする。   A release paper manufacturing apparatus according to the present invention is a manufacturing apparatus for manufacturing a release paper by forming a concavo-convex pattern on an original fabric, and sprays an abrasive on the surface of the original fabric so that the surface is more than the concavo-convex pattern. A blasting device for forming minute irregularities, and an embossing device that is disposed on the downstream side of the blasting device and forms the irregularity pattern on the original fabric, are provided.

本発明による離型紙の製造装置は、前記ブラスト装置は、平均粒径が0.1μm以上150μm以下の珪砂または金属片を研磨剤として前記原反の前記表面に吹きつけるようにしてもよい。   In the release paper manufacturing apparatus according to the present invention, the blasting apparatus may spray silica sand or metal pieces having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 150 μm or less onto the surface of the original fabric as an abrasive.

また、本発明による離型紙の製造装置が、前記ブラスト装置の下流側であって前記エンボス装置の上流側に、前記ブラスト装置から吹き飛ばされた研磨剤を前記原反の前記表面上から除去する除去装置をさらに備えるようにしてもよい。   Further, the release paper manufacturing apparatus according to the present invention removes the abrasive blown from the blasting device from the surface of the original fabric on the downstream side of the blasting device and upstream of the embossing device. You may make it further provide an apparatus.

さらに、本発明による離型紙の製造装置において、前記エンボス装置が、前記凹凸模様に対応した凹凸部であって前記原反に当接するようになる凹凸部を含むエンボス型を有し、前記ブラスト装置が、前記原反の前記表面での光沢度の値が、前記エンボス型の前記凹凸部での光沢度、好ましくは少なくともエンボス型の凹凸部の凸部の表面での光沢度の値よりも小さくなるように、前記原反の前記表面に微小な凹凸を形成してもよい。   Furthermore, in the release paper manufacturing apparatus according to the present invention, the embossing device includes an embossing die that includes an uneven portion corresponding to the uneven pattern and comes into contact with the original fabric, and the blast device However, the gloss value of the surface of the original fabric is smaller than the gloss value of the embossed uneven portion, preferably at least the gloss value of the surface of the embossed uneven portion. As described above, minute irregularities may be formed on the surface of the original fabric.

さらに、本発明による離型紙の製造装置において、前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面での光沢度が4以上8以下となるように、前記原反の前記表面に微小な凹凸を形成するようにしてもよい。このような離型紙の製造装置において、前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面での平均長さSmが30μm以上80μm以下となり、前記原反の前記表面での十点平均粗さRzが5μm以上20μm以下となるように、前記原反の前記表面に微小な凹凸を形成するようにしてもよい。   Further, in the release paper manufacturing apparatus according to the present invention, the blasting device forms minute irregularities on the surface of the original fabric so that the glossiness of the original fabric is 4 or more and 8 or less. You may do it. In such a release paper manufacturing apparatus, the blasting device has an average length Sm of the original fabric on the surface of 30 μm or more and 80 μm or less, and a ten-point average roughness Rz on the surface of the original fabric of 5 μm. You may make it form a micro unevenness | corrugation in the said surface of the said original fabric so that it may become 20 micrometers or less above.

さらに、本発明による離型紙の製造装置において、前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面のうちの前記エンボス装置によって前記凹凸模様が形成されるようになる領域に微小な凹凸を形成するようにしてもよい。   Furthermore, in the release paper manufacturing apparatus according to the present invention, the blasting device forms minute irregularities in a region of the surface of the original fabric where the irregularities are to be formed by the embossing device. May be.

さらに、本発明による離型紙の製造装置において、前記原反は、表面をなす合成樹脂層と、前記合成樹脂層に積層された基材と、を有し、前記ブラスト装置は前記合成樹脂層に微小な凹凸を形成するように配置され、前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部であって前記合成樹脂層に当接するようになる凹凸部を含むエンボス型を有するようにしてもよい。   Furthermore, in the release paper manufacturing apparatus according to the present invention, the original fabric has a synthetic resin layer forming a surface and a base material laminated on the synthetic resin layer, and the blasting device is provided on the synthetic resin layer. The embossing device is arranged so as to form minute unevenness, and the embossing device may have an embossing type including an unevenness portion corresponding to the unevenness pattern and coming into contact with the synthetic resin layer. .

さらに、本発明による離型紙の製造装置において、前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部を有するエンボス型と、前記エンボス型に対向して配置され、前記エンボス型との間で前記原反を圧するようになるバックアップ体と、を有し、前記エンボス型の前記凹凸部の凸部は、前記バックアップ体との間で原反を圧して前記原反の前記表面をなだらかにするようにしてもよい。   Further, in the release paper manufacturing apparatus according to the present invention, the embossing device is disposed opposite to the embossing die having an uneven portion corresponding to the uneven pattern and the embossing die. A back-up body that presses against the back, and the convex portions of the concavo-convex portion of the embossed type press the original fabric between the back-up body and smooth the surface of the original fabric. May be.

本発明によれば、優れたコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を高い生産効率で製造することができる   According to the present invention, a release paper capable of transferring a pattern having excellent contrast can be manufactured with high production efficiency.

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1乃至図6は本発明による離型紙の製造方法および離型紙の製造装置の一実施の形態を説明するための図である。このうち、図1は離型紙の製造装置および離型紙の製造方法を示す斜視図であり、図2は離型紙の製造に用いられる原反の一例を示す断面図であり、図3および図4は離型紙の製造方法を説明するための図であり、図5は離型紙を示す断面図であり、図6は図5に示す離型紙を型紙として用いて作製されたシート状部材の作用を説明するための図である。   1 to 6 are views for explaining an embodiment of a release paper manufacturing method and a release paper manufacturing apparatus according to the present invention. Among these, FIG. 1 is a perspective view showing a release paper manufacturing apparatus and a release paper manufacturing method, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a raw material used for the release paper manufacturing. FIGS. FIG. 5 is a diagram for explaining a method for producing a release paper, FIG. 5 is a cross-sectional view showing the release paper, and FIG. 6 shows the action of a sheet-like member produced using the release paper shown in FIG. It is a figure for demonstrating.

まず、主に図5を参照しながら、本実施の形態において製造され得る離型紙について説明する。図5に示すように、離型紙10は、凹部12bと凸部12aとを有する凹凸模様12が一方の表面20aに形成された原反20を備えている。   First, the release paper that can be manufactured in the present embodiment will be described mainly with reference to FIG. As shown in FIG. 5, the release paper 10 includes an original fabric 20 in which a concavo-convex pattern 12 having a concave portion 12 b and a convex portion 12 a is formed on one surface 20 a.

また、凹凸模様12の凸部12a上には、凹凸模様12よりも微小な凹凸(微小凹凸形状とも呼ぶ)16が形成されている。一方、凹凸模様12の凹部12bの底面は、平坦面として形成されている。   Further, on the convex portion 12 a of the concavo-convex pattern 12, a fine concavo-convex (also referred to as a fine concavo-convex shape) 16 than the concavo-convex pattern 12 is formed. On the other hand, the bottom surface of the recess 12b of the concavo-convex pattern 12 is formed as a flat surface.

このような離型紙10は、ビニールレザーや壁紙等のシート状部材30を作製するための型紙として用いられる。具体的には、離型紙10の凹凸面側を熱硬化性樹脂等からなる塗料でコーティングし、さらに基布38をラミネートする。その後、塗料を硬化させて塗料からなる塗料層37を形成し、次に、塗料層37から離型紙10を剥離させることにより、基布38と塗料層37とを有したシート状部材30を得ることができる。得られたシート状部材30の塗料層37には、離型紙10の凹凸模様12および微小凹凸形状16が転写されており、転写された凹凸模様32により、シート状部材30の意匠性を向上させている。なお、離型紙10は繰り返し用いられ、複数枚のシート状部材30を作製することができる。   Such release paper 10 is used as a paper pattern for producing a sheet-like member 30 such as vinyl leather or wallpaper. Specifically, the uneven surface side of the release paper 10 is coated with a paint made of a thermosetting resin or the like, and the base fabric 38 is further laminated. Thereafter, the paint is cured to form a paint layer 37 made of paint, and then the release paper 10 is peeled from the paint layer 37 to obtain the sheet-like member 30 having the base cloth 38 and the paint layer 37. be able to. The concavo-convex pattern 12 and the minute concavo-convex shape 16 of the release paper 10 are transferred to the paint layer 37 of the obtained sheet-like member 30, and the design of the sheet-like member 30 is improved by the transferred concavo-convex pattern 32. ing. In addition, the release paper 10 is used repeatedly and the several sheet-like member 30 can be produced.

本実施の形態において、離型紙10は、合成皮革として用いられるシート状部材30を作製するための型紙として機能するようになっている。この場合、シート状部材30の塗料層37は、例えば、ポリウレタン樹脂に着色剤を配合してなる塗料によって形成され得る。また、本実施の形態において、離型紙10は、紙等からなる基材24と、基材24上に積層され合成樹脂からなる合成樹脂層22と、を有している。図5に示すように、凹凸模様12および微小凹凸形状16は、離型紙10の合成樹脂層22側の表面から形成されている。   In this Embodiment, the release paper 10 functions as a paper pattern for producing the sheet-like member 30 used as a synthetic leather. In this case, the paint layer 37 of the sheet-like member 30 can be formed by, for example, a paint obtained by blending a polyurethane resin with a colorant. Moreover, in this Embodiment, the release paper 10 has the base material 24 which consists of paper etc., and the synthetic resin layer 22 which is laminated | stacked on the base material 24 and consists of a synthetic resin. As shown in FIG. 5, the concavo-convex pattern 12 and the fine concavo-convex shape 16 are formed from the surface of the release paper 10 on the synthetic resin layer 22 side.

次に、このような構成からなる離型紙10の作用について説明する。   Next, the operation of the release paper 10 having such a configuration will be described.

上述したように、このような離型紙10においては、凹凸模様12の凸部12a上に微小凹凸形状16が形成されている。したがって、この離型紙10を型紙として用いた場合、図6に示すように、離型紙10の凹凸模様12の凸部12aが転写されてなるシート状部材30の模様32の凹部32b内に、離型紙10の微小凹凸形状16が転写されてなる微小な凹凸36が形成されるようになる。このため、図6に示すように、シート状部材30の凹部32b内に入射する光L66は乱反射して散乱するようになり、凹部32bからの反射光L67は非常に少ない光量でのみ視認されるようになる。   As described above, in such a release paper 10, the minute uneven shape 16 is formed on the convex portion 12 a of the uneven pattern 12. Therefore, when the release paper 10 is used as a pattern paper, as shown in FIG. 6, the release paper 10 is separated into the recesses 32b of the pattern 32 of the sheet-like member 30 formed by transferring the projections 12a of the uneven pattern 12 of the release paper 10. A minute unevenness 36 formed by transferring the minute uneven shape 16 of the pattern paper 10 is formed. For this reason, as shown in FIG. 6, the light L66 incident on the concave portion 32b of the sheet-like member 30 is diffusely reflected and scattered, and the reflected light L67 from the concave portion 32b is visible only with a very small amount of light. It becomes like this.

一方、上述したように、凹凸模様12の凹部12b内は、平坦面として形成されている。したがって、この離型紙10を型紙として用いた場合、図6に示すように、離型紙10の凹凸模様12の凹部12bが転写されてなるシート状部材30の模様32の凸部32aの上面は、平坦面として形成されるようになる。このため、図6に示すように、シート状部材30の凸部32a上に入射する光L61は正反射され、凸部32aからの反射光L62は明瞭に視認されるようになる。   On the other hand, as described above, the concave portion 12b of the concavo-convex pattern 12 is formed as a flat surface. Therefore, when this release paper 10 is used as a pattern paper, as shown in FIG. 6, the upper surface of the convex portion 32a of the pattern 32 of the sheet-like member 30 formed by transferring the concave portion 12b of the concave and convex pattern 12 of the release paper 10 is It is formed as a flat surface. For this reason, as shown in FIG. 6, the light L61 incident on the convex portion 32a of the sheet-like member 30 is regularly reflected, and the reflected light L62 from the convex portion 32a is clearly visually recognized.

これらの結果、転写されたシート状部材30の模様32は、凸部32aと凹部32bとの間で極めて高いコントラストを有するようになり、また、凸部上32aに光沢を有するようになる。すなわち、本実施の形態による離型紙10によれば、優れた光沢とコントラストとを有する模様を転写することができる。   As a result, the transferred pattern 32 of the sheet-like member 30 has an extremely high contrast between the convex portion 32a and the concave portion 32b, and the gloss on the convex portion 32a. That is, according to the release paper 10 according to the present embodiment, a pattern having excellent gloss and contrast can be transferred.

次に、主に図1乃至図4を参照して、上述した離型紙を作製し得る、本発明による離型紙の製造方法および離型紙の製造装置の一実施の形態について説明する。   Next, an embodiment of a release paper manufacturing method and a release paper manufacturing apparatus according to the present invention capable of producing the release paper described above will be described mainly with reference to FIGS.

図1乃至図4に示すように、製造装置40は、原反20の一方の表面20aに研磨剤42を吹きつけて当該表面20aに微小な凹凸16を形成するブラスト装置41と、ブラスト装置41の下流側に配置され、原反20に凹凸模様12を形成するエンボス装置51と、を備えている。また、製造装置40は、エンボス加工を施されていない帯状に延びる原反20を連続的に供給する原反供給装置(図示せず)と、原反20に凹凸模様12を形成してなる離型紙10を巻き取って回収する離型紙回収装置(図示せず)と、をさらに備えている。   As shown in FIGS. 1 to 4, the manufacturing apparatus 40 includes a blasting device 41 that blows an abrasive 42 onto one surface 20 a of the raw fabric 20 to form minute irregularities 16 on the surface 20 a, and a blasting device 41. And an embossing device 51 that forms the concavo-convex pattern 12 on the original fabric 20. In addition, the manufacturing apparatus 40 includes an original fabric supply apparatus (not shown) that continuously supplies the original fabric 20 that is not embossed and extends in a belt shape, and a separation pattern formed by forming the uneven pattern 12 on the original fabric 20. A release paper collecting device (not shown) that winds up and collects the pattern paper 10 is further provided.

ブラスト装置41は、図示しない圧縮ガス源および研磨剤収容部に接続され、圧縮ガス源から供給される圧縮ガス(例えば、空気)とともに、研磨剤収容部から供給される研磨剤42を吐出するようになっている。研磨剤42としては、種々の既知な研磨剤を用いることができ、例えば、珪砂や金属小片を研磨剤42として用いることができる。また、図1および図3によく示されているように、ブラスト装置41に対向して第1バックアップ体46が設けられている。第1バックアップ体46は、圧縮ガスおよび研磨剤42を吹きつけられる原反20を下方から支持する。本実施の形態において、第1バックアップ体46は、原反20の移動速度に同期して回転可能な第1バックアップロール47として構成されている。   The blast device 41 is connected to a compressed gas source (not shown) and an abrasive container, and discharges the abrasive 42 supplied from the abrasive container together with the compressed gas (for example, air) supplied from the compressed gas source. It has become. As the abrasive 42, various known abrasives can be used. For example, silica sand or metal pieces can be used as the abrasive 42. Further, as well shown in FIGS. 1 and 3, a first backup body 46 is provided to face the blast device 41. The first backup body 46 supports the raw fabric 20 to which the compressed gas and the abrasive 42 are blown from below. In the present embodiment, the first backup body 46 is configured as a first backup roll 47 that can rotate in synchronization with the moving speed of the original fabric 20.

ところで、原反20の一方の表面20aにおける光沢度が4以上8以下となるよう、ブラスト装置41によって原反20を粗化することが有効である。本件発明者が種々の実験を行ったところ、粗化された原反20の表面20aがこの範囲内の光沢度を有する場合、最終的に得られるシート状部材30が上述した作用効果を効果的に奏することができる、との知見が得られた。なお、本件における「光沢度」とは、JISS6007に準拠して測定される光沢度のことである。   By the way, it is effective to roughen the original fabric 20 by the blasting device 41 so that the glossiness on one surface 20a of the original fabric 20 is 4 or more and 8 or less. When the inventor conducted various experiments, when the roughened surface 20a of the raw fabric 20 has a glossiness within this range, the finally obtained sheet-like member 30 effectively exhibits the above-described effects. The knowledge that it is possible to perform is obtained. The “glossiness” in this case is a glossiness measured in accordance with JIS 6007.

また、本件発明者が調査したところ、原反20の一方の表面20aにおいて4以上8以下の光沢度を得るためには、ブラスト加工によって微小な凹凸を形成された原反20の表面20aの平均長さSmが30μm以上80μm以下となり、ブラスト加工によって微小な凹凸を形成された原反20の表面20aの十点平均粗さRzが5μm以上20μm以下となるように、ブラスト加工することが有効である、との知見が得られた。なお、ここでいう「平均長さSm」および「十点平均粗さRz」とは、JISB0401に準拠して測定される値のことである。   Further, as a result of investigation by the present inventors, in order to obtain a glossiness of 4 or more and 8 or less on one surface 20a of the original fabric 20, the average of the surface 20a of the original fabric 20 on which minute irregularities are formed by blasting. It is effective to perform blasting so that the length Sm is 30 μm or more and 80 μm or less, and the ten-point average roughness Rz of the surface 20a of the raw fabric 20 on which minute irregularities are formed by blasting is 5 μm or more and 20 μm or less. The knowledge that there is. Here, “average length Sm” and “ten-point average roughness Rz” are values measured in accordance with JISB0401.

そして、本実施の形態においては、原反20の表面20aでの平均長さSmおよび十点平均粗さRzを、それぞれ所望の範囲内の値とすることができるよう、ブラスト装置41から吐出される研磨剤42の種類や粒径等が適宜設定されている。具体的な例としては、平均粒径が0.1μm以上150μm以下の珪砂または金属小片、より好ましくは平均粒径が30μm以上80μm以下の珪砂または金属小片を研磨剤42として用いることができる。   In the present embodiment, the average length Sm and the ten-point average roughness Rz on the surface 20a of the original fabric 20 are discharged from the blast device 41 so as to be values within desired ranges, respectively. The type, particle size, etc. of the abrasive 42 are set appropriately. As a specific example, silica sand or metal pieces having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 150 μm or less, more preferably silica sand or metal pieces having an average particle diameter of 30 μm or more and 80 μm or less can be used as the abrasive 42.

次に、エンボス装置51について説明する。図1によく示されているように、エンボス装置51は、原反20に形成されるべき凹凸模様12に対応した凹凸部54を有するエンボス型52と、エンボス型52に対向して配置され、エンボス型52との間で原反20を圧するようになる第2バックアップ体56と、を有している。本実施の形態において、エンボス型52は、ロール状のエンボスロールとして構成されている。エンボスロール52は回転駆動されるロール本体53を有し、ロール本体53の外周面には凹凸部54が形成されている。本実施の形態においては、合成皮革用の離型紙10を作製することができるよう、凹凸部54は、原反20の表面20aに皮模様を付与し得るように形成されている。   Next, the embossing device 51 will be described. As well shown in FIG. 1, the embossing device 51 is disposed so as to face the embossing mold 52, an embossing mold 52 having a concavo-convex portion 54 corresponding to the concavo-convex pattern 12 to be formed on the raw fabric 20, and And a second backup body 56 that presses the original fabric 20 with the embossing mold 52. In the present embodiment, the embossing mold 52 is configured as a roll-shaped embossing roll. The embossing roll 52 has a roll body 53 that is rotationally driven, and an uneven portion 54 is formed on the outer peripheral surface of the roll body 53. In this Embodiment, the uneven | corrugated | grooved part 54 is formed so that a leather pattern can be provided to the surface 20a of the raw fabric 20 so that the release paper 10 for synthetic leather can be produced.

また、本実施の形態において、第2バックアップ体56は、エンボスロール52に対向して配置され、原反20の移動速度に同期して回転可能な第2バックアップロール57として構成されている。第2バックアップロール57は、エンボスロール52との間で原反20を挟圧する。   Moreover, in this Embodiment, the 2nd backup body 56 is arrange | positioned facing the embossing roll 52, and is comprised as the 2nd backup roll 57 which can be rotated synchronizing with the moving speed of the raw fabric 20. As shown in FIG. The second backup roll 57 sandwiches the original fabric 20 with the embossing roll 52.

エンボス装置51は、エンボスロール52のロール本体53に連結され、ロール本体53を回転駆動する駆動機構(図示せず)をさらに有している。この駆動機構によって、エンボスロール52は、原反20の搬送速度に同期するようにして回転し、凹凸部54の凹凸模様を原反20に転写していく。   The embossing device 51 is further connected to a roll body 53 of the embossing roll 52 and further includes a drive mechanism (not shown) that rotationally drives the roll body 53. By this drive mechanism, the embossing roll 52 rotates in synchronization with the conveyance speed of the original fabric 20 to transfer the uneven pattern of the uneven portion 54 to the original fabric 20.

図1に示すように、エンボスロール52および第2バックアップロール57は、ブラスト装置41および第1バックアップロール47の下流側に配置されている。したがって、原反供給装置から供給される原反20は、まず、ブラスト装置41と第1バックアップロール47との間を通過し、その後、エンボスロール52と第2バックアップロール57との間を通過するようになる。   As shown in FIG. 1, the embossing roll 52 and the second backup roll 57 are arranged on the downstream side of the blasting device 41 and the first backup roll 47. Therefore, the original fabric 20 supplied from the original fabric supply device first passes between the blast device 41 and the first backup roll 47 and then passes between the embossing roll 52 and the second backup roll 57. It becomes like this.

また、図1に示すように、原反20の搬送経路に沿ったブラスト装置41とエンボス装置51との間には、つまり、ブラスト装置41の下流側であってエンボス装置51の上流側には、ブラスト装置41から吹き飛ばされ原反20の表面20a上に残留している研磨剤42を原反20の表面20a上から除去する除去装置58が設けられている。本実施の形態において、除去装置58は回転可能なクリーニングロール59を有している。クリーニングロール59は、その外周面を原反20の表面20aに接触させることにより、原反20上に残留する研磨剤42等の異物を回収することができるようになっている。このようなクリーニングロール59として、例えば、(株)協和技研のウレタンクリーニングローラーを用いることができる。   Further, as shown in FIG. 1, between the blasting device 41 and the embossing device 51 along the conveyance path of the raw fabric 20, that is, on the downstream side of the blasting device 41 and on the upstream side of the embossing device 51. A removing device 58 for removing the abrasive 42 blown off from the blasting device 41 and remaining on the surface 20a of the original fabric 20 from the surface 20a of the original fabric 20 is provided. In the present embodiment, the removing device 58 has a rotatable cleaning roll 59. The cleaning roll 59 can collect foreign matters such as the abrasive 42 remaining on the raw fabric 20 by bringing the outer peripheral surface thereof into contact with the surface 20 a of the original fabric 20. As such a cleaning roll 59, for example, a urethane cleaning roller of Kyowa Giken Co., Ltd. can be used.

本実施の形態において、原反供給装置から供給される原反20は、上述したように、紙からなる基材24と、基材24上に積層された合成樹脂層22と、からなっている(図2参照)。このような原反20は、例えば、所望の合成樹脂を溶剤と配合して基材24上にコーティングすることにより、製造され得る。この場合、原反20の合成樹脂層22は基材24上に平たく延び広がるとともに、優れた光沢を有するようになる。このような製造方法によって製造された原反20において、合成樹脂層22は、通常、少なくとも10以上の光沢度を有するようになる。   In the present embodiment, the original fabric 20 supplied from the original fabric supply apparatus includes the base material 24 made of paper and the synthetic resin layer 22 laminated on the base material 24 as described above. (See FIG. 2). Such an original fabric 20 can be manufactured, for example, by blending a desired synthetic resin with a solvent and coating the base material 24. In this case, the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20 extends flatly on the base material 24 and has an excellent gloss. In the raw fabric 20 manufactured by such a manufacturing method, the synthetic resin layer 22 usually has a glossiness of at least 10 or more.

合成樹脂層22は、原反20の一方の側の表面20aをなすようになる。そして、合成樹脂層22に含まれる樹脂は、例えばポリプロピレン等、製造されるべき離型紙10に対する要求に応じて種々選択される。また、基材24は、合成樹脂層22の変形を拘束することによって、エンボス加工中に合成樹脂層22の塑性変形、すなわち凹凸模様の転写を促進すること、および、エンボス加工によって合成樹脂層22に形成された凹凸12,16がその後の取扱中に損なわれないようにすること等を目的として設けられている。図1に示すように、ブラスト装置41は、研磨剤42を圧縮ガスとともに吐出する吐出口41aが搬送される原反20の合成樹脂層22に対面するようにして配置されている。また、エンボス装置51のエンボスロール52、並びに、除去装置58のクリーニングロール59は原反20の合成樹脂層22に当接するようにして配置されている。   The synthetic resin layer 22 forms a surface 20 a on one side of the raw fabric 20. The resin contained in the synthetic resin layer 22 is variously selected according to the requirements for the release paper 10 to be manufactured, such as polypropylene. In addition, the base material 24 restrains the deformation of the synthetic resin layer 22 to promote plastic deformation of the synthetic resin layer 22 during embossing, that is, transfer of the uneven pattern, and the synthetic resin layer 22 by embossing. It is provided for the purpose of preventing the irregularities 12 and 16 formed in the above from being damaged during subsequent handling. As shown in FIG. 1, the blasting device 41 is disposed so as to face the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20 through which the discharge port 41a for discharging the abrasive 42 together with the compressed gas is conveyed. Further, the embossing roll 52 of the embossing device 51 and the cleaning roll 59 of the removing device 58 are arranged so as to contact the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20.

次に、このような構成からなる製造装置40を用い、離型紙10を製造する方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the release paper 10 using the manufacturing apparatus 40 having such a configuration will be described.

まず、第1バックアップロール47上に支持された原反20を適切にブラスト加工することができるよう、ブラスト装置41と第1バックアップロール47との相対位置を調節しておく。また、エンボスロール52と第2バックアップロール57との間において、原反20を適切にエンボス加工することができるとともに、原反20を適切に支持することができるよう、エンボスロール52と第2バックアップロール57との相対位置を調節しておく。さらに、原反20がエンボス装置51へ送り込まれる前に、原反20上に残留する研磨剤42を除去することができるよう、ブラスト装置41およびエンボス装置51に対する除去装置58のクリーニングロール59の位置を調節しておく。その後、原反供給装置から原反20を供給する。   First, the relative position between the blasting device 41 and the first backup roll 47 is adjusted so that the original fabric 20 supported on the first backup roll 47 can be appropriately blasted. In addition, the embossing roll 52 and the second backup roll 57 can be embossed appropriately, and the embossing roll 52 and the second backup roll can be supported appropriately. The relative position with respect to the roll 57 is adjusted. Further, the position of the cleaning roll 59 of the removing device 58 with respect to the blasting device 41 and the embossing device 51 so that the abrasive 42 remaining on the raw material 20 can be removed before the raw material 20 is fed into the embossing device 51. Adjust. Thereafter, the original fabric 20 is supplied from the original fabric supply apparatus.

原反供給装置から供給される原反20は、まず、ブラスト装置41および第1バックアップ体46の間に送り込まれ、第1バックアップロール47上に支持されるようになる。このとき、図3に示すように、原反20の合成樹脂層22がブラスト装置41の吐出口41aに対面し、原反20の基材24が第1バックアップロール47に対面するようになる。ブラスト装置41は、研磨剤42、例えば0.1μm以上150μm以下の珪砂または金属小片(より好ましくは平均粒径が30μm以上80μm以下の珪砂または金属小片)を圧縮ガスとともに、その吐出口41aから吐出する。吐出された研磨剤42は、原反20の一方の側の表面20aに吹きつけられる。これにより、原反20の一方の表面20aがブラスト加工される。   The original fabric 20 supplied from the original supply device is first fed between the blast device 41 and the first backup body 46 and supported on the first backup roll 47. At this time, as shown in FIG. 3, the synthetic resin layer 22 of the original fabric 20 faces the discharge port 41 a of the blast apparatus 41, and the base material 24 of the original fabric 20 faces the first backup roll 47. The blast device 41 discharges an abrasive 42, for example, silica sand or metal pieces (more preferably, silica sand or metal pieces having an average particle size of 30 μm or more and 80 μm or less) of 0.1 μm or more and 150 μm or less together with a compressed gas from its discharge port 41a. To do. The discharged abrasive 42 is sprayed on the surface 20 a on one side of the raw fabric 20. Thereby, one surface 20a of the raw fabric 20 is blasted.

なお、上述したように、原反20の表面20aでのJISS6007に基づく光沢度が4以上8以下となるよう、ブラスト加工によって原反20が粗化されることが好ましい。また、ブラスト加工によって微小な凹凸16を形成される原反20の表面20aの平均長さSmおよび十点平均粗さRzを管理することによって、原反20がおおよそこのような範囲の光沢度を有するようにすることができる。具体的には、原反20の表面20aでのJISB0601に基づく平均長さSmが30μm以上80μm以下となり、原反20の表面20aでのJISB0601に基づく十点平均粗さRzが5μm以上20μm以下となるように、原反20をブラスト加工することが、上述した範囲内の光沢度を得るうえで有効である。   In addition, as mentioned above, it is preferable that the raw fabric 20 is roughened by blasting so that the glossiness based on JIS S6007 on the surface 20a of the raw fabric 20 is 4 or more and 8 or less. Further, by managing the average length Sm and the ten-point average roughness Rz of the surface 20a of the original fabric 20 on which the minute irregularities 16 are formed by blasting, the original fabric 20 has a glossiness in such a range. Can have. Specifically, the average length Sm based on JISB0601 on the surface 20a of the original fabric 20 is 30 μm or more and 80 μm or less, and the ten-point average roughness Rz based on JISB0601 on the surface 20a of the original fabric 20 is 5 μm or more and 20 μm or less. As described above, blasting the raw fabric 20 is effective in obtaining the glossiness within the above-described range.

また、本実施の形態においては、図1に示すように、原反20の一方の側の全表面20aがブラスト加工により粗化され、当該原反20の全表面20aに微小凹凸形状16が形成される(マット化される)。   Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, the entire surface 20a on one side of the original fabric 20 is roughened by blasting, and the micro uneven shape 16 is formed on the entire surface 20a of the original fabric 20. (Matized).

微小凹凸形状16が形成された原反20は、その後、除去装置58へと搬送される。図1に示すように、原反20の一方の表面20aは、除去装置58のクリーニングロール59に接触するようになる。クリーニングロール59は、原反20の一方の表面20a上に残留している研磨剤42を回収する。研磨剤42を回収された原反20は、その後、エンボス装置51へと搬送される。   The original fabric 20 on which the minute uneven shape 16 is formed is then conveyed to the removing device 58. As shown in FIG. 1, one surface 20 a of the original fabric 20 comes into contact with the cleaning roll 59 of the removing device 58. The cleaning roll 59 collects the abrasive 42 remaining on the one surface 20 a of the original fabric 20. The original fabric 20 from which the abrasive 42 has been collected is then conveyed to the embossing device 51.

図4に示すように、原反20は、エンボス装置51のエンボスロール52と第2バックアップロール57との間に送り込まれ、エンボスロール52と第2バックアップロール57との間で挟圧される。なお、図4に示すように、原反20の合成樹脂層22がエンボス装置51のエンボスロール52に対面し、原反20の基材24が第2バックアップロール57に対面するようになる。これにより、エンボスロール52の凹凸部54の形状に対応した凹凸模様(皮模様)12が原反20の合成樹脂層22の表面に形成される。   As shown in FIG. 4, the original fabric 20 is fed between the embossing roll 52 and the second backup roll 57 of the embossing device 51, and is sandwiched between the embossing roll 52 and the second backup roll 57. As shown in FIG. 4, the synthetic resin layer 22 of the original fabric 20 faces the embossing roll 52 of the embossing device 51, and the base material 24 of the original fabric 20 faces the second backup roll 57. As a result, an uneven pattern (skin pattern) 12 corresponding to the shape of the uneven portion 54 of the embossing roll 52 is formed on the surface of the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20.

ところで、凹凸模様12を形成する際、凹凸模様12の凹部12bが形成される領域に、大きな加工圧力が付加される。すなわち、エンボスロール52の凹凸部54の凸部54aは大きな圧力で原反20を押圧する。そして、一般的に、エンボス型(エンボス版)52の凹凸部54は平滑に形成されており、凹凸部54(例えば凸部54a)でのJISS6007に準拠した光沢度は、通常、少なくとも8より大きく、多くの場合は15以上となっている。したがって、図4に示すように、凹凸模様12の凹部12bが形成されるようになる原反20の表面上にそれまで形成されていた微小な凹凸形状16は、押圧されてなだらかになる。すなわち、凹凸模様12の凹部12bが形成されるようになる原反20の表面での光沢度は上昇する。本実施の形態においては、さらに、原反20上の凹凸模様12の凹部12bの底面が平坦化されるようになる。   By the way, when forming the concavo-convex pattern 12, a large processing pressure is applied to the region where the concave portion 12b of the concavo-convex pattern 12 is formed. That is, the convex part 54a of the uneven part 54 of the embossing roll 52 presses the raw fabric 20 with a large pressure. In general, the concavo-convex portion 54 of the embossed mold (embossed plate) 52 is formed smoothly, and the glossiness of the concavo-convex portion 54 (for example, the convex portion 54a) in accordance with JIS S6007 is usually greater than at least 8. In many cases, it is 15 or more. Therefore, as shown in FIG. 4, the minute uneven shape 16 that has been formed on the surface of the original fabric 20 where the recess 12b of the uneven pattern 12 is to be formed becomes gentle when pressed. That is, the glossiness on the surface of the raw fabric 20 where the concave portion 12b of the concave / convex pattern 12 is formed increases. In the present embodiment, the bottom surface of the concave portion 12b of the concave-convex pattern 12 on the raw fabric 20 is further flattened.

とりわけ、上述したように、ブラスト加工によって微細凹凸形状16が形成された原反20の表面20aの平均長さSmが30μm以上であるとともに表面20aの十点平均粗さRzが20μm以下であり、ブラスト加工によって粗化された原反20の表面20aの光沢度が4以上となっている場合、原反20上の凹凸模様12の凹部12b内を十分になだらかにすることができ、これにより、この原反20(離型紙10)を用いて製造されるシート状部材30の凸部32aの上面が十分な光沢を有するようにすることができる。   In particular, as described above, the average length Sm of the surface 20a of the raw fabric 20 on which the fine uneven shape 16 is formed by blasting is 30 μm or more and the ten-point average roughness Rz of the surface 20a is 20 μm or less. When the glossiness of the surface 20a of the raw fabric 20 roughened by blasting is 4 or more, the concave portion 12b of the concave-convex pattern 12 on the raw fabric 20 can be sufficiently smoothed, The upper surface of the convex part 32a of the sheet-like member 30 manufactured using this original fabric 20 (release paper 10) can be made sufficiently glossy.

一方、凹凸模様12を形成する際、凹凸模様12の凸部12aが形成される領域には、比較的小さな加工圧力しか付加されない。したがって、凹凸模様12の凸部12a上に位置するようになる微小な凹凸16を、そのままの状態で(図4参照)、あるいは若干なだらかにした状態で残留させることができる。とりわけ、エンボスロール52の凹凸部54の凹部54bの深さ(ギャップ)を、深くしておく、具体的には、図4に示すように、形成されるべき凹凸模様12の凸部12aの高さの値よりも深くしておくことにより、凹凸模様12の凸部12a上に位置するようになる微小な凹凸16を潰してしまうことなくそのままの状態で残留させることができる。   On the other hand, when the concavo-convex pattern 12 is formed, only a relatively small processing pressure is applied to a region where the convex portion 12a of the concavo-convex pattern 12 is formed. Therefore, the minute unevenness 16 that comes to be located on the convex portion 12a of the uneven pattern 12 can be left as it is (see FIG. 4) or in a slightly gentle state. In particular, the depth (gap) of the concave portion 54b of the concave-convex portion 54 of the embossing roll 52 is set deep, specifically, as shown in FIG. 4, the height of the convex portion 12a of the concave-convex pattern 12 to be formed. By setting the depth deeper than the value, the minute unevenness 16 positioned on the convex portion 12a of the uneven pattern 12 can be left as it is without being crushed.

とりわけ、上述したように、ブラスト加工によって微細凹凸形状16が形成された原反20の表面20aの平均長さSmが80μm以下であるとともに表面20aの十点平均粗さRzが5μm以上であり、ブラスト加工によって粗化された原反20の表面20aの光沢度が8以下となっている場合、原反20上の凹凸模様12の凸部12a上に有効な微小凹凸形状16を残すことができ、これにより、この原反20(離型紙10)を用いて製造されるシート状部材30の凹部32bへ入射する光を十分に散乱させることができる。   In particular, as described above, the average length Sm of the surface 20a of the raw fabric 20 on which the fine uneven shape 16 is formed by blasting is 80 μm or less and the ten-point average roughness Rz of the surface 20a is 5 μm or more, When the glossiness of the surface 20a of the original fabric 20 roughened by blasting is 8 or less, an effective minute irregular shape 16 can be left on the convex portion 12a of the irregular pattern 12 on the original fabric 20. Thus, it is possible to sufficiently scatter the light incident on the concave portion 32b of the sheet-like member 30 manufactured using the original fabric 20 (release paper 10).

このようにして、凹部12bと凸部12aとを有する粗大な凹凸模様12が表面に形成された原反20を備えた離型紙10であって、凸部12a上に微小な凹凸形状16が形成され、凹部12b内が平滑化された離型紙10を製造することができる。製造された離型紙10は、図示しない回収装置に巻き取られていく。   In this way, the release paper 10 having the raw fabric 20 on the surface of which the rough concavo-convex pattern 12 having the concave portion 12b and the convex portion 12a is formed, and the minute concavo-convex shape 16 is formed on the convex portion 12a. Thus, the release paper 10 in which the inside of the recess 12b is smoothed can be manufactured. The manufactured release paper 10 is taken up by a collecting device (not shown).

以上のように本実施の形態によれば、まず、ブラスト装置41によって研磨剤42を原反20に吹きつけることによって、原反20の一方の表面20aをブラスト加工し、当該表面20aに微小な凹凸16を形成する。これによって、原反20の凹凸模様12を形成されるべき表面20aの光沢度が、たとえ当初は大きな値を有していたとしても、所定の値以下まで、例えばエンボス型(エンボス版)52の凹凸部(凹凸面、転写面)54の光沢度より小さい値まで、低下するようにすることができる。そしてその後に、エンボス装置51のエンボスロール52により、原反20の一方の表面20a上に微小な凹凸16よりも粗大な凹凸模様12を形成する。そして、凹凸模様12を形成する際、凹凸模様12の凹部12bが形成される領域に大きな加工圧力が付加され、その一方で、凹凸模様12の凸部12aが形成される領域には比較的小さな加工圧力しか付加されない。したがって、凹凸模様12の凸部12a上に位置するようになる微小な凹凸16をそのまま又は若干なだらかにして残留させることができる。同時に、凹凸模様12の凹部12b上に位置するようになる微小な凹凸16をなだらかにすることもできる。この結果、この離型紙10を型紙として用いてシート状部材30を作製した場合、シート状部材30に転写された模様32の凸部32aの表面はなだらかとなり優れた光沢を有するようになる。その一方で、シート状部材30に転写された模様32の凹部32bの底面には微小な凹凸36が形成される。これにより、シート状部材30に転写された模様32は、模様32の凸部32aと凹部32bとの間で高いコントラストを有し、また、凸部32a上に優れた光沢を有するようになる。すなわち、本実施の形態によれば、優れた光沢とコントラストとを有する模様32をシート状部材30に転写することができる。また、本実施の形態によれば、離型紙10の凹凸模様12の凹部12bと凸部12aとのギャップではなく、凹凸模様12の凸部12a上に残存する微小な凹凸16によって、シート状部材30に転写される模様32のコントラストを高めるようになっている。したがって、離型紙10の製造中に、原反20に高い加工圧力を付加する必要がない。これにより、離型紙10を高い生産効率で製造することができるとともに、原反20、とりわけ基材24へのダメージを低減することができる。また、製造装置40の製造コストおよび維持コストを低減することができる。さらに、本実施の形態によれば、原反20が当初有している光沢度の程度によらず、優れた光沢とコントラストとを有する模様32をシート状部材30に転写することができる離型紙を、安定して製造することができる。   As described above, according to the present embodiment, first, the polishing agent 42 is sprayed onto the original fabric 20 by the blasting device 41, so that one surface 20a of the original fabric 20 is blasted, and the surface 20a has a minute amount. Concavities and convexities 16 are formed. Thereby, even if the glossiness of the surface 20a on which the concavo-convex pattern 12 of the raw fabric 20 is to be formed initially has a large value, the glossiness of the embossed type (embossed plate) 52 is reduced to a predetermined value or less. It can be reduced to a value smaller than the glossiness of the uneven portion (uneven surface, transfer surface) 54. After that, the embossing roll 52 of the embossing device 51 forms an uneven pattern 12 that is coarser than the fine unevenness 16 on one surface 20a of the raw fabric 20. When the concave / convex pattern 12 is formed, a large processing pressure is applied to the region where the concave portion 12b of the concave / convex pattern 12 is formed, while the region where the convex portion 12a of the concave / convex pattern 12 is formed is relatively small. Only processing pressure is applied. Therefore, the minute unevenness 16 that comes to be positioned on the convex portion 12a of the uneven pattern 12 can be left as it is or slightly gently. At the same time, the minute unevenness 16 that comes to be positioned on the recess 12b of the uneven pattern 12 can be made gentle. As a result, when the sheet-like member 30 is produced using the release paper 10 as a pattern paper, the surface of the convex portion 32a of the pattern 32 transferred to the sheet-like member 30 becomes smooth and has excellent gloss. On the other hand, minute irregularities 36 are formed on the bottom surface of the concave portion 32 b of the pattern 32 transferred to the sheet-like member 30. Thereby, the pattern 32 transferred to the sheet-like member 30 has a high contrast between the convex part 32a and the concave part 32b of the pattern 32, and has an excellent gloss on the convex part 32a. That is, according to the present embodiment, the pattern 32 having excellent gloss and contrast can be transferred to the sheet-like member 30. Further, according to the present embodiment, a sheet-like member is formed not by the gap between the concave portion 12b and the convex portion 12a of the concave / convex pattern 12 of the release paper 10 but by the minute concave / convex portions 16 remaining on the convex portion 12a of the concave / convex pattern 12. The contrast of the pattern 32 transferred to 30 is increased. Therefore, it is not necessary to apply a high processing pressure to the raw fabric 20 during the production of the release paper 10. Thereby, while being able to manufacture the release paper 10 with high production efficiency, the damage to the raw fabric 20, especially the base material 24, can be reduced. Moreover, the manufacturing cost and maintenance cost of the manufacturing apparatus 40 can be reduced. Furthermore, according to the present embodiment, the release paper that can transfer the pattern 32 having excellent gloss and contrast to the sheet-like member 30 irrespective of the degree of gloss that the original fabric 20 originally has. Can be manufactured stably.

また、本実施の形態によれば、ブラスト装置41を用いたブラスト加工により、原反20の表面20aを粗化している。したがって、容易かつ迅速に原反20の表面20aに微小な凹凸16を形成することができる。   Further, according to the present embodiment, the surface 20 a of the raw fabric 20 is roughened by blasting using the blasting device 41. Therefore, the minute irregularities 16 can be formed on the surface 20a of the original fabric 20 easily and quickly.

さらに、本実施の形態によれば、凹凸模様12の凹部12bの底面を平坦化するようになっている。このような離型紙によれば、極めて優れた光沢を有する模様をシート状部材30に転写することができるようになる。   Furthermore, according to the present embodiment, the bottom surface of the recess 12b of the concavo-convex pattern 12 is flattened. According to such a release paper, a pattern having extremely excellent gloss can be transferred to the sheet-like member 30.

さらに、凹凸模様12を形成する工程において、原反20の凹凸模様12が形成されるようになる全領域に、微小な凹凸16が形成されるようになっている。このような本実施の形態によれば、原反20上における微小な凹凸16の配置位置と、原反20上における凹凸模様12と、を厳密に位置合わせする必要がない。また、原反20上に形成された不用な微小な凹凸16は、凹凸模様12の形成中になだらかにされるようになっている。したがって、所望の位置にのみに微小な凹凸16が存在する離型紙10を高い生産効率で製造することができる。   Further, in the step of forming the concavo-convex pattern 12, the minute concavo-convex 16 is formed in the entire region where the concavo-convex pattern 12 of the original fabric 20 is formed. According to this embodiment, it is not necessary to strictly align the arrangement position of the minute unevenness 16 on the original fabric 20 and the uneven pattern 12 on the original fabric 20. Further, the unnecessary minute irregularities 16 formed on the raw fabric 20 are made gentle during the formation of the irregular pattern 12. Therefore, the release paper 10 in which the minute irregularities 16 exist only at the desired position can be manufactured with high production efficiency.

なお、上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。   Various modifications can be made to the above-described embodiment within the scope of the present invention.

例えば、上述した実施の形態において、合成皮革用の離型紙10を製造する例を示したが、これに限られず、その他の用途に用いられる離型紙(一例として、壁紙用の離型紙)を製造するようにしてもよい。   For example, in the above-described embodiment, an example in which the release paper 10 for synthetic leather is manufactured has been shown. However, the present invention is not limited to this, and a release paper (for example, a release paper for wallpaper) used for other purposes is manufactured. You may make it do.

また、上述した実施の形態において、原反20の合成樹脂層22側の全表面20aをブラスト加工にて粗化する例を示したが、これに限られず、例えば、原反20上の凹凸模様12が形成される領域のみを、あるいは、原反20上の凹凸模様12の凸部12aが形成される領域のみを、ブラスト加工にて粗化するようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the example in which the entire surface 20a on the synthetic resin layer 22 side of the raw fabric 20 is roughened by blasting is shown. However, the present invention is not limited to this. Only the region where 12 is formed or only the region where the convex portion 12a of the concavo-convex pattern 12 on the raw fabric 20 is formed may be roughened by blasting.

さらに、上述した実施の形態において、第1バックアップ体46が第1バックアップロール47として構成された例を示したが、これに限られず、ブラスト装置41から圧縮ガスとともに研磨剤42を吹きつけられる原反20を安定して支持することができる公知の装置類、例えば受け台を第1バックアップ体46として採用することができる。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which the first backup body 46 is configured as the first backup roll 47 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the raw material to which the abrasive 42 is blown together with the compressed gas from the blast device 41 is shown. A known device that can stably support the substrate 20, such as a cradle, can be used as the first backup body 46.

さらに、上述した実施の形態において、エンボス装置51がエンボスロール52を有する例を示したが、これに限られず、種々の既知なエンボス装置を採用することができる。例えば、ベルト式や平板式のエンボス型を被加工体に押圧するプレス装置を、エンボス装置として採用することができる。   Furthermore, although the example which the embossing apparatus 51 has the embossing roll 52 was shown in embodiment mentioned above, it is not restricted to this, Various known embossing apparatuses can be employ | adopted. For example, a press device that presses a belt type or flat plate type embossing die against the workpiece can be employed as the embossing device.

さらに、上述した実施の形態において、第2バックアップ体56の第2バックアップロール57の外周面が凹凸の無い平坦な曲面状に形成される例を示したが、これに限られず、エンボスロール52の凹凸部54に対応した凹凸を有するようにしてもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which the outer peripheral surface of the second backup roll 57 of the second backup body 56 is formed in a flat curved surface without unevenness is shown, but the present invention is not limited to this. You may make it have the unevenness | corrugation corresponding to the uneven | corrugated | grooved part 54. FIG.

さらに、上述した実施の形態において、第2バックアップ体56が第2バックアップロール57として構成された例を示したが、これに限られず、エンボス型52との間で原反20を安定して支持することができる公知の装置類、例えば受け台を第2バックアップ体56として採用することができる。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which the second backup body 56 is configured as the second backup roll 57 has been described. However, the embodiment is not limited thereto, and the raw fabric 20 is stably supported with the embossing mold 52. A known device that can be used, such as a cradle, can be employed as the second backup body 56.

さらに、上述した実施の形態において、除去装置58がクリーニングロール59を有する例を示したが、これに限られず、種々の既知な除去手段を原反20上から研磨剤42を除去する除去装置として用いることができる。例えば、クリーニングロール59に代えて又はクリーニングロール59に加えてエアブロー装置を設けるようにしてもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which the removing device 58 has the cleaning roll 59 has been shown. Can be used. For example, an air blowing device may be provided instead of or in addition to the cleaning roll 59.

図1は、本発明による離型紙の製造装置および製造方法の一実施の形態を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a release paper manufacturing apparatus and a manufacturing method according to the present invention. 図2は、離型紙の製造に用いられる原反の一例を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of an original fabric used for producing release paper. 図3は、図1に示された離型紙の製造装置および製造方法を説明するための図である。FIG. 3 is a view for explaining the release paper manufacturing apparatus and manufacturing method shown in FIG. 図4は、図1に示された離型紙の製造装置および製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a view for explaining a release paper manufacturing apparatus and a manufacturing method shown in FIG. 図5は、図1に示された離型紙の製造装置および製造方法により製造される離型紙の一例を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a release paper manufactured by the release paper manufacturing apparatus and manufacturing method shown in FIG. 図6は、図5に示された離型紙を型紙として用いて作製されたシート状部材の作用を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of a sheet-like member produced using the release paper shown in FIG. 5 as a pattern paper.

符号の説明Explanation of symbols

10 離型紙
12 凹凸模様
12a 凹凸模様の凸部
12b 凹凸模様の凹部
16 微小な凹凸(微小凹凸形状)
20 原反
22 基材
24 合成樹脂層
40 製造装置
41 ブラスト装置
42 研磨剤
46 バックアップ体
47 バックアップロール
51 エンボス装置
52 エンボス型(エンボスロール、エンボス版)
54 凹凸部
54a 凹凸部の凸部
54b 凹凸部の凹部
56 バックアップ体
57 バックアップロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Release paper 12 Uneven pattern 12a Uneven pattern convex part 12b Uneven pattern concave part 16 Minute unevenness (micro uneven shape)
20 Raw fabric 22 Base material 24 Synthetic resin layer 40 Manufacturing device 41 Blasting device 42 Abrasive agent 46 Backup body 47 Backup roll 51 Embossing device 52 Embossing type (embossing roll, embossing plate)
54 Concavity and convexity 54a Concavity and convexity convex portion 54b Concavity and convexity concave portion 56 Backup body 57 Backup roll

Claims (18)

原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する方法であって、
ブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸を前記原反の表面に形成する工程と、
エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える
ことを特徴とする離型紙の製造方法。
A method of producing a release paper by forming an uneven pattern on a raw fabric,
Forming a concavo-convex microscopically on the surface of the original fabric by blasting,
And a step of forming the concavo-convex pattern on the surface of the original fabric on which fine irregularities are formed by embossing.
前記ブラスト加工において、平均粒径が0.1μm以上150μm以下の珪砂または金属片が前記原反に吹きつけられる
ことを特徴とする請求項1に記載の離型紙の製造方法。
2. The method for producing a release paper according to claim 1, wherein in the blasting process, silica sand or a metal piece having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 150 μm or less is sprayed on the original fabric.
前記微小な凹凸を形成する工程の後であって前記凹凸模様を形成する工程の前に、前記ブラスト加工によって吹き飛ばされた研磨剤を前記原反の前記表面上から除去する工程をさらに備える
ことを特徴とする請求項1または2に記載の離型紙の製造方法。
After the step of forming the fine unevenness and before the step of forming the uneven pattern, the method further comprises the step of removing the abrasive blown off by the blasting from the surface of the original fabric. The method for producing a release paper according to claim 1 or 2, characterized in that:
前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面での光沢度の値が、エンボス加工において用いられるエンボス型の表面での光沢度の値よりも小さくなるように、ブラスト加工を行う
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。
In the step of forming the minute unevenness, blasting is performed so that the gloss value on the surface of the original fabric is smaller than the gloss value on the surface of the embossing mold used in the embossing process. The method for producing a release paper according to any one of claims 1 to 3, wherein:
前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面での光沢度が4以上8以下となるように、ブラスト加工を行う
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。
5. The blasting process is performed according to claim 1, wherein in the step of forming the minute unevenness, blasting is performed so that the glossiness of the surface of the original fabric is 4 or more and 8 or less. The manufacturing method of the release paper of description.
前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面の平均長さSmが30μm以上80μm以下となり、前記原反の前記表面の十点平均粗さRzが5μm以上20μm以下となるように、ブラスト加工を行う
ことを特徴とする請求項5に記載の離型紙の製造方法。
In the step of forming the minute unevenness, the average length Sm of the surface of the original fabric is 30 μm or more and 80 μm or less, and the ten-point average roughness Rz of the surface of the original fabric is 5 μm or more and 20 μm or less. 6. A method for producing a release paper according to claim 5, wherein blasting is performed.
前記微小な凹凸を形成する工程において、前記原反の前記表面のうちの前記凹凸模様が形成されるようになる領域に微小な凹凸を形成する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。
7. The step of forming the minute unevenness includes forming minute unevenness in a region of the surface of the original fabric where the uneven pattern is to be formed. A method for producing a release paper according to one item.
前記原反は、基材と、前記基材に積層された合成樹脂層と、を有し、
前記合成樹脂層が、前記微小な凹凸を形成される表面をなす
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。
The original fabric has a base material and a synthetic resin layer laminated on the base material,
The method for producing a release paper according to any one of claims 1 to 7, wherein the synthetic resin layer forms a surface on which the minute unevenness is formed.
前記凹凸模様を形成する工程において、前記凹凸模様の凸部に位置するようになる前記原反の表面に形成された微小な凹凸を残しながら、前記凹凸模様の凹部に位置するようになる前記原反の表面に形成された微小な凹凸をならす
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の離型紙の製造方法。
In the step of forming the concavo-convex pattern, the original that comes to be positioned in the concave portion of the concavo-convex pattern while leaving the minute concavo-convex formed on the surface of the original fabric that is positioned in the convex portion of the concavo-convex pattern The method for producing a release paper according to any one of claims 1 to 8, wherein minute irregularities formed on the opposite surface are smoothed.
原反に凹凸模様を形成して離型紙を製造する製造装置であって、
前記原反の表面に研磨剤を吹きつけて当該表面に前記凹凸模様よりも微小な凹凸を形成するブラスト装置と、
前記ブラスト装置の下流側に配置され、前記原反に前記凹凸模様を形成するエンボス装置と、を備える
ことを特徴とする離型紙の製造装置。
A manufacturing apparatus for producing a release paper by forming an uneven pattern on a raw fabric,
A blasting device for spraying an abrasive on the surface of the original fabric to form fine irregularities on the surface than the irregular pattern;
An apparatus for producing release paper, comprising: an embossing device that is disposed on the downstream side of the blasting device and forms the uneven pattern on the original fabric.
前記ブラスト装置は、平均粒径が0.1μm以上150μm以下の珪砂または金属片を研磨剤として前記原反の前記表面に吹きつける
ことを特徴とする請求項10に記載の離型紙の製造装置。
11. The release paper manufacturing apparatus according to claim 10, wherein the blasting apparatus sprays silica sand or metal pieces having an average particle diameter of 0.1 μm or more and 150 μm or less onto the surface of the raw fabric as an abrasive.
前記ブラスト装置の下流側であって前記エンボス装置の上流側に、前記ブラスト装置から吹き飛ばされた研磨剤を前記原反の前記表面上から除去する除去装置をさらに備える
ことを特徴とする請求項10または11に記載の離型紙の製造装置。
11. The apparatus further comprises a removing device that removes the abrasive blown from the blasting device from the surface of the raw fabric downstream of the blasting device and upstream of the embossing device. Alternatively, the release paper manufacturing apparatus according to 11.
前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部であって前記原反に当接するようになる凹凸部を含むエンボス型を有し、
前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面での光沢度の値が、前記エンボス型の前記凹凸部での光沢度の値よりも小さくなるように、前記原反の前記表面に微小な凹凸を形成する
ことを特徴とする請求項10乃至12のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。
The embossing device has an embossing mold including an uneven portion corresponding to the uneven pattern and including an uneven portion that comes into contact with the original fabric,
The blasting device has minute unevenness on the surface of the original fabric so that the glossiness value on the surface of the original fabric is smaller than the glossiness value on the unevenness portion of the embossed type. 13. The release paper manufacturing apparatus according to claim 10, wherein the release paper manufacturing apparatus is formed.
前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面での光沢度が4以上8以下となるように、前記原反の前記表面に微小な凹凸を形成する
ことを特徴とする請求項10乃至13のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。
The blasting apparatus forms minute irregularities on the surface of the original fabric so that the glossiness on the surface of the original fabric is 4 or more and 8 or less. The release paper manufacturing apparatus according to claim 1.
前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面での平均長さSmが30μm以上80μm以下となり、前記原反の前記表面での十点平均粗さRzが5μm以上20μm以下となるように、前記原反の前記表面に微小な凹凸を形成する
ことを特徴とする請求項14に記載の離型紙の製造装置。
In the blasting apparatus, the original length Sm of the original fabric is 30 μm or more and 80 μm or less, and the ten-point average roughness Rz of the original fabric on the surface is 5 μm or more and 20 μm or less. 15. The release paper manufacturing apparatus according to claim 14, wherein minute irregularities are formed on the opposite surface.
前記ブラスト装置は、前記原反の前記表面のうちの前記エンボス装置によって前記凹凸模様が形成されるようになる領域に微小な凹凸を形成する
ことを特徴とする請求項10乃至15のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。
The blasting device forms minute unevenness in a region where the unevenness pattern is formed by the embossing device on the surface of the original fabric. The release paper manufacturing apparatus according to the item.
前記原反は、表面をなす合成樹脂層と、前記合成樹脂層に積層された基材と、を有し、
前記ブラスト装置は前記合成樹脂層に微小な凹凸を形成するように配置され、
前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部であって前記合成樹脂層に当接するようになる凹凸部を含むエンボス型を有する
ことを特徴とする請求項10乃至16のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。
The original fabric has a synthetic resin layer forming a surface, and a base material laminated on the synthetic resin layer,
The blasting device is arranged to form minute irregularities in the synthetic resin layer,
17. The embossing device according to claim 10, wherein the embossing device includes an embossing die that includes an uneven portion corresponding to the uneven pattern and comes into contact with the synthetic resin layer. The release paper manufacturing apparatus as described.
前記エンボス装置は、前記凹凸模様に対応した凹凸部を有するエンボス型と、前記エンボス型に対向して配置され、前記エンボス型との間で前記原反を圧するようになるバックアップ体と、を有し、
前記エンボス型の前記凹凸部の凸部は、前記バックアップ体との間で原反を圧して前記原反の前記表面をなだらかにする
ことを特徴とする請求項10乃至17のいずれか一項に記載の離型紙の製造装置。
The embossing device includes an embossing mold having a concavo-convex portion corresponding to the concavo-convex pattern, and a backup body that is disposed to face the embossing mold and presses the original fabric between the embossing mold. And
The convex portion of the concavo-convex portion of the embossed type presses the original fabric with the backup body to smooth the surface of the original fabric. The release paper manufacturing apparatus as described.
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