JP2009014343A - 走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法および走査型プローブ顕微鏡による表面検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】試料表面の帯電の影響をなるべく低減させ、安定な測定が行なえる走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法を提供する。
【解決手段】走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法は、走査型プローブ顕微鏡の測定対象である試料の表面と試料台を導電性試料固定具により固定するステップS2と、試料の表面の一部と導電性試料固定具との間を試料表面に導電性物質を形成して接続するステップS7,S8と、試料の表面の特性を測定するステップS9とを備える。好ましくは、導電性物質は、集束イオンビーム装置により集束イオンビームまたは電子ビームを用いて試料表面に形成された導電層であり、導電層は、試料表面において測定領域近傍から導電性試料固定具に至る領域に蒸着される。
【選択図】図3
【解決手段】走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法は、走査型プローブ顕微鏡の測定対象である試料の表面と試料台を導電性試料固定具により固定するステップS2と、試料の表面の一部と導電性試料固定具との間を試料表面に導電性物質を形成して接続するステップS7,S8と、試料の表面の特性を測定するステップS9とを備える。好ましくは、導電性物質は、集束イオンビーム装置により集束イオンビームまたは電子ビームを用いて試料表面に形成された導電層であり、導電層は、試料表面において測定領域近傍から導電性試料固定具に至る領域に蒸着される。
【選択図】図3
Description
この発明は、走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法および走査型プローブ顕微鏡による表面検査装置に関する。
走査型プローブ顕微鏡(SPM:Scanning Probe Microscope)は試料と探針との間に生じる微小な力を検出する装置である。この微小な力によりカンチレバー(探針)が撓むので、この撓みを光てこ方式または自己検知方式により検出し、この撓みがなくなるようにフィードバックをかけながら試料表面の測定領域をスキャンする。このときのフィードバック制御信号が試料の表面状態を表わすものとして観察される。
検出する微小な力がファンデルワールス力の場合は原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)、クーロン力の場合は電気力顕微鏡(EFM:Electronic Force Microscope)、磁気力の場合は磁気力顕微鏡(MFM:Magnetic Force Microscope)、摩擦力の場合は摩擦力顕微鏡(FFM:Friction Force Microscope)と呼ばれる。
走査型プローブ顕微鏡では、抵抗率の高い基板表面を測定する場合には、試料が帯電し、その影響で試料と探針との間に静電気による斥力或いは引力が発生し、測定の妨げになる場合がある。このような走査型プローブ顕微鏡において、特開2005−55388号公報(特許文献1)は、静電気の影響を受けることなく、走査型プローブ顕微鏡による測定が可能な帯電防止型試料台を開示している。
特開2005−55388号公報
ところで、表面観察には走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)が用いられるが、SEMでは形状を見ることはできるものの、定量的な3次元の数値を求めることはできない。幅だけでなく、高さ、深さなど面に対して垂直方向の定量的な3次元の数値の測定に関しては、SEMではなくAFMを用いる必要がある。
しかし、ファンデルワールス力等の微小の力を検出するとき、その検出する微小な力に比して他の大きな力が試料と探針との間に生じた場合には、得られる試料の表面状態像に大きな影響及ぼす。このような、その他の力として、帯電による静電気力が挙げられる。絶縁体の表面は、電荷を帯びていることが多く、これらの電荷はプローブやカンチレバー表面の電荷と相互作用を起こしてしまう。このため、たとえば、AFM測定でファンデルワールス力を検出しているときのような微小な力を検出している場合に、帯電現象が起こると、検出する微小な力に静電気力が付加されてしまい、正確な試料の表面形状を測定できなくなる。
このような微小な力を検出するときには、測定領域のなるべく近傍まで帯電を除去することが望ましい。しかし、特開2005−55388号公報では、試料の観察領域の周辺部を5mmの開口が設けられた試料台上部で押さえて帯電を除去することが記載されているが、観察領域はその開口の中央部であり、これでは観察領域に対して導電対策領域が遠すぎて効果が少なく改善の余地がある。
この発明の目的は、帯電を起こす走査型プローブ顕微鏡試料において、試料表面の帯電の影響をなるべく低減させ、安定な測定が行なうことができる走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法および走査型プローブ顕微鏡による表面検査装置を提供することである。
この発明は、要約すると、走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法であって、走査型プローブ顕微鏡の測定対象である試料の表面と試料台を導電性試料固定具により固定するステップと、試料の表面の一部と導電性試料固定具との間を試料表面に導電性物質を形成して接続するステップと、試料の表面の特性を測定するステップとを備える。
好ましくは、導電性物質は、集束イオンビーム装置により集束イオンビームまたは電子ビームを用いて試料表面に形成された導電層であり、導電層は、試料表面において測定領域近傍から導電性試料固定具に至る領域に蒸着される。
より好ましくは、導電層は、測定領域の外側であって測定領域の外縁から0μm以上1μm以内の近傍から導電性試料固定具に向けて設けられる。
より好ましくは、導電層は、高さが1μm以内である。
より好ましくは、導電層は、測定領域の外縁から外側に向けて100μm離れた境界線以内の部分については、集束された電子ビームのみを用いて形成される。
より好ましくは、導電層は、測定領域の外縁から外側に向けて100μm離れた境界線以内の部分については、集束された電子ビームのみを用いて形成される。
より好ましくは、走査型プローブ顕微鏡は、集束イオンビーム装置内部に走査型プローブ顕微鏡機能が内包されたものであり、走査電子顕微鏡機能により、導電層の形成位置及び走査プローブ顕微鏡測定領域の位置を決定できる。
より好ましくは、導電性物質で接続するステップは、測定領域の外縁から外側に向けて所定距離だけ離れた境界線以内の部分について、集束された電子ビームを用いて導電層を形成するステップと、境界線より外側の部分について、集束されたイオンビームを用いて導電層を形成するステップとを含む。
この発明は、他の局面においては、走査型プローブ顕微鏡による表面検査装置であって、検査対象である試料を固定するための試料台と、試料の表面を試料台に固定する導電性の固定手段と試料の表面の一部との間に導電性物質を形成する手段と、走査型プローブを用いて試料の表面の特性を測定する手段とを備える。
好ましくは、導電性物質を形成する手段は、集束された電子ビームを用いて導電層を形成することおよび集束されたイオンビームを用いて導電層を形成することが可能である。
本発明によれば、走査型プローブ顕微鏡の測定領域近傍から導電性試料固定具までを形成した極薄の導電層で繋ぐことで、試料表面の帯電が防げ、探針がはじかれることなく、安定な測定が行なえる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰返さない。
図1は、本実施の形態に係る集束荷電ビームによる試料加工機能を備えた走査型プローブ顕微鏡の概略図である。
図1を参照して、走査型プローブ顕微鏡100は、SPMヘッドモータ3と、SPM用X−Y−Z軸ピエゾスキャナー4と、カンチレバー5と、SPM探針6と、測定室9と、試料ステージ10と、回転ステージ11と、試料交換口15とを含む。
X,Y,Z軸方向に移動可能な試料ステージ10と、その上に設けられた回転ステージ11とが、走査型プローブ顕微鏡100における、検査対象である試料を固定するための試料台に相当する部分である。なお、試料12は、導電性試料固定具8によって、試料台に固定される。
また、SPMヘッドモータ3と、SPM用X−Y−Z軸ピエゾスキャナー4と、カンチレバー5と、SPM探針6とが、走査型プローブ顕微鏡100における、走査型プローブを用いて試料の表面の特性を測定する手段に対応するものである。
走査型プローブ顕微鏡100は、さらに、電子源1と、電子光学系2と、二次電子検出器7と、真空排気系16と、導電層材料供給系13と、集束イオンビームイオン源14とを含む。これらを備えることにより、試料の表面の一部と導電性の固定手段との間に導電性物質を形成することができる。そして、走査型プローブ顕微鏡100は、集束された電子ビームを用いて導電層を形成することおよび集束されたイオンビームを用いて導電層を形成することが可能である。
近年、荷電粒子ビーム装置を用いたナノオーダーの微細構造物の形成やエッチング加工が広く行なわれるようになっている。荷電粒子ビーム装置のうちの集束イオンビーム(FIB:Focused Ion Beam)を用いたCVD(Chemical Vapor Deposition)が主流であるが、最近では荷電粒子ビーム装置のうちの電子ビーム(EB:Electron Beam)を用いたCVDも実施されるようになっている。これらのCVDは、それぞれFIB−CVD、EB−CVDとも呼ばれることがある。図1の走査型プローブ顕微鏡100は、これらのFIB−CVD、EB−CVD両方の加工が可能な装置である。
FIB−CVD加工はイオン照射によって試料内部へのイオン注入などダメージを与えてしまう欠点がある。EB−CVD加工ではFIB−CVD加工のようなイオン照射ダメージは無いものの蒸着レートが遅い欠点がある。そこで、本実施の形態においては、2種類の加工を選択的に使用して、短い加工時間と観察領域の保全とを両立させる。
図2は、本発明の集束荷電ビームによる試料加工機能を備えた走査型プローブ顕微鏡により加工された試料の概略図である。
図2を参照して、導電性試料固定具8によって、試料12が試料ステージ(試料ホルダー)10に固定される。導電性試料固定具8は、たとえば、アルミニウム等の金属板を用いることができるが、導電性の粘着テープをこれに代えて使用しても良い。導電性があり、試料を固定できるものであれば導電性試料固定具8の他の材質のものであっても良い。
SPM観察領域20は、導電層19および導電層21により導電性試料固定具8と接続される。導電層19は、 試料12表面に集束イオンビームにより蒸着された導電層である。また、導電層21は、試料12表面に電子ビームにより蒸着された導電層である。導電層21は、走査型プローブ顕微鏡観察領域20の外縁から100μm以内の領域22の内部に形成され、導電層19は、領域22の外部に形成される。
このように、領域22の内部では、イオン照射ダメージが無いEB−CVD加工によって導電層21を形成し、観察領域20にダメージを与えるのを避けると共に、領域22の外部ではFIB−CVD加工により導電層19を形成することによって、導電層の形成に要する時間を短縮し、良好な観察を短時間の準備で開始することが可能となる。
図3は、本実施の形態における走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法の手順を示したフローチャートである。
図1、図3を参照して、まず、ステップS1において、試料12を試料ステージ(試料ホルダー)10に固定する。たとえば、導電性ペーストなどで、試料12の裏面を試料ステージ10に動かないように接着する。
続いて、ステップS2において、試料の表面と試料ステージ10とを導電性試料固定具8で固定する。導電性試料固定具8は、たとえば、アルミニウム等の金属板を用いることができるが、導電性の粘着テープをこれに代えて使用しても良い。ステップS2は、走査型プローブ顕微鏡の測定対象である試料の表面と試料台を導電性試料固定具により固定するステップである。
さらに、ステップS3において、試料12が固定された試料ステージ10を試料交換口15に導入し、ステップS4において、真空排気系16により試料交換口15にある予備室の内部を真空状態にする。なお、図1は略図であり予備室は図示されていない。
予備室の内部が真空状態になった後、ステップS5において、予備室と測定室9を連通させ、試料ステージ10を予備室から元々真空状態にされていた測定室9内部に導入する。
その後、ステップS6において、電子源1より供給され、電子光学系2で集束された電子と二次電子検出器7とにより走査電子像(SEM像)を得て位置の観察を行ないながら、試料ステージ10及び回転ステージ11により試料をX,Y,Z軸方向および回転方向に動かして、試料加工位置(導電層19,21を形成する位置)及びAFM観察領域20を決定する。
すなわち、走査型プローブ顕微鏡100は、集束イオンビーム装置内部に走査型プローブ顕微鏡機能が内包されたものであり、走査電子顕微鏡機能により、導電層の形成位置及び走査プローブ顕微鏡測定領域の位置を決定できる。
そして、ステップS7において、AFM観察領域20のすぐ外側から100μm以降から導電性試料固定具8まで(領域22の外側部分)は、導電層材料供給系13よりPt(白金)ソースガスを供給し、集束イオンビームイオン源14から供給したGa(ガリウム)イオンビームでFIB−CVD加工によって導電層19を形成する。
さらに、ステップS8において、AFM観察領域20のすぐ外側から100μmまで(領域22の内側)は導電層材料供給系13より供給したPt(白金)ソースガスを電子源1から供給した電子でEB−CVD加工によって蒸着して導電層21を形成する。これにより、AFM観察領域20から導電性試料固定具8までの導電が確保できる。
つまり、ステップS7およびS8は、試料の表面の一部と導電性試料固定具との間を試料表面に導電性物質を形成して接続するステップである。好ましくは、導電性物質は、集束イオンビーム装置により集束イオンビームまたは電子ビームを用いて試料表面に形成された導電層であり、導電層は、試料表面において観察領域20近傍から導電性試料固定具8に至る領域に蒸着される。
より好ましくは、導電性物質で接続するステップは、測定領域の外縁から外側に向けて所定距離(たとえば100μm)だけ離れた境界線(領域22の境界)以内の部分について、集束された電子ビームを用いて導電層21を形成するステップS8と、境界線より外側の部分について、集束されたイオンビームを用いて導電層19を形成するステップS9とを含む。なお、ステップS8とステップS9の順序は入れ替えても良い。
図2では導電層21は、観察領域20に接触しているように見えるが、より好ましくは、導電層21は、観察領域20の外側であって観察領域20の外縁から0μm以上1μm以内の近傍から導電性試料固定具8に向けて設けられる。これくらい測定領域の近傍に導電層21を設けることにより、静電気の影響をほとんど受けないようにすることができる。「0μmから1μm以内の近傍」としたのは、観察領域から導電対策領域は最大1μmとして規定したものである。観察領域から導電対策領域がこれ以上離れると、AFMなどの精密測定で、帯電の影響を完全に排除することができなくなるからである。
また走査型プローブ顕微鏡ではAFMのほかに走査容量顕微鏡(SCM:Scanning Capacitance Microscope)、表面電位顕微鏡(KFM:Kelvin Force Microscope)など様々な測定モードがあり、半導体キャリア濃度、仕事関数のマッピングなどを求めることができる。SCM、KFMでは試料の帯電、イオンビームによる試料破壊の影響が大きく現れてしまうので、観察領域を守るような帯電防止対策が必要となる。
観察領域20の外側から100μm以内で集束イオンビームを用いると、集束イオンビームの広がり(集束しきれずに漏れているビーム)のために、測定したい観察領域20が破壊されてしまう。このため、この観察領域20に近い領域22内部ではイオンビームを用いないようにする。
そこで、より好ましくは、導電層は、観察領域20の外縁から外側に向けて100μm離れた領域22の境界線以内の部分(導電層21)については、集束された電子ビームのみを用い、イオンビームは使用しないようにして形成される。
領域22内部では、電子ビームで導電層を形成するので、集束イオンビームで形成するよりも観察領域20に与えるダメージを軽減させることができる。
なお、このときFIB−CVDまたはEB−CVDにより蒸着したPt(白金)からなる導電層19および21の高さは1μm以下にし、好ましくは500nm程度とする。これにより、探針の走査の妨げとならないように導電性を確保することができる。
このように、AFM観察領域20付近の導電が確保され、静電気による斥力または引力の影響が排除された後に、ステップS9において、試料表面の特性の測定が行なわれ、ステップS10でこのフローチャートの処理が終了する。
表面特性の測定は、AFM観察の場合、SPM探針6が付随したカンチレバー5をSPMヘッドモータ3によりAFM観察領域20まで移動させ、SPM用X−Y−Zピエゾスキャナー4によりスキャンすることで表面形状像を得る。
導電層19の高さが1μm以下、好ましくは500nmと充分薄いため、SPM探針6が導電層19にかかってしまっても、SPM探針6が損傷することはない。また、導電層19を介して導電性試料固定具8までの導電が充分に確保されているために、AFM観察領域20でのAFM観察は帯電による静電気力の影響を受けずに、正確な表面形状像を得ることができる。
本実施の形態によれば、走査型プローブ顕微鏡の内部に走査電子顕微鏡機能を内包することにより、導電層の形成位置及び走査プローブ顕微鏡測定領域の位置を決定できる。
また、走査型プローブ顕微鏡に集束荷電ビームによる試料加工機能を備えることにより、走査型プローブ顕微鏡(SPM)測定領域近傍から導電性試料固定具までを極薄の導電層で繋ぐことで、試料表面の帯電が防げ、探針がはじかれることなく、安定な測定が行なえる。すなわち測定箇所近傍に随時、極薄の導電層を設けることができ、帯電の影響を受けない表面形状測定が行なえる。
また、走査型プローブ顕微鏡(SPM)測定領域近傍では電子ビーム(EB)によりCVD加工することで、試料の元来の状態の表面観察が行なえる。このように観察領域のごく近傍まで、観察領域にダメージを与えないで導電加工することで、より精密なSPM観察を行なうことができる。
なお、上記の実施の形態ではAFM測定を例に用いたがその他にEFM、MFM、FFM測定などの各種のSPM測定モードに用いることができる。すなわち、SPM測定モードにはAFM、SCM、KFMなどがあり、SEMでは測定できない微小領域の高さ、半導体キャリア濃度、仕事関数など重要な物理量をより精密に測定できる。つまり、表面の形状以外にも、半導体キャリア濃度、仕事関数などの物理量の測定にも本発明を適用することができる。
また、上記の実施の形態では導電層としてPt(白金)ソースガスを用いてPtを蒸着したが、W(タングステン)ソースガスを用いてWを蒸着しても、Au(金)ソースガスを用いてAuを蒸着しても、Cu(銅)ソースガスを用いてCuを蒸着してもよい。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 電子源、2 電子光学系、3 SPMヘッドモータ、4 X−Y−Z軸ピエゾスキャナー、5 カンチレバー、6 探針、7 二次電子検出器、8 導電性試料固定具、9 測定室、10 試料ステージ、11 回転ステージ、12 試料、13 導電層材料供給系、14 集束イオンビームイオン源、15 試料交換口、16 真空排気系、19,21 導電層、20 観察領域、22 領域、100 走査型プローブ顕微鏡。
Claims (9)
- 走査型プローブ顕微鏡の測定対象である試料の表面と試料台を導電性試料固定具により固定するステップと、
前記試料の表面の一部と前記導電性試料固定具との間を前記試料表面に導電性物質を形成して接続するステップと、
前記試料の表面の特性を測定するステップとを備える、走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。 - 前記導電性物質は、集束イオンビーム装置により集束イオンビームまたは電子ビームを用いて前記試料表面に形成された導電層であり、
前記導電層は、前記試料表面において測定領域近傍から前記導電性試料固定具に至る領域に蒸着される、請求項1に記載の走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。 - 前記導電層は、前記測定領域の外側であって前記測定領域の外縁から0μm以上1μm以内の近傍から前記導電性試料固定具に向けて設けられる、請求項2記載の走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。
- 前記導電層は、高さが1μm以内である、請求項2記載の走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。
- 前記導電層は、前記測定領域の外縁から外側に向けて100μm離れた境界線以内の部分については、集束された電子ビームのみを用いて形成される、請求項2に記載の走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。
- 前記走査型プローブ顕微鏡は、集束イオンビーム装置内部に走査型プローブ顕微鏡機能が内包されたものであり、走査電子顕微鏡機能により、導電層の形成位置及び走査プローブ顕微鏡測定領域の位置を決定できる、請求項2記載の走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。
- 前記導電性物質で接続するステップは、
前記測定領域の外縁から外側に向けて所定距離だけ離れた境界線以内の部分について、集束された電子ビームを用いて導電層を形成するステップと、
前記境界線より外側の部分について、集束されたイオンビームを用いて導電層を形成するステップとを含む、請求項2に記載の走査型プローブ顕微鏡による表面観察方法。 - 検査対象である試料を固定するための試料台と、
前記試料の表面を前記試料台に固定する導電性の固定手段と前記試料の表面の一部との間に導電性物質を形成する手段と、
走査型プローブを用いて前記試料の表面の特性を測定する手段とを備える、走査型プローブ顕微鏡による表面検査装置。 - 前記導電性物質を形成する手段は、集束された電子ビームを用いて導電層を形成することおよび集束されたイオンビームを用いて導電層を形成することが可能である、請求項8に記載の走査型プローブ顕微鏡による表面検査装置。
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2007
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