JP2009013317A - Energy beam-sensitive polymeric composition for release sheet, release sheet, and manufacturing method for release sheet - Google Patents

Energy beam-sensitive polymeric composition for release sheet, release sheet, and manufacturing method for release sheet Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide cation polymeric ultraviolet ray-hardening type silicone release agent having excellent stability in storage, high hardening rate, and excellent transparency and to provide a release sheet having stable release performance for achieving excellent transparency and preventing change of release strength irrespective of elapse of time owing to the use of this release agent. <P>SOLUTION: This energy beam-sensitive polymeric composition for release sheet contains energy beam-sensitive acid generating agent (A), an amine compound (B), and a cation hardening silicone resin (C). <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離用シート、および剥離用シートの製造方法に関し、詳しくは、硬化速度に優れた剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、および経時しても剥離力の変化が少ない、安定した剥離性能を有する剥離シートおよびその製造方法に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to an energy-sensitive ray polymerizable composition for a release sheet, a release sheet, and a method for producing the release sheet. However, the present invention relates to a release sheet having a stable release performance with little change in release force and a method for producing the same.

シリコーン剥離用シートは塗工紙、ラミネート紙、合成紙、不織布、プラスチックフィルム、金属箔等の支持基材の表面に、ポリオルガノシロキサン等の粘着物質に対して剥離性を有するシリコーン剥離剤からなるシリコーン剥離層を形成させることにより製造され、粘着テープ、ラベル等の粘着加工製品用剥離用シート、合成皮革、プリプレグ、床材、マーキングフィルム、各種成形品等の製造工程用剥離シート等として用いられている。   The silicone release sheet consists of a silicone release agent that has release properties for adhesive materials such as polyorganosiloxane on the surface of a support substrate such as coated paper, laminate paper, synthetic paper, nonwoven fabric, plastic film, and metal foil. Manufactured by forming a silicone release layer and used as a release sheet for adhesive processed products such as adhesive tapes and labels, synthetic leather, prepregs, flooring materials, marking films, various molded products, etc. ing.

また、シリコーン剥離剤は一般にその硬化手段の違いにより、熱硬化型と感エネルギー線硬化型等が知れており、さらに、感エネルギー線硬化型は、紫外線硬化型と電子線硬化型とに分類できる。なかでも感エネルギー線硬化型シリコーン剥離剤は、硬化条件が省エネルギーで優れており、さらに紫外線硬化型シリコーン剥離剤は、硬化設備が安価、コンパクトであることに加えて、耐熱性に乏しいプラスチック基材を適用できるという利点があることから賞用されている(特許文献1〜3)。   Moreover, the silicone release agent is generally known as a thermosetting type or an energy-sensitive ray curable type depending on the curing means, and the energy-sensitive ray curable type can be classified into an ultraviolet ray curable type and an electron beam curable type. . In particular, energy-sensitive radiation-curing silicone release agents are excellent in energy-saving curing conditions, and UV-curing silicone release agents are plastic base materials with poor heat resistance in addition to low cost and compact curing equipment. Is used because it has the advantage of being applicable (Patent Documents 1 to 3).

前記紫外線硬化型シリコーン剥離剤は、その硬化メカニズムによって分類でき、主にカチオン重合型、ラジカル付加反応型、ヒドロシリル化反応型、ラジカル重合型(特許文献4)の4種とされる。なかでもカチオン重合型の紫外線硬化型シリコーンは、大気中の酸素による硬化阻害を受けないので、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で硬化させる必要が無く、また硬化後の体積収縮が小さいので、支持基材との密着性に優れており、粘着物質に対する剥離負荷を重剥離から軽剥離まで容易に制御できるなどの利点が多い(特許文献5)。   The ultraviolet curable silicone release agent can be classified according to its curing mechanism, and is mainly classified into four types: cationic polymerization type, radical addition reaction type, hydrosilylation reaction type, and radical polymerization type (Patent Document 4). Among them, cationic polymerization type ultraviolet curable silicone is not subject to curing inhibition by oxygen in the atmosphere, so it is not necessary to cure in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas, and the volume shrinkage after curing is small. There are many advantages, such as being excellent in adhesiveness with a support base material, and being able to easily control the peeling load on the adhesive substance from heavy peeling to light peeling (Patent Document 5).

カチオン重合型の紫外線硬化型シリコーン剥離剤(以下、「カチオン重合性紫外線硬化型シリコーン剥離剤」という)は、感エネルギー線酸発生剤とカチオン硬化性シリコーン樹脂とを調合したものである。カチオン重合性紫外線硬化型シリコーン剥離剤に対する、硬化速度の向上、保存安定性の向上は恒久的に求められることであり、特に硬化速度において優れたカチオン重合性紫外線硬化型シリコーン剥離剤の開発は、活性エネルギー線の照射時間の短縮による作業性の向上や、エネルギー線照射による支持基材の劣化を低減することが出来るために特に望まれている。   A cationic polymerization type ultraviolet curable silicone release agent (hereinafter referred to as “cationic polymerizable ultraviolet curable silicone release agent”) is prepared by blending an energy-sensitive linear acid generator and a cationic curable silicone resin. The improvement of the curing rate and the improvement of storage stability for the cationic polymerizable UV curable silicone release agent is a permanent requirement, and in particular, the development of a cationic polymerizable UV curable silicone release agent with excellent curing rate This is particularly desirable because it is possible to improve workability by shortening the irradiation time of the active energy ray and to reduce the deterioration of the supporting base material due to the energy ray irradiation.

特開平5−169595公報JP-A-5-169595 特開平8−144198公報JP-A-8-144198 特開2000−265153公報JP 2000-265153 A 特開2005−343073公報JP 2005-343073 A 特許第3735857号Japanese Patent No. 3735857

本発明が解決しようとする課題は、保存安定性、硬化速度において優れたカチオン重合性紫外線硬化型シリコーン剥離剤を提供すると共に、この剥離剤を用いることで、経時しても剥離力の変化が少ない、安定した剥離性能を有する剥離用シートを提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a cationically polymerizable ultraviolet curable silicone release agent that is excellent in storage stability and curing speed, and by using this release agent, the change in the release force is maintained even with time. An object of the present invention is to provide a release sheet having a small and stable release performance.

本発明者らは、以上の問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、以下の方法を見出すに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found the following method.

すなわち本発明は、下記一般式(1)で表記される感エネルギー線酸発生剤(A)と、下記一般式(2)で表記されるアミン化合物(B)とカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)とを含んでなる剥離シート用感エネルギー線重合性組成物に関する。   That is, the present invention relates to an energy-sensitive linear acid generator (A) represented by the following general formula (1), an amine compound (B) represented by the following general formula (2), and a cation curable silicone resin (C). The present invention relates to an energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet.

一般式(1)

Figure 2009013317
General formula (1)
Figure 2009013317

(ただし、L+は、任意のカチオンを表す。
また、X-は、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンを表す。)
(However, L + represents an arbitrary cation.
X represents an anion selected from PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN . )

一般式(2)

Figure 2009013317
General formula (2)
Figure 2009013317

(式中、Ar1、Ar2、Ar3は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基を表す。
また、Ar1とAr2、Ar1とAr3、もしくはAr2とAr3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。)
(Wherein, Ar 1, Ar 2, Ar 3 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
Ar 1 and Ar 2 , Ar 1 and Ar 3 , or Ar 2 and Ar 3 may be bonded to each other to form a ring structure. )

さらに本発明は、感エネルギー線酸発生剤(A)が、下記一般式(3)で表記されるスルホニウム塩または下記一般式(4)で表記されるヨードニウム塩である上記記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物に関する。   Furthermore, the present invention provides the above-mentioned release sheet-sensitive sheet, wherein the energy-sensitive linear acid generator (A) is a sulfonium salt represented by the following general formula (3) or an iodonium salt represented by the following general formula (4). The present invention relates to an energy beam polymerizable composition.

一般式(3)

Figure 2009013317
General formula (3)
Figure 2009013317

(ただし、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換の複素環オキシ基、置換もしくは未置換のアシル基、置換もしくは未置換のカルボニルオキシ基、置換もしくは未置換のオキシカルボニル基、またはハロゲン原子より選ばれる基を表す。
また、R1 とR2 、R1 とR3 、もしくはR2 とR3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
また、X-は、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンを表す。)
(However, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted complex, Cyclic group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted carbonyloxy group, substituted or unsubstituted It represents a group selected from a substituted oxycarbonyl group or a halogen atom.
R 1 And R 2 , R 1 And R 3 or R 2 And R 3 may be bonded to each other to form a ring structure.
X represents an anion selected from PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN . )

一般式(4)

Figure 2009013317
General formula (4)
Figure 2009013317

(ただし、Ar4、Ar5は、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基のいずれかを表す。
また、X-は、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンを表す。)
(However, Ar 4 and Ar 5 each represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
X represents an anion selected from PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN . )

さらに本発明は、X-が、PF6 -、SbF6 -のいずれかから選ばれる上記記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物に関する。 Furthermore, the present invention relates to the energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet as described above, wherein X is selected from PF 6 and SbF 6 .

さらに本発明は、カチオン硬化性シリコーン樹脂(C)が、分子内にエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンである上記記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物に関する。   Furthermore, the present invention relates to the energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet as described above, wherein the cationic curable silicone resin (C) is a polyorganosiloxane having an epoxy group in the molecule.

さらに本発明は、支持基材(D)と上記記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を重合させてなるシリコーン剥離層とからなる剥離シートに関する。   Furthermore, this invention relates to the peeling sheet which consists of a support base material (D) and the silicone peeling layer formed by superposing | polymerizing the energy-sensitive-polymerizable composition for release sheets of the said description.

さらに本発明は、支持基材(D)の少なくとも1面に上記記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物でシリコーン剥離層を形成した後、活性エネルギー線を照射することを特徴とする剥離用シートの製造方法に関する。   Furthermore, the present invention provides a release comprising irradiating an active energy ray after forming a silicone release layer on the at least one surface of the support substrate (D) with the above-described energy-sensitive polymerizable composition for release sheet. The present invention relates to a method for manufacturing a sheet for use.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、少ない活性エネルギー線の照射量で硬化することが出来た。また、本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は感エネルギー線酸発生剤(A)とアミン化合物(B)とを使用していることにより、少量のエネルギー線の照射においても、効率的に非常に強い酸を発生するため、活性エネルギー線の照射時間の短縮による作業性の向上や、エネルギー線照射による支持基材の劣化を低減することも可能である。さらに本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を使用することで、経時しても剥離力の変化が少ない、安定した剥離性能を有する剥離シートを提供し得る。   The energy sensitive ray polymerizable composition for release sheet of the present invention could be cured with a small amount of active energy ray irradiation. In addition, the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention uses an energy-sensitive acid generator (A) and an amine compound (B), so that even when irradiated with a small amount of energy rays. Since extremely strong acid is generated, it is possible to improve workability by shortening the irradiation time of active energy rays and to reduce deterioration of the support base material due to energy ray irradiation. Further, by using the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention, a release sheet having a stable release performance with little change in release force over time can be provided.

以下、詳細にわたって本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、オニウムカチオンとカウンターアニオンとからなる感エネルギー線酸発生剤(A)と、光増感剤として、特定の構造を有するアミン化合物(B)とを同時に用いることで、従来公知の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物と比較して、高圧水銀ランプなどによる300nm以上の近紫外線の照射においても、高い酸発生効率を示し、活性エネルギー線の照射時間の短縮が可能な剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を実現している。   The energy sensitive ray polymerizable composition for release sheet of the present invention comprises an energy sensitive acid generator (A) comprising an onium cation and a counter anion, and an amine compound (B) having a specific structure as a photosensitizer. In combination with the conventional energy-sensitive ray-polymerizable composition for release sheet, high acid generation efficiency is exhibited even in irradiation with near ultraviolet rays of 300 nm or more by a high-pressure mercury lamp or the like, and active energy rays. An energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet that can shorten the irradiation time is realized.

まず、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)について説明する。本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)としては一般式(1)が挙げられる。ここで、一般式(1)を構成するオニウムカチオンL+としては、ヨードニウム、スルホニウム、スルホキソニウム、セレノニウム、ホスホニウム、アンモニウム、金属アレーンカチオンのほか、ピリジニウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ベンゾオキサゾリウム、ベンゾチアゾリウム等の複素環カチオンをあげることができる。 First, the energy sensitive acid generator (A) of the present invention will be described. General formula (1) is mentioned as an energy-sensitive linear acid generator (A) of this invention. Here, the onium cation L + constituting the general formula (1) includes iodonium, sulfonium, sulfoxonium, selenonium, phosphonium, ammonium, metal arene cation, pyridinium, quinolinium, isoquinolinium, benzoxazolium, benzo Heterocyclic cations such as thiazolium can be mentioned.

一般式(1)を構成するオニウムカチオンL+として好ましいオニウムカチオンの構造としては、一般式(5)〜一般式(13)から選ばれるオニウムカチオンをあげることができる。 Preferable examples of the onium cation structure as the onium cation L + constituting the general formula (1) include onium cations selected from the general formula (5) to the general formula (13).

一般式(5)

Figure 2009013317
General formula (5)
Figure 2009013317

一般式(6)

Figure 2009013317
General formula (6)
Figure 2009013317

一般式(7)

Figure 2009013317
General formula (7)
Figure 2009013317

一般式(8)

Figure 2009013317
General formula (8)
Figure 2009013317

一般式(9)

Figure 2009013317
General formula (9)
Figure 2009013317

一般式(10)

Figure 2009013317
General formula (10)
Figure 2009013317

一般式(11)

Figure 2009013317
Formula (11)
Figure 2009013317

一般式(12)

Figure 2009013317
Formula (12)
Figure 2009013317

一般式(13)

Figure 2009013317
Formula (13)
Figure 2009013317

(ただし、R1、R2およびR3は、一般式(3)で説明したR1、R2およびR3と同義である。
4は、R1、R2およびR3に記載した基と同様の基を表す。
5は、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルキルチオ基を表す。
6およびR7は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシル基を表す。
Rは、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、置換もしくは未置換のカルバモイル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換の複素環オキシ基、置換もしくは未置換のアルキルチオ基、置換もしくは未置換のアリールチオ基、置換もしくは未置換の複素環チオ基、置換もしくは未置換のアシル基、置換もしくは未置換のカルボニルオキシ基、置換もしくは未置換のオキシカルボニル基のいずれかを表す。
Ar4、Ar5は、一般式(4)で説明したAr4、Ar5と同義である。
Xは、酸素もしくは硫黄原子を表す。
iは0〜5の整数を表す。jは0〜4の整数を表す。kは0〜3の整数を表す。
また、隣接したR同士、Ar4とAr5、R2とR3、R2とR4、R3とR4、R1とR2、R1とR3、R1とR4、R1とR、もしくはR1とR5は、相互に結合した環状構造であってもよい。)
(Wherein, R 1, R 2 and R 3 have the same meaning as R 1, R 2 and R 3 as described in the general formula (3).
R 4 represents a group similar to the groups described for R 1 , R 2 and R 3 .
R 5 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted alkylthio group.
R 6 and R 7 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted alkoxyl group.
R is a halogen atom, hydroxyl group, carboxyl group, mercapto group, cyano group, nitro group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted aryl Group, substituted or unsubstituted heterocyclic group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group, substituted or unsubstituted alkylthio group, substituted or unsubstituted Or an arylthio group, a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group, a substituted or unsubstituted acyl group, a substituted or unsubstituted carbonyloxy group, or a substituted or unsubstituted oxycarbonyl group.
Ar 4, Ar 5 has the same meaning as Ar 4, Ar 5 described in the general formula (4).
X represents an oxygen or sulfur atom.
i represents an integer of 0 to 5; j represents an integer of 0 to 4. k represents an integer of 0 to 3.
Also, adjacent Rs, Ar 4 and Ar 5 , R 2 and R 3 , R 2 and R 4 , R 3 and R 4 , R 1 and R 2 , R 1 and R 3 , R 1 and R 4 , R 1 and R, or R 1 and R 5 may be a cyclic structure bonded to each other. )

この内、より好ましいオニウムカチオンの構造としては、一般式(5)、一般式(6)、一般式(8)、一般式(10)および一般式(12)、一般式(13)から選ばれるオニウムカチオンであり、特に好ましいオニウムカチオンの構造としては、一般式(5)、一般式(6)および一般式(12)、一般式(13)から選ばれるオニウムカチオンであり、最も好ましいオニウムカチオンの構造は、一般式(5)および一般式(13)から選ばれるオニウムカチオンである。   Among these, a more preferable onium cation structure is selected from General Formula (5), General Formula (6), General Formula (8), General Formula (10), General Formula (12), and General Formula (13). Particularly preferred onium cation structures are onium cations selected from general formula (5), general formula (6), general formula (12), and general formula (13). The structure is an onium cation selected from general formula (5) and general formula (13).

この理由として、上に説明したオニウムカチオンは、概して、その還元電位が高いこと、即ち電子受容性が高いことが挙げられる。そのため、エネルギー線、ことに光の照射によって、分解し、容易に酸を発生する。それは特に光増感剤と組み合わせた場合に顕著な結果として認められる。   This is because the onium cation described above generally has a high reduction potential, that is, a high electron accepting property. Therefore, it decomposes by the irradiation of energy rays, especially light, and easily generates an acid. This is particularly noticeable when combined with photosensitizers.

さらに、一般式(5)および一般式(13)のオニウムカチオンは、合成の容易さ、入手の容易さも好ましい理由の一つとして挙げられる。   Furthermore, the onium cations of the general formula (5) and the general formula (13) can be cited as one of the reasons that the ease of synthesis and the availability are preferable.

以下に、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)を構成するオニウムカチオン中の置換基について説明する。   Below, the substituent in the onium cation which comprises the energy-sensitive linear acid generator (A) of this invention is demonstrated.

置換基R1〜R7およびRにおける置換もしくは未置換のアルキル基としては、炭素原子数1 〜18の置換もしくは未置換の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−デシルシクロヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、ヒドロキシメチル基、カルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノメチル基、ニトロメチル基、アジドメチル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group in the substituents R 1 to R 7 and R include substituted or unsubstituted linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. Is methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, octadecyl, isopropyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, cyclopentyl Cyclohexyl group, 4-decylcyclohexyl group, fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group, hydroxymethyl group, carboxymethyl group, mercaptomethyl group, cyanomethyl group, Nitromethyl group, azidomethyl group, etc. can be mentioned. Not intended to be constant.

置換基R1〜R4およびRにおける置換もしくは未置換のアルケニル基としては、炭素原子数2 〜18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルケニル基が挙げられ、具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−オクテニル基、1−オクタデセニル基、イソプロペニル基、1−シクロヘキセニル基、トリフルオロエテニル基、1−クロロエテニル基、2,2−ジブロモエテニル基、4−ヒドロキシ−1−ブテニル基、1−カルボキシエテニル基、5−メルカプト−1−ヘキセニル基、1−シアノエテニル基、3−ニトロ−1−プロペニル基、4−アジド−2−ブテニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl group in the substituents R 1 to R 4 and R include linear, branched, and cyclic alkenyl groups having 2 to 18 carbon atoms. Specific examples include a vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-octenyl group, 1-octadecenyl group, isopropenyl group, 1-cyclohexenyl group, trifluoroethenyl group, 1-chloroethenyl group, 2,2-dibromoethenyl group, 4 -Hydroxy-1-butenyl group, 1-carboxyethenyl group, 5-mercapto-1-hexenyl group, 1-cyanoethenyl group, 3-nitro-1-propenyl group, 4-azido-2-butenyl group, etc. However, it is not limited to these.

置換基R1〜R4、R、Ar4およびAr5における置換もしくは未置換のアリール基としては、炭素原子数6 〜18の単環、縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、9−フルオレニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,5−キシリル基、メシチル基、p−クメニル基、p−ドデシルフェニル基、p−シクロヘキシルフェニル基、4−ビフェニル基、o−フルオロフェニル基、m−クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、m−カルボキシフェニル基、o−メルカプトフェニル基、p−シアノフェニル基、m−ニトロフェニル基、m−アジドフェニル基等を挙げることができるがこれらに限定されるものではなく、また、一般式(5)〜一般式(6)の硫黄原子、一般式(7)のリン原子、一般式(8)〜一般式(11)の炭素原子、一般式(8)〜一般式(11)の窒素原子、一般式(13)のヨウ素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であればどの置換位置で結合していても良く、それらも本発明のR1〜R4、R、Ar4およびAr5で表記される置換基の範疇に含まれる。 Examples of the substituted or unsubstituted aryl group in the substituents R 1 to R 4 , R, Ar 4 and Ar 5 include monocyclic and condensed polycyclic aryl groups having 6 to 18 carbon atoms. Phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-anthryl group, 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 9-fluorenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,3-xylyl group, 2,5-xylyl group, mesityl group, p-cumenyl group, p-dodecyl Phenyl group, p-cyclohexylphenyl group, 4-biphenyl group, o-fluorophenyl group, m-chlorophenyl group, p-bromophenyl group, p-hydroxyphenyl group, m- Examples thereof include, but are not limited to, a ruoxyphenyl group, an o-mercaptophenyl group, a p-cyanophenyl group, an m-nitrophenyl group, and an m-azidophenyl group. ) To sulfur atom of general formula (6), phosphorus atom of general formula (7), carbon atom of general formula (8) to general formula (11), nitrogen atom of general formula (8) to general formula (11), Any substitution position capable of forming a covalent bond with the iodine atom of the general formula (13) may be bonded at any substitution position, and these are also R 1 to R 4 , R, Ar 4 and Ar of the present invention. It is included in the category of the substituent represented by 5 .

置換基R1〜R4、R、Ar4およびAr5における置換もしくは未置換の複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜24の芳香族あるいは脂肪族の複素環基が挙げられ、2−チエニル基、2−ベンゾチエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、3−チアントレニル基、2−チアンスレニル基、2−フリル基、2−ベンゾフリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、2−アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、3−フェニキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基、4−キノリニル基、4−イソキノリル基、3−フェノチアジニル基、2−フェノキサチイニル基、3−クマリニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、また、一般式(5)〜一般式(6)の硫黄原子、一般式(7)のリン原子、一般式(8)〜一般式(11)の炭素原子、一般式(8)〜一般式(11)の窒素原子、一般式(13)のヨウ素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であればどの置換位置で結合していても良く、それらも本発明のR1〜R4、R、Ar4およびAr5で表記される置換基の範疇に含まれる。 Examples of the substituted or unsubstituted heterocyclic group in the substituents R 1 to R 4 , R, Ar 4 and Ar 5 include an aromatic group having 4 to 24 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and a phosphorus atom. Or an aliphatic heterocyclic group is mentioned, 2-thienyl group, 2-benzothienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, 3-thianthrenyl group, 2-thianthrenyl group, 2-furyl group, 2- Benzofuryl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathiinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, Indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl Group, 4H-quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, β-carbolinyl group Phenanthridinyl group, 2-acridinyl group, perimidinyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, 3-phenixazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group Pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, Examples include ruphorinyl group, thioxanthryl group, 4-quinolinyl group, 4-isoquinolyl group, 3-phenothiazinyl group, 2-phenoxathinyl group, and 3-coumarinyl group. In addition, the sulfur atom of the general formula (5) to the general formula (6), the phosphorus atom of the general formula (7), the carbon atom of the general formula (8) to the general formula (11), the general formula (8) to formula (11) nitrogen atom of the general formula (13) may be bonded at any substitution positions for a substitution position which is capable of forming a covalent bond with an iodine atom, R 1 ~ thereof are also the present invention It is included in the category of substituents represented by R 4 , R, Ar 4 and Ar 5 .

置換基R1〜R4、R6、R7およびRにおける置換もしくは未置換のアルコキシル基としては、炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基が挙げられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オクタデカンオキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロモメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、トリブロモメトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シアノメトキシ基、ニトロメトキシ基、アジドメトキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the substituted or unsubstituted alkoxyl group in the substituents R 1 to R 4 , R 6 , R 7 and R include linear, branched and cyclic alkoxyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples As methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, octyloxy, octadecanoxy, isopropoxy, t-butoxy, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, fluoromethoxy, chloromethoxy, bromomethoxy Groups, trifluoromethoxy groups, trichloromethoxy groups, tribromomethoxy groups, hydroxymethoxy groups, carboxymethoxy groups, mercaptomethoxy groups, cyanomethoxy groups, nitromethoxy groups, azidomethoxy groups, and the like. Is not to be done.

置換基R1〜R4およびRにおける置換もしくは未置換のアリールオキシ基としては、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、o−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、p−トリルオキシ基、2,3−キシリルオキシ基、2,5−キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、p−クメニルオキシ基、p−デシルフェノキシ基、p−シクロヘキシルフェノキシ基、4−ビフェノキシ基、o−フルオロフェノキシ基、m−クロロフェノキシ基、p−ブロモフェノキシ基、p−ヒドロキシフェノキシ基、m−カルボキシフェノキシ基、o−メルカプトフェノキシ基、p−シアノフェノキシ基、m−ニトロフェノキシ基、m−アジドフェノキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基と酸素原子が上記以外の位置で結合していても良く、それらも本発明のR1〜R4およびRで表記される置換基の範疇に含まれる。 Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group in the substituents R 1 to R 4 and R include a monocyclic or condensed polycyclic aryloxy group having 4 to 18 carbon atoms. Specific examples include a phenoxy group, 1 -Naphtyloxy group, 2-naphthyloxy group, 9-anthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, 1-pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group, o-tolyloxy group, m-tolyloxy group, p-tolyloxy group, 2,3-xylyloxy group, 2,5-xylyloxy group, mesityloxy group, p- Cumenyloxy group, p-decylphenoxy group, p-cyclohexylphenoxy group, 4-biphenoxy group, o-fluorophenoxy group Group, m-chlorophenoxy group, p-bromophenoxy group, p-hydroxyphenoxy group, m-carboxyphenoxy group, o-mercaptophenoxy group, p-cyanophenoxy group, m-nitrophenoxy group, m-azidophenoxy group, etc. However, the aryl group and the oxygen atom may be bonded at positions other than those described above, and these are also represented by R 1 to R 4 and R of the present invention. Included in the category of substituents.

置換基R1〜R4およびRにおける置換もしくは未置換の複素環オキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環状の複素環オキシ基が挙げられ、具体例としては、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等を挙げることができるがこれらに限定されるものではなく、複素環基と酸素原子が上記以外の位置で結合していても良く、それらも本発明のR1〜R4およびRで表記される置換基の範疇に含まれる。 Examples of the substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group in the substituents R 1 to R 4 and R include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom, and a monocyclic or condensed polycyclic group having 4 to 18 carbon atoms. Specific examples include 2-furanyloxy group, 2-thienyloxy group, 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy. Group, 2-carbazolyloxy group, 3-carbazolyloxy group, 4-carbazolyloxy group, 9-acridinyloxy group and the like, but are not limited thereto, The ring group and the oxygen atom may be bonded at positions other than those described above, and these are also included in the category of substituents represented by R 1 to R 4 and R of the present invention.

置換基R1〜R4およびRにおける置換もしくは未置換のアシル基としては、水素原子または炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニル基、炭素原子数6〜18の単環状あるいは縮合多環状アリール基が結合したカルボニル基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環状の複素環基が結合したカルボニル基が挙げられ、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、シンナモイル基ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、9−アンスリルカルボニル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基とカルボニル基、複素環基とカルボニル基は、それぞれ上記以外の位置で結合していても良く、それらも本発明のR1〜R4およびRで表記される置換基の範疇に含まれる。 As the substituted or unsubstituted acyl group in the substituents R 1 to R 4 and R, a hydrogen atom or a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded. A carbonyl group, a carbonyl group to which a monocyclic or condensed polycyclic aryl group having 6 to 18 carbon atoms is bonded, a monocyclic or condensed having 4 to 18 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom Examples include a carbonyl group to which a polycyclic heterocyclic group is bonded, and specific examples include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, Palmitoyl, stearoyl, cyclopentylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, acryloyl, methacryloyl, Tonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group, cinnamoyl group benzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, 9-anthrylcarbonyl group, 3-furoyl group, 2-thenoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, etc. However, the present invention is not limited thereto, and the aryl group and the carbonyl group, the heterocyclic group and the carbonyl group may be bonded at positions other than those described above, and these are also R 1 to R of the present invention. Included in the category of substituents represented by 4 and R.

置換基R1〜R4およびRにおける置換もしくは未置換のカルボニルオキシ基としては、水素原子または炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、炭素原子数6〜18の単環状あるいは縮合アリール基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環状の複素環基が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基とカルボニルオキシ基、複素環基とカルボニルオキシ基は、それぞれ上記以外の位置で結合していても良く、それらも本発明の置換基R1〜R4およびRで表記される置換基の範疇に含まれる。 Examples of the substituted or unsubstituted carbonyloxy group in the substituents R 1 to R 4 and R include a hydrogen atom or a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms. A bonded carbonyloxy group, or a carbonyloxy group bonded with a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom, or phosphorus atom, and having 4 to 18 carbon atoms A carbonyloxy group to which a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic group is bonded, and specific examples include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a valeryloxy group, and an isovaleryloxy group. , Pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyloxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group, Clopentylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, oleoyloxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyl Examples thereof include an oxy group, a cinnamoyloxy group, a 3-furoyloxy group, a 2-thenoyloxy group, a nicotinoyloxy group, an isonicotinoyloxy group, a 9-anthroyloxy group, and a 5-naphthacenoyloxy group. However, the aryl group and the carbonyloxy group, the heterocyclic group and the carbonyloxy group may be bonded at positions other than those described above, and these are also the substituents R 1 to R of the present invention. Included in the category of substituents represented by 4 and R.

置換基R1〜R4およびRにおける置換もしくは未置換のオキシカルボニル基としては、炭素原子数1〜12の炭酸エステル基または、炭素原子数7 〜19の単環、縮合多環アリールオキシカルボニル基が挙げられ、具体例としてはtert−ブトキシカルボニルオキシ基、tert−ペンチルオキシカルボニルオキシ基、1,1−ジエチルプロピルオキシカルボニルオキシ基、1−エチル−2−シクロペンテニルオキシカルボニルオキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシカルボニルオキシ基、1−エチルシクロペンチルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基、9−アンスリルオキシカルボニル基、9−フェナントリルオキシカルボニル基、1−ピレニルオキシカルボニル基、5−ナフタセニルオキシカルボニル基、1−インデニルオキシカルボニル基、2−アズレニルオキシカルボニル基、1−アセナフチルオキシカルボニル基、9−フルオレニルオキシカルボニル基、o−トリルオキシカルボニル基、m−トリルオキシカルボニル基、p−トリルオキシカルボニル基、2,3−キシリルオキシカルボニル基、2,5−キシリルオキシカルボニル基、メシチルオキシカルボニル基、p−クメニルオキシカルボニル基、p−シクロヘキシルフェノキシカルボニル基、4−フェニルフェノキシカルボニル基、o−フルオロフェノキシカルボニル基、m−クロロフェノキシカルボニル基、p−ブロモフェノキシカルボニル基、p−ヒドロキシフェノキシカルボニル基、m−カルボキシフェノキシカルボニル基、o−メルカプトフェノキシカルボニル基、p−シアノフェノキシカルボニル基、m−ニトロフェノキシカルボニル基、m−アジドフェノキシカルボニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the substituted or unsubstituted oxycarbonyl group in the substituents R 1 to R 4 and R include a carbonic acid ester group having 1 to 12 carbon atoms or a monocyclic or condensed polycyclic aryloxycarbonyl group having 7 to 19 carbon atoms. Specific examples include tert-butoxycarbonyloxy group, tert-pentyloxycarbonyloxy group, 1,1-diethylpropyloxycarbonyloxy group, 1-ethyl-2-cyclopentenyloxycarbonyloxy group, 2-tetrahydro Pyranyloxycarbonyloxy group, 1-ethylcyclopentyloxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 9-anthryloxycarbonyl group, 9-phenanthryloxycarbonyl group , 1-pilet Ruoxycarbonyl group, 5-naphthacenyloxycarbonyl group, 1-indenyloxycarbonyl group, 2-azurenyloxycarbonyl group, 1-acenaphthyloxycarbonyl group, 9-fluorenyloxycarbonyl group, o-tolyl Oxycarbonyl group, m-tolyloxycarbonyl group, p-tolyloxycarbonyl group, 2,3-xylyloxycarbonyl group, 2,5-xylyloxycarbonyl group, mesityloxycarbonyl group, p-cumenyloxycarbonyl Group, p-cyclohexylphenoxycarbonyl group, 4-phenylphenoxycarbonyl group, o-fluorophenoxycarbonyl group, m-chlorophenoxycarbonyl group, p-bromophenoxycarbonyl group, p-hydroxyphenoxycarbonyl group, m-carboxyphenoxy Carbonyl group, o- mercapto phenoxycarbonyl group, p- cyanophenoxy group, m- nitrophenoxy carbonyl group, can be exemplified m- azide phenoxycarbonyl group and the like, but is not limited thereto.

置換基R1〜R4およびRにおけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom in the substituents R 1 to R 4 and R include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換基RおよびR5における置換もしくは未置換のアルキルチオ基としては、炭素原子数1 〜18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基、イソプロピルチオ基、イソブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、4−デシルシクロヘキシルチオ基、フルオロメチルチオ基、クロロメチルチオ基、ブロモメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、トリクロロメチルチオ基、トリブロモメチルチオ基、ヒドロキシメチルチオ基、カルボキシメチルチオ基、メルカプトメチルチオ基、シアノメチルチオ基、ニトロメチルチオ基、アジドメチルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group in the substituents R and R 5 include linear, branched, and cyclic alkylthio groups having 1 to 18 carbon atoms. Specific examples include a methylthio group, an ethylthio group, Propylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, octylthio, decylthio, dodecylthio, octadecylthio, isopropylthio, isobutylthio, sec-butylthio, t-butylthio, cyclopentylthio, cyclohexylthio 4-decylcyclohexylthio group, fluoromethylthio group, chloromethylthio group, bromomethylthio group, trifluoromethylthio group, trichloromethylthio group, tribromomethylthio group, hydroxymethylthio group, carboxymethylthio group, mercaptomethylthio group Group, cyanomethyl thio group, a nitro methylthio group, there may be mentioned an azide methyl thio group, but is not limited thereto.

置換基Rにおける置換もしくは未置換のアリールチオ基としては、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基、9−フェナントリルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基と硫黄原子は上記以外の位置で結合していても良く、それらも本発明のRで表記される置換基の範疇に含まれる。   Examples of the substituted or unsubstituted arylthio group in the substituent R include a monocyclic or condensed polycyclic arylthio group having 4 to 18 carbon atoms, and specific examples include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, and a 2-naphthylthio group. , 9-anthrylthio group, 9-phenanthrylthio group, and the like, but are not limited thereto, and the aryl group and the sulfur atom may be bonded at positions other than those described above. It is included in the category of the substituent represented by R of the invention.

置換基Rにおける置換もしくは未置換の複素環チオ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環複素環チオ基が挙げられ、具体例としては、2−フリルチオ基、2−チエニルチオ基、2−ピロリルチオ基、6−インドリルチオ基、2−ベンゾフリルチオ基、2−ベンゾチエニルチオ基、2−カルバゾリルチオ基、3−カルバゾリルチオ基、4−カルバゾリルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、複素環基と硫黄原子は上記以外の位置で結合していても良く、それらも本発明のRで表記される置換基の範疇に含まれる。   Examples of the substituted or unsubstituted heterocyclic thio group in the substituent R include a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic thio group having 4 to 18 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Specific examples include 2-furylthio group, 2-thienylthio group, 2-pyrrolylthio group, 6-indolylthio group, 2-benzofurylthio group, 2-benzothienylthio group, 2-carbazolylthio group, and 3-carbazolylthio group. , 4-carbazolylthio group and the like, but are not limited thereto, and the heterocyclic group and the sulfur atom may be bonded at positions other than the above, and they are also represented by R in the present invention. Are included in the category of substituents.

置換基Rにおける置換もしくは未置換のカルバモイル基としては、炭素原子数1〜30のカルバモイル基が挙げられ、具体例としては、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−ブチルカルバモイル基、N−ヘキシルカルバモイル基、N−シクロヘキシルカルバモイル基、N−オクチルカルバモイル基、N−デシルカルバモイル基、N−オクタデシルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−2−メチルフェニルカルバモイル基、N−2−クロロフェニルカルバモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、N−2−(2−エチルヘキシル)フェニルカルバモイル基、N−3−クロロフェニルカルバモイル基、N−3−ニトロフェニルカルバモイル基、N−3−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メトキシフェニルカルバモイル基、N−4−シアノフェニルカルバモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、N−メチル−N−フェニルカルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカルバモイル基、N、N−ジフェニルカルバモイル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the substituted or unsubstituted carbamoyl group in the substituent R include carbamoyl groups having 1 to 30 carbon atoms, and specific examples thereof include an N-methylcarbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, an N-propylcarbamoyl group, N-butylcarbamoyl group, N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-decylcarbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2-methylphenylcarbamoyl group N-2-chlorophenylcarbamoyl group, N-2-isopropoxyphenylcarbamoyl group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylcarbamoyl group, N-3-chlorophenylcarbamoyl group, N-3-nitrophenylcarbamoyl group, N -3-Shear Phenylcarbamoyl group, N-4-methoxyphenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-methyl-N-phenylcarbamoyl Group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N, N-diphenylcarbamoyl group and the like can be mentioned, but are not limited thereto.

さらに隣接したR同士、Ar4とAr5、R2とR3、R2とR4、R3とR4、もしくはR1とR2、R1とR3、R1とR4、R1とR、R1とR5は、相互に結合した環状構造であっても良い。 Further adjacent Rs, Ar 4 and Ar 5 , R 2 and R 3 , R 2 and R 4 , R 3 and R 4 , or R 1 and R 2 , R 1 and R 3 , R 1 and R 4 , R 1 and R, R 1 and R 5 may be a cyclic structure bonded to each other.

上述した置換基R1〜R7、R、Ar4およびAr5は、さらに他の置換基で置換されていても良く、そのような他の置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。 The above-mentioned substituents R 1 to R 7 , R, Ar 4 and Ar 5 may be further substituted with other substituents. Examples of such other substituents include a hydroxyl group, a mercapto group, and a cyano group. Nitro group, halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkoxyl group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkyl Examples include an amino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a diarylamino group, an alkylarylamino group, a benzylamino group, and a dibenzylamino group.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アルキル基としては炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、tert−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group. Hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, isopentyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group Tert-octyl group, neopentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, boronyl group, 4-decylcyclohexyl group and the like.

アリール基としては、炭素原子数6〜18の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、9−フルオレニル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include monocyclic or condensed polycyclic aryl groups having 6 to 18 carbon atoms. Specific examples include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, and a 9-phenanthryl. Group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 9-fluorenyl group and the like.

複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環または縮合多環複素環基が挙げられ、具体例としては、2−フラニル基、2−チエニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−アクリジニル基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic group include monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic groups having 4 to 18 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. Specific examples include a 2-furanyl group, A 2-thienyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-acridinyl group and the like can be mentioned.

アシル基としては、水素原子または炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、炭素原子数6〜18の単環状あるいは縮合多環状アリール基が結合したカルボニル基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環状あるいは縮合多環状複素環基が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、シンナモイル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、9−アンスロイル基、5−ナフタセノイル基等が挙げられる。   As the acyl group, a hydrogen atom, a carbonyl group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a monocyclic group having 6 to 18 carbon atoms, A carbonyl group to which a condensed polycyclic aryl group is bonded, a carbonyl group to which a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic group having 4 to 18 carbon atoms including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom is bonded; They may have an unsaturated bond in the structure. Specific examples include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group. , Palmitoyl group, stearoyl group, cyclopentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, acryloyl group, methacryloyl group Crotonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group, benzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, cinnamoyl group, 3-furoyl group, 2-thenoyl group, nicotinoyl group , Isonicotinoyl group, 9-anthroyl group, 5-naphthacenoyl group and the like.

アルコキシル基としては、炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状あるいは縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、t−ペンチルオキシ基、t−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkoxyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkoxyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyl. Oxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group , Sec-pentyloxy group, t-pentyloxy group, t-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy Group, boronyloxy group, 4- Sill cyclohexyloxy group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, and the like.

アリールオキシ基としては、炭素原子数6〜18の単環状または縮合多環状アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the aryloxy group include monocyclic or condensed polycyclic aryloxy groups having 6 to 18 carbon atoms, and specific examples include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, and 9-anthryl. Oxy group, 9-phenanthryloxy group, 1-pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group Etc.

複素環オキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環状または縮合多環状複素環オキシ基が挙げられ、具体例としては、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic oxy group include monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic oxy groups having 4 to 18 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom, and specific examples include 2-furanyloxy. Group, 2-thienyloxy group, 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2-carbazolyloxy group, 3-carbazolyloxy group Group, 4-carbazolyloxy group, 9-acridinyloxy group and the like.

アシルオキシ基としては、水素原子または炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、炭素原子数6〜18の単環状または縮合多環状アリール基が結合したカルボニルオキシ基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環状または縮合多環状複素環基が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基等が挙げられる。   As the acyloxy group, a hydrogen atom, a carbonyloxy group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a monocyclic group having 6 to 18 carbon atoms. Or a carbonyloxy group to which a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic group having 4 to 18 carbon atoms including a carbonyloxy group to which a condensed polycyclic aryl group is bonded, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom is bonded. Specific examples include acetoxy group, propionyloxy group, butyryloxy group, isobutyryloxy group, valeryloxy group, isovaleryloxy group, pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyloxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group Group, cyclopentylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group , Acryloyloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, oleoyloxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy group, 3- Examples include a furoyloxy group, a 2-thenoyloxy group, a nicotinoyloxy group, an isonicotinoyloxy group, a 9-anthroyloxy group, and a 5-naphthacenoyloxy group.

アルキルチオ基としては、炭素原子数1〜18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。   Examples of the alkylthio group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkylthio groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group. Group, hexylthio group, octylthio group, decylthio group, dodecylthio group, octadecylthio group and the like.

アリールチオ基としては、炭素原子数6〜18の単環状または縮合多環状アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基、9−フェナントリルチオ基等が挙げられる。   Examples of the arylthio group include monocyclic or condensed polycyclic arylthio groups having 6 to 18 carbon atoms. Specific examples include phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group, 9-anthrylthio group, and 9-phena. And enthrylthio group.

複素環チオ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜18の単環状または縮合多環状複素環チオ基が挙げられ、具体例としては、2−フリルチオ基、2−チエニルチオ基、2−ピロリルチオ基、6−インドリルチオ基、2−ベンゾフリルチオ基、2−ベンゾチエニルチオ基、2−カルバゾリルチオ基、3−カルバゾリルチオ基、4−カルバゾリルチオ基等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic thio group include a monocyclic or condensed polycyclic heterocyclic thio group having 4 to 18 carbon atoms, including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom, and specific examples include 2-furylthio. Group, 2-thienylthio group, 2-pyrrolylthio group, 6-indolylthio group, 2-benzofurylthio group, 2-benzothienylthio group, 2-carbazolylthio group, 3-carbazolylthio group, 4-carbazolylthio group and the like. .

アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、sec−ペンチルアミノ基、tert−ペンチルアミノ基、tert−オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、1−アダマンタミノ基、2−アダマンタミノ基等が挙げられる。   Examples of the alkylamino group include methylamino group, ethylamino group, propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, nonylamino group, decylamino group, dodecylamino group, octadecylamino group Group, isopropylamino group, isobutylamino group, isopentylamino group, sec-butylamino group, tert-butylamino group, sec-pentylamino group, tert-pentylamino group, tert-octylamino group, neopentylamino group, Cyclopropylamino group, cyclobutylamino group, cyclopentylamino group, cyclohexylamino group, cycloheptylamino group, cyclooctylamino group, cyclododecylamino group, 1-adamantamino group, 2-adamantamino group, etc. It is below.

ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジドデシルアミノ基、ジオクタデシルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジイソペンチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。   Dialkylamino group includes dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group, dipentylamino group, dihexylamino group, diheptylamino group, dioctylamino group, dinonylamino group, didecylamino group, didodecylamino group, Dioctadecylamino group, diisopropylamino group, diisobutylamino group, diisopentylamino group, methylethylamino group, methylpropylamino group, methylbutylamino group, methylisobutylamino group, cyclopropylamino group, pyrrolidino group, piperidino group, And piperazino group.

アリールアミノ基としては、アニリノ基、1−ナフチルアミノ基、2−ナフチルアミノ基、o−トルイジノ基、m−トルイジノ基、p−トルイジノ基、2−ビフェニルアミノ基、3−ビフェニルアミノ基、4−ビフェニルアミノ基、1−フルオレンアミノ基、2−フルオレンアミノ基、2−チアゾールアミノ基、p−ターフェニルアミノ基等が挙げられる。   As an arylamino group, an anilino group, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, o-toluidino group, m-toluidino group, p-toluidino group, 2-biphenylamino group, 3-biphenylamino group, 4- Biphenylamino group, 1-fluoreneamino group, 2-fluoreneamino group, 2-thiazoleamino group, p-terphenylamino group and the like can be mentioned.

ジアリールアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、N−フェニル−1−ナフチルアミノ基、N−フェニル−2−ナフチルアミノ基等が挙げられる。   Examples of the diarylamino group include a diphenylamino group, a ditolylamino group, an N-phenyl-1-naphthylamino group, and an N-phenyl-2-naphthylamino group.

アルキルアリールアミノ基としては、N−メチルアニリノ基、N−メチル−2−ピリジノ基、N−エチルアニリノ基、N−プロピルアニリノ基、N−ブチルアニリノ基、N−イソプロピル、N−ペンチルアニリノ基、N−エチルアニリノ基、N−メチル−1−ナフチルアミノ基等が挙げられる。   Examples of the alkylarylamino group include N-methylanilino group, N-methyl-2-pyridino group, N-ethylanilino group, N-propylanilino group, N-butylanilino group, N-isopropyl, N-pentylanilino group, N -Ethylanilino group, N-methyl-1-naphthylamino group and the like.

さらに、上述した、置換基R1〜R7、R、Ar4およびAr5の水素原子は、さらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような置換基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、tert−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、p−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基、フリル基、チエニル基等の複素環基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。 Furthermore, the hydrogen atoms of the substituents R 1 to R 7 , R, Ar 4 and Ar 5 described above may be further substituted with other substituents. Examples of such substituents include a fluorine atom, Halogen groups such as chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and p-tolyloxy group, methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group and phenoxy Alkoxycarbonyl groups such as carbonyl groups, acyloxy groups such as acetoxy groups, propionyloxy groups, benzoyloxy groups, acetyl groups, benzoyl groups, isobutyryl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, methoxalyl groups, etc. -Alkylsulfanyl groups such as butylsulfanyl groups Arylsulfanyl groups such as phenylsulfanyl group and p-tolylsulfanyl group, alkylamino groups such as methylamino group and cyclohexylamino group, dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group and piperidino group, phenylamino group , Arylamino groups such as p-tolylamino group, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, tert-butyl group, dodecyl group, phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl In addition to aryl groups such as groups, heterocyclic groups such as furyl groups, thienyl groups, etc., hydroxy groups, carboxy groups, formyl groups, mercapto groups, sulfo groups, mesyl groups, p-toluenesulfonyl groups, amino groups, nitro groups, Cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group Trimethylsilyl group, a phosphinico group, a phosphono group, trimethyl ammonium Niu mill group, dimethylsulfoxide Niu mill group, triphenyl phenacyl phosphonium Niu mill group, and the like.

以下に、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)の一般式(5)〜一般式(13)で表されるオニウムカチオンの構造の具体例を挙げる。   Below, the specific example of the structure of the onium cation represented by General formula (5)-General formula (13) of the energy-sensitive linear acid generator (A) of this invention is given.

一般式(5)に該当するオニウムカチオン(スルホニウムカチオン):
ジメチルフェニルスルホニウム、ジメチル(o−フルオロフェニル)スルホニウム、ジメチル(m−クロロフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−ブロモフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−シアノフェニル)スルホニウム、ジメチル(m−ニトロフェニル)スルホニウム、ジメチル(2,4,6−トリブロモフェニル)スルホニウム、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−(トリフルオロメチル)フェニル)スルホニウム、ジメチル(p−ヒドロキシフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−メルカプトフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルスルフィニルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルスルホニルフェニル)スルホニウム、ジメチル(o−アセチルフェニル)スルホニウム、ジメチル(o−ベンゾイルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−メチルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−イソプロピルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−オクタデシルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−シクロヘキシルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−メトキシフェニル)スルホニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルフェニル)スルホニウム、ジメチル(p−フェニルスルファニルフェニル)スルホニウム、(7−メトキシ−2−オキソ−2H−クロメン−4−イル)ジメチルスルホニウム、(4−メトキシナフタレン−1−イル)ジメチルスルホニウム、ジメチル(p−イソプロポキシカルボニルフェニル)スルホニウム、ジメチル(2−ナフチル)スルホニウム、ジメチル(9−アンスリル)スルホニウム、ジエチルフェニルスルホニウム、メチルエチルフェニルスルホニウム、メチルジフェニルスルホニウム、トリフェニルスルホニウム、ジイソプロピルフェニルスルホニウム、ジフェニル(4−フェニルスルファニル−フェニル)−スルホニウム、4,4’−ビス(ジフェニルスルホニウム)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス[ジ[(4−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−フェニル)]スルホニウム]]ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(ジフェニルスルホニウム)ビフェニレン、ジフェニル(o−フルオロフェニル)スルホニウム、ジフェニル(m−クロロフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−ブロモフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−シアノフェニル)スルホニウム、ジフェニル(m−ニトロフェニル)スルホニウム、ジフェニル(2,4,6−トリブロモフェニル)スルホニウム、ジフェニル(ペンタフルオロフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−(トリフルオロメチル)フェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−ヒドロキシフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−メルカプトフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−メチルスルフィニルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−メチルスルホニルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(o−アセチルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(o−ベンゾイルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−メチルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−イソプロピルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−オクタデシルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−シクロヘキシルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−メトキシフェニル)スルホニウム、ジフェニル(o−メトキシカルボニルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(p−フェニルスルファニルフェニル)スルホニウム、(7−メトキシ−2−オキソ−2H−クロメン−4−イル)ジフェニルスルホニウム、(4−メトキシナフタレン−1−イル)ジフェニルスルホニウム、ジフェニル(p−イソプロポキシカルボニルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(2−ナフチル)スルホニウム、ジフェニル(9−アンスリル)スルホニウム、エチルジフェニルスルホニウム、メチルエチル(o−トリル)スルホニウム、メチルジ(p−トリル)スルホニウム、トリ(p−トリル)スルホニウム、ジイソプロピル(4−フェニルスルファニルフェニル)スルホニウム、ジフェニル(2−チエニル)スルホニウム、ジフェニル(2−フリル)スルホニウム、ジフェニル(9−エチル−9Hカルバゾール−3−イル)スルホニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation (sulfonium cation) corresponding to general formula (5):
Dimethylphenylsulfonium, dimethyl (o-fluorophenyl) sulfonium, dimethyl (m-chlorophenyl) sulfonium, dimethyl (p-bromophenyl) sulfonium, dimethyl (p-cyanophenyl) sulfonium, dimethyl (m-nitrophenyl) sulfonium, dimethyl ( 2,4,6-tribromophenyl) sulfonium, dimethyl (pentafluorophenyl) sulfonium, dimethyl (p- (trifluoromethyl) phenyl) sulfonium, dimethyl (p-hydroxyphenyl) sulfonium, dimethyl (p-mercaptophenyl) sulfonium , Dimethyl (p-methylsulfinylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-methylsulfonylphenyl) sulfonium, dimethyl (o-acetylphenyl) sulfonium Dimethyl (o-benzoylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-methylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-isopropylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-octadecylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-cyclohexylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-methoxy) Phenyl) sulfonium, dimethyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfonium, dimethyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) dimethylsulfonium, (4-methoxynaphthalene- 1-yl) dimethylsulfonium, dimethyl (p-isopropoxycarbonylphenyl) sulfonium, dimethyl (2-naphthyl) sulfonium, dimethyl (9-anthryl) Rufonium, diethylphenylsulfonium, methylethylphenylsulfonium, methyldiphenylsulfonium, triphenylsulfonium, diisopropylphenylsulfonium, diphenyl (4-phenylsulfanyl-phenyl) -sulfonium, 4,4′-bis (diphenylsulfonium) diphenyl sulfide, 4, 4′-bis [di [(4- (2-hydroxy-ethoxy) -phenyl)] sulfonium]] diphenyl sulfide, 4,4′-bis (diphenylsulfonium) biphenylene, diphenyl (o-fluorophenyl) sulfonium, diphenyl ( m-chlorophenyl) sulfonium, diphenyl (p-bromophenyl) sulfonium, diphenyl (p-cyanophenyl) sulfonium, diphenyl (m-nitrophenyl) sulfonium, Diphenyl (2,4,6-tribromophenyl) sulfonium, diphenyl (pentafluorophenyl) sulfonium, diphenyl (p- (trifluoromethyl) phenyl) sulfonium, diphenyl (p-hydroxyphenyl) sulfonium, diphenyl (p-mercaptophenyl) ) Sulfonium, diphenyl (p-methylsulfinylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-methylsulfonylphenyl) sulfonium, diphenyl (o-acetylphenyl) sulfonium, diphenyl (o-benzoylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-methylphenyl) sulfonium, Diphenyl (p-isopropylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-octadecylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-cyclohexylphenyl) Lu) sulfonium, diphenyl (p-methoxyphenyl) sulfonium, diphenyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfonium, diphenyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) Diphenylsulfonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl) diphenylsulfonium, diphenyl (p-isopropoxycarbonylphenyl) sulfonium, diphenyl (2-naphthyl) sulfonium, diphenyl (9-anthryl) sulfonium, ethyldiphenylsulfonium, methylethyl ( o-tolyl) sulfonium, methyldi (p-tolyl) sulfonium, tri (p-tolyl) sulfonium, diisopropyl (4-phenylsulfanylphenyl) sulfonium, diphen Examples thereof include, but are not limited to, nyl (2-thienyl) sulfonium, diphenyl (2-furyl) sulfonium, diphenyl (9-ethyl-9Hcarbazol-3-yl) sulfonium.

一般式(6)に該当するオニウムカチオン(スルホキソニウムカチオン):
ジメチルフェニルスルホキソニウム、ジメチル(o−フルオロフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(m−クロロフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ブロモフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−シアノフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(m−ニトロフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(2,4,6−トリブロモフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−(トリフルオロメチル)フェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−ヒドロキシフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メルカプトフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メチルスルフィニルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メチルスルホニルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(o−アセチルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(o−ベンゾイルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メチルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−イソプロピルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−オクタデシルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−シクロヘキシルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−メトキシフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(o−メトキシカルボニルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(p−フェニルスルファニルフェニル)スルホキソニウム、(7−メトキシ−2−オキソ−2H−クロメン−4−イル)ジメチルスルホキソニウム、(4−メトキシナフタレン−1−イル)ジメチルスルホキソニウム、ジメチル(p−イソプロポキシカルボニルフェニル)スルホキソニウム、ジメチル(2−ナフチル)スルホキソニウム、ジメチル(9−アンスリル)スルホキソニウム、ジエチルフェニルスルホキソニウム、メチルエチルフェニルスルホキソニウム、メチルジフェニルスルホキソニウム、トリフェニルスルホキソニウム、ジイソプロピルフェニルスルホキソニウム、ジフェニル(4−フェニルスルファニル−フェニル)−スルホキソニウム、4,4’−ビス(ジフェニルスルホキソニウム)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス[ジ[(4−(2−ヒドロキシ−エトキシ)−フェニル)] スルホキソニウム]ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(ジフェニルスルホキソニウム)ビフェニレン、ジフェニル(o−フルオロフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(m−クロロフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−ブロモフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−シアノフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(m−ニトロフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(2,4,6−トリブロモフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(ペンタフルオロフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−(トリフルオロメチル)フェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−ヒドロキシフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−メルカプトフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−メチルスルフィニルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−メチルスルホニルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(o−アセチルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(o−ベンゾイルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−メチルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−イソプロピルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−オクタデシルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−シクロヘキシルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−メトキシフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(o−メトキシカルボニルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(p−フェニルスルファニルフェニル)スルホキソニウム、(7−メトキシ−2−オキソ−2H−クロメン−4−イル)ジフェニルスルホキソニウム、(4−メトキシナフタレン−1−イル)ジフェニルスルホキソニウム、ジフェニル(p−イソプロポキシカルボニルフェニル)スルホキソニウム、ジフェニル(2−ナフチル)スルホキソニウム、ジフェニル(9−アンスリル)スルホキソニウム、エチルジフェニルスルホキソニウム、メチルエチル(o−トリル) スルホキソニウム、メチルジ(p−トリル) スルホキソニウム、トリ(p−トリル) スルホキソニウム、ジイソプロピル(4−フェニルスルファニルフェニル) スルホキソニウム、ジフェニル(2−チエニル) スルホキソニウム、ジフェニル(2−フリル) スルホキソニウム、ジフェニル(9−エチル−9Hカルバゾール−3−イル) スルホキソニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation corresponding to general formula (6) (sulfoxonium cation):
Dimethylphenylsulfoxonium, dimethyl (o-fluorophenyl) sulfoxonium, dimethyl (m-chlorophenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-bromophenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-cyanophenyl) sulfoxonium, dimethyl (M-nitrophenyl) sulfoxonium, dimethyl (2,4,6-tribromophenyl) sulfoxonium, dimethyl (pentafluorophenyl) sulfoxonium, dimethyl (p- (trifluoromethyl) phenyl) sulfoxonium , Dimethyl (p-hydroxyphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-mercaptophenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methylsulfinylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methylsulfonylphenyl) sulfoxo , Dimethyl (o-acetylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (o-benzoylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-isopropylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p- Octadecylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-cyclohexylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-methoxyphenyl) sulfoxonium, dimethyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfo Xonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) dimethylsulfoxonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl) dimethylsulfoxonium, dimethyl (p-isopropoxyca) Bonylphenyl) sulfoxonium, dimethyl (2-naphthyl) sulfoxonium, dimethyl (9-anthryl) sulfoxonium, diethylphenylsulfoxonium, methylethylphenylsulfoxonium, methyldiphenylsulfoxonium, triphenylsulfoxonium Ni, diisopropylphenylsulfoxonium, diphenyl (4-phenylsulfanyl-phenyl) -sulfoxonium, 4,4′-bis (diphenylsulfoxonium) diphenyl sulfide, 4,4′-bis [di [(4- ( 2-hydroxy-ethoxy) -phenyl)] sulfoxonium] diphenyl sulfide, 4,4′-bis (diphenylsulfoxonium) biphenylene, diphenyl (o-fluorophenyl) sulfoxonium, diphenyl (m-chlorophenyl) sulfur Xonium, diphenyl (p-bromophenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-cyanophenyl) sulfoxonium, diphenyl (m-nitrophenyl) sulfoxonium, diphenyl (2,4,6-tribromophenyl) sulfoxonium , Diphenyl (pentafluorophenyl) sulfoxonium, diphenyl (p- (trifluoromethyl) phenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-hydroxyphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-mercaptophenyl) sulfoxonium, diphenyl ( p-methylsulfinylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-methylsulfonylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (o-acetylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (o-benzoylphenyl) sulfur Hoxonium, diphenyl (p-methylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-isopropylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-octadecylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-cyclohexylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p- Methoxyphenyl) sulfoxonium, diphenyl (o-methoxycarbonylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (p-phenylsulfanylphenyl) sulfoxonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) diphenylsulfone Xonium, (4-methoxynaphthalen-1-yl) diphenylsulfoxonium, diphenyl (p-isopropoxycarbonylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (2-naphthyl) sulfoxonium Diphenyl (9-anthryl) sulfoxonium, ethyldiphenylsulfoxonium, methylethyl (o-tolyl) sulfoxonium, methyldi (p-tolyl) sulfoxonium, tri (p-tolyl) sulfoxonium, diisopropyl ( 4-phenylsulfanylphenyl) sulfoxonium, diphenyl (2-thienyl) sulfoxonium, diphenyl (2-furyl) sulfoxonium, diphenyl (9-ethyl-9Hcarbazol-3-yl) sulfoxonium However, it is not limited to these.

一般式(7)に該当するオニウムカチオン(ホスホニウムカチオン):
ホスホニウムカチオンの例:
トリメチルフェニルホスホニウム、トリエチルフェニルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、トリフェニル(p−フルオロフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(o−クロロフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ブロモフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(p−シアノフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ニトロフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(p−フェニルスルファニルフェニル)ホスホニウム、(7−メトキシ−2−オキソ−2H−クロメン−4−イル)トリフェニルホスホニウム、トリフェニル(o−ヒドロキシフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(o−アセチルフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(m−ベンゾイルフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(p−メチルフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(p−イソプロポキシフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(o−メトキシカルボニルフェニル)ホスホニウム、トリフェニル(1−ナフチル)ホスホニウム、トリフェニル(9−アンスリル)ホスホニウム、トリフェニル(2−チエニル) ホスホニウム、トリフェニル(2−フリル) ホスホニウム、トリフェニル(9−エチル−9Hカルバゾール−3−イル) ホスホニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation (phosphonium cation) corresponding to the general formula (7):
Examples of phosphonium cations:
Trimethylphenylphosphonium, triethylphenylphosphonium, tetraphenylphosphonium, triphenyl (p-fluorophenyl) phosphonium, triphenyl (o-chlorophenyl) phosphonium, triphenyl (m-bromophenyl) phosphonium, triphenyl (p-cyanophenyl) phosphonium , Triphenyl (m-nitrophenyl) phosphonium, triphenyl (p-phenylsulfanylphenyl) phosphonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-4-yl) triphenylphosphonium, triphenyl (o-hydroxyphenyl) ) Phosphonium, triphenyl (o-acetylphenyl) phosphonium, triphenyl (m-benzoylphenyl) phosphonium, triphenyl (p-methylphenyl) phospho Phonium, triphenyl (p-isopropoxyphenyl) phosphonium, triphenyl (o-methoxycarbonylphenyl) phosphonium, triphenyl (1-naphthyl) phosphonium, triphenyl (9-anthryl) phosphonium, triphenyl (2-thienyl) phosphonium , Triphenyl (2-furyl) phosphonium, triphenyl (9-ethyl-9Hcarbazol-3-yl) phosphonium and the like, but are not limited thereto.

一般式(8)に該当するオニウムカチオン(ピリジニウムカチオン):
ピリジニウムカチオンの例:
N−フェニルピリジニウム、N−(o−クロロフェニル)ピリジニウム、N−(m−クロロフェニル)ピリジニウム、N−(p−シアノフェニル)ピリジニウム、N−(o−ニトロフェニル)ピリジニウム、N−(p−アセチルフェニル)ピリジニウム、N−(p−イソプロピルフェニル)ピリジニウム、N−(p−オクタデシルオキシフェニル)ピリジニウム、N−(p−メトキシカルボニルフェニル)ピリジニウム、N−(9−アンスリル)ピリジニウム、2−クロロ−1−フェニルピリジニウム、2−シアノ−1−フェニルピリジニウム、2−メチル−1−フェニルピリジニウム、2−ビニル−1−フェニルピリジニウム、2−フェニル−1−フェニルピリジニウム、1,2−ジフェニルピリジニウム、2−メトキシ−1−フェニルピリジニウム、2−フェノキシ−1−フェニルピリジニウム、2−アセチル−1−(p−トリル)ピリジニウム、2−メトキシカルボニル−1−(p−トリル)ピリジニウム、3−フルオロ−1−ナフチルピリジニウム、4−メチル−1−(2−フリル)ピリジニウム、N−メチルピリジニウム、N−エチルピリジニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation corresponding to general formula (8) (pyridinium cation):
Examples of pyridinium cations:
N-phenylpyridinium, N- (o-chlorophenyl) pyridinium, N- (m-chlorophenyl) pyridinium, N- (p-cyanophenyl) pyridinium, N- (o-nitrophenyl) pyridinium, N- (p-acetylphenyl) ) Pyridinium, N- (p-isopropylphenyl) pyridinium, N- (p-octadecyloxyphenyl) pyridinium, N- (p-methoxycarbonylphenyl) pyridinium, N- (9-anthryl) pyridinium, 2-chloro-1- Phenylpyridinium, 2-cyano-1-phenylpyridinium, 2-methyl-1-phenylpyridinium, 2-vinyl-1-phenylpyridinium, 2-phenyl-1-phenylpyridinium, 1,2-diphenylpyridinium, 2-methoxy- 1-phenylpi Dinium, 2-phenoxy-1-phenylpyridinium, 2-acetyl-1- (p-tolyl) pyridinium, 2-methoxycarbonyl-1- (p-tolyl) pyridinium, 3-fluoro-1-naphthylpyridinium, 4-methyl Examples thereof include, but are not limited to, -1- (2-furyl) pyridinium, N-methylpyridinium, N-ethylpyridinium, and the like.

一般式(9)に該当するオニウムカチオン(キノリニウムカチオン):
キノリニウムカチオンの例:
N−メチルキノリニウム、N−エチルキノリニウム、N−フェニルキノリニウム、N−ナフチルキノリニウム、N−(o−クロロフェニル)キノリニウム、N−(m−クロロフェニル)キノリニウム、N−(p−シアノフェニル)キノリニウム、N−(o−ニトロフェニル)キノリニウム、N−(p−アセチルフェニル)キノリニウム、N−(p−イソプロピルフェニル)キノリニウム、N−(p−オクタデシルオキシフェニル)キノリニウム、N−(p−メトキシカルボニルフェニル)キノリニウム、N−(9−アンスリル)キノリニウム、2−クロロ−1−フェニルキノリニウム、2−シアノ−1−フェニルキノリニウム、2−メチル−1−フェニルキノリニウム、2−ビニル−1−フェニルキノリニウム、2−フェニル−1−フェニルキノリニウム、1,2−ジフェニルキノリニウム、2−メトキシ−1−フェニルキノリニウム、2−フェノキシ−1−フェニルキノリニウム、2−アセチル−1−フェニルキノリニウム、2−メトキシカルボニル−1−フェニルキノリニウム、3−フルオロ−1−フェニルキノリニウム、4−メチル−1−フェニルキノリニウム、2−メトキシ−1−(p−トリル)キノリニウム、2−フェノキシ−1−(2−フリル)キノリニウム、2−アセチル−1−(2−チエニル)キノリニウム、2−メトキシカルボニル−1−メチルキノリニウム、3−フルオロ−1−エチルキノリニウム、4−メチル−1−イソプロピルキノリニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation (quinolinium cation) corresponding to the general formula (9):
Examples of quinolinium cations:
N-methylquinolinium, N-ethylquinolinium, N-phenylquinolinium, N-naphthylquinolinium, N- (o-chlorophenyl) quinolinium, N- (m-chlorophenyl) quinolinium, N- (p -Cyanophenyl) quinolinium, N- (o-nitrophenyl) quinolinium, N- (p-acetylphenyl) quinolinium, N- (p-isopropylphenyl) quinolinium, N- (p-octadecyloxyphenyl) quinolinium, N- ( p-methoxycarbonylphenyl) quinolinium, N- (9-anthryl) quinolinium, 2-chloro-1-phenylquinolinium, 2-cyano-1-phenylquinolinium, 2-methyl-1-phenylquinolinium, 2-vinyl-1-phenylquinolinium, 2-phenyl-1-phenyl Norinium, 1,2-diphenylquinolinium, 2-methoxy-1-phenylquinolinium, 2-phenoxy-1-phenylquinolinium, 2-acetyl-1-phenylquinolinium, 2-methoxycarbonyl-1 -Phenylquinolinium, 3-fluoro-1-phenylquinolinium, 4-methyl-1-phenylquinolinium, 2-methoxy-1- (p-tolyl) quinolinium, 2-phenoxy-1- (2- Furyl) quinolinium, 2-acetyl-1- (2-thienyl) quinolinium, 2-methoxycarbonyl-1-methylquinolinium, 3-fluoro-1-ethylquinolinium, 4-methyl-1-isopropylquinolinium However, it is not limited to these.

一般式(10)に該当するオニウムカチオン(イソキノリニウムカチオン):
イソキノリニウムカチオンの例:
N−フェニルイソキノリニウム、N−メチルイソキノリニウム、N−エチルイソキノリニウム、N−(o−クロロフェニル)イソキノリニウム、N−(m−クロロフェニル)イソキノリニウム、N−(p−シアノフェニル)イソキノリニウム、N−(o−ニトロフェニル)イソキノリニウム、N−(p−アセチルフェニル)イソキノリニウム、N−(p−イソプロピルフェニル)イソキノリニウム、N−(p−オクタデシルオキシフェニル)イソキノリニウム、N−(p−メトキシカルボニルフェニル)イソキノリニウム、N−(9−アンスリル)イソキノリニウム、1,2−ジフェニルイソキノリニウム、N−(2−フリル)イソキノリニウム、N−(2−チエニル)イソキノリニウム、N−ナフチルイソキノリニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation (isoquinolinium cation) corresponding to the general formula (10):
Examples of isoquinolinium cations:
N-phenylisoquinolinium, N-methylisoquinolinium, N-ethylisoquinolinium, N- (o-chlorophenyl) isoquinolinium, N- (m-chlorophenyl) isoquinolinium, N- (p-cyanophenyl) Isoquinolinium, N- (o-nitrophenyl) isoquinolinium, N- (p-acetylphenyl) isoquinolinium, N- (p-isopropylphenyl) isoquinolinium, N- (p-octadecyloxyphenyl) isoquinolinium, N- (p-methoxycarbonyl) Phenyl) isoquinolinium, N- (9-anthryl) isoquinolinium, 1,2-diphenylisoquinolinium, N- (2-furyl) isoquinolinium, N- (2-thienyl) isoquinolinium, N-naphthylisoquinolinium, etc. I can mention However, it is not limited to these.

一般式(11)に該当するオニウムカチオン(ベンゾオキサゾリウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン):
ベンゾオキサゾリウムカチオンの例:
N−メチルベンゾオキサゾリウム、N−エチルベンゾオキサゾリウム、N−ナフチルベンゾオキサゾリウム、N−フェニルベンゾオキサゾリウム、N−(p−フルオロフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(p−クロロフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(p−シアノフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(o−メトキシカルボニルフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(2−フリル)ベンゾオキサゾリウム、N−(o−フルオロフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(p−シアノフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(m−ニトロフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(p−イソプロポキシカルボニルフェニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(2−チエニル)ベンゾオキサゾリウム、N−(m−カルボキシフェニル)ベンゾオキサゾリウム、2−メルカプト−3−フェニルベンゾオキサゾリウム、2−メチル−3−フェニルベンゾオキサゾリウム、2−メチルチオ−3−(4−フェニルスルファニルフェニル)ベンゾオキサゾリウム、6−ヒドロキシ−3−(p−トリル)ベンゾオキサゾリウム、7−メルカプト−3−フェニルベンゾオキサゾリウム、4,5−ジフルオロ−3−エチルベンゾオキサゾリウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cations corresponding to general formula (11) (benzoxazolium cation, benzothiazolium cation):
Examples of benzoxazolium cations:
N-methylbenzoxazolium, N-ethylbenzoxazolium, N-naphthylbenzoxazolium, N-phenylbenzoxazolium, N- (p-fluorophenyl) benzoxazolium, N- (p- Chlorophenyl) benzoxazolium, N- (p-cyanophenyl) benzoxazolium, N- (o-methoxycarbonylphenyl) benzoxazolium, N- (2-furyl) benzoxazolium, N- (o -Fluorophenyl) benzoxazolium, N- (p-cyanophenyl) benzoxazolium, N- (m-nitrophenyl) benzoxazolium, N- (p-isopropoxycarbonylphenyl) benzoxazolium, N- (2-thienyl) benzoxazolium, N- (m-carboxyphenyl) benzox Sazolium, 2-mercapto-3-phenylbenzoxazolium, 2-methyl-3-phenylbenzoxazolium, 2-methylthio-3- (4-phenylsulfanylphenyl) benzoxazolium, 6-hydroxy-3- (p-tolyl) benzoxazolium, 7-mercapto-3-phenylbenzoxazolium, 4,5-difluoro-3-ethylbenzoxazolium, and the like can be mentioned. Absent.

ベンゾチアゾリウムカチオンの例:
N−メチルベンゾチアゾリウム、N−エチルベンゾチアゾリウム、N−フェニルベンゾチアゾリウム、N−(1−ナフチル)ベンゾチアゾリウム、N−(p−フルオロフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(p−クロロフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(p−シアノフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(o−メトキシカルボニルフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(p−トリル)ベンゾチアゾリウム、N−(o−フルオロフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(m−ニトロフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(p−イソプロポキシカルボニルフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(2−フリル)ベンゾチアゾリウム、N−(4−メチルチオフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(4−フェニルスルファニルフェニル)ベンゾチアゾリウム、N−(2−ナフチル)ベンゾチアゾリウム、N−(m−カルボキシフェニル)ベンゾチアゾリウム、2−メルカプト−3−フェニルベンゾチアゾリウム、2−メチル−3−フェニルベンゾチアゾリウム、2−メチルチオ−3−フェニルベンゾチアゾリウム、6−ヒドロキシ−3−フェニルベンゾチアゾリウム、7−メルカプト−3−フェニルベンゾチアゾリウム、4,5−ジフルオロ−3−フェニルベンゾチアゾリウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Examples of benzothiazolium cations:
N-methylbenzothiazolium, N-ethylbenzothiazolium, N-phenylbenzothiazolium, N- (1-naphthyl) benzothiazolium, N- (p-fluorophenyl) benzothiazolium, N -(P-chlorophenyl) benzothiazolium, N- (p-cyanophenyl) benzothiazolium, N- (o-methoxycarbonylphenyl) benzothiazolium, N- (p-tolyl) benzothiazolium, N- (o-fluorophenyl) benzothiazolium, N- (m-nitrophenyl) benzothiazolium, N- (p-isopropoxycarbonylphenyl) benzothiazolium, N- (2-furyl) benzothia Zolium, N- (4-methylthiophenyl) benzothiazolium, N- (4-phenylsulfanylphenyl) benzothiazolium, N (2-naphthyl) benzothiazolium, N- (m-carboxyphenyl) benzothiazolium, 2-mercapto-3-phenylbenzothiazolium, 2-methyl-3-phenylbenzothiazolium, 2-methylthio -3-phenylbenzothiazolium, 6-hydroxy-3-phenylbenzothiazolium, 7-mercapto-3-phenylbenzothiazolium, 4,5-difluoro-3-phenylbenzothiazolium, etc. However, it is not limited to these.

一般式(12)に該当するオニウムカチオン(フリルもしくはチエニルヨードニウムカチオン):
ジフリルヨードニウム、ジチエニルヨードニウム、ビス(4,5−ジメチル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−クロロ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−シアノ−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−ニトロ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−アセチル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−カルボキシ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−メトキシカルボニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−フェニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−(p−メトキシフェニル)−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−ビニル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−エチニル−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−シクロヘキシル−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−ヒドロキシ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−フェノキシ−2−フリル)ヨードニウム、ビス(5−メルカプト−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−ブチルチオ−2−チエニル)ヨードニウム、ビス(5−フェニルチオ−2−チエニル)ヨードニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation corresponding to general formula (12) (furyl or thienyl iodonium cation):
Difuryliodonium, dithienyliodonium, bis (4,5-dimethyl-2-furyl) iodonium, bis (5-chloro-2-thienyl) iodonium, bis (5-cyano-2-furyl) iodonium, bis (5- Nitro-2-thienyl) iodonium, bis (5-acetyl-2-furyl) iodonium, bis (5-carboxy-2-thienyl) iodonium, bis (5-methoxycarbonyl-2-furyl) iodonium, bis (5-phenyl) -2-furyl) iodonium, bis (5- (p-methoxyphenyl) -2-thienyl) iodonium, bis (5-vinyl-2-furyl) iodonium, bis (5-ethynyl-2-thienyl) iodonium, bis ( 5-cyclohexyl-2-furyl) iodonium, bis (5-hydroxy-2-thio) Nyl) iodonium, bis (5-phenoxy-2-furyl) iodonium, bis (5-mercapto-2-thienyl) iodonium, bis (5-butylthio-2-thienyl) iodonium, bis (5-phenylthio-2-thienyl) Although iodonium etc. can be mentioned, it is not limited to these.

一般式(13)に該当するオニウムカチオン(ジアリールヨードニウムカチオン):
ジフェニルヨードニウム、ビス(p−トリル)ヨードニウム、ビス(p−オクチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクチルオキシフェニル)ヨードニウム、ビス(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウム、フェニル(p−オクタデシルオキシフェニル)ヨードニウム、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウム、(4−イソブチルフェニル)−p−トリルヨードニウム、ビス(1−ナフチル)ヨードニウム、ビス(4−フェニルスルファニルフェニル)ヨードニウム、フェニル(6−ベンゾイル−9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル)ヨードニウム、(7−メトキシ−2−オキソ−2H−クロメン−3−イル)−4’−イソプロピルフェニルヨードニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Onium cation corresponding to general formula (13) (diaryliodonium cation):
Diphenyliodonium, bis (p-tolyl) iodonium, bis (p-octylphenyl) iodonium, bis (p-octadecylphenyl) iodonium, bis (p-octyloxyphenyl) iodonium, bis (p-octadecyloxyphenyl) iodonium, phenyl (P-octadecyloxyphenyl) iodonium, 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium, (4-isobutylphenyl) -p-tolyliodonium, bis (1-naphthyl) iodonium, bis (4-phenylsulfanylphenyl) iodonium, Phenyl (6-benzoyl-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl) iodonium, (7-methoxy-2-oxo-2H-chromen-3-yl) -4'-isopropylphenyliodonium, etc. However, it is not limited to these.

次に、一般式(1)中のカウンターアニオンX-について説明する。 Then, the counter anion of the general formula (1) in X - is described.

一般式(1)中のカウンターアニオンX-は原理的に特に限定されるものではないが、非求核性アニオンが好ましい。カウンターアニオンX-が非求核性アニオンの場合、分子内に共存するカチオンや併用される各種材料における求核反応が起こりにくいため、結果として一般式(1)で表記される感エネルギー線酸発生剤自身やそれを用いた組成物の経時安定性を向上させることが可能である。ここでいう非求核性アニオンとは、求核反応を起こす能力が低いアニオンを指す。このようなアニオンとしては、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-等が挙げられる。 The counter anion X in the general formula (1) is not particularly limited in principle, but a non-nucleophilic anion is preferable. Counter anion wherein X - For non-nucleophilic anion, for nucleophilic reaction is unlikely to occur in a variety of materials that are cationic or combination coexisting in the molecule, the energy-sensitive are denoted by the general formula (1) as a result Sensan generated It is possible to improve the temporal stability of the agent itself or a composition using the agent. The non-nucleophilic anion here refers to an anion having a low ability to cause a nucleophilic reaction. Examples of such anions include PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, SCN − and the like.

上記した例示アニオンの中で、一般式(1)中のカウンターアニオンX-として特に好ましいものとしては、PF6 -、SbF6 -、およびAsF6 -が挙げられ、特に好ましくは、PF6 -、SbF6 -が挙げられる。 Among the exemplified anions described above, PF 6 , SbF 6 , and AsF 6 are particularly preferable as the counter anion X in the general formula (1), and PF 6 , SbF 6 - is mentioned.

したがって、本発明の感エネルギー線酸発生剤を構成する好ましいオニウム塩の具体例としては、上記例示の一般式(5)〜一般式(13)で表されるオニウムカチオンの構造の具体例とPF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンとからなるオニウム塩である。 Therefore, as a specific example of a preferable onium salt constituting the energy-sensitive linear acid generator of the present invention, a specific example of the structure of the onium cation represented by the above general formula (5) to general formula (13) and PF An onium salt composed of an anion selected from 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN .

具体的には、「サイラキュアーUVI−6992」、「サイラキュアーUVI−6974」(以上、ダウ・ケミカル日本株式会社製)、「アデカオプトマーSP150」、「アデカオプトマーSP152」、「アデカオプトマーSP170」、「アデカオプトマーSP172」(以上、株式会社ADEKA製)、「IRGACURE250」(チバスペシャルティーケミカルズ社製)、「CI−5102」、「CI−2855」(以上、日本曹達社製)、「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−110L」、「サンエイドSI−180L」(以上、三新化学社製)、「CPI−100P」、「CPI−100A」(以上、サンアプロ株式会社製)、「WPI−069」、「WPI−113」、「WPI−116」、「WPI−041」、「WPI−044」、「WPI−054」、「WPI−055」、「WPAG−281」、「WPAG−567」、「WPAG−596」(以上、和光純薬社製)が本発明の感エネルギー線酸発生剤の好ましい具体例として挙げられる。   Specifically, “Syracure UVI-6922”, “Syracure UVI-6974” (above, manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.), “Adekaoptomer SP150”, “Adekaoptomer SP152”, “Adekaoptomer” “SP170”, “Adekaoptomer SP172” (manufactured by ADEKA Corporation), “IRGACURE250” (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), “CI-5102”, “CI-2855” (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), “Sun-Aid SI-60L”, “Sun-Aid SI-80L”, “Sun-Aid SI-100L”, “Sun-Aid SI-110L”, “Sun-Aid SI-180L” (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.), “CPI-100P”, “CPI-100A” (manufactured by San Apro Co., Ltd.), “WPI-069”, “WPI-1” 3 ”,“ WPI-116 ”,“ WPI-041 ”,“ WPI-044 ”,“ WPI-054 ”,“ WPI-055 ”,“ WPAG-281 ”,“ WPAG-567 ”,“ WPAG-596 ” (As described above, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is a preferred specific example of the energy-sensitive linear acid generator of the present invention.

本発明で用いられる感エネルギー線酸発生剤(A)は、1種または2種以上を組み合わせて使用される。また、熱による酸発生剤を併用することも可能である。支持基材(D)の熱安定性が高い場合には、これらを併用して、光照射後に加熱することにより、さらに速やかにカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)の架橋を進行させることが可能である。   The energy-sensitive linear acid generator (A) used in the present invention is used alone or in combination of two or more. It is also possible to use an acid generator with heat. When the thermal stability of the supporting substrate (D) is high, it is possible to advance the crosslinking of the cationic curable silicone resin (C) more rapidly by using these together and heating after light irradiation. is there.

本発明で用いられる感エネルギー線酸発生剤(A)の使用量は、100重量部のカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)に対して、0.1重量部〜20重量部の範囲内が好ましく、特に好ましくは、0.5重量部〜10重量部である。感エネルギー線酸発生剤(A)の添加量が0.1重量部未満の場合、カチオン重合による重合または架橋が十分に進行せず、良好な接着力が得られない場合がある。また、感エネルギー線酸発生剤(A)の添加量が20重量部より多い場合、剥離シート用感エネルギー線重合性組成物中の低分子成分が多すぎるため、十分な凝集力や接着力が得られない場合があること、硬化物中にイオン物質が多量に残ることによる懸念やコストアップにつながる点で実用的ではない。   The amount of the energy sensitive acid generator (A) used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cationic curable silicone resin (C). Particularly preferred is 0.5 to 10 parts by weight. When the addition amount of the energy-sensitive linear acid generator (A) is less than 0.1 parts by weight, polymerization or crosslinking by cationic polymerization does not proceed sufficiently, and good adhesive strength may not be obtained. Moreover, when there are more addition amounts of energy-sensitive linear acid generator (A) than 20 weight part, since there are too many low molecular components in the energy-sensitive-polymerizable composition for release sheets, sufficient cohesive force and adhesive force are sufficient. It is not practical in that it may not be obtained, and it may lead to concerns and cost increase due to the large amount of ionic substance remaining in the cured product.

次に、本発明のアミン化合物(B)について説明する。本発明において、アミン化合物(B)は、光増感剤として用いることで、従来公知の感エネルギー線酸発生組成物と比較して、高圧水銀ランプなどによる300nm以上の近紫外線の照射においても、高い酸発生効率を表す。本発明のアミン化合物は、既知のアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ナフタレン類、ビアセチル、エオシン、ローズベンガル、ピレン類、アントラセン類、フェノチアジン類等の光増感剤と比較して、増感効果が極めて高く、実用性に優れたものである。   Next, the amine compound (B) of the present invention will be described. In the present invention, the amine compound (B) is used as a photosensitizer, so that it can be irradiated with near ultraviolet rays of 300 nm or more by a high-pressure mercury lamp or the like as compared with a conventionally known energy-sensitive acid generation composition. High acid generation efficiency. The amine compound of the present invention has an extremely high sensitizing effect as compared with known acetophenones, benzophenones, naphthalenes, biacetyl, eosin, rose bengal, pyrenes, anthracenes, phenothiazines and the like. It is excellent in practicality.

一般式(2)中の置換基Ar1、Ar2、およびAr3における置換もしくは未置換のアリール基としては、炭素原子数6〜30のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、o−、m−、およびp−トリル基、キシリル基、o−、m−、およびp−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the substituted or unsubstituted aryl group in the substituents Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 in the general formula (2) include an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, specifically, a phenyl group, Biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-anthryl group, 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl Group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o-, m-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group Heptalenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, phenyl Renyl group, fluorenyl group, anthryl group, bianthracenyl group, teranthracenyl group, quarteranthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl Groups, pentaphenyl groups, pentacenyl groups, tetraphenylenyl groups, hexaphenyl groups, hexacenyl groups, rubicenyl groups, coronenyl groups, trinaphthylenyl groups, heptaphenyl groups, heptacenyl groups, pyrantrenyl groups, and oberenyl groups. However, it is not limited to these.

一般式(2)中の置換基Ar1、Ar2、およびAr3における置換もしくは未置換の複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素原子数4〜24の芳香族あるいは脂肪族の複素環基が挙げられ、具体的には、2−チエニル基、2−ベンゾチエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、3−チアントレニル基、2−チアンスレニル基、2−フリル基、2−ベンゾフリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、2−インドリル基、3−インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、2−アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、3−フェニキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基、4−キノリニル基、4−イソキノリル基、3−フェノチアジニル基、2−フェノキサチイニル基、3−クマリニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、また、一般式(2)の窒素原子と共有結合を形成することのできる置換位置であればどの置換位置で結合していても良く、それらも本発明のAr1、Ar2、およびAr3で表される置換基の範疇に含まれる。 The substituted or unsubstituted heterocyclic group in the substituents Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 in the general formula (2) has 4 to 24 carbon atoms including a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. And aromatic heterocyclic groups such as 2-thienyl group, 2-benzothienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, 3-thianthenyl group, and 2-thianthrenyl group. 2-furyl group, 2-benzofuryl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathiinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl Group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 1H- Danazolyl group, purinyl group, 4H-quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, β-Carborinyl group, phenanthridinyl group, 2-acridinyl group, perimidinyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, 3-phenixazinyl group, isochromanyl Group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group Quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthryl group, 4-quinolinyl group, 4-isoquinolyl group, 3-phenothiazinyl group, 2-phenoxathinyl group, 3-coumarinyl group, etc. not limited to, the general formula (2) may be bonded at any substitution positions for a substitution position which is capable of forming a covalent bond with the nitrogen atom, Ar 1 thereof are also the present invention, It is included in the category of substituents represented by Ar 2 and Ar 3 .

上述した置換基Ar1、Ar2、およびAr3は、さらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基等を挙げることができ、これらは、Ar1、Ar2、およびAr3に対して直接結合していても、アルキレン基、アザアルキレン基、アルキニレン基、アザアルキニレン基あるいはアリーレン基等を介して結合していても良く、具体例としては、上述した一般式(13)の置換基Ar4およびAr5で表される、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基に対して置換していても良い置換基として例示したものと同一の置換基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 The above-described substituents Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 may be further substituted with other substituents, such as a hydroxyl group, a mercapto group, a cyano group, a nitro group, Halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, acyl group, alkoxyl group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, dialkyl An amino group, an arylamino group, a diarylamino group, an alkylarylamino group, a benzylamino group, a dibenzylamino group and the like can be mentioned, and these are directly bonded to Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 . Through an alkylene group, an azaalkylene group, an alkynylene group, an azaalkynylene group, an arylene group, etc. Specific examples thereof include a substituted or unsubstituted aryl group and a substituted or unsubstituted heterocyclic group represented by the substituents Ar 4 and Ar 5 in the general formula (13) described above. The same substituents as those exemplified as the substituents which may be substituted may be mentioned, but are not limited thereto.

以下に具体的な構造を表すが、本発明のアミン化合物(B)の構造は、それらに限定されるものではない。   Specific structures are shown below, but the structure of the amine compound (B) of the present invention is not limited thereto.

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本発明のアミン化合物(B)は、最大吸収波長λmaxが325nmから400nmの波長領域にあり、かつ420nm以上のモル吸光係数εが0であることが好ましい。上記範囲以外のアミン化合物を使用すると、光増感剤として十分に機能しないか、または黄変が著しく、本発明における剥離シート用感エネルギー線重合性組成物の透明性が失われてしまうことがある。   The amine compound (B) of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength λmax in the wavelength region of 325 nm to 400 nm and a molar extinction coefficient ε of 420 nm or more is zero. If an amine compound other than the above range is used, it may not function sufficiently as a photosensitizer, or yellowing may be remarkable, and the transparency of the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet in the present invention may be lost. is there.

本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)と、アミン化合物(B)との比率については、特に限定されるわけではないが、感エネルギー線酸発生剤(A)1重量部に対して、0.01から5重量部のアミン化合物(B)を用いることが好ましい。この範囲より少ない量のアミン化合物(B)を用いると効果が認められないことがあり、この範囲より多い量のアミン化合物(B)を用いると、黄変が著しく、本発明における剥離シート用感エネルギー線重合性組成物の透明性が失われてしまうことがある。   The ratio of the energy sensitive acid generator (A) and the amine compound (B) of the present invention is not particularly limited, but with respect to 1 part by weight of the energy sensitive acid generator (A), It is preferable to use 0.01 to 5 parts by weight of the amine compound (B). If an amount of the amine compound (B) less than this range is used, the effect may not be observed. If an amount of the amine compound (B) greater than this range is used, yellowing is remarkable, and the release sheet feeling in the present invention The transparency of the energy beam polymerizable composition may be lost.

酸発生のメカニズムについては現在検討中であるが、おそらくアミン化合物(B)が光を吸収し励起され、それからの感エネルギー線酸発生剤(A)へのエネルギー移動に起因するのではないかと考察している。この際のエネルギー移動の効率が他の組み合わせに比較して、非常に良好なため、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)とアミン化合物(B)とを組み合わせることにより重合性物質の重合開始剤として著しく良好な効果を有する化合物の組み合わせを提供することができたものと思われる。   Although the mechanism of acid generation is currently under investigation, it is considered that the amine compound (B) is probably excited by absorbing light and then transferring energy to the energy-sensitive acid generator (A). is doing. Since the efficiency of energy transfer at this time is very good compared to other combinations, polymerization of the polymerizable substance can be achieved by combining the energy-sensitive linear acid generator (A) and the amine compound (B) of the present invention. It seems that it was possible to provide a combination of compounds having a remarkably good effect as an initiator.

次に、本発明のカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)について説明する。本発明のカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)は、感エネルギー線酸発生剤の存在下にエネルギー線による反応で硬化するものであれば、特に限定されるものではない。分子内にエポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基を有するポリオルガノシロキサンが好ましく、特に分子内にエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンが好ましい。   Next, the cation curable silicone resin (C) of the present invention will be described. The cationic curable silicone resin (C) of the present invention is not particularly limited as long as it is cured by a reaction with energy rays in the presence of an energy sensitive acid generator. A polyorganosiloxane having an epoxy group, oxetanyl group or vinyl ether group in the molecule is preferred, and a polyorganosiloxane having an epoxy group in the molecule is particularly preferred.

分子内にエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するものであって、直鎖状のもの、分岐鎖状のものまたはこれらの混合物であっても良い。前記ポリオルガノシロキサンに含有されるエポキシ基の種類は特に限定されないが、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)によって開環カチオン重合が進行するものであれば良い。具体的には、γ−グリシジルオキシプロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、β−(4−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基等が例示できる。かかる分子内にエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは上市されており、例えばローディア社製、商品名「シリコリースPOLY201」等が挙げられる。   The polyorganosiloxane having an epoxy group in the molecule has at least two epoxy groups in one molecule, and may be linear, branched, or a mixture thereof. The type of epoxy group contained in the polyorganosiloxane is not particularly limited as long as ring-opening cationic polymerization proceeds by the energy-sensitive linear acid generator (A) of the present invention. Specific examples include γ-glycidyloxypropyl group, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, β- (4-methyl-3,4-epoxycyclohexyl) propyl group, and the like. Such polyorganosiloxane having an epoxy group in the molecule is commercially available, and examples thereof include a product name “Silicolys POLY201” manufactured by Rhodia.

次に、本発明の支持基材(D)について説明する。本発明の支持基材(D)としては各種公知のものが特に制限なく使用でき、例えば、紙、プラスチック、プラスチックフィルム等が挙げられる。紙の具体例としては、ポリエチレンラミネート紙、グラシン紙、クレーコート紙、上質紙、コート紙、感熱紙、合成紙等が挙げられる。プラスチックとしては、ポリプロピレン、ポリエチレンポリエチレンテレフタレート、ポリアミド等の成形物等が挙げられるが、かかるプラスチック成型物は用途に応じて抽出成形機により成形された各種成形物や、シート状、フィルム状に成形されたものを使用することができ、またこれらはコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、易接着コート処理、印刷等の表面加工が施されたものを使用しても良い。本発明の支持基材(D)としては、特に紙や、プラスチックフィルムを使用するのが好ましい。   Next, the support base material (D) of the present invention will be described. As the support substrate (D) of the present invention, various known materials can be used without particular limitation, and examples thereof include paper, plastic, and plastic film. Specific examples of the paper include polyethylene laminated paper, glassine paper, clay coated paper, high quality paper, coated paper, thermal paper, synthetic paper, and the like. Examples of plastics include molded products such as polypropylene, polyethylene polyethylene terephthalate, and polyamide. Such plastic molded products are molded into various molded products, sheets, and films formed by an extraction molding machine depending on the application. In addition, those subjected to surface processing such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, easy adhesion coating treatment, printing, etc. may be used. As the support substrate (D) of the present invention, it is particularly preferable to use paper or a plastic film.

本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)は酸発生剤として十分高い感度を有しているが、他の酸発生剤と併用して用いることも可能である。感エネルギー線酸発生剤(A)と併用することが可能な酸発生剤は特に限定されず、「PAG」、「酸発生剤」、「光酸発生剤」、「光重合開始剤」、「カチオン重合開始剤」、「重合触媒」等の名称で業界公知の材料を適宜選択して使用することできる。また、他の酸発生剤を使用する場合は、単独または複数組み合わせて使用することも可能である。   The energy-sensitive acid generator (A) of the present invention has a sufficiently high sensitivity as an acid generator, but can also be used in combination with other acid generators. The acid generator that can be used in combination with the energy-sensitive linear acid generator (A) is not particularly limited, and “PAG”, “acid generator”, “photoacid generator”, “photopolymerization initiator”, “ Materials known in the industry under names such as “cationic polymerization initiator” and “polymerization catalyst” can be appropriately selected and used. Moreover, when using another acid generator, it is also possible to use individually or in combination.

本発明の感エネルギー線酸発生剤と併用することが可能な他の感エネルギー線酸発生剤としては、まず、オニウム塩系化合物が挙げられる。このようなオニウム塩系化合物の例としては、スルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、ホスホニウム塩系、ジアゾニウム塩系、ピリジニウム塩系、ベンゾチアゾリウム塩系、スルホキソニウム塩系、フェロセン系の化合物が挙げられ、これらの構造は特に限定されず、ジカチオンなどの多価カチオン構造を有していてもよく、カウンターアニオンも公知のものを適宜、選択して使用することができる。   Examples of other energy sensitive acid generators that can be used in combination with the energy sensitive acid generator of the present invention include onium salt compounds. Examples of such onium salt compounds include sulfonium salt compounds, iodonium salt compounds, phosphonium salt compounds, diazonium salt compounds, pyridinium salt compounds, benzothiazolium salt compounds, sulfoxonium salt compounds, and ferrocene compounds. These structures are not particularly limited, and may have a polyvalent cation structure such as a dication, and known counter anions can be appropriately selected and used.

また、本発明の感エネルギー線酸発生剤と併用することが可能なオニウム塩以外の感エネルギー線酸発生剤としては、ニトロベンジルスルホナート類、アルキルまたはアリール−N−スルホニルオキシイミド類、ハロゲン化されていてもよいアルキルスルホン酸エステル類、1,2−ジスルホン類、オキシムスルホナート類、ベンゾイントシラート類、β−ケトスルホン類、β−スルホニルスルホン類、ビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタン類、イミノスルホナート類、イミドスルホナート類、トリハロメチルトリアジン類などのトリハロアルキル基を有する化合物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the energy-sensitive linear acid generator other than the onium salt that can be used in combination with the energy-sensitive linear acid generator of the present invention include nitrobenzyl sulfonates, alkyl or aryl-N-sulfonyloxyimides, and halogenated compounds. Alkylsulfonic acid esters, 1,2-disulfones, oxime sulfonates, benzoin tosylates, β-ketosulfones, β-sulfonylsulfones, bis (alkylsulfonyl) diazomethanes, iminosulfonates Compounds having a trihaloalkyl group, such as imide sulfonates, trihalomethyltriazines, and the like, but are not limited thereto.

本発明で用いられる感エネルギー線酸発生剤(A)と併用する他の酸発生剤の比率は特に限定されないが、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)100重量部に対して0〜99重量部の範囲で使用することが好ましい。   The ratio of the other acid generator used in combination with the energy sensitive acid generator (A) used in the present invention is not particularly limited, but it is 0 to 100 parts by weight of the energy sensitive acid generator (A) of the present invention. It is preferable to use in the range of 99 parts by weight.

また、本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、感エネルギー線酸発生剤(A)とアミン化合物(B)とを使用した効果により、その他増感剤を用いなくともエネルギー線、特に350nmから450nmの波長領域の光照射に対して非常に迅速かつ確実に硬化することが可能であるが、必要に応じてその他増感剤を併用して用いてもよい。   Moreover, the energy sensitive ray polymerizable composition for the release sheet of the present invention is an energy ray without using any other sensitizer due to the effect of using the energy sensitive acid generator (A) and the amine compound (B), In particular, it can be cured very quickly and reliably with respect to light irradiation in the wavelength region of 350 nm to 450 nm, but other sensitizers may be used in combination as required.

本発明と併用することができるその他増感剤の例としては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペリレン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、フェノチアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、カルバゾール誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体等があげられ、その他さらに具体的には大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(1981年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」(1986年、シーエムシー)、フォトポリマー懇話会編、「感光材料リストブック」(1996年、ぶんしん出版)に記載の色素および増感剤があげられるがこれらに限定されるものではなく、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。   Examples of other sensitizers that can be used in combination with the present invention include condensed polycyclic aromatic derivatives such as naphthalene derivatives, anthracene derivatives, phenanthrene derivatives, pyrene derivatives, naphthacene derivatives, perylene derivatives, pentacene derivatives, acridine derivatives, benzoates Unsaturated ketones such as thiazole derivatives, chalcone derivatives and dibenzalacetone, 1,2-diketone derivatives such as benzyl and camphorquinone, benzoin derivatives, fluorene derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives , Thioxanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, merocyanine derivatives, oxonol derivatives and other polymethine dyes, acridine derivatives, azine Conductor, thiazine derivative, phenothiazine derivative, oxazine derivative, indoline derivative, azulene derivative, azurenium derivative, squarylium derivative, porphyrin derivative, tetraphenylporphyrin derivative, triarylmethane derivative, tetrabenzoporphyrin derivative, tetrapyrazinoporphyrazine derivative, phthalocyanine derivative , Tetraazaporphyrazine derivatives, tetraquinoxalyloporphyrazine derivatives, naphthalocyanine derivatives, subphthalocyanine derivatives, pyrylium derivatives, thiopyrylium derivatives, tetraphyrin derivatives, annulene derivatives, spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, carbazole derivatives, Metal arene complexes, organoruthenium complexes, etc. Edited by Nobu Okawara, "Dye Handbook" (1986, Kodansha), Nobu Okawara et al., "Chemicals of Functional Dye" (1981, CMC), edited by Tadasaburo Ikemori, "Special Functional Materials" (1986) Dyes and sensitizers described in “Photographic Material List Book” (1996, published by Bunshin Publishing Co., Ltd.), but not limited to these, are necessary. Depending on, two or more kinds may be used in any ratio.

これらの増感剤のうち、好ましいものとしては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体の縮合多環芳香族誘導体および、フェノチアジン誘導体、カルバゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体が挙げられ、中でも特に好ましいものとして、アントラセン誘導体が挙げられる。   Among these sensitizers, preferred are naphthalene derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives of anthracene derivatives, and phenothiazine derivatives, carbazole derivatives, and benzothiazole derivatives. Among them, anthracene derivatives are particularly preferred. It is done.

これらの具体例としては、アントラセン、1−アントラセンカルボン酸、2−アントラセンカルボン酸、9−アントラセンカルボン酸、9−アントラアルデヒド、9,10−ビス(クロロメチル)アントラセン、9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセン、9−ブロモアントラセン、1−クロロ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセン、9−シアノアントラセン、9,10−ジブロモアントラセン、9,10−ジシアノアントラセン、9,10−ジメチルアントラセン、9,10−ジブチルアントラセン、9,10−ジフェニルアントラセン、9,10−ジ−p−トリルアントラセン、9,10−ビス(p−メトキシフェニル)アントラセン、2−ヒドロキシメチルアントラセン、9−ヒドロキシメチルアントラセン、9−メチルアントラセン、9−フェニルアントラセン、9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、9,10−ジブトキシアントラセン、9,10−ジフェノキシアントラセン、9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸ナトリウム、1,4,9,10−テトラヒドロキシアントラセン、2,2,2−トリフルオロー1−(9−アンスリル)エタノール、1,8,9−トリヒドロキシアントラセン、1,8−ジメトキシ−9,10−ビス(フェニルエチニル)アントラセン、9−ビニルアントラセン、9−アントラセンメタノール、9−アントラセンメタノールのトリメチルシロキシエーテル、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ−m−トリル−ビフェニル−4,4’−ジアミン、フェノチアジン、N−エチルカルバゾール、N−フェニルカルバゾール、1−メトキシナフタレン、2−メトキシナフタレン、1,4−ジメトキシナフタレン等が挙げられる。   Specific examples thereof include anthracene, 1-anthracene carboxylic acid, 2-anthracene carboxylic acid, 9-anthracene carboxylic acid, 9-anthracaldehyde, 9,10-bis (chloromethyl) anthracene, 9,10-bis (phenyl). Ethynyl) anthracene, 9-bromoanthracene, 1-chloro-9,10-bis (phenylethynyl) anthracene, 9-cyanoanthracene, 9,10-dibromoanthracene, 9,10-dicyanoanthracene, 9,10-dimethylanthracene, 9,10-dibutylanthracene, 9,10-diphenylanthracene, 9,10-di-p-tolylanthracene, 9,10-bis (p-methoxyphenyl) anthracene, 2-hydroxymethylanthracene, 9-hydroxymethylanthracene, -Methylanthracene, 9-phenylanthracene, 9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 9,10-dibutoxyanthracene, 9,10-diphenoxyanthracene, 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfone Acid sodium, 1,4,9,10-tetrahydroxyanthracene, 2,2,2-trifluoro-1- (9-anthryl) ethanol, 1,8,9-trihydroxyanthracene, 1,8-dimethoxy-9, 10-bis (phenylethynyl) anthracene, 9-vinylanthracene, 9-anthracenemethanol, trimethylsiloxy ether of 9-anthracenemethanol, N, N′-diphenyl-N, N′-di-m-tolyl-biphenyl-4, 4'-diamine, phenothiazine N- ethylcarbazole, N- phenyl carbazole, 1-methoxynaphthalene, 2-methoxynaphthalene, 1,4-dimethoxy naphthalene.

上記その他増感剤を併用する場合の添加量は特に限定されないが、本発明の感エネルギー線酸発生剤(A)100重量部に対し、0〜100重量部が好ましい。   Although the addition amount in the case of using said other sensitizer together is not specifically limited, 0-100 weight part is preferable with respect to 100 weight part of energy-sensitive linear acid generators (A) of this invention.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物には、必要に応じて各種公知の添加剤、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料等を添加することもできる。場合によっては、ケイ素化合物等を本発明の目的を逸脱しない範囲で添加しても良い。   In the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention, various known additives such as a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifoaming agent, and a leveling agent are used as necessary. A pigment or the like can also be added. In some cases, a silicon compound or the like may be added without departing from the object of the present invention.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして支持基材(D)上に塗布して用いることができる。ここで使用する溶媒は、本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を均一に溶解できるものであれば特に限定されない。具体例としては1,1,2,2−テトラクロロエタン、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルメトキシプロピオナート、エチルエトキシプロピオナート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、エチレングリコールモノエチルエ一テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テル、プロピレングリコールモノメチルエ一テルアセテート、トルエン、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸メチル、乳酸エチル、エトキシプロピオン酸エチル、N,N一ジメチルホルムアミド、N,N一ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドンなどが好ましく、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。   The energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention can be used by dissolving it in a solvent that dissolves each of the above components and applying it to the support substrate (D). The solvent used here is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention. Specific examples include 1,1,2,2-tetrachloroethane, ethylene dichloride, cyclohexanone, cyclopentanone, γ-butyrolactone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypro Pionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, toluene, ethyl acetate, isoamyl acetate, methyl lactate, Ethyl lactate, ethyl ethoxypropionate, N, N monodimethylformamide, N, N monodimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrole Are preferred, such as down, the use of these solvents alone or in combination.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物の感エネルギー線酸発生剤(A)から酸を発生させ、カチオン硬化性シリコーン樹脂(C)を重合または架橋させるために使用するエネルギー線は、感エネルギー線酸発生剤(A)またはアミン化合物(B)が吸収して、感エネルギー線酸発生剤(A)が分解し、酸を発生できるものであり、支持基材(D)にダメージを与えないものであれば特に限定されない。このようなエネルギー線の例としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、キセノンランプ、パルス発光キセノンランプ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、Nd−YAG3倍波レーザー、He−Cdレーザー、窒素レーザー、Xe−Clエキシマレーザー、Xe−Fエキシマレーザー、半導体励起固体レーザー等の300nmから450nmの波長領域に発光波長を有するレーザーも好適なエネルギー線源等が挙げられる。また、電子線も好適なエネルギー線源として使用することが可能である。また、これらの光源は適宜、フィルター、ミラー、レンズ等の光学機器を介して照射することも可能である。さらに、支持基材(D)を劣化させない範囲で必要に応じて、例えば加熱硬化等の他の硬化手段を併用しても良い。上記加熱硬化を併用する場合の加熱温度は特に限定されるものではないが、50〜200℃であることが好ましい。   The energy rays used to generate an acid from the energy sensitive linear acid generator (A) of the energy sensitive ray polymerizable composition for the release sheet of the present invention and to polymerize or crosslink the cation curable silicone resin (C), Energy-sensitive linear acid generator (A) or amine compound (B) absorbs energy-sensitive linear acid generator (A) and decomposes to generate an acid, which damages the supporting substrate (D). If it does not give, it will not specifically limit. Examples of such energy rays include, but are not limited to, ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, mercury xenon lamps, metal halide lamps, high power metal halide lamps, xenon lamps, and pulsed xenon lamps. Absent. Also suitable are lasers having an emission wavelength in the wavelength region of 300 nm to 450 nm, such as Nd-YAG triple wave laser, He-Cd laser, nitrogen laser, Xe-Cl excimer laser, Xe-F excimer laser, and semiconductor excitation solid laser. An energy ray source etc. are mentioned. An electron beam can also be used as a suitable energy beam source. In addition, these light sources can be appropriately irradiated through optical devices such as filters, mirrors, and lenses. Furthermore, you may use together other hardening means, such as heat hardening, for example as needed in the range which does not degrade a support base material (D). Although the heating temperature in the case of using the said heat curing together is not specifically limited, It is preferable that it is 50-200 degreeC.

本発明の剥離シートは、支持基材(D)の少なくとも1面に本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物でシリコーン剥離層を形成した後、活性エネルギー線を照射することで剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を硬化させてなるものであるが、支持基材(D)とシリコーン剥離層との中間に、支持基材(D)とシリコーン剥離層の両方に対しての密着性を向上させるため、また印刷処理された支持基材(D)からカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)へのインキやインキ内の添加物の染み出しを防ぐ目的で、各種公知の目止め層を設けても良い。   The release sheet of the present invention is formed by irradiating active energy rays after forming a silicone release layer on the at least one surface of the support substrate (D) with the energy sensitive ray polymerizable composition for the release sheet of the present invention. It is formed by curing an energy-sensitive polymerizable composition for use, and is in close contact with both the support substrate (D) and the silicone release layer between the support substrate (D) and the silicone release layer. Various well-known sealing layers are used for the purpose of preventing the bleeding of the ink and additives in the cation curable silicone resin (C) from the printed support substrate (D) in order to improve the properties. It may be provided.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を支持基材(D)または目止め層へ塗布する場合には公知のいかなる方法も使用することができる。例えば、バーコーター、アプリケーター、ロールコーター、メイヤーバー、ワイヤーバー、ブレードコーター、エアナイフコーター、カレンダー法、押し出し塗工、コンマコーター、ダイコーター、リップコーター、グラビア、カーテンコーター、マイクログラビアコーター、スライドコーター等による塗工、ディスペンス法、スタンピング法、スクリーン印刷法などの塗布方法が挙げられる。   When the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention is applied to the supporting substrate (D) or the sealing layer, any known method can be used. For example, bar coater, applicator, roll coater, Mayer bar, wire bar, blade coater, air knife coater, calendar method, extrusion coating, comma coater, die coater, lip coater, gravure, curtain coater, micro gravure coater, slide coater, etc. And coating methods such as coating, dispensing, stamping, and screen printing.

支持基材(D)または目止め層上に塗布する本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物の塗工量は、支持基材(D)または目止め層の種類により異なるが、0.1〜20g/m2、より好ましくは0.5〜10g/m2である。組成物の塗工量が0.1g/m2未満と極端に少ないと支持基材(D)または目止め層上に均一なシリコーン剥離層をなす事が困難であり、剥離性を悪くする。また組成物の塗工量が20g/m2を超えて多くしても特性上変わらず、コストのみ上がって好ましくない。 The coating amount of the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention applied on the supporting substrate (D) or the sealing layer varies depending on the type of the supporting substrate (D) or the sealing layer. .1 to 20 g / m 2 , more preferably 0.5 to 10 g / m 2 . When the coating amount of the composition is extremely small as less than 0.1 g / m 2, it is difficult to form a uniform silicone release layer on the supporting substrate (D) or the sealing layer, and the peelability is deteriorated. Further, even if the coating amount of the composition exceeds 20 g / m 2 , the properties do not change, and only the cost increases, which is not preferable.

本発明の剥離シートの最も一般的な製造方法としては、支持基材(D)または目止め層上に本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を塗布し、その後、上記記載のエネルギー線を照射してシリコーン剥離層を形成する。さらに、必要に応じて支持基材(D)、目止め層またはシリコーン剥離層を劣化させない範囲で加熱してもよい。   As the most general production method of the release sheet of the present invention, the energy-sensitive polymerizable composition for the release sheet of the present invention is applied on the support substrate (D) or the sealing layer, and then the energy described above. A silicone release layer is formed by irradiating a line. Furthermore, you may heat in the range which does not degrade a support base material (D), a sealing layer, or a silicone peeling layer as needed.

以下、実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例のみになんら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to only the following Example at all.

本発明の実施例および比較例に使用した酸発生剤、アミン化合物、および増感剤の構造を以下に示した。   The structures of the acid generator, the amine compound, and the sensitizer used in Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below.

表1

Figure 2009013317
Table 1
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実施例で使用した市販されている感エネルギー線酸発生剤は、以下の通りである。
「サイラキュアーUVI−6992」:ダウ・ケミカル日本株式会社製、スルホニウム・PF6 -塩、
「サイラキュアーUVI−6974」:ダウ・ケミカル日本株式会社製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「アデカオプトマーSP150」:株式会社ADEKA製、スルホニウム・PF6 -塩、
「アデカオプトマーSP152」:株式会社ADEKA製、スルホニウム・PF6 -塩、
「アデカオプトマーSP170」:株式会社ADEKA製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「アデカオプトマーSP172」:株式会社ADEKA製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「IRGACURE250」:チバスペシャルティーケミカルズ社製、ヨードニウム・PF6 -塩、
「CI−5102」:日本曹達社製、ヨードニウム・PF6 -塩、
「CI−2855」:日本曹達社製、ヨードニウム・PF6 -塩、
「サンエイドSI−60L」:三新化学社製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「サンエイドSI−80L」:三新化学社製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「サンエイドSI−100L」:三新化学社製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「サンエイドSI−110L」:三新化学社製、スルホニウム・PF6 -塩、
「サンエイドSI−180L」:三新化学社製、スルホニウム・PF6 -塩、
「CPI−100P」:サンアプロ株式会社製、スルホニウム・PF6 -塩、
「CPI−100A」:サンアプロ株式会社製、スルホニウム・SbF6 -塩、
「WPI−113」:和光純薬社製、ヨードニウム・PF6 -塩、
「WPI−116」:和光純薬社製、ヨードニウム・SbF6 -塩、
「WPI−041」:和光純薬社製、スルホニウム・ヨードニウム・PF6 -塩、
「WPI−044」:和光純薬社製、スルホニウム・ヨードニウム・PF6 -塩、
「WPI−054」:和光純薬社製、スルホニウム・ヨードニウム・PF6 -塩、
「WPI−055」:和光純薬社製、スルホニウム・ヨードニウム・PF6 -塩、
なお、上記感エネルギー線酸発生剤は、一部プロピレンカーボネート溶液で市販されている。実施例、比較例での感エネルギー線酸発生剤の添加量は、重量濃度、オニウム塩の分子量から換算したオニウム塩だけの添加量であり、溶剤の重量は含まれていない。
Commercially available energy sensitive acid generators used in the examples are as follows.
"Cyracure UVI-6992": Dow Chemical Japan Co., Ltd., sulfonium · PF 6 - salt,
"Cyracure UVI-6974": Dow Chemical Japan Co., Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"ADEKAOPTOMER SP150": ADEKA Corporation, Ltd., sulfonium · PF 6 - salt,
"ADEKAOPTOMER SP152": ADEKA Corporation, Ltd., sulfonium · PF 6 - salt,
"ADEKAOPTOMER SP170": ADEKA Corporation, Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"ADEKAOPTOMER SP172": ADEKA Corporation, Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"IRGACURE250": Ciba Specialty Chemicals Inc., iodonium · PF 6 - salt,
"CI-5102": manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., iodonium · PF 6 - salt,
"CI-2855": manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., iodonium · PF 6 - salt,
"San-Aid SI-60L": Three New Chemical Co., Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"San-Aid SI-80L": Three New Chemical Co., Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"San-Aid SI-100L": Three New Chemical Co., Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"San-Aid SI-110L": Three New Chemical Co., Ltd., sulfonium · PF 6 - salt,
"San-Aid SI-180L": Three New Chemical Co., Ltd., sulfonium · PF 6 - salt,
"CPI-100P": San-Apro Ltd., sulfonium · PF 6 - salt,
"CPI-100A": San-Apro Ltd., sulfonium · SbF 6 - salt,
"WPI-113": manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., iodonium · PF 6 - salt,
"WPI-116": manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., iodonium · SbF 6 - salt,
"WPI-041": manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., sulfonium, iodonium · PF 6 - salt,
"WPI-044": manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., sulfonium, iodonium · PF 6 - salt,
"WPI-054": manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., sulfonium, iodonium · PF 6 - salt,
"WPI-055": manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., sulfonium, iodonium · PF 6 - salt,
The energy-sensitive acid generator is partially marketed as a propylene carbonate solution. The addition amount of the energy-sensitive linear acid generator in Examples and Comparative Examples is the addition amount of only the onium salt converted from the weight concentration and the molecular weight of the onium salt, and does not include the weight of the solvent.

実施例1
本発明の感エネルギー線酸発生剤として、「サイラキュアーUVI−6992」を1重量部と、アミン化合物として化合物(15)を0.2重量部と、カチオン硬化性シリコーン樹脂(商品名「シリコリースPOLY201」、ローディア社製)を100重量部と、希釈溶剤としてイソプロピルアルコール4重量部とを混合し、剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を作製した。この剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を硬化後の膜厚が2μmとなるようにポリエチレンラミネート紙(75g/m2)に塗布した後、120W/cmのメタルハライドランプを用いて、50m/分のコンベアに乗せて通すことにより、剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を硬化させ、剥離シートを得た。得られた剥離シートについて、各項目の評価を行った。結果を表2に示した。
Example 1
As an energy-sensitive linear acid generator of the present invention, 1 part by weight of “Syracure UVI-6992”, 0.2 part by weight of compound (15) as an amine compound, a cationic curable silicone resin (trade name “Silicolys POLY201”). ”, Produced by Rhodia Co., Ltd.) and 4 parts by weight of isopropyl alcohol as a diluent solvent were mixed to prepare an energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet. After applying this energy-sensitive polymerizable composition for release sheet to polyethylene laminated paper (75 g / m 2 ) so that the film thickness after curing is 2 μm, using a 120 W / cm metal halide lamp, 50 m / min. The energy-sensitive polymerizable composition for release sheet was cured by passing it on a conveyor, and a release sheet was obtained. Each item was evaluated about the obtained peeling sheet. The results are shown in Table 2.

実施例および比較例の評価は、以下の評価方法を用いた。   The following evaluation methods were used for evaluation of Examples and Comparative Examples.

(1)硬化性
実施例または比較例で得られた剥離シートを指で軽く擦った際の表面状態を目視評価した。
○:擦った跡が残らず、硬化が十分である。
×:擦った跡が残り、硬化が不十分である。
(1) Curability The surface state when the release sheet obtained in Example or Comparative Example was lightly rubbed with a finger was visually evaluated.
○: No trace of rubbing remains and curing is sufficient.
X: Rubbed traces remain and curing is insufficient.

(2)密着性
実施例または比較例で得られた剥離シートを指で強く5往復擦った時の脱落を評価した。
○:脱落がなく、密着性が十分である。
△:やや脱落があり、密着性が十分ではない。
×:脱落が大きく、密着性が不十分である。
(2) Adhesiveness The drop-off when the release sheet obtained in the example or comparative example was rubbed with a finger 5 times was evaluated.
○: No dropout and sufficient adhesion.
(Triangle | delta): There exists some omission and adhesiveness is not enough.
X: Dropping is large and adhesion is insufficient.

実施例2〜39および比較例1〜12
実施例1の感エネルギー線酸発生剤1重量部を、表2に示した感エネルギー線酸発生剤それぞれ1重量部に、アミン化合物0.2重量部を表2に示したアミン化合物または増感剤それぞれ0.2重量部に置き替えた他は、実施例1と全く同一の所作にて剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を調整し、剥離シートを得た。得られた剥離シートの硬化性、密着性の評価結果を表2に示した。
Examples 2-39 and Comparative Examples 1-12
1 part by weight of the energy-sensitive linear acid generator of Example 1 is 1 part by weight of each of the energy-sensitive linear acid generators shown in Table 2, and 0.2 parts by weight of the amine compound is shown in Table 2 or sensitization. Except having replaced 0.2 parts by weight of each agent, the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet was prepared in exactly the same manner as in Example 1 to obtain a release sheet. Table 2 shows the evaluation results of the curability and adhesion of the obtained release sheet.

表2

Figure 2009013317
Table 2
Figure 2009013317

Figure 2009013317
Figure 2009013317

実施例1〜39のように、本発明の感エネルギー線酸発生剤とアミン化合物とを用いた剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、少ない活性エネルギー線の照射量で剥離シートを作成することが出来た。また、得られた剥離シートは、硬化性、密着性に特に優れた特性を有していた。一方、本発明以外の感エネルギー線酸発生剤を用いた場合(比較例1〜4)、本発明のアミン化合物を用いなかった場合(比較例5〜12)は、所定の活性エネルギー線の照射量では十分な硬化が進行せず、目的の剥離シートが得ることが出来ない結果となった。   As in Examples 1 to 39, the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet using the energy-sensitive acid generator and amine compound of the present invention creates a release sheet with a small amount of active energy ray irradiation. I was able to. Further, the obtained release sheet had particularly excellent characteristics in curability and adhesion. On the other hand, when an energy-sensitive linear acid generator other than the present invention is used (Comparative Examples 1 to 4) and when the amine compound of the present invention is not used (Comparative Examples 5 to 12), irradiation with a predetermined active energy ray is performed. When the amount was sufficient, curing did not proceed and the desired release sheet could not be obtained.

実施例40
実施例1で得られた剥離シート上に両面粘着テープ(商品名「Double−Face」、東洋インキ製造(株)製)を貼り付け、25℃で20g/cm2の荷重下に放置した。1日後、および7日後に、180度の角度に剥離速度300mm/分で貼り付けた粘着テープを引き剥がし、剥離に要した力(g/50mm)を測定することで、剥離時の負荷、および剥離負荷の経時変化を評価した。結果を表3に示した。
Example 40
A double-sided pressure-sensitive adhesive tape (trade name “Double-Face”, manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) was attached to the release sheet obtained in Example 1, and left at 25 ° C. under a load of 20 g / cm 2 . 1 day and 7 days later, the adhesive tape attached at an angle of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min was peeled off, and the force required for peeling (g / 50 mm) was measured, and the load during peeling, and The change with time of the peeling load was evaluated. The results are shown in Table 3.

実施例41〜78
実施例40の剥離シートを、表3に示した剥離シートに置き替えた他は、実施例40と全く同一の所作にて剥離時の負荷、および剥離負荷の経時変化を評価した。結果を表3に示した。
Examples 41-78
Except that the release sheet of Example 40 was replaced with the release sheet shown in Table 3, the load at the time of peeling and the change with time of the peeling load were evaluated in exactly the same manner as in Example 40. The results are shown in Table 3.

表3

Figure 2009013317
Table 3
Figure 2009013317

Figure 2009013317
Figure 2009013317

本発明の感エネルギー線酸発生剤を用いた剥離シートは、優れた剥離特性を有しており、尚且つ経時的に安定した剥離負荷を示す(実施例40〜78)。一方、本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を用いなかった場合、比較例1〜12のように十分な硬化性を有する剥離シートを作成できなかったために、実施例40〜78と同様の評価をすることが出来なかった。   The release sheet using the energy-sensitive linear acid generator of the present invention has excellent release characteristics and exhibits a stable release load over time (Examples 40 to 78). On the other hand, when the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention was not used, since release sheets having sufficient curability as in Comparative Examples 1 to 12 could not be created, Examples 40 to 78 and A similar evaluation could not be made.

本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、少ない活性エネルギー線の照射量で硬化することが出来た。また、本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物は、特定の構造を有する感エネルギー線酸発生剤(A)と、アミン化合物(B)とを使用していることにより、少量のエネルギー線の照射においても、効率的に非常に強い酸を発生するため、活性エネルギー線の照射時間の短縮による作業性の向上や、エネルギー線照射による支持基材の劣化を低減することも可能である。さらに本発明の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を使用することで、経時しても剥離力の変化が少ない、安定した剥離性能を有する剥離シートを提供し得る。   The energy sensitive ray polymerizable composition for release sheet of the present invention could be cured with a small amount of active energy ray irradiation. Further, the energy-sensitive radiation polymerizable composition for release sheet of the present invention uses a small amount of energy by using the energy-sensitive linear acid generator (A) having a specific structure and the amine compound (B). Even in the irradiation of rays, very strong acid is efficiently generated, so it is possible to improve workability by shortening the irradiation time of active energy rays and to reduce the deterioration of the supporting substrate due to the irradiation of energy rays. . Further, by using the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet of the present invention, a release sheet having a stable release performance with little change in release force over time can be provided.

Claims (6)

下記一般式(1)で表記される感エネルギー線酸発生剤(A)と、下記一般式(2)で表記されるアミン化合物(B)とカチオン硬化性シリコーン樹脂(C)とを含んでなる剥離シート用感エネルギー線重合性組成物。
一般式(1)
Figure 2009013317



(ただし、L+は、任意のカチオンを表す。
また、X-は、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンを表す。)
一般式(2)
Figure 2009013317



(式中、Ar1、Ar2、Ar3は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基を表す。
また、Ar1とAr2、Ar1とAr3、もしくはAr2とAr3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。)
An energy-sensitive linear acid generator (A) represented by the following general formula (1), an amine compound (B) represented by the following general formula (2), and a cation curable silicone resin (C) An energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet.
General formula (1)
Figure 2009013317



(However, L + represents an arbitrary cation.
X represents an anion selected from PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN . )
General formula (2)
Figure 2009013317



(Wherein, Ar 1, Ar 2, Ar 3 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
Ar 1 and Ar 2 , Ar 1 and Ar 3 , or Ar 2 and Ar 3 may be bonded to each other to form a ring structure. )
感エネルギー線酸発生剤(A)が、下記一般式(3)で表記されるスルホニウム塩または下記一般式(4)で表記されるヨードニウム塩である請求項1記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物。


一般式(3)
Figure 2009013317



(ただし、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換の複素環オキシ基、置換もしくは未置換のアシル基、置換もしくは未置換のカルボニルオキシ基、置換もしくは未置換のオキシカルボニル基、またはハロゲン原子より選ばれる基を表す。
また、R1 とR2 、R1 とR3 、もしくはR2 とR3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
また、X-は、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンを表す。)
一般式(4)
Figure 2009013317



(ただし、Ar4、Ar5は、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基のいずれかを表す。
また、X-は、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、ジチオカルバメートアニオン、SCN-より選ばれるアニオンを表す。)
2. The energy sensitive linear polymerization for release sheet according to claim 1, wherein the energy sensitive acid generator (A) is a sulfonium salt represented by the following general formula (3) or an iodonium salt represented by the following general formula (4). Sex composition.


General formula (3)
Figure 2009013317



(However, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted complex, Cyclic group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group, substituted or unsubstituted acyl group, substituted or unsubstituted carbonyloxy group, substituted or unsubstituted It represents a group selected from a substituted oxycarbonyl group or a halogen atom.
R 1 And R 2 , R 1 And R 3 or R 2 And R 3 may be bonded to each other to form a ring structure.
X represents an anion selected from PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN . )
General formula (4)
Figure 2009013317



(However, Ar 4 and Ar 5 each represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
X represents an anion selected from PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , SbCl 6 , BiCl 5 , SnCl 6 , ClO 4 , dithiocarbamate anion, and SCN . )
-が、PF6 -、SbF6 -のいずれかから選ばれる請求項1または2記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物。 Wherein X -, PF 6 -, SbF 6 - claim 1 or 2 release sheet for sensitive energy ray polymerizable composition according selected from either. カチオン硬化性シリコーン樹脂(C)が、分子内にエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンである請求項1〜3いずれか記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物。   The energy-sensitive polymerizable composition for a release sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the cationic curable silicone resin (C) is a polyorganosiloxane having an epoxy group in the molecule. 支持基材(D)と請求項1〜4いずれか記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物を重合させてなるシリコーン剥離層とからなる剥離シート。   A release sheet comprising a support substrate (D) and a silicone release layer obtained by polymerizing the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet according to any one of claims 1 to 4. 支持基材(D)の少なくとも1面に請求項1〜4いずれか記載の剥離シート用感エネルギー線重合性組成物でシリコーン剥離層を形成した後、活性エネルギー線を照射することを特徴とする剥離シートの製造方法。   A silicone release layer is formed on the at least one surface of the support substrate (D) with the energy-sensitive polymerizable composition for release sheet according to any one of claims 1 to 4, and then irradiated with active energy rays. A method for producing a release sheet.
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