JP2009009991A - Light source device, projector, and monitor device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light source device improved in heat dissipation performance; a projector; and a monitor device. <P>SOLUTION: The light source device 1 has a support 11 and a semiconductor laser chip 12 mounted on the support 11, wherein the semiconductor laser chip 12 has an emitter 12a emitting light and an anode electrode 14 formed on a surface opposed to the support 11, which has a base electrode 9 formed on a surface opposed to the semiconductor laser chip 12, the anode electrode and base electrode 9 being electrically connected to each other through a bonding member 7 containing a bonding material 5 and a heat-conductive member 6, having larger heat conductivity than the bonding material 5, in the bonding material 5. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光源装置、プロジェクタ、モニタ装置に関する。   The present invention relates to a light source device, a projector, and a monitor device.

従来の電子装置においては、基台上に載置されたサブマウント上に素子チップを配置していた。また、基台とサブマウントとの接続、及びサブマウントと素子チップとの接続にはんだが用いられていた。(特許文献1)
特開平11−307875号公報
In a conventional electronic device, an element chip is arranged on a submount placed on a base. Also, solder has been used for connection between the base and the submount and between the submount and the element chip. (Patent Document 1)
JP-A-11-307875

ところが、はんだの熱伝導率が小さいのではんだにより熱の伝達が阻害され、このような接続方法では、素子チップからサブマウントへの放熱を効率的に行うことができない。その結果、半導体レーザチップの温度が上昇し、レーザ特性に影響を与えている。   However, since the thermal conductivity of the solder is small, heat transfer is hindered by the solder, and with such a connection method, heat dissipation from the element chip to the submount cannot be performed efficiently. As a result, the temperature of the semiconductor laser chip rises, affecting the laser characteristics.

本発明は、放熱性を向上させた光源装置、プロジェクタ、及びモニタ装置を提供することを目的とするものである。   It is an object of the present invention to provide a light source device, a projector, and a monitor device that have improved heat dissipation.

支持体と、前記支持体に載置された発光素子とを備えた光源装置であって、前記発光素子は、光を射出する発光部と、前記支持体に対向する面に形成された素子電極とを有し、前記支持体は、前記発光素子と対向する面に形成された支持体電極を有し、前記素子電極と前記支持体電極とが、接合材と、前記接合材中に前記接合材より熱伝導率の大きな伝熱部材とを含む接合部材を介して導電接続されていることを特徴とする光源装置である。
このような構造を備えることで、前記素子電極と前記支持体電極とが、接合材と、前記接合材中に前記接合材より熱伝導率の大きな伝熱部材とを含む接合部材を介して導電接続されているので、発光素子で発生した熱は、接合部材中の熱伝導率の大きな伝熱部材を介して確実に支持体に放熱される。これにより、前記発光素子の自己発熱による温度上昇を抑え、前記発光素子の特性を安定化できる。
A light source device including a support and a light-emitting element mounted on the support, wherein the light-emitting element is a light-emitting unit that emits light, and an element electrode formed on a surface facing the support And the support has a support electrode formed on a surface facing the light emitting element, and the element electrode and the support electrode are bonded to each other in a bonding material and the bonding material. The light source device is characterized in that it is conductively connected through a joining member including a heat transfer member having a higher thermal conductivity than the material.
By providing such a structure, the element electrode and the support electrode are electrically connected via a bonding member including a bonding material and a heat transfer member having a higher thermal conductivity than the bonding material in the bonding material. Since it is connected, the heat generated in the light emitting element is reliably radiated to the support through the heat transfer member having a high thermal conductivity in the joining member. Thereby, the temperature rise by the self-heating of the light emitting element can be suppressed and the characteristics of the light emitting element can be stabilized.

前記伝熱部材は、前記素子電極及び前記支持体電極と接触していることが好ましい。
このような構造を備えることで、前記伝熱部材は、その一方が前記素子電極と、その他方が前記支持体電極と直接接触するので、発光素子で発生した熱は、素子電極から結合部材中の伝熱部材を介して確実に支持体側に放熱される。これにより、前記発光素子の自己発熱による温度上昇を抑え、前記発光素子の特性を安定化できる。
It is preferable that the heat transfer member is in contact with the element electrode and the support electrode.
By providing such a structure, one of the heat transfer members is in direct contact with the element electrode and the other is in direct contact with the support electrode, so that heat generated in the light emitting element is transferred from the element electrode to the coupling member. The heat is reliably radiated to the support side through the heat transfer member. Thereby, the temperature rise by the self-heating of the light emitting element can be suppressed and the characteristics of the light emitting element can be stabilized.

前記接合部材中には複数の前記伝熱部材が含まれ、前記接合部材中における複数の前記伝熱部材の高さが略等しいことが好ましい。
このような構造を備えることで、前記接合部材中には複数の前記伝熱部材が含まれ、前記接合部材中のそれらの高さが等しいので、発光素子で発生した熱は、素子電極の形成面から複数の放熱経路を通って確実に支持体に放熱される。これにより、前記発光素子の自己発熱による温度上昇を抑え、前記発光素子の特性を安定化できる。また、前記素子電極と前記支持体電極との間隔を均一にできるので、前記発光部から射出されるレーザ光の角度を一定にできる。
It is preferable that a plurality of the heat transfer members are included in the bonding member, and the heights of the plurality of heat transfer members in the bonding member are substantially equal.
By providing such a structure, the joining member includes a plurality of the heat transfer members, and since the heights thereof in the joining member are equal, the heat generated in the light emitting element forms the element electrode. The heat is reliably radiated from the surface to the support through a plurality of heat radiation paths. Thereby, the temperature rise by the self-heating of the light emitting element can be suppressed, and the characteristics of the light emitting element can be stabilized. In addition, since the gap between the element electrode and the support electrode can be made uniform, the angle of the laser beam emitted from the light emitting part can be made constant.

前記発光素子は、複数の前記発光部を有し、前記素子電極は、前記複数の発光部に対応して設けられており、前記発光素子の前記素子電極が形成された面には、前記素子電極と略等しい高さを有する凸部が前記素子電極を取り囲むように設けられており、前記伝熱部材は、前記凸部及び前記支持体電極と接触していることが好ましい。
このような構造を備えることで、前記伝熱部材は、その一方が前記凸部と、その他方が前記支持体電極と直接接触するので、素子電極からの放熱経路に加え、凸部からの放熱経路が増加し、前記発光素子からの放熱性を向上させることができる。これにより、前記発光素子の自己発熱による温度上昇を抑え、前記発光素子の特性を安定化できる。
The light emitting element includes a plurality of the light emitting portions, the element electrodes are provided corresponding to the plurality of light emitting portions, and the surface of the light emitting element on which the element electrodes are formed has the element A convex portion having a height substantially equal to the electrode is provided so as to surround the element electrode, and the heat transfer member is preferably in contact with the convex portion and the support electrode.
By providing such a structure, one of the heat transfer members is in direct contact with the convex portion and the other is in direct contact with the support electrode, so that heat is radiated from the convex portion in addition to the heat radiation path from the element electrode. A path | route increases and the heat dissipation from the said light emitting element can be improved. Thereby, the temperature rise by the self-heating of the light emitting element can be suppressed and the characteristics of the light emitting element can be stabilized.

前記接合部材中の複数の前記伝熱部材は、前記接合材によって互いに分離されていることが好ましい。
このような構造を備えることで、前記接合部材中の複数の前記伝熱部材同士は、前記接合材によって分離しているので、伝熱部材同士、さらには複数の発光部同士の熱的干渉を防止し、発光素子の温度上昇を抑えることができ、前記発光素子の特性を安定化した光源装置とすることができる。
The plurality of heat transfer members in the joining member are preferably separated from each other by the joining material.
By providing such a structure, the plurality of heat transfer members in the bonding member are separated by the bonding material, so that the heat interference between the heat transfer members and further, the plurality of light emitting portions can be prevented. Thus, the temperature rise of the light-emitting element can be suppressed, and the light source device with stabilized characteristics of the light-emitting element can be obtained.

前記支持体電極は、前記素子電極に対応して分割して設けられており、前記接合材が絶縁材料、前記伝熱部材が導電材料で構成されていることが好ましい。
このような構造を備えることで、前記素子電極を電気的に独立させることができるので、前記発光部を独立して駆動することができる。これにより、前記発光部での出力を調節することが可能となり、消費電力を低減することができる。
It is preferable that the support electrode is divided and provided corresponding to the element electrode, and the bonding material is made of an insulating material and the heat transfer member is made of a conductive material.
By providing such a structure, the element electrodes can be electrically independent, so that the light emitting unit can be driven independently. Thereby, it becomes possible to adjust the output in the said light emission part, and power consumption can be reduced.

基板と、配線層とを有する配線基板を備え、前記配線層と前記支持体電極とが導電接続されていることが好ましい。
このような構造を備えることで、発光素子で発生した熱は伝熱部材を介して支持体に伝わり、支持体内部へ放散されるとともに、支持体電極を介して前記配線層へも放熱される。したがって発光素子からの放熱経路を拡大することができ、これにより、前記発光素子の自己発熱による温度上昇を抑え、前記発光素子の特性を安定化できる。
A wiring board having a board and a wiring layer is preferably provided, and the wiring layer and the support electrode are conductively connected.
By providing such a structure, the heat generated in the light emitting element is transmitted to the support via the heat transfer member, dissipated into the support, and also radiated to the wiring layer via the support electrode. . Therefore, the heat dissipation path from the light emitting element can be expanded, and thereby, the temperature rise due to self-heating of the light emitting element can be suppressed, and the characteristics of the light emitting element can be stabilized.

基板と、配線層とを有する配線基板を備え、前記配線層は、前記支持体と前記発光素子との間で挟持され、前記素子電極と前記配線層とが、前記接合部材を介して導電接続されていることが好ましい。
このような構造を備えることで、発光素子の熱を伝熱部材を介して配線層に伝わり、配線層内部を伝達して配線基板側と支持体側との双方に放熱される。これにより、前記発光素子の自己発熱による温度上昇を抑え、前記発光素子の特性を安定化できる。
A wiring board having a substrate and a wiring layer, wherein the wiring layer is sandwiched between the support and the light-emitting element, and the element electrode and the wiring layer are electrically connected via the bonding member. It is preferable that
By providing such a structure, the heat of the light emitting element is transmitted to the wiring layer through the heat transfer member, is transmitted through the wiring layer, and is radiated to both the wiring board side and the support side. Thereby, the temperature rise by the self-heating of the light emitting element can be suppressed, and the characteristics of the light emitting element can be stabilized.

本発明の光源装置を備えたプロジェクタである。この構造を備えることで、光源装置の放熱性を向上させることができるので、加熱による特性の変化を抑えたプロジェクタとすることができる。   It is the projector provided with the light source device of this invention. By providing this structure, the heat dissipation of the light source device can be improved, so that a projector in which changes in characteristics due to heating are suppressed can be obtained.

本発明の光源装置を備えたモニタ装置である。この構造を備えることで、光源装置の放熱性を向上させることができるので、加熱による特性の変化を抑えたモニタ装置とすることができる。   It is the monitor apparatus provided with the light source device of this invention. By providing this structure, the heat dissipation of the light source device can be improved, so that a monitor device in which changes in characteristics due to heating are suppressed can be obtained.

以下、図面を参照して、本発明に係る光源装置、プロジェクタ及びモニタ装置の実施形態について説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。     Hereinafter, embodiments of a light source device, a projector, and a monitor device according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each member is appropriately changed in order to make each member a recognizable size.

[第1の実施形態]
図1は、本実施形態の光源装置1の概略斜視図である。図2(a)は、光源装置1の半導体レーザチップ(発光素子)12及び周辺の構成を示す平面図、図2(b)は、図2(a)のA−A’線における断面図である。これらの図を用いて、光源装置1の構成について説明する。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic perspective view of a light source device 1 of the present embodiment. 2A is a plan view showing the configuration of the semiconductor laser chip (light emitting element) 12 and the periphery of the light source device 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. is there. The configuration of the light source device 1 will be described with reference to these drawings.

光源装置1は、保持部材10と、支持体11と、半導体レーザチップ12と、電流供給基板(配線基板)20と、固定部材40と、波長変換素子30とを備えている。保持部材10上に支持体11が載置され、支持体11上に半導体レーザチップ(発光素子)12が載置されている。波長変換素子30は、半導体レーザチップ12に対して支持体11と反対側に配置されている。波長変換素子30は、保持部材10上に載置された固定部材40に固定されている。また、半導体レーザチップ12には、電流供給基板20が接続されている。さらに、外部共振器としての波長選択素子を波長変換素子30の外側の光路上に配置してもよい。   The light source device 1 includes a holding member 10, a support 11, a semiconductor laser chip 12, a current supply substrate (wiring substrate) 20, a fixing member 40, and a wavelength conversion element 30. A support 11 is placed on the holding member 10, and a semiconductor laser chip (light emitting element) 12 is placed on the support 11. The wavelength conversion element 30 is disposed on the opposite side of the support 11 with respect to the semiconductor laser chip 12. The wavelength conversion element 30 is fixed to a fixing member 40 placed on the holding member 10. In addition, a current supply substrate 20 is connected to the semiconductor laser chip 12. Further, a wavelength selection element as an external resonator may be disposed on the optical path outside the wavelength conversion element 30.

保持部材10は、支持体11と固定部材40とを位置決めした状態で支持する部材である。保持部材10の材質は任意のものを用いることができるが、高熱伝導性を有することが好ましい。保持部材10の材質としては、例えば、セラミックスやCu(銅)材料を挙げることができる。   The holding member 10 is a member that supports the support 11 and the fixing member 40 in a positioned state. The holding member 10 can be made of any material, but preferably has high thermal conductivity. Examples of the material of the holding member 10 include ceramics and Cu (copper) material.

支持体11は、保持部材10上に載置されて半導体レーザチップ12を支持している。支持体11の材質は、高熱伝導性を有するものが好ましい。支持体11の材質としては、例えば、セラミックスやCu(銅)材料を挙げることができる。   The support 11 is placed on the holding member 10 and supports the semiconductor laser chip 12. The material of the support 11 is preferably a material having high thermal conductivity. Examples of the material of the support 11 include ceramics and Cu (copper) material.

半導体レーザチップ12と対向する支持体11の上面には、半導体レーザチップ12と電気的に接続するための支持体電極9が配置されている。本実施形態では、支持体電極9が複数のエミッタ(発光部)12aに対して共通の電極となっていることが特徴である。支持体電極9は、支持体11の上面の略全面を覆って形成されている。また、半導体レーザチップ12との接続部から半導体レーザチップ12の外側に延出されている。   A support electrode 9 for electrically connecting to the semiconductor laser chip 12 is disposed on the upper surface of the support 11 facing the semiconductor laser chip 12. The present embodiment is characterized in that the support electrode 9 is a common electrode for a plurality of emitters (light emitting portions) 12a. The support electrode 9 is formed so as to cover substantially the entire upper surface of the support 11. Further, the semiconductor laser chip 12 is extended from the connection portion with the semiconductor laser chip 12 to the outside.

半導体レーザチップ12は平面視略矩形状で、レーザ光を照射する複数のエミッタ12aが半導体レーザチップ12の長手方向(Y軸方向)に沿って直線状に配列されている(図2(a))。   The semiconductor laser chip 12 has a substantially rectangular shape in plan view, and a plurality of emitters 12a for irradiating laser light are arranged linearly along the longitudinal direction (Y-axis direction) of the semiconductor laser chip 12 (FIG. 2A). ).

略矩形状のエミッタ基板15上面には、カソード電極13が各エミッタ12aに対応する開口部13eを有して配置されている。   On the upper surface of the substantially rectangular emitter substrate 15, the cathode electrode 13 is disposed with an opening 13e corresponding to each emitter 12a.

エミッタ基板15の下面には、第1の反射層16、活性層17、第2の反射層18、アノード電極(素子電極)14が順次積層されている。第1の反射層16、活性層17、第2の反射層18は各エミッタ12aに対して共通であるが、アノード電極14はそれぞれのエミッタ12aに対応して独立に配置されている。活性層17において、アノード電極14上に平面視で重なる領域には、電流狭窄された活性領域17aが形成され、この部分からレーザ光が生成される。   On the lower surface of the emitter substrate 15, a first reflective layer 16, an active layer 17, a second reflective layer 18, and an anode electrode (element electrode) 14 are sequentially laminated. The first reflective layer 16, the active layer 17, and the second reflective layer 18 are common to each emitter 12a, but the anode electrode 14 is disposed independently corresponding to each emitter 12a. In the active layer 17, a current confined active region 17 a is formed in a region overlapping the anode electrode 14 in plan view, and laser light is generated from this portion.

波長変換素子30は、入射端面30aが半導体レーザチップ12のエミッタ12aに対向するように配置されている。波長変換素子30は、エミッタ12aから射出された光の波長を変えて、赤色、緑色、青色の波長の光を得るために用いられる。   The wavelength conversion element 30 is disposed so that the incident end face 30 a faces the emitter 12 a of the semiconductor laser chip 12. The wavelength conversion element 30 is used to obtain light of red, green, and blue wavelengths by changing the wavelength of light emitted from the emitter 12a.

固定部材40は、端面40a,40b側に2つの直方体状の脚部40c,40dが設けられている。そして、この2つの脚部40c,40d上に、波長変換素子30が載置されている。このようにして、半導体レーザチップ12と波長変換素子30との位置関係は一定に保たれている。   The fixed member 40 is provided with two rectangular parallelepiped legs 40c and 40d on the side of the end faces 40a and 40b. The wavelength conversion element 30 is placed on the two legs 40c and 40d. In this way, the positional relationship between the semiconductor laser chip 12 and the wavelength conversion element 30 is kept constant.

電流供給基板20は、保護層21及び保護層26で挟持されたカソード配線層22の保護層26と、保護層25及び保護層27で挟持されたアノード配線層24の保護層27とが、接着剤層(絶縁層)23を介して接続されたものである。また、支持体11上では、保護層21、25、26、27及び接着剤層23は形成されておらず、カソード配線層22の端子部(第1の端子)22a、及びアノード配線層24の端子部(第2の端子)24aが引き出され、半導体レーザチップ12と接続されている。   In the current supply substrate 20, the protective layer 26 of the cathode wiring layer 22 sandwiched between the protective layer 21 and the protective layer 26 and the protective layer 27 of the anode wiring layer 24 sandwiched between the protective layer 25 and the protective layer 27 are bonded to each other. They are connected via an agent layer (insulating layer) 23. Further, the protective layers 21, 25, 26, 27 and the adhesive layer 23 are not formed on the support 11, and the terminal portion (first terminal) 22 a of the cathode wiring layer 22 and the anode wiring layer 24 are not formed. A terminal portion (second terminal) 24 a is drawn out and connected to the semiconductor laser chip 12.

引き出されたカソード配線層22の端子部22aはカソード電極13の辺端部13aと導電部材19aを介して接続されている。引き出されたアノード配線層24の端子部24aは支持体電極の端子部9aと導電部材19bを介して接続されている。導電部材19a、19bは、例えばインジウム、スズなどを用いることができる。   The terminal portion 22a of the extracted cathode wiring layer 22 is connected to the side end portion 13a of the cathode electrode 13 through the conductive member 19a. The terminal portion 24a of the extracted anode wiring layer 24 is connected to the terminal portion 9a of the support electrode through the conductive member 19b. For example, indium and tin can be used for the conductive members 19a and 19b.

保護膜21、25、及び絶縁層23の材質としては、ポリイミド、アクリル、エポキシなどの絶縁性を有する樹脂材料、又はガラスエポキシなどの材料が用いられる。   As the material for the protective films 21 and 25 and the insulating layer 23, an insulating resin material such as polyimide, acrylic or epoxy, or a material such as glass epoxy is used.

カソード配線層22、及びアノード配線層24の材質としてはCu(銅)などが用いられる。カソード配線層22、及びアノード配線層24は、メッキ法などにより薄膜状に形成される。カソード配線層22、及びアノード配線層24の膜厚は30μm以上500μmであることが好ましい。膜厚が30μm未満では、配線層22、24の強度が不足し、500μm以上を超える範囲では、材料費が多大となる。また、配線層と端子部の厚さを変えて、端子部だけ厚くすることも可能である。   As the material of the cathode wiring layer 22 and the anode wiring layer 24, Cu (copper) or the like is used. The cathode wiring layer 22 and the anode wiring layer 24 are formed in a thin film by a plating method or the like. The film thicknesses of the cathode wiring layer 22 and the anode wiring layer 24 are preferably 30 μm or more and 500 μm. If the film thickness is less than 30 μm, the strength of the wiring layers 22 and 24 is insufficient, and if it exceeds 500 μm or more, the material cost becomes large. It is also possible to change only the thickness of the terminal portion by changing the thickness of the wiring layer and the terminal portion.

また、支持体11上に引き出されたカソード配線層22の端子部22a、及びアノード配線層24の端子部24aは、前述した銅の薄膜をそのまま用いてもよいが、CuW(銅タングステン合金)、BeO(酸化ベリリウム)などの熱伝導率が大きい材料を用いてもよい。また、銅の薄膜にNi(ニッケル)や金メッキを施したものを端子部22a、24aとして用いることもできる。これにより、端子部22a、24aは電気伝導度が向上するとともに、高熱伝導性を有し放熱性が向上する。   The terminal portion 22a of the cathode wiring layer 22 drawn out on the support 11 and the terminal portion 24a of the anode wiring layer 24 may use the above-described copper thin film as they are, but CuW (copper tungsten alloy), A material having a high thermal conductivity such as BeO (beryllium oxide) may be used. Also, a copper thin film obtained by applying nickel (nickel) or gold plating can be used as the terminal portions 22a and 24a. Thereby, the terminal portions 22a and 24a have improved electrical conductivity, high thermal conductivity, and improved heat dissipation.

アノード電極14と支持体電極9と接続には、接合材5の中に伝熱部材6が分散された接合部材7を用い、加熱、加圧して両者を接着させる熱圧着法により行われる。熱圧着には圧着用治具(図示は省略)が用いられる。   The anode electrode 14 and the support electrode 9 are connected by a thermocompression bonding method in which a bonding member 7 in which a heat transfer member 6 is dispersed in a bonding material 5 is used and heated and pressurized to bond them together. A crimping jig (not shown) is used for thermocompression bonding.

本実施例のように、支持体電極9が複数のエミッタ12aに対して共通の電極となっている場合には、接合材5と伝熱部材6との組み合わせとして、次のような組み合わせとすることが考えられる。   In the case where the support electrode 9 is a common electrode for the plurality of emitters 12a as in this embodiment, the combination of the bonding material 5 and the heat transfer member 6 is as follows. It is possible.

第1の組み合わせは、接合材5に絶縁性を有する材料を用い、伝熱部材6には導電性を有する材料を用いた組み合わせである。
第2の組み合わせは、接合材5に導電性を有する材料を用い、伝熱部材6に絶縁性又は導電性を有する材料を用いた組み合わせである。
The first combination is a combination in which an insulating material is used for the bonding material 5 and a conductive material is used for the heat transfer member 6.
The second combination is a combination in which a conductive material is used for the bonding material 5 and an insulating or conductive material is used for the heat transfer member 6.

最初に、第1の組み合わせについて説明する。
絶縁性を有する接合材5としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂の熱硬化性樹脂などが挙げられる。これらの絶縁性を有する結合材5は、一般的に熱伝導性が低いため、伝熱部材6には高熱伝導性を有する材質を用いる。
First, the first combination will be described.
Examples of the insulating bonding material 5 include an epoxy resin and a thermosetting resin of a phenol resin. Since these insulating binders 5 generally have low thermal conductivity, the heat transfer member 6 is made of a material having high thermal conductivity.

伝熱部材6としては、例えばAg、Cu、Beなどの金属単体、又はCu−W、C−Moなどの合金などを挙げることができる。また、絶縁材料のAlN、SiC、AlSiCなどのセラミック、又は炭素系材料の表面に導電性のAu、Ni/Auでメッキして導電性を付与したものなども用いることができる。表1に代表的な材質の熱伝導率を示す。伝熱部材6には、表1を参照し接合材5の熱伝導率を考慮しながら適宜最適なものを選択して使用する。   Examples of the heat transfer member 6 include simple metals such as Ag, Cu, and Be, or alloys such as Cu—W and C—Mo. Further, ceramics such as AlN, SiC, and AlSiC as insulating materials, or those obtained by plating the surface of a carbon-based material with conductive Au or Ni / Au to impart conductivity can be used. Table 1 shows the thermal conductivity of typical materials. As the heat transfer member 6, an optimum material is appropriately selected and used with reference to Table 1 and taking into consideration the thermal conductivity of the bonding material 5.

Figure 2009009991
Figure 2009009991

伝熱部材6は、例えば、球体、直方体、円柱などの形状に成形されたものを用いることができる。
伝熱部材6に球体を用いると、伝熱部材6が接合材5において均一に分散させた接合部材7とすることができる。この接合部材7を用いることで、アノード電極14から支持体11に効率よく放熱することができる。また、球体に形成された伝熱部材6の径を略均一に揃えることで、アノード電極14と支持体11との間隔を均一にすることができる。この結果、半導体レーザチップ12のエミッタ12aと波長変換素子30との間隔を均一にすることができる。
As the heat transfer member 6, for example, a member formed into a shape such as a sphere, a rectangular parallelepiped, or a cylinder can be used.
When a spherical body is used for the heat transfer member 6, the bonding member 7 in which the heat transfer member 6 is uniformly dispersed in the bonding material 5 can be obtained. By using this joining member 7, heat can be efficiently radiated from the anode electrode 14 to the support 11. Moreover, the space | interval of the anode electrode 14 and the support body 11 can be made uniform by aligning the diameter of the heat-transfer member 6 formed in the spherical body substantially uniformly. As a result, the distance between the emitter 12a of the semiconductor laser chip 12 and the wavelength conversion element 30 can be made uniform.

伝熱部材6には、球体に代え直方体や円柱などの柱状のものを用いることができる。この場合には、伝熱部材6がアノード電極14、又は支持体電極9と接触する領域が広がり、放熱性を更に向上させることができる。また、配置された伝熱部材6の厚さ(Z軸方向)を均一に揃えることにより、アノード電極14と支持体11との間隔を一定にすることができる。   The heat transfer member 6 may be a columnar member such as a rectangular parallelepiped or a cylinder instead of a sphere. In this case, a region where the heat transfer member 6 is in contact with the anode electrode 14 or the support electrode 9 is expanded, and the heat dissipation can be further improved. Moreover, the space | interval of the anode electrode 14 and the support body 11 can be made constant by aligning the thickness (Z-axis direction) of the arrange | positioned heat-transfer member 6 uniformly.

伝熱部材6が分散された接合材5は、シート状に形成されて接合部材7とすることができる。フィルム状の接合部材7は、アノード電極14と支持体電極9とで挟持されるように配置される。   The bonding material 5 in which the heat transfer member 6 is dispersed can be formed into a sheet shape to be the bonding member 7. The film-like joining member 7 is disposed so as to be sandwiched between the anode electrode 14 and the support electrode 9.

伝熱部材6が球状のものは、ペースト状の接合部材7として用いることもできる。この場合、支持体電極9の上にスクリーン印刷法、ディスペンス法などにより塗布することができる。   A spherical heat transfer member 6 can also be used as the paste-like joining member 7. In this case, it can apply | coat on the support body electrode 9 by the screen printing method, the dispensing method, etc.

伝熱部材6が導電性粒子であり、接合材5が絶縁性の可撓性材料である場合には、接合部材7として、ACF(Anisotoropic Conductive Film)、ACP(Anisotoropic Conductive Paste)を採用することができる。   When the heat transfer member 6 is a conductive particle and the bonding material 5 is an insulating flexible material, an ACF (Anisotropic Conductive Film) or ACP (Anisotropic Conductive Paste) is adopted as the bonding member 7. Can do.

次に、第2の組み合わせについて説明する。この組み合わせでは接合材5に導電性を有する材料を用い、伝熱部材6には絶縁性又は導電性を有する材料を用いる。   Next, the second combination will be described. In this combination, a conductive material is used for the bonding material 5, and an insulating or conductive material is used for the heat transfer member 6.

導電性を有する接合材5としては、In、Pb、Snなどの低融点金属単独のほか、Au−Su、Pb−Snなどの低融点金属との合金を用いることができる。   As the bonding material 5 having conductivity, an alloy with a low melting point metal such as Au—Su or Pb—Sn can be used in addition to a low melting point metal such as In, Pb, or Sn.

導電性を有する伝熱部材6を用いる場合には、結合材5と伝熱部材6とが導電性を有するため、アノード電極14と支持体電極9との電気接続の信頼性を格段に向上させることができる。導電性を有する伝熱部材6としては、Ag、Cu、Beなどの金属単体、又はCu−W、C−Moなどの合金などを用いることができる。また、AlN、SiC、AlSiCなどのセラミック、又は炭素系材料の表面にAu、Ni/Auでメッキしたものなども用いることができる。   When the conductive heat transfer member 6 is used, since the bonding material 5 and the heat transfer member 6 have conductivity, the reliability of electrical connection between the anode electrode 14 and the support electrode 9 is remarkably improved. be able to. As the heat transfer member 6 having conductivity, a single metal such as Ag, Cu, or Be, or an alloy such as Cu—W, C—Mo, or the like can be used. Further, ceramics such as AlN, SiC, and AlSiC, or those obtained by plating the surface of a carbon-based material with Au or Ni / Au can also be used.

一方、絶縁性を有する伝熱部材6としては、AlN、SiC、AlSiCなどのセラミック、グラファイト、ダイヤモンドなどの炭素系材料を用いることができる。   On the other hand, as the heat transfer member 6 having insulating properties, a carbon-based material such as ceramics such as AlN, SiC, and AlSiC, graphite, and diamond can be used.

以上、接合材5中に伝熱部材6が分散されている構成について説明したが、伝熱部材6は接合材5中に配列された構造を有することができる。図3、図4は配列された伝熱部材6を有する接合部材7の例を示す概略斜視図である。   The configuration in which the heat transfer member 6 is dispersed in the bonding material 5 has been described above. However, the heat transfer member 6 can have a structure arranged in the bonding material 5. 3 and 4 are schematic perspective views showing examples of the joining member 7 having the heat transfer members 6 arranged.

図3(a)では、平面視略矩形の平板状の伝熱部材6aが、その延在方向(X軸方向)と交差する方向(Y軸方向)に互いに略平行に配列されている。   In FIG. 3A, flat plate-like heat transfer members 6a having a substantially rectangular shape in plan view are arranged substantially parallel to each other in a direction (Y-axis direction) intersecting the extending direction (X-axis direction).

図3(b)では、伝熱部材6aが、その断面の幅方向(Y軸方向)に膨れた形状をなし、その延在方向(X軸方向)と交差する方向(Y軸方向)に互いに略平行に配列されている。   In FIG. 3 (b), the heat transfer members 6a have a shape swelled in the width direction (Y-axis direction) of the cross section, and are mutually in a direction (Y-axis direction) intersecting the extending direction (X-axis direction). They are arranged almost in parallel.

図3(c)では、円柱状の伝熱部材6cが、その配列方向(X軸方向)と交差する方向(Y軸方向)に互いに略平行に配列されている。この図は、結合材5に伝熱部材6が配列され、シート状に形成された接合部材7cの加熱圧着前の状態を示す。   In FIG. 3C, the columnar heat transfer members 6c are arranged substantially parallel to each other in a direction (Y axis direction) intersecting the arrangement direction (X axis direction). This figure shows the state before thermocompression bonding of the joining member 7c formed in a sheet shape in which the heat transfer members 6 are arranged on the binding material 5. FIG.

図4(a)では、円柱状の伝熱部材6dが接合部材7dに分散している様子を示している。伝熱部材6dの高さ(Z軸方向)は略均一に揃えられている。   FIG. 4A shows a state where the columnar heat transfer member 6d is dispersed in the joining member 7d. The height (Z-axis direction) of the heat transfer member 6d is substantially uniform.

図4(b)の接合部材7eでは、柱状の伝熱部材6eが、その延在方向と交差する方向(Y軸方向)に配列されている。伝熱部材6eの上面6e1はアノード電極14に接し、下面6e2は支持体電極9に接している。伝熱部材6eは断面視で略台形状であり、伝熱部材6eの配列方向の辺は上面6e1側の辺が下面6e2側の辺より長くなっている。   In the joining member 7e of FIG. 4B, the columnar heat transfer members 6e are arranged in a direction (Y-axis direction) intersecting the extending direction. The upper surface 6 e 1 of the heat transfer member 6 e is in contact with the anode electrode 14, and the lower surface 6 e 2 is in contact with the support electrode 9. The heat transfer member 6e is substantially trapezoidal in cross-sectional view, and the side of the heat transfer member 6e in the arrangement direction is longer on the upper surface 6e1 side than on the lower surface 6e2 side.

本実施例のように、支持体電極9が複数のエミッタ12aに対して共通の電極となっている場合には、伝熱部材6の配列方向に特別な制約は無く、また、伝熱部材6同士が接触しても良い。但し、図3及び図4に示したように、伝熱部材6を、その延在方向(X軸方向)と交差する方向(Y軸方向)に互いに略平行に配列し、更に、接合材5に、伝熱部材6より熱伝導率が小さい材質を用いることにより、隣接するエミッタ12a同士の熱干渉を防止し、熱をアノード電極14から伝熱部材6内部のその延在方向へ、更に、伝熱部材6を介して支持体側へと伝搬させることができる。   When the support electrode 9 is a common electrode for the plurality of emitters 12a as in this embodiment, there is no particular restriction on the arrangement direction of the heat transfer members 6, and the heat transfer member 6 They may contact each other. However, as shown in FIGS. 3 and 4, the heat transfer members 6 are arranged substantially parallel to each other in the direction (Y-axis direction) intersecting the extending direction (X-axis direction), and the bonding material 5. Further, by using a material having a lower thermal conductivity than that of the heat transfer member 6, heat interference between adjacent emitters 12a is prevented, and heat is transferred from the anode electrode 14 to its extending direction inside the heat transfer member 6, It can be propagated to the support side through the heat transfer member 6.

また、接合材5が絶縁性を有し、伝熱部材6が導電性を有する場合は、接合材5のアノード電極面と対向する面の幅をアノード電極の幅より狭くする。同様に、接合材5が導電性を有し、伝熱部材6が絶縁性を有する場合は、伝熱部材6のアノード電極面と対向する面の幅をアノード電極の幅より狭くする。このような構成にすることで、アノード電極と支持体電極との電気接続を確実にすることができる。   Further, when the bonding material 5 has insulating properties and the heat transfer member 6 has conductivity, the width of the surface of the bonding material 5 facing the anode electrode surface is made smaller than the width of the anode electrode. Similarly, when the bonding material 5 has conductivity and the heat transfer member 6 has insulation, the width of the surface of the heat transfer member 6 facing the anode electrode surface is made narrower than the width of the anode electrode. With such a configuration, electrical connection between the anode electrode and the support electrode can be ensured.

(作用、効果)
以上の構成を備えた光源装置1の作用、効果を説明する。
(Function, effect)
The operation and effect of the light source device 1 having the above configuration will be described.

アノード電極14と支持体電極9と接続に、接合材より高熱伝導率の伝熱部材6を含む接合部材7を用いたことで、アノード電極14から支持体電極9、更には支持体11側への熱伝導性が向上するので、半導体レーザチップ12の放熱性を向上させることができる。これにより、半導体レーザチップ12の温度上昇を抑え、安定したレーザ光を射出することができる。   By using the bonding member 7 including the heat transfer member 6 having a higher thermal conductivity than the bonding material to connect the anode electrode 14 and the support electrode 9, the anode electrode 14 moves to the support electrode 9 and further to the support 11 side. Therefore, the heat dissipation of the semiconductor laser chip 12 can be improved. Thereby, the temperature rise of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed and stable laser light can be emitted.

接合材5及び伝熱部材6に導電性を有する材質を用いることで、アノード電極14と支持体電極9との接触抵抗が低減されるので、接合部材7での発熱を抑え放熱性を向上させることができる。これにより、半導体レーザチップ12の温度上昇を抑え、安定したレーザ光を射出することができる。   By using a conductive material for the bonding material 5 and the heat transfer member 6, the contact resistance between the anode electrode 14 and the support electrode 9 is reduced, so that heat generation at the bonding member 7 is suppressed and heat dissipation is improved. be able to. Thereby, the temperature rise of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed and stable laser light can be emitted.

支持体電極9の端子部9aとアノード配線層24の端子部24aとを接続したので、支持体電極9を介して支持体11に伝導した熱を、支持体電極の端子部9aからアノード配線層の端子部24aを介してアノード配線層24にも放熱できるので、放熱性を向上させることができる。これにより、半導体レーザチップ12の温度上昇を抑え、安定したレーザ光を射出することができる。   Since the terminal part 9a of the support electrode 9 and the terminal part 24a of the anode wiring layer 24 are connected, the heat conducted to the support 11 through the support electrode 9 is transferred from the terminal part 9a of the support electrode to the anode wiring layer. Since heat can also be radiated to the anode wiring layer 24 via the terminal portion 24a, the heat dissipation can be improved. Thereby, the temperature rise of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed and stable laser light can be emitted.

隣り合う伝熱部材6を離して配置することで、隣接するエミッタ12aとの熱的干渉を防止でき、エミッタ12aの配列方向に沿って半導体レーザチップ12の中央部が高く、端部が低くなる温度分布を緩和することができるので、半導体レーザチップ12における温度上昇を均一化させることができる。これにより、温度分布により複数のエミッタ12aから射出されるレーザ光の特性のばらつきを抑えることができる。   By disposing the adjacent heat transfer members 6 apart from each other, thermal interference with the adjacent emitters 12a can be prevented, and the central part of the semiconductor laser chip 12 is high and the end parts are low along the arrangement direction of the emitters 12a. Since the temperature distribution can be relaxed, the temperature rise in the semiconductor laser chip 12 can be made uniform. Thereby, the dispersion | variation in the characteristic of the laser beam inject | emitted from the several emitter 12a by temperature distribution can be suppressed.

伝熱部材6は、アノード電極14及び支持体電極9と接触するので、半導体レーザチップ12で発生した熱がアノード電極14から接合部材7の伝熱部材6を介して確実に支持体11側に放熱される。これにより、半導体レーザチップ12の自己発熱による温度上昇を抑え、半導体レーザチップ12の特性を安定化できる。   Since the heat transfer member 6 is in contact with the anode electrode 14 and the support electrode 9, heat generated in the semiconductor laser chip 12 is reliably transferred from the anode electrode 14 to the support 11 side through the heat transfer member 6 of the bonding member 7. Heat is dissipated. Thereby, the temperature rise due to self-heating of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed, and the characteristics of the semiconductor laser chip 12 can be stabilized.

アノード電極14と支持体電極9との間に配置された接合部材7の伝熱部材6の厚さを等しくすることで、半導体レーザチップ12で発生した熱を、アノード電極14の形成面から複数の放熱経路を通って確実に支持体11に放出させることができる。従って、半導体レーザチップ12の自己発熱による温度上昇を抑え、発光素子の特性を安定化できる。また、半導体レーザチップ12と支持体との間隔を均一にすることができるので、半導体レーザチップ12と波長変換素子30との間隔を均一化することができ、均一な光を射出することができる。   By making the thickness of the heat transfer member 6 of the joining member 7 disposed between the anode electrode 14 and the support electrode 9 equal, a plurality of heat generated in the semiconductor laser chip 12 is generated from the surface on which the anode electrode 14 is formed. It can be reliably discharged to the support 11 through the heat dissipation path. Therefore, the temperature rise due to self-heating of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed, and the characteristics of the light emitting element can be stabilized. Further, since the gap between the semiconductor laser chip 12 and the support can be made uniform, the gap between the semiconductor laser chip 12 and the wavelength conversion element 30 can be made uniform, and uniform light can be emitted. .

[第2の実施形態]
次に、第2の実施形態について説明する。なお、以下に説明する各実施形態において、上述した第1実施形態に係る光源装置1と構成を共通とする箇所には同一符号を付けて、説明を省略することにする。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described. In each embodiment described below, portions having the same configuration as those of the light source device 1 according to the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図5は、第2の実施形態に係る光源装置100の配線構造を示す図である。光源装置100は、保持部材10と、支持体11と、半導体レーザチップ12と、電流供給基板120と、固定部材40と、波長変換素子30とを備えている。保持部材10が支持体11を載置し、支持体11が半導体レーザチップ(発光素子)12を載置している。波長変換素子30は、半導体レーザチップ12に対して支持体11と反対側に配置されている。波長変換素子30は、保持部材10に載置された固定部材40に固定されている。また、半導体レーザチップ12には、電流供給基板120が接続されている。   FIG. 5 is a diagram illustrating a wiring structure of the light source device 100 according to the second embodiment. The light source device 100 includes a holding member 10, a support 11, a semiconductor laser chip 12, a current supply substrate 120, a fixing member 40, and a wavelength conversion element 30. The holding member 10 mounts the support body 11, and the support body 11 mounts the semiconductor laser chip (light emitting element) 12. The wavelength conversion element 30 is disposed on the opposite side of the support 11 with respect to the semiconductor laser chip 12. The wavelength conversion element 30 is fixed to a fixing member 40 placed on the holding member 10. In addition, a current supply substrate 120 is connected to the semiconductor laser chip 12.

本実施形態では、第1の実施形態と異なり、支持体11上の支持体電極109は、各エミッタ12aに対応して分割して設けられていることを特徴としている。支持体電極109は、半導体レーザチップ12との接続部から半導体レーザチップ12の外側に延出され端子部109aを有している。   Unlike the first embodiment, the present embodiment is characterized in that the support electrodes 109 on the support 11 are divided and provided corresponding to the respective emitters 12a. The support body electrode 109 extends from the connection portion with the semiconductor laser chip 12 to the outside of the semiconductor laser chip 12 and has a terminal portion 109a.

本実施例のように、支持体電極9が複数のエミッタ12aに対応した個別の電極となっている場合には、エミッタ12a毎に分離して、それぞれのエミッタ12aに対応した支持体電極9とアノード電極14との接続をとる。このため、接合材5に絶縁性を有する材料を用い、伝熱部材6に導電性を有する材料を用いる。絶縁性を有する接合材5としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂の熱硬化性樹脂などが挙げられる。伝熱部材6には高熱伝導性を有する材質が用いられる。伝熱部材6としては、例えばAg、Cu、Beなどの金属単体、又はCu−W、C−Moなどの合金などを挙げることができる。また、絶縁材料のAlN、SiC、AlSiCなどのセラミック、又は炭素系材料の表面に導電性のAu、Ni/Auでメッキしたものなどを用いることができる。伝熱部材6の形状は、例えば、球体、直方体、円柱などの形状に成形されたものを用いることができる。   When the support electrode 9 is an individual electrode corresponding to the plurality of emitters 12a as in the present embodiment, the support electrode 9 is separated for each emitter 12a, and the support electrode 9 corresponding to each emitter 12a Connection with the anode electrode 14 is established. For this reason, an insulating material is used for the bonding material 5, and a conductive material is used for the heat transfer member 6. Examples of the insulating bonding material 5 include an epoxy resin and a thermosetting resin of a phenol resin. A material having high thermal conductivity is used for the heat transfer member 6. Examples of the heat transfer member 6 include simple metals such as Ag, Cu, and Be, or alloys such as Cu—W and C—Mo. Further, ceramics such as AlN, SiC, and AlSiC as insulating materials, or a surface of a carbon-based material plated with conductive Au or Ni / Au can be used. As the shape of the heat transfer member 6, for example, a shape formed into a shape such as a sphere, a rectangular parallelepiped, or a cylinder can be used.

本実施形態においても、柱状に形成された複数の伝熱部材6が配列された構造を採用することができる。具体例としては、第1の実施形態で示した図3、図4の例を挙げることができる。   Also in the present embodiment, a structure in which a plurality of heat transfer members 6 formed in a columnar shape are arranged can be employed. As a specific example, the example of FIG. 3, FIG. 4 shown in 1st Embodiment can be mentioned.

図3(a)では、平面視略矩形の平板状の伝熱部材6aが、その延在方向(X軸方向)と交差する方向(Y軸方向)に互いに略平行に配列されている。伝熱部材6aが導電性を有し、接合材5aが絶縁性を有する。伝熱部材6aが互いに離間して配置されているので、伝熱部材6aは、延在方向と交差する方向の幅を、隣接するアノード電極14の隙間より狭くすることにより、隣接するアノード電極14同士を接続させないようにすることができる。   In FIG. 3A, flat plate-like heat transfer members 6a having a substantially rectangular shape in plan view are arranged substantially parallel to each other in a direction (Y-axis direction) intersecting the extending direction (X-axis direction). The heat transfer member 6a has conductivity, and the bonding material 5a has insulation. Since the heat transfer members 6a are spaced apart from each other, the heat transfer members 6a are arranged so that the width in the direction intersecting the extending direction is narrower than the gap between the adjacent anode electrodes 14, thereby making the adjacent anode electrodes 14 It is possible not to connect each other.

また、伝熱部材6aは、上面6a1でアノード電極14に接し、下面6a2で支持体電極9と接しているので、アノード電極14と支持体電極9とが電気接続すると共に、確実な放熱経路が形成されている。   Further, since the heat transfer member 6a is in contact with the anode electrode 14 at the upper surface 6a1 and is in contact with the support electrode 9 at the lower surface 6a2, the anode electrode 14 and the support electrode 9 are electrically connected, and a reliable heat dissipation path is provided. Is formed.

さらに、接合材5aに、伝熱部材6aより熱伝導率が小さい材質を用いることで、隣接するエミッタ12a同士の熱的干渉を防止し、熱をアノード電極14から伝熱部材6aを介して支持体側に、及び伝熱部材6aの延在方向に伝搬させることができる。   Furthermore, by using a material having a lower thermal conductivity than the heat transfer member 6a for the bonding material 5a, thermal interference between adjacent emitters 12a is prevented, and heat is supported from the anode electrode 14 via the heat transfer member 6a. It can be propagated to the body side and in the extending direction of the heat transfer member 6a.

図3(b)では、断面視で厚さ方向(Z軸方向)の辺が伝熱部材の幅方向(Y軸方向)に膨れた形状をなして断面視の方向(X軸方向)に延在する伝熱部材6bが、互いに平行に配列されている。伝熱部材6bが導電性を有し、接合材5bが絶縁性を有する。伝熱部材6bが互いに離間して配置されているので、伝熱部材6bは、延在方向の幅を、隣接するアノード電極14の隙間より狭くすると、隣接するアノード電極14同士を接続させないようにすることができる。   In FIG. 3B, the side in the thickness direction (Z-axis direction) in a cross-sectional view forms a shape that swells in the width direction (Y-axis direction) of the heat transfer member and extends in the cross-sectional view direction (X-axis direction). The existing heat transfer members 6b are arranged in parallel to each other. The heat transfer member 6b has conductivity, and the bonding material 5b has insulation. Since the heat transfer members 6b are spaced apart from each other, the heat transfer members 6b are configured such that when the width in the extending direction is narrower than the gap between the adjacent anode electrodes 14, the adjacent anode electrodes 14 are not connected to each other. can do.

また、伝熱部材6bは、上面6b1でアノード電極14に接し、下面6b2で支持体電極9と接しているので、アノード電極14と支持体電極9とが電気接続すると共に、確実な放熱経路が形成されている。   Further, since the heat transfer member 6b is in contact with the anode electrode 14 at the upper surface 6b1 and is in contact with the support electrode 9 at the lower surface 6b2, the anode electrode 14 and the support electrode 9 are electrically connected, and a reliable heat dissipation path is provided. Is formed.

さらに、接合材5bに、伝熱部材6bより熱伝導率が小さい材質を用いることで、隣接するエミッタ12a同士の熱的干渉を防止し、熱をアノード電極14から伝熱部材6aを介して支持体側に、及び伝熱部材6aの延在方向に伝搬させることができる。   Furthermore, by using a material having a lower thermal conductivity than the heat transfer member 6b for the bonding material 5b, thermal interference between adjacent emitters 12a is prevented, and heat is supported from the anode electrode 14 via the heat transfer member 6a. It can be propagated to the body side and in the extending direction of the heat transfer member 6a.

図3(c)では、円柱状の伝熱部材6cが、配列方向(X軸方向)と交差する方向(Y軸方向)に互いに略平行に配列されている。伝熱部材6cが導電性を有し、接合材5cが絶縁性を有する。伝熱部材6cが互いに離間して配置されているので、伝熱部材6cは、延在方向の幅を、隣接するアノード電極14の隙間より狭くすると、隣接するアノード電極14同士を接続させないようにすることができる。   In FIG. 3C, the columnar heat transfer members 6c are arranged substantially parallel to each other in a direction (Y axis direction) intersecting the arrangement direction (X axis direction). The heat transfer member 6c has conductivity, and the bonding material 5c has insulation. Since the heat transfer members 6c are spaced apart from each other, the heat transfer member 6c is configured not to connect the adjacent anode electrodes 14 when the width in the extending direction is narrower than the gap between the adjacent anode electrodes 14. can do.

また、接合材5cに、伝熱部材6cより熱伝導率が小さい材質を用いることで、隣接するエミッタ12a同士の熱的干渉を防止し、熱をアノード電極14から伝熱部材6aを介して支持体側に、及び伝熱部材6aの延在方向に伝搬させることができる。
なお、図3(c)は、熱圧着をする前のシート状接合部材の状態を示す。
Further, by using a material having a lower thermal conductivity than the heat transfer member 6c for the bonding material 5c, thermal interference between adjacent emitters 12a is prevented, and heat is supported from the anode electrode 14 via the heat transfer member 6a. It can be propagated to the body side and in the extending direction of the heat transfer member 6a.
In addition, FIG.3 (c) shows the state of the sheet-like joining member before thermocompression bonding.

図4(b)の接合部材7eでは、柱状の伝熱部材6eが、延在方向と交差する方向(Y軸方向)に配列されている。伝熱部材6eの上面6e1はアノード電極14に接し、下面6e2は支持体電極9に接している。伝熱部材6eは断面視で略台形状であり、伝熱部材6eの配列方向の辺は上面6e1側の辺が下面6e2側の辺より長くなっている。伝熱部材6eが導電性を有し、接合材5eが絶縁性を有する。伝熱部材6eが互いに離間して配置されているので、伝熱部材6eは、延在方向の幅を、隣接するアノード電極14の隙間より狭くすると、隣接するアノード電極14同士を接続させないようにすることができる。   In the joining member 7e shown in FIG. 4B, the columnar heat transfer members 6e are arranged in a direction intersecting the extending direction (Y-axis direction). The upper surface 6 e 1 of the heat transfer member 6 e is in contact with the anode electrode 14, and the lower surface 6 e 2 is in contact with the support electrode 9. The heat transfer member 6e is substantially trapezoidal in cross-sectional view, and the side of the heat transfer member 6e in the arrangement direction is longer on the upper surface 6e1 side than on the lower surface 6e2 side. The heat transfer member 6e has conductivity, and the bonding material 5e has insulating properties. Since the heat transfer members 6e are spaced apart from each other, the heat transfer member 6e is configured not to connect the adjacent anode electrodes 14 if the width in the extending direction is narrower than the gap between the adjacent anode electrodes 14. can do.

また、伝熱部材6eは、上面6e1でアノード電極14に接し、下面6e2で支持体電極9と接しているので、アノード電極14と支持体電極9とが電気接続すると共に、確実な放熱流路が形成されている。   Further, since the heat transfer member 6e is in contact with the anode electrode 14 at the upper surface 6e1 and is in contact with the support electrode 9 at the lower surface 6e2, the anode electrode 14 and the support electrode 9 are electrically connected, and a reliable heat dissipation channel is provided. Is formed.

さらに、接合材5eに、伝熱部材6eより熱伝導率が小さい材質を用いることで、隣接するエミッタ12a同士の熱的干渉を防止し、熱をアノード電極14から伝熱部材6eを介して支持体側に、及び伝熱部材6eの延在方向に伝搬させることができる。   Further, by using a material having a lower thermal conductivity than the heat transfer member 6e for the bonding material 5e, thermal interference between adjacent emitters 12a is prevented, and heat is supported from the anode electrode 14 via the heat transfer member 6e. It can be propagated to the body side and in the extending direction of the heat transfer member 6e.

以上の説明においては、図3(a)、(b)及び図4(b)で、シート状の接合部材7eと半導体レーザチップ12、支持体11とを、精密な位置合わせ(アライメント)をせずに接合する場合について説明したが、シート状の接合部材7eと半導体レーザチップ12、支持体11とを、精密に位置合わせする場合は、伝熱部材6a、6b、6eの延在方向と交差する方向(Y軸方向)の幅を、アノード電極14の幅と同じかそれ以上とすることができる。
この場合、隣接するエミッタ12a同士の熱的干渉の防止効果が更に向上するとともに、伝熱部材6a、6b、6eと、アノード電極14及び支持体電極9との接触面積が向上するので放熱性が更に向上する。
In the above description, in FIGS. 3A, 3B, and 4B, the sheet-like bonding member 7e, the semiconductor laser chip 12, and the support 11 are precisely aligned. However, when the sheet-like bonding member 7e, the semiconductor laser chip 12, and the support 11 are precisely aligned, they intersect with the extending direction of the heat transfer members 6a, 6b, 6e. The width in the direction (Y-axis direction) can be equal to or greater than the width of the anode electrode 14.
In this case, the effect of preventing thermal interference between adjacent emitters 12a is further improved, and the contact area between the heat transfer members 6a, 6b, and 6e, the anode electrode 14, and the support electrode 9 is improved, so that the heat dissipation is improved. Further improvement.

電流供給基板120は、保護層21及び保護層26で挟持されたカソード配線層122の保護層26と、保護層25及び保護層27で挟持されたアノード配線層124の保護層27とが、接着剤層23を介して接続されたものである。平面視では、複数のアノード配線層124と、これらのアノード配線層124を挟持するようにカソード配線層122が配置されている。また、支持体11上では、保護層21、25、26、27及び接着剤層23は形成されておらず、カソード配線層122の端子部122a、及びアノード配線層124の端子部124aが引き出されている。引き出されたカソード配線層122の端子部122aは、導電部材19aを介してアノード電極13の辺端部13b、13cに接続されている。支持体11上に引き出された複数のアノード配線層124aは、導電部材19bを介して複数の支持体電極9の端子部9aにそれぞれ接続されている。   In the current supply substrate 120, the protective layer 26 of the cathode wiring layer 122 sandwiched between the protective layer 21 and the protective layer 26 and the protective layer 27 of the anode wiring layer 124 sandwiched between the protective layer 25 and the protective layer 27 are bonded to each other. They are connected via the agent layer 23. In plan view, the plurality of anode wiring layers 124 and the cathode wiring layer 122 are disposed so as to sandwich the anode wiring layers 124. On the support 11, the protective layers 21, 25, 26, 27 and the adhesive layer 23 are not formed, and the terminal portion 122 a of the cathode wiring layer 122 and the terminal portion 124 a of the anode wiring layer 124 are drawn out. ing. The terminal portion 122a of the extracted cathode wiring layer 122 is connected to the side end portions 13b and 13c of the anode electrode 13 through the conductive member 19a. The plurality of anode wiring layers 124a drawn out on the support 11 are connected to the terminal portions 9a of the plurality of support electrodes 9 through conductive members 19b.

本実施形態では、エミッタ12aごとに支持体電極109及びアノード配線層124を形成しているので、各エミッタ12aを独立に駆動できるようになっている。   In this embodiment, since the support body electrode 109 and the anode wiring layer 124 are formed for each emitter 12a, each emitter 12a can be driven independently.

以上の構成を備えた光源装置100の作用、効果を説明する。   The operation and effect of the light source device 100 having the above configuration will be described.

伝熱部材6aの延在方向に伝搬された熱をアノード配線層122の端子部122aを介して電流供給基板120側に放熱することができるので、隣接するエミッタ12a間の熱的干渉を防止でき、エミッタ12aの配列方向に沿って半導体レーザチップ12の中央部が高く、端部が低くなる温度分布を緩和することができるので、半導体レーザチップ12における温度上昇を均一化させることができる。これにより、温度分布による複数のエミッタ12aから射出される光の特性のばらつきを抑えることができるので、均一な光を射出することができる。   Since heat transmitted in the extending direction of the heat transfer member 6a can be radiated to the current supply substrate 120 side via the terminal portion 122a of the anode wiring layer 122, thermal interference between adjacent emitters 12a can be prevented. Since the temperature distribution in which the central portion of the semiconductor laser chip 12 is high and the end portion is low along the arrangement direction of the emitters 12a can be relaxed, the temperature rise in the semiconductor laser chip 12 can be made uniform. Thereby, variation in characteristics of light emitted from the plurality of emitters 12a due to temperature distribution can be suppressed, so that uniform light can be emitted.

各エミッタ12aを独立して駆動できるようにすれば、エミッタ12aの出力を調整することが可能になるので、発熱量を抑えることができる。これにより、消費電力を抑えることができる。   If each emitter 12a can be driven independently, the output of the emitter 12a can be adjusted, and the amount of heat generated can be suppressed. Thereby, power consumption can be suppressed.

(変形例)
図6は、第2の実施形態の変形例に係る、(a)半導体レーザチップ12の底面図、(b)C−C’における要部断面図である。なお、図6(b)では、アノード電極14と支持体電極9との接続部を拡大したもので、接合部材7及び支持体電極9を含めた領域を示している。以下、本図を用いて変形例について説明する。
(Modification)
6A is a bottom view of the semiconductor laser chip 12 and FIG. 6B is a cross-sectional view of a main part taken along line CC ′ according to a modification of the second embodiment. FIG. 6B is an enlarged view of the connecting portion between the anode electrode 14 and the support electrode 9 and shows a region including the bonding member 7 and the support electrode 9. Hereinafter, modified examples will be described with reference to this drawing.

本変形例では、第2の反射層18上に、アノード電極14と、絶縁層108a及び絶縁層108bとが形成されている。絶縁層108a、108bは、第2の反射層18から外側に突出する凸部であり、第2の反射層18上においてアノード電極14を取り囲むように島状に配置されている。絶縁層108a、108bには、絶縁性と高熱伝導性とを有する材質を用いることが好ましい。絶縁層108a、108bは、アノード電極14の配列方向(Y軸方向)に長手の矩形形状であり、アノード電極14を挟持するように配置されている。   In the present modification, the anode electrode 14, the insulating layer 108 a, and the insulating layer 108 b are formed on the second reflective layer 18. The insulating layers 108 a and 108 b are convex portions that protrude outward from the second reflective layer 18, and are arranged in an island shape so as to surround the anode electrode 14 on the second reflective layer 18. The insulating layers 108a and 108b are preferably made of a material having insulating properties and high thermal conductivity. The insulating layers 108a and 108b have a rectangular shape that is long in the arrangement direction (Y-axis direction) of the anode electrodes 14, and are arranged so as to sandwich the anode electrode 14.

絶縁層108aは、各アノード電極14に対応して配置されており、延在方向(Y軸方向)に配列されている。絶縁層108bも、各アノード電極14に対応して配置されており、延在方向(Y軸方向)に配列されている。アノード電極14、絶縁層108a、及び絶縁層108bの厚さ(Z軸方向)は略等しくなっており、アノード電極14の表面と絶縁層108a、108bの表面は側面視で同じ高さになっている。アノード電極14、絶縁膜108a、及び絶縁膜108bは、接合部材7を介して支持体電極9と接続されている。   The insulating layer 108a is disposed corresponding to each anode electrode 14, and is arranged in the extending direction (Y-axis direction). The insulating layer 108b is also arranged corresponding to each anode electrode 14, and is arranged in the extending direction (Y-axis direction). The thicknesses of the anode electrode 14, the insulating layer 108a, and the insulating layer 108b (in the Z-axis direction) are substantially equal, and the surface of the anode electrode 14 and the surfaces of the insulating layers 108a and 108b have the same height in a side view. Yes. The anode electrode 14, the insulating film 108 a, and the insulating film 108 b are connected to the support electrode 9 through the bonding member 7.

半導体レーザチップ12に絶縁層108a、108bを備えることで、伝熱部材6と、半導体レーザチップ12、及び、支持体電極9との接触面積を広げることができるので、放熱性が向上する。また、半導体レーザチップ12を支持体11上に安定して設置することができる。   By providing the semiconductor laser chip 12 with the insulating layers 108a and 108b, the contact area between the heat transfer member 6, the semiconductor laser chip 12, and the support electrode 9 can be increased, so that heat dissipation is improved. In addition, the semiconductor laser chip 12 can be stably placed on the support 11.

また、絶縁層108a、108bに高熱伝導性の材質を用いることで、半導体レーザチップ12から支持体電極9への放熱流路を確保できるので、放熱性を向上させることができる。これにより、半導体レーザチップ12の温度上昇を抑えることができるので、安定した光を射出することができる。   In addition, by using a material with high thermal conductivity for the insulating layers 108a and 108b, a heat radiation channel from the semiconductor laser chip 12 to the support electrode 9 can be secured, so that heat radiation can be improved. Thereby, since the temperature rise of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed, stable light can be emitted.

なお、半導体レーザチップ12のアノード電極14間に、図示は省略の絶縁層を備えることができる。この絶縁層は、アノード電極14の配列方向(Y軸方向)と交差する方向(X方向)に長手の矩形形状とすることができる。更に、アノード電極14間の絶縁層に対向する支持体11の面上には支持体電極が形成されていないので、アノード電極14間の絶縁膜の厚さ(Z方向)は、アノード電極14及び、絶縁層108a,bの厚さ(Z方向)より支持体電極9の厚さだけ厚くすることが好ましい。   Note that an insulating layer (not shown) can be provided between the anode electrodes 14 of the semiconductor laser chip 12. This insulating layer can have a rectangular shape that is long in the direction (X direction) intersecting the arrangement direction (Y axis direction) of the anode electrodes 14. Further, since the support electrode is not formed on the surface of the support 11 facing the insulating layer between the anode electrodes 14, the thickness of the insulating film between the anode electrodes 14 (Z direction) is The thickness of the support electrode 9 is preferably larger than the thickness of the insulating layers 108a and 108b (Z direction).

このような構造を備えることで、伝熱部材6は、アノード電極14間の絶縁層及び支持体11と接触するので、放熱性が向上する。また、半導体レーザチップ12を支持体11上に安定して設置することができる。   By providing such a structure, the heat transfer member 6 comes into contact with the insulating layer between the anode electrodes 14 and the support 11, so that heat dissipation is improved. In addition, the semiconductor laser chip 12 can be stably placed on the support 11.

[第3の実施形態]
図7は、第3の実施形態に係る光源装置200の配線構造を示す図である。光源装置200は、保持部材10と、支持体11と、半導体レーザチップ12と、電流供給基板220とを備えている。保持部材10が支持体11を載置し、支持体11が半導体レーザチップ(発光素子)12を載置している。半導体レーザチップ12には、電流供給基板220が接続されている。
[Third Embodiment]
FIG. 7 is a diagram illustrating a wiring structure of the light source device 200 according to the third embodiment. The light source device 200 includes a holding member 10, a support 11, a semiconductor laser chip 12, and a current supply substrate 220. The holding member 10 mounts the support body 11, and the support body 11 mounts the semiconductor laser chip (light emitting element) 12. A current supply substrate 220 is connected to the semiconductor laser chip 12.

電流供給基板220は、保護層21及び保護層26で挟持されたカソード配線層22の保護層26と、保護層25及び保護層27で挟持されたアノード配線層224の保護層27とが、接着剤層23を介して接続されたものである。また、支持体11上では、保護層21、25、26、27及び接着剤層23は形成されておらず、カソード配線層22の端子部22a、及びアノード配線層24の端子部24aが引き出されている。   In the current supply substrate 220, the protective layer 26 of the cathode wiring layer 22 sandwiched between the protective layer 21 and the protective layer 26 and the protective layer 27 of the anode wiring layer 224 sandwiched between the protective layer 25 and the protective layer 27 are bonded. They are connected via the agent layer 23. On the support 11, the protective layers 21, 25, 26, 27 and the adhesive layer 23 are not formed, and the terminal portion 22 a of the cathode wiring layer 22 and the terminal portion 24 a of the anode wiring layer 24 are drawn out. ing.

引き出されたカソード配線層22の端子部22aは、導電部材19aを介してカソード電極13の辺端部13aに接続されている。引き出されたアノード配線層224の端子部224aは、半導体レーザチップ12の下部まで引き込まれ、半導体レーザチップ12と支持体11とで挟持されている。アノード電極14とアノード配線層224の端子部224aとの接続には接合部材7が用いられている。また、アノード配線層224と支持体11との接続には導電部材19bが用いられている。導電部材19a、19bは、例えばインジウム、スズなどのほか、接合部材7を用いることもできる。   The terminal portion 22a of the extracted cathode wiring layer 22 is connected to the side end portion 13a of the cathode electrode 13 through the conductive member 19a. The extracted terminal portion 224a of the anode wiring layer 224 is drawn to the lower part of the semiconductor laser chip 12 and is sandwiched between the semiconductor laser chip 12 and the support 11. A joining member 7 is used to connect the anode electrode 14 to the terminal portion 224a of the anode wiring layer 224. Further, a conductive member 19b is used for connection between the anode wiring layer 224 and the support 11. As the conductive members 19a and 19b, for example, in addition to indium and tin, the joining member 7 can be used.

カソード配線層22の端子部22a、及びアノード配線層224の端子部224aは配線層22、224よりも厚く形成されていてもよい。このように端子部を形成することで、半導体レーザチップ12からの放熱性を向上させることができる。なお、本図では、端子部224aを厚く形成したものを採用している。   The terminal portion 22a of the cathode wiring layer 22 and the terminal portion 224a of the anode wiring layer 224 may be formed thicker than the wiring layers 22 and 224. By forming the terminal portion in this way, heat dissipation from the semiconductor laser chip 12 can be improved. In this figure, a thick terminal portion 224a is used.

半導体レーザチップ12で発生した熱を、接合部材7を介してアノード配線層224内部に伝導し、電流供給基板220側と支持体11側の双方に放熱することができるので、放熱性を向上させることができる。これにより、半導体レーザチップ12の温度上昇を抑え、射出される光の特性を維持することができる。   The heat generated in the semiconductor laser chip 12 can be conducted into the anode wiring layer 224 through the bonding member 7 and can be radiated to both the current supply substrate 220 side and the support body 11 side. be able to. Thereby, the temperature rise of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed and the characteristics of the emitted light can be maintained.

複数のエミッタ12aにかかる幅広のアノード配線層224を形成することで、アノード電極224の端子部224aからの放熱流路を拡げることができるので、放熱性を向上させることができる。これにより、半導体レーザチップ12の温度上昇を抑えることができるので、安定した光を射出することができる。   By forming the wide anode wiring layer 224 for the plurality of emitters 12a, the heat radiation channel from the terminal portion 224a of the anode electrode 224 can be expanded, and thus the heat radiation performance can be improved. Thereby, since the temperature rise of the semiconductor laser chip 12 can be suppressed, stable light can be emitted.

[第4の実施形態]
図8(a)は、第4の実施形態に係る光源装置400の平面図、図8(b)は、図8(a)のE−E’における断面図である。
光源装置400は、支持体11と、半導体レーザチップ12と、電流供給基板20と、第1のプリズム473と、第2のプリズム474と、波長変換素子471と、波長選択素子472と、保持部材410とを備えている。本実施形態に係る光源装置400は、図6に示すように、波長変換素子471及び波長選択素子472を保持部材410上で横置きに配置しており、半導体レーザチップ12から射出された光を保持部材410の面方向に導光するようになっている。
[Fourth Embodiment]
FIG. 8A is a plan view of the light source device 400 according to the fourth embodiment, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line EE ′ of FIG.
The light source device 400 includes a support 11, a semiconductor laser chip 12, a current supply substrate 20, a first prism 473, a second prism 474, a wavelength conversion element 471, a wavelength selection element 472, and a holding member. 410. As shown in FIG. 6, the light source device 400 according to the present embodiment has the wavelength conversion element 471 and the wavelength selection element 472 arranged horizontally on the holding member 410, and emits light emitted from the semiconductor laser chip 12. Light is guided in the surface direction of the holding member 410.

保持部材410上に載置された支持体11上に、半導体レーザチップ12が載置されている。電流供給基板20は、半導体レーザチップ12の側面12f側に配置されており、半導体レーザチップ12と電気的に接続されている。半導体レーザチップ12の上方には、第1のプリズム473と、第2のプリズム474と、プリズム473、474に挟持されたダイクロイック層475とを備えたプリズム素子480が配置されている。
プリズム素子480はその長手方向の両端部を、保持部材410上に設けられた2個のスペーサ477により支持されている。プリズム素子480は半導体レーザチップ12との間に隙間を有して半導体レーザチップ12の上空に固定されている。
The semiconductor laser chip 12 is placed on the support 11 placed on the holding member 410. The current supply substrate 20 is disposed on the side surface 12 f side of the semiconductor laser chip 12 and is electrically connected to the semiconductor laser chip 12. Above the semiconductor laser chip 12, a prism element 480 including a first prism 473, a second prism 474, and a dichroic layer 475 sandwiched between the prisms 473 and 474 is disposed.
The prism element 480 is supported at both ends in the longitudinal direction by two spacers 477 provided on the holding member 410. The prism element 480 is fixed above the semiconductor laser chip 12 with a gap between the prism element 480 and the semiconductor laser chip 12.

プリズム素子480は、エミッタ12aから射出された光を内面で反射させて波長変換素子471に導光するとともに、波長変換素子471側から入射する光のうち特定波長域の成分をダイクロイック層475により反射させて波長変換素子471の外側に導く機能を奏する。   The prism element 480 reflects the light emitted from the emitter 12 a on the inner surface and guides it to the wavelength conversion element 471, and reflects the component in the specific wavelength region of the light incident from the wavelength conversion element 471 side by the dichroic layer 475. Thus, there is a function of guiding the light to the outside of the wavelength conversion element 471.

半導体レーザチップ12に隣接して、電流供給基板20と反対側には、保持部材410上の支持台471aに載置された波長変換素子471が配置されている。波長変換素子471から見て半導体レーザチップ12と反対側には、保持部材410上の支持台472aに載置された波長選択素子472が配置されている。図6(b)に示すように、波長変換素子471の支持台471a、波長選択素子472の支持台472a及びスペーサ477は、複数の固定ピン478により保持部材410上に位置決めされて固定されている。   A wavelength conversion element 471 mounted on a support base 471 a on the holding member 410 is disposed adjacent to the semiconductor laser chip 12 and on the side opposite to the current supply substrate 20. On the side opposite to the semiconductor laser chip 12 when viewed from the wavelength conversion element 471, a wavelength selection element 472 placed on a support base 472a on the holding member 410 is disposed. As shown in FIG. 6B, the support base 471a of the wavelength conversion element 471, the support base 472a of the wavelength selection element 472, and the spacer 477 are positioned and fixed on the holding member 410 by a plurality of fixing pins 478. .

波長変換素子(第2高調波発生素子、SHG:Second Harmonic Generation)471は、入射光のうち所定の波長を有する成分を変換せずにそのまま透過する一方、それ以外の波長を有する成分をほぼ半分の波長の光に変換する非線形光学素子である。すなわち、半導体レーザチップ12から射出された第1の波長の光を、それよりも短い第2の波長の光に変換して射出する。   A wavelength conversion element (second harmonic generation element, SHG: Second Harmonic Generation) 471 transmits a component having a predetermined wavelength out of incident light as it is without being converted, and almost halves components having other wavelengths. It is a non-linear optical element that converts light of a wavelength of That is, the light having the first wavelength emitted from the semiconductor laser chip 12 is converted into the light having the second wavelength shorter than that and emitted.

波長選択素子472は、特定波長の光(波長変換素子471で波長変換された第2の波長の光)を透過させる一方、波長変換素子471で波長が変換されなかった第1の波長の光を含むほとんどの光を側壁472bで反射させる。そのため、波長選択素子472は、半導体レーザチップ12の外部共振器ミラーとして機能する。波長選択素子472としては、例えば、周期格子を有するホログラムのような光学素子を用いることができる。   The wavelength selection element 472 transmits light having a specific wavelength (light having the second wavelength converted by the wavelength conversion element 471), and transmits light having the first wavelength that has not been converted by the wavelength conversion element 471. Most of the light including the light is reflected by the side wall 472b. Therefore, the wavelength selection element 472 functions as an external resonator mirror of the semiconductor laser chip 12. As the wavelength selection element 472, for example, an optical element such as a hologram having a periodic grating can be used.

上記の構成において、エミッタ12aから射出された第1の波長の光は、プリズム素子480の第1のプリズム473の斜面部(鉛直方向に対して略45°の角度を成して配置された面)で反射されてダイクロイック層475に入射し、これを透過して第2のプリズム474から射出されて波長変換素子471に入射する。   In the above configuration, the light having the first wavelength emitted from the emitter 12a is the inclined surface of the first prism 473 of the prism element 480 (a surface disposed at an angle of approximately 45 ° with respect to the vertical direction). ) And is incident on the dichroic layer 475, is transmitted through the dichroic layer 475, is emitted from the second prism 474, and is incident on the wavelength conversion element 471.

ここで、図6(b)に実線で示す光W1は、エミッタ12aから射出されて波長選択素子472側へ進行する光を示しており、破線で示す光W2は、光W1のうち、波長選択素子472で反射された成分を示している。また波長選択素子472から延びる鎖線で示す光W3は、光W1のうち波長選択素子472を透過した成分を示す。さらに光W4は、光W2のうち、ダイクロイック層475により反射された成分を示している。
なお、図6(b)では、説明の都合上、光W1,W2を異なる位置に示しているが、実際には両者は同一の経路を辿る光である。
Here, the light W1 indicated by a solid line in FIG. 6B indicates the light emitted from the emitter 12a and traveling toward the wavelength selection element 472, and the light W2 indicated by a broken line is a wavelength selection among the light W1. The component reflected by the element 472 is shown. Light W3 indicated by a chain line extending from the wavelength selection element 472 indicates a component of the light W1 that has passed through the wavelength selection element 472. Further, the light W4 indicates a component of the light W2 that is reflected by the dichroic layer 475.
In FIG. 6B, for convenience of explanation, the lights W1 and W2 are shown at different positions, but in actuality, both are lights that follow the same path.

まず、エミッタ12aから射出されて波長変換素子471に入射した光W1は、波長変換素子471を透過する間にその一部がほぼ半分の波長の光(第2の波長の光)に変換されて、波長選択素子472に入射する。波長選択素子472に入射した光W1のうち、波長選択素子472を透過する特定波長(第2の波長)の成分は、光源光である光W3として波長選択素子472から外部に射出される。
一方、波長選択素子472で反射された成分(第1の波長の光)は、逆向きの光W2となって半導体レーザチップ12側へ戻される。
First, the light W1 emitted from the emitter 12a and incident on the wavelength conversion element 471 is partially converted into light having a half wavelength (second wavelength light) while passing through the wavelength conversion element 471. , Enters the wavelength selection element 472. Among the light W1 incident on the wavelength selection element 472, the component of the specific wavelength (second wavelength) that passes through the wavelength selection element 472 is emitted from the wavelength selection element 472 to the outside as light W3 that is light source light.
On the other hand, the component reflected by the wavelength selection element 472 (light having the first wavelength) is returned to the semiconductor laser chip 12 side as light W2 in the opposite direction.

波長変換素子471からプリズム素子480に入射した光W2は、ダイクロイック層475に入射する。ダイクロイック層475は、本実施形態では、波長変換素子471により変換された光(第2の波長の光)を選択的に反射し、その他の光を透過するようになっているので、光W2のうち第1の波長の成分は、ダイクロイック層475を透過して半導体レーザチップ12に入射する。そして、半導体レーザチップ12のミラーで反射され、光W1として再度射出される。このように、波長選択素子472で反射される第1の波長の光は、波長選択素子472と半導体レーザチップ12との間で反射を繰り返して増幅される。   The light W <b> 2 that has entered the prism element 480 from the wavelength conversion element 471 enters the dichroic layer 475. In the present embodiment, the dichroic layer 475 selectively reflects light (second wavelength light) converted by the wavelength conversion element 471 and transmits other light. Of these components, the first wavelength component passes through the dichroic layer 475 and enters the semiconductor laser chip 12. Then, it is reflected by the mirror of the semiconductor laser chip 12 and is emitted again as light W1. As described above, the light having the first wavelength reflected by the wavelength selection element 472 is repeatedly reflected and amplified between the wavelength selection element 472 and the semiconductor laser chip 12.

ところで、光W2の一部は、波長変換素子471内を進行する間に第2の波長の光に変換される。この第2の波長の光は、ダイクロイック層475により反射されて第2のプリズム474の斜面部(鉛直方向に対して略45°の角度を成して配置された斜面部)に入射し、そこで反射された光W4としてプリズム素子480の外側に取り出される。すなわち本実施形態では、波長選択素子472を透過して射出された光W3と、ダイクロイック層475で反射されてプリズム素子480から射出された光W4とが、光源光として外部に射出されるようになっている。   By the way, a part of the light W2 is converted into light of the second wavelength while traveling in the wavelength conversion element 471. The light having the second wavelength is reflected by the dichroic layer 475 and is incident on the slope portion of the second prism 474 (the slope portion disposed at an angle of about 45 ° with respect to the vertical direction). The reflected light W4 is extracted outside the prism element 480. That is, in this embodiment, the light W3 emitted through the wavelength selection element 472 and the light W4 reflected from the dichroic layer 475 and emitted from the prism element 480 are emitted to the outside as light source light. It has become.

以上の構成を備えた本実施形態の光源装置400では、半導体レーザチップ12と電流供給基板20との接続構造として、第1の実施形態の光源装置1と共通の接続構造が採用されている。したがって、半導体レーザチップ12と支持体11との間に配置されたカソード配線層24を介して半導体レーザチップ12の熱を放散することができ、放熱性を向上させた光源装置400とすることができる。   In the light source device 400 of the present embodiment having the above configuration, a connection structure common to the light source device 1 of the first embodiment is adopted as a connection structure between the semiconductor laser chip 12 and the current supply substrate 20. Accordingly, the heat of the semiconductor laser chip 12 can be dissipated through the cathode wiring layer 24 disposed between the semiconductor laser chip 12 and the support 11, and the light source device 400 with improved heat dissipation can be obtained. it can.

なお、本実施形態の光源装置400では、第1実施形態と同様の接続構造を有する半導体レーザチップ12、及び電流供給基板20を用いたが、これに代えて、第2又は第3の実施形態の構成を採用してもよい。これらの光源装置と同様の構成を採用した場合にも、放熱性を向上させた光源装置400とすることができる。   In the light source device 400 of the present embodiment, the semiconductor laser chip 12 and the current supply substrate 20 having the same connection structure as in the first embodiment are used. Instead, the second or third embodiment is used. The configuration may be adopted. Even when the same configuration as these light source devices is adopted, the light source device 400 with improved heat dissipation can be obtained.

[プロジェクタ]
図9は、本発明に係る光源装置を備えたプロジェクタ500の概略模式図である。本図を用いて、プロジェクタ500について説明する。なお、本図においては、簡略化のためプロジェクタ500を構成する筐体は省略している。
[projector]
FIG. 9 is a schematic diagram of a projector 500 including the light source device according to the present invention. The projector 500 will be described with reference to FIG. In the drawing, the casing constituting the projector 500 is omitted for simplification.

プロジェクタ500において、赤色光、緑色光、青色光を射出する赤色レーザ光源(光源装置)400R,緑色レーザ光源(光源装置)400G、青色レーザ光源(光源装置)400Bとしては、上記第4の実施形態の光源装置400を用いる。   In the projector 500, the red laser light source (light source device) 400R that emits red light, green light, and blue light, the green laser light source (light source device) 400G, and the blue laser light source (light source device) 400B are described in the fourth embodiment. The light source device 400 is used.

また、プロジェクタ500は、レーザ光源400R,400G,400Bから射出されたレーザ光をそれぞれ変調する液晶ライトバルブ(光変調装置)584R,584G,584Bと、液晶ライトバルブ584R,584G,584Bから射出された光を合成して投写レンズ587に導くクロスダイクロイックプリズム(色光合成手段)586と、液晶ライトバルブ584R,584G,584Bによって形成された像を拡大してスクリーン590に投射する投射レンズ(投射装置)587とを備えている。   The projector 500 emits liquid crystal light valves (light modulation devices) 584R, 584G, and 584B that modulate laser beams emitted from the laser light sources 400R, 400G, and 400B and liquid crystal light valves 584R, 584G, and 584B, respectively. A projection lens (projection device) 587 that magnifies and projects the image formed by the cross dichroic prism (color light synthesis means) 586 and the liquid crystal light valves 584R, 584G, and 584B that synthesizes the light and guides it to the projection lens 587 And.

さらに、プロジェクタ500は、レーザ光源400R,400G,400Bから射出されたレーザ光の照度分布を均一化させるため、各レーザ光源400R,400G,400Bよりも光路下流側に、均一化光学系582R,582G,582Bを設けており、これらによって照度分布が均一化された光によって、液晶ライトバルブ584R,584G,584Bを照明している。例えば、均一化光学系582R,582G、582Bは、例えば、ホログラム582a及びフィールドレンズ582bによって構成される。   Further, the projector 500 uniformizes the illuminance distribution of the laser light emitted from the laser light sources 400R, 400G, and 400B, so that the homogenizing optical systems 582R and 582G are located downstream of the laser light sources 400R, 400G, and 400B in the optical path. , 582B are provided, and the liquid crystal light valves 584R, 584G, and 584B are illuminated by light having a uniform illuminance distribution. For example, the uniformizing optical systems 582R, 582G, and 582B are configured by, for example, a hologram 582a and a field lens 582b.

各液晶ライトバルブ584R,584G,584Bによって変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム586に入射する。このプリズムは4つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に配置されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は投写光学系である投射レンズ587によりスクリーン590上に投写され、拡大された画像が表示される。   The three color lights modulated by the liquid crystal light valves 584R, 584G, and 584B are incident on the cross dichroic prism 586. This prism is formed by bonding four right-angle prisms, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are arranged in a cross shape on the inner surface thereof. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 590 by a projection lens 587 which is a projection optical system, and an enlarged image is displayed.

本実施形態のプロジェクタの光源の部材として、本発明の光源装置の支持体11、半導体レーザチップ12、及び電流供給基板20を用いることにより、放熱性を向上させることができるので、加熱によるレーザ特性の変化を抑えることができる。   Since the support 11 of the light source device of the present invention, the semiconductor laser chip 12, and the current supply substrate 20 can be used as members of the light source of the projector of the present embodiment, the heat dissipation can be improved, so that the laser characteristics by heating The change of can be suppressed.

なお、本実施形態のプロジェクタにおいて、赤色,緑色及び青色のレーザ光源400R,400G、400Bについては、第4の実施形態の光源装置400を用いたものを説明したが、第1から第4の実施形態の光源装置を用いることも可能である。このとき、各光源装置400R,400G,400Bのそれぞれに異なる実施形態の光源装置を採用することも可能であるし、同じ実施形態の光源装置を採用することも可能である。   In the projector of this embodiment, the red, green, and blue laser light sources 400R, 400G, and 400B have been described using the light source device 400 of the fourth embodiment, but the first to fourth implementations have been described. It is also possible to use a light source device of the form. At this time, it is possible to adopt light source devices of different embodiments for each of the light source devices 400R, 400G, and 400B, and it is also possible to adopt light source devices of the same embodiment.

また、光変調装置として透過型の液晶ライトバルブを用いたが、液晶以外のライトバルブを用いても良いし、反射型のライトバルブを用いても良い。このようなライトバルブとしては、例えば、反射型の液晶ライトバルブや、デジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micromirror Device)が挙げられる。投射光学系の構成は、使用されるライトバルブの種類によって適宜変更される。   Further, although a transmissive liquid crystal light valve is used as the light modulator, a light valve other than liquid crystal may be used, or a reflective light valve may be used. Examples of such a light valve include a reflection type liquid crystal light valve and a digital micromirror device (Digital Micromirror Device). The configuration of the projection optical system is appropriately changed depending on the type of light valve used.

図10は、プロジェクタの変形例である、画像表示装置600の概略模式図である。第1から第4の実施形態の光源装置は、走査型の画像表示装置にも適用される。図10に示した画像表示装置600は、第4の実施形態の光源装置400と、光源装置400から射出された光をスクリーン610に向かって走査するMEMSミラー(走査手段)602と、光源装置400から射出された光をMEMSミラー602に集光させる集光レンズ603とを備えている。光源装置400から射出された光は、MEMSミラー602を動かすことによって、スクリーン610上を横方向、縦方向に走査するように導かれる。カラーの画像を表示する場合は、半導体レーザチップ12を構成する複数のエミッタ(図示は省略)を、赤、緑、青のピーク波長を持つエミッタの組み合わせによって構成すれば良い。   FIG. 10 is a schematic diagram of an image display apparatus 600, which is a modification of the projector. The light source devices of the first to fourth embodiments are also applied to a scanning image display device. An image display device 600 illustrated in FIG. 10 includes a light source device 400 according to the fourth embodiment, a MEMS mirror (scanning unit) 602 that scans light emitted from the light source device 400 toward the screen 610, and the light source device 400. And a condenser lens 603 for condensing the light emitted from the MEMS mirror 602. The light emitted from the light source device 400 is guided to scan the screen 610 in the horizontal direction and the vertical direction by moving the MEMS mirror 602. In the case of displaying a color image, a plurality of emitters (not shown) constituting the semiconductor laser chip 12 may be constituted by a combination of emitters having red, green, and blue peak wavelengths.

[モニタ装置]
図11は、モニタ装置700の概略模式図である。本図を用いて、第4の実施形態に係る光源装置400を応用したモニタ装置700の構成例について説明する。図11は、モニタ装置の概略を示す模式図である。モニタ装置700は、装置本体710と、光伝送部720とを備える。装置本体710は、前述した第4の実施形態の光源装置400を備える。
[Monitor device]
FIG. 11 is a schematic diagram of the monitor device 700. A configuration example of a monitor device 700 to which the light source device 400 according to the fourth embodiment is applied will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a schematic diagram showing an outline of the monitor device. The monitor device 700 includes a device main body 710 and an optical transmission unit 720. The apparatus main body 710 includes the light source apparatus 400 of the fourth embodiment described above.

光伝送部720は、光を送る側と受ける側の2本のライトガイド721,722を備える。各ライトガイド721,722は、多数本の光ファイバを束ねたもので、レーザ光を遠方に送ることができる。光を送る側のライトガイド721の入射側には光源装置400が配設され、その出射側には拡散板723が配設されている。光源装置400から出射したレーザ光は、ライトガイド721を伝って光伝送部720の先端に設けられた拡散板723に送られ、拡散板723により拡散されて被写体を照射する。     The light transmission unit 720 includes two light guides 721 and 722 on the light sending side and the light receiving side. Each of the light guides 721 and 722 is a bundle of a large number of optical fibers, and can send laser light far away. A light source device 400 is disposed on the incident side of the light guide 721 on the light sending side, and a diffusion plate 723 is disposed on the emission side thereof. The laser light emitted from the light source device 400 is transmitted to the diffusion plate 723 provided at the tip of the light transmission unit 720 through the light guide 721, and is diffused by the diffusion plate 723 to irradiate the subject.

光伝送部720の先端には、結像レンズ724も設けられており、被写体からの反射光を結像レンズ724で受けることができる。その受けた反射光は、受け側のライトガイド722を伝って、装置本体710内に設けられた撮像手段としてのカメラ711に送られる。この結果、光源装置400により出射したレーザ光により被写体を照射したことで得られる反射光に基づく画像をカメラ711で撮像することができる。     An imaging lens 724 is also provided at the tip of the light transmission unit 720 so that reflected light from the subject can be received by the imaging lens 724. The received reflected light travels through the light guide 722 on the receiving side and is sent to a camera 711 as an imaging means provided in the apparatus main body 710. As a result, the camera 711 can capture an image based on the reflected light obtained by irradiating the subject with the laser light emitted from the light source device 400.

第4の実施形態に係る光源装置400を備えたことで、放熱性を向上させたモニタ装置700とすることができるので、加熱によるレーザ特性の変化を抑えて使用することができる。     Since the light source device 400 according to the fourth embodiment is provided, the monitor device 700 can be used with improved heat dissipation, so that it can be used while suppressing changes in laser characteristics due to heating.

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
本図では、第4の実施形態と同様の構造の光源装置400を用いたが、これに代えて、第1から第4実施形態の光源装置を備えていてもよい。
The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
In this figure, the light source device 400 having the same structure as that of the fourth embodiment is used, but instead of this, the light source devices of the first to fourth embodiments may be provided.

第1の実施形態に係る光源装置1の概略斜視図である。1 is a schematic perspective view of a light source device 1 according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る光源装置1を示す上面図及び要部断面図である。It is the top view and principal part sectional drawing which show the light source device 1 which concerns on 1st Embodiment. 伝熱部材6の配置パターンの例を示した図である。It is the figure which showed the example of the arrangement pattern of the heat-transfer member. 伝熱部材6の配置パターンの例を示した図である。It is the figure which showed the example of the arrangement pattern of the heat-transfer member. 第2の実施形態に係る光源装置100を示す上面図及び要部断面図である。It is the upper side figure and principal part sectional drawing which show the light source device 100 which concerns on 2nd Embodiment. 変形例の半導体レーザチップ12の底面図及び要部断面図である。It is the bottom view and principal part sectional drawing of the semiconductor laser chip 12 of a modification. 第3の実施形態に係る光源装置200を示す上面図及び要部断面図である。It is the top view and principal part sectional drawing which show the light source device 200 which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る光源装置400を示す上面図及び要部断面図である。It is the upper side figure and principal part sectional drawing which show the light source device 400 which concerns on 4th Embodiment. プロジェクタ500の概略模式図Schematic schematic diagram of projector 500 画像表示装置600の概略模式図Schematic schematic diagram of the image display device 600 モニタ装置700の概略模式図Schematic schematic diagram of the monitor device 700

符号の説明Explanation of symbols

1…光源装置、5…接合材、6…伝熱部材、7…接合部材、9…支持体電極、10…保持部材、11…支持体、12…半導体レーザチップ、12a…エミッタ、13…カソード電極、14…アノード電極、15…エミッタ基板、18…第2の反射層、19a…導電部材、19b…導電部材、20…電流供給基板、21…第1の保護膜、22…カソード配線層、23…絶縁層、24…アノード配線層、25…第2の保護膜、30…波長変換素子、40…固定部材、100…光源装置、108a…絶縁層、108b…絶縁層、109…支持体電極、120…電流供給基板、122…カソード配線層、124…アノード配線層、200…光源装置、220…電流供給基板、224…アノード配線層、400…光源装置、500…プロジェクタ、600…画像表示装置、700…モニタ装置   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light source device, 5 ... Joining material, 6 ... Heat transfer member, 7 ... Joining member, 9 ... Support body electrode, 10 ... Holding member, 11 ... Support body, 12 ... Semiconductor laser chip, 12a ... Emitter, 13 ... Cathode Electrode, 14 ... anode electrode, 15 ... emitter substrate, 18 ... second reflective layer, 19a ... conductive member, 19b ... conductive member, 20 ... current supply substrate, 21 ... first protective film, 22 ... cathode wiring layer, DESCRIPTION OF SYMBOLS 23 ... Insulating layer, 24 ... Anode wiring layer, 25 ... 2nd protective film, 30 ... Wavelength conversion element, 40 ... Fixing member, 100 ... Light source device, 108a ... Insulating layer, 108b ... Insulating layer, 109 ... Support body electrode , 120 ... current supply substrate, 122 ... cathode wiring layer, 124 ... anode wiring layer, 200 ... light source device, 220 ... current supply substrate, 224 ... anode wiring layer, 400 ... light source device, 500 ... projector, 60 ... image display device, 700 ... monitor device

Claims (10)

支持体と、前記支持体に載置された発光素子とを備えた光源装置であって、
前記発光素子は、光を射出する発光部と、前記支持体に対向する面に形成された素子電極とを有し、
前記支持体は、前記発光素子と対向する面に形成された支持体電極を有し、
前記素子電極と前記支持体電極とが、接合材と、前記接合材中に前記接合材より熱伝導率の大きな伝熱部材とを含む接合部材を介して導電接続されていることを特徴とする光源装置。
A light source device comprising a support and a light emitting element mounted on the support,
The light-emitting element has a light-emitting portion that emits light, and an element electrode formed on a surface facing the support,
The support has a support electrode formed on a surface facing the light emitting element,
The element electrode and the support electrode are conductively connected via a bonding member including a bonding material and a heat transfer member having a higher thermal conductivity than the bonding material in the bonding material. Light source device.
請求項1に記載の光源装置において、
前記伝熱部材は、前記素子電極及び前記支持体電極と接触していることを特徴とする光源装置。
The light source device according to claim 1,
The light source device, wherein the heat transfer member is in contact with the element electrode and the support electrode.
請求項1又は請求項2に記載の光源装置において、
前記接合部材中には複数の前記伝熱部材が含まれ、前記接合部材中における複数の前記伝熱部材の高さが略等しいことを特徴とする光源装置。
In the light source device according to claim 1 or 2,
A plurality of the heat transfer members are included in the joining member, and the height of the plurality of heat transfer members in the joining member is substantially equal.
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の光源装置において、
前記発光素子は、複数の前記発光部を有し、
前記素子電極は、前記複数の発光部に対応して設けられており、
前記発光素子の前記素子電極が形成された面には、前記素子電極と略等しい高さを有する凸部が前記素子電極を取り囲むように設けられており、
前記伝熱部材は、前記凸部及び前記支持体電極と接触していることを特徴とする光源装置。
In the light source device according to any one of claims 1 to 3,
The light emitting element has a plurality of the light emitting units,
The element electrode is provided corresponding to the plurality of light emitting portions,
On the surface of the light emitting element on which the element electrode is formed, a convex portion having a height substantially equal to the element electrode is provided so as to surround the element electrode,
The heat transfer member is in contact with the convex portion and the support electrode.
請求項1から請求項4の何れか1項に記載の光源装置において、
前記接合部材中の複数の前記伝熱部材は、前記接合材によって互いに分離されていることを特徴とする光源装置。
In the light source device according to any one of claims 1 to 4,
A plurality of the heat transfer members in the joining member are separated from each other by the joining material.
請求項5に記載の光源装置において、
前記支持体電極は、前記素子電極に対応して分割して設けられており、
前記接合材が絶縁材料、前記伝熱部材が導電材料で構成されている
ことを特徴とする光源装置。
The light source device according to claim 5,
The support electrode is divided and provided corresponding to the element electrode,
The light source device, wherein the bonding material is made of an insulating material, and the heat transfer member is made of a conductive material.
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の光源装置において、
基板と、配線層とを有する配線基板を備え、
前記配線層と前記支持体電極とが導電接続されていることを特徴とする光源装置。
The light source device according to any one of claims 1 to 6,
A wiring board having a board and a wiring layer;
The light source device, wherein the wiring layer and the support electrode are conductively connected.
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の光源装置において、
基板と、配線層とを有する配線基板を備え、
前記配線層は、前記支持体と前記発光素子との間で挟持され、
前記素子電極と前記配線層とが、前記接合部材を介して導電接続されていることを特徴とする光源装置。
The light source device according to any one of claims 1 to 6,
A wiring board having a board and a wiring layer;
The wiring layer is sandwiched between the support and the light emitting element,
The light source device, wherein the element electrode and the wiring layer are conductively connected via the bonding member.
請求項1から請求項8の何れか1項に記載の光源装置を備えたプロジェクタ。   A projector comprising the light source device according to any one of claims 1 to 8. 請求項1から請求項9の何れか1項に記載の光源装置を備えたモニタ装置。   A monitor device comprising the light source device according to claim 1.
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