JP2009004234A - Excimer light irradiation device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、エキシマ光照射装置に関する。特に、半導体や液晶基板の製造工程において基板の洗浄等に利用されるエキシマ光照射装置であって、エキシマランプの保持構造に特徴をもつエキシマ光照射装置に関する。 The present invention relates to an excimer light irradiation apparatus. In particular, the present invention relates to an excimer light irradiation apparatus used for cleaning a substrate or the like in a manufacturing process of a semiconductor or a liquid crystal substrate, and having an excimer lamp holding structure.
近年、半導体や液晶基板の製造工程において、シリコンウエハやガラス基板の表面に付着した有機化合物等の汚れを除去する方法として、紫外線を用いたドライ洗浄方法が広く利用されている。特に、エキシマランプから放射される真空紫外線を用いたオゾン等の活性酸素による洗浄方法において、より効率良く短時間で洗浄する洗浄装置が種々提案されている。従来のこのような技術として、特開平7−288109号公報が知られている。 In recent years, a dry cleaning method using ultraviolet rays has been widely used as a method for removing dirt such as organic compounds adhering to the surface of a silicon wafer or a glass substrate in a manufacturing process of a semiconductor or a liquid crystal substrate. In particular, in a cleaning method using active oxygen such as ozone using vacuum ultraviolet rays radiated from an excimer lamp, various cleaning apparatuses that perform cleaning more efficiently and in a short time have been proposed. JP-A-7-288109 is known as such a conventional technique.
図7は、従来のエキシマ光照射装置として特開平7−288109号公報に開示されたエキシマ光照射装置の構成を示す図である。
エキシマ光照射装置は、エキシマ光を放射するエキシマランプ1が、窓33を有する筐体30内に複数配置されて構成される。また、筐体30の遮蔽空間内に、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノンから選択された少なくとも一種のガスよりなる不活性ガスが封入されている。エキシマ光は酸素に吸収されて減衰してしまうので、筐体30内の酸素濃度を所定の濃度にし、被処理物にまでエキシマ光が届くようにしている。
窓33は、エキシマ光を透過する部材である合成石英ガラスにより構成される。しかし、特開平7−288109号公報に例示されている300mm×300mmの面積を有する合成石英ガラスの窓33は高額であり、コストダウンのために窓33を必要としないエキシマ光照射装置が要望されている。ただし、窓33がなければ筐体30内を遮蔽空間にすることができず、所定の酸素濃度に維持することができないという問題が発生する。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of an excimer light irradiation apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-288109 as a conventional excimer light irradiation apparatus.
The excimer light irradiation apparatus is configured by arranging a plurality of
The
そこで、特開2006−134983公報に開示されるように、ガス流通管31を設けて酸素濃度の低い置換空間を設けることが提案されている。
図8は、従来のエキシマ光照射装置として特開2000−134983公報に開示されたエキシマ光照射装置の構成を示す図である。
図8に示すエキシマ光照射装置は、図7のエキシマ光照射装置を、窓33を持たない開口構造とし、エキシマランプ1の間に不活性ガスを噴出するガス流通管31を配置したものである。ガス流通管31から噴出される不活性ガスによって、エキシマランプ1の周囲を酸素濃度の低い置換空間とすることができ、窓33のない開口構造でも被処理物までエキシマ光が届くようにすることができる。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of an excimer light irradiation apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-134983 as a conventional excimer light irradiation apparatus.
The excimer light irradiation apparatus shown in FIG. 8 is an excimer light irradiation apparatus shown in FIG. 7 having an opening structure without the
しかしながら、図8に示すエキシマ光照射装置を使用すると被処理物が汚染されるという問題が発生した。被処理物を洗浄するためにエキシマ光を照射しているにもかかわらず、逆に被処理物を汚染してしまい、その目的に反する作用を及ぼしている。その原因として、エキシマ光照射装置は開口構造なので遮るものがなく、筐体30内で塵が発生すると下に落ち、塵が被処理物を汚染してしまうことが考えられる。半導体や液晶基板を被処理物とするエキシマ光照射装置は、わずかな塵も発生させない装置であることが要求される。
本発明は、上記の問題点に鑑み、窓のない開口構造のエキシマ光照射装置においても、被処理物を汚染することなくエキシマ光を照射できるエキシマ光照射装置を提供することを目的とする。
However, when the excimer light irradiation apparatus shown in FIG. 8 is used, there is a problem that the object to be processed is contaminated. In spite of irradiating the excimer light to clean the object to be processed, the object to be processed is contaminated and has an action contrary to its purpose. As the cause, since the excimer light irradiation device has an opening structure, there is nothing to block, and if dust is generated in the
In view of the above-described problems, an object of the present invention is to provide an excimer light irradiation apparatus capable of irradiating excimer light without contaminating an object to be processed even in an excimer light irradiation apparatus having an opening structure without a window.
本願第1の発明は、下方を開口した筐体内に、エキシマ光を照射するエキシマランプと、ガス流通管が設けられたエキシマ光照射装置において、前記エキシマランプは前記筐体に吊り下げられたランプホルダにより保持され、前記ランプホルダは前記エキシマランプの管軸方向に離間して配置された脚部を有し、前記脚部は該脚部の長手方向に弾性変形することを特徴とする。
また、本願第2の発明は、本願第1の発明において、前記ランプホルダは、クリップ部、固定部、および、前記脚部により構成され、前記脚部と前記クリップ部との付け根部分、および、前記固定部と前記脚部との接続部分が揺動することを特徴とする。
また、本願第3の発明は、本願第1の発明または本願第2の発明において、前記エキシマランプは、発光部を内部に有する円筒管の両端に、前記発光部の外部電極に導通する金属部材を介してベースが接続され、前記ランプホルダは、前記金属部材に接触している導通部が前記脚部に設けられていることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an excimer lamp that irradiates an excimer light and an excimer light irradiation device provided with a gas flow pipe in a casing that opens downward. The excimer lamp is a lamp suspended from the casing. The lamp holder is held by a holder, and the lamp holder has legs that are spaced apart in the tube axis direction of the excimer lamp, and the legs are elastically deformed in the longitudinal direction of the legs.
The second invention of the present application is the first invention of the present application, wherein the lamp holder is constituted by a clip portion, a fixing portion, and the leg portion, and a base portion between the leg portion and the clip portion, and The connecting portion between the fixed portion and the leg portion swings.
Further, in the third invention of the present application, in the first invention of the present application or the second invention of the present application, the excimer lamp is a metal member that is electrically connected to an external electrode of the light emitting unit at both ends of a cylindrical tube having a light emitting unit therein. The lamp holder is provided with a conduction part in contact with the metal member on the leg part.
本発明に係るエキシマ光照射装置によれば、脚部が長手方向に弾性変形し、この脚部がエキシマランプの管軸方向に離間してランプホルダに配置され、このランプホルダが、筐体に吊り下げられてエキシマランプを保持することによって、エキシマランプの点灯に伴う熱により筐体が熱膨張しても、脚部がその長手方向に伸びて、管軸方向に引っ張り合う固定部とクリップ部との張力を吸収する。クリップ部がエキシマランプを保持している力は、脚部の弾性変形による管軸方向に戻ろうとする力より大きいため、クリップ部が消灯時も点灯時も同位置に保たれ、クリップ部とエキシマランプとの間で擦れることがない。したがって、ランプホルダとエキシマランプとの保持部分から、摩擦等による塵の発生を抑制することができる。 According to the excimer light irradiation apparatus according to the present invention, the leg portion is elastically deformed in the longitudinal direction, and the leg portion is arranged in the lamp holder so as to be spaced apart in the tube axis direction of the excimer lamp. By holding the excimer lamp in a suspended state, even if the housing is thermally expanded due to the heat generated when the excimer lamp is turned on, the leg portion extends in the longitudinal direction and is pulled in the tube axis direction and the clip portion To absorb the tension. Since the force with which the clip part holds the excimer lamp is larger than the force to return to the tube axis direction due to the elastic deformation of the leg part, the clip part is kept at the same position when it is not lit and when it is lit. Does not rub against the lamp. Therefore, generation of dust due to friction or the like can be suppressed from the holding portion between the lamp holder and the excimer lamp.
本発明の実施形態について説明する。図1は、本発明のエキシマ光照射装置の構成を示す斜視図である。
エキシマ光照射装置は、上面と側面を覆い、下方を開口した矩形の箱型のアルミニウム製の筐体30内に、対向する電極間に少なくとも1枚の誘電体が入っているエキシマランプ1が複数配置されている。隣り合うエキシマランプ1の間には、エキシマランプ1の管軸方向に沿ってガス流通管31が設けられている。ガス流通管31には、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノンから選択された少なくとも一種のガスよりなる不活性ガスが供給される。ガス流通管31のエキシマランプ1に面する側面には、管軸に沿って所定の間隔で噴出口32が設けられる。ガス流通管31の噴出口32から筐体30内に不活性ガスが噴出され、筐体30内は酸素濃度の低い置換空間となる。
An embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of an excimer light irradiation device of the present invention.
The excimer light irradiation apparatus includes a plurality of
図2は、本発明のエキシマ光照射装置のエキシマランプ1を示す断面図である。
エキシマランプ1は、両端にセラミック製のベース4を備え、石英ガラスよりなる円筒管2がベース4によって保持される。円筒管2の内部の所定の位置に発光部3が配置される。発光部3は、内側管5と外側管6を備え、内側管5の内部にコイル状の内部電極7が設けられ、外側管6の外周面に網状の外部電極8が設けられている。内側管5の一端は封止され、他端はシュリンクシールされて外側管6に溶着されている。内部電極7はシュリンクシール内に埋設された金属箔9に接続されている。金属箔9には、エキシマランプ1の外に導出する外部リード10が接続され、高周波高電圧が供給される。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an
The
円筒管2とベース4は金属部材11を介して接続されている。ベース4は、ねじ14によって固定される。金属部材11と外部電極8の間には金属バネ12が設けられる。外部電極8を金属バネ12に接触させて、金属部材11に導通をとっている。発光部3は絶縁部材よりなる円筒管2とベース4に囲まれているが、外部電極8を金属部材11に導通させることにより、金属部材11から外部電極8に電気的接続をとることができる。金属部材11を接地し、外部リード10に高周波高電圧を供給すれば、内部電極7と外部電極8との間に電位差が発生する。
The cylindrical tube 2 and the
内側管5と外側管6により形成される発光部3の放電空間にはキセノンガスが封入されている。また、円筒管2と発光部3とにより形成される空間は、不活性ガスが封入された所定の酸素濃度となっている。不活性ガスは、両端のベース4に設けられたガス流通口13から封入される。
内部電極7と外部電極8の間に電圧を印加すると、キセノンガスが封入されている放電空間において、キセノンガスがエキシマ放電し、エキシマ分子の生成、解離により波長172nmのエキシマ光が発生する。発光部3から放射されたエキシマ光は、所定の酸素濃度となっている円筒管2と発光部3とにより形成される空間を減衰することなく透過し、円筒管2からエキシマランプ1の外部に放射される。
Xenon gas is enclosed in the discharge space of the
When a voltage is applied between the internal electrode 7 and the external electrode 8, the xenon gas excimer discharges in the discharge space in which the xenon gas is sealed, and excimer light having a wavelength of 172 nm is generated by the generation and dissociation of excimer molecules. The excimer light radiated from the
図1に示すように、エキシマランプ1からのエキシマ光は、酸素濃度の低い置換空間となっている筐体30内に放射される。置換空間では酸素による吸収が抑えられるので、図示しない被処理物をエキシマランプ1から3mm程度離間した位置に配置することにより、エキシマ光を被処理物まで届くようにすることができる。したがって、筐体30を合成石英ガラスよりなる窓を持たない開口構造としても、ガス流通管31を配置して筐体30内を酸素濃度の低い置換空間とすることにより、被処理物にエキシマ光による処理をすることができる。
As shown in FIG. 1, the excimer light from the
エキシマランプ1は筐体30に吊り下げられたランプホルダ20により保持される。エキシマ光照射装置は、エキシマランプ1を必要に応じて交換して使用するため、エキシマランプ1を取外し可能に取り付けられている。エキシマランプ1は筐体30に強固に固定されているわけではないので、保持方法によってはエキシマランプ1と筐体30との間で擦れてそこから塵が発生することを、発明者は見出した。そこで、この塵の発生を抑制するために、図1に示すランプホルダ20を用いている。
The
図3は、図1に示すエキシマ光照射装置において、エキシマランプ1の保持部分を拡大した斜視図である。
ランプホルダ20は、板バネ材よりなり、クリップ部21と脚部22a、22bと固定部23a、23bにより構成される。
クリップ部21は、矩形状の平坦面24の両端から、エキシマランプ1の円筒管2に沿った湾曲面25が形成され、湾曲面25に続いて折り返し面26が形成されてなる。クリップ部21は、エキシマランプ1を狭持するとともに、エキシマランプ1を全覆せずに開口部27を有する構成することによって、エキシマ光を遮光せずに保持することができる。また、開口部27から容易にエキシマランプ1を着脱できる。
FIG. 3 is an enlarged perspective view of a holding portion of the
The
The
脚部22a、22bはそれぞれ、クリップ部21の平坦面24から、エキシマランプ1の管軸方向に離間して設けられる。脚部22a、22bは、クリップ部21の平坦面24のエキシマランプ1の管軸方向両端から突出して設けられる。また、ランプホルダ20全体が板バネ材により形成されるため、脚部22a、22bは、クリップ部21から固定部23a、23bに至る脚部22a、22bの長手方向に弾性変形する。このため、脚部22a、22bはその長手方向の伸縮を許容する。さらに、エキシマランプ1の管軸方向のズレも数mm程度であれば、脚部22a、22bが長手方向に伸縮することにより許容できる。また、脚部22a、22bのクリップ部21との付け根部分28は、揺動し、折り曲げ角度を自由に変えることができる。
The
固定部23a、23bは、管軸方向両端に設けられた脚部22a、22bに続いてそれぞれ設けられ、筐体30に例えばネジによって固定される。固定部23a、23bも板バネ材を曲げ加工して形成されているため、固定部23a、23bと脚部22a、22bとの接続部分29も、揺動し、折り曲げ角度を自由に変えることができる。クリップ部21と固定部23a、23bとが、エキシマランプ1の管軸方向に大きくずれた場合には、脚部22a、22bの伸縮のみならず、付け根部分28と接続部分29との折り曲げ角度を変えることによって、管軸方向のズレを許容できる。
The fixing
ランプホルダ20は、ベース4ではなく、エキシマランプ1の円筒管2を狭持するように設けられる。ベース4はセラミック製なので、ベース4を狭持すると、ランプホルダ20とベース4が擦れてセラミック片が剥がれて塵となるからである。しかし、円筒管2からはエキシマ光が出射される。そのため、ランプホルダ20は、エキシマ光に腐食されない部材である、表面を電解研磨により滑らかにしたステンレスよりなる板バネ材により構成される。
The
図4は、エキシマランプ1の消灯時と点灯時におけるランプホルダ20の状態を示した図であり、図4(a)はエキシマランプ1の消灯時の状態を示し、図4(b1)(b2)はエキシマランプ1の点灯時の状態を示している。
図4(a)に示すように、エキシマランプ1の消灯時において、ランプホルダ20は、脚部22a、22bが筐体30に対して略垂直になるように、固定部23a、23bがクリップ部21の幅に離間してネジによって筐体30に固定されている。クリップ部21がエキシマランプ1を保持し、脚部22a、22bがエキシマランプ1の自重とつりあうように長手方向に弾性変形して、エキシマランプ1を吊り下げている。
FIG. 4 is a diagram showing the state of the
As shown in FIG. 4A, when the
図4(b1)に示すように、エキシマランプ1の点灯時は、点灯に伴う熱によって筐体30を構成するアルミニウムが伸びる。具体的には、管軸長2000mmのエキシマランプ1を備えるエキシマ光照射装置において、石英ガラスよりなるエキシマランプ1の円筒管2は約200℃になり管軸方向に0.23mm伸び、筐体30は80℃になり管軸方向に3.18mm伸びる。このように、筐体30は円筒管2ほど加熱されないが、円筒管2に比べて軸方向に大きく伸びる。そのため、ランプホルダ20の固定部23a、23bは筐体30と共に矢印方向に移動し、一方、クリップ部21は円筒管2と共に元の位置に留まろうとする。
As shown in FIG. 4 (b1), when the
このように、クリップ部21と固定部23a、23bとの位置が、エキシマランプ1の管軸方向にずれた場合には、脚部22a、22bが伸びることにより、管軸方向のズレを吸収することができる。つまり、管軸方向に引っ張り合う固定部23a、23bとクリップ部21との張力が脚部22a、22bの弾性変形により吸収され、クリップ部21と固定部23a、23bとの管軸方向のズレが、脚部22a、22bの伸縮により調整される。
As described above, when the positions of the
このように、脚部22a、22bが長手方向に弾性変形し、この脚部22a、22bがエキシマランプ1の管軸方向に離間してランプホルダ20に配置され、このランプホルダ20が、筐体30に吊り下げられてエキシマランプ1を保持することによって、エキシマランプ1の点灯に伴う熱により筐体30が熱膨張しても、脚部22a、22bがその長手方向に伸びて、管軸方向に引っ張り合う固定部23a、23bとクリップ部21との張力を吸収する。クリップ部21がエキシマランプ1を保持している力は、脚部22a、33bの弾性変形による管軸方向に戻ろうとする力より大きいため、クリップ部21が消灯時も点灯時も同位置に保たれ、クリップ部21とエキシマランプ1との間で擦れることがない。したがって、ランプホルダ20とエキシマランプ1との保持部分から、摩擦等による塵の発生を抑制することができる。
In this way, the
さらに、図4(b2)に示すように、クリップ部21と固定部23a、23bとの位置が、エキシマランプ1の管軸方向に大きくずれた場合には、脚部22a、22bの伸縮だけでは管軸方向のズレを吸収できない。このような場合は、脚部22a、22bのクリップ部21との付け根部分28の折り曲げ角度、および、固定部23a、23bと脚部22a、22bとの接続部分29の折り曲げ角度が変わることによって、脚部22a、22bの伸縮だけの場合よりも、より大きな管軸方向のズレを吸収できる。脚部22a、22bの伸縮に加えて、付け根部分28と接続部分29の折り曲げ角度が変わることによって、固定部23a、23bとクリップ部21との張力が吸収される。クリップ部21が消灯時も点灯時も同位置に保たれるため、クリップ部21とエキシマランプ1との間で擦れることがない。したがって、ランプホルダ20とエキシマランプ1との保持部分から、摩擦等による塵の発生を抑制することができる。
Further, as shown in FIG. 4 (b2), when the positions of the
図5は、本発明のエキシマ光照射装置のランプホルダ20の異なる実施形態を示す斜視図である。図5(a)は脚部22a、22bをバネで構成した実施例を示し、図5(b)は脚部22a、22bをワイヤで構成した実施例を示す。
図5(a)に示すように、脚部22a、22bをコイルバネで形成することによっても、脚部22a、22bの長手方向に弾性変形するように構成できる。コイルバネは、板バネよりも伸縮量が大きくなるように形成することもできるので、図4(b1)に示す場合より管軸方向に大きくずれた場合でも、脚部22a、22bが伸びることにより、管軸方向のズレを吸収できる。管軸方向に引っ張り合う固定部23a、23bとクリップ部21との張力が脚部22a、22bにより吸収され、クリップ部21が消灯時も点灯時も同位置に保たれるため、クリップ部21とエキシマランプ1との間で擦れることがない。したがって、ランプホルダ20とエキシマランプ1との保持部分から、摩擦等による塵の発生を抑制することができる。
FIG. 5 is a perspective view showing a different embodiment of the
As shown in FIG. 5 (a), the
図5(b)に示すように、脚部22a、22bを伸縮性のワイヤで形成することによっても、脚部22a、22bの長手方向に弾性変形するように構成できる。ワイヤによって脚部22a、22bを形成すれば、長手方向に伸縮するとともに、クリップ部21との付け根部分28の折り曲げ角度、および、固定部23a、23bと脚部22a、22bとの接続部分29の折り曲げ角度が変わって揺動するように構成することもできる。したがって、図4(b2)に示すように、クリップ部21と固定部23a、23bとの位置が、エキシマランプ1の管軸方向に大きくずれた場合でも、ズレを吸収できる。
さらに、図5(b)に示すランプホルダ20を、クリップ部21もワイヤで形成すれば、エキシマランプ1から放射されるエキシマ光を遮光しないランプホルダ20を実現できる。
As shown in FIG. 5B, the
Furthermore, when the
図6は、本発明のエキシマ光照射装置のランプホルダ20の異なる実施形態を示す斜視図である。
上記したように、外部電極8を金属部材11に導通させることにより、エキシマランプ1の外部から絶縁体に覆われた外部電極8に金属部材11を通して電気的接続をとっている。金属部材11と筐体30を導通させれば、筐体30がアースとなり、外部電極8を接地できる。ランプホルダ20は、固定部23a、23bが筐体30に固定されているので、筐体30と導通している。したがって、ランプホルダ20と金属部材11を導通させれば、外部電極8を接地できる。
FIG. 6 is a perspective view showing a different embodiment of the
As described above, the external electrode 8 is electrically connected to the
ランプホルダ20のベース4側の脚部22bに、固定部23b側が閉じた脚部22bの長手方向に伸びるコ字状の切込みを入れて、クリップ部21側を折り曲げて導通部34を形成する。導通部34の先端が金属部材11に接触するように、導通部34の長さ、および、ランプホルダ20の取り付け位置が調整されている。導通部34は他の部品をランプホルダ20に溶接することなどによっても形成できるが、ランプホルダ20に切込みを入れて折り曲げて形成すれば、1枚の板を切り出すだけで導通部34を形成できる。また、ランプホルダ20に導通部34を設ければ、別部材で金属部材11に導通を取る場合に比べて、部品点数を削減できる。
A U-shaped notch extending in the longitudinal direction of the
上記したように、エキシマランプ1の点灯時は、点灯に伴う熱によって筐体30を構成するアルミニウムが、エキシマランプ1の円筒管2よりも管軸方向に大きく伸びる。そのため、金属部材11に導通を取る部品も筐体30の熱膨張を吸収できる部材でなければならない。図4(b1)(b2)に示すように、脚部23bのクリップ部21側は、エキシマランプ1の点灯時でもクリップ部21と略同調して管軸方向に動かないため、ランプホルダ20の脚部23bに導通部34を設ければ、金属部材11と導通部34の位置関係が消灯時も点灯時も同位置に保たれる。このように、筐体30が熱膨張しても、金属部材11と導通部34の位置関係が保たれるため、金属部材11と導通部34との間で擦れることがない。したがって、エキシマランプ1の外部電極8の導通機構から、摩擦等による塵の発生を抑制することができる。
As described above, when the
なお、以上では、ランプホルダ20をエキシマランプ1のベース4近傍の円筒管2に取り付ける場合を説明したが、ランプホルダ20を円筒管2のどの位置に取り付けるかということには限定されない。ランプホルダ20をエキシマランプ1の中央にも取り付けることができる。特に管軸長が長いエキシマランプ1において、中央にランプホルダ20を配置することによって、エキシマランプ1のたわみを抑制することができる。たわみを抑制することによって、エキシマランプ1と被処理物との離間距離を一定に保つことができる。
Although the case where the
1 エキシマランプ
2 円筒管
3 発光部
4 ベース
5 内側管
6 外側間
7 内部電極
8 外部電極
20 ランプホルダ
21 クリップ部
22 脚部
23 固定部
30 筐体
31 ガス流通管
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記エキシマランプは前記筐体に吊り下げられたランプホルダにより保持され、前記ランプホルダは前記エキシマランプの管軸方向に離間して配置された脚部を有し、前記脚部は該脚部の長手方向に弾性変形することを特徴とするエキシマ光照射装置。 In the excimer light irradiation device provided with an excimer lamp that irradiates excimer light and a gas flow pipe in a housing that opens downward,
The excimer lamp is held by a lamp holder suspended from the housing, and the lamp holder has legs that are spaced apart from each other in the tube axis direction of the excimer lamp, and the legs are formed on the legs. An excimer light irradiation apparatus characterized by elastic deformation in the longitudinal direction.
前記ランプホルダは、前記金属部材に接触している導通部が前記脚部に設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載のエキシマ光照射装置。 The excimer lamp has a base connected to both ends of a cylindrical tube having a light emitting portion inside through a metal member that is electrically connected to an external electrode of the light emitting portion,
3. The excimer light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the lamp holder is provided with a conduction portion in contact with the metal member on the leg portion.
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