JP2008537104A - 三次元微細構造の顕微鏡解析を行う方法 - Google Patents

Abstract

三次元微細構造の表面を補助物質で被膜して該三次元微細構造の顕微鏡解析を行うために、補助物質として、ルミネセンス特性の点で異なる２つの状態を有するルミネセンス物質が選択され、その際、ルミネセンス物質は、可逆性を有するが、ほぼ完全に光信号によって一方の状態からもう一方の状態へと遷移でき、また、該ルミネセンス物質で被膜された三次元微細構造の表面の特性を求めるために、該ルミネセンス物質から放出されるルミネセンス光が測定され、その際、該ルミネセンス物質が、観察中の各測定点の周囲内で自らの両状態のうち他方の状態へ移行される。

Description

本発明は、請求項１の上位概念に記載のステップを有する、三次元微細構造の顕微鏡解析を行う方法に関する。該微細構造は、特に人工的な、すなわち人間の手によって作り出された微細構造を指す。例えば、三次元微細構造はリソグラフィ技術によって作製することができる。

本書で言う微細構造とは、特に、マイクロ構造及びナノ構造、すなわち詳細寸法がマイクロメートル及びナノメートル領域である構造を言う。

請求項１の上位概念に記載のステップを有する方法は、半導体素子を製造する際に、微細な導体構造を検査するために利用される。その際、各々の微細構造には、導電性の物質、一般的にはアルミニウムが蒸着され、その後、電子顕微鏡で解析される。微細構造についてできる限り高度な三次元分析を行うために電子顕微鏡法が用いられる。しかし、電子顕微鏡解析のために必要なコストは相当大きい。微細構造を有する物体は、一般的に、酸化しやすいアルミニウムを蒸着するためにだけであっても高真空装置の中へ入れなければならず、しかも、そもそも電子顕微鏡解析が高真空のもとでのみ実施可能である。これは、微細構造を有する物体から、高真空を阻害する恐れ及び／又は高真空装置を損傷する恐れのある揮発性物質が放出されてはならないからである。また、電子顕微鏡自体の設置及び運用のためのコストもかなり大きい。さらに、短所として、電子顕微鏡解析された微細構造物は、アルミニウムで不可逆的に覆われているので、利用をあきらめざるを得ない点がある。すなわち、最終製品においてもそのまま利用される微細構造物を検査するためには、公知の方法は用いることができない、ということである。試料は、ただ廃棄されていくということになりかねない。

現在、リソグラフィック微細構造物の製造法において、分解能が１５０ｎｍ未満でなければならない場合、電子顕微鏡解析に代わる手段はほとんど見られない。マイクロエレクトロニクスにおける最新のストリップ線路は、さらに線路間隔が狭くなり、線路幅が既に９０ｎｍにまで小さくなっている。電子顕微鏡法に代わる方法と言えるものは、解析すべき微細構造をプローブで走査する方法である。これには、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）及び走査型近接場光顕微鏡法（ＳＮＯＭ）が含まれる。これらの方法は、確かに高真空を必要としないが、クリーニングされた微細構造を正確に、従って高いコストをかけて、各プローブの走査法に対して高感度である位置に方向付けることを必要とし、解析される微細構造物の大きさの割には極めて時間がかかる。従って、公知の方法における顕微鏡解析のコストをかなり低減できそうに思われるのは、リソグラフィ技術によって作製された微細構造のほんのわずかな試料だけ解析する場合のみである。しかし、この場合、製造された電気部品が不具合を有する恐れがかなり高くなる。

試料を蛍光顕微鏡解析する方法は、例えば、特許文献１によって公知である。前段階のステップにおいて試料内の所定の構造部分に染色のために付着された蛍光色素が、まず、励起光信号によって、励起されたエネルギー状態に移行される。この光励起の際、光学的方法における三次元分解能の通常の限界であるλ／（２ｎ ｓｉｎα）という条件が当てはまる。ただし、λは用いられる光の波長、ｎは試料の屈折率、αは用いられる対物レンズの半開口角である。この限界を下回るように、蛍光色素の光学的に励起された状態は、脱励起する光信号によって、脱励起光信号が零となる所望の測定点を除き、再び脱励起される。すなわち、脱励起光信号によって、試料の蛍光色素は、測定点以外の全ての点で誘導放出を余儀なくされる。その結果生じる蛍光測定点の寸法、すなわち、残留する蛍光の三次元分解能を、通常の分解能限界よりも明らかに小さくすることが可能である。これは、脱励起信号が、所望の測定点以外では、脱励起時に誘導放出によって飽和状態を実現するような強さで試料に印加されるからである。こうして、試料の蛍光色素は、脱励起光信号の強度分布の零点を中心とする非常に狭く限られた範囲でのみ、励起状態にあり、この範囲でのみ蛍光を発することができる。

非特許文献１によると、蛍光測定点Δｘの大きさと分解能の関係は、下記数式１で表される。

ただし、λは用いられる光の波長、ｎは試料の屈折率、αは用いられる対物レンズの半開口角、ｌは脱励起光信号の入射強度、ｌ_Ｓは飽和強度である。飽和強度ｌ_Ｓは、試料の蛍光色素が脱励起光信号の作用によって、静的に見て半分脱励起されている際の特性強度である。

独国特許出願公開第１０１５４６９９号明細書 国際公開第０２／０８４２６５号パンフレット Ｈｅｌｌ，"Ｎａｔｕｒｅ Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ"，２１，１３４７−１３５５

本発明の課題は、請求項１の上位概念に記載のステップを有する、三次元微細構造の顕微鏡解析を行う方法であって、原則として、より少ないコストで実施され、従って例えば微細構造の製造する際に、より多くの微細構造物の顕微鏡解析を行うことが可能である方法を提示することである。

本発明の前記課題は、独立請求項１の上位概念に記載のステップを有する、三次元微細構造の顕微鏡解析を行う方法によって解決される。この新しい方法の有利な構成は、従属請求項２から１０に記載されている。

三次元微細構造の顕微鏡解析を行うためのこの新しい方法では、ルミネセンス特性の点で異なる２つの状態を有するルミネセンス物質が、補助物質として選択される。その際、このルミネセンス物質は、可逆性を有するが、ほぼ完全に光信号によって一方の状態からもう一方の状態へと遷移できる。その後、ルミネセンス物質で被覆された表面の特性を求めるために、ルミネセンス物質から放出されるルミネセンス光が測定される。その際、観察中の各測定点の周囲におけるルミネセンス物質が、自らの両状態のうち他方の状態へ移行される。

この新しい方法で用いるためのルミネセンス物質として、とりわけ、しかし唯一ではないが、蛍光色素が適している。ルミネセンス物質のルミネセンスの背後にある物理的現象は決定的なものではなく、それが特に蛍光である必要はない。以下において、この新しい方法で用いるためのルミネセンス物質の例として蛍光色素について詳述するが、その際も、それぞれの文脈においてなされる言及が蛍光物質にのみ該当するとみなされるべきではない。蛍光色素という用語は、具体的な文脈から他のものを指すことが明らかである場合を除き、ルミネセンス物質という用語の同意語と解するものとする。同じことが、ルミネセンス光の例としての蛍光にも当てはまる。

ルミネセンス物質から放出されるルミネセンス光の測定が、三次元微細構造を顕微鏡解析するためのこの新しい方法、すなわち、ルミネセンス顕微鏡法とも呼ばれる方法において行われる。これの具体例として、以下で蛍光顕微鏡法に言及する。しかし、この方法の場合も、ルミネセンス物質の例としての蛍光色素という点に関しては、上述したことが適用される。ここでも、蛍光顕微鏡法という用語あるいは蛍光顕微鏡解析という用語は、具体的な文脈から他のものを指すことが明らかである場合を除き、三次元分解能によるルミネセンス物質からのルミネセンス光の測定の同意語と解するものとする。

蛍光顕微鏡法には、同方法として知られているさまざまな方法があり、これらの方法によって、現在及び近い将来市場で注目される人工的な微細構造物を解析するのに十分な高さにまで、三次元分解能を向上させることができる。その際、蛍光顕微鏡解析の場合、例えばいわゆる共焦点配置が考えられるが、しかしまた、蛍光色素の多光子励起も考えられ、これらによって、吸収される、あるいは生成される蛍光の、一定の測定点に対する三次元分布が改良される。この種の方法は、この新しい方法でも利用できる。

しかし、いずれにせよ、この新しい方法では、ルミネセンス特性の点で異なる２つの状態を有するルミネセンス物質が選択される。その際、このルミネセンス物質は、可逆性であるが、ほぼ完全に光信号によって一方の状態からもう一方の状態へと遷移できる。従って、光信号によってルミネセンス物質を、寸法が光学的方法における三次元分解能の通常の限界であるλ／（２ｎ ｓｉｎα）を下回る三次元領域を除いた部分において、ルミネセンス物質のルミネセンス特性がこの領域内におけるルミネセンス特性とは異なる状態へと移行させることが可能となる。これによって、ルミネセンス物質のルミネセンス光をλ／（２ｎ ｓｉｎα）よりも良好な三次元分解能で測定することが可能となる。なお、λは、ルミネセンス物質を一方の状態からもう一方の状態へ移行させるための光信号の波長である。ルミネセンス物質の一方の状態からもう一方の状態へのほぼ完全な移行と言えるのは、ルミネセンス物質の少なくとも８０％、好ましくは少なくとも９０％、さらに好ましくは少なくとも９５％、最も好ましくは少なくとも９９％がもう一方の状態へ移行されている場合である。

具体的には、ルミネセンス物質を、ルミネセンス光の測定時に、所定の測定点を除き、不活性状態へ移行させることができ、その状態において、ルミネセンス物質はルミネセンス光を放出しない。これが、ルミネセンス物質が飽和するまで励起されて両状態間を遷移することによって行われ、その際、遷移の励起がただ各々所定の測定点でのみ零点を有する場合、ルミネセンス光の測定時において三次元分解能のかなりの向上が実現できる。特に、ルミネセンス物質を誘導放出によって、所定の測定点を除き、励起状態から不活性状態へ移行させることができる。その結果、ルミネセンス物質は、所定の測定点においてのみ励起状態が続いており、従って、吸収されたルミネセンス光は、この所定の測定点からのみ発する。これと同じ結果は、蛍光色素が、測定点以外の全ての領域において、そもそも発光できない状態に移行される場合にも得られる。

三次元分解能の向上は、逆方向に、ルミネセンス物質を各々所定の測定点以外のあるゆる領域で活性状態へ移行させることによっても可能である。そのとき、向上した三次元分解能を有する所定の信号は、測定点からの、減衰されたルミネセンス光であるか、又はルミネセンス光が全く欠如している場合である。

この新しい方法では、被覆されていない構造物の表面を、ルミネセンス物質によって１０^８ｍｍ^−２から１０^１５ｍｍ^−２の表面密度、好ましくは１０^１１ｍｍ^−２から１０^１２ｍｍ^−２の表面密度で覆うことができる。これらを無次元表示することで、ルミネセンス物質の発光中心の表面密度が示される。すなわち、それぞれが発光中心を有する個々の分子からなる通常のルミネセンス物質の場合、表面密度は、１ｍｍ^２当たりの分子数を表す。表面密度が１０^１１ｍｍ^−２から１０^１２ｍｍ^−２である好適な領域は、概ね、０．５ｎｍから２ｎｍという典型的な分子サイズを有する、ルミネセンス物質として典型的な蛍光色素の単層に等しい。既にこの表面密度において、ルミネセンス物質には、ルミネセンス光を放出することなく、潜在エネルギーを隣接するルミネセンス物質の分子へ与える傾向が生じる。すなわち、ルミネセンス物質がそれ以上の表面密度であっても、無条件にルミネセンス光の観察可能な放出が増大するわけではない。しかし、そのような表面密度は、ルミネセンス物質の分子が蓄積されていることを表しており、それらの分子は、ルミネセンス物質が、一方の状態からもう一方の状態へ移行することを可能にする光信号の作用の結果、又は、ルミネセンス光を放出する励起状態へ励起させる励起光の作用の結果、それ自体望ましくない副作用として退色される場合、つまり不活性状態になる場合に活性化される。このような退色は、他の原因に起因することもあり、ルミネセンス物質には通常の特性である。しかし、この特性の作用は、微細構造の表面にルミネセンス物質が過剰となることによって、ある程度防がれ、ルミネセンス物質からのルミネセンス光を測定する際に、長時間にわたって、該表面の所定の特性を高い三次元分解能で測定することが可能である。

微細構造の表面は、例えば、ルミネセンス物質の蒸着によって被覆することができる。しかしまた、ルミネセンス物質を、例えばキャリア液を用いて表面へ付着させ、次にこのキャリア液を気化させて、ルミネセンス物質を残すということも考えられる。

この新しい方法は、さまざまな人工的な微細構造を製造する際に利用可能である。その際、微細構造は、例えばマイクロ電子機器の最終製品においてもそのまま利用される微細構造であってもよい。例えば、微細構造自体が、ストリップ線路を形成してもよい。しかしまた、微細構造は、例えばマスクのような一時的な構造であってもよい。マスクの場合、相補的な更なる微細構造を製造するために利用され、その後、除去されて、マスク自体が最終製品に含まれることはない。

この新しい方法の具体的な利用分野は、三次元微細構造のリソグラフィ製造である。この場合、放射感度の高い材料が用いられ、微細構造を形成するために、該材料からなる膜が基板に塗布され、塗布された膜の所定の三次元領域に照射が行われ、照射された膜が現像され、その際、膜の一部分が除去され、所望の微細構造が残存する。膜の現像時、膜の照射された三次元領域を除去することも、照射されなかった三次元領域を除去することも可能である。

放射感度の高い材料は、例えば紫外線及び／又はレントゲン線及び／又は電子線に対して感度が高いものであってよく、これらの放射線種の１つが、塗布された膜の所定の三次元領域への照射に用いられる。

本書で微細構造のリソグラフィ製造という場合、通常、フォトリソグラフィ法のことを指す。しかし、フォトリソグラフィという上位概念に含まれない電子ビーム又はその他の粒子ビームを、放射感度の高い材料の照射に関して除外するものではないことを明示するために、「フォト」を伴わない一般的な表現を意図的に用いる。

この新しい方法の特に有利な点は、ルミネセンス物質が、三次元微細構造の、ルミネセンス物質が付着された表面の特性を測定した後、再び微細構造の表面から除去することができる点である。従って、解析された微細構造は、最終製品へと至るまでさらに処理することができる。言い換えれば、この新しい方法は、実際の最終製品においてもそのまま利用される微細構造にも用いることができるということである。微細構造の種類によっては、ルミネサンス物質を除去する必要がない場合もある。これは、ルミネサンス物質が、微細構造の更なる処理を妨害しないため、あるいは、ルネサンス物質が意図的に退色できるため、このような不活性状態でも微細構造の更なる処理に問題を生じない場合である。

例えば、ルミネセンス物質は、洗浄液によって微細構造から洗い落とすことができる。この場合の洗浄液は、当業者には明らかなように、ルミネセンス物質を例えば溶解することによって特に良好に吸収する一方、ルミネセンス物質が付着している微細構造を損傷することのない洗浄液である。

微細構造の顕微鏡解析の場合、ルミネセンス物質から放出されたルミネセンス光を、有利には、イマージョン対物レンズを用いて検出器に投影することができる。ルミネセンス光を基にした、膜の顕微鏡解析は、微細構造と微細構造に隣接する媒体との屈折率の相違に依存しているのではない。膜の微細構造は、この新しい方法では、直接的に投影されるのではなく、すなわち、微細構造として投影されるのではなく、ルミネセンス物質から放出されルミネセンス光の三次元分布が記録され、そこから、微細構造を推定することが可能となっている。屈折率が微細構造の屈折率とできる限り近似するイマージョン媒体を具備するイマージョン対物レンズを用いることによって、光学比を高い三次元分解能のために最適に調整することができる。

特に有利には、この方法の場合、イマージョン対物レンズ用のイマージョン媒体として固体が用いられ、これにより、浸液によってルミネサンス物質を微細構造から除去してしまうという危険性を全て回避できる。具体的には、イマージョン媒体として働く固体は、いわゆるソリッドイマージョンレンズであってもよい。ソリッドイマージョンレンズは、ルミネセンス物質で被覆された微細構造表面に設置した際に、微細構造の輪郭を越える十分な焦点深度を有し、これにより、この深度方向におけるルミネセンス物質の分布を所望の高い三次元分解能で捉えることができる。

この新しい方法は、微細構造を高真空装置へ全く搬入する必要がない。従って、これが優れた前提条件となって、容認できるコストで、数多くの微細構造の顕微鏡解析を行うことが可能となる。ルミネセンス物質から放出されるルミネセンス光を測定する際、本書で述べられた分解能向上方法によって、幅８０ｎｍ及び間隔４０ｎｍの、又はそれ以上に微細な構成の周期的な線形構造を、可視領域のルミネセンス光と光信号とを用いて分析できる三次元分解能が実現可能である。

本発明のその他の有利な構成は、従属請求項及び明細書全般に記載されている。その他の特徴は、図面、特にそこに示された複数の構成部材の形状と相対的な寸法、ならびにそれらの相対的な配置及び機能的結合から見て取ることができる。本書で選定された関連性とは相違した方法で、本発明の異なった実施形態の特徴又は異なった請求項の特徴を組み合わせることも可能であり、またそれをここに提案する。これはまた、個々の図に示されている特徴、又は説明において挙げられる特徴にも当てはまる。これらの特徴は、異なった請求項の特徴と組み合わせることも可能である。

以下において、本発明について、図に示された好ましい実施例を用いてさらに詳述する。

図１は、三次元微細構造１を顕微鏡解析するための方法を概略的に示しており、三次元微細構造は、基板３上にある線状の凸部２の図案として示されている。微細構造１は、ここでは詳細に示されていないリソグラフィ工程の成果物であってもよい。顕微鏡解析のために、微細構造１の表面４は、ステップ５においてルミネセンス物質６で被覆される。そのために、ルミネセンス物質６は気化することができ、その結果、ルミネセンス物質は均一に表面４に付着する。次に、ルミネセンス物質６で被覆された微細構造１は、ステップ７において顕微鏡解析される。その際、ルミネセンス物質６は、蛍光色素であって、励起光ビーム１１によって励起されて蛍光となるが、各々所定の測定点を除き、脱励起光ビーム１２を用いて誘導放出によって再び脱励起される。所定の測定点を中心にして残存する励起された領域から発する蛍光１３のみが測定される。顕微鏡分析のステップ７の後、ステップ８において、ルミネセンス物質６は微細構造１から洗浄液９を用いて洗い落とされる。ルミネセンス物質６が洗浄された微細構造１は、後のステップ１０において、前に実施されたステップ５，７及び８によって損傷されることなく、さらに加工することができる。

図２は、図１に示された方法で利用できる蛍光顕微鏡１４の原理構成を示す。蛍光顕微鏡１４は、試料１５における蛍光色素を励起するために励起光源１６を有する。この励起光源は、パルスレーザダイオード（独国ＰｉｃｏＱｕａｎｔ社）であり、このダイオードは、波長６３５ｎｍ、パルス幅６８ｐｓ、繰り返し周波数８０Ｍｈｚの励起光ビーム１１を発生する。励起光ビーム１１は、励起光源１６からピンホール１７を通り、さらに１／４波長板を通過する。１／４波長板は、励起光ビーム１１を周期的に偏光させる働きをする。ダイクロイックミラー１９による偏向の後、励起光ビーム１１は、もう１つのダイクロイックミラー２０を介して対物レンズ２１に達し、この対物レンズによって試料１５に合焦される。対物レンズ２１は、ここではソリッドイマージョン対物レンズである。ダイクロイックミラー１９及び２０とその他の図示されていないフィルタとは、励起光ビーム１１の６３５ｎｍという波長と、試料１５における蛍光色素の６５０ｎｍから７１０ｎｍという放出範囲とに適合されており、その際、これは、キサンテン蛍光色素ＪＡ２６の特性である。試料からの蛍光１３は、対物レンズ２１によって捕捉され、ピンホール２２が、ピンホール１７に対して、共焦点を有するように励起光１１の光路に配置されている。ピンホール２２と光検出器２３は、計数を行うアバランシェフォトダイオードに光を導く光ファイバによって実現することができる。その際、光ファイバのコア径は、対物レンズ２１の焦平面へ投影する場合、エアリーディスクの０．７倍に等しい。

共焦点蛍光顕微鏡のこの構成は、以下の構成要素を加えることで、ＳＴＥＤ蛍光顕微鏡に拡張されており、ダイクロイックミラー２０もこの拡張要素に含めることができる。ＳＴＥＤ顕微鏡の場合、所定の測定点以外の全領域において、誘導放出（ＳＴｉｍｕｌａｔｅｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｅｐｌｅｔｉｏｎ：誘導放出抑制）を利用して蛍光色素の励起状態を減衰することによって、蛍光色素がまだ励起されているために蛍光１３を放出可能である体積部分の寸法が小さくなる。それに対応する脱励起光ビーム１２のために、蛍光顕微鏡１４は脱励起光源２４を有している。この脱励起光源は、ここではフェムト秒単位で位相結合されるチタンサファイアレーザ（Ｍａｉ Ｔａｉ，Ｓｐｅｃｔｒａ Ｐｈｙｓｉｃｓ社）であり、波長が７８０ｎｍの脱励起光ビーム１２を発生し、同時にまた、トリガ信号２５によって励起光源１６用のクロックの働きをする。脱励起光源２４から発される赤方偏移したパルスは、長さ１００ｍのシングルモードファイバの中を導かれ、３００ｐｓのパルス幅に引き延ばされる。従って、脱励起光ビーム１２のパルスは、６８ｐｓの励起光ビーム１１のパルスよりも明らかに長い。このようにして、再び脱励起されることのない、蛍光色素の望ましくない励起が排除される。シングルモードファイバ２６は、脱励起光ビーム１２の偏光を阻害せず、脱励起光ビームは、それに続いて、偏光分光器２７によって、互いに垂直のｓ偏光あるいはｐ偏光を有する２つの分光１２’と１２”に分割される。分光１２’及び１２”の偏光を互いに対して調整する位相板２８及び２９を通過した後、分光１２’及び１２”はもう１つの偏光分光器３０によって再び重ね合わされ、対物レンズ２１によって試料１５へ投射された脱励起光ビーム１２が、ビーム方向を中心とする、強度が０を超える円環状の領域を形成する。この領域の中心では、干渉縞が最小値、すなわち強度０を有する。この領域では、試料１５における励起光ビームによる蛍光色素の励起が、再び脱励起されることはなく、一方、それ以外の全領域で、脱励起光ビーム１２による脱励起が行われる。このようにして、蛍光顕微鏡１４の横方向分解能は、試料の励起に用いられる励起光ビーム１１の回折限界を下回ることができる。所定の測定点の前及び後において、強度が０を超えるビーム方向に脱励起光ビームを適当に強度分布させることによって、蛍光顕微鏡１４の深さ分解能も低くすることができる。これに関する詳細は、国際公開第０２／０８４２６５号パンフレットで参照可能である。

この新しい方法を実施するための流れ図である。 図１に記載の方法で用いることができる蛍光顕微鏡の原理構成図である。

符号の説明

１ 微細構造
２ 凸部
３ 基板
４ 表面
５ ステップ：被覆
６ ルミネセンス物質
７ ステップ：解析
８ ステップ：洗浄
９ 洗浄液
１０ ステップ：加工
１１ 励起光ビーム
１２ 脱励起光ビーム
１３ 蛍光
１４ 蛍光顕微鏡
１５ 試料
１６ 励起光源
１７ ピンホール
１８ １／４波長板
１９ ダイクロイックミラー
２０ ダイクロイックミラー
２１ 対物レンズ
２２ ピンホール
２３ 光検出器
２４ 脱励起光源
２５ トリガ信号
２６ シングルモードファイバ
２７ 分光器
２８ 位相板
２９ 位相板
３０ 分光器

Claims (10)

1. − 三次元微細構造の表面を補助物質で被膜するステップと、
   − 該補助物質で被膜された該表面の特性を測定するステップと
   を具備する、三次元微細構造の顕微鏡解析を行う方法において、
   補助物質としてルミネセンス物質が選択され、該ルミネセンス物質がルミネセンス特性の点で異なる２つの状態を有し、その際、該ルミネセンス物質は、可逆性を有するが、ほぼ完全に光信号によって一方の状態から他方の状態へと遷移できることと、該ルミネセンス物質で被膜された表面の特性を求めるために、該ルミネセンス物質から放出されるルミネセンス光が測定され、その際、該ルミネセンス物質が、観察中の各測定点の周囲内で自らの両状態のうち他方の状態へ移行されることとを特徴とする方法。
2. 前記ルミネセンス物質が、自らの両状態の一方の状態から他方の状態へ、飽和するまで遷移することによって移行されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記ルミネセンス物質が、観察中の測定点の周囲において、非活性状態へ移行されることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記ルミネセンス物質が、誘導放出によって非活性状態へ移行されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
5. 微細構造の表面が、前記ルミネセンス物質によって、１０^８ｍｍ^−２から１０^１５ｍｍ^−２の表面密度、好ましくは１０^１１ｍｍ^−２から１０^１２ｍｍ^−２の表面密度で被膜されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 微細構造の表面が、前記ルミネセンス物質の蒸着よって被膜されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 前記ルミネセンス物質が、該ルミネセンス物質で被膜された三次元微細構造の表面の特性を測定した後、再び微細構造の表面から除去されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 前記ルミネセンス物質が、微細構造の表面から洗浄液によって洗い落とされることを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. ルミネセンス物質から放出されたルミネセンス光が、イマージョン対物レンズによって検出器へ投影されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
10. イマージョン対物レンズ用のイマージョン媒体として固体、特にいわゆるソリッドイマージョンレンズが用いられることを特徴とする請求項９に記載の方法。