JP2008502896A - 非常に短い単一パルスの波形を測定する装置 - Google Patents
非常に短い単一パルスの波形を測定する装置 Download PDFInfo
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Abstract
本発明は単一光パルスの波形を測定する装置に関するものであり、本装置は、
−初期光パルスの一連のレプリカパルス(Ri)を、初期光パルス(I)に基づいて生成する手段(1,F)と、
−これらのレプリカパルス(Ri)の振幅を互いにほぼ同じ値になるように調整するスレーブ手段(2,3,4,AMP)と、
−光サンプル(Ei)をレプリカパルス(Ri)に基づいて形成するサンプリング手段(7,Ech)と、そして
−電気信号を光サンプル(Ei)に基づいて形成する検出手段(D)と、を備える。
本発明は、単一の光パルスまたは電気パルス、或いは繰り返し周波数の低いパルスの測定に適用することができる。
−初期光パルスの一連のレプリカパルス(Ri)を、初期光パルス(I)に基づいて生成する手段(1,F)と、
−これらのレプリカパルス(Ri)の振幅を互いにほぼ同じ値になるように調整するスレーブ手段(2,3,4,AMP)と、
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本発明は、単一の光パルスまたは電気パルス、或いは繰り返し周波数の低いパルスの測定に適用することができる。
Description
技術分野
本発明は非常に短い単一パルスの波形を測定する装置に関する。
本発明は非常に短い単一パルスの波形を測定する装置に関する。
背景技術
本発明は、通常、10GHz〜300GHzのアナログ周波数帯における数ピコ秒〜数十ナノ秒の期間のレーザパルスに関する測定であって、光ファイバ及び関連部品に関する現在の技術を取り入れた測定に適用することができる。
本発明は、10GHz〜100GHzのアナログ周波数帯における数十ピコ秒〜数十ナノ秒の期間の単一電気パルスに関する測定であって、電気光学変調器に関する現在の技術を取り入れた測定にも適用することができる。
有利なことに、本発明は、繰り返し周波数が低い光パルス及び電気パルスの測定にも適用することができる。
本発明は、通常、10GHz〜300GHzのアナログ周波数帯における数ピコ秒〜数十ナノ秒の期間のレーザパルスに関する測定であって、光ファイバ及び関連部品に関する現在の技術を取り入れた測定に適用することができる。
本発明は、10GHz〜100GHzのアナログ周波数帯における数十ピコ秒〜数十ナノ秒の期間の単一電気パルスに関する測定であって、電気光学変調器に関する現在の技術を取り入れた測定にも適用することができる。
有利なことに、本発明は、繰り返し周波数が低い光パルス及び電気パルスの測定にも適用することができる。
短い単一パルスの波形の測定は普通、難しく、かつ高価な計測機器を必要とする。異なるタイプの計測機器が要求性能によって変わる形で使用され、計測機器として例えば:
−アナログ周波数帯が通常、例えば0〜7GHzに変化するパルスに関して単一サンプルを使用する電気オシロスコープ(従って、「フラッシュ」変換技術が使用される)、
−アナログ周波数帯が通常、数GHz〜100GHzに変化するパルスに関するスリット内蔵ストリークカメラ(SSCカメラ)(使用する技術は電子真空管に関する技術と同じであり、直線偏向及び横偏向を利用して時間軸に沿った再生を可能にする)。スリット内蔵ストリークカメラは複雑で高価な一式の機器であり、これらの機器は頻繁に再校正する必要があり、光感度が低く、そして環境振動の影響を受け易い。
−通常のアナログ周波数帯が数百GHz〜数十THzに変化するパルスに関する自己相関器(この機器は実際には、パルス期間の相対測定値のみを供給し、そして前記測定値は波形の形状に関する前提を考慮に入れて取得される)。非線形光学技術は、時間/空間変換を画像解析及び信号処理と組み合わせる形で使用される。
本発明による測定装置と先行技術による単一パルス測定装置との違いは、本発明による測定装置が、測定パルスのアナログ周波数帯を著しく広くする簡単かつ画期的な手段を最適な形で組み合わせていることである。
−アナログ周波数帯が通常、例えば0〜7GHzに変化するパルスに関して単一サンプルを使用する電気オシロスコープ(従って、「フラッシュ」変換技術が使用される)、
−アナログ周波数帯が通常、数GHz〜100GHzに変化するパルスに関するスリット内蔵ストリークカメラ(SSCカメラ)(使用する技術は電子真空管に関する技術と同じであり、直線偏向及び横偏向を利用して時間軸に沿った再生を可能にする)。スリット内蔵ストリークカメラは複雑で高価な一式の機器であり、これらの機器は頻繁に再校正する必要があり、光感度が低く、そして環境振動の影響を受け易い。
−通常のアナログ周波数帯が数百GHz〜数十THzに変化するパルスに関する自己相関器(この機器は実際には、パルス期間の相対測定値のみを供給し、そして前記測定値は波形の形状に関する前提を考慮に入れて取得される)。非線形光学技術は、時間/空間変換を画像解析及び信号処理と組み合わせる形で使用される。
本発明による測定装置と先行技術による単一パルス測定装置との違いは、本発明による測定装置が、測定パルスのアナログ周波数帯を著しく広くする簡単かつ画期的な手段を最適な形で組み合わせていることである。
発明の概要
本発明は、単一光パルスの波形、または繰り返し周波数の低い波形を測定する装置に関するものであり、本装置は、
−初期光パルスの一連のレプリカパルスを、これらのレプリカパルスが周期τを持つように初期光パルスに基づいて生成する手段と、
−これらのレプリカパルスの振幅を互いにほぼ同じ値になるように調整するスレーブ手段と、
−レプリカパルスをサンプリングして、レプリカパルスに基づく光サンプルを出力する手段と、
−電気信号をサンプリング手段が出力する光サンプルに基づいて形成する検出手段と、
を備え、光サンプリング手段はレーザ光源を含み、レーザ光源は周波数1/TO及び初期光パルスよりも非常に短い期間を示すレーザパルスを放出し、レプリカパルスの周期τ、及びレーザパルスの周期TOは、δtを初期光パルス期間よりも非常に短い期間の時間ドリフトとする場合に、次の等式により表わされる関係を有し、
τ=TO−δt,
そして光サンプラーはレプリカパルス及びレーザパルスによって照射され、光サンプラーはレーザサンプリングパルスの影響を受けながらレプリカパルスを実質的に透過するようになる。
本発明は、単一光パルスの波形、または繰り返し周波数の低い波形を測定する装置に関するものであり、本装置は、
−初期光パルスの一連のレプリカパルスを、これらのレプリカパルスが周期τを持つように初期光パルスに基づいて生成する手段と、
−これらのレプリカパルスの振幅を互いにほぼ同じ値になるように調整するスレーブ手段と、
−レプリカパルスをサンプリングして、レプリカパルスに基づく光サンプルを出力する手段と、
−電気信号をサンプリング手段が出力する光サンプルに基づいて形成する検出手段と、
を備え、光サンプリング手段はレーザ光源を含み、レーザ光源は周波数1/TO及び初期光パルスよりも非常に短い期間を示すレーザパルスを放出し、レプリカパルスの周期τ、及びレーザパルスの周期TOは、δtを初期光パルス期間よりも非常に短い期間の時間ドリフトとする場合に、次の等式により表わされる関係を有し、
τ=TO−δt,
そして光サンプラーはレプリカパルス及びレーザパルスによって照射され、光サンプラーはレーザサンプリングパルスの影響を受けながらレプリカパルスを実質的に透過するようになる。
本発明の第1変形例によれば、光サンプラーはKerrセルであり、このセルは2つの直交偏光子の間に配置されるKerr効果活性媒質を含む。
本発明の第2変形例によれば、光サンプラーは、
−レプリカパルスを第1レプリカパルス部分及び第2レプリカパルス部分に分割する分割器と、
−第1及び第2レプリカパルス部分によってそれぞれ照射される第1ゾーン及び第2ゾーンを含む可飽和吸収体と、そして
−光減算干渉型素子(DISO)と、を含み、
第1ゾーンはサンプリングレーザ光源からのパルスの影響を受けることによりほぼ透明となり、光減算干渉型素子は光サンプルを、第1可飽和吸収体ゾーンから出力されるサンプリング済み信号と第2可飽和吸収体ゾーンから出力される信号との差をとった結果として出力する。
本発明の第2変形例によれば、光サンプラーは、
−レプリカパルスを第1レプリカパルス部分及び第2レプリカパルス部分に分割する分割器と、
−第1及び第2レプリカパルス部分によってそれぞれ照射される第1ゾーン及び第2ゾーンを含む可飽和吸収体と、そして
−光減算干渉型素子(DISO)と、を含み、
第1ゾーンはサンプリングレーザ光源からのパルスの影響を受けることによりほぼ透明となり、光減算干渉型素子は光サンプルを、第1可飽和吸収体ゾーンから出力されるサンプリング済み信号と第2可飽和吸収体ゾーンから出力される信号との差をとった結果として出力する。
本発明の別の特徴によれば、測定装置は、光サンプラーの出力に配置されて光サンプルの幅を狭くする干渉型素子を備える。
本発明の一の好適な実施形態によれば、初期光パルスの一連のレプリカパルスを生成する手段は、4ポートカプラー、及びカプラーにループバックする導波路、例えばシングルモード光ファイバを含む。
本発明の一の好適な実施形態によれば、初期光パルスの一連のレプリカパルスを生成する手段は、4ポートカプラー、及びカプラーにループバックする導波路、例えばシングルモード光ファイバを含む。
本発明はまた、単一電気パルスまたは繰り返し周波数の低いパルスの波形を測定する装置に関するものであり、前記装置は、本発明による、光パルスの波形を測定する装置に直列に配置される電気光学変調器を備えることを特徴とする。
本発明による、光パルスを測定する装置は、単一光パルスを測定する既存のオシロスコープでは依然として不可能な周波数帯に対応することができる。約100GHzの周波数を実現する唯一の方法は、SSCカメラを使用することであるが、コーディング範囲は8ビットよりもずっと狭く、かつこの範囲は本発明による装置を使用することにより実現する。
本発明による、光パルスを測定する装置は、単一光パルスを測定する既存のオシロスコープでは依然として不可能な周波数帯に対応することができる。約100GHzの周波数を実現する唯一の方法は、SSCカメラを使用することであるが、コーディング範囲は8ビットよりもずっと狭く、かつこの範囲は本発明による装置を使用することにより実現する。
本発明によるパルス測定装置は非常に高い時間分解能に関連する拡張コーディング範囲を構成として有する。この範囲は、スレーブループのノイズ要素及び出力光/電気変換によってほぼ制限される。計測機器の伝達関数は、最適な安定性を維持する飽和プロセスを使用する。この構成は、非線形「パラメータ増幅」または「光周波数変換」タイプの変換機構、或いは「自己相関器」タイプの構成には用いられない。
本発明により実現する測定感度は非常に高い。同じ時間分解能に関して、SSCカメラよりも数十倍高い感度を実現することができる。本発明による装置の性能は、自己相関器の性能と比較しても有利であり、自己相関器では、非線形光変換法は低速光信号の変換に適用することができない。
本発明により実現する測定感度は非常に高い。同じ時間分解能に関して、SSCカメラよりも数十倍高い感度を実現することができる。本発明による装置の性能は、自己相関器の性能と比較しても有利であり、自己相関器では、非線形光変換法は低速光信号の変換に適用することができない。
本発明による装置を、可飽和吸収体に接続されるファイバループを用いて使用することにより、ファイバループが技術的に非常に簡単であり、かつ非常に少ない数の能動部品しか含まないという利点をもたらすことができる。実現可能な性能に関してこのような簡単な構成を用いることにより、装置を低コストで作製することができると言える。この点に関して、非常に有利な結論が導かれる比較を、電気通信分野のアプリケーションに関する「全ての光」オシロスコープに対して、そしてSSCカメラに対して行なうことができる。その結果、測定値の変換に必ず伴う信号処理及び校正ニーズが緩和される。本発明による装置は、定期的な再校正が必要なSSCカメラの使用に対する制約を考えると、使用の点で非常に大きな利点をもたらす。
本発明による装置は特に堅牢である。サンプリング機能を持つ全ての必須の光学部品は、電気通信及びレーザ分野において確立されている技術を用いて製造されるファイバにより作製されることが好ましい。同様に、装置の出力側の電子部品は、光学部品の高いアナログ周波数よりもずっと低い周波数帯での使用が指定される部品群により構成される。例えば、最高速の部品は電気/光変換フォトダイオードであり、これらのダイオードは積分モードで自然に動作し、かつこれらのダイオードでは、応答時間はτよりも短い時間を維持する必要があるだけである。
本発明による装置は特に堅牢である。サンプリング機能を持つ全ての必須の光学部品は、電気通信及びレーザ分野において確立されている技術を用いて製造されるファイバにより作製されることが好ましい。同様に、装置の出力側の電子部品は、光学部品の高いアナログ周波数よりもずっと低い周波数帯での使用が指定される部品群により構成される。例えば、最高速の部品は電気/光変換フォトダイオードであり、これらのダイオードは積分モードで自然に動作し、かつこれらのダイオードでは、応答時間はτよりも短い時間を維持する必要があるだけである。
電気パルス測定を行なう場合、本発明による装置は、広い周波数範囲内でのパルス波形の解析を可能にするので有利である。入力電気/光変換器を挿入することによってアナログフィルタの通過帯域が狭くなるのにも拘らず、本発明による電気パルス測定装置は、例えばSSCカメラのような既存の機器よりもずっと優れた性能を有し、SSCカメラでは、コーディング範囲がこれらのカメラをカメラの最高速時間分解能で使用する場合に非常に狭くなる。
本発明による測定装置の基本コンセプトは非常に柔軟であり、かつ変えることができる、というのは、このコンセプトを、要求される測定性能に関して最適化される、広い妥協の範囲の解決法に適合させることができるからである。
本発明による測定装置の基本コンセプトは非常に柔軟であり、かつ変えることができる、というのは、このコンセプトを、要求される測定性能に関して最適化される、広い妥協の範囲の解決法に適合させることができるからである。
本発明の他の特徴及び利点は、本発明の好適な実施形態を添付の図を参照しながら一読することにより一層明らかになる。
同じ記号は図の全てにおける同じ構成要素を指す。
同じ記号は図の全てにおける同じ構成要素を指す。
発明の実施形態の詳細な説明
図1は、本発明の好適な実施形態による、光パルスを測定する装置を示している。
本装置は、4つのポートを備えるカプラー1と、シングルモード光ファイバFと、3ポートカプラー2と、制御回路3と、絶縁アンプ(一方向性増幅)AMPと、アンプAMPと直列接続される電気制御光電子減衰器4(周期的制御)と、非常に短い期間を有する繰り返しレーザパルスの光源7と、光サンプラーEchと、検出器Dと、アナログ/デジタル変換器CNと、そしてメモリMと、を備える。図1に示す事例では、サンプラーEchは、「透過」モードで動作する。しかしながら、本発明は、サンプラーEchが「反射」モードで動作する別の実施形態に適用することもできることに注目されたい。
長さLの光ファイバFは、伝搬するパルス信号の幅を広げるモード分散効果が生じないようにするシングルモードタイプである。カプラー1は4つのポートa,b,c,dを有する。ポートaは測定装置の入力を構成し、ポートbは3ポートカプラー2の入力に接続され、ポートcはアンプAMPの入力にファイバFの第1セグメントを通して接続され、そしてポートdは減衰器4の出力にファイバFの第2セグメントを通して接続される。
図1は、本発明の好適な実施形態による、光パルスを測定する装置を示している。
本装置は、4つのポートを備えるカプラー1と、シングルモード光ファイバFと、3ポートカプラー2と、制御回路3と、絶縁アンプ(一方向性増幅)AMPと、アンプAMPと直列接続される電気制御光電子減衰器4(周期的制御)と、非常に短い期間を有する繰り返しレーザパルスの光源7と、光サンプラーEchと、検出器Dと、アナログ/デジタル変換器CNと、そしてメモリMと、を備える。図1に示す事例では、サンプラーEchは、「透過」モードで動作する。しかしながら、本発明は、サンプラーEchが「反射」モードで動作する別の実施形態に適用することもできることに注目されたい。
長さLの光ファイバFは、伝搬するパルス信号の幅を広げるモード分散効果が生じないようにするシングルモードタイプである。カプラー1は4つのポートa,b,c,dを有する。ポートaは測定装置の入力を構成し、ポートbは3ポートカプラー2の入力に接続され、ポートcはアンプAMPの入力にファイバFの第1セグメントを通して接続され、そしてポートdは減衰器4の出力にファイバFの第2セグメントを通して接続される。
4ポートカプラー1は次のように動作する方向性カプラーである。
−ポートaに入力する信号のα%(例えば5%)部分がポートbに送信され、そして(1−α)%(例えば95%)に等しい残りの部分がポートcに送信され、そして
−ポートdに入力する信号のα%部分がポートbに送信され、そして(1−α)%に等しい残りの部分がポートcに送信される。
その結果、測定装置にカプラー1のポートaを通して入力される初期レーザパルスIはポートbに出力される第1パルス部分(α%)、及びポートcに出力される第2パルス部分((1−α)%)に分割される。第1パルス部分はカプラー2に送信され、そして第2パルス部分はファイバF、アンプAMP、及び減衰器4を通してカプラー1のポートdにループバックされる。第2パルス部分が長さLのファイバFを通って伝搬する伝搬速度Vによってループ時間τを次式のように求めることができる。
τ=L/V
−ポートaに入力する信号のα%(例えば5%)部分がポートbに送信され、そして(1−α)%(例えば95%)に等しい残りの部分がポートcに送信され、そして
−ポートdに入力する信号のα%部分がポートbに送信され、そして(1−α)%に等しい残りの部分がポートcに送信される。
その結果、測定装置にカプラー1のポートaを通して入力される初期レーザパルスIはポートbに出力される第1パルス部分(α%)、及びポートcに出力される第2パルス部分((1−α)%)に分割される。第1パルス部分はカプラー2に送信され、そして第2パルス部分はファイバF、アンプAMP、及び減衰器4を通してカプラー1のポートdにループバックされる。第2パルス部分が長さLのファイバFを通って伝搬する伝搬速度Vによってループ時間τを次式のように求めることができる。
τ=L/V
第2パルス部分がポートdに達すると、このようにループバックされる第2パルス部分は、当該部分自体が、ポートbに出力されてカプラー2に向かう第3パルス部分(α%)、及びポートdにループバックされる第4パルス部分((1−α)%)に分割される。従って、パルス部分がループバックされる度に、カプラー1は、当該カプラーが受信する電力のα%部分を出力ポートbに、そして(1−α)%部分をポートcに返す。
従って、測定装置にカプラー1のポートaを通して入力される初期レーザパルスから、期間τによって互いから分離される初期パルスの一連のレプリカパルスが生成される。ループに位置する減衰器4の透過係数、及びアンプAMPのゲインGを動的に調整して結合損失を補償して、量α×Gが通常、0.95〜1(0.95<α×G<1)となるようにする。アナログ−デジタル変換の後に使用される校正係数によって、全てのレプリカの振幅をリセットして次の基本条件が満たされるようにする。
α×G≒1 (1)
従って、測定装置にカプラー1のポートaを通して入力される初期レーザパルスから、期間τによって互いから分離される初期パルスの一連のレプリカパルスが生成される。ループに位置する減衰器4の透過係数、及びアンプAMPのゲインGを動的に調整して結合損失を補償して、量α×Gが通常、0.95〜1(0.95<α×G<1)となるようにする。アナログ−デジタル変換の後に使用される校正係数によって、全てのレプリカの振幅をリセットして次の基本条件が満たされるようにする。
α×G≒1 (1)
上の関係式(1)はデジタルスレーブループを使用して得られる。この関係式を得るために、各レプリカの一部分をカプラー2を使用してサンプリングする。カプラー2は3つのポートe,f,及びgを備えるカプラーである。ポートeはカプラー1のポートbに接続され、ポートfは分割器5の入力に接続され、そしてポートgは制御回路3の入力に接続される。カプラー2にポートeを通して入力される信号は、ポートgに出力される第1部分、及びポートfに出力される第2部分に分割される。ポートgに出力される部分は、例えばポートeに入力される信号の3%に等しくなるようにすることができる。この第1信号部分は制御回路3への入力信号を構成する。制御回路3は、当該回路がその入力で受信する信号部分の振幅を求め、その結果として減衰命令Cgを出力し、この減衰命令を減衰器4に印加して、減衰器に通常0.95〜1のループゲインを持たせて全てのレプリカの振幅が同様の大きさになるようにする。
従って、カプラー2の出力ポートfにおいて収集されるパルスは、周期τの一連のレプリカパルスRi(i=1,2,...,N)を形成する。レプリカパルスRiは光サンプラーEchの入力に送信され、このサンプラーはこれらのレプリカパルスを、レーザパルス光源7から出力されるレーザパルスILの作用によりサンプリングする。レーザパルス光源7はモード阻止性能を有する光源(mode blocking source)であることが好ましく、モード阻止性能を有するこの光源は周期TOで、τよりもずっと短い期間RML(RML≪τ)のレーザパルスを出力する。
従って、カプラー2の出力ポートfにおいて収集されるパルスは、周期τの一連のレプリカパルスRi(i=1,2,...,N)を形成する。レプリカパルスRiは光サンプラーEchの入力に送信され、このサンプラーはこれらのレプリカパルスを、レーザパルス光源7から出力されるレーザパルスILの作用によりサンプリングする。レーザパルス光源7はモード阻止性能を有する光源(mode blocking source)であることが好ましく、モード阻止性能を有するこの光源は周期TOで、τよりもずっと短い期間RML(RML≪τ)のレーザパルスを出力する。
図2A〜2Dはレプリカパルスをサンプリングする様子を示す時間図を示している。
図2Aは、レーザ光源7が出力する幅TML及び周期TOのパルスを示している。
図2Bは、図2Aに示すパルスに基づいてサンプリングされる一連のレプリカR1,R2,R3,...RNを示している。第1レプリカR1は時間T1の第1位置でサンプリングされ、時間T1の位置はレプリカR1の開始を示す時点及びサンプリング時点の間の期間を表わす。i(i>1)が1よりも大きい場合のi番目のレプリカRiは、時間T1+(I−1)δtの該当する位置でサンプリングされる。従って、サンプリング時点は連続するレプリカの波形の内部で量δtだけ順にインクリメントされる。このサンプリング原理は繰り返しパルスに使用される電子式連続サンプリングの概念と同様である。しかしながら、本発明による光パルス測定のフレームワークに使用される構成は繰り返し電気パルスを測定するフレームワークに使用される構成とは大きく異なる。本発明によるプロセスは、このプロセスによって、繰り返し電気パルスを測定する場合のような時間軸で平均した波形ではなく、純粋なパルス波形を再生することができるという利点をもたらす。
図2Aは、レーザ光源7が出力する幅TML及び周期TOのパルスを示している。
図2Bは、図2Aに示すパルスに基づいてサンプリングされる一連のレプリカR1,R2,R3,...RNを示している。第1レプリカR1は時間T1の第1位置でサンプリングされ、時間T1の位置はレプリカR1の開始を示す時点及びサンプリング時点の間の期間を表わす。i(i>1)が1よりも大きい場合のi番目のレプリカRiは、時間T1+(I−1)δtの該当する位置でサンプリングされる。従って、サンプリング時点は連続するレプリカの波形の内部で量δtだけ順にインクリメントされる。このサンプリング原理は繰り返しパルスに使用される電子式連続サンプリングの概念と同様である。しかしながら、本発明による光パルス測定のフレームワークに使用される構成は繰り返し電気パルスを測定するフレームワークに使用される構成とは大きく異なる。本発明によるプロセスは、このプロセスによって、繰り返し電気パルスを測定する場合のような時間軸で平均した波形ではなく、純粋なパルス波形を再生することができるという利点をもたらす。
図2Cは連続するレプリカの例を示し、これらのレプリカに関して、包絡線は特殊な場合におけるレプリカの経時的なピーク強度の変化を表わし、この特殊な場合では、スレーブ機器が減衰器4を周期的に駆動する。この例では、スレーブ機器による駆動周期Teonは周期TOの3倍に等しい。この場合においては、ピーク強度変化ΔPoptは10%未満であり、かつ周期的である。所定期間Teon内の包絡線の変化はα×Gの値によって決まり、かつ定数値α×G<1の場合に指数関数形で表わされる。スレーブ機器による次の駆動周期の最後における系の動作は、レプリカR7のピーク強度がスレーブ機器による前の駆動周期におけるレプリカR1のピーク強度と同じ値になるように行なわれる。従って、校正係数は各レプリカR1〜R7に関連付けられ、そしてこの校正係数をアナログ−デジタル変換後に考慮に入れることにより、等価条件(1)に戻ることができる。
図2Dは、スレーブ機器が制御線Cgを通して制御する減衰値Att(減衰器入力における信号レベルに対する減衰器出力における信号レベルの比)の変化を示している。減衰は周期TOに渡って一定であり、そして次の周期の間には切り替わって異なる値となるので、強度損失ΔPoptが正確に補償される。
図2Dは、スレーブ機器が制御線Cgを通して制御する減衰値Att(減衰器入力における信号レベルに対する減衰器出力における信号レベルの比)の変化を示している。減衰は周期TOに渡って一定であり、そして次の周期の間には切り替わって異なる値となるので、強度損失ΔPoptが正確に補償される。
他のスレーブ動作モードも使用することができ、そしてここでは詳細には説明しない。
光サンプラーEchが出力するサンプルEi(i=1,2,...,N)は検出器D、例えばフォトダイオードに送信される。例えば、検出器Dは、現在では電気通信技術において可能になっているように、10GHz〜60GHzのアナログ周波数帯で動作することができる。検出器Dが使用する光/電気変換は積分モードで行なわれる。積分モードでは、所定の光サンプルの振幅が、時間軸で積分される検出器の電気応答の値に等しいことを考慮に入れる。この場合、発生し、かつ補正する必要のある誤差は、検出器の非飽和現象、連続する電気パルスを重ねることにより生じるベースラインのオフセットなどにより生じる誤差だけである。
検出器Dは、アナログデジタル変換器CNに送信される電気サンプルを出力し、この変換器は、受信する信号のレベルをコーディングする。例えば、コーディングは8ビットまたは10ビットで行なうことができる。コーディング時間は重要ではない。コーディング時間は単純にτの値によって制限される。次に、アナログデジタル変換器CNが出力するデジタルデータがメモリMに送信され、このメモリではアクセス時間が少なくともτに等しい。
光サンプラーEchが出力するサンプルEi(i=1,2,...,N)は検出器D、例えばフォトダイオードに送信される。例えば、検出器Dは、現在では電気通信技術において可能になっているように、10GHz〜60GHzのアナログ周波数帯で動作することができる。検出器Dが使用する光/電気変換は積分モードで行なわれる。積分モードでは、所定の光サンプルの振幅が、時間軸で積分される検出器の電気応答の値に等しいことを考慮に入れる。この場合、発生し、かつ補正する必要のある誤差は、検出器の非飽和現象、連続する電気パルスを重ねることにより生じるベースラインのオフセットなどにより生じる誤差だけである。
検出器Dは、アナログデジタル変換器CNに送信される電気サンプルを出力し、この変換器は、受信する信号のレベルをコーディングする。例えば、コーディングは8ビットまたは10ビットで行なうことができる。コーディング時間は重要ではない。コーディング時間は単純にτの値によって制限される。次に、アナログデジタル変換器CNが出力するデジタルデータがメモリMに送信され、このメモリではアクセス時間が少なくともτに等しい。
図3は、本発明の第1変形例による光サンプラーEchを示している。
光サンプラーEchはKerrセルである。Kerrセル(カーセル)は、2つの直交偏光子P1,P2の間に配置され、かつKerr効果測定に用いる活性媒質Kを備える。光源7が出力するレーザパルスILが印加されると、媒質Kには、装置を非導電状態(2つの直交偏光子の間に配置され、かつ偏光解消することのない媒質)から導電状態(偏光成分を出力偏光子の平面で透過する)にするために十分な過渡複屈折(transient birefringence)が生じる。
Kerrセルの形態の光サンプラーは時間分解能が非常に高い。約2百フェムト秒の幅を有する光サンプルを出力することが可能になる。
例えば、Kerr効果(磁気光学効果)測定に用いる活性媒質はCS2液とすることができ、この液は封入用チャンバーに貯留する必要がある。Kerr効果測定に用いる活性媒質はガラス固化媒質とすることもでき、この媒質の場合、レーザ強度を光源7の出力において大きくする必要がある。
光サンプラーEchはKerrセルである。Kerrセル(カーセル)は、2つの直交偏光子P1,P2の間に配置され、かつKerr効果測定に用いる活性媒質Kを備える。光源7が出力するレーザパルスILが印加されると、媒質Kには、装置を非導電状態(2つの直交偏光子の間に配置され、かつ偏光解消することのない媒質)から導電状態(偏光成分を出力偏光子の平面で透過する)にするために十分な過渡複屈折(transient birefringence)が生じる。
Kerrセルの形態の光サンプラーは時間分解能が非常に高い。約2百フェムト秒の幅を有する光サンプルを出力することが可能になる。
例えば、Kerr効果(磁気光学効果)測定に用いる活性媒質はCS2液とすることができ、この液は封入用チャンバーに貯留する必要がある。Kerr効果測定に用いる活性媒質はガラス固化媒質とすることもでき、この媒質の場合、レーザ強度を光源7の出力において大きくする必要がある。
図4は、本発明の第2変形例による光サンプラーEchを示している。
光サンプラーEchは2分割器5と、高速の可飽和吸収体6と、光減算干渉型素子(interferometric optical subtraction device)DISOと、そしてコリメーションレンズL1,L2,L3,及びL4と、を含む。光減算干渉型素子DISOは、2つの入力アームB1,B2、及び再結合素子Jを含み、アームB2には位相シフターDphを設け、再結合素子Jは2つの入力及び1つの入力を備える。サンプラーの入力及び出力はそれぞれ、2分割器5の入力、及び再結合素子Jの出力である。アームB1及びB2、及び再結合素子Jは、いずれかのタイプの光導波路、例えば光ファイバを使用して作製される。
光サンプラーEchは2分割器5と、高速の可飽和吸収体6と、光減算干渉型素子(interferometric optical subtraction device)DISOと、そしてコリメーションレンズL1,L2,L3,及びL4と、を含む。光減算干渉型素子DISOは、2つの入力アームB1,B2、及び再結合素子Jを含み、アームB2には位相シフターDphを設け、再結合素子Jは2つの入力及び1つの入力を備える。サンプラーの入力及び出力はそれぞれ、2分割器5の入力、及び再結合素子Jの出力である。アームB1及びB2、及び再結合素子Jは、いずれかのタイプの光導波路、例えば光ファイバを使用して作製される。
サンプラーEchの入力で受信されるレプリカパルスRiを第1パルス部分Ia及び第2パルス部分Ibに分割し、第2パルス部分Ibの振幅はパルス部分Iaの振幅とほぼ同じである。第1パルス部分Iaは可飽和吸収体の第1ゾーンZ1に第1コリメーションレンズL1を通して送信され、そして第2パルス部分Ibは可飽和吸収体の第2ゾーンZ2に第2コリメーションレンズL2を通して送信される。
可飽和吸収体の動作は、吸収飽和現象に基づいて行なわれる。可飽和吸収体を通過する低強度信号は、特有の吸収係数を持つ吸収媒質に入力するので、当該信号の一部分が吸収される。他方、高強度信号は吸収媒質を白化し、この媒質を信号が、媒質の吸収係数が初期吸収係数よりもずっと小さい値になるまで通過し続ける。従って、高強度信号は部分的に送信することができる。
可飽和吸収体の動作は、吸収飽和現象に基づいて行なわれる。可飽和吸収体を通過する低強度信号は、特有の吸収係数を持つ吸収媒質に入力するので、当該信号の一部分が吸収される。他方、高強度信号は吸収媒質を白化し、この媒質を信号が、媒質の吸収係数が初期吸収係数よりもずっと小さい値になるまで通過し続ける。従って、高強度信号は部分的に送信することができる。
数学的に、可飽和吸収体の伝達特性は次の関係により表わされる。
上の式において、
−A(Φ)は吸収体の吸収係数であり、この吸収係数は吸収体を照射する信号の強度Φの関数であり、
−AOは照射が無い状態での吸収体の減衰係数であり、そして
−Φsatは吸収体の固有の飽和強度(W/cm2)である。
上の式において、
−A(Φ)は吸収体の吸収係数であり、この吸収係数は吸収体を照射する信号の強度Φの関数であり、
−AOは照射が無い状態での吸収体の減衰係数であり、そして
−Φsatは吸収体の固有の飽和強度(W/cm2)である。
本発明においては、ゾーンZ1はパルス部分Iaによって、そしてパルスILによって照射され、ゾーンZ2はパルス部分Ibによってのみ照射される。モード阻止性能を有するレーザ光源(SML(セルフォックマイクロレンズ)内蔵型レーザ光源)7から出力されるパルスILのピーク電力PMLは、吸収体の透過率を、光源7が出力するレーザパルスの期間TMLの間に完全に飽和させる、または少なくとも非常に強く飽和させるように選択される。パルスILのビーム及びパルス部分Iaのビームは同一直線の上には位置しない。パルスILのビームは可飽和吸収体のゾーンZ1にコリメーションレンズLcを通して、パルス部分Iaのビームがコリメートされる軸から数度〜数十度だけずれた軸に沿ってコリメートされる。ゾーンZ1の出力から収集され、かつコリメーションレンズL3を通してアームB1の入力にコリメートされる信号は、ゾーンZ1を通過するパルス部分Iaによってのみ構成される。
パルス部分IaがゾーンZ1を通過する場合、ゾーンZ1はサンプリングゲートのように動作し、サンプリングゲートはモード阻止性能を有するレーザ光源の周波数FO(FO=1/TO)で動作する。サンプリングゲートの開放時間Techは可飽和吸収体のオーバーラップ時間Tsatにほぼ等しい。オーバーラップ時間Tsatの期間はパルス期間TMLよりも長い。
パルス部分IaがゾーンZ1を通過する場合、ゾーンZ1はサンプリングゲートのように動作し、サンプリングゲートはモード阻止性能を有するレーザ光源の周波数FO(FO=1/TO)で動作する。サンプリングゲートの開放時間Techは可飽和吸収体のオーバーラップ時間Tsatにほぼ等しい。オーバーラップ時間Tsatの期間はパルス期間TMLよりも長い。
τ及びTOの大きさには次式のような関係がある。
τ=(TO−δt) (2)
上の式において、δtは、2つのループが元に戻る時点を表わすサンプリング時点の時間すれを表わす(図2B参照)。従って、測定装置のサンプリングレートは、Tsatよりも大きい、またはTsatに等しいが、入力パルスの期間TIよりもずっと短いδtに等しい。取得することができるサンプルの最大数は次式により表わされる。
N=τ/δt (3)
数Nは次式のように表わすこともできる。
N=1/((TO/τ)−1) (4)
τ=(TO−δt) (2)
上の式において、δtは、2つのループが元に戻る時点を表わすサンプリング時点の時間すれを表わす(図2B参照)。従って、測定装置のサンプリングレートは、Tsatよりも大きい、またはTsatに等しいが、入力パルスの期間TIよりもずっと短いδtに等しい。取得することができるサンプルの最大数は次式により表わされる。
N=τ/δt (3)
数Nは次式のように表わすこともできる。
N=1/((TO/τ)−1) (4)
本発明による可飽和吸収体は、幾つかの異なる技術を使用して作製することができる。溶液を固体マトリクス中の色素を用いて調合する、または固体の可飽和吸収体をカーボンナノチューブまたは半導体を用いて作製することが考えられる。現在使用されるこのタイプの超高速固体吸収体は約1〜5ピコ秒のオーバーラップ時間Tsatを有する。更に、可飽和吸収体は、ネオジウム、イットリウム、またはエルビウム系レーザに有用な周波数帯である近赤外線周波数帯における光学動作のスペクトルとほぼ同じスペクトルを示すように選択することが好ましい。
ゾーンZ1はサンプリングゲートのように動作するが、ゾーンZ2は係数Aoの吸収を引き起こす。ゾーンZ2が出力する信号はアームB2の入力にコリメーションレンズL4を通して送信される。
ゾーンZ1はサンプリングゲートのように動作するが、ゾーンZ2は係数Aoの吸収を引き起こす。ゾーンZ2が出力する信号はアームB2の入力にコリメーションレンズL4を通して送信される。
図5AはゾーンZ1の出力において収集されるサンプリング信号E(B1)を示し、そして図5BはゾーンZ2の出力において収集されるサンプリング信号E(B2)を示す。信号E(B1)は、幅Techを有するサンプリングピークPechを、パルス部分Iaを再生するとともに減衰させる信号の内部に含む。信号E(B2)はパルス部分Ibを再生するとともに減衰させる。
アームB2には、電圧制御位相シフターDphが設けられる。位相シフターDphに印加される電圧Vnを調整して、アームB1から出力される光信号の位相が、アームB2から出力される信号の位相とは逆になるようにする。アームB1及びB2から出力される信号を合計する再結合素子Jが、幅Techを有するサンプルEiを出力する(図5C参照)。
アームB2には、電圧制御位相シフターDphが設けられる。位相シフターDphに印加される電圧Vnを調整して、アームB1から出力される光信号の位相が、アームB2から出力される信号の位相とは逆になるようにする。アームB1及びB2から出力される信号を合計する再結合素子Jが、幅Techを有するサンプルEiを出力する(図5C参照)。
図6は、図1に示す測定装置に改良を加えた構成を示している。従って、本発明による改良は第1変形例の事例、及び第2変形例の事例に同じように適用することができる。
図1に示す構成要素の他に、測定装置は分散補償器15と、光学窓16と、そして波形整形干渉型素子(interferometric reshaping device)17と、を備える。3つのデバイス15,16,及び17は説明を分かり易くするために同じ図として示している。実際には、デバイス15,16,及び17は互いに独立しており、かつ測定装置に一体化して組み込むことができる、または別々に組み込むことができる。
図1に示す構成要素の他に、測定装置は分散補償器15と、光学窓16と、そして波形整形干渉型素子(interferometric reshaping device)17と、を備える。3つのデバイス15,16,及び17は説明を分かり易くするために同じ図として示している。実際には、デバイス15,16,及び17は互いに独立しており、かつ測定装置に一体化して組み込むことができる、または別々に組み込むことができる。
補償器15は減衰器4の出力とカプラー1のポートdとの間のループに挿入される。補償器はループにおける色分散を補償するように機能し、色分散の補償が行なわれない場合には、伝搬パルスの劣化が生じる。例えば、補償器15はチャープブラッグネットワークデバイス(chirped Bragg network device)またはファイバセグメントとすることができ、このデバイスまたはセグメントにおいては、分散係数の符号はループを構成する他の要素の分散係数の符号とは逆である。
光学窓16はパルスILの光源7とサンプラーEchとの間に配置される。光学窓16は期間ΔTEの基本サンプリング系列を次式のように定義する。
ΔTE=Nxδt
上の式において、Nは取得することができるサンプルの最大数である(等式(3)参照)。従って、光パルスの期間TIはΔTEよりも短くする必要がある。光ゲート16は、光源7が放出するパルスストリームを印加する時間窓を設定するように機能する。種々の要素の中でもとりわけ、この時間窓は可飽和吸収体がもはや半永久的に照射されることがないことを意味する。
光学窓16はパルスILの光源7とサンプラーEchとの間に配置される。光学窓16は期間ΔTEの基本サンプリング系列を次式のように定義する。
ΔTE=Nxδt
上の式において、Nは取得することができるサンプルの最大数である(等式(3)参照)。従って、光パルスの期間TIはΔTEよりも短くする必要がある。光ゲート16は、光源7が放出するパルスストリームを印加する時間窓を設定するように機能する。種々の要素の中でもとりわけ、この時間窓は可飽和吸収体がもはや半永久的に照射されることがないことを意味する。
本発明の第2変形例の一の特定の実施形態(光サンプラーが分割器及び可飽和吸収体を含む事例)によれば、4ポートカプラー1、4ポートカプラーにループバックする導波路、3ポートカプラー2、減衰器4、アンプAMP、及び分割器5が、導波路が埋め込まれた半導体基板に集積化される。従って、減衰器4及びアンプAMPは半導体技術を使用して作製される。従って、この特定の実施形態のフレームワークでは、本発明による改良を実現する補償器15は導波路中に作製されるブラッグネットワークにより構成される。
図7は自由空間での伝搬が行なわれる場合の波形整形干渉型素子17を示し、そして図8A及び8Bは干渉型素子17の動作を示す時間図を示している。
図7は自由空間での伝搬が行なわれる場合の波形整形干渉型素子17を示し、そして図8A及び8Bは干渉型素子17の動作を示す時間図を示している。
干渉型素子17は平衡分離器(balanced separator)18と、外部から極性を変化させることによる調整が可能な遅延回路19と、コンバイナ20と、2つのミラー21,23と、そして固定遅延回路22(遅延Td)と、を備える。調整可能な遅延回路19は極性電圧(polarisation voltage)Vbによって制御される。光サンプラーEchが出力する光サンプルEiは平衡分離器18に送信される。次に、平衡分離器18は第1サブサンプルを、極性を変化させることによって狭い値の範囲に収まるように調整を行なうことができる遅延回路19に送信し、そして第2サブサンプルをミラー21に送信する。ミラー21に送信されるサブサンプルはこのミラーによって反射され、そして第2ミラー23に遅延回路22を通して送信される。ミラー23は、当該ミラーが受信するサブサンプルを反射し、そして当該サブサンプルをコンバイナ20に送信し、このコンバイナは、極性を変化させることによる調整が可能な遅延回路19を通して送信されるパルスサブサンプルも受信する。コンバイナ20は、当該コンバイナが受信する2つのサブサンプルを合成し、そして波形整形済みサンプル信号をフォトダイオード8に送信する。
遅延回路22は遅延Tdを生成して当該遅延が第1サブサンプルと第2サブサンプルとの間に生じるようにする。次に、遅延回路22を通過する第2サブサンプルを、遅延回路19を通過する第1サブサンプルよりもTdだけ遅らせる。サンプル信号が分離器18に到達した場合に、かつ期間Tdが経過することがない限り、干渉型素子17が出力する信号は、調整可能な遅延回路19を通過する第1サブサンプルによってのみ構成される。遅延Tdが経過すると、干渉型素子17が出力する信号は第1サブサンプル及び第2サブサンプルの合成サンプル(コンバイナ20)により構成される。調整可能な遅延回路19は、半波電圧に等しい極性電圧Vbに調整される。その結果、第1及び第2サブサンプルが合成され、そして位相が逆になり、干渉によって互いに消去される。従って、干渉型素子17が出力する信号は期間Tdを有する1つのサブサンプルによって構成され、この期間Tdが経過すると、残るのは小さな消去残留成分Rext(第1サブサンプルと第2サブサンプルとの間の干渉による残留成分)だけである。図8Bは干渉型素子17が出力する信号SBを示している。図8Aは異なる信号を示し、これらの信号が合成されて図8Bに示す信号SBが得られる。信号S1は回路19を通過する第1サブサンプルを示し、そして信号S2は遅延回路22を通過する第2サブサンプルを示す。
干渉型素子17は、可飽和吸収体を透過するオーバーラップ時間の位相を特徴付ける波形のような単調準指数関数型の減衰波形が得られるように良好に適合させる(図8A及び8Bを参照)。
遅延回路22は遅延Tdを生成して当該遅延が第1サブサンプルと第2サブサンプルとの間に生じるようにする。次に、遅延回路22を通過する第2サブサンプルを、遅延回路19を通過する第1サブサンプルよりもTdだけ遅らせる。サンプル信号が分離器18に到達した場合に、かつ期間Tdが経過することがない限り、干渉型素子17が出力する信号は、調整可能な遅延回路19を通過する第1サブサンプルによってのみ構成される。遅延Tdが経過すると、干渉型素子17が出力する信号は第1サブサンプル及び第2サブサンプルの合成サンプル(コンバイナ20)により構成される。調整可能な遅延回路19は、半波電圧に等しい極性電圧Vbに調整される。その結果、第1及び第2サブサンプルが合成され、そして位相が逆になり、干渉によって互いに消去される。従って、干渉型素子17が出力する信号は期間Tdを有する1つのサブサンプルによって構成され、この期間Tdが経過すると、残るのは小さな消去残留成分Rext(第1サブサンプルと第2サブサンプルとの間の干渉による残留成分)だけである。図8Bは干渉型素子17が出力する信号SBを示している。図8Aは異なる信号を示し、これらの信号が合成されて図8Bに示す信号SBが得られる。信号S1は回路19を通過する第1サブサンプルを示し、そして信号S2は遅延回路22を通過する第2サブサンプルを示す。
干渉型素子17は、可飽和吸収体を透過するオーバーラップ時間の位相を特徴付ける波形のような単調準指数関数型の減衰波形が得られるように良好に適合させる(図8A及び8Bを参照)。
遅延値Tdは干渉型素子17の2つのアームの間の光路の長さの差によって変わる。この遅延値はほぼ一定であり、かつ高精度である必要がある。自由空間での伝搬が行なわれる実施形態の場合、遅延回路22は、例えば校正済み屈折率及び厚さを有し、かつ2つの反射ミラー21と23との間に配置されるプレートにより作製することができる。従って、媒質の長さは、期間Tdに必要な値によって変わる形で選択される。導波路に沿った伝搬が行なわれる場合、干渉型素子17は、例えば通信用モジュレータに使用される方法と同様の方法により、光電変換基板に埋め込まれる導波路素子に一体的に組み込むことができる。
既に述べたように、干渉型素子17を設けない場合、時間分解能は、出来る限り短くする必要のある、可飽和吸収体のオーバーラップ時間Tsatにより制限される。有利なことに、干渉型素子17を使用して、オーバーラップ時間Tsatよりも短いサンプリング信号期間を得ることができる。従って、例えば1〜5ピコ秒の値Tsatを有する期間Techを、数百フェムト秒に等しい値Tdにまで短くすることができる。干渉型素子17を設けることにより、測定における粗い時間分解能を大幅に改善することができ、従って本発明の適用分野を広げることができる。
既に述べたように、干渉型素子17を設けない場合、時間分解能は、出来る限り短くする必要のある、可飽和吸収体のオーバーラップ時間Tsatにより制限される。有利なことに、干渉型素子17を使用して、オーバーラップ時間Tsatよりも短いサンプリング信号期間を得ることができる。従って、例えば1〜5ピコ秒の値Tsatを有する期間Techを、数百フェムト秒に等しい値Tdにまで短くすることができる。干渉型素子17を設けることにより、測定における粗い時間分解能を大幅に改善することができ、従って本発明の適用分野を広げることができる。
後の方の遷移部分の波形整形の調整を非常に高精度に行なって後の方の遷移部分以降の全ての信号残留成分を消去する必要があるということとは別に、別の現象を考慮に入れる必要がある。すなわち、干渉型素子が行なう波形整形によってエネルギーバランスが変化する。特定の校正係数を使用して信号の波形の変化を考慮に入れることができる。従って、校正段階を前に設ける必要がある。
本発明を制限する訳ではないが、幾つかの特性指標によって、基本絶対値、及び本発明の技術範囲に含むことができる性能の範囲を定量化し易くなる。標準的なSLM光源の事例について考察するが、この場合、TML=100〜200fsであり、かつループ時間は普通の値FO=100MHzに対応するτ=10ns(すなわち、L=2m)である。サンプルの最大数は、ループのアンプ4が十分大きな飽和電力を有し、かつゾーンZ1の出力での結合比が小さい値に維持される限り、N=102〜103サンプルの範囲内である。例えば、期間TI=3nsのパルスの波形に関する分解能値がδt=3psの場合、N=1000ポイントが必要となる。Nは、取得サンプルを保存するために必要な最小メモリ深度でもある。干渉型素子17を含む全ての構成を前提として、本発明に包含される適用領域及び測定性能領域を推定することができる。市場から入手できる光学部品に関する現状の技術では、数十ピコ秒〜数十ナノ秒の範囲で変化する期間TIのパルスの場合、次の値が予測性能の概要を示すことになる。すなわち、時間分解能δtの範囲は0.5ピコ秒〜数ピコ秒であり、振幅コーディング範囲は8ビット以上であり、波形測定の繰り返し周波数は単一パルス〜数ギガヘルツである。8ビットのコーディングは市販のファイバアンプ及び標準のフォトダイオードの性能と同等のレベルである。現時点では、最良のアンプはF=4〜5dBの雑音係数を有する。光電力に所定の減衰量を与える高速の光減衰器は、導波路を実現するための種々の技術において採用され、この場合、応答時間は1ナノ秒よりもずっと短いので、スレーブ機器が行なう制御によって実現する時間と同じレベルの時間である。通常のフォトダイオードは約30dBの帯域幅を示す。これらの数値の全てに関して、妥協できる値を測定ニーズによって変わる形で求める必要がある。可飽和吸収体において1ピコ秒の周期で照射を行なう必要がある場合、例えば美白作用(total whitening)が約10MW/cm2で生じるカーボンナノチューブの場合、これらのカーボンナノチューブが、既存のSML光源の技術を、F0=100MHz、及び10μm2セクションにおける10pJのサンプリングレーザパルス当たりのエネルギーに対応するPML=10MW/cm2、すなわち1mWに等しい平均光源電力の条件で使用することができる範囲のフルエンス率に十分に収まるように指定する必要もある。
本発明を制限する訳ではないが、幾つかの特性指標によって、基本絶対値、及び本発明の技術範囲に含むことができる性能の範囲を定量化し易くなる。標準的なSLM光源の事例について考察するが、この場合、TML=100〜200fsであり、かつループ時間は普通の値FO=100MHzに対応するτ=10ns(すなわち、L=2m)である。サンプルの最大数は、ループのアンプ4が十分大きな飽和電力を有し、かつゾーンZ1の出力での結合比が小さい値に維持される限り、N=102〜103サンプルの範囲内である。例えば、期間TI=3nsのパルスの波形に関する分解能値がδt=3psの場合、N=1000ポイントが必要となる。Nは、取得サンプルを保存するために必要な最小メモリ深度でもある。干渉型素子17を含む全ての構成を前提として、本発明に包含される適用領域及び測定性能領域を推定することができる。市場から入手できる光学部品に関する現状の技術では、数十ピコ秒〜数十ナノ秒の範囲で変化する期間TIのパルスの場合、次の値が予測性能の概要を示すことになる。すなわち、時間分解能δtの範囲は0.5ピコ秒〜数ピコ秒であり、振幅コーディング範囲は8ビット以上であり、波形測定の繰り返し周波数は単一パルス〜数ギガヘルツである。8ビットのコーディングは市販のファイバアンプ及び標準のフォトダイオードの性能と同等のレベルである。現時点では、最良のアンプはF=4〜5dBの雑音係数を有する。光電力に所定の減衰量を与える高速の光減衰器は、導波路を実現するための種々の技術において採用され、この場合、応答時間は1ナノ秒よりもずっと短いので、スレーブ機器が行なう制御によって実現する時間と同じレベルの時間である。通常のフォトダイオードは約30dBの帯域幅を示す。これらの数値の全てに関して、妥協できる値を測定ニーズによって変わる形で求める必要がある。可飽和吸収体において1ピコ秒の周期で照射を行なう必要がある場合、例えば美白作用(total whitening)が約10MW/cm2で生じるカーボンナノチューブの場合、これらのカーボンナノチューブが、既存のSML光源の技術を、F0=100MHz、及び10μm2セクションにおける10pJのサンプリングレーザパルス当たりのエネルギーに対応するPML=10MW/cm2、すなわち1mWに等しい平均光源電力の条件で使用することができる範囲のフルエンス率に十分に収まるように指定する必要もある。
図9は、本発明による測定装置の別の実施形態を示している。
測定装置は、4ポートカプラー1と、シングルモードタイプの光ファイバFと、3ポートカプラー2と、制御回路3と、減衰器4と、アンプAMPと、2分割器5と、可飽和吸収体6と、レーザパルス光源7と、2つの検出器8,9と、2つのアナログ/デジタル変換器10,11と、差動回路12と、メモリ13と、そして表示装置14と、を備える。
要素1,2,3,4,AMP,5,6,及び7は互いに対して上に説明した方法と同じ方法で接続される。この場合、吸収体のゾーンZ1が出力する信号は第1検出器8に送信され、そしてゾーンZ2が出力する信号は第2検出器9に送信される。検出器8及び9はフォトダイオードであることが好ましく、これらのフォトダイオードでは、立ち上がり時間は、例えば約10ピコ秒〜数百ピコ秒の範囲に収めることができる。フォトダイオード8,9は、コリメート結合系においてゾーンZ1及びZ2の後段に配置される。フォトダイオード8及び9は、例えば現在電気通信ネットワーク技術において規格化されている10GHz〜60GHzのアナログ周波数帯で動作することができる。必須ではないが、シングルモードファイバによる一括伝送がゾーンZ1及びZ2の出力と該当する検出器8及び9との間で可能になる。サンプリング機能に関する帯域制限は大幅に緩和され、かつ電気/光変換が積分モードで行なわれる。
フォトダイオード8及び9が出力する電気パルスは、該当するアナログ−デジタル変換器10及び11にそれぞれ送信され、これらの変換器は受信する信号のレベルをデジタルコーディングする。例えば、コーディングは8〜10ビットで行なうことができる。コーディング時間は重要ではない。コーディング時間はτの値によってのみ制限される。次に、デジタル化されたデータは演算器(差動回路12)によって変換され、演算器はアナログ−デジタル変換器10が出力する信号とアナログ−デジタル変換器11が出力する信号との差ΔPを求める機能を備える。前に光学的に行なわれる差分演算はこの場合はデジタル領域で行なわれる。
測定装置は、4ポートカプラー1と、シングルモードタイプの光ファイバFと、3ポートカプラー2と、制御回路3と、減衰器4と、アンプAMPと、2分割器5と、可飽和吸収体6と、レーザパルス光源7と、2つの検出器8,9と、2つのアナログ/デジタル変換器10,11と、差動回路12と、メモリ13と、そして表示装置14と、を備える。
要素1,2,3,4,AMP,5,6,及び7は互いに対して上に説明した方法と同じ方法で接続される。この場合、吸収体のゾーンZ1が出力する信号は第1検出器8に送信され、そしてゾーンZ2が出力する信号は第2検出器9に送信される。検出器8及び9はフォトダイオードであることが好ましく、これらのフォトダイオードでは、立ち上がり時間は、例えば約10ピコ秒〜数百ピコ秒の範囲に収めることができる。フォトダイオード8,9は、コリメート結合系においてゾーンZ1及びZ2の後段に配置される。フォトダイオード8及び9は、例えば現在電気通信ネットワーク技術において規格化されている10GHz〜60GHzのアナログ周波数帯で動作することができる。必須ではないが、シングルモードファイバによる一括伝送がゾーンZ1及びZ2の出力と該当する検出器8及び9との間で可能になる。サンプリング機能に関する帯域制限は大幅に緩和され、かつ電気/光変換が積分モードで行なわれる。
フォトダイオード8及び9が出力する電気パルスは、該当するアナログ−デジタル変換器10及び11にそれぞれ送信され、これらの変換器は受信する信号のレベルをデジタルコーディングする。例えば、コーディングは8〜10ビットで行なうことができる。コーディング時間は重要ではない。コーディング時間はτの値によってのみ制限される。次に、デジタル化されたデータは演算器(差動回路12)によって変換され、演算器はアナログ−デジタル変換器10が出力する信号とアナログ−デジタル変換器11が出力する信号との差ΔPを求める機能を備える。前に光学的に行なわれる差分演算はこの場合はデジタル領域で行なわれる。
図10は図9に示す測定装置に改良を加えた構成を示している。図9に示す構成要素の他に、測定装置は補償器15及び光学窓16を備える。補償器15及び光学窓16は、図6に既に示した改良型構成における位置と同じ位置に配置され、かつ前と同じ利点を有する。
有利なことに、本発明は光パルスだけでなく、電気パルスにも適用することができる。この場合、測定対象の電気パルスを光パルスに変換する必要があるだけである。次に、電気光学変調器をカプラー1のポートaに配置して変換を行なう。電気光学変調器は直接的な変調を行なう変調器または間接的な変調を行なう変調器とすることができる。間接的な変調を行ない、かつ最大の通過帯域を利用することができる変調器を使用する場合、変調器はその入力で低電力DCレーザ光源によって駆動される。直接的な変調を行なう場合、変調器は、例えばダイオードとすることができる。しかしながら、電気パルスを測定する場合には周波数特性の或る程度の低下を考慮に入れる必要がある、というのは、電気光学変調器の伝達関数は、装置のアナログ信号通過帯域の観点からは制限要素となるからである。しかしながら、サンプリングの時間分解能は維持される。
有利なことに、本発明は光パルスだけでなく、電気パルスにも適用することができる。この場合、測定対象の電気パルスを光パルスに変換する必要があるだけである。次に、電気光学変調器をカプラー1のポートaに配置して変換を行なう。電気光学変調器は直接的な変調を行なう変調器または間接的な変調を行なう変調器とすることができる。間接的な変調を行ない、かつ最大の通過帯域を利用することができる変調器を使用する場合、変調器はその入力で低電力DCレーザ光源によって駆動される。直接的な変調を行なう場合、変調器は、例えばダイオードとすることができる。しかしながら、電気パルスを測定する場合には周波数特性の或る程度の低下を考慮に入れる必要がある、というのは、電気光学変調器の伝達関数は、装置のアナログ信号通過帯域の観点からは制限要素となるからである。しかしながら、サンプリングの時間分解能は維持される。
例えば、電気光学変調器は電子吸収体を使用して、またはポリマー技術を用いて構成することができる、または進行波変調器とすることができる。図11は本発明による、電気パルスを測定する装置を示している。装置は、本発明による光パルスの波形を測定する装置25と直列接続される電気光学変調器24を含む。電気光学変調器24は電気パルスIEを光パルスIに変換する。
Claims (26)
- 非常に短い単一光パルスまたは繰り返し周波数の低いパルスの波形を測定する装置であって、前記装置は、初期光パルスの一連のレプリカパルス(Ri)を、これらのレプリカパルスが周期τを持つように、初期光パルス(I)に基づいて生成する手段(1,F)と、これらのレプリカパルス(Ri)の振幅を互いにほぼ同じ値になるように調整するスレーブ手段(2,3,4)と、レプリカパルス(Ri)をサンプリングしてレプリカパルス(Ri)に基づく光サンプル(Ei)を出力する手段(7,Ech)と、そして電気信号をサンプリング手段(7,Ech)が出力する光サンプル(Ei)に基づいて形成する検出手段(D)と、を備え、光サンプリング手段はレーザ光源(7)を含み、レーザ光源は周波数1/TO及び初期光パルスよりも非常に短い期間(TML)を示すレーザパルス(IL)を放出し、レプリカパルスの周期τ、及びレーザパルスの周期TOは、δtを初期光パルス期間よりも非常に短い期間の時間ドリフトとする場合に、次の等式により表わされる関係を有し、
τ=TO−δt,
光サンプラー(Ech)はレプリカパルス(Ri)及びレーザパルス(IL)によって照射され、レーザサンプリングパルスの影響を受けてレプリカパルス(Ri)を実質的に透過するようになることを特徴とする、装置。 - 光サンプラー(Ech)はKerrセルであり、このセルは2つの直交偏光子(P1,P2)の間に配置されるKerr効果活性媒質(K)を含むことを特徴とする、請求項1記載の装置。
- 光サンプラー(Ech)は、レプリカパルス(Ri)を第1レプリカパルス部分(Ia)及び第2レプリカパルス部分(Ib)に分割する分割器(5)と、第1及び第2レプリカパルス部分によってそれぞれ照射される第1ゾーン(Z1)及び第2ゾーン(Z2)を含む可飽和吸収体(6)と、そして光減算干渉型素子(DISO)と、を含み、第1ゾーン(Z1)はレーザパルス(IL)の影響を受けることによりほぼ透明となり、光減算干渉型素子は光サンプル(Ei)を、第1可飽和吸収体ゾーン(Z1)から出力されるサンプリング済み信号と第2可飽和吸収体ゾーン(Z2)から出力される信号との差をとった結果として出力することを特徴とする、請求項1記載の装置。
- 光減算干渉型素子(DISO)は、第1ゾーン(Z1)から出力されるサンプリング済み信号を収集する入力を有する第1アーム(B1)と、第2ゾーン(Z2)から出力される信号を収集する第2アーム(B2)と、第2アームと直列に配置されて第1アーム(B1)が出力する光信号と第2アーム(B2)が出力する光信号との間の位相シフトΠを設定する電圧制御位相シフター(Dph)と、そして2つの入力及び1つの出力を有する再結合素子(J)と、を含み、再結合素子は、第1アーム(B1)が出力する信号を第1入力で、そして第2アーム(B2)が出力する信号を第2入力で収集し、かつ光サンプル(Ei)をその出力から出力することを特徴とする、請求項3記載の装置。
- 可飽和吸収体は色素を含んだ溶液であることを特徴とする、請求項3又は4記載の装置。
- 可飽和吸収体はカーボンナノチューブを含むことを特徴とする、請求項3又は4記載の装置。
- 可飽和吸収体は半導体可飽和吸収素子であることを特徴とする、請求項3又は4記載の装置。
- 装置は、光サンプラー(Ech)の出力に配置されて光サンプル(Ei)の幅を狭くする干渉型素子(17)を備えることを特徴とする、請求項1ないし7のいずれか一項に記載の装置。
- 干渉型素子(17)は、
−光サンプルを第1サブサンプル及び第2サブサンプルに分離する平衡分離器(18)と、
−第1ミラー(21)、第2ミラー(23)、及び第1ミラーと第2ミラーとの間に配置されて第1サブサンプルの第1光路を形成する遅延回路(22)と、を含む第1アームと、
−外部から極性を変化させることによる調整が可能な遅延回路(19)を含む第2アームであって、遅延回路において半波電圧にほぼ等しい電圧(Vb)に極性を変化させることにより第2サブサンプルの第2光路を形成する構成の第2アームと、そして
−第1アーム及び第2アームをそれぞれ伝搬する第1サブサンプル及び第2サブサンプルを合成するコンバイナ(20)と、
を含むことを特徴とする、請求項8記載の装置。 - 初期光パルスの一連のレプリカパルス(Ri)を生成する手段(1,F)は、4ポートカプラー(a,b,c,d)、及び導波路(F)を含み、4ポートカプラーは2つの入力ポート(a,d)、及び2つの出力ポート(b,c)を含み、第1入力ポート(a)は初期光パルスが測定装置に入力する入力を構成し、そして第1出力ポート(b)はレプリカパルスが出力される出力を構成し、導波路(F)は第2出力ポート(c)を第2入力ポート(d)に接続することを特徴とする、請求項1ないし9のいずれか一項に記載の装置。
- スレーブ手段(2,3,4)は、3ポートカプラー(2)と、制御回路(3)と、アンプ(AMP)と、そして減衰器(4)と、を含み、3ポートカプラーの内、1つの入力ポート(e)はレプリカパルスが出力される出力に接続され、アンプ(AMP)及び減衰器(4)は導波路(F)に沿って直列に配置され、3ポートカプラー(2)によってレプリカパルス部分のサンプリングが可能になり、これにより前記レプリカパルス部分が制御回路(3)に送信され、制御回路は、サンプリングされたレプリカパルス部分の振幅によって変わる制御信号(Cg)を送出し、制御信号(Cg)は減衰器(4)に、電気的制御に関する方法と同じ方法により印加されることを特徴とする、請求項10記載の装置。
- 導波路(F)はシングルモードファイバであることを特徴とする、請求項10又は11記載の装置。
- 装置は、シングルモードファイバ(F)に沿って直列に配置される分散補償器(15)を備えることを特徴とする、請求項12記載の装置。
- 補償器(15)はチャープファイバブラッグネットワークであることを特徴とする、請求項13記載の装置。
- 補償器(15)は一のファイバセグメントであり、前記セグメントでは、分散係数の符号がシングルモードファイバ(F)の分散係数の符号と逆であることを特徴とする、請求項13記載の装置。
- 他のいずれかの請求項に直接的に従属する場合を除いて、請求項3ないし7のいずれか一項に記載の装置に直接的に関連する場合、4ポートカプラー(1)、導波路、3ポートカプラー(2)、減衰器(4)、アンプ(AMP)、及び分割器(5)は導波路を搭載する半導体基板に集積化されることを特徴とする、請求項11記載の装置。
- 装置はブラッグネットワークにより形成される分散補償器(15)を備え、ブラッグネットワークは導波路中に作製され、かつ導波路に沿って直列に配置されることを特徴とする、請求項16記載の装置。
- 装置は、レーザパルス光源(7)と光サンプラー(Ech)との間のレーザパルス(IL)の経路に配置される光学窓(16)を備えることを特徴とする、請求項1ないし17のいずれか一項に記載の装置。
- 検出手段(D,CN)は、アナログ/デジタル変換器(CN)に直列接続される少なくとも一つのフォトダイオード(D)を含むことを特徴とする、請求項1ないし18のいずれか一項に記載の装置。
- アナログ/デジタル変換器(CN)は8ビット変換器または10ビット変換器であることを特徴とする、請求項19記載の装置。
- 装置は、アナログ/デジタル変換器(CN)が出力する信号を保存するメモリ(M)を備えることを特徴とする、請求項19又は20記載の装置。
- レーザパルス光源(7)はモード阻止性能を有する光源であることを特徴とする、請求項1ないし21のいずれか一項に記載の装置。
- 単一電気パルスまたは繰り返し周波数の低いパルスの波形を測定する装置であって、前記装置は、光パルスの波形を測定する請求項1ないし22のいずれか一項に記載の装置に直列に配置される電気光学変調器を備えることを特徴とする装置。
- 電気光学変調器は間接的な変調を行なう変調器であることを特徴とする、請求項23記載の装置。
- 電気光学変調器は直接的な変調を行なう変調器であることを特徴とする、請求項23記載の装置。
- 電気光学変調器はダイオードであることを特徴とする、請求項25記載の装置。
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