JP2008303309A - Actinic light-curable composition, curing method, actinic light-curable ink composition and image forming method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は活性光線硬化型組成物(以下、単に組成物ともいう)、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法に関する。 The present invention relates to an actinic ray curable composition (hereinafter also simply referred to as a composition), a curing method thereof, an actinic ray curable ink composition, and an image forming method.
従来活性光線硬化型組成物、なかでも紫外線硬化型カチオン重合性組成物、及びその硬化物は接着剤、インクジェットインク、レジスト、カラーフィルター等のディスプレイ部材など様々な用途に対し有用な材料であることが知られている。 Conventional actinic ray curable compositions, in particular UV curable cationic polymerizable compositions, and cured products thereof are useful materials for various applications such as adhesives, inkjet inks, resists, display members such as color filters, etc. It has been known.
光酸発生剤として特定の構造のトリアリールスルホニウム塩を用いることで、人体に有害なベンゼンの放出がなく、様々な環境下で安定に硬化させることのできる活性光線硬化型組成物が開示されている(例えば、特許文献1を参照)。 An actinic ray curable composition that can be cured stably in various environments without releasing harmful benzene by using a triarylsulfonium salt having a specific structure as a photoacid generator has been disclosed. (For example, refer to Patent Document 1).
しかしこの活性光線硬化型組成物は長波長域の活性光線に対して感度が不足している為、硬化物の内部硬化性に由来する硬化物の基材密着性に問題を抱えていた他、組成物保存時にゲル状物が生成する場合があるという問題があり、更に、硬化物の保存性においても改善が望まれていた。 However, since this actinic ray curable composition lacks sensitivity to actinic rays in the long wavelength region, it had a problem with the substrate adhesion of the cured product derived from the internal curability of the cured product, There is a problem that a gel-like product may be generated during storage of the composition, and further, improvement in the storage stability of the cured product has been desired.
この活性光線硬化型組成物の基材密着性向上のため、特異な構造を有するアントラセン誘導体と特異な構造を有する多官能エポキシドを含有した活性光線硬化型組成物が開示されているが、硬化物保存性においては未だ課題が残されており、活性光線硬化型組成物の保存性及び基材密着性についても更なる改善が望まれていた。 An actinic ray curable composition containing an anthracene derivative having a specific structure and a polyfunctional epoxide having a specific structure has been disclosed for improving the substrate adhesion of the active light curable composition. There is still a problem in storage stability, and further improvement has been desired for storage stability and substrate adhesion of the actinic ray curable composition.
一方、アリール基二つが互いに連結したトリアリールスルホニウム塩が多量化した構造を有する光酸発生剤及びそれを含む放射線硬化性組成物が開示されているが(例えば、特許文献2を参照)、この技術は光酸発生剤の分解時に発生する毒性/低分子化合物の低減や光酸発生剤の組成物への溶解性向上を目的としたものであり、組成物や硬化物の保存性および硬化物の基材密着性は充分ではなかった。 On the other hand, a photoacid generator having a structure in which a triarylsulfonium salt in which two aryl groups are linked to each other is multimerged and a radiation curable composition containing the photoacid generator have been disclosed (for example, see Patent Document 2). The technology aims to reduce toxicity / low molecular weight compounds generated during decomposition of the photoacid generator and to improve the solubility of the photoacid generator in the composition. The substrate adhesion was not sufficient.
このように優れた光酸発生剤やカチオン重合性化合物がこれまでに見出されているが、これらを単独に使用しただけでは優れた硬化性、優れた基材密着性、活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存安定性を両立させることができなかった。
本発明の目的は、活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存性が良好であり、且つ、優れた硬化性及び優れた基材密着性を有する活性光線硬化型組成物、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法を提供することにある。 An object of the present invention is that the actinic ray curable composition and the actinic ray curable ink composition have good storage stability, and have an excellent curable property and excellent substrate adhesion, The curing method, the actinic ray curable ink composition, and the image forming method are provided.
上記課題は、以下の構成により解決することが出来た。 The above problem could be solved by the following configuration.
1.下記一般式(S)で表される化合物および下記一般式(B)で表されるカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする活性光線硬化型組成物。 1. An actinic ray curable composition comprising a compound represented by the following general formula (S) and a cationically polymerizable compound represented by the following general formula (B).
(式中、Rs1〜Rs3は置換基を表し、a,b,cはそれぞれ0〜4までの整数を表す。Xは2価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群(A−1)、 (In the formula, Rs 1 to Rs 3 represent substituents, a, b and c each represent an integer of 0 to 4. X is a divalent linking group, which is a single bond or the following partial structural formula: Group (A-1),
(部分構造式群(A−1)中、*部が結合部位である。Rn1は水素原子または置換基を表す。kは1〜6の整数を表す)から選ばれる基である。 (In the partial structural formula group (A-1), the * part is a bonding site. Rn 1 represents a hydrogen atom or a substituent. K represents an integer of 1 to 6).
Lは2価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群(B−1) L is a divalent linking group, and is a single bond or the following partial structural formula group (B-1)
(部分構造式群(B−1)中、*部が結合部位である。Rn1は水素原子または置換基を表す。kは1〜6までの整数を表す)から選ばれる基である。A-は対アニオンを表す。) (In the partial structural formula group (B-1), the * part is a bonding site. Rn 1 represents a hydrogen atom or a substituent. K represents an integer of 1 to 6). A − represents a counter anion. )
(式中、R201、R202は置換基を表し、m20、n20は0、1または2を表す。r0は1〜3を表す。L0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr0+1価の連結基または単結合を表す。)
2.前記一般式(S)において、Xが単結合、硫黄原子、カルボニル基のいずれかひとつであることを特徴とする前記1に記載の活性光線硬化型組成物。
(Wherein R 201 and R 202 each represent a substituent, m20 and n20 each represent 0, 1 or 2. r0 represents 1 to 3. L 0 may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents an r0 + 1 valent linking group or a single bond having 1 to 15 carbon atoms.)
2. 2. The actinic ray curable composition according to 1 above, wherein in the general formula (S), X is any one of a single bond, a sulfur atom, and a carbonyl group.
3.前記一般式(S)において、Lが単結合又は下記の部分構造式群(B−2)から選ばれる基であることを特徴とする前記1又は2に記載の活性光線硬化型組成物。 3. 3. The actinic ray curable composition as described in 1 or 2 above, wherein in the general formula (S), L is a single bond or a group selected from the following partial structural formula group (B-2).
(式中、*部が結合部位である。)
4.前記一般式(S)において、cが1〜4の整数であることを特徴とする前記1〜3の何れか1項に記載の活性光線硬化型組成物。
(In the formula, * part is a binding site.)
4). In said general formula (S), c is an integer of 1-4, The actinic ray curable composition of any one of said 1-3 characterized by the above-mentioned.
5.下記の一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする前記1〜4の何れか1項に記載の活性光線硬化型組成物。 5. 5. The actinic ray curable composition according to any one of 1 to 4 above, which comprises a compound represented by the following general formula (1).
(式中、R1からR7およびR10はそれぞれ水素原子または置換基を表し、R8およびR9は置換または無置換のアルキル基を表す。)
6.前記一般式(1)において、R10が三級アルキル基であることを特徴とする前記5に記載の活性光線硬化型組成物。
(In the formula, R 1 to R 7 and R 10 each represent a hydrogen atom or a substituent, and R 8 and R 9 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group.)
6). 6. The actinic ray curable composition as described in 5 above, wherein in the general formula (1), R 10 is a tertiary alkyl group.
7.前記一般式(1)において、R10がt−ブチル基あるいはt−ペンチル基であることを特徴とする前記5又は6に記載の活性光線硬化型組成物。 7). 7. The actinic ray curable composition as described in 5 or 6 above, wherein in the general formula (1), R 10 is a t-butyl group or a t-pentyl group.
8.前記一般式(1)において、R1、R7が水素原子であり、R8およびR9が炭素数3〜7の無置換アルキル基であることを特徴とする前記5〜7の何れか1項に記載の活性光線硬化型組成物。 8). In the general formula (1), R 1 and R 7 are hydrogen atoms, and R 8 and R 9 are unsubstituted alkyl groups having 3 to 7 carbon atoms. Item 4. The actinic ray curable composition according to Item.
9.前記一般式(1)において、R8およびR9が直鎖アルキル基であることを特徴とする前記5〜8の何れか1項に記載の活性光線硬化型組成物。 9. In Formula (1), actinic ray curable composition according to any one of the 5-8, wherein R 8 and R 9 is a straight chain alkyl group.
10.前記1〜9の何れか1項に記載の活性光線硬化型組成物を含有することを特徴とする活性光線硬化型インク組成物。 10. 10. The actinic ray curable ink composition comprising the actinic ray curable composition according to any one of 1 to 9 above.
11.前記1〜9の何れか1項に記載の活性光線硬化型組成物に紫外線を照射することにより硬化させることを特徴とする活性光線硬化型組成物の硬化方法。 11. 10. The curing method for an actinic ray curable composition, wherein the actinic ray curable composition according to any one of 1 to 9 is cured by irradiating with ultraviolet rays.
12.前記10に記載の活性光線硬化型インク組成物を画像様に射出または塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 12 11. An image forming method comprising forming an image by injecting or applying the actinic ray curable ink composition described in 10 above in an image-like manner and irradiating it with ultraviolet rays to cure.
即ち、本発明者らは、特異な構造の光酸発生剤とカチオン重合性化合物とを組み合わせることで、優れた硬化性と組成物の保存安定性の両立できることを見いだした。 That is, the present inventors have found that a combination of a photoacid generator having a specific structure and a cationic polymerizable compound can achieve both excellent curability and storage stability of the composition.
且つ、本発明に特異な構造の増感剤を組み合わせることで、保存性を劣化させることなく基材密着性も向上させることも見いだした。 In addition, it has also been found that by combining a sensitizer having a structure unique to the present invention, the substrate adhesion can be improved without deteriorating the storage stability.
本発明による、活性光線硬化型組成物、その硬化方法、活性光線硬化型インク組成物及び画像形成方法は、活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物の保存性が良好であり、且つ、優れた硬化性及び優れた基材密着性を有し、優れた効果を有する。 The actinic ray curable composition, the curing method thereof, the actinic ray curable ink composition and the image forming method according to the present invention have good storage stability of the actinic ray curable composition and the actinic ray curable ink composition, Moreover, it has excellent curability and excellent substrate adhesion, and has an excellent effect.
以下、本発明について更に詳細に述べる。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
前記一般式(S)で表される化合物の説明
前記一般式(S)において、Rs1〜Rs3は置換基であり、置換基としては特に制限はなく、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、2−メチルペンチル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、イソヘプチル基、1−プロピルブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、ブテニル基、2−ブテニル基、アリル基等)、シクロアルケニル基(シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクタジエニル基等)、アルキニル基(例えば、アセチレニル基、プロピニル基、ブチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、ペンタセニル基等)、ヘテロ環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、2−キノリル基、1−イソキニリル基等の芳香族基、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリノ基、オキサゾリジル基、2−テトラヒドロフラニル基、2−テトラヒドロチエニル基、2−テトラヒドロピラニル基、3−テトラヒドロピラニル基等の非芳香族基)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子)、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基(例えば前述のアルキル基と酸素原子を組み合わせてできるアルコキシ基)、アリールオキシ基(アリール基としては前述のアリール基として挙げたものと同義)、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基(ヘテロ環としては前述のヘテロ環基として挙げたものと同義)、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基(アルコキシ部位は前述のアルコキシ基と同義)、アリールオキシカルボニルオキシ基(アリール部位は前述のアリール基と同義)、アミノ基、アルキルおよびアリールアミノ基(アルキル部位、アリール部位としてはそれぞれ前述のアルキル基、アリール基として挙げたものと同義)、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基(アルコキシ部位は前述のアルコキシ基と同義)、アリールオキシカルボニルアミノ基(アリール部位は前述のアリール基として挙げたものと同義)、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基(アルキル部位、アリール部位としてはそれぞれ前述のアルキル基、アリール基として挙げたものと同義)、メルカプト基、アルキルチオ基(アルキル部位は前述したアルキル基と同義)、アリールチオ基(アリール基部位は前述のアリール基として挙げたものと同義)、ヘテロ環チオ基(ヘテロ環としては前述のヘテロ環基として挙げたものと同義)、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基(アルキル部位、アリール部位としてはそれぞれ前述のアルキル基、アリール基として挙げたものと同義)、アシル基、アリールオキシカルボニル基(アリール部位は前述のアリール基として挙げたものと同義)、アルコキシカルボニル基(アルコキシ部位は前述のアルコキシ基と同義)、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基(アリール部位、ヘテロ環部位は前述のアリール基、ヘテロ環基と同義)、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。これらの基は更に同義の置換基によって置換されていてもよい。a、bおよびcは0〜4までの整数であり、1〜4が好ましく、1〜2がより好ましい。複数のRs1、Rs2、Rs3はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。Rs1、Rs2、Rs3はそれぞれ任意の位置の水素原子を取り除いて連結手とし、同一ベンゼン環上のRs1同士、Rs2同士、Rs3同士で結合して環を形成していても良い。
Description of the compound represented by the general formula (S) In the general formula (S), Rs 1 to Rs 3 are substituents, and the substituents are not particularly limited, and may be alkyl groups (for example, methyl groups, ethyl groups). Group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, pentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, 2-methylpentyl group, isohexyl group, heptyl group, isoheptyl group, 1-propylbutyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, isooctyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group, undecyl group, dodecyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl) Group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, 1 Propenyl, 2-propenyl, butenyl, 2-butenyl, allyl, etc.), cycloalkenyl (cyclopentenyl, cyclopentadienyl, cyclohexenyl, cyclooctadienyl, etc.), alkynyl ( For example, acetylenyl group, propynyl group, butynyl group, propargyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, phenanthrenyl group, pyrenyl group, pentacenyl group, etc.), heterocyclic group (for example, furyl group, Thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, pyrrolyl group, 2-quinolyl group, Aroma such as 1-isoquinyl group Group, for example, non-aromatic groups such as pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholino group, oxazolidyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydrothienyl group, 2-tetrahydropyranyl group, 3-tetrahydropyranyl group), halogen Atoms (fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, iodine atoms), cyano groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, alkoxy groups (for example, alkoxy groups formed by combining the aforementioned alkyl groups and oxygen atoms), aryloxy groups (as aryl groups) Is as defined above for the aryl group), silyloxy group, heterocyclic oxy group (the heterocyclic ring is as defined above for the heterocyclic group), acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group ( The alkoxy moiety is synonymous with the alkoxy group described above) An aryloxycarbonyloxy group (the aryl moiety is as defined above for the aryl group), an amino group, an alkyl and an arylamino group (the alkyl moiety and the aryl moiety are as defined above for the alkyl group and aryl group, respectively), Anilino group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group (alkoxy moiety is synonymous with the aforementioned alkoxy group), aryloxycarbonylamino group (aryl moiety is synonymous with the aforementioned aryl group), sulfa Moylamino group, alkyl and arylsulfonylamino groups (the alkyl moiety and aryl moiety are as defined above for alkyl group and aryl group, respectively), mercapto group, alkylthio group (wherein the alkyl moiety is as defined above for alkyl group) , A reelthio group (wherein the aryl group is as defined above for the aryl group), a heterocyclic thio group (as the heterocycle is as defined above for the heterocyclic group), a sulfamoyl group, a sulfo group, alkyl and aryl Sulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group (the alkyl moiety and the aryl moiety are the same as those mentioned as the aforementioned alkyl group and aryl group, respectively), acyl group, aryloxycarbonyl group (the aryl moiety is exemplified as the aforementioned aryl group) As defined above), alkoxycarbonyl group (alkoxy moiety is as defined above for alkoxy group), carbamoyl group, aryl and heterocyclic azo group (aryl moiety and heterocyclic moiety are as defined above as aryl group and heterocyclic group), imide Group, silyl group, hydrazino group, ureido group, Ron acid, phosphato group, sulfato group and other known substituents. These groups may be further substituted with the same substituent. a, b and c are integers from 0 to 4, preferably 1 to 4, and more preferably 1 to 2. The plurality of Rs 1 , Rs 2 and Rs 3 may be the same or different. Rs 1 , Rs 2 , and Rs3 may be linked by removing a hydrogen atom at an arbitrary position, and may be bonded by Rs 1 , Rs 2 , or Rs 3 on the same benzene ring to form a ring. .
Rs1〜Rs3として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基であり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。 Rs 1 to Rs 3 are preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, or an alkylamino group, and more preferably a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group.
Xは2価の連結基であり、単結合あるいは上記部分構造式群(A−1)の中から選ばれるいずれかの基である。 X is a divalent linking group, and is a single bond or any group selected from the partial structural formula group (A-1).
Rn1の表す置換基としてはRs1〜Rs3と同義の置換基が挙げられるが、好ましくはアルキル基またはアリール基またはアシル基である。 Examples of the substituent represented by Rn 1 include the same substituents as Rs 1 to Rs 3, and an alkyl group, an aryl group, or an acyl group is preferable.
Rn1は任意の水素原子を取り除き連結基となって一般式(S)の任意の炭素原子と結合して環構造をとっていてもよい。 Rn 1 may be bonded to any carbon atom of the general formula (S) to form a ring structure by removing any hydrogen atom and becoming a linking group.
Xとして好ましくは単結合、硫黄原子、カルボニル基であり、より好ましくはカルボニル基である。 X is preferably a single bond, a sulfur atom or a carbonyl group, more preferably a carbonyl group.
Lは2価の連結基であり、単結合あるいは前記部分構造式群(B−1)の中から選ばれるいずれかの基である。 L is a divalent linking group and is a single bond or any group selected from the partial structural formula group (B-1).
Rn1の表す置換基としてはRs1〜Rs3と同義の置換基が挙げられるが、好ましくはアルキル基またはアリール基またはアシル基である。 Examples of the substituent represented by Rn 1 include the same substituents as Rs 1 to Rs 3, and an alkyl group, an aryl group, or an acyl group is preferable.
Rn1は任意の水素原子を取り除き連結基となって一般式(S)の任意の炭素原子と結合して環構造をとっていてもよい。 Rn 1 may be bonded to any carbon atom of the general formula (S) to form a ring structure by removing any hydrogen atom and becoming a linking group.
Lとしては単結合か、あるいは部分構造式群(B−2)で表される部分構造が好ましい。 L is preferably a single bond or a partial structure represented by the partial structural formula group (B-2).
Z-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C6F5)4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、などの錯イオン、p−CH3C6H4SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができ、酸発生能力の観点からボレートイオンおよびPF6 -が好ましく、PF6 -がより好ましい。 Z − represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 − , B (C 6 F 5 ) 4 − , PF 6 − , AsF 6 − and SbF 6 − , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 − and CF 3. Examples thereof include sulfonate ions such as SO 3 −, from the viewpoint of acid generation ability, borate ions and PF 6 − are preferable, and PF 6 − is more preferable.
以下に一般式(S)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by formula (S) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
一般式(S)で表される化合物の合成法
これらの一般式(S)で表される化合物はその製法を問わないが、例えば、既存の環状スルフィド化合物を各種酸化剤によって酸化して環状スルホキシド化合物とし、これにスルホキシドの酸素原子と反応して硫黄原子からの脱離基を作るような化合物とともに、適当な酸触媒の存在下、アルキル化剤、アリール化剤等の求核性の反応剤(S上の脱離基に対して相対的に求核性である化合物)を加えることで、所望のスルホニウム構造を形成することが出来る。
Method for synthesizing compound represented by general formula (S) The compound represented by general formula (S) may be produced by any method. For example, an existing cyclic sulfide compound is oxidized with various oxidizing agents to form cyclic sulfoxide. A compound that reacts with the oxygen atom of the sulfoxide to form a leaving group from the sulfur atom, and a nucleophilic reactant such as an alkylating agent or arylating agent in the presence of a suitable acid catalyst. By adding (a compound that is relatively nucleophilic with respect to the leaving group on S), a desired sulfonium structure can be formed.
これを従来公知の方法によって塩交換することで、一般式(S)で表される化合物を合成することが出来る。 By subjecting this to salt exchange by a conventionally known method, the compound represented by the general formula (S) can be synthesized.
また国際公開番号WO2003/008404号に記載されている該当する化合物の合成法によっても合成することが可能である。 It can also be synthesized by a method for synthesizing a corresponding compound described in International Publication No. WO2003 / 008404.
以下に具体例を挙げて一般式(S)で表される化合物の合成方法を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 Hereinafter, a method for synthesizing the compound represented by the general formula (S) will be described with specific examples, but the present invention is not limited thereto.
(例示化合物の合成:一般式(S)で表される化合物の一般的合成法)
イソプロピルチオキサントン26gにアセトニトリル1000mlと水400mlを加え、溶解させた後に、さらに硝酸セリウムアンモニウム205gを加えて4時間撹拌した。
(Synthesis of Exemplary Compound: General Synthesis Method of Compound Represented by General Formula (S))
To 26 g of isopropylthioxanthone, 1000 ml of acetonitrile and 400 ml of water were added and dissolved, and then 205 g of ceric ammonium nitrate was further added and stirred for 4 hours.
水を加え、酢酸エチルで有機物を抽出し、水洗した後に、硫酸マグネシウム上で乾燥を行った。濾過濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製し、イソプロピルチオキサントンのスルホキシド体16gを得た。 Water was added, the organic matter was extracted with ethyl acetate, washed with water, and dried over magnesium sulfate. After filtration and concentration, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 16 g of a sulfoxide form of isopropylthioxanthone.
スルホキシド16gを氷水浴中で濃硫酸20mlに攪拌しながらゆっくりと加え、1時間後、ジフェニルエーテル10gを加えた。 16 g of sulfoxide was slowly added with stirring to 20 ml of concentrated sulfuric acid in an ice-water bath, and after 1 hour, 10 g of diphenyl ether was added.
一晩室温にて攪拌した後、水中にあけて反応を停止し、塩化メチレンによって抽出操作を行い、濃縮後シリカゲルクロマトグラフィーによって精製を行った。 After stirring overnight at room temperature, the reaction was stopped by pouring into water, extraction was performed with methylene chloride, and after concentration, purification was performed by silica gel chromatography.
これを酢酸に溶解させ、撹拌しているKPF6水溶液中に滴下して加え、得られた固体を濾取、乾燥して、1gの中間体を得た。次に2gのイソプロピルチオキサントンのスルホキシド体と2gの塩化アルミニウムとを150gのテトラクロロエチレンに室温で溶解させた溶液を調製し、これにさらに2gの塩化アルミニウムを加えて20分攪拌した。この溶液に先述の1gの中間体と塩化アルミニウム1gを加え30分攪拌した後に、有機相を水中に注入し、水性相をジエチルエーテルにて洗浄した。溶液にKPF6水溶液を加え、析出した固体を濾取することで例示化合物G、0.5gを得た。 This was dissolved in acetic acid and added dropwise to the stirring aqueous KPF 6 solution, and the resulting solid was collected by filtration and dried to obtain 1 g of an intermediate. Next, a solution in which 2 g of isopropylthioxanthone sulfoxide and 2 g of aluminum chloride were dissolved in 150 g of tetrachloroethylene at room temperature was prepared, and 2 g of aluminum chloride was further added thereto, followed by stirring for 20 minutes. After adding 1 g of the above-mentioned intermediate and 1 g of aluminum chloride to this solution and stirring for 30 minutes, the organic phase was poured into water and the aqueous phase was washed with diethyl ether. An aqueous KPF 6 solution was added to the solution, and the precipitated solid was collected by filtration to obtain 0.5 g of Exemplified Compound G.
本発明の一般式(S)で表される化合物の添加量は特に制限はないが、活性光線硬化型組成物全体を100質量部としたときに、0.01質量部から30質量部の範囲内で添加することが好ましく、0.1質量部から20質量部の範囲内で添加することがより好ましい。 The addition amount of the compound represented by the general formula (S) of the present invention is not particularly limited, but is in the range of 0.01 parts by mass to 30 parts by mass when the total amount of the actinic ray curable composition is 100 parts by mass. It is preferable to add in the range of 0.1 to 20 parts by mass.
前記一般式(B)で表されるカチオン重合性化合物
前記一般式(B)において、R201、R202は置換基を表し、m20、n20は0、1または2を表す。r0は1〜3を表す。L0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr0+1価の連結基または単結合を表す。
Cationic polymerizable compound represented by the general formula (B) In the general formula (B), R 201 and R 202 each represent a substituent, and m20 and n20 each represent 0, 1 or 2. r0 represents 1-3. L 0 represents a C 1-15 r 0 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.
前記一般式(B)中、R201、R202は置換基を表わす、置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 In the general formula (B), R 201 and R 202 each represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl having 1 to 6 carbon atoms. Group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), C1-C6 alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), And alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) and the like. As the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.
m20、n20は0〜2を表し、0または1が好ましい。 m20 and n20 represent 0 to 2, and 0 or 1 is preferable.
L0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr0+1価の連結基あるいは単結合を表す。 L 0 represents a C 1-15 r 0 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.
主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15の2価の連結基の例としては以下の基およびこれらの基と−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。 Examples of the divalent linking group having 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain include the following groups, and these groups and —O— group, —S— group, —CO— group, Examples include groups formed by combining a plurality of —CS— groups.
メチレン基[−CH2−]
エチリデン基[>CHCH3]、
イソプロピリデン[>C(CH3)2]
1,2−エチレン基[−CH2CH2−]、
1,2−プロピレン基[−CH(CH3)CH2−]、
1,3−プロパンジイル基[−CH2CH2CH2−]、
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH3)2CH2−]、
2,2−ジメトキシ−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(OCH3)2CH2−]、
2,2−ジメトキシメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH2OCH3)2CH2−]、
1−メチル−1,3−プロパンジイル基[−CH(CH3)CH2CH2−]、
1,4−ブタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2−]、
1,5−ペンタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2CH2−]、
オキシジエチレン基[−CH2CH2OCH2CH2−]、
チオジエチレン基[−CH2CH2SCH2CH2−]、
3−オキソチオジエチレン基[−CH2CH2SOCH2CH2−]、
3,3−ジオキソチオジエチレン基[−CH2CH2SO2CH2CH2−]、
1,4−ジメチル−3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基[−CH(CH3)CH2O CH(CH3)CH2−]、
3−オキソペンタンジイル基[−CH2CH2COCH2CH2−]、
1,5−ジオキソ−3−オキサペンタンジイル基[−COCH2OCH2CO−]、
4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル基[−CH2CH2CH2OCH2CH2CH2−]、
3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2−]、
1,4,7−トリメチル−3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、
5,5−ジメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH3)2CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシ−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(OCH3)2CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH2OCH3)2CH2OCH2CH2−]、
4,7−ジオキソ−3,8−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2O−COCH2CH2CO−OCH2CH2−]、
3,8−ジオキソ−4,7−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2CO−OCH2CH2O−COCH2CH2−]、
1,3−シクロペンタンジイル基[−1,3−C5H8−]、
1,2−シクロヘキサンジイル基[−1,2−C6H10−]、
1,3−シクロヘキサンジイル基[−1,3−C6H10−]、
1,4−シクロヘキサンジイル基[−1,4−C6H10−]、
2,5−テトラヒドロフランジイル基[2,5−C4H6O−]
p−フェニレン基[−p−C6H4−]、
m−フェニレン基[−m−C6H4−]、
α,α’−o−キシリレン基[−o−CH2−C6H4−CH2−]、
α,α’−m−キシリレン基[−m−CH2−C6H4−CH2−]、
α,α’−p−キシリレン基[−p−CH2−C6H4−CH2−]、
フラン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C4H2O−CH2−]
チオフェン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C4H2S−CH2−]
イソプロピリデンビス−p−フェニレン基[−p−C6H4−C(CH3)2−p−C6H4−]
3価以上の連結基としては以上に挙げた2価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基およびそれらと−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
Methylene group [—CH 2 —]
An ethylidene group [> CHCH 3 ],
Isopropylidene [> C (CH 3 ) 2 ]
1,2-ethylene group [—CH 2 CH 2 —],
1,2-propylene group [—CH (CH 3 ) CH 2 —],
1,3-propanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 —],
2,2-dimethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxy-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxymethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 —],
1-methyl-1,3-propanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 —],
1,4-butanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
1,5-pentanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
An oxydiethylene group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
A thiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 —],
3-oxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SOCH 2 CH 2 —],
3,3-dioxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SO 2 CH 2 CH 2 —],
1,4-dimethyl-3-oxa-1,5-pentanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 O CH (CH 3 ) CH 2 —],
3-oxopentanediyl group [—CH 2 CH 2 COCH 2 CH 2 —],
1,5-dioxo-3-oxapentanediyl group [—COCH 2 OCH 2 CO—],
4-oxa-1,7-heptanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 —],
3,6-dioxa-1,8-diyl group [-CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OCH2CH2-],
1,4,7-trimethyl-3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —],
5,5-dimethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxy-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxymethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
4,7-dioxo-3,8-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 —],
3,8-dioxo-4,7-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 —],
1,3-cyclopentanediyl group [-1,3-C 5 H 8 —],
1,2-cyclohexanediyl group [-1,2-C 6 H 10- ],
1,3-cyclohexanediyl group [-1,3-C 6 H 10- ],
1,4-cyclohexanediyl group [-1,4-C 6 H 10- ],
2,5-tetrahydrofurandiyl group [2,5-C 4 H 6 O—]
p- phenylene [-p-C 6 H 4 - ],
m- phenylene group [-m-C 6 H 4 - ],
α, α′-o-xylylene group [—o—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α′-m-xylylene group [—m—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α′-p-xylylene group [—p—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
Furan-2,5-diyl - bismethylene group [2,5-CH 2 -C 4 H 2 O-CH 2 -]
Thiophene-2,5-diyl-bismethylene group [2,5-CH 2 —C 4 H 2 S—CH 2 —]
Isopropylidenebis -p- phenylene group [-p-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -p-C 6 H 4 -]
Examples of the trivalent or higher linking group include groups formed by removing as many hydrogen atoms as necessary from the divalent linking groups listed above, and an —O— group, —S— group, —CO— group, Examples include groups formed by combining a plurality of —CS— groups.
L0は置換基を有していても良い。 L 0 may have a substituent.
置換基の例としては、例えばハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基をあげることができる。 Examples of the substituent include, for example, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group). , Etc.), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group) Group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, Etc.). Preferable examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group.
L0としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜8の2価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数1〜5の2価の連結基がより好ましい。 L 0 is preferably a divalent linking group having 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, and more preferably a divalent linking group having 1 to 5 carbon atoms in which the main chain is composed of only carbon. preferable.
高硬度の硬化膜を生成し、さらに硬化膜の基材密着性を良くすると言う点で特に好ましい脂環式エポキシドは下記の一般式(B−I)または一般式(B−II)で表される化合物である。 Particularly preferred alicyclic epoxides are those represented by the following general formula (BI) or general formula (B-II) in terms of producing a cured film with high hardness and further improving the adhesion of the cured film to the substrate. It is a compound.
一般式(B−I)において、R211、R212は置換基を表し、m21、n21は0、1または2を表す。p1、q1はそれぞれ0または1を表す。r1は1〜3を表す。L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。 In the general formula (BI), R 211 and R 212 represent a substituent, and m21 and n21 represent 0, 1 or 2. p1 and q1 each represents 0 or 1. r1 represents 1-3. L 1 represents a C 1-15 r 1 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.
一般式(B−II)において、R221、R222は置換基を表し、m22、n22は0、1または2を表す。p2、q2はそれぞれ0または1を表す。r2は1〜3を表す。L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。 In the general formula (B-II), R 221 and R 222 represent substituents, and m22 and n22 represent 0, 1 or 2. p2 and q2 each represents 0 or 1. r2 represents 1-3. L 2 represents a C 1-15 r 2 + 1 valent linking group or single bond which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.
硬化感度が高く、さらに印字環境の変動によっても硬化感度が影響されにくいという点で特に好ましい脂環式エポキシドは下記の一般式(B−III)または(B−IV)で表される化合物である。 A particularly preferred alicyclic epoxide is a compound represented by the following general formula (B-III) or (B-IV) in that the curing sensitivity is high and the curing sensitivity is not easily affected by changes in the printing environment. .
一般式(B−III)において、R231、R232は置換基を表し、m23、n23は0または1を表す。p3、q3はそれぞれ0または1を表す。r3は1〜3を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr3+1価の連結基または単結合を表す。 In General Formula (B-III), R 231 and R 232 each represent a substituent, and m23 and n23 each represent 0 or 1. p3 and q3 each represents 0 or 1. r3 represents 1-3. L 3 represents a C 1-15 r 3 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.
一般式(B−IV)において、R241、R242は置換基を表し、m24、n24は0またh1を表す。p4、q4はそれぞれ0または1を表す。r4は1〜3を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr4+1価の連結基または単結合を表す。 In the general formula (B-IV), R 241 and R 242 represent substituents, and m24 and n24 represent 0 or h1. p4 and q4 each represents 0 or 1. r4 represents 1-3. L 4 represents a C 1-15 r 4 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.
さらに、一般式(B−III)または(B−IV)で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound represented by general formula (B-III) or (B-IV) will be described.
上記の式中、R231、R232、R241、R242は置換基を表わす、置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 In the above formula, R 231 , R 232 , R 241 and R 242 represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), C 1-6 Alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), C 1-6 alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso- Propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, Etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) and the like. As the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.
m23、n23、m24、n24は0〜2を表し、0または1が好ましい。 m23, n23, m24 and n24 represent 0 to 2, and 0 or 1 is preferable.
L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr3+1価の連結基あるいは単結合を表し、L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr4+1価の連結基あるいは単結合を表す。 L 3 represents an r3 + 1-valent linking group having 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain or a single bond, and L 4 has 1 carbon atom which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents an r4 + 1-valent linking group or a single bond of ˜15.
主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15の2価の連結基の例としてはL0の説明で示したものを同じものが挙げられる。 Examples of the divalent linking group having 1 to 15 carbon atoms, which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, are the same as those described in the description of L 0 .
L3、L4としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜8の2価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数1〜5の2価の連結基がより好ましい。 L 3 and L 4 are preferably a divalent linking group having 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, and a divalent linking group having 1 to 5 carbon atoms in which the main chain is composed solely of carbon. Groups are more preferred.
以下に、本発明の一般式(B)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by formula (B) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.
一般式(B)で表される化合物の添加量としては、硬化環境(温度、湿度)による硬化性や硬化後の膜物性を考慮して、活性光線硬化型組成物100質量部に対して10〜40質量含有することが好ましい。 The amount of the compound represented by the general formula (B) is 10 with respect to 100 parts by mass of the actinic ray curable composition in consideration of curability due to the curing environment (temperature, humidity) and film physical properties after curing. It is preferable to contain ~ 40 mass.
本発明では、一般式(B)で表される化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。 In the present invention, one type of the compound represented by the general formula (B) may be used alone, or two or more types may be used in appropriate combination.
これらの脂環式エポキシ化合物は、その製法は問わないが、例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213〜、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistryofheterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11−100378号、特開平4−36263号、特開平4−69360号公報等の文献を参考にして合成できる。 These alicyclic epoxy compounds may be produced by any method. For example, Maruzen KK Publishing, 4th Edition Experimental Chemistry Course 20 Organic Synthesis II, 213, 1992, Ed. By Alfred Hasfner, The Chemistry of Heterocyclic Compound-Volume No. 5, Small Ring Heterocycle part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interc. 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, Japanese Patent Laid-Open No. 11-100308, Japanese Patent Laid-Open No. 4-36263, Japanese Patent Laid-Open No. 4-69360, and the like.
(カチオン重合性化合物)
本発明の活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク組成物(以下、単にインクジェットインク、インクともいう。)では一般式(B)で表される化合物の他にさらにカチオン重合性化合物を加えることが好ましい。
(Cationically polymerizable compound)
In the actinic ray curable composition and the actinic ray curable ink composition of the present invention (hereinafter also simply referred to as inkjet ink or ink), a cationically polymerizable compound is further added in addition to the compound represented by formula (B). It is preferable.
本発明の活性光線硬化型組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、カチオン重合により高分子化の起こるタイプで、(1)オキシラン環を有する化合物(エポキシ化合物とも言う)、(2)スチレン誘導体、(3)ビニルナフタレン誘導体、(4)ビニルエーテル類、(5)N−ビニル化合物及び(6)オキセタン環を有する化合物等を挙げることができるが、その中でも、特に、本発明においては、オキシラン環を有する化合物(エポキシ化合物とも言う)およびオキセタン環を有するカチオン重合性化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いることが好ましい。 The cationically polymerizable compound used in the actinic ray curable composition of the present invention is a type in which polymerization is caused by cationic polymerization, (1) a compound having an oxirane ring (also referred to as an epoxy compound), and (2) a styrene derivative. , (3) vinyl naphthalene derivatives, (4) vinyl ethers, (5) N-vinyl compounds, and (6) compounds having an oxetane ring. It is preferable to use at least one compound selected from a compound having an ionic group (also referred to as an epoxy compound) and a cationically polymerizable compound having an oxetane ring.
(1)のオキシラン環を有するタイプのものとしては、特に制限は無いが、1分子内にオキシラン環を有する化合物をあげることが出来る。 The type having an oxirane ring of (1) is not particularly limited, and examples thereof include compounds having an oxirane ring in one molecule.
このようなエポキシ化合物としては、例えば、脂環式エポキシド類(脂環式エポキシ、脂環式エポキシ化合物とも言う)、多塩基酸のグリシジルエステル類、多価アルコールのグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これら化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。 Examples of such epoxy compounds include alicyclic epoxides (also referred to as alicyclic epoxies and alicyclic epoxy compounds), glycidyl esters of polybasic acids, glycidyl ethers of polyhydric alcohols, and polyoxyalkylene glycols. Glycidyl ethers, aromatic polyol glycidyl ethers, aromatic polyol glycidyl ether hydrogenated compounds, urethane polyepoxy compounds and epoxidized polybutadienes. These compounds can be used alone or in a mixture of two or more.
本発明において好適に用いられるエポキシ化合物としては、脂環式エポキシド化合物である。 An epoxy compound that can be suitably used in the present invention is an alicyclic epoxide compound.
単官能エポキシ化合物
本発明の活性光線硬化型組成物においては、単官能エポキシドを併用することでさらなる感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができる。
Monofunctional epoxy compound In the actinic ray curable composition of the present invention, by using a monofunctional epoxide in combination, a further sensitivity enhancement effect or a cured film physical property improvement effect can be obtained.
単官能脂環式エポキシドであれば特に制限は無いが、本発明においては単官能脂環式エポキシドが好ましく、下記一般式(A)で表される単官能脂環式エポキシドがより好ましい。 Although there will be no restriction | limiting in particular if it is a monofunctional alicyclic epoxide, In this invention, a monofunctional alicyclic epoxide is preferable and the monofunctional alicyclic epoxide represented by the following general formula (A) is more preferable.
一般式(A)において、R101はカチオン重合性あるいはラジカル重合性の反応性の官能基を含まない置換基を表し、m10は1、2、3または4を表す。 In the general formula (A), R 101 represents a substituent that does not contain a cationic polymerizable or radical polymerizable reactive functional group, and m10 represents 1, 2, 3, or 4.
更に、一般式(A)のR101はカチオン重合性あるいはラジカル重合性の反応性の官能基を含まない置換基を表す。 Further, R 101 in the general formula (A) represents a substituent that does not contain a cationic functional group or a radical polymerizable reactive functional group.
置換基の例としては、例えばハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜20個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数2〜20のアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数2〜20のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数2〜20のアシルチオ基(例えばアセチルチオ基、プロピオニルチオ基、トリフルオロアセチルチオ基、等)、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)等が挙げられる。 Examples of the substituent include, for example, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group). , Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group) , N-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), C2-C20 acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), carbon number An acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), Ruthio group (for example, acetylthio group, propionylthio group, trifluoroacetylthio group, etc.), C2-C20 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), C2 -20 alkylthiocarbonyl groups (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthiocarbonyl group, etc.) and the like.
これらの基は更に置換基を有していてもよい。 These groups may further have a substituent.
置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数2〜20のアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数2〜20のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙がられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。 Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n- Butoxy group, tert-butoxy group, etc.), C2-C20 acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), C2-C20 acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy) Group, trifluoroacetoxy group, etc.), C2-C20 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), C2-C20 alkylthiocarbonyl group (methylthiocarbonyl group) , Ethylthiocarbonyl group, tert-butylthiocarbonyl group, etc.) An aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a cyano group, a nitro group, and the like are go up. As the substituent, a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.
このうち好ましい脂環式エポキシドの一種は下記の一般式(A−I)で表される化合物である。 Among these, one kind of preferable alicyclic epoxide is a compound represented by the following general formula (AI).
一般式(A−I)において、R111は置換基を表し、m11は0、1、2または3を表す。 In general formula (AI), R 111 represents a substituent, and m11 represents 0, 1, 2, or 3.
R112、R113、R114はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。 R 112 , R 113 and R 114 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group.
Y11およびY12はそれぞれ独立にOまたはSを表し、p11は0、1または2を、q11は0または1を、r11は0または1を、s11は0または1を表す。 Y 11 and Y 12 each independently represent O or S, p11 represents 0, 1 or 2, q11 represents 0 or 1, r11 represents 0 or 1, and s11 represents 0 or 1.
更に、一般式(A−I)で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound represented by general formula (AI) is demonstrated.
一般式(A−I)において、R111は置換基を表わす。 In the general formula (AI), R 111 represents a substituent.
置換基の例としては、例えば、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜20個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の各基)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等の各基)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等の各基)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等の各基)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等の各基)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等の各基が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 Examples of the substituent include, for example, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group). Etc.), C1-20 alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, n-propoxy, iso-propoxy, n-butoxy, tert-butoxy, etc.), acyl Group (for example, each group such as acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group), acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, each group such as acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group), carbon number 1 ~ 20 alkoxycarbonyl groups (each group such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group), carbon number -20 alkylthiocarbonyl groups (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthiocarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, cyano groups, nitro groups, etc. It is done. As the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.
R112、R113、R114は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。アルキル基の例としては上述したR111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。 R 112 , R 113 and R 114 represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. Examples of the alkyl group include the same groups as those in the examples of the alkyl group for R 111 described above.
置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、例えばハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等の各基)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等の各基)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等の各基)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等の各基)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等の各基が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 Examples of the substituent of the alkyl group having a substituent include, for example, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, n- Propoxy group, iso-propoxy group, each group such as n-butoxy group, tert-butoxy group), acyl group (for example, each group such as acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group), 1 to 20 carbon atoms Acyloxy group (for example, each group such as acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group), C1-C20 alkoxycarbonyl group (each group such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group) An alkylthiocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group) tert-butylthiocarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, cyano group, nitro group and the like. Preferred examples of the substituent include an alkoxy group and an alkoxycarbonyl group. is there.
Y11、Y12はOまたはSをあらわしOが好ましい。 Y 11 and Y 12 represent O or S, and O is preferable.
m11は0〜3を表し、1または2が好ましい。p11は0、1または2を表し、q11、r11、s11は0または1を表す。 m 11 represents 0 to 3, and preferably 1 or 2. p 11 represents 0, 1 or 2, and q 11 , r 11 and s 11 represent 0 or 1.
以下の一般式(A−II)で表される化合物もまた好ましい脂環式エポキシドの一種である。 The compound represented by the following general formula (A-II) is also a kind of preferable alicyclic epoxide.
一般式(A−II)において、R121は置換基を表し、m12は0、1または2を表す。 In the general formula (A-II), R 121 represents a substituent, and m12 represents 0, 1 or 2.
R122、R123、R124はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。 R 122 , R 123 and R 124 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group.
Y21およびY22それぞれ独立にO、またはSを表し、p12は0、1または2を、q12は0または1を、r12は0または1を、s12は0または1を表す。 Y 21 and Y 22 each independently represents O or S, p12 represents 0, 1 or 2, q12 represents 0 or 1, r12 represents 0 or 1, and s12 represents 0 or 1.
更に一般式(A−II)で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound represented by the general formula (A-II) will be described.
上記の式中、R121は置換基を表わし、置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜20個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 In the above formula, R 121 represents a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methyl group). , Ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert) -Butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.) An alkoxycarbonyl group having 1 to 20 carbon atoms (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) , An alkylthiocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthiocarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, cyano group, nitro group, etc. Is mentioned. As the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.
Y21、Y22は−O−または−S−をあらわし、中でも−O−が好ましい。 Y 21 and Y 22 represent —O— or —S—, and —O— is particularly preferable.
m12は0〜2を表し、0または1が好ましい。p12は0、1または2を表し、q12、r12、s12は0または1を表す。 m 12 represents 0 to 2, and 0 or 1 is preferable. p 12 represents 0, 1 or 2, and q 12 , r 12 and s 12 represent 0 or 1.
R122、R123、R124は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。 R 122 , R 123 and R 124 each represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group.
アルキル基の例としては上述したR111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。 Examples of the alkyl group include the same groups as those in the examples of the alkyl group for R 111 described above.
置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 Examples of the substituent of the alkyl group having a substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n- Propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, Acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), C1-C20 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), C2-C20 alkylthio Carbonyl group (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthio) Carbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a cyano group, a nitro group, etc., and preferred as substituents, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group.
下記の一般式(A−III)、一般式(A−IV)または一般式(A−V)で表される化合物もまた好ましい脂環式エポキシドの一種である。 The compounds represented by the following general formula (A-III), general formula (A-IV) or general formula (AV) are also a kind of preferred alicyclic epoxides.
一般式(A−III)において、R131は置換基を表し、m13は0、1または2を表す。 In the general formula (A-III), R 131 represents a substituent, and m13 represents 0, 1 or 2.
R132、R133、R134はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。p13は0、1または2を、q13は0または1を表す。 R 132 , R 133 and R 134 each independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. p13 represents 0, 1 or 2, and q13 represents 0 or 1.
一般式(A−IV)において、R141は置換基を表し、m14は0、1または2を表す。R142、R143、R144はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。p14は0、1または2を表す。 In the general formula (A-IV), R 141 represents a substituent, and m14 represents 0, 1 or 2. R 142 , R 143 and R 144 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. p14 represents 0, 1 or 2.
一般式(A−V)において、R151は置換基を表し、m15は0、1または2を表す。R154は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。s15は0または1を表す。 In the general formula (A-V), R 151 represents a substituent, and m15 represents 0, 1 or 2. R154 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. s15 represents 0 or 1.
更に、一般式(A−III)、一般式(A−IV)及び一般式(A−V)で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound represented by general formula (A-III), general formula (A-IV), and general formula (AV) will be described.
上記の式中、R131、R141、R151は置換基を表わし、置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜20個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 In the above formula, R 131 , R 141 , and R 151 each represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), alkyl having 1 to 20 carbon atoms. Group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), C1-C20 alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trimethyl group) Fluoroacetoxy group, etc.), C1-C20 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxyca) Bonyl group, etc.), C2-C20 alkylthiocarbonyl group (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthiocarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, cyano group , A nitro group, and the like. As the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.
m13、m14、m15は0〜2を表し、0または1が好ましい。p13、p14は0、1または2を表し、q13、s15は0または1を表す。 m 13 , m 14 and m 15 represent 0 to 2, and 0 or 1 is preferable. p 13 and p 14 represent 0, 1 or 2, and q 13 and s 15 represent 0 or 1.
R132、R133、R134、R142、R143、R144、R154は水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。アルキル基の例としては上述したR111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。 R 132 , R 133 , R 134 , R 142 , R 143 , R 144 , and R 154 represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. Examples of the alkyl group include the same groups as those in the examples of the alkyl group for R 111 described above.
置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。 Examples of the substituent of the alkyl group having a substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n- Propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, Acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), C1-C20 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), C2-C20 alkylthio Carbonyl group (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthio) Carbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a cyano group, a nitro group, etc., and preferred as substituents, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group.
下記の一般式(A−VI)で表される化合物もまた好ましい脂環式エポキシドの一種である。 A compound represented by the following general formula (A-VI) is also a kind of preferable alicyclic epoxide.
一般式(A−VI)において、R1611、R1612はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1から6のアルキル基を表す。 In the general formula (A-VI), R 1611 and R 1612 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R162、R163、R164はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。q16は0または1を表す。 R 162 , R 163 and R 164 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. q16 represents 0 or 1.
更に、一般式(A−VI)で表される脂環式エポキシ化合物について説明する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound represented by general formula (A-VI) is demonstrated.
一般式(A−VI)において、R1611、R1612は水素原子または炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)を表し、アルキル基として好ましいのは、メチル基、エチル基、プロピル基である。 In the general formula (A-VI), R 1611 and R 1612 are hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.), and the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
R162、R163、R164はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基を表す。 R 162 , R 163 and R 164 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group.
アルキル基の例としては上述したR111のアルキル基の例と同義の基を挙げる事ができる。置換基を有するアルキル基の置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜20個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、炭素数1〜20個のアシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、炭素数1〜20個のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数2〜20のアルキルチオカルボニル基(メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、tert−ブチルチオカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、置換基として好ましいのは、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。q16は0または1を表す。 Examples of the alkyl group include the same groups as those in the examples of the alkyl group for R 111 described above. Examples of the substituent of the alkyl group having a substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n- Propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (for example, Acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), C1-C20 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), C2-C20 alkylthio Carbonyl group (methylthiocarbonyl group, ethylthiocarbonyl group, tert-butylthio) Carbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a cyano group, a nitro group, etc., and preferred as substituents, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group. q16 represents 0 or 1.
以下に、本発明の単官能エポキシ化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the monofunctional epoxy compound of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明の単官能エポキシ化合物の添加量としては、活性光線硬化型組成物100質量部に対して、10〜20質量部含有することが好ましい。 As addition amount of the monofunctional epoxy compound of this invention, it is preferable to contain 10-20 mass parts with respect to 100 mass parts of actinic-light curable compositions.
本発明では、単官能脂環式エポキシドの1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。 In the present invention, one type of monofunctional alicyclic epoxide may be used alone, or two or more types may be used in appropriate combination.
これらの単官能脂環式エポキシドは、その製法は問わないが、例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213〜、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistryofheterocycliccompounds−Small−RingHeterocycles part3 Oxiranes,John&WileyandSons,An Interscience Publication,NewYork,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11−100378号、特開平4−36263号、特開平4−69360号公報等の文献を参考にして合成できる。 These monofunctional alicyclic epoxides may be produced by any method. For example, see Maruzen KK Publishing, 4th Edition Experimental Chemistry Course 20 Organic Synthesis II, 213, 1992, Ed. By Alfred Hasfner, The Chemistry of Heterocyclic Compound, Vol. 6, Vol. 42, Vol. 42, Vol. 42, Vol. , Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, JP-A-11-1000037, JP-A-4-36263, JP-A-4-69360 and the like.
(2)スチレン誘導体
例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、p−メチル−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシ−β−メチルスチレン等
(3)ビニルナフタレン誘導体
例えば、1−ビニルナフタレン、α−メチル−1−ビニルナフタレン、β−メチル−1−ビニルナフタレン、4−メチル−1−ビニルナフタレン、4−メトキシ−1−ビニルナフタレン等
(4)ビニルエーテル類
例えば、イソブチルエーテル、エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル、α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブチルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエーテル等
(5)N−ビニル化合物類
例えば、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルインドール、N−ビニルピロール、N−ビニルフェノチアジン、N−ビニルアセトアニリド、N−ビニルエチルアセトアミド、N−ビニルスクシンイミド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルイミダゾール等
(6)オキセタン環を有する化合物
オキセタン環を有する化合物としては、特開2001−220526号公報、同2001−310937号公報に紹介されているような公知のあらゆるオキセタン化合物を使用できる。また、オキセタン環を1個含有する単官能オキセタン化合物とオキセタン環を2個以上含有する多官能オキセタン化合物とを併用することが、硬化後の膜強度と記録材料への密着性を向上させる上で好ましい。ただし、オキセタン環を5個以上有する化合物を使用すると、活性光線硬化型インク組成物の粘度が高くなるため、取扱いが困難になったり、また活性光線硬化型インク組成物のガラス転移温度が高くなるため、得られる硬化物の粘着性が十分でなくなってしまう。
(2) Styrene derivatives For example, styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene, etc. (3) Vinyl naphthalene derivatives For example, 1-vinyl naphthalene, α-methyl-1-vinyl naphthalene, β-methyl-1-vinyl naphthalene, 4-methyl-1-vinyl naphthalene, 4-methoxy-1-vinyl naphthalene, etc. (4) Vinyl ether For example, isobutyl ether, ethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, p-methylphenyl vinyl ether, p-methoxyphenyl vinyl ether, α-methylphenyl vinyl ether, β-methylisobutyl vinyl ether, β-chloroisobutyl vinyl ether, etc. (5) N-vinyl Compounds For example, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone, N-vinylindole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylacetanilide, N-vinylethylacetamide, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, N-vinylimidazole, etc. (6) Compounds having an oxetane ring As compounds having an oxetane ring, any known compounds such as those disclosed in JP-A-2001-220526 and 2001-310937 Oxetane compounds can be used. Further, the combined use of a monofunctional oxetane compound containing one oxetane ring and a polyfunctional oxetane compound containing two or more oxetane rings improves the film strength after curing and the adhesion to the recording material. preferable. However, if a compound having 5 or more oxetane rings is used, the viscosity of the actinic radiation curable ink composition becomes high, making it difficult to handle, and increasing the glass transition temperature of the actinic radiation curable ink composition. For this reason, the obtained cured product has insufficient adhesiveness.
本発明で使用するオキセタン環を有する化合物は、オキセタン環を1〜4個有する化合物が好ましい。 The compound having an oxetane ring used in the present invention is preferably a compound having 1 to 4 oxetane rings.
発明の活性光線硬化組成物においては、一般式(S)で表される化合物と共に、オキセタン環の2位が置換されていないオキセタン化合物を併用することが好ましい。 In the actinic ray curable composition of the invention, it is preferable to use an oxetane compound in which the 2-position of the oxetane ring is not substituted together with the compound represented by the general formula (S).
以下、2位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。 Hereinafter, the oxetane compound in which the 2-position is not substituted will be described.
2位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式(101)で示される化合物が挙げられる。 As an example of the oxetane compound in which the 2-position is not substituted, a compound represented by the following general formula (101) can be given.
一般式(101)において、R1は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。 In General Formula (101), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or an aryl group. , Furyl group or thienyl group.
R2は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素数2〜6個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基等である。 R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl- C2-C6 alkenyl group such as 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, phenoxyethyl group, etc. A group having an aromatic ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, and a butylcarbonyl group, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group; Alkoxycarbonyl group, ethylcarbamoyl group, propylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, pentylcarbamoyl Is N- alkylcarbamoyl group having a carbon number of 2-6 and the like.
本発明で使用するオキセタン化合物としては、2個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。 As the oxetane compound used in the present invention, it is particularly preferable to use a compound having two oxetane rings because the resulting composition has excellent tackiness, low viscosity and excellent workability.
2個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(102)で示される化合物等が挙げられる。 An example of a compound having two oxetane rings includes a compound represented by the following general formula (102).
一般式(102)において、R1は、前記一般式(101)におけるそれと同様の基である。 In General Formula (102), R 1 is the same group as that in General Formula (101).
R3は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等の線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。 R 3 is, for example, a linear or branched alkylene group such as an ethylene group, a propylene group or a butylene group, a linear or branched poly (alkyleneoxy) such as a poly (ethyleneoxy) group or a poly (propyleneoxy) group. ) Group, propenylene group, methylpropenylene group, butenylene group or other linear or branched unsaturated hydrocarbon group, alkylene group containing carbonyl group or carbonyl group, alkylene group containing carboxyl group, alkylene containing carbamoyl group Group.
また、R3としては、下記一般式(103)、(104)及び(105)で示される基から選択される多価基も挙げることができる。 Moreover, as R < 3 >, the polyvalent group selected from the group shown by the following general formula (103), (104) and (105) can also be mentioned.
一般式(103)において、R4は、水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。 In General Formula (103), R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group.
一般式(104)において、R5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO2、C(CF3)2、又はC(CH3)2を表す。 In the general formula (104), R 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2 , C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .
一般式(105)において、R6は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。nは0〜2000の整数である。R7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。R7としては、更に、下記一般式(106)で示される基から選択される基も挙げることができる。 In General Formula (105), R 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. n is an integer of 0-2000. R 7 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an aryl group. R 7 may further include a group selected from the group represented by the following general formula (106).
一般式(106)において、R8は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。mは0〜100の整数である。 In General Formula (106), R 8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. m is an integer of 0-100.
2個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。 Specific examples of the compound having two oxetane rings include the following compounds.
例示化合物11は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3がカルボキシル基である化合物である。 Exemplary compound 11 is a compound in which R 1 is an ethyl group and R 3 is a carboxyl group in the general formula (102).
また、例示化合物12は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3が前記一般式(105)でR6及びR7がメチル基、nが1である化合物である。 The exemplified compound 12 is a compound in which R 1 is an ethyl group, R 3 is the general formula (105), R 6 and R 7 are methyl groups, and n is 1 in the general formula (102).
2個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式(107)で示される化合物がある。一般式(107)において、R1は、前記一般式(101)のR1と同義である。 In the compound having two oxetane rings, a preferred example other than the above compound is a compound represented by the following general formula (107). In formula (107), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101).
また、3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(108)で示される化合物が挙げられる。 Moreover, as an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings, a compound represented by the following general formula (108) can be given.
一般式(108)において、R1は、前記一般式(101)におけるR1と同義である。 In formula (108), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101).
R9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基又は下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは、3又は4である。 As R 9 , for example, a branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by the following A to C, a branched poly (alkyleneoxy) group such as a group represented by the following D, or the following E And branched polysiloxy groups such as those shown. j is 3 or 4.
上記Aにおいて、R10はメチル基、エチル基又はプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In A above, R 10 is a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.
3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物13が挙げられる。 Illustrative compound 13 is an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings.
さらに、上記説明した以外の1〜4個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式(109)で示される化合物が挙げられる。 Furthermore, examples of the compound having 1 to 4 oxetane rings other than those described above include compounds represented by the following general formula (109).
一般式(109)において、R8は前記一般式(106)のR8と同義である。R11はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。 In formula (109), R 8 has the same meaning as R 8 in the general formula (106). R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4.
本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。 Preferable specific examples of the oxetane compound used in the present invention include the following compounds.
上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られ方法に従えばよく、例えば、パティソン(D.B.Pattison,J.Am.Chem.Soc.,3455,79(1957))が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。 The production method of each compound having an oxetane ring described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method. For example, Pattison (DB Pattison, J. Am. Chem. Soc., 3455, 79 ( 1957)) discloses a method for synthesizing an oxetane ring from a diol.
また、これら以外にも、分子量1000〜5000程度の高分子量を有する1〜4個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。 In addition to these, compounds having 1 to 4 oxetane rings having a high molecular weight of about 1000 to 5000 are also included. Examples of these specific compounds include the following compounds.
本発明の活性光線硬化型組成物には増感剤を併用することが好ましく、増感剤が9,10−ジエーテル化アントラセン化合物であることがより好ましく、前記一般式(1)で表される化合物であることが最も好ましい。 It is preferable to use a sensitizer together with the actinic ray curable composition of the present invention, and it is more preferable that the sensitizer is a 9,10-dietherified anthracene compound, which is represented by the general formula (1). Most preferably, it is a compound.
一般式(1)で表される化合物
前記一般式(1)において、R1からR7およびR10は水素原子または以下に示す置換基であり、R1からR7が表す置換基には特に制限はなく、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、アリル基等)、シクロアルケニル基(シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクタジエニル基等)、アルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、2−キノリル基、1−イソキニリル基等)、非芳香族複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリノ基、オキサゾリジル基、2−テトラヒドロフラニル基、2−テトラヒドロチエニル基、2−テトラヒドロピラニル基、3−テトラヒドロピラニル基等)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子)、シアノ基等が挙げられる。これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。
Compound represented by the general formula (1) In the general formula (1), R 1 to R 7 and R 10 are hydrogen atoms or substituents shown below, and the substituents represented by R 1 to R 7 are particularly There is no limitation, and alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, pentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, Heptyl, octyl, nonyl, 2-ethylhexyl, decyl, dodecyl, etc.), cycloalkyl (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl (eg, Vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, allyl group, etc.), cycloalkenyl group (cyclopente Group, cyclopentadienyl group, cyclohexenyl group, cyclooctadienyl group, etc.), alkynyl group (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, propargyl group, etc.), aromatic Aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), aromatic heterocyclic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, Pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, pyrrolyl group, 2-quinolyl group, 1-isoquinyl group, etc.), non-aromatic heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group) , Morpholino group, oxazolidyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2- Tiger tetrahydrothienyl group, 2-tetrahydropyranyl group, 3-tetrahydropyranyl group), a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), a cyano group, and the like. These groups may be further substituted, and examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, a halogenated alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a cyano group, and a hydroxyl group. , Carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group, anilino group, acylamino group, aminocarbonylamino group , Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, Alkyl and arylsulfonyl groups, alkyl and arylsulfonyl groups, acyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, aryl and heterocyclic azo groups, imide groups, silyl groups, hydrazino groups, ureido groups, boronic acid groups, Examples thereof include a phosphato group, a sulfato group, and other known substituents.
R1〜R7として好ましくは水素原子または脂肪族基(アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキニル基など)であり、より好ましくは水素原子またはアルキル基またはシクロアルキル基である。好ましいアルキル基としては例えば、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−へプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基などの直鎖状のアルキル基、イソブチル基、イソプロピル基、イソペンチル基、2−メチルブチル基、2,2−ジメチルプロピル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、3−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、2−プロピルペンチル基、sec−ブチル基、sec−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−エチルプロピル基、sec−ヘキシル基、1,3−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、sec−ヘプチル基、sec−オクチル基、tert−ブチル基、tertペンチル基、1,1−ジエチルプロピル基、1,1−ジメチルペンチル基等の分岐状のアルキル基が挙げられ、好ましいシクロアルキル基としてはシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチル−1−シクロヘプチル基、1−メチル−1−シクロヘキシル基などが挙げられる。 R 1 to R 7 are preferably a hydrogen atom or an aliphatic group (an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkynyl group, etc.), and more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or a cyclo group. It is an alkyl group. Preferred alkyl groups include, for example, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group. , N-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, etc. Alkyl group, isobutyl group, isopropyl group, isopentyl group, 2-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 2-ethylbutyl group, 3 , 3-dimethylbutyl group, 3-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, -Propylpentyl group, sec-butyl group, sec-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-ethylpropyl group, sec-hexyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, Examples include a branched alkyl group such as a sec-heptyl group, a sec-octyl group, a tert-butyl group, a tert pentyl group, a 1,1-diethylpropyl group, and a 1,1-dimethylpentyl group. Preferred cycloalkyl groups Includes a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, a 1-methyl-1-cycloheptyl group, a 1-methyl-1-cyclohexyl group, and the like.
R10として好ましくは三級アルキル基であり、例えばt−ブチル基、t−ペンチル基、t−ヘキシル基、t−ヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基等が挙げられ、t−ブチル基またはt−ペンチル基であることがより好ましい。 R 10 is preferably a tertiary alkyl group, and examples thereof include a t-butyl group, a t-pentyl group, a t-hexyl group, a t-heptyl group, a 1-methylcyclohexyl group, and the like. A pentyl group is more preferable.
R8およびR9は置換されていても良いアルキル基であり、アルキル基としては、例えば上述のR1〜R7として挙げたアルキル基の他、2−オクチルドデシル基、2−デシルテトラデシル基が挙げられ、これらに置換可能な置換基としては例えば、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。R8およびR9は無置換であることが好ましい。 R 8 and R 9 are alkyl groups which may be substituted, and examples of the alkyl group include 2-octyldodecyl group and 2-decyltetradecyl group in addition to the alkyl groups exemplified as R 1 to R 7 described above. Examples of substituents that can be substituted for these include halogen atoms, alkyl groups, cycloalkyl groups, halogenated alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, cyano groups, hydroxyl groups, carboxyls Group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group, anilino group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxy Carbonylamino group, aryloxycarboni Amino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group, acyl group , Aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl and heterocyclic azo group, imide group, silyl group, hydrazino group, ureido group, boronic acid group, phosphato group, sulfato group, and other known substituents It is done. R 8 and R 9 are preferably unsubstituted.
R8およびR9は同一であっても異なっていても良いが、同一であることが好ましい。 R 8 and R 9 may be the same or different, but are preferably the same.
またR8およびR9は、一般式(1)中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐していない基であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。 R 8 and R 9 are preferably a group that is not branched on the carbon atom located at the α-position of the oxygen atom in the general formula (1), and more preferably a straight chain.
一般式(1)中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐していない基を詳細に説明すると、例えば下記(A)、(C)、(D)に表されるような基が、一般式(1)中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐していない基であり、(B)が一般式(1)中の酸素原子のα位に位置する炭素原子上で分岐している基である。 The group not branched on the carbon atom located at the α-position of the oxygen atom in the general formula (1) will be described in detail. For example, groups represented by the following (A), (C), (D) Is a group not branched on the carbon atom located at the α-position of the oxygen atom in the general formula (1), and (B) is a carbon atom located at the α-position of the oxygen atom in the general formula (1) This is a branched group.
R8およびR9はその炭素原子数がそれぞれ1〜20であることが好ましく、1〜9であることがより好ましく、3〜7であることが最も好ましい。 R 8 and R 9 each preferably have 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 9, and most preferably 3 to 7.
本発明の活性光線硬化型組成物において、一般式(1)で表される化合物として具体的には特願2006−169815号に記載の一般式(1)で表される化合物として列挙された化合物、SBW−016(b9643)に記載の一般式(1)で表される化合物として列挙された化合物を使用することが出来るが、本発明はこれらに限定されない。 In the actinic ray curable composition of the present invention, the compounds represented by the general formula (1) are specifically listed as compounds represented by the general formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2006-169815. The compounds listed as compounds represented by the general formula (1) described in SBW-016 (b9643) can be used, but the present invention is not limited thereto.
本発明の一般式(1)で表される化合物の添加量に特に制限はないが、活性光線硬化型組成物100質量部に対し、0.01質量部から30質量部の範囲内であることが好ましく、0.1質量部から10質量部の範囲内であることがより好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular in the addition amount of the compound represented by General formula (1) of this invention, It exists in the range of 0.01 mass part to 30 mass parts with respect to 100 mass parts of actinic-light curable compositions. Is preferable, and it is more preferable to be within the range of 0.1 to 10 parts by mass.
顔料/その他の添加剤
本発明の活性光線硬化型組成物には、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。
Pigment / Other Additives In addition to the components described above, various additives can be used in the actinic ray curable composition of the present invention.
本発明の活性光線硬化型組成物を活性光線硬化型の活性光線硬化型インク組成物、該活性光線硬化型インク組成物を用いたインクジェットインク(以下、単にインクともいう)として用いる場合に使用することのできる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる様々な色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。 It is used when the actinic ray curable composition of the present invention is used as an actinic ray curable actinic ray curable ink composition or an inkjet ink (hereinafter also simply referred to as ink) using the actinic ray curable ink composition. As the coloring material that can be used, various coloring materials that can be dissolved or dispersed in the main component of the polymerizable compound can be used, but pigments are preferable from the viewpoint of weather resistance.
本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。 The pigments that can be preferably used in the present invention are listed below.
C.I.Pigment Yellow−1、3、12、13、14、17、81、83、87、95、109、42、
C.I.Pigment Orange−16、36、38、
C.I.Pigment Red−5、22、38、48:1、48:2、48:4、49:1、53:1、57:1、63:1、144、146、185、101、
C.I.Pigment Violet−19、23、
C.I.Pigment Blue−15:1、15:3、15:4、18、60、27、29、
C.I.Pigment Green−7、36、
C.I.Pigment White−6、18、21、
C.I.Pigment Black−7、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。
C. I. Pigment Yellow-1, 3, 12, 13, 14, 17, 81, 83, 87, 95, 109, 42,
C. I. Pigment Orange-16, 36, 38,
C. I. Pigment Red-5, 22, 38, 48: 1, 48: 2, 48: 4, 49: 1, 53: 1, 57: 1, 63: 1, 144, 146, 185, 101,
C. I. Pigment Violet-19, 23,
C. I. Pigment Blue-15: 1, 15: 3, 15: 4, 18, 60, 27, 29,
C. I. Pigment Green-7, 36,
C. I. Pigment White-6, 18, 21,
C. I. Pigment Black-7,
For the dispersion of the pigment, for example, a ball mill, sand mill, attritor, roll mill, agitator, Henschel mixer, colloid mill, ultrasonic homogenizer, pearl mill, wet jet mill, paint shaker, or the like can be used.
また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。 It is also possible to add a dispersant when dispersing the pigment.
分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはAvecia社のSolsperseシリーズが挙げられる。 As the dispersant, a polymer dispersant is preferably used, and examples of the polymer dispersant include Solsperse series manufactured by Avecia.
また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。 Moreover, it is also possible to use a synergist according to various pigments as a dispersion aid.
これらの分散剤および分散助剤は、顔料100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。 These dispersants and dispersion aids are preferably added in an amount of 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明の活性光線硬化型インク組成物では、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。 The dispersion medium is used using a solvent or a polymerizable compound. However, the actinic ray curable ink composition of the present invention is preferably solvent-free because it reacts and cures immediately after ink landing.
溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のVOCの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。 If the solvent remains in the cured image, the solvent resistance deteriorates and the VOC of the remaining solvent arises. Therefore, it is preferable in view of dispersibility that the dispersion medium is not a solvent but a polymerizable compound, and among them, a monomer having the lowest viscosity is selected.
顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を0.08〜0.5μmとすることが好ましく、最大粒径は0.3〜10μm、好ましくは0.3〜3μmとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。 The pigment is preferably dispersed so that the average particle diameter of the pigment particles is 0.08 to 0.5 μm, and the maximum particle diameter is 0.3 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm. The selection of the dispersion medium, the dispersion conditions, and the filtration conditions are appropriately set.
この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、活性光線硬化型インク組成物の保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。 By controlling the particle size, clogging of the head nozzle can be suppressed, and the storage stability, ink transparency, and curing sensitivity of the actinic ray curable ink composition can be maintained.
本発明のインクジェットインクにおいては、色材濃度として、活性光線硬化型インク組成物100質量部に対して1質量部〜10質量部であることが好ましい。 In the inkjet ink of the present invention, the colorant concentration is preferably 1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the actinic ray curable ink composition.
本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。 In the present invention, a thermal base generator can also be used for the purpose of improving ejection stability and storage stability.
熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。 Examples of the thermal base generator include compounds that release amines by decomposition by reactions such as organic acid and base salts that are decomposed by decarboxylation by heating, intramolecular nucleophilic substitution reaction, Rossen rearrangement, Beckmann rearrangement, etc. Those which cause some kind of reaction by heating and release a base are preferably used.
具体的には、英国特許第998,949号記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第4,060,420号に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭59−157637号に記載のプロピール酸類の塩、2−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭59−168440号に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭59−180537号に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−195237号に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。 Specifically, the salt of trichloroacetic acid described in British Patent No. 998,949, the salt of alpha-sulfonylacetic acid described in US Pat. No. 4,060,420, and the propionic acids described in JP-A-59-157737 Salts, 2-carboxycarboxamide derivatives, salts with a base component described in JP-A-59-168440 and a thermally decomposable acid using an alkali metal or an alkaline earth metal in addition to an organic base, JP-A-59-180537 Hydroxam carbamates utilizing the Lossen rearrangement described in No. 5, and aldoxime carbamates described in JP-A No. 59-195237 that generate nitriles by heating.
その他、英国特許第998,945号、米国特許第3,220,846号、英国特許第279,480号、特開昭50−22625号、同61−32844号、同61−51139号、同61−52638号、同61−51140号、同61−53634号〜同61−53640号、同61−55644号、同61−55645号等に記載の熱塩基発生剤が有用である。 In addition, British Patent No. 998,945, US Pat. No. 3,220,846, British Patent No. 279,480, Japanese Patent Laid-Open Nos. 50-22625, 61-32844, 61-51139, 61 The thermal base generators described in Nos. -52638, 61-51140, 61-53634 to 61-53640, 61-55644, 61-55645 and the like are useful.
更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、p−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、p−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。 More specifically, guanidine trichloroacetate, methylguanidine trichloroacetate, potassium trichloroacetate, guanidine phenylsulfonylacetate, guanidine p-chlorophenylsulfonylacetate, guanidine p-methanesulfonylphenylsulfonylacetate, potassium phenylpropiolate, phenylpropiool Examples include acid guanidine, cesium phenylpropiolate, guanidine p-chlorophenylpropiolate, guanidine p-phenylene-bis-phenylpropiolate, tetramethylammonium phenylsulfonylacetate, and tetramethylammonium phenylpropiolate. The thermal base generator can be used in a wide range.
本発明の活性光線硬化型インク組成物は、特開平8−248561号、同9−34106号をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。 The actinic ray curable ink composition of the present invention is an acid that newly generates an acid by an acid generated by actinic ray irradiation that has already been known, such as those disclosed in JP-A-8-248561 and 9-34106. It is also possible to contain a proliferating agent.
本発明の活性光線硬化型インク組成物は、活性光線硬化型組成物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径3μm以下、更には1μm以下のフィルターにて濾過することが好ましい。 The actinic ray curable ink composition of the present invention is produced by well dispersing the pigment together with an actinic ray curable composition and a pigment dispersant using an ordinary dispersing machine such as a sand mill. It is preferable to prepare a concentrated solution having a high pigment concentration in advance and dilute with an active energy ray-curable compound. Sufficient dispersion is possible even with dispersion by a normal disperser, so it does not take excessive dispersion energy and does not require a great amount of dispersion time. Ink excellent in the quality is prepared. The ink is preferably filtered through a filter having a pore diameter of 3 μm or less, more preferably 1 μm or less.
本発明の活性光線硬化組成物は、その用途により所望の物性を付与するように粘度等を調整して用いればよい。本発明の活性光線硬化組成物を活性光線硬化型インクや活性光線硬化型インクを用いたインクジェットインクとして用いる場合、25℃での粘度が7〜40mPa・sと高めに調整することが好ましい。25℃での粘度が7〜40mPa・sのインクは、特に通常の4〜10kHzの周波数を有するヘッドから、10〜50kHzの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。 The actinic ray curable composition of the present invention may be used after adjusting the viscosity or the like so as to impart desired physical properties depending on the application. When the actinic ray curable composition of the present invention is used as an actinic ray curable ink or an inkjet ink using an actinic ray curable ink, it is preferable to adjust the viscosity at 25 ° C. to a high level of 7 to 40 mPa · s. An ink having a viscosity of 7 to 40 mPa · s at 25 ° C. exhibits stable ejection characteristics even from a normal head having a frequency of 4 to 10 kHz to a high frequency head of 10 to 50 kHz.
本発明のインクの粘度が上記の範囲であると、吐出の追随性の低下がなく、吐出の安定性に優れている。 When the viscosity of the ink of the present invention is in the above range, there is no decrease in the followability of the discharge, and the discharge stability is excellent.
また、本発明のインクジェットインクは、ピエゾヘッドにおいては、10μS/cm以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。 In addition, the ink-jet ink of the present invention preferably has an electrical conductivity of 10 μS / cm or less and no electrical corrosion inside the head in the piezo head.
また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、0.5mS/cm以上の電導度に調整する必要がある。 Further, in the continuous type, it is necessary to adjust the electric conductivity by the electrolyte. In this case, it is necessary to adjust the electric conductivity to 0.5 mS / cm or more.
本発明においては、インクの25℃における表面張力が、25〜40mN/mの範囲にあることが好ましい。 In the present invention, the surface tension of the ink at 25 ° C. is preferably in the range of 25 to 40 mN / m.
25℃におけるインクの表面張力が上記の範囲にあれば、安定した出射が得られ、所望のドット径を得ることができる。 If the surface tension of the ink at 25 ° C. is in the above range, stable emission can be obtained and a desired dot diameter can be obtained.
表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。 In order to adjust the surface tension, a surfactant may be contained as necessary.
本発明に係るインクに好ましく使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。 Examples of the surfactant preferably used in the ink according to the present invention include anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, and fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, and polyoxyethylene alkyl. Nonionic surfactants such as allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts, and surfactants having a polymerizable group Compound etc. are mentioned.
これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。 Of these, particularly preferred are surface active compounds having a polymerizable group such as an unsaturated bond, oxirane, or oxetane ring, such as silicone-modified acrylate, fluorine-modified acrylate, silicone-modified epoxy, fluorine-modified epoxy, silicone-modified oxetane, and fluorine-modified oxetane. .
本発明の活性光線硬化型組成物には、上記説明した構成要素の他に各種の添加剤を用いることができる。 In addition to the above-described constituent elements, various additives can be used in the actinic ray curable composition of the present invention.
例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。 For example, leveling additives, matting agents, polyester resins for adjusting film properties, polyurethane resins, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins, and waxes can be added. In order to improve the adhesion with the recording medium, it is also effective to add a trace amount of organic solvent.
この場合、耐溶剤性やVOCの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は0.1〜5%の範囲であり、好ましくは0.1〜3%である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。 In this case, it is effective to add in the range where the solvent resistance and VOC problems do not occur, and the amount used is in the range of 0.1 to 5%, preferably 0.1 to 3%. It is also possible to combine a radically polymerizable monomer and an initiator into a radical / cation hybrid type curable ink.
本発明の画像形成方法においては、活性光線硬化型インク組成物をインクジェット記録方式により記録材料上に吐出、描画し、次いで紫外線などの活性光線を照射してインクを硬化させる。 In the image forming method of the present invention, the actinic ray curable ink composition is ejected and drawn on a recording material by an ink jet recording method, and then the ink is cured by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays.
本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては35〜100℃、35〜80℃、好ましくは35〜60℃である。 In the image forming method of the present invention, it is preferable that the ink is heated together with the ink jet nozzles during ink ejection so that the ink liquid has a low viscosity. As heating temperature, it is 35-100 degreeC, 35-80 degreeC, Preferably it is 35-60 degreeC.
本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が2〜20μmであることが好ましい。 In the present invention, the total ink film thickness after the ink has landed and cured by irradiation with actinic rays is preferably 2 to 20 μm.
スクリーン印刷分野の活性光線硬化型インクジェッ記録では、総インク膜厚が20μmを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。 In the actinic ray curable ink jet recording in the screen printing field, the total ink film thickness currently exceeds 20 μm, but in the flexible packaging printing field where the recording material is often a thin plastic material, the recording material described above is used. Not only because of curling and wrinkling problems, but also because it has the problem of changing the texture and texture of the entire printed matter.
また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が2〜15plであることが好ましい。 Moreover, in this invention, it is preferable that the amount of droplets discharged from each nozzle is 2 to 15 pl.
本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。 In the present invention, in order to form a high-definition image, it is preferable that the irradiation timing is as early as possible. However, in the present invention, light irradiation is started at a timing at which the viscosity or moisture content of the ink is in a preferable state. Is preferred.
詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後0.001〜1.0秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは0.001〜0.4秒である。また、0.1〜3秒後、好ましくは0.2〜1秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行った後、終了させることが好ましい。 Specifically, as the irradiation condition of the generated light, actinic light irradiation is preferably started within 0.001 to 1.0 seconds after ink landing, and more preferably 0.001 to 0.4 seconds. Further, it is preferable to terminate the light irradiation after 0.1 to 3 seconds, preferably within 0.2 to 1 second, until the ink fluidity is lost.
上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。 By setting it as the above condition, enlargement of the dot diameter and bleeding between the dots can be prevented.
本発明においては、活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭60−132767号に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。 In the present invention, the basic method of actinic ray irradiation is disclosed in JP-A-60-132767. According to this, the light source is provided on both sides of the recording head unit, and the recording head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is performed after a certain period of time after ink landing.
更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第6,145,979号では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。 Further, the curing is completed by another light source that is not driven. In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method of applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of a recording head unit and irradiating the recording unit with UV light is disclosed. ing. Any of these irradiation methods can be used in the image forming method of the present invention.
また、活性光線を照射を2段階に分け、まずインク着弾後0.001〜1.0秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。 In addition, irradiation with actinic rays is divided into two stages. First, actinic rays are irradiated by the above-described method within 0.001 to 1.0 seconds after ink landing, and further, actinic rays are irradiated after all printing is completed. The method is also a preferred embodiment. By dividing the irradiation of actinic rays into two stages, it is possible to further suppress the shrinkage of the recording material that occurs during ink curing.
活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極UVランプ、低圧水銀ランプ、UVレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、LEDなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。 Examples of light sources used in actinic ray irradiation include mercury arc lamps, xenon arc lamps, fluorescent lamps, carbon arc lamps, tungsten-halogen copying lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, electrodeless UV lamps, low pressure mercury lamps, and UV lasers. , Xenon flash lamps, insect traps, black lights, germicidal lamps, cold cathode tubes, LEDs, and the like, but are not limited to these, and among these, fluorescent tubes are preferred because of their low energy and low cost.
光源波長としては250〜370nm、好ましくには270〜320nmに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、1〜3000mW/cm2、好ましくは1〜200mW/cm2である。また、電子線により硬化させる場合には、通常300eVの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、1〜5Mradの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。 A light source having a light emission wavelength peak at 250 to 370 nm, preferably 270 to 320 nm is preferable in terms of sensitivity. The illuminance is 1 to 3000 mW / cm 2 , preferably 1 to 200 mW / cm 2 . In addition, in the case of curing with an electron beam, the curing is usually performed with an electron beam having an energy of 300 eV or less, but it is also possible to cure instantaneously with an irradiation amount of 1 to 5 Mrad.
本発明のインクジェット用のインクを用いて、被記録媒体(基材ともいう)への画像印字を行うが、被記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。 The ink jet ink of the present invention is used to print an image on a recording medium (also referred to as a base material). As the recording medium, all of a wide range of conventional synthetic resins used in various applications are used. Specific examples include polyester, polyvinyl chloride, polyethylene, polyurethane, polypropylene, acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyethylene terephthalate, polybutadiene terephthalate, and the like. The thickness and shape of the synthetic resin substrate are not limited at all.
本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。 As a base material that can be used in the present invention, a non-absorbent support can be used in addition to normal uncoated paper, coated paper, etc. Among them, a non-absorbent support is used as the base material. It is preferable.
本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルム、PEフィル、TACフィルムを挙げることができる。 In the present invention, various non-absorbing plastics and films thereof can be used as the non-absorbing support. Examples of the various plastic films include PET film, OPS film, OPP film, ONy film, and PVC film. , PE fill and TAC film.
その他のプラスチック基材としては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、PVA、ゴム類などが使用できる。また、金属類や、ガラス類にも適用可である。 As other plastic substrates, polycarbonate, acrylic resin, ABS, polyacetal, PVA, rubbers and the like can be used. It can also be applied to metals and glasses.
これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材は、インク組成物の硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。 Among these recording materials, the structure of the present invention is effective particularly when an image is formed on a PET film, an OPS film, an OPP film, an ONy film, or a PVC film that can be shrunk by heat. These substrates are not only susceptible to curling and deformation of the film due to curing shrinkage of the ink composition and heat generation during the curing reaction, but also the ink film is difficult to follow the shrinkage of the substrate.
これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。 The surface energies of these various plastic films differ greatly, and it has been a problem in the past that the dot diameter after ink landing varies depending on the recording material.
本発明の構成では、表面エネルギーの低いOPPフィルム、OPSフィルムや表面エネルギーの比較的大きいPETまでを含むが、基材として、濡れ指数が40〜60mN/mであることが好ましい。 The constitution of the present invention includes an OPP film having a low surface energy, an OPS film, and a PET having a relatively large surface energy, but the substrate preferably has a wetting index of 40 to 60 mN / m.
本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作成効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺(ウェブ)な記録材料を使用する方が有利である。 In the present invention, it is advantageous to use a long (web) recording material in terms of the cost of recording materials such as packaging and production costs, the efficiency of print production, and the ability to handle various sizes of prints. is there.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to these.
実施例1
一般式(S)で表される化合物、比較化合物、カチオン重合性化合物、増感剤を表1の通りに混合し、活性光線硬化型組成物1〜49を調製した。実施例に使用した化合物を以下に示す。
Example 1
A compound represented by general formula (S), a comparative compound, a cationic polymerizable compound, and a sensitizer were mixed as shown in Table 1 to prepare actinic ray curable compositions 1 to 49. The compounds used in the examples are shown below.
〈重合性化合物1〉
セロキサイド2021P:ダイセル化学工業社製
セロキサイド3000:ダイセル化学工業社製
〈重合性化合物2〉
OXT−101:東亞合成社製
OXT−212:東亞合成社製
OXT−221:東亞合成社製
得られた活性光線硬化型組成物1〜49を用いて、以下の通りに硬化試験を行い、評価結果を表3、4に示した。
<Polymerizable compound 1>
Celoxide 2021P: manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Celoxide 3000: manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. <polymerizable compound 2>
OXT-101: manufactured by Toagosei Co., Ltd. OXT-212: manufactured by Toagosei Co., Ltd. OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd. Using the obtained actinic ray curable compositions 1 to 49, a curing test was conducted as follows and evaluated. The results are shown in Tables 3 and 4.
(活性光線硬化型組成物の硬化)
表1、2の活性光線硬化型組成物をPETフィルムに厚さ3μmとなる様に塗布し、基材を40℃に加熱している状態で、120W/cmのメタルハライドランプ(日本電池社製MAL400NL 3kW電源)を光源として用いて、1秒以内で照射した。
(Curing of actinic ray curable composition)
The actinic ray curable compositions shown in Tables 1 and 2 were applied to a PET film to a thickness of 3 μm, and the substrate was heated to 40 ° C., and a 120 W / cm metal halide lamp (MAL400NL manufactured by Nippon Battery Co., Ltd.) was used. Irradiation was performed within 1 second using a 3 kW power source as a light source.
この実験をフィルターなし条件あるいはフィルターありの条件で行った。 This experiment was performed under no filter conditions or with filter conditions.
フィルターあり条件:厚さ1.5mmのパイレックス(登録商標)ガラス板をフィルターとして光源に取り付け、300nm以下の波長の光をほぼカットした。 Conditions with filter: A Pyrex (registered trademark) glass plate having a thickness of 1.5 mm was attached to the light source as a filter, and light with a wavelength of 300 nm or less was substantially cut.
光源距離はそれぞれ10cm、5cm、3cmとした。 The light source distances were 10 cm, 5 cm, and 3 cm, respectively.
(硬化性の評価)
活性光線照射から5分経過した後、硬化物表面をキムワイプで強く擦過し、目視観察した。
(Evaluation of curability)
After 5 minutes from irradiation with actinic light, the surface of the cured product was strongly rubbed with Kimwipe and visually observed.
◎:10cmで充分に硬化している(キムワイプに硬化物成分がつかない)もの
○:10cmでは充分に硬化しないが5cmで充分に硬化するもの
△:5cmでも充分に硬化しないが3cmで充分に硬化するもの
×:3cmでも充分に硬化しないもの
◎、○、△が実用上問題ないレベルである。
◎: Cured sufficiently at 10 cm (Kimwipe does not have a cured product component) ○: Not cured sufficiently at 10 cm, but cured sufficiently at 5 cm △: Not cured sufficiently at 5 cm, but sufficient at 3 cm Curing ×: Thing that does not cure sufficiently even at 3 cm ◎, ○, Δ are at a level where there is no practical problem.
(保存安定性の評価)
<ゲル状物の発生>
表1、2の活性光線硬化型組成物を密閉ガラス容器に封入し、50℃で1週間保存して、容器内を目視観察した。
(Evaluation of storage stability)
<Generation of gel-like material>
The actinic ray curable compositions of Tables 1 and 2 were sealed in a sealed glass container, stored at 50 ° C. for 1 week, and the inside of the container was visually observed.
◎:ゲル状物の発生が全く見られないもの
○:ゲル状物の発生がほとんど見られないもの
△:微細なゲル状物の発生が見られるもの
×:ゲル状物の発生が顕著に見られるもの
◎、○が実用上問題ないレベルである。
◎: No occurrence of gel-like product ○: No occurrence of gel-like product △: Appearance of fine gel-like product ×: Significant generation of gel-like product What is ◎, ○ is a level that is not a problem in practice.
[硬化物の評価]
光源距離を2cmに設定した以外は上述の硬化試験と同様の条件で活性光線を照射して硬化させた硬化物を用い、物性および保存安定性を評価した。
[Evaluation of cured product]
The physical properties and storage stability were evaluated using a cured product that was cured by irradiation with actinic rays under the same conditions as in the above-described curing test except that the light source distance was set to 2 cm.
(基材密着性の評価)
硬化物2cm×1cm角の範囲にセロテープ(登録商標)を貼りつけて強く圧着し、硬化物面と垂直に素早く剥離して、その後の硬化物の状態を目視観察した。
(Evaluation of substrate adhesion)
Cello tape (registered trademark) was applied in the range of 2 cm × 1 cm square of the cured product and strongly pressed, peeled off perpendicularly to the surface of the cured product, and the state of the subsequent cured product was visually observed.
◎:硬化物が基材から全く剥がれないもの
○:一部に剥がれの見られるもの
×:大部分が剥がれるもの
◎、○が実用上問題ないレベルである。
A: The cured product is not peeled off from the substrate at all. ○: A part is peeled off. X: Most part is peeled off.
(保存安定性の評価)
硬化物を70℃で4日間保存したのち、硬化物の臭いを嗅ぎ、以下の要領で評価した。
(Evaluation of storage stability)
After the cured product was stored at 70 ° C. for 4 days, the cured product was smelled and evaluated in the following manner.
<臭気>
◎:全く臭気のないもの
○:臭気をわずかに感じるもの
×:明らかに臭気のあるもの
◎、○が実用上問題のないレベルである。
<Odor>
◎: No odor ○: Slight odor ×: Obvious odor ◎ and ○ are practically no problem level.
表3、4から明らかなように本発明の活性光線硬化型組成物は、硬化性、組成物の保存安定性および硬化物の基材密着性、硬化物の保存安定性が極めて良好であることがわかる。 As is apparent from Tables 3 and 4, the actinic ray curable composition of the present invention has extremely good curability, storage stability of the composition, adhesion of the cured product to the substrate, and storage stability of the cured product. I understand.
実施例2
《インク組成》
分散剤(PB822味の素ファインテクノ社製)を5質量部と、表3に記載の各活性光線硬化型組成物をステンレスビーカーに入れ、65℃のホットプレート上で加熱しながら1時間かけて撹拌、混合して溶解させた。
Example 2
<Ink composition>
5 parts by mass of a dispersant (PB822 Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) and each actinic ray curable composition described in Table 3 were put into a stainless beaker and stirred for 1 hour while heating on a 65 ° C. hot plate. Mix and dissolve.
次いで、この溶液に下記各種顔料を3質量部添加した後、直径1mmのジルコニアビーズ200gと共にポリ瓶に入れ密栓し、ペイントシェーカーにて2時間分散処理を行った。 Next, after adding 3 parts by mass of the following various pigments to this solution, it was sealed in a plastic bottle together with 200 g of zirconia beads having a diameter of 1 mm, and subjected to dispersion treatment for 2 hours using a paint shaker.
次いで、ジルコニアビーズを取り除き、各光酸発生剤、各光重合開始剤、塩基性化合物、界面活性剤等の各種添加剤を表3に記載の組み合わせで添加し、これをプリンター目詰まり防止のため0.8μmメンブランフィルターで濾過してインク組成物を調製した。 Next, the zirconia beads are removed, and various additives such as photoacid generators, photopolymerization initiators, basic compounds, and surfactants are added in combinations shown in Table 3 to prevent printer clogging. An ink composition was prepared by filtration through a 0.8 μm membrane filter.
以上の操作をK、C、Y、M、Wの各色について行い、インク組成物セット101〜141を調製した。 The above operation was performed for each color of K, C, Y, M, and W to prepare ink composition sets 101 to 141.
尚、顔料は下記を使用した。 The following pigments were used.
K:C.I.Pigment Black−7
C:C.I.Pigment Blue−15:3
M:C.I.Pigment Red−57:1
Y:C.I.Pigment Yellow−13
W:酸化チタン(アナターゼ型:粒径0.2μm)
K: C.I. I. Pigment Black-7
C: C.I. I. Pigment Blue-15: 3
M: C.I. I. Pigment Red-57: 1
Y: C.I. I. Pigment Yellow-13
W: Titanium oxide (anatase type: particle size 0.2 μm)
使用した化合物を以下に示す。 The compounds used are shown below.
(塩基性化合物)
塩基性化合物A:N−エチルジエタノールアミン
(界面活性剤)
F1405:メガファックスF1405 パーフルオロアルキル基含有エチレンオキサイド付加物(大日本インキ化学工業社製)
(相溶化剤)
145P:ハリタック145P(ロジン変性マレイン酸樹脂(播磨化学社製))
《インクジェット画像形成方法》
画像形成方法A(フィルター無し)
ピエゾ型インクジェットノズルを備えたインクジェット記録装置に、上記調製した各インク組成物セット101〜138を装填し、巾600mm、長さ20mの長尺の記録材料(ユポコーポレーション社製合成紙ユポFGS)へ、下記の画像記録を連続して行った。
(Basic compound)
Basic compound A: N-ethyldiethanolamine (surfactant)
F1405: Megafax F1405 Perfluoroalkyl group-containing ethylene oxide adduct (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
(Compatibilizer)
145P: Halitac 145P (rosin-modified maleic resin (manufactured by Harima Chemical Co.))
<< Inkjet image forming method >>
Image forming method A (no filter)
Each of the ink composition sets 101 to 138 prepared above is loaded into an ink jet recording apparatus having a piezo ink jet nozzle, and the recording material is 600 mm wide and 20 m long (manufactured by YUPO Corporation, synthetic paper YUPO FGS). The following image recording was performed continuously.
インク供給系は、インクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク、フィルター付き配管、ピエゾヘッドからなり、前室タンクからヘッド部分まで断熱して50℃の加温を行った。 The ink supply system was composed of an ink tank, a supply pipe, a front chamber ink tank immediately before the head, a pipe with a filter, and a piezo head.
なお、各硬化組成物インクの粘度にあわせてヘッド部を加温し、2〜15plの液滴量のマルチサイズドットを720×720dpi(dpiとは1インチ、即ち2.54cm当たりのドット数を表す)の解像度で吐出できるよう駆動して、上記記載の硬化組成物インクを連続吐出した。 In addition, the head portion is heated according to the viscosity of each curable composition ink, and multi-size dots having a droplet amount of 2 to 15 pl are set to 720 × 720 dpi (where dpi is the number of dots per inch, that is, 2.54 cm). The cured composition ink described above was continuously ejected by being driven so as to be ejected at a resolution of (represented).
また、記録材料は面ヒーターにより50℃に加温した。 The recording material was heated to 50 ° C. by a surface heater.
着弾した後、キャリッジ両脇の照射光源(メタルハライドランプ)(日本電池社製MAL400NL電力=3kW・hr 120W/cm)により瞬時(着弾後0.5秒未満)に硬化させた。 After landing, it was cured instantaneously (less than 0.5 seconds after landing) with an irradiation light source (metal halide lamp) on both sides of the carriage (MAL400NL power = 3 kW · hr 120 W / cm, manufactured by Nippon Batteries Co., Ltd.).
画像記録後に、総インク膜厚を測定したところ、2.3〜13μmの範囲であった。 When the total ink film thickness was measured after image recording, it was in the range of 2.3 to 13 μm.
なお、インクジェット画像の形成は、上記方法に従って、30℃・80%RHと25℃・20%RHの環境下で印字を行った。 The inkjet image was formed by printing in an environment of 30 ° C./80% RH and 25 ° C./20% RH according to the above method.
なお、各照射光源の照度は、岩崎電機社製のUVPF−A1を用いて、254nmの積算照度を測定した。 In addition, the illumination intensity of each irradiation light source measured the integrated illumination intensity of 254 nm using UVPF-A1 by Iwasaki Electric Co., Ltd.
画像形成方法B(フィルター有)
露光時に1mm厚のパイレックス(登録商標)ガラス1枚をフィルター(300nm以下の波長はほぼカット)として使用した他は、画像形成方法Aと同様にして画像を形成した。
Image forming method B (with filter)
An image was formed in the same manner as in the image forming method A, except that one Pyrex (registered trademark) glass having a thickness of 1 mm was used as a filter (wavelength of 300 nm or less was substantially cut) during exposure.
〔インクジェット記録画像の評価〕
上記画像形成方法で記録した各画像について、下記の各評価を行った。
[Evaluation of inkjet recording image]
Each image recorded by the above image forming method was subjected to the following evaluations.
(文字品質)
目標濃度で6ポイントMS明朝体文字を印字し、文字のガサツキをルーペで拡大評価し、下記の基準に則り文字品質の評価を行った。
(Character quality)
A 6-point MS Mincho type character was printed at the target density, and the character roughness was magnified with a loupe, and the character quality was evaluated according to the following criteria.
◎:ガサツキなし
○:僅かにガサツキが見える
△:ガサツキが見えるが、文字として判別でき、ギリギリ使えるレベル
×:ガサツキがひどく、文字がかすれていて使えないレベル。
◎: No rusting ○: Slight rustling is visible △: Gashesiness is visible, but it can be recognized as characters and can be used at the last minute ×: Levels that are harsh and characters are faint and cannot be used.
(色混じり(滲み、皺))
720dpiで、Y、M、C、K、W各色1ドットが隣り合うように印字し、隣り合う各色ドットをルーペで拡大し、滲み及び皺の具合を目視観察し、下記の基準に則り色混じりの評価を行った。
(Mixed colors (bleeds, wrinkles))
Print at 720 dpi so that each dot of each color Y, M, C, K, W is adjacent to each other, enlarge each adjacent color dot with a loupe, visually observe the state of bleeding and wrinkles, and mix colors according to the following criteria Was evaluated.
◎:隣り合うドット形状が真円を保ち、滲みがない
○:隣り合うドット形状はほぼ真円を保ち、ほとんど滲みがない
△:隣り合うドットが少し滲んでいてドット形状が少しくずれているが、ギリギリ使えるレベル
×:隣り合うドットが滲んで混じりあっており、また、重なり部に皺の発生があり、使えないレベル。
◎: Adjacent dot shape keeps perfect circle and no blur ○: Adjacent dot shape keeps almost perfect circle and almost no blur △: Adjacent dots are slightly blurred and dot shape is slightly displaced , The level that can be used at the end ×: The level where the adjacent dots are blurred and mixed, and there is a wrinkle in the overlapping part, so it cannot be used.
(インク保存性の評価1)
作製したインク組成物を各色毎にそれぞれ密栓容器に入れ、暗所にて20℃で2ヶ月間保存した後、上述した方法と同様の画像形成および試験を行い,保存安定性を判断した。
(Evaluation of ink storage stability 1)
The prepared ink composition was placed in a sealed container for each color and stored in a dark place at 20 ° C. for 2 months, and then image formation and tests similar to those described above were performed to determine storage stability.
○:2ヶ月保存後も試験結果に大きな変動が無いもの
△:いずれかの試験において一つ以上の項目で大きな変動が見られたもの
×:インク粘度が増加し,画像形成ができなかったもの
○が実用上問題の無い保存安定性である。
○: No significant change in test results even after 2 months storage △: A large change was observed in one or more items in any test ×: Ink viscosity increased and image formation failed ○ is storage stability with no practical problem.
(インク保存性の評価2)
作製したインク組成物のうち、イエローインクをガラスサンプル管にいれて密封し、30℃で1週間保存した後、サンプル管内のゲル状物の発生を確認した。
(Evaluation of ink storage stability 2)
Among the prepared ink compositions, yellow ink was placed in a glass sample tube, sealed, and stored at 30 ° C. for 1 week, and then generation of a gel-like material in the sample tube was confirmed.
○:ゲル発生が確認されなかったもの
△:わずかにゲル発生が確認されたもの
×:明らかなゲル発生が確認されたもの
○が実用上問題の無いレベルである。
○: No gel generation was confirmed Δ: Slight gel generation was confirmed ×: Clear gel generation was confirmed ○ is a level having no practical problem.
(インク硬化膜の基材密着性の評価)
同一試料中で最も良く硬化したインク硬化膜を使用し、インク硬化膜の2cm×1cm角の範囲にセロテープ(登録商標)を貼りつけて強く圧着し、インク硬化膜面と垂直に素早く剥離して、その後のインク硬化膜の状態を目視観察した。この試験を5回繰り返した。
(Evaluation of substrate adhesion of ink cured film)
Use the best cured ink film in the same sample, apply cello tape (registered trademark) to the 2cm x 1cm square area of the ink cured film and press it firmly, and quickly peel off perpendicularly to the ink cured film surface. Thereafter, the state of the cured ink film was visually observed. This test was repeated 5 times.
◎:5度ともインク硬化膜が基材から全く剥がれなかったもの
○:1度だけ一部に剥がれの見られたもの
△:2度以上一部に剥がれの見られたもの、あるいは1度だけ大部分剥がれたもの
×:2度以上大部分が剥がれたもの
◎、○が実用上問題ないレベルである。
◎: The ink cured film was not peeled off from the substrate at all 5 degrees. ○: The peeling was partially observed only once. △: The peeling was partially observed twice or more, or only once. Mostly peeled off ×: Mostly peeled off more than 2 degrees ◎, ○ is a level that does not cause any practical problems.
(インク硬化膜保存安定性の評価)
同一試料中で最も良く硬化したインク硬化膜を使用し、インク硬化膜を50℃で5日間保存したのち、硬化物の臭いを嗅ぎ、以下の要領で評価した。
(Evaluation of ink cured film storage stability)
The most cured ink film in the same sample was used, and the cured ink film was stored at 50 ° C. for 5 days. The smell of the cured product was sniffed and evaluated in the following manner.
<臭気>
○:全く臭気のないもの
△:臭気をわずかに感じるもの
×:明らかに臭気のあるもの
○が実用上問題のないレベルである。
<Odor>
○: No odor △: Slight odor ×: Obvious odor ○ is a level that does not cause any practical problems.
表7〜10の結果より、本発明の試料は、高画質かつ高い基材密着性を有しており、インク保存安定性およびインク硬化膜の保存安定性に優れていることがわかる。 From the results of Tables 7 to 10, it can be seen that the sample of the present invention has high image quality and high substrate adhesion, and is excellent in ink storage stability and storage stability of the cured ink film.
Claims (12)
Lは2価の連結基であって、単結合又は下記の部分構造式群(B−1)
L is a divalent linking group, and is a single bond or the following partial structural formula group (B-1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007152458A JP2008303309A (en) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | Actinic light-curable composition, curing method, actinic light-curable ink composition and image forming method |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010241894A (en) * | 2009-04-02 | 2010-10-28 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | Actinic energy radiation curable ink-jet ink, ink-jet recording method and printed matter |
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2007
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