JP2008302306A - Coating device and method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布ヘッドに設けた圧電素子の駆動により、塗布ヘッド内の溶液をノズルから吐出して塗布する塗布装置及び方法に関する。 The present invention relates to an application apparatus and method for applying a solution by discharging a solution in an application head from a nozzle by driving a piezoelectric element provided on the application head.
液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハ等の基板に機能性薄膜を形成する成膜プロセスがある。このプロセスでは、塗布ヘッドに設けた圧電素子の駆動により、塗布ヘッド内の機能性薄膜を形成する溶液をノズルから吐出して基板の上面にこの溶液を塗布するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。 In a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, there is a film forming process for forming a functional thin film on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer. In this process, an inkjet type coating apparatus is used in which a solution for forming a functional thin film in the coating head is ejected from a nozzle and applied to the upper surface of the substrate by driving a piezoelectric element provided in the coating head. There is.
従来の塗布装置では、溶液内の溶質成分が固化する等により該溶液内に生じた粒子、又は溶液内に侵入した気泡等の異物がノズルの目つまりを生じさせることがある。これにより、圧電素子を駆動してもノズルから溶液が吐出されない吐出抜けや、ノズルから吐出された溶液がノズル面から垂直に吐出されないミスディレクションをひき起こすおそれがある。 In a conventional coating apparatus, particles generated in the solution due to solidification of a solute component in the solution, or foreign matters such as bubbles entering the solution may cause clogging of the nozzle. As a result, even if the piezoelectric element is driven, there is a risk of causing ejection omission in which no solution is ejected from the nozzle, or misdirection in which the solution ejected from the nozzle is not ejected vertically from the nozzle surface.
特許文献1には、ノズル内の気泡を、ノズル内に溶液を強制的に供給し、この溶液の流れの勢いで除去することが記載されている。
しかしながら、従来の方法では、ノズルに生じたしつこい目つまりを除去できない。 However, the conventional method cannot remove the persistent clogging generated in the nozzle.
本発明の課題は、ノズルに生じた目つまりを確実に除去することにある。 An object of the present invention is to reliably remove the clogs generated in the nozzle.
請求項1の発明は、塗布ヘッドに設けた圧電素子の駆動により、塗布ヘッド内の溶液をノズルから吐出して基板に塗布する塗布装置において、前記溶液の溶質を溶解する溶剤を収容する溶剤槽と、前記塗布ヘッドのノズル出口が開口しているノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子を駆動させ、ノズル内の異物を除去する制御装置を有するようにしたものである。 A first aspect of the present invention is a coating apparatus that discharges a solution in a coating head from a nozzle and applies it to a substrate by driving a piezoelectric element provided in the coating head, and a solvent tank that contains a solvent that dissolves the solute of the solution. And a control device that drives the piezoelectric element and removes foreign matter in the nozzle in a state where the nozzle surface where the nozzle outlet of the coating head is opened is immersed in the solvent in the solvent tank. .
請求項2の発明は、請求項1の発明において更に、前記制御装置は、塗布ヘッドのノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子を塗布段階の周波数よりも高い周波数で駆動するようにしたものである。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the control device drives the piezoelectric element at a frequency higher than the frequency of the coating stage in a state where the nozzle surface of the coating head is immersed in the solvent in the solvent tank. It is what you do.
請求項3の発明は、請求項1又は2の発明において更に、前記制御装置は、塗布ヘッドのノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させた後に、該塗布ヘッドのノズル面を該溶剤から離隔させる状態で、塗布ヘッド内の溶液をノズルから吐出させるようにしたものである。 According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, the control device further immerses the nozzle surface of the coating head in the solvent in the solvent tank, and then separates the nozzle surface of the coating head from the solvent. In this state, the solution in the coating head is ejected from the nozzle.
請求項4の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記ノズル内の異物を除去された塗布ヘッドのノズル面に摺接し、該ノズル面に付着している溶剤を拭き取る拭き取り手段を有するようにしたものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the present invention, the wiper is further in sliding contact with the nozzle surface of the coating head from which the foreign matter in the nozzle has been removed, and wipes off the solvent adhering to the nozzle surface. It has a means.
請求項5の発明は、塗布ヘッドに設けた圧電素子の駆動により、塗布ヘッド内の溶液をノズルから吐出して塗布する塗布方法において、塗布ヘッドのノズル出口が開口しているノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子を駆動し、ノズル内の異物を除去するようにしたものである。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a coating method in which a solution in the coating head is ejected from a nozzle by coating by driving a piezoelectric element provided in the coating head. In this state, the piezoelectric element is driven in a state of being immersed in the solvent, and foreign matter in the nozzle is removed.
請求項6の発明は、請求項5の発明において更に、前記塗布ヘッドのノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子を塗布段階の周波数よりも高い周波数で駆動するようにしたものである。 According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the invention, the piezoelectric element is driven at a frequency higher than the frequency of the coating stage in a state where the nozzle surface of the coating head is immersed in the solvent in the solvent tank. Is.
請求項7の発明は、請求項5又は6の発明において更に、前記塗布ヘッドのノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させた後に、該塗布ヘッドのノズル面を該溶剤から離隔させる状態で、塗布ヘッド内の溶液をノズルから吐出させるようにしたものである。
The invention of claim 7 is the state of the invention of
請求項8の発明は、請求項5〜7のいずれかの発明において更に、前記ノズル内の異物を除去された塗布ヘッドのノズル面に付着している溶剤を拭き取るようにしたものである。 According to an eighth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the fifth to seventh aspects, the solvent adhering to the nozzle surface of the coating head from which foreign matter in the nozzle has been removed is wiped off.
本発明によれば、ノズルに生じた目つまりを確実に除去し、基板に対する溶液の塗布を精度良く行なうことが可能となる。よって、溶液の塗布により基板上に薄膜を形成する場合には、その薄膜を均一に形成することができ、製品品質を向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to reliably remove the clogs generated in the nozzle and accurately apply the solution to the substrate. Therefore, when forming a thin film on a board | substrate by application | coating of a solution, the thin film can be formed uniformly and product quality can be improved.
図1は塗布装置を示す正面図、図2は図1の要部拡大図、図3は塗布ヘッドを示す断面図、図4は図3のIV−IV線に沿う断面図、図5は塗布ヘッドを溶剤に浸漬した状態を示す模式図、図6は塗布ヘッドから溶液を吐出する状態を示す模式図である。 1 is a front view showing a coating apparatus, FIG. 2 is an enlarged view of a main part of FIG. 1, FIG. 3 is a sectional view showing a coating head, FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG. FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a state in which the head is immersed in a solvent, and FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a state in which a solution is discharged from the coating head.
図1に示す塗布装置はほぼ直方体状のベース1を備えている。このベース1の下面の所定位置にはそれぞれ脚2が設けられており、これら脚2によって上記ベース1を水平に支持している。
The coating apparatus shown in FIG. 1 includes a substantially rectangular parallelepiped base 1.
上記ベース1の上面の幅方向両端部にはそれぞれ載置板3(一方のみ図示)が長手方向に沿って設けられている。これら載置板3の上面にはそれぞれ第1のレール部材4が長手方向に沿って設けられている。これら第1のレール部材4の上面には、テーブルとしての搬送テーブル5がその下面の幅方向両側に平行に設けられた一対の受け部材6をスライド可能に係合させて支持されている。つまり、搬送テーブル5は上記ベース1上で、上記第1のレール部材4に沿うX方向(搬送テーブル5の上面(水平面)に沿う一方向)に移動可能となっている。
Mount plates 3 (only one is shown) are provided along the longitudinal direction at both ends in the width direction of the upper surface of the base 1. A first rail member 4 is provided on each of the upper surfaces of the mounting plates 3 along the longitudinal direction. On the upper surface of these first rail members 4, a conveying table 5 as a table is supported by slidably engaging a pair of receiving
上記ベース1の長手方向一端には駆動手段としての第1のX駆動源7が設けられている。この第1のX駆動源7は、上記搬送テーブル5の下面に設けられたナット体(図示せず)に組み合わされたねじ軸7aを回転駆動する。
At one end in the longitudinal direction of the base 1, a first X drive source 7 as a drive means is provided. The first X drive source 7 rotationally drives a
それによって、上記搬送テーブル5は図1に矢印で示すX方向に沿って駆動されるようになっている。この搬送テーブル5の上面には、液晶表示装置に用いられるガラス製の基板Wが供給位置決めされている。尚、上記基板Wは、上記搬送テーブル5に真空吸着や静電吸着等の手段によって吸着保持される。 Accordingly, the transport table 5 is driven along the X direction indicated by an arrow in FIG. A glass substrate W used for the liquid crystal display device is supplied and positioned on the upper surface of the transfer table 5. The substrate W is held by suction on the transfer table 5 by means such as vacuum suction or electrostatic suction.
上記ベース1の長手方向中途部には上記一対のレール部材4を跨ぐ門型状の支持体8が立設されている。この支持体8の一側面の上部には取付け板9が上記ベース1の幅方向に沿って架設されている。この取付け板9には、インクジェット方式によって機能性薄膜である、例えば配向膜等を形成する溶液を液滴状に噴射する複数の塗布ヘッド12が上記X方向と交差するY方向(水平面に沿い、かつ上記一方向に直交する方向)に沿って配置されている。この実施の形態では、例えば3つ塗布ヘッド12が千鳥状に配置されている。
A gate-
図3と図4に示すように、上記塗布ヘッド12はヘッド本体18を備えている。ヘッド本体18は筒状に形成され、その下面開口は可撓板19によって閉塞されている。この可撓板19はノズルプレート21によって覆われており、このノズルプレート21と上記可撓板19との間には複数の液室22が形成されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the
各液室22は、ノズルプレート21内に形成された主管部21Aに枝管部21Bを介してそれぞれ連通していて、上記主管部21Aから上記枝管部21Bを介して溶液が各液室22に供給される。主管部21Aは、一端が後述する給液孔23に接続され、他端が後述する回収孔27に接続される。
Each
上記ヘッド本体18の長手方向一端部には上記液室22に連通する上記給液孔23が形成され、この給液孔23には開閉弁23Bを備えた給液管23A(図3参照)が接続されている。この給液孔23から上記液室22には機能性薄膜を形成する上記溶液が供給される。それによって、上記液室22内は溶液で満たされるようになっている。
The liquid supply hole 23 communicating with the
図4に示すように、上記ノズルプレート21には、基板Wの搬送方向に直交する方向である、Y方向に沿って複数のノズル24が穿設されている。各ノズル24は各液室22に連通している。上記可撓板19の上面には、図3に示すように上記各ノズル24にそれぞれ対向して複数の圧電素子25が設けられている。
As shown in FIG. 4, a plurality of
尚、基板Wを搬送テーブル5によってX方向に搬送する代わりに、塗布ヘッド12が設けられた支持体8をX方向に駆動するようにしても良い。
Instead of transporting the substrate W in the X direction by the transport table 5, the
各圧電素子25は上記ヘッド本体18内に設けられた駆動回路部(不図示)によって駆動電圧が供給される。それによって、圧電素子25は伸縮し、可撓板19を部分的に変形させるから、その圧電素子25に対向位置するノズル24から溶液が液滴となって吐出され、搬送される基板Wの上面に供給塗布される。従って、基板Wの上面には、液滴状の溶液が行列状に配列された塗布パターンが形成される。そして、この塗布パターンは、液滴状の各溶液が流動して濡れ広がることにより、付着し合って1つの膜となる。
Each
尚、圧電素子25に印加する電圧の強さを変えて圧電素子25の作動量を制御すれば、各圧電素子25が対向するノズル24からの溶液の吐出量、つまり液滴の大きさを変えることができる。
If the amount of voltage applied to the
上記ヘッド本体18の長手方向他端部には上記液室22に連通する上記回収孔27が形成され、この回収孔27には開閉弁27Bを備えた回収管27A(図5参照)が接続されている。上記給液孔23から液室22に供給された溶液は、上記回収孔27から回収することができるようになっている。即ち、各ヘッド12は上記液室22に供給された溶液をノズル24から吐出させるだけでなく、上記液室22を通じて上記回収孔27から回収することが可能となっている。
The
図2に示すように、上記搬送テーブル5の上記塗布ヘッド12側に位置する一端面の下端部には載置板31が水平に支持されている。この載置板31の上面にはY方向に所定間隔で離間した一対の第2のレール部材32(1つのみ図示)がX方向に沿って敷設されている。
As shown in FIG. 2, a mounting
上記第2のレール部材32にはX可動体33がX方向に沿って移動可能に設けられている。このX可動体33には軸線をX方向に沿って配置されたねじ軸34が組み合わされている。このねじ軸34は上記搬送テーブル5に形成された空間部5aに配置されたパルスモータ等の第2のX駆動源35によって回転駆動されるようになっている。それによって、上記X可動体33は上記載置板31上でX方向に沿って駆動されるようになっている。
An X movable body 33 is provided on the
上記X可動体33にはシリンダ等のZ駆動源36が軸線を垂直にして配置されている。このZ駆動源36の駆動軸36aには平板状のZ可動体37が設けられている。このZ可動体37は上記Z駆動源36によってZ方向である、上下方向に駆動されるようになっている。
尚、図2はZ駆動源36の駆動軸36aによってZ可動体37が後述するブレード39による塗布ヘッド12におけるノズル面12Aの払拭開始位置に位置付けられた状態を示している。
2 shows a state in which the Z
上記Z可動体37には収容槽38と溶剤槽51がX方向に沿って並設されている。収容槽38にはゴム等の弾性部材によって形成された平板状のブレード39が板面を垂直にするとともに上端部を突出させて設けられている。このブレード39はY方向に沿って配置された3つの塗布ヘッド12に対応する長さ寸法に設定されている。
The Z
そして、図2に示す如く、上記ブレード39の高さを、Z駆動源36によってその上部が塗布ヘッド12の下面に接触する高さに設定しておけば、搬送テーブル5を往復駆動することで、上記ブレード39が塗布ヘッド12の下面を通過したとき、その塗布ヘッド12の下面を擦ることで、その下面に付着した溶液を除去することができる。
As shown in FIG. 2, if the height of the
上記溶剤槽51は、ノズル内異物除去手段50を構成するものであり、塗布ヘッド12が吐出する溶液の溶質を溶解する溶剤を収容する。溶剤槽51は、千鳥配置された3つの塗布ヘッド12のノズル面12A(ノズルブレード21の下面であって、各ノズル24の出口が開口している面)を一度に浸漬させることができる大きさに形成されている。
The
上述の塗布装置は、第1のX駆動源7、駆動回路部、第2のX駆動源35、Z駆動源36等を駆動制御し、塗布装置の動作を統括制御する制御装置40を有する。
The above-described coating apparatus includes a
このように構成された塗布装置によれば、オペレータ等によりノズル内異物除去手段50の作動を選択する操作がなされた場合、制御装置が以下(1)〜(3)の動作を実行する。 According to the coating apparatus configured as described above, when an operation for selecting the operation of the foreign matter removing means 50 in the nozzle is performed by an operator or the like, the control apparatus performs the following operations (1) to (3).
(1)搬送テーブル5を塗布ヘッド12が設けられた支持体8から外れた位置で停止させたならば、第2のX駆動源35を作動させてX可動体33をX方向に駆動し、Z可動体37に設けられた溶剤槽51が塗布ヘッド12の下面に対向するよう位置決めする(図2に示す位置関係)。尚、溶剤槽51には溶剤Lが収容されている。次いで、Z駆動源36を作動させてZ可動体37とともに溶剤槽51を図5に示す如く、塗布ヘッド12のノズル面12Aが溶剤槽51内の溶剤Lに浸漬する位置まで上昇させる。この状態で、塗布ヘッド12の各圧電素子25を駆動回路部26によって、基板Wに対する溶液の塗布段階の周波数(例えば4kHz)よりも概ね4〜8倍の高周波(例えば15〜30kHz)で長時間(例えば10〜20分間)連続的に駆動させる。
(1) If the transport table 5 is stopped at a position away from the
このとき、塗布ヘッド12の給液管23Aに介装されている開閉弁23Bは開かれて塗布ヘッド12の液室22に溶液を供給可能とし、回収管27Aに介装されている開閉弁27Bは閉じられ、塗布ヘッド12は吐出可能状態に設定されている。
At this time, the on-off
これにより、圧電素子25が生成する、塗布段階よりも高周波の振動エネルギーが、溶液を媒体としてノズル24内に生じた異物(固化した溶質成分、塵、又は気泡等)に伝達され、この高周波振動の衝撃によってノズル24内の異物をノズル24の孔径以下に粉砕し、ノズル24の内面から隔離して溶剤槽51の側にはじき出して除去する。あるいは、塗布ヘッド12のノズル面12Aを溶剤槽51内の溶剤に図5に示すように所定の深さで浸漬させ、この状態で圧電素子25を駆動させると、溶液槽51内の溶剤Lの液面とノズル面12Aとの間の高低差によってノズル24先端に生じる溶剤Lの圧力と圧電素子25の駆動とによる揚水作用によって、ノズル24内に溶剤を吸い上げるから、この溶剤がノズル24内の異物を溶解したり、攪拌してノズル24内から除去する。このとき、塗布ヘッド12のノズル面12Aを溶剤槽51内の溶剤に浸漬させていて外気に臨ませていないから、圧電素子25を高周波で駆動させている間においてもノズル24内に外気を吸い上げることがなく、新たな気泡による目つまりを生ずることを防止できる。従って、ノズル24に生じた目つまりを迅速確実に除去できる。
As a result, vibration energy generated at a higher frequency than that in the coating stage generated by the
そして、塗布ヘッド12のノズル面12Aを溶剤槽51内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子25を塗布段階の周波数の4〜8倍の周波数で駆動することにより、ノズル内の異物を確実に粉砕できる。
Then, in the state where the
即ち、塗布段階の周波数の4〜8倍の周波数を用いた場合、異物を効果的に粉砕するに要する圧電素子25の振動による衝撃力を充分に得ることができ、かつ、塗布段階の周波数よりも高い周波数での駆動による圧電素子25の機械的負荷の増大を防止し、キャビテーションによる気泡の発生を抑制することができる。
That is, when a frequency of 4 to 8 times the frequency at the coating stage is used, a sufficient impact force due to vibration of the
尚、溶剤槽51には溶剤供給管51Aと溶剤排出管51Bが接続され、溶剤槽51の溶剤の液面高さを供給管51Aから供給される新規溶剤により常に一定の高さ(設定された高さ)に維持するとともに、ノズル24から除去された異物を含んで汚れた溶剤を排出管51Bにより例えば設定された時間間隔毎に排出する。
A
このようにすることで、塗布ヘッド12のノズル面12Aを確実に溶剤に浸漬させることができると共に、ノズル24内から除去された異物による溶剤槽51内の溶剤Lの汚染を防止できる。そのため、溶剤槽51内の溶剤Lを常に良好な状態に保つことができ、ノズル24の目つまりを安定して解消することができる。
By doing so, the
また、圧電素子25を高周波で駆動させている間、ノズル面12Aは溶剤槽51内の溶剤Lに浸漬されて塞がれた状態となっているから、溶剤Lがノズル24からの溶液の吐出抵抗となり、圧電素子25を高周波で駆動させた際、ノズル24内から溶液槽51内への溶剤の吐出が抑制される。そのため、機能性薄膜を形成する溶液の無駄な消費が抑制できる。
Further, while the
(2)次に、Z駆動源36を作動させてZ可動体37とともに溶剤槽51を下降させ、塗布ヘッド12のノズル面12Aを溶剤槽51内の溶剤Lから離隔させる。この状態で、図6に示す如く、塗布ヘッド12の各圧電素子25を駆動回路部26によって駆動し、基板Wに対する溶液の塗布段階の周波数(例えば4kHz)と概ね同じ周波数で各圧電素子25を駆動し、塗布ヘッド12内の溶液をノズル24から吐出させる。塗布ヘッド12は前述の吐出可能状態に設定されている。
(2) Next, the
これにより、前述(1)によりノズル24内面から隔離等された後に未だノズル24内に残存している異物をノズル24外に確実に追い出すことができる。また、前述(1)により溶剤槽51内の溶剤がノズル24内に吸い上げられた場合であっても、このことにより濃度変化したノズル24内の溶液を吐出し、溶液の給液管23Aから塗布ヘッド12に供給される新鮮な溶液と置換することができる。
As a result, the foreign matter still remaining in the
(3)次に、ブレード41を図2に示す払拭開始位置に位置付け、塗布ヘッド12を吐出停止状態に設定し、塗布ヘッド12のノズル面12Aにブレード41を摺接させる。塗布ヘッド12のノズル面12Aに付着している溶剤を拭き取る。
(3) Next, the blade 41 is positioned at the wiping start position shown in FIG. 2, the
これにより、溶剤槽51内の溶剤に浸漬されていた塗布ヘッド12のノズル面12Aに付着して残存していた溶剤を除去できるから、その後、基板Wに塗布される溶液に溶剤が混入することを防止できる。
Thus, the solvent remaining on the
尚、上述の実施の形態における(1)に示す動作において、全ての圧電素子25を同時に高周波で駆動させる例で説明したが、これに限らず、目つまりを生じたノズルに対応する圧電素子25のみ、或いは、目つまりを生じたノズルとそのノズルに近接して位置するいくつかのノズルに対応する圧電素子25のみを選択的に駆動させるようにしても良い。
In the operation shown in (1) in the above-described embodiment, the example in which all the
また、上述の(1)〜(3)に示す動作を、オペレータによる選択によって実行する例で説明したが、これに限らず、制御装置40による判定により実行させるようにしても良い。即ち、ノズル24からの溶液の不吐出を検出するための検出装置を設け、搬送テーブル5に対する基板Wの搬出・搬入を行なっている間に検出装置によって不吐出を生じたノズルの有無の検出を行ない、この結果、不吐出のノズルが有ると制御装置40が判定した場合に、上述の(1)〜(3)に示す動作を実行する。
Moreover, although the operation | movement shown to said (1)-(3) was demonstrated by the example performed by selection by an operator, you may make it perform not only by this but by the determination by the
また、上述の(2)の動作は、圧電素子25の駆動に代えて、給液管23A側から溶液を圧送することで行なっても良い。溶液の圧送は、給液管23Aに溶液を送る供給タンク内に加圧された窒素等の気体を供給することで押し出す加圧圧送手段を用いて行なうことができる。このとき、開閉弁27Bは閉じておく。このように、加圧圧送手段を用いて溶液をノズル24から吐出させる場合、溶液がノズル24から途切れることなく連続して吐出されるので、圧電素子25の駆動による場合に比べて溶液を多くの流量で吐出させることができる。そのため、ノズル24内に残存している異物の追い出しや新鮮な溶液との置換を迅速に行なうことができ、稼働率を向上させることができる。また、上述の(1)の動作による圧電素子25の高周波駆動によって塗布ヘッド12の温度が上昇した場合でも、加圧圧送手段によって溶液を塗布ヘッド12内に流通させることによる冷却効果で、昇温した塗布ヘッド12を冷却することが可能である。
Further, the above operation (2) may be performed by pumping the solution from the liquid supply pipe 23 </ b> A side instead of driving the
また、溶液槽51に、溶液槽51内の溶剤Lに超音波振動を印加する超音波発振器を取り付け、上述の(1)に示す動作と並行して溶液槽51内の溶剤Lに超音波振動を付与するようにしても良い。このようにすることにより、溶剤Lを介してノズル内に詰まった異物に溶剤Lを介して超音波振動が伝播するので、異物の除去効果を向上させることができる。
Further, an ultrasonic oscillator for applying ultrasonic vibration to the solvent L in the
12 塗布ヘッド
12A ノズル面
24 ノズル
25 圧電素子
41 ブレード(拭き取り手段)
50 ノズル内異物除去手段
51 溶剤槽
12
50 Foreign matter removing means 51 in the
Claims (8)
前記溶液の溶質を溶解する溶剤を収容する溶剤槽と、
前記塗布ヘッドのノズル出口が開口しているノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子を駆動させ、ノズル内の異物を除去する制御装置を有することを特徴とする塗布装置。 In a coating apparatus that discharges a solution in a coating head from a nozzle and applies it to a substrate by driving a piezoelectric element provided in the coating head.
A solvent tank containing a solvent for dissolving the solute of the solution;
A coating apparatus comprising: a control device that drives a piezoelectric element and removes foreign matter in a nozzle in a state where a nozzle surface of a nozzle outlet of the coating head is immersed in a solvent in a solvent tank.
塗布ヘッドのノズル出口が開口しているノズル面を溶剤槽内の溶剤に浸漬させる状態で、圧電素子を駆動し、ノズル内の異物を除去することを特徴とする塗布方法。 In a coating method in which a solution in the coating head is discharged from a nozzle and applied by driving a piezoelectric element provided in the coating head.
A coating method comprising: driving a piezoelectric element in a state in which a nozzle surface where a nozzle outlet of a coating head is open is immersed in a solvent in a solvent tank to remove foreign matters in the nozzle.
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
US20150360394A1 (en) * | 2014-06-13 | 2015-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, imprint method, method of manufacturing article, and supply apparatus |
JP2016068049A (en) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Coating equipment and bubble removal method in coating equipment |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10151759A (en) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Canon Inc | Ink jet printing device and removing method of insoluble matter |
JPH11157087A (en) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Fuji Xerox Co Ltd | Method for cleaning ink jet print head |
JP2002036574A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Liquid jet device |
JP2003191492A (en) * | 2001-12-25 | 2003-07-08 | Konica Corp | Ink jet printer |
JP2006150937A (en) * | 2004-11-08 | 2006-06-15 | Sharp Corp | Method and apparatus for cleaning inkjet head |
JP2006159034A (en) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Toshiba Corp | Ink jet coater |
JP2007090585A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Mutoh Ind Ltd | Inkjet head cleaning device |
-
2007
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10151759A (en) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Canon Inc | Ink jet printing device and removing method of insoluble matter |
JPH11157087A (en) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Fuji Xerox Co Ltd | Method for cleaning ink jet print head |
JP2002036574A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Liquid jet device |
JP2003191492A (en) * | 2001-12-25 | 2003-07-08 | Konica Corp | Ink jet printer |
JP2006150937A (en) * | 2004-11-08 | 2006-06-15 | Sharp Corp | Method and apparatus for cleaning inkjet head |
JP2006159034A (en) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Toshiba Corp | Ink jet coater |
JP2007090585A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Mutoh Ind Ltd | Inkjet head cleaning device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150360394A1 (en) * | 2014-06-13 | 2015-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, imprint method, method of manufacturing article, and supply apparatus |
JP2016068049A (en) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Coating equipment and bubble removal method in coating equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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