JP2008300169A - Organic el device, electronic equipment, and manufacturing method of organic el device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device capable of reducing protrusion of an absorbent generated on the inner side of a barrier rib while suppressing deterioration of the organic EL element by the absorbent which absorbs at least one of moisture and oxygen in the barrier rib. <P>SOLUTION: The organic EL device 1 is provided with a substrate 10, a plurality of organic EL elements 12 formed on the substrate 10, and barrier ribs 14 formed on the substrate 10 so as to mutually divide the plurality of organic EL elements 12. In the barrier ribs 14, a layer containing an absorbent (absorbent containing layer 14b) to absorb at least one of moisture and oxygen and a layer not containing the absorbent (absorbent non-containing layers 14a, 14c) are laminated. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL装置、電子機器、および有機EL装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL device, an electronic apparatus, and a method for manufacturing the organic EL device.

薄型で軽量なディスプレイを実現できる光源として、有機EL素子(organic electroluminescent device)つまりOLED(organic light emitting diode)素子が注目を集めている。有機EL素子を長寿命化するためは、有機EL素子内に混入する水および酸素を極力取り除くことが必要である。例えば、有機薄膜内に水が混入した場合、駆動に伴ってダークスポット(発光しない箇所)が発生し、発光特性が低下することが知られている。また、一般に、有機材料は酸素と結合しやすいため、水と同様に酸素の混入を防ぐことが必要である。そのため、通常、有機EL素子は、酸素や水分の無い環境下で作製される。   As a light source capable of realizing a thin and lightweight display, an organic EL element (organic electroluminescent device), that is, an OLED (organic light emitting diode) element has attracted attention. In order to extend the lifetime of the organic EL element, it is necessary to remove water and oxygen mixed in the organic EL element as much as possible. For example, it is known that when water is mixed in an organic thin film, a dark spot (a portion that does not emit light) is generated with driving, and the light emission characteristics deteriorate. In general, since an organic material easily binds to oxygen, it is necessary to prevent oxygen from being mixed in like water. Therefore, the organic EL element is usually produced in an environment free from oxygen and moisture.

さらに、特許文献1においては、有機EL素子の劣化を低減するために、画素の隔壁を構成する樹脂内部に、シリカゲルなどの乾燥剤を含有させる技術が提案されている。隔壁で囲まれた区域には、有機発光層および必要に応じて正孔注入層などの他の有機層が配置される。   Further, Patent Document 1 proposes a technique in which a desiccant such as silica gel is contained in the resin constituting the partition walls of the pixel in order to reduce the deterioration of the organic EL element. In the area surrounded by the partition walls, an organic light emitting layer and, if necessary, other organic layers such as a hole injection layer are arranged.

特開2006−228493号公報JP 2006-228493 A

しかし、乾燥剤を隔壁材料内に分散させた前記の構成では、隔壁の表面に乾燥剤が露出し、表面に凹凸が生ずるおそれがある。隔壁の内側面には、有機発光層およびその他の有機層が接触するが、その内側面にも乾燥剤の突出による凹凸が生ずる。このような乾燥剤の突出の数のバラツキが大きい場合には、一部の画素の発光面積が乾燥剤の突出によって所望の面積から大きくはずれるおそれがある。また、乾燥剤の突出の数のバラツキが大きい場合には、有機発光層で発光された発光光が、隔壁の内側面において反射する反射の仕方が大きく異なってくる。発光光の隔壁における反射の仕方が各画素で大きく異なると、画素領域内において均一な発光が得られないおそれがある。   However, in the above-described configuration in which the desiccant is dispersed in the partition wall material, the desiccant is exposed on the surface of the partition wall, and the surface may be uneven. The organic light emitting layer and other organic layers are in contact with the inner side surface of the partition wall, but irregularities due to the protrusion of the desiccant are also formed on the inner side surface. When the variation in the number of protrusions of the desiccant is large, the light emission area of some pixels may be greatly deviated from the desired area due to the protrusion of the desiccant. Further, when the variation in the number of protrusions of the desiccant is large, the way in which the emitted light emitted from the organic light emitting layer is reflected on the inner surface of the partition wall is greatly different. If the way in which the emitted light is reflected by the partition walls is greatly different for each pixel, there is a possibility that uniform light emission cannot be obtained in the pixel region.

そこで、本発明は、隔壁内の水分と酸素の少なくとも一方を吸収する吸収剤によって有機EL素子の劣化を抑制しながらも、隔壁の内側面に生ずる吸収剤の突出を減少させることが可能な有機EL装置、電子機器、および有機EL装置の製造方法を提供する。   Accordingly, the present invention provides an organic material capable of reducing the protrusion of the absorbent formed on the inner surface of the partition wall while suppressing the deterioration of the organic EL element by the absorbent that absorbs at least one of moisture and oxygen in the partition wall. Provided are an EL device, an electronic apparatus, and a method for manufacturing an organic EL device.

本発明に係る有機EL装置は、基板と、前記基板上に形成された複数の発光素子と、前記複数の発光素子を互いに区分するように前記基板上に形成された隔壁とを備え、前記隔壁においては、水分と酸素の少なくとも一方を吸収する吸収剤を含有する層と、前記吸収剤を含有しない層が積層されている。本発明では、隔壁において吸収剤を含有しない層が設けられているので、隔壁の全体に吸収剤が含有されている場合に比べ、隔壁の内側面に生ずる吸収剤の突出の数を減らすことができる。従って、各発光素子間において、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方の差を低減することができる。また、本発明では、隔壁の内側面に生ずる吸収剤の突出の数を減らすことにより、そのような突出の数のバラツキを減少させることが可能であり、一部の画素の発光面積のみが所望の面積から大きくはずれることを防止できる。   An organic EL device according to the present invention includes a substrate, a plurality of light emitting elements formed on the substrate, and a partition formed on the substrate so as to separate the plurality of light emitting elements from each other. , A layer containing an absorbent that absorbs at least one of moisture and oxygen and a layer not containing the absorbent are laminated. In the present invention, since a layer that does not contain an absorbent is provided in the partition wall, the number of absorbent protrusions that occur on the inner surface of the partition wall can be reduced as compared with the case where the entire partition wall contains the absorbent. it can. Accordingly, it is possible to reduce the difference in the way of reflecting the emitted light reflected on the inner surface of the partition wall between the light emitting elements. Further, in the present invention, it is possible to reduce the variation in the number of the protrusions by reducing the number of the protrusions of the absorbent generated on the inner surface of the partition wall, and only the emission area of some pixels is desired. Can be prevented from greatly deviating from the area.

前記隔壁においては、前記吸収剤を含有しない層が前記基板から最も遠くに配置されていると好ましい。隔壁のうち基板とは反対側の面には、例えば、複数の発光素子に共通する共通電極、またはその他の層(例えば、有機EL装置のタイプによっては有機発光層)が接触する。吸収剤の突出がこの界面に生ずると、この界面に接触する層に予期しないうねりが発生して、共通電極またはその他の層を通る光またはこの層で反射する光の経路が所望の経路からはずれるおそれがある。隔壁において、吸収剤を含有しない層が基板から最も遠くに配置されていれば、隔壁のうち基板とは反対側の面に接触する層のうねりが低減され、光の経路が所望の経路からはずれる事態も低減する。さらには、例えば、インクジェット法、ディスペンサ法などの液体供給方法で、有機発光層またはその他の層の材料溶液を隔壁で囲まれた区域に供給することで有機発光層またはその他の層を形成する場合には、隔壁のうち基板とは反対側の面に材料液体が残存しないことが好適である。隔壁において、吸収剤を含有しない層が基板から最も遠くに配置されていれば、隔壁のうち基板とは反対側の面に吸収剤が突出しないため、材料液体がその面に残存するおそれを低減することができる。   In the partition, it is preferable that the layer not containing the absorbent is disposed farthest from the substrate. For example, a common electrode common to a plurality of light emitting elements or other layers (for example, an organic light emitting layer depending on the type of the organic EL device) is in contact with the surface of the partition opposite to the substrate. When the protrusion of the absorber occurs at this interface, unexpected undulation occurs in the layer in contact with this interface, and the path of light passing through the common electrode or other layer or reflected by this layer deviates from the desired path. There is a fear. In the partition wall, if the layer not containing the absorber is disposed farthest from the substrate, the undulation of the layer contacting the surface of the partition opposite to the substrate is reduced, and the light path deviates from the desired path. Things are also reduced. Furthermore, for example, when an organic light emitting layer or other layer is formed by supplying a material solution of the organic light emitting layer or other layer to an area surrounded by a partition wall by a liquid supply method such as an inkjet method or a dispenser method. For this, it is preferable that no material liquid remains on the surface of the partition opposite to the substrate. In the partition wall, if the layer that does not contain the absorbent is arranged farthest from the substrate, the absorbent does not protrude from the surface of the partition opposite to the substrate, reducing the risk of material liquid remaining on the surface. can do.

本発明に係る電子機器は、前記の有機EL装置を備えるので、有機EL素子の劣化を抑制しながらも、一部の画素の発光面積のみが所望の面積から大きくはずれることを防止でき、さらに、各発光素子間において、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方の差を低減することができる。そのような電子機器としては、例えば、有機EL装置を画像表示装置として備える各種の機器、または有機EL装置を露光装置として備える電子写真方式の印刷装置がある。   Since the electronic apparatus according to the present invention includes the above-described organic EL device, it is possible to prevent only the light emission area of some pixels from greatly deviating from a desired area while suppressing deterioration of the organic EL element. It is possible to reduce a difference in the way of reflecting the emitted light reflected on the inner side surface of the partition wall between the light emitting elements. As such an electronic device, for example, there are various devices including an organic EL device as an image display device, or an electrophotographic printing device including an organic EL device as an exposure device.

前記の有機EL装置を製造する方法は、前記吸収剤を含有する層と、前記吸収剤を含有しない層を積層して、前記隔壁を前記基板上に形成する工程と、前記基板上に複数の前記発光素子を形成する工程とを備える。従って、有機EL素子の劣化を抑制しながらも、一部の画素の面積のみが所望の面積から大きくはずれることを防止でき、さらに、各発光素子間において、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方の差を低減することができる。   The method of manufacturing the organic EL device includes a step of laminating a layer containing the absorbent and a layer not containing the absorbent to form the partition wall on the substrate, and a plurality of methods on the substrate. Forming the light emitting element. Therefore, while suppressing the deterioration of the organic EL element, it is possible to prevent only the area of some pixels from deviating greatly from the desired area. Further, between the respective light emitting elements, the emission light reflected on the inner surface of the partition wall can be prevented. The difference in the way of reflection can be reduced.

好ましくは、前記隔壁を形成する工程では、前記吸収剤を含有しない層を前記基板から最も遠くに配置し、前記発光素子を形成する工程は、前記発光素子のうち発光に寄与する層となる材料を含む液体を、前記基板上の前記隔壁で囲まれた区域に供給する工程を有する。ここで発光に寄与する層とは、有機発光層だけでなく、陽極と陰極の間に配置されて、有機発光層での発光に寄与するすべての層、例えば、正孔輸送層、正孔注入層、電子注入層、電子輸送層であってもよい。例えば、インクジェット法、ディスペンサ法などの液体供給方法で、有機発光層またはその他の層の材料溶液を隔壁で囲まれた区域に供給することで有機発光層またはその他の層を形成する場合には、隔壁のうち基板とは反対側の面に材料液体が残存しないことが好適である。隔壁において、吸収剤を含有しない層が基板から最も遠くに配置されていれば、隔壁のうち基板とは反対側の面に吸収剤が突出しないため、材料液体がその面に残存するおそれを低減することができる。   Preferably, in the step of forming the partition wall, the layer not containing the absorbent is disposed farthest from the substrate, and the step of forming the light emitting element is a material that becomes a layer contributing to light emission in the light emitting element. Supplying a liquid containing a liquid to an area surrounded by the partition wall on the substrate. Here, the layer that contributes to light emission is not only the organic light emitting layer, but also all layers that are disposed between the anode and the cathode and contribute to light emission in the organic light emitting layer, for example, a hole transport layer, hole injection It may be a layer, an electron injection layer, or an electron transport layer. For example, in the case of forming an organic light emitting layer or other layers by supplying a material solution of an organic light emitting layer or other layers to an area surrounded by a partition wall by a liquid supply method such as an inkjet method or a dispenser method, It is preferable that the material liquid does not remain on the surface of the partition opposite to the substrate. In the partition wall, if the layer that does not contain the absorbent is arranged farthest from the substrate, the absorbent does not protrude from the surface of the partition opposite to the substrate, reducing the risk of material liquid remaining on the surface. can do.

以下、添付の図面を参照しながら本発明に係る様々な実施の形態を説明する。なお、図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異なる。
<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る有機EL装置1を示す断面図である。有機EL装置1は、基板10と基板10上に形成された複数の有機EL素子(発光素子)12を備える。より具体的には、基板10の上には、有機EL素子12にそれぞれ給電して発光させるための複数のTFT(薄膜トランジスタ)32が形成されており、これらのTFT32を覆う無機絶縁体の層30が形成されている。また、基板10には、TFT32に給電して有機EL素子12を発光させるための配線が配置されているが、配線の図示は省略する。この実施の形態の有機EL装置1は、ボトムエミッションタイプでもトップエミッションタイプでもデュアルエミッションでもよく、基板10はボトムエミッションタイプまたはデュアルエミッションでは透光性材料、好ましくはガラスから形成され、トップエミッションタイプでは透光性材料または、例えばセラミックまたは金属のような不透明材料から形成されている。無機絶縁体の層30は、例えば酸化珪素または窒化珪素などから形成されている。
Hereinafter, various embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the ratio of dimensions of each part is appropriately different from the actual one.
<First Embodiment>
FIG. 1 is a sectional view showing an organic EL device 1 according to the first embodiment of the present invention. The organic EL device 1 includes a substrate 10 and a plurality of organic EL elements (light emitting elements) 12 formed on the substrate 10. More specifically, a plurality of TFTs (thin film transistors) 32 for supplying power to the organic EL elements 12 to emit light are formed on the substrate 10, and an inorganic insulator layer 30 covering these TFTs 32. Is formed. In addition, although wiring for supplying power to the TFT 32 and causing the organic EL element 12 to emit light is disposed on the substrate 10, illustration of the wiring is omitted. The organic EL device 1 of this embodiment may be a bottom emission type, a top emission type, or a dual emission. The substrate 10 is formed of a light-transmitting material, preferably glass, in the bottom emission type or the dual emission, and in the top emission type. It is made of a translucent material or an opaque material such as ceramic or metal. The inorganic insulator layer 30 is made of, for example, silicon oxide or silicon nitride.

無機絶縁体の層30の上には、例えば酸化珪素または窒化珪素などの無機絶縁体から形成された下地層34が形成されており、下地層34の上には、複数の有機EL素子12を互いに区分する隔壁(バンク)14が形成されている。隔壁14においては、水分と酸素の少なくとも一方を吸収する吸収剤を含有する層(吸収剤含有層14b)と、吸収剤を含有しない層(吸収剤非含有層14a,14c)が積層されている。吸収剤非含有層14a,14cは、絶縁性の透明樹脂材料、例えばアクリル、エポキシまたはポリイミドなどにより形成されている。吸収剤含有層14bは、この絶縁性の透明材料(主成分)に吸収剤を混合させた材料から形成されている。   A base layer 34 made of an inorganic insulator such as silicon oxide or silicon nitride is formed on the inorganic insulator layer 30, and a plurality of organic EL elements 12 are formed on the base layer 34. Partition walls (banks) 14 that are separated from each other are formed. In the partition wall 14, a layer containing an absorbent that absorbs at least one of moisture and oxygen (absorbent-containing layer 14b) and a layer not containing an absorbent (absorbent-free layers 14a and 14c) are laminated. . The absorbent non-containing layers 14a and 14c are formed of an insulating transparent resin material such as acrylic, epoxy, or polyimide. The absorbent-containing layer 14b is formed of a material obtained by mixing an absorbent with this insulating transparent material (main component).

吸収剤含有層14bに含有される吸収剤は、水分吸収剤(乾燥剤)、酸素吸収剤(脱酸素剤)、水分と酸素の両方を吸収する吸収剤のいずれでもよい。また、吸収剤は、これらのうち二つ以上を混合したものでもよい。好適な水分吸収剤の一例としては、シリカゲル、モレキュラーシーブス、五酸化リン、または水硬性材料(例えばセッコウなど)が挙げられる。好適な酸素吸収剤の一例としては、活性酸化鉄微粉末が挙げられる。水分と酸素の両方を吸収する吸収剤の一例としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属などの水との反応性の高い金属、またはこれらの金属を含む合金もしくは化合物(例えばMgO、BaO、CaO)が挙げられる。   The absorbent contained in the absorbent-containing layer 14b may be a moisture absorbent (drying agent), an oxygen absorbent (deoxygenating agent), or an absorbent that absorbs both moisture and oxygen. Further, the absorbent may be a mixture of two or more of these. Examples of suitable moisture absorbents include silica gel, molecular sieves, phosphorus pentoxide, or hydraulic materials (eg gypsum). An example of a suitable oxygen absorbent is active iron oxide fine powder. Examples of absorbents that absorb both moisture and oxygen include metals that are highly reactive with water, such as alkali metals and alkaline earth metals, or alloys or compounds containing these metals (eg MgO, BaO, CaO) Is mentioned.

好ましくは、吸収剤は、隔壁14の主成分と化学反応を起こして隔壁14を劣化させないように選択される。例えば、隔壁14の主成分がアクリルまたはポリイミドであって、吸収剤がシリカゲルであれば、隔壁14は長期にわたって化学的に安定した状態である。吸収剤の大きさ、形状、および主成分への割合は、隔壁14の形成および表面粗さに多大な悪影響を及ぼさない限り、特に限定されない。例えば、平均粒子径が10nm〜1000nmの球状粉末を使用することができる。   Preferably, the absorbent is selected so as not to cause a chemical reaction with the main component of the partition wall 14 and to deteriorate the partition wall 14. For example, when the main component of the partition wall 14 is acrylic or polyimide and the absorbent is silica gel, the partition wall 14 is in a chemically stable state over a long period of time. The size, shape, and ratio of the absorbent to the main component are not particularly limited as long as they do not have a significant adverse effect on the formation of the partition wall 14 and the surface roughness. For example, a spherical powder having an average particle size of 10 nm to 1000 nm can be used.

有機EL素子12の各々は、画素電極16、発光機能層18および対向電極20を有する。画素電極16は、下地層34上に形成されており、その端部には隔壁14の一部が重なっている。画素電極16は、有機EL素子12の各々に設けられており、下地層34を貫通してTFT32まで延びる貫通孔36内の導体によって、TFT32と接続されている。   Each of the organic EL elements 12 includes a pixel electrode 16, a light emitting functional layer 18, and a counter electrode 20. The pixel electrode 16 is formed on the base layer 34, and a part of the partition wall 14 overlaps with the end portion. The pixel electrode 16 is provided in each of the organic EL elements 12, and is connected to the TFT 32 by a conductor in a through hole 36 that extends through the base layer 34 to the TFT 32.

発光機能層18は、隔壁14で区画された各空間内に配置されている。換言すると、隔壁14は、複数の有機EL素子12の発光機能層18を区分している。発光機能層(発光に寄与する層)18は、少なくとも有機発光層を含み、有機発光層は正孔と電子が結合して発光する有機EL物質から形成されている。この実施の形態では、有機EL物質は高分子材料であって、例えば、その材料は、インクジェット法、ディスペンサ法などの液体供給方法で、隔壁14で区画された各空間内に供給される。発光機能層18を構成する他の層として、電子ブロック層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層および正孔ブロック層の一部または全部を備えていてもよい。   The light emitting functional layer 18 is disposed in each space partitioned by the partition walls 14. In other words, the partition 14 divides the light emitting functional layers 18 of the plurality of organic EL elements 12. The light emitting functional layer (layer that contributes to light emission) 18 includes at least an organic light emitting layer, and the organic light emitting layer is formed of an organic EL material that emits light by combining holes and electrons. In this embodiment, the organic EL substance is a polymer material. For example, the material is supplied into each space partitioned by the partition wall 14 by a liquid supply method such as an ink jet method or a dispenser method. As another layer constituting the light emitting functional layer 18, a part or all of an electron block layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a hole block layer may be provided.

対向電極20は、複数の有機EL素子12の発光機能層18に接触している。つまり、対向電極20は、複数の有機EL素子12に共通するように、隔壁14で画定された発光機能層18の区域および隔壁14上に広がっている。この実施の形態では、画素電極16は陽極で、対向電極20は陰極だが、その逆であってもよい。画素電極16および対向電極20の材料は、エミッションタイプに応じて適宜選択されうる。   The counter electrode 20 is in contact with the light emitting functional layer 18 of the plurality of organic EL elements 12. That is, the counter electrode 20 extends over the area of the light emitting functional layer 18 defined by the barrier ribs 14 and the barrier ribs 14 so as to be common to the plurality of organic EL elements 12. In this embodiment, the pixel electrode 16 is an anode and the counter electrode 20 is a cathode, but vice versa. The materials of the pixel electrode 16 and the counter electrode 20 can be appropriately selected according to the emission type.

図示しないが、有機EL素子12の発光機能層18を水分および酸素から保護するために、公知の封止膜で対向電極20を覆ってもよいし、公知の封止キャップを基板10に接合してもよい。また、この有機EL装置1をカラー画像表示装置として使用する場合、発光色の色度を改善するために、光が放出される側にカラーフィルタを配置してもよい。   Although not shown, in order to protect the light emitting functional layer 18 of the organic EL element 12 from moisture and oxygen, the counter electrode 20 may be covered with a known sealing film, or a known sealing cap is bonded to the substrate 10. May be. Further, when the organic EL device 1 is used as a color image display device, a color filter may be disposed on the light emitting side in order to improve the chromaticity of the emitted color.

隔壁14の全体、または少なくとも隔壁14のうち基板10から最も遠い吸収剤非含有層14cには、例えばCFプラズマにより撥液化処理が施されると好ましい。この撥液化処理は、液体供給方法で、発光機能層18の材料となる液体(材料液体)を所定位置に供給するときに、吸収剤非含有層14cの上面(基板10とは反対側の面)にその材料液体が残存しないように行われる。撥液化処理された部分は、その材料液体に対する撥液性が向上する。 The entire partition wall 14 or at least the absorbent-free layer 14c farthest from the substrate 10 in the partition wall 14 is preferably subjected to a liquid repellency treatment using, for example, CF 4 plasma. This liquid repellency treatment is performed by supplying a liquid (material liquid) as a material of the light emitting functional layer 18 to a predetermined position by a liquid supply method (the surface on the side opposite to the substrate 10). ) So that the material liquid does not remain. The liquid repellency of the portion subjected to the liquid repellency treatment is improved.

また、吸収剤非含有層14aのみ、または吸収剤非含有層14aと吸収剤含有層14bには、例えば酸素プラズマにより親液化処理を施してもよい。親液化処理された部分は、発光機能層18の材料液体に対する親液性が吸収剤非含有層14cの撥液化処理された部分よりも向上する。図示しないが、さらには、吸収剤非含有層14aと下地層34の間には、アクリル、エポキシまたはポリイミドよりも発光機能層18の材料液体に対する親液性が吸収剤非含有層14cの撥液化処理された部分よりも高い材料、例えば酸化珪素または窒化珪素から形成された親液層を設けてもよい。要するに、隔壁14では、基板10に近い方では、発光機能層18の材料液体に対する親液性が高く、基板10に遠い方では、発光機能層18の材料液体に対する撥液性が高いことが好ましい。   Moreover, you may perform a lyophilic process by oxygen plasma, for example only to the absorber non-containing layer 14a, or the absorber non-containing layer 14a and the absorber containing layer 14b. In the lyophilic portion, the lyophilicity with respect to the material liquid of the light emitting functional layer 18 is improved compared to the lyophobic portion of the absorbent non-containing layer 14c. Although not shown, the lyophilic property to the material liquid of the light emitting functional layer 18 is more lyophobic than the acrylic, epoxy, or polyimide between the absorbent non-containing layer 14a and the base layer 34. A lyophilic layer formed from a material higher than the treated part, for example, silicon oxide or silicon nitride, may be provided. In short, it is preferable that the partition wall 14 has high lyophilicity with respect to the material liquid of the light emitting functional layer 18 near the substrate 10 and high liquid repellency with respect to the material liquid of the light emitting functional layer 18 farther from the substrate 10. .

図2(A)は、この実施の形態に係る有機EL装置1の一部拡大断面図であり、図2(B)は、比較のための他の有機EL装置の一部拡大断面図である。図2(A)に示すように、この実施の形態に係る有機EL装置1では、隔壁14の吸収剤含有層14bのみに吸収剤15が分散させられているのに対し、図2(B)に示すように、比較のための有機EL装置では、隔壁141の全体に吸収剤15が分散させられている。図2(A)および図2(B)のいずれの有機EL装置においても、隔壁の内部に、吸収剤15が配置されているので、有機EL素子12の劣化を抑制することができる。しかしながら、多数の吸収剤15を隔壁14の表面から突出しないように配置することは困難である。従って、発光機能層18が接触する隔壁の内側面に吸収剤15が突出し、これらの突出した吸収剤15が発光機能層18の発光面積を低減させたり、各有機EL素子間で、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方を異ならせたりするおそれがある。   2A is a partially enlarged cross-sectional view of the organic EL device 1 according to this embodiment, and FIG. 2B is a partially enlarged cross-sectional view of another organic EL device for comparison. . As shown in FIG. 2A, in the organic EL device 1 according to this embodiment, the absorbent 15 is dispersed only in the absorbent-containing layer 14b of the partition wall 14, whereas FIG. In the organic EL device for comparison, the absorbent 15 is dispersed throughout the partition wall 141 as shown in FIG. In any of the organic EL devices shown in FIGS. 2A and 2B, the absorbent 15 is disposed inside the partition wall, so that the deterioration of the organic EL element 12 can be suppressed. However, it is difficult to arrange a large number of absorbents 15 so as not to protrude from the surface of the partition wall 14. Accordingly, the absorbent 15 protrudes from the inner side surface of the partition wall with which the light emitting functional layer 18 comes into contact, and these protruding absorbents 15 reduce the light emitting area of the light emitting functional layer 18 or between the organic EL elements. There is a possibility that the way of reflecting the emitted light reflected on the side surface may be different.

これに関して、図2(B)に示す比較用の有機EL装置では、隔壁141の全体に吸収剤15が分散させられているために、複数の有機EL素子12について、隔壁141から発光機能層18への吸収剤15の突出の数のバラツキが大きくなるおそれがあり、その場合には、一部の有機EL素子12の発光機能層18の発光面積のみが所望の面積から大きくはずれたり、各有機EL素子間で、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方が大きく異なったりするおそれがある。その場合、有機装置の画素領域において均一な発光を得ることができなくなるおそれがある。   In this regard, in the comparative organic EL device shown in FIG. 2B, the absorbent 15 is dispersed throughout the partition wall 141, and thus the light emitting functional layer 18 is separated from the partition wall 141 for the plurality of organic EL elements 12. In this case, only the light emitting area of the light emitting functional layer 18 of some of the organic EL elements 12 may be greatly deviated from the desired area, There is a possibility that the manner of reflection of the emitted light reflected on the inner side surface of the partition wall is greatly different between EL elements. In that case, there is a possibility that uniform light emission cannot be obtained in the pixel region of the organic device.

しかし、この実施の形態に係る有機EL装置1では、隔壁14において、吸収剤15を含有しない層(吸収剤非含有層14a,14c)が設けられているので、隔壁14の内側面に生ずる吸収剤15の突出の数を減らすことができる。従って、各有機EL素子間において、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方の差を小さくすることができる。また、一部の有機EL素子12の発光機能層18の面積のみが所望の面積から大きくはずれることを防止できる。   However, in the organic EL device 1 according to this embodiment, the partition wall 14 is provided with layers that do not contain the absorbent 15 (absorbent non-containing layers 14a and 14c). The number of protrusions of the agent 15 can be reduced. Accordingly, it is possible to reduce the difference in the way of reflecting the emitted light reflected on the inner surface of the partition wall between the organic EL elements. In addition, it is possible to prevent only the area of the light emitting functional layer 18 of some of the organic EL elements 12 from greatly deviating from the desired area.

特に、この実施の形態では、隔壁14において、最も幅が広い層つまり基板10に最も近い層として、吸収剤15を含有しない層(吸収剤非含有層14a)が配置されているので、吸収剤15の突出が発光機能層18の面積に与える影響が小さくて済む。さらに、この実施の形態では、隔壁14の内側面において、吸収剤含有層14bの占める面積は、吸収剤非含有層14aの面積と吸収剤非含有層14cの面積のいずれか一方または両方の面積よりも小さいので、吸収剤15が突出できる面積が狭くなり、吸収剤15の突出数が少なくて済む。   In particular, in this embodiment, in the partition wall 14, a layer that does not contain the absorbent 15 (absorbent-free layer 14 a) is disposed as the widest layer, that is, the layer closest to the substrate 10. The influence of the 15 protrusions on the area of the light emitting functional layer 18 can be reduced. Furthermore, in this embodiment, the area occupied by the absorbent-containing layer 14b on the inner surface of the partition wall 14 is the area of one or both of the area of the absorbent-free layer 14a and the area of the absorbent-free layer 14c. Therefore, the area where the absorbent 15 can protrude becomes narrow, and the number of protrusions of the absorbent 15 can be reduced.

さらに、この実施の形態では、隔壁14において、基板10から最も遠い層として、吸収剤15を含有しない層(吸収剤非含有層14c)が配置されている。隔壁のうち基板10とは反対側の面には、複数の有機EL素子12に共通する共通電極(対向電極20)が接触する。図2(B)に示す比較用の有機EL装置では、吸収剤15の突出が隔壁141と対向電極20の界面に生じ、この界面に接触する対向電極20に予期しないうねりが発生して、対向電極20を通る光(トップエミッションまたはデュアルエミッションタイプの場合)または対向電極20で反射する光(ボトムエミッションタイプの場合)の経路が所望の経路からはずれるおそれがある。特に、吸収剤15のサイズが大きい場合には、この問題は顕著である。図2(A)に示すこの実施の形態では、隔壁14において、吸収剤15を含有しない吸収剤非含有層14cが基板10から最も遠くに配置されているので、隔壁14のうち基板10とは反対側の面に接触する対向電極20のうねりが低減され、光の経路が所望の経路からはずれる事態も低減する。また、発光機能層18の材料となる液体を所定位置に供給するときに、隔壁14の上面(基板10とは反対側の面)にその材料液体が残存しないように、隔壁14の表面をCFプラズマにより撥液化処理するが、吸収剤15はCFプラズマを照射しても隔壁14の表面に比べて撥液化しにくいため、隔壁14の上面に吸収剤15が突出しているとその部分だけ撥液化されなくなり、発光機能層18の材料液体を供給した際に、隔壁14の上面に発光機能層18の材料液体が残存しやすくなる。しかしながらこの実施の形態では、隔壁14の基板10から最も遠い層として、吸収剤非含有層14cが配置されているため、隔壁14の上面には吸収剤15は突出せず、上記の問題を防ぐことができる。 Furthermore, in this embodiment, in the partition wall 14, a layer that does not contain the absorbent 15 (absorbent-free layer 14c) is disposed as the layer farthest from the substrate 10. A common electrode (counter electrode 20) common to the plurality of organic EL elements 12 is in contact with the surface of the partition opposite to the substrate 10. In the comparative organic EL device shown in FIG. 2B, the protrusion of the absorbent 15 is generated at the interface between the partition wall 141 and the counter electrode 20, and unexpected undulation occurs in the counter electrode 20 in contact with the interface. There is a possibility that the path of light passing through the electrode 20 (in the case of top emission or dual emission type) or light reflected by the counter electrode 20 (in the case of bottom emission type) may deviate from the desired path. In particular, this problem is remarkable when the size of the absorbent 15 is large. In this embodiment shown in FIG. 2A, in the partition wall 14, the absorbent non-containing layer 14 c that does not contain the absorbent 15 is disposed farthest from the substrate 10. The undulation of the counter electrode 20 in contact with the opposite surface is reduced, and the situation where the light path deviates from the desired path is also reduced. Further, when supplying the liquid as the material of the light emitting functional layer 18 to a predetermined position, the surface of the partition wall 14 is made CF so that the material liquid does not remain on the upper surface of the partition wall 14 (surface opposite to the substrate 10). Although the liquid repellent treatment is performed with 4 plasma, the absorbent 15 is less liable to be liquid repellent than the surface of the partition wall 14 even when irradiated with CF 4 plasma. When the material liquid of the light emitting functional layer 18 is supplied, the material liquid of the light emitting functional layer 18 tends to remain on the upper surface of the partition wall 14. However, in this embodiment, since the absorbent non-containing layer 14c is disposed as the layer farthest from the substrate 10 of the partition wall 14, the absorbent 15 does not protrude from the upper surface of the partition wall 14, thereby preventing the above problem. be able to.

次にこの実施の形態に係る有機EL装置1を製造する方法の例を説明する。まず、図3に示すように、基板10に公知の方法で、有機EL素子12への給電用の配線(図示せず)およびTFT32を形成し、絶縁体の層30を形成する。さらに、下地層34を形成し、例えばITO(indium tin oxide)によって画素電極16を公知の方法でパターニングする。   Next, an example of a method for manufacturing the organic EL device 1 according to this embodiment will be described. First, as shown in FIG. 3, a power supply wiring (not shown) to the organic EL element 12 and a TFT 32 are formed on the substrate 10 by a known method, and an insulating layer 30 is formed. Further, the base layer 34 is formed, and the pixel electrode 16 is patterned by a known method using, for example, ITO (indium tin oxide).

また、図4に示すように、画素電極16を覆うように、下地層34上に隔壁14の吸収剤非含有層14aの材料14am(例えば感光性ポリイミド)をスピンコート法で塗布し乾燥させる。乾燥条件は、Nガス中で、120℃の温度で1分間である。 Further, as shown in FIG. 4, the material 14am (for example, photosensitive polyimide) of the absorbent non-containing layer 14a of the partition wall 14 is applied on the base layer 34 by a spin coat method so as to cover the pixel electrode 16 and dried. The drying conditions are 1 minute at a temperature of 120 ° C. in N 2 gas.

さらに、図5に示すように、吸収剤非含有層14aを残すべき箇所に、フォトマスク40を配置し、材料14amを露光して、吸収剤非含有層14aをパターニングする。この後、フォトマスク40を取り外し、材料14amのうち露光された部分を、水を含む現像液でスプレー方式またはディップ方式により洗浄して除去することで、図6に示すように吸収剤非含有層14aとなる部分を残存させる。さらに、Nガス中で、280℃の温度で1時間加熱し、吸収剤非含有層14aを形成する。 Furthermore, as shown in FIG. 5, the photomask 40 is arrange | positioned in the location which should leave the absorber non-containing layer 14a, material 14am is exposed, and the absorber non-containing layer 14a is patterned. Thereafter, the photomask 40 is removed, and the exposed portion of the material 14am is removed by washing with a developer containing water by a spray method or a dip method, so that an absorbent-free layer as shown in FIG. The part which becomes 14a is left. Furthermore, it is heated in N 2 gas at a temperature of 280 ° C. for 1 hour to form the absorbent non-containing layer 14a.

次に、図7に示すように、この構造上に、隔壁14の吸収剤含有層14bの材料14bmをスピンコート法で塗布し乾燥させる。材料14bmは、例えば感光性ポリイミドを主成分とし、水分吸収剤としてのシリカゲルと、水分および酸素の吸収剤としてのMgOを混合したものである。シリカゲルとMgOは、例えば平均粒子径が100nmであって、感光性ポリイミド(乾燥時)に対して、それぞれ20%の重量比で混合される。乾燥条件は、Nガス中で、120℃の温度で1分間である。 Next, as shown in FIG. 7, the material 14bm of the absorbent-containing layer 14b of the partition wall 14 is applied onto the structure by a spin coat method and dried. The material 14bm is composed of, for example, photosensitive polyimide as a main component, and is a mixture of silica gel as a moisture absorbent and MgO as a moisture and oxygen absorbent. Silica gel and MgO, for example, have an average particle diameter of 100 nm and are mixed in a weight ratio of 20% with respect to the photosensitive polyimide (when dried). The drying conditions are 1 minute at a temperature of 120 ° C. in N 2 gas.

さらに、図8に示すように、吸収剤含有層14bを残すべき箇所に、フォトマスク42を配置し、材料14bmを露光して、吸収剤含有層14bをパターニングする。この後、フォトマスク42を取り外し、材料14bmのうち露光された部分を、水を含む現像液でスプレー方式またはディップ方式により洗浄して除去することで、図9に示すように吸収剤含有層14bとなる部分を残存させる。さらに、Nガス中で、280℃の温度で1時間加熱し、吸収剤含有層14bを形成する。 Furthermore, as shown in FIG. 8, the photomask 42 is arrange | positioned in the location which should leave the absorber containing layer 14b, material 14bm is exposed, and the absorber containing layer 14b is patterned. Thereafter, the photomask 42 is removed, and the exposed portion of the material 14bm is removed by washing with a developer containing water by a spray method or a dip method, thereby removing the absorbent-containing layer 14b as shown in FIG. The part which becomes becomes remains. Further, heating is performed in N 2 gas at a temperature of 280 ° C. for 1 hour to form the absorbent-containing layer 14b.

次に、図10に示すように、この構造上に、隔壁14の吸収剤非含有層14cの材料14cm(例えば感光性ポリイミド)をスピンコート法で塗布し乾燥させる。乾燥条件は、Nガス中で、120℃の温度で1分間である。 Next, as shown in FIG. 10, a material 14 cm (for example, photosensitive polyimide) of the absorbent non-containing layer 14c of the partition wall 14 is applied onto the structure by a spin coating method and dried. The drying conditions are 1 minute at a temperature of 120 ° C. in N 2 gas.

さらに、図11に示すように、吸収剤非含有層14cを残すべき箇所に、フォトマスク44を配置し、材料14cmを露光して、吸収剤非含有層14cをパターニングする。この後、フォトマスク44を取り外し、材料14cmのうち露光された部分を、水を含む現像液でスプレー方式またはディップ方式により洗浄して除去することで、図12に示すように吸収剤非含有層14cとなる部分を残存させる。さらに、Nガス中で、280℃の温度で1時間加熱し、吸収剤非含有層14cひいては隔壁14を形成する。 Furthermore, as shown in FIG. 11, the photomask 44 is arrange | positioned in the location which should leave the absorber non-containing layer 14c, material 14cm is exposed, and the absorber non-containing layer 14c is patterned. Thereafter, the photomask 44 is removed, and the exposed portion of the material 14 cm is removed by washing with a developer containing water by a spray method or a dip method, thereby removing the absorbent-free layer as shown in FIG. The part which becomes 14c is left. Further, heating is performed in N 2 gas at a temperature of 280 ° C. for 1 hour to form the absorbent non-containing layer 14 c and the partition wall 14.

さらにこの構造に対してCFプラズマにより撥液化処理を施して、発光機能層18の材料となる液体に対して、隔壁14の撥液性を向上させる。そして、図13に示すように、インクジェット法により、発光機能層18の材料溶液18Aつまりインクを隔壁14で囲まれた空間内に滴下し、乾燥させることにより図14に示す構造を形成する。この後、図1に示すように、対向電極20を公知の方法(例えば真空蒸着法)で形成し、さらに必要に応じて、封止膜または封止キャップを接合し、カラーフィルタを配置する。説明の簡略化のために、単層の発光機能層18のみの形成を説明したが、発光機能層18は上述の通り複数の層から構成されていてもよく、その場合には、各層に対して材料溶液の供給工程とその乾燥工程が施される。 Further, the structure is subjected to a liquid repellency treatment using CF 4 plasma to improve the liquid repellency of the partition wall 14 with respect to the liquid used as the material of the light emitting functional layer 18. Then, as shown in FIG. 13, the material solution 18 </ b> A of the light emitting functional layer 18, that is, the ink is dropped into the space surrounded by the partition wall 14 and dried to form the structure shown in FIG. Thereafter, as shown in FIG. 1, the counter electrode 20 is formed by a known method (for example, vacuum deposition method), and further, if necessary, a sealing film or a sealing cap is joined, and a color filter is disposed. In order to simplify the description, the formation of only the single-layer light emitting functional layer 18 has been described. However, the light emitting functional layer 18 may be composed of a plurality of layers as described above. The material solution supply step and the drying step are performed.

図15は、比較のための他の有機EL装置の製造の一工程での断面図である。図2(B)と同様に、この比較のための装置では、隔壁141の全体に吸収剤が分散させられている。このように隔壁141の全体に吸収剤が分散させられている場合には、隔壁141の表面全体(内側面および基板10とは反対側の面)に吸収剤が突出しがちである。吸収剤15はCFプラズマを照射しても隔壁14の表面に比べて撥液化しにくいため、たとえ隔壁141に撥液化処理を施しても、その効果が薄くなる。このために、材料溶液18Aを隔壁14で囲まれた空間内に滴下した時点で、材料溶液18Aが図15に示すように、隔壁141のうち基板10とは反対側の面に乗り上げてしまうおそれがある。このことは、図13に示すように、実施の形態では、隔壁14の吸収剤非含有層14cが材料溶液18Aをはじくのと対照的である。 FIG. 15 is a cross-sectional view in one process of manufacturing another organic EL device for comparison. As in FIG. 2B, in the apparatus for comparison, the absorbent is dispersed throughout the partition wall 141. When the absorbent is dispersed throughout the partition wall 141 as described above, the absorbent tends to protrude over the entire surface of the partition wall 141 (the inner surface and the surface opposite to the substrate 10). Even when the absorbent 15 is irradiated with CF 4 plasma, the absorbent 15 is less liable to be liquid repellent than the surface of the partition wall 14, so that even if the partition wall 141 is subjected to a liquid repellent treatment, the effect is reduced. Therefore, when the material solution 18A is dropped into the space surrounded by the partition walls 14, the material solution 18A may run on the surface of the partition wall 141 opposite to the substrate 10 as shown in FIG. There is. This is in contrast to the absorbent non-containing layer 14c of the partition wall 14 repelling the material solution 18A in the embodiment as shown in FIG.

比較のための装置では、材料溶液18Aの乾燥後、図16に示すように、発光機能層18の一部が隔壁14のうち基板10とは反対側の面に残存するおそれがある。これに対して、実施の形態では、隔壁14において、吸収剤を含有しない吸収剤非含有層14cが基板10から最も遠くに配置されているために、隔壁14のうち基板10とは反対側の面に吸収剤が突出しないため、材料溶液18Aひいては発光機能層18の一部がその面に残存するおそれを低減することができる(図14参照)。この効果は、インクジェット法だけでなく、ディスペンサ法、またはその他の液体供給方法についてもいえることである。   In the apparatus for comparison, after the material solution 18A is dried, a part of the light emitting functional layer 18 may remain on the surface of the partition wall 14 opposite to the substrate 10 as shown in FIG. On the other hand, in the embodiment, in the partition wall 14, the absorbent non-containing layer 14 c that does not contain the absorbent is disposed farthest from the substrate 10, so that the partition wall 14 is on the side opposite to the substrate 10. Since the absorbent does not protrude from the surface, it is possible to reduce the possibility that the material solution 18A and thus a part of the light emitting functional layer 18 remain on the surface (see FIG. 14). This effect can be said not only for the ink jet method but also for the dispenser method or other liquid supply methods.

隔壁14において、吸収剤非含有層14a、吸収剤含有層14b、および吸収剤非含有層14cの厚さは任意である。例えば、隔壁14全体の厚さを2μm、吸収剤非含有層14a,14cの厚さを900nm、吸収剤含有層14bの厚さを200nmとしてもよいが、必要に応じて各層の厚さは変化させてもよい。吸収剤非含有層14aの厚さを発光機能層18の最終厚さよりもかなり大きくして、吸収剤含有層14bが発光機能層18に接触しないようにしてもよいし、図1に示す実施の形態のように、吸収剤非含有層14aの厚さを発光機能層18の最終厚さよりもかなり小さくして、吸収剤含有層14bが発光機能層18に接触するようにしてもよい。また、図示の実施の形態では、吸収剤含有層14bは一層であるが、必要に応じて複数層設けてもよい。   In the partition 14, the thickness of the absorbent non-containing layer 14a, the absorbent containing layer 14b, and the absorbent non-containing layer 14c is arbitrary. For example, the total thickness of the partition wall 14 may be 2 μm, the thickness of the non-absorbent layers 14a and 14c may be 900 nm, and the thickness of the absorbent-containing layer 14b may be 200 nm, but the thickness of each layer may be changed as necessary. You may let them. The thickness of the absorber-free layer 14a may be made considerably larger than the final thickness of the light-emitting functional layer 18 so that the absorber-containing layer 14b does not contact the light-emitting functional layer 18, or the embodiment shown in FIG. As in the embodiment, the thickness of the absorber non-containing layer 14 a may be made considerably smaller than the final thickness of the light emitting functional layer 18 so that the absorber containing layer 14 b contacts the light emitting functional layer 18. In the illustrated embodiment, the absorbent-containing layer 14b is a single layer, but a plurality of layers may be provided as necessary.

上述の製造方法では、隔壁14の製造工程は、吸収剤への水分や酸素の吸着を防ぐため、Nガス中で行うことが好ましいが、例えば隔壁14の形成後、加熱処理または減圧処理などで水分または酸素を吸収剤から取り除くことができる場合は、大気中で隔壁14を作製してもよい。 In the above-described manufacturing method, the manufacturing process of the partition wall 14 is preferably performed in N 2 gas in order to prevent moisture and oxygen from adsorbing to the absorbent. For example, after the partition wall 14 is formed, a heat treatment or a decompression process is performed. In the case where moisture or oxygen can be removed from the absorbent, the partition wall 14 may be formed in the atmosphere.

<第2の実施の形態>
図17は、本発明の第2の実施の形態に係る有機EL装置2を示す断面図である。図17において、第1の実施の形態と共通する構成要素を示すために同一の符号を使用する。
<Second Embodiment>
FIG. 17 is a sectional view showing an organic EL device 2 according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 17, the same reference numerals are used to indicate the same components as those in the first embodiment.

この実施の形態では、各有機EL素子12の発光機能層18の発光層の有機EL物質は低分子材料であって、例えば蒸着により形成される。対向電極20は複数の有機EL素子12に共通であるが、個々の画素電極16は他の画素電極16から離れており、隔壁14で個々の画素電極16が画定されているため、個々の画素電極16と対向電極20の間で電流が流れたときには、その画素電極16に直接接触して重なった位置でのみ発光機能層18が発光する。従って、隔壁14は複数の有機EL素子12を区分し、隔壁14で包囲された部分つまり画素電極16の部分を有機EL素子12の区域と呼ぶことができる。   In this embodiment, the organic EL substance of the light emitting layer of the light emitting functional layer 18 of each organic EL element 12 is a low molecular material, and is formed by vapor deposition, for example. Although the counter electrode 20 is common to the plurality of organic EL elements 12, each pixel electrode 16 is separated from the other pixel electrode 16, and each pixel electrode 16 is defined by the partition wall 14. When a current flows between the electrode 16 and the counter electrode 20, the light emitting functional layer 18 emits light only at a position where it directly contacts and overlaps the pixel electrode 16. Accordingly, the partition wall 14 divides the plurality of organic EL elements 12, and the portion surrounded by the partition wall 14, that is, the pixel electrode 16 portion can be called an area of the organic EL element 12.

図18は、比較のための他の有機EL装置の一部拡大断面図である。この実施の形態に係る有機EL装置2では、隔壁14の吸収剤含有層14bのみに吸収剤が分散させられているのに対し、図18に示すように、比較のための有機EL装置では、隔壁141の全体に吸収剤15が分散させられている。いずれの有機EL装置1においても、隔壁の内部に、吸収剤15が配置されているので、有機EL素子12の劣化を抑制することができる。しかしながら、多数の吸収剤15を隔壁14の範囲から突出しないように配置することは困難である。従って、発光機能層18が接触する隔壁の内側面に吸収剤15が突出し、これらの突出した吸収剤15が発光機能層18のうち有効に発光する領域の面積を低減させたり、発光機能層18での発光を散乱させるおそれがある。   FIG. 18 is a partially enlarged cross-sectional view of another organic EL device for comparison. In the organic EL device 2 according to this embodiment, the absorbent is dispersed only in the absorbent-containing layer 14b of the partition wall 14, whereas, as shown in FIG. 18, in the organic EL device for comparison, The absorbent 15 is dispersed throughout the partition wall 141. In any organic EL device 1, since the absorbent 15 is disposed inside the partition wall, the deterioration of the organic EL element 12 can be suppressed. However, it is difficult to arrange a large number of absorbents 15 so as not to protrude from the range of the partition walls 14. Accordingly, the absorbent 15 protrudes from the inner surface of the partition wall with which the light emitting functional layer 18 contacts, and the area of the light emitting functional layer 18 where the protruding absorbent 15 effectively emits light is reduced, or the light emitting functional layer 18. There is a risk of scattering the light emission at.

これに関して、図18に示す比較用の有機EL装置では、隔壁141の全体に吸収剤15が分散させられているために、複数の有機EL素子12について、隔壁141から発光機能層18への吸収剤15の突出の数のバラツキが大きくなるおそれがあり、その場合には、一部の有機EL素子12の発光機能層18の発光面積のみが所望の面積から大きくはずれるおそれがある。また、複数の有機EL素子12について、各有機EL素子間で、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方が大きく異なるおそれがある。   In this regard, in the comparative organic EL device shown in FIG. 18, since the absorbent 15 is dispersed throughout the partition wall 141, absorption of the plurality of organic EL elements 12 from the partition wall 141 to the light emitting functional layer 18 is performed. There is a possibility that the variation in the number of protrusions of the agent 15 may increase. In this case, only the light emitting area of the light emitting functional layer 18 of some of the organic EL elements 12 may greatly deviate from the desired area. Moreover, about the some organic EL element 12, there exists a possibility that the reflection method of the emitted light reflected in the inner surface of a partition may differ greatly between each organic EL element.

しかし、この実施の形態に係る有機EL装置1では、隔壁14において、吸収剤15を含有しない層(吸収剤非含有層14a,14c)が設けられているので、隔壁14の内側面に生ずる吸収剤の突出の数を減らすことができる。従って、隔壁14の内側面に生ずる吸収剤の突出のバラツキを減少させることが可能であり、一部の有機EL素子12の発光機能層18の有効に発光する領域の面積のみが所望の面積から大きくはずれることを防止できる。また、各有機EL素子間において、隔壁の内側面において反射する発光光の反射の仕方の差を小さくすることができる。   However, in the organic EL device 1 according to this embodiment, the partition wall 14 is provided with layers that do not contain the absorbent 15 (absorbent non-containing layers 14a and 14c). The number of protrusions of the agent can be reduced. Accordingly, it is possible to reduce the variation in the protrusion of the absorbent that occurs on the inner surface of the partition wall 14, and only the area of the light emitting functional layer 18 of the light emitting functional layer 18 of a part of the organic EL elements 12 is from a desired area. It is possible to prevent a significant shift. Moreover, the difference in the reflection method of the emitted light reflected in the inner surface of a partition between each organic EL element can be made small.

特に、この実施の形態では、隔壁14において、最も幅が広い層つまり基板10に最も近い層として、吸収剤15を含有しない層(吸収剤非含有層14a)が配置されているので、吸収剤15の突出が発光機能層18の有効に発光する領域の面積に与える影響が小さくて済む。さらに、この実施の形態では、隔壁14の内側面において、吸収剤含有層14bの占める面積は、吸収剤非含有層14aの面積と吸収剤非含有層14cの面積のいずれか一方または両方の面積よりも小さいので、吸収剤15が突出できる面積が狭くなり、吸収剤15の突出数が少なくて済む。   In particular, in this embodiment, in the partition wall 14, a layer that does not contain the absorbent 15 (absorbent-free layer 14 a) is disposed as the widest layer, that is, the layer closest to the substrate 10. The effect of the 15 protrusions on the area of the light emitting functional layer 18 that effectively emits light is small. Furthermore, in this embodiment, the area occupied by the absorbent-containing layer 14b on the inner surface of the partition wall 14 is the area of one or both of the area of the absorbent-free layer 14a and the area of the absorbent-free layer 14c. Therefore, the area where the absorbent 15 can protrude becomes narrow, and the number of protrusions of the absorbent 15 can be reduced.

さらに、この実施の形態では、隔壁14において、基板10から最も遠い層として、吸収剤15を含有しない層(吸収剤非含有層14c)が配置されている。隔壁のうち基板10とは反対側の面には、発光機能層18の端部が接触し、その上には複数の有機EL素子12に共通する共通電極(対向電極20)が接触する。図18に示す比較用の有機EL装置では、吸収剤15の突出が隔壁141と発光機能層18の端部の界面に生じ、この界面に接触する発光機能層18の端部およびその上の対向電極20に予期しないうねりが発生して、対向電極20を通る光(トップエミッションまたはデュアルエミッションタイプの場合)または対向電極20で反射する光(ボトムエミッションタイプの場合)の経路が所望の経路からはずれるおそれがある。特に、吸収剤15のサイズが大きい場合には、この問題は顕著である。この実施の形態では、隔壁14において、吸収剤15を含有しない吸収剤非含有層14cが基板10から最も遠くに配置されているので、隔壁14のうち基板10とは反対側の面に接触する対向電極20のうねりが低減され、光の経路が所望の経路からはずれる事態も低減する。   Furthermore, in this embodiment, in the partition wall 14, a layer that does not contain the absorbent 15 (absorbent-free layer 14c) is disposed as the layer farthest from the substrate 10. The end of the light emitting functional layer 18 is in contact with the surface of the partition opposite to the substrate 10, and the common electrode (counter electrode 20) common to the plurality of organic EL elements 12 is in contact therewith. In the comparative organic EL device shown in FIG. 18, the protrusion of the absorbent 15 occurs at the interface between the partition wall 141 and the end of the light emitting functional layer 18, and the end of the light emitting functional layer 18 in contact with this interface and the opposing surface thereon. An unexpected undulation occurs in the electrode 20, and the path of light passing through the counter electrode 20 (in the case of top emission or dual emission type) or light reflected by the counter electrode 20 (in the case of bottom emission type) deviates from the desired path. There is a fear. In particular, this problem is remarkable when the size of the absorbent 15 is large. In this embodiment, in the partition wall 14, the absorbent non-containing layer 14 c that does not contain the absorbent 15 is disposed farthest from the substrate 10, so that it contacts the surface of the partition wall 14 opposite to the substrate 10. The waviness of the counter electrode 20 is reduced, and the situation where the light path deviates from the desired path is also reduced.

この有機EL装置2を製造する方法は、吸収剤を含有する層(吸収剤含有層14b)と、吸収剤を含有しない層(吸収剤非含有層14a,14c)を積層して、隔壁14を基板10上に形成する工程と、基板10上に複数の有機EL素子12を形成する工程とを備える。隔壁14を基板10上に形成する工程は、第1の実施の形態に関して説明したものと同じでよい。基板10上に複数の有機EL素子12を形成する工程においては、発光機能層18が例えば蒸着で形成される。   The organic EL device 2 is manufactured by stacking a layer containing an absorbent (absorbent-containing layer 14b) and a layer not containing an absorbent (absorbent-free layers 14a and 14c) to form the partition wall 14. A step of forming on the substrate 10 and a step of forming a plurality of organic EL elements 12 on the substrate 10. The step of forming the partition wall 14 on the substrate 10 may be the same as that described in regard to the first embodiment. In the step of forming the plurality of organic EL elements 12 on the substrate 10, the light emitting functional layer 18 is formed by vapor deposition, for example.

隔壁14において、吸収剤非含有層14a、吸収剤含有層14b、および吸収剤非含有層14cの厚さは任意である。また、図示の実施の形態では、吸収剤含有層14bは一層であるが、必要に応じて複数層設けてもよい。   In the partition 14, the thickness of the absorbent non-containing layer 14a, the absorbent containing layer 14b, and the absorbent non-containing layer 14c is arbitrary. In the illustrated embodiment, the absorbent-containing layer 14b is a single layer, but a plurality of layers may be provided as necessary.

<他の変形>
上記の実施の形態では、隔壁14の主成分は、絶縁性の透明樹脂材料、例えばアクリル、エポキシまたはポリイミドなどから選択されるが、絶縁性の無機材料、例えば酸化珪素または窒化珪素を隔壁14の主成分としてもよい。吸収剤含有層14bを形成する方法としては以下が考えられる。
(1)例えば、吸収剤が蒸着可能な材料である場合には、上記の絶縁性の無機材料と混合して、その混合材料を蒸着によって堆積させることによって吸収剤含有層14bを形成する。
(2)吸収剤が蒸着不可能または混合蒸着するのに不適切な材料である場合には、吸収剤の粒子を吸収剤非含有層14aの上に配置し、それらの吸収剤の粒子を部分的に覆うように、上記の絶縁性の無機材料を蒸着によって堆積させることによって吸収剤含有層14bを形成する。この場合、すべての吸収剤の粒子が全方位にわたって完全に上記の絶縁性の無機材料に埋設されると、吸収性能が期待できないので、少なくとも一部の粒子が部分的に吸収剤含有層14bの壁面から露出するように、あらかじめ吸収剤の粒子を配置しておく。
(3)吸収剤非含有層14a,14cを上記の絶縁性の無機材料で形成し、吸収剤含有層14bを別の材料で形成する。ここでいう別の材料とは、吸収剤だけでもよいし、吸収剤を含有する絶縁性の透明樹脂材料でもよい。
<Other variations>
In the above embodiment, the main component of the partition 14 is selected from an insulating transparent resin material such as acrylic, epoxy, or polyimide, but an insulating inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride is used for the partition 14. It may be the main component. The following can be considered as a method of forming the absorbent-containing layer 14b.
(1) For example, when the absorbent is a material that can be deposited, the absorbent-containing layer 14b is formed by mixing the insulating inorganic material and depositing the mixed material by vapor deposition.
(2) When the absorbent is a material that cannot be deposited or is inappropriate for mixed deposition, the absorbent particles are placed on the absorbent non-containing layer 14a, and the absorbent particles are partially The absorbent-containing layer 14b is formed by depositing the insulating inorganic material by vapor deposition so as to cover it. In this case, if all the absorbent particles are completely embedded in the insulating inorganic material in all directions, the absorption performance cannot be expected. Therefore, at least some of the particles are partially formed in the absorbent-containing layer 14b. The absorbent particles are arranged in advance so as to be exposed from the wall surface.
(3) The absorbent non-containing layers 14a and 14c are formed of the insulating inorganic material, and the absorbent containing layer 14b is formed of another material. The other material referred to here may be an absorbent alone or an insulating transparent resin material containing the absorbent.

<応用>
次に、本発明に係る有機EL装置を適用した電子機器について説明する。図19は、上記実施形態に係る有機EL装置1または2を画像表示装置に利用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は、表示装置としての有機EL装置1と本体部2010とを備える。本体部2010には、電源スイッチ2001およびキーボード2002が設けられている。
図20に、上記実施形態に係る有機EL装置1または2を適用した携帯電話機を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002、ならびに表示装置としての有機EL装置1を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、有機EL装置1に表示される画面がスクロールされる。
図21に、上記実施形態に係る有機EL装置1または2を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistant)を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001および電源スイッチ4002、ならびに表示装置としての有機EL装置1を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機EL装置1に表示される。
<Application>
Next, an electronic apparatus to which the organic EL device according to the present invention is applied will be described. FIG. 19 is a perspective view showing a configuration of a mobile personal computer using the organic EL device 1 or 2 according to the above embodiment as an image display device. The personal computer 2000 includes an organic EL device 1 as a display device and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002.
FIG. 20 shows a mobile phone to which the organic EL device 1 or 2 according to the above embodiment is applied. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the organic EL device 1 as a display device. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the organic EL device 1 is scrolled.
FIG. 21 shows a portable information terminal (PDA: Personal Digital Assistant) to which the organic EL device 1 or 2 according to the above embodiment is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and the organic EL device 1 as a display device. When the power switch 4002 is operated, various types of information such as an address book and a schedule book are displayed on the organic EL device 1.

本発明に係る有機EL装置が適用される電子機器としては、図19から図21に示したもののほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。ほかに、像担持体に光を照射して静電潜像を形成するプリンタヘッドのような発光源に有機EL装置1または2を用いた、電子写真方式を利用した画像印刷装置も、そのような電子機器に含まれる。   As electronic devices to which the organic EL device according to the present invention is applied, in addition to those shown in FIGS. 19 to 21, a digital still camera, a television, a video camera, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, electronic paper, a calculator, Examples include a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, a video player, and a device equipped with a touch panel. In addition, an image printing apparatus using an electrophotographic method using the organic EL device 1 or 2 as a light-emitting source such as a printer head that irradiates an image carrier with light to form an electrostatic latent image is also like that. Included in various electronic devices.

本発明の第1の実施の形態に係る有機EL装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an organic EL device according to a first embodiment of the present invention. (A)は、図1の有機EL装置の一部拡大断面図であり、(B)は、比較のための他の有機EL装置の一部拡大断面図である。(A) is a partial enlarged cross-sectional view of the organic EL device of FIG. 1, and (B) is a partial enlarged cross-sectional view of another organic EL device for comparison. 図1の有機EL装置の製造方法の一工程を示す図である。It is a figure which shows 1 process of the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of FIG. 図3の次の工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 3. 図4の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図5の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図6の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図7の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図8の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 図9の次の工程を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a step subsequent to that in FIG. 9. 図10の次の工程を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 10. 図11の次の工程を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 11. 図12の次の工程を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a step subsequent to FIG. 12. 図13の次の工程を示す図である。It is a figure which shows the next process of FIG. 比較のための他の有機EL装置の製造の一工程での断面図である。It is sectional drawing in one process of manufacture of the other organic electroluminescent apparatus for a comparison. 図15の次の工程を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a step subsequent to that in FIG. 15. 本発明の第2の実施の形態に係る有機EL装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the organic electroluminescent apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 比較のための他の有機EL装置の一部拡大断面図である。It is a partially expanded sectional view of another organic EL device for comparison. 本発明に係る有機EL装置を有するパーソナルコンピュータの外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the personal computer which has the organic electroluminescent apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る有機EL装置を有する携帯電話機の外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the mobile telephone which has the organic electroluminescent apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る有機EL装置を有する携帯情報端末の外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the portable information terminal which has the organic electroluminescent apparatus which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,2 有機EL装置、10 基板、12 有機EL素子(発光素子)、32 TFT(薄膜トランジスタ)、14 隔壁、14a,14c 吸収剤非含有層、14b 吸収剤含有層、16 画素電極、18 発光機能層(発光に寄与する層)、20 対向電極。   1, 2 organic EL devices, 10 substrates, 12 organic EL elements (light emitting elements), 32 TFTs (thin film transistors), 14 barrier ribs, 14a, 14c absorber-free layers, 14b absorber-containing layers, 16 pixel electrodes, 18 light emitting functions Layer (layer that contributes to light emission), 20 counter electrode.

Claims (5)

基板と、
前記基板上に形成された複数の発光素子と、
前記複数の発光素子を互いに区分するように前記基板上に形成された隔壁とを備え、
前記隔壁においては、水分と酸素の少なくとも一方を吸収する吸収剤を含有する層と、前記吸収剤を含有しない層が積層されていることを特徴とする有機EL装置。
A substrate,
A plurality of light emitting elements formed on the substrate;
A partition formed on the substrate so as to separate the plurality of light emitting elements from each other,
The organic EL device, wherein the partition includes a layer containing an absorbent that absorbs at least one of moisture and oxygen and a layer not containing the absorbent.
前記隔壁においては、前記吸収剤を含有しない層が前記基板から最も遠くに配置されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。   2. The organic EL device according to claim 1, wherein a layer that does not contain the absorbent is disposed farthest from the substrate in the partition wall. 請求項1または請求項2に記載の有機EL装置を備える電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 1. 請求項1に記載の有機EL装置を製造する方法であって、
前記吸収剤を含有する層と、前記吸収剤を含有しない層を積層して、前記隔壁を前記基板上に形成する工程と、
前記基板上に複数の前記発光素子を形成する工程とを備えることを特徴とする方法。
A method for producing the organic EL device according to claim 1,
Laminating a layer containing the absorbent and a layer not containing the absorbent to form the partition on the substrate;
Forming a plurality of the light emitting elements on the substrate.
前記隔壁を形成する工程では、前記吸収剤を含有しない層を前記基板から最も遠くに配置し、
前記発光素子を形成する工程は、
前記発光素子のうち発光に寄与する層となる材料を含む液体を、前記基板上の前記隔壁で囲まれた区域に供給する工程を有することを特徴とする請求項4に記載の方法。
In the step of forming the partition wall, the layer not containing the absorbent is disposed farthest from the substrate,
The step of forming the light emitting element includes:
5. The method according to claim 4, further comprising supplying a liquid containing a material to be a layer contributing to light emission of the light emitting element to an area surrounded by the partition on the substrate.
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