JP2008292910A - Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2008292910A
JP2008292910A JP2007140271A JP2007140271A JP2008292910A JP 2008292910 A JP2008292910 A JP 2008292910A JP 2007140271 A JP2007140271 A JP 2007140271A JP 2007140271 A JP2007140271 A JP 2007140271A JP 2008292910 A JP2008292910 A JP 2008292910A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
printing plate
lithographic printing
water
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007140271A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Matsumura
智之 松村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2007140271A priority Critical patent/JP2008292910A/en
Publication of JP2008292910A publication Critical patent/JP2008292910A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive lithographic printing plate material for water development which can be developed with water and excels in running properties in development processing with water, and a method for producing a lithographic printing plate using the same. <P>SOLUTION: The photosensitive lithographic printing plate material for water development has on a support a photosensitive layer containing (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) a polymerizable compound containing an ethylenically unsaturated bond and (D) a sensitizing dye and has a protective layer containing polyvinyl alcohol on the photosensitive layer, wherein the photosensitive layer contains a water-soluble high molecular compound as the binder (B) and at least one of the photosensitive layer and the protective layer contains a preservative. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、いわゆるコンピューター・トゥ・プレート(computer−to−plate:以下において、「CTP」という。)システムに用いられる感光性平版印刷版材料に関し、特に、波長350〜450nmのレーザー光での露光に適した感光性平版印刷版材料およびそれを用いた平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate material used in a so-called computer-to-plate (hereinafter referred to as “CTP”) system, and in particular, exposure with a laser beam having a wavelength of 350 to 450 nm. The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate material suitable for the above and a method for producing a lithographic printing plate using the same.

近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術において、画像のデジタルデータをレーザー光源で直接感光性印刷版に記録するCTPが開発され、実用化が進んでいる。   In recent years, CTP recording digital image data directly on a photosensitive printing plate with a laser light source has been developed and is being put to practical use in the technology for producing printing plates for offset printing.

これらのうち、比較的高い耐刷力を要求される印刷の分野においては、重合可能な化合物を含む画像記録層を有するネガ型の感光層をアルミニウム支持体上に有する印刷版材料を用いることが知られている。   Among these, in the field of printing that requires relatively high printing durability, it is necessary to use a printing plate material having a negative photosensitive layer having an image recording layer containing a polymerizable compound on an aluminum support. Are known.

一方レーザーでデジタルデータを記録するCTP用感光性平版印刷版として、例えば、特開平9−80750号、特開平10−101719号に記載の重合開始剤であるチタノセンと特定の色素を含有する光重合系感光層を有するもの等が知られている。しかし、これらの感光性平版印刷版は、光源として比較的長波長の可視光源を使用するため印刷版作製のための製版作業を、暗い赤灯のセーフライト下で行う必要があり、作業性が悪く、より明るい黄色灯下で取り扱いが可能であること(明室化)の要求があった。   On the other hand, as a photosensitive lithographic printing plate for CTP which records digital data with a laser, for example, photopolymerization containing titanocene which is a polymerization initiator described in JP-A-9-80750 and JP-A-10-101719 and a specific dye. Those having a photosensitive layer are known. However, since these photosensitive lithographic printing plates use a relatively long-wavelength visible light source as a light source, it is necessary to perform plate-making work for preparing the printing plate under a safe light of a dark red light. There was a demand for being able to handle under a brighter yellow light (lighting room).

そして、高出力かつ小型の例えば青紫色レーザー等の短波長に発光波長を有するレーザーが比較的容易に入手できるようになり、これらのレーザー波長に適した感光性平版印刷版を開発することにより明室化がはかられてきており、350nmから450nm域でのレーザー露光に対応する光重合型の感光性平版印刷版材料が提案されている(例えば特許文献1参照。)。   In addition, high-power and small-sized lasers such as blue-violet lasers having emission wavelengths at short wavelengths can be obtained relatively easily, and by developing photosensitive lithographic printing plates suitable for these laser wavelengths, The use of a photopolymerization type photosensitive lithographic printing plate material corresponding to laser exposure in the 350 nm to 450 nm region has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

しかしながら、これらの印刷版材料は露光後、例えばアルカリ水溶液などの湿式での現像処理を必要とした。   However, these printing plate materials require a wet development process such as an alkaline aqueous solution after exposure.

一方、CTPシステムに使用される印刷版材料として、特別な薬剤(例えばアルカリ、酸、溶媒など)を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理が行われ、画像露光後特に現像工程を必要としないプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。   On the other hand, as a printing plate material used in the CTP system, there is a printing plate material that does not require a development treatment with a processing solution containing a special agent (for example, alkali, acid, solvent, etc.) and can be applied to a conventional printing press. For example, there is known a printing plate material called a processless type printing plate material that is developed at an initial stage of printing on a printing press and does not require a development step after image exposure.

プロセスレスタイプの印刷版材料としては、例えば、光重合型感光層が水溶性バインダー樹脂を有し、印刷機上で湿し水により非画像部が除去される感光性平版印刷版材料が知られている(特許文献2、3参照)。   As a processless type printing plate material, for example, a photosensitive lithographic printing plate material in which a photopolymerization type photosensitive layer has a water-soluble binder resin and a non-image area is removed by dampening water on a printing machine is known. (See Patent Documents 2 and 3).

このような感光性平版印刷版材料は、水のみにより現像することができ、高いpHを有するアルカリ性現像液での現像は必要としない。しかしながら、このような感光性平版印刷版印刷版材料を水を現像液として、大量の印刷版材料を処理した場合、現像液として用いる水に、多くのスラッジ、黴などが発生し、これが原因と思われる、印刷版上の汚れを生ずる場合があるなどの問題があった。
特開2003−21901号公報 特開2006−332861号公報 特開2006−343745号公報
Such a photosensitive lithographic printing plate material can be developed only with water, and development with an alkaline developer having a high pH is not required. However, when such a photosensitive lithographic printing plate material is processed with a large amount of printing plate material using water as a developer, a lot of sludge, soot, etc. are generated in the water used as the developer. There were problems such as seemingly causing stains on the printing plate.
JP 2003-21901 A JP 2006-328661 A JP 2006-343745 A

本発明の目的は、水による現像が可能であり、かつ水による現像処理のランニング特性に優れる、水現像用感光性平版印刷版材料およびこれを用いた平版印刷版の作製方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate material for water development, which can be developed with water and has excellent running characteristics of the development treatment with water, and a method for producing a lithographic printing plate using the same. is there.

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
1.支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物及び(D)増感色素を含有する感光層を有し、該感光層上にポリビニルアルコールを含有する保護層を有する水現像用感光性平版印刷版材料において、該感光層が該(B)結合材として、水溶性高分子化合物を含有し、該感光層および該保護層の少なくとも1層が防腐剤を含有することを特徴とする水現像用感光性平版印刷版材料。
2.前記防腐剤が、イソチアゾリン誘導体であることを特徴とする1に記載の水現像用感光性平版印刷版材料。
3.前記(C)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物が、下記(C1)、(C2)および(C3)の化合物の反応生成物であることを特徴とする1または2に記載の水現像用感光性平版印刷版材料。
(C1)分子内に少なくとも1個のエチレン性二重結合と、1個のヒドロキシル基を含有する化合物
(C2)ジイソシアネート化合物
(C3)分子内に三級アミンの構造を有するジオール化合物、または分子内に二級アミン構造とヒドロキシル基を一個ずつ有する化合物
4.前記水溶性高分子化合物が、ビニルピロリドンを構成モノマー単位として有する高分子化合物であることを特徴とする1〜3のいずれか1項に記載の水現像用感光性平版印刷版材料。
5.1〜4に記載の水現像用感光性平版印刷版材料を画像露光、加熱処理、水による現像処理をこの順に行うことを特徴とする平版印刷版の作製方法。
6.5に記載の平版印刷版の作製方法により得られた平版印刷版を、さらに水溶性樹脂と界面活性剤を含有する版面保護剤により処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
7.前記画像露光が、370nm以上、420nm以下の発光波長を有するレーザによって行われることを特徴とする5または6に記載の平版印刷版の作製方法。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
1. On the support, (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) a polymerizable ethylenic double bond-containing compound and (D) a sensitizing dye-containing photosensitive layer, In the photosensitive lithographic printing plate material for water development having a protective layer containing polyvinyl alcohol on the photosensitive layer, the photosensitive layer contains a water-soluble polymer as the binder (B), and the photosensitive layer and the photosensitive layer A photosensitive lithographic printing plate material for water development, wherein at least one of the protective layers contains a preservative.
2. 2. The photosensitive lithographic printing plate material for water development according to 1, wherein the preservative is an isothiazoline derivative.
3. 3. The water development according to 1 or 2, wherein the (C) polymerizable ethylenic double bond-containing compound is a reaction product of the following compounds (C1), (C2) and (C3): Photosensitive lithographic printing plate material.
(C1) a compound containing at least one ethylenic double bond and one hydroxyl group in the molecule (C2) a diisocyanate compound (C3) a diol compound having a tertiary amine structure in the molecule, or an intramolecular 3. A compound having one secondary amine structure and one hydroxyl group 4. The photosensitive lithographic printing plate material for water development according to any one of 1 to 3, wherein the water-soluble polymer compound is a polymer compound having vinylpyrrolidone as a constituent monomer unit.
5. A method for preparing a lithographic printing plate, comprising subjecting the photosensitive lithographic printing plate material for water development described in 5.1 to 4 to image exposure, heat treatment, and development treatment with water in this order.
A method for producing a lithographic printing plate, characterized in that the lithographic printing plate obtained by the method for producing a lithographic printing plate described in 6.5 is further treated with a plate surface protective agent containing a water-soluble resin and a surfactant.
7). The method for preparing a lithographic printing plate as described in 5 or 6, wherein the image exposure is performed by a laser having an emission wavelength of 370 nm or more and 420 nm or less.

本発明の上記構成により、水による現像が可能であり、耐刷性に優れ、かつ水による現像処理のランニング特性に優れる、水現像用感光性平版印刷版材料およびこれを用いた平版印刷版の作製方法が提供できる。   According to the above-described configuration of the present invention, the photosensitive lithographic printing plate material for water development and the lithographic printing plate using the same can be developed with water, have excellent printing durability, and have excellent running characteristics of development processing with water. A manufacturing method can be provided.

以下に本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

本発明は、支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)エチレン性不飽和結合含有化合物及び(D)増感色素を含有する感光層を有し、該感光層上にポリビニルアルコールを含有する保護層を有する水現像用感光性平版印刷版材料において、該感光層が該(B)結合材として水溶性バインダー樹脂を含有し、該感光層および保護層の少なくとも一層が防腐剤を含有することを特徴とする。   The present invention has a photosensitive layer containing (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) an ethylenically unsaturated bond-containing compound and (D) a sensitizing dye on a support, In the photosensitive lithographic printing plate material for water development having a protective layer containing polyvinyl alcohol on the photosensitive layer, the photosensitive layer contains a water-soluble binder resin as the binder (B), and the photosensitive layer and the protective layer At least one layer contains a preservative.

本発明においては、感光層または保護層に防腐剤を含有させることにより、水による現像が可能であり、耐刷性に優れ、かつ水による現像処理のランニング特性に優れる、水現像用感光性平版印刷版材料が提供できる。   In the present invention, by incorporating a preservative in the photosensitive layer or the protective layer, development with water is possible, the printing durability is excellent, and the running characteristics of the development processing with water are excellent. Printing plate material can be provided.

本発明においては、感光層および保護層の少なくとも一層が防腐剤を含有する。   In the present invention, at least one of the photosensitive layer and the protective layer contains a preservative.

本発明に係る防腐剤は、殺菌作用、防黴作用を有する化合物およびその混合物であり、防腐剤としては、例えば、パラベン類(4−ヒドロキシ安息香酸メチル、4−ヒドロキシ安息香酸プロピル)、安息香酸及びその塩(例えば、安息香酸ナトリウム)、ソルビン酸及びその塩(例えば、ソルビン酸カリウム)、プロピオン酸及びその塩(例えば、プロピオン酸ナトリウム)、エタノール、ベンジルアルコール、クレゾール、クロロクレゾール、イソチアゾリノン化合物(例えばクロロメチルイソチアゾリノン/メチルイソチアゾリノンの混合物)、2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール、及び、1,2−ベンゾイソチアゾール−3(2H)−オンである。防腐剤を添加して、カビの発生を防止することができる。これらの中でも、イソチアゾリノン化合物が好ましく、クロロメチルイソチアゾリノン/メチルイソチアゾリノンの混合物が特に好ましい。   The preservative according to the present invention is a compound having a bactericidal and antifungal action and a mixture thereof. Examples of the preservative include parabens (methyl 4-hydroxybenzoate, propyl 4-hydroxybenzoate), benzoic acid. And salts thereof (for example, sodium benzoate), sorbic acid and its salts (for example, potassium sorbate), propionic acid and its salts (for example, sodium propionate), ethanol, benzyl alcohol, cresol, chlorocresol, isothiazolinone compounds ( For example, a mixture of chloromethylisothiazolinone / methylisothiazolinone), 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol, and 1,2-benzisothiazol-3 (2H) -one. An antiseptic can be added to prevent mold generation. Among these, isothiazolinone compounds are preferable, and a mixture of chloromethylisothiazolinone / methylisothiazolinone is particularly preferable.

防腐剤の含有量は、感光層または保護層に対して、0.001質量%〜3質量%が好ましく、0.01質量%〜1.5質量%が特に好ましい。   The content of the preservative is preferably 0.001% by mass to 3% by mass and particularly preferably 0.01% by mass to 1.5% by mass with respect to the photosensitive layer or the protective layer.

防腐剤を含有した感光層、保護層は、感光層、保護層を形成するための塗布液に防腐剤を含有させ、感光性、保護層を塗布、乾燥して形成することにより得られる。   A photosensitive layer and a protective layer containing a preservative can be obtained by adding a preservative to a coating solution for forming the photosensitive layer and the protective layer, coating the photosensitive layer and the protective layer, and drying.

以下に、本発明に係る感光層および保護層について説明する。   The photosensitive layer and protective layer according to the present invention will be described below.

(感光層)
((A)重合開始剤)
本発明に係る重合開始剤は、画像露光により、重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物の重合を開始し得るものであり、重合開始剤としては、例えばチタノセン化合物、モノアルキルトリアリールボレート化合物、鉄アレーン錯体化合物、ポリハロゲン化合物、ビイミダゾール化合物が好ましく用いられるが、これらの内でも特にビイミダゾール化合物が好ましく用いられる。
(Photosensitive layer)
((A) polymerization initiator)
The polymerization initiator according to the present invention is capable of initiating polymerization of an ethylenic double bond-containing compound that can be polymerized by image exposure. Examples of the polymerization initiator include titanocene compounds and monoalkyltriaryl borate compounds. Iron arene complex compounds, polyhalogen compounds, and biimidazole compounds are preferably used, and among these, biimidazole compounds are particularly preferably used.

ビイミダゾール化合物は、ビイミダゾールの誘導体であり、例えば特開2003−295426号公報に記載される化合物等が挙げられる。   A biimidazole compound is a derivative of biimidazole, and examples thereof include compounds described in JP-A No. 2003-295426.

本発明においては、ビイミダゾール化合物として、ヘキサアリールビイミダゾール(HABI、トリアリール−イミダゾールの二量体)化合物を好ましく用いることができる。   In the present invention, a hexaarylbiimidazole (HABI, triaryl-imidazole dimer) compound can be preferably used as the biimidazole compound.

HABI類の製造工程はDE1,470,154に記載されておりそして光重合可能な組成物中でのそれらの使用はEP24,629、EP107,792、US4,410,621、EP215,453およびDE3,211,312に記述されている。   Processes for the production of HABIs are described in DE 1,470,154 and their use in photopolymerizable compositions is described in EP 24,629, EP 107,792, US 4,410,621, EP 215,453 and DE 3, 211 and 312.

好ましい誘導体は例えば、2,4,5,2′,4′,5′−ヘキサフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(2−ブロモフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラキス(3−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(2−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラキス(3,4,5−トリメトキシフェニル)−ビイミダゾール、2,5,2′,5′−テトラキス(2−クロロフェニル)−4,4′−ビス(3,4−ジメトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(2,6−ジクロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(2−ニトロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ジ−o−トリル−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(2−エトキシフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾールおよび2,2′−ビス(2,6−ジフルオロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニルビイミダゾールであり、これらの化合物は市販品として入手することができる。   Preferred derivatives are, for example, 2,4,5,2 ′, 4 ′, 5′-hexaphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenylbiimidazole. Imidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,5,4' , 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetrakis (3-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2- Chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetrakis (3,4,5-trimethoxyphenyl) -biimidazole, 2,5,2', 5'-tetrakis (2-chlorophenyl) -4,4 ' -Bis (3,4-dimethyl) Xylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-nitrophenyl) -4,5 , 4 ', 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-di-o-tolyl-4,5,4', 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-ethoxyphenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,6-difluorophenyl) -4,5,4', 5'-tetraphenylbiimidazole, The compound can be obtained as a commercial product.

ビイミダゾール化合物の含有量は、感光層に対して0.05質量%〜20.0質量%が好ましく、1.0質量%〜10.0質量%が特に好ましい。また前記一般式(1)で表される化合物とビイミダゾール化合物との含有量の比(色素/ビイミダゾール(質量比))は、0.01〜20が好ましく特に0.1〜10が好ましい。   The content of the biimidazole compound is preferably 0.05% by mass to 20.0% by mass and particularly preferably 1.0% by mass to 10.0% by mass with respect to the photosensitive layer. The content ratio of the compound represented by the general formula (1) and the biimidazole compound (pigment / biimidazole (mass ratio)) is preferably 0.01 to 20, and particularly preferably 0.1 to 10.

チタノセン化合物としては、特開昭63−41483、特開平2−291に記載される化合物等が挙げられるが、更に好ましい具体例としては、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ジ−クロライド、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−フェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニル(IRUGACURE727L:チバスペシャリティーケミカルズ社製)、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム(IRUGACURE784:チバスペシャリティーケミカルズ社製)、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,4,6−トリフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウムビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,4,6−トリフルオロ−3−(2−5−ジメチルピリ−1−イル)フェニル)チタニウム等が挙げられる。   Examples of titanocene compounds include compounds described in JP-A-63-41483 and JP-A-2-291. More preferred specific examples include bis (cyclopentadienyl) -Ti-di-chloride, bis (Cyclopentadienyl) -Ti-bis-phenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis -2,3,5,6-tetrafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,6 -Difluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4-difluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis- , 3,4,5,6-pentafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis -2,6-difluorophenyl (IRUGACURE 727L: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (py-1-yl) phenyl) titanium (IRUGACURE 784: Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,4,6-trifluoro-3- (pyridin-1-yl) phenyl) titanium bis (cyclopentadienyl) -bis (2, 4,6-trifluoro-3- (2-5-dimethylpy-1-yl) phenyl) titanium and the like It is below.

モノアルキルトリアリールボレート化合物としては、特開昭62−150242、特開昭62−143044に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ブチルートリナフタレン−1−イル−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ブチルートリフェニル−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ブチルートリ−(4−tert−ブチルフェニル)−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ヘキシルートリ−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ヘキシルートリ−(3−フルオロフェニル)−ボレート等が挙げられる。   Examples of the monoalkyl triaryl borate compound include compounds described in JP-A-62-150242 and JP-A-62-143044, and more preferable specific examples include tetra-n-butylammonium / n-butyrate. Linaphthalen-1-yl-borate, tetra-n-butylammonium / n-butyl-triphenyl-borate, tetra-n-butylammonium / n-butyl-tri- (4-tert-butylphenyl) -borate, tetra-n -Butylammonium n-hexyl rootri- (3-chloro-4-methylphenyl) -borate, tetra-n-butylammonium n-hexyl rootri- (3-fluorophenyl) -borate and the like.

鉄アレーン錯体化合物としては、特開昭59−219307に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、η−ベンゼン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−クメン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−フルオレン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ナフタレン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−キシレン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ベンゼン−(η−シクロペンタジエニル)鉄テトラフルオロボレート等が挙げられる。   Examples of the iron arene complex compound include compounds described in JP-A-59-219307. More preferred specific examples include η-benzene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-cumene. -(Η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-fluorene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-naphthalene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η- Examples include xylene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-benzene- (η-cyclopentadienyl) iron tetrafluoroborate.

ポリハロゲン化合物としては、トリハロゲンメチル基、ジハロゲンメチル基又はジハロゲンメチレン基を有する化合物が好ましく用いられ、特に下記一般式(1)で表されるハロゲン化合物及び上記基がオキサジアゾール環に置換した化合物が好ましく用いられる。   As the polyhalogen compound, a compound having a trihalogenmethyl group, a dihalogenmethyl group or a dihalomethylene group is preferably used, and in particular, the halogen compound represented by the following general formula (1) and the above group is substituted with an oxadiazole ring. A compound is preferably used.

この中でもさらに、下記一般式(2)で表されるハロゲン化合物が特に好ましく用いられる。   Among these, a halogen compound represented by the following general formula (2) is particularly preferably used.

一般式(1) R1−CY2−(C=O)−R2
式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノスルホニル基またはシアノ基を表す。R2は一価の置換基を表す。R1とR2が結合して環を形成してもかまわない。Yはハロゲン原子を表す。
Formula (1) R 1 —CY 2 — (C═O) —R 2
In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an iminosulfonyl group, or a cyano group. R 2 represents a monovalent substituent. R 1 and R 2 may be bonded to form a ring. Y represents a halogen atom.

一般式(2) CY3−(C=O)−X−R3
式中、R3は、一価の置換基を表す。Xは、−O−、−NR4−を表す。R4は、水素原子、アルキル基を表す。R3とR4が結合して環を形成してもかまわない。Yはハロゲン原子を表す。これらの中でも特にポリハロゲンアセチルアミド基を有するものが好ましく用いられる。
Formula (2) CY 3 — (C═O) —X—R 3
In the formula, R 3 represents a monovalent substituent. X represents —O— or —NR 4 —. R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 and R 4 may be bonded to form a ring. Y represents a halogen atom. Among these, those having a polyhalogenacetylamide group are particularly preferably used.

又、ポリハロゲンメチル基がオキサジアゾール環に置換した化合物も好ましく用いられる。さらに、特開平5−34904号公報、同8−240909号公報に記載のオキサジアゾール化合物も好ましく用いられる。   A compound in which a polyhalogen methyl group is substituted on the oxadiazole ring is also preferably used. Furthermore, oxadiazole compounds described in JP-A Nos. 5-34904 and 8-240909 are also preferably used.

その他に任意の重合開始剤の併用が可能である。例えばJ.コーサー(J.Kosar)著「ライト・センシテイブ・システムズ」第5章に記載されるようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許1,459,563号に開示されている。   In addition, any polymerization initiator can be used in combination. For example, J. et al. Carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfides, redox compounds, azo, diazo compounds, halogen compounds, and photoreductive dyes as described in Chapter 5 of “Light Sensitive Systems” by J. Kosar Etc. More specific compounds are disclosed in British Patent 1,459,563.

即ち、併用が可能な重合開始剤としては、次のようなものを使用することができる。   That is, as the polymerization initiator that can be used in combination, the following can be used.

ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−i−プロピルエーテル、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体;ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体;2−クロロチオキサントン、2−i−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;2−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体;N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体;α,α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物の他、特公昭59−1281号、同61−9621号ならびに特開昭60−60104号記載のトリアジン誘導体;特開昭59−1504号、同61−243807号記載の有機過酸化物;特公昭43−23684号、同44−6413号、同44−6413号、同47−1604号ならびに米国特許3,567,453号記載のジアゾニウム化合物;米国特許2,848,328号、同2,852,379号ならびに同2,940,853号記載の有機アジド化合物;特公昭36−22062b号、同37−13109号、同38−18015号ならびに同45−9610号記載のo−キノンジアジド類;特公昭55−39162号、特開昭59−14023号ならびに「マクロモレキュルス(Macromolecules)」10巻,1307頁(1977年)記載の各種オニウム化合物;特開昭59−142205号記載のアゾ化合物;特開平1−54440号、ヨーロッパ特許109,851号、同126,712号ならびに「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.Imag.Sci.)」30巻,174頁(1986年)記載の金属アレン錯体;特願平4−56831号及び同4−89535号記載の(オキソ)スルホニウム有機硼素錯体;「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(Coordination Chemistry Review)」84巻,85〜277頁(1988年)ならびに特開平2−182701号記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体;特開平3−209477号記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;四臭化炭素、特開昭59−107344号記載の有機ハロゲン化合物、等。   Benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin-i-propyl ether, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone; benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4′-bis (dimethyl) Benzophenone derivatives such as amino) benzophenone; thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-i-propylthioxanthone; anthraquinone derivatives such as 2-chloroanthraquinone and 2-methylanthraquinone; N-methylacridone, N-butylacridone and the like In addition to α, α-diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone and uranyl compounds, JP-B-59-1281, 61-9621 and JP-A-60-60104 Triazine derivatives; organic peroxides described in JP-A-59-1504 and JP-A-61-243807; JP-B-43-23684, JP-A-44-6413, JP-A-44-6413, JP-A-47-1604, and US patents Diazonium compounds described in US Pat. No. 3,567,453; organic azide compounds described in US Pat. Nos. 2,848,328 and 2,852,379 and 2,940,853; O-quinonediazides described in JP-A Nos. 13109, 38-18015 and 45-9610; JP-B-55-39162, JP-A-59-14023 and “Macromolecules”, Vol. 10, 1307 Various onium compounds described on page 1977; azo compounds described in JP-A-59-142205 Compound: JP-A-1-54440, European Patents 109,851, 126,712 and “Journal of Imaging Science (J. Imag. Sci.)”, Vol. 30, 174 (1986) (Oxo) sulfonium organoboron complexes described in Japanese Patent Application Nos. 4-56831 and 4-89535; “Coordination Chemistry Review”, 84, 85-277 (1988) ) And transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701; 2,4,5-triarylimidazole dimer described in JP-A-3-209477; carbon tetrabromide, JP Organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, etc.

本発明に係る重合開始剤の含有量(重合開始剤の総量)は感光層に対して0.05質量%〜20.0質量%が好ましく、1.0質量%〜10.0質量%が特に好ましい。   The content of the polymerization initiator according to the present invention (total amount of polymerization initiator) is preferably 0.05% by mass to 20.0% by mass, particularly 1.0% by mass to 10.0% by mass with respect to the photosensitive layer. preferable.

((B)結合材)
本発明に係る結合材は、感光層に含まれる構成成分を担持し得るものであり、感光層は結合材として水溶性高分子化合物を含む。
((B) binder)
The binder according to the present invention can carry the constituent components contained in the photosensitive layer, and the photosensitive layer contains a water-soluble polymer compound as the binder.

(水溶性高分子化合物)
水溶性高分子化合物とは、水に対する溶解度(25℃の水100に溶解するg数)が0.1以上であり、分子量(質量平均)が500以上の化合物をいう。
(Water-soluble polymer compound)
The water-soluble polymer compound is a compound having a solubility in water (g number dissolved in water 100 at 25 ° C.) of 0.1 or more and a molecular weight (mass average) of 500 or more.

水溶性高分子化合物としては、例えば種々の鹸化度を有するポリビニルアルコール、ヒドロキシスチレンの重合体やその共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルピロリドンやビニルピロリドンの共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸アミド、コーンスターチ、マンナン、ペクチン、寒天、デキストラン、プルラン、にかわ、ヒドロキシメチルセルロース、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸ナトリウム、等が挙げられる。   Examples of water-soluble polymer compounds include polyvinyl alcohols having various saponification degrees, polymers of hydroxystyrene and copolymers thereof, polyamide resins, copolymers of polyvinylpyrrolidone and vinylpyrrolidone, polyethylene oxide, polyethyleneimine, and polyacrylic. Examples include acid amide, corn starch, mannan, pectin, agar, dextran, pullulan, glue, hydroxymethylcellulose, alginic acid, carboxymethylcellulose, sodium polyacrylate, and the like.

水溶性高分子化合物としては、特に非イオン性親水性基を有する高分子化合物が好ましく用いられる。   As the water-soluble polymer compound, a polymer compound having a nonionic hydrophilic group is particularly preferably used.

分子量としては耐刷性、画像再現性の面から質量平均分子量が1,000〜100,000の範囲が好ましく特に1,000〜50,000の範囲が好ましい。   The molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 100,000, particularly preferably in the range of 1,000 to 50,000 in terms of printing durability and image reproducibility.

本発明に係る感光層は結合材として、水溶性高分子化合物以外の化合物を含んでもよいが、結合材の内、水溶性高分子化合物の占める割合は、全結合材に対して、80〜100質量%が好ましく、90〜100%が特に好ましい。   The photosensitive layer according to the present invention may contain a compound other than the water-soluble polymer compound as a binder, but the proportion of the water-soluble polymer compound in the binder is 80 to 100 with respect to the total binder. % By mass is preferable, and 90 to 100% is particularly preferable.

結合材の含有量としては、感光層に対して、10質量%〜95質量%が好ましく、特に30質量%〜90質量%の範囲が好ましい。   The content of the binder is preferably 10% by mass to 95% by mass, and particularly preferably 30% by mass to 90% by mass with respect to the photosensitive layer.

併用できる結合材としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等が挙げられる。   Examples of the binder that can be used in combination include polyvinyl butyral resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, shellac, and other natural resins.

(非イオン性親水性基を有する高分子化合物)
上記の非イオン性親水性基を有する高分子化合物の非イオン性親水性基とは、水中でイオン化することなく親水性を示す基あるいは結合であり、例えばアルコール性水酸基、芳香族性水酸基、酸アミド基、スルホンアミド基、チオール基、ピロリドン基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、糖残基などが挙げられる。
(High molecular compound having nonionic hydrophilic group)
The nonionic hydrophilic group of the polymer compound having a nonionic hydrophilic group is a group or bond that exhibits hydrophilicity without being ionized in water. For example, an alcoholic hydroxyl group, an aromatic hydroxyl group, an acid Examples include an amide group, a sulfonamide group, a thiol group, a pyrrolidone group, a polyoxyethylene group, a polyoxypropylene group, and a sugar residue.

非イオン性親水性基を有する高分子化合物としては、現像性の面から、特に非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物が好ましい。   As the polymer compound having a nonionic hydrophilic group, a compound containing 30% by mass or more of the nonionic hydrophilic group is particularly preferable from the viewpoint of developability.

また、上記非イオン性親水性基を含有する化合物は現像性、画像再現性の面から質量平均分子量が1,000〜50,000のオリゴマーまたは、ポリマーが好ましく、例えば、前記した非イオン性親水性基を側鎖に有する不飽和モノマーを1種又は2種以上重合したポリマーやポリビニルアルコール系ポリマー、多糖類であるセルロース系ポリマー、グルコース系ポリマーがあげられる。   The compound containing a nonionic hydrophilic group is preferably an oligomer or polymer having a mass average molecular weight of 1,000 to 50,000 in terms of developability and image reproducibility. Examples thereof include polymers obtained by polymerizing one or more unsaturated monomers having a functional group in the side chain, polyvinyl alcohol polymers, cellulose polymers that are polysaccharides, and glucose polymers.

例えば、アミド基を側鎖に有する不飽和モノマーとしては、無置換又は置換の(メタ)アクリルアミド、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸等の二塩基酸のアミド化モノマー、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。   For example, as an unsaturated monomer having an amide group in the side chain, an amidation monomer of unsubstituted or substituted (meth) acrylamide, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid or the like, N-vinylacetamide, N- Examples include vinylformamide and N-vinylpyrrolidone.

無置換又は置換(メタ)アクリルアミドのより具体例としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、スルホン酸プロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。   More specific examples of unsubstituted or substituted (meth) acrylamide include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N, N- Diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethyl (meth) ) Acrylamide, propyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, and the like.

また、前記イタコン酸等の二塩基酸のアミド化モノマーの場合は、一方のカルボキシル基がアミド化されたモノアミド、両方のカルボキシル基がアミド化されたジアミド、更に一方のカルボキシル基がアミド化され、他方のカルボキシル基がエステル化されたアミドエステルであってもよい。   Further, in the case of an amidation monomer of a dibasic acid such as itaconic acid, a monoamide in which one carboxyl group is amidated, a diamide in which both carboxyl groups are amidated, and further one carboxyl group is amidated, An amide ester in which the other carboxyl group is esterified may be used.

また、例えば水酸基を有する不飽和モノマーとしては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、及び、これらの(メタ)アクリレートにエチレンオキシド、プロピレンオキシドを付加したモノマー、メチロール(メタ)アクリルアミドや該メチロール(メタ)アクリルアミドとメチルアルコールやブチルアルコールとの縮合物であるメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。   Examples of unsaturated monomers having a hydroxyl group include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and monomers obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to these (meth) acrylates. And methylol (meth) acrylamide, and methoxymethyl (meth) acrylamide and butoxymethyl (meth) acrylamide which are condensates of methylol (meth) acrylamide and methyl alcohol or butyl alcohol.

前記「(メタ)アクリル」、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクロイル」等の記載はそれぞれアクリルまたはメタクリル、アクリレートまたはメタアクリレート、アクリロイルまたはメタアクリロイルを意味する。   The description such as “(meth) acryl”, “(meth) acrylate”, “(meth) acryloyl” means acryl or methacryl, acrylate or methacrylate, acryloyl or methacryloyl, respectively.

ポリビニルアルコール系ポリマーを更に詳細に説明すると、酢酸ビニルやプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニルモノマーのホモポリマーやコポリマーを完全又は部分加水分解して得られるポリマー、及びこのポリマーの部分ホルマール化、アセタール化、ブチラール化ポリマー等が挙げられる。   The polyvinyl alcohol polymer will be described in more detail. A polymer obtained by completely or partially hydrolyzing a homopolymer or copolymer of a fatty acid vinyl monomer such as vinyl acetate or vinyl propionate, and a partial formalization or acetalization of this polymer. Examples include butyralized polymers.

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物は、架橋剤と反応する架橋性官能基を有していてもよい。架橋性官能基の具体例としては、用いる架橋剤の種類により異なるが、非イオン性のものが好ましく、例えば、水酸基、イソシアナート基、グリシジル基、オキサゾリン基等が挙げられる。これらの架橋性官能基を導入するには、これらの官能基を有する不飽和モノマー、例えば前記した水酸基を有する不飽和モノマー、グリシジル基を有する不飽和モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレート等を他の(メタ)アクリレートモノマーと共重合すればよい。   A compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group may have a crosslinkable functional group that reacts with a crosslinking agent. Specific examples of the crosslinkable functional group vary depending on the type of the crosslinking agent to be used, but nonionic ones are preferable, and examples thereof include a hydroxyl group, an isocyanate group, a glycidyl group, and an oxazoline group. In order to introduce these crosslinkable functional groups, unsaturated monomers having these functional groups, such as unsaturated monomers having a hydroxyl group described above, glycidyl (meth) acrylate, etc. as other unsaturated monomers having a glycidyl group ( What is necessary is just to copolymerize with a meth) acrylate monomer.

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物は、前記非イオン性親水性基を有する不飽和モノマー、架橋性官能基を有する不飽和モノマー以外に、本発明の効果をさらに向上させるために、その他の共重合可能な不飽和モノマーを共重合することもできる。   In order to further improve the effect of the present invention, the compound containing 30% by mass or more of the nonionic hydrophilic group is other than the unsaturated monomer having the nonionic hydrophilic group and the unsaturated monomer having a crosslinkable functional group. In addition, other copolymerizable unsaturated monomers can be copolymerized.

その他の共重合可能な不飽和モノマーとしては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシ(C1〜C50)エチレングリコール(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソポロニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、α−オレフィン(C4〜C30)挙げられる。   Examples of other copolymerizable unsaturated monomers include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and methoxy (C1 to C50). ) Ethylene glycol (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isopolonyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( (Meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, and α-olefin (C4 to C30).

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物を架橋するのに用いられる架橋剤として、「架橋剤ハンドブック」(金子東助、山下晋三編、大成社、昭和56年)に記載の反応から架橋剤と官能基の組み合わせを選ぶことができる。   Reaction described in “Crosslinking agent handbook” (Tosuke Kaneko, Junzo Yamashita, Taiseisha, 1981) as a crosslinking agent used to crosslink a compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group A combination of a crosslinking agent and a functional group can be selected.

例えば、架橋剤として非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物中の架橋性官能基である水酸基、グリシジル基、場合によってはアミド基と反応する、公知の多価アルコール化合物類、多価カルボン酸化合物やその無水物類、多価グリシジル化合物(エポキシ樹脂)類、多価アミン化合物類、ポリアミド樹脂類、多価イソシアナート化合物類(ブロックイソシアナート類を含む)、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、グリオキザール等が挙げられる。   For example, known polyhydric alcohol compounds that react with a hydroxyl group, a glycidyl group, or an amide group as the crosslinkable functional group in a compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group as a crosslinking agent, Carboxylic acid compounds and their anhydrides, polyvalent glycidyl compounds (epoxy resins), polyvalent amine compounds, polyamide resins, polyvalent isocyanate compounds (including block isocyanates), oxazoline resins, amino resins And glyoxal.

前記した架橋剤の中でも、現像性、印刷適性などの面から公知の種々の多価グリシジル化合物(エポキシ樹脂)、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、多価アミン化合物やポリアミド樹脂等のエポキシ樹脂用の硬化剤やグリオキザールが好ましい。   Among the crosslinking agents described above, various curing agents for epoxy resins such as various polyvalent glycidyl compounds (epoxy resins), oxazoline resins, amino resins, polyvalent amine compounds, and polyamide resins are known in terms of developability and printability. And glyoxal are preferred.

アミノ樹脂としては、公知のメラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリル樹脂等や、これら樹脂の変性樹脂、例えばカルボキシ変性メラミン樹脂等が挙げられる。また、架橋反応を促進するために、前記したグリシジル化合物を用いる際には3級アミン類を、アミノ樹脂を用いる場合はパラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、塩化アンモニウム等の酸性化合物を併用しても良い。感光性樹脂組成物を温風過熱、熱ローラー加熱、レーザー加熱などをすることで、これらの架橋剤が反応して非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物と架橋する。   Examples of amino resins include known melamine resins, urea resins, benzoguanamine resins, glycoluril resins, and modified resins of these resins, such as carboxy-modified melamine resins. In order to accelerate the crosslinking reaction, tertiary amines are used in combination with the above-described glycidyl compounds, and acidic compounds such as paratoluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, and ammonium chloride are used in combination with amino resins. May be. When the photosensitive resin composition is heated with hot air, heated with a roller, heated with a laser, or the like, these crosslinking agents react to crosslink with a compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group.

本発明においては、上記水溶性高分子化合物のなかでも特にビニルピロリドンを構成モノマー単位として有する高分子化合物が特に好ましく用いられ、例えば以下のものが挙げられる。
1.ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体(60/40)質量平均分子量34000
商品名:ルビスコール64、ビーエーエスエフジャパン社製、VP/VA=60mol%/40mol%共重合体
2.ビニルピロリドン−1・ブテン共重合体(90/10)質量平均分子量17000
商品名:GANEX P−904 LC ISPchemicals
3.ビニルピロリドン−グリシジルメタクリレート共重合体(70/30)質量平均分子量10000
((c)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物)
本発明の(A)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物は、画像露光された感光層中の光重合開始剤により重合し得る、エチレン性二重結合を有する化合物である。
In the present invention, among the water-soluble polymer compounds, polymer compounds having vinylpyrrolidone as a constituent monomer unit are particularly preferably used, and examples thereof include the following.
1. Vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer (60/40) mass average molecular weight 34000
Product name: Lubiscol 64, manufactured by BASF Japan, VP / VA = 60 mol% / 40 mol% copolymer Vinylpyrrolidone-1 / butene copolymer (90/10) Mass average molecular weight 17000
Product Name: GANEX P-904 LC ISP chemicals
3. Vinylpyrrolidone-glycidyl methacrylate copolymer (70/30) mass average molecular weight 10,000
((C) Polymerizable, ethylenic double bond-containing compound)
The (A) polymerizable ethylenic double bond-containing compound of the present invention is a compound having an ethylenic double bond that can be polymerized by a photopolymerization initiator in a photosensitive layer that has been image-exposed.

本発明においては、重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物として、下記(C1)〜(C3)の化合物の反応生成物を用いることが好ましい。
(C1)分子内に少なくとも1個のエチレン性二重結合と、1個のヒドロキシル基を含有する化合物
(C2)ジイソシアネート化合物
(C3)分子内に三級アミンの構造を有するジオール化合物、または分子内に二級アミン構造とヒドロキシル基を一個ずつ有する化合物
上記C1としては、例えば2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレートが挙げられる。
In the present invention, it is preferable to use reaction products of the following compounds (C1) to (C3) as the polymerizable ethylenic double bond-containing compound.
(C1) a compound containing at least one ethylenic double bond and one hydroxyl group in the molecule (C2) a diisocyanate compound (C3) a diol compound having a tertiary amine structure in the molecule, or an intramolecular Compound having a secondary amine structure and one hydroxyl group each as C1 includes, for example, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate.

上記C2は、イソシアネート基を2個有する化合物であり、(C2)ジイソシアネート化合物としては、1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン(2モル)、1,3−ジイソシアナートベンゼン、1,3−ジイソシアナート−4−メチルベンゼン、1,3−ジ(イソシアナートメチル)ベンゼンが挙げられる。   C2 is a compound having two isocyanate groups. Examples of the (C2) diisocyanate compound include 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene (2 mol), 1,3-diisocyanate. Examples thereof include natobenzene, 1,3-diisocyanato-4-methylbenzene, and 1,3-di (isocyanatomethyl) benzene.

上記C3としては、例えば、N−n−ブチルジエタノ−ルアミン、N−メチルジエタノ−ルアミン、1,4−ジ(2−ジヒドロキシエチル)、N−エチルジエタノ−ルアミンなどが挙げられる。   Examples of C3 include Nn-butyldiethanolamine, N-methyldiethanolamine, 1,4-di (2-dihydroxyethyl), N-ethyldiethanolamine, and the like.

上記反応生成物として、特に下記一般式(A)で表される化合物が好ましく用いられる。   As the reaction product, a compound represented by the following general formula (A) is particularly preferably used.

Figure 2008292910
Figure 2008292910

一般式(A)中、R1は水素原子またはメチル基を表す。X1は、二価の脂肪族基を表す。X2は、芳香環を有する二価の炭化水素基を表す。X3は、三級アミン構造を有する二価の置換基を表す。 In general formula (A), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X 1 represents a divalent aliphatic group. X 2 represents a divalent hydrocarbon group having an aromatic ring. X 3 represents a divalent substituent having a tertiary amine structure.

1としては、例えば、−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2−、が挙げられるが−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、−CH(CH3)CH2−が好ましい。 X 1 is, for example, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, —CH (CH 3 ) CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2. CH 2 -, but are mentioned -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH (CH 3) -, - CH (CH 3) CH 2 - is preferred.

2としては、例えば、下記X2−1〜X2−10の構造が挙げられるが、X2−3、X2−4、X2−7、X2−9、X2−10が好ましい。 Examples of X 2 include the following structures X2-1 to X2-10, and X2-3, X2-4, X2-7, X2-9, and X2-10 are preferable.

Figure 2008292910
Figure 2008292910

3としては、X3−1〜X3−10の構造が挙げられるが、X3−1、X3−2、X3−5、X3−9が好ましい。 Examples of X 3 include the structures of X3-1 to X3-10, and X3-1, X3-2, X3-5, and X3-9 are preferable.

Figure 2008292910
Figure 2008292910

一般式(A)で表される化合物としては、下記の化合物が挙げられる。 Examples of the compound represented by the general formula (A) include the following compounds.

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Figure 2008292910
Figure 2008292910

重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物としては、一般的なラジカル重合性のモノマー類、紫外線硬化樹脂に一般的に用いられる分子内に付加重合可能なエチレン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー類をさらに併用して用いることができる。   Polymerizable, ethylenic double bond-containing compounds include general radical polymerizable monomers, polyfunctional compounds having a plurality of addition-polymerizable ethylenic double bonds in the molecule generally used for UV curable resins. Monomers and polyfunctional oligomers can be used in combination.

これらの化合物に限定は無いが、好ましいものとして、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、1,3−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、1,3−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−1,3−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。   These compounds are not limited, but preferred examples include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyethyl acrylate, Monofunctional acrylic acid esters such as tetrahydrofurfuryloxyhexanolide acrylate, acrylate of ε-caprolactone adduct of 1,3-dioxane alcohol, 1,3-dioxolane acrylate, or these acrylates as methacrylate, itaconate, crotonate, Methacrylic acid instead of maleate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester such as ethylene glycol Chryrate, triethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, hydroquinone diacrylate, resorcinol diacrylate, hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, diacrylate of hydroxypivalate neopentyl glycol, neo Diacrylate of pentyl glycol adipate, diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-hydroxymethyl-5-ethyl-1,3 -Ε-caprolactone of dioxane diacrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate Additives, bifunctional acrylates such as diglycidyl ether diacrylate of 1,6-hexanediol, or methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, malein in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate Acid esters such as trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Ε-caprolactone adduct of dipentaerythritol hexaacrylate, pyrogallol tria Relate, polyfunctional acrylic acid ester acid such as propionic acid / dipentaerythritol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol tetraacrylate, hydroxypivalylaldehyde-modified dimethylolpropane triacrylate, or these acrylates with methacrylate, itaconate, crotonate, Examples thereof include methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, and maleic acid ester instead of maleate.

また、プレポリマーも上記同様に使用することができる。プレポリマーとしては、後述する様な化合物等を挙げることができ、また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与したプレポリマーも好適に使用できる。これらプレポリマーは、1種又は2種以上を併用してもよいし、上述のモノマー及び/又はオリゴマーと混合して用いてもよい。   Prepolymers can also be used as described above. Examples of the prepolymer include compounds as described below, and a prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can be preferably used. These prepolymers may be used singly or in combination of two or more, and may be used by mixing with the above-mentioned monomers and / or oligomers.

プレポリマーとしては、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに(メタ)アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類、例えば、ビスフェノールA・エピクロルヒドリン・(メタ)アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・(メタ)アクリル酸のようにエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類、例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に(メタ)アクリル酸を導入したウレタンアクリレート、例えば、ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類、その他、油変性アルキッド樹脂に(メタ)アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類等のプレポリマーが挙げられる。   Examples of prepolymers include adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, glutaric acid, pimelic acid, Polybasic acids such as sebacic acid, dodecanoic acid, tetrahydrophthalic acid, and ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, propylene oxide, 1,4-butanediol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, trimethylol Polyester obtained by introducing (meth) acrylic acid into a polyester obtained by combining polyhydric alcohols such as propane, pentaerythritol, sorbitol, 1,6-hexanediol, 1,2,6-hexanetriol Chlorates such as bisphenol A, epichlorohydrin, (meth) acrylic acid, and epoxy acrylates in which (meth) acrylic acid is introduced into an epoxy resin such as phenol novolac, epichlorohydrin, (meth) acrylic acid, such as ethylene glycol, adipine Acid / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxyethylphthalyl methacrylate / xylene diisocyanate, 1,2-polybutadiene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate , Trimethylolpropane, propylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate In addition, urethane acrylates in which (meth) acrylic acid is introduced into urethane resin, for example, silicone resin acrylates such as polysiloxane acrylate, polysiloxane diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, etc., and (meth) acryloyl in oil-modified alkyd resins Examples thereof include prepolymers such as alkyd-modified acrylates having introduced groups and spirane resin acrylates.

本発明に係る感光層には、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸EO(エチレンオキシド)変性ジアクリレート、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及びプレポリマーを含有することができる。   The photosensitive layer according to the present invention includes a phosphazene monomer, triethylene glycol, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) modified diacrylate, isocyanuric acid EO modified triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, trimethylolpropane benzoic acid benzoic acid. Addition-polymerizable oligomers and prepolymers having monomers such as esters, alkylene glycol type acrylic acid-modified, urethane-modified acrylates, and structural units formed from the monomers can be contained.

更に、本発明に併用可能なエチレン性単量体として、少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を含有するリン酸エステル化合物が挙げられる。該化合物は、リン酸の水酸基の少なくとも一部がエステル化された化合物であり、しかも、(メタ)アクリロイル基を有する限り特に限定はされない。   Furthermore, examples of the ethylenic monomer that can be used in combination with the present invention include phosphate ester compounds containing at least one (meth) acryloyl group. The compound is not particularly limited as long as it is a compound in which at least part of the hydroxyl group of phosphoric acid is esterified and has a (meth) acryloyl group.

その他に、特開昭58−212994号公報、同61−6649号公報、同62−46688号公報、同62−48589号公報、同62−173295号公報、同62−187092号公報、同63−67189号公報、特開平1−244891号公報等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「11290の化学商品」化学工業日報社、p.286〜p.294に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物なども本発明においては好適に用いることができる。これらの中で、分子内に2以上のアクリル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ましくは5,000以下のものが好ましい。   In addition, JP-A-58-212994, 61-6649, 62-46688, 62-48589, 62-173295, 62-187092, 63- 67189, JP-A-1-244891, and the like. Further, “11290 Chemical Products”, Chemical Industry Daily, p. 286-p. 294, “UV / EB Curing Handbook (raw material)”, Kobunshi Publishing Co., p. The compounds described in 11 to 65 can also be suitably used in the present invention. Of these, compounds having two or more acrylic groups or methacryl groups in the molecule are preferred in the present invention, and those having a molecular weight of 10,000 or less, more preferably 5,000 or less are preferred.

この他にも、特開平1−105238号公報、特開平2−127404号公報に記載の、アクリレート又はアルキルアクリレートを用いることが出来る。   In addition, acrylates or alkyl acrylates described in JP-A-1-105238 and JP-A-2-127404 can be used.

本発明に係る(B)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物の感光層中における含有量は、感光層に対して、0.5質量%〜15.0質量%が好ましく、特に1.0〜8.0質量%が好ましい。   The content of the polymerizable (B) polymerizable ethylenic double bond-containing compound according to the present invention in the photosensitive layer is preferably 0.5% by mass to 15.0% by mass with respect to the photosensitive layer. 0-8.0 mass% is preferable.

(増感色素)
本発明に係る感光層は、増感剤を含有する。当該増感剤としては、例えばシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、アクリジン、アクリドン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、トリフェニルアミン、クマリン誘導体、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合部、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、ケトアルコールボレート錯体、等が挙げられる。
(Sensitizing dye)
The photosensitive layer according to the present invention contains a sensitizer. Examples of the sensitizer include cyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, acridine, acridone, azo compound, diphenylmethane, triphenylmethane, triphenylamine, and coumarin derivatives. Quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compound, pyromethene compound, pyrazolotriazole compound, benzothiazole compound, barbituric acid derivative, thiobarbituric acid derivative, ketoalcohol borate complex, and the like.

上記のクマリン誘導体としては、例えば、特開平8−129258号公報のB−1からB−22のクマリン誘導体、特開2003−21901号公報のD−1からD−32のクマリン誘導体、特開2002−363206号公報の1から21のクマリン誘導体、特開2002−363207号公報の1から40のクマリン誘導体、特開2002−363208号公報の1から34のクマリン誘導体、特開2002−363209号公報の1から56のクマリン誘導体等が挙げられ、好ましく使用可能である。   Examples of the coumarin derivatives include B-1 to B-22 coumarin derivatives of JP-A-8-129258, D-1 to D-32 coumarin derivatives of JP-A 2003-21901, and JP-A 2002. No. 1-363206, 1 to 21 coumarin derivatives, JP 2002-363207 A to 40 coumarin derivatives, JP 2002-363208 A to 34 coumarin derivatives, JP 2002-363209 A, Examples thereof include 1 to 56 coumarin derivatives and can be preferably used.

また、他の好ましく使用できる増感色素としては、例えば特開2000−98605号、特開2000−147763号、特開2000−206690号、特開2000−258910号、特開2000−309724号、特開2001−042524号、特開2002−202598号、特開2000−221790号に記載の分光増感剤等が挙げられる。   Examples of other sensitizing dyes that can be preferably used include, for example, JP-A No. 2000-98605, JP-A No. 2000-147663, JP-A No. 2000-206690, JP-A No. 2000-258910, and JP-A No. 2000-309724. And spectral sensitizers described in JP-A No. 2001-042524, JP-A No. 2002-202598, and JP-A No. 2000-221790.

本発明においては、吸収極大波長が370〜420nmにある増感色素が好ましく用いられる。   In the present invention, a sensitizing dye having an absorption maximum wavelength of 370 to 420 nm is preferably used.

(メルカプト化合物)
本発明に係る感光層は、メルカプト化合物を含有することが、感度、感度変動防止の面から好ましい。
(Mercapto compound)
The photosensitive layer according to the present invention preferably contains a mercapto compound from the viewpoint of sensitivity and sensitivity fluctuation prevention.

メルカプト化合物は、メルカプト基を有する化合物であり、例えば、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプト−4−メチル−5−アセチルチアゾール、2−メルカプト−4−メチルチアゾール、1−メチル−2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−4,5−ジメチルチアゾール、2−メルカプト−5−アセチルチアゾール、1−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−メチル−2−メルカプト−4−メチル−5−アセチルイミダゾール、2−メルカプトオキサゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプト−2−イミダゾリンが挙げられる。   The mercapto compound is a compound having a mercapto group. For example, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-4-methyl-5-acetylthiazole, 2-mercapto-4 -Methylthiazole, 1-methyl-2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-4,5-dimethylthiazole, 2-mercapto-5-acetylthiazole, 1-methyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-methyl-2-mercapto Examples include -4-methyl-5-acetylimidazole, 2-mercaptooxazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2-mercapto-2-imidazoline.

メルカプト化合物の含有量としては、感光層に対して、0.01〜5質量%が好ましく、特に0.1〜1質量%が好ましい。   The content of the mercapto compound is preferably from 0.01 to 5% by weight, particularly preferably from 0.1 to 1% by weight, based on the photosensitive layer.

(各種添加剤)
本発明に係る感光層には、上記した成分の他に、感光性平版印刷版材料の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性二重結合単量体の不要な重合を阻止するために、重合防止剤を添加することが望ましい。
(Various additives)
In the photosensitive layer according to the present invention, in addition to the above-described components, in order to prevent unnecessary polymerization of the ethylenic double bond monomer that can be polymerized during the production or storage of the photosensitive lithographic printing plate material, It is desirable to add a polymerization inhibitor.

適当な重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。   Suitable polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol) 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salt, 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5) -Methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate and the like.

重合防止剤の添加量は、感光層の全固形分の質量に対して、約0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で感光性層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約10%が好ましい。   The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% with respect to the mass of the total solid content of the photosensitive layer. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, or it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during the drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition.

また、着色剤も使用することができ、着色剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」,日本顔料技術協会編(誠文堂新光社)、カラーインデックス便覧等に述べられているものが挙げられる。   Moreover, a coloring agent can also be used and a conventionally well-known thing can be used conveniently as a coloring agent including a commercially available thing. Examples include those described in the revised new edition “Pigment Handbook”, edited by Japan Pigment Technology Association (Seikodo Shinkosha), Color Index Handbook, and the like.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料(二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等)及び有機顔料(アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等)が挙げられる。   Examples of the pigment include black pigment, yellow pigment, red pigment, brown pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, and metal powder pigment. Specifically, inorganic pigments (titanium dioxide, carbon black, graphite, zinc oxide, Prussian blue, cadmium sulfide, iron oxide, and lead, zinc, barium and calcium chromates) and organic pigments (azo-based, thioindigo) , Anthraquinone, anthanthrone, and triphendioxazine pigments, vat dye pigments, phthalocyanine pigments and derivatives thereof, quinacridone pigments, and the like.

これらの中でも、使用する露光レーザーに対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が0.05以下であることが好ましい。又、顔料の添加量としては、上記組成物の固形分に対し0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.2〜5質量%である。   Among these, it is preferable to select and use a pigment having substantially no absorption in the absorption wavelength region of the spectral sensitizing dye corresponding to the exposure laser to be used. In this case, an integrating sphere at the laser wavelength to be used is used. It is preferable that the reflection absorption of the used pigment is 0.05 or less. Moreover, as an addition amount of a pigment, 0.1-10 mass% is preferable with respect to solid content of the said composition, More preferably, it is 0.2-5 mass%.

上記の感光波長領域での顔料吸収及び現像後の可視画性の観点から、紫色顔料、青色顔料を用いるのが好ましい。このようなものとしては、例えばコバルトブルー、セルリアンブルー、アルカリブルーレーキ、フォナトーンブルー6G、ビクトリアブルーレーキ、無金属フタロシアニンブルー、フタロシアニンブルーフアーストスカイブルー、インダンスレンブルー、インジコ、ジオキサンバイオレット、イソビオランスロンバイオレット、インダンスロンブルー、インダンスロンBC等を挙げることができる。これらの中で、より好ましくはフタロシアニンブルー、ジオキサンバイオレットである。   From the viewpoints of pigment absorption in the above-mentioned photosensitive wavelength region and visible image properties after development, violet pigments and blue pigments are preferably used. Such as, for example, cobalt blue, cerulean blue, alkali blue lake, phonatone blue 6G, Victoria blue lake, metal-free phthalocyanine blue, phthalocyanine blue first sky blue, indanthrene blue, indico, dioxane violet, iso Violanthrone Violet, Indanthrone Blue, Indanthrone BC and the like can be mentioned. Among these, phthalocyanine blue and dioxane violet are more preferable.

また、感光層は、本発明の性能を損わない範囲で、界面活性剤を塗布性改良剤として含有することが出来る。その中でも好ましいのはフッ素系界面活性剤である。   In addition, the photosensitive layer can contain a surfactant as a coating property improving agent as long as the performance of the present invention is not impaired. Of these, fluorine-based surfactants are preferred.

また、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は全固形分の10%以下が好ましい。   In order to improve the physical properties of the cured film, additives such as an inorganic filler, a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, and tricresyl phosphate may be added. These addition amounts are preferably 10% or less of the total solid content.

また、本発明に係る感光層は、感光層に含まれる成分を含有した感光層塗布液を支持体上に塗布、乾燥して設けることができる。感光層塗布液を調製する際に使用する溶剤としては、例えば、アルコール:多価アルコールの誘導体類では、sec−ブタノール、イソブタノール、n−ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,5−ペンタンジオール、又エーテル類:プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、又ケトン類、アルデヒド類:ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、又エステル類:乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等が好ましく挙げられる。   The photosensitive layer according to the present invention can be provided by applying and drying a photosensitive layer coating solution containing the components contained in the photosensitive layer on a support. Solvents used in preparing the photosensitive layer coating solution include, for example, alcohol: polyhydric alcohol derivatives such as sec-butanol, isobutanol, n-hexanol, benzyl alcohol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol. 1,5-pentanediol, ethers: propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, ketones, aldehydes: diacetone alcohol, cyclohexanone, methylcyclohexanone, esters: lactic acid Preferred examples include ethyl, butyl lactate, diethyl oxalate, and methyl benzoate.

本発明に係る感光層の支持体上の付き量としては、0.1g/m2〜10g/m2が好ましく特に0.5g/m2〜5g/m2であることが、感度、保存性の面から好ましい。 The amount attached on the support of the photosensitive layer according to the present invention, be 0.1g / m 2 ~10g / m 2 are preferred especially 0.5g / m 2 ~5g / m 2 , sensitivity, preservability From the viewpoint of

(保護層)
本発明に係る感光層は、その上(支持体とは反対の側)に、ポリビニルアルコールを含有する保護層を有する。
(Protective layer)
The photosensitive layer according to the present invention has a protective layer containing polyvinyl alcohol thereon (on the side opposite to the support).

この保護層は、酸素遮断機能を有しており、ポリビニルアルコールを含有する。   This protective layer has an oxygen blocking function and contains polyvinyl alcohol.

ポリビニルアルコールとしては、鹸化度80モル%以上のものが好ましく使用できる。   As the polyvinyl alcohol, those having a saponification degree of 80 mol% or more can be preferably used.

これらのなかでも特に、鹸化度90モル%以上のものが好ましく使用できる。   Among these, those having a saponification degree of 90 mol% or more can be preferably used.

保護層中の、ポリビニルアルコールの含有量は、50質量%〜100質量%が好ましく特に70質量%〜95質量%が好ましい。   The content of polyvinyl alcohol in the protective layer is preferably 50% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 70% by mass to 95% by mass.

保護層中には、ポリビニルピロリドンを併存させることが好ましい。   It is preferable that polyvinyl pyrrolidone coexists in the protective layer.

さらに、上記2種のポリマーの他にポリサッカライド、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド等の水溶性ポリマーを併用することもできる。   In addition to the above two polymers, polysaccharides, polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, methylcellulose, hydroxyethyl starch, gum arabic, sucrose octaacetate, ammonium alginate, sodium alginate, polyvinylamine Water-soluble polymers such as polyethylene oxide, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, and water-soluble polyamide can also be used in combination.

本発明に係る保護層においては、感光層と保護層間の剥離力が35mN/mm以上であることが好ましく、より好ましくは50mN/mm以上、更に好ましくは75mN/mm以上である。好ましい保護層の組成としては特願平8−161645号に記載されるものが挙げられる。   In the protective layer according to the present invention, the peeling force between the photosensitive layer and the protective layer is preferably 35 mN / mm or more, more preferably 50 mN / mm or more, and further preferably 75 mN / mm or more. Preferred examples of the protective layer composition include those described in Japanese Patent Application No. 8-161645.

剥離力は、保護層上に十分大きい粘着力を有する所定幅の粘着テープを貼り、それを感光性平版印刷版材料の平面に対して90度の角度で保護層と共に剥離する時の力を測定することにより求めることができる。   Peeling force is measured by applying a predetermined width of adhesive tape with a sufficiently large adhesive force on the protective layer and peeling it with the protective layer at an angle of 90 degrees with respect to the plane of the photosensitive lithographic printing plate material. Can be obtained.

保護層には、更に必要に応じて界面活性剤、マット剤等を含有することができる。上記保護層組成物を適当な溶剤に溶解し感光層上に塗布・乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤の主成分は水、あるいはメタノール、エタノール、i−プロパノール等のアルコール類であることが特に好ましい。   The protective layer can further contain a surfactant, a matting agent and the like as required. The protective layer composition is dissolved in a suitable solvent, applied onto the photosensitive layer and dried to form a protective layer. The main component of the coating solvent is particularly preferably water or alcohols such as methanol, ethanol, i-propanol.

保護層の厚みは0.1〜5.0μmが好ましく、特に好ましくは0.5〜3.0μmである。   The thickness of the protective layer is preferably from 0.1 to 5.0 μm, particularly preferably from 0.5 to 3.0 μm.

(支持体)
本発明に係る支持体は感光層を担持可能な板状体またはフィルム体であり、感光層が設けられる側に親水性表面を有するのが好ましい。
(Support)
The support according to the present invention is a plate or film capable of carrying a photosensitive layer, and preferably has a hydrophilic surface on the side where the photosensitive layer is provided.

本発明に係る支持体として、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムに前述の金属薄膜をラミネートまたは蒸着したもの等が挙げられる。   Examples of the support according to the present invention include a metal plate such as aluminum, stainless steel, chromium and nickel, or a laminate obtained by laminating or vapor-depositing the above metal thin film on a plastic film such as a polyester film, a polyethylene film and a polypropylene film. .

また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等が使用できるが、アルミニウム支持体が好ましく使用される。   Moreover, although what hydrophilized the surface, such as a polyester film, a vinyl chloride film, a nylon film, etc. can be used, an aluminum support body is used preferably.

アルミニウム支持体の場合、純アルミニウムまたはアルミニウム合金が用いられる。   In the case of an aluminum support, pure aluminum or an aluminum alloy is used.

支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。又アルミニウム支持体は、保水性付与のため、表面を粗面化したものが用いられる。   Various aluminum alloys can be used as the support, and for example, alloys of metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum are used. . Further, the aluminum support having a roughened surface is used for water retention.

アルミニウム支持体を用いる場合、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。   In the case of using an aluminum support, it is preferable to perform a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment). As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the support. In this case, the substrate is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof and desmutted. It is preferable to perform the treatment. Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.

用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。   The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。   The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable.

電気化学的粗面化処理としては、塩酸を含有する電解液中での交流電解粗面化処理が好ましく用いられる。   As the electrochemical surface roughening treatment, an AC electrolytic surface roughening treatment in an electrolytic solution containing hydrochloric acid is preferably used.

粗面化された表面の算術平均粗さ(Ra)としては、0.2μm以上、0.8μm以下であることが好ましい。   The arithmetic average roughness (Ra) of the roughened surface is preferably 0.2 μm or more and 0.8 μm or less.

即ち、支持体としては、塩酸を含有する水溶液中で電気化学的処理を含む工程により、染めんを形成したものであって、この粗面の算術平均粗さ(Ra)が0.2μm以上、0.8μm以下である支持体が特に好ましい。   That is, as a support, dyeing is formed by a process including electrochemical treatment in an aqueous solution containing hydrochloric acid, and the arithmetic average roughness (Ra) of this rough surface is 0.2 μm or more, A support having a size of 0.8 μm or less is particularly preferred.

本発明でいう算術平均粗さ(Ra)は、ISO4287により定義されたものである。   The arithmetic average roughness (Ra) in the present invention is defined by ISO4287.

すなわち、算術平均粗さ(Ra)は、粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さlrの部分を抜き取り、この抜き取り部分の方向にX軸、縦倍率の方向にY軸をy=Z(x)で表した時に、下記式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。   That is, the arithmetic average roughness (Ra) is obtained by extracting a portion of the measured length lr from the roughness curve in the direction of the center line, and setting the X axis in the direction of the extracted portion and the Y axis in the direction of the vertical magnification y = Z. When expressed by (x), the value obtained by the following formula is expressed in micrometers (μm).

Figure 2008292910
Figure 2008292910

Raの値は、例えば、SE1700α(小坂研究所(株)製)などの市販の接触式粗さ計を用いて測定することができる。   The value of Ra can be measured using, for example, a commercially available contact roughness meter such as SE1700α (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.).

塩酸を含有する電解液中での交流電解粗面化処理の塩酸濃度濃度としては、0.03〜3質量%が好ましく用いられる。   The concentration of hydrochloric acid in the AC electrolytic surface roughening treatment in an electrolytic solution containing hydrochloric acid is preferably 0.03 to 3% by mass.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。   After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution.

表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughing, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。   Following the roughening treatment, an anodic oxidation treatment can be performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the support.

陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.

更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平5−304358号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。   Furthermore, after performing these treatments, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having sulfonic acid groups in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate) or Also suitable are those coated with a yellow dye, amine salt or the like. Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A No. 5-304358 is covalently used.

(塗布)
上記の感光層塗布液を従来公知の方法で支持体上に塗布し、乾燥し、感光性平版印刷版材料を作製することが出来る。
(Application)
The above photosensitive layer coating solution can be coated on a support by a conventionally known method and dried to prepare a photosensitive lithographic printing plate material.

塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることが出来る。   Examples of coating methods for the coating liquid include air doctor coater method, blade coater method, wire bar method, knife coater method, dip coater method, reverse roll coater method, gravure coater method, cast coating method, curtain coater method and extrusion coater method. I can list them.

感光層の乾燥温度は60〜160℃の範囲が好ましく、より好ましくは80〜140℃、特に好ましくは、90〜120℃の範囲で乾燥することが好ましい。   The drying temperature of the photosensitive layer is preferably in the range of 60 to 160 ° C., more preferably 80 to 140 ° C., and particularly preferably 90 to 120 ° C.

(平版印刷版の作製方法)
本発明の平版印刷版の作製方法においては、上記の水現像用感光性平版印刷版材料を画像露光、加熱処理、水による現像処理をこの順に行う。
(Preparation method of lithographic printing plate)
In the lithographic printing plate preparation method of the present invention, the above-described photosensitive lithographic printing plate material for water development is subjected to image exposure, heat treatment, and development treatment with water in this order.

(画像露光)
本発明に係る画像露光に用いられる光源としては、発光波長が370〜420nmのレーザー光の使用が好ましい。
(Image exposure)
As a light source used for image exposure according to the present invention, it is preferable to use laser light having an emission wavelength of 370 to 420 nm.

本発明の感光性平版印刷版を露光する光源としては、例えば、He−Cdレーザー(441nm)、固体レーザーとしてCr:LiSAFとSHG結晶の組合わせ(430nm)、半導体レーザー系として、KNbO3、リング共振器(430nm)、AlGaInN(350nm〜450nm)、AlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー400〜410nm)等を挙げることができる。 As a light source for exposing the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, for example, a He—Cd laser (441 nm), a combination of Cr: LiSAF and SHG crystal (430 nm) as a solid laser, KNbO 3 as a semiconductor laser system, a ring A resonator (430 nm), AlGaInN (350 nm to 450 nm), an AlGaInN semiconductor laser (commercially available InGaN semiconductor laser 400 to 410 nm) and the like can be mentioned.

レーザー露光の場合には、光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。   Laser exposure is suitable for direct writing without using a mask material because light exposure can be performed in the form of a beam according to image data.

又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。   When a laser is used as a light source, it is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible.

レーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。   Laser scanning methods include cylindrical outer surface scanning, cylindrical inner surface scanning, and planar scanning. In the cylindrical outer surface scanning, laser exposure is performed while rotating a drum around which the recording material is wound, and the rotation of the drum is the main scanning and the movement of the laser light is the sub scanning. In cylindrical inner surface scanning, a recording material is fixed to the inner surface of the drum, a laser beam is irradiated from the inside, and a main scanning is performed in the circumferential direction by rotating a part or all of the optical system. Sub scanning is performed in the axial direction by linearly moving all of them in parallel with the drum axis. In plane scanning, a laser beam main scan is performed by combining a polygon mirror, a galvanometer mirror, and an fθ lens, and a sub-scan is performed by moving a recording medium. Cylindrical outer surface scanning and cylindrical inner surface scanning are easier to increase the accuracy of the optical system and are suitable for high-density recording.

尚、本発明においては、10mJ/cm2以上の版面エネルギー(版材上でのエネルギー)で画像露光されることが好ましく、その上限は500mJ/cm2である。より好ましくは10〜300mJ/cm2である。このエネルギー測定には例えばOphirOptronics社製のレーザーパワーメーターPDGDO−3Wを用いることができる。 In the present invention, image exposure is preferably performed with a plate surface energy (energy on the plate material) of 10 mJ / cm 2 or more, and the upper limit is 500 mJ / cm 2 . More preferably, it is 10-300 mJ / cm < 2 >. For this energy measurement, for example, a laser power meter PDGDO-3W manufactured by OphirOptics can be used.

(加熱処理)
本発明に係る加熱処理とは、露光後、現像前に版材を加熱する処理のことであり、前述の画像露光によって、画像様に開始されたラジカル重合を促進するために行なうものである。加熱処理の方法としては、循環式恒温槽のような温度制御可能な処理槽中に一定時間投入する方法と、ベルトコンベア、搬送ローラー等の搬送設備と、赤外線ヒーター、温風ヒーター等の加熱部を備えて、版を搬送しながら過熱する方法がある。
(Heat treatment)
The heat treatment according to the present invention is a treatment for heating the plate material after exposure and before development, and is performed to promote radical polymerization initiated imagewise by the above-described image exposure. As a heat treatment method, a method of putting in a temperature-controllable treatment tank such as a circulating thermostat for a certain period of time, conveyance equipment such as a belt conveyor and a conveyance roller, and a heating unit such as an infrared heater and a hot air heater There is a method of overheating while conveying the plate.

版を搬送しながら過熱する方法について具体的には、ウィスコンシンオーブンのような搬送設備の付いた加熱装置を用いることができるほか、現像処理に用いる自動現像機の版挿入口に加熱設備を備えたものを用いることができる。このような自動現像装置としては、一般的に市販されているフォトポリマーCTPプレート用の自動現像機を用いることができる。   Specifically, a heating device equipped with a transport facility such as a Wisconsin oven can be used for the method of overheating while transporting the plate, and a heating facility is provided at the plate insertion port of an automatic processor used for development processing. Things can be used. As such an automatic developing apparatus, a commercially available automatic developing machine for a photopolymer CTP plate can be used.

加熱条件としては、加熱処理の最終段階で版の温度が80度から160度に達する条件で5秒から2分の加熱を行なうことが好ましい。更に好ましくは、該温度が85度から130度に達する条件で7秒から1分の加熱を行なうことである。   As heating conditions, it is preferable to perform heating for 5 seconds to 2 minutes under the condition that the temperature of the plate reaches 80 to 160 degrees in the final stage of the heat treatment. More preferably, heating is performed for 7 seconds to 1 minute under the condition that the temperature reaches 85 to 130 degrees.

加熱処理の最終段階で版の温度は、市販されているサーモラベル等を版の裏面に貼り付けて加熱処理を行った後、サーモラベルの表示する温度で確認できる。   The temperature of the plate at the final stage of the heat treatment can be confirmed by the temperature displayed on the thermo label after a commercially available thermo label or the like is attached to the back of the plate and the heat treatment is performed.

(水による現像)
本発明に係る水による現像とは、井水、水道水等で版を洗浄することにより非画像部を除去する手段であり、現像用の水に界面活性剤、水溶性樹脂等の添加剤を実質的に添加しない方法を指す。ここで言うで「実質的に添加しない」とは、1質量%を超える添加剤を添加しない事を指す。また、現像処理により、版材の非画像部の成分が現像用の水の中に溶出されるが、これらの成分は添加剤とはみなさない。
(Development with water)
The development with water according to the present invention is a means for removing the non-image area by washing the plate with well water, tap water, etc., and an additive such as a surfactant or a water-soluble resin is added to the water for development. The method which does not add substantially is pointed out. Here, “substantially not add” means that no additive exceeding 1% by mass is added. Further, the components in the non-image area of the plate material are eluted in the developing water by the development process, but these components are not regarded as additives.

水による現像を安定に効率よく行なう手段として、一般的に市販されているフォトポリマーCTPプレート用の自動現像機を用い、通常アルカリ性現像液を入れる現像槽に、水を入れて用いることが好ましい。   As a means for stably and efficiently developing with water, it is preferable to use a commercially available automatic developing machine for a photopolymer CTP plate, and usually use water in a developing tank containing an alkaline developer.

(版面保護剤)
本発明に係る版面保護剤は、水溶性樹脂および界面活性剤を含有する。
(Plate protectant)
The plate surface protective agent according to the present invention contains a water-soluble resin and a surfactant.

本発明の平版印刷版の作製方法においては、印刷版材料を画像露光、加熱処理、水による現像処理を行った後、版面保護剤により処理することが好ましい。   In the lithographic printing plate preparation method of the present invention, it is preferable that the printing plate material is subjected to image exposure, heat treatment, and development treatment with water, and then treated with a plate surface protective agent.

水溶性樹脂としては、アラビアガム、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びその共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。これらの水溶性樹脂の含有量は、組成物中に0.1〜50質量%、より好ましくは0.5〜3.0質量%が適当である。   Examples of water-soluble resins include gum arabic, fiber derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and copolymers thereof, vinyl methyl ether / Examples thereof include a maleic anhydride copolymer, a vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, and a styrene / maleic anhydride copolymer. The content of these water-soluble resins is suitably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 3.0% by mass in the composition.

また、本発明に係る上記界面活性剤としてはアニオン界面活性剤又はノニオン界面活性剤が挙げられる。例えば、アニオン型界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテルスルホン酸塩、ポリオキシエチレンナフチルエーテルスルホン酸塩、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミドニナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硝酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硝酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。   In addition, examples of the surfactant according to the present invention include an anionic surfactant and a nonionic surfactant. For example, anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfones. Acid salts, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, polyoxyethylene aryl ether sulfonates, polyoxyethylene naphthyl ether sulfonates, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salts N-alkylsulfosuccinic acid monoamido disodium salts, petroleum sulfonates, nitrated castor oil, sulfated beef tallow oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, Rualkyl nitrates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ethers Phosphate ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalenesulfonate formalin condensates Etc. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters, and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

又、ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド等が挙げられる。その中でもポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリエキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー類等が好ましく用いられる。又、弗素系、シリコン系のアニオン、ノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。   Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene naphthyl ether, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxy Propylene alkyl ether, glycerin fatty acid partial ester, sorbitan fatty acid partial ester, pentaerythritol fatty acid partial ester, propylene glycol mono fatty acid ester, sucrose fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid moiety Esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerol fatty acid partial esters, polyoxyethylenated ester List oils, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, etc. It is done. Of these, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene block polymers and the like are preferably used. Fluorine-based and silicon-based anions and nonionic surfactants can also be used.

また、好ましい界面活性剤の例として、特開2004−167903号、特開2004−230650号、特開2005−43393号公報に記載の平版印刷版用版面保護剤に添加する界面活性剤が挙げられる。   Examples of preferable surfactants include surfactants added to the lithographic printing plate surface protective agents described in JP-A Nos. 2004-167903, 2004-230650, and 2005-43393. .

これら界面活性剤は2種以上併用することもできる。例えば互いに異なる2種以上を併用することもできる。例えば互いに異なる2種以上のアニオン界面活性剤の併用やアニオン界面活性剤とノニオン界面活性剤の併用が好ましい。上記界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、好ましくは後処理液の0.01〜20質量%である。   Two or more of these surfactants can be used in combination. For example, two or more different from each other can be used in combination. For example, a combination of two or more different anionic surfactants or a combination of an anionic surfactant and a nonionic surfactant is preferable. Although the usage-amount of the said surfactant does not need to specifically limit, Preferably it is 0.01-20 mass% of a post-processing liquid.

本発明に係る版面保護剤のpHは、3.0から9.0であることが好ましい。   The pH of the plate surface protective agent according to the present invention is preferably from 3.0 to 9.0.

酸性領域pH3〜6の範囲で使用する場合には水溶液中に鉱酸、有機酸又は無機塩等を添加して調節する。その添加量は0.01〜2質量%が好ましい。例えば鉱酸としては硝酸、硫酸、リン酸及びメタリン酸等が挙げられる。   When using in the acidic range pH 3-6, it adjusts by adding a mineral acid, an organic acid, an inorganic salt, etc. in aqueous solution. The addition amount is preferably 0.01 to 2% by mass. Examples of mineral acids include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and metaphosphoric acid.

又、有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、p−トルエンスルホン酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、フィチン酸及び有機ホスホン酸等が挙げられる。   Examples of the organic acid include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, p-toluenesulfonic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid.

更に無機塩としては、硝酸マグネシウム、第1リン酸ナトリウム、第2リン酸ナトリウム、硫酸ニッケル、ヘキサメタン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム等が挙げられる。鉱酸、有機酸又は無機塩等の少なくとも1種もしくは2種以上を併用してもよい。   Further, examples of the inorganic salt include magnesium nitrate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, nickel sulfate, sodium hexamethanoate, sodium tripolyphosphate, and the like. You may use together at least 1 sort (s) or 2 or more types, such as a mineral acid, an organic acid, or an inorganic salt.

塩基性領域pH8〜9で用いる場合には、水溶性有機塩基、無機塩基を添加して該pHに調節することが出来る。好ましいのは水溶性有機塩基で、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、エタノールアミン等が挙げられる。   When used in the basic region pH 8 to 9, a water-soluble organic base or inorganic base can be added to adjust the pH. A water-soluble organic base is preferred, and examples include triethanolamine, diethanolamine, and ethanolamine.

また版面保護剤には、防腐剤、消泡剤等を添加することができる。   Moreover, antiseptic | preservative, an antifoamer, etc. can be added to a plate surface protective agent.

例えば防腐剤としてはフェノール又はその誘導体、o−フェニルフェノール、p−クロロメタクレゾール、ヒドロキシ安息香酸アルキルエステル、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体等が挙げられる。好ましい添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、使用時の版面保護剤に対して0.01〜4質量%の範囲が好ましく、又種々のカビ、殺菌に対して効力のある様に2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。又、消泡剤としてはシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型及び可溶化等が何れも使用できる。好ましくは0.01〜1.0質量%の範囲が最適である。   For example, as a preservative, phenol or a derivative thereof, o-phenylphenol, p-chlorometacresol, hydroxybenzoic acid alkyl ester, formalin, imidazole derivative, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivative, benzoisothiazoline-3- ON, benztriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives of pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives and the like. A preferable addition amount is an amount that exerts a stable effect on bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the type of bacteria, molds, yeasts, but 0.01% with respect to the plate surface protective agent at the time of use. The range of ˜4% by mass is preferable, and it is preferable to use two or more kinds of preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization. As the antifoaming agent, a silicon antifoaming agent is preferable. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used. Preferably the range of 0.01-1.0 mass% is optimal.

版面保護剤には、更にキレート化合物を添加してもよい。好ましいキレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのナトリウム塩;エチレンジアミンジコハク酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩:ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等の様な有機ホスホン酸類或いはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることが出来る。   A chelate compound may be further added to the plate surface protective agent. Preferred chelate compounds include, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, sodium salt thereof; ethylenediamine disuccinic acid, potassium salt thereof. Triethylenetetramine hexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof: nitrilotriacetic acid, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphone Acids, potassium salts, sodium salts; organic phosphonic acids or phosphonoalkanetricarboxylic acids such as aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salts, sodium salts, etc. It can be mentioned.

上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代わりに有機アミンの塩も有効である。これらキレート剤はガム液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量としては0.001〜1.0質量%が適当である。   An organic amine salt is also effective in place of the sodium salt and potassium salt of the chelating agent. These chelating agents are selected so that they are stably present in the gum solution composition and do not impair the printability. The addition amount is suitably 0.001 to 1.0% by mass.

上記成分の他、必要により感脂化剤も添加することができる。例えばテレピン油、キシレン、トルエン、ローヘプタン、ソルベントナフサ、ケロシン、ミネラルスピリット、沸点が約120℃〜約250℃の石油留分等の炭化水素類、例えばジブチルフタレート、ジヘブチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジ(2−エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸ジエステル剤、例えばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ(2−エチルヘキシル)セバケート、ジオクチルセバケート等の脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ化大豆油等のエポキシ化トリグリセリド類、例えばトリクレジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフェート等のリン酸エステル類、例えば安息香酸ベンジル等の安息香酸エステル類等の凝固点が15℃以下で、1気圧下での沸点が300℃以上の可塑剤が含まれる。   In addition to the above components, a sensitizer can be added as necessary. For example, hydrocarbons such as turpentine oil, xylene, toluene, low heptane, solvent naphtha, kerosene, mineral spirit, petroleum fraction having a boiling point of about 120 ° C to about 250 ° C, such as dibutyl phthalate, dihebutyl phthalate, di-n-octyl Phthalic acid diester agents such as phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate, dinonyl phthalate, didecyl phthalate, dilauryl phthalate, butyl benzyl phthalate, such as dioctyl adipate, butyl glycol adipate, dioctyl azelate, dibutyl sebacate, di ( 2-ethylhexyl) aliphatic dibasic acid esters such as sebacate and dioctyl sebacate, epoxidized triglycerides such as epoxidized soybean oil, such as tricresyl phosphate, trioctylfolate Feto, phosphoric acid esters such as tris chloroethyl phosphate, for example, freezing point, such as benzoic acid esters of benzyl benzoate and at 15 ℃ below boiling point at one atmosphere include 300 ° C. or more plasticizers.

更にカプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ヘラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、イソ吉草酸等の飽和脂肪酸とアクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、ニルカ酸、ブテシジン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、プロピオール酸、ステアロール酸、イワシ酸、タリリン酸、リカン酸等の不飽和脂肪酸も挙げられる。より好ましくは50℃において液体である脂肪酸であり、更に好ましくは炭素数が5〜25であり、最も好ましくは炭素数が8〜21である。これらの感脂化剤は1種もしくは2種以上併用することもできる。使用量として好ましい範囲は0.01〜10質量%、より好ましい範囲は0.05〜5質量%である。   Furthermore, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, helargonic acid, capric acid, undecyl acid, lauric acid, tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachic acid, behenic acid, lignoserine Saturated fatty acids such as acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicinic acid, lactelic acid, isovaleric acid, and acrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, undecylenic acid, oleic acid, elaidic acid, celetic acid, nillic acid, buteticidin Examples also include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid, propiolic acid, stearolic acid, sardine acid, talylic acid and licanoic acid. More preferably, it is a fatty acid that is liquid at 50 ° C., more preferably 5 to 25 carbon atoms, and most preferably 8 to 21 carbon atoms. These sensitizers can be used alone or in combination of two or more. A preferable range for the amount used is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5% by mass.

版面保護剤による処理は、版面保護剤を含有する処理槽中にディップした後、ローラーなどで、過剰の版面保護剤を除去する方法、版面保護剤をスプレー、シャワー等で版面に供給した後、ローラーなどで、過剰の版面保護剤を除去する方法、版面保護剤を浸透させたスポンジなどで、平版印刷版上に塗布する方法などが挙げられる。   The treatment with the plate surface protective agent is a method of removing excess plate surface protective agent with a roller after dipping into a treatment tank containing the plate surface protective agent, after supplying the plate surface protective agent to the plate surface by spraying, showering, etc. Examples thereof include a method of removing excess plate surface protective agent with a roller and the like, and a method of applying on a lithographic printing plate with a sponge infiltrated with a plate surface protective agent.

版面保護剤による処理の好ましい態様は、一般的に市販されているフォトポリマーCTPプレート用の自動現像機のフィニシャー処理部に該版面保護液を入れ、前述の加熱工程、現像工程と連続して処理を行う方法が好ましい。   A preferred embodiment of the processing with the plate surface protective agent is that the plate surface protective solution is put into a finisher processing section of an automatic processor for a photopolymer CTP plate which is generally commercially available, and processed continuously with the heating step and the developing step described above. The method of performing is preferable.

(印刷)
本発明の平版印刷版材料は、画像露光後、印刷に供せられるが、印刷機としては上記のように湿し水を用いる一般的な平版オフセット印刷機を用いることができる。印刷に用いる印刷用紙、印刷インキ、湿し水等特に限定されない。
(printing)
The lithographic printing plate material of the present invention is subjected to printing after image exposure. As a printing machine, a general lithographic offset printing machine using fountain solution as described above can be used. Printing paper, printing ink, fountain solution, etc. used for printing are not particularly limited.

近年印刷業界においても環境保全の面から、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物(VOC)を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に大きい。   In recent years, in the printing industry, from the viewpoint of environmental protection, inks that do not use petroleum-based volatile organic compounds (VOC) have been developed and are widely used as printing inks. It is particularly large when using the printing ink.

これらのインキとしては大豆油を含むインキが好ましい。   These inks are preferably inks containing soybean oil.

大豆油を含むインキは、通常、有機・無機顔料、バインダー樹脂、大豆油、高沸点石油系溶剤を混合したものであり、その他に補助剤として可塑剤、安定剤、乾燥剤、増粘剤、分散剤、充填剤などを含んでいても良い。   The ink containing soybean oil is usually a mixture of organic / inorganic pigments, binder resin, soybean oil, high boiling petroleum solvent, and other additives such as plasticizers, stabilizers, drying agents, thickeners, It may contain a dispersant, a filler, and the like.

本発明の印刷に、好ましく用いられるインキとしては、アメリカ大豆協会(ASA)がソイシール認定制度を設けて認定したインキが挙げられる。   Inks that are preferably used for printing of the present invention include inks certified by the American Soybean Association (ASA) with a soy seal certification system.

大豆油としては、公知の大豆油を用いることがで、日本農林規格で認定した食用大豆油(精製大豆油)が特に好ましく用いられる。   As soybean oil, known soybean oil can be used, and edible soybean oil (refined soybean oil) certified by Japanese Agricultural Standards is particularly preferably used.

好ましい大豆油の添加量は、インキの種類によって異なるが、枚葉インキ、フォームインキで20〜50質量%、オフ輪ヒートセットインキで7〜20質量%、新聞インキでは、墨インキ40〜50質量%、色インキで30〜40質量%、ビジネスフォームインキでは20〜30質量%、を含有していることである。   The preferred amount of soybean oil to be added varies depending on the type of ink, but is 20 to 50% by mass for sheet-fed ink and foam ink, 7 to 20% by mass for off-ring heat set ink, and 40 to 50 mass for black ink for newspaper ink. %, 30 to 40% by mass for color ink, and 20 to 30% by mass for business foam ink.

有機・無機顔料としては、ジスアゾイエロー、ブリリアントカーミン6B、フタロシアニンブルー、レーキレッドC、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等を使用することが出来る。   As organic / inorganic pigments, disazo yellow, brilliant carmine 6B, phthalocyanine blue, lake red C, carbon black, titanium oxide, calcium carbonate and the like can be used.

バインダー樹脂としては、ロジン、コーパル、ダンマル、セラック、硬化ロジン、ロジンエステル等の天然または加工樹脂、フェノール樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、100%フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、アルキド樹脂、石油樹脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキド樹脂、ポリウレタン樹脂、アミノブラスト樹脂などが好ましい。   As binder resin, natural or processed resin such as rosin, copal, dammar, shellac, cured rosin, rosin ester, phenol resin, rosin modified phenol resin, 100% phenol resin, maleic acid resin, alkyd resin, petroleum resin, vinyl resin Acrylic resin, polyamide resin, epoxy resin, amino alkyd resin, polyurethane resin, amino blast resin and the like are preferable.

大豆油を含むインキは、各インキメーカーより販売されており容易に入手することができ、例えば、ナチュラリス100(Naturalith)枚葉インキ、ウエブワールドアドバン(WebWorldAdvan)オフ輪インキ、<以上、大日本インキ化学工業(株)>、TKハイユニティSOY枚葉インキ、TKハイエコーSOY枚葉インキ、CKウインエコーSOY枚葉インキ、WDスーパーレオエコーSOYオフ輪インキ、WDレオエコーSOYオフ輪インキ、SCRSOYビジネスフォームinki<以上、東洋インキ(株)>、ソイセルボ枚葉インキ<東京インキ(株)>等が挙げられる。   Inks containing soybean oil are sold by ink manufacturers and can be easily obtained. For example, Naturalis 100 (Naturalith) sheet-fed ink, WebWorld Advan off-wheel ink, <above, Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.>, TK High Unity SOY Sheetfed Ink, TK High Echo SOY Sheetfed Ink, CK Win Echo SOY Sheetfed Ink, WD Super Leo Echo SOY Off Wheel Ink, WD Leo Echo SOY Off Wheel Ink, SCRSOY Business Form inki <above, Toyo Ink Co., Ltd.>, Soyselvo sheet-fed ink <Tokyo Ink Co., Ltd.> and the like.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。
(実施例1)
[支持体の作製]
厚さ0.30mm、幅1030mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて以下のように連続的に処理を行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, the aspect of this invention is not limited to this. In the examples, “parts” represents “parts by mass” unless otherwise specified.
Example 1
[Production of support]
Using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.30 mm and a width of 1030 mm, the treatment was continuously performed as follows.

(a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を0.3g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗を行った。 (A) The aluminum plate was etched by spraying at a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.3 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed by spraying.

(b)温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーで水洗した。   (B) A desmut treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying.

(c)60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、塩酸1.1質量%、アルミニウムイオン0.5質量%、酢酸0.5質量%含む。温度21℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msecの正弦波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。電流密度は実効値で、50A/dm2で、通電量は900C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 (C) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time contains 1.1% by mass of hydrochloric acid, 0.5% by mass of aluminum ions, and 0.5% by mass of acetic acid. The temperature was 21 ° C. The AC power source was subjected to electrochemical surface roughening treatment using a sine wave alternating current having a time TP of 2 msec until the current value reached a peak from zero, using a carbon electrode as a counter electrode. The current density was an effective value of 50 A / dm 2 and the energization amount was 900 C / dm 2 . Then, water washing by spraying was performed.

(d)温度60℃の燐酸濃度20質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、10秒間デスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。   (D) A desmut treatment was performed for 10 seconds with a phosphoric acid concentration 20 mass% aqueous solution (containing 0.5 mass% of aluminum ions) at a temperature of 60 ° C., followed by water washing by spraying.

(e)既存の二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一および第二電解部長各6m、第一給電部長3m、第二給電部長3m、第一及び第二給電電極長各2.4m)を使って電解部の硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度38℃で陽極酸化処理を行った。その後スプレーによる水洗を行った。   (E) An anodizing apparatus of an existing two-stage feed electrolytic treatment method (first and second electrolysis unit length 6 m, first feed unit length 3 m, second feed unit length 3 m, first and second feed electrode lengths 2.4 m each ) Was used to perform anodization at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions) at a temperature of 38 ° C. Thereafter, washing with water was performed.

この時、陽極酸化装置においては、電源からの電流は、第一給電部に設けられた第一給電電極に流れ、電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第一電解部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させ、第一給電部に設けられた電解電極を通り、電源に戻る。   At this time, in the anodizing device, the current from the power source flows to the first power supply electrode provided in the first power supply unit, flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, An oxide film is formed on the surface, passes through the electrolytic electrode provided in the first power feeding portion, and returns to the power source.

一方、電源からの電流は、第二給電部に設けられた第二給電電極に流れ、同様に電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第二電解部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させるが、電源から第一給電部に給電される電気量と電源から第二給電部に給電される電気量は同じであり、第二給電部における酸化皮膜面での給電電流密度は、約25A/dm2であった。第二給電部では、1.35g/m2の酸化皮膜面から給電する。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。更に、スプレー水洗後、0.4質量%のポリビニルホスホン酸溶液中に30秒浸漬し、親水化処理した。温度は85℃であった。その後スプレー水洗し、赤外線ヒーターで乾燥した。 On the other hand, the current from the power source flows to the second power feeding electrode provided in the second power feeding portion, similarly flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, and an oxide film is formed on the surface of the plate-like aluminum by the second electrolysis portion. Although the amount of electricity fed from the power source to the first feeding unit and the amount of electricity fed from the power source to the second feeding unit are the same, the feeding current density on the oxide film surface in the second feeding unit is about It was 25 A / dm 2 . In the second power feeding unit, power is fed from the oxide film surface of 1.35 g / m 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 . Furthermore, after spray water washing, it was immersed in 0.4 mass% polyvinylphosphonic acid solution for 30 seconds, and was hydrophilized. The temperature was 85 ° C. Thereafter, it was washed with spray water and dried with an infrared heater.

この時、表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.65μmであった。   At this time, the center line average roughness (Ra) of the surface was 0.65 μm.

(感光性平版印刷版材料の作製)
上記支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液1を乾燥時1.5g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、95℃で1.5分間乾燥し光重合感光層塗布試料を得た。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate material)
On the support, a photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was applied with a wire bar so as to have a dry weight of 1.5 g / m 2 , and dried at 95 ° C. for 1.5 minutes. A sample was obtained.

さらに、光重合感光層塗布試料上に、下記組成の酸素遮断層塗工液を乾燥時2.0g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、65℃で3分間乾燥して、感光層上に酸素遮断層を有する感光性平版印刷版材料試料を作製した。 Further, on the photopolymerized photosensitive layer coating sample, an oxygen barrier layer coating solution having the following composition was coated with a wire bar so that the drying rate became 2.0 g / m 2 and dried at 65 ° C. for 3 minutes. A photosensitive lithographic printing plate material sample having an oxygen blocking layer was prepared.

(光重合性感光層塗工液1)
エチレン性二重結合含有化合物(NKオリゴU−4HA:新中村化学工業(株))
5.0部
エチレン性二重結合含有化合物(NKエステル3G:新中村化学工業(株))
25.0部
エチレン性二重結合含有化合物(デナコールアクリレートDA314:ナガセケムテックス(株)) 25.0部
N−カルボキシメチルアクリドン 4.0部
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビスイミダゾール 3.0部
2−メルカプトベンゾチアゾール 0.3部
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体)VA64(BASF社製)
20.0部
ポリビニルピロリドン ルビテックK30(BASF社製) 20.0部
アセチレン系界面活性剤(サーフィノール465;エアプロダクツ社製)0.5部
フタロシアニン顔料分散液MHI#454(御国色素製) 3.0部
防腐剤1 1.0部
水 450部
エタノール 450部
(酸素遮断層塗工液)
ポリビニルアルコール(GL−05:日本合成化学社製) 74部
ポリビニルピロリドン(PVP K−30:アイエスピー・ジャパン社製)10部
ポリエチレンイミン(ルパゾールWF:BASF社製) 5部
界面活性剤(サーフィノール465:日信化学工業社製) 0.5部
水 900部
(防腐剤1組成)
5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 1.2部
2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.4部
塩化マグネシウム 1.0部
硝酸マグネシウム 22.4部
水 75部
上記の方法で作製した感光性平版印刷版材料を、黄色安全光の環境下で、405nmの光源を備えたプレートセッターNews(ECRM社製)を使用し、解像度1200dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)、線数100LPIで、露光設定値(エキスポージャー・バリュー)200で画像露光を行った。
(Photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1)
Compound containing ethylenic double bond (NK Oligo U-4HA: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
5.0 parts ethylenic double bond-containing compound (NK ester 3G: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
25.0 parts Ethylenic double bond-containing compound (Denacol Acrylate DA314: Nagase ChemteX Corporation) 25.0 parts N-carboxymethylacridone 4.0 parts 2,2′-bis (2-chlorophenyl)- 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbisimidazole 3.0 parts 2-mercaptobenzothiazole 0.3 part Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer) VA64 (manufactured by BASF)
20.0 parts Polyvinylpyrrolidone Rubytec K30 (manufactured by BASF) 20.0 parts Acetylene surfactant (Surfinol 465; manufactured by Air Products) 0.5 part Phthalocyanine pigment dispersion MHI # 454 (manufactured by Gokoku Dye) 0 parts Preservative 1 1.0 part Water 450 parts Ethanol 450 parts (Oxygen barrier coating liquid)
Polyvinyl alcohol (GL-05: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 74 parts Polyvinylpyrrolidone (PVP K-30: manufactured by APS Japan) 10 parts Polyethyleneimine (Lupazole WF: manufactured by BASF) 5 parts Surfactant (Surfinol) 465: manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.5 part water 900 part (preservative 1 composition)
5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 1.2 parts 2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.4 parts magnesium chloride 1.0 part magnesium nitrate 22.4 parts water 75 parts above Using a plate setter News (manufactured by ECRM) equipped with a light source of 405 nm in an environment of yellow safety light, the photosensitive lithographic printing plate material prepared by the method of 1,200 dpi (dpi is 2.54 cm per 2.54 cm) The image exposure was performed with an exposure setting value (exposure value) of 200 with a line number of 100 LPI.

露光後、引き続き黄色安全光の環境下で、フォトポリマープレート用自動現像機ラプター・ポリマー(グルンツ・アンド・ジェンセン社製)を用いて現像処理を行なった。処理条件として、搬送速度は60cm/分、プレヒート温度は前記搬送速度においてサーモラベルを版裏面側に貼り付けて測定した際に110℃を示す設定とし、プレ水洗は流水とし、現像槽には水道水を入れて28℃に温度調整し、リンス槽は流水とし、フィニッシャー層には、下記組成のフィニッシャー液を入れて処理した。   After the exposure, the film was developed using an automatic developing machine raptor polymer (manufactured by Grunz & Jensen) for photopolymer plates in an environment of yellow safety light. As processing conditions, the conveyance speed is 60 cm / min, the preheat temperature is set to 110 ° C. when measured with the thermolabel attached to the back side of the plate at the conveyance speed, the pre-washing is running water, and the developing tank is a tap water. Water was added to adjust the temperature to 28 ° C., the rinsing tank was made to be running water, and a finisher solution having the following composition was placed in the finisher layer.

(フィニッシャー液組成)
水 100部
ベンジルアルコール 1部
エチレングリコール 1部
ポリオキシエチレンナフチルエーテル(オキシエチレン平均数n=13) 1部
ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.5部
アラビアガム 2部
第1リン酸アンモニウム 0.05部
クエン酸 0.05部
エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05部
作製した平版印刷版を、印刷機(三菱重工業(株)製DAIYA1F−1)で、コート紙、印刷インキ(東洋インク(株)製トーヨーキングハイエコーM紅)及び湿し水(東京インク(株)製H液SG−51濃度1.5%)を用いて印刷を行ったところ、良好な印刷物を得ることが出来た。
(Finisher composition)
Water 100 parts Benzyl alcohol 1 part Ethylene glycol 1 part Polyoxyethylene naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13) 1 part Dioctyl sulfosuccinate sodium salt 0.5 part Arabic gum 2 parts Monobasic ammonium phosphate 0.05 Part Citric acid 0.05 part Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05 part The prepared lithographic printing plate was coated with a printing machine (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) and printed ink (Toyo Ink Co., Ltd.) When printing was performed using Toyo King Hi-Echo M Red) and dampening water (Tokyo Liquid, Inc. H liquid SG-51 concentration 1.5%), a good printed product could be obtained.

また、同条件で作製した感光性平版印刷版を、上記の条件で、1日あたり面積換算20m2の処理を計5日間、ランニング処理実験を行った。この間、現像槽の水は、蒸発と持ち出しによる減少分を補充したのみで、その後5日間、自動現像機内の処理液はそのまま放置した。現像槽の水は水黴、異臭の発生なく良好な状態を保っていた。
(実施例2)
実施例1において、光重合性感光層塗工液1から防腐剤1を除き、かわりに酸素遮断層塗工液に防腐剤1を1部相当を加え、その他は実施例1と同様の処理を行なったところ、作製した平版印刷版は実施例1と同様な印刷適性を示し、又ランニング処理実験後、5日間の放置を経ても、現像槽の水は水黴、異臭の発生なく良好な状態を保っていた。
(実施例3)
実施例1において、酸素遮断層塗工液にも防腐剤1を1部相当を加え、その他は同様に行なったところ、作製した平版印刷版は実施例1と同様な印刷適性を示し、又ランニング処理実験後、10日間の放置を経ても、現像槽の水は水黴、異臭の発生なく良好な状態を保っていた。
(比較例1)
実施例1において光重合性感光層塗工液1から防腐剤1を除き、その他は同様に行なったところ、作製した平版印刷版は実施例1と同様な印刷適性を示したが、ランニング処理実験後、5日間の放置を経たところ、現像槽の水に水黴の発生が認められ、同時に腐敗臭が認められた。
In addition, the photosensitive lithographic printing plate produced under the same conditions was subjected to a running treatment experiment for a total of 5 days with a treatment of 20 m 2 in terms of area per day under the above conditions. During this time, the water in the developing tank was only replenished with the reduced amount due to evaporation and removal, and the processing solution in the automatic developing machine was left as it was for 5 days. The water in the developing tank was kept in a good state with no syrup or odor.
(Example 2)
In Example 1, the preservative 1 was removed from the photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1, and 1 part of the preservative 1 was added to the oxygen barrier layer coating solution instead. As a result, the produced lithographic printing plate showed the same printability as in Example 1, and the water in the developing tank was in a good state with no elutriation or off-flavor even after 5 days of running test. Was kept.
(Example 3)
In Example 1, 1 part of the preservative 1 was also added to the oxygen barrier layer coating solution, and the others were carried out in the same manner. As a result, the produced lithographic printing plate showed printability similar to that in Example 1, and running. After the processing experiment, even after 10 days of standing, the water in the developing tank was kept in a good state without the occurrence of chickenpox and off-flavor.
(Comparative Example 1)
In Example 1, the preservative 1 was removed from the photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1 and the others were carried out in the same manner. As a result, the produced lithographic printing plate showed the same printability as in Example 1, but the running treatment experiment Thereafter, after standing for 5 days, the occurrence of chickenpox was observed in the water in the developing tank, and at the same time a rotten odor was observed.

Claims (7)

支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物及び(D)増感色素を含有する感光層を有し、該感光層上にポリビニルアルコールを含有する保護層を有する水現像用感光性平版印刷版材料において、該感光層が該(B)結合材として、水溶性高分子化合物を含有し、該感光層および該保護層の少なくとも1層が防腐剤を含有することを特徴とする水現像用感光性平版印刷版材料。 On the support, (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) a polymerizable ethylenic double bond-containing compound and (D) a sensitizing dye-containing photosensitive layer, In the photosensitive lithographic printing plate material for water development having a protective layer containing polyvinyl alcohol on the photosensitive layer, the photosensitive layer contains a water-soluble polymer as the binder (B), and the photosensitive layer and the photosensitive layer A photosensitive lithographic printing plate material for water development, wherein at least one of the protective layers contains a preservative. 前記防腐剤が、イソチアゾリン誘導体であることを特徴とする請求項1に記載の水現像用感光性平版印刷版材料。 The photosensitive lithographic printing plate material for water development according to claim 1, wherein the preservative is an isothiazoline derivative. 前記(C)重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物が、下記(C1)、(C2)および(C3)の化合物の反応生成物であることを特徴とする請求項1または2に記載の水現像用感光性平版印刷版材料。
(C1)分子内に少なくとも1個のエチレン性二重結合と、1個のヒドロキシル基を含有する化合物
(C2)ジイソシアネート化合物
(C3)分子内に三級アミンの構造を有するジオール化合物、または分子内に二級アミン構造とヒドロキシル基を一個ずつ有する化合物
The (C) polymerizable ethylenic double bond-containing compound is a reaction product of the following compounds (C1), (C2) and (C3): Photosensitive lithographic printing plate material for water development.
(C1) a compound containing at least one ethylenic double bond and one hydroxyl group in the molecule (C2) a diisocyanate compound (C3) a diol compound having a tertiary amine structure in the molecule, or an intramolecular Having a secondary amine structure and one hydroxyl group
前記水溶性高分子化合物が、ビニルピロリドンを構成モノマー単位として有する高分子化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の水現像用感光性平版印刷版材料。 The water-soluble photosensitive lithographic printing plate material according to any one of claims 1 to 3, wherein the water-soluble polymer compound is a polymer compound having vinylpyrrolidone as a constituent monomer unit. 請求項1〜4に記載の水現像用感光性平版印刷版材料を画像露光、加熱処理、水による現像処理をこの順に行うことを特徴とする平版印刷版の作製方法。 A method for preparing a lithographic printing plate, comprising subjecting the photosensitive lithographic printing plate material for water development according to claims 1 to 4 to image exposure, heat treatment, and development treatment with water in this order. 請求項5に記載の平版印刷版の作製方法により得られた平版印刷版を、さらに水溶性樹脂と界面活性剤を含有する版面保護剤により処理することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 A method for preparing a lithographic printing plate, wherein the lithographic printing plate obtained by the method for preparing a lithographic printing plate according to claim 5 is further treated with a plate surface protective agent containing a water-soluble resin and a surfactant. 前記画像露光が、370nm以上、420nm以下の発光波長を有するレーザによって行われることを特徴とする請求項5または6に記載の平版印刷版の作製方法。 The lithographic printing plate preparation method according to claim 5 or 6, wherein the image exposure is performed by a laser having an emission wavelength of 370 nm or more and 420 nm or less.
JP2007140271A 2007-05-28 2007-05-28 Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate Pending JP2008292910A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007140271A JP2008292910A (en) 2007-05-28 2007-05-28 Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007140271A JP2008292910A (en) 2007-05-28 2007-05-28 Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008292910A true JP2008292910A (en) 2008-12-04

Family

ID=40167656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007140271A Pending JP2008292910A (en) 2007-05-28 2007-05-28 Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008292910A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016068546A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate original plate and platemaking method of lithographic printing plate
US9575230B2 (en) 2010-05-03 2017-02-21 Basf Se Color filter for low temperature applications
WO2022025068A1 (en) * 2020-07-31 2022-02-03 富士フイルム株式会社 On-press-development-type planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9575230B2 (en) 2010-05-03 2017-02-21 Basf Se Color filter for low temperature applications
US10690825B2 (en) 2010-05-03 2020-06-23 Basf Se Color filter for low temperature applications
JP2016068546A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate original plate and platemaking method of lithographic printing plate
WO2022025068A1 (en) * 2020-07-31 2022-02-03 富士フイルム株式会社 On-press-development-type planographic printing original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007310057A (en) Photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate material and method for producing those
JP4132707B2 (en) Image recording material
JP2008033087A (en) Photosensitive lithographic printing plate material and method for producing lithographic printing plate using the same
JP2008292910A (en) Photosensitive lithographic printing plate material for water development and method for producing lithographic printing plate
WO2010004778A1 (en) Developing solution for lithographic printing plate material, and lithographic printing plate material
JP2009271403A (en) Photosensitive lithographic printing plate material and method for preparing lithographic printing plate
WO2008010400A1 (en) Photosensitive surface printing plate material
JP2007233127A (en) Photosensitive lithographic printing plate material
JP2009251221A (en) Method for treating photosensitive lithographic printing plate material
JP2007298645A (en) Method for processing photosensitive lithographic printing plate
JP2009229499A (en) Photosensitive planographic printing plate material and plate-making method of planographic printing plate material
WO2006095535A1 (en) Photosensitive planographic printing plate material
WO2010001639A1 (en) Process for producing lithographic printing plate and apparatus for developing lithographic printing plate material
JP2009237469A (en) Platemaking method of planographic printing plate material
JPWO2007097302A1 (en) Photosensitive lithographic printing plate material and method for producing the same
JP2008129132A (en) Photosensitive lithographic printing plate material
WO2010001631A1 (en) Lithographic printing plate material
JP2009080405A (en) Method for producing planographic printing plate and processing device for planographic printing plate material
JP2009282106A (en) Method of manufacturing lithographic printing plate
JP2010066350A (en) Photosensitive lithographic printing plate material
JP2010002460A (en) Preparation method of lithographic printing plate and processing device for lithographic printing plate material
JP2005275222A (en) Developing liquid for platemaking of planographic printing plate and platemaking method for planographic printing plate by using the developing liquid
JP2010014778A (en) Method for making planographic printing plate and developing solution used for the same
JP2008256769A (en) Photosensitive lithographic printing plate material and method for making lithographic printing plate
JP2006330670A (en) Photosensitive lithographic printing plate and image forming method for the same