JP2008268979A - Display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device capable of enhancing the display quality, by improving the layout of pixels and common feeders which are configured on a substrate, and expanding the light-emitting area of each pixel. <P>SOLUTION: Pixels 7A, 7B each of which is provided with a light-emitting device 40 such as an electroluminescence device or an LED device are arranged on the both sides of a common feeder com to reduce the number of common feeders com. Furthermore, the polarity of a drive current flowing into the light-emitting device 40 is inverted between the pixels 7A, 7B and a current flowing into the common feeder "com" is reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機半導体膜を駆動電流が流れることによって発光するEL(エレクトロルミネッセンス)素子またはLED(発光ダイオード)素子などの発光素子と、この発光素子の発光動作を制御する薄膜トランジスタ(以下、TFTという。)とを用いたアクティブマトリクス型の表示装置に関するものである。さらに詳しくは、その表示特性を向上するためのレイアウトの最適化技術に関するものである。   The present invention relates to a light emitting element such as an EL (electroluminescence) element or an LED (light emitting diode) element that emits light when a driving current flows through an organic semiconductor film, and a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) that controls the light emitting operation of the light emitting element. )) And an active matrix display device. More specifically, the present invention relates to a layout optimization technique for improving the display characteristics.

EL素子またはLED素子などの電流制御型発光素子を用いたアクティブマトリクス型の表示装置が提案されている。このタイプの表示装置に用いられる発光素子はいずれも自己発光するため、液晶表示装置と違ってバックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点もある。   An active matrix display device using a current-controlled light emitting element such as an EL element or an LED element has been proposed. Since all of the light emitting elements used in this type of display device self-emit, unlike a liquid crystal display device, there is an advantage that a backlight is not required and the viewing angle dependency is small.

図22は、このような表示装置の一例として、電荷注入型の有機薄膜EL素子を用いたアクティブマトリクス型表示装置のブロック図を示してある。この図に示す表示装置1Aでは、透明基板上に、複数の走査線gateと、これらの走査線gateの延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線sigと、これらのデータ線sigに並列する複数の共通給電線comと、データ線sigと走査線gateとの交差点に対応する画素7とが構成されている。データ線sigに対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ側駆動回路3が構成されている。走査線に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査側駆動回路4が構成されている。また、画素7の各々には、走査線を介して走査信号がゲート電極に供給される第1のTFT20と、この第1のTFT20を介してデータ線sigから供給される画像信号を保持する保持容量capと、この保持容量capによって保持された画像信号がゲート電極に供給される第2のTFT30と、第2のTFT30を介して共通給電線comに電気的に接続したときに共通給電線comから駆動電流が流れ込む発光素子40とが構成されている。   FIG. 22 shows a block diagram of an active matrix display device using a charge injection type organic thin film EL element as an example of such a display device. In the display device 1A shown in this figure, on a transparent substrate, a plurality of scanning lines gate, a plurality of data lines sig extending in a direction intersecting with the extending direction of these scanning lines gate, and these A plurality of common power supply lines com parallel to the data lines sig and pixels 7 corresponding to the intersections of the data lines sig and the scanning lines gate are configured. For the data line sig, a data side driving circuit 3 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is configured. For the scanning lines, a scanning side drive circuit 4 including a shift register and a level shifter is configured. Further, each pixel 7 has a first TFT 20 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line, and an image signal supplied from the data line sig via the first TFT 20. When the capacitor cap, the second TFT 30 to which the image signal held by the holding capacitor cap is supplied to the gate electrode, and the second TFT 30 are electrically connected to the common feeder line com, the common feeder line com The light emitting element 40 into which a drive current flows from is comprised.

すなわち、図23(A)、(B)に示すように、いずれの画素7においても、島状の2つの半導体膜を利用して第1のTFT20および第2のTFT30が形成され、第2のTFT30のソース・ドレイン領域には、第1の層間絶縁膜51のコンタクトホールを介して中継電極35が電気的に接続し、該中継電極35には第2の層間絶縁膜52のコンタクトホールを介して画素電極41が電気的に接続している。この画素電極41の上層側には、正孔注入層42、有機半導体膜43、対向電極opが積層されている。ここで、対向電極opは、データ線sigなどを跨いで複数の画素7にわたって形成されている。なお、第2のTFT30のソース・ドレイン領域には、コンタクトホールを介して共通給電線comが電気的に接続している。   That is, as shown in FIGS. 23A and 23B, in each pixel 7, the first TFT 20 and the second TFT 30 are formed using two island-shaped semiconductor films, and the second TFT A relay electrode 35 is electrically connected to the source / drain region of the TFT 30 through a contact hole in the first interlayer insulating film 51, and the relay electrode 35 is connected to the source / drain region through a contact hole in the second interlayer insulating film 52. Thus, the pixel electrode 41 is electrically connected. On the upper layer side of the pixel electrode 41, a hole injection layer 42, an organic semiconductor film 43, and a counter electrode op are stacked. Here, the counter electrode op is formed over the plurality of pixels 7 across the data line sig and the like. Note that a common power supply line com is electrically connected to the source / drain region of the second TFT 30 through a contact hole.

これに対して、第1のTFT20では、そのソース・ドレイン領域に電気的に接続する電位保持電極stは、ゲート電極31の延設部分310に電気的に接続している。この延設部分310に対しては、その下層側においてゲート絶縁膜50を介して半導体膜400が対向し、この半導体膜400は、それに導入された不純物によって導電化されているので、延設部分310およびゲート絶縁膜50とともに保持容量capを構成している。ここで、半導体膜400に対しては第1の層間絶縁膜51のコンタクトホールを介して共通給電線comが電気的に接続している。従って、保持容量capは、第1のTFT20を介してデータ線sigから供給される画像信号を保持するので、第1のTFT20がオフになっても、第2のTFT30のゲート電極31は画像信号に相当する電位に保持される。それ故、発光素子40には共通給電線comから駆動電流が流れ続けるので、発光素子40は発光し続けることになる。   On the other hand, in the first TFT 20, the potential holding electrode st that is electrically connected to the source / drain region is electrically connected to the extended portion 310 of the gate electrode 31. The semiconductor film 400 is opposed to the extended portion 310 on the lower layer side through the gate insulating film 50, and the semiconductor film 400 is made conductive by the impurities introduced therein. The storage capacitor cap is configured together with 310 and the gate insulating film 50. Here, the common power supply line com is electrically connected to the semiconductor film 400 through the contact hole of the first interlayer insulating film 51. Therefore, since the storage capacitor cap holds the image signal supplied from the data line sig via the first TFT 20, even if the first TFT 20 is turned off, the gate electrode 31 of the second TFT 30 is not connected to the image signal. Is held at a potential corresponding to. Therefore, since the drive current continues to flow from the common power supply line com to the light emitting element 40, the light emitting element 40 continues to emit light.

しかしながら、前記の表示装置1Aでは、液晶表示装置と比較して、第2のTFT30および共通給電線comが必要な分、画素7が狭いため、表示の品位を高めることができないという問題点がある。   However, the display device 1A has a problem in that the display quality cannot be improved because the pixels 7 are narrower than the liquid crystal display device because the second TFT 30 and the common power supply line com are necessary. .

そこで、本発明の課題は、基板上に構成される画素および共通給電線のレイアウトを改良して画素の発光領域を拡張し、表示の品位を高めることのできる表示装置を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a display device that can improve the display quality by improving the layout of pixels and common power supply lines formed on a substrate to expand the light emitting region of the pixels.

本発明の表示装置は、複数の走査線と、前記複数の走査線と交差する方向に延設された複数のデータ線と、複数の共通給電線と、前記複数のデータ線と前記複数の走査線とによりマトリクス状に形成された複数の画素と、を有し、前記複数の画素の各々は、画素電極と、ゲート電極を備え、前記複数の走査線のうち対応する走査線を介して走査信号が前記ゲート電極に供給される第1のトランジスタと、前記複数のデータ線のうち対応するデータ線及び前記第1のトランジスタを介して供給される画像信号に応じて、前記複数の共通給電線のうち対応する共通給電線と前記画素電極との電気的な接続の制御を行う第2のトランジスタと、前記第2のトランジスタを介して前記対応する共通給電線と前記画素電極とが電気的に接続したときに前記画素電極に対向する対向電極との間に流れる駆動電流によって発光する発光素子と、を備え、前記複数の共通給電線のうち、1つの共通給電線から前記駆動電流が供給される2つ画素において、前記発光素子は、互いに極性が反転した駆動電流により駆動されること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記2つの画素における対向電極の電位は、前記複数の共通給電線の電位を基準としたとき、互いに逆極性になるように設定されていること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記2つの画素の各々に設けられた前記第1のトランジスタは、互いに異なる導電型で形成されてなること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記2つの画素の各々に設けられた前記第2のトランジスタは、互いに異なる導電型で形成されてなること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記2つの画素に供給される画像信号は、前記複数の共通給電線の電位を基準としたとき、互いに逆極性になるように設定されてなること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記複数の画素のうち、当該一つの共通給電線の両側に当該一つの共通給電線に沿って配置された2列の画素に前記駆動電流を供給し、前記2列の画素において、前記発光素子は、互いに極性が反転した駆動電流により駆動されること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記複数のデータ線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性は同一であり、前記複数の走査線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性が2画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記複数のデータ線の延在方向では、画素における駆動電流の極性が1画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記複数の走査線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性は同一であり、前記複数のデータ線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性が2画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記対向電極は、同じ極性の駆動電流で駆動される2画素に対して共通に設けられた複数の対向電極からなること、を特徴とする。
また、本発明の表示装置は、上記の表示装置において、前記複数の走査線の延在方向及び前記複数のデータ線の延在方向において、画素における駆動電流の極性が1画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする。
The display device of the present invention includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines extending in a direction intersecting with the plurality of scanning lines, a plurality of common power supply lines, the plurality of data lines, and the plurality of scannings. A plurality of pixels formed in a matrix by a line, and each of the plurality of pixels includes a pixel electrode and a gate electrode, and scans through the corresponding scanning line among the plurality of scanning lines. The plurality of common power supply lines according to a first transistor to which a signal is supplied to the gate electrode, and a corresponding data line among the plurality of data lines and an image signal supplied through the first transistor. A second transistor that controls electrical connection between the corresponding common power supply line and the pixel electrode, and the corresponding common power supply line and the pixel electrode are electrically connected via the second transistor. Previous when connected A light-emitting element that emits light by a drive current flowing between a counter electrode facing the pixel electrode, and two pixels to which the drive current is supplied from one common power feed line among the plurality of common power feed lines The light emitting elements are driven by drive currents having opposite polarities.
In the display device of the present invention, in the above display device, the potentials of the counter electrodes in the two pixels are set to have opposite polarities when the potentials of the plurality of common power supply lines are used as a reference. It is characterized by that.
The display device of the present invention is characterized in that, in the above display device, the first transistor provided in each of the two pixels is formed with different conductivity types.
The display device of the present invention is characterized in that, in the above display device, the second transistor provided in each of the two pixels is formed with different conductivity types.
In the display device of the present invention, in the above display device, the image signals supplied to the two pixels are set to have opposite polarities when the potentials of the plurality of common power supply lines are used as a reference. It is characterized by.
In the display device according to the aspect of the invention, in the display device, the driving is performed on two columns of pixels arranged along the one common power supply line on both sides of the one common power supply line. A current is supplied, and the light emitting elements in the two columns of pixels are driven by driving currents having opposite polarities.
In the display device of the present invention, in the display device described above, the polarity of the drive current in each pixel is the same in the extending direction of the plurality of data lines, and in the extending direction of the plurality of scanning lines, It is characterized in that the polarity of the drive current in the pixel is reversed every two pixels.
The display device of the present invention is characterized in that, in the display device described above, the polarity of the drive current in the pixel is inverted for each pixel in the extending direction of the plurality of data lines. .
In the display device of the present invention, in the display device, the polarity of the drive current in each pixel is the same in the extending direction of the plurality of scanning lines, and in the extending direction of the plurality of data lines, It is characterized in that the polarity of the drive current in the pixel is inverted every two pixels.
The display device of the present invention is characterized in that, in the above display device, the counter electrode is composed of a plurality of counter electrodes provided in common to two pixels driven by a drive current having the same polarity. To do.
In the display device of the present invention, in the display device described above, the polarity of the drive current in the pixel is inverted for each pixel in the extending direction of the plurality of scanning lines and the extending direction of the plurality of data lines. It is characterized by being comprised.

すなわち、本発明では、データ線、それに接続する画素群、1本の共通給電線、それに接続する画素群、および該画素群に画素信号を供給するデータ線を1つの単位としてそれを走査線の延設方向に繰り返すので、2列分の画素を1本の共通給電線で駆動する。従って、1列の画素群ごとに共通給電線を形成する場合と比較して共通給電線の形成領域を狭めることができるため、その分、画素の発光領域を拡張できる。よって、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。   That is, according to the present invention, a data line, a pixel group connected to the data line, a common power supply line, a pixel group connected to the data line, and a data line for supplying a pixel signal to the pixel group are regarded as one unit. Since it repeats in the extending direction, the pixels for two columns are driven by one common power supply line. Therefore, compared with the case where a common power supply line is formed for each pixel group in one column, the area where the common power supply line is formed can be narrowed, so that the light emission area of the pixel can be expanded accordingly. Therefore, display performance such as luminance and contrast ratio can be improved.

このように構成するにあたっては、たとえば、前記共通給電線を挟むように配置された2つの画素の間では、前記第1の薄膜トランジスタ、前記第2の薄膜トランジスタ、および前記発光素子を、当該共通給電線を中心に線対称に配置することが好ましい。   In such a configuration, for example, the first thin film transistor, the second thin film transistor, and the light emitting element are connected to the common power supply line between two pixels arranged so as to sandwich the common power supply line. It is preferable to arrange them symmetrically about the center.

本発明において、前記走査線の延設方向に沿って隣接するいずれの画素の間でも前記有機半導体膜の形成領域の中心のピッチが等しいことが好ましい。このように構成すると、インクジェットヘッドから有機半導体膜の材料を吐出して有機半導体膜を形成するのに都合がよい。すなわち、有機半導体膜の形成領域の中心のピッチが等しいので、インクジェットヘッドから有機半導体膜の材料を等間隔で吐出していけばよい。これにより、インクジェットヘッドの移動制御機構が簡易になるとともに、位置精度も向上する。   In the present invention, it is preferable that the pitches of the centers of the regions where the organic semiconductor film is formed are equal between any pixels adjacent along the extending direction of the scanning lines. Such a configuration is convenient for forming the organic semiconductor film by discharging the organic semiconductor film material from the inkjet head. That is, since the center pitches of the organic semiconductor film formation regions are equal, the material of the organic semiconductor film may be ejected from the inkjet head at equal intervals. This simplifies the movement control mechanism of the inkjet head and improves the positional accuracy.

また、前記有機半導体膜の形成領域は、前記有機半導体膜よりも厚い絶縁膜からなるバンク層で囲まれているとともに、該バンク層は、同じ幅寸法で前記データ線および前記共通給電線を覆うように構成されていることが好ましい。このように構成すると、有機半導体膜をインクジェット法により形成する際に、バンク層が有機半導体膜が周囲にはみ出すのを防止するので、有機半導体膜を所定領域内に形成できる。また、該バンク層は、同じ幅寸法で前記データ線および前記共通給電線を覆うため、走査線の延設方向に沿って隣接するいずれの画素の間でも有機半導体膜の形成領域の中心のピッチが等しくするのに適している。ここで、対向電極は少なくとも画素領域上のほぼ全面、あるいはストライプ状に広い領域にわたって形成され、データ線と対向する状態にある。従って、このままでは、データ線に対して大きな容量が寄生することになる。しかるに本発明では、データ線と対向電極との間にバンク層が介在しているので、対向電極との間に形成される容量がデータ線に寄生することを防止できる。その結果、データ側駆動回路の負荷を低減できるので、低消費電力化あるいは表示動作の高速化を図ることができる。   The formation region of the organic semiconductor film is surrounded by a bank layer made of an insulating film thicker than the organic semiconductor film, and the bank layer covers the data line and the common power supply line with the same width dimension. It is preferable that it is comprised. With this configuration, when the organic semiconductor film is formed by the ink jet method, the bank layer prevents the organic semiconductor film from protruding to the periphery, so that the organic semiconductor film can be formed in a predetermined region. In addition, since the bank layer covers the data line and the common power supply line with the same width dimension, the pitch of the center of the region where the organic semiconductor film is formed between any adjacent pixels along the extending direction of the scanning line Is suitable for equalization. Here, the counter electrode is formed over at least almost the entire surface of the pixel region or over a wide area in a stripe shape, and is in a state of facing the data line. Therefore, a large capacitance is parasitic on the data line as it is. However, according to the present invention, since the bank layer is interposed between the data line and the counter electrode, it is possible to prevent the capacitance formed between the data line and the counter electrode from parasitic on the data line. As a result, the load on the data side driving circuit can be reduced, so that the power consumption can be reduced or the display operation speed can be increased.

本発明において、前記画素に対して前記共通給電線とは反対側を通る2本のデータ線の間に相当する位置には、配線層が形成されていることが好ましい。2本のデータ線が並列していると、これらのデータ線の間でクロストークが発生するおそれがある。しかるに本発明では、2本のデータ線の間にはそれらとは別の配線層が通っているので、このような配線層を画像の少なくとも1水平走査期間内で固定電位としておくだけで、上記のクロストークを防止できる。   In the present invention, it is preferable that a wiring layer is formed at a position corresponding to two data lines passing through the opposite side of the common power supply line with respect to the pixel. If two data lines are arranged in parallel, there is a risk of crosstalk occurring between these data lines. However, in the present invention, a wiring layer different from the two data lines passes between the two data lines. Therefore, such a wiring layer is set at a fixed potential within at least one horizontal scanning period of the image. Can prevent crosstalk.

この場合に、前記複数のデータ線のうち、隣接する2本のデータ線の間では、画像信号のサンプリングを同一のタイミングで行うことが好ましい。このように構成すると、2本のデータ線の間でサンプリング時の電位変化が同時に起こるので、これらのデータ線の間でクロストークが発生するのをより確実に防止できる。   In this case, it is preferable that the sampling of the image signal is performed at the same timing between two adjacent data lines among the plurality of data lines. With this configuration, the potential change at the time of sampling occurs simultaneously between the two data lines, so that it is possible to more reliably prevent the crosstalk from occurring between these data lines.

本発明では、同一の前記共通給電線との間で前記駆動電流の通電が行われる複数の画素には、極性が反転した駆動電流により前記発光素子の駆動が行われる2種類の画素がほぼ同数含まれていることが好ましい。   In the present invention, the plurality of pixels that are energized with the drive current between the same common power supply lines have substantially the same number of two types of pixels that are driven by the drive current with the polarity reversed. It is preferably included.

このように構成すると、共通給電線から画素に流れる駆動電流と、画素から共通給電線に流れる駆動電流とが相殺され、共通給電線に流れる駆動電流が小さくて済む。従って、共通給電線をその分細くすることができるので、パネル外形に対する表示面積を拡張できる。また、駆動電流の差により生じる輝度むらをなくすことができる。   With this configuration, the drive current flowing from the common power supply line to the pixel and the drive current flowing from the pixel to the common power supply line are canceled out, and the drive current flowing through the common power supply line can be small. Therefore, since the common power supply line can be made thinner, the display area for the panel outer shape can be expanded. In addition, luminance unevenness caused by a difference in driving current can be eliminated.

たとえば、前記データ線の延設方向では各画素における駆動電流の極性が同一で、前記走査線の延設方向では各画素における駆動電流の極性が1画素毎に、あるいは2画素毎に反転するように構成する。あるいは、前記走査線の延設方向では各画素における駆動電流の極性が同一で、前記データ線の延設方向では各画素における駆動電流の極性が1画素毎、あるいは2画素毎に反転するように構成してもよい。これらの形態のうち、2画素毎に駆動電流の極性が反転するように構成した場合には、同じ極性の駆動電流が流れる画素については、隣接する画素の間で対向電極を共通にすることができるので、対向電極のスリット数を減らすことができる。すなわち、大電流が流れる対向電極の抵抗値を高くすることなく、極性反転を実現できる。   For example, the polarity of the drive current in each pixel is the same in the extending direction of the data line, and the polarity of the drive current in each pixel is reversed every pixel or every two pixels in the extending direction of the scanning line. Configure. Alternatively, the polarity of the driving current in each pixel is the same in the extending direction of the scanning line, and the polarity of the driving current in each pixel is reversed every pixel or every two pixels in the extending direction of the data line. It may be configured. Among these forms, when the polarity of the drive current is inverted every two pixels, the counter electrode may be shared between adjacent pixels for the pixel through which the drive current of the same polarity flows. Therefore, the number of slits in the counter electrode can be reduced. That is, polarity inversion can be realized without increasing the resistance value of the counter electrode through which a large current flows.

また、前記走査線の延設方向および前記データ線の延設方向のいずれの方向でも、各画素における駆動電流の極性が1画素毎に反転するように構成してもよい。   Further, the polarity of the drive current in each pixel may be reversed for each pixel in any of the extending direction of the scanning lines and the extending direction of the data lines.

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[実施の形態1]
(アクティブマトリクス基板の全体構成)
図1は、表示装置の全体のレイアウトを模式的に示すブロック図、図2は、それに構成されたアクティブマトリクスの等価回路図である。
[Embodiment 1]
(Overall configuration of active matrix substrate)
FIG. 1 is a block diagram schematically showing the entire layout of a display device, and FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of an active matrix configured therewith.

この図に示すように、本形態の表示装置1ではその基体たる透明基板10の中央部分が表示部2とされている。透明基板10の外周部分のうち、データ線sigの両端側には画像信号を出力するデータ側駆動回路3、および検査回路5が構成され、走査線gateの両端側には走査信号を出力する走査側駆動回路4が構成されている。これらの駆動回路3、4では、N型のTFTとP型のTFTとによって相補型TFTが構成され、この相補型TFTは、シフトレジスタ、レベルシフタ、アナログスイッチなどを構成している。なお、透明基板10上において、データ側駆動回路3よりも外周領域には、画像信号や各種の電位、パルス信号を入力するための端子群とされる実装用パッド6が形成されている。   As shown in this figure, in the display device 1 of the present embodiment, the central portion of the transparent substrate 10 as the base is the display unit 2. Of the outer peripheral portion of the transparent substrate 10, the data side drive circuit 3 and the inspection circuit 5 that output image signals are configured at both ends of the data line sig, and scanning that outputs a scanning signal at both ends of the scanning line gate. A side drive circuit 4 is configured. In these drive circuits 3 and 4, a complementary TFT is constituted by an N-type TFT and a P-type TFT, and this complementary TFT constitutes a shift register, a level shifter, an analog switch, and the like. On the transparent substrate 10, a mounting pad 6 serving as a terminal group for inputting an image signal, various potentials, and a pulse signal is formed in the outer peripheral area of the data side driving circuit 3.

(共通給電線と画素の配置)
表示装置1では、液晶表示装置のアクティブマトリクス基板と同様、透明基板10上に、複数の走査線gateと、該走査線gateの延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線sigとが構成され、図2に示すように、これらのデータ線sigと走査線gateとによりマトリクス状に形成された画素7が構成されている。
(Common feed line and pixel arrangement)
In the display device 1, similarly to the active matrix substrate of the liquid crystal display device, a plurality of scanning lines gate and a plurality of data extended in a direction intersecting the extending direction of the scanning lines gate on the transparent substrate 10. Lines sig are formed, and as shown in FIG. 2, pixels 7 formed in a matrix are formed by these data lines sig and scanning lines gate.

これらの画素7のいずれにも、走査線gateを介して走査信号がゲート電極21(第1のゲート電極)に供給される第1のTFT20が構成されている。このTFT20のソース・ドレイン領域の一方は、データ線sigに電気的に接続し、他方は電位保持電極stに電気的に接続している。走査線gateに対しては容量線clineが並列配置され、この容量線clineと電位保持電極stとの間には保持容量capが形成されている。従って、走査信号によって選択されて第1のTFT20がオン状態になると、データ線sigから画像信号が第1のTFT20を介して保持容量capに書き込まれる。   Each of these pixels 7 includes a first TFT 20 in which a scanning signal is supplied to the gate electrode 21 (first gate electrode) via the scanning line gate. One of the source / drain regions of the TFT 20 is electrically connected to the data line sig, and the other is electrically connected to the potential holding electrode st. A capacitance line cline is arranged in parallel with the scanning line gate, and a holding capacitance cap is formed between the capacitance line cline and the potential holding electrode st. Therefore, when the first TFT 20 is selected by the scanning signal and turned on, the image signal is written from the data line sig to the storage capacitor cap via the first TFT 20.

電位保持電極stには第2のTFT30のゲート電極31(第2のゲート電極)が電気的に接続している。このTFT30のソース・ドレイン領域の一方は、共通給電線comに電気的に接続する一方、他方は発光素子40の一方の電極(後述する画素電極)に電気的に接続している。共通給電線comは定電位に保持されている。従って、第2のTFT30がオン状態になったときに、このTFTを介して共通給電線comの電流が発光素子40に流れ、発光素子40を発光させる。   A gate electrode 31 (second gate electrode) of the second TFT 30 is electrically connected to the potential holding electrode st. One of the source / drain regions of the TFT 30 is electrically connected to the common power supply line com, and the other is electrically connected to one electrode (a pixel electrode described later) of the light emitting element 40. The common power supply line com is held at a constant potential. Therefore, when the second TFT 30 is turned on, the current of the common power supply line com flows through the TFT to the light emitting element 40 and causes the light emitting element 40 to emit light.

本形態では、共通給電線comの両側に、該共通給電線comとの間で駆動電流の供給が行われる複数の画素7が配置され、これらの画素7に対して共通給電線comとは反対側を2本のデータ線sigが通っている。すなわち、データ線sig、それに接続する画素群、1本の共通給電線com、それに接続する画素群、および該画素群に画素信号を供給するデータ線sigを1つの単位としてそれを走査線gateの延設方向に繰り返してあり、共通給電線comは、1本で2列分の画素7に対して駆動電流を供給する。そこで、本形態では、共通給電線comを挟むように配置された2つの画素7の間では、第1のTFT20、第2のTFT30、および発光素子40が当該共通給電線comを中心に線対称に配置され、これらの素子と各配線層との電気的な接続を容易なものにしてある。   In the present embodiment, a plurality of pixels 7 to which drive current is supplied to and from the common power supply line com are arranged on both sides of the common power supply line com, and these pixels 7 are opposite to the common power supply line com. Two data lines sig pass through the side. That is, a data line sig, a pixel group connected to the data line, a single common power supply line com, a pixel group connected to the data line sig, and a data line sig that supplies a pixel signal to the pixel group as one unit are used as a unit of the scanning line gate. It repeats in the extending direction, and the common power supply line com supplies a drive current to the pixels 7 for two columns. Therefore, in this embodiment, between the two pixels 7 arranged so as to sandwich the common power supply line com, the first TFT 20, the second TFT 30, and the light emitting element 40 are symmetrical with respect to the common power supply line com. The electrical connection between these elements and each wiring layer is facilitated.

このように、本形態では、1本の共通給電線comで2列分の画素を駆動するので、1列の画素群ごとに共通給電線comを形成する場合と比較して、共通給電線comの数が1/2で済むとともに、同一の層間に形成される共通給電線comとデータ線sigとの間に確保していた隙間が不要である。それ故、透明基板10上において配線のための領域を狭くすることができるので、その分、各画素領域における発光面積の割合を高めることができ、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。   In this way, in this embodiment, since pixels for two columns are driven by one common power supply line com, the common power supply line com is compared with the case where the common power supply line com is formed for each pixel group of one column. , And a gap secured between the common power supply line com and the data line sig formed between the same layers is unnecessary. Therefore, since the area for wiring on the transparent substrate 10 can be narrowed, the proportion of the light emitting area in each pixel area can be increased correspondingly, and the display performance such as luminance and contrast ratio can be improved. Can do.

なお、このように1本の共通給電線comに2列分の画素が接続する構成としたため、データ線sigは2本ずつ並列する状態にあって、それぞれの列の画素群に対して画像信号を供給することになる。   Since two columns of pixels are connected to one common power supply line com in this way, two data lines sig are in parallel, and an image signal is output to the pixel group of each column. Will be supplied.

(画素の構成)
このように構成した表示装置1の各画素7の構造を図3ないし図6(A)を参照して詳述する。
(Pixel configuration)
The structure of each pixel 7 of the display device 1 configured as described above will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 6A.

図3は、本形態の表示装置1に形成されている複数の画素7のうちの3つの画素7を拡大して示す平面図、図4、図5、および図6(A)はそれぞれは、そのA−A’線における断面図、B−B’線における断面図、およびC−C’線における断面図である。   FIG. 3 is an enlarged plan view showing three pixels 7 among the plurality of pixels 7 formed in the display device 1 of the present embodiment, and FIGS. 4, 5 and 6A are respectively It is the sectional view in the AA 'line, the sectional view in the BB' line, and the sectional view in the CC 'line.

まず、図3におけるA−A’線に相当する位置では、図4に示すように、透明基板10上には各画素7の各々に、第1のTFT20を形成するための島状のシリコン膜200が形成され、その表面にはゲート絶縁膜50が形成されている。また、ゲート絶縁膜50の表面にはゲート電極21(走査線gateの一部)が形成され、該ゲート電極21に対して自己整合的にソース・ドレイン領域22、23が形成されている。ゲート絶縁膜50の表面側には第1の層間絶縁膜51が形成され、この層間絶縁膜に形成されたコンタクトホール61、62を介して、ソース・ドレイン領域22、23にはデータ線sig、および電位保持電極stがそれぞれ電気的に接続している。   First, at a position corresponding to the line AA ′ in FIG. 3, as shown in FIG. 4, an island-shaped silicon film for forming the first TFT 20 on each pixel 7 on the transparent substrate 10. 200 is formed, and a gate insulating film 50 is formed on the surface thereof. A gate electrode 21 (a part of the scanning line gate) is formed on the surface of the gate insulating film 50, and source / drain regions 22 and 23 are formed in a self-aligned manner with respect to the gate electrode 21. A first interlayer insulating film 51 is formed on the surface side of the gate insulating film 50, and the data lines sig and the source / drain regions 22 and 23 are connected to the source / drain regions 22 and 23 through contact holes 61 and 62 formed in the interlayer insulating film. And the potential holding electrode st are electrically connected to each other.

各画素7には走査線gateと並列するように、走査線gateやゲート電極21と同一の層間(ゲート絶縁膜50と第1の層間絶縁膜51との間)には容量線clineが形成されており、この容量線clineに対しては、第1の層間絶縁膜51を介して電位保持電極stの延設部分st1が重なっている。このため、容量線clineと電位保持電極stの延設部分st1とは、第1の層間絶縁膜51を誘電体膜とする保持容量capを構成している。なお、電位保持電極stおよびデータ線sigの表面側には第2の層間絶縁膜52が形成されている。   In each pixel 7, a capacitor line cline is formed between the scanning line gate and the gate electrode 21 (between the gate insulating film 50 and the first interlayer insulating film 51) so as to be in parallel with the scanning line gate. In addition, the extended portion st1 of the potential holding electrode st overlaps the capacitor line cline via the first interlayer insulating film 51. For this reason, the capacitor line cline and the extended portion st1 of the potential holding electrode st constitute a holding capacitor cap using the first interlayer insulating film 51 as a dielectric film. A second interlayer insulating film 52 is formed on the surface side of the potential holding electrode st and the data line sig.

図3におけるB−B’線に相当する位置では、図5に示すように、透明基板10上に形成された第1の層間絶縁膜51および第2の層間絶縁膜52の表面に各画素7に対応するデータ線sigが2本、並列している状態にある。   At a position corresponding to the line BB ′ in FIG. 3, each pixel 7 is formed on the surface of the first interlayer insulating film 51 and the second interlayer insulating film 52 formed on the transparent substrate 10 as shown in FIG. Two data lines sig corresponding to are in parallel.

図3におけるC−C’線に相当する位置では、図6(A)に示すように、透明基板10上には共通給電線comを挟む2つの画素7に跨がるように、第2のTFT30を形成するための島状のシリコン膜300が形成され、その表面にはゲート絶縁膜50が形成されている。ゲート絶縁膜50の表面には、共通給電線comを挟むように、各画素7の各々にゲート電極31がそれぞれ形成され、このゲート電極31に自己整合的にソース・ドレイン領域32、33が形成されている。ゲート絶縁膜50の表面側には第1の層間絶縁膜51が形成され、この層間絶縁膜に形成されたコンタクトホール63を介して、ソース・ドレイン領域62に中継電極35が電気的に接続している。一方、シリコン膜300の中央部分で2つの画素7において共通のソース・ドレイン領域33となる部分に対しては、第1の層間絶縁膜51のコンタクトホール64を介して、共通給電線comが電気的に接続している。これらの共通給電線com、および中継電極35の表面側には第2の層間絶縁膜52が形成されている。第2の層間絶縁膜52の表面側にはITO膜からなる画素電極41が形成されている。この画素電極41は、第2の層間絶縁膜52に形成されたコンタクトホール65を介して中継電極35に電気的に接続し、この中継電極35を介して第2のTFT30のソース・ドレイン領域32に電気的に接続している。   In the position corresponding to the line CC ′ in FIG. 3, as shown in FIG. 6A, the second substrate 7 is formed on the transparent substrate 10 so as to straddle the two pixels 7 sandwiching the common power supply line com. An island-like silicon film 300 for forming the TFT 30 is formed, and a gate insulating film 50 is formed on the surface thereof. On the surface of the gate insulating film 50, a gate electrode 31 is formed in each of the pixels 7 so as to sandwich the common power supply line com, and source / drain regions 32 and 33 are formed in a self-aligned manner on the gate electrode 31. Has been. A first interlayer insulating film 51 is formed on the surface side of the gate insulating film 50, and the relay electrode 35 is electrically connected to the source / drain region 62 through a contact hole 63 formed in the interlayer insulating film. ing. On the other hand, the common power supply line com is electrically connected to the central portion of the silicon film 300 via the contact hole 64 of the first interlayer insulating film 51 for the portion that becomes the common source / drain region 33 in the two pixels 7. Connected. A second interlayer insulating film 52 is formed on the surface of the common power supply line com and the relay electrode 35. A pixel electrode 41 made of an ITO film is formed on the surface side of the second interlayer insulating film 52. The pixel electrode 41 is electrically connected to the relay electrode 35 via a contact hole 65 formed in the second interlayer insulating film 52, and the source / drain region 32 of the second TFT 30 is connected via the relay electrode 35. Is electrically connected.

ここで、画素電極41は発光素子40の一方の電極を構成している。すなわち、画素電極41の表面には正孔注入層42および有機半導体膜43が積層され、さらに有機半導体膜43の表面には、リチウム含有アルミニウム、カルシウムなどの金属膜からなる対向電極opが形成されている。この対向電極opは、少なくとも画素領域上に、あるいはストライプ状に形成された共通の電極であり、一定の電位に保持されている。   Here, the pixel electrode 41 constitutes one electrode of the light emitting element 40. That is, the hole injection layer 42 and the organic semiconductor film 43 are laminated on the surface of the pixel electrode 41, and the counter electrode op made of a metal film such as lithium-containing aluminum or calcium is formed on the surface of the organic semiconductor film 43. ing. The counter electrode op is a common electrode formed at least on the pixel region or in a stripe shape, and is held at a constant potential.

このように構成された発光素子40では、対向電極opおよび画素電極41をそれぞれ正極および負極として電圧が印加され、図7に示すように、印加電圧がしきい値電圧を越えた領域で有機半導体膜43に流れる電流(駆動電流)が急激に増大する。その結果、発光素子40は、エレクトロルミネッセンス素子あるいはLED素子として発光し、発光素子40の光は、対向電極opに反射され、透明な画素電極41および透明基板10を透過して出射される。   In the light emitting element 40 configured as described above, a voltage is applied with the counter electrode op and the pixel electrode 41 as the positive electrode and the negative electrode, respectively, and as shown in FIG. 7, in the region where the applied voltage exceeds the threshold voltage, the organic semiconductor The current (drive current) flowing through the film 43 increases rapidly. As a result, the light emitting element 40 emits light as an electroluminescence element or an LED element, and the light of the light emitting element 40 is reflected by the counter electrode op, and is emitted through the transparent pixel electrode 41 and the transparent substrate 10.

このような発光を行うための駆動電流は、対向電極op、有機半導体膜43、正孔注入層42、画素電極41、第2のTFT30、および共通給電線comから構成される電流経路を流れるため、第2のTFT30がオフ状態になると、流れなくなる。本形態の表示装置1では、走査信号によって選択されて第1のTFT20がオン状態になると、データ線sigから画像信号が第1のTFT20を介して保持容量capに書き込まれる。従って、第2のTFT30のゲート電極は、第1のTFT20がオフ状態になっても、保持容量capによって画像信号に相当する電位に保持されるので、第2のTFT30はオン状態のままである。それ故、発光素子40には駆動電流が流れ続け、この画素は点灯状態のままである。この状態は、新たな画像データが保持容量capに書き込まれて、第2のTFT30はオフ状態になるまで維持される。   The driving current for performing such light emission flows through a current path including the counter electrode op, the organic semiconductor film 43, the hole injection layer 42, the pixel electrode 41, the second TFT 30, and the common feeder line com. When the second TFT 30 is turned off, it stops flowing. In the display device 1 of this embodiment, when the first TFT 20 is selected by the scanning signal and turned on, an image signal is written from the data line sig to the storage capacitor cap via the first TFT 20. Accordingly, the gate electrode of the second TFT 30 is held at the potential corresponding to the image signal by the storage capacitor cap even when the first TFT 20 is turned off, so that the second TFT 30 remains on. . Therefore, a driving current continues to flow through the light emitting element 40, and this pixel remains in a lighting state. This state is maintained until new image data is written in the storage capacitor cap and the second TFT 30 is turned off.

(表示装置の製造方法)
このように構成した表示装置1の製造方法において、透明基板10上に第1のTFT20および第2のTFT30を製造するまでの工程は、液晶表示装置1のアクティブマトリクス基板を製造する工程と略同様であるため、図8を参照してその概要を説明する。
(Manufacturing method of display device)
In the manufacturing method of the display device 1 configured as described above, the steps until the first TFT 20 and the second TFT 30 are manufactured on the transparent substrate 10 are substantially the same as the steps of manufacturing the active matrix substrate of the liquid crystal display device 1. Therefore, the outline will be described with reference to FIG.

図8は、表示装置1の各構成部分を形成していく過程を模式的に示す工程断面図である。   FIG. 8 is a process cross-sectional view schematically showing a process of forming each component of the display device 1.

すなわち、図8(A)に示すように、透明基板10に対して、必要に応じて、TEOS(テトラエトキシシラン)や酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマCVD法により厚さが約2000〜5000オングストロームのシリコン酸化膜からなる下地保護膜(図示せず。)を形成する。次に基板の温度を約350℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマCVD法により厚さが約300〜700オングストロームのアモルファスのシリコン膜からなる半導体膜100を形成する。次にアモルファスのシリコン膜からなる半導体膜100に対して、レーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜100をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、たとえば、エキシマレーザでビーム形状の長寸が400mmのラインビームを用い、その出力強度はたとえば200mJ/cm2である。ラインビームについてはその短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の90%に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査していく。 That is, as shown in FIG. 8A, the transparent substrate 10 has a thickness of about 2000 to 5000 angstroms by plasma CVD using TEOS (tetraethoxysilane) or oxygen gas as a raw material gas as necessary. A base protective film (not shown) made of a silicon oxide film is formed. Next, the temperature of the substrate is set to about 350 ° C., and a semiconductor film 100 made of an amorphous silicon film having a thickness of about 300 to 700 Å is formed on the surface of the base protective film by plasma CVD. Next, a crystallization process such as laser annealing or solid phase growth is performed on the semiconductor film 100 made of an amorphous silicon film to crystallize the semiconductor film 100 into a polysilicon film. In the laser annealing method, for example, a line beam having a long beam shape of 400 mm is used with an excimer laser, and its output intensity is, for example, 200 mJ / cm 2 . As for the line beam, the line beam is scanned so that a portion corresponding to 90% of the peak value of the laser intensity in the short dimension direction overlaps each region.

次に、図8(B)に示すように、半導体膜100をパターニングして島状の半導体膜200、300とし、その表面に対して、TEOS(テトラエトキシシラン)や酸素ガスなどを原料ガスとしてプラズマCVD法により厚さが約600〜1500オングストロームのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜50を形成する。   Next, as shown in FIG. 8B, the semiconductor film 100 is patterned to form island-shaped semiconductor films 200 and 300, and TEOS (tetraethoxysilane), oxygen gas, or the like is used as a source gas on the surface. A gate insulating film 50 made of a silicon oxide film or nitride film having a thickness of about 600 to 1500 angstroms is formed by plasma CVD.

次に、図8(C)に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成した後、パターニングし、走査線gateの一部としてのゲート電極21、31を形成する。この工程では容量線clineも形成する。なお、図中、310はゲート電極31の延設部分である。   Next, as shown in FIG. 8C, a conductive film made of a metal film such as aluminum, tantalum, molybdenum, titanium, or tungsten is formed by a sputtering method, and then patterned to form a gate as a part of the scan line gate. Electrodes 21 and 31 are formed. In this step, a capacitor line cline is also formed. In the figure, reference numeral 310 denotes an extended portion of the gate electrode 31.

この状態で高濃度のリンイオンまたはボロンイオンを打ち込んで、シリコン薄膜200、300にはゲート電極21、31に対して自己整合的にソース・ドレイン領域22、23、32、33を形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域27、37となる。   In this state, high concentration phosphorous ions or boron ions are implanted to form source / drain regions 22, 23, 32, 33 in the silicon thin films 200, 300 in a self-aligned manner with respect to the gate electrodes 21, 31. Note that portions where impurities are not introduced become channel regions 27 and 37.

次に、図8(D)に示すように、第1の層間絶縁膜51を形成した後、コンタクトホール61、62、63、64、69を形成し、データ線sig、容量線clineおよびゲート電極31の延設部分310に重なる延設部分st1を備える電位保持電極st、共通給電線com、および中継電極35を形成する。その結果、電位保持電極stはコンタクトホール69および延設部分310を介してゲート電極31に電気的に接続する。このようにして第1のTFT20および第2のTFT30を形成する。また、容量線clineと電位保持電極stの延設部分st1とによって保持容量capが形成される。   Next, as shown in FIG. 8D, after forming the first interlayer insulating film 51, contact holes 61, 62, 63, 64, and 69 are formed, and the data line sig, the capacitor line cline, and the gate electrode are formed. The potential holding electrode st, the common power supply line com, and the relay electrode 35 including the extended portion st1 overlapping the 31 extended portion 310 are formed. As a result, the potential holding electrode st is electrically connected to the gate electrode 31 through the contact hole 69 and the extended portion 310. In this way, the first TFT 20 and the second TFT 30 are formed. In addition, the storage capacitor cap is formed by the capacitor line cline and the extended portion st1 of the potential holding electrode st.

次に、図8(E)に示すように、第2の層間絶縁膜52を形成し、この層間絶縁膜には、中継電極35に相当する部分にコンタクトホール65を形成する。次に、第2の層間絶縁膜52の表面全体にITO膜を形成した後、パターニングし、コンタクトホール65を介して第2のTFT30のソース・ドレイン領域32に電気的に接続する画素電極41を形成する。   Next, as shown in FIG. 8E, a second interlayer insulating film 52 is formed, and a contact hole 65 is formed in the interlayer insulating film at a portion corresponding to the relay electrode 35. Next, after forming an ITO film on the entire surface of the second interlayer insulating film 52, patterning is performed, and the pixel electrode 41 electrically connected to the source / drain region 32 of the second TFT 30 through the contact hole 65 is formed. Form.

次に、図8(F)に示すように、第2の層間絶縁膜52の表面側に黒色のレジスト層を形成した後、このレジストを発光素子40の正孔注入層42および有機半導体膜43を形成すべき領域を囲むように残し、バンク層bankを形成する。ここで、有機半導体膜43は、各画素毎に独立して形成される場合、データ線sigに沿ってストライプ状に形成される場合などのいずれの形状であっても、それに対応する形状にバンク層bankを形成するだけで、本形態に係る製造方法を適用できる。   Next, as shown in FIG. 8F, after forming a black resist layer on the surface side of the second interlayer insulating film 52, this resist is used as the hole injection layer 42 and the organic semiconductor film 43 of the light emitting element 40. Is left so as to surround a region to be formed, and a bank layer bank is formed. Here, the organic semiconductor film 43 has a bank shape corresponding to any shape, such as when formed independently for each pixel, or when formed in a stripe shape along the data line sig. The manufacturing method according to this embodiment can be applied only by forming the layer bank.

次に、バンク層bankの内側領域に対してインクジェットヘッドIJから、正孔注入層42を構成するための液状の材料(前駆体)を吐出し、バンク層bankの内側領域に正孔注入層42を形成する。同様に、バンク層bankの内側領域に対してインクジェットヘッドIJから、有機半導体膜43を構成するための液状の材料(前駆体)を吐出し、バンク層bankの内側領域に有機半導体膜43を形成する。ここで、バンク層bankはレジストから構成されているため、撥水性である。これに対して、有機半導体膜43の前駆体は主に親水性の溶媒を用いているため、有機半導体膜43の塗布領域はバンク層bankによって確実に規定され、隣接する画素にはみ出ることがない。   Next, a liquid material (precursor) for forming the hole injection layer 42 is discharged from the inkjet head IJ to the inner region of the bank layer bank, and the hole injection layer 42 is injected into the inner region of the bank layer bank. Form. Similarly, a liquid material (precursor) for forming the organic semiconductor film 43 is ejected from the inkjet head IJ to the inner region of the bank layer bank to form the organic semiconductor film 43 in the inner region of the bank layer bank. To do. Here, since the bank layer bank is made of a resist, it is water repellent. On the other hand, since the precursor of the organic semiconductor film 43 mainly uses a hydrophilic solvent, the application region of the organic semiconductor film 43 is reliably defined by the bank layer bank and does not protrude into adjacent pixels. .

このようにして有機半導体膜43や正孔注入層42をインクジェット法により形成する場合には、その作業効率や射出位置精度を高めるために、本形態では、図3に示すように、走査線gateの延設方向に沿って隣接するいずれの画素7間でも、前記有機半導体膜43の形成領域の中心のピッチPを等しくしてある。従って、矢印Qで示すように、走査線gateの延設方向に沿って等間隔の位置にインクジェットヘッドIJから有機半導体膜43の材料などを吐出すればよいので、作業効率がよいという利点がある。また、インクジェットヘッドIJの移動制御機構が簡易になるとともに、打ち込み位置精度も向上する。   In the case where the organic semiconductor film 43 and the hole injection layer 42 are formed by the ink jet method in this way, in this embodiment, as shown in FIG. The pitches P of the centers of the regions where the organic semiconductor film 43 is formed are made equal between any pixels 7 adjacent along the extending direction. Therefore, as indicated by the arrow Q, the material of the organic semiconductor film 43 and the like may be ejected from the inkjet head IJ to the positions at equal intervals along the extending direction of the scanning line gate. . In addition, the movement control mechanism of the inkjet head IJ is simplified, and the driving position accuracy is also improved.

しかる後には、図8(G)に示すように、透明基板10の表面側に対向電極opを形成する。ここで、対向電極opは少なくとも画素領域の全面、またはストライプ状に形成されるが、対向電極opをストライプ状に形成する場合には、透明基板10の表面全体に金属膜を形成した後、それをストライプ状にパターニングする。   Thereafter, as shown in FIG. 8G, the counter electrode op is formed on the surface side of the transparent substrate 10. Here, the counter electrode op is formed at least on the entire surface of the pixel region or in a stripe shape. However, when the counter electrode op is formed in a stripe shape, a metal film is formed on the entire surface of the transparent substrate 10, and then Are patterned into stripes.

なお、バンク層bankについては、それが黒色のレジストから構成されているので、そのまま残し、以下に説明するように、ブラックマトリクスBM、および寄生容量を低減するための絶縁層として利用する。   Since the bank layer bank is made of a black resist, it is left as it is and used as a black matrix BM and an insulating layer for reducing parasitic capacitance as described below.

図1に示すデータ側駆動回路3や走査側駆動回路4にもTFTが形成されるが、これらのTFTは前記の画素7にTFTを形成していく工程の全部あるいは一部を援用して行われる。それ故、駆動回路を構成するTFTも、画素7のTFTと同一の層間に形成されることになる。   TFTs are also formed in the data side driving circuit 3 and the scanning side driving circuit 4 shown in FIG. 1, and these TFTs are implemented by using all or part of the process of forming the TFTs on the pixels 7. Is called. Therefore, the TFT constituting the driving circuit is also formed between the same layers as the TFT of the pixel 7.

また、前記第1のTFT20、および第2のTFT30については、双方がN型、双方がP型、一方がN型で他方がP型のいずれでもよいが、このようないずれの組合せであっても、周知の方法でTFTを形成していけるので、その説明を省略する。   The first TFT 20 and the second TFT 30 may both be N-type, both P-type, one N-type, and the other P-type. However, since the TFT can be formed by a known method, the description thereof is omitted.

(バンク層の形成領域)
本形態では、図1に示す透明基板10の周辺領域の総てに対して、前記のバンク層bank(形成領域に斜線を付してある。)を形成する。従って、データ側駆動回路3および走査側駆動回路4はいずれも、バンク層bankによって覆われている。このため、これらの駆動回路の形成領域に対して対向電極opが重なる状態にあっても、駆動回路の配線層と対向電極opとの間にバンク層bankが介在することになる。それ故、駆動回路2、3に容量が寄生することを防止できるので、駆動回路2、3の負荷を低減でき、低消費電力化あるいは表示動作の高速化を図ることができる。
(Bank layer formation region)
In this embodiment, the bank layer bank (formation area is hatched) is formed for all the peripheral areas of the transparent substrate 10 shown in FIG. Therefore, both the data side driving circuit 3 and the scanning side driving circuit 4 are covered with the bank layer bank. For this reason, even if the counter electrode op overlaps the formation region of these drive circuits, the bank layer bank is interposed between the wiring layer of the drive circuit and the counter electrode op. Therefore, parasitic capacitance can be prevented in the drive circuits 2 and 3, so that the load on the drive circuits 2 and 3 can be reduced, so that power consumption can be reduced or display operation speed can be increased.

また、本形態では、図3ないし図5に示すように、データ線sigに重なるようにバンク層bankを形成してある。従って、データ線sigと対向電極opとの間にバンク層bankが介在することになるので、データ線sigに容量が寄生することを防止できる。その結果、データ側駆動回路3の負荷を低減できるので、低消費電力化あるいは表示動作の高速化を図ることができる。   In the present embodiment, as shown in FIGS. 3 to 5, the bank layer bank is formed so as to overlap the data line sig. Accordingly, since the bank layer bank is interposed between the data line sig and the counter electrode op, it is possible to prevent parasitic capacitance from occurring in the data line sig. As a result, the load on the data side drive circuit 3 can be reduced, so that the power consumption can be reduced or the display operation speed can be increased.

ここで、共通給電線comには、データ線sigと違って、発光素子40を駆動するための大きな電流が流れ、しかも、2列分の画素に対して駆動電流を供給する。このため、共通給電線comについては、その線幅をデータ線sigの線幅よりも広く設定し、共通給電線comの単位長さ当たりの抵抗値を、データ線sigの単位長さ当たりの抵抗値よりも小さくしてある。そのような設計条件下でも、本形態では、共通給電線comにも重なるようにバンク層bankを形成して有機半導体膜43の形成領域を規定する際にここに形成するバンク層bankの幅を、2本のデータ線sigに重なるバンク層bankと同一の幅寸法とすることにより、前記のように、走査線gateの延設方向に沿って隣接するいずれの画素7の間でも有機半導体膜43の形成領域の中心のピッチPを等しくするのに適した構造になる。   Here, unlike the data line sig, a large current for driving the light emitting element 40 flows through the common power supply line com, and a driving current is supplied to the pixels for two columns. Therefore, for the common power supply line com, the line width is set wider than the line width of the data line sig, and the resistance value per unit length of the common power supply line com is set to the resistance per unit length of the data line sig. It is smaller than the value. Even under such design conditions, in this embodiment, when the bank layer bank is formed so as to overlap with the common power supply line com and the formation region of the organic semiconductor film 43 is defined, the width of the bank layer bank formed here is set. By setting the same width dimension as the bank layer bank overlapping the two data lines sig, as described above, the organic semiconductor film 43 between any of the pixels 7 adjacent along the extending direction of the scanning line gate. It becomes a structure suitable for making the pitch P of the center of the formation area of the same.

さらに、本形態では、図3、図4、および図6(A)に示すように、画素電極41の形成領域のうち、第1のTFT20の形成領域および第2のTFT30の形成領域と重なる領域にもバンク層bankを形成する。すなわち、図6(B)に示すように、中継電極35と重なる領域にバンク層bankを形成しないと、たとえ対向電極opとの間に駆動電流が流れて有機半導体膜43が発光しても、この光は中継電極35と対向電極opとに挟まれて出射されず、表示に寄与しない。かかる表示に寄与しない部分で流れる駆動電流は、表示という面からみて無効電流といえる。しかるに本形態では、このような無効電流が流れるはずの部分にバンク層bankを形成し、そこに駆動電流が流れることを防止するので、共通給電線comに無駄な電流が流れることが防止できる。それ故、共通給電線comの幅はその分狭くてよい。   Furthermore, in this embodiment, as shown in FIGS. 3, 4, and 6 (A), of the formation region of the pixel electrode 41, the region overlapping the formation region of the first TFT 20 and the formation region of the second TFT 30. Also, the bank layer bank is formed. That is, as shown in FIG. 6B, if the bank layer bank is not formed in the region overlapping the relay electrode 35, even if the driving current flows between the counter electrode op and the organic semiconductor film 43 emits light, This light is not emitted between the relay electrode 35 and the counter electrode op, and does not contribute to display. The driving current that flows in a portion that does not contribute to the display can be said to be a reactive current in terms of display. However, in this embodiment, since the bank layer bank is formed in a portion where such a reactive current should flow and the drive current is prevented from flowing therethrough, it is possible to prevent a wasteful current from flowing through the common power supply line com. Therefore, the width of the common feeder line com may be reduced accordingly.

また、前記のように黒色のレジストで構成したバンク層bankを残しておくと、バンク層bankはブラックマトリクスとして機能し、輝度、コントラスト比などの表示の品位が向上する。すなわち、本形態に係る表示装置1では、対向電極opが透明基板10の表面側の全面、あるいは広い領域にわたってストライプ状に形成されるため、対向電極opでの反射光がコントラスト比を低下させる。しかるに本形態では、有機半導体膜43の形成領域を規定しながら寄生容量を抑える機能を有するバンク層bankを黒色のレジストで構成したため、バンク層bankはブラックマトリクスとしても機能し、対向電極opからの反射光を遮るので、コントラスト比が高いという利点がある。また、バンク層bankを利用して自己整合的に発光領域を規定することができるので、バンク層bankをブラックマトリクスとして用いずに別の金属層などをブラックマトリクスとして用いたときに問題となる発光領域とのアライメント余裕が不要である。   Further, if the bank layer bank made of black resist is left as described above, the bank layer bank functions as a black matrix, and the display quality such as luminance and contrast ratio is improved. That is, in the display device 1 according to this embodiment, since the counter electrode op is formed in a stripe shape over the entire surface side of the transparent substrate 10 or over a wide region, the reflected light from the counter electrode op decreases the contrast ratio. However, in the present embodiment, since the bank layer bank having a function of suppressing the parasitic capacitance while defining the formation region of the organic semiconductor film 43 is configured by a black resist, the bank layer bank also functions as a black matrix, and is formed from the counter electrode op. Since the reflected light is blocked, there is an advantage that the contrast ratio is high. In addition, since the light emitting region can be defined in a self-aligned manner using the bank layer bank, the light emission that causes a problem when another metal layer or the like is used as the black matrix without using the bank layer bank as the black matrix. No alignment margin with the area is required.

[上記形態の改良例]
上記形態では、共通給電線comの両側のそれぞれに、該共通給電線comとの間で駆動電流が流れる画素7が配置され、該画素7に対して前記共通給電線comとは反対側を2本のデータ線sigが並列して通っている。従って、2本のデータ線sigの間でクロストークが発生するおそれがある。そこで、本形態では、図9、図10(A)、(B)に示すように、2本のデータ線sigの間に相当する位置にダミーの配線層DAを形成してある。このダミーの配線層DAとしては、たとえば、画素電極41と同時形成されたITO膜DA1を利用することができる。また、ダミーの配線層DAとしては、2本のデータ線sigの間に容量線clineからの延設部分DA2を構成してもよい。これらの双方をダミーの配線層DAとして用いてもよい。
[Improvement of the above embodiment]
In the above embodiment, the pixels 7 through which a drive current flows between the common power supply line com and the common power supply line com are arranged on both sides of the common power supply line com. Two data lines sig pass in parallel. Accordingly, there is a possibility that crosstalk occurs between the two data lines sig. Therefore, in this embodiment, as shown in FIGS. 9, 10A, and 10B, a dummy wiring layer DA is formed at a position corresponding to between the two data lines sig. As this dummy wiring layer DA, for example, an ITO film DA1 formed simultaneously with the pixel electrode 41 can be used. Further, as the dummy wiring layer DA, an extended portion DA2 from the capacitance line cline may be formed between the two data lines sig. Both of these may be used as the dummy wiring layer DA.

このように構成すると、並列する2本のデータ線sigの間にはそれらとは別の配線層DAが通っているので、このような配線層DA(DA1、DA2)を画像の少なくとも1水平走査期間内で固定電位としておくだけで、上記のクロストークを防止できる。すなわち、第1の層間絶縁膜51および第2の層間絶縁膜52は、膜厚が凡そ1μmであるのに対して、2本のデータ線sig2本の間隔は約2μm以上であるため、各データ線sigとダミーの配線層DA(DA1、DA2)との間に構成される容量に比較して、2本のデータ線sigに間に構成される容量は十分に無視できるほど小さい。それ故、データ線sigから漏れた高周波数の信号はダミーの配線層DA及びDA2で吸収されるので、2本のデータ線sigの間でのクロストークを防止できる。   With such a configuration, a separate wiring layer DA passes between the two parallel data lines sig. Therefore, such a wiring layer DA (DA1, DA2) is scanned at least one horizontal of the image. The above crosstalk can be prevented only by setting a fixed potential within the period. That is, the first interlayer insulating film 51 and the second interlayer insulating film 52 have a film thickness of about 1 μm, whereas the interval between the two data lines sig is about 2 μm or more. Compared to the capacitance configured between the line sig and the dummy wiring layer DA (DA1, DA2), the capacitance configured between the two data lines sig is sufficiently small to be negligible. Therefore, the high-frequency signal leaking from the data line sig is absorbed by the dummy wiring layers DA and DA2, so that crosstalk between the two data lines sig can be prevented.

また、複数のデータ線sigのうち、隣接する2本のデータ線sigの間では、画像信号のサンプリングを同一のタイミングで行うことが好ましい。このように構成すると、2本のデータ線sigの間でサンプリング時の電位変化が同時に起きるので、これら2本のデータ線sigの間におけるクロストークをより確実に防止できる。   In addition, it is preferable to perform sampling of image signals at the same timing between two adjacent data lines sig among the plurality of data lines sig. With this configuration, potential changes during sampling occur simultaneously between the two data lines sig, so that crosstalk between the two data lines sig can be more reliably prevented.

[保持容量の別の構成例]
なお、上記形態では、保持容量capを構成するのに容量線clineを形成したが、従来技術で説明したように、TFTを構成するためのポリシリコン膜を利用して保持容量capを構成してもよい。
[Another configuration example of storage capacity]
In the above embodiment, the capacitor line cline is formed to form the storage capacitor cap. However, as described in the prior art, the storage capacitor cap is configured using the polysilicon film for forming the TFT. Also good.

また、図11に示すように、共通給電線comと電位保持電極stとの間に保持容量capを構成してもよい。この場合には、図12(A)、(B)に示すように、電位保持電極stとゲート電極31とを電気的に接続させるためのゲート電極31の延設部分310を共通給電線comの下層側にまで拡張し、この延設部分310と共通給電線comとの間に位置する第1の層間絶縁膜51を誘電体膜として保持容量capを構成すればよい。   Further, as shown in FIG. 11, a storage capacitor cap may be formed between the common power supply line com and the potential holding electrode st. In this case, as shown in FIGS. 12A and 12B, the extended portion 310 of the gate electrode 31 for electrically connecting the potential holding electrode st and the gate electrode 31 is connected to the common feeder line com. The storage capacitor cap may be configured by extending to the lower layer side and using the first interlayer insulating film 51 located between the extended portion 310 and the common power supply line com as a dielectric film.

[実施の形態2]
上記の実施の形態1では、いずれの画素7においても同一の極性の駆動電流で発光素子40を駆動する構成であったが、以下に説明するように、同一の共通給電線comとの間で駆動電流の通電が行われる複数の画素7には、極性が反転した駆動電流により発光素子40の駆動が行われる2種類の画素7が同数、含まれているように構成してもよい。
[Embodiment 2]
In the first embodiment, the light emitting element 40 is driven by the drive current having the same polarity in any of the pixels 7. However, as described below, the light emitting element 40 is connected to the same common power supply line com. The plurality of pixels 7 that are energized with the drive current may include the same number of the two types of pixels 7 that drive the light emitting element 40 with the drive current whose polarity is reversed.

このような構成例を、図13ないし図17を参照して説明する。図13は、極性の反転した駆動電流で発光素子40が駆動される2種類の画素を構成した形態のブロック図である。図14および図15はそれぞれ、極性の反転した駆動電流で発光素子40を駆動する際の走査信号、画像信号、共通給電線の電位、および電位保持電極の電位の説明図である。   Such a configuration example will be described with reference to FIGS. FIG. 13 is a block diagram of a configuration in which two types of pixels in which the light emitting element 40 is driven by a drive current having reversed polarity. FIGS. 14 and 15 are explanatory diagrams of a scanning signal, an image signal, a potential of the common power supply line, and a potential of the potential holding electrode when driving the light emitting element 40 with a driving current whose polarity is inverted.

本形態および後述する形態のいずれにおいても、図13に示すように、極性の反転した駆動電流iで発光素子40を駆動するにあたって、矢印Eで示すように共通給電線comから駆動電流が流れる画素7Aでは、第1のTFT20をnチャネル型で構成し、矢印Fで示すように共通給電線comに向けて駆動電流が流れる画素7Bでは、第1のTFT20をpチャネル型で構成してある。このため、これらの2種類の画素7A、7Bのそれぞれに走査線gateA、gateBを構成する。また、本形態では、画素7Aの第2のTFT30をpチャネル型で構成する一方、画素7Bの第2のTFT30をnチャネル型で構成し、いずれの画素7A、7Bにおいても、第1のTFT20と第2のTFT30とを逆導電型にしてある。従って、画素7Aに対応するデータ線sigAと、画素7Bに対応するデータ線sigBとを介してそれぞれ供給される画像信号についても、後述するように、その極性を反転させてある。   In both of the present embodiment and the later-described embodiment, as shown in FIG. 13, when the light emitting element 40 is driven by the drive current i with the polarity reversed, the pixel through which the drive current flows from the common feeder line com as indicated by the arrow E In 7A, the first TFT 20 is configured as an n-channel type, and as indicated by an arrow F, in the pixel 7B where a drive current flows toward the common power supply line com, the first TFT 20 is configured as a p-channel type. For this reason, scanning lines gateA and gateB are formed in each of these two types of pixels 7A and 7B. In this embodiment, the second TFT 30 of the pixel 7A is configured as a p-channel type, while the second TFT 30 of the pixel 7B is configured as an n-channel type, and the first TFT 20 is formed in any of the pixels 7A and 7B. And the second TFT 30 are of opposite conductivity type. Therefore, the polarities of the image signals respectively supplied via the data line sigA corresponding to the pixel 7A and the data line sigB corresponding to the pixel 7B are inverted as will be described later.

さらに、各画素7A、7Bでは、極性の反転した駆動電流iで発光素子40をそれぞれ駆動することから、後述するように、対向電極opの電位についても、共通給電線comの電位を基準としたときに逆極性となるように構成する必要がある。従って、対向電極opについては、極性が同一の駆動電流iが流れる画素7A、7B同士を接続するように構成し、それぞれに所定の電位を印加することになる。   Further, since each of the pixels 7A and 7B drives the light emitting element 40 with the drive current i whose polarity is inverted, as described later, the potential of the counter electrode op is also based on the potential of the common power supply line com. Sometimes it needs to be configured to have a reverse polarity. Therefore, the counter electrode op is configured to connect the pixels 7A and 7B through which the drive current i having the same polarity flows, and a predetermined potential is applied to each of the pixels.

それ故、図14および図15のそれぞれには、画素7A、7Bに対して、走査線gateA、gateBを介して供給される走査信号の波形、データ線sigA、sigBを介して供給される画像信号の波形、対向電極opの電位、および電位保持電極stA、stBの電位を、共通給電線comの電位を基準に表してあるように、画素7A、7Bの間において、各信号は、点灯期間および消灯期間のいずれにおいても逆極性となるように設定されている。   Therefore, in each of FIG. 14 and FIG. 15, the waveform of the scanning signal supplied to the pixels 7A and 7B via the scanning lines gateA and gateB, and the image signal supplied via the data lines sigA and sigB. , The potential of the counter electrode op, and the potential of the potential holding electrodes stA and stB are expressed between the pixels 7A and 7B as the reference period with respect to the potential of the common feeder line com. It is set so as to have a reverse polarity in any light extinction period.

また、図16(A)、(B)に示すように、各画素7A、7Bには、異なる構造の発光素子40A、40Bが構成される。すなわち、画素7Aに形成される発光素子40Aは、下層側から上層側に向かって、ITO膜からなる画素電極41、正孔注入層42、有機半導体膜43、対向電極opAがこの順に積層されている。これに対して、画素7Bに形成される発光素子40Bは、下層側から上層側に向かって、ITO膜からなる画素電極41、透光性をもつほど薄いリチウム含有アルミニウム電極45、有機半導体層42、正孔注入層42、ITO膜層46、対向電極opBがこの順に積層されている。従って、発光素子40A、40Bの間では、それぞれ逆極性の駆動電流が流れるといっても、正孔注入層42および有機半導体層42が直接、接する電極層の構成が同一であるため、発光素子40A、40Bの発光特性は同等である。   Further, as shown in FIGS. 16A and 16B, the light emitting elements 40A and 40B having different structures are formed in the respective pixels 7A and 7B. That is, in the light emitting element 40A formed in the pixel 7A, the pixel electrode 41 made of an ITO film, the hole injection layer 42, the organic semiconductor film 43, and the counter electrode opA are laminated in this order from the lower layer side to the upper layer side. Yes. On the other hand, the light emitting element 40B formed in the pixel 7B has a pixel electrode 41 made of an ITO film from the lower layer side toward the upper layer side, a lithium-containing aluminum electrode 45 that is thin enough to transmit light, and the organic semiconductor layer 42. The hole injection layer 42, the ITO film layer 46, and the counter electrode opB are stacked in this order. Therefore, even though a drive current having a reverse polarity flows between the light emitting elements 40A and 40B, the structure of the electrode layer in which the hole injection layer 42 and the organic semiconductor layer 42 are in direct contact with each other is the same. The light emission characteristics of 40A and 40B are equivalent.

このような2種類の発光素子40A、40Bを形成するにあたって、双方の有機半導体膜43および正孔注入層42はいずれも、インクジェット法によりバンク層bankの内側に形成するので、上下位置が反対でも製造工程が複雑になることはない。また、発光素子40Bでは、発光素子40Aに比較して、透光性をもつほど薄いリチウム含有アルミニウム電極45、およびITO膜層46を追加することになるが、それでも、リチウム含有アルミニウム電極45は画素電極41と同じ領域で積層している構造になっていても表示に支障がなく、ITO膜層46も対向電極opBと同じ領域で積層している構造になっていても表示に支障がない。それ故、リチウム含有アルミニウム電極45と画素電極41とはそれぞれ別々にパターニングしてもよいが、同じレジストマスクで一括してパターニングしてもよい。同様に、ITO膜層46と対向電極opBとはそれぞれ別々にパターニングしてもよいが、同じレジストマスクで一括してパターニングしてもよい。リチウム含有アルミニウム電極45およびITO膜層46はバンク層bankの内側領域のみに形成してもよいことは勿論である。   In forming these two types of light emitting elements 40A and 40B, both the organic semiconductor film 43 and the hole injection layer 42 are both formed inside the bank layer bank by the ink jet method. The manufacturing process is not complicated. In addition, in the light emitting element 40B, a lithium-containing aluminum electrode 45 and an ITO film layer 46 which are thin enough to have translucency compared to the light emitting element 40A are added, but the lithium-containing aluminum electrode 45 is still a pixel. There is no hindrance to display even if the structure is laminated in the same region as the electrode 41, and there is no hindrance to display even if the ITO film layer 46 is also laminated in the same region as the counter electrode opB. Therefore, the lithium-containing aluminum electrode 45 and the pixel electrode 41 may be patterned separately, but may be patterned in a lump with the same resist mask. Similarly, the ITO film layer 46 and the counter electrode opB may be patterned separately, but may be patterned together with the same resist mask. Of course, the lithium-containing aluminum electrode 45 and the ITO film layer 46 may be formed only in the inner region of the bank layer bank.

このようにして各画素7A、7Bにおいて極性の反転した駆動電流で発光素子40A、40Bを駆動できるようにした上で、前記の2種類の画素7A、7Bを図17に示すように配置してある。この図において、符合(−)が付されている画素は、図13、図14、図16で説明した画素7Aに相当し、符合(+)が付されている画素は、図13、図15、図16で説明した画素7Bに相当する。なお、図17には、走査線gateA、gate、およびデータ線sigA、sigBの図示を省略してある。   In this manner, the light emitting elements 40A and 40B can be driven with the drive current having the polarity reversed in each of the pixels 7A and 7B, and the two types of pixels 7A and 7B are arranged as shown in FIG. is there. In this figure, the pixels marked with a sign (-) correspond to the pixels 7A described in FIGS. 13, 14, and 16, and the pixels marked with a sign (+) are shown in FIGS. This corresponds to the pixel 7B described in FIG. In FIG. 17, the scanning lines gateA and gate and the data lines sigA and sigB are not shown.

図17に示すように、本形態では、データ線sigA、sigBの延設方向では各画素における駆動電流の極性が同一で、走査線gateA、gateBの延設方向では各画素における駆動電流の極性が1画素毎に反転している。なお、各画素に対応する対向電極opA、opBの形成領域をそれぞれ一点鎖線で示すように、いずれの対向電極opA、opBも、極性が同一の駆動電流が流れる画素7A、7B同士を接続するように構成してある。すなわち、対向電極opA、opBは、データ線sigA、sigBの延設方向に沿ってストライプ状に別々に形成され、対向電極opA、opBのそれぞれには、共通給電線comの電位を基準としたときに負の電位、および正の電位が印加される。   As shown in FIG. 17, in this embodiment, the polarity of the drive current in each pixel is the same in the extending direction of the data lines sigA and sigB, and the polarity of the drive current in each pixel is in the extending direction of the scanning lines gateA and gateB. Each pixel is inverted. Note that, as indicated by the alternate long and short dash lines, the regions where the counter electrodes opA and opB corresponding to each pixel are formed are connected to each other so that the pixels 7A and 7B through which drive currents having the same polarity flow are connected to each other. It is configured. That is, the counter electrodes opA and opB are separately formed in stripes along the extending direction of the data lines sigA and sigB, and each of the counter electrodes opA and opB has the potential of the common power supply line com as a reference. A negative potential and a positive potential are applied to.

従って、各画素7A、7Bと共通給電線comとの間には、それぞれ図13に矢印E、Fに示す向きの駆動電流iが流れることになる。このため、共通給電線comを実質的に流れる電流は、極性の異なる駆動電流iの間で相殺されるので、共通給電線comに流れる駆動電流が小さくて済む。従って、共通給電線comをその分、細くすることができるので、画素7A、7Bにおいて画素領域の発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。   Therefore, drive currents i in the directions indicated by arrows E and F in FIG. 13 flow between the pixels 7A and 7B and the common power supply line com, respectively. For this reason, the current that substantially flows through the common power supply line com cancels out between the drive currents i having different polarities, so that the drive current that flows through the common power supply line com can be small. Accordingly, since the common power supply line com can be made thinner by that amount, the ratio of the light emitting area of the pixel area in the pixels 7A and 7B can be increased, and display performance such as luminance and contrast ratio can be improved.

[実施の形態3]
なお、同一の共通給電線comとの間で駆動電流が逆の極性で流れるように画素を配置するという観点からすれば、各画素を図18に示すように配置してもよい。なお、本形態では、各画素7A、7Bの構成などが実施の形態2と同様であるため、その説明を省略し、図18、および以下に説明する各形態を説明するための図19ないし図21には、図13、図14、図16で説明した画素7Aに相当する画素を符合(−)で表し、図13、図15、図16で説明した画素7Bに相当する画素を符合(+)で表してある。
[Embodiment 3]
From the viewpoint of arranging the pixels so that the drive current flows with the opposite polarity to the same common power supply line com, each pixel may be arranged as shown in FIG. Note that in this embodiment, the configuration of each pixel 7A, 7B is the same as that in Embodiment 2, and therefore the description thereof is omitted, and FIG. 18 and FIGS. 19 to 19 for explaining each embodiment described below are shown. In FIG. 21, a pixel corresponding to the pixel 7A described in FIG. 13, FIG. 14, and FIG. 16 is represented by a sign (−), and a pixel corresponding to the pixel 7B described in FIG. ).

図18に示すように、本形態では、データ線sigA、sigBの延設方向では各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が同一で、走査線gateA、gateBの延設方向では各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が2画素毎に反転するように構成されている。   As shown in FIG. 18, in this embodiment, the polarity of the drive current in each pixel 7A, 7B is the same in the extending direction of the data lines sigA, sigB, and each pixel 7A, 7B in the extending direction of the scanning lines gateA, gateB. The polarity of the drive current at is inverted every two pixels.

このように構成した場合にも、各画素7A、7Bと共通給電線comとの間には、それぞれ図13に矢印E、Fに示す向きの駆動電流iが流れることになる。このため、共通給電線comを流れる電流は、極性の異なる駆動電流iの間で相殺されるので、共通給電線comに流れる駆動電流が小さくて済む。従って、共通給電線comをその分、細くすることができるので、画素領域の画素7A、7Bにおいて画素領域の発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。それに加えて、本形態では、走査線gateA、gateBの延設方向において駆動電流の極性が2画素毎に反転しているため、同じ極性の駆動電流で駆動される画素同士であれば、隣接し合う2列の画素に対して共通の対向電極opA、opBをストライプ状に形成すればよい。それ故、対向電極opA、opBのストライプ数を1/2に減らすことができる。また、1画素毎のストライプに比して、対向電極opA、opBの抵抗を小さくできることから、対向電極opA、opBの電圧降下の影響を軽減することができる。   Even in such a configuration, drive currents i in the directions indicated by arrows E and F in FIG. 13 flow between the pixels 7A and 7B and the common power supply line com, respectively. For this reason, since the current flowing through the common power supply line com cancels out between the drive currents i having different polarities, the drive current flowing through the common power supply line com can be small. Accordingly, since the common power supply line com can be reduced by that amount, the ratio of the light emitting area of the pixel area to the pixels 7A and 7B of the pixel area can be increased, and display performance such as luminance and contrast ratio can be improved. Can do. In addition, in this embodiment, since the polarity of the drive current is inverted every two pixels in the extending direction of the scanning lines gateA and gateB, the pixels driven by the drive current having the same polarity are adjacent to each other. What is necessary is just to form the common counter electrodes opA and opB in stripes for the two columns of pixels. Therefore, the number of stripes of the counter electrodes opA and opB can be reduced to ½. Further, since the resistances of the counter electrodes opA and opB can be made smaller than the stripe for each pixel, the influence of the voltage drop of the counter electrodes opA and opB can be reduced.

[実施の形態4]
また、同一の共通給電線comとの間で駆動電流が逆の極性で流れるように画素を配置するという観点からすれば、各画素を図19に示すように配置してもよい。
[Embodiment 4]
Further, from the viewpoint of arranging the pixels so that the drive current flows with the opposite polarity to the same common power supply line com, each pixel may be arranged as shown in FIG.

図19に示すように、本形態では、走査線gateA、gateBの延設方向では各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が同一で、データ線sigA、sigBの延設方向では各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が1画素毎に反転するように構成されている。   As shown in FIG. 19, in this embodiment, the drive currents in the pixels 7A and 7B have the same polarity in the extending direction of the scanning lines gateA and gateB, and the pixels 7A and 7B in the extending direction of the data lines sigA and sigB. The polarity of the drive current at is inverted every pixel.

このように構成した場合にも、実施の形態2または3と同様、共通給電線comを流れる電流は、極性の異なる駆動電流の間で相殺されるので、共通給電線comに流れる駆動電流が小さくて済む。従って、共通給電線comをその分、細くすることができるので、画素7A、7Bにおいて画素領域の発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。   Even in such a configuration, as in the second or third embodiment, the current flowing through the common power supply line com cancels out between the drive currents having different polarities, so that the drive current flowing through the common power supply line com is small. I'll do it. Accordingly, since the common power supply line com can be made thinner by that amount, the ratio of the light emitting area of the pixel area in the pixels 7A and 7B can be increased, and display performance such as luminance and contrast ratio can be improved.

[実施の形態5]
また、同一の共通給電線comとの間で駆動電流が逆の極性で流れるように画素を配置するという観点からすれば、各画素を図20に示すように配置してもよい。
[Embodiment 5]
Further, from the viewpoint of arranging pixels so that the drive current flows with the opposite polarity to the same common power supply line com, each pixel may be arranged as shown in FIG.

図20に示すように、本形態では、走査線gateA、gateBの延設方向では各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が同一で、データ線sigA、sigBの延設方向では各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が2画素毎に反転するように構成されている。   As shown in FIG. 20, in this embodiment, the drive currents in the pixels 7A and 7B have the same polarity in the extending direction of the scanning lines gateA and gateB, and the pixels 7A and 7B in the extending direction of the data lines sigA and sigB. The polarity of the drive current at is inverted every two pixels.

このように構成した場合には、実施の形態3と同様、共通給電線comを流れる電流は、極性の異なる駆動電流の間で相殺されるので、共通給電線comに流れる駆動電流が小さくて済む。従って、共通給電線comをその分、細くすることができるので、画素7A、7Bにおいて画素領域の発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。それに加えて、本形態では、データ線sigA、sigBの延設方向において駆動電流の極性が2画素毎に反転しているため、同じ極性の駆動電流で駆動される画素同士であれば、隣接し合う2列の画素に対して共通の対向電極opA、opBをストライプ状に形成すればよい。それ故、対向電極opA、opBのストライプ数を1/2に減らすことができる。また、1画素毎のストライプに比して、対向電極opA、opBの抵抗を小さくできることから、対向電極opA、opBの電圧降下の影響を軽減することができる。   In such a configuration, as in the third embodiment, the current flowing through the common power supply line com cancels out the drive currents having different polarities, so that the drive current flowing through the common power supply line com can be small. . Accordingly, since the common power supply line com can be made thinner by that amount, the ratio of the light emitting area of the pixel area in the pixels 7A and 7B can be increased, and display performance such as luminance and contrast ratio can be improved. In addition, in this embodiment, since the polarity of the drive current is inverted every two pixels in the extending direction of the data lines sigA and sigB, the pixels driven by the drive current having the same polarity are adjacent to each other. What is necessary is just to form the common counter electrodes opA and opB in stripes for the two columns of pixels. Therefore, the number of stripes of the counter electrodes opA and opB can be reduced to ½. Further, since the resistances of the counter electrodes opA and opB can be made smaller than the stripe for each pixel, the influence of the voltage drop of the counter electrodes opA and opB can be reduced.

[実施の形態6]
また、同一の共通給電線comとの間で駆動電流が逆の極性で流れるように画素を配置するという観点からすれば、各画素を図21に示すように配置してもよい。
[Embodiment 6]
Further, from the viewpoint of arranging pixels so that the drive current flows with the opposite polarity to the same common power supply line com, each pixel may be arranged as shown in FIG.

図21に示すように、本形態では、走査線gateA、gateBの延設方向およびデータ線sigA、sigBの延設方向のいずれの方向でも、各画素7A、7Bにおける駆動電流の極性が1画素毎に反転するように構成されている。   As shown in FIG. 21, in this embodiment, the polarity of the drive current in each pixel 7A, 7B is set to one pixel in each of the extending direction of the scanning lines gateA, gateB and the extending direction of the data lines sigA, sigB. It is comprised so that it may invert.

このように構成した場合にも、実施の形態2ないし4と同様、共通給電線comを流れる電流は、極性の異なる駆動電流の間で相殺されるので、共通給電線comに流れる駆動電流が小さくて済む。従って、共通給電線comをその分、細くすることができるので、画素7A、7Bにおいて発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラスト比などの表示性能を向上させることができる。   Even in such a configuration, as in the second to fourth embodiments, the current flowing through the common power supply line com is canceled out between the drive currents having different polarities, so that the drive current flowing through the common power supply line com is small. I'll do it. Accordingly, since the common power supply line com can be reduced by that amount, the ratio of the light emitting area in the pixels 7A and 7B can be increased, and display performance such as luminance and contrast ratio can be improved.

このように画素7A、7Bを配置すると、ストライプ状の対向電極opA、opBでは対応できないが、それでも、各画素7A、7B毎に対向電極opA、opBを形成するとともに、各対向電極opA、opB同士を配線層で配線接続する構成とすればよい。   When the pixels 7A and 7B are arranged in this way, the stripe-shaped counter electrodes opA and opB cannot cope with it. However, the counter electrodes opA and opB are formed for each pixel 7A and 7B, and the counter electrodes opA and opB are formed with each other. May be configured to be connected by wiring in the wiring layer.

以上説明したように、本発明に係る表示装置では、共通給電線の両側に該共通給電線との間で駆動電流の通電が行われる画素が配置されているため、2列分の画素に対して1本の共通給電線で済む。それ故、1列の画素群ごとに共通給電線を形成する場合と比較して共通給電線の形成領域を狭めることができるため、その分、画素において発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラス比などの表示性能を向上させることができる。   As described above, in the display device according to the present invention, pixels on which driving current is passed between the common power supply lines are arranged on both sides of the common power supply line. A single common feeder is sufficient. Therefore, compared with the case where a common power supply line is formed for each pixel group in one column, the area where the common power supply line is formed can be narrowed, and accordingly, the proportion of the light emitting region in the pixel can be increased. Display performance such as contrast ratio can be improved.

また、同一の前記共通給電線との間で前記駆動電流の通電が行われる複数の画素に、極性が反転した駆動電流により前記発光素子の駆動が行われる2種類の画素が含まれている場合には、1本の共通給電線において、共通給電線から発光素子に流れる駆動電流と、それとは逆向きに発光素子から共通給電線に流れる駆動電流とが相殺されるので、共通給電線に流れる駆動電流が小さく済む。従って、共通給電線をその分、細くすることができるので、画素において発光領域の割合を高めることができ、輝度、コントラス比などの表示性能を向上させることができる。   In addition, when a plurality of pixels that are energized with the drive current between the same common power supply lines include two types of pixels that drive the light-emitting element with a drive current whose polarity is reversed. In one common power supply line, the drive current flowing from the common power supply line to the light-emitting element and the drive current flowing from the light-emitting element to the common power supply line in the opposite direction cancel each other. The drive current is small. Therefore, since the common power supply line can be made thinner accordingly, the ratio of the light emitting region in the pixel can be increased, and display performance such as luminance and contrast ratio can be improved.

本発明を適用した表示装置、およびそれに形成したバンク層の形成領域を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the formation area of the display apparatus to which this invention is applied, and the bank layer formed in it. 本発明を適用した表示装置の基本的な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the basic composition of the display apparatus to which this invention is applied. 本発明の実施の形態1に係る表示装置の画素を拡大して示す平面図である。It is a top view which expands and shows the pixel of the display apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 図3のA−A’線における断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 3. 図3のB−B’線における断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line B-B ′ of FIG. 3. (A)は図3のC−C’線における断面図、(B)はバンク層の形成領域を中継電極を覆うまで拡張しない構造の断面図である。FIG. 4A is a cross-sectional view taken along line C-C ′ in FIG. 3, and FIG. 4B is a cross-sectional view of a structure in which a bank layer formation region is not expanded until the relay electrode is covered. 図1に示す表示装置に用いた発光素子のI−V特性を示すグラフである。It is a graph which shows the IV characteristic of the light emitting element used for the display apparatus shown in FIG. 本発明を適用した表示装置の製造方法を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the manufacturing method of the display apparatus to which this invention is applied. 図1に示す表示装置の改良例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the example of improvement of the display apparatus shown in FIG. (A)は、図9に示す表示装置に形成したダミーの配線層を示す断面図、(B)はその平面図である。(A) is sectional drawing which shows the dummy wiring layer formed in the display apparatus shown in FIG. 9, (B) is the top view. 図3に示す表示装置の変形例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the modification of the display apparatus shown in FIG. (A)は、図11に示す表示装置に形成した画素を拡大して示す平面図、(B)はその断面図である。FIG. 11A is a plan view showing an enlarged view of a pixel formed in the display device shown in FIG. 11, and FIG. 本発明の実施の形態2に係る表示装置に構成した駆動電流が反転した2つの画素の構成を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the structure of two pixels with which the drive current comprised in the display apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention was reversed. 図13に示す2つの画素のうちの一方の画素を駆動するための各信号の波形図である。FIG. 14 is a waveform diagram of signals for driving one of the two pixels illustrated in FIG. 13. 図13に示す2つの画素のうちの他方の画素を駆動するための各信号の波形図である。FIG. 14 is a waveform diagram of signals for driving the other pixel of the two pixels shown in FIG. 13. 図13に示す2つの画素に構成される発光素子の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the light emitting element comprised in two pixels shown in FIG. 図13に示す表示装置における画素の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows arrangement | positioning of the pixel in the display apparatus shown in FIG. 本発明の実施の形態3に係る表示装置における画素の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows arrangement | positioning of the pixel in the display apparatus which concerns on Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4に係る表示装置における画素の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows arrangement | positioning of the pixel in the display apparatus which concerns on Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5に係る表示装置における画素の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows arrangement | positioning of the pixel in the display apparatus which concerns on Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6に係る表示装置における画素の配置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows arrangement | positioning of the pixel in the display apparatus which concerns on Embodiment 6 of this invention. 従来の表示装置のブロック図である。It is a block diagram of the conventional display apparatus. (A)は、図22に示す表示装置に形成した画素を拡大して示す平面図、(B)はその断面図である。(A) is a plan view showing an enlarged view of a pixel formed in the display device shown in FIG. 22, and (B) is a sectional view thereof.

符号の説明Explanation of symbols

1…表示装置、2…表示部、3…データ側駆動回路、4…走査側駆動回路、5…検査回路、6…実装用パッド、7,7A,7B…画素、10…透明基板、20…第1のTFT、21…第1のTFTのゲート電極、30…第2のTFT、31…第2のTFTのゲート電極、40,40A,40B…発光素子、41…画素電極、42…正孔注入層、43…有機半導体膜、45…薄いリチウム含有アルミニウム電極、46…ITO膜層、50…ゲート絶縁膜、51…第1の層間絶縁膜、52…第2の層間絶縁膜、DA…ダミーの配線層、bank…バンク層、cap…保持容量、cline…容量線、com…共通給電線、gate,gateA,gateB…走査線、op,opA,opB…対向電極、sig,sigA,sigB…データ線、st,stA,stB…電位保持電極。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display apparatus, 2 ... Display part, 3 ... Data side drive circuit, 4 ... Scanning side drive circuit, 5 ... Inspection circuit, 6 ... Mounting pad, 7, 7A, 7B ... Pixel, 10 ... Transparent substrate, 20 ... First TFT, 21... First TFT gate electrode, 30... Second TFT, 31... Second TFT gate electrode, 40, 40 A, 40 B. Light emitting element, 41. Injection layer, 43 ... organic semiconductor film, 45 ... thin lithium-containing aluminum electrode, 46 ... ITO film layer, 50 ... gate insulating film, 51 ... first interlayer insulating film, 52 ... second interlayer insulating film, DA ... dummy Wiring layer, bank ... bank layer, cap ... holding capacitor, line ... capacitor line, com ... common power supply line, gate, gateA, gateB ... scanning line, op, opA, opB ... counter electrode, sig, sigA, sigB ... data line, t, stA, stB ... potential holding electrode.

Claims (12)

複数の走査線と、
前記複数の走査線と交差する方向に延設された複数のデータ線と、
複数の共通給電線と、
前記複数のデータ線と前記複数の走査線とによりマトリクス状に形成された複数の画素と、を有し、
前記複数の画素の各々は、
画素電極と、
ゲート電極を備え、前記複数の走査線のうち対応する走査線を介して走査信号が前記ゲート電極に供給される第1のトランジスタと、
前記複数のデータ線のうち対応するデータ線及び前記第1のトランジスタを介して供給される画像信号に応じて、前記複数の共通給電線のうち対応する共通給電線と前記画素電極との電気的な接続の制御を行う第2のトランジスタと、
前記第2のトランジスタを介して前記対応する共通給電線と前記画素電極とが電気的に接続したときに前記画素電極に対向する対向電極との間に流れる駆動電流によって発光する発光素子と、を備え、
前記複数の共通給電線のうち、1つの共通給電線から前記駆動電流が供給される2つ画素において、前記発光素子は、互いに極性が反転した駆動電流により駆動されること、を特徴とする表示装置。
A plurality of scan lines;
A plurality of data lines extending in a direction intersecting with the plurality of scanning lines;
A plurality of common feeders;
A plurality of pixels formed in a matrix by the plurality of data lines and the plurality of scanning lines,
Each of the plurality of pixels is
A pixel electrode;
A first transistor comprising a gate electrode, wherein a scanning signal is supplied to the gate electrode via a corresponding scanning line among the plurality of scanning lines;
An electrical connection between the corresponding common power supply line and the pixel electrode among the plurality of common power supply lines in accordance with a corresponding data line among the plurality of data lines and an image signal supplied via the first transistor. A second transistor for controlling the correct connection;
A light-emitting element that emits light by a drive current flowing between the counter electrode facing the pixel electrode when the corresponding common power supply line and the pixel electrode are electrically connected via the second transistor; Prepared,
In the two pixels to which the driving current is supplied from one common feeding line among the plurality of common feeding lines, the light emitting element is driven by a driving current whose polarities are reversed from each other. apparatus.
請求項1に記載の表示装置において、
前記2つの画素における対向電極の電位は、前記複数の共通給電線の電位を基準としたとき、互いに逆極性になるように設定されていること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device characterized in that the potentials of the counter electrodes in the two pixels are set to have opposite polarities with respect to the potentials of the plurality of common power supply lines.
請求項1又は2に記載の表示装置において、
前記2つの画素の各々に設けられた前記第1のトランジスタは、互いに異なる導電型で形成されてなること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1 or 2,
The display device, wherein the first transistor provided in each of the two pixels is formed with different conductivity types.
請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示装置において、
前記2つの画素の各々に設けられた前記第2のトランジスタは、互いに異なる導電型で形成されてなること、を特徴とする表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 3,
The display device, wherein the second transistor provided in each of the two pixels is formed with different conductivity types.
請求項4に記載の表示装置において、
前記2つの画素に供給される画像信号は、前記複数の共通給電線の電位を基準としたとき、互いに逆極性になるように設定されてなること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 4,
The display device, wherein the image signals supplied to the two pixels are set to have opposite polarities with respect to the potentials of the plurality of common power supply lines.
請求項1に記載の表示装置において、
前記複数の画素のうち、当該一つの共通給電線の両側に当該一つの共通給電線に沿って配置された2列の画素に前記駆動電流を供給し、
前記2列の画素において、前記発光素子は、互いに極性が反転した駆動電流により駆動されること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The drive current is supplied to two columns of pixels arranged along the one common power supply line on both sides of the one common power supply line among the plurality of pixels,
In the two columns of pixels, the light emitting elements are driven by driving currents whose polarities are reversed from each other.
請求項1又は6に記載の表示装置において、
前記複数のデータ線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性は同一であり、
前記複数の走査線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性が2画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1 or 6,
In the extending direction of the plurality of data lines, the polarity of the drive current in each pixel is the same,
A display device characterized in that in the extending direction of the plurality of scanning lines, the polarity of the driving current in each pixel is inverted every two pixels.
請求項1に記載の表示装置において、
前記複数のデータ線の延在方向では、画素における駆動電流の極性が1画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
A display device characterized in that in the extending direction of the plurality of data lines, the polarity of the drive current in the pixel is inverted for each pixel.
請求項1に記載の表示装置において、
前記複数の走査線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性は同一であり、
前記複数のデータ線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性が2画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
In the extending direction of the plurality of scanning lines, the polarity of the drive current in each pixel is the same,
A display device characterized in that in the extending direction of the plurality of data lines, the polarity of the drive current in each pixel is inverted every two pixels.
請求項1に記載の表示装置において、
前記複数の走査線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性は同一であり、
前記複数のデータ線の延在方向では、各画素における駆動電流の極性が2画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
In the extending direction of the plurality of scanning lines, the polarity of the drive current in each pixel is the same,
A display device characterized in that in the extending direction of the plurality of data lines, the polarity of the drive current in each pixel is inverted every two pixels.
請求項10に記載の表示装置において、
前記対向電極は、同じ極性の駆動電流で駆動される2画素に対して共通に設けられた複数の対向電極からなること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 10.
The display device, wherein the counter electrode includes a plurality of counter electrodes provided in common to two pixels driven by a drive current having the same polarity.
請求項1に記載の表示装置において、
前記複数の走査線の延在方向及び前記複数のデータ線の延在方向において、画素における駆動電流の極性が1画素毎反転するように構成されていること、を特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
A display device, wherein a polarity of a driving current in a pixel is inverted for each pixel in an extending direction of the plurality of scanning lines and an extending direction of the plurality of data lines.
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