JP2008268105A - X-ray beam source, x-ray beam irradiator, x-ray beam radiographic device, x-ray beam computer tomography device, x-ray element mapping examination apparatus and x-ray beam forming method - Google Patents

X-ray beam source, x-ray beam irradiator, x-ray beam radiographic device, x-ray beam computer tomography device, x-ray element mapping examination apparatus and x-ray beam forming method Download PDF

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Noriyasu Kobayashi
徳康 小林
Akiko Sumiya
晶子 角谷
Nobutada Aoki
延忠 青木
Yoshika Mitsunaka
義加 満仲
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a small and light-weight X-ray beam source which forms X-ray beams. <P>SOLUTION: The X-ray beam source 13 has a lead-in wire 2 inserted into an insulating material 1 to apply voltage, a cathode placed at one end of the lead-in wire 2, a target 6 as an anode placed opposite to the cathode to generate X rays by colliding generated electron beams, a vacuum container 7 which accommodates the lead-in wire 2, the cathode and the target 6 and has an X-ray transmissive window 5 that transmits X rays, a filter 8 placed outside it to selectively extract characteristic X rays from X rays, a housing 10 accommodating the vacuum container 7 and the filter 8 and a Fresnel zone plate (FZP) 9 as an X-ray condensing element placed on the housing 10 to converge the characteristic X rays. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、X線ビームを形成し利用するX線ビーム源、X線ビーム照射装置、X線ビーム透過撮影装置、X線ビームCT装置、X線元素マッピング検査装置及びX線ビーム形成方法に関する。   The present invention relates to an X-ray beam source, an X-ray beam irradiation apparatus, an X-ray beam transmission imaging apparatus, an X-ray beam CT apparatus, an X-ray element mapping inspection apparatus, and an X-ray beam forming method.

一般に、電子ビームが金属ターゲットに入射して放出するX線は、電子ビームの加速電圧を上限エネルギーとして、低エネルギー領域まで広い分布を持つ制動X線成分と金属ターゲット特有のエネルギースペクトルの特性X線が含まれる。この制動X線は連続(白色)成分からなり、金属ターゲット特有のエネルギースペクトルの特性X線は単色成分からなる。   In general, X-rays emitted when an electron beam is incident on a metal target are X-rays having a broad distribution up to a low energy region with an acceleration voltage of the electron beam as an upper limit energy and a characteristic X-ray characteristic of a metal target. Is included. The braking X-ray is composed of a continuous (white) component, and the characteristic X-ray of the energy spectrum peculiar to the metal target is composed of a monochromatic component.

近年、上記のX線を収束するX線光学素子として、回折を利用したフレネルゾーンプレート(Fresnel Zone Plate:以下、FZPという。)が適用されるようになってきた。このX線を一点に収束するためには、単色成分を利用する必要がある。このため、FZPを利用するための光源としては、単色X線を取り出し易い電子蓄積リング加速器を利用した放射光施設が利用されている。   In recent years, Fresnel Zone Plate (hereinafter referred to as FZP) using diffraction has been applied as an X-ray optical element that converges the X-ray. In order to converge this X-ray to one point, it is necessary to use a monochromatic component. For this reason, as a light source for using FZP, a synchrotron radiation facility using an electron storage ring accelerator that easily extracts monochromatic X-rays is used.

図10は、従来の電子蓄積リング加速器を用いたX線収束ビームの形成方法を示す説明図である。   FIG. 10 is an explanatory view showing a method of forming an X-ray focused beam using a conventional electron storage ring accelerator.

本図に示すように、放射光施設である電子蓄積リング加速器51内の偏向電磁石52で偏向された電子ビームは、ビームライン53となる。このビームライン53は、モノクロメータ54及びX線集光素子55を介してX線収束ビームとなる。このX線収束ビームが被検物56に照射され、透過した金属ターゲット特有のエネルギースペクトルの特性X線が各種分析器57に集められ分析される。   As shown in this figure, the electron beam deflected by the deflecting electromagnet 52 in the electron storage ring accelerator 51 which is a synchrotron radiation facility becomes a beam line 53. The beam line 53 becomes an X-ray converged beam via the monochromator 54 and the X-ray condensing element 55. The X-ray converged beam is irradiated onto the test object 56, and the characteristic X-rays of the energy spectrum peculiar to the transmitted metal target are collected in various analyzers 57 and analyzed.

上述のように、放射光を収束するためにX線光学素子として回折を利用したFZPが適用されるようになってきた。このような放射光とFZPを組み合わせた装置の代表的なものとして、X線顕微鏡が知られている(例えば、特許文献1参照)。このX線顕微鏡は、光源の規模により光源本体を走査することは難しく、試料の方を走査するものであった。
特開平06−281800号公報
As described above, FZP using diffraction has been applied as an X-ray optical element in order to converge radiation. An X-ray microscope is known as a typical apparatus combining such synchrotron radiation and FZP (see, for example, Patent Document 1). In this X-ray microscope, it is difficult to scan the light source body due to the scale of the light source, and the sample is scanned.
Japanese Patent Laid-Open No. 06-281800

上述した一般的なX線管にFZPを適用する場合、X線管から放射されるX線成分のうち、単色成分である特性X線を効果的に分離し取り出す構成を採ることが必要である。この放射光とFZPを組み合わせた装置の代表的なものとして、X線顕微鏡が知られている。   When FZP is applied to the general X-ray tube described above, it is necessary to adopt a configuration that effectively separates and extracts characteristic X-rays that are monochromatic components from among the X-ray components emitted from the X-ray tube. . An X-ray microscope is known as a typical apparatus combining this synchrotron radiation and FZP.

しかし、このX線顕微鏡のような構成を採用した場合に、光源の規模により光源本体を走査することは難しく、またX線ビームも容易に走査することは困難であった。このため、試料の方を走査するような使用方法に限定したものとなっている、という課題があった。   However, when a configuration such as this X-ray microscope is employed, it is difficult to scan the light source body due to the size of the light source, and it is also difficult to easily scan the X-ray beam. For this reason, there has been a problem that the method is limited to a method of use that scans the sample.

また、FZPで収束・平行ビームとしたX線を任意に走査する機能を持たせた装置を構成しようとする場合は、FZPを含めたX線ビーム源を極力、小型かつ軽量なものとして位置制御のし易いものにすることが必要である、という課題があった。   In addition, when trying to construct an apparatus that has the function of arbitrarily scanning X-rays that are focused and collimated by FZP, position control is performed by making the X-ray beam source including FZP as small and lightweight as possible. There was a problem that it was necessary to make it easy to perform.

また、X線管のような小型のX線発生装置にFZPを適用して収束または平行ビームとして効果的に取り出すことができれば、このX線ビームを任意に走査できる、という課題があった。   Further, if FZP is applied to a small X-ray generator such as an X-ray tube and the beam can be effectively extracted as a convergent or parallel beam, there is a problem that the X-ray beam can be arbitrarily scanned.

本発明は上記課題を解決するためになされたもので、X線ビームを形成するX線ビーム源の小型化かつ軽量化を図り、さらに、これを利用したX線ビーム走査機能を有するX線ビーム照射装置、X線ビーム透過撮影装置、X線ビームCT装置、X線元素マッピング検査装置及びX線ビーム形成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and is intended to reduce the size and weight of an X-ray beam source that forms an X-ray beam, and further has an X-ray beam scanning function using the X-ray beam scanning function. An object is to provide an irradiation apparatus, an X-ray beam transmission imaging apparatus, an X-ray beam CT apparatus, an X-ray element mapping inspection apparatus, and an X-ray beam forming method.

上記目的を達成するため、本発明のX線ビーム装置においては、絶縁材に挿入され電圧が印加される導入線と、この導入線の一端に設けられた陰極と、この陰極と対面して設けられ発生した電子ビームを衝突させてX線を発生させる陽極であるターゲットと、前記導入線、陰極及びターゲットを収納し前記X線が通過するX線透過窓を含む真空容器と、このX線透過窓の外側に設けられ前記X線から特性X線を選択的に取り出すフィルタと、前記真空容器及びフィルタを収納するハウジングと、このハウジングを貫通して設けられ前記特性X線を収束するX線集光素子と、を有することを特徴とするものである。   In order to achieve the above object, in the X-ray beam apparatus of the present invention, an introduction line inserted into an insulating material to which a voltage is applied, a cathode provided at one end of the introduction line, and provided facing the cathode. A target that is an anode that generates X-rays by colliding the generated electron beam, a vacuum vessel that contains the introduction line, the cathode, and the target and contains an X-ray transmission window through which the X-ray passes, and this X-ray transmission A filter provided outside the window for selectively extracting characteristic X-rays from the X-ray, a housing for housing the vacuum container and the filter, and an X-ray collection provided through the housing for converging the characteristic X-rays And an optical element.

また、上記目的を達成するため、本発明のX線ビームの形成方法においては、真空容器内において絶縁材に挿入され導入線の一端に設けられた陰極と、この陰極と対面して設けられた陽極であるターゲットとの間に電圧を印加して発生した電子ビームを衝突させてX線を発生させるX線発生ステップと、この真空容器内の外側に設けられフィルタを介して前記X線から特性X線を選択的に取り出す特性X線取出ステップと、前記真空容器及びフィルタを収容するハウジングに設けられたX線集光素子で前記特性X線を収束するX線収束ステップと、を有することを特徴とするものである。   In order to achieve the above object, in the method of forming an X-ray beam of the present invention, a cathode inserted into an insulating material in a vacuum vessel and provided at one end of an introduction line, and provided facing the cathode. An X-ray generation step of generating an X-ray by colliding an electron beam generated by applying a voltage between a target as an anode, and a characteristic from the X-ray through a filter provided outside the vacuum vessel A characteristic X-ray extraction step for selectively extracting X-rays, and an X-ray convergence step for converging the characteristic X-rays with an X-ray condensing element provided in a housing accommodating the vacuum vessel and the filter. It is a feature.

本発明のX線ビーム源、X線ビーム照射装置、X線ビーム透過撮影装置、X線ビームCT装置、X線元素マッピング検査装置及びX線ビーム形成方法によれば、真空容器内において絶縁体を貫通する導入線を配置することにより、X線ビーム源の小型化かつ軽量化を図ることができる。かくして、X線ビームを走査することができ、移動の困難な大型の被照射体の任意の位置にX線を照射することができる。   According to the X-ray beam source, the X-ray beam irradiation apparatus, the X-ray beam transmission imaging apparatus, the X-ray beam CT apparatus, the X-ray element mapping inspection apparatus, and the X-ray beam forming method of the present invention, the insulator is provided in the vacuum container. By arranging the lead-in through, the X-ray beam source can be reduced in size and weight. Thus, an X-ray beam can be scanned, and an X-ray can be irradiated to an arbitrary position of a large irradiation object that is difficult to move.

以下、本発明に係るX線ビーム源、X線ビーム照射装置、X線ビーム透過撮影装置、X線ビームCT装置、X線元素マッピング検査装置及びX線ビーム形成方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of an X-ray beam source, an X-ray beam irradiation apparatus, an X-ray beam transmission imaging apparatus, an X-ray beam CT apparatus, an X-ray element mapping inspection apparatus, and an X-ray beam forming method according to the present invention will be described below. The description will be given with reference. Here, the same or similar parts are denoted by common reference numerals, and redundant description is omitted.

図1は、本発明の第1の実施の形態の透過型のX線ビーム装置の構成を示す縦断面図であり、図2は、本発明の第1の実施の形態の反射型のX線ビーム装置の構成を示す縦断面図である。   FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of a transmission type X-ray beam apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a reflection type X-ray according to the first embodiment of the present invention. It is a longitudinal cross-sectional view which shows the structure of a beam apparatus.

本図に示すように、X線ビーム照射装置は、真空容器7から構成されている。この真空容器7の下部より、高電圧33が印加される導入線2が挿入されている。真空容器7内で、上記の導入線2は絶縁材1を貫通している。この絶縁材1は、凹凸形状から形成されているので、上記の高電圧33に対する沿面絶縁距離が十分に確保される。   As shown in the figure, the X-ray beam irradiation apparatus is composed of a vacuum vessel 7. An introduction line 2 to which a high voltage 33 is applied is inserted from the lower part of the vacuum vessel 7. In the vacuum vessel 7, the introduction wire 2 penetrates the insulating material 1. Since the insulating material 1 is formed in a concavo-convex shape, the creeping insulation distance with respect to the high voltage 33 is sufficiently ensured.

この導入線2の上端には、ウエネルト(Wehnet Electrode)3が設けられている。ウエネルト3は、電子線収束用の円筒状の電極で、陰極を囲むように装着されている。このウエネルト3の上面には、エミッタ(Emitter)4が設けられている。このエミッタ4は、キャリア(担体)を放出するものである。   A Wehnelt Electrode 3 is provided at the upper end of the lead-in line 2. The Wehnelt 3 is a cylindrical electrode for converging electron beams, and is mounted so as to surround the cathode. An emitter 4 is provided on the top surface of the Wehnelt 3. The emitter 4 emits carriers.

また、上記の真空容器7の上部には、X線透過窓5が設けられている。このX線透過窓5の内側に、ターゲット(陽極)6が配置されている。   In addition, an X-ray transmission window 5 is provided on the upper part of the vacuum vessel 7. A target (anode) 6 is disposed inside the X-ray transmission window 5.

また、上記の真空容器7は、ハウジング10内に収納されている。このハウジング10の上部には、X線を収束するX線光学素子として、回折を利用したフレネルゾーンプレート(Fresnel Zone Plate:FZP)9が設けられている。このFZP9と上記のX線透過窓5との間には、フィルタ8が設けられている。上述のコンポーネントにより、X線ビーム源13が構成される。   The vacuum container 7 is housed in the housing 10. A Fresnel zone plate (FZP) 9 using diffraction is provided on the upper portion of the housing 10 as an X-ray optical element for converging X-rays. A filter 8 is provided between the FZP 9 and the X-ray transmission window 5. The X-ray beam source 13 is constituted by the components described above.

また、上記の真空容器7は、走査機構11の台11aに載置される。この台11aを動作することにより、X線ビーム源13を上下方向及び左右方向に移動できるようになっている。   Further, the vacuum container 7 is placed on the table 11 a of the scanning mechanism 11. By operating the table 11a, the X-ray beam source 13 can be moved in the vertical direction and the horizontal direction.

このように構成された本実施の形態において、導入線2を介してエミッタ4に負の高電圧33が印加される。この負の高電圧33を印加することにより、エミッタ4から電界放出により電子ビーム31が発生する。この発生した電子ビーム31はウエネルト3により軌道成形され、エミッタ4とターゲット6との間の電界により加速されてターゲット6に衝突する。このターゲット6に衝突した電子ビーム31は、ターゲット金属による制動を受け、この衝突の点から4π(sr)方向へとX線32が放射される。このX線32の一部は、X線透過窓5を通過することにより真空容器7の外部へ取り出される。この真空容器7の外部へと取り出されたX線32は広がりながらフィルタ8を通過する。このフィルタ8を介して、X線32は単色のエネルギースペクトルを持つ特性X線となる。この特性X線はFZP9に入射される。このFZP9を介して、X線ビーム32が一点である焦点35に収束されることになる。   In the present embodiment configured as described above, a negative high voltage 33 is applied to the emitter 4 via the lead-in line 2. By applying this negative high voltage 33, an electron beam 31 is generated from the emitter 4 by field emission. The generated electron beam 31 is orbitally shaped by the Wehnelt 3 and accelerated by the electric field between the emitter 4 and the target 6 and collides with the target 6. The electron beam 31 colliding with the target 6 is braked by the target metal, and X-rays 32 are emitted in the 4π (sr) direction from the point of the collision. A part of the X-ray 32 is taken out of the vacuum vessel 7 by passing through the X-ray transmission window 5. The X-ray 32 taken out to the outside of the vacuum vessel 7 passes through the filter 8 while spreading. Through this filter 8, the X-ray 32 becomes a characteristic X-ray having a monochromatic energy spectrum. This characteristic X-ray is incident on the FZP 9. Through this FZP 9, the X-ray beam 32 is converged to a focal point 35 which is one point.

上記のコンポーネントはハウジング10内に収納され、X線ビーム源13を構成する。また、このハウジング10を載置したX線ビーム走査機構11の台11aを上下方向および左右方向に移動することにより、例えば、X線ビーム源13を三次元的に走査する機構を備えることができる。   The above components are housed in the housing 10 and constitute an X-ray beam source 13. Further, for example, a mechanism for three-dimensionally scanning the X-ray beam source 13 can be provided by moving the base 11a of the X-ray beam scanning mechanism 11 on which the housing 10 is mounted in the vertical direction and the horizontal direction. .

本実施の形態により、真空容器7内で凹凸形状の絶縁体を貫通する導入線を配置することにより、高電圧に対する沿面絶縁距離を確保することができる。そして、真空容器7の長さを短小化し、小型かつ計量のX線ビーム源13を得ることができる。さらに、X線ビーム源13の小型化かつ計量化を図ることにより、X線ビーム源13は三次元的に走査する機構を備えることができ、X線収束点を三次元上の任意の点に走査することが可能となる。かくして、小型のX線ビーム源を用いることにより被照射体である試料を動かすことなく、移動の困難な大型の被照射体の任意の位置にX線を照射することが可能となる。   According to the present embodiment, it is possible to secure a creeping insulation distance against a high voltage by disposing an introduction line that penetrates the concavo-convex insulator in the vacuum vessel 7. And the length of the vacuum vessel 7 can be shortened, and the small and metered X-ray beam source 13 can be obtained. Further, by reducing the size and measuring the X-ray beam source 13, the X-ray beam source 13 can be provided with a mechanism for three-dimensional scanning, and the X-ray convergence point can be set to an arbitrary point on the three-dimensional. It is possible to scan. Thus, by using a small X-ray beam source, it is possible to irradiate X-rays at an arbitrary position on a large irradiated object that is difficult to move without moving the sample that is the irradiated object.

図2は、本発明の第1の実施の形態の反射型のX線ビーム装置の要部の構成を示す縦断面図である。図2の実施の形態は、図1の透過型のターゲット6の代わり反射型のターゲット6aを示すものであり、図1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the main part of the reflective X-ray beam apparatus according to the first embodiment of the present invention. The embodiment of FIG. 2 shows a reflection type target 6a instead of the transmission type target 6 of FIG. 1, and the same or similar parts as those of the embodiment of FIG. The duplicated explanation is omitted.

本図に示すように、反射型のX線ビーム装置は、反射型のターゲット6aから構成されている。   As shown in the figure, the reflection type X-ray beam apparatus includes a reflection type target 6a.

本実施の形態において、発生した電子ビーム31はウエネルト3により軌道成形され、エミッタ4と反射型のターゲット6aとの間の電界により加速されてターゲット6に衝突する。この反射型のターゲット6aに衝突し反射した電子ビーム31は、ターゲット金属による制動を受け、X線32が放射される。このX線32の一部は、X線透過窓5を通過することにより真空容器7の外部へ取り出される。この真空容器7の外部へと取り出されたX線32は広がりながらフィルタ8を通過する。このフィルタ8を介して、X線32は単色のエネルギースペクトルを持つ特性X線となる。この特性X線はFZP9に入射される。このFZP9を介して、X線ビーム32が一点である焦点35に収束されることになる。   In the present embodiment, the generated electron beam 31 is orbitally shaped by the Wehnelt 3, accelerated by the electric field between the emitter 4 and the reflective target 6 a, and collides with the target 6. The electron beam 31 that has collided with and reflected by the reflective target 6a is braked by the target metal, and X-rays 32 are emitted. A part of the X-ray 32 is taken out of the vacuum vessel 7 by passing through the X-ray transmission window 5. The X-ray 32 taken out to the outside of the vacuum vessel 7 passes through the filter 8 while spreading. Through this filter 8, the X-ray 32 becomes a characteristic X-ray having a monochromatic energy spectrum. This characteristic X-ray is incident on the FZP 9. Through this FZP 9, the X-ray beam 32 is converged to a focal point 35 which is one point.

本実施の形態により、反射型のX線源を用いてもX線ビーム源13を三次元的に走査する機構を備えることができ、X線収束点を三次元上の任意の点に走査することが可能となる。かくして、小型のX線ビーム源を用いることにより被照射体である試料を動かすことなく、移動の困難な大型の被照射体の任意の位置にX線を照射することが可能となる。   According to the present embodiment, it is possible to provide a mechanism for three-dimensionally scanning the X-ray beam source 13 even when a reflective X-ray source is used, and the X-ray convergence point is scanned to an arbitrary point in three dimensions. It becomes possible. Thus, by using a small X-ray beam source, it is possible to irradiate X-rays at an arbitrary position on a large irradiated object that is difficult to move without moving the sample that is the irradiated object.

図3は、本発明の第2の実施の形態のX線ビーム装置の要部の構成を示す縦断面図である。本実施の形態は、第1の実施の形態に第2のFZP12を追加して設けたものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the main part of the X-ray beam apparatus according to the second embodiment of the present invention. In this embodiment, a second FZP 12 is added to the first embodiment, and the same or similar parts as those in the first embodiment are denoted by common reference numerals, thereby overlapping. Description is omitted.

本図に示すように、X線ビーム照射装置は、第1のFZP9の他に、第2のFZP12を追加した構成となっている。   As shown in the figure, the X-ray beam irradiation apparatus has a configuration in which a second FZP 12 is added in addition to the first FZP 9.

本実施の形態において、第1のFZP9により、フィルタ8にて単色化された特性X線ビーム32は平行ビーム化される。さらに、平行ビーム化したX線32は、この第2のFZP12により、焦点35に収束することが可能となる。   In the present embodiment, the characteristic X-ray beam 32 monochromatic by the filter 8 is converted into a parallel beam by the first FZP 9. Further, the parallel X-rays 32 can be converged to the focal point 35 by the second FZP 12.

また、図1に示す走査機構11を用いることによりX線ビームを任意に制御することも可能である。   Further, the X-ray beam can be arbitrarily controlled by using the scanning mechanism 11 shown in FIG.

本実施の形態によれば、平行ビーム化したX線32を第2のFZP12を設けて一点に収束することにより、X線量の低下を抑制し、X線ビームを長距離伝送することが可能となる。このようなX線照射装置は、設置スペースの問題により、X線ビーム源13と被照射体の間の距離を縮小できない場合等に有効である。   According to the present embodiment, the X-ray 32 converted into a parallel beam is provided with the second FZP 12 and converged to one point, thereby suppressing a decrease in the X-ray dose and transmitting the X-ray beam over a long distance. Become. Such an X-ray irradiation apparatus is effective when the distance between the X-ray beam source 13 and the irradiated object cannot be reduced due to the problem of installation space.

図4は、本発明の第3の実施の形態のX線ビーム装置の要部の構成を示す縦断面図である。本実施の形態は、第1の実施の形態のX線ビーム源13を被照射体14の周辺に複数個設けたものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the main part of the X-ray beam apparatus according to the third embodiment of the present invention. In this embodiment, a plurality of the X-ray beam sources 13 of the first embodiment are provided around the irradiated body 14, and the same or similar parts as those of the first embodiment are common. Duplicate description is omitted by adding symbols.

本図に示すように、図1に示すX線ビーム源13を試料である被照射体14の周辺に三次元的に複数個配置して構成されている。   As shown in this figure, a plurality of X-ray beam sources 13 shown in FIG. 1 are three-dimensionally arranged around an irradiated body 14 as a sample.

本実施の形態において、各X線ビーム源13からのX線ビーム32の収束点が焦点35に重複するように調整することが可能となる。かくして、被照射体14の任意の一点に高強度のX線を照射することが可能となる。   In the present embodiment, the convergence point of the X-ray beam 32 from each X-ray beam source 13 can be adjusted to overlap the focal point 35. Thus, it becomes possible to irradiate an arbitrary point on the irradiated body 14 with high-intensity X-rays.

本実施の形態によれば、被照射体14の任意のX線照射ポイント以外の箇所への余分なX線照射を低減することができる。また、図1に示す走査機構11の台11aを移動することにより、複数のX線収束点位置の制御および各X線照射装置のビーム強度を変化させることにより、被照射体14へのX線強度変調照射も可能となる。   According to the present embodiment, it is possible to reduce extra X-ray irradiation to a place other than an arbitrary X-ray irradiation point of the irradiation object 14. Further, by moving the stage 11a of the scanning mechanism 11 shown in FIG. 1, the X-rays to the irradiated object 14 are controlled by controlling the positions of a plurality of X-ray convergence points and changing the beam intensity of each X-ray irradiation apparatus. Intensity modulated irradiation is also possible.

図5は、本発明の第4の実施の形態のX線ビーム装置の構成を示す正面図である。本実施の形態は、第1の実施の形態のX線ビーム源13をレンズホルダ24に組み込んだものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 5 is a front view showing the configuration of the X-ray beam apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the X-ray beam source 13 of the first embodiment is incorporated into a lens holder 24, and the same or similar parts as those of the first embodiment are denoted by common reference numerals. The duplicated explanation is omitted.

本図に示すように、図1に示すX線ビーム源13を、非常に小サイズのもの、例えば、顕微鏡26の対物レンズ程度のサイズとして、顕微鏡26の回転式レンズホルダ24に組込んだものである。   As shown in the figure, the X-ray beam source 13 shown in FIG. 1 has a very small size, for example, the size of the objective lens of the microscope 26, and is incorporated in the rotary lens holder 24 of the microscope 26. It is.

本実施の形態において、観察およびX線ビーム照射が切り替えられるように構成されている。また、X線ビーム源13は、レンズホルダ24上で任意に位置を微調整する機構を持つ微調ステージ25の上に設置する構成を採ることも可能である。   In the present embodiment, observation and X-ray beam irradiation are configured to be switched. Further, the X-ray beam source 13 may be configured to be installed on a fine adjustment stage 25 having a mechanism for arbitrarily finely adjusting the position on the lens holder 24.

本実施の形態によれば、X線以外の可視光、紫外光を利用する光学式の顕微鏡26を用いて、試料14を観察しながら、X線照射位置を制御できる。かくして、試料14の観察およびX線ビーム照射を切り替えながら一連の測定作業を行うことができる。   According to the present embodiment, the X-ray irradiation position can be controlled while observing the sample 14 using the optical microscope 26 using visible light and ultraviolet light other than X-rays. Thus, a series of measurement operations can be performed while switching between observation of the sample 14 and X-ray beam irradiation.

図6は、本発明の第5の実施の形態のX線ビーム装置の構成を示す説明図である。本実施の形態は、第1の実施の形態のX線ビーム源13を用いたX線透過撮影装置に係わるものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 6 is an explanatory diagram showing the configuration of the X-ray beam apparatus according to the fifth embodiment of the present invention. The present embodiment relates to an X-ray transmission imaging apparatus using the X-ray beam source 13 of the first embodiment, and common reference numerals are used for parts that are the same as or similar to those of the first embodiment. A duplicate description will be omitted.

本図に示すように、図1に示すX線ビーム源13を用いたX線透過撮影装置に係わるものである。X線ビーム源13から放出されるX線ビームを収束ビーム32とし、その焦点35を被検体である被照射体14の直前又は場合によっては被照射体14の内部の測定部位の近傍に位置するように調整する。被照射体14を通過したX線ビームは発散ビーム34となって対向するX線カメラ15に入射される構成となっている。   As shown in this figure, the present invention relates to an X-ray transmission imaging apparatus using the X-ray beam source 13 shown in FIG. The X-ray beam emitted from the X-ray beam source 13 is a convergent beam 32, and its focal point 35 is positioned immediately before the irradiated body 14 that is the subject or in the vicinity of the measurement site inside the irradiated body 14 in some cases. Adjust as follows. The X-ray beam that has passed through the irradiation object 14 is divergent beam 34 and is incident on the opposite X-ray camera 15.

本実施の形態によれば、X線ビーム源13から放出されるX線ビームを収束ビーム32として照射することにより、等方的に放射する一般のX線管からのX線に比較して、撮影対象部位に集中してX線を照射することができる。かくして、被照射体14の撮影対象部位のサイズが小さいほど、目的部位に集中してX線を照射し、さらに、X線カメラ15で効率良くX線(光)量をとらえることができ、高効率的にX線透過撮影による撮像を得ることができる。   According to the present embodiment, by irradiating the X-ray beam emitted from the X-ray beam source 13 as the convergent beam 32, compared to X-rays from a general X-ray tube that emits isotropically, X-rays can be irradiated in a concentrated manner on the region to be imaged. Thus, the smaller the size of the imaging target portion of the irradiated body 14 is, the more focused the target portion is irradiated with X-rays, and the X-ray camera 15 can efficiently capture the amount of X-rays (light). Imaging by X-ray transmission imaging can be obtained efficiently.

図7は、本発明の第6の実施の形態のX線CT装置の構成を示す説明図である。本実施の形態は、第1の実施の形態のX線ビーム源13を用いたX線CT(Computered Tomography:計算断層像法)装置に係わるものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 7 is an explanatory diagram showing the configuration of the X-ray CT apparatus according to the sixth embodiment of the present invention. This embodiment relates to an X-ray CT (Computed Tomography) apparatus using the X-ray beam source 13 of the first embodiment, and is the same as or similar to the first embodiment. These parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

本図に示すように、X線ビーム源13を用いた図6に示すX線透過撮影装置に関する体系を改良することによって構成したX線CT装置に係わるものである。   As shown in this figure, the present invention relates to an X-ray CT apparatus constructed by improving the system related to the X-ray transmission imaging apparatus shown in FIG. 6 using an X-ray beam source 13.

本実施の形態において、この被照射体14をターンテーブル17上に載置する。上記のX線ビーム源13から放出される収束性X線ビーム32を旋回している被検体である被照射体14に入射する。一方、透過したX線ビーム34の信号はX線検出器16を用いて計測される構成となっている。ターンテーブル17を回転させて、多数方向からの照射信号データ、透過信号データ等を収集する。この収集したデータを画像再構成装置18により処理することによって被照射体14のCT画像を得ることができる。また、CRT(Cathod Ray Tube:ブラウン管)19に表示させることが可能となる。   In the present embodiment, the irradiated object 14 is placed on the turntable 17. The convergent X-ray beam 32 emitted from the X-ray beam source 13 is incident on the object to be irradiated 14 that is a rotating subject. On the other hand, the signal of the transmitted X-ray beam 34 is measured using the X-ray detector 16. The turntable 17 is rotated to collect irradiation signal data, transmission signal data, and the like from many directions. A CT image of the irradiation object 14 can be obtained by processing the collected data by the image reconstruction device 18. Further, it is possible to display on a CRT (Cathode Ray Tube) 19.

また、被照射体14の微小領域を撮影するときは、第5の実施の形態と同様に、目的部位に集中してX線を照射することができ、またX線検出器で効率良くX線(光)量をとらえる点で有効である。   Further, when photographing a minute region of the irradiated object 14, X-rays can be focused on the target site and can be efficiently emitted by the X-ray detector, as in the fifth embodiment. This is effective in capturing the amount of (light).

本実施の形態によれば、上記のX線CT装置により、微小領域の精密検査を高効率で行うことができる。   According to the present embodiment, the above-described X-ray CT apparatus can perform a precise inspection of a minute region with high efficiency.

図8は、本発明の第7の実施の形態のX線ビーム元素マッピング検査装置の構成を示す説明図である。本実施の形態は、第1の実施の形態のX線ビーム源13を用いたX線ビーム元素マッピング装置に係わるものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 8 is an explanatory diagram showing the configuration of the X-ray beam element mapping inspection apparatus according to the seventh embodiment of the present invention. The present embodiment relates to an X-ray beam element mapping apparatus using the X-ray beam source 13 of the first embodiment, and common reference numerals are used for the same or similar parts as the first embodiment. A duplicate description will be omitted.

本図に示すように、図1に示すX線ビーム源13を用いたX線ビーム元素マッピング検査装置に係わるものである。X線ビーム源13から放出されるX線ビームが収束ビーム32とし被照射体14に入射される。このとき、図1に示すFZP9により収束ビーム32は試料である被照射体14の表面の微小領域に焦点35を合致するように配置されている。この透過したX線ビーム34の信号はX線検出器16を用いて計測される。   As shown in this figure, the present invention relates to an X-ray beam element mapping inspection apparatus using the X-ray beam source 13 shown in FIG. The X-ray beam emitted from the X-ray beam source 13 is incident on the irradiated body 14 as a convergent beam 32. At this time, the convergent beam 32 is arranged so that the focal point 35 coincides with a minute region on the surface of the irradiated object 14 as a sample by the FZP 9 shown in FIG. The signal of the transmitted X-ray beam 34 is measured using the X-ray detector 16.

一方、被照射体14に対してX線照射側に、被照射体14から放出される蛍光X線を捕らえるためのFZP9a及びコリメータ(Collimator)20を備えたX線スペクトル検出器21が配置されている。このコリメータ20は、レンズ等を用いて平行光線束を得るものである。   On the other hand, an X-ray spectrum detector 21 having an FZP 9a and a collimator 20 for capturing fluorescent X-rays emitted from the irradiated body 14 is arranged on the X-ray irradiation side with respect to the irradiated body 14. Yes. The collimator 20 obtains a parallel light beam using a lens or the like.

上記のFZP9、コリメータ20及びX線スペクトル検出器21は、ホルダ22内に収容されている。また、このホルダ22とX線ビーム源13とは一体化した構造となっている。このホルダ22全体は駆動ステージ23上に設置されている。   The FZP 9, the collimator 20, and the X-ray spectrum detector 21 are accommodated in a holder 22. Further, the holder 22 and the X-ray beam source 13 are integrated. The entire holder 22 is installed on the drive stage 23.

本実施の形態において、上記のX線ビーム元素マッピング検査装置の透過画像により、被照射体14の微小領域にX線を収束させてその部分の元素分析を行うことができ、また被照射体14の微小領域の組成、構造を高い分解能で検査することができる。   In the present embodiment, X-rays can be focused on a minute region of the irradiated object 14 by the transmission image of the X-ray beam element mapping inspection apparatus, and the elemental analysis of the irradiated object 14 can be performed. It is possible to inspect the composition and structure of the micro region with high resolution.

また、X線ビーム源13とX線スペクトル検出器21を搭載したホルダ22を駆動することにより、被照射体14を固定したまま透過画像と元素のマッピング検査が可能になる。さらに、溶液中に沈殿した試料等駆動によって位置が変化しやすい試料14においても、試料のブレが無く、精度の高い検査ができる。   Further, by driving the holder 22 on which the X-ray beam source 13 and the X-ray spectrum detector 21 are mounted, a transmission image and an element mapping inspection can be performed while the irradiated object 14 is fixed. Further, even in the sample 14 whose position is likely to change due to driving of the sample or the like precipitated in the solution, the sample is not shaken, and a highly accurate inspection can be performed.

本実施の形態によれば、上記のX線ビーム元素マッピング検査装置を用いることにより、高分解能かつステージ駆動による試料の位置ずれがないX線ビームによる元素マッピング検査をすることができる。   According to the present embodiment, by using the X-ray beam element mapping inspection apparatus described above, it is possible to perform element mapping inspection with an X-ray beam with high resolution and no positional deviation of the sample by stage driving.

図9は、本発明の第8の実施の形態のX線ビーム元素マッピング検査装置の変形例の構成を示す説明図である。本実施の形態は、第1の実施の形態のX線ビーム源13を使用し偏向器27を付加したX線ビーム元素マッピング装置に係わるものであり、第1の実施の形態と同一又は類似の部分には共通の符号を付すことにより、重複説明を省略する。   FIG. 9 is an explanatory diagram showing a configuration of a modified example of the X-ray beam element mapping inspection apparatus according to the eighth embodiment of the present invention. This embodiment relates to an X-ray beam element mapping apparatus using the X-ray beam source 13 of the first embodiment and having a deflector 27 added thereto, and is the same as or similar to the first embodiment. Parts are denoted by common reference numerals, and redundant description is omitted.

本図に示すように、このX線ビーム元素マッピング装置は、図1のX線ビーム源を用いて構成されている。また、X線ビーム源13を構成するX線源として、電子ビーム31を偏向する偏向器27が付加されている。   As shown in this figure, this X-ray beam element mapping apparatus is configured using the X-ray beam source of FIG. A deflector 27 that deflects the electron beam 31 is added as an X-ray source constituting the X-ray beam source 13.

本実施の形態において、静電偏向器又は偏向電磁石等の偏向器27を用いることにより、X線ビーム源13内の電子ビーム31のターゲット6の入射点を変化させることができる。このため、上記X線ビーム32がFZP9に入射する角度を変えることができる。また、被照射体14上でのX線照射位置を任意に変化させることが可能となる。かくして、X線ビーム源13、X線スペクトル検出器21および試料14等の検出ブレに関わる要素を固定した状態の下で、微小領域の元素マッピング検査を行うことができる。   In the present embodiment, the incident point of the target 6 of the electron beam 31 in the X-ray beam source 13 can be changed by using a deflector 27 such as an electrostatic deflector or a deflecting electromagnet. For this reason, the angle at which the X-ray beam 32 is incident on the FZP 9 can be changed. In addition, the X-ray irradiation position on the irradiated body 14 can be arbitrarily changed. Thus, the element mapping inspection of the minute region can be performed under the condition that the elements related to the detection blur such as the X-ray beam source 13, the X-ray spectrum detector 21 and the sample 14 are fixed.

本実施の形態によれば、偏向器27を用いたX線ビーム元素マッピング検査装置を使用することにより、さらに位置ずれの影響が少ないX線ビーム元素マッピング検査を行うことができる。   According to the present embodiment, by using the X-ray beam element mapping inspection apparatus using the deflector 27, it is possible to perform an X-ray beam element mapping inspection that is less affected by the positional deviation.

さらに、本発明は、上述したような各実施の形態に何ら限定されるものではなく、走査機構の台を旋回してもよく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   Furthermore, the present invention is not limited to the embodiments described above, and the scanning mechanism may be swung, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention. Can do.

本発明の第1の実施の形態の透過型のX線ビーム照射装置の構成を示す縦断面図。1 is a longitudinal sectional view showing the configuration of a transmission type X-ray beam irradiation apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態の反射型のX線ビーム照射装置の要部の構成を示す縦断面図。1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of a main part of a reflection type X-ray beam irradiation apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施の形態のX線ビーム照射装置の要部の構成を示す縦断面図。The longitudinal cross-sectional view which shows the structure of the principal part of the X-ray beam irradiation apparatus of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態のX線ビーム照射装置の要部の構成を示す縦断面図。The longitudinal cross-sectional view which shows the structure of the principal part of the X-ray beam irradiation apparatus of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態のX線ビーム照射装置の構成を示す正面図。The front view which shows the structure of the X-ray beam irradiation apparatus of the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施の形態のX線透過撮影装置の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of the X-ray transmission imaging apparatus of the 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6の実施の形態のX線CT装置の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of the X-ray CT apparatus of the 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施の形態のX線ビーム元素マッピング検査装置の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of the X-ray beam element mapping inspection apparatus of the 7th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施の形態のX線ビーム元素マッピング検査装置の変形例の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of the modification of the X-ray beam element mapping inspection apparatus of the 7th Embodiment of this invention. 従来の電子蓄積リング加速器を用いたX線収束ビームの形成方法を示す説明図。Explanatory drawing which shows the formation method of the X-ray focused beam using the conventional electron storage ring accelerator.

符号の説明Explanation of symbols

1…絶縁材、2…導入線、3…ウエネルト、4…エミッタ、5…X線透過窓、6…ターゲット、7…真空容器、8…フィルタ、9…フレネルゾーンプレート(FZP)、10…ハウジング、11…走査機構、12…第2のFZP、13…X線ビーム源、14…被照射体(試料)、15…X線カメラ、16…X線検出器、17…ターンテーブル、18…画像再構成装置、19…CRT、20…コリメータ、21…X線スペクトル検出器、22…ホルダ、23…駆動ステージ、24…レンズホルダ、25…微調ステージ、26…顕微鏡、27…偏向器。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulation material, 2 ... Lead wire, 3 ... Wehnelt, 4 ... Emitter, 5 ... X-ray transmissive window, 6 ... Target, 7 ... Vacuum container, 8 ... Filter, 9 ... Fresnel zone plate (FZP), 10 ... Housing , 11 ... scanning mechanism, 12 ... second FZP, 13 ... X-ray beam source, 14 ... irradiated object (sample), 15 ... X-ray camera, 16 ... X-ray detector, 17 ... turntable, 18 ... image Reconstruction device, 19 ... CRT, 20 ... collimator, 21 ... X-ray spectrum detector, 22 ... holder, 23 ... drive stage, 24 ... lens holder, 25 ... fine adjustment stage, 26 ... microscope, 27 ... deflector.

Claims (12)

絶縁材に挿入され電圧が印加される導入線と、
この導入線の一端に設けられた陰極と、
この陰極と対面して設けられ発生した電子ビームを衝突させてX線を発生させる陽極であるターゲットと、
前記導入線、陰極及びターゲットを収納し前記X線が通過するX線透過窓を含む真空容器と、
このX線透過窓の外側に設けられ前記X線から特性X線を選択的に取り出すフィルタと、
前記真空容器及びフィルタを収納するハウジングと、
このハウジングを貫通して設けられ前記特性X線を収束するX線集光素子と、
を有することを特徴とするX線ビーム源。
A lead wire inserted into the insulating material and applied with voltage;
A cathode provided at one end of the lead-in wire,
A target which is an anode that is provided facing the cathode and generates an X-ray by colliding with the generated electron beam;
A vacuum vessel containing an X-ray transmission window for accommodating the introduction wire, the cathode and the target and through which the X-ray passes;
A filter provided outside the X-ray transmission window to selectively extract characteristic X-rays from the X-ray;
A housing for housing the vacuum container and the filter;
An X-ray condensing element provided through the housing and converging the characteristic X-ray;
An X-ray beam source comprising:
前記ターゲットは、前記X線が透過するように形成されていることを特徴とする請求項1記載のX線ビーム源。   The X-ray beam source according to claim 1, wherein the target is formed so as to transmit the X-ray. 前記ターゲットは、前記X線が反射するように形成されていることを特徴とする請求項1記載のX線ビーム源。   The X-ray beam source according to claim 1, wherein the target is formed so as to reflect the X-ray. 前記X線集光素子は、前記X線を平行ビームに成形する第1のX線集光素子と、この平行X線ビームを一点に収束する第2のX線集光素子と、を具備することを特徴とする請求項1記載のX線ビーム源。   The X-ray focusing element includes a first X-ray focusing element that shapes the X-ray into a parallel beam, and a second X-ray focusing element that converges the parallel X-ray beam at one point. The X-ray beam source according to claim 1. 請求項1乃至4のいずれかに記載のX線ビーム源は、前記X線を任意に走査できる走査機構を具備することを特徴とするX線ビーム照射装置。   5. The X-ray beam source according to claim 1, further comprising a scanning mechanism capable of arbitrarily scanning the X-ray. 前記X線ビーム源は、被照射体の周辺に三次元的に複数個配置して構成されていることを特徴とする請求項5記載のX線ビーム照射装置。   6. The X-ray beam irradiation apparatus according to claim 5, wherein a plurality of the X-ray beam sources are arranged three-dimensionally around the irradiated body. 請求項1乃至3のいずれかに記載のX線ビーム源は、対物レンズホルダに収納され微調機構を備えて構成されていることを特徴とするX線ビーム照射装置。   4. An X-ray beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the X-ray beam source is housed in an objective lens holder and includes a fine adjustment mechanism. 請求項1乃至3のいずれかに記載のX線ビーム源と、このX線ビーム源からのX線が照射される試料が載置される試料設置台と、前記試料からの透過X線を検出するX線検出器と、を具備することを特徴とするX線透過撮影装置。   The X-ray beam source according to any one of claims 1 to 3, a sample mounting table on which a sample irradiated with X-rays from the X-ray beam source is mounted, and transmitted X-rays from the sample are detected And an X-ray detector. 請求項1乃至3のいずれかに記載のX線ビーム源と、このX線ビーム源からのX線が照射される試料が載置される試料設置台と、この試料設置台を旋回するターンテーブルと、前記試料からの透過X線を検出するX線検出器と、このX線検出器からの信号が入力されて画像を構成する画像再構成装置と、を具備することを特徴とするX線CT装置。   The X-ray beam source according to any one of claims 1 to 3, a sample mounting table on which a sample irradiated with X-rays from the X-ray beam source is mounted, and a turntable for turning the sample mounting table And an X-ray detector that detects transmitted X-rays from the sample, and an image reconstruction device that forms an image by receiving a signal from the X-ray detector. CT device. 請求項1乃至3のいずれかに記載のX線ビーム源と、このX線ビーム源からのX線が照射される試料と、この試料からの透過X線を検出するX線検出器と、前記試料に照射されたX線のスペクトルを検出するX線スペクトル検出器と、前記X線ビーム源及びX線スペクトル検出器を駆動する駆動ステージと、を具備することを特徴とするX線元素マッピング検査装置。   The X-ray beam source according to any one of claims 1 to 3, a sample irradiated with X-rays from the X-ray beam source, an X-ray detector for detecting transmitted X-rays from the sample, and An X-ray element mapping inspection comprising: an X-ray spectrum detector for detecting a spectrum of X-rays irradiated on a sample; and a driving stage for driving the X-ray beam source and the X-ray spectrum detector. apparatus. 前記X線ビーム源は、前記電子ビームを偏向させる電子ビーム偏向器を具備することを特徴とする請求項10記載のX線元素マッピング検査装置。   The X-ray element mapping inspection apparatus according to claim 10, wherein the X-ray beam source includes an electron beam deflector that deflects the electron beam. 真空容器内において絶縁材に挿入され導入線の一端に設けられた陰極と、この陰極と対面して設けられた陽極であるターゲットとの間に電圧を印加して発生した電子ビームを衝突させてX線を発生させるX線発生ステップと、
この真空容器内の外側に設けられフィルタを介して前記X線から特性X線を選択的に取り出す特性X線取出ステップと、
前記真空容器及びフィルタを収容するハウジングに設けられたX線集光素子で前記特性X線を収束するX線収束ステップと、
を有することを特徴とするX線ビーム形成方法。
An electron beam generated by applying a voltage between a cathode inserted into an insulating material in a vacuum vessel and provided at one end of an introduction line and a target, which is an anode provided facing the cathode, is collided. An X-ray generation step for generating X-rays;
A characteristic X-ray extraction step for selectively extracting characteristic X-rays from the X-rays through a filter provided outside the vacuum container;
An X-ray converging step for converging the characteristic X-rays with an X-ray condensing element provided in a housing containing the vacuum vessel and filter;
An X-ray beam forming method comprising:
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