JP2008265275A - Manufacturing method of original plate for lithographic printing plate and lithographic printing plate - Google Patents

Manufacturing method of original plate for lithographic printing plate and lithographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2008265275A
JP2008265275A JP2007256774A JP2007256774A JP2008265275A JP 2008265275 A JP2008265275 A JP 2008265275A JP 2007256774 A JP2007256774 A JP 2007256774A JP 2007256774 A JP2007256774 A JP 2007256774A JP 2008265275 A JP2008265275 A JP 2008265275A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
functional group
lithographic printing
printing plate
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007256774A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5271524B2 (en
Inventor
Hidekazu Ohashi
秀和 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2007256774A priority Critical patent/JP5271524B2/en
Priority to EP08005789.6A priority patent/EP1974914B1/en
Priority to US12/059,317 priority patent/US8361700B2/en
Publication of JP2008265275A publication Critical patent/JP2008265275A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5271524B2 publication Critical patent/JP5271524B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an original plate for a lithographic printing plate which enables direct printing from digital data such as a computer by recording in use of a solid laser or a semiconductor laser light which irradiates an ultra violet light, a visible light, or an intra-red light, especially a simple process original plate for a lithographic printing plate which can be developed with an aqueous solution of lower than pH10 on a printing machine and has a good plate life and stain resistance, and also to provide a lithographic printing plate. <P>SOLUTION: The original plate for a lithographic printing plate includes a base and a photosensitive layer having a surface whose angle of contact with water droplet is 70°C or over, the base including a functional group X thereon. The functional group X contacts the functional group Y which can interact therewith, thereby forming a chemical bond with a compound having the functional group Y and making the compound adsorb onto the base surface, enabling lowering of the angle of contact with water droplet of the base surface down to 30°C or lower. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる
、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版、特にアルカリ現像を必要としない簡易
処理型の平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法に関する。
The present invention relates to a so-called lithographic printing plate precursor capable of direct plate making using various lasers from a digital signal from a computer or the like, particularly a lithographic printing plate precursor of a simple processing type that does not require alkali development and a lithographic plate using the same. The present invention relates to a method for producing a printing plate.

波長300nm〜1200nmの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザー、半
導体レーザー、ガスレーザーは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになってお
り、これらのレーザーはコンピューター等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、非常に有用である。これら各種レーザー光に感応する記録材料については種々
研究されており、代表的なものとして、第一に、感光波長760nm以上の赤外線レーザ
ーで記録可能な材料として特許文献1に記載のポジ型記録材料、特許文献2に記載されている酸触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。第二に、300nm〜700nmの紫外光または可視光レーザー対応型の記録材料として特許文献3及び特許文献4に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等が多数ある。
Solid lasers, semiconductor lasers, and gas lasers that emit ultraviolet light, visible light, and infrared light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm are easily available in high output and small size. It is very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data. Various studies have been made on recording materials sensitive to these various laser beams. As a typical example, firstly, a positive recording material described in Patent Document 1 as a material that can be recorded by an infrared laser having a photosensitive wavelength of 760 nm or more. And acid-catalyst-crosslinked negative recording materials described in Patent Document 2. Secondly, there are many radical polymerization type negative recording materials described in Patent Document 3 and Patent Document 4 as recording materials compatible with ultraviolet light or visible light laser of 300 nm to 700 nm.

また、従来の平版印刷版原版(以下、PS版ともいう)では、露光の後、非画像部を溶
解除去する工程(現像処理)が不可欠であり、現像処理された印刷版を水洗したり、界面
活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で
処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという
点は、従来のPS版の大きな検討課題となっている。前記のデジタル処理によって製版工
程の前半(画像形成処理)が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑な湿式処理では、
簡素化による効果が不充分である。
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。環境への配慮からも、より中性域に近い現像液での処理や少ない廃液が課題として挙げられている。更に湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
In addition, in a conventional lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as PS plate), after exposure, a step (development treatment) for dissolving and removing the non-image part is indispensable, and the developed printing plate is washed with water, A post-treatment step is also necessary, in which treatment is performed with a rinse solution containing a surfactant or treatment with a desensitizing solution containing gum arabic or a starch derivative. The point that these additional wet treatments are indispensable is a big problem for the conventional PS plate. Even if the first half of the plate making process (image forming process) is simplified by the digital processing, the latter half (development process) is a complicated wet process.
The effect of simplification is insufficient.
Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern for the entire industry. In consideration of the environment, processing with a developing solution closer to the neutral range and a small amount of waste liquid are cited as problems. Furthermore, it is desirable to simplify the wet post-treatment or change to a dry treatment.

このような観点から、処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷原版を印刷機の
シリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって
、印刷原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷原版を
露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で現像処理が完了する方式である

このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像形成
層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有
することが必要とされる。しかしながら、従来のPS版では、このような要求を満足する
ことは、実質的に不可能であった。
そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎
水性重合体微粒子を分散させた画像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提
案されている(例えば、特許文献5参照)。その製版に際しては、赤外線レーザーで露光
して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて画像
形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水及びインキの少なくともいず
れかを供給することにより機上現像できる。この平版印刷版原版は感光域が赤外領域であ
ることにより、明室での取り扱い性も有している。
From this point of view, one method of eliminating the processing step is to mount the exposed printing original plate on the cylinder of the printing press, and supply dampening water and ink while rotating the cylinder to remove the non-printing original plate. There is a method called on-machine development that removes the image area. That is, after the printing original is exposed, it is mounted on a printing machine as it is, and the developing process is completed in a normal printing process.
Such a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has an image forming layer soluble in dampening water or an ink solvent, and is suitable for development on a printing press placed in a bright room. It is necessary to have good light room handling. However, with the conventional PS plate, it is practically impossible to satisfy such a requirement.
Therefore, in order to satisfy such requirements, a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer in which thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support has been proposed. (For example, refer to Patent Document 5). In making the plate, it is exposed with an infrared laser, and the thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are coalesced (fused) with heat generated by photothermal conversion to form an image. On-press development can be performed by supplying at least one of water and ink. This lithographic printing plate precursor also has handleability in a bright room because the photosensitive region is an infrared region.

しかし、熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて形成する画像は、強度が不
充分で、印刷版としての耐刷性に問題がある。
また、熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版
印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献6〜11参照)。このような提案にかか
る原版では、重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像が微粒子の融着により形
成される画像よりも強度に優れているという利点がある。
また、重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法
が多く提案されている。そして、マイクロカプセルのシェルには、熱分解性のポリマーを
使用することが提案されている。
However, an image formed by coalescence (fusion) of thermoplastic hydrophobic polymer fine particles has insufficient strength and has a problem in printing durability as a printing plate.
Further, a lithographic printing plate precursor including microcapsules encapsulating a polymerizable compound in place of the thermoplastic fine particles has been proposed (see, for example, Patent Documents 6 to 11). The original plate according to such a proposal has an advantage that the polymer image formed by the reaction of the polymerizable compound is superior in strength to the image formed by fusing fine particles.
In addition, since the polymerizable compound has high reactivity, many methods for isolating it using microcapsules have been proposed. It has been proposed to use a thermally decomposable polymer for the shell of the microcapsule.

しかしながら、上記特許文献5〜11に記載の従来の平版印刷版原版では、レーザー露
光により形成される画像の耐刷性が十分ではなく、更なる改良が求められている。即ち、
これら簡易処理型の平版印刷版原版においては、pH10以下の水溶液や印刷機上の湿し
水(通常はほぼ中性)による現像を可能にするため、親水性の高い表面を有する支持体を
使用しており、その結果、印刷中の湿し水により画像部が基板から剥離しやすく十分な耐
刷が得られなかった。逆に、支持体表面を疎水性にすると、印刷中に非画像部にもインク
が付着するようになり、印刷汚れが発生してしまう。このように、耐刷性と耐汚れ性の両
立は極めて難しく、、耐汚れ性が良好であり、且つ充分な耐刷性を有する簡易処理型の平
版印刷版原版はこれまでに知られていない。
一方、特許文献12には、支持体上に(1)支持体に吸着可能な親水性置換基を有する高分子樹脂層と(2)油性インキと水性成分により除去可能な画像記録層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体上に塗設後の高分子樹脂層表面の接触角が50°以上100°以下である平版印刷版原版が記載されている。この高分子樹脂層は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給して未露光部分を除去する際、殆ど残存なく除去されるので、良好な耐汚れ性が得られると記載されている。
米国特許4708925号明細書 特開平8−276558号公報 米国特許2850445号明細書 特公昭44−20189号公報 特許2938397号明細書 特開2000−211262号公報 特開2001−277740号公報 特開2002−29162号公報 特開2002−46361号公報 特開2002−137562号公報 特開2002−326470号公報 特開2006−15530号公報
However, the conventional lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 5 to 11 above do not have sufficient printing durability of images formed by laser exposure, and further improvements are required. That is,
In these simple processing type lithographic printing plate precursors, a support having a highly hydrophilic surface is used in order to enable development with an aqueous solution having a pH of 10 or less or a dampening solution (usually almost neutral) on a printing press. As a result, the image area was easily peeled off from the substrate by dampening water during printing, and sufficient printing durability was not obtained. On the contrary, if the support surface is made hydrophobic, the ink also adheres to the non-image area during printing, and printing stains occur. Thus, it is extremely difficult to achieve both printing durability and stain resistance, and a simple processing type lithographic printing plate precursor having good stain resistance and sufficient printing durability has not been known so far. .
On the other hand, in Patent Document 12, (1) a polymer resin layer having a hydrophilic substituent that can be adsorbed to a support, and (2) an image recording layer that can be removed by oil-based ink and an aqueous component are arranged in this order. A planographic printing plate precursor having a contact angle of 50 ° or more and 100 ° or less on the surface of the polymer resin layer after coating on a support is described. It is described that when this polymer resin layer is supplied with oil-based ink and aqueous component on a printing machine to remove the unexposed portion, it is removed almost without remaining, so that good stain resistance can be obtained. .
US Pat. No. 4,708,925 JP-A-8-276558 U.S. Pat. No. 2,850,445 Japanese Patent Publication No. 44-20189 Japanese Patent No. 2938397 JP 2000-2111262 A JP 2001-277740 A JP 2002-29162 A JP 2002-46361 A JP 2002-137562 A JP 2002-326470 A JP 2006-15530 A

従って、本発明の目的は、紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は
半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直
接製版可能な平版印刷版原版、特に、pH10未満の水溶液や印刷機上において現像可能
な高耐刷かつ耐汚れ性良好な簡易処理型平版印刷版原版及びこれを用いる平版印刷版の作
製方法を提供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor capable of making a plate directly from digital data such as a computer by recording using a solid-state laser or semiconductor laser beam that emits ultraviolet light, visible light, or infrared light. An object of the present invention is to provide an aqueous solution having a pH of less than 10 and a simple processing type lithographic printing plate precursor that can be developed on a printing press with high printing durability and good stain resistance, and a method for producing a lithographic printing plate using the same.

本発明者は鋭意検討した結果、空中水滴接触角が70°以上の値を示す表面を有する平
版印刷版用支持体を、pHが2〜10の水溶液で処理することで空中水滴接触角の値が3
0°以下に低下するような平版印刷版用支持体を使用することによって、上記課題を解決
できることを見出した。
即ち、本発明は以下の通りである。
As a result of intensive studies, the present inventors have determined that the water droplet contact angle value is obtained by treating a lithographic printing plate support having a surface with an air droplet contact angle of 70 ° or more with an aqueous solution having a pH of 2 to 10. 3
It has been found that the above-mentioned problems can be solved by using a lithographic printing plate support that lowers to 0 ° or less.
That is, the present invention is as follows.

(1)空中水滴接触角が70°以上の表面を有する支持体及び感光層からなる平版印刷版原版において、前記支持体が、その表面に官能基Xを有する化合物を有し、この官能基Xは、これと相互作用することができる官能基Yを有する化合物と接触することにより、当該官能基Yを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Yを有する化合物を前記支持体表面に吸着し、前記支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする平版印刷版原版。
(2)前記官能基Xが、下記一般式(0)で表される官能基であることを特徴とする上記(1)に記載の平版印刷版原版。
(1) In a lithographic printing plate precursor comprising a support having a surface with an airborne water droplet contact angle of 70 ° or more and a photosensitive layer, the support has a compound having a functional group X on the surface, and the functional group X Adsorbs the compound having the functional group Y to the support surface by forming a chemical bond with the compound having the functional group Y by contacting with the compound having the functional group Y capable of interacting with the compound. And a lithographic printing plate precursor characterized by being a functional group capable of reducing the contact angle of water droplets on the surface of the support to 30 ° or less.
(2) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the functional group X is a functional group represented by the following general formula (0).

式中、R〜Rは、各々独立して水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及
びシリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる1価の置換基又は共有結合を表し、任意の2つ以上で互いに結合して環を形成してもよい。但し、R〜Rの少なくとも1つは、水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる、化合物母核に連結する2価の連結基を表す。
(3)前記官能基Yが、−COOH、−SOH、−PO(OH)(OM)及び−B(OH)
(OM)(Mは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、ス
ルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す)から選ばれる官能基であることを特徴
とする上記(1)又は(2)に記載の平版印刷版原版。
(4)前記官能基Xが、正電荷を有する官能基であり、前記官能基Yが、負電荷を有する官能基であることを特徴とする前記(1)に記載の平版印刷版原版。
(5)前記官能基Xが、以下の一般式(1)〜(5)で表される官能基であり、前記官能基Yが、以下の一般式(6)〜(8)で表される官能基であることを特徴とする上記(4)に記載の平版印刷版原版。
In the formula, R 1 to R 3 each independently represents a monovalent substituent or a covalent bond composed of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon; Any two or more may be bonded to each other to form a ring. However, at least one of R 1 to R 3 is a divalent linking group linked to a compound nucleus, which is composed of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen and silicon. Represents.
(3) The functional group Y is —COOH, —SO 3 H, —PO (OH) (OM), and —B (OH).
(OM) (M represents a functional group selected from hydrogen, metal cation, ammonium, phosphonium, iodonium, sulfonium, diazonium or azinium) The lithographic plate as described in (1) or (2) above A printing plate master.
(4) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the functional group X is a functional group having a positive charge, and the functional group Y is a functional group having a negative charge.
(5) The functional group X is a functional group represented by the following general formulas (1) to (5), and the functional group Y is represented by the following general formulas (6) to (8). The lithographic printing plate precursor as described in (4) above, which is a functional group.

式中、R〜Rは、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表し、Zは対アニオンを表す。 In the formula, R 1 to R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus, and Z represents a pair Represents an anion.

式中、M1、M2は、各々独立して対カチオンを表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表す。
(6)前記官能基Xが、負電荷を有する官能基であり、前記官能基Yが、正電荷を有する官能基であることを特徴とする上記(1)に記載の平版印刷版原版。
(7)前記官能基Xが、以下の一般式(9)〜(11)で表される官能基であり、前記官能基Yが、以下の一般式(12)〜(16)で表される官能基であることを特徴とする上記(6)に記載の平版印刷版原版。
In the formula, M1 + and M2 + each independently represent a counter cation, and L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus.
(6) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the functional group X is a functional group having a negative charge, and the functional group Y is a functional group having a positive charge.
(7) The functional group X is a functional group represented by the following general formulas (9) to (11), and the functional group Y is represented by the following general formulas (12) to (16). The lithographic printing plate precursor as described in (6) above, which is a functional group.

式中、M1、M2は、各々独立して対カチオンを表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表す。 In the formula, M1 + and M2 + each independently represent a counter cation, and L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus.

式中、R〜Rは、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表し、Zは対アニオンを表す。
(8)前記感光層が、0.3mmol/g以下の酸価を有するバインダーポリマーを含有することを特徴とする上記(1)〜(7)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(9)前記感光層が、350〜1200nmに吸収を有する増感色素を含有することを特徴とする上記(1)〜(8)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(10)前記感光層の上に、保護層を有することを特徴とする上記(1)〜(9)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(11)上記(1)〜(10)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を画像露光後、pHが2〜10の水溶液で現像して非画像部を形成する平版印刷版の作製方法において、現像中又は現像後に、前記官能基Yを有する化合物を含有する水溶液で処理して非露光部における支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることを特徴とする平版印刷版の作製方法。
In the formula, R 1 to R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus, and Z represents a pair Represents an anion.
(8) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (7) above, wherein the photosensitive layer contains a binder polymer having an acid value of 0.3 mmol / g or less.
(9) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (8) above, wherein the photosensitive layer contains a sensitizing dye having absorption at 350 to 1200 nm.
(10) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (9) above, which has a protective layer on the photosensitive layer.
(11) Preparation of a lithographic printing plate in which the lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (10) above is subjected to image exposure and then developed with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 to form a non-image part. In the method, lithographic printing characterized in that, during or after development, treatment with an aqueous solution containing the compound having the functional group Y reduces the contact angle of airborne water droplets on the support surface in the non-exposed area to 30 ° or less. Plate making method.

(12)上記(1)〜(10)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、350〜1200nmに発振波長を有するレーザーで画像露光した後、前記官能基Yを有する化合物を含有するpHが2〜10の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去して空中水滴接触角が30°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
(13)上記(1)〜(10)のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、350〜1200nmに発振波長を有するレーザーで画像露光し、pHが2〜10の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去した後、前記官能基Yを有する化合物を含有するpHが2〜10の水溶液で処理して空中水滴接触角が30°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
(14)前記画像露光から現像までの間に、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特徴とする上記(11)〜(13)のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。
(12) The lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (10) above is subjected to image exposure with a laser having an oscillation wavelength of 350 to 1200 nm, and then the compound having the functional group Y is contained. A method for preparing a lithographic printing plate, comprising developing with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 to remove a photosensitive layer in a non-exposed portion to form a non-image portion surface having an aerial water droplet contact angle of 30 ° or less.
(13) The lithographic printing plate precursor according to any one of (1) to (10) above is image-exposed with a laser having an oscillation wavelength of 350 to 1200 nm, and developed with an aqueous solution having a pH of 2 to 10. After removing the photosensitive layer in the non-exposed area, the surface is treated with an aqueous solution containing the compound having the functional group Y and having a pH of 2 to 10 to form a non-image area surface having an aerial water droplet contact angle of 30 ° or less. A method for producing a lithographic printing plate as a feature.
(14) The lithographic printing plate as described in any one of (11) to (13) above, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is subjected to a heat treatment between the image exposure and development. Method.

本発明によれば、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版
できる、いわゆるダイレクト製版可能な高い耐刷性と優れた耐汚れ性を有する平版印刷原
版、特にアルカリ水溶液による現像が不要な簡易処理型の平版印刷版原版及びこれを用い
る平版印刷版の作製方法が得られる。
According to the present invention, a lithographic printing original plate having high printing durability and excellent stain resistance that can be directly made by using various lasers from a digital signal of a computer or the like, particularly development using an alkaline aqueous solution is unnecessary. A simple processing type lithographic printing plate precursor and a method for producing a lithographic printing plate using the same are obtained.

本発明に係る平版印刷版原版は、空中水滴接触角が70°以上の表面を有する支持体上
に感光層を有し、支持体はその表面に官能基Xを有する化合物を有し、この官能基Xは、これと相互作用することができる官能基Yを有する化合物と接触することにより、当該官能基Yを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Yを有する化合物を支持体表面に吸着し、支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention has a photosensitive layer on a support having a surface with an aerial water droplet contact angle of 70 ° or more, and the support has a compound having a functional group X on the surface. The group X is brought into contact with a compound having a functional group Y capable of interacting with the group X, thereby forming a chemical bond with the compound having the functional group Y to form the compound having the functional group Y on the support surface. It is a functional group that can adsorb and reduce the contact angle of the water droplets on the support surface to 30 ° or less.

〔支持体〕
初めに、本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体について詳細に説明する。
本発明に用いられる支持体は、空中水滴接触角が70°以上の値を示す表面を有すが、pHが2〜10の特定の水溶液で処理することで空中水滴接触角の値が30°以下に低下
する特徴を有する。
[Support]
First, the support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
The support used in the present invention has a surface whose water droplet contact angle is 70 ° or more, but the water droplet contact angle is 30 ° when treated with a specific aqueous solution having a pH of 2 to 10. It has the following characteristics.

本発明に用いられる支持体は、その表面空中水滴接触角の値が70°以上であるが、p
H2〜10の特定化合物を含有する水溶液で現像された後、或いは、pH2〜10の水溶
液で現像された後にpH2〜10の特定化合物を含有する水溶液により処理された後、そ
の表面空中水滴接触角の値が30°以下に低下する特性を有する支持体であれば何れの支
持体も好適に使用することができる。
The support used in the present invention has a surface air droplet contact angle value of 70 ° or more, but p
After being developed with an aqueous solution containing a specific compound of H2 to 10, or after being developed with an aqueous solution of pH 2 to 10 and treated with an aqueous solution containing a specific compound of pH 2 to 10, the surface aerial water droplet contact angle Any support can be suitably used as long as the support has a property of lowering the value of 30 ° or less.

このような特性を有する支持体の1つの例は、その表面に官能基Xを有する化合物を有
し、この官能基Xは、これと相互作用することができる官能基Yを有する化合物と接触す
ることにより支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる官能基
である支持体である。
支持体表面に存在する官能基Xは、官能基Yと接触することにより、相互作用を起こし
、支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる。官能基Xと官能
基Yとの相互作用とは、両者が反応して、結合を形成することを含む。ここで、形成され
る結合は、水素結合、イオン結合、共有結合、配位結合等の化学結合が好ましい。
官能基Xと官能基Yとの結合により、官能基Yを有する化合物は、支持体上に固定され
、その結果、支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる。
One example of a support having such properties has a compound having a functional group X on its surface, which is in contact with a compound having a functional group Y that can interact with it. This is a support that is a functional group that can reduce the contact angle of the water droplets on the surface of the support to 30 ° or less.
The functional group X existing on the surface of the support can interact with the functional group Y to cause an interaction and reduce the contact angle of the water droplets on the surface of the support to 30 ° or less. The interaction between the functional group X and the functional group Y includes that both react to form a bond. Here, the bond formed is preferably a chemical bond such as a hydrogen bond, an ionic bond, a covalent bond, or a coordination bond.
The compound having the functional group Y is fixed on the support by bonding of the functional group X and the functional group Y, and as a result, the contact angle of the water droplets on the support surface can be reduced to 30 ° or less.

官能基Xとしては、具体的には、例えば、1級アミノ基、2級アミノ基、3級アミノ基
等の塩基性官能基が挙げられる。
Specific examples of the functional group X include basic functional groups such as a primary amino group, a secondary amino group, and a tertiary amino group.

官能基Xを有する化合物の1つの好ましい例としては、以下の一般式(0)で表される官能基を有する化合物が挙げられる。   One preferable example of the compound having the functional group X includes a compound having a functional group represented by the following general formula (0).

式中、R〜Rは、各々独立して水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及
びシリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる1価の基又は共有結合を表し、任意の2つ以上で互いに結合して環を形成してもよい。但し、R〜Rの少なくとも1つは水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる、化合物母核に連結する2価の連結基を表す。
In the formula, each of R 1 to R 3 independently represents a monovalent group or a covalent bond composed of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon. May be bonded to each other to form a ring. However, at least one of R 1 to R 3 is a divalent linking group that is linked to the compound nucleus and is composed of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon. To express.

一般式(0)において、R〜Rで表される水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、
ハロゲン、シリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる1価の基とは、−H、−
F、−Cl、−Br、−I、>C<、=C<、≡C−、−O−、O=、−N<、−N=、
≡N、−S−、S=、>S<、≡S≡、−P<、≡P<、>Si<、=Si<、≡Si−
及びこれらを組み合わせて形成される1価の基である。1価の基としては、水素、アルキ
ル基〔例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、
s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イ
ソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、2-ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、2-クロロエチル基
、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシ
メチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミ
ノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、
In the general formula (0), hydrogen represented by R 1 to R 3 , carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus,
A monovalent group consisting of at least one atom selected from halogen and silicon is -H,-
F, -Cl, -Br, -I,> C <, = C <, ≡C-, -O-, O =, -N <, -N =,
≡N, -S-, S =,> S <, ≡S≡, -P <, ≡P <,> Si <, = Si <, ≡Si-
And a monovalent group formed by combining these. Monovalent groups include hydrogen, alkyl groups [eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl,
Heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl,
s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group, chloromethyl group, Bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholino Propyl group, acetyloxymethyl group,

ベンゾイルオキシメチル基、N-シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N-フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N-メチルベンゾイルアミノ
プロピル基、2-オキソエチル基、2-オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキ
シカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニル
メチル基、カルバモイルメチル基、N-メチルカルバモイルエチル基、N,N-ジプロピル
カルバモイルメチル基、N-(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N-メチル-N-
(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スル
ファモイルブチル基、N-エチルスルファモイルメチル基、N,N-ジプロピルスルファモ
イルプロピル基、N-トリルスルファモイルプロピル基、N-メチル-N-(ホスフォノフェ
ニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエ
チルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基
、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキ
シル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、
Benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxy Carbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl -N-
(Sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N -Methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, Tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group,

α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナ
ミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メ
チルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基等〕、アリ
ール基〔例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニ
ルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N-フェニルカルバモイルフェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、
ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等〕、ヘテロアリール基〔例えば、チオ
フェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェ
ノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピ
リミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール
、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリ
ン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン
、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノ
キサジン等のへテロ環から誘導される基〕、アルケニル基〔例えばビニル基、1-プロペ
ニル基、1-ブテニル基、シンナミル基、2-クロロ-1-エテニル基等〕、アルキニル基〔
例えば、エチニル基、1-プロピニル基、1-ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等
〕、ハロゲン原子〔-F、-Br、-Cl、-I〕、ヒドロキシル基、
α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc.], aryl group [eg, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group Chloromethylphenyl group,
Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, Carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group,
Phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, etc.), heteroaryl group (for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, Pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoir, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthrolin, phthalazine, phenalazine, phenoxazine , A group derived from a hetero ring such as furazane, phenoxazine, etc.], an alkenyl group [eg, vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, syn Mill group, 2-chloro-1-ethenyl group], an alkynyl group [
For example, ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.], halogen atom [—F, —Br, —Cl, —I], hydroxyl group,

アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アル
キルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキル
アミノ基、N-アリールアミノ基、N,N-ジアリールアミノ基、N-アルキル-N-アリー
ルアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ
基、N-アリールカルバモイルオキシ基、N,N-ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,
N-ジアリールカルバモイルオキシ基、N-アルキル-N-アリールカルバモイルオキシ基、
アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N-ア
ルキルアシルアミノ基、N-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′-アルキルウレイ
ド基、N',N'-ジアルキルウレイド基、N'-アリールウレイド基、N',N'-ジアリール
ウレイド基、N'-アルキル-N'-アリールウレイド基、N-アルキルウレイド基、N-アリ
ールウレイド基、N'-アルキル-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N-アリールウレ
イド基、N',N'-ジアルキル-N-アルキルウレイド基、N′,N′-ジアルキル-N-アリ
ールウレイド基、N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アリール-N-アリールウレ
イド基、N',N'-ジアリール-N-アルキルウレイド基、N′,N′-ジアリール-N-アリ
ールウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N
'-アリール-N-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカル
ボニルアミノ基、N-アルキル-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アリ
ール-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、
Alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N- Diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N,
N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group,
Alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N'-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido Group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group Group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl -N-A Kiruureido group, N'- alkyl -N
'-Aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N- An alkoxycarbonylamino group, an N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group,

ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジアルキルカルバモイル
基、N-アリールカルバモイル基、N,N-ジアリールカルバモイル基、N-アルキル-N-
アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(-SO3H)およびその共役塩基基(以
下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スル
フィナモイル基、N-アルキルスルフィナモイル基、N,N-ジアルキルスルフィナモイル
基、N-アリールスルフィナモイル基、N,N-ジアリールスルフィナモイル基、N-アル
キル-N-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N-アルキルスルファモイル
基、N,N-ジアルキルスルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、N,N-ジア
リールスルファモイル基、N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(-
PO32)およびその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォ
ノ基(-PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(-PO3(aryl)2)、アルキルアリー
ルホスフォノ基(-PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(-PO3H(alkyl)
)およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフ
ォノ基(-PO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す
)、ホスフォノオキシ基(-OPO32)およびその共役塩基基(以後、ホスフォナトオ
キシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)2)、ジアリールホス
フォノオキシ基(-OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(
alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3H(alkyl))およびその共
役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキ
シ基(-OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基
と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。水素原子、アルキル基、アリール基、
アルケニル基、アルキニル基が好ましい。
Formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N -Alkyl-N-
Arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-SO3H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl Group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, Sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group , Phosphono group (-
PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphine Phono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl))
) And conjugated base groups (hereinafter referred to as alkyl phosphonate groups), monoaryl phosphono groups (—PO 3 H (aryl)) and conjugated base groups (hereinafter referred to as aryl phosphonate groups), phosphonooxy Group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonatooxy group”), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) ) 2 ), an alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (
alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonatooxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H) (aryl)) and conjugated base groups thereof (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy groups), cyano groups, nitro groups, and the like. Hydrogen atom, alkyl group, aryl group,
Alkenyl groups and alkynyl groups are preferred.

一般式(0)で表される官能基において、化合物母核に連結する2価の連結基は、上記1価の基から、構成する原子を1つ除くことにより形成される2価の基である。
一般式(0)で表される官能基を有する化合物母核としては、分子量150以上の有機化合物母核であれば何れも好適に使用することができるが、質量平均分子量1000以上の高分子化合物母核であることが好ましく、質量平均分子量5000以上の高分子化合物母核であることがより好ましく、質量平均分子量1万以上の高分子化合物母核であることが特に好ましい。高分子化合物母核としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、カーボネート樹脂等の公知の樹脂を使用することができるが、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂がより好ましい。
In the functional group represented by the general formula (0), the divalent linking group linked to the compound nucleus is a divalent group formed by removing one constituent atom from the monovalent group. is there.
As the compound mother nucleus having the functional group represented by the general formula (0), any organic compound mother nucleus having a molecular weight of 150 or more can be suitably used, but a polymer compound having a mass average molecular weight of 1000 or more. It is preferably a mother nucleus, more preferably a polymer compound mother nucleus having a mass average molecular weight of 5000 or more, and particularly preferably a polymer compound mother nucleus having a mass average molecular weight of 10,000 or more. As the polymer compound core, known resins such as acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, ester resin, amide resin, urethane resin, urea resin, vinyl resin, novolac resin, epoxy resin, and carbonate resin may be used. Acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, ester resin, amide resin, urethane resin, urea resin, and vinyl resin are preferable, and acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, and urethane resin are more preferable.

一般式(0)で表される官能基を有する化合物中の、一般式(0)の量としては、0.01mmol/g以上50mmol/g以下が好ましく、0.05mmol/g以上25mmol/g以下がより好ましく、0.1mmol/g以上10mmol/g以下が特に好ましい。一般式(0)で表される官能基は、2種類以上化合物中に含まれていてもよい。   The amount of the general formula (0) in the compound having the functional group represented by the general formula (0) is preferably 0.01 mmol / g or more and 50 mmol / g or less, and 0.05 mmol / g or more and 25 mmol / g or less. Is more preferable, and 0.1 mmol / g or more and 10 mmol / g or less is particularly preferable. The functional group represented by the general formula (0) may be contained in two or more types of compounds.

一般式(0)で表される官能基を有する化合物は、更に支持体表面と相互作用する官能基を有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基を有することで、画像部の耐刷性と、非画像部の耐汚れ性が更に向上する。かかる相互作用官能基は、用いる支持体によって適宜選択することができる。中でも平版印刷版用支持体として従来から用いられているアルミ支持体を使用する場合は、その表面処理によって具体的な官能基は異なるが、リン酸基及びその塩基、ホスホン酸基及びその塩基、アンモニウム基、シロキサン基、β−ジカルボニル基、カルボン酸基及びその塩基等の官能基が挙げられる。好ましくは、リン酸塩基、ホスホン酸塩基、アンモニウム基、シロキサン基、β−ジカルボニル基、カルボン酸塩基である。これら官能基は併用することができる。   The compound having a functional group represented by the general formula (0) preferably further has a functional group that interacts with the surface of the support. By having a functional group that interacts with the surface of the support, the printing durability of the image area and the stain resistance of the non-image area are further improved. Such an interactive functional group can be appropriately selected depending on the support used. Among them, when using an aluminum support conventionally used as a support for a lithographic printing plate, specific functional groups differ depending on the surface treatment, but a phosphate group and its base, a phosphonic acid group and its base, Functional groups such as an ammonium group, a siloxane group, a β-dicarbonyl group, a carboxylic acid group and a base thereof can be mentioned. Preferred are a phosphate group, a phosphonate group, an ammonium group, a siloxane group, a β-dicarbonyl group, and a carboxylate group. These functional groups can be used in combination.

一般式(0)で表される官能基を有する化合物における、支持体表面と相互作用する官能基の導入量としては、0.01mmol/g以上10mmol/g以下が好ましく、0.05mmol/g以上5mmol/g以下がより好ましく、0.1mmol/g以上3mmol/g以下が特に好ましい。   In the compound having the functional group represented by the general formula (0), the introduction amount of the functional group that interacts with the support surface is preferably 0.01 mmol / g or more and 10 mmol / g or less, and 0.05 mmol / g or more. 5 mmol / g or less is more preferable, and 0.1 mmol / g or more and 3 mmol / g or less is particularly preferable.

一般式(0)で表される官能基を有する化合物は、更に感光層と相互作用する官能基を有することが好ましい。感光層と相互作用する官能基を有することで耐刷性が更に向上する。かかる相互作用官能基は、用いる感光層によって適宜選択することができる。ラジカル重合型の感光層を使用する場合、相互作用官能基としては、ラジカル重合性の不飽和結合が挙げられる。また、ノボラック樹脂を用いたポジ型の感光層を使用する場合、相互作用官能基としては、ポリエチレンオキサイド鎖、フェノール性水酸基、ピリジン基等の水素結合に関与する水素受容性官能基が挙げられる。これら官能基は併用することができる。感光層と相互作用する官能基の導入量としては、0.01mmol/g以上10mmol/g以下が好ましく、0.05mmol/g以上5mmol/g以下がより好ましく、0.1mmol/g以上3mmol/g以下が特に好ましい。
本発明に用いられる一般式(0)で表される官能基を有する化合物の具体例を以下に示す。本発明は、これらに限定されるものではない。
The compound having a functional group represented by the general formula (0) preferably further has a functional group that interacts with the photosensitive layer. By having a functional group that interacts with the photosensitive layer, printing durability is further improved. Such an interactive functional group can be appropriately selected depending on the photosensitive layer to be used. When a radical polymerization type photosensitive layer is used, examples of the interactive functional group include a radical polymerizable unsaturated bond. Further, when a positive photosensitive layer using a novolac resin is used, examples of the interacting functional group include a hydrogen-accepting functional group involved in hydrogen bonding such as a polyethylene oxide chain, a phenolic hydroxyl group, and a pyridine group. These functional groups can be used in combination. The amount of the functional group that interacts with the photosensitive layer is preferably from 0.01 mmol / g to 10 mmol / g, more preferably from 0.05 mmol / g to 5 mmol / g, and from 0.1 mmol / g to 3 mmol / g. The following are particularly preferred:
Specific examples of the compound having a functional group represented by the general formula (0) used in the present invention are shown below. The present invention is not limited to these.

本発明に用いられる一般式(0)で表される官能基を有する化合物は、単独で用いても
2種以上を混合して用いてもよい。
一般式(0)で表される官能基を有する化合物の支持体上での量は、耐刷性及び耐汚れ性の改良の観点から1mg/m以上100mg/m以下が好ましく、2mg/m以上80mg/m以下がより好ましく、3mg/m以上50mg/m以下が特に好ましい。
The compound having a functional group represented by the general formula (0) used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the compound having the functional group represented by the general formula (0) on the support is preferably 1 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less from the viewpoint of improving printing durability and stain resistance. m 2 or more and 80 mg / m 2 or less is more preferable, and 3 mg / m 2 or more and 50 mg / m 2 or less is particularly preferable.

一般式(0)で表される官能基Xと相互作用する官能基Yとしては、具体的には、例えば、−COOH、−SOH、−PO(OH)(OM)、−B(OH)(OM)(Mは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す)等の酸性官能基が挙げられる。この場合、官能基Xと官能基Yは、酸塩基相互作用によりイオン結合を形成し、この結果、官能基Yを有する化合物が支持体上に固定され支持体表面の空中水滴接触角が低下すると考えられる。
一般式(0)で表される官能基Xを有する化合物と官能基Yを有する化合物を接触させる方法については、後で平版印刷版の作製方法に関連して詳細に説明する。
Specific examples of the functional group Y that interacts with the functional group X represented by the general formula (0) include —COOH, —SO 3 H, —PO (OH) (OM), and —B (OH). ) (OM) (M represents hydrogen, metal cation, ammonium, phosphonium, iodonium, sulfonium, diazonium or azinium) and the like. In this case, the functional group X and the functional group Y form an ionic bond by acid-base interaction, and as a result, when the compound having the functional group Y is fixed on the support and the contact angle of the water droplets on the surface of the support decreases. Conceivable.
The method for bringing the compound having the functional group X represented by the general formula (0) into contact with the compound having the functional group Y will be described in detail later in connection with a method for preparing a lithographic printing plate.

官能基Xを有する化合物の他の好ましい例としては、正電荷を有する官能基を有する化合物が挙げられる。官能基Xとして正電荷を有する官能基を有する化合物は、官能基Yとして負電荷を有する官能基を有する化合物と相互作用することによりイオン結合を形成し、この結果、官能基Yを有する化合物が支持体上に固定され支持体表面の空中水滴接触角が低下すると考えられる。
正電荷を有する官能基を有する化合物としては、以下の一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物が挙げられる。
Other preferred examples of the compound having the functional group X include compounds having a functional group having a positive charge. A compound having a functional group having a positive charge as the functional group X forms an ionic bond by interacting with a compound having a functional group having a negative charge as the functional group Y. As a result, the compound having the functional group Y It is considered that the contact angle of the water droplets on the surface of the support fixed on the support is lowered.
Examples of the compound having a functional group having a positive charge include compounds having a functional group represented by the following general formulas (1) to (5).

式中、R〜Rは、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表し、Zは対アニオンを表す。 In the formula, R 1 to R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus, and Z represents a pair Represents an anion.

一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物のなかで、一般式(1)又は(2)で表される官能基を有する化合物が好ましく、一般式(1)で表される官能基を有する化合物が特に好ましい。
一般式(1)〜(5)において、R〜Rで表されるアルキル基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基は、前記一般式(0)においてR〜Rに関して記載したアルキル基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基と同様である。
Of the compounds having the functional group represented by the general formulas (1) to (5), the compound having the functional group represented by the general formula (1) or (2) is preferable, and represented by the general formula (1). Particularly preferred are compounds having functional groups.
In formulas (1) to (5), the alkyl group represented by R 1 to R 3, aryl group, alkenyl group and alkynyl groups, alkyl groups as described for R 1 to R 3 in the general formula (0) , Aryl group, alkenyl group and alkynyl group.

Lで表される2価の連結基は、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から成る。より具体的には、下記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げることができる。   The divalent linking group represented by L is 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms. , And from 0 to 20 sulfur atoms. More specifically, the following structural units may be combined.

Lで表される連結基が置換基を有する場合、置換基としてはメチル、エチルなどの炭素数1から20までのアルキル基、フェニル、ナフチルなどの炭素数6から16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシのような炭素数1から6までのアシルオキシ基、メトキシ、エトキシのような炭素数1から6までのアルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニルのような炭素数2から7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基などが挙げられる。   When the linking group represented by L has a substituent, examples of the substituent include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as methyl and ethyl, aryl groups having 6 to 16 carbon atoms such as phenyl and naphthyl, hydroxyl groups, Carboxyl group, sulfonamide group, N-sulfonylamide group, acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as acetoxy, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy and ethoxy, halogen such as chlorine and bromine Examples include atoms, alkoxycarbonyl groups having 2 to 7 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, and cyano groups.

で表される対アニオンは、陰イオンであれば何れも好適に使用することができる。具体的には、ハロゲンイオン(F、Cl、Br、I)、硝酸イオン(NO3 )、硫酸イオン(SO4 2−)、硫酸水素イオン(HSO4 )、リン酸イオン(PO4 3−)、リン酸水素イオン(HPO4 2−)、リン酸2水素イオン(H2PO4−)、次亜ハロゲン酸イオン(ClO、BrO等)、亜ハロゲン酸イオン(ClO2 、BrO2 等)、ハロゲン酸イオン(ClO3 、BrO3 等)、過ハロゲン酸イオン(ClO4 、BrO4 、IO4 等)、テトラハロゲンボレートイオン(BF4 等)、テトラアリールボレートイオン(Ph4B等)、ヘキサハロゲンホスフェートイオン(PF6 等)、及び下記構造式で表されるカルボン酸イオン、安息香酸アニオン、、炭酸アミドイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、スルホンイミドイオン、硫酸エステルイオン、硫酸アミドイオン、リン酸エステルイオン、リン酸ジエステルイオン、ホスホン酸イオン、ホスホン酸エステルイオンが挙げらる。この中で、過ハロゲン酸イオン、ヘキサハロゲンホスフェートイオン、テトラハロゲンボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオン、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、スルホンイミドイオンが好ましく、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホンイミドイオンがより好ましい。 Any counter anion represented by Z can be used as long as it is an anion. Specifically, halogen ions (F , Cl , Br , I ), nitrate ions (NO 3 ), sulfate ions (SO 4 2− ), hydrogen sulfate ions (HSO 4 ), phosphate ions (PO 4 3− ), hydrogen phosphate ion (HPO 4 2− ), dihydrogen phosphate ion (H 2 PO 4− ), hypohalite ion (ClO , BrO etc.), halite ion ion ( ClO 2 , BrO 2 etc.), halogenate ions (ClO 3 , BrO 3 etc.), perhalogenate ions (ClO 4 , BrO 4 , IO 4 etc.), tetrahalogen borate ions (BF 4 - etc.), tetraarylborate ion (Ph 4 B -, etc.), hexa halogen phosphate ion (PF 6 -, etc.), and the carboxylic acid ion represented by the following structural formula, benzoic acid anion ,, carbonic acid amide ion, sulfonate Ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfonimide On, sulfate ions, sulfate amide ion, phosphoric acid ester ion, phosphate diester ion, phosphonate ion, phosphonate ion Ageraru. Of these, perhalogenate ions, hexahalogen phosphate ions, tetrahalogen borate ions, tetraaryl borate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, carboxylate ions, halogen ions, nitrate ions, sulfate ions, and sulfonimide ions are preferred. Sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonimide ion are more preferable.

上記一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物母核としては、分子量150以上の有機化合物母核であれば何れも好適に使用することができるが、質量平均分子量1000以上の高分子化合物母核であることが好ましく、質量平均分子量5000以上の高分子化合物母核であることがより好ましく、質量平均分子量1万以上の高分子化合物母核であることが特に好ましい。高分子化合物母核としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、カーボネート樹脂等の公知の樹脂を使用することができるが、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂がより好ましい。   As the compound mother nucleus having the functional group represented by the general formulas (1) to (5), any organic compound mother nucleus having a molecular weight of 150 or more can be preferably used, but the mass average molecular weight is 1000. The above polymer compound mother nucleus is preferable, a polymer compound mother nucleus having a mass average molecular weight of 5000 or more is more preferable, and a polymer compound mother nucleus having a mass average molecular weight of 10,000 or more is particularly preferable. As the polymer compound core, known resins such as acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, ester resin, amide resin, urethane resin, urea resin, vinyl resin, novolac resin, epoxy resin, and carbonate resin may be used. Acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, ester resin, amide resin, urethane resin, urea resin, and vinyl resin are preferable, and acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, and urethane resin are more preferable.

一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物中の、一般式(1)〜(5)で表される官能基の量としては、0.01mmol/g以上50mmol/g以下が好ましく、0.05mmol/g以上25mmol/g以下がより好ましく、0.1mmol/g以上10mmol/g以下が特に好ましい。一般式(1)〜(5)で表される官能基は、2種類以上化合物中に含まれていてもよい。   The amount of the functional group represented by the general formulas (1) to (5) in the compound having the functional group represented by the general formulas (1) to (5) is 0.01 mmol / g or more and 50 mmol / g. Or less, more preferably 0.05 mmol / g or more and 25 mmol / g or less, and particularly preferably 0.1 mmol / g or more and 10 mmol / g or less. The functional groups represented by the general formulas (1) to (5) may be included in two or more types of compounds.

一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物は、更に支持体表面と相互作用する官能基を有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基を有することで、画像部の耐刷性と、非画像部の耐汚れ性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式(0)で表される官能基を有する化合物において述べた支持体表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。   The compound having a functional group represented by the general formulas (1) to (5) preferably further has a functional group that interacts with the support surface. By having a functional group that interacts with the surface of the support, the printing durability of the image area and the stain resistance of the non-image area are further improved. For the interactive functional group, the description regarding the functional group that interacts with the support surface described in the compound having the functional group represented by the general formula (0) can be used.

一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物は、更に感光層と相互作用する官能基を有することが好ましい。感光層と相互作用する官能基を有することで耐刷性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式(0)で表される官能基を有する化合物において述べた感光層表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。   The compound having a functional group represented by the general formulas (1) to (5) preferably further has a functional group that interacts with the photosensitive layer. By having a functional group that interacts with the photosensitive layer, printing durability is further improved. For the interactive functional group, the description regarding the functional group that interacts with the surface of the photosensitive layer described above in the compound having the functional group represented by the general formula (0) can be used.

本発明に用いられる一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物の具体例を以下に示す。本発明は、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound having a functional group represented by the general formulas (1) to (5) used in the present invention are shown below. The present invention is not limited to these.

本発明に用いられる一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
一般式(1)〜(5)で表される官能基を有する化合物の支持体上での量は、耐刷性及び耐汚れ性の改良の観点から1mg/m以上100mg/m以下が好ましく、2mg/m以上80mg/m以下がより好ましく、3mg/m以上50mg/m以下が特に好ましい。
The compounds having functional groups represented by the general formulas (1) to (5) used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the compound having the functional group represented by the general formulas (1) to (5) on the support is 1 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less from the viewpoint of improving printing durability and stain resistance. It is preferably 2 mg / m 2 or more and 80 mg / m 2 or less, more preferably 3 mg / m 2 or more and 50 mg / m 2 or less.

一般式(1)〜(5)で表される官能基Xと相互作用する官能基Yとしては、具体的には、例えば、以下の一般式(6)〜(8)で表される官能基が挙げられる。   As the functional group Y that interacts with the functional group X represented by the general formulas (1) to (5), specifically, for example, functional groups represented by the following general formulas (6) to (8) Is mentioned.

式中、M1、M2は、各々独立して対カチオンを表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表す。 In the formula, M1 + and M2 + each independently represent a counter cation, and L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus.

一般式(6)〜(8)において、M1、M2で表される対カチオンの具体例としては、水素イオン、金属イオン(Na、K、Li、Ca2+、Mg2+、Fe2+、Cu等)、アンモニウムイオン、ヨードニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニウムイオン、アジニウムイオンが挙げられ、水素イオン、金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンが好ましい。 In the general formulas (6) to (8), specific examples of counter cations represented by M1 + and M2 + include hydrogen ions, metal ions (Na + , K + , Li + , Ca 2+ , Mg 2+ , Fe 2+ , Cu +, etc.), ammonium ions, iodonium ions, phosphonium ions, sulfonium ions, diazonium ions, azinium ions, and hydrogen ions, metal ions, ammonium ions, and phosphonium ions are preferred.

Lで表される2価の連結基の詳細は、前記一般式(1)〜(5)において、Lで表される2価の連結基と同様である。   Details of the divalent linking group represented by L are the same as those of the divalent linking group represented by L in the general formulas (1) to (5).

一般式(1)〜(5)で表される官能基Xを有する化合物と一般式(6)〜(8)で表される官能基Yを有する化合物を接触させる方法については、後で平版印刷版の作製方法に関連して詳細に説明する。   The method of bringing the compound having the functional group X represented by the general formulas (1) to (5) into contact with the compound having the functional group Y represented by the general formulas (6) to (8) will be described later in lithographic printing. This will be described in detail in relation to the method for producing the plate.

官能基Xを有する化合物の更に他の好ましい例としては、負電荷を有する官能基を有する化合物が挙げられる。官能基Xとして負電荷を有する官能基を有する化合物は、官能基Yとして正電荷を有する官能基を有する化合物と相互作用することによりイオン結合を形成し、この結果、官能基Yを有する化合物が支持体上に固定され支持体表面の空中水滴接触角が低下すると考えられる。
負電荷を有する官能基を有する化合物としては、以下の一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物が挙げられる。
Still another preferred example of the compound having the functional group X includes a compound having a functional group having a negative charge. A compound having a functional group having a negative charge as the functional group X forms an ionic bond by interacting with a compound having a functional group having a positive charge as the functional group Y. As a result, the compound having the functional group Y It is considered that the contact angle of the water droplets on the surface of the support fixed on the support is lowered.
Examples of the compound having a functional group having a negative charge include compounds having functional groups represented by the following general formulas (9) to (11).

式中、M1、M2及びLは、一般式(6)〜(8)におけるM1、M2及びLと同義である。 Wherein, M1 +, M2 + and L, M1 + in the general formula (6) to (8), the same meanings as M2 + and L.

一般式(9)〜(11)において、M1、M2で表される対カチオン及びLで表される2価の連結基の詳細は、前記一般式(6)〜(8)におけるM1、M2で表される対カチオン及びLで表される2価の連結基と同様である。 In the general formulas (9) to (11), details of the counter cation represented by M1 + and M2 + and the divalent linking group represented by L are represented by M1 + in the general formulas (6) to (8). , The same as the counter cation represented by M2 + and the divalent linking group represented by L.

上記一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物母核としては、分子量150以上の有機化合物母核であれば何れも好適に使用することができるが、質量平均分子量1000以上の高分子化合物母核であることが好ましく、質量平均分子量5000以上の高分子化合物母核であることがより好ましく、質量平均分子量1万以上の高分子化合物母核であることが特に好ましい。高分子化合物母核としては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、カーボネート樹脂等の公知の樹脂を使用することができるが、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、ビニル樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂がより好ましい。   As the compound mother nucleus having the functional groups represented by the general formulas (9) to (11), any organic compound mother nucleus having a molecular weight of 150 or more can be preferably used, but the mass average molecular weight is 1000. The above polymer compound mother nucleus is preferable, a polymer compound mother nucleus having a mass average molecular weight of 5000 or more is more preferable, and a polymer compound mother nucleus having a mass average molecular weight of 10,000 or more is particularly preferable. As the polymer compound core, known resins such as acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, ester resin, amide resin, urethane resin, urea resin, vinyl resin, novolac resin, epoxy resin, and carbonate resin may be used. Acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, ester resin, amide resin, urethane resin, urea resin, and vinyl resin are preferable, and acrylic resin, methacrylic resin, styrene resin, and urethane resin are more preferable.

一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物中の、一般式(9)〜(11)で表される官能基の量としては、0.01mmol/g以上50mmol/g以下が好ましく、0.05mmol/g以上25mmol/g以下がより好ましく、0.1mmol/g以上10mmol/g以下が特に好ましい。一般式(9)〜(11)で表される官能基は、2種類以上を含んでいてもよい。   The amount of the functional group represented by the general formulas (9) to (11) in the compound having the functional group represented by the general formulas (9) to (11) is 0.01 mmol / g or more and 50 mmol / g. Or less, more preferably 0.05 mmol / g or more and 25 mmol / g or less, and particularly preferably 0.1 mmol / g or more and 10 mmol / g or less. The functional groups represented by the general formulas (9) to (11) may include two or more types.

本発明に用いられる一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物は、更に支持体表面と相互作用する官能基を有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基を有することで、画像部の耐刷性と、非画像部の耐汚れ性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式(0)で表される官能基を有する化合物において述べた支持体表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。   The compound having a functional group represented by the general formulas (9) to (11) used in the present invention preferably further has a functional group that interacts with the support surface. By having a functional group that interacts with the surface of the support, the printing durability of the image area and the stain resistance of the non-image area are further improved. For the interactive functional group, the description regarding the functional group that interacts with the support surface described in the compound having the functional group represented by the general formula (0) can be used.

一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物は、更に感光層と相互作用する官能基を有することが好ましい。感光層と相互作用する官能基を有することで耐刷性が更に向上する。かかる相互作用官能基については、先に一般式(0)で表される官能基を有する化合物において述べた感光層表面と相互作用する官能基に関する記載を援用することができる。   The compound having a functional group represented by the general formulas (9) to (11) preferably further has a functional group that interacts with the photosensitive layer. By having a functional group that interacts with the photosensitive layer, printing durability is further improved. For the interactive functional group, the description regarding the functional group that interacts with the surface of the photosensitive layer described above in the compound having the functional group represented by the general formula (0) can be used.

本発明に用いられる一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物の具体例を以下に示す。本発明は、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound having a functional group represented by the general formulas (9) to (11) used in the present invention are shown below. The present invention is not limited to these.

本発明に用いられる一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
一般式(9)〜(11)で表される官能基を有する化合物の支持体上での量は、耐刷性及び耐汚れ性の改良の観点から1mg/m以上100mg/m以下が好ましく、2mg/m以上80mg/m以下がより好ましく、3mg/m以上50mg/m以下が特に好ましい。
The compounds having the functional groups represented by the general formulas (9) to (11) used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the compound having the functional group represented by the general formulas (9) to (11) on the support is 1 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less from the viewpoint of improving printing durability and stain resistance. It is preferably 2 mg / m 2 or more and 80 mg / m 2 or less, more preferably 3 mg / m 2 or more and 50 mg / m 2 or less.

一般式(9)〜(11)で表される官能基Xと相互作用する官能基Yとしては、具体的には、例えば、以下の一般式(12)〜(16)で表される官能基が挙げられる。     As the functional group Y that interacts with the functional group X represented by the general formulas (9) to (11), specifically, for example, functional groups represented by the following general formulas (12) to (16) Is mentioned.

式中、R〜R、L及びZは、一般式(1)〜(5)におけるR〜R、L及びZと同義である。 Wherein, R 1 ~R 3, L and Z - is, R 1 ~R 3, L and Z in the general formula (1) to (5) - synonymous.

一般式(12)〜(16)において、R〜Rで表される各基及びLで表される2価の連結基の詳細は、前記一般式(1)〜(5)におけるR〜Rで表される各基及びLで表される2価の連結基及と同様である。 In the general formulas (12) to (16), details of each group represented by R 1 to R 3 and the divalent linking group represented by L are represented by R 1 in the general formulas (1) to (5). is the same as the divalent linking Moto及represented by each group and L represented by to R 3.

で表される対アニオンは、陰イオンであれば何れも好適に使用することができる。具体的には、上述の一般式(1)〜(5)における対アニオンに関して記載した陰イオンが挙げられ、過ハロゲン酸イオン、ヘキサハロゲンホスフェートイオン、テトラハロゲンボレートイオン、テトラアリールボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオン、ハロゲンイオン、硝酸イオン、硫酸イオン、スルホンイミドイオンが好ましく、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホンイミドイオン、硫酸イオン、ハロゲンイオンがより好ましい。 Any counter anion represented by Z can be used as long as it is an anion. Specific examples include the anions described for the counter anions in the above general formulas (1) to (5), such as perhalogenate ions, hexahalogen phosphate ions, tetrahalogen borate ions, tetraaryl borate ions, and sulfonic acids. Ion, sulfinate ion, carboxylate ion, halogen ion, nitrate ion, sulfate ion, sulfonimide ion are preferred, sulfonate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, sulfonimide ion, sulfate ion, Halogen ions are more preferred.

一般式(9)〜(11)で表される官能基Xを有する化合物と一般式(12)〜(16)で表される官能基Yを有する化合物を接触させる方法については、後で平版印刷版の作製方法に関連して詳細に説明する。   The method of bringing the compound having the functional group X represented by the general formulas (9) to (11) into contact with the compound having the functional group Y represented by the general formulas (12) to (16) will be described later in lithographic printing. This will be described in detail in relation to the method for producing the plate.

官能基Xを有する化合物を表面に有する支持体の作製は、例えば、支持体基板上に官能
基Xを有する化合物を塗設する、支持体基板上を官能基Xを有する化合物を含有する溶液
に浸漬するなど、常法により行うことができる。具体的には、一般式(1)で表される官
能基を有する化合物を、適当な溶剤、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサン
、ヘプタン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシ
エタン、アニソール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、エチレンジク
ロリド、クロロベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、アセトン
、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロパノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、水等に溶解あるいは分散し、必要
により、界面活性剤等の成分を加えて塗布液や浸漬液を調製し、これを支持体に塗布ある
いはこれに支持体を浸漬し、乾燥する等の方法が用いられる。塗布液や浸漬液の調製方法
、塗布方法、浸漬方法、乾燥方法等は、当業者が適宜選択することができる。
The preparation of the support having the compound having the functional group X on the surface is performed, for example, by coating the support substrate with the compound having the functional group X on the support substrate, into a solution containing the compound having the functional group X on the support substrate. It can be performed by a conventional method such as dipping. Specifically, the compound having the functional group represented by the general formula (1) is converted into an appropriate solvent such as toluene, xylene, benzene, hexane, heptane, cyclohexane, diethyl ether, diisopropyl ether, dimethoxyethane, anisole, Tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, ethylene dichloride, chlorobenzene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2 -Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrole Dissolve or disperse in water, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyl lactone, water, etc., and if necessary, add a component such as a surfactant to prepare a coating solution or immersion solution, and apply this to the support or A method of immersing and drying the support is used. A person skilled in the art can appropriately select a method for preparing a coating solution and a dipping solution, a coating method, a dipping method, a drying method, and the like.

官能基Xを有する化合物を表面に有する支持体は、その表面の空中水滴接触角が70°
以上である。支持体表面の空中水滴接触角の測定は、以下のようにして行うことができる
。即ち、25℃の雰囲気下において、測定すべき支持体上に、蒸留水1〜3μLを着滴し
、安定させるために60秒間経過した後、協和界面科学(株)製の接触角計DAC−VZ
型を用いて空中水滴接触角を測定する。
支持体表面の空中水滴接触角は、75°以上が好ましく、80°以上がより好ましい。
A support having a compound having a functional group X on its surface has an air contact angle of 70 ° on the surface.
That's it. The aerial water droplet contact angle on the support surface can be measured as follows. That is, in an atmosphere of 25 ° C., 1 to 3 μL of distilled water was deposited on the support to be measured, and after 60 seconds had passed for stabilization, contact angle meter DAC- manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. VZ
Measure the water contact angle in the air using a mold.
The aerial water droplet contact angle on the surface of the support is preferably 75 ° or more, and more preferably 80 ° or more.

本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、上記の特性以外は、特に限定されず、
寸度的に安定な板状の支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、
ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸
着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリ
エステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較
的安価であるアルミニウム板が好ましい。
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited except for the above-mentioned properties.
Any plate-like support that is dimensionally stable may be used. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) , Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene,
Polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミ
ネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マ
ンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金
中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミ
ニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology.
It may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

アルミニウム支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.
4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。
The thickness of the aluminum support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, preferably from 0.15 to 0.
It is more preferable that it is 4 mm, and it is still more preferable that it is 0.2-0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すの
が好ましい。表面処理により、本発明の接触角変化の幅が大きくなり、感光層と支持体と
の密着性の確保が容易になり、耐汚れ性が良好になる。アルミニウム板を粗面化処理する
に先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ
性水溶液等による脱脂処理が行われる。
Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, the width of the contact angle change of the present invention is increased, the adhesion between the photosensitive layer and the support is easily ensured, and the stain resistance is improved. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗
面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的
粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中
で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に
記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (electrochemical surface roughening treatment that dissolves the surface), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望
により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成さ
せる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸ま
たはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変るので一概に特定することはで
きないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5
〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成
される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.
0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像
部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5
-60 A / dm 2 , voltage 1-100 V, electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferred. The amount of the anodic oxide film to be formed is preferably 1.0 to 5.0 g / m 2 , and 1.5 to 4.
More preferably, it is 0 g / m 2 . Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有す
る基板そのままでもよいが、上層との接着性、本発明のpH2〜10の水溶液による処理
後の親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−2
53181号や特開2001−322365号の公報に記載されている陽極酸化皮膜のマ
イクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液
に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処
理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行
うことができる。
As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but the adhesion with the upper layer, the hydrophilicity after the treatment with the aqueous solution of pH 2 to 10 of the present invention, In order to further improve dirt resistance, heat insulation, etc., if necessary, JP-A-2001-2
53181 and JP-A-2001-322365, such as micropore enlargement treatment, micropore sealing treatment, and surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution containing a hydrophilic compound. It can be selected as appropriate. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.

封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムに
よる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加し
た蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理
および熱水による封孔処理が好ましい。
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Of these, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing treatment with hot water are preferable.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、
同第3,280,734号および同第3,902,734号の明細書に記載されているよ
うなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム
等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号
公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276
,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の明細書に記載
されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
As hydrophilization treatment, U.S. Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461,
There are alkali metal silicate methods as described in the specifications of US Pat. Nos. 3,280,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the method of treating with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, US Pat. No. 3,276
No. 868, No. 4,153,461 and No. 4,689,272, and the like.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、片側あるいは
両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と官能基Xを有する化合
物を含有する層との間に設けた場合には、官能基Xを有する化合物を含有する層との密着
性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、
金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。
Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in one side or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the layer containing the compound having the functional group X, it contributes to improving the adhesion with the layer containing the compound having the functional group X. As the antistatic layer, described in JP-A-2002-79772,
A polymer layer in which metal oxide fine particles and a matting agent are dispersed can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲内で
、感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ま
しい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の
良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

本発明に係る支持体は、その上に感光層を形成することで平版印刷版原版とすることが
できる。中でも、pH2〜10の水溶液により現像することが可能な感光層を用いた簡易
現像型平版印刷版の支持体として用いた場合、優れた耐刷性と汚れ防止性能を発揮する平
版印刷版原版を提供することができる。
The support according to the present invention can be a lithographic printing plate precursor by forming a photosensitive layer thereon. In particular, when used as a support for a simple development type lithographic printing plate using a photosensitive layer that can be developed with an aqueous solution having a pH of 2 to 10, a lithographic printing plate precursor exhibiting excellent printing durability and antifouling performance is obtained. Can be provided.

[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、上記空中水滴接触角が70°以上の表面を有する支持体上
に感光層を有することを特徴とする。平版印刷版原版は、主としてその感光層(以下、画像形成層ともいう)の特性により、1.ラジカル重合型平版印刷版原版、2.熱融着型平版印刷版原版、3.極性変換型平版印刷版原版等があり、本発明の平版印刷版原版はこのいずれでもよい。
最初に、ラジカル重合型平版印刷版原版について記載する。
[感光層]
ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層は、重合性化合物、重合開始剤、バインダーポリマー、増感色素、その他の成分を含む。以下に、感光層を構成する各成分について説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is characterized in that a photosensitive layer is provided on a support having a surface with an airborne water droplet contact angle of 70 ° or more. A lithographic printing plate precursor has the following characteristics mainly due to the characteristics of its photosensitive layer (hereinafter also referred to as an image forming layer). 1. radical polymerization type lithographic printing plate precursor; 2. heat fusion type lithographic printing plate precursor; There are polar conversion type lithographic printing plate precursors, and the lithographic printing plate precursor of the present invention may be any of these.
First, a radical polymerization type lithographic printing plate precursor will be described.
[Photosensitive layer]
The photosensitive layer in the radical polymerization type lithographic printing plate precursor contains a polymerizable compound, a polymerization initiator, a binder polymer, a sensitizing dye, and other components. Below, each component which comprises a photosensitive layer is demonstrated.

(重合性化合物)
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの共重合体ならびにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(Polymerizable compound)
The polymerizable compound used in the photosensitive layer in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. To be elected. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or copolymers thereof and mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例とし
ては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、
ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレ
ート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌ
レート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステ
ルアクリレートオリゴマー等がある。
Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate,
Hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate Sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer, and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサン
ジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトー
ルトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタ
クリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコ
ールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオール
ジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイ
タコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、
エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタ
エリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エス
テルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペ
ンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. As crotonic acid ester,
Examples include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−19
6231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号
、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を
有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用
いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include, for example, Japanese Patent Publication No. 51-47334, Japanese Patent Laid-Open No. 57-19.
The aliphatic alcohol esters described in JP 6231 and the aromatic skeletons described in JP 59-5240, JP 59-5241, and JP 2-226149 Those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例とし
ては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキ
サメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジ
エチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公
昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化
合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合
物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子
中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16
765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−4986
0号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62
−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開
平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する
付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成
物を得ることができる。
JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16
No. 765, urethane acrylates described in Japanese Patent Publication No. 765, and Japanese Patent Publication No. 58-4986.
No. 0, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. -39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭
52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポ
キシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公
平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特
開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。ま
た、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有
する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜3
08ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているも
のも使用することができる。
Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, 300-3
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 08 (1984) can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の
詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次の
ような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能
以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上の
ものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで
、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との
相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、
低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、
支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあ
り得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, polymerization initiator, colorant, etc.), the selection and use method of the polymerizable compound is an important factor. ,
The compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. Also,
A specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or a protective layer described later.

上記の重合性化合物は、感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に
好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以
上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、
解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任
意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しう
る。
The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the polymerizable compound is such that the polymerization inhibition with respect to oxygen is large or small,
An appropriate structure, blending, and addition amount can be arbitrarily selected from the viewpoints of resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, and the like, and in some cases, a layer configuration / coating method such as undercoating or overcoating can be performed.

(重合開始剤)
本発明に用いられる重合開始剤は、光または熱エネルギーによりラジカルを発生し、重
合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物である。このような重合開始
剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などか
ら、適宜、選択して用いることができる。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by light or thermal energy. Such a polymerization initiator can be appropriately selected from known polymerization initiators and compounds having a bond having a small bond dissociation energy.

上記の重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過
酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール
化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化
合物が挙げられる。
Examples of the polymerization initiator include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salts. Compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.So
c Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書
、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開53−133428号、特
開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、
特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号
、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の公報、M.P.Hutt,
"Journal of Heterocyclic Chemistry",1(No.
3)(1970)に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオ
キサゾール化合物およびS−トリアジン化合物が好適である。
Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem.
c Japan "42, 2924 (1969), U.S. Pat. No. 3,905,815, JP-B 46-4605, JP-A 48-36281, JP-A 53-133428, JP-A 55-32070. JP, 60-609736, JP 61-169835,
JP-A-61-169837, JP-A-62-258241, JP-A-62-212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, P. Hutt,
“Journal of Heterocyclic Chemistry”, 1 (No.
3) The compound as described in (1970) is mentioned. Of these, oxazole compounds and S-triazine compounds substituted with a trihalomethyl group are preferred.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が、s
−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール環に結合したオ
キサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノク
ロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2
,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチ
リル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオ
キシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリア
ジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6
−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロ
モメチル)−s−トリアジンや下記化合物等が挙げられる。
More preferably, at least one mono, di, or trihalogen substituted methyl group is s
-An s-triazine derivative bonded to a triazine ring and an oxadiazole derivative bonded to an oxadiazole ring. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-
Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4, 6-
Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2
, 4-Butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6
-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6 -Tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6
Examples include -bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, the following compounds, and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾ
フェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフ
ェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン
誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセト
フェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチル
フェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル
)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4'
−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロ
ロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、
2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイ
ソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることがで
きる。
Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′
Acetophenone derivatives such as-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone,
Thioxanthone derivatives such as 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等
を使用することができる。
As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、ア
セチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3
,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロ
ヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロ
パーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,
1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチ
ルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸
化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシ
エチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ
(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパー
オキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキ
シネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパ
ーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピル
クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二
水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が
挙げられる。
Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3.
, 5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroper Oxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,
1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2,5-oxa Noyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxy Isopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, ter -Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−15
1197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−
4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−
ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス
−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチ
ルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1
−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−
イル)フェニル)チタニウム、特開平1−304453号公報、特開平1−152109
号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
Examples of the metallocene compounds include JP-A-59-152396 and JP-A-61-15.
No. 1197, JP-A 63-41484, JP-A 2-249, JP-A 2-
Various titanocene compounds described in Japanese Patent No. 4705 and JP-A-5-83588, for example,
Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-
Bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl -Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl- Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1
-Yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyr-1-
Yl) phenyl) titanium, JP-A-1-304453, JP-A-1-152109
And iron-arene complexes described in the Japanese Patent Publication.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号
公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,
286号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフ
ェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブ
ロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(
o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル
)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−
テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,
5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4'
,5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル
)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Examples of the hexaarylbiimidazole compound include Japanese Patent Publication No. 6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622.
Various compounds described in the specification of No. 286, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′- Bis (o-bromophenyl)) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (
o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5 , 5'-
Tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5
5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′
, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−
150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−1
88710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の公報、
特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz
,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−2
2,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623
号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホ
ウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−1755
54号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開
平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−34801
1号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−
306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等
が挙げられる。
Examples of the organoboron compound include, for example, JP-A-62-143044 and JP-A-62-2.
150242, JP-A-9-188865, JP-A-9-188686, JP-A-9-1
No. 88710, JP-A No. 2000-131737, JP-A No. 2002-107916,
Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz
Martin "Rad Tech '98. Proceeding April 19-2.
2, 1998, Chicago "etc., JP-A-6-157623
Organoboron sulfonium complexes or organoboron oxosulfonium complexes described in JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, JP-A-6-1755.
No. 54, JP-A-6-175553, organoboron iodonium complexes, JP-A-9-188710, organoboron phosphonium complexes, JP-A-6-34801
No. 1, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-
Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as 306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特開2003−3
28465号公報等記載される化合物が挙げられる。
Examples of the disulfone compound include JP-A Nos. 61-166544 and 2003-3.
And compounds described in Japanese Patent No. 28465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.
Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202
-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報
記載の化合物が挙げられる。具体例としては、下記の構造式で示される化合物が挙げられ
る。
Examples of the oxime ester compounds include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCS
Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202
-232, compounds described in JP-A No. 2000-66385, and compounds described in JP-A No. 2000-80068. Specific examples include compounds represented by the following structural formula.

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Phot
ogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,
Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,0
69,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国
特許第4,069,055号、同第4,069,056号の明細書に記載のホスホニウム
塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号
の明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の公報に記載のヨード
ニウム塩、欧州特許第370,693号、同第390,214号、同第233,567号
、同第297,443号、同第297,442号、米国特許第4,933,377号、同
第161,811号、同第410,201号、同第339,049号、同第4,760,
013号、同第4,734,444号、同第2,833,827号、独国特許第2,90
4,626号、同第3,604,580号、同第3,604,581号の明細書に記載の
スルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecule
s,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.
Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(19
79)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Co
nf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に
記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photo
ogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salt, US Pat. No. 4,0
69,055, JP-A-4-365049, etc., phosphonium salts described in US Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, European patents Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent 370, 693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,
No. 013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,90
Sulfonium salts described in the specifications of U.S. Pat. Nos. 4,626, 3,604,580 and 3,604,581; V. Crivello et al, Macromolecule
s, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A.
Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (19
79), selenonium salts according to C. S. Wen et al, Teh, Proc. Co
nf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開
始剤として機能する。
本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−II
I)で表されるオニウム塩である。
In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
The onium salts preferably used in the present invention are represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-II).
An onium salt represented by I).

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリ
ール基を表し、好ましい置換基としては炭素数12以下のアルキル基、炭素数12以下の
アルケニル基、炭素数12以下のアルキニル基、炭素数12以下のアリール基、炭素数12以下のアルコキシ基、炭素数12以下のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルキルアミノ基、炭素数12以下のジアルキルアミノ基、炭素数12以下のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数12以下のチオアルキル基、炭素数12以下のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。
In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 12 or less carbon atoms and 12 carbon atoms. The following alkenyl groups, alkynyl groups having 12 or less carbon atoms, aryl groups having 12 or less carbon atoms, alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, aryloxy groups having 12 or less carbon atoms, halogen atoms, alkylamino groups having 12 or less carbon atoms, carbon A dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 12 or less carbon atoms, a carbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 12 or less carbon atoms, and a thioaryl group having 12 or less carbon atoms. It is done. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していても
よい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数12以下のアル
キル基、炭素数12以下のアルケニル基、炭素数12以下のアルキニル基、炭素数12以下のアリール基、炭素数12以下のアルコキシ基、炭素数12以下のアリーロキシ基、ハ
ロゲン原子、炭素数12以下のアルキルアミノ基、炭素数12以下のジアルキルアミノ基
、炭素数12以下のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキ
シル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数12以下のチオアルキル基、炭素数12以下の
チオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイ
オン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイ
オン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙
げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェー
トイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カ
ルボン酸イオンが好ましい。
In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents are 12 or less carbon atoms. Alkyl group, alkenyl group having 12 or less carbon atoms, alkynyl group having 12 or less carbon atoms, aryl group having 12 or less carbon atoms, alkoxy group having 12 or less carbon atoms, aryloxy group having 12 or less carbon atoms, halogen atom, 12 carbon atoms The following alkylamino group, dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 12 or less carbon atoms, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, thioalkyl group having 12 or less carbon atoms, carbon number Examples include 12 or less thioaryl groups. Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有して
いてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル
基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基とし
ては、炭素数12以下のアルキル基、炭素数12以下のアルケニル基、炭素数12以下の
アルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数12以下のアルコキシ基、炭素数12以下のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルキルアミノ基、炭素数12以下のジアルキルアミノ基、炭素数12以下のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数12以下のチオアルキル基、炭素数12以下のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkenyl group having 12 or less carbon atoms, an alkynyl group having 12 or less carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Aryloxy group, halogen atom, alkylamino group having 12 or less carbon atoms, dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 12 or less carbon atoms, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, Examples thereof include a thioalkyl group having 12 or less carbon atoms and a thioaryl group having 12 or less carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

重合開始剤は、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開
始剤、有機ハロゲン化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、
オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩がより好ま
しい。
The polymerization initiator is not limited to the above, but particularly from the viewpoint of reactivity and stability, a triazine-based initiator, an organic halogen compound, a metallocene compound, a hexaarylbiimidazole compound,
More preferred are oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salts.

重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、重合開
始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。重合開始剤は、感光層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。
Only 1 type may be used for a polymerization initiator and it may use 2 or more types together. Further, the polymerization initiator may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto. The polymerization initiator is preferably added in an amount of 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content constituting the photosensitive layer. can do.

(バインダーポリマー)
本発明の感光層に使用可能なバインダーポリマーとしては、非水溶性ポリマーが好まし
く用いられる。さらに、本発明に使用可能なバインダーポリマーは、カルボキシル基、ス
ルホン酸基、リン酸基などの酸基を実質的に含有しないものが好ましく、バインダーポリ
マーの酸価(ポリマー1gあたりの酸含率を化学等量数で表したもの)は、0.3meq
/g以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1meq/g以下である。
すなわち、本発明に使用可能なバインダーポリマーは、水およびpH10以上の水溶液
に対し不溶であることが好ましく、バインダーポリマーの水およびpH10以上の水溶液
に対する溶解度が、0.5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1
質量%以下である。このようなバインダーポリマーを用いることによって、感光層の膜強
度、耐水性および着肉性が向上して、耐刷性の向上が得られる。
(Binder polymer)
As the binder polymer that can be used in the photosensitive layer of the present invention, a water-insoluble polymer is preferably used. Furthermore, the binder polymer that can be used in the present invention preferably contains substantially no acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group, and the acid value of the binder polymer (the acid content per gram of the polymer). Chemical equivalence number) is 0.3 meq
/ G or less, more preferably 0.1 meq / g or less.
That is, the binder polymer that can be used in the present invention is preferably insoluble in water and an aqueous solution having a pH of 10 or more, and the solubility of the binder polymer in water and an aqueous solution having a pH of 10 or more is 0.5% by mass or less. Preferably, more preferably 0.1
It is below mass%. By using such a binder polymer, the film strength, water resistance and fillability of the photosensitive layer are improved, and the printing durability is improved.

バインダーポリマーとしては、本発明の平版印刷版原版の性能を損なわない限り、好ま
しくは、上記特性範囲であれば、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線
状有機ポリマーが好ましい。
このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹
脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂が好まし
く、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。より具体的には、(メタ)アクリ
ル酸アルキルまたはアラルキルエステルと(メタ)アクリル酸エステルのエステル残基(
−COOR)のRに−CH2CH2O−単位または−CH2CH2NH−単位を含む(メタ)
アクリル酸エステルとの共重合体が特に好ましい。上記(メタ)アクリル酸アルキルエス
テルの好ましいアルキル基は、炭素数1〜5のアルキル基であり、メチル基がより好まし
い。好ましい(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベン
ジルが挙げられる。
As the binder polymer, as long as the performance of the lithographic printing plate precursor according to the invention is not impaired, a conventionally known one can be used without limitation within the above-mentioned characteristic range, and a linear organic polymer having a film property is preferable.
As an example of such a binder polymer, a polymer selected from acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, styrene resins, and polyester resins is preferable. Especially, an acrylic resin is preferable and a (meth) acrylic acid ester copolymer is preferable. More specifically, (meth) acrylic acid alkyl or aralkyl ester and (meth) acrylic acid ester residue (
To R of the -COOR) contains a -CH 2 CH 2 O- unit or a -CH 2 CH 2 NH- unit (meth)
A copolymer with an acrylate ester is particularly preferred. The preferable alkyl group of the said (meth) acrylic-acid alkylester is a C1-C5 alkyl group, and a methyl group is more preferable. Preferable (meth) acrylic acid aralkyl esters include benzyl (meth) acrylate.

さらに、バインダーポリマーには、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性をもた
せることができる。
バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、架橋性官能基をポリマーの主鎖中ま
たは側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子
反応によって導入してもよい。
Further, the binder polymer can be cross-linked in order to improve the film strength of the image area.
In order to give the binder polymer crosslinkability, a crosslinkable functional group may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

ここで架橋性官能基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重
合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる基のことである。このような機能の基で
あれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和
結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官
能基であってもよく、そのような架橋性官能基としては、例えば、チオール基、ハロゲン
基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下
記一般式(1)〜(3)で表される官能基が特に好ましい。
Here, the crosslinkable functional group is a group that crosslinks the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the photosensitive layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, As such a crosslinkable functional group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (1)-(3) is especially preferable.

上記一般式(1)において、Rl〜R3はそれぞれ独立に、水素原子または1価の有機基
を表す。R1としては、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基な
どが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことからより好ま
しい。R2、R3としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基
、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置
換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置
換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基がラジカル反応性の高いことからより好ましい。
In the general formula (1), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. R 1 preferably includes a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is more preferable because of high radical reactivity. R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an optionally substituted alkyl group, or a substituent. An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent Arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent may be mentioned. An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are more preferable because of high radical reactivity.

Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1
価の有機基を表す。1価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げ
られる。R12としは、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性
が高いことから好ましい。
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or 1
Represents a valent organic group. Examples of the monovalent organic group include an alkyl group which may have a substituent. R 12 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or an isopropyl group because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、
アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。
Here, examples of the substituent that can be introduced include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group,
Arylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

上記一般式(2)において、R4〜R8は、それぞれ独立に水素原子または1価の有機基
を表す。R4〜R8としては、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキ
ルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基
、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有して
もよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいア
ルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキ
ルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも
、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基がより好ましい。
In the general formula (2), R 4 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. R 4 to R 8 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl group which may have a substituent. An aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, An arylamino group which may have, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are more preferable.

導入し得る置換基としては、一般式(1)と同様のものが例示される。
Yは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表す。R12は、一般式(1)のR
12と同義であり、好ましい例も同様である。
Examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1).
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 is R in the general formula (1)
It is synonymous with 12 , and a preferable example is also the same.

上記一般式(3)において、R9〜R11は、それぞれ独立に、水素原子または1価の有
機基を表す。1価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる
。R9としては、水素原子、メチル基がラジカル反応性の高いことから好ましい。R10
11としては、好ましくは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジア
ルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シア
ノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有
してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよ
いアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいア
ルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なか
でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアル
キル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性の高いことからより好ましい
In the general formula (3), R 9 to R 11 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. Examples of the monovalent organic group include an alkyl group which may have a substituent. R 9 is preferably a hydrogen atom or a methyl group because of high radical reactivity. R 10 ,
R 11 is preferably independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an alkyl which may have a substituent. Group, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, substituent An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, etc., among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are more preferable because of high radical reactivity.

ここで、導入し得る置換基としては、一般式(1)におけるものと同様のものが例示さ
れる。また、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−、または置換基を有してもよい
フェニレン基を表す。R13としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、
なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好まし
い。
上記の中でも、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体およびポリウレタ
ンがより好ましい。
Here, examples of the substituent that can be introduced are the same as those in the general formula (1). Further, Z is an oxygen atom, a sulfur atom, -N (R 13) -, or a phenylene group which may have a substituent. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent.
Of these, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.
Among these, (meth) acrylic acid copolymers having a crosslinkable group in the side chain and polyurethane are more preferable.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(
重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間
で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が
形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、架橋性官能基に隣接する炭素
原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、そ
れが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
For example, the binder polymer having a crosslinkable property has a free radical (
A polymerization initiating radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) is added, and addition polymerization is performed directly between polymers or via a polymerization chain of the polymerizable compound, and a crosslink is formed between the polymer molecules to be cured. Alternatively, atoms in the polymer (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the crosslinkable functional group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other, thereby causing crosslinking between polymer molecules. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性官能基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な
不飽和二重結合の含有量)は、疎水性バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1
〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜
5.5mmolである。
The content of the crosslinkable functional group in the binder polymer (content of the unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 per gram of the hydrophobic binder polymer.
-10.0 mmol, more preferably 1.0-7.0 mmol, most preferably 2.0-
5.5 mmol.

また、水溶液に対する現像性向上という観点からバインダーポリマーは親水的であるこ
とが好ましく、さらに耐刷性向上という観点からバインダーポリマーは感光層中に含まれ
る重合性化合物と相溶性が良いことが重要であり、すなわち親油的であることが好ましい
。このような見地から本発明では、現像性と耐刷性を向上させるためバインダーポリマー
中に親水性基と親油性基とを共重合させることも有効である。親水性基としては、例えば
、ヒドロキシ基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、エチレンオキシ基、ヒドロ
キシプロピル基、ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル
基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホネート
基、ホスホネート基等が好適に挙げられる。
Further, it is preferable that the binder polymer is hydrophilic from the viewpoint of improving developability with respect to an aqueous solution, and it is important that the binder polymer is compatible with the polymerizable compound contained in the photosensitive layer from the viewpoint of improving printing durability. Yes, ie lipophilic. From such a viewpoint, in the present invention, it is also effective to copolymerize a hydrophilic group and an oleophilic group in the binder polymer in order to improve developability and printing durability. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, an ethyleneoxy group, a hydroxypropyl group, a polyoxyethyl group, a polyoxypropyl group, an amino group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, and an ammonium group. And amide group, carboxymethyl group, sulfonate group, phosphonate group and the like.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜3
0万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、
2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)
は、1.1〜10であるのが好ましい。
バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等の
いずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more and 10,000 to 3
More preferably, the number average molecular weight is 1,000 or more.
More preferably, it is 2000-250,000. Polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight)
Is preferably 1.1-10.
The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

バインダーポリマーは単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、感光層の全固形分に対して、5〜90質量%であり、
10〜70質量%であるのが好ましく、10〜60質量%であるのがより好ましい。この
範囲内で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.
The content of the binder polymer is 5 to 90% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer,
It is preferably 10 to 70% by mass, and more preferably 10 to 60% by mass. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.

(増感色素)
感光層は、露光光源の波長に対応した増感色素を含有することが好ましい。増感色素は
、使用する用途等に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではないが、
例えば、350nm〜450nmの光を吸収する増感色素、赤外線吸収剤等が挙げられる

<350nm〜450nmの光を吸収する増感色素>
本発明で用いられる350nm〜450nmの光を吸収する増感色素は、350nmか
ら450nmの波長域に吸収極大を持つことが好ましい。この様な増感色素としては、例
えば、下記一般式(I)に示されるメロシアニン色素類、下記一般式(II)で示される
ベンゾピラン類、クマリン類、下記一般式(III)で表される芳香族ケトン類、下記一
般式(IV)で表されるアントラセン類等を挙げることができる。
(Sensitizing dye)
The photosensitive layer preferably contains a sensitizing dye corresponding to the wavelength of the exposure light source. The sensitizing dye is appropriately selected according to the use to be used and is not particularly limited.
Examples thereof include a sensitizing dye that absorbs light of 350 nm to 450 nm, an infrared absorber, and the like.
<Sensitizing dye that absorbs light of 350 nm to 450 nm>
The sensitizing dye that absorbs light of 350 nm to 450 nm used in the present invention preferably has an absorption maximum in a wavelength region of 350 nm to 450 nm. Examples of such a sensitizing dye include merocyanine dyes represented by the following general formula (I), benzopyrans and coumarins represented by the following general formula (II), and fragrances represented by the following general formula (III). And anthracenes represented by the following general formula (IV).

(式中、AはS原子もしくは、NR6を表し、R6は一価の非金属原子団を表し、Yは隣
接するAおよび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し
、X1、X2はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、X1、X2は互いに結合して色
素の酸性核を形成してもよい。)
(In the formula, A represents an S atom or NR 6 , R 6 represents a monovalent non-metallic atomic group, Y represents a basic nucleus of a dye in cooperation with an adjacent A and an adjacent carbon atom. metallic atomic group, X1, X 2 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, X 1, X 2 may be bonded to form an acidic nucleus of the dye together.)

(式中、=Zは、オキソ基、チオキソ基、イミノ基または上記部分構造式(I')で表
されるアルキリデン基を表し、X1、X2は一般式(II)と同義であり、R7〜R12はそ
れぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。)
(In the formula, = Z represents an oxo group, a thioxo group, an imino group or an alkylidene group represented by the partial structural formula (I ′), and X 1 and X 2 have the same meaning as in the general formula (II); R 7 to R 12 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group.)

(式中Ar3は、置換基を有していてもよい芳香族基またはヘテロ芳香族基を表し、R1
3は一価の非金属原子団を表す。より好ましいR13は、芳香族基またはヘテロ芳香族基で
あって、Ar3とR13が互いに結合して環を形成してもよい。)
(In the formula, Ar 3 represents an aromatic group or a heteroaromatic group which may have a substituent, and R 1
3 represents a monovalent nonmetallic atomic group. R 13 is more preferably an aromatic group or a heteroaromatic group, and Ar 3 and R 13 may be bonded to each other to form a ring. )

(式中、X3、X4、R14〜R21はそれぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、より好
ましいX3、X4はハメットの置換基定数が負の電子供与性基である。)
(In the formula, X 3 , X 4 and R 14 to R 21 each independently represent a monovalent non-metallic atomic group, and more preferable X 3 and X 4 are electron donating groups having a negative Hammett's substituent constant. .)

一般式(I)から(IV)における、X1からX4、R6からR21で表される一価の非金
属原子団の好ましい例としては、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基
、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、
2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、2-クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチ
ルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N-
シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N-フェニルカルバモイルオキシエチル基
、アセチルアミノエチル基、N-メチルベンゾイルアミノプロピル基、2-オキソエチル基
、2-オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリル
オキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル
基、N-メチルカルバモイルエチル基、N,N-ジプロピルカルバモイルメチル基、N-(
メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N-メチル-N-(スルホフェニル)カルバモ
イルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N-エ
チルスルファモイルメチル基、N,N-ジプロピルスルファモイルプロピル基、N-トリル
スルファモイルプロピル基、N-メチル-N-(ホスフォノフェニル)スルファモイルオク
チル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、
ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチ
ル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシ
プロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベン
ジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル
基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニル
メチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基等)、
Preferred examples of the monovalent nonmetallic atomic group represented by X 1 to X 4 and R 6 to R 21 in the general formulas (I) to (IV) include a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, Ethyl group,
Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group,
Decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group A 2-ethylhexyl group,
2-methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 2-norbornyl, chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl Group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-
Cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonyl Butyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (
Methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoyl Propyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group,
Diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α- Methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2 -Propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc.),

アリール基(例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル
基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェ
ニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フ
ェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフ
ェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N-フェニルカルバモイルフェ
ニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等)、ヘテロアリール基(例えば、
チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、
フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン
、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾ
ール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シ
ノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミ
ジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フ
ェノキサジン等のヘテロアリール環から誘導される基)、アルケニル基(例えばビニル基
、1-プロペニル基、1-ブテニル基、シンナミル基、2-クロロ-1-エテニル基、等)、
アルキニル基(例えば、エチニル基、1-プロピニル基、1-ブチニル基、トリメチルシリ
ルエチニル基等)、ハロゲン原子(-F、-Br、-Cl、-I)、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、
Aryl groups (for example, phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl,
Mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthio Phenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl Group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, etc.), heteroaryl group (for example,
Thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene,
Phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoyl, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, cinolin, pteridine, carbazole, carboline , A group derived from a heteroaryl ring such as phenanthrin, acridine, perimidine, phenanthroline, phthalazine, phenazazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, etc., an alkenyl group (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group) Cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, etc.),
Alkynyl group (for example, ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, etc.), halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group,

メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基
、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基、N-アリールアミノ基
、N,N-ジアリールアミノ基、N-アルキル-N-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリールカルバモイルオキ
シ基、N,N-ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N-ジアリールカルバモイルオキシ
基、N-アルキル-N-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリール
スルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N-アルキルアシルアミノ基、N-アリー
ルアシルアミノ基、ウレイド基、N′-アルキルウレイド基、N',N'-ジアルキルウレイ
ド基、N'-アリールウレイド基、N',N'-ジアリールウレイド基、N'-アルキル-N'-ア
リールウレイド基、N-アルキルウレイド基、N-アリールウレイド基、N'-アルキル-N-
アルキルウレイド基、N'-アルキル-N-アリールウレイド基、N',N'-ジアルキル-N-
アルキルウレイド基、N′,N′-ジアルキル-N-アリールウレイド基、N'-アリール-N
-アルキルウレイド基、N'-アリール-N-アリールウレイド基、N',N'-ジアリール-N-
アルキルウレイド基、N′,N′-ジアリール-N-アリールウレイド基、N'-アルキル-N
'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アリールウレイド
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N
-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アリーロキシカルボニルアミノ基、N
-アリール-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-アリーロキシカルボニル
アミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロ
キシカルボニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジアルキルカ
ルバモイル基、N-アリールカルバモイル基、N,N-ジアリールカルバモイル基、N-ア
ルキル-N-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基
、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(-SO3H)およびその共役
塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニ
ル基、スルフィナモイル基、
Mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N- Alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl -N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ' , N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, '- diaryl ureido group, N'- alkyl -N'- arylureido group, N- alkylureido group, N- arylureido group, N'- alkyl -N-
Alkylureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N—
Alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N
-Alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-
Alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N
'-Aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N
-Alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N
-Aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N , N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group ( -SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group,

N-アルキルスルフィナモイル基、N,N-ジアルキルスルフィナモイル基、N-アリール
スルフィナモイル基、N,N-ジアリールスルフィナモイル基、N-アルキル-N-アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、N-アルキルスルファモイル基、N,N-ジアル
キルスルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、N,N-ジアリールスルファモイ
ル基、N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(-PO32)およびそ
の共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(-PO3(alkyl
)2)、ジアリールホスフォノ基(-PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基(-P
3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(-PO3H(alkyl))およびその共役塩
基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(-PO3H(a
ryl))およびその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキ
シ基(-OPO32)およびその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジ
アルキルホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(-
OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)(aryl))、
モノアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、
アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(-OPO3
(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シアノ
基、ニトロ基、等が挙げられ、以上の基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。
N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono Group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl
2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkyl aryl phosphono group (—P
O 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (a
ryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatooxy group), dialkylphosphonooxy Group (-OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (-
OPO 3 (aryl) 2 ), an alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)),
A monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter,
Alkylphosphonateoxy group), monoarylphosphonooxy group (-OPO 3 H
(aryl)) and conjugated base groups thereof (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy groups), cyano groups, nitro groups, and the like. Among these groups, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, An alkoxy group and an acyl group are particularly preferable.

一般式(I)に於けるYが隣接するAおよび、隣接炭素原子と共同して形成する色素の
塩基性核としては、5、6、7員の含窒素あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは
5、6員の複素環がよい。
Examples of the basic nucleus of the dye formed together with A adjacent to Y in the general formula (I) and the adjacent carbon atom include 5-, 6-, and 7-membered nitrogen-containing or sulfur-containing heterocycles, A 5- or 6-membered heterocyclic ring is preferable.

含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73,532
6-5358(1951).および参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成
するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チ
アゾール類(例えば、チアゾール、4-メチルチアゾール、4ーフェニルチアゾール、5-
メチルチアゾール、5-フェニルチアゾール、4,5-ジメチルチアゾール、4,5-ジフ
ェニルチアゾール、4,5-ジ(p-メトキシフェニルチアゾール)、4-(2-チエニル)
チアゾール、等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4-クロロベンゾ
チアゾール、5-クロロベンゾチアゾール、6-クロロベンゾチアゾール、7-クロロベン
ゾチアゾール、4-メチルベンゾチアゾール、5-メチルベンゾチアゾール、6-メチルベ
ンゾチアゾール、5-ブロモベンゾチアゾール、4-フェニルベンゾチアゾール、5-フェ
ニルベンゾチアゾール、4-メトキシベンゾチアゾール、5-メトキシベンゾチアゾール、
6-メトキシベンゾチアゾール、5-ヨードベンゾチアゾール、6-ヨードベンゾチアゾー
ル、4-エトキシベンゾチアゾール、5-エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾ
チアゾール、5,6-ジメトキシベンゾチアゾール、5,6-ジオキシメチレンベンゾチア
ゾール、5-ヒドロキシベンゾチアゾール、6-ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチ
ルアミノベンゾチアゾール、5-エトキシカルボニルベンゾチアゾール等)、ナフトチア
ゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5-メ
トキシナフト[2,1]チアゾール、5-エトキシナフト[2,1]チアゾール、8-メト
キシナフト[1,2]チアゾール、7-メトキシナフト[1,2]チアゾール等)、チア
ナフテノ-7’,6’,4,5-チアゾール類(例えば、4’-メトキシチアナフテノ-7’
,6’,4,5-チアゾール等)、オキサゾール類(例えば、4-メチルオキサゾール、5
-メチルオキサゾール、4-フェニルオキサゾール、4,5-ジフェニルオキサゾール、4-
エチルオキサゾール、4,5-ジメチルオキサゾール、5-フェニルオキサゾール等)、ベ
ンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5-クロロベンゾオキサゾール、5-メチルベ
ンゾオキサゾール、5-フェニルベンゾオキサゾール、6-メチルベンゾオキサゾール、5
,6-ジメチルベンゾオキサゾール、4,6-ジメチルベンゾオキサゾール、6-メトキシ
ベンゾオキサゾール、5-メトキシベンゾオキサゾール、4-エトキシベンゾオキサゾール
、5-クロロベンゾオキサゾール、6-メトキシベンゾオキサゾール、5-ヒドロキシベン
ゾオキサゾール、6-ヒドロキシベンゾオキサゾール等)、ナフトオキサゾール類(例え
ば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール等)、セレナゾール
類(例えば、4-メチルセレナゾール、4-フェニルセレナゾール等)、ベンゾセレナゾー
ル類(例えば、ベンゾセレナゾール、5-クロロベンゾセレナゾール、5-メトキシベンゾ
セレナゾール、5-ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール等
)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]
セレナゾール等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4-メチルチアゾリン等)、キ
ノリン類(例えば、キノリン、3-メチルキノリン、5-メチルキノリン、7-メチルキノ
リン、8-メチルキノリン、6-クロロキノリン、8-クロロキノリン、6-メトキシキノリ
ン、6-エトキシキノリン、6-ヒドロキシキノリン、8-ヒドロキシキノリン等)、イソ
キノリン類(例えば、イソキノリン、3,4-ジヒドロイソキノリン等)、ベンズイミダ
ゾール類(例えば、1,3-ジエチルベンズイミダゾール、1-エチル-3-フェニルベンズ
イミダゾール等)、3,3-ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3-ジメチルインド
レニン、3,3,5,-トリメチルインドレニン、3,3,7,-トリメチルインドレニン
等)、ピリジン類(例えば、ピリジン、5-メチルピリジン等)等を挙げることができる
Examples of nitrogen-containing heterocycles include, for example, LGBrooker et al., J. Am. Chem. Soc., 73,532
Any of those known to constitute a basic nucleus in merocyanine dyes described in 6-5358 (1951). And references can be suitably used. Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-
Methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5-di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl)
Thiazole, etc.), benzothiazoles (eg, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7-chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 4-methoxybenzothiazole, 5-methoxybenzothiazole,
6-methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-dioxymethylenebenzo Thiazole, 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.), naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2] thiazole, naphtho [2,1] Thiazole, 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1,2] thiazole, 7-methoxynaphtho [1,2] thiazole, etc.), thianaphtheno- 7 ', 6', 4,5-thiazole (E.g., 4'-methoxy Chiana Fute Bruno -7 '
, 6 ′, 4,5-thiazole, etc.), oxazoles (for example, 4-methyloxazole, 5
-Methyloxazole, 4-phenyloxazole, 4,5-diphenyloxazole, 4-
Ethyl oxazole, 4,5-dimethyloxazole, 5-phenyloxazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5
, 6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 4-ethoxybenzoxazole, 5-chlorobenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole , 6-hydroxybenzoxazole, etc.), naphthoxazoles (eg, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1] oxazole, etc.), selenazoles (eg, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.) ), Benzoselenazoles (eg, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole, tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (eg, Shift [1,2] selenazole, naphtho [2,1]
Selenazole, etc.), thiazolines (eg, thiazoline, 4-methylthiazoline, etc.), quinolines (eg, quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6-ethoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8-hydroxyquinoline, etc.), isoquinolines (eg, isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, etc.), benzimidazoles (eg, 1 , 3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3-phenylbenzimidazole, etc.), 3,3-dialkylindolenins (for example, 3,3-dimethylindolenin, 3,3,5-trimethylindolenine, 3 , 3,7, -trimethylindolenine, etc.), pyridines (eg, pyridine, - it can be exemplified methyl pyridine) and the like.

また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平3-296759号公報記載の色素
類におけるジチオール部分構造をあげることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類(例えば、ベンゾジチオール、5-t-ブチルベン
ゾジチオール、5-メチルベンゾジチオール等)、ナフトジチオール類(例えば、ナフト[
1,2]ジチオール、ナフト[2,1]ジチオール等)、ジチオール類(例えば、4,5
-ジメチルジチオール類、4-フェニルジチオール類、4-メトキシカルボニルジチオール
類、4,5-ジメトキシカルボニルジチオール類、4,5-ジトリフルオロメチルジチオー
ル、4,5-ジシアノジチオール、4-メトキシカルボニルメチルジチオール、4-カルボ
キシメチルジチオール等を挙げることができる。
Examples of the sulfur-containing heterocycle include a dithiol partial structure in dyes described in JP-A-3-296759.
Specific examples include benzodithiols (for example, benzodithiol, 5-t-butylbenzodithiol, 5-methylbenzodithiol, etc.), naphthodithiols (for example, naphtho [
1,2] dithiol, naphtho [2,1] dithiol, etc.), dithiols (for example, 4,5
-Dimethyldithiols, 4-phenyldithiols, 4-methoxycarbonyldithiols, 4,5-dimethoxycarbonyldithiols, 4,5-ditrifluoromethyldithiol, 4,5-dicyanodithiol, 4-methoxycarbonylmethyldithiol, 4-Carboxymethyldithiol and the like can be mentioned.

以上、述べた複素環に関する説明に用いた記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名
称を用いたが、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合、例えばベンゾチアゾール骨格
の場合は、3−置換−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン基のように、不飽和度を一つ下
げたアルキリデン型の置換基形で導入される。
As mentioned above, the description used for the description of the heterocyclic ring described above has conventionally used the name of the heterocyclic mother skeleton for convenience, but in the case of the basic skeleton partial structure of the sensitizing dye, for example, in the case of the benzothiazole skeleton , 3-substituted-2 (3H) -benzothiazolylidene groups, such as alkylidene type substituents with one degree of unsaturation.

350nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ化合物としての増感色素のうち、
高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(V)で表される色素である。
Among sensitizing dyes as compounds having an absorption maximum in the wavelength region of 350 nm to 450 nm,
A dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (V).

(一般式(V)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、Xは酸
素原子、硫黄原子または=N(R3)をあらわす。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に
、一価の非金属原子団を表し、AとR1あるいはR2とR3はそれぞれ互いに、脂肪族性ま
たは芳香族性の環を形成するため結合してもよい。)
(In the general formula (V), A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom or ═N (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group, and A and R 1 or R 2 and R 3 may be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring. .)

一般式(V)について更に詳しく説明する。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、
一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしく
は非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテ
ロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ
基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
The general formula (V) will be described in more detail. R 1 , R 2 and R 3 are each independently
Monovalent non-metal atomic group, preferably substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted heteroaryl group, substituted or unsubstituted Represents an alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, and a halogen atom.

1、R2およびR3の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例と
しては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げ
ることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ド
デシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1
-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シク
ロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基を挙げることができる。これらの
中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、なら
びに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Preferable examples of R 1 , R 2 and R 3 will be specifically described. Examples of preferable alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1
-Methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好まし
い例としては、ハロゲン原子(-F、-Br、-Cl、-I)、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基、
N-アリールアミノ基、N,N-ジアリールアミノ基、N-アルキル-N-アリールアミノ基
、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N-アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリ
ールカルバモイルオキシ基、N,N-ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N-ジアリー
ルカルバモイルオキシ基、N-アルキル-N-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルス
ルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N-アルキルアシ
ルアミノ基、N-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N'-アルキルウレイド基、N',
N'-ジアルキルウレイド基、N′-アリールウレイド基、N',N'-ジアリールウレイド基
、N'-アルキル-N'-アリールウレイド基、N-アルキルウレイド基、N-アリールウレイ
ド基、N'-アルキル-N-アルキルウレイド基、N′-アルキル-N-アリールウレイド基、
N',N'-ジアルキル-N-アルキルウレイド基、N',N'-ジアルキル-N-アリールウレイ
ド基、N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アリール-N-アリールウレイド基、N
',N'-ジアリール-N-アルキルウレイド基、N',N'-ジアリール-N-アリールウレイド
基、N'-アルキル-N'-アリール-N-アルキルウレイド基、N'-アルキル-N'-アリール-
N-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、N-アルキル-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アルキル-N-アリーロキシカ
ルボニルアミノ基、N-アリール-N-アルコキシカルボニルアミノ基、N-アリール-N-ア
リーロキシカルボニルアミノ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferred examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups, alkoxy groups, Aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group,
N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkyl Carbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-aryl Acylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′,
N'-dialkylureido group, N'-arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N' -Alkyl-N-alkylureido groups, N'-alkyl-N-arylureido groups,
N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N
', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N ' -Aryl-
N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group,

アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジア
ルキルカルバモイル基、N-アリールカルバモイル基、N,N-ジアリールカルバモイル基
、N-アルキル-N-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(-SO3H)および
その共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシ
スルホニル基、スルフィナモイル基、N-アルキルスルフィナモイル基、N,N-ジアルキ
ルスルフィナモイル基、N-アリールスルフィナモイル基、N,N-ジアリールスルフィナ
モイル基、N-アルキル-N-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N-アルキ
ルスルファモイル基、N,N-ジアルキルスルファモイル基、N-アリールスルファモイル
基、N,N-ジアリールスルファモイル基、N-アルキル-N-アリールスルファモイル基、
ホスフォノ基(-PO32)およびその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジ
アルキルホスフォノ基(-PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基(-PO3(aryl)2
、アルキルアリールホスフォノ基(-PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基
(-PO3H(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、
モノアリールホスフォノ基(-PO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールホ
スフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(-OPO32)およびその共役塩基基(以
後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3(alkyl)2
)、ジアリールホスフォノオキシ基(-OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基(-OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(-OPO3H(al
kyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリ
ールホスフォノオキシ基(-OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールフ
ォスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, Arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkyls Rufinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkyl Sulfamoyl group, N, N-dia Kill sulfamoyl group, N- aryl sulfamoyl group, N, N- diaryl sulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group,
Phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonate group”), dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 )
, An alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), a monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and a conjugate base group thereof (hereinafter referred to as an alkyl phosphonate group),
Monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as aryl phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphine group) Onatooxy group), dialkylphosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl) 2
), Diaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphonooxy group (—OPO 3 H (al
kyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonatooxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group) ), A cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ
、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェ
ニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基
、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N-フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェ
ニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。
Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, and a cumenyl group. , Chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylamino Phenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
Examples thereof include an ethoxyphenylcarbonyl group, a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、
もしくは多環芳香族環基が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例え
ば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテ
ン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラ
ジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、イン
ダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン
、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペ
リミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン
、フェノキサジン等のヘテロアリール環から誘導される基があげられ、これらは、さらに
ベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。
As the heteroaryl group, a monocyclic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms,
Alternatively, a polycyclic aromatic ring group is used, and examples of particularly preferred heteroaryl groups include, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole. , Pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indoir, indazole, purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, cinnoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrin, acridine, perimidine, phenanthroline, phthalazine Groups derived from heteroaryl rings such as phenalzazine, phenoxazine, furazane, phenoxazine, etc., and these may be further benzo-fused, Substituent may have.

アルケニル基の例としては、ビニル基、1-プロペニル基、1-ブテニル基、シンナミル
基、2-クロロ-1-エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基
、1-プロピニル基、1-ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシ
ル基(GCO-)におけるGとしては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール
基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原
子(-F、-Br、-Cl、-I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、N-アルキルアミノ基、N,N-ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N-
アルキルカルバモイルオキシ基、N-アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、
ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N-アルキルカルバモイル基、N,N-ジアルキルカルバモイル
基、N-アリールカルバモイル基、N-アルキル-N-アリールカルバモイル基、スルホ基、
スルホナト基、スルファモイル基、N-アルキルスルファモイル基、N,N-ジアルキルス
ルファモイル基、N-アリールスルファモイル基、N-アルキル-N-アリールスルファモイ
ル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ
基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、
アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、ア
ルケニル基が挙げられる。
Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1-propynyl Group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Of these substituents, halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-
Alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group,
Formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group , Sulfo group,
Sulfonato group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonato group, Dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonate group, monoaryl phosphono group,
Examples thereof include an aryl phosphonate group, a phosphonooxy group, a phosphonate oxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのア
ルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることが
でき、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。
On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include a divalent organic residue obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

前記置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるR1、R2およびR3とし
て好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2-ク
ロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、
アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基
、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチル
オキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N-シクロヘキシルカルバモイルオキシエ
チル基、N-フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N-メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、2-オキソエチル基、2-オキソプロピル基、カルボキシプ
ロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェ
ノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N-メチルカルバモイルエチル基、
N,N-ジプロピルカルバモイルメチル基、N-(メトキシフェニル)カルバモイルエチル
基、N-メチル-N-(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホ
ナトブチル基、スルファモイルブチル基、N-エチルスルファモイルメチル基、N,N-ジ
プロピルスルファモイルプロピル基、N-トリルスルファモイルプロピル基、N-メチル-
N-(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォ
ナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチ
ルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、ト
リルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル
基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基
、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニ
ル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニ
ル基、3-ブチニル基、等を挙げることができる。
Specific examples of preferred substituted alkyl groups as R 1 , R 2 and R 3 obtained by combining the above substituents with an alkylene group include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl Group, methoxyethoxyethyl group,
Allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N -Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl Group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group,
N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfuryl group Famoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-
N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphono Hexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl Group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, and the like.

1、R2およびR3として好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙
げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナント
リル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これら
のなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
Specific examples of preferred aryl groups as R 1 , R 2 and R 3 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

1、R2およびR3として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用
いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、
先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、
置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシ
フェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニ
ル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチ
ルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオ
キシフェニル基、N-シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N-フェニルカルバ
モイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N-メチルベンゾイルアミノフェ
ニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニ
ルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N-
メチルカルバモイルフェニル基、N,N-ジプロピルカルバモイルフェニル基、N-(メト
キシフェニル)カルバモイルフェニル基、N-メチル-N-スルホフェニル)カルバモイル
フェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N
-エチルスルファモイルフェニル基、N,N-ジプロピルスルファモイルフェニル基、N-
トリルスルファモイルフェニル基、N-メチル-N-(ホスフォノフェニル)スルファモイ
ルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフ
ェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホス
フォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、ア
リル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリルフェニル基、2-メチ
ルプロペニルフェニル基、2-プロピニルフェニル基、2-ブチニルフェニル基、3-ブチ
ニルフェニル基等を挙げることができる。
Specific examples of preferred substituted aryl groups as R 1 , R 2, and R 3 include those having a monovalent non-metallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group. . Examples of preferred substituents include the aforementioned alkyl groups, substituted alkyl groups, and
The thing previously shown as a substituent in a substituted alkyl group can be mentioned. Like this,
Preferred examples of the substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, hydroxyphenyl group. , Methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group Methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonyl phenyl group, chlorophenoxy carbonyl phenyl group, carbamoyl phenyl group, N-
Methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N-sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoyl Phenyl group, N
-Ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-
Tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl Group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonophenyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallylphenyl group, 2-methylpropenylphenyl group, 2- Examples include propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, and 3-butynylphenyl group.

1、R2およびR3として好ましい置換もしくは非置換のアルケニル基及び置換もしく
は非置換のヘテロアリール基の具体例としては、前述のアルケニル基及びヘテロアリール
基に関して記載したものと同様のものを挙げることができる。
Specific examples of preferred substituted or unsubstituted alkenyl groups and substituted or unsubstituted heteroaryl groups as R 1 , R 2 and R 3 are the same as those described above for alkenyl groups and heteroaryl groups. be able to.

次に、一般式(V)におけるAについて説明する。Aは置換基を有してもよい芳香族環
基またはヘテロ環基を表し、置換基を有してもよい芳香族環基及びヘテロ環基の具体例と
しては、一般式(V)中のR1、R2およびR3で記載したアリール基及びヘテロアリール
基と同様のものが挙げられる。
Next, A in the general formula (V) will be described. A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group which may have a substituent, and specific examples of the aromatic ring group and the heterocyclic group which may have a substituent include those in the general formula (V) Examples are the same as the aryl group and heteroaryl group described for R 1 , R 2 and R 3 .

上記一般式(V)で表される増感色素は、上に示したような酸性核や活性メチレン基を
有する酸性核と、置換もしくは非置換の芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によって得
られる。具体的には、特公昭59-28329号公報の記載を参照して合成することがで
きる。
The sensitizing dye represented by the general formula (V) is obtained by a condensation reaction between an acidic nucleus having an acidic nucleus or an active methylene group as shown above and a substituted or unsubstituted aromatic ring or heterocyclic ring. It is done. Specifically, it can be synthesized with reference to the description of JP-B-59-28329.

以下に一般式(V)で表される化合物の好ましい具体例(D1)から(D41)を示す
。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については、どちらかの異性体に
限定されるものではない。
Preferred specific examples (D1) to (D41) of the compound represented by the general formula (V) are shown below. In addition, the isomer by the double bond connecting the acidic nucleus and the basic nucleus is not limited to either isomer.

上記350nm〜450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素は、感光層の全固形分
に対して、1.0〜10.0質量%の範囲で使用されるのが好ましい。より好ましくは1
.5〜8.0質量%の範囲である。
The sensitizing dye having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm is preferably used in a range of 1.0 to 10.0% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer. More preferably 1
. It is in the range of 5 to 8.0% by mass.

<赤外線吸収剤>
赤外線吸収剤は、赤外線レーザーに対する感度を高めるために用いられる成分である。
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において好ま
しく使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料又は
顔料である。
<Infrared absorber>
An infrared absorber is a component used to increase sensitivity to an infrared laser.
The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The infrared absorber preferably used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45
年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属
錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワ
リリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
Examples of the dye include commercially available dyes and, for example, “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, Showa 45).
The publicly known ones described in documents such as “Annual” can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−8435
6号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173
696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載さ
れているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開
昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭
60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号
等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載
のシアニン染料等を挙げることができる。
Preferred dyes include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-8435.
6, cyanine dyes described in JP-A-60-78787, etc., JP-A-58-173
No. 696, JP-A 58-181690, JP-A 58-194595, etc., methine dyes, JP-A 58-112793, JP-A 58-224793, JP-A 59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., and naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc. Examples include squarylium pigments and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いら
れ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チ
オ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号
明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−2
20143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、
同59−146063号、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化
合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5
−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染
料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(
II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferred. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, and 58-2
20143, 59-41363, 59-84248, 59-84249,
Pyryllium compounds described in JP-A-59-146063 and JP-A-59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,4
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt, etc., and Japanese Patent Publication No. 5-13514, 5
A pyrylium compound disclosed in JP-A-19702 is also preferably used. In addition, as another preferred example of the dye, U.S. Pat. No. 4,756,993 has the formula (I), (
Mention may be made of the near-infrared absorbing dyes described as II).

また、上記赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開20
02−278057号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Moreover, as another preferable example of the infrared absorbing dye, JP-A-20
Specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-02-278057.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、
ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さら
に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として
下記一般式(I)で示されるシアニン色素が挙げられる。
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes,
Examples include pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (I).

一般式(I)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示
す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子
数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1
〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、
Seを示す。Xa-は後述するZa-と同義であり、Raは、水素原子、アルキル基、リー
ル基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In the general formula (I), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 carbon atom containing a hetero atom.
-12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom means N, S, O, halogen atom,
Se is shown. Xa - the Za described later - is synonymous with, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布
液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ま
しく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好
ましい。
R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳
香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン
環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞ
れ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレ
ン基を示す。R、Rはぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個
以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8
、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素
基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオン
を示す。ただし、一般式(I)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置
換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、感光層
塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは
、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンで
ある。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include hydrocarbon groups having 12 or less carbon atoms,
Examples thereof include a halogen atom and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (I) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexafluoro ion, in view of the storage stability of the photosensitive layer coating solution. Phosphate ion and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(I)で示されるシアニン色素の具
体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019
]に記載されたものを挙げることができる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) that can be suitably used in the present invention include paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969.
] Can be mentioned.

また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報
に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I
.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に
記載されている顔料が利用できる。
Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color indexes (C.I.
. ) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, 1986), “Printing Ink Technology”, published by CMC, published in 1984) Is available.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫
色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げ
られる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔
料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオ
インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、
ロソ顔料、ニトロ顔料、天然料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる
。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments ,
Loso pigments, nitro pigments, natural materials, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処
理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反
応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と
応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応
用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Yokoshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範
囲にあることがさらに好ましく、特に0.1〜1μmの範囲にあることが好ましい。この
範囲で、顔料分散物の感光層中での良好な安定性と均一性が得られる。
The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability and uniformity of the pigment dispersion in the photosensitive layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術
が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル
、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤はマイクロカプセルに内包させて添加することもできる。   These infrared absorbers can be added by being encapsulated in microcapsules.

添加量としては、感光層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長
での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.3の範囲にあるように添加することが好ましく
、より好ましくは、0.4〜1.2の範囲である。この範囲で、感光層の深さ方向での均
一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
感光層の吸光度は、感光層に添加する赤外線吸収剤の量と感光層の厚みにより調整する
ことができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。例えば、アルミニウム等の
反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版原版として必要な範囲において適宜決
定される厚みの感光層を形成し、その反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用
いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
As the addition amount, it is preferable to add so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the photosensitive layer is in the range of 0.3 to 1.3 by the reflection measurement method, more preferably, It is in the range of 0.4 to 1.2. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the photosensitive layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The absorbance of the photosensitive layer can be adjusted by the amount of infrared absorber added to the photosensitive layer and the thickness of the photosensitive layer. Absorbance can be measured by a conventional method. For example, on a reflective support such as aluminum, a photosensitive layer having a thickness that is appropriately determined within a range where the coating amount after drying is necessary for a lithographic printing plate precursor is formed, and the reflection density is measured with an optical densitometer. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

(共増感剤)
ある種の添加剤を用いることで、感光層の感度をさらに向上させることができる。その
ような化合物を、本発明では共増感剤という。これらの作用機構は、明確ではないが、多
くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。すなわち、先述の光重合開始系
の光吸収により開始される光反応と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な
中間活性種(ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等)と、共増感剤が反応し、新たな活
性ラジカルを生成するものと推定される。共増感剤は、大きくは、(a)還元されて活性
ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、(c)活
性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤
として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関して
は、通説がない場合も多い。
(Co-sensitizer)
The sensitivity of the photosensitive layer can be further improved by using certain additives. Such a compound is referred to as a co-sensitizer in the present invention. These mechanisms of action are not clear, but many are thought to be based on the following chemical processes. That is, the photoreaction initiated by light absorption of the above-described photopolymerization initiation system and various intermediate active species (radicals, peroxides, oxidizing agents, reducing agents, etc.) generated in the course of the subsequent addition polymerization reaction, It is presumed that the sensitizer reacts to generate a new active radical. The co-sensitizers are roughly classified into (a) those that can be reduced to generate active radicals, (b) those that can be oxidized to generate active radicals, and (c) more active by reacting with less active radicals. However, there are many cases where there is no general rule as to which individual compounds belong to them.

(a)還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合を有する化合物:還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジ
カルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリアジン類
や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発
生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される

酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発
生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカ
ルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリ
ールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用
される。
フェロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカルを生成しうる。
(A) Compound that is reduced to produce an active radical Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that an active radical is generated by reductive cleavage of the carbon-halogen bond. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be preferably used.
Compound having nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used.
Compound having oxygen-oxygen bond: It is considered that the oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides are preferably used.
Onium compounds: It is considered that carbon-hetero bonds and oxygen-nitrogen bonds are reductively cleaved to generate active radicals. Specifically, for example, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used.
Ferrocene and iron arene complexes: An active radical can be reductively generated.

(b)酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると
考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性
ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメ
チルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、
N−フェニルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたもの
が、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化合物もS
−S解裂による増感が知られる。
(B) Compound which is oxidized to generate an active radical Alkylate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used.
Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group or the like. Specifically, for example, ethanolamines,
N-phenylglycine, N-trimethylsilylmethylaniline, etc. are mentioned.
Sulfur-containing and tin-containing compounds: Compounds in which the nitrogen atoms of the above-described amines are replaced with sulfur atoms and tin atoms can generate active radicals by the same action. A compound having an S—S bond is also S.
Sensitization due to -S cleavage is known.

α−置換メチルカルボニル化合物:酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂によ
り、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも
同様の作用を示す。具体的には、2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応し
たのち、N−OHをエーテル化したオキシムエーテル類をあげることができる。
スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィ
ン酸ナトリウム等を挙げることができる。
α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by oxidative cleavage of the carbonyl-α carbon bond. Moreover, what converted carbonyl into the oxime ether also shows the same effect | action. Specifically, 2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl]
Examples include -2-morpholinopronone-1 and oxime ethers obtained by reacting these with hydroxyamines and then etherifying N-OH.
Sulfinic acid salts: An active radical can be reductively generated. Specific examples include sodium arylsulfinate.

(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合

ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物と
しては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。
これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化
された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、2−
メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
(C) Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents include, for example, SH, PH in the molecule , SiH, and GeH are used.
These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals. Specifically, for example, 2-
And mercaptobenzimidazoles.

これらの共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開平9−236913号公報中に、
感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されている。以下に、その一部を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものはない。
More specific examples of these co-sensitizers are disclosed in, for example, JP-A-9-236913.
Many are described as additives for the purpose of improving sensitivity. Some examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

これらの共増感剤に関しても、先の増感色素と同様、さらに、平版印刷版原版の感光層
の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素、重
合開始剤、重合性化合物、その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相
溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー
化等の方法が利用できる。これらの共増感剤は、単独でまたは2種以上併用して用いるこ
とができる。使用量は重合性化合物100質量部に対し0.05〜100質量部、好まし
くは1〜80質量部、さらに好ましくは3〜50質量部の範囲である。
These co-sensitizers can also be subjected to various chemical modifications for improving the characteristics of the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor as in the case of the sensitizing dye. For example, sensitizing dyes, polymerization initiators, polymerizable compounds, bonding with other radical generating parts, introduction of hydrophilic sites, improved compatibility, introduction of substituents to suppress crystal precipitation, substituents that improve adhesion Methods such as introduction and polymerization can be used. These co-sensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is 0.05 to 100 parts by mass, preferably 1 to 80 parts by mass, and more preferably 3 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.

(マイクロカプセル)
本発明においては、上記の感光層構成成分および後述のその他の構成成分を感光層に含
有させる方法として、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−27
7742号公報に記載のごとく、構成成分の一部をマイクロカプセルに内包させて感光層
に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内および外に、任意
の比率で含有させることが可能である。
(Microcapsule)
In the present invention, examples of methods for incorporating the above-described photosensitive layer constituents and other constituents described later into the photosensitive layer include, for example, JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-27.
As described in Japanese Patent No. 7742, a part of the components can be encapsulated in microcapsules and added to the photosensitive layer. In that case, each component can be contained in any ratio in and out of the microcapsule.

感光層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例
えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800
458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第328715
4号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面
重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられ
るポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナ
ートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソ
シアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、
同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルム
アルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明
細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用い
る方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合
によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細
書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の
各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
As a method for microencapsulating the photosensitive layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, U.S. Pat.
No. 458, method utilizing coacervation, US Pat. No. 3,287,715
Method of interfacial polymerization found in each specification of No. 4, Japanese Patent Publication Nos. 38-19574 and 42-446, and precipitation of polymers found in US Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304 A method using an isocyanate polyol wall material found in US Pat. No. 3,796,669, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376,
US Pat. No. 4,089,802, a method using a urea-formaldehyde-based or urea-formaldehyde-resorcinol-based wall forming material, a wall material such as melamine-formaldehyde resin, hydroxycellulose, etc., as disclosed in US Pat. No. 4,025,445. Method used, in situ method by monomer polymerization as seen in JP-Bs 36-9163 and 51-9079, British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, Spray drying method, British Patent Examples thereof include, but are not limited to, the electrolytic dispersion cooling method and the like found in the specifications of Nos. 952807 and 967074.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって
膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポ
リウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロ
カプセル壁に、上記の非水溶性高分子に導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能
基を有する化合物を導入してもよい。
A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said water-insoluble polymer.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜
2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好
な解像度と経時安定性が得られる。
The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05 ~
2.0 μm is more preferable, and 0.10 to 1.0 μm is particularly preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

(界面活性剤)
本発明において、感光層には、現像性の促進および塗布面状を向上させるために界面活
性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活
性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。
(Surfactant)
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the photosensitive layer in order to promote developability and improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステ
ル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、
プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分
エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エス
テル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エ
ステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリア
ルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピ
レングリコールの共重合体が挙げられる。
The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters,
Propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil , Polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, polyethylene And a copolymer of glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸
塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸
塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分
けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホ
ン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いる
ことができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチ
レンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いること
ができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、ア
ミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric acid esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチ
レン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み
替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。
Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素
系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフル
オロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキル
リン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオ
ロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキ
サイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および
親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリ
ゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パー
フルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。ま
た、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144
号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. JP-A-62-170950, JP-A-62-226143, and JP-A-60-168144.
Fluorosurfactant described in the publication of No. is also preferably mentioned.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるの
が好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

(親水性ポリマー)
本発明においては、現像性の向上、マイクロカプセルの分散安定性の向上などのため、
親水性ポリマーを感光層に含有させることができる。親水性ポリマーとしては、例えば、
ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシ
エチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、
アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リ
ン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
(Hydrophilic polymer)
In the present invention, for improving developability, improving dispersion stability of microcapsules, etc.,
A hydrophilic polymer can be contained in the photosensitive layer. Examples of hydrophilic polymers include:
Hydroxy group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group,
Preferable examples include those having hydrophilic groups such as aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfonic acid group, and phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチ
ルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、
酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリ
ル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリ
マーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブ
チルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリ
マー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%
以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリ
ルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー
およびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げ
られる。
Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate,
Vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, hydroxy Homopolymers and copolymers of pyropyrmethacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, water Decomposition degree is 60 mol% or more, preferably 80 mol%
Hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylol acrylamide, polyvinyl pyrrolidone, alcohol soluble nylon, 2 , 2-bis-
And polyether of (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin.

親水性ポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万
であるのがより好ましい。親水性ポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グ
ラフトポリマー等のいずれでもよい。
親水性ポリマーの感光層への含有量は、感光層全固形分の20質量%以下が好ましく、
10質量%以下がより好ましい。
The hydrophilic polymer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000. The hydrophilic polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like.
The content of the hydrophilic polymer in the photosensitive layer is preferably 20% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer,
10 mass% or less is more preferable.

(着色剤)
本発明では、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することがで
きる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラ
ックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(
株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI4517
0B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等
、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。
また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好
適に用いることができる。
(Coloring agent)
In the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, oil yellow # 101, oil yellow # 103, oil pink #
312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemical industry (
Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI4517)
0B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015) and the like, and dyes described in JP-A-62-293247.
Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する
方が好ましい。なお、添加量は、感光層の全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合
が好ましい。
These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The addition amount is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

(焼き出し剤)
本発明の感光層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化
合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、
トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、
イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
(Bake-out agent)
In the photosensitive layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added in order to form a printout image. As such a compound, for example, diphenylmethane,
Triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone,
Various dyes such as iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリ
スタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド
、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー
、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−
ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイト
グリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オ
イルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエン
ト化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカ
ーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学
工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#
502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化
学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダ
ミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナ
フトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキ
ノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)ア
ミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニ
ルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニ
ルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製
)等のロイコ染料が挙げられる。
Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-
Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachite Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Industries Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Industries, Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green #
502 [made by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramin, 4-p-diethylaminophenyl Iminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl Dyes such as -4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone and 1-β-naphthyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, and p, p ′, p ″ -hexamethyltriaminotriphenylmethane ( Leuco crystal And leuco dyes such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとし
て挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーン
ラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)
−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル
−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3
−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フル
オラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3
−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N
−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミ
ノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(
4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオ
ラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N
−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6
−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7
−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−
ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メ
チルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルイン
ドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメ
チルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−
エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミ
ノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが
挙げられる。
In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoyl leucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino).
-6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino-3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3
-(N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) -fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3
-(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N
-Diethylamino) -6-methyl-7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (
4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N
-Diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6
-Methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7
-Xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-
Pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl-2-methylindole) -3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-
And ethyl-2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、感光層固形分に対して0.
01〜15質量%の割合である。
A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or radical is 0.
It is a ratio of 01 to 15% by mass.

(重合禁止剤)
本発明の感光層には、感光層の製造中または保存中において、重合性化合物の不要な熱
重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−
ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4
′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミ
ンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%である
のが好ましい。
(Polymerization inhibitor)
It is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to the photosensitive layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the photosensitive layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-
Butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4
'-Thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4
-Methyl-6-t-butylphenol) and N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salts are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer.

(高級脂肪酸誘導体)
本発明の感光層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミ
ドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在さ
せてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層の全固形分に対して、約0.1〜約1
0質量%であるのが好ましい。
(Higher fatty acid derivatives)
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenamide is added to the photosensitive layer of the present invention so that it is unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during the drying process after coating. May be. The addition amount of the higher fatty acid derivative is about 0.1 to about 1 with respect to the total solid content of the photosensitive layer.
It is preferably 0% by mass.

(可塑剤)
本発明の感光層は可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチル
フタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシル
フタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート
等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコ
レート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリ
エチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホス
フェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、
ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレー
ト、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート
、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に
挙げられる。可塑剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、約30質量%以下であるの
が好ましい。
(Plasticizer)
The photosensitive layer of the present invention may contain a plasticizer. Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate;
Aliphatic dibasic acid esters such as dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioctyl azelate, dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate and the like are preferable. . The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer.

(無機微粒子)
本発明の感光層は、画像部の硬化皮膜強度向上のために、無機微粒子を含有してもよい
。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭
酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これ
らは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いる
ことができる。無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5
〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、感光層中に安定に分散して、感
光層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成
することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手す
ることができる。
無機微粒子の含有量は、感光層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好まし
く、10質量%以下であるのがより好ましい。
(Inorganic fine particles)
The photosensitive layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the strength of the cured film in the image area. As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, or a mixture thereof is preferably exemplified. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like. The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm,
More preferably, it is ˜3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion having excellent hydrophilicity, which is stably dispersed in the photosensitive layer, sufficiently retains the film strength of the photosensitive layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photosensitive layer.

(親水性低分子化合物)
本発明の感光層は、現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有することができる。
親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエ
ステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノ
ールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、
トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニル
ホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸
、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩や、テトラエチルア
ミン塩酸塩等の有機4級アンモニウム塩等が挙げられる。
(Hydrophilic low molecular weight compound)
The photosensitive layer of the present invention can contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving developability.
Examples of hydrophilic low molecular weight compounds include water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof,
Organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and their salts, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and their salts, organic carboxylic acids such as tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, amino acids Examples thereof include acids and salts thereof, and organic quaternary ammonium salts such as tetraethylamine hydrochloride.

(感光層の形成)
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗
布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート
、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル
、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア
、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、ト
ルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は
、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%で
ある。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、また
は溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能で
ある。
(Formation of photosensitive layer)
The photosensitive layer of the present invention is formed by preparing or applying a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photosensitive layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

塗布、乾燥後に得られる支持体上の感光層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが
、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と感光層の良
好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布
、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗
布、ロール塗布等を挙げられる。
The photosensitive layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film properties of the photosensitive layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断する
ため、感光層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。本発明に用いられる保
護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day
)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低
い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカ
ブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/m
2・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましく
は1.5≦A≦12(mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(m
L/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過
性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、か
つ、露光後の現像工程で容易に除去できることである。この様な保護層に関する工夫が従
来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公
報に詳しく記載されている。
[Protective layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. The protective layer used in the present invention has an oxygen permeability A of 1.0 ≦ A ≦ 20 (mL / m 2 · day) at 25 ° C. and 1 atm.
) Is preferable. When the oxygen permeability A is extremely low at less than 1.0 (mL / m 2 · day), unnecessary polymerization reaction occurs at the time of production and raw storage, and unnecessary fogging and image streaking occur during image exposure. The problem that fatness arises arises. Conversely, oxygen permeability A is 20 (mL / m
If it exceeds 2 · day) and is too high, the sensitivity is lowered. The oxygen permeability A is more preferably 1.5 ≦ A ≦ 12 (mL / m 2 · day), and further preferably 2.0 ≦ A ≦ 10.0 (m
L / m 2 · day). In addition to the oxygen permeability described above, the properties desired for the protective layer further do not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, have excellent adhesion to the photosensitive layer, and are easy in the development process after exposure. It can be removed. The device concerning such a protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層の材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いること
が好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共
重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロト
ン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単
独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる
ことが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。
As a material for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl alcohol / Water-soluble polymers such as vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, polyacrylamide, etc., may be used alone or in combination Can be used. Of these, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための
、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセ
タールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していても良い
。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が71〜100モル%、重合繰り返
し単位が300から2400の範囲のものをあげることができる。具体的には、株式会社
クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PV
A−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PV
A−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA
−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、
PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−61
3、L−8等が挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。好ましい態様として
はポリビニルアルコールの保護層中の含有率が20〜95質量%、より好ましくは、30
〜90質量%である。
The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization repeating unit of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PV
A-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PV
A-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA
-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E,
PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-61
3, L-8 and the like, and these can be used alone or in combination. As a preferred embodiment, the content of polyvinyl alcohol in the protective layer is 20 to 95% by mass, more preferably 30%.
It is -90 mass%.

また、公知の変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。例えば、カル
ボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニ
ウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性
部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記
のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位
、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸と
のエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エ
ポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコ
ール等が挙げられる。
Moreover, well-known modified polyvinyl alcohol can also be used preferably. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Examples thereof include polyvinyl alcohol having various polymerization degrees having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like.

ポリビニルアルコールと混合して使用する成分としてはポリビニルピロリドンまたはそ
の変性物が酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中の含有率が3.
5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%であ
る。
As a component used by mixing with polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoints of oxygen barrier properties and development removability, and the content in the protective layer is 3.
It is 5-80 mass%, Preferably it is 10-60 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性
の他、カブリ防止性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの
加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚
い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。上記ポリビニルアルコール(PVA
)等の高分子化合物の分子量は、2000〜1000万の範囲のものが使用でき、好まし
くは2万〜300万範囲のものが適当である。
Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of anti-fogging properties, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property and the more advantageous in terms of sensitivity. Polyvinyl alcohol (PVA)
The molecular weight of the polymer compound such as) can be in the range of 2000 to 10 million, preferably in the range of 20,000 to 3 million.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を高分子化合物に
対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリ
ウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン
酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキル
フェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を高分子化合物に対して数質量%添加すること
ができる。
As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the polymer compound to give flexibility, and also sodium alkyl sulfate, sodium alkyl sulfonate Anionic surfactants such as; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers are added in several mass% relative to the polymer compound be able to.

また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水
溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥
離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす
。これに対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば米
国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリ
ビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性
ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の
上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明におけ
る保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような
保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特公昭5
5−49729号公報に詳しく記載されている。
In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a lipophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate copolymer is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on a photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. As for the method of coating such a protective layer, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-5
This is described in detail in Japanese Patent No. 5-49729.

さらに、本発明の平版印刷版原版における保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性
を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、一般式:A(B,C)2-5410(OH,F,O)2〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、一般式:3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
Furthermore, the protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains an inorganic stratiform compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and photosensitive layer surface protection.
Here, the inorganic layered compound is a particle having a thin flat plate shape, for example, a general formula: A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2 [where A Is any of K, Na, and Ca, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by the following general formula: talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate represented by the general formula: 3MgO.4SiO.H 2 O.

上記雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および
鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3 (AlSi310
)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5 Si410)F2等の非膨潤性雲母、およびNaテト
ラシリリックマイカNaMg2.5 (Si410)F2、NaまたはLiテニオライト(Na
,Li)Mg2 Li(Si4 10)F2、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクトラ
イト(Na,Li)1/8 Mg2 /5Li1/8 (Si410)F2等の膨潤性雲母等が挙げられ
る。更に合成スメクタイトも有用である。
In the mica group, natural mica includes muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and sericite. As the synthetic mica, fluorine phlogopite KMg 3 (AlSi 3 O 10
) F 2 , Potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) Non-swelling mica such as F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na
, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / 5Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2, etc. Sexual mica etc. are mentioned. Synthetic smectite is also useful.

本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物で
あるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、この膨潤性合成雲母や、モンモ
リロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、10
〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他
の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するた
めに層間にNa+、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在し
ている陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換する。特に層間の
陽イオンがLi+ 、Na+ の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く
、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定し
たゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明におい
て有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用いられる。
In the present invention, among the inorganic layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. That is, this swelling synthetic mica and swellable viscosity minerals such as montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc.
It has a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about ˜15 mm, and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other viscosity minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charges, and cations such as Na + , Ca 2+ and Mg 2+ are adsorbed between the layers in order to compensate for this. The cations present between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cation between the layers is Li + or Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the layer swells greatly with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have this tendency and are useful in the present invention, and swellable synthetic mica is particularly preferably used.

本発明で使用する無機質の層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは
薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限
りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100
以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さ
の比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アス
ペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
As the shape of the inorganic layered compound used in the present invention, from the viewpoint of diffusion control, the smaller the thickness, the better. The plane size is as long as it does not hinder the smoothness of the coated surface or the transmittance of actinic rays. Larger is better. Therefore, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100
Above, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、
塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる
保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印
刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。
When particles of inorganic layered compounds having a large aspect ratio are contained in the protective layer,
The coating film strength is improved and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented, preventing deterioration of the protective layer due to deformation, etc., even if stored for a long time under high humidity conditions, due to changes in humidity It is excellent in storage stability without deterioration of image formability in a lithographic printing plate precursor.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、
質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用
した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計の量が上記の質量比であることが好まし
い。
The content of the inorganic stratiform compound in the protective layer is relative to the amount of binder used in the protective layer.
The mass ratio is preferably 5/1 to 1/100. Even when a plurality of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

次に、保護層に用いる無機質の層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に無機質の層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質の層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method of the inorganic layered compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable layered compound mentioned above as a preferred inorganic layered compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen, and then dispersed by a disperser. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic layered compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled, and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

この保護層塗布液には、上記無機質の層状化合物の他に、塗布性を向上させるための界面活性剤や皮膜の物性を改良するための水溶性可塑剤など公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、感光層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。   In addition to the inorganic layered compound, known additives such as a surfactant for improving coatability and a water-soluble plasticizer for improving the physical properties of the film can be added to the protective layer coating solution. . Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, known additives for improving the adhesion to the photosensitive layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.

このように調製された保護層塗布液を、感光層の上に塗布し、乾燥して保護層を形成す
る。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマ
ーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特
に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−
49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的
には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロール
コーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
The protective layer coating solution thus prepared is applied onto the photosensitive layer and dried to form a protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and is described in US Pat. No. 3,458,311 or JP-B-55-
Known methods such as the method described in Japanese Patent No. 49729 can be applied. Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.05〜10g/m2 の範囲であるこ
とが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜0.5g/m2の範囲
であることがさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g
/m2の範囲であることがさらに好ましい。
The coating amount of the protective layer is preferably in the range of 0.05 to 10 g / m 2 in terms of the coating amount after drying. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 0.5 g / More preferably in the range of m 2 , 0.5 to 5 g when no inorganic layered compound is contained.
More preferably, it is in the range of / m 2 .

〔バックコート層〕
必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。バックコートとし
ては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平
6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解
および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC254 、Si(OC3 7 4 、Si(OC494 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
If necessary, a back coat can be provided on the back surface of the support. Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885, an organometallic compound or an inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this way is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

次に、熱融着型平版印刷版原版について説明する。
<熱融着型画像形成層>
熱融着型平版印刷版原版における画像形成層は熱融着性微粒子を含有し、熱融着性微粒子は融着した形態、すなわちラテックスフィルム構造を有していてもよい。
Next, the heat fusion type lithographic printing plate precursor will be described.
<Heat-fusion type image forming layer>
The image forming layer in the heat fusion type lithographic printing plate precursor may contain heat fusible fine particles, and the heat fusible fine particles may have a fused form, that is, a latex film structure.

本発明に用いる熱融着性微粒子としては、熱融着性ポリマー微粒子が好適である。   As the heat-fusible fine particles used in the present invention, heat-fusible polymer fine particles are suitable.

かかる微粒子を形成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール等のモノマーから得られるホモポリマーまたはコポリマーもしくはそれらの混合物を挙げることができる。この中でもより好ましいものとして、ポリスチレン、ポリメタアクリル酸メチルを挙げることができる。   Specific examples of polymers that form such fine particles include homopolymers obtained from monomers such as ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole and the like. Or a copolymer or a mixture thereof. Among these, more preferred are polystyrene and methyl polymethacrylate.

これらの微粒子は乳化重合法、懸濁重合法、ポリマーを有機溶剤に溶解し水に乳化分散した後に溶剤を蒸発させる方法(溶剤蒸発法)、機械的に分散する方法等により作製できる。   These fine particles can be produced by an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a method in which a polymer is dissolved in an organic solvent and emulsified and dispersed in water, and then the solvent is evaporated (solvent evaporation method), or a mechanical dispersion method.

本発明に用られる熱融着性微粒子を形成するための熱融着性ポリマーとして、熱により反応する官能基(熱反応性基)を有するポリマーを用いることもできる。熱反応性基を有するポリマーの方が、強固な画像を形成する点でより好ましい。   As the heat-fusible polymer for forming the heat-fusible fine particles used in the present invention, a polymer having a functional group (heat-reactive group) that reacts with heat can also be used. A polymer having a thermoreactive group is more preferable from the viewpoint of forming a firm image.

上記熱反応性基としては、重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等)、付加反応を行うイソシアナート基もしくはそのブロック体およびその反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等)、同じく付加反応を行うエポキシ基およびその反応相手であるアミノ基、カルボキシル基もしくはヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキシル基もしくはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物とアミノ基もしくはヒドロキシル基等を挙げることができる。しかし、熱融着により化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でも良い。   Examples of the thermally reactive group include an ethylenically unsaturated group that undergoes a polymerization reaction (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, and allyl group), an isocyanate group that undergoes an addition reaction, or a block thereof, and a reaction partner thereof. A functional group having an active hydrogen atom (for example, an amino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.), an epoxy group that performs an addition reaction, and an amino group, a carboxyl group, or a hydroxyl group that is a reaction partner, a carboxyl group that performs a condensation reaction And a hydroxyl group or an amino group, an acid anhydride that performs a ring-opening addition reaction, an amino group, or a hydroxyl group. However, as long as a chemical bond is formed by heat fusion, any functional group that performs any reaction may be used.

これらの熱反応性基のポリマー粒子への導入は、微粒子ポリマーの重合時に行ってもよいし、微粒子ポリマーの重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。   The introduction of these heat-reactive groups into the polymer particles may be performed during the polymerization of the fine particle polymer, or may be performed using a polymer reaction after the polymerization of the fine particle polymer.

微粒子ポリマーの重合時に導入する場合は、これらの熱反応性基を有するモノマーを乳化重合または懸濁重合することが好ましい。そのような官能基を有するモノマーの具体例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−イソシアネートエチルメタクリレートもしくはそのアルコール等によるブロックイソシアナート、2−イソシアネートエチルアクリレートもしくはそのアルコール等によるブロックイソシアナート、2−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、2官能アクリレート、2官能メタクリレート等を挙げることができるが、これらに限定されない。   When introduced during the polymerization of the fine particle polymer, it is preferable to carry out emulsion polymerization or suspension polymerization of the monomer having these heat-reactive groups. Specific examples of the monomer having such a functional group include allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanate ethyl methacrylate, or block isocyanates based on alcohols thereof, 2-isocyanate ethyl acrylate. Or block isocyanates with alcohols, 2-aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, bifunctional methacrylate However, it is not limited to these.

これらの熱反応性基を有するモノマーを重合時に導入する場合は、熱反応性基をもたないモノマーを上記の熱反応性基を有するモノマーと共重合することもできる。このような共重合可能な熱反応性基をもたないモノマーとしては、例えば、スチレン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル等を挙げることができるが、熱反応性基をもたないモノマーであれば、これらに限定されない。   In the case of introducing a monomer having these heat-reactive groups during polymerization, a monomer having no heat-reactive group can be copolymerized with the monomer having the heat-reactive group. Examples of such a monomer having no copolymerizable heat-reactive group include styrene, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, etc., but the monomer does not have a heat-reactive group. If it is, it will not be limited to these.

熱反応性基の導入をポリマー微粒子の重合後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、WO96−34316号公報に記載されている高分子反応を挙げることができる。   Examples of the polymer reaction used in the case where the introduction of the thermally reactive group is performed after the polymer fine particles are polymerized include the polymer reaction described in WO96-34316.

以上にあげた熱反応性基を有していないポリマー微粒子および熱反応性基を有しているポリマー微粒子ともに、重量平均分子量は2,000〜1,000,000の範囲が適当である。   The weight average molecular weight of the polymer fine particles not having the heat-reactive group and the polymer fine particles having the heat-reactive group described above is suitably in the range of 2,000 to 1,000,000.

上記のポリマー微粒子の平均粒径は、画像形成性と現像性を両立させる観点から、0.01〜20μmが好ましく、0.03〜1.00μmがさらに好ましく、0.05〜0.40μmが特に好ましい。   The average particle diameter of the polymer fine particles is preferably from 0.01 to 20 μm, more preferably from 0.03 to 1.00 μm, particularly preferably from 0.05 to 0.40 μm, from the viewpoint of achieving both image formability and developability. preferable.

これらのポリマー微粒子には光熱変換剤が含まれている方が露光時の熱効率が良く画像形成上好ましい。このような光熱変換剤を含有する微粒子は、上記溶媒蒸発法でポリマーを非水溶性の有機溶剤に溶解する場合、光熱変換剤を一緒に溶解することにより得られる。   It is preferable from the viewpoint of image formation that these polymer fine particles contain a photothermal conversion agent because the thermal efficiency during exposure is good. Such fine particles containing a photothermal conversion agent can be obtained by dissolving the photothermal conversion agent together when the polymer is dissolved in a water-insoluble organic solvent by the solvent evaporation method.

本発明の熱融着型平版印刷版原版の画像形成層には親水性樹脂を添加することができる。親水性樹脂を添加することによりpH2〜10の水溶液への現像性が良好となるばかりか、画像形成層自体の皮膜強度も上がる。親水性樹脂としては3次元架橋していないものが現像性が良好で好ましい。   A hydrophilic resin can be added to the image forming layer of the heat fusion type lithographic printing plate precursor according to the invention. By adding a hydrophilic resin, not only the developability to an aqueous solution having a pH of 2 to 10 is improved, but also the film strength of the image forming layer itself is increased. As the hydrophilic resin, those not three-dimensionally crosslinked are preferable because of good developability.

親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するものが好ましい。   As hydrophilic resin, what has hydrophilic groups, such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, an amino group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, a carboxymethyl group, for example is preferable.

親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、ソヤガム、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースおよびその塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくとも60重量%、好ましくは少なくとも80重量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその塩等を挙げることができる。   Specific examples of hydrophilic resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, soya gum, hydroxypropylcellulose, methylcellulose, carboxymethylcellulose and its salts, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid Copolymers, polyacrylic acids and salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate Homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers and copolymers, Roxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, and hydrolyzed polyvinyl acetate having a degree of hydrolysis of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, Examples thereof include polyvinylpyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and salts thereof.

親水性樹脂の画像形成層中への添加量は、良好な現像性と高耐刷性の観点から、画像形成層固形分の2〜40重量%が好ましく、3〜30重量%がさらに好ましい。   The amount of the hydrophilic resin added to the image forming layer is preferably from 2 to 40% by weight, more preferably from 3 to 30% by weight, based on the solid content of the image forming layer, from the viewpoint of good developability and high printing durability.

本発明の熱融着型平版印刷版原版の画像形成層には、樹脂微粒子、親水性樹脂の他に、感度の向上、親水性の程度の制御、画像形成層の物理的強度の向上、層を構成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷適性の向上、製版作業性の便宜上など種々の目的で、光を吸収して発熱する光熱変換剤、無機微粒子、界面活性剤、着色剤、可塑剤など、種々の化合物を必要の応じて添加することができる。以下これらについて説明する。   In addition to the resin fine particles and the hydrophilic resin, the image forming layer of the heat fusion type lithographic printing plate precursor according to the present invention has improved sensitivity, control of the degree of hydrophilicity, improvement of physical strength of the image forming layer, layer The composition comprising a photothermal conversion agent that absorbs light and generates heat for various purposes such as improvement of mutual dispersibility, improvement of coatability, improvement of printability, and convenience of plate making workability, inorganic fine particles, surfactant Various compounds such as a colorant and a plasticizer can be added as necessary. These will be described below.

光熱変換剤としては、700nm以上の光を吸収する物質であればよく、種々の顔料、染料、金属微粒子等を用いる事ができる。光熱変換剤の具体例としては前記ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層に関して記載した赤外線吸収剤が挙げられる。   The photothermal conversion agent may be any substance that absorbs light of 700 nm or more, and various pigments, dyes, metal fine particles, and the like can be used. Specific examples of the photothermal conversion agent include the infrared absorbers described for the photosensitive layer in the radical polymerization type lithographic printing plate precursor.

無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムもしくはこれらの混合物などが好適な例として挙げられ、これらは光熱変換性でなくても皮膜の強化や表面粗面化による界面接着性の強化などに用いることができる。   Examples of suitable inorganic fine particles include silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, and a mixture thereof. It can be used to enhance the interfacial adhesion due to.

無機微粒子の平均粒径は5nm〜10μmが好ましく、より好ましくは10nm〜1μmである。粒径がこの範囲内で、樹脂微粒子や光熱変換剤の金属微粒子とも親水性樹脂内に安定に分散し、画像形成層の膜強度を充分に保持し、印刷汚れを生じにくい親水性に優れた非画像部を形成できる。   The average particle size of the inorganic fine particles is preferably 5 nm to 10 μm, more preferably 10 nm to 1 μm. Within this range, both the resin fine particles and the photothermal conversion agent metal fine particles are stably dispersed in the hydrophilic resin, the film strength of the image forming layer is sufficiently maintained, and the hydrophilicity is less likely to cause printing stains. A non-image part can be formed.

このような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物などの市販品として容易に入手できる。無機微粒子の画像形成層への含有量は、画像形成層の全固形分の1.0〜70質量%が好ましく、より好ましくは5.0〜50質量%である。   Such inorganic fine particles can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion. The content of the inorganic fine particles in the image forming layer is preferably 1.0 to 70% by mass, more preferably 5.0 to 50% by mass, based on the total solid content of the image forming layer.

画像形成層には、印刷条件に対する安定性を拡げるため、ノニオン系及びアニオン系界面活性剤のほか、特開平2−195356号公報に記載されているようなカチオン界面活性剤、含フッ素界面活性剤、及び特開昭59−121044号及び特開平4−13149号公報に記載されている両性界面活性剤を添加することができる。   In addition to nonionic and anionic surfactants, in addition to nonionic and anionic surfactants, cationic surfactants and fluorine-containing surfactants as described in JP-A-2-195356 are used for the image forming layer. And amphoteric surfactants described in JP-A Nos. 59-121044 and 4-13149 can be added.

上記界面活性剤の画像形成層全固形物中に占める割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。   The proportion of the surfactant in the total solid of the image forming layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

また、画像形成層には、画像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするため、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。添加量は、画像形成層の全固形分に対し、0.01〜10質量%が適当である。   In addition, in the image forming layer, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant in order to easily distinguish an image portion from a non-image portion after image formation. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI 42555), Methyl Violet (CI 42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI 45170B), Malachite Green (CI 42000), Methylene Blue (CI 522015), etc. And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, and titanium oxide can be suitably used. The addition amount is suitably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image forming layer.

画像形成層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えることができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。   A plasticizer can be added to the image forming layer in order to impart flexibility and the like of the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate and the like are used.

画像形成層は、必要な上記各成分を水、又は必要に応じて有機溶剤を加えた混合溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、塗布して形成される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。   The image forming layer is formed by preparing or applying a coating solution by dissolving or dispersing the necessary components described above in water or a mixed solvent to which an organic solvent is added as necessary. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像形成層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましく、0.5〜2.0g/m2がより好ましい。   Various methods can be used as the coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. The coating amount (solid content) of the image forming layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m @ 2, and preferably 0.5 to 2.0 g / m. m2 is more preferred.

塗布液中の画像形成層固形分の濃度は、好ましくは2〜20重量%であり、さらに好ましくは5〜15重量%である。この範囲内で、塗布液中での微粒子の良好な分散性と、画像形成層に塗布し乾燥した場合のポリマー微粒子の良好な融着が得られる。   The concentration of the solid content of the image forming layer in the coating solution is preferably 2 to 20% by weight, more preferably 5 to 15% by weight. Within this range, good dispersibility of the fine particles in the coating solution and good fusion of the polymer fine particles when applied to the image forming layer and dried can be obtained.

本発明においては、支持体と画像形成層の間に親水層を設けることができる。好適な親水層は、3次元架橋しており、湿し水および/またはインキを使用する平版印刷で湿し水に溶けない層であり、下記のコロイドを含有することが好ましい。   In the present invention, a hydrophilic layer can be provided between the support and the image forming layer. A suitable hydrophilic layer is a layer that is three-dimensionally cross-linked and is insoluble in dampening water by lithographic printing using dampening water and / or ink, and preferably contains the following colloids.

即ち、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンまたは遷移金属の酸化物または水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイドである。さらに、これらの元素の複合体からなるコロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の元素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に未結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これらが混在した構造となっている。   That is, it is a colloid comprising a sol-gel conversion system of oxide or hydroxide of beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony or transition metal. Further, it may be a colloid composed of a complex of these elements. These colloids have a structure in which the above elements form a network structure through oxygen atoms and at the same time have an unbonded hydroxyl group or alkoxy group, and these are mixed.

本発明の熱融着型平版印刷用原版は、保存時の親油性物質による汚染や取り扱い時の手指の接触による指紋跡汚染等から親水性の画像形成層表面を保護するため、画像形成層上に親水性オーバーコート層を設けることができる。   The heat-fusing type lithographic printing original plate of the present invention protects the hydrophilic image-forming layer surface from contamination with lipophilic substances during storage and fingerprint trace contamination due to finger contact during handling. A hydrophilic overcoat layer can be provided.

親水性オーバーコート層は、前記ラジカル重合型平版印刷版原版に関して記載した保護層と同様のものを使用することができる。   As the hydrophilic overcoat layer, the same protective layer as described for the radical polymerization type lithographic printing plate precursor can be used.

本発明の熱融着型平版印刷版原版においては、赤外線の吸収効率を高めて感度を向上させるため、赤外線を吸収して発熱する光熱変換剤を、画像形成層、親水層およびオーバーコート層の少なくとも一つの層に含有させることが好ましい。   In the heat fusion type lithographic printing plate precursor of the present invention, in order to increase the infrared absorption efficiency and improve the sensitivity, a photothermal conversion agent that absorbs infrared rays and generates heat is used for the image forming layer, the hydrophilic layer, and the overcoat layer. It is preferable to contain in at least one layer.

次に、極性変換型平版印刷版原版について説明する。
<極性変換型画像形成層>
極性変換型画像形成層は、レーザー露光により露光部の親水性-疎水性を変化させる性質を有する画像形成層である。1.レーザー露光によって親水性から疎水性に変化する性質を有するネガ型画像形成層、2.レーザー露光によって疎水性から親水性に変化する性質を有するポジ型画像形成層の2種類が挙げられ、それぞれについて説明する。
Next, the polarity conversion type lithographic printing plate precursor will be described.
<Polarity conversion type image forming layer>
The polarity conversion type image forming layer is an image forming layer having a property of changing the hydrophilicity-hydrophobicity of an exposed portion by laser exposure. 1. 1. negative type image forming layer having a property of changing from hydrophilic to hydrophobic by laser exposure; There are two types of positive-type image forming layers having the property of changing from hydrophobic to hydrophilic by laser exposure, and each will be described.

レーザー露光によって親水性から疎水性に変換されるネガ型画像形成層としては、特開2000-122272号等に挙げられる画像形成層が好ましく用いられる。このような画像形成層としては、特定の官能基、特に、熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいずれかの基を有するバインダーポリマーを含有する層が好ましい。
熱により脱炭酸を起こすカルボン酸基およびカルボン酸塩基からなる群から選ばれる少なくともいづれかの基を有するポリマーは、特に限定されないが、下記一般式(1)または(2)で表されるものが好ましい。
As a negative type image forming layer converted from hydrophilic to hydrophobic by laser exposure, an image forming layer described in JP-A No. 2000-122272 is preferably used. As such an image forming layer, a layer containing a binder polymer having a specific functional group, in particular, at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group that undergo decarboxylation by heat is preferable. .
The polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic acid group and a carboxylic acid group that undergoes decarboxylation by heat is not particularly limited, but those represented by the following general formula (1) or (2) are preferable. .

式中、Xは4族から6族の元素、同酸化物、同硫化物、同セレン化物および同テルル化物から選択される基を表し、Pはポリマー主鎖を表し、Lは2価の連結基を表し、R1、R2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい1価の基を表し、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属およびオニウムから選択される基を表す。 In the formula, X represents a group selected from Group 4 to Group 6 elements, the same oxide, the same sulfide, the same selenide and the same telluride, P represents a polymer main chain, and L represents a divalent linkage. R 1 and R 2 each represent a monovalent group that may be the same or different, and M represents a group selected from an alkali metal, an alkaline earth metal, and onium.

、Rとして好ましくは、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基を挙げることができる。
Lとして好ましくは、下記の構造単位あるいはこれらの組合せを挙げることができる。
R 1 and R 2 are preferably linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms.
Preferred examples of L include the following structural units or combinations thereof.

Xとして好ましくは、−CO−、−SO−、−SO2 −が挙げられる。
Mとして好ましくは、1〜4価の金属カチオンまたは下記一般式(3)で示されるアンモニウム塩を挙げることができる。
X is preferably —CO—, —SO—, or —SO 2 —.
Preferable examples of M include a monovalent to tetravalent metal cation or an ammonium salt represented by the following general formula (3).

式中、R4、R5、R6およびR7はそれぞれ同じでも異なっていてもよい1価の基を表す。 In the formula, R 4 , R 5 , R 6 and R 7 each represent a monovalent group which may be the same or different.

Pで表されるポリマー主鎖骨格としては、特に限定されないが、好ましくは(メタ)アクリル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。
画像形成層に使用されるバインダーポリマーの重量平均分子量は、好ましくは2000以上であり、さらに好ましくは5000〜30万の範囲であり、数平均分子量は、好ましくは800以上であり、さらに好ましくは1000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
バインダーポリマーは画像形成層の全固形物分の50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%の割合で使用することができる。添加量が50重量%未満の場合は、印刷画像が不鮮明になり、また添加量が95重量%を越える場合は、レーザー露光による画像形成が十分に出来なくなる。
The polymer main chain skeleton represented by P is not particularly limited, but preferred examples include (meth) acrylic resins and urethane resins.
The weight average molecular weight of the binder polymer used in the image forming layer is preferably 2000 or more, more preferably 5000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 800 or more, more preferably 1000. It is in the range of ~ 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10. The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, etc., but is preferably a random polymer.
The binder polymer can be used in an amount of 50 to 95% by weight, preferably 70 to 90% by weight, based on the total solid content of the image forming layer. When the addition amount is less than 50% by weight, the printed image becomes unclear, and when the addition amount exceeds 95% by weight, image formation by laser exposure cannot be sufficiently performed.

画像形成層は前記バインダーポリマー以外に、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で他の構成成分を含有してもよい。画像形成層に用いられるバインダーポリマー以外の構成成分としては、前記ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層に関して記載した重合性化合物、増感色素、重合開始剤、前記熱融着型平版印刷版原版における感光層に関して記載した熱融着性微粒子、光熱変換剤、親水性ポリマー、無機微粒子、界面活性剤、着色剤、可塑剤など種々の添加剤を挙げることができる。   In addition to the binder polymer, the image forming layer may contain other components as necessary within a range not impairing the effects of the present invention. As constituent components other than the binder polymer used in the image forming layer, the polymerizable compound, the sensitizing dye, the polymerization initiator, and the heat fusion type lithographic printing plate precursor described for the photosensitive layer in the radical polymerization type lithographic printing plate precursor Examples thereof include various additives such as heat-fusible fine particles, photothermal conversion agents, hydrophilic polymers, inorganic fine particles, surfactants, colorants, and plasticizers described for the photosensitive layer.

レーザー露光によって疎水性から親水性に変換されるポジ型画像形成層としては、特開平11-174685号等に挙げられる画像形成層が好ましく用いられる。このような画像形成層としては、特定の官能基を有し、レーザー露光により発生するエネルギーにより親水性に変化する疎水性バインダーポリマー(以後感熱バインダーポリマーとも呼ぶ)を含有することが好ましい。感熱バインダーポリマーとは、通常は水に対して溶解するあるいは膨潤する等の親和性を示さないバインダーポリマーであり、熱によってその構造の一部もしくは全部が変化して水に対して溶解するあるいは膨潤する等の親和性を示すようになるバインダーポリマーを指す。そのような化合物の例として、側鎖に、以下の一般式(4)〜(8)の何れかで表される官能基を有する疎水性バインダーポリマーが挙げられる。   As the positive image forming layer converted from hydrophobic to hydrophilic by laser exposure, an image forming layer described in JP-A No. 11-174585 is preferably used. Such an image forming layer preferably contains a hydrophobic binder polymer (hereinafter also referred to as a heat-sensitive binder polymer) that has a specific functional group and changes to hydrophilicity by energy generated by laser exposure. A heat-sensitive binder polymer is a binder polymer that does not exhibit an affinity such as being normally soluble or swelled in water, and part or all of its structure is changed by heat, and is dissolved or swelled in water. It refers to a binder polymer that exhibits an affinity such as. Examples of such a compound include a hydrophobic binder polymer having a functional group represented by any one of the following general formulas (4) to (8) in the side chain.

式中、Lは疎水性バインダーポリマー主鎖に連結した多価の非金属原子から成る有機基を表し、R1 はアリール基、アルキル基又は環状イミド基を表し、R2、R3はアリール基又はアルキル基を表し、R4はアリール基、アルキル基又は−SO2 5を表し、R5 はアリール基又はアルキル基を表し、R6、R7 及びR8はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基を表し、R6 、R7及びR8 の内の任意の2つもしくは3つで環を形成してもよい。R9及びR10の内の一方は水素原子を、他方は水素原子、アリール基又はアルキル基を表し、R11はアルキル基を表し、R9とR11又はR10とR11で環を形成してもよい。Lは非金属原子からなる多価の連結基であって、1〜60個の炭素原子、0〜10個の窒素原子、0〜50個の酸素原子、1〜100個の水素原子、及び0〜20個の硫黄原子から成るものである。具体的には、上記一般式(1)又は(2)におけるLの好ましい例として記載した構造単位あるいはそれらの組合せを挙げることができる。 In the formula, L represents an organic group composed of a polyvalent nonmetallic atom connected to the hydrophobic binder polymer main chain, R 1 represents an aryl group, an alkyl group or a cyclic imide group, and R 2 and R 3 represent an aryl group. Or an alkyl group, R 4 represents an aryl group, an alkyl group or —SO 2 R 5 , R 5 represents an aryl group or an alkyl group, and R 6 , R 7 and R 8 each independently represents an aryl group or an alkyl group Represents a group, and any two or three of R 6 , R 7 and R 8 may form a ring. One of R 9 and R 10 represents a hydrogen atom, the other represents a hydrogen atom, an aryl group or an alkyl group, R 11 represents an alkyl group, and R 9 and R 11 or R 10 and R 11 form a ring. May be. L is a polyvalent linking group consisting of non-metallic atoms, and includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 It consists of ˜20 sulfur atoms. Specifically, the structural unit described as a preferable example of L in the said General formula (1) or (2), or those combinations can be mentioned.

画像形成層に使用される感熱バインダーポリマーの重量平均分子量は、好ましくは2000以上であり、さらに好ましくは5000〜30万の範囲であり、数平均分子量は、好ましくは800以上であり、さらに好ましくは1000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好ましくは1.1〜10の範囲である。バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。   The weight average molecular weight of the heat-sensitive binder polymer used in the image forming layer is preferably 2000 or more, more preferably 5000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 800 or more, more preferably. The range is 1000-250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10. The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, etc., but is preferably a random polymer.

感熱バインダーポリマーは画像形成層の全固形物分の50〜90重量%、好ましくは70〜90重量%の割合で使用することができる。添加量が50重量%未満の場合は、印刷画像が不鮮明になり、また添加量が90重量%を越える場合は、レーザー露光による画像形成が十分に出来なくなる。   The heat-sensitive binder polymer can be used in a proportion of 50 to 90% by weight, preferably 70 to 90% by weight, based on the total solid content of the image forming layer. When the addition amount is less than 50% by weight, the printed image becomes unclear, and when the addition amount exceeds 90% by weight, image formation by laser exposure cannot be sufficiently performed.

画像形成層は前記バインダーポリマー以外に、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で他の構成成分を含有してもよい。画像形成層に用いられるバインダーポリマー以外の構成成分としては、前記ラジカル重合型平版印刷版原版における感光層に関して記載した重合性化合物、増感色素、重合開始剤、前記熱融着型平版印刷版原版における感光層に関して記載した熱融着性微粒子、光熱変換剤、親水性ポリマー、無機微粒子、界面活性剤、着色剤、可塑剤など種々の添加剤を挙げることができる。   In addition to the binder polymer, the image forming layer may contain other components as necessary within a range not impairing the effects of the present invention. As constituent components other than the binder polymer used in the image forming layer, the polymerizable compound, the sensitizing dye, the polymerization initiator, and the heat fusion type lithographic printing plate precursor described for the photosensitive layer in the radical polymerization type lithographic printing plate precursor Examples thereof include various additives such as heat-fusible fine particles, photothermal conversion agents, hydrophilic polymers, inorganic fine particles, surfactants, colorants, and plasticizers described for the photosensitive layer.

本発明の極性変換型平版印刷用原版は、保存時の親油性物質による汚染や取り扱い時の手指の接触による指紋跡汚染等から画像形成層表面を保護するため、画像形成層上にオーバーコート層を設けることができる。
オーバーコート層は、前記ラジカル重合型平版印刷版原版に関して記載した保護層と同様のものを使用することができる。
The polarity-converting lithographic printing original plate of the present invention is an overcoat layer on an image forming layer in order to protect the surface of the image forming layer from contamination by a lipophilic substance during storage or fingerprint trace contamination due to finger contact during handling. Can be provided.
As the overcoat layer, the same protective layer as that described for the radical polymerization type lithographic printing plate precursor can be used.

本発明の平版印刷版原版は、空中水滴接触角が70°以上の値を示す表面を有する支持
体を用いることで感光層と支持体界面の密着性が向上し高耐刷が得られ、他方、感光層が
除去された非画像部において支持体表面を、pHが2〜10の水溶液で処理することで空
中水滴接触角の値が30°以下に低下し、得られた印刷版は印刷中の非画像部の耐汚れ性
が良好になると考えられる。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the use of a support having a surface with a water-water contact angle of 70 ° or more improves the adhesion between the photosensitive layer and the support interface, resulting in high printing durability. In the non-image area from which the photosensitive layer has been removed, the surface of the support is treated with an aqueous solution having a pH of 2 to 10, whereby the value of the contact angle of water droplets is reduced to 30 ° or less, and the resulting printing plate is being printed It is considered that the stain resistance of the non-image area is improved.

[平版印刷版の作製方法]
本発明の平版印刷版の作製方法を以下に説明する。本発明の平版印刷版の作製方法は、主に、平版印刷版原版を画像様に露光し、必要に応じて版全面を加熱した後、以下の製版工程を施すことから成る。(1)官能基Yを有する化合物(以下、親水化化合物ともいう)
を含有する湿し水を用いて印刷機上にて現像する、(2)親水化化合物を含有するpH2
〜10の現像液により現像する、(3)pH2〜10の現像液により現像した後に親水化
化合物を含有するpH2〜10の水溶液により親水化処理する。このような操作により、
官能基Yを有する化合物は、支持体表面に存在する官能基Xを有する化合物と化学結合を
形成して支持体表面に固定され、その結果、支持体表面の空中水滴接触角が30°以下に
低下させることができる。処置後の支持体表面の空中水滴接触角は、25°以下が好まし
く、20°以下がより好ましい。
[Preparation method of lithographic printing plate]
A method for preparing the planographic printing plate of the present invention will be described below. The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention mainly comprises exposing the lithographic printing plate precursor imagewise, heating the entire plate surface as necessary, and then performing the following plate making steps. (1) Compound having functional group Y (hereinafter also referred to as hydrophilic compound)
(2) pH 2 containing hydrophilizing compound, developed on a printing press using dampening water containing
(3) Development with a developer having a pH of 2 to 10, followed by hydrophilization with an aqueous solution of pH 2 to 10 containing a hydrophilizing compound. By doing this,
The compound having the functional group Y is fixed to the support surface by forming a chemical bond with the compound having the functional group X present on the support surface. As a result, the contact angle of the water droplet on the support surface is 30 ° or less. Can be reduced. The aerial water droplet contact angle on the support surface after the treatment is preferably 25 ° or less, and more preferably 20 ° or less.

〔親水化化合物〕
本発明では支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させるために、官能基Xを
有する化合物と接触することにより、支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下さ
せることができる官能基Yを有する化合物(以下、親水化化合物とも云う)が用いられる。かかる化合物は、官能基Xを有する化合物と接触することにより、支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる特性を有していれば、いかなる化合物でもよい。
[Hydrophilic compound]
In the present invention, in order to reduce the contact angle of the water droplet on the support surface to 30 ° or less, the contact angle of the water droplet on the support surface can be reduced to 30 ° or less by contacting with the compound having the functional group X. A compound having a functional group Y that can be used (hereinafter also referred to as a hydrophilic compound) is used. Such a compound may be any compound as long as it has a property capable of reducing the contact angle of the water droplet on the surface of the support to 30 ° or less by contacting with the compound having the functional group X.

例えば、支持体表面に存在する官能基Xを有する化合物が、前記一般式(0)で表される官能基を有する化合物である場合には、官能基Yを有する化合物としては、−COOH、−SOH、−PO(OH)(OM)及び−B(OH)(OM)(Mは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す)から選ばれる酸性官能基を少なくとも1つ有する化合物が好ましく用いられる。このような親水化化合物は、その官能基(Y)が支持体表面の官能基(X)と酸塩基相互作用等の相互作用をすることによって支持体表面に吸着し、支持体の空中水滴接触角を低下させるものと考えられる。 For example, when the compound having the functional group X present on the surface of the support is a compound having the functional group represented by the general formula (0), the compound having the functional group Y includes -COOH,- An acidic functional group selected from SO 3 H, —PO (OH) (OM) and —B (OH) (OM) (M represents hydrogen, metal cation, ammonium, phosphonium, iodonium, sulfonium, diazonium or azinium). A compound having at least one of is preferably used. Such a hydrophilized compound is adsorbed on the surface of the support when the functional group (Y) interacts with the functional group (X) on the surface of the support, such as acid-base interaction. It is thought to reduce the angle.

用いられる親水化化合物は、上記の如き機能を発現する限り、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物とすることで、支持体への吸着力が増大し、耐汚れ性が改良される。高分子化合物は、質量平均分子量1000以上が好ましく、5000以上がより好ましい。
用いられる親水化化合物の具体例としては、かかる酸性官能基を有するアラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのコポリマー、メタクリルアミドのコポリマー、N−メチロールアクリルアミドのコポリマー、1−メチル−3−スルホプロピルアクリルアミドのホモポリマー、コポリマー及びその塩、メタクリロキシエチルホスフェートのホモポリマー、コポリマー及びその塩等が挙げられる。特に、前記酸性官能基を有するポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩が好ましく用いられる。
The hydrophilic compound used may be either a low molecular compound or a high molecular compound as long as it exhibits the above functions, but is preferably a high molecular compound. By setting it as a high molecular compound, the adsorption | suction power to a support body increases and stain resistance is improved. The polymer compound preferably has a mass average molecular weight of 1000 or more, more preferably 5000 or more.
Specific examples of the hydrophilizing compound used include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymer having such acidic functional groups. Polyacrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, copolymers of hydroxyethyl methacrylate, copolymers of hydroxyethyl acrylate, copolymers of hydroxypyrrole methacrylate, copolymers of hydroxypropyl acrylate, copolymers of hydroxybutyl methacrylate, hydroxy Copolymers of butyl acrylate, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohol Hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, N-methylol acrylamide copolymer having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, 1- Homopolymers, copolymers and salts thereof of methyl-3-sulfopropylacrylamide, homopolymers, copolymers and salts of methacryloxyethyl phosphate, and the like. In particular, polyacrylic acids having an acidic functional group and salts thereof, polymethacrylic acids and salts thereof are preferably used.

また、支持体表面に存在する官能基Xを有する化合物が、前記一般式(1)〜(5)で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物である場合には、官能基Yを有する化合物としては、前記一般式(6)〜(8)で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物が好ましく用いられる。一般式(6)又は(7)で表される官能基を有する化合物がより好ましく、一般式(7)で表される官能基を有する化合物が特に好ましい。このような親水化化合物は、その官能基(Y)が支持体表面の官能基(X)と静電相互作用等の相互作用をすることによって支持体表面に吸着し、支持体の空中水滴接触角を低下させるものと考えられる。   Further, when the compound having the functional group X present on the surface of the support is a compound having a functional group selected from the functional groups represented by the general formulas (1) to (5), the functional group Y is As the compound having, a compound having a functional group selected from the functional groups represented by the general formulas (6) to (8) is preferably used. A compound having a functional group represented by the general formula (6) or (7) is more preferable, and a compound having a functional group represented by the general formula (7) is particularly preferable. Such a hydrophilized compound is adsorbed on the surface of the support when the functional group (Y) interacts with the functional group (X) on the surface of the support, such as electrostatic interaction, and the water droplet contacts the support. It is thought to reduce the angle.

用いられる親水化化合物は、上記の如き機能を発現する限り、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物とすることで、支持体への吸着力が増大し、耐汚れ性が改良される。高分子化合物は、質量平均分子量1000以上が好ましく、5000以上がより好ましく、1万以上が特に好ましい。   The hydrophilic compound used may be either a low molecular compound or a high molecular compound as long as it exhibits the above functions, but is preferably a high molecular compound. By setting it as a high molecular compound, the adsorption | suction power to a support body increases and stain resistance is improved. The polymer compound preferably has a mass average molecular weight of 1000 or more, more preferably 5000 or more, and particularly preferably 10,000 or more.

用いられる親水化化合物の具体例としては、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ポリビニル安息香酸類およびそれらの塩、ポリビニルベンゼンスルホン酸類及びそれらの塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸のホモポリマー、コポリマー及びそれらの塩、メタクリロイルオキシエチルリン酸のホモポリマー、コポリマー及びそれらの塩等が挙げられる。   Specific examples of hydrophilizing compounds used include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, poly Acrylic acids and their salts, polymethacrylic acids and their salts, polyvinylbenzoic acids and their salts, polyvinylbenzenesulfonic acids and their salts, homopolymers, copolymers and copolymers of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid Examples thereof include salts, homopolymers and copolymers of methacryloyloxyethyl phosphate, and salts thereof.

前記のように、官能基Xが一般式(1)〜(5)で表される官能基のうちの少なくとも一種であって、官能基Yが一般式(6)〜(8)で表される官能基のうちの少なくとも一種である組合せの場合、官能基Xが一般式(1)又は(2)であって、官能基Yが一般式(6)又は(7)であることが好ましく、特に、官能基Xが一般式(1)であって、官能基Yが一般式(7)であることが好ましい。   As described above, the functional group X is at least one of the functional groups represented by the general formulas (1) to (5), and the functional group Y is represented by the general formulas (6) to (8). In the case of a combination that is at least one of the functional groups, the functional group X is preferably the general formula (1) or (2), and the functional group Y is preferably the general formula (6) or (7). The functional group X is preferably the general formula (1), and the functional group Y is preferably the general formula (7).

更に、支持体表面に存在する官能基Xを有する化合物が、前記一般式(9)〜(11)で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物である場合には、官能基Yを有する化合物としては、前記一般式(12)〜(16)で表される官能基から選ばれる官能基を有する化合物が好ましく用いられる。一般式(9)又は(10)で表される官能基を有する化合物がより好ましく、一般式(9)で表される官能基を有する化合物が特に好ましい。このような親水化化合物は、その官能基(Y)が支持体表面の官能基(X)と静電相互作用等の相互作用をすることによって支持体表面に吸着し、支持体の空中水滴接触角を低下させるものと考えられる。   Furthermore, when the compound having the functional group X present on the support surface is a compound having a functional group selected from the functional groups represented by the general formulas (9) to (11), the functional group Y is As the compound having, a compound having a functional group selected from the functional groups represented by the general formulas (12) to (16) is preferably used. A compound having a functional group represented by formula (9) or (10) is more preferred, and a compound having a functional group represented by formula (9) is particularly preferred. Such a hydrophilized compound is adsorbed on the surface of the support when the functional group (Y) interacts with the functional group (X) on the surface of the support, such as electrostatic interaction, and the water droplet contacts the support. It is thought to reduce the angle.

用いられる親水化化合物は、上記の如き機能を発現する限り、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、高分子化合物であることが好ましい。高分子化合物とすることで、支持体への吸着力が増大し、耐汚れ性が改良される。高分子化合物は、質量平均分子量1000以上が好ましく、5000以上がより好ましい。   The hydrophilic compound used may be either a low molecular compound or a high molecular compound as long as it exhibits the above functions, but is preferably a high molecular compound. By setting it as a high molecular compound, the adsorption | suction power to a support body increases and stain resistance is improved. The polymer compound preferably has a mass average molecular weight of 1000 or more, and more preferably 5000 or more.

用いられる親水化化合物の具体例としては、アンモニウム変性デンプン等のデンプン誘導体、3−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライドのホモポリマー及びコポリマー、3−アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム メチルサルフェートのホモポリマー及びコポリマー、2−メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム クロリドのホモポリマー及びコポリマー、4−ビニルベンジルメチルトリエチルアンモニウム クロリドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリロイルオキシブチルトリフェニルホスホニウム クロリドのホモポリマー及びコポリマー等が挙げられる。   Specific examples of the hydrophilizing compound used include starch derivatives such as ammonium-modified starch, homopolymers and copolymers of 3-acrylamidopropyltrimethylammonium chloride, homopolymers and copolymers of 3-acrylamidopropyltrimethylammonium methyl sulfate, 2-methacryloyloxy Examples include homopolymers and copolymers of ethyltrimethylammonium chloride, homopolymers and copolymers of 4-vinylbenzylmethyltriethylammonium chloride, and homopolymers and copolymers of methacryloyloxybutyltriphenylphosphonium chloride.

前記のように、官能基Xが一般式(9)〜(11)で表される官能基のうちの少なくとも一種であって、官能基Yが一般式(12)〜(16)で表される官能基のうちの少なくとも一種である組合せの場合、官能基Xが一般式(9)又は(10)であって、官能基Yが一般式(12)又は(13)であることが好ましく、特に、官能基Xが一般式(10)であって、官能基Yが一般式(12)であることが好ましい。
官能基Xと官能基Yの組合せは、上記具体例に限られるものではなく、70°以上の支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができるような官能基同士の組合せであれば、いずれでもよい。
As described above, the functional group X is at least one of the functional groups represented by the general formulas (9) to (11), and the functional group Y is represented by the general formulas (12) to (16). In the case of a combination that is at least one of the functional groups, the functional group X is preferably the general formula (9) or (10), and the functional group Y is preferably the general formula (12) or (13). The functional group X is preferably the general formula (10), and the functional group Y is preferably the general formula (12).
The combination of the functional group X and the functional group Y is not limited to the above specific example, and the combination of functional groups that can reduce the contact angle of airborne water droplets on the support surface of 70 ° or more to 30 ° or less. Any may be used.

官能基Yを有する化合物を、官能基Xを有す化合物と接触させるためには、いずれの手
段を用いてもよい。両官能基の接触を効率的に行う観点から、水分の存在下に行うことが
望ましい。具体的には、例えば、官能基Xを有する化合物を表面に有する支持体を、官能
基Yを有する化合物を含有するpH2〜10の水溶液で処理する方法が用いられる。この
水溶液を供給する形態としては、印刷時の湿し水として、現像液として、あるいは現像後
の処理液として等が挙げられる。供給形態によって官能基Yを有する化合物以外の成分は
適宜調整することができる。
In order to bring the compound having the functional group Y into contact with the compound having the functional group X, any means may be used. From the viewpoint of efficiently bringing both functional groups into contact, it is desirable to carry out in the presence of moisture. Specifically, for example, a method of treating a support having a compound having a functional group X on the surface with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 containing a compound having a functional group Y is used. Examples of the form of supplying this aqueous solution include a dampening water at the time of printing, a developing solution, and a processing solution after development. Components other than the compound having the functional group Y can be appropriately adjusted depending on the supply form.

〔露光〕
本発明の平版印刷版原版は、350〜1200nmに発振波長を有するレーザーで画像
露光することが好ましい。
(1)レーザー光源として、赤外線レーザーを用いることができる。用いられる赤外線
レーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を放射する固体レ
ーザーあるいは半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は、100m
W以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバ
イスを用いることが好ましい。1画素あたりの露光時間は、20μ秒以内であるのが好ま
しい。また、照射エネルギー量は、10〜300mJ/cm2 であるのが好ましい。
〔exposure〕
The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably image-exposed with a laser having an oscillation wavelength of 350 to 1200 nm.
(1) An infrared laser can be used as the laser light source. The infrared laser used is not particularly limited, but a solid laser or a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm is preferable. The output of the infrared laser is 100m
It is preferable that it is W or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >.

(2)また、レーザー光源としては、405nmあるいは830nmの半導体レーザー
、FD−YAGレーザーなどが用いられる。近年、システムコスト、取扱性の観点から、
405nmの半導体レーザーを搭載したCTPシステムが普及している。例えば、350
nm〜450nmの範囲に発振波長を有する光源を搭載したインナードラム露光装置〔光
源の出射する光ビームの光ビームスポット形状が、光ビームを常光線と異常光線とに等光
量で平行に分割し、その2つのビームスポットが一部重なるように隣接して副走査方向に
並んでいる〕に上述の平版印刷版原版を載置した後、前記光ビームスポット形状の露光に
より画像記録を行うことが可能である。
本発明に使用する露光装置は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式
等の何れでもよい。また、マルチビーム露光方式で同時に画像を記録することにより、高
精度な画像を高速に記録することができる。
また、本発明の平版印刷版原版の露光時においては、FMスクリーンにて画像記録を行
うことができる。
(2) As a laser light source, a 405 nm or 830 nm semiconductor laser, an FD-YAG laser, or the like is used. In recent years, from the viewpoint of system cost and handleability,
A CTP system equipped with a 405 nm semiconductor laser is widely used. For example, 350
Inner drum exposure apparatus equipped with a light source having an oscillation wavelength in the range of nm to 450 nm [the light beam spot shape of the light beam emitted from the light source divides the light beam into an ordinary ray and an extraordinary ray in parallel with an equal amount of light, It is possible to record an image by exposing the light beam spot shape after placing the above-described lithographic printing plate precursor on the sub-scanning direction so that the two beam spots partially overlap each other. It is.
The exposure apparatus used in the present invention may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like. Further, by simultaneously recording an image by the multi-beam exposure method, a highly accurate image can be recorded at a high speed.
Further, at the time of exposure of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, image recording can be performed on an FM screen.

〔加熱〕
本発明においては、画像様に露光された平版印刷版原版は、必要に応じ、露光から現像
までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が
促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る。
また、感光層の上に保護層を有する場合は、現像処理前に水洗処理を行うことも好まし
い。
〔heating〕
In the present invention, the entire surface of the lithographic printing plate precursor exposed imagewise may be heated between exposure and development, if necessary. By such heating, an image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur.
Moreover, when it has a protective layer on a photosensitive layer, it is also preferable to perform a water washing process before image development processing.

〔製版〕
本発明の平版印刷版原版は、上述のように半導体レーザーや固体レーザーにより画像様
に露光し、必要により前述のように全面加熱した後、なんらの現像処理工程を経ることな
く油性インキと上記親水化化合物を含有する水性成分とを供給して印刷することができる
。具体的には、平版印刷版原版をレーザーで露光し、版全面をオーブンにて加熱した後、
現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に
装着した後、印刷機上においてレーザーで露光し、印刷機上において版全面を加熱した後
、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。
[Plate making]
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is imagewise exposed with a semiconductor laser or a solid laser as described above, and if necessary after heating the entire surface as described above, the oil-based ink and the above hydrophilic ink without any development processing steps. An aqueous component containing a chemical compound can be supplied for printing. Specifically, after exposing the lithographic printing plate precursor with a laser and heating the entire plate surface in an oven,
A method of printing by mounting on a printing machine without going through a development processing step. After mounting a lithographic printing plate precursor on a printing machine, exposing it with a laser on the printing machine and heating the entire plate surface on the printing machine, then developing. Examples include a method of printing without passing through a processing step.

例えば、ネガ型の機上現像型平版印刷版原版の一態様では、平版印刷版原版をレーザー
で画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく親水化化合物
を含有する水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、感光層の露光部においては、
露光により硬化した感光層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、
未露光部においては、供給された親水化化合物を含有する水性成分および/または油性イ
ンキによって、未硬化の感光層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に支持体表面
が露出する。その結果、水性成分は露出した支持体表面に付着し、油性インキは露光領域
の感光層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、親水化化
合物を含有する水性成分でもよく、油性インキでもよいが、親水化化合物を含有する水性
成分が未露光部の感光層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給
することが好ましい。親水化化合物を含有する水性成分および油性インキとしては、通常
の平版印刷用の湿し水に親水化化合物を加えたものと印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に
用いられる。
For example, in one aspect of the negative on-press development type lithographic printing plate precursor, the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with a laser and then contains a hydrophilic compound without undergoing a development processing step such as a wet development processing step. When supplying water-based components and oil-based inks to be printed,
The photosensitive layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having an oleophilic surface. on the other hand,
In the unexposed area, the uncured photosensitive layer is dissolved or dispersed and removed by the aqueous component and / or oil-based ink containing the supplied hydrophilic compound, and the surface of the support is exposed in that area. As a result, the aqueous component adheres to the exposed support surface, and the oil-based ink is deposited on the photosensitive layer in the exposed area, and printing is started. Here, an aqueous component containing a hydrophilizing compound or an oil-based ink may be supplied to the printing plate first, but the aqueous component containing the hydrophilizing compound is contaminated by the photosensitive layer in the unexposed area. It is preferable to supply the oil-based ink first from the viewpoint of preventing the ink. As the aqueous component and the oil-based ink containing the hydrophilic compound, those obtained by adding a hydrophilic compound to dampening water for ordinary lithographic printing and printing inks are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

また、本発明の平版印刷版の製版方法における別の態様では、上述のようにレーザーで
画像様に露光し必要に応じて版全面を加熱した後に、擦り部材を備えた自動処理機により
、上記親水化化合物を含有するpHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦る
ことにより、非露光部の感光層を除去して平版印刷版を得ることもできる。
また、本発明の平版印刷版の製版方法における別の態様では、上述のようにレーザーで
画像様に露光し必要に応じて版全面を加熱した後に、擦り部材を備えた自動処理機により
、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、非露光部の感光
層を除去した後、露出した支持体表面に上記親水化化合物を含む水溶液(以下、親水化水
溶液ともいう)を浸漬・噴霧・塗布等の方法によって接触させることにより平版印刷版を
得ることもできる。
本発明において用いられる現像液は、例えば、水単独または水を主成分(水を60質量
%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知の湿し水と同様な組成の水溶
液、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液や、水溶性
高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。特に、界面活性剤と水溶性高分子化合物の両
方を含有する水溶液が好ましい。現像液のpHは、より好ましくは3〜8、さらに好まし
くは4〜7である。
Further, in another aspect of the plate making method of the lithographic printing plate of the present invention, after the image-wise exposure with a laser as described above and the entire plate surface is heated as necessary, the automatic processor equipped with a rubbing member is used to A lithographic printing plate can also be obtained by removing the photosensitive layer in the non-exposed area by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a developer containing a hydrophilizing compound and having a pH of 2 to 10.
Further, in another aspect of the plate making method of the lithographic printing plate of the present invention, the pH is measured by an automatic processor equipped with a rubbing member after imagewise exposure with a laser and heating the entire plate surface as necessary, as described above. After removing the photosensitive layer in the non-exposed area by rubbing the plate surface with a rubbing member in the presence of a developer of 2 to 10, an aqueous solution containing the hydrophilic compound (hereinafter referred to as a hydrophilized aqueous solution) on the exposed support surface. Lithographic printing plates can also be obtained by bringing them into contact with each other by a method such as immersion, spraying or coating.
The developer used in the present invention is preferably, for example, water alone or an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water). An aqueous solution containing a surfactant (anionic, nonionic, cationic, etc.) or an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound is preferred. In particular, an aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferable. The pH of the developer is more preferably 3-8, still more preferably 4-7.

本発明に用いられるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク
酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類
、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピル
スルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル
−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリ
ウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステ
ルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル
硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチ
レン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物
の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これら
の中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
Examples of the anionic surfactant used in the present invention include fatty acid salts, abietic acid salts,
Hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethylenepropylsulfonates, polyoxyethylenealkyl Sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters, alkyl Sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates Tell salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salt, partially saponified styrene-maleic anhydride copolymer , Partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensate, and the like. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

本発明に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のもの
を用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級
アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、
脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付
加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド
付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイ
ド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロ
キサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価
アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル
、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アル
コールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
It does not specifically limit as a cationic surfactant used for this invention, A conventionally well-known thing can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
Nonionic surfactants used in the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adducts, alkylphenol ethylene oxide adducts,
Fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat and oil ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide Block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol type, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, fatty acid ester of sucrose, polyhydric alcohol Alkyl ethers, fatty acid amides of alkanolamines, and the like.

本発明においては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレン
オキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロ
キサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオ
キサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステル
がより好ましい。
また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用する
ノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile
Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好まし
い。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ
素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活
性剤が特に好適である。
界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いても良い。界面活系剤の現像液中に
おける含有量は、0.01〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.01〜5質量%
である。
In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the developer of the present invention is HLB (Hydrophile-Lipophile).
The (Balance) value is preferably 6 or more, and more preferably 8 or more.
Also, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can be used in the same manner.
As the surfactant used in the developer of the present invention, a nonionic surfactant is particularly suitable from the viewpoint of foam suppression.
The surfactants may be used alone or in combination of two or more. The content of the surfactant in the developer is preferably from 0.01 to 10% by mass, more preferably from 0.01 to 5% by mass.
It is.

また、本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱
粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、
カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリ
ビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよび
アクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル
/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
上記大豆多糖類は、公知ものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不
二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用で
きるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。
上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小
麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、
更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer of the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, and a cellulose derivative (for example, carboxymethyl cellulose,
Carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer And styrene / maleic anhydride copolymer.
A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10 mass% aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.
As the modified starch, known ones can be used, and starch such as corn, potato, tapioca, rice, wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule,
Furthermore, it can be made by a method of adding oxypropylene in an alkali.

水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液
中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量
%である。
また、本発明の現像液は、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な有機溶剤としては、
例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、アイソパーE、H、G(エッソ化学(
株)製)、ガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいは
ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノ
クロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, more preferably from 0.5 to 10% by mass.
Further, the developer of the present invention may contain an organic solvent. As an organic solvent that can be contained,
For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, Isopar E, H, G (Essochemistry (
Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, tricrene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシ
エタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキ
シルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレング
リコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリ
コールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メ
チルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレン
グリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その
他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、N−フェニルエタノールア
ミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用す
ることも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、
溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。
Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.) , (Acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene Glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).
When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, from the viewpoint of safety and flammability,
The concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass.

本発明の現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、
無機塩などを含有することができる。
防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デ
ヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−
3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩
類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オ
キサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプ
ロパン−1,3ジオール、1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロ
モ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。
キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そ
のナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩
;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシ
エチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢
酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩
、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリ
ウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げ
ることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も
有効である。
In addition to the above, the developer of the present invention includes preservatives, chelate compounds, antifoaming agents, organic acids, inorganic acids,
Inorganic salts and the like can be contained.
Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazoline-
3-ones, benztriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, quinoline, guanidine and other derivatives, diazines, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, 2-bromo-2-nitropropane-based nitrobromoalcohols 1,3-diol, 1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.
Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents.

消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活
性剤のHLBが5以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。
その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。
有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸
、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチ
ン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニ
ウム塩の形で用いることもできる。
無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム
、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリ
ン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム
、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモ
ニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。
As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, or nonionic surfactant having a HLB of 5 or less can be used. Silicon antifoaming agents are preferred.
Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used.
Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt.
Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like.

上記の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いるこ
とができ、後述の自動処理機に適用することが好ましい。自動処理機を用いて現像する場
合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理
能力を回復させてもよい。本発明の平版印刷版原版の製版方法においてもこの補充方式が
好ましく適用される。
本発明におけるpH2〜10の水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り
部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例え
ば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−22006
1号、特開昭60−59351号各公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットさ
れた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国
特許5148746号、同5568768号、英国特許2297719号に記載の自動処
理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機
が特に好ましい。
The developer can be used as a developer and a developer replenisher for the exposed lithographic printing plate precursor, and is preferably applied to an automatic processor described later. When developing using an automatic processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so the processing capability may be restored using a replenisher or a fresh developer. This replenishing method is also preferably applied to the plate making method of the lithographic printing plate precursor according to the present invention.
The development treatment with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. As an automatic processor, for example, a rubbing process is performed while transporting a lithographic printing plate precursor after image exposure.
No. 1, U.S. Pat. No. 5,148,746, which performs rubbing treatment on an automatic processing machine described in JP-A-60-59351 and a planographic printing plate precursor after image exposure set on a cylinder while rotating the cylinder No. 5,568,768 and an automatic processor described in British Patent No. 2297719. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平
版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。回転ブラシロ
ールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公
知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報や、特開平3−100
554号公報記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、
ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック
または金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポ
リアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル
系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用す
ることがで、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mm
のものが好適に使用できる。回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、
版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。回転ブラシロール
は、2本以上の複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll that can be preferably used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the support of the lithographic printing plate precursor. As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-159533 and Japanese Patent Laid-Open No. 3-100
No. 554 and those described in Japanese Utility Model Publication No. 62-167253,
A brush roll can be used in which metal or plastic groove molds in which brush materials are implanted in rows are wound radially around a plastic or metal roll as a core without gaps.
Examples of brush materials include plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylics such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylate). And polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene). For example, the fiber hair diameter is 20 to 400 μm, and the hair length is 5 to 30 mm.
Can be preferably used. The outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm,
The peripheral speed at the tip of the brush rubbing the printing plate is preferably 0.1 to 5 m / sec. It is preferable to use two or more rotating brush rolls.

本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に
対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図1に例示した自動処理機のよう
に、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロール
が、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが
好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブ
ラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。
上記現像液は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。
The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor of the present invention. As described above, when two or more rotating brush rolls are used, it is preferable that at least one rotating brush roll rotates in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the photosensitive layer in the non-image area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.
Although the said developing solution can be used at arbitrary temperature, Preferably it is 10 to 50 degreeC.

本発明において用いられる親水化水溶液は、例えば、水を主成分(水を60質量%以上
含有)とした親水化化合物含有水溶液が好ましい。親水化化合物の含有量は、親水化水溶
液中に1質量%以上40質量%以下が好ましく、2質量%以上30質量%以下がより好ま
しく、3質量%以上20質量%以下が特に好ましい。親水化化合物以外の成分としては、
pH調整剤の他に前述の界面活性剤、有機溶剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機
酸、無機酸、無機塩などを含有することができる。これら成分は含有量を適宜調整して使
用することができる。親水化水溶液のpHは、2〜10が好ましく、より好ましくは3〜
8、さらに好ましくは4〜7である。
なお、本発明においては、上記のように処理した平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾
燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。不感脂化処理では、公知の不感脂化
液を用いることができる。
The hydrophilic aqueous solution used in the present invention is preferably, for example, a hydrophilic compound-containing aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water). The content of the hydrophilic compound is preferably 1% by mass to 40% by mass, more preferably 2% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 3% by mass to 20% by mass in the hydrophilized aqueous solution. As components other than the hydrophilic compound,
In addition to the pH adjuster, the aforementioned surfactant, organic solvent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, inorganic acid, inorganic salt and the like can be contained. These components can be used by appropriately adjusting the content. The pH of the hydrophilized aqueous solution is preferably 2 to 10, more preferably 3 to 3.
8, more preferably 4-7.
In the present invention, the lithographic printing plate treated as described above can be optionally washed with water, dried and desensitized. In the desensitizing treatment, a known desensitizing solution can be used.

以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例1〜66及び比較例1〜46〕
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
[Examples 1 to 66 and Comparative Examples 1 to 46]

(アルミニウム支持体1の作製)
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A1050)の表面の圧延油を除去
するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施
した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸
濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄し
た。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを
行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このと
きの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温5
0℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.
8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として
電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電
流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(Preparation of aluminum support 1)
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material: JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the bristle diameter was set to 0.00. The aluminum surface was grained using three 3 mm bundled nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time is a 1% by mass aqueous solution of nitric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions), a liquid temperature of 5
It was 0 ° C. In the AC power supply waveform, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.
An electrochemical roughening treatment was performed using a trapezoidal rectangular wave alternating current of 8 msec, a duty ratio of 1: 1, and a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50
℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と
同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
この板を15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、アルミニウム支持体1を作製した。
このようにして得られた支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測
定したところ、0.51μmであった。
Next, a 0.5 mass% hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5 mass% aluminum ions), a liquid temperature of 50
An electrolytic surface roughening treatment was performed in the same manner as in nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was an anode with an electrolytic solution at ° C, and then washed with water by spraying. .
The plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using a 15% by mass sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. An aluminum support 1 was prepared.
The center line average roughness (Ra) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

<平版印刷版原版用支持体1〜8の作製>
上記のようにして得られたアルミニウム支持体1上に、以下の組成を有する表面処理液
1を塗布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、10mg/
であった。
<Preparation of lithographic printing plate precursor supports 1-8>
On the aluminum support 1 obtained as described above, a surface treatment solution 1 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 10 mg /
It was m 2.

(表面処理液1)
・表1記載の表面処理化合物 0.50g
・N−メチルピロリドン 49.00g
・メタノール 450.00g
・水 1.50g
・リン酸 0.01g
(Surface treatment liquid 1)
・ Surface treatment compounds listed in Table 1 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 49.00g
・ Methanol 450.00g
・ Water 1.50g
・ Phosphoric acid 0.01g

<平版印刷版原版用支持体9〜16の作製>
上記のようにして得られたアルミニウム支持体1上に、以下の組成を有する表面処理液
2を塗布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、7mg/m
であった。
<Preparation of lithographic printing plate precursors 9 to 16>
On the aluminum support 1 obtained as described above, a surface treatment liquid 2 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 7 mg / m
2 .

(表面処理液2)
・表1記載の表面処理化合物 0.50g
・N−メチルピロリドン 49.00g
・メタノール 450.00g
・水 1.50g
(Surface treatment liquid 2)
・ Surface treatment compounds listed in Table 1 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 49.00g
・ Methanol 450.00g
・ Water 1.50g

こうして得られた平版印刷版原版用支持体1〜16の空中水滴接触角を、先に記載した測定方法に従って測定した。結果を表1に示す。   The aerial water droplet contact angles of the lithographic printing plate precursor supports 1 to 16 thus obtained were measured according to the measurement method described above. The results are shown in Table 1.

平版印刷版原版用支持体1〜16を、3×3cmの大きさに切断し、下記の水溶液1〜7(いずれもpH4.5〜5.5)20mLに温度25℃にて1分間浸漬した。その後、蒸留水により洗浄し、100℃にて1分間乾燥して親水化化合物で処理した平版印刷版原版用支持体を得た。   The lithographic printing plate precursor supports 1 to 16 were cut to a size of 3 × 3 cm and immersed in 20 mL of the following aqueous solutions 1 to 7 (both pH 4.5 to 5.5) at a temperature of 25 ° C. for 1 minute. . Thereafter, it was washed with distilled water, dried at 100 ° C. for 1 minute, and a lithographic printing plate precursor support treated with a hydrophilic compound was obtained.

(水溶液1〜7)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル 1.00g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・表1記載の親水化化合物 1.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
(Aqueous solutions 1-7)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether 1.00g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
-1.00 g of hydrophilized compounds listed in Table 1
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

処理後の平版印刷版原版用支持体の空中水滴接触角を、上記と同様にして測定した。結
果を表1に示す。
The aerial water droplet contact angle of the lithographic printing plate precursor support after the treatment was measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 1.

表1の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版用支持体(その表面に、
官能基Xを有する化合物を有する)は、親水化化合物(官能基Yを有する化合物)を含む
水溶液で処理することにより、その表面の空中水滴接触角が70°以上から30°以下に
低下する。これに対して、親水化化合物を含まない水溶液で処理した場合には、空中水滴
接触角の低下は全く認められない。また、その表面に、官能基Xを有する化合物を有さな
い支持体においては、空中水滴接触角は70°以上であるものの、親水化化合物を含む水
溶液での処理により、その空中水滴接触角がせいぜい60°に低下する程度である。
As is apparent from the results in Table 1, the support for a lithographic printing plate precursor according to the present invention (on its surface,
When a compound having a functional group X is treated with an aqueous solution containing a hydrophilic compound (a compound having a functional group Y), the aerial water droplet contact angle on the surface is reduced from 70 ° to 30 °. On the other hand, when treated with an aqueous solution containing no hydrophilizing compound, no decrease in the contact angle of the water droplets is observed. Moreover, in the support body which does not have the compound which has the functional group X on the surface, although an air drop contact angle is 70 degrees or more, the treatment with the aqueous solution containing a hydrophilization compound makes the air drop contact angle small. At most, it is reduced to 60 °.

<平版印刷版原版1〜16の作製>
上記の各平版印刷版原版用支持体上に、以下の組成を有する感光層塗布液1を塗布し、
80℃にて1分間乾燥した。得られた感光層の塗布量は、1.2g/mであった。
<Preparation of lithographic printing plate precursors 1 to 16>
On the above lithographic printing plate precursor support, a photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was applied,
Dry at 80 ° C. for 1 minute. The coating amount of the obtained photosensitive layer was 1.2 g / m 2 .

(感光層塗布液1)
・下記バインダーポリマー(1) 0.54g
・重合性化合物(1) 0.48g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート
(アロニックスM−315、東亜合成(株)製)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.10g
・下記共増感剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
〔顔料:15質量部、分散剤としてアリルメタクリレート/メタクリル酸
(80/20)共重合体:10質量部、溶剤としてシクロヘキサノン/
メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15
質量部/20質量部/40質量部〕
・メチルエチルケトン 4.80g
・ジメチルスルホキシド 4.80g
(Photosensitive layer coating solution 1)
-0.54g of the following binder polymer (1)
・ Polymerizable compound (1) 0.48 g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (Aronix M-315, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.10 g
・ The following co-sensitizer (1) 0.07 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
[Pigment: 15 parts by mass, allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20) copolymer as dispersant: 10 parts by mass, cyclohexanone /
Methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15
Part by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass]
・ Methyl ethyl ketone 4.80g
・ Dimethyl sulfoxide 4.80g

感光層上に、以下の組成を有する保護層塗布液1を乾燥塗布量が0.75g/m2とな
るようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層を形成し、平版印
刷版原版1〜16を作製した。
A protective layer coating solution 1 having the following composition was applied on the photosensitive layer using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer. Then, lithographic printing plate precursors 1 to 16 were prepared.

(保護層塗布液1)
・ポリビニルアルコール(ケン化度:98モル%、重合度:500) 40g
・ポリビニルピロリドン(分子量:5万) 5g
・ポリ〔ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1)〕(分子量:7万) 0.5g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.5g
・水 950g
(Protective layer coating solution 1)
Polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 500) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (molecular weight: 50,000) 5g
・ Poly [vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)] (molecular weight: 70,000) 0.5 g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5g
・ 950g of water

(1)露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版1〜16各々について、出力100mWの405nm半導体レーザ
ーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行った。
その後、前記水溶液1〜7を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、現像処理を
実施し平版印刷版(加熱なし)を作成した。自動現像処理機は、回転ブラシロールを2本
有し、1本目の回転ブラシロールは、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径2
00μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径90mmのブラシロールで、搬送方向と
同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.94m/sec)させ、2本目の回
転ブラシロールは、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長
さ17mm)を植え込んだ外径60mmのブラシロールで、搬送方向と反対方向に毎分2
00回転(ブラシの先端の周速0.63m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、
搬送速度100cm/minにて実施した。
(1) Exposure, development and printing Each of the above lithographic printing plate precursors 1 to 16 was subjected to imagewise exposure using a 405 nm semiconductor laser having an output of 100 mW while changing the energy density.
Thereafter, using the aqueous solutions 1 to 7, development processing was performed with an automatic development processor having a structure shown in FIG. 1 to prepare a lithographic printing plate (no heating). The automatic developing processor has two rotating brush rolls, and the first rotating brush roll is made of polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 2).
A brush roll having an outer diameter of 90 mm in which 00 μm and a hair length of 17 mm are implanted, is rotated 200 times per minute in the same direction as the conveying direction (peripheral speed of the brush tip is 0.94 m / sec), and the second rotating brush roll Is a brush roll with an outer diameter of 60 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) are implanted at a rate of 2 per minute in the direction opposite to the conveying direction.
00 rotation (peripheral speed of the brush tip 0.63 m / sec). Transportation of lithographic printing plate precursor is
It implemented at the conveyance speed of 100 cm / min.

水溶液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した
。水溶液のタンク容量は、10リットルであった。
一方、レーザー画像様露光後、30秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を
吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、110℃で15秒間保持した。その後、30
秒以内に、上記と同様の現像処理を実施し平版印刷版(加熱あり)を作成した。
次いで、平版印刷版(加熱なし)、平版印刷版(加熱あり)を、ハイデルベルグ社製印
刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/
イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ
(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った
The aqueous solution was showered from the spray pipe by a circulation pump and supplied to the plate surface. The tank capacity of the aqueous solution was 10 liters.
On the other hand, the lithographic printing plate precursor was placed in an oven within 30 seconds after the laser image-like exposure, and the entire surface of the lithographic printing plate precursor was heated by blowing hot air, and held at 110 ° C. for 15 seconds. Then 30
Within seconds, the same development treatment as described above was performed to prepare a lithographic printing plate (with heating).
Next, the lithographic printing plate (without heating) and the lithographic printing plate (with heating) are attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (Effect manufactured by FUJIFILM Corporation) / water /
Using isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

(2)評価
耐刷性及び耐汚れ性を下記のように評価した。結果を表2に示す。
<耐刷性>
上記の印刷を行い、印刷枚数が増加すると、徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下
するため、印刷物におけるインキ濃度が低下した。同一露光量(エネルギー密度)で露光
した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの
印刷枚数により耐刷性を相対評価した。即ち、比較例7を基準(100)とし、以下の式
に従い計算した。数字が大きいことは耐刷性が高いことを表している。
耐刷性=(対象平版印刷版の耐刷枚数)/(基準平版印刷版の耐刷枚数)×100
(2) Evaluation The printing durability and stain resistance were evaluated as follows. The results are shown in Table 2.
<Print durability>
When the above-mentioned printing was performed and the number of printed sheets increased, the photosensitive layer was gradually worn out and the ink receptivity was lowered, so that the ink density in the printed material was lowered. In a printing plate exposed at the same exposure amount (energy density), the printing durability was relatively evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. That is, the calculation was performed according to the following formula with Comparative Example 7 as a reference (100). Large numbers indicate high printing durability.
Printing durability = (Number of printing durability of target lithographic printing plate) / (Number of printing durability of standard lithographic printing plate) × 100

<耐汚れ性>
印刷開始後500枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により
耐汚れ性を相対評価した。即ち、比較例7を基準(100)とし、以下の式に従い計算し
た。数字が大きいことは非画像部に付着しているインキ濃度が低いこと、即ち耐汚れ性が
良好であることを表す。
耐汚れ性=(基準平版印刷版の非画像部インキ濃度)/(対象平版印刷版の非画像部インキ濃度)×100
<Stain resistance>
After the start of printing, the 500th printed material was taken out and the stain resistance was evaluated relative to the density of the ink adhering to the non-image area. That is, the calculation was performed according to the following formula with Comparative Example 7 as a reference (100). A large number indicates that the ink density adhered to the non-image area is low, that is, the stain resistance is good.
Stain resistance = (Non-image area ink density of standard lithographic printing plate) / (Non-image area ink density of target lithographic printing plate) × 100

表2の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高
い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
As is clear from the results in Table 2, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can provide a lithographic printing plate having both high printing durability and excellent stain resistance by simple treatment.

〔実施例67〜77及び比較例47〜51〕
<平版印刷版原版17〜32の作製>
上記感光層塗布液1を下記感光層塗布液2に変更した以外は、平版印刷版原版1〜16
の作製と同様にして平版印刷版原版17〜32を作製した。
[Examples 67 to 77 and Comparative Examples 47 to 51]
<Preparation of planographic printing plate precursors 17 to 32>
The lithographic printing plate precursors 1 to 16 except that the photosensitive layer coating solution 1 is changed to the following photosensitive layer coating solution 2
The lithographic printing plate precursors 17 to 32 were prepared in the same manner as described above.

(感光層塗布液2)
・下記バインダーポリマー(2) 0.54g
・下記重合性化合物(2) 0.48g
・上記増感色素(1) 0.06g
・上記重合開始剤(1) 0.18g
・上記共増感剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
〔顔料:15質量部、分散剤としてアリルメタクリレート/メタクリル酸
(80/20)共重合体:10質量部、溶剤としてシクロヘキサノン/
メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15
質量部/20質量部/40質量部〕
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.04g
(旭電化工業(株)製、プルロニックL44)
・テトラエチルアミン塩酸塩 0.01g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
(Photosensitive layer coating solution 2)
・ The following binder polymer (2) 0.54 g
-0.48 g of the following polymerizable compound (2)
-0.06 g of the above sensitizing dye (1)
・ The above polymerization initiator (1) 0.18 g
・ Cosensitizer (1) 0.07g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
[Pigment: 15 parts by mass, allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20) copolymer as dispersant: 10 parts by mass, cyclohexanone /
Methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15
Part by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass]
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt, the following fluorosurfactant (1) 0.001 g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.04g
(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., Pluronic L44)
・ Tetraethylamine hydrochloride 0.01g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

得られた平版印刷版原版17〜32を、前記水溶液5を用いる他は実施例1と同様にし
て露光、現像及び印刷を行い、同様に評価した。評価の基準には比較例47を用いた。結
果を表3に示す。
The obtained lithographic printing plate precursors 17 to 32 were exposed, developed and printed in the same manner as in Example 1 except that the aqueous solution 5 was used, and evaluated in the same manner. Comparative Example 47 was used as the evaluation standard. The results are shown in Table 3.

表3の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高
い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
As is apparent from the results in Table 3, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can provide a lithographic printing plate having both high printing durability and excellent stain resistance by simple treatment.

〔実施例78〜88及び比較例52〜56〕
(アルミニウム支持体2の作製)
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A1050)を、下記に示す工程(
a)〜(k)をこの順序で実施して表面処理した。
[Examples 78 to 88 and Comparative Examples 52 to 56]
(Preparation of aluminum support 2)
An aluminum plate (material: JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm is subjected to the following steps (
a) to (k) were carried out in this order for surface treatment.

(a)機械的粗面化処理
研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液(比重1.12)を研磨スラリー液としてアルミニウ
ム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行
った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質
は6・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシは
Φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3
本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(Φ200mm)の距離は300mmであっ
た。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウ
ム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回
転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであ
った。
(A) Mechanical surface-roughening treatment A roller-type nylon brush rotates while supplying a suspension (specific gravity 1.12) of an abrasive (silica sand) and water as a polishing slurry to the surface of an aluminum plate. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. 3 rotating brushes
Used this book. The distance between the two support rollers (Φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
得られたアルミニウム板に温度70℃のカセイソーダ水溶液(濃度26質量%、アルミ
ニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板
を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(B) Alkaline etching treatment The obtained aluminum plate is sprayed with a caustic soda aqueous solution (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) at a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate 6 g / m 2. did. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で
、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用
いた硝酸水溶液は、下記工程(d)における電解液の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. As the nitric acid aqueous solution used for desmutting, the waste solution of the electrolytic solution in the following step (d) was used.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電
解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温
度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0
.8ms、DUTY比1:1、台形の矩形波を用いて、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジア
ルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、電気量は
アルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源
から流れる電流の5%を分流させた。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. AC power supply waveform has zero time TP until the current value reaches the peak from zero
. An electrochemical roughening treatment was performed using a trapezoidal rectangular wave for 8 ms, a DUTY ratio of 1: 1, with a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%
水溶液でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/
2 溶解し、工程(d)において生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分
を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。そ
の後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。エッチング量は、3.5g/m2であ
った。
(E) Alkaline etching treatment An aluminum plate is made of caustic soda concentration of 26% by mass and aluminum ion concentration of 6.5% by mass.
Etching treatment by spraying with aqueous solution is performed at 32 ° C., and aluminum plate is 0.20 g /
m 2 was dissolved to remove the smut component mainly composed of aluminum hydroxide formed in the step (d), and the edge portion of the generated pit was dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water. The etching amount was 3.5 g / m 2 .

(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)
で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。
デスマットに用いた硝酸水溶液は、工程(d)における電解液の廃液を用いた。
(F) Desmutting treatment A 15% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 4.5% by mass of aluminum ions)
Then, the desmut treatment was performed by spraying, and then washed with water using well water.
As the nitric acid aqueous solution used for desmutting, the waste solution of the electrolytic solution in step (d) was used.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電
解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む。)
、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化
学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセ
ルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2 、電気量はアル
ミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。その後、井水を用いてス
プレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time is a 7.5 g / liter aqueous solution of hydrochloric acid (containing 5 g / liter of aluminum ions).
The temperature was 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%
水溶液でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/
2 溶解し、工程(g)において生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分
を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。そ
の後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate is made with caustic soda concentration of 26% by mass and aluminum ion concentration of 6.5% by mass.
Etching by spraying with an aqueous solution at 32 ° C., and an aluminum plate of 0.10 g /
m 2 was dissolved to remove the smut component mainly composed of aluminum hydroxide formed in the step (g), and the edge portion of the generated pit was dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)
で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を
行った。
(I) Desmutting treatment An aqueous solution containing 25% by mass of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions)
Then, desmutting treatment was performed by spraying, and then water washing by spraying was performed using well water.

(j)陽極酸化処理
電解液として硫酸濃度170g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%
含む。)を用い、温度43℃で陽極酸化処理を行った。電流密度は約30A/dm2 であ
った。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7
g/m2であった。
(J) Anodizing treatment As an electrolytic solution, sulfuric acid concentration of 170 g / liter aqueous solution (0.5% by mass of aluminum ions)
Including. ) And an anodizing treatment at a temperature of 43 ° C. was performed. The current density was about 30A / dm 2. Thereafter, washing with water was performed using well water. The final oxide film amount is 2.7
g / m 2 .

(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理
アルミニウム板を温度30℃の3号ケイ酸ソーダ1質量%水溶液中へ、10秒間浸漬す
ることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いた
スプレーによる水洗を行うことにより、アルミニウム支持体を作製した。シリケート付着
量は3.6mg/m2 であった。
(K) Alkali metal silicate treatment The alkali metal silicate treatment (silicate treatment) was performed by immersing the aluminum plate in a 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 having a temperature of 30 ° C. for 10 seconds. Then, the aluminum support body was produced by performing the water washing by the spray using well water. The amount of silicate adhered was 3.6 mg / m 2 .

<平版印刷版原版用支持体17〜24の作製>
上記のようにして得られたアルミニウム支持体2上に、以下の組成を有する表面処理液
3を塗布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、10mg/
であった。
<Preparation of lithographic printing plate precursor supports 17-24>
On the aluminum support 2 obtained as described above, a surface treatment liquid 3 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 10 mg /
It was m 2.

(表面処理液3)
・表4記載の表面処理化合物 0.50g
・N−メチルピロリドン 49.00g
・メタノール 450.00g
・水 1.50g
・リン酸 0.01g
(Surface treatment liquid 3)
・ Surface treatment compounds listed in Table 4 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 49.00g
・ Methanol 450.00g
・ Water 1.50g
・ Phosphoric acid 0.01g

<平版印刷版用支持体25〜32の作製>
上記のようにして得られたアルミ支持体2上に、以下の組成を有する表面処理液4を塗
布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、7mg/mであ
った。
<Preparation of lithographic printing plate supports 25-32>
On the aluminum support 2 obtained as described above, a surface treatment liquid 4 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 7 mg / m 2 .

(表面処理液4)
・表4記載の表面処理化合物 0.50g
・N−メチルピロリドン 49.00g
・メタノール 450.00g
・水 1.50g
(Surface treatment liquid 4)
・ Surface treatment compounds listed in Table 4 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 49.00g
・ Methanol 450.00g
・ Water 1.50g

こうして得られた平版印刷版用支持体17〜32の空中水滴接触角を、先に記載した測
定方法に従って測定した。結果を表4に示す。
The aerial water droplet contact angles of the lithographic printing plate supports 17 to 32 thus obtained were measured according to the measurement method described above. The results are shown in Table 4.

上記の平版印刷版原版用支持体17〜32を、3×3cmの大きさに切断し、前記水溶
液1の20mLに温度25℃にて1分間浸漬した。その後、蒸留水により支持体を洗浄し
、100℃にて1分間乾燥して親水化化合物で処理した平版印刷版原版用支持体を得た。
The above lithographic printing plate precursor supports 17 to 32 were cut into a size of 3 × 3 cm and immersed in 20 mL of the aqueous solution 1 at a temperature of 25 ° C. for 1 minute. Thereafter, the support was washed with distilled water, dried at 100 ° C. for 1 minute, and a lithographic printing plate precursor support treated with a hydrophilic compound was obtained.

処理後の平版印刷版原版用支持体の空中水滴接触角を、上記と同様にして測定した。結
果を表4に示す。
The aerial water droplet contact angle of the lithographic printing plate precursor support after the treatment was measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 4.

<平版印刷版原版33〜48の作製>
上記の各平版印刷版原版用支持体上に、下記組成の感光層塗布液3をバー塗布し、70
℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層を形成した。
<Preparation of lithographic printing plate precursors 33-48>
A photosensitive layer coating solution 3 having the following composition is bar-coated on each of the above lithographic printing plate precursor supports, and 70
Oven drying was performed at 60 ° C. for 60 seconds to form a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 .

感光層塗布液3は、下記感光液(1)及びマイクロカプセル液(1)を塗布直前に混合
して調製した。
感光液(1)
・下記バインダーポリマー(3) 0.162g
・下記重合開始剤(2) 0.160g
・下記重合開始剤(3) 0.180g
・下記赤外線吸収剤(1) 0.020g
・重合性化合物 0.385g
アロニックスM−215(東亜合成(株)製)
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.210g
The photosensitive layer coating solution 3 was prepared by mixing the following photosensitive solution (1) and microcapsule solution (1) immediately before coating.
Photosensitive solution (1)
・ The following binder polymer (3) 0.162 g
・ The following polymerization initiator (2) 0.160 g
・ The following polymerization initiator (3) 0.180 g
・ The following infrared absorber (1) 0.020 g
・ Polymerizable compound 0.385 g
Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ 0.044 g of the above fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.210 g

マイクロカプセル液(1)
・下記の通り作成したマイクロカプセル(1) 2.640g
・水 2.425g
Microcapsule liquid (1)
・ Microcapsule (1) prepared as follows: 2.640 g
・ Water 2.425g

マイクロカプセル(1)の作成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武
田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10g、アロ
ニックスSR−399(東亞合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油
脂(株)製)0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてPVA−2
05の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジ
ナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25
gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られたマ
イクロカプセル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。マ
イクロカプセルの平均粒径は0.2μmであった。
Preparation of microcapsule (1) As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75 mass% ethyl acetate solution), 10 g, Aronix SR-399 ( Toagosei Co., Ltd. (6.00 g) and Pionein A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.12 g were dissolved in ethyl acetate 16.67 g. PVA-2 as water phase component
37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of 05 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to distilled water 25.
After stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 15% by mass. The average particle size of the microcapsules was 0.2 μm.

感光層上に下記保護層塗布液2をバー塗布し、125℃75秒でオーブン乾燥し、乾燥
塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版33から48を作製した。
The following protective layer coating solution 2 was bar coated on the photosensitive layer and oven dried at 125 ° C. for 75 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 to prepare lithographic printing plate precursors 33 to 48. .

(保護層塗布液2)
・ポリビニルアルコール(6質量%水溶液) 2.24g
((株)クラレ製PVA105、ケン化度:98.5モル%、重合度:500)
・ポリビニルピロリドン(K30) 0.0053g
・界面活性剤(1質量%水溶液)(花王(株)製エマレックス710) 2.15g
・鱗状合成雲母(3.4質量%水分散物) 3.75g
(UNICOO(株)製MEB3L、平均粒径1〜5μmΦ)
・蒸留水 10.60g
(Protective layer coating solution 2)
・ Polyvinyl alcohol (6% by mass aqueous solution) 2.24 g
(Pura 105 manufactured by Kuraray Co., Ltd., degree of saponification: 98.5 mol%, degree of polymerization: 500)
・ Polyvinylpyrrolidone (K30) 0.0053g
-Surfactant (1% by weight aqueous solution) (Emalex 710 manufactured by Kao Corporation) 2.15 g
Scale-like synthetic mica (3.4% by mass aqueous dispersion) 3.75 g
(MEB3L manufactured by UNICOO Co., Ltd., average particle diameter of 1 to 5 μmΦ)
・ Distilled water 10.60g

(1)露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版33〜48各々について、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載
のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数
210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。
その後、前記水溶液1を用い、実施例1と同様にして現像処理を実施し平版印刷版(加
熱なし)を作成した。
(1) Exposure, development, and printing Each of the above lithographic printing plate precursors 33 to 48 was exposed with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser-mounted Creo Trendsetter 3244VX under conditions of an output of 9 W, an outer drum rotation speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi. .
Thereafter, the aqueous solution 1 was used for the development treatment in the same manner as in Example 1 to prepare a lithographic printing plate (without heating).

一方、レーザー露光後、30秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付
けて平版印刷版原版の全面を加熱し、110℃で15秒間保持した。その後、30秒以内
に、上記と同様の現像処理を実施し平版印刷版(加熱あり)を作成した。
次いで、平版印刷版(加熱なし)及び平版印刷版(加熱あり)を用いて、実施例1と同
様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。評価の基準には比較例52を用いた。結果を表
4に示す。
On the other hand, the lithographic printing plate precursor was placed in an oven within 30 seconds after the laser exposure, and hot air was blown to heat the entire surface of the lithographic printing plate precursor, and held at 110 ° C. for 15 seconds. Thereafter, within 30 seconds, the same development treatment as described above was performed to prepare a lithographic printing plate (with heating).
Subsequently, printing durability and stain resistance were evaluated in the same manner as in Example 1 using a lithographic printing plate (without heating) and a lithographic printing plate (with heating). Comparative Example 52 was used as the evaluation standard. The results are shown in Table 4.

表4の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高
い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
As is clear from the results in Table 4, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can provide a lithographic printing plate having both high printing durability and excellent stain resistance by simple treatment.

〔実施例89〜90及び比較例57〜58〕
平版印刷版原版5、7、37、39を実施例1、実施例78と同様にしてレーザー画像
露光した後、図2に示す構造の自動現像処理機を用い、プレヒート部のヒーターを停止し
、現像浴に下記組成の現像液1を、Fin浴に下記組成を有する水溶液8を入れ、プレ水洗
、水洗には水を使用し、乾燥ゾーンの温度を110℃として搬送速度100cm/分で現
像処理を実施し、平版印刷版(加熱なし)を作成した。
一方、レーザー画像露光後、プレヒート部のヒーターを稼動させてプレヒート部の温
度を110℃とした状態で、上記と同様の現像処理を実施し、平版印刷版(加熱あり)を
作成した。
また、平版印刷版原版5、7、37、39に用いた平版印刷版原版用支持体5、7、2
1、23について、上記現像処理機を用いて、プレ水洗浴まで、現像浴まで、Fin浴まで
通過した支持体を取り出し、夫々の空中水滴接触角を測定した。
[Examples 89 to 90 and Comparative Examples 57 to 58]
After exposing the lithographic printing plate precursors 5, 7, 37, 39 to laser images in the same manner as in Example 1 and Example 78, using the automatic development processor having the structure shown in FIG. The developer 1 having the following composition is put in the developing bath, the aqueous solution 8 having the following composition is put in the Fin bath, water is used for pre-washing and washing, and the temperature of the drying zone is 110 ° C., and the development processing is performed at a conveyance speed of 100 cm / min. The lithographic printing plate (without heating) was prepared.
On the other hand, after the laser image exposure, the same heating treatment as described above was carried out in a state where the heater of the preheating part was operated and the temperature of the preheating part was 110 ° C., and a lithographic printing plate (with heating) was prepared.
Further, the lithographic printing plate precursor supports 5, 7, 2 used for the lithographic printing plate precursors 5, 7, 37, 39 are used.
About 1 and 23, the support body which passed to the pre-washing bath, the development bath, and the Fin bath was taken out using the above developing processor, and the contact angle of each water droplet was measured.

次いで、平版印刷版(加熱あり)及び平版印刷版(加熱なし)を用いて、実施例1と同
様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。評価の基準には比較例57及び58を用いた。
結果を表5に示す。
Subsequently, printing durability and stain resistance were evaluated in the same manner as in Example 1 using a lithographic printing plate (with heating) and a lithographic printing plate (without heating). Comparative Examples 57 and 58 were used as evaluation criteria.
The results are shown in Table 5.

(現像液1)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル
(オキシエチレン平均数n=13) 1.00g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
(Developer 1)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13) 1.00 g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

(水溶液8)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・アラビアガム 1.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
(Aqueous solution 8)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Arabic gum 1.00g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

表5の結果からから明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、現像後に親水化化合物を含有する水溶液で処理する製版方法によっても、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。   As is clear from the results in Table 5, the lithographic printing plate precursor according to the present invention combines high printing durability and excellent stain resistance even by a plate making method in which an aqueous solution containing a hydrophilizing compound is treated after development. Can be provided.

〔実施例91〜96及び比較例59〜60〕
平版印刷版原版33〜40各々について、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のC
reo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数21
0rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光済み平版印刷版原版を現像処理
することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。以下に
示す組成を有する湿し水(1)とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業
社製)を供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行い、実施例1と同様にして耐
刷性及び耐汚れ性を評価した。評価の基準には比較例59を用いた。また、処理後の平版印刷版原版用支持体の空中水滴接触角は、水溶液1の替わりに下記湿し水(1)を用いて、実施例78と同様にして測定した。結果を表6に示す。
[Examples 91 to 96 and Comparative Examples 59 to 60]
For each of the lithographic printing plate precursors 33 to 40, C equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser
Reo Trendsetter 3244VX, output 9W, outer drum rotation speed 21
The exposure was performed under the conditions of 0 rpm and resolution of 2400 dpi. The exposed lithographic printing plate precursor was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. After supplying fountain solution (1) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) having the following composition, printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour. Similarly, printing durability and stain resistance were evaluated. Comparative Example 59 was used as the evaluation standard. In addition, the aerial water droplet contact angle of the treated lithographic printing plate precursor support was measured in the same manner as in Example 78 using the following dampening solution (1) instead of the aqueous solution 1. The results are shown in Table 6.

<湿し水(1)>
・ポリマー(2) 3質量部
・EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液) 1質量部
・水 89質量部
・イソプロピルアルコール 7質量部
<Dampening water (1)>
-Polymer (2) 3 parts by mass-EU-3 (Fuji Film Co., Ltd. etchant) 1 part by mass-Water 89 parts by mass-Isopropyl alcohol 7 parts by mass

表6の結果からから明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理(機上
現像)により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することが
できる。
As is clear from the results in Table 6, the lithographic printing plate precursor according to the present invention provides a lithographic printing plate having both high printing durability and excellent stain resistance by simple processing (on-press development). be able to.

〔実施例97〜108及び比較例61〜64〕
<平版印刷版原版49〜56の作製>
上記平版印刷版原版用支持体17〜24上に、下記組成の画像形成層塗布液Aを塗布し、35℃で1時間乾燥し、乾燥塗布量1.3g/mの画像形成層を形成して平版印刷版原版49〜56を作製した。
[Examples 97 to 108 and Comparative Examples 61 to 64]
<Preparation of lithographic printing plate precursors 49-56>
An image forming layer coating solution A having the following composition is applied onto the lithographic printing plate precursor supports 17 to 24 and dried at 35 ° C. for 1 hour to form an image forming layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2. Thus, lithographic printing plate precursors 49 to 56 were prepared.

(画像形成層塗布液A)
Hostapal B(重合体に対して1%)で安定化されたポリメタクリル酸メチル(粒子直径90nm)の脱イオン水中10%分散液11.25gに、撹拌しながら、5.83gのカーボンブラックの水中15%分散液、57.92gの水および25gの98%加水分解されたポリ酢酸ビニル(質量平均分子量:20万)の2%水溶液を連続的に加えて調製した。
(Image forming layer coating solution A)
5.83 g of carbon black in water with stirring to 11.25 g of a 10% dispersion of polymethyl methacrylate (particle diameter 90 nm) stabilized with Hostapal B (1% based on polymer) in deionized water. A 15% dispersion, 57.92 g of water and 25 g of 98% hydrolyzed polyvinyl acetate (mass average molecular weight: 200,000) 2% aqueous solution were added continuously.

<平版印刷版原版57〜64の作製>
上記平版印刷版原版用支持体17〜24上に、下記組成の画像形成層塗布液Bを塗布し、60℃にて2分間乾燥し、乾燥塗布量1.3g/mの画像形成層を形成して平版印刷用原版57〜64を作製した。
<Preparation of lithographic printing plate precursors 57-64>
An image forming layer coating solution B having the following composition is applied onto the lithographic printing plate precursor supports 17 to 24 and dried at 60 ° C. for 2 minutes to form an image forming layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2. Formed were lithographic printing original plates 57 to 64.

(画像形成層塗布液B)
水 30g
下記ノボラック樹脂微粒子分散物 11.8g
トリクレジルホスフェート 0.1g
メガファックF−171(フッ素系界面活性剤、 0.1g
大日本インキ化学工業(株)製)
(Image forming layer coating solution B)
30 g of water
The following novolak resin fine particle dispersion 11.8 g
Tricresyl phosphate 0.1g
MegaFuck F-171 (Fluorosurfactant, 0.1g
Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)

(ノボラック樹脂微粒子分散物の調製)
酢酸エチル12.0gおよびメチルエチルケトン6.0gに、重量平均分子量1500のフェノールノボラック樹脂(メタ/パラ比60/40)6.0g、下記光熱変換剤(IR−26)1.5g、アニオン性界面活性剤(パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを溶解して油相成分を作製した。これに4%のポリビニルアルコール(クラレ(株)製、PVA205)水溶液36.0gの水相成分を加え、ホモジナイザーで15000rpmで15分間乳化した。水24.0gを加えた後、40℃で3時間加熱し有機溶剤を除去した。得られたノボラック樹脂微粒子分散物の固形分濃度を測定したところ、13.0重量%であった。平均粒径は0.25μmであった。
(Preparation of novolac resin fine particle dispersion)
12.0 g of ethyl acetate and 6.0 g of methyl ethyl ketone, 6.0 g of phenol novolac resin (meta / para ratio 60/40) having a weight average molecular weight of 1500, 1.5 g of the following photothermal conversion agent (IR-26), anionic surface activity An oil phase component was prepared by dissolving 0.1 g of an agent (Pionine A-41C (manufactured by Takemoto Oil & Fats Co., Ltd.)), and 36.0 g of 4% polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA205) aqueous solution. The phase components were added and emulsified with a homogenizer at 15000 rpm for 15 minutes, 24.0 g of water was added, and the organic solvent was removed by heating at 40 ° C. for 3 hours.The solid content concentration of the resulting novolak resin fine particle dispersion was measured. The result was 13.0% by weight, and the average particle size was 0.25 μm.

<露光、現像および印刷>
上記平版印刷版原版49〜56を、1050nmで発光する走査NdYLF赤外線レーザーで露光した(画像形成層表面上の走査速度4m/秒、スポット寸法15μm、出力170mW)。一方、平版印刷版原版57〜64を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したクレオ社製トレンドセッター3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm、解像度2400dpiの条件で露光した。
その後、露光済の各平版印刷版原版を、表7に示す様に、下記組成の現像液2を用いる以外は、実施例1と同様にして現像及び印刷を行い、同様に評価した。評価の基準には比較例61を用いた。結果を表7に示す。
<Exposure, development and printing>
The lithographic printing plate precursors 49 to 56 were exposed with a scanning NdYLF infrared laser emitting at 1050 nm (scanning speed 4 m / sec on the surface of the image forming layer, spot size 15 μm, output 170 mW). On the other hand, the lithographic printing plate precursors 57 to 64 were output under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotation speed of 210 rpm, a plate surface energy of 100 mJ / cm 2 , and a resolution of 2400 dpi using a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. Exposed.
Thereafter, as shown in Table 7, each exposed lithographic printing plate precursor was developed and printed in the same manner as in Example 1 except that the developer 2 having the following composition was used, and evaluated in the same manner. Comparative Example 61 was used as the evaluation standard. The results are shown in Table 7.

(現像液2)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル 1.00g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・アラビアガム 1.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
(Developer 2)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether 1.00g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Arabic gum 1.00g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt 0.05g

表7の結果からから明らかな様に、熱融着型画像形成層を有する本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。
〔実施例201〜250及び比較例201〜248〕
<平版印刷版原版用支持体1−1〜1−7の作製>
実施例1に記載のアルミニウム支持体1上に、以下の組成を有する表面処理液101を塗布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、10mg/mであった。
As is clear from the results in Table 7, the lithographic printing plate precursor according to the present invention having a heat-fusion type image forming layer is a lithographic printing having both high printing durability and excellent stain resistance by simple processing. A version can be provided.
[Examples 201 to 250 and Comparative Examples 201 to 248]
<Preparation of supports for lithographic printing plate precursor 1-1 to 1-7>
On the aluminum support 1 described in Example 1, a surface treatment liquid 101 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 10 mg / m 2 .

(表面処理液101)
・表101記載の表面処理化合物 0.50g
・N−メチルピロリドン 49.00g
・メタノール 450.00g
・水 1.50g
(Surface treatment liquid 101)
・ Surface treatment compounds listed in Table 101 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 49.00g
・ Methanol 450.00g
・ Water 1.50g

こうして得られた平版印刷版原版用支持体1−1〜1−7の空中水滴接触角を、先に記載した測定
方法に従って測定した。結果を表101に示す。
The aerial water droplet contact angles of the lithographic printing plate precursors 1-1 to 1-7 thus obtained were measured according to the measurement method described above. The results are shown in Table 101.

平版印刷版原版用支持体1−1〜1−7を、3×3cmの大きさに切断し、下記組成の水溶液101〜108(いずれもpH4.5−5.5)20mLに温度25℃にて1分間浸漬した。その後、蒸留水により洗浄し、100℃にて1分間乾燥して親水化処理後の平版印刷版原版用支持体を得た。   The lithographic printing plate precursors 1-1 to 1-7 are cut to a size of 3 × 3 cm, and 20 mL of aqueous solutions 101 to 108 having the following composition (both pH 4.5 to 5.5) are brought to a temperature of 25 ° C. Soaked for 1 minute. Thereafter, it was washed with distilled water and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a support for a lithographic printing plate precursor after hydrophilization.

(水溶液101〜108)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル 1.00g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・表101記載の親水化化合物 3.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
(Aqueous solutions 101-108)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether 1.00g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ 3.00 g of hydrophilized compounds listed in Table 101
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g

親水化処理後の平版印刷版原版用支持体1−1〜1−7の空中水滴接触角を、上記と同様にして測定した。結果を表101に示す。   The aerial water droplet contact angles of the lithographic printing plate precursor supports 1-1 to 1-7 after the hydrophilic treatment were measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 101.

表101における表面処理化合物及び親水化化合物:   Surface treatment compounds and hydrophilizing compounds in Table 101:

表101の結果から明らかなように、本発明に係る官能基Xを有する化合物と親水化化合物の組み合わせを用いた時のみ大きな接触角変化が得られる。即ち、本発明に係る平版印刷版原版用支持体(その表面に、官能基Xを有する化合物を有する)は、親水化化合物(官能基Yを有する化合物)を含む水溶液で処理することにより、その表面の空中水滴接触角が70°以上から30°以下に低下する。これに対して、親水化化合物を含まない水溶液で処理した場合あるいは比較親水化化合物を用いた場合には、空中水滴接触角の低下は全く認められないか極めてわずかである。また、その表面に、官能基Xを有する化合物を有さない支持体1−6及び1−7においては、空中水滴接触角は70°以上であるものの、親水化化合物を含む水溶液での処理により、その空中水滴接触角は極めてわずかしか低下しない。   As is clear from the results in Table 101, a large contact angle change can be obtained only when the combination of the compound having the functional group X according to the present invention and the hydrophilic compound is used. That is, the support for a lithographic printing plate precursor according to the present invention (having a compound having a functional group X on its surface) is treated with an aqueous solution containing a hydrophilizing compound (a compound having a functional group Y). The air contact angle of the surface with air drops from 70 ° to 30 °. On the other hand, when treated with an aqueous solution containing no hydrophilizing compound or when a comparative hydrophilizing compound is used, there is no or very little reduction in the contact angle of the water droplets in the air. Moreover, in the support bodies 1-6 and 1-7 which do not have the compound which has the functional group X on the surface, although an aerial water droplet contact angle is 70 degrees or more, by treatment with the aqueous solution containing a hydrophilizing compound The air contact angle of the air drops very little.

<平版印刷版原版用支持体2−1〜2−5作製>
前記アルミニウム支持体1上に、以下の組成を有する表面処理液102を塗布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた表面処理層の塗布量は、10mg/mであった。
<Preparation of lithographic printing plate precursor supports 2-1 to 2-5>
A surface treatment liquid 102 having the following composition was applied on the aluminum support 1 and dried at 100 ° C. for 3 minutes. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 10 mg / m 2 .

(表面処理液102)
・表102記載の表面処理化合物 0.50g
・N−メチルピロリドン 49.00g
・メタノール 450.00g
・水 1.50g
(Surface treatment liquid 102)
・ Surface treatment compound described in Table 102 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 49.00g
・ Methanol 450.00g
・ Water 1.50g

こうして得られた平版印刷版原版用支持体2−1〜2−5及び前記比較用平版印刷版原版用支持体1−6〜1−7の空中水滴接触角を、先に記載した測定方法に従って測定した。結果を表102に示す。   The air droplet contact angles of the lithographic printing plate precursor supports 2-1 to 2-5 and the comparative lithographic printing plate precursor supports 1-6 to 1-7 thus obtained were measured according to the measurement method described above. It was measured. The results are shown in Table 102.

上記のようにして得られた平版印刷版原版用支持体2−1〜2−5及び比較用平版印刷版原版用支持体1−6〜1−7を、3×3cmの大きさに切断し、下記組成の水溶液109〜116(いずれもpHは4.5−5.5)20mLに温度25℃にて1分間浸漬した。その後、蒸留水により洗浄し、100℃にて1分間乾燥して親水化処理後の平版印刷版原版用支持体を得た。   The lithographic printing plate precursor supports 2-1 to 2-5 and the comparative lithographic printing plate precursor supports 1-6 to 1-7 obtained as described above were cut to a size of 3 × 3 cm. The solution was immersed in 20 mL of an aqueous solution 109 to 116 having the following composition (all pH is 4.5-5.5) at a temperature of 25 ° C. for 1 minute. Thereafter, it was washed with distilled water and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a support for a lithographic printing plate precursor after hydrophilization.

(水溶液109〜116)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル 1.00g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・表102記載の親水化化合物 3.00g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
(Aqueous solutions 109 to 116)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether 1.00g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Hydrophilic compound described in Table 102 3.00 g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g

親水化処理後の平版印刷版原版用支持体2−1〜2−5及び比較用平版印刷版原版用支持体1−6〜1−7の空中水滴接触角を上記と同様にして測定した。結果を表102に示す。   The aerial water droplet contact angles of the lithographic printing plate precursor supports 2-1 to 2-5 and the comparative lithographic printing plate precursor supports 1-6 to 1-7 after the hydrophilization treatment were measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 102.

表102における表面処理化合物及び親水化化合物:   Surface treatment compounds and hydrophilizing compounds in Table 102:

表102の結果から明らかなように、本発明に係る官能基Xを有する化合物と親水化化合物の組み合わせを用いた時のみ大きな接触角変化が得られる。即ち、本発明に係る平版印刷版原版用支持体(その表面に、官能基Xを有する化合物を有する)は、親水化化合物(官能基Yを有する化合物)を含む水溶液で処理することにより、その表面の空中水滴接触角が70°以上から30°以下に低下する。これに対して、親水化化合物を含まない水溶液で処理した場合あるいは比較親水化化合物を用いた場合には、空中水滴接触角の低下は全く認められないか極めてわずかである。また、その表面に、官能基Xを有する化合物を有さない支持体1−6及び1−7においては、空中水滴接触角は70°以上であるものの、親水化化合物を含む水溶液での処理により、その空中水滴接触角は極めてわずかしか低下しない。   As is clear from the results in Table 102, a large contact angle change can be obtained only when the combination of the compound having the functional group X according to the present invention and the hydrophilic compound is used. That is, the support for a lithographic printing plate precursor according to the present invention (having a compound having a functional group X on its surface) is treated with an aqueous solution containing a hydrophilizing compound (a compound having a functional group Y). The air contact angle of the surface with air drops from 70 ° to 30 °. On the other hand, when treated with an aqueous solution containing no hydrophilizing compound or when a comparative hydrophilizing compound is used, there is no or very little reduction in the contact angle of the water droplets in the air. Moreover, in the support bodies 1-6 and 1-7 which do not have the compound which has the functional group X on the surface, although an aerial water droplet contact angle is 70 degrees or more, by treatment with the aqueous solution containing a hydrophilizing compound The air contact angle of the air drops very little.

<平版印刷版原版1−1〜1−12の作製>
上記の各平版印刷版原版用支持体上に、実施例1と同様にして感光層及び保護層を塗布して平版印刷版原版1−1〜1−12を作製した。但し、保護層の乾燥塗布量は0.50g/mに変更した。
<Preparation of planographic printing plate precursors 1-1 to 1-12>
The photosensitive layer and the protective layer were applied to the above lithographic printing plate precursor supports in the same manner as in Example 1 to prepare lithographic printing plate precursors 1-1 to 1-12. However, the dry coating amount of the protective layer was changed to 0.50 g / m 2 .

(1)露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版1−1〜1−12各々について、実施例1と同様にしてレーザー画像様露光を行い、その後、表103に示す様に上記水溶液101〜107または上記水溶液109〜115を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、実施例1と同様にして現像処理を実施し平版印刷版(加熱なし)を作成した。
(1) Exposure, development and printing Each of the above lithographic printing plate precursors 1-1 to 1-12 is subjected to laser image-like exposure in the same manner as in Example 1, and then the aqueous solutions 101 to 107 as shown in Table 103. Alternatively, using the aqueous solutions 109 to 115, development processing was carried out in the same manner as in Example 1 using an automatic development processor having the structure shown in FIG. 1 to prepare a lithographic printing plate (without heating).

一方、レーザー画像様露光後、30秒以内に平版印刷版原版をオーブンに入れ、熱風を吹き付けて平版印刷版原版の全面を加熱し、110℃に、15秒間保持した。その後、30秒以内に、上記と同様の現像処理を実施し平版印刷版(加熱あり)を作成した。
次いで、平版印刷版(加熱なし)、平版印刷版(加熱あり)を用いて、実施例1と同様にして印刷を行った。
On the other hand, the lithographic printing plate precursor was placed in an oven within 30 seconds after the laser image-like exposure, and the entire surface of the lithographic printing plate precursor was heated by blowing hot air, and kept at 110 ° C. for 15 seconds. Thereafter, within 30 seconds, the same development treatment as described above was performed to prepare a lithographic printing plate (with heating).
Next, printing was performed in the same manner as in Example 1 using a lithographic printing plate (without heating) and a lithographic printing plate (with heating).

(2)評価
耐刷性及び耐汚れ性の評価を実施例1と同様にして実施した。結果を表103に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表103中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。
(2) Evaluation Evaluation of printing durability and stain resistance was carried out in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 103. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 103 was used.

表103の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版から作製された平版印刷版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。   As is apparent from the results in Table 103, the lithographic printing plate produced from the lithographic printing plate precursor according to the present invention can improve stain resistance while maintaining good printing durability.

〔実施例251〜270及び比較例249〜284〕
<平版印刷版原版1−13〜1−18の作製>
上記平版印刷版原版用支持体1−1、1−3、1−6、1−7、2−1及び2−3上に、実施例17に記載の感光層塗布液2を塗布し、80℃にて1分間乾燥した。得られた感光層の塗布量は、1.2g/mであった。
[Examples 251 to 270 and Comparative Examples 249 to 284]
<Preparation of lithographic printing plate precursor 1-13 to 1-18>
The photosensitive layer coating solution 2 described in Example 17 was applied on the lithographic printing plate precursor supports 1-1, 1-3, 1-6, 1-7, 2-1, and 2-3, and 80 Dry at 1 ° C. for 1 minute. The coating amount of the obtained photosensitive layer was 1.2 g / m 2 .

感光層上に、以下の組成を有する保護層塗布液3を乾燥塗布量が0.50g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層を形成し、平版印刷版原版1−13〜1−18を作製した。 On the photosensitive layer, a protective layer coating solution 3 having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 0.50 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer. Then, lithographic printing plate precursors 1-13 to 1-18 were prepared.

(保護層塗布液3)
・下記雲母分散液(1) 13.00g
・ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 1.30g
・2−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ 0.20g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル=1/1)(分子量7万) 0.05g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.05g
・水 133.00g
(Protective layer coating solution 3)
・ The following mica dispersion (1): 13.00 g
Polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 500) 1.30 g
-Sodium 2-ethylhexyl sulfosuccinate 0.20 g
・ Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate = 1/1) (molecular weight 70,000) 0.05g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.05g
・ Water 133.00g

(雲母分散液(1)の調製)
水368gに合成雲母(「ソマシフME−100」:コープケミカル社製、アスペクト比:1000以上)32gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)0.5μmになるまで分散し、雲母分散液(1)を得た。
(Preparation of mica dispersion (1))
To 368 g of water, 32 g of synthetic mica (“Somasif ME-100”: manufactured by Corp Chemical Co., aspect ratio: 1000 or more) was added, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 0.5 μm. A mica dispersion (1) was obtained.

得られた平版印刷版原版1−13〜1−18を、表104に記載の様に各水溶液を用いて、実施例201と同様にして露光、現像及び印刷を行い、同様に評価した。結果を表104に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表104中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。   The obtained lithographic printing plate precursors 1-13 to 1-18 were exposed, developed and printed in the same manner as in Example 201 using each aqueous solution as shown in Table 104, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 104. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 104 was used.

表104の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版から作製された平版印刷版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。   As is apparent from the results in Table 104, the lithographic printing plate produced from the lithographic printing plate precursor according to the present invention can improve stain resistance while maintaining good printing durability.

〔実施例271〜280及び比較例285〜290〕
実施例78に記載のアルミニウム支持体2上に、以下の組成を有する表面処理液103を塗布し、100℃にて3分間乾燥し平版印刷版原版用支持体3−1を作製した。得られた表面処理層の塗布量は、7mg/mであった。
[Examples 271 to 280 and Comparative Examples 285 to 290]
A surface treatment liquid 103 having the following composition was applied on the aluminum support 2 described in Example 78 and dried at 100 ° C. for 3 minutes to prepare a support 3-1 for a lithographic printing plate precursor. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 7 mg / m 2 .

(表面処理液103)
・上記表面処理化合物(3) 0.50g
・N−メチルピロリドン 50.00g
・メタノール 450.00g
(Surface treatment liquid 103)
・ Surface treatment compound (3) 0.50 g
・ N-methylpyrrolidone 50.00g
・ Methanol 450.00g

実施例78に記載のアルミニウム支持体2上に、以下の組成を有する表面処理塗布液104を塗布し、100℃にて3分間乾燥し平版印刷版原版用支持体3−2を作製した。得られた表面処理層の塗布量は、8mg/mであった。 On the aluminum support 2 described in Example 78, a surface treatment coating solution 104 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes to prepare a support 3-2 for a lithographic printing plate precursor. The coating amount of the obtained surface treatment layer was 8 mg / m 2 .

(表面処理液104)
・上記表面処理化合物(10) 0.50g
・N−メチルピロリドン 50.00g
・メタノール 450.00g
(Surface treatment liquid 104)
-0.50g of the above surface treatment compound (10)
・ N-methylpyrrolidone 50.00g
・ Methanol 450.00g

<平版印刷版原版1−19及び1−20の作製>
上記平版印刷版原版用支持体3−1及び3−2上に、実施例78に記載の感光層塗布液3をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の感光層を形成した。
<Preparation of planographic printing plate precursors 1-19 and 1-20>
The photosensitive layer coating solution 3 described in Example 78 was bar-coated on the lithographic printing plate precursor supports 3-1 and 3-2, and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds. A photosensitive layer of 1 g / m 2 was formed.

感光層上に、実施例78に記載の保護層塗布液2をバー塗布した後、125℃、75秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して、平版印刷版原版1−19及び1−20を作製した。 On the photosensitive layer, the protective layer coating solution 2 described in Example 78 was coated with a bar and then oven-dried at 125 ° C. for 75 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. Printing plate precursors 1-19 and 1-20 were prepared.

上記平版印刷版原版1−19及び1−20の各々について、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。   Each of the above-described lithographic printing plate precursors 1-19 and 1-20 was exposed with a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi.

その後、表105に示す様に、下記組成の水溶液117−131を用いる以外は、実施例201と同様にして現像及び印刷を行い、同様に評価した。また、平版印刷版原版用支持体3−1及び3−2について、親水化化合物による処理前後における空中水滴接触角を、実施例201と同様にして測定した。結果を表105に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表105中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。   Thereafter, as shown in Table 105, development and printing were performed in the same manner as in Example 201 except that an aqueous solution 117-131 having the following composition was used. Further, with respect to the lithographic printing plate precursor supports 3-1 and 3-2, the air water droplet contact angles before and after the treatment with the hydrophilizing compound were measured in the same manner as in Example 201. The results are shown in Table 105. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 105 was used.

(水溶液117〜131)
・水 100.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル 0.50g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・表105記載の親水化化合物 3.00g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
(Aqueous solutions 117 to 131)
・ Water 100.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether 0.50g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ 3.00 g of hydrophilized compounds described in Table 105
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g

表105の結果から明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版から作製された平版印刷版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。   As is apparent from the results in Table 105, the lithographic printing plate produced from the lithographic printing plate precursor according to the present invention can improve stain resistance while maintaining good printing durability.

〔実施例281〜290及び比較例291〜296〕
<平版印刷版原版1−21の作製>
上記平版印刷版原版用支持体3−1上に、下記組成の画像形成層塗布液Cをバー塗布した後、100℃、120秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の画像形成層を形成して平版印刷版原版1−21を作製した。
[Examples 281 to 290 and Comparative Examples 291 to 296]
<Preparation of lithographic printing plate precursor 1-21>
An image forming layer coating solution C having the following composition is bar-coated on the lithographic printing plate precursor support 3-1, and then oven-dried at 100 ° C. for 120 seconds to obtain an image having a dry coating amount of 1.1 g / m 2 . A forming layer was formed to prepare a lithographic printing plate precursor 1-21.

(画像形成層塗布液C)
・下記熱脱炭酸ポリマー(1) 1.0 g
・赤外線吸収剤NK−3508 0.15g
(日本感光色素研究所(株)製)
・メガファックF−177 0.06g
(大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤)
・メチルエチルケトン 20 g
・メチルアルコール 7 g
(Image forming layer coating solution C)
・ The following thermal decarboxylation polymer (1) 1.0 g
・ Infrared absorber NK-3508 0.15g
(Nippon Sensitive Dye Research Institute)
・ Megafuck F-177 0.06g
(Dainippon Ink & Chemicals, Fluorosurfactant)
・ Methyl ethyl ketone 20 g
・ Methyl alcohol 7 g

熱脱炭酸ポリマー(1) Thermal decarboxylation polymer (1)

<平版印刷版原版1−22の作製>
上記平版印刷版原版用支持体3−2上に、下記組成の画像形成層塗布液Dをバー塗布した後、80℃、180秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.2g/m2の画像形成層を形成して平版印刷版原版1−22を作製した。
<Preparation of lithographic printing plate precursor 1-22>
An image forming layer coating solution D having the following composition is bar-coated on the lithographic printing plate precursor support 3-2, followed by oven drying at 80 ° C. for 180 seconds, and an image having a dry coating amount of 1.2 g / m 2 . A forming layer was formed to prepare a lithographic printing plate precursor 1-22.

(画像形成層塗布液D)
・下記感熱高分子化合物(1) 4.0g
・赤外線吸収剤(IR−125、和光純薬(株)製) 0.15g
・酸発生剤 0.15g
ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩
・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g
1−ナフタレン−スルホン酸にした染料
・フッ素系界面活性剤 0.06g
(メガファックF−177 大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 20g
・γ−ブチロラクトン 10g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8g
・水 2g
(Image forming layer coating solution D)
-4.0 g of the following thermosensitive polymer compound (1)
・ Infrared absorber (IR-125, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.15 g
・ Acid generator 0.15g
Diphenyliodonium anthraquinone sulfonate
・ 0.05g of counter ion of Victoria Pure Blue BOH
1-naphthalene-sulfonic acid dye
・ Fluorine surfactant 0.06g
(Megafuck F-177 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 20g
・ Γ-Butyrolactone 10g
・ 8g of 1-methoxy-2-propanol
・ Water 2g

感熱高分子化合物(1) Thermosensitive polymer compound (1)

得られた平版印刷版原版1−21及び1−22を、表106に示す様に水溶液117−131を用いて、実施例271と同様にして画像露光、現像及び印刷を行い、同様に耐刷性、耐汚れ性を評価した。結果を表106に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表106中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。   The resulting lithographic printing plate precursors 1-21 and 1-22 were subjected to image exposure, development and printing in the same manner as in Example 271 using an aqueous solution 117-131 as shown in Table 106. And soil resistance were evaluated. The results are shown in Table 106. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 106 was used.

表106の結果から明らかなように、極性変換型画像形成層を有する本発明に係る平版印刷版原版は、良好な耐刷性を維持したまま耐汚れ性を向上させることができる。   As is apparent from the results in Table 106, the lithographic printing plate precursor according to the present invention having a polarity conversion type image forming layer can improve stain resistance while maintaining good printing durability.

〔実施例291〜300及び比較例297〜300〕
平版印刷版原版1−1及び1−17を実施例201及び実施例261と同様にしてレーザー画像露光した後、図2に示す構造の自動現像処理機を用い、プレヒート部のヒーターを停止し、現像浴に下記組成の現像液1−1を、Fin浴に下記組成を有する水溶液132−145を入れ、プレ水洗、水洗には水を使用し、乾燥ゾーンの温度を110℃として搬送速度100cm/分で現像処理を実施し、平版印刷版(加熱なし)を作成した。
一方、レーザー画像露光後、プレヒート部のヒーターを稼動させてプレヒート部の温度を110℃とした状態で、上記と同様の現像処理を実施し、平版印刷版(加熱あり)を作成した。
[Examples 291 to 300 and Comparative Examples 297 to 300]
After exposing the lithographic printing plate precursors 1-1 and 1-17 to laser images in the same manner as in Example 201 and Example 261, using the automatic development processor having the structure shown in FIG. A developer 1-1 having the following composition is placed in a developing bath, an aqueous solution 132-145 having the following composition is placed in a Fin bath, water is used for pre-water washing and water washing, the temperature of the drying zone is 110 ° C., and the conveyance speed is 100 cm / The development process was performed in minutes, and a lithographic printing plate (no heating) was prepared.
On the other hand, after the laser image exposure, the same heating treatment as described above was carried out in a state where the heater of the preheating portion was operated and the temperature of the preheating portion was 110 ° C. to prepare a lithographic printing plate (with heating).

次いで、平版印刷版(加熱あり)及び平版印刷版(加熱なし)を用いて、実施例201と同様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。結果を表107に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表107中に「評価基準」と表記した比較例を用いた。   Subsequently, printing durability and stain resistance were evaluated in the same manner as in Example 201 using a lithographic printing plate (with heating) and a lithographic printing plate (without heating). The results are shown in Table 107. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 107 was used.

(現像液1−1)
・水 100.00g
・ベンジルアルコール 1.00g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル 1.00g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・エチレングリコール 0.50g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
(Developer 1-1)
・ Water 100.00g
・ Benzyl alcohol 1.00g
・ Polyoxyethylene naphthyl ether 1.00g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Ethylene glycol 0.50g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g

(水溶液132−145)
・水 100.00g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.50g
・表7記載の親水化化合物 2.00g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
(Aqueous solution 132-145)
・ Water 100.00g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 0.50 g
・ Hydrophilic compounds listed in Table 7 2.00 g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g

表107の結果から明らかなように、現像後に親水化化合物を含有する水溶液で処理する製版方法によっても、本発明に係る平版印刷版原版は、良好な耐刷を維持したまま耐汚れ性の向上した平版印刷版を提供することができる。   As is apparent from the results in Table 107, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has improved stain resistance while maintaining good printing durability even by a plate making method in which an aqueous solution containing a hydrophilizing compound is treated after development. Lithographic printing plates can be provided.

〔実施例301〜320及び比較例301〜312〕
平版印刷版原版1−19〜1−22各々について、水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。以下に示す組成を有する湿し水(1−1)〜(1−15)とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)を供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行い、実施例201と同様にして耐刷性及び耐汚れ性を評価した。結果を表108に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表108中に「評価基準」と表記した記載の比較例を用いた。
[Examples 301 to 320 and Comparative examples 301 to 312]
Each of the lithographic printing plate precursors 1-19 to 1-22 was exposed under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi using a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. The obtained exposed lithographic printing plate precursor was mounted on a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. After supplying fountain solutions (1-1) to (1-15) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) having the composition shown below, the printing speed was 6000 sheets per hour. Printing was performed, and printing durability and stain resistance were evaluated in the same manner as in Example 201. The results are shown in Table 108. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 108 was used.

<湿し水(1−1)〜(1−15)>
・表108記載の親水化化合物 3質量部
・EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液) 1質量部
・水 89質量部
・イソプロピルアルコール 7質量部
<Dampening water (1-1) to (1-15)>
-3 parts by mass of the hydrophilized compounds listed in Table 108-EU-3 (Etchi liquid manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) 1 part by mass-89 parts by mass of water-7 parts by mass of isopropyl alcohol

表108の結果からから明らかなように、本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理(機上現像)により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。   As is clear from the results in Table 108, the lithographic printing plate precursor according to the present invention provides a lithographic printing plate having both high printing durability and excellent stain resistance by simple processing (on-press development). be able to.

〔実施例321〜330比較例313〜318〕
<平版印刷版原版1−23の作製>
上記平版印刷版原版用支持体3−1上に、前記画像形成層塗布液Aを塗布し、35℃で1時間乾燥し、乾燥塗布量1.3g/mの画像形成層を形成して平版印刷版原版1−23を作製した。
[Examples 321 to 330 Comparative Examples 313 to 318]
<Preparation of lithographic printing plate precursor 1-23>
The image forming layer coating solution A is applied onto the lithographic printing plate precursor support 3-1, and dried at 35 ° C. for 1 hour to form an image forming layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2. A lithographic printing plate precursor 1-23 was produced.

<平版印刷版原版1−24の作製>
上記平版印刷版原版用支持体3−2上に、前記画像形成層塗布液Bを塗布し、60℃にて2分間乾燥し、乾燥塗布量1.3g/mの画像形成層を形成して平版印刷版原版1−24を作製した。
<Preparation of lithographic printing plate precursor 1-24>
The image forming layer coating solution B is coated on the lithographic printing plate precursor support 3-2 and dried at 60 ° C. for 2 minutes to form an image forming layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2. A lithographic printing plate precursor 1-24 was prepared.

<露光、現像および印刷>
上記平版印刷版原版1−23を、1050nmで発光する走査NdYLF赤外線レーザーで露光した(画像形成層表面上の走査速度4m/秒、スポット寸法15μm、出力170mW)。一方、平版印刷版原版1−24を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したクレオ社製トレンドセッター3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
その後、露光済の各平版印刷版原版を、表109に示す様に、前記水溶液117−131を用いる以外は、実施例201と同様にして現像及び印刷を行い、同様に評価した。結果を表109に示す。但し、相対評価の基準(100)としては、表109中に「評価基準」と表記した記載の比較例を用いた。
<Exposure, development and printing>
The lithographic printing plate precursor 1-23 was exposed with a scanning NdYLF infrared laser emitting at 1050 nm (scanning speed 4 m / sec on the surface of the image forming layer, spot size 15 μm, output 170 mW). On the other hand, the lithographic printing plate precursor 1-24 was subjected to a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, outer drum rotation speed of 210 rpm, plate surface energy of 100 mJ / cm 2 and resolution of 2400 dpi. Exposed.
Thereafter, as shown in Table 109, each exposed lithographic printing plate precursor was developed and printed in the same manner as in Example 201 except that the aqueous solution 117-131 was used, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 109. However, as a standard (100) for relative evaluation, a comparative example described as “evaluation standard” in Table 109 was used.

表109の結果からから明らかな様に、熱融着型画像形成層を有する本発明に係る平版印刷版原版は、簡易処理により、高い耐刷性と優れた耐汚れ性を併せて有する平版印刷版を提供することができる。   As is clear from the results in Table 109, the lithographic printing plate precursor according to the present invention having a heat-fusion type image forming layer is a lithographic printing having both high printing durability and excellent stain resistance by simple processing. A version can be provided.

自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor. 他の自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of another automatic developing processor.

符号の説明Explanation of symbols

1 搬送ローラ対
2 搬送ローラ対
3 回転ブラシローラ
4 搬送ローラ対
5 搬送ローラ対
6 回転ブラシローラ
7 回転ブラシローラ
8 搬送ローラ対
9 搬送ローラ対
10 受けローラ
11 搬送ローラ対
12 搬送ローラ対
13 搬送ローラ対
61 回転ブラシロール
62 受けロール
63 搬送ロール
64 搬送ガイド板
65 スプレーパイプ
66 管路
67 フィルター
68 給版台
69 排版台
70 現像液タンク
71 循環ポンプ
72 版
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conveying roller pair 2 Conveying roller pair 3 Rotating brush roller 4 Conveying roller pair 5 Conveying roller pair 6 Rotating brush roller 7 Rotating brush roller 8 Conveying roller pair 9 Conveying roller pair 10 Receiving roller 11 Conveying roller pair 12 Conveying roller pair 13 Conveying roller Pair 61 Rotating brush roll 62 Receiving roll 63 Conveying roll 64 Conveying guide plate 65 Spray pipe 66 Pipe line 67 Filter 68 Plate feeding table 69 Plate discharging table 70 Developer tank 71 Circulating pump 72 Plate

Claims (14)

空中水滴接触角が70°以上の表面を有する支持体及び感光層からなる平版印刷版原版において、前記支持体が、その表面に官能基Xを有する化合物を有し、この官能基Xは、これと相互作用することができる官能基Yを有する化合物と接触することにより、当該官能基Yを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Yを有する化合物を前記支持体表面に吸着し、前記支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする平版印刷版原版。   In a lithographic printing plate precursor comprising a support having a surface with a water droplet contact angle of 70 ° or more and a photosensitive layer, the support has a compound having a functional group X on the surface, the functional group X being By contacting with a compound having a functional group Y capable of interacting with the compound having the functional group Y to form a chemical bond with the compound having the functional group Y and adsorbing the compound having the functional group Y to the support surface, A lithographic printing plate precursor characterized by being a functional group capable of lowering the contact angle of water droplets on the surface of a support to 30 ° or less. 前記官能基Xが、下記一般式(0)で表される官能基であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。
式中、R〜Rは、各々独立して水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる1価の置換基又は共有結合を表し、任意の2つ以上で互いに結合して環を形成してもよい。但し、R〜Rの少なくとも1つは、水素、炭素、酸素、窒素、硫黄、リン、ハロゲン及びシリコンから選ばれる原子の少なくとも1種からなる、化合物母核に連結する2価の連結基を表す。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the functional group X is a functional group represented by the following general formula (0).
In the formula, R 1 to R 3 each independently represents a monovalent substituent or a covalent bond composed of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen, and silicon; Any two or more may be bonded to each other to form a ring. However, at least one of R 1 to R 3 is a divalent linking group linked to a compound nucleus, which is composed of at least one atom selected from hydrogen, carbon, oxygen, nitrogen, sulfur, phosphorus, halogen and silicon. Represents.
前記官能基Yが、−COOH、−SOH、−PO(OH)(OM)及び−B(OH)
(OM)(Mは、水素、金属カチオン、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、ス
ルホニウム、ジアゾニウム又はアジニウムを表す)から選ばれる官能基であることを特徴
とする請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。
The functional group Y is —COOH, —SO 3 H, —PO (OH) (OM) and —B (OH).
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein (OM) is a functional group selected from hydrogen, metal cation, ammonium, phosphonium, iodonium, sulfonium, diazonium or azinium. .
前記官能基Xが、正電荷を有する官能基であり、前記官能基Yが、負電荷を有する官能基であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。   2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the functional group X is a functional group having a positive charge, and the functional group Y is a functional group having a negative charge. 前記官能基Xが、以下の一般式(1)〜(5)で表される官能基であり、前記官能基Yが、以下の一般式(6)〜(8)で表される官能基であることを特徴とする請求項4に記載の平版印刷版原版。
式中、R〜Rは、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表し、Zは対アニオンを表す。
式中、M1、M2は、各々独立して対カチオンを表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表す。
The functional group X is a functional group represented by the following general formulas (1) to (5), and the functional group Y is a functional group represented by the following general formulas (6) to (8). The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 4, wherein the lithographic printing plate precursor is provided.
In the formula, R 1 to R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus, and Z represents a pair Represents an anion.
In the formula, M1 + and M2 + each independently represent a counter cation, and L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus.
前記官能基Xが、負電荷を有する官能基であり、前記官能基Yが、正電荷を有する官能基であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the functional group X is a functional group having a negative charge, and the functional group Y is a functional group having a positive charge. 前記官能基Xが、以下の一般式(9)〜(11)で表される官能基であり、前記官能基Yが、以下の一般式(12)〜(16)で表される官能基であることを特徴とする請求項6に記載の平版印刷版原版。
式中、M1、M2は、各々独立して対カチオンを表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表す。
式中、R〜Rは、各々独立して水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Lは化合物母核に連結する2価の連結基を表し、Zは対アニオンを表す。
The functional group X is a functional group represented by the following general formulas (9) to (11), and the functional group Y is a functional group represented by the following general formulas (12) to (16). The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 6, wherein the lithographic printing plate precursor is provided.
In the formula, M1 + and M2 + each independently represent a counter cation, and L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus.
In the formula, R 1 to R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, L represents a divalent linking group linked to the compound mother nucleus, and Z represents a pair Represents an anion.
前記感光層が、0.3mmol/g以下の酸価を有するバインダーポリマーを含有する
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the photosensitive layer contains a binder polymer having an acid value of 0.3 mmol / g or less.
前記感光層が、350〜1200nmに吸収を有する増感色素を含有することを特徴と
する請求項1〜8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the photosensitive layer contains a sensitizing dye having absorption at 350 to 1200 nm.
前記感光層の上に、保護層を有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, further comprising a protective layer on the photosensitive layer. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を画像露光後、pHが2〜10の水溶液で現像して非画像部を形成する平版印刷版の作製方法において、現像中又は現像後に、前記官能基Yを有する化合物を含有する水溶液で処理して非露光部における支持体表面の空中水滴接触角を30°以下に低下させることを特徴とする平版印刷版の作製方法。   In the preparation method of the lithographic printing plate which develops the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10 with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 to form a non-image portion after image exposure, A method for preparing a lithographic printing plate, comprising: after development, treating with an aqueous solution containing the compound having the functional group Y to reduce the contact angle of airborne water droplets on the support surface in an unexposed area to 30 ° or less. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、350〜1200nmに発振波長を有するレーザーで画像露光した後、前記官能基Yを有する化合物を含有するpHが2〜10の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去して空中水滴接触角が30°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。   The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10 is image-exposed with a laser having an oscillation wavelength of 350 to 1200 nm, and then the pH containing the compound having the functional group Y is 2 to 10 A method for preparing a lithographic printing plate, comprising developing with an aqueous solution to remove a photosensitive layer in a non-exposed portion to form a non-image portion surface having a contact angle of water droplets of 30 ° or less. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、350〜1200nmに発振波長を有するレーザーで画像露光し、pHが2〜10の水溶液で現像して非露光部の感光層を除去した後、前記官能基Yを有する化合物を含有するpHが2〜10の水溶液で処理して空中水滴接触角が30°以下の非画像部表面を形成することを特徴とする平版印刷版の作製方法。   The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10 is image-exposed with a laser having an oscillation wavelength of 350 to 1200 nm and developed with an aqueous solution having a pH of 2 to 10 to form a photosensitive layer in an unexposed area. Is removed, and then treated with an aqueous solution containing the compound having the functional group Y and having a pH of 2 to 10 to form a non-image part surface having an airborne water droplet contact angle of 30 ° or less. Manufacturing method. 前記画像露光から現像までの間に、露光された平版印刷版原版を加熱処理することを特
徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。
The method for producing a lithographic printing plate as claimed in any one of claims 11 to 13, wherein the exposed lithographic printing plate precursor is subjected to a heat treatment between the image exposure and development.
JP2007256774A 2007-03-29 2007-09-28 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method Expired - Fee Related JP5271524B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007256774A JP5271524B2 (en) 2007-03-29 2007-09-28 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
EP08005789.6A EP1974914B1 (en) 2007-03-29 2008-03-27 Method of preparing lithographic printing plate
US12/059,317 US8361700B2 (en) 2007-03-29 2008-03-31 Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007089729 2007-03-29
JP2007089729 2007-03-29
JP2007256774A JP5271524B2 (en) 2007-03-29 2007-09-28 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008265275A true JP2008265275A (en) 2008-11-06
JP5271524B2 JP5271524B2 (en) 2013-08-21

Family

ID=40045465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007256774A Expired - Fee Related JP5271524B2 (en) 2007-03-29 2007-09-28 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5271524B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151275A (en) * 2007-09-28 2009-07-09 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and method of manufacturing lithographic printing plate
WO2009113378A1 (en) * 2008-03-14 2009-09-17 イーストマン コダック カンパニー Method for making lithographic printing original plate
WO2011152539A1 (en) 2010-05-31 2011-12-08 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and novel polymer compound
JP2011245846A (en) * 2010-04-30 2011-12-08 Fujifilm Corp Lithographic printing precursor and plate making method thereof
WO2012117882A1 (en) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 Lithographic printing master plate and method for manufacturing lithographic printing plate
WO2012127698A1 (en) * 2011-03-24 2012-09-27 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2012160975A1 (en) * 2011-05-20 2012-11-29 日産化学工業株式会社 Photosensitive resin composition
JP2013512269A (en) * 2009-12-01 2013-04-11 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ N-allyl carbamate compounds and their use especially in radiation curable coatings
JP2014063038A (en) * 2012-09-21 2014-04-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Resist protective film material and pattern forming method
JP2014063045A (en) * 2012-09-21 2014-04-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Resist material and pattern forming method using the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04197798A (en) * 1990-11-29 1992-07-17 Fuji Photo Film Co Ltd Direct drawing-type lithographic printing plate
JP2001318458A (en) * 2000-05-09 2001-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2006015530A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04197798A (en) * 1990-11-29 1992-07-17 Fuji Photo Film Co Ltd Direct drawing-type lithographic printing plate
JP2001318458A (en) * 2000-05-09 2001-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd Original plate of planographic printing plate
JP2006015530A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing form original plate

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151275A (en) * 2007-09-28 2009-07-09 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and method of manufacturing lithographic printing plate
WO2009113378A1 (en) * 2008-03-14 2009-09-17 イーストマン コダック カンパニー Method for making lithographic printing original plate
JP2009222904A (en) * 2008-03-14 2009-10-01 Eastman Kodak Co Method for making lithographic printing original plate
JP2013512269A (en) * 2009-12-01 2013-04-11 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ N-allyl carbamate compounds and their use especially in radiation curable coatings
JP2011245846A (en) * 2010-04-30 2011-12-08 Fujifilm Corp Lithographic printing precursor and plate making method thereof
CN102917885A (en) * 2010-05-31 2013-02-06 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and novel polymer compound
WO2011152539A1 (en) 2010-05-31 2011-12-08 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and novel polymer compound
US8637221B2 (en) 2010-05-31 2014-01-28 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor, plate making method thereof and novel polymer compound
JP2012187907A (en) * 2010-05-31 2012-10-04 Fujifilm Corp Lithographic printing plate original plate, plate making method of the same, and novel polymer compound
WO2012117882A1 (en) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 Lithographic printing master plate and method for manufacturing lithographic printing plate
EP3001249A2 (en) 2011-02-28 2016-03-30 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursors and processes for preparing lithographic printing plates
CN103442900A (en) * 2011-03-24 2013-12-11 富士胶片株式会社 Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2012127698A1 (en) * 2011-03-24 2012-09-27 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
WO2012160975A1 (en) * 2011-05-20 2012-11-29 日産化学工業株式会社 Photosensitive resin composition
CN103547966A (en) * 2011-05-20 2014-01-29 日产化学工业株式会社 Photosensitive resin composition
JP5896176B2 (en) * 2011-05-20 2016-03-30 日産化学工業株式会社 Photosensitive resin composition
US9321862B2 (en) 2011-05-20 2016-04-26 Nissan Chemical Industries, Ltd. Photosensitive resin composition
KR101779877B1 (en) 2011-05-20 2017-09-19 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 Photosensitive resin composition
JP2014063038A (en) * 2012-09-21 2014-04-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Resist protective film material and pattern forming method
JP2014063045A (en) * 2012-09-21 2014-04-10 Shin Etsu Chem Co Ltd Resist material and pattern forming method using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP5271524B2 (en) 2013-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4887173B2 (en) Preparation method of lithographic printing plate
JP4796890B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP4991430B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP5002399B2 (en) Processing method of lithographic printing plate precursor
JP5271524B2 (en) Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
JP4792367B2 (en) Preparation of lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate
JP2007249036A (en) Lithographic printing original plate and lithographic printing method
JP2008276210A (en) Plate-making method of lithographic printing plate
JP5244518B2 (en) Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
JP2009086350A (en) Preparation method for lithographic printing plate
JP2009056733A (en) Lithographic printing form original plate and lithographic printing method
JP2008256741A (en) Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
JP2007249037A (en) Lithographic printing original plate and lithographic printing method
JP4982197B2 (en) Photosensitive resin composition, pattern forming material, image forming method, lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
JP5162127B2 (en) Polymerizable composition and planographic printing plate precursor
JP5422146B2 (en) Processing solution for preparing a lithographic printing plate and processing method of a lithographic printing plate precursor
JP2009086345A (en) Lithographic printing plate precursor
JP5055077B2 (en) Image forming method and planographic printing plate precursor
EP1974914B1 (en) Method of preparing lithographic printing plate
JP5222678B2 (en) Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
EP2042311A1 (en) Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
JP2009184188A (en) Lithographic printing original plate and printing method
JP2009235213A (en) Photosensitive composition, image forming method, and planographic printing plate precursor
JP2009244423A (en) Lithographic printing plate precursor and image forming method
JP2009086351A (en) Preparation method for lithographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100216

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20111216

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120827

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20120914

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20121004

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121030

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130212

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130326

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130513

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5271524

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees