JP2008263167A - Solid electrolytic capacitor and method of producing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid electrolytic capacitor excellent in preservation characteristics reduced in ESR (equivalent series resistance). <P>SOLUTION: The solid electrolytic capacitor is provided with an anode 2 formed of a metal or an alloy having valve action, a dielectric layer 3 formed on the surface of the anode 2, and an electrolyte layer 4 composed of a conductive polymer layer 4a formed so as to contact with a portion of the region on the dielectric layer 3 surface and a manganese dioxide layer 4b formed so as to contact with the other portion of the region on the dielectric layer 3 surface. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、固体電解コンデンサ及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a solid electrolytic capacitor and a method for manufacturing the same.

ニオブは、従来の固体電解コンデンサの材料であるタンタルに比べて誘電率が約1.8倍大きいことから、次世代の高容量固体電解コンデンサの材料として注目されている。特許文献1には、タンタル、ニオブ等の弁作用金属粉末を焼結してなる陽極焼結体に、二酸化マンガンからなる固体電解質及び陰極用導電層を順次形成した固体コンデンサが開示されている。   Niobium has attracted attention as a material for next-generation high-capacity solid electrolytic capacitors because its dielectric constant is about 1.8 times larger than that of tantalum, which is a material for conventional solid electrolytic capacitors. Patent Document 1 discloses a solid capacitor in which a solid electrolyte made of manganese dioxide and a cathode conductive layer are sequentially formed on an anode sintered body obtained by sintering a valve action metal powder such as tantalum or niobium.

しかしながら、特許文献1に記載の固体電解コンデンサにおいては、二酸化マンガンの導電性が低いため、ESR(等価直列抵抗)が大きくなるという問題がある。   However, the solid electrolytic capacitor described in Patent Document 1 has a problem in that ESR (equivalent series resistance) increases because the conductivity of manganese dioxide is low.

特許文献2においては、二酸化マンガン層の上に電解重合法により導電性高分子層を形成する技術が開示されている。しかしながら、このような技術においても、ESRの低減は十分ではなかった。
特開平07−153650号公報 特開平5−136005号公報
Patent Document 2 discloses a technique for forming a conductive polymer layer on a manganese dioxide layer by an electrolytic polymerization method. However, even with such a technique, the reduction of ESR was not sufficient.
JP 07-153650 A JP-A-5-136005

本発明の目的は、ESR(等価直列抵抗)が小さく、かつ保存特性に優れた固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a solid electrolytic capacitor having a low ESR (equivalent series resistance) and excellent storage characteristics, and a method for manufacturing the same.

本発明の固体電解コンデンサは、弁作用を有する金属または合金からなる陽極と、陽極の表面上に設けられる誘電体層と、誘電体層表面上の一部の領域と接するように設けられる導電性高分子層と、誘電体層表面上の他の部分の領域と接するように設けられる二酸化マンガン層とから構成される電解質層とを備えることを特徴としている。   The solid electrolytic capacitor of the present invention includes an anode made of a metal or alloy having a valve action, a dielectric layer provided on the surface of the anode, and a conductive property provided in contact with a part of the region on the surface of the dielectric layer. It is characterized by comprising an electrolyte layer composed of a polymer layer and a manganese dioxide layer provided so as to be in contact with a region of another part on the surface of the dielectric layer.

本発明においては、誘電体層上に設けられる電解質層が、誘電体層表面上の一部の領域と接するように設けられる導電性高分子層と、誘電体層表面上の他の部分の領域と接するように設けられる二酸化マンガン層とから構成されている。導電性高分子の電導度(10(S/cm))は、二酸化マンガンの電導度(10−1(S/cm))よりも大きい。本発明においては、このように電導度が大きい導電性高分子層が、誘電体層表面上の一部の領域と接するように設けられているので、誘電体層表面上に二酸化マンガン層のみが設けられている場合に比べ、ESRを低減することができる。 In the present invention, the conductive polymer layer provided so that the electrolyte layer provided on the dielectric layer is in contact with a part of the region on the surface of the dielectric layer, and the region of the other part on the surface of the dielectric layer. And a manganese dioxide layer provided so as to be in contact with each other. The conductivity (10 2 (S / cm)) of the conductive polymer is larger than the conductivity (10 −1 (S / cm)) of manganese dioxide. In the present invention, since the conductive polymer layer having such a high conductivity is provided so as to be in contact with a part of the region on the surface of the dielectric layer, only the manganese dioxide layer is formed on the surface of the dielectric layer. Compared with the case where it is provided, ESR can be reduced.

また、本発明においては、誘電体層表面上の他の部分の領域と接するように二酸化マンガン層が設けられている。二酸化マンガン層は、導電性高分子層と比べ、誘電体層との密着性が良好であるので、誘電体層表面上の他の部分の領域と接するように二酸化マンガン層が設けられることにより、誘電体層表面上に導電性高分子層のみが設けられる場合に比べ、保存特性を向上させることができる。   In the present invention, the manganese dioxide layer is provided so as to be in contact with the region of the other part on the surface of the dielectric layer. Since the manganese dioxide layer has better adhesion to the dielectric layer compared to the conductive polymer layer, the manganese dioxide layer is provided so as to be in contact with the region of the other part on the surface of the dielectric layer. As compared with the case where only the conductive polymer layer is provided on the surface of the dielectric layer, the storage characteristics can be improved.

従って、本発明によれば、ESRが小さく、かつ保存特性に優れた固体電解コンデンサとすることができる。   Therefore, according to the present invention, a solid electrolytic capacitor having low ESR and excellent storage characteristics can be obtained.

本発明において、誘電体層表面全体の面積に対する導電性高分子層と誘電体層とが接している領域の面積の割合を表わす導電性高分子層の被覆率が、3〜70%の範囲であることが好ましい。導電性高分子層の被覆率が、3%未満であると、ESRを低減する効果が十分に得られない場合がある。一方、導電性高分子層の被覆率が70%を超えると、ESRは低減するが、二酸化マンガン層と誘電体層との接触面積が相対的に小さくなるため、保存特性が低下する傾向にある。導電性高分子層の被覆率は、さらに好ましくは10〜40%の範囲である。   In the present invention, the coverage of the conductive polymer layer, which represents the ratio of the area of the region where the conductive polymer layer and the dielectric layer are in contact with the entire surface of the dielectric layer, is in the range of 3 to 70%. Preferably there is. If the coverage of the conductive polymer layer is less than 3%, the effect of reducing ESR may not be sufficiently obtained. On the other hand, when the coverage of the conductive polymer layer exceeds 70%, the ESR is reduced, but the contact area between the manganese dioxide layer and the dielectric layer becomes relatively small, so that the storage characteristics tend to be lowered. . The coverage of the conductive polymer layer is more preferably in the range of 10 to 40%.

本発明においては、導電性高分子層が誘電体層表面上に島状に設けられることにより、誘電体層表面上の一部の領域と接するように設けられていることが好ましい。また、この場合、二酸化マンガン層は、島状に設けられた導電性高分子層、及び該導電性高分子層の周囲の露出した誘電体層表面を覆うように設けられていることが好ましい。従って、本発明においては、導電性高分子層が、誘電体層表面上に島状に設けられており、導電性高分子層及び誘電体層表面を覆うように二酸化マンガン層が設けられていることが好ましい。このことにより、二酸化マンガン層によって、導電性高分子層を誘電体表面上に、より強固に密着させることができるとともに、導電性高分子層への湿度変化等の外部からの影響を抑制させることができ、保存特性をより向上させることができる。   In the present invention, it is preferable that the conductive polymer layer is provided in an island shape on the surface of the dielectric layer so as to be in contact with a part of the region on the surface of the dielectric layer. In this case, the manganese dioxide layer is preferably provided so as to cover the conductive polymer layer provided in an island shape and the exposed dielectric layer surface around the conductive polymer layer. Therefore, in the present invention, the conductive polymer layer is provided in an island shape on the surface of the dielectric layer, and the manganese dioxide layer is provided so as to cover the surfaces of the conductive polymer layer and the dielectric layer. It is preferable. As a result, the manganese dioxide layer can more firmly adhere the conductive polymer layer to the dielectric surface, and suppress external influences such as humidity change on the conductive polymer layer. And storage characteristics can be further improved.

本発明において、二酸化マンガン層の厚みは、10〜100nmの範囲であることが好ましい。二酸化マンガン層の厚みが10nm未満であると、均一な膜厚の二酸化マンガン層を得ることが困難となり、保存特性が低下する場合がある。一方、二酸化マンガン層の厚みが100nmを超えると、二酸化マンガン層の導電性が低いために、ESRが増大する場合がある。二酸化マンガン層のより好ましい厚みは、20〜70nmの範囲である。   In the present invention, the thickness of the manganese dioxide layer is preferably in the range of 10 to 100 nm. When the thickness of the manganese dioxide layer is less than 10 nm, it becomes difficult to obtain a manganese dioxide layer having a uniform thickness, and the storage characteristics may be deteriorated. On the other hand, if the thickness of the manganese dioxide layer exceeds 100 nm, the ESR may increase because the conductivity of the manganese dioxide layer is low. A more preferable thickness of the manganese dioxide layer is in the range of 20 to 70 nm.

本発明において、陽極は、弁作用を有する金属または合金から形成される。弁作用を有する金属としては、固体電解コンデンサに用いることができるものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、ニオブ、タンタル、チタン、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、亜鉛、タングステン、ビスマス、アンチモン等が挙げられる。これらの中でも、酸化物の誘電率が高く、原料の入手が容易なニオブ、タンタル、チタンが好ましく、特に酸化物の誘電率がタンタルの1.5倍程度であるニオブがより好ましい。弁作用を有する合金としては、ニオブとタンタルなどのように1種類以上の弁作用を有する金属同士の合金が好ましく用いられる。また、弁作用を有する金属と、弁作用を有しない金属との合金である場合には、弁作用を有する金属が50重量%以上含まれていることが好ましい。本発明において、陽極を形成する弁作用を有する金属または合金として、ニオブまたはニオブを主成分とする(すなわちニオブを50重量%以上含む)合金であることが特に好ましい。   In the present invention, the anode is formed from a metal or alloy having a valve action. The metal having a valve action is not particularly limited as long as it can be used for a solid electrolytic capacitor. For example, niobium, tantalum, titanium, aluminum, hafnium, zirconium, zinc, tungsten, bismuth, Antimony etc. are mentioned. Among these, niobium, tantalum, and titanium, which have a high dielectric constant of an oxide and are readily available as raw materials, are preferable, and niobium whose dielectric constant is about 1.5 times that of tantalum is more preferable. As the alloy having a valve action, an alloy of metals having one or more kinds of valve actions such as niobium and tantalum is preferably used. Moreover, when it is an alloy of the metal which has a valve action, and the metal which does not have a valve action, it is preferable that the metal which has a valve action is contained 50weight% or more. In the present invention, the metal or alloy having a valve action for forming the anode is particularly preferably niobium or an alloy containing niobium as a main component (that is, containing niobium in an amount of 50% by weight or more).

本発明において、導電性高分子層は、固体電解コンデンサの電解質層を形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェンなどのポリチオフェン系高分子、ポリピロールなどのポリピロール系高分子などが挙げられる。これらの導電性高分子層は、例えば化学重合法により形成することにより、誘電体層の上に島状に形成することができる。   In the present invention, the conductive polymer layer is not particularly limited as long as it can form an electrolyte layer of a solid electrolytic capacitor. For example, a polythiophene polymer such as polyethylenedioxythiophene, polypyrrole, etc. And polypyrrole-based polymers. These conductive polymer layers can be formed in an island shape on the dielectric layer by, for example, chemical polymerization.

本発明において、電解質層は、上述のように、導電性高分子層と二酸化マンガン層とから構成される。本発明においては、このような電解質層の表面上に導電性高分子層をさらに設けてもよい。導電性高分子層をさらに設けることにより、ESRをさらに低減させることができる。このように、電解質層表面上にさらに設ける導電性高分子層は、薄膜形成速度が速いという観点から、電解重合法により形成することが好ましい。   In the present invention, the electrolyte layer is composed of the conductive polymer layer and the manganese dioxide layer as described above. In the present invention, a conductive polymer layer may be further provided on the surface of such an electrolyte layer. By further providing a conductive polymer layer, ESR can be further reduced. Thus, the conductive polymer layer further provided on the electrolyte layer surface is preferably formed by an electrolytic polymerization method from the viewpoint that the thin film formation speed is high.

本発明の製造方法は、上記本発明の固体電解コンデンサを製造することができる方法であり、陽極の表面上に誘電体層を形成する工程と、誘電体層表面上の一部の領域上に、化学重合法により導電性高分子層を形成する工程と、導電性高分子層が形成されていない誘電体層表面上を少なくとも覆うように二酸化マンガン層を形成する工程とを備えることを特徴としている。   The production method of the present invention is a method by which the solid electrolytic capacitor of the present invention can be produced, and a step of forming a dielectric layer on the surface of the anode and a partial region on the surface of the dielectric layer And a step of forming a conductive polymer layer by a chemical polymerization method and a step of forming a manganese dioxide layer so as to cover at least the surface of the dielectric layer on which the conductive polymer layer is not formed. Yes.

本発明の製造方法においては、誘電体層表面上に化学重合法により導電性高分子層を形成することにより、誘電体層表面上の一部の領域に導電性高分子層を形成している。化学重合法は、誘電体層表面上に導電性高分子層を形成する方法であるが、薄膜形成速度が遅いので、薄膜形成時間等を調整することにより、誘電体層表面上の一部の領域上に、島状に導電性高分子層を形成することができる。   In the production method of the present invention, the conductive polymer layer is formed in a partial region on the surface of the dielectric layer by forming the conductive polymer layer on the surface of the dielectric layer by a chemical polymerization method. . The chemical polymerization method is a method of forming a conductive polymer layer on the surface of the dielectric layer. However, since the thin film formation speed is slow, by adjusting the thin film formation time, etc., a part of the surface of the dielectric layer is formed. A conductive polymer layer can be formed in an island shape over the region.

本発明の製造方法においては、上記のように導電性高分子層を形成した後、二酸化マンガン層を形成することにより、導電性高分子層が形成されていない誘電体層表面上を少なくとも覆うように二酸化マンガン層を形成する。一般には、二酸化マンガン層を連続した薄膜として形成することにより、導電性高分子層と、導電性高分子層の周囲の導電性高分子層が形成されていない誘電体層表面上を覆うように二酸化マンガン層を形成する。   In the manufacturing method of the present invention, after forming the conductive polymer layer as described above, the manganese dioxide layer is formed so as to cover at least the surface of the dielectric layer where the conductive polymer layer is not formed. A manganese dioxide layer is formed on the substrate. In general, the manganese dioxide layer is formed as a continuous thin film so as to cover the conductive polymer layer and the surface of the dielectric layer where the conductive polymer layer around the conductive polymer layer is not formed. A manganese dioxide layer is formed.

本発明の固体電解コンデンサにおいては、従来の固体電解コンデンサと同様に、誘電体層の上に、陰極層を形成する。陰極層としては、固体電解コンデンサに用いられるものであれば特に限定されるものではないが、一般には、カーボン層及び銀ペースト層を積層して形成される。カーボン層は、例えば、カーボンペーストを塗布した後、これを乾燥させることにより形成することができ、銀ペースト層は、銀ペーストを塗布した後、これを乾燥させることにより形成することができる。   In the solid electrolytic capacitor of the present invention, the cathode layer is formed on the dielectric layer, as in the conventional solid electrolytic capacitor. The cathode layer is not particularly limited as long as it is used for a solid electrolytic capacitor, but is generally formed by laminating a carbon layer and a silver paste layer. The carbon layer can be formed, for example, by applying a carbon paste and then drying it, and the silver paste layer can be formed by applying a silver paste and then drying it.

本発明によればESRが小さく、かつ保存特性に優れた固体電解コンデンサとすることができる。   According to the present invention, a solid electrolytic capacitor having low ESR and excellent storage characteristics can be obtained.

また、本発明の製造方法によれば、ESRが小さく、かつ保存特性に優れた固体電解コンデンサを効率良く製造することができる。   Further, according to the manufacturing method of the present invention, a solid electrolytic capacitor having a small ESR and excellent storage characteristics can be efficiently manufactured.

以下、本発明を具体的に実施形態及び実施例により説明するが、本発明は以下の実施形態及び実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to embodiments and examples, but the present invention is not limited to the following embodiments and examples.

図1は、本発明に従う一実施形態の固体電解コンデンサを模式的に示す断面図である。図1に示すように、弁作用を有する金属であるニオブの粉末を焼結して成形し、多孔質の陽極2を形成する。この陽極2には、ニオブからなる金属リード線1が埋設されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a solid electrolytic capacitor of one embodiment according to the present invention. As shown in FIG. 1, niobium powder, which is a metal having a valve action, is sintered and molded to form a porous anode 2. A metal lead wire 1 made of niobium is embedded in the anode 2.

陽極2の表面には、誘電体層3が形成されている。陽極2は多孔質体であるので、陽極2内部の多孔質の表面に誘電体層3が形成されている。誘電体層3は、一般に陽極酸化により形成されている。誘電体層3は、酸化ニオブを主成分とする層である。   A dielectric layer 3 is formed on the surface of the anode 2. Since the anode 2 is a porous body, a dielectric layer 3 is formed on the porous surface inside the anode 2. The dielectric layer 3 is generally formed by anodic oxidation. The dielectric layer 3 is a layer mainly composed of niobium oxide.

誘電体層3の表面上の一部の領域には、誘電体層3と接するように導電性高分子層4aが形成されている。導電性高分子層4aは、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェンから形成されている。   A conductive polymer layer 4 a is formed in a partial region on the surface of the dielectric layer 3 so as to be in contact with the dielectric layer 3. The conductive polymer layer 4a is made of, for example, polyethylene dioxythiophene.

導電性高分子層4a及び誘電体層3の表面を覆うように、二酸化マンガン層4bが形成されている。導電性高分子層4aと二酸化マンガン層4bから、電解質層4が構成されている。   A manganese dioxide layer 4b is formed so as to cover the surfaces of the conductive polymer layer 4a and the dielectric layer 3. The electrolyte layer 4 is composed of the conductive polymer layer 4a and the manganese dioxide layer 4b.

二酸化マンガン層4bの上には、カーボン層5aが形成されており、カーボン層5aの上に、銀ペースト層5bが形成されている。カーボン層5aと銀ペースト層5bから陰極層5が構成されている。陰極層5の上には、導電性接着剤層6を介して陰極端子7が接続されている。   A carbon layer 5a is formed on the manganese dioxide layer 4b, and a silver paste layer 5b is formed on the carbon layer 5a. The cathode layer 5 is composed of the carbon layer 5a and the silver paste layer 5b. On the cathode layer 5, a cathode terminal 7 is connected via a conductive adhesive layer 6.

金属リード線1には、陽極端子8が接続されている。陽極端子8及び陰極端子7の端部が外部に引き出されるようにモールド外装樹脂9が形成されている。   An anode terminal 8 is connected to the metal lead wire 1. Mold exterior resin 9 is formed so that the ends of anode terminal 8 and cathode terminal 7 are drawn out.

陽極2は、上述のように多孔質体であり、陽極2の表面上に形成される誘電体層3及び電解質層4は、陽極2の内部の多孔質体表面上に形成されている。図2は、この状態を説明するための拡大断面図である。陽極2は、粉末を焼結した多孔質体であり、その表面に誘電体層3が形成されており、誘電体層3の上に島状に導電性高分子層4aが形成されている。また、島状の導電性高分子4a及び誘電体層3を覆うように、二酸化マンガン層4bが形成されている。従って、陽極2の表面上の誘電体層3及び電解質層4は、図1に示すように陽極2の外側のみに形成されているのではなく、陽極2の内部の多孔質部分の表面上に形成されている。カーボン層5a及び銀ペースト層5bは、ペーストを塗布することにより形成されるものであり、多孔質体の内部にまで浸透するものではないので、多孔質体の外側の表面上に形成される。   The anode 2 is a porous body as described above, and the dielectric layer 3 and the electrolyte layer 4 formed on the surface of the anode 2 are formed on the surface of the porous body inside the anode 2. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view for explaining this state. The anode 2 is a porous body obtained by sintering powder. A dielectric layer 3 is formed on the surface of the anode 2, and a conductive polymer layer 4 a is formed on the dielectric layer 3 in an island shape. Further, a manganese dioxide layer 4b is formed so as to cover the island-shaped conductive polymer 4a and the dielectric layer 3. Therefore, the dielectric layer 3 and the electrolyte layer 4 on the surface of the anode 2 are not formed only on the outside of the anode 2 as shown in FIG. 1, but on the surface of the porous portion inside the anode 2. Is formed. The carbon layer 5a and the silver paste layer 5b are formed by applying a paste and do not penetrate into the inside of the porous body, and thus are formed on the outer surface of the porous body.

上記実施形態において、誘電体層3の表面上の一部の領域と接するように導電性高分子層4aが形成され、誘電体層3の表面上の他の部分の領域と接するように二酸化マンガン層4bが形成されている。電解質層4は、導電性の高い導電性高分子層4aと、誘電体層3との密着性に優れた二酸化マンガン層4bとから構成されているため、このような電解質層4を設けることにより、ESRを低減することができ、保存特性を向上させることができる。   In the above embodiment, the conductive polymer layer 4a is formed so as to be in contact with a part of the region on the surface of the dielectric layer 3, and the manganese dioxide is in contact with the region of another part on the surface of the dielectric layer 3. Layer 4b is formed. Since the electrolyte layer 4 is composed of a conductive polymer layer 4a having high conductivity and a manganese dioxide layer 4b having excellent adhesion to the dielectric layer 3, by providing such an electrolyte layer 4, , ESR can be reduced, and storage characteristics can be improved.

図1及び図2に示すような固体電解コンデンサを以下のようにして製造した。   A solid electrolytic capacitor as shown in FIGS. 1 and 2 was manufactured as follows.

(実施例1)
ステップ1:平均粒子径2μmのニオブ金属の粉末を焼結させることにより、ニオブからなる金属リード線1を埋設させた多孔質焼結体からなる陽極2を形成した。これを60℃に保持した0.5重量%のリン酸水溶液中において10Vの定電圧で10時間陽極酸化し、陽極2の表面に主に酸化ニオブからなる誘電体層3を形成した。
Example 1
Step 1: By sintering a niobium metal powder having an average particle diameter of 2 μm, an anode 2 made of a porous sintered body having a metal lead wire 1 made of niobium embedded therein was formed. This was anodized in a 0.5 wt% phosphoric acid aqueous solution maintained at 60 ° C. at a constant voltage of 10 V for 10 hours, and a dielectric layer 3 mainly composed of niobium oxide was formed on the surface of the anode 2.

ステップ2:誘電体層3を形成したコンデンサ素子を、20重量%のp−トルエンスルホン酸第三鉄からなる酸化剤水溶液に5分間浸漬し、エチレンジオキシチオフェンモノマーの蒸気と10分間反応させた後、130℃で20分間熱処理することにより、誘電体層3の表面上に、ポリエチレンジオキシチオフェンからなる導電性高分子層4aを島状に形成した。次に、導電性高分子層4aを形成した陽極2を、30重量%の硝酸マンガン水溶液中に5分間浸漬し、内部に硝酸マンガン水溶液を含浸した。その後、170℃で10分間熱処理を行い、二酸化マンガン層4bを形成した。この硝酸マンガン水溶液中への浸漬及び熱処理を3回繰り返すことにより、十分な厚みの二酸化マンガン層4bを形成した。   Step 2: The capacitor element on which the dielectric layer 3 was formed was immersed in an oxidizing agent aqueous solution made of 20% by weight of ferric p-toluenesulfonate for 5 minutes and reacted with the vapor of ethylenedioxythiophene monomer for 10 minutes. Thereafter, the conductive polymer layer 4a made of polyethylenedioxythiophene was formed in an island shape on the surface of the dielectric layer 3 by heat treatment at 130 ° C. for 20 minutes. Next, the anode 2 on which the conductive polymer layer 4a was formed was immersed in a 30 wt% manganese nitrate aqueous solution for 5 minutes, and the manganese nitrate aqueous solution was impregnated therein. Thereafter, heat treatment was performed at 170 ° C. for 10 minutes to form a manganese dioxide layer 4b. The manganese dioxide layer 4b having a sufficient thickness was formed by repeating this immersion in a manganese nitrate aqueous solution and heat treatment three times.

以上のようにして、誘電体層3の上に、化学重合法により、島状の導電性高分子層4aを形成した後、その上を覆うように二酸化マンガン層4bを形成し、導電性高分子層4a及び二酸化マンガン層4bからなる電解質層4を形成した。   As described above, after the island-shaped conductive polymer layer 4a is formed on the dielectric layer 3 by chemical polymerization, the manganese dioxide layer 4b is formed so as to cover the island-shaped conductive polymer layer 4a. An electrolyte layer 4 composed of a molecular layer 4a and a manganese dioxide layer 4b was formed.

ステップ3:電解質層4を形成した陽極2の表面に、グラファイトを含有するペーストを塗布し、カーボン層5aを形成した。次に、その上に銀ペーストを塗布した後乾燥し、銀ペースト層5bを形成した。銀ペースト層5bの上に導電性接着剤層6を形成し、導電性接着剤層6を介して陰極端子8を接続した。また、金属リード線1に抵抗溶接により、陽極端子8を接続した後、エポキシ樹脂を用いて、温度160℃、圧力150kg/cm、時間90秒の成形条件で、トランスファー成形を行い、その後150℃で4時間熱処理して外装樹脂を硬化させ、モールド外装樹脂9を形成した。 Step 3: A paste containing graphite was applied to the surface of the anode 2 on which the electrolyte layer 4 was formed to form a carbon layer 5a. Next, a silver paste was applied thereon and dried to form a silver paste layer 5b. A conductive adhesive layer 6 was formed on the silver paste layer 5 b, and the cathode terminal 8 was connected via the conductive adhesive layer 6. Further, after the anode terminal 8 is connected to the metal lead wire 1 by resistance welding, transfer molding is performed using epoxy resin under molding conditions of a temperature of 160 ° C., a pressure of 150 kg / cm 2 , and a time of 90 seconds. The exterior resin was cured by heat treatment at 4 ° C. for 4 hours to form a mold exterior resin 9.

以上のようにして、実施例1の固体電解コンデンサを作製した。   The solid electrolytic capacitor of Example 1 was produced as described above.

(実施例2)
本実施例においては、導電性高分子層4aを、ポリピロールから形成する以外は、上記実施例1と同様にして、固体電解コンデンサを作製した。具体的には、実施例1のステップ1において、誘電体層3を形成した後、20重量%のp−トルエンスルホン酸第三鉄からなる酸化剤に5分間浸漬し、ピロールモノマーの蒸気と10分間反応させ、誘電体層3の表面上にポリピロールからなる導電性高分子層4aを島状に形成させた。それ以外は、実施例1と同様にして、固体電解コンデンサを作製した。
(Example 2)
In this example, a solid electrolytic capacitor was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive polymer layer 4a was formed from polypyrrole. Specifically, in Step 1 of Example 1, after forming the dielectric layer 3, the dielectric layer 3 was immersed in an oxidizing agent composed of 20% by weight of ferric p-toluenesulfonate for 5 minutes, and pyrrole monomer vapor and 10 By reacting for a minute, the conductive polymer layer 4 a made of polypyrrole was formed in an island shape on the surface of the dielectric layer 3. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the solid electrolytic capacitor.

(比較例1)
実施例1のステップ2において、誘電体層3の表面上に、ポリエチレンジオキシチオフェンからなる導電性高分子層4aを形成せずに、二酸化マンガン層4bのみを形成する以外は、実施例1と同様にして、比較例1の固体電解コンデンサを作製した。
(Comparative Example 1)
Example 1 is the same as Example 1 except that, in Step 2 of Example 1, only the manganese dioxide layer 4b is formed on the surface of the dielectric layer 3 without forming the conductive polymer layer 4a made of polyethylenedioxythiophene. Similarly, the solid electrolytic capacitor of Comparative Example 1 was produced.

(比較例2)
実施例1のステップ2において、導電性高分子層4aの上に、二酸化マンガン層4bを形成しない以外は、実施例1と同様にして、比較例2の固体電解コンデンサを作製した。
(Comparative Example 2)
A solid electrolytic capacitor of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the manganese dioxide layer 4b was not formed on the conductive polymer layer 4a in Step 2 of Example 1.

〔導電性高分子層の被覆率の測定〕
誘電体層表面全体の面積に対する、導電性高分子層と誘電体層表面とが接している領域の面積の割合(導電性高分子層の被覆率)を、以下のようにして測定した。
[Measurement of coverage of conductive polymer layer]
The ratio of the area of the region where the conductive polymer layer and the dielectric layer surface are in contact with the entire area of the dielectric layer surface (coverage of the conductive polymer layer) was measured as follows.

実施例1のステップ1において、陽極表面に誘電体層を形成した後、電解質層及びカーボン層、銀ペースト層を形成せずに、コンデンサ素子とし、このコンデンサ素子の静電容量をC1とした。   In Step 1 of Example 1, after forming the dielectric layer on the anode surface, the capacitor layer was formed without forming the electrolyte layer, the carbon layer, and the silver paste layer, and the capacitance of this capacitor element was C1.

また、各実施例及び各比較例のステップ2において、導電性高分子層を形成した後、二酸化マンガン層を形成せずに、その上に、カーボンペースト及び銀ペーストを塗布して、カーボン層及び銀ペースト層を形成したコンデンサ素子を作製し、それぞれのコンデンサ素子の静電容量をC2とした。このようにして測定した静電容量C1とC2から以下のようにして、導電性高分子層の被覆率を算出した。   Further, in Step 2 of each Example and each Comparative Example, after forming the conductive polymer layer, without forming the manganese dioxide layer, the carbon paste and the silver paste were applied thereon, and the carbon layer and Capacitor elements on which a silver paste layer was formed were produced, and the capacitance of each capacitor element was C2. The coverage of the conductive polymer layer was calculated from the capacitances C1 and C2 thus measured as follows.

導電性高分子層の被覆率(%)=(C2/C1)×100
なお、各コンデンサ素子の静電容量は、図3に示すように、対極として活性炭電極10を用い、電解液として30重量%硫酸水溶液を用いたセル11中に、コンデンサ素子12を浸漬し、LCRメータ13で、周波数120Hzにおける静電容量を測定することにより測定した。
Covering rate of conductive polymer layer (%) = (C2 / C1) × 100
As shown in FIG. 3, the capacitance of each capacitor element is obtained by immersing the capacitor element 12 in a cell 11 using an activated carbon electrode 10 as a counter electrode and a 30% by weight sulfuric acid aqueous solution as an electrolytic solution. The measurement was performed by measuring the capacitance at a frequency of 120 Hz with the meter 13.

〔二酸化マンガン層の膜厚の測定〕
各実施例及び各比較例の固体電解コンデンサにおける二酸化マンガン層の膜厚を以下のようにして測定した。
[Measurement of film thickness of manganese dioxide layer]
The film thickness of the manganese dioxide layer in the solid electrolytic capacitors of each Example and each Comparative Example was measured as follows.

各固体電解コンデンサの陽極、誘電体層及び電解質層について、X線光電子分光分析(XPS)装置を用いて、深さ方向にスパッタリングしながら、ニオブとマンガンの濃度分布を測定した。ニオブとマンガンの組成の大小が逆転するまでのスパッタリング時間を測定し、基準として用いたシリコン酸化物のスパッタレート(10nm/分)から、二酸化マンガン層の膜厚を算出した。   The anode, dielectric layer and electrolyte layer of each solid electrolytic capacitor were measured for the concentration distribution of niobium and manganese while sputtering in the depth direction using an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) apparatus. The sputtering time until the sizes of the niobium and manganese compositions were reversed was measured, and the film thickness of the manganese dioxide layer was calculated from the sputtering rate (10 nm / min) of the silicon oxide used as a reference.

図4は、XPSプロファイルを示す図である。図4に示すように、ここでは、マンガン(Mn)と、ニオブ(Nb)の濃度が、スパッタリング時間3分で逆転している。従って、ニオブとマンガンの組成の大小が逆転するスパッタリング時間を3分とし、シリコン酸化物のスパッタレート(10nm/分)から、二酸化マンガンの膜厚を30nmとしている。   FIG. 4 is a diagram showing an XPS profile. As shown in FIG. 4, here, the concentrations of manganese (Mn) and niobium (Nb) are reversed after a sputtering time of 3 minutes. Therefore, the sputtering time for reversing the composition of niobium and manganese is 3 minutes, and the film thickness of manganese dioxide is 30 nm from the sputtering rate of silicon oxide (10 nm / min).

〔ESRの測定〕
各実施例及び各比較例の固体電解コンデンサについて、周波数100kHzにおけるESRをLCRメータにて測定した。
[Measurement of ESR]
About the solid electrolytic capacitor of each Example and each comparative example, ESR in frequency 100kHz was measured with the LCR meter.

〔保存特性の測定〕
各実施例及び各比較例の固体電解コンデンサについて、それぞれ、105℃にて500時間保管した。保管前の静電容量C3、保管後の静電容量C4を、LCRメータを用いて、周波数120Hzで測定し、以下の式により、保存特性における容量維持率(%)を求めた。
[Measurement of storage characteristics]
The solid electrolytic capacitors of each Example and each Comparative Example were each stored at 105 ° C. for 500 hours. The electrostatic capacity C3 before storage and the electrostatic capacity C4 after storage were measured at a frequency of 120 Hz using an LCR meter, and the capacity retention rate (%) in storage characteristics was determined by the following equation.

保存特性における容量維持率(%)=(C4/C3)×100
表1に実施例1及び2並びに比較例1及び2の各固体電解コンデンサのESR及び保存特性の測定結果を示す。なお、ESR及び保存特性における容量維持率の値は、実施例1の値を100として規格化した値である。
Capacity retention ratio in storage characteristics (%) = (C4 / C3) × 100
Table 1 shows measurement results of ESR and storage characteristics of the solid electrolytic capacitors of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2. In addition, the value of the capacity maintenance ratio in the ESR and the storage characteristics is a value normalized with the value of Example 1 as 100.

Figure 2008263167
Figure 2008263167

表1に示す結果から明らかなように、本発明に従い、導電性高分子層と二酸化マンガン層から電解質層を構成した実施例1及び2においては、ESRが小さく、かつ保存特性における容量維持率が大きくなっている。   As is apparent from the results shown in Table 1, in Examples 1 and 2 in which the electrolyte layer is composed of the conductive polymer layer and the manganese dioxide layer according to the present invention, the ESR is small and the capacity retention rate in the storage characteristics is low. It is getting bigger.

比較例1においては、二酸化マンガン層のみから電解質層が形成されているため、保存特性における容量維持率は大きく良好であるが、ESRが増大している。   In Comparative Example 1, since the electrolyte layer is formed only from the manganese dioxide layer, the capacity retention rate in the storage characteristics is large and good, but the ESR is increased.

また、比較例2においては、導電性高分子層のみから電解質層を形成しているため、ESRは良好であるが、保存特性における容量維持率が低下している。   Moreover, in Comparative Example 2, since the electrolyte layer is formed only from the conductive polymer layer, the ESR is good, but the capacity retention rate in the storage characteristics is lowered.

(実施例3〜9)
ここでは、導電性高分子層の被覆率と、ESR及び保存特性との関係を検討した。
(Examples 3 to 9)
Here, the relationship between the coverage of the conductive polymer layer, ESR, and storage characteristics was examined.

実施例1のステップ2において、20重量%のp−トルエンスルホン酸第三鉄からなる酸化剤に浸漬し、エチレンジオキシチオフェンモノマーの蒸気と反応させる時間(重合時間)を、1分、2分、5分、10分、15分、40分、90分、及び120分と変化させた以外は、実施例1と同様にして、実施例3〜9の固体電解コンデンサを作製した。   In Step 2 of Example 1, the time (polymerization time) for immersion in an oxidizing agent composed of 20% by weight of ferric p-toluenesulfonate and reacting with the vapor of ethylenedioxythiophene monomer was 1 minute, 2 minutes. Solid electrolytic capacitors of Examples 3 to 9 were produced in the same manner as in Example 1 except that the time was changed to 5 minutes, 10 minutes, 15 minutes, 40 minutes, 90 minutes, and 120 minutes.

上記と同様にして、ESR及び保存特性における容量維持率を測定し、測定結果を表2に示した。   In the same manner as described above, the capacity retention ratio in ESR and storage characteristics was measured, and the measurement results are shown in Table 2.

Figure 2008263167
Figure 2008263167

表2に示す結果から明らかなように、導電性高分子層の被覆率が、3〜70%の範囲において、良好な結果が得られている。   As is clear from the results shown in Table 2, good results were obtained when the coverage of the conductive polymer layer was in the range of 3 to 70%.

(実施例10〜14)
ここでは、二酸化マンガン層の膜厚と、ESR及び保存特性との関係を検討した。
(Examples 10 to 14)
Here, the relationship between the thickness of the manganese dioxide layer, ESR, and storage characteristics was examined.

実施例1のステップ2において、二酸化マンガン層を形成させるためのステップの回数を、1回、2回、5回、10回、15回とした以外は、実施例1と同様にして、実施例10〜14の固体電解コンデンサを作製した。得られた固体電解コンデンサの測定結果を表3に示す。なお、表3には、実施例1の結果も合わせて示す。   Example 2 is the same as Example 1 except that the number of steps for forming the manganese dioxide layer in Step 2 of Example 1 was set to 1, 2, 5, 10, and 15 times. 10 to 14 solid electrolytic capacitors were produced. Table 3 shows the measurement results of the obtained solid electrolytic capacitor. Table 3 also shows the results of Example 1.

Figure 2008263167
Figure 2008263167

表3に示す結果から明らかなように、二酸化マンガン層の膜厚は、10〜100nmの範囲が好ましいことがわかる。   As is apparent from the results shown in Table 3, it can be seen that the thickness of the manganese dioxide layer is preferably in the range of 10 to 100 nm.

(実施例15)
本実施例では、二酸化マンガン層の上に、さらにピロールからなる電解重合膜を形成し、ESR及び保存特性を測定した。
(Example 15)
In this example, an electrolytic polymerization film made of pyrrole was further formed on the manganese dioxide layer, and ESR and storage characteristics were measured.

実施例1のステップ2の後に、電解重合法でポリピロール層を二酸化マンガン層の上に、膜厚100nmとなるように形成した。それ以外は、実施例1と同様にして、固体電解コンデンサを作製し、ESR及び保存特性を測定した。測定結果を表4に示す。   After Step 2 of Example 1, a polypyrrole layer was formed on the manganese dioxide layer by electrolytic polymerization so as to have a film thickness of 100 nm. Other than that was carried out similarly to Example 1, the solid electrolytic capacitor was produced, and ESR and the storage characteristic were measured. Table 4 shows the measurement results.

Figure 2008263167
Figure 2008263167

表4に示すように、ピロールからなる電解重合膜(PPy電解重合膜)を二酸化マンガン層の上に形成することにより、さらにESRを低減させることができる。   As shown in Table 4, ESR can be further reduced by forming an electrolytic polymer film (PPy electrolytic polymer film) made of pyrrole on the manganese dioxide layer.

〔透過型電子顕微鏡による観察〕
実施例7のサンプルについて、透過型電子顕微鏡(TEM)にて、断面観察したこところ、観察された範囲の陽極の焼結体粒子表面の長さA、導電性高分子層が被覆されている部分の長さBを測定し、Bに対するAの割合を求めたところ、約40%であった。従って、透過型電子顕微鏡による観察結果は、上記の静電容量から求めた導電性高分子層の被覆率とほぼ同程度であることが確認された。
[Observation with a transmission electron microscope]
About the sample of Example 7, when the cross section was observed with a transmission electron microscope (TEM), the length A of the sintered body particle surface of the anode in the observed range and the conductive polymer layer were coated. When the length B of the portion was measured and the ratio of A to B was determined, it was about 40%. Therefore, it was confirmed that the observation result by the transmission electron microscope is almost the same as the coverage of the conductive polymer layer obtained from the above-mentioned capacitance.

上記実施例においては、陽極を形成する弁作用金属として、ニオブを用いたが、弁作用金属としてタンタルを用いた場合においても、同様に、ESRを低減し、保存特性を改善させることができる。   In the above embodiment, niobium is used as the valve metal that forms the anode. However, when tantalum is used as the valve metal, ESR can be similarly reduced and storage characteristics can be improved.

本発明に従う一実施形態の固体電解コンデンサを示す模式的断面図。The typical sectional view showing the solid electrolytic capacitor of one embodiment according to the present invention. 陽極の多孔質体内部における誘電体層及び電解質層を示す模式的断面図。The typical sectional view showing the dielectric material layer and electrolyte layer inside the porous body of an anode. 誘電体層表面における導電性高分子層の被覆率の測定方法を説明するための斜視図。The perspective view for demonstrating the measuring method of the coverage of the conductive polymer layer in the dielectric material layer surface. 陽極表面上の誘電体層及び電解質層におけるMn及びNbの濃度分布を示す図。The figure which shows the density | concentration distribution of Mn and Nb in the dielectric material layer and electrolyte layer on an anode surface.

符号の説明Explanation of symbols

1…金属リード線
2…陽極
3…誘電体層
4…電解質層
4a…導電性高分子層
4b…二酸化マンガン層
5…陰極層
5a…カーボン層
5b…銀ペースト層
6…導電性接着剤層
7…陽極端子
8…陰極端子
9…モールド外装樹脂
10…活性炭電極
11…セル
12…コンデンサ素子
13…LCRメータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal lead wire 2 ... Anode 3 ... Dielectric layer 4 ... Electrolyte layer 4a ... Conductive polymer layer 4b ... Manganese dioxide layer 5 ... Cathode layer 5a ... Carbon layer 5b ... Silver paste layer 6 ... Conductive adhesive layer 7 ... Anode terminal 8 ... Cathode terminal 9 ... Mold exterior resin 10 ... Activated carbon electrode 11 ... Cell 12 ... Capacitor element 13 ... LCR meter

Claims (8)

弁作用を有する金属または合金からなる陽極と、
前記陽極の表面上に設けられる誘電体層と、
前記誘電体層表面上の一部の領域と接するように設けられる導電性高分子層と、前記誘電体層表面上の他の部分の領域と接するように設けられる二酸化マンガン層とから構成される電解質層とを備えることを特徴とする固体電解コンデンサ。
An anode made of a metal or alloy having a valve action;
A dielectric layer provided on the surface of the anode;
A conductive polymer layer provided in contact with a part of the region on the surface of the dielectric layer and a manganese dioxide layer provided in contact with a region of the other part on the surface of the dielectric layer. A solid electrolytic capacitor comprising an electrolyte layer.
前記誘電体層表面全体の面積に対する前記導電性高分子層と前記誘電体層とが接している領域の面積の割合を表わす導電性高分子層の被覆率が、3〜70%の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサ。   The coverage of the conductive polymer layer, which represents the ratio of the area of the region where the conductive polymer layer and the dielectric layer are in contact with the entire surface of the dielectric layer, is in the range of 3 to 70%. The solid electrolytic capacitor according to claim 1. 前記導電性高分子層が前記誘電体層表面上に島状に設けられており、前記導電性高分子層及び前記誘電体層表面を覆うように前記二酸化マンガン層が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の固体電解コンデンサ。   The conductive polymer layer is provided in an island shape on the surface of the dielectric layer, and the manganese dioxide layer is provided so as to cover the surface of the conductive polymer layer and the dielectric layer. The solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2. 前記二酸化マンガン層の厚みが、10〜100nmの範囲であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサ。   The thickness of the said manganese dioxide layer is the range of 10-100 nm, The solid electrolytic capacitor of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記弁作用を有する金属または合金が、ニオブまたはニオブを主成分とする合金であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサ。   5. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the metal or alloy having a valve action is niobium or an alloy containing niobium as a main component. 前記導電性高分子層は、ポリエチレンジオキシチオフェンまたはポリピロールから形成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサ。   The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the conductive polymer layer is formed of polyethylene dioxythiophene or polypyrrole. 前記電解質層の表面上に、導電性高分子層がさらに設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサ。   The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein a conductive polymer layer is further provided on the surface of the electrolyte layer. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサを製造する方法であって、
前記陽極の表面上に前記誘電体層を形成する工程と、
前記誘電体層表面上の一部の領域の上に、化学重合法により前記導電性高分子層を形成する工程と、
前記導電性高分子層が形成されていない前記誘電体層表面上を少なくとも覆うように前記二酸化マンガン層を形成する工程とを備えること特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
A method for producing the solid electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 7,
Forming the dielectric layer on the surface of the anode;
Forming the conductive polymer layer by a chemical polymerization method on a partial region on the surface of the dielectric layer;
And a step of forming the manganese dioxide layer so as to cover at least the surface of the dielectric layer where the conductive polymer layer is not formed.
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