JP2008256732A - Preserving method and manufacturing method of photochromic lens - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means for obtaining a photochromic lens having excellent photoresponsive and optical characteristics. <P>SOLUTION: In the preserving method preserves the photochromic lens, the photochromic lens including a photochromic film of ≥800 nm ultramicro-indentation hardness on the extreme surface and in which the extreme surface of the photochromic film exists on the extreme surface is preserved under an atmosphere of a reduced oxygen concentration and/or humidity. The method for manufacturing the photochromic lens uses the method. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、フォトクロミックレンズの保存方法および製造方法に関する。   The present invention relates to a photochromic lens storage method and manufacturing method.

近年、有機フォトクロミック染料を応用したプラスチック製フォトクロミックレンズが眼鏡用として市販されている。これらは明るい屋外で発色して高濃度のカラーレンズと同様な防眩効果を有し、室内に移ると高い透過率を回復するものである。フォトクロミックレンズには、所定の光が入射するとすばやく応答して高濃度で発色し、かつ上記光がない環境下に置かれると速やかに退色することが求められる。   In recent years, plastic photochromic lenses using organic photochromic dyes are commercially available for eyeglasses. They develop colors in bright outdoors and have the same anti-glare effect as high-density color lenses, and recover high transmittance when moving indoors. A photochromic lens is required to respond quickly when predetermined light is incident and develop a color at a high density, and to discolor quickly when placed in an environment without the light.

フォトクロミックレンズとしては、レンズ基材上にフォトクロミック色素を含むコーティング(フォトクロミック膜)を設けたレンズが広く用いられている。このフォトクロミック膜上には、通常、更にハードコートや反射防止膜などの各種コーティングが施されている。そこで、優れた光応答性(反応速度および発色濃度)とレンズ基材やハードコート層との密着性に優れたフォトクロミックレンズを得るための製造方法が種々検討されている(例えば特許文献1〜3参照)。しかし、従来のフォトクロミックレンズの光応答性は必ずしも十分なものではなく、光応答性の更なる改善が求められていた。
国際公開WO03/011967 特開2005−308767 特開平10−231331号公報
As a photochromic lens, a lens provided with a coating (photochromic film) containing a photochromic dye on a lens substrate is widely used. On the photochromic film, various coatings such as a hard coat and an antireflection film are usually further applied. Therefore, various production methods for obtaining a photochromic lens having excellent photoresponsiveness (reaction speed and color density) and excellent adhesion to a lens substrate or a hard coat layer have been studied (for example, Patent Documents 1 to 3). reference). However, the photoresponsiveness of the conventional photochromic lens is not always sufficient, and further improvement of the photoresponsiveness has been demanded.
International Publication WO03 / 011967 JP 2005-308767 A Japanese Patent Laid-Open No. 10-231331

従来、フォトクロミック膜中のフォトクロミック色素の発退色の反応速度および発色濃度は分子構造に起因するフォトクロミック色素固有の特性に依存すると考えられていた。しかし、本願出願人は検討を重ねた結果、フォトクロミック膜を完全に硬化させずに柔軟性(流動性)を持たせれば、膜中で色素が動き易くなり発退色の反応速度および発色濃度が大きく向上するとの新たな知見を得た。
そこで、本願出願人は、上記知見に基づき、少なくとも一方の面の超微小押し込み硬さが800nm以上であり適度な柔軟性を有するフォトクロミック膜について、先に特許出願した(特願2007−020484号)。
Conventionally, it has been considered that the reaction rate and color density of the photochromic dye in the photochromic film depend on the characteristics unique to the photochromic dye resulting from the molecular structure. However, as a result of repeated studies by the applicant of the present application, if the photochromic film is not completely cured but has flexibility (fluidity), the dye moves easily in the film, and the reaction speed and color density of the color change are large. I got new knowledge that it would improve.
Therefore, based on the above findings, the applicant of the present application has previously filed a patent application for a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of at least 800 nm and having an appropriate flexibility (Japanese Patent Application No. 2007-020484). ).

上記フォトクロミック膜は優れた光応答性を発揮するものではあるが、本発明者らが検討を重ねた結果、フォトクロミック膜の表面に、ハードコートや反射防止膜などのコーティングを形成するときにレンズに光学的欠陥(例えば曇り、着色など)が生じる場合があるという新たな課題があることが見出された。   Although the above photochromic film exhibits excellent photoresponsiveness, as a result of repeated studies by the present inventors, a lens such as a hard coat or an antireflection film is formed on the surface of the photochromic film. It has been found that there is a new problem that optical defects (eg haze, coloration, etc.) may occur.

そこで、本発明の目的は、光応答性および光学特性に優れたフォトクロミックレンズを得るための手段を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a means for obtaining a photochromic lens having excellent photoresponsiveness and optical characteristics.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の知見を得た。
例えば特許文献1、2に記載されているように、フォトクロミック膜の原料液には、フォトクロミック化合物の耐久性の向上、発色速度の向上、退色速度の向上や成形性の向上のために、さらに界面活性剤、酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色防止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、可塑剤等の添加剤が必要により添加される。一方、本願出願人が開発した前述のフォトクロミック膜は最表面に柔軟性を付与するために、通常、フォトクロミック膜が完全に硬化するまでは硬化処理を行わずに形成される。そのためフォトクロミック膜最表面には未重合の部分が含まれる。このようなフォトクロミック膜を大気中で長時間保存すると、フォトクロミック膜の原料液中に添加されている添加剤が、その外表面側(空気と接触する側)に染み出し(本発明においては、添加剤または添加剤由来の成分がフォトクロミック膜表面側に出てくることを「染み出す」と表現する)、染み出した成分がコーティング液中の成分と反応することが、曇りや着色などの光学的欠陥の原因となっていると考えられる。そして本発明者らは、上記知見に基づき更に検討を重ね、フォトクロミック膜形成後のフォトクロミックレンズ表面が、空気中の酸素や水分と接触することが上記染み出しの原因となることを新たに見出した。
本発明は、以上の知見に基づき完成された。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have obtained the following knowledge.
For example, as described in Patent Documents 1 and 2, the raw material liquid of the photochromic film further includes an interface for improving the durability of the photochromic compound, improving the color development speed, improving the fading speed, and improving the moldability. Additives such as activators, antioxidants, radical scavengers, UV stabilizers, UV absorbers, mold release agents, anti-coloring agents, antistatic agents, fluorescent dyes, dyes, pigments, fragrances, and plasticizers are added as necessary. Is done. On the other hand, the above-described photochromic film developed by the applicant of the present application is usually formed without performing a curing process until the photochromic film is completely cured in order to impart flexibility to the outermost surface. Therefore, an unpolymerized portion is included on the outermost surface of the photochromic film. When such a photochromic film is stored in the atmosphere for a long time, the additive added to the raw material liquid of the photochromic film oozes out to the outer surface side (side in contact with air) (in the present invention, it is added That the component derived from the additive or additive comes out on the photochromic film surface side is expressed as “bleed out”), and the component that has exuded reacts with the component in the coating liquid, such as fogging and coloring It is thought to be the cause of the defect. Further, the present inventors have further studied based on the above findings and newly found that the surface of the photochromic lens after the formation of the photochromic film is brought into contact with oxygen or moisture in the air, which causes the above-mentioned bleeding. .
The present invention has been completed based on the above findings.

即ち、上記目的を達成する手段は、以下の通りである。
[1]最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズを、酸素濃度および/または湿度が低減した雰囲気下に保存するフォトクロミックレンズの保存方法。
[2]前記雰囲気は、真空雰囲気である[1]に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。
[3]前記雰囲気は、不活性ガス雰囲気である[1]に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。
[4]前記雰囲気は、脱酸素剤を含む密閉雰囲気である[1]に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。
[5]密閉雰囲気は乾燥剤を更に含む[4]に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。
[6]前記雰囲気は、乾燥剤を含む密閉雰囲気である[1]に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。
[7]最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズの、該最表面上にコーティング膜を形成する成膜工程を含むフォトクロミックレンズの製造方法であって、
前記成膜工程前のフォトクロミックレンズを、[1]〜[6]のいずれかに記載の方法により保存する、前記製造方法。
[8]前記フォトクロミック膜は、ヒンダーアミン系光安定剤を含む[7]に記載のフォトクロミックレンズの製造方法。
That is, the means for achieving the above object is as follows.
[1] A photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more on the outermost surface and a lens substrate, wherein the outermost surface of the photochromic film is positioned on the outermost surface of the photochromic lens, A method for storing a photochromic lens, wherein the photochromic lens is stored in an atmosphere having a reduced oxygen concentration and / or humidity.
[2] The photochromic lens storage method according to [1], wherein the atmosphere is a vacuum atmosphere.
[3] The photochromic lens storage method according to [1], wherein the atmosphere is an inert gas atmosphere.
[4] The photochromic lens storage method according to [1], wherein the atmosphere is a sealed atmosphere containing an oxygen scavenger.
[5] The photochromic lens storage method according to [4], wherein the sealed atmosphere further includes a desiccant.
[6] The method for storing a photochromic lens according to [1], wherein the atmosphere is a sealed atmosphere containing a desiccant.
[7] A photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more on the outermost surface and a lens substrate, wherein the outermost surface of the photochromic film is positioned on the outermost surface of the photochromic lens, A photochromic lens manufacturing method including a film forming step of forming a coating film on the outermost surface,
The said manufacturing method which preserve | saves the photochromic lens before the said film-forming process by the method in any one of [1]-[6].
[8] The method for producing a photochromic lens according to [7], wherein the photochromic film includes a hindered amine light stabilizer.

本発明によれば、優れた光応答性と光学特性を兼ね備えたフォトクロミックレンズを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photochromic lens having both excellent light response and optical characteristics.

[フォトクロミックレンズの保存方法]
本発明は、最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズの保存方法に関する。本発明の保存方法においては、前記フォトクロミックレンズを、酸素濃度および/または湿度が低減した雰囲気下に保存する。なお、本発明において、「フォトクロミック膜」とは、少なくともフォトクロミック色素を含有し、所定波長の光の照射および遮断に伴い透過率変化を起こし得る膜をいうものとする。
以下に、本発明の保存方法について更に詳細に説明する。
[How to save photochromic lenses]
The present invention is a photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more on the outermost surface and a lens substrate, and the outermost surface of the photochromic film is located on the outermost surface of the photochromic lens. It relates to the storage method. In the storage method of the present invention, the photochromic lens is stored in an atmosphere with a reduced oxygen concentration and / or humidity. In the present invention, the “photochromic film” means a film containing at least a photochromic dye and capable of causing a change in transmittance upon irradiation and blocking of light having a predetermined wavelength.
Below, the preservation | save method of this invention is demonstrated in detail.

本発明の保存方法において、保存対象となるフォトクロミックレンズは、最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズである。超微小押し込み硬さが800nm以上の適度な柔軟性を持たせることにより、フォトクロミック膜中でフォトクロミック色素が動き易くなり光応答性(発退色の反応速度および発色濃度)を大きく向上させることができる。   In the storage method of the present invention, the photochromic lens to be stored is a photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more on the outermost surface and a lens substrate, and the outermost surface of the photochromic film is It is a photochromic lens located on the outermost surface of the photochromic lens. By providing a moderate flexibility with an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more, the photochromic dye can easily move in the photochromic film, and the photoresponsiveness (reaction speed and color density) can be greatly improved. .

フォトクロミック膜最表面の超微小押し込み硬さは、その上にコーティング膜を設ける場合の界面における混ざり合いの防止およびコーティング膜との密着性維持の観点からは、5000nm以下であることが好ましい。その好ましい範囲は、900〜4000nmであり、1200nm以上であることが更に好ましい。   The ultra-fine indentation hardness of the outermost surface of the photochromic film is preferably 5000 nm or less from the viewpoint of preventing mixing at the interface when the coating film is provided thereon and maintaining adhesion with the coating film. The preferable range is 900 to 4000 nm, and more preferably 1200 nm or more.

前記フォトクロミック膜全体に同様の柔軟性を持たせることももちろん可能である。但し、最表面には上記の適度な柔軟性を持たせ、レンズ基材と対向する表面には適度な硬度を持たせることが、光応答性と光学特性を両立する上では好ましい。以下に、この点について更に説明する。   Of course, it is possible to give the entire photochromic film the same flexibility. However, it is preferable that the outermost surface has the above-described appropriate flexibility and the surface facing the lens base material has an appropriate hardness in order to achieve both photoresponsiveness and optical characteristics. This point will be further described below.

図1は、フォトクロミックレンズの概略を示す説明図である。
フォトクロミックレンズは、一般に、前面(眼鏡レンズとして装用者に装用されたときの物体側の面)と後面(眼鏡レンズとして装用者に装用されたときの眼球側の面)に光学面を備えたレンズ基材と、そのレンズ基材の前面に形成されたフォトクロミック膜と、フォトクロミック膜の上に形成されたハードコートなどのコーティング膜とを備えている。コーティング膜としてはその他に反射防止膜、撥水膜、防汚膜、ミラーコート膜など各種コーティングを必要に応じて積層して形成することができる。
前述のように、フォトクロミック膜を完全に硬化させずに適度な柔軟性(流動性)を持たせれば、フォトクロミック膜中でフォトクロミック色素が動きやすくなり発退色の反応速度および発色濃度が大きく向上させることができる。しかし、フォトクロミック膜全体の柔軟性(流動性)を高めると、例えば後述する注型重合法によってフォトクロミック膜を形成する場合には、注型重合時にレンズ原料液とフォトクロミック膜の未硬化部分との混ざり合いが生じ、光学特性が低下するおそれがある。そこで、フォトクロミックレンズにおける光応答性が主として光が入射する側のフォトクロミック膜表層部において発現されることに着目し、フォトクロミック膜のレンズ前面側表層部に存在する色素を動きやすい状態としておき、レンズ後面側表層部は、注型重合時にレンズ原料液との混ざり合いが生じないように硬化させることが好ましい。このようなフォトクロミック膜を得る方法としては、フォトクロミック膜の硬化の程度を評価できる指標(例えば硬度や重合度)をフォトクロミック膜の物体側と眼球側とで測定し、その結果を基に硬化条件を設定するとよい。以上の観点から、フォトクロミック膜のレンズ基材と対向する表面の超微小押し込み硬さは、少なくとも最表面より高い値とすることが好ましい。その好ましい範囲は、500〜5000nmの範囲である。レンズ基材と対向する面の超微小押し込み硬さが500nm以上であれば、基材とフォトクロミック膜との密着性を確保することができ、5000nm以下であれば、注型重合法において生じ得る基材とフォトクロミック膜との界面での混ざり合いを防ぎ、良好な光学特性を確保することができる。その下限は、より好ましくは600nm、更に好ましくは1000nm、特に好ましくは2500nmであり、その上限は、より好ましくは3500nmである。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an outline of a photochromic lens.
In general, a photochromic lens is a lens having optical surfaces on the front surface (surface on the object side when worn by the wearer as a spectacle lens) and the rear surface (surface on the eyeball side when worn on the wearer as a spectacle lens). A base material, a photochromic film formed on the front surface of the lens base material, and a coating film such as a hard coat formed on the photochromic film are provided. As the coating film, various coatings such as an antireflection film, a water repellent film, an antifouling film, and a mirror coat film can be laminated as necessary.
As mentioned above, if the photochromic film is moderately flexible (fluidity) without being completely cured, the photochromic dye can move easily in the photochromic film, and the reaction speed and color density of the color change can be greatly improved. Can do. However, when the flexibility (fluidity) of the entire photochromic film is increased, for example, when the photochromic film is formed by a casting polymerization method described later, the lens raw material liquid and the uncured portion of the photochromic film are mixed during the casting polymerization. There is a risk that the optical characteristics will deteriorate. Therefore, paying attention to the fact that the photoresponsiveness in the photochromic lens is mainly expressed in the surface layer of the photochromic film on the light incident side, the dye existing in the surface layer on the lens front surface side of the photochromic film is made to move easily, and the lens rear surface The side surface layer portion is preferably cured so as not to be mixed with the lens raw material liquid during the casting polymerization. As a method for obtaining such a photochromic film, an index (for example, hardness or polymerization degree) that can evaluate the degree of curing of the photochromic film is measured on the object side and the eyeball side of the photochromic film, and the curing condition is determined based on the result. It is good to set. From the above viewpoint, it is preferable that the ultra-fine indentation hardness of the surface of the photochromic film facing the lens substrate is at least higher than that of the outermost surface. The preferable range is 500-5000 nm. If the indentation hardness of the surface facing the lens substrate is 500 nm or more, the adhesion between the substrate and the photochromic film can be ensured, and if it is 5000 nm or less, it can occur in the cast polymerization method. Mixing at the interface between the substrate and the photochromic film can be prevented, and good optical properties can be secured. The lower limit is more preferably 600 nm, still more preferably 1000 nm, particularly preferably 2500 nm, and the upper limit is more preferably 3500 nm.

本発明における「超微小押し込み硬さ」とは、エリオニクス社製超微小押し込み硬さ試験機ENT−2100を用いて、荷重100mgfをかけることにより測定される値である。測定は、以下のように行うことができる。超微小押し込み硬さの測定方法の概略図を図2に示す。
まず、レンズ基材上のフォトクロミック膜を基材から剥がし、測定対象面(面Aまたは面B)が最表面に位置するようにモニターガラス上に固定する。次いで、測定対象面に三角錐形状のダイヤモンド圧子(稜間隔115度)を用いて荷重100mgfをかけて垂直に押し込み、その際の膜の変位量(nm)を測定する。本発明では、この変位量(nm)を超微小押し込み硬さとする。数値が小さいほど硬度が高いことを意味し、数値が大きいほど硬度が低く柔軟であることを意味する。
The “ultra fine indentation hardness” in the present invention is a value measured by applying a load of 100 mgf using an ultrafine indentation hardness tester ENT-2100 manufactured by Elionix. The measurement can be performed as follows. FIG. 2 shows a schematic diagram of a method for measuring the ultra fine indentation hardness.
First, the photochromic film on the lens substrate is peeled off from the substrate and fixed on the monitor glass so that the measurement target surface (surface A or surface B) is located on the outermost surface. Next, using a triangular pyramid-shaped diamond indenter (ridge interval 115 degrees) on the surface to be measured, a load of 100 mgf is applied and the surface is pushed vertically, and the displacement (nm) of the film at that time is measured. In the present invention, this displacement amount (nm) is defined as ultra-fine indentation hardness. A smaller value means higher hardness, and a larger value means lower hardness and flexibility.

本発明の保存方法では、前記フォトクロミック膜を有するフォトクロミックレンズを、酸素濃度および/または湿度が低減した雰囲気下に保存する。ここで、「酸素濃度を低減した雰囲気」とは、大気中と比べて酸素濃度が低い雰囲気をいい、「湿度が低減した雰囲気」とは、大気中と比べて湿度が低い雰囲気をいう。前述のように、本発明者らの検討の結果、長期保存後のフォトクロミックレンズ上にコーティング膜を形成した際に生じる光学欠陥は、長期保存中にフォトクロミック膜表面が大気中の酸素や水分と接触することに起因して表面に染み出した添加剤等の成分が、コーティング液中の成分と反応することが原因であることが新たに見出された。そこで、染み出しの原因となる酸素および/または湿度が低減した雰囲気中にコーティング膜形成前のフォトクロミックレンズを保存することにより染み出しを抑制し、これにより光学欠陥が少なく優れた光学特性を有するフォトクロミックレンズを得ることができる。   In the storage method of the present invention, the photochromic lens having the photochromic film is stored in an atmosphere with a reduced oxygen concentration and / or humidity. Here, the “atmosphere with reduced oxygen concentration” refers to an atmosphere with a lower oxygen concentration than in the atmosphere, and the “atmosphere with reduced humidity” refers to an atmosphere with a lower humidity than in the air. As described above, as a result of the study by the present inventors, optical defects generated when a coating film is formed on a photochromic lens after long-term storage are such that the surface of the photochromic film is in contact with oxygen or moisture in the atmosphere during long-term storage. It has been newly found that the components such as additives that have exuded to the surface due to the reaction with the components in the coating liquid are caused. Therefore, by preserving the photochromic lens before forming the coating film in an atmosphere with reduced oxygen and / or humidity that causes bleeding, the photochromic has excellent optical characteristics with few optical defects. A lens can be obtained.

前記雰囲気としては、(A)真空雰囲気(好ましくは真空度10-1Pa以上)、(B)不活性ガス(希ガス、窒素ガス等)雰囲気、(C)脱酸素剤を含む密閉雰囲気、(D)乾燥剤を含む密閉雰囲気、(E)上記(C)+(D)、を挙げることができる。 Examples of the atmosphere include (A) a vacuum atmosphere (preferably a degree of vacuum of 10 −1 Pa or more), (B) an inert gas (rare gas, nitrogen gas, etc.) atmosphere, (C) a sealed atmosphere containing an oxygen scavenger, D) A sealed atmosphere containing a desiccant, (E) (C) + (D) above can be mentioned.

前記(A)を形成するためには、例えばデシケータを用いることができる。デシケータを使う場合としては、例えば、真空デシケータを使用し、連結された真空ポンプを駆動させて真空にして真空雰囲気を形成することができる。   In order to form (A), for example, a desiccator can be used. As a case where a desiccator is used, for example, a vacuum desiccator can be used, and a vacuum atmosphere can be formed by driving a connected vacuum pump to form a vacuum.

前記(B)を形成するためには、ガス置換タイプのデシケータを用いて、希ガスや窒素ガス等の不活性ガスを流す方法を用いることができる。この場合は希ガス中の酸素濃度および水分量が少ない方が好ましいので、高純度の希ガスを使用することが好ましい。   In order to form (B), a method of flowing an inert gas such as a rare gas or a nitrogen gas using a gas replacement type desiccator can be used. In this case, since it is preferable that the oxygen concentration and the amount of water in the rare gas are small, it is preferable to use a high-purity rare gas.

前記(C)〜(E)を形成するためには、それぞれ公知の脱酸素剤および乾燥剤を使用することができる。具体的には、脱酸素剤や乾燥剤をデシケータ中に配置し、前記雰囲気を実現することができる。   In order to form (C) to (E), a known oxygen scavenger and desiccant can be used. Specifically, an oxygen scavenger and a desiccant can be placed in a desiccator to realize the atmosphere.

乾燥剤としては公知の物が使用でき、例えばシリカゲルを主成分とする乾燥剤を使用できる。また、乾燥剤の種類と封入量は、保存雰囲気内の水分量や保存期間等を考慮して決定すればよい。   A well-known thing can be used as a desiccant, For example, the desiccant which has a silica gel as a main component can be used. Further, the type and amount of the desiccant may be determined in consideration of the moisture content in the storage atmosphere, the storage period, and the like.

また脱酸素剤としては、公知の物が使用できる。例えば、酸素を吸収する脱酸素剤組成物を、通気性を有する包装材で包装したものを用いることができる。なお、脱酸素剤組成物を含有する物質をシート状に形成したものを用いてもよい。脱酸素剤組成物としては、例えば、還元性金属の酸化反応を利用して酸素を吸収するものを用いるこができる。このような脱酸素剤組成物を用いた脱酸素剤には、脱酸素に当たって雰囲気中から水分を補給する必要がある水分依存型脱酸素剤と、雰囲気中からの水分補給を必要としない自力反応型脱酸素剤とがある。水分依存型脱酸素剤としては、例えば、特公昭56−33980号公報に記載されたものがある。この脱酸素剤組成物は、鉄粉等の金属粉をハロゲン化金属で被覆した構造を備えている。
また、自力反応型脱酸素剤としては、例えば特公昭57−31449号公報に記載されたものがある。この脱酸素剤は、脱酸素剤中に水分供与体を存在させて、そこから脱酸素に必要な水分を供給するようにしたものである。
自力反応型の脱酸素剤を使用した場合は、脱酸素剤中の水分供与体から生じた水蒸気が密閉された包装材内に蒸散し、レンズに影響を与えるおそれがある。そのような場合は、自力反応型の脱酸素剤とともに乾燥剤(例えばシリカゲルなど)を包装材中に同封すると良い。また、脱酸素機能と乾燥機能を合わせ持つ脱酸素剤を用いても良い(例えば三菱ガス化学株式会社製ファーマキープ(KD、KCタイプ))。また、水分供与体を必要とせずに乾燥雰囲気中で脱酸素機能を発揮する脱酸素剤を用いてもよい。そのような脱酸素剤としては、炭素−炭素不飽和結合を有する架橋高分子からなる脱酸素成分を有する脱酸素剤(例えば特開平11−70331号公報参照)や、遷移金属を担体に担持して活性化してなる金属を主剤とする脱酸素剤(例えば特開平8−38883号公報参照)や、マグネシウム化合物を担体に担持後、還元することにより得られる活性化マグネシウムを主剤とする脱酸素剤(例えば特開2001−37457号公報参照)、不飽和基を有した液状炭化水素オリゴマーを主剤とし酸素吸収促進物質を含むものを担体に担持した酸素吸収組成物を有する脱酸素剤(例えば特開平10−113555号公報参照)等がある。市販されている製品としては、三菱ガス化学株式会社製ファーマキープ(KHタイプ)を挙げることができる。脱酸素剤の種類と封入量は、保存雰囲気内の酸素量と、保存期間等を考慮して決定すると良い。
Moreover, a well-known thing can be used as an oxygen scavenger. For example, an oxygen scavenger composition that absorbs oxygen can be used which is packaged with a packaging material having air permeability. In addition, you may use what formed the substance containing an oxygen absorber composition in the sheet form. As the oxygen scavenger composition, for example, a composition that absorbs oxygen using an oxidation reaction of a reducing metal can be used. The oxygen absorber using such an oxygen absorber composition includes a moisture-dependent oxygen absorber that needs to be replenished with water from the atmosphere in deoxidation, and a self-reaction that does not require rehydration from the atmosphere. There is a type oxygen scavenger. An example of a moisture-dependent oxygen scavenger is described in Japanese Patent Publication No. 56-33980. This oxygen scavenger composition has a structure in which metal powder such as iron powder is coated with a metal halide.
Examples of the self-reactive oxygen absorber include those described in JP-B-57-31449. In this oxygen scavenger, a water donor is present in the oxygen scavenger, and water necessary for oxygen scavenging is supplied therefrom.
When a self-reactive oxygen absorber is used, water vapor generated from a moisture donor in the oxygen absorber may evaporate in the sealed packaging material, which may affect the lens. In such a case, a desiccant (such as silica gel) may be enclosed in the packaging material together with a self-reactive oxygen absorber. Further, an oxygen scavenger having both a oxygen scavenging function and a drying function may be used (for example, Pharma Keep (KD, KC type) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.). Moreover, you may use the deoxidation agent which exhibits a deoxidation function in a dry atmosphere, without requiring a moisture donor. Examples of such an oxygen scavenger include an oxygen scavenger having a oxygen scavenging component made of a crosslinked polymer having a carbon-carbon unsaturated bond (see, for example, JP-A-11-70331), or a transition metal supported on a carrier. An oxygen scavenger mainly based on activated metal (see, for example, JP-A-8-38883), or an oxygen scavenger based on activated magnesium obtained by carrying a magnesium compound on a carrier and then reducing it (See, for example, JP-A-2001-37457), an oxygen scavenger having an oxygen-absorbing composition in which a liquid hydrocarbon oligomer having an unsaturated group as a main component and an oxygen-absorption-promoting substance is supported on a carrier (for example, No. 10-113555). Commercially available products include PharmaKeep (KH type) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. The type and amount of the oxygen scavenger may be determined in consideration of the amount of oxygen in the storage atmosphere and the storage period.

また、酸素および/または湿度が低減した雰囲気は、ガスバリア性の包装袋を用いて形成することもできる。その方法としては、例えば酸素や水蒸気の透過を抑制した包装袋中にレンズを入れ、ノズル式脱気包装機や図3に示すようなチャンバー式真空・ガス置換包装機を使用して、包装袋内を真空にして密閉する方法を用いることが好ましい。また、本発明ではこれら包装機を用いて包装袋内に希ガスを封入して密閉して前記(B)の雰囲気を実現してもよい。また、図4に示すように、レンズと一緒に脱酸素剤、または、乾燥剤、またはその両方を入れ、包装袋の開口部を密閉して前記(C)〜(D)の雰囲気を実現してもよい。なお、本発明において、「密閉」とは、少なくとも酸素および/または水蒸気の透過を抑制し得る程度に、保存雰囲気が外気から遮断されていることをいう。「ガスバリア性」とは、酸素と水蒸気の透過を抑制する性質をいう。   In addition, an atmosphere with reduced oxygen and / or humidity can be formed using a gas barrier packaging bag. As the method, for example, a lens is put in a packaging bag in which permeation of oxygen and water vapor is suppressed, and a packaging bag is used by using a nozzle type degassing packaging machine or a chamber type vacuum / gas replacement packaging machine as shown in FIG. It is preferable to use a method in which the inside is evacuated and sealed. Moreover, in this invention, you may implement | achieve the atmosphere of said (B) by enclosing and sealing rare gas in a packaging bag using these packaging machines. In addition, as shown in FIG. 4, an oxygen scavenger and / or a desiccant is put together with the lens and the opening of the packaging bag is sealed to realize the atmospheres (C) to (D). May be. In the present invention, “sealing” means that the storage atmosphere is shielded from the outside air to such an extent that permeation of oxygen and / or water vapor can be suppressed. “Gas barrier property” refers to the property of suppressing the permeation of oxygen and water vapor.

本発明の保存方法において保存対象となるフォトクロミックレンズは、例えば、注型重合を用いて、レンズ基材の硬化とレンズ基材上へのフォトクロミック膜の形成を成形型内で行う方法(以下、注型重合法という)により製造できる。この方法では、まず、レンズの一方の面を形成するためのモールドの片面にフォトクロミック液を塗布し、塗布されたフォトクロミック液に硬化処理を施すことにより、モールド表面にフォトクロミック膜を形成する。その後、表面にフォトクロミック膜が形成されたモールドを使用して、レンズ基材の重合反応を行う。具体的には、以下の工程によって注型重合法により、レンズ基材上に前記のフォトクロミック膜を有するフォトクロミックレンズを得ることができる。
(フォトクロミック液塗布工程)
レンズの一方の面を形成するための第一モールドの片面(成形面)に、フォトクロミック液(フォトクロミック色素、硬化性成分、および必要に応じて各種添加剤を含む)を塗布する。
(フォトクロミック液硬化処理工程)
前記第一モールド成形面上に塗布されたフォトクロミック液が完全に硬化が進まない程度に硬化処理を施して、第一モールド成形面にフォトクロミック膜を形成する。
(レンズ鋳型形成工程)
前記第一モールドとレンズの他方の面を形成するための第二モールドを、前記第一モールドのフォトクロミック膜の最表面が第二モールドの成形面と対向するように配置し、かつ前記2つのモールドの周囲を密閉して、フォトクロミック膜が内部に位置するキャビティを備えたレンズ鋳型を形成する。
(注型重合工程)
前記キャビティに硬化性成分を含むレンズ原料液を注入し、該キャビティで前記硬化性成分の硬化反応を行う。
(離型工程)
前記レンズ鋳型を取り除き、成形されたレンズを得る。この得られたレンズには、前記フォトクロミック液硬化処理工程により前記第一モールド成形面に形成されていたフォトクロミック膜が第一モールド成形面から剥がれてレンズ基材上に形成されている。
以下に、各工程の詳細を順次説明する。
The photochromic lens to be stored in the storage method of the present invention is, for example, a method in which molding of a lens base material and formation of a photochromic film on the lens base material is performed in a molding die using casting polymerization (hereinafter referred to as a note). The mold polymerization method). In this method, first, a photochromic liquid is applied to one surface of a mold for forming one surface of a lens, and a photochromic film is formed on the mold surface by applying a curing treatment to the applied photochromic liquid. Thereafter, a lens substrate is subjected to a polymerization reaction using a mold having a photochromic film formed on the surface. Specifically, a photochromic lens having the above-described photochromic film on a lens substrate can be obtained by a casting polymerization method according to the following steps.
(Photochromic liquid application process)
A photochromic liquid (including a photochromic dye, a curable component, and various additives as necessary) is applied to one surface (molding surface) of the first mold for forming one surface of the lens.
(Photochromic liquid curing process)
A photochromic film is formed on the first mold molding surface by performing a curing process so that the photochromic liquid applied on the first mold molding surface does not completely cure.
(Lens mold forming process)
The first mold and the second mold for forming the other surface of the lens are arranged so that the outermost surface of the photochromic film of the first mold faces the molding surface of the second mold, and the two molds The lens mold is formed with a cavity in which the photochromic film is located.
(Cast polymerization process)
A lens raw material liquid containing a curable component is injected into the cavity, and the curing reaction of the curable component is performed in the cavity.
(Release process)
The lens mold is removed to obtain a molded lens. In the obtained lens, the photochromic film formed on the first mold molding surface by the photochromic liquid curing process is peeled off from the first mold molding surface and formed on the lens substrate.
Below, the detail of each process is demonstrated one by one.

(フォトクロミック液塗布工程)
本工程では、レンズの一方の面を形成するためのモールド(第一モールド)の片面(成形面)に、フォトクロミック液を塗布する。
フォトクロミック液としては、少なくともフォトクロミック色素、硬化性成分をふくみ、必要に応じて各種添加剤を含むフォトクロミック液を用いることができる。各成分の詳細は後述する。
(Photochromic liquid application process)
In this step, a photochromic liquid is applied to one surface (molding surface) of a mold (first mold) for forming one surface of the lens.
As the photochromic liquid, a photochromic liquid containing at least a photochromic dye and a curable component and containing various additives as necessary can be used. Details of each component will be described later.

第一モールド表面へのフォトクロミック液の塗布は、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法等の公知の方法によって行うことができる。塗布液の粘性、面精度の点からは、スピンコート法を使用することが好ましい。塗布量は、所望のフォトクロミック膜の厚さに応じて適宜調整すればよい。   Application of the photochromic liquid to the surface of the first mold can be performed by a known method such as a dipping method, a spin coating method, or a spray method. From the viewpoint of the viscosity and surface accuracy of the coating solution, it is preferable to use a spin coating method. The coating amount may be appropriately adjusted according to the desired photochromic film thickness.

メニスカス形状のレンズを形成するためには、レンズの凹面を形成すべく凸面側(使用時に眼球側)に成形面を有する凸面型と、レンズの凸面(使用時に物体側)を形成すべく凹面側に成形面を有する凹面型が用いられる。本発明では、この凹面型(モールド)上にフォトクロミック液を塗布してフォトクロミック膜を形成することにより、物体側にフォトクロミック膜を有するフォトクロミックレンズを得ることができる。レンズ上にフォトクロミック液を塗布、硬化することによりフォトクロミックレンズを製造する方法では、使用時に物体側に位置する凸面上にフォトクロミック液を塗布するため、フォトクロミック液の粘度が低い場合や塗布量が多い場合には、塗布されたフォトクロミック液が凸面から流下することがある。それに対し、前記のように凹面上にフォトクロミック液を塗布すれば、モールド表面から流下することなく安定に保持することができるという利点がある。   In order to form a meniscus lens, a convex mold having a convex surface on the convex side (eyeball side when used) to form a concave surface of the lens, and a concave side to form a convex surface of the lens (object side when used) A concave mold having a molding surface is used. In the present invention, a photochromic film having a photochromic film on the object side can be obtained by applying a photochromic liquid on the concave mold (mold) to form a photochromic film. In the method of manufacturing a photochromic lens by applying and curing a photochromic solution on the lens, the photochromic solution is applied on the convex surface located on the object side during use, so the viscosity of the photochromic solution is low or the application amount is large In some cases, the applied photochromic liquid may flow down from the convex surface. On the other hand, if the photochromic liquid is applied on the concave surface as described above, there is an advantage that it can be stably held without flowing down from the mold surface.

(フォトクロミック液硬化処理工程)
本工程では、第一モールド上に塗布されたフォトクロミック液に硬化処理を施すことにより、第一モールド上にフォトクロミック膜を形成する。
(Photochromic liquid curing process)
In this step, a photochromic film is formed on the first mold by performing a curing process on the photochromic liquid applied on the first mold.

フォトクロミック膜の硬化状態は、(1)フォトクロミック液の組成、(2)硬化条件、(3)フォトクロミック膜の厚さ、によって制御することができる。以下に、上記(1)〜(3)について順次説明する。   The cured state of the photochromic film can be controlled by (1) the composition of the photochromic liquid, (2) curing conditions, and (3) the thickness of the photochromic film. The above (1) to (3) will be sequentially described below.

(1)フォトクロミック液
(i)硬化性成分
フォトクロミック膜形成のために使用可能な硬化性成分は、特に限定されず、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基、スチリル基等のラジカル重合性基を有する公知の光重合性モノマーやオリゴマー、それらのプレポリマーを用いることができる。これらのなかでも、入手のし易さ、硬化性の良さから(メタ)アクリロイル基または(メタ)アクリロイルオキシ基をラジカル重合性基として有する化合物が好ましい。なお、前記(メタ)アクリロイルは、アクリロイルとメタクリロイルの両方を示す。
(1) Photochromic liquid (i) Curable component The curable component that can be used for forming the photochromic film is not particularly limited, and is a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a vinyl group, an allyl group, or a styryl. Known photopolymerizable monomers and oligomers having radically polymerizable groups such as groups, and prepolymers thereof can be used. Among these, a compound having a (meth) acryloyl group or a (meth) acryloyloxy group as a radically polymerizable group is preferable because of easy availability and curability. The (meth) acryloyl represents both acryloyl and methacryloyl.

フォトクロミック膜とレンズ基材との界面での混ざり合い防止、硬度調整の容易さ、膜形成後の耐溶剤性や硬度、耐熱性等の硬化体特性、または発色濃度や退色速度等のフォトクロミック特性を良好なものとするため、ラジカル重合性単量体としては、単独重合体のLスケールロックウェル硬度が60以上を示すもの(以下、高硬度モノマーと称す場合がある)と、同じく単独重合体のLスケールロックウェル硬度が40以下を示すもの(以下、低硬度モノマーと称す場合がある)を併用することがより好ましい。
Lスケールロックウェル硬度とは、JIS−B7726に従って測定される硬度を意味する。各モノマーの単独重合体についてこの測定を行うことにより、前記硬度条件を満足するかどうかを簡単に判断することができる。具体的には、モノマーを重合させて厚さ2mmの硬化体を得、これを25℃の室内で1日保持した後にロックウェル硬度計を用いて、Lスケールロックウェル硬度を測定することにより容易に確認することができる。
Prevents mixing at the interface between the photochromic film and the lens substrate, facilitates hardness adjustment, cure properties such as solvent resistance, hardness and heat resistance after film formation, or photochromic characteristics such as color density and fading speed In order to make it good, the radical polymerizable monomer includes a homopolymer having an L scale Rockwell hardness of 60 or more (hereinafter sometimes referred to as a high hardness monomer), and a homopolymer. It is more preferable to use an L scale Rockwell hardness of 40 or less (hereinafter sometimes referred to as a low hardness monomer).
L scale Rockwell hardness means the hardness measured according to JIS-B7726. By performing this measurement on the homopolymer of each monomer, it can be easily determined whether or not the hardness condition is satisfied. Specifically, the monomer is polymerized to obtain a cured product having a thickness of 2 mm, and this is easily maintained by measuring the L scale Rockwell hardness using a Rockwell hardness meter after holding it in a room at 25 ° C. for one day. Can be confirmed.

また、前記Lスケールロックウェル硬度の測定に供する重合体は、仕込んだ単量体の有す重合性基の90%以上が重合する条件で注型重合して得たものである。このような条件で重合された硬化体のLスケールロックウェル硬度は、ほぼ一定の値として測定される。
前記高硬度モノマーは、硬化後の硬化体の耐溶剤性、硬度、耐熱性等を向上させる効果を有する。これらの効果をより効果的なものとするためには、単独重合体のLスケールロックウェル硬度が65〜130を示すラジカル重合性単量体が好ましい。
このような高硬度モノマーは、通常2〜15個、好ましくは2〜6個のラジカル重合性基を有する化合物であり、好ましい具体例としては、下記一般式(1)〜(5)で表される化合物が挙げられる。
The polymer used for the measurement of the L scale Rockwell hardness is obtained by cast polymerization under a condition in which 90% or more of the polymerizable groups of the charged monomer are polymerized. The L scale Rockwell hardness of the cured body polymerized under such conditions is measured as a substantially constant value.
The high-hardness monomer has the effect of improving the solvent resistance, hardness, heat resistance and the like of the cured product after curing. In order to make these effects more effective, a radical polymerizable monomer having a homopolymer L-scale Rockwell hardness of 65 to 130 is preferable.
Such a high-hardness monomer is usually a compound having 2 to 15 and preferably 2 to 6 radical polymerizable groups, and preferred specific examples are represented by the following general formulas (1) to (5). Compounds.

(式中、R13は水素原子またはメチル基であり、R14は水素原子、メチル基またはエチル基であり、R15は3〜6価の有機基であり、fは0〜3の範囲の整数、f’はO〜3の範囲の整数、gは3〜6の範囲の整数である。) Wherein R 13 is a hydrogen atom or a methyl group, R 14 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, R 15 is a 3-6 valent organic group, and f is in the range of 0-3. Integer, f ′ is an integer in the range of O to 3, and g is an integer in the range of 3 to 6.)

(式中、R16は水素原子またはメチル基であり、Bは3価の有機基であり、Dは2価の有機基であり、hは1〜10の範囲の整数である。) (In the formula, R 16 is a hydrogen atom or a methyl group, B is a trivalent organic group, D is a divalent organic group, and h is an integer in the range of 1 to 10.)

(式中、R17は水素原子またはメチル基であり、R18は水素原子、メチル基、エチル基またはヒドロキシル基であり、Eは環状の基を含む2価の有機基であり、iおよびjは、i+jの平均値が0〜6となる正の整数である。) Wherein R 17 is a hydrogen atom or a methyl group, R 18 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a hydroxyl group, E is a divalent organic group containing a cyclic group, i and j Is a positive integer such that the average value of i + j is 0-6.)

(式中、R19は水素原子またはメチル基であり、Fは側鎖を有していてもよい主鎖炭素数2〜9のアルキレン基である。) (In the formula, R 19 is a hydrogen atom or a methyl group, and F is an alkylene group having 2 to 9 main chain carbon atoms which may have a side chain.)

(式中、R20は水素原子、メチル基またはエチル基であり、kは1〜6の範囲の整数である。) (In the formula, R 20 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and k is an integer in the range of 1 to 6.)

前記一般式(1)〜(4)における、R13〜R19は、いずれも水素原子またはメチル基であるため、一般式(1)〜(4)で示される化合物は2〜6個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物である。
前記一般式(1)におけるR14は水素原子、メチル基またはエチル基である。
一般式(1)におけるR15は3〜6価の有機基である。この有機基は特に限定されるものではなく、また、その主鎖中に、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、ウレタン結合等の炭素一炭素結合以外の結合を含んでいてもよい。
単独重合体のLスケールロックウェル硬度が60以上を示すためには、R15は、好ましくは炭素数1〜30の有機基であり、より好ましくはエーテル結合および/またはウレタン結合を含んでいてもよい炭素数1〜15の有機基である。
また、fおよびf’は、それぞれ独立に0〜3の範囲の整数である。また、Lスケールロックウェル硬度を60以上とするためには、fおよびf’の合計が0〜3であることが好ましい。
In the general formulas (1) to (4), R 13 to R 19 are all hydrogen atoms or methyl groups, and therefore the compounds represented by the general formulas (1) to (4) are 2 to 6 ( It is a compound having a (meth) acryloyloxy group.
R 14 in the general formula (1) is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group.
R 15 in the general formula (1) is a trivalent to hexavalent organic group. The organic group is not particularly limited, and includes a bond other than a carbon-carbon bond such as an ester bond, an ether bond, an amide bond, a thioether bond, a sulfonyl bond, or a urethane bond in the main chain. Also good.
In order for the L scale Rockwell hardness of the homopolymer to be 60 or more, R 15 is preferably an organic group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an ether bond and / or a urethane bond. It is a good organic group having 1 to 15 carbon atoms.
F and f ′ are each independently an integer in the range of 0 to 3. Moreover, in order to make L scale Rockwell hardness 60 or more, it is preferable that the sum total of f and f 'is 0-3.

前記一般式(1)で示される高硬度モノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレト、トリメチロールブロパントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリエチレングリコールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリエチレングリコールトリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ウレタンオリゴマーテトラアクリレート、ウレタンオリゴマーヘキサメタクリレート、ウレタンオリゴマーヘキサアクリレート、ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the high hardness monomer represented by the general formula (1) include trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethanetrimethacrylate, tetramethylolmethanetriacrylate, trimethylolbropantrimethacrylate, Tetramethylolmethane tetramethacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, trimethylolpropane triethylene glycol trimethacrylate, trimethylolpropane triethylene glycol triacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, Pentaerythritol tetramethacrylate, dipen Hexaacrylate, urethane oligomer tetraacrylate, urethane oligomer hexa methacrylate, urethane oligomer hexaacrylate, polyester oligomer hexaacrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate.

前記一般式(2)におけるBは3価の有機基であり、Dは2価の有機基である。このBおよびDは特に限定されるものではなく、その主鎖中に、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、ウレタン結合等の炭素−炭素結合以外の結合を含んでいてもよい。単独重合体のLスケールロックウェル硬度が60以上であるためには、Bは炭素数3〜10の直鎖または分枝状の炭化水素から誘導される有機基であると好ましく、Dは炭素数1〜10の直鎖または分枝状の脂肪族炭化水素、または炭素数6〜10の芳香族炭化水素から誘導される有機基である。
また単独重合体のLスケールロックウェル硬度を60以上とするために、hは1〜10の範囲の整数であり、好ましくは1〜6の範囲の整数である。
前記一般式(2)で示される高硬度モノマーの具体的としては、分子量2,500〜3,500の4官能ポリエステルオリゴマー(ダイセルユーシービー社、EB80等)、分子量6,000〜8,000の4官能ポリエステルオリゴマー(ダイセルユーシービー社、EB450等)、分子量45,000〜55,000の6官能ポリエステルオリゴマー(ダイセルユーシービー社、EB1830等)、分子量10,000の4官能ポリエステルオリゴマー(第一工業製薬社、GX8488B等)等が挙げられる。
In the general formula (2), B is a trivalent organic group, and D is a divalent organic group. B and D are not particularly limited, and the main chain may contain bonds other than carbon-carbon bonds such as ester bonds, ether bonds, amide bonds, thioether bonds, sulfonyl bonds, and urethane bonds. Good. In order for the L-scale Rockwell hardness of the homopolymer to be 60 or more, B is preferably an organic group derived from a linear or branched hydrocarbon having 3 to 10 carbon atoms, and D is a carbon number. An organic group derived from a linear or branched aliphatic hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon having 6 to 10 carbon atoms.
Moreover, in order to make L scale Rockwell hardness of a homopolymer 60 or more, h is an integer in the range of 1-10, Preferably it is an integer in the range of 1-6.
Specific examples of the high-hardness monomer represented by the general formula (2) include tetrafunctional polyester oligomers (Daicel UCB, EB80, etc.) having a molecular weight of 2,500 to 3,500, and molecular weights of 6,000 to 8,000. Tetrafunctional polyester oligomer (Daicel UCB, EB450, etc.), 6functional polyester oligomer with molecular weight of 45,000-55,000 (Daicel UCB, EB1830, etc.), tetrafunctional polyester oligomer with molecular weight 10,000 (Daiichi Kogyo) Pharmaceutical companies, GX8488B, etc.).

前記一般式(3)におけるR18は水素原子、メチル基、エチル基またはヒドロキシル基である。また式(3)におけるEは環状の基を含む2価の有機基である。この有機基は環状の基を含むものであれば特に限定されるものではなく、また、その主鎖中に、エステル結合、エーテル結合、アミド結合、チオエーテル結合、スルホニル結合、ウレタン結合等の炭素−炭素結合以外の結合を含んでいてもよい。Eに含まれる環状の基としては、ベンゼン環、シクロヘキサン環、アダマンタン環または以下に示す環状の基等が挙げられる。
R 18 in the general formula (3) is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a hydroxyl group. E in the formula (3) is a divalent organic group containing a cyclic group. The organic group is not particularly limited as long as it contains a cyclic group, and in the main chain, carbon- such as ester bond, ether bond, amide bond, thioether bond, sulfonyl bond, urethane bond, etc. Bonds other than carbon bonds may be included. Examples of the cyclic group contained in E include a benzene ring, a cyclohexane ring, an adamantane ring, and the following cyclic groups.

Eに含まれる環状の基はベンゼン環であることが好ましく、さらにEは下記式:
(Gは、酸素原子、硫黄原子、−S(O2)−、−C(O)−、−CH2−、−CH=CH−、−C(CH32−および−C(CH3)(C65)−から選ばれるいずれかの基であり、R21およびR22は、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子であり、lおよびl’は、それぞれ独立に0〜4の範囲の整数である。)で示される基であるとより好ましく、最も好ましいEは下記式:
で示される基である。
The cyclic group contained in E is preferably a benzene ring, and E is represented by the following formula:
(G is an oxygen atom, a sulfur atom, —S (O 2 ) —, —C (O) —, —CH 2 —, —CH═CH—, —C (CH 3 ) 2 — and —C (CH 3 ) (C 6 H 5 ) —, R 21 and R 22 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a halogen atom, and l and l ′ are each independently Is an integer in the range of 0 to 4.), and most preferable E is represented by the following formula:
It is group shown by these.

前記一般式(3)中、iおよびjは、i+jの平均値が0〜6となる正の整数である。なお、式(3)で示される化合物は、iおよびjの双方が0である場合を除き、通常iおよびjの異なる複数の化合物の混合物として得られる。それらの単離は困難であるため、iおよびjはi+jの平均値で示される。i+jの平均値は2〜6であることがより好ましい。
一般式(3)で示される高硬度モノマーの具体的としては、ビスフェノールAジメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン等が挙げられる。
In the general formula (3), i and j are positive integers with an average value of i + j being 0-6. The compound represented by the formula (3) is usually obtained as a mixture of a plurality of compounds having different i and j except when both i and j are 0. Since their isolation is difficult, i and j are expressed as the average value of i + j. The average value of i + j is more preferably 2-6.
Specific examples of the high hardness monomer represented by the general formula (3) include bisphenol A dimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloyloxyethoxyphenyl) propane, and 2,2-bis (3,5-dibromo-4. -Methacryloyloxyethoxyphenyl) propane and the like.

前記一般式(4)におけるR19は水素原子またはメチル基であり、Fは側鎖を有していてもよい主鎖炭素数2〜9のアルキレン基である。この主鎖炭素数2〜9のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン基、ノニリレン基等が例示される。
一般式(4)で示される高硬度モノマーの具体的としては、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブチレングリコールジメタクリレート、1,9−ノニレングリコールジメタクリレート、ネオペンチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチレングリコールジアクリレート等が挙げられる。
In the general formula (4), R 19 is a hydrogen atom or a methyl group, and F is an alkylene group having 2 to 9 main carbon atoms which may have a side chain. Examples of the alkylene group having 2 to 9 carbon atoms in the main chain include an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a butylene group, a neopentylene group, a hexylene group, and a nonylylene group.
Specific examples of the high hardness monomer represented by the general formula (4) include ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butylene glycol dimethacrylate, 1,9-nonylene glycol dimethacrylate, and neopentylene glycol. Examples include dimethacrylate and neopentylene glycol diacrylate.

前記一般式(5)におけるR20は水素原子、メチル基またはエチル基であり、kは2〜6の範囲の整数であり、好ましくはkは3または4である。
一般式(5)で示される高硬度モノマーの具体的としては、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。
なお、前記一般式(1)〜(5)で示される化合物でも、置換基の組み合わせによっては単独重合体のLスケールロックウェル硬度が60未満のものがあるが、その場合には、これらの化合物は後述する低硬度モノマーまたは中硬度モノマーに分類される。
また、前記一般式(1)〜(5)で示されない高硬度モノマーもあり、その代表的化合物としては、ビスフェノールAジグリシジルメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。
R 20 in the general formula (5) is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, k is an integer in the range of 2 to 6, and preferably k is 3 or 4.
Specific examples of the high hardness monomer represented by the general formula (5) include diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, and tetrapropylene glycol dimethacrylate.
In addition, even in the compounds represented by the general formulas (1) to (5), depending on the combination of substituents, there are homopolymers having L scale Rockwell hardness of less than 60. Is classified into a low-hardness monomer or a medium-hardness monomer described later.
There are also high-hardness monomers not represented by the general formulas (1) to (5), and typical compounds include bisphenol A diglycidyl methacrylate, ethylene glycol bisglycidyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.

また、前記低硬度モノマーは、硬化体を強靭なものとし、またフォトクロミック化合物の退色速度を向上させる効果を有する。
このような低硬度モノマーとしては、下記一般式(6):
(式中、R23は水素原子またはメチル基であり、R24およびR25は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基であり、Zは酸素原子または硫黄原子であり、mはR23が水素原子の場合は1〜70の整数であり、R23がメチル基の場合は7〜70の整数でありそしてm’は0〜70の範囲の整数である。)
The low-hardness monomer has an effect of making the cured body tough and improving the fading speed of the photochromic compound.
As such a low hardness monomer, the following general formula (6):
Wherein R 23 is a hydrogen atom or a methyl group, R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, Z is an oxygen atom or a sulfur atom, and m is R 23 When R is a hydrogen atom, it is an integer of 1 to 70, and when R 23 is a methyl group, it is an integer of 7 to 70, and m ′ is an integer in the range of 0 to 70.)

または下記一般式(7):
(式中、R26は水素原子またはメチル基であり、R27およびR28は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基またはヒドロキシル基であり、Iは環状の基を含む2価の有機基であり、i’およびj’は、i’+j’の平均値が8〜40となる整数である。)
で示される2官能モノマーや、下記一般式(8):
Or the following general formula (7):
(Wherein R 26 is a hydrogen atom or a methyl group, R 27 and R 28 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a hydroxyl group, and I is a divalent organic compound containing a cyclic group. And i ′ and j ′ are integers having an average value of i ′ + j ′ of 8 to 40.)
Or a bifunctional monomer represented by the following general formula (8):

(式中、R29は水素原子またはメチル基であり、R30およびR31は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基であり、R32は水素原子、炭素数1〜25のアルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基もしくはハロアルキル基、炭素数6〜25のアリール基、または炭素数2〜25の(メタ)アクリロイル基以外のアシル基であり、Zは酸素原子または硫黄原子であり、m’’はR29が水素原子の場合は1〜70の整数であり、R29がメチル基の場合は4〜70の整数であり、m’’’は0〜70の範囲の整数である。) (Wherein R 29 is a hydrogen atom or a methyl group, R 30 and R 31 are each independently a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and R 32 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms) , An alkenyl group, an alkoxyalkyl group or a haloalkyl group, an aryl group having 6 to 25 carbon atoms, or an acyl group other than a (meth) acryloyl group having 2 to 25 carbon atoms, Z is an oxygen atom or a sulfur atom, m ″ Is an integer of 1 to 70 when R 29 is a hydrogen atom, an integer of 4 to 70 when R 29 is a methyl group, and m ″ ′ is an integer in the range of 0 to 70. )

または下記一般式(9):
(式中、R33は水素原子またはメチル基であり、R34はR33が水素原子の場合には炭素数1〜20のアルキル基であり、R33がメチル基の場合には炭素数8〜40のアルキル基である。)
で示される単官能のモノマーが例示される。
Or the following general formula (9):
Wherein R 33 is a hydrogen atom or a methyl group, R 34 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms when R 33 is a hydrogen atom, and 8 carbon atoms when R 33 is a methyl group. ˜40 alkyl groups.)
The monofunctional monomer shown by these is illustrated.

前記一般式(6)〜(9)において、R23、R26、R29およびR33は水素原子またはメチル基である。すなわち、低硬度モノマーは重合性基として、通常2個以下の(メタ)アクリロイルオキシ基または(メタ)アクリロイルチオ基を有する。
前記一般式(6)におけるR24およびR25は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基であり、Zは酸素原子または硫黄原子である。
一般式(6)においては、R23が水素原子の場合、すなわち重合性基としてアクリロイルオキシ基またはアクリロイルチオ基を有する場合には、mは1〜70の整数であり、一方、R23がメチル基である場合、すなわち重合性基としてメタクリロイルオキシ基またはメタクリロイルチオ基を有する場合には、mは7〜70の整数である。また、m’は0〜70の範囲の整数である。
一般式(6)で示される低硬度モノマーの具体的としては、トリアルキレングリコールジアクリレート、テトラアルキレングリコールジアクリレート、ノニルアルキレングリコールジアクリレート、ノニルアルキレングリコールジメタクリレート等のアルキレングリコールジ(メタ)アタリレート類が挙げられる。
In the general formulas (6) to (9), R 23 , R 26 , R 29 and R 33 are a hydrogen atom or a methyl group. That is, the low hardness monomer usually has 2 or less (meth) acryloyloxy groups or (meth) acryloylthio groups as a polymerizable group.
In the general formula (6), R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and Z is an oxygen atom or a sulfur atom.
In the general formula (6), when R 23 is a hydrogen atom, that is, when it has an acryloyloxy group or an acryloylthio group as a polymerizable group, m is an integer of 1 to 70, while R 23 is methyl. When it is a group, that is, when it has a methacryloyloxy group or a methacryloylthio group as a polymerizable group, m is an integer of 7 to 70. M ′ is an integer in the range of 0 to 70.
Specific examples of the low-hardness monomer represented by the general formula (6) include alkylene glycol di (meth) acrylates such as trialkylene glycol diacrylate, tetraalkylene glycol diacrylate, nonyl alkylene glycol diacrylate, and nonyl alkylene glycol dimethacrylate. Kind.

前記一般式(7)におけるR26は水素原子、メチル基またはエチル基である。
また、Iは環状の基を含む2価の有機基である。このIとしては前記式(9)に含まれる環状の基であるEとして例示されたものと同様である。式(7)におけるi’およびj’は、i’+j’の平均値が8〜40となる整数、好ましくは9〜30となる整数である。このi’およびj’も前記した式(3)におけるiおよびjと同様の理由で通常は平均値で示される。
一般式(7)で示される低硬度モノマーの具体的としては、平均分子量776の2,2−ビス(4−アクリロイルオキシポリエチレングリコールフェニル)プロパン等を挙げることができる。
R 26 in the general formula (7) is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group.
I is a divalent organic group containing a cyclic group. This I is the same as those exemplified as E which is a cyclic group included in the formula (9). I ′ and j ′ in the formula (7) are integers having an average value of i ′ + j ′ of 8 to 40, preferably 9 to 30. These i ′ and j ′ are also usually expressed as average values for the same reason as i and j in the above-mentioned formula (3).
Specific examples of the low hardness monomer represented by the general formula (7) include 2,2-bis (4-acryloyloxypolyethylene glycol phenyl) propane having an average molecular weight of 776.

前記一般式(8)におけるR29は水素原子またはメチル基であり、R30およびR31は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基である。R32は水素原子、炭素数1〜25のアルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基もしくはハロアルキル基、炭素数6〜25のアリール基、または炭素数2〜25のアクリロイル基以外のアシル基である。
炭素数1〜25のアルキル基またはアルケニル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ノニル基等が挙げられる。また、これらアルキル基またはアルケニル基は直鎖状でも分枝状でもよく、さらには、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アリール基、エポキシ基等の置換基で置換されていてもよい。
炭素数1〜25のアルコキシアルキル基としては、メトキシブチル基、エトキシブチル基、ブトキシブチル基、メトキシノニル基等が挙げられる。
炭素数6〜25のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、アントラニル基、オクチルフェニル基等が挙げられる。(メタ)アクリロイル基以外のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、オレイル基等が挙げられる。
一般式(8)におけるm’’は、R29が水素原子の場合、すなわちアクリロイルオキシ基またはアクリロイルチオ基を重合性基として有する場合には1〜70の範囲の整数であり、R29がメチル基の場合、すなわちメタクリロイルオキシ基またはメタクリロイルチオ基を重合性基として有する場合にはm’’は4〜70の整数であり、またm’’’は0〜70の範囲の整数である。
In the general formula (8), R 29 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 30 and R 31 are each independently a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. R 32 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group, an alkoxyalkyl group or a haloalkyl group, an aryl group having 6 to 25 carbon atoms, or an acyl group other than an acryloyl group having 2 to 25 carbon atoms.
Examples of the alkyl group or alkenyl group having 1 to 25 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a nonyl group. These alkyl groups or alkenyl groups may be linear or branched, and may be further substituted with a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an aryl group, or an epoxy group.
Examples of the alkoxyalkyl group having 1 to 25 carbon atoms include a methoxybutyl group, an ethoxybutyl group, a butoxybutyl group, and a methoxynonyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 25 carbon atoms include a phenyl group, a toluyl group, an anthranyl group, and an octylphenyl group. Examples of the acyl group other than the (meth) acryloyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a valeryl group, and an oleyl group.
M ″ in the general formula (8) is an integer in the range of 1 to 70 when R 29 is a hydrogen atom, that is, when it has an acryloyloxy group or an acryloylthio group as a polymerizable group, and R 29 is methyl. In the case of a group, that is, when having a methacryloyloxy group or a methacryloylthio group as a polymerizable group, m ″ is an integer of 4 to 70, and m ′ ″ is an integer of 0 to 70.

一般式(8)で示される低硬度モノマーの具体的としては、平均分子量526のポリエチレングリコールメタアクリレート、平均分子量360のポリエチレングリコールメタアクリレート、平均分子量475のメチルエテルポリエチレングリコールメタアクリレート、平均分子量1,000のメチルエーテルポリエチレングリコールメタアクリレート、平均分子量375のポリプロピレングリコールメタアクリレート、平均分子量430のポリプロピレンメタアクリレート、平均分子量622のポリプロピレンメタアクリレート、平均分子量620のメチルエーテルポリプロピレングリコールメタアクリレート、平均分子量566のポリテトラメチレングリコールメタアクリレート、平均分子量2,034のオクチルフェニルエーテルポリエチレングリコールメタクリレート、平均分子量610のノニルエーテルポリエチレングリコールメタクリレート、平均分子量640のメチルエーテルポリエチレンチオグリコールメタクリレート、平均分子量498のパーフルオロヘブチルエチレングリコールメタクリレート等のポリアルキレングリコール(メタ)アタリレート等が挙げられる。一般式(8)で示される低硬度モノマーの平均分子量の好ましい範囲は200〜2500、より好ましくは300〜700である。なお、本発明における平均分子量は、質量平均分子量である。   Specific examples of the low hardness monomer represented by the general formula (8) include polyethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 526, polyethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 360, methyl ether polyethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 475, an average molecular weight of 1, 000 methyl ether polyethylene glycol methacrylate, polypropylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 375, polypropylene methacrylate having an average molecular weight of 430, polypropylene methacrylate having an average molecular weight of 622, methyl ether polypropylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 620, poly having an average molecular weight of 566 Tetramethylene glycol methacrylate, octylphenyl ether polyester having an average molecular weight of 2,034 Examples include lenglycol methacrylate, nonyl ether polyethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 610, methyl ether polyethylene thioglycol methacrylate having an average molecular weight of 640, and polyalkylene glycol (meth) acrylates such as perfluorohebutylethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 498. . The preferable range of the average molecular weight of the low hardness monomer represented by the general formula (8) is 200 to 2500, more preferably 300 to 700. In addition, the average molecular weight in this invention is a mass average molecular weight.

前記一般式(9)におけるR33は水素原子またはメチル基であり、R33が水素原子の場合には、R34は炭素数1〜20のアルキル基であり、R33がメチル基の場合には、R34は炭素数8〜40のアルキル基である。これらアルキル基は直鎖状でも分枝状でもよく、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アシル基、エポキシ基等の置換基で置換されていてもよい。
一般式(9)で示される低硬度モノマーの具体的としては、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタアクリレート、エチルヘキシルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアタリレート、ブチルアタリレート、ラウリルアクリレート等を挙げることができる。
これら式(6)〜(9)で表される低硬度モノマーの中でも、平均分子量475のメチルエテルポリエチレングリコールメタアクリレート、平均分子量1,000のメチルエーテルポリエチレングリコールメタアクリレート、トリアルキレングリコールジアクリレート、テトラアルキレングリコールジアクリレート、ノニルアルキレングリコールジアクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ラウリルアクリレートが特に好ましい。
前記式(6)〜(9)で示される化合物でも、置換基の組み合わせによっては単独重合体のLスケールロックウェル硬度が40以上を示すものがあるが、その場合には、これらの化合物は前述した高硬度モノマーまたは後述する中硬度モノマーに分類される。
In the general formula (9), R 33 is a hydrogen atom or a methyl group. When R 33 is a hydrogen atom, R 34 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 33 is a methyl group. R 34 is an alkyl group having 8 to 40 carbon atoms. These alkyl groups may be linear or branched and may be substituted with a substituent such as a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group, an acyl group, or an epoxy group.
Specific examples of the low hardness monomer represented by the general formula (9) include stearyl methacrylate, lauryl methacrylate, ethylhexyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate and lauryl acrylate.
Among these low-hardness monomers represented by the formulas (6) to (9), methyl ether polyethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 475, methyl ether polyethylene glycol methacrylate having an average molecular weight of 1,000, trialkylene glycol diacrylate, tetra Alkylene glycol diacrylate, nonyl alkylene glycol diacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate and lauryl acrylate are particularly preferred.
Even in the compounds represented by the above formulas (6) to (9), depending on the combination of the substituents, there are those in which the L-scale Rockwell hardness of the homopolymer is 40 or more. The high hardness monomer or the medium hardness monomer described later.

前記高硬度モノマーでも低硬度モノマーでもないモノマー、すなわち、単独硬化体のLスケールロックウェル硬度が40を超え60未満を示すモノマー(中硬度モノマーと称す場合がある)として、例えば、平均分子量650のポリテトラメチレングリコールジメタアクリレート、平均分子量1,400のポリテトラメチレングリコールジメタアクリレート、ビス(2−メタクリロイルオキシエチルチオエチル)スルフィド等の2官能(メタ)アタリレート;ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、酒石酸ジアリル、エポキシこはく酸ジアリル、ジアリルフマレート、クロレンド酸ジアリル、ヘキサフタル酸ジアリル、アリルジグリコールカーボネート等の多価アリル化合物;1,2−ビス(メタクリロイルチオ)エタン、ビス(2−アクリロイルチオエチル)エーテル、1,4−ビス(メタクリロイルチオメチル)ベンゼン等の多価チオアクリル酸および多価チオメタクリル酸エステル化合物;アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸;メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェニル、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸ビフェニル等のアクリル酸およびメタクリル酸エステル化合物;フマル酸ジエチル、フマル酸ジフェニル等のフマル酸エステル化合物;メチルチオアクリレート、ベンジルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート等のチオアクリル酸およびチオメタクリル酸エステル化合物;スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレン、α−メチルスチレンダイマー、ブロモスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルピロリドン等のビニル化合物;オレイルメタクリレート、ネロールメタクリレート、ゲラニオールメタクリレート、リナロールメタクリレート、ファルネソールメタクリレート等の分子中に不飽和結合を有する炭化水素鎖の炭素数が6〜25の(メタ)アタリレートなどのラジカル重合性単官能単量体等が挙げられる。   Examples of the monomer that is neither a high-hardness monomer nor a low-hardness monomer, that is, a monomer that exhibits an L scale Rockwell hardness of more than 40 and less than 60 (sometimes referred to as a medium hardness monomer), for example, having an average molecular weight of 650 Polytetramethylene glycol dimethacrylate, polytetramethylene glycol dimethacrylate having an average molecular weight of 1,400, bifunctional (meth) acrylates such as bis (2-methacryloyloxyethylthioethyl) sulfide; diallyl phthalate, diallyl isophthalate, Polyallyl compounds such as diallyl tartrate, diallyl epoxy succinate, diallyl fumarate, diallyl chlorendate, diallyl hexaphthalate, allyl diglycol carbonate; 1,2-bis (methacryloylthio) ethane, bis (2 Polyacrylic acid and polyvalent thiomethacrylic acid ester compounds such as acryloylthioethyl) ether and 1,4-bis (methacryloylthiomethyl) benzene; unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride; methacryl Acrylic acid and methacrylic acid ester compounds such as methyl acid, butyl methacrylate, benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, biphenyl methacrylate; fumaric acid ester compounds such as diethyl fumarate and diphenyl fumarate; methylthioacrylate Thioacrylic acid and thiomethacrylic acid ester compounds such as benzylthioacrylate and benzylthiomethacrylate; styrene, chlorostyrene, methylstyrene, vinylnaphthalene, α-methyls Vinyl compounds such as ethylene dimer, bromostyrene, divinylbenzene, vinylpyrrolidone; oleyl methacrylate, nerol methacrylate, geraniol methacrylate, linalool methacrylate, farnesol methacrylate, etc., and the hydrocarbon chain having an unsaturated bond in the molecule has 6 to 6 carbon atoms And a radically polymerizable monofunctional monomer such as 25 (meth) acrylate.

これらの中硬度モノマーを使用することも可能であり、前記高硬度モノマー、低硬度モノマーおよび中硬度モノマーは適宜混合して使用できる。硬化性組成物の硬化体の耐溶剤性や硬度、耐熱性等の硬化体特性、あるいは発色濃度や退色速度等のフォトクロミック特性のバランスを良好なものとするため、前記ラジカル重合性単量体中、低硬度モノマーは5〜70質量%、高硬度モノマーは5〜95質量%であることが好ましい。さらに、配合される高硬度モノマーとして、ラジカル重合性基を3つ以上有する単量体が、その他のラジカル重合性単量体中少なくとも5質量%以上配合されていることが特に好ましい。   These medium hardness monomers can also be used, and the high hardness monomer, the low hardness monomer, and the medium hardness monomer can be appropriately mixed and used. In order to improve the balance of the cured product properties such as solvent resistance, hardness, heat resistance, etc. of the cured product of the curable composition, or photochromic properties such as color density and fading speed, The low-hardness monomer is preferably 5 to 70% by mass, and the high-hardness monomer is preferably 5 to 95% by mass. Further, as the high hardness monomer to be blended, it is particularly preferable that a monomer having three or more radical polymerizable groups is blended in at least 5% by mass or more in other radical polymerizable monomers.

(ii)フォトクロミック色素
フォトクロミック液に添加し得るフォトクロミック色素としては、公知のものを使用することができ、例えば、フルギミド化合物、スピロオキサジン化合物、クロメン化合物等のフォトクロミック化合物が挙げられ、本発明においては、これらのフォトクロミック化合物を特に制限なく使用することができる。
前記フルギミド化合物、スピロオキサジン化合物およびクロメン化合物としては、例えば、特開平2−28154号公報、特開昭62−288830号公報、WO94/22850号明細書、WO96/14596号明細書などに記載されている化合物が好適に使用できる。
また、優れたフォトクロミック性を有する化合物として、例えば、特開2001−114775号公報、特開2001−031670号公報、特開2001−011067号公報、特開2001−011066号公報、特開2000−347346号公報、特開2000−34476号公報、特開2000−3044761号公報、特開2000−327676号公報、特開2000−327675号公報、特開2000−256347号公報、特開2000−229976号公報、特開2000−229975号公報、特開2000−229974号公報、特開2000−229973号公報、特開2000−229972号公報、特開2000−219687号公報、特開2000−219686号公報、特開2000−219685号公報、特開平11−322739号公報、特開平11−286484号公報、特開平11−279171号公報、特開平10−298176号公報、特開平09−218301号公報、特開平09−124645号公報、特開平08−295690号公報、特開平08−176139号公報、特開平08−157467号公報等に開示された化合物も好適に使用することができる。
(Ii) Photochromic dye As the photochromic dye that can be added to the photochromic liquid, known ones can be used, and examples thereof include photochromic compounds such as fulgimide compounds, spirooxazine compounds, and chromene compounds. In the present invention, These photochromic compounds can be used without particular limitation.
Examples of the fulgimide compound, spirooxazine compound, and chromene compound are described in, for example, JP-A-2-28154, JP-A-62-228830, WO94 / 22850, and WO96 / 14596. Can be preferably used.
Examples of compounds having excellent photochromic properties include, for example, JP 2001-114775 A, JP 2001-031670 A, JP 2001-011067 A, JP 2001-011066 A, JP 2000-347346 A. JP, JP 2000-34476, JP 2000-3044761, JP 2000-327676, JP 2000-327675, JP 2000-256347, JP 2000-229976. JP-A 2000-229975, JP-A 2000-229974, JP-A 2000-229773, JP-A 2000-229972, JP-A 2000-219687, JP-A 2000-219686, Open 2000-19685 JP-A-11-322739, JP-A-11-286484, JP-A-11-279171, JP-A-10-298176, JP-A-09-218301, JP-A-09-124645, The compounds disclosed in JP-A-08-295690, JP-A-08-176139, JP-A-08-157467 and the like can also be suitably used.

これらフォトクロミック化合物の中でも、クロメン系フォトクロミック化合物は、フォトクロミック特性の耐久性が他のフォトクロミック化合物に比べ高く、さらにフォトクロミック特性の発色濃度および退色速度の向上が他のフォトクロミック化合物に比べて特に大きいため特に好適に使用することができる。さらに、これらクロメン系フォトクロミック化合物中でもその分子量が540以上の化合物は、本発明によるフォトクロミック特性の発色濃度および退色速度の向上が他のクロメン系フォトクロミック化合物に比べて特に大きいため好適に使用することができる。   Among these photochromic compounds, chromene-based photochromic compounds are particularly suitable because they have higher photochromic property durability than other photochromic compounds, and the improvement in color density and fading speed of photochromic properties is particularly large compared to other photochromic compounds. Can be used for Further, among these chromene-based photochromic compounds, those having a molecular weight of 540 or more can be suitably used because the improvement in the color density and the fading speed of the photochromic properties according to the present invention is particularly large compared to other chromene-based photochromic compounds. .

さらに、その発色濃度、退色速度、耐久性等の各種フォトクロミック特性が特に良好なクロメン化合物としては、下記一般式(12)で表されるものが好ましい。
Further, as a chromene compound having particularly good various photochromic properties such as the color density, fading speed, and durability, those represented by the following general formula (12) are preferable.

[式中、下記一般式(13):
で示される基は、置換もしくは非置換の芳香族炭化水素基、または置換もしくは非置換の不飽和複素環基であり、R43、R44およびR45は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アラルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、置換もしくは非置換のアリール基、ハロゲン原子、アラルキル基、ヒドロキシル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、窒素原子をヘテロ原子として有し該窒素原子とピラン環もしくは前記式(13)で示される基の環とが結合する置換もしくは非置換の複素環基、または該複素原基に芳香族炭化水素環もしくは芳香族複素環が縮合した縮合複素環基であり、oは0〜6の範囲の整数であり、
41およびR42は、それぞれ独立に、下記一般式(14)、
(式中、R46は、置換もしくは非置換のアリール基、または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、R47は、水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子であり、pは1〜3の範囲の整数である。)で示される基、下記一般式(15):
(式中、R48は、置換もしくは非置換のアリール基、または置換もしくは非置換のヘテロアリール基であり、p’は1〜3の整数である。)で示される基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテロアリール基、またはアルキル基であるか、あるいはR41とR42とが一緒になって、脂肪族炭化水素環もしくは芳香族炭化水素環を構成していてもよい。]
なお、前記一般式(14)、(15)、前記R41およびR42にて説明した置換アリール基および置換ヘテロアリール基における置換基としては、前記R43〜R44と同様の基が挙げられる。
[In the formula, the following general formula (13):
Is a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, or a substituted or unsubstituted unsaturated heterocyclic group, and R 43 , R 44 and R 45 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group. , Alkoxyl group, aralkoxy group, amino group, substituted amino group, cyano group, substituted or unsubstituted aryl group, halogen atom, aralkyl group, hydroxyl group, substituted or unsubstituted alkynyl group, nitrogen atom as hetero atom A substituted or unsubstituted heterocyclic group in which the nitrogen atom and the pyran ring or the ring of the group represented by the formula (13) are bonded, or an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring is condensed to the heterocyclic base group. A fused heterocyclic group, o is an integer in the range of 0-6,
R 41 and R 42 each independently represent the following general formula (14),
(In the formula, R 46 represents a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heteroaryl group, R 47 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom; A group represented by the following general formula (15):
Wherein R 48 is a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and p ′ is an integer of 1 to 3, a substituted or unsubstituted group An aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group, or an alkyl group, or R 41 and R 42 may be combined to form an aliphatic hydrocarbon ring or an aromatic hydrocarbon ring. . ]
In addition, examples of the substituent in the substituted aryl group and the substituted heteroaryl group described in the general formulas (14) and (15) and R 41 and R 42 include the same groups as in R 43 to R 44. .

前記一般式(12)で示されるクロメン化合物のなかでも、発色濃度、退色速度等のフォトクロミック特性および耐久性の点から、下記一般式(16)〜(21)で示される化合物が特に好適である。
(式中、R49およびR50は、それぞれ前記一般式(12)のR41およびR42と同様であり、R51およびR52は、それぞれ前記式(12)のR45と同様であり、qおよびq’は、それぞれ1または2である。)
Among the chromene compounds represented by the general formula (12), the compounds represented by the following general formulas (16) to (21) are particularly suitable from the viewpoint of photochromic properties such as color density and fading speed and durability. .
Wherein R 49 and R 50 are the same as R 41 and R 42 in the general formula (12), respectively, and R 51 and R 52 are the same as R 45 in the formula (12), respectively. q and q ′ are each 1 or 2.)

{式中のR53およびR54は、それぞれ前記一般式(12)のR41およびR42と同様であり、R55およびR56は、それぞれ前記式(12)のR45と同様であり、Lは下記式:
(上記式中、Pは、酸素原子または硫黄原子であり、R57は、炭素数1〜6のアルキレン基であり、s、s’およびs’’は、いずれも1〜4の整数である。)で示されるいずれかの基であり、rおよびr’は、それぞれ独立に1または2である。}
{In the formula, R 53 and R 54 are the same as R 41 and R 42 in the general formula (12), respectively; R 55 and R 56 are the same as R 45 in the formula (12); L is the following formula:
(In the above formula, P is an oxygen atom or a sulfur atom, R 57 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and s, s ′ and s ″ are all integers of 1 to 4. .), And r and r ′ are each independently 1 or 2. }

(式中、R58およびR59は、それぞれ前記式(12)のR41およびR42と同様であり、R60、R61およびR62は、それぞれ前記式(12)のR45と同様であり、vは1または2である。) (Wherein R 58 and R 59 are the same as R 41 and R 42 in the formula (12), respectively, and R 60 , R 61 and R 62 are the same as R 45 in the formula (12), respectively. And v is 1 or 2.)

(式中、R63およびR64は、それぞれ前記式(12)のR41およびR42と同様であり、R65およびR66は、それぞれ前記式(12)のR45と同様であり、wおよびw’は、それぞれ独立に1または2である。) (Wherein R 63 and R 64 are the same as R 41 and R 42 in the formula (12), respectively, R 65 and R 66 are the same as R 45 in the formula (12), and w And w ′ are each independently 1 or 2.)

(式中、R67およびR68は、それぞれ前記式(12)のR41およびR42と同様であり、R69、R70、R71およびR72は、それぞれ前記式(12)のR45と同様であり、xおよびx’は、それぞれ独立に1または2である。) (In the formula, R 67 and R 68 are the same as R 41 and R 42 in the formula (12), respectively, and R 69 , R 70 , R 71 and R 72 are R 45 in the formula (12), respectively. And x and x ′ are each independently 1 or 2.)

(式中、R73およびR74は、それぞれ前記式(12)のR41およびR42と同様であり、R75、R76およびR77は、それぞれ前記式(12)のR45と同様であり、
は、少なくとも1つの置換基を有してもよい脂肪族炭化水素環であり、y、y’およびy’’は、それぞれ独立に1または2である。]
Wherein R 73 and R 74 are the same as R 41 and R 42 in the formula (12), respectively, and R 75 , R 76 and R 77 are the same as R 45 in the formula (12), respectively. Yes,
Is an aliphatic hydrocarbon ring which may have at least one substituent, and y, y ′ and y ″ are each independently 1 or 2. ]

上記一般式(16)〜(21)で示されるクロメン化合物の中でも、下記構造のクロメン化合物が特に好ましい。
Among the chromene compounds represented by the general formulas (16) to (21), chromene compounds having the following structures are particularly preferable.

これらフォトクロミック化合物は適切な発色色調を発現させるため、複数の種類のものを適宜混合して使用することができる。   These photochromic compounds can be used by appropriately mixing a plurality of types in order to develop an appropriate color tone.

本発明では、フォトクロミック液中のフォトクロミック色素濃度によってフォトクロミック膜の硬化状態を制御することができる。光重合により硬化反応を行う場合、重合のために光照射を行うと、その光に応答してフォトクロミック色素が発色するため、重合用に照射された光の膜内部への透過が抑制される。これにより、重合用に照射された光が入射する面近傍で硬化反応を良好に進行させるとともに、他方の面での硬化反応の進行を抑えることができる。上記の効果を得るためには、フォトクロミック液中のフォトクロミック色素の濃度は、前記重合性成分100質量部(ラジカル重合性単量体等)に対して、0.01〜20質量部とすることが好ましく、0.1〜10質量部とすることが更に好ましい。   In the present invention, the cured state of the photochromic film can be controlled by the photochromic dye concentration in the photochromic liquid. When a curing reaction is performed by photopolymerization, when light irradiation is performed for polymerization, a photochromic dye develops color in response to the light, so that transmission of light irradiated for polymerization into the film is suppressed. This makes it possible to favorably advance the curing reaction in the vicinity of the surface on which the light irradiated for polymerization is incident, and to suppress the progress of the curing reaction on the other surface. In order to acquire said effect, the density | concentration of the photochromic pigment | dye in a photochromic liquid shall be 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts (radical polymerizable monomers etc.) of the said polymeric components. Preferably, the content is 0.1 to 10 parts by mass.

(iii)重合開始剤
フォトクロミック液に添加する重合開始剤は、重合方法に応じて、公知の熱重合開始剤および光重合開始剤から適宜選択することができる。
光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾフェノール、アセトフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−イソプロピルチオオキサントン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォシフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1等が挙げられ、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−イソプロピルチオオキサントン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォシフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイドが好ましい。
これら光重合開始剤は、複数の種類のものを適宜混合して使用することができる。光重合開始剤のフォトクロミック液全量に対する配合量としては、前記重合性成分100質量部(ラジカル重合性単量体等)に対して、通常0.001〜5質量部であり、0.1〜1質量部であると好ましい。
(Iii) Polymerization initiator The polymerization initiator added to the photochromic liquid can be appropriately selected from known thermal polymerization initiators and photopolymerization initiators according to the polymerization method.
The photopolymerization initiator is not particularly limited. For example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, benzophenol, acetophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, benzylmethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-isopropylthiooxane, bis (2 , 6-Dimethoxybenzoyl-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl-phosphine And 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and the like, such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-isopropylthiooxanthone, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-Trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl-phosphine oxide are preferred.
These photopolymerization initiators can be used by appropriately mixing a plurality of types. As a compounding quantity with respect to the photochromic liquid whole quantity of a photoinitiator, it is 0.001-5 mass parts normally with respect to 100 mass parts of said polymeric components (radical polymerizable monomer etc.), and 0.1-1 It is preferable that it is a mass part.

また、フォトクロミック膜を熱重合により形成する場合、使用可能な熱重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルオキシカーボネート等のパーカーボネート類;2,2’−アゾピスイソプチロニトリル、2,2’−アゾピス(4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カーボニトリル)等のアゾ化合物等挙げられる。
これら熱重合開始剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、重合性単量体の種類や組成によって異なるが、通常、前記重合性成分100質量部に対して0,01〜10質量部の範囲とすることが好適である。上記熱重合開始剤は単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。
When the photochromic film is formed by thermal polymerization, usable thermal polymerization initiators include diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, and acetyl peroxide; Peroxyesters such as t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxydicarbonate, cumylperoxyneodecanate, t-butylperoxybenzoate; diisopropylperoxydicarbonate, di-2- Percarbonates such as ethylhexyl peroxydicarbonate and di-sec-butyloxycarbonate; 2,2′-azopisisoptyronitrile, 2,2′-azopis (4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobi (2-methylbutyronitrile), and azo compounds such as 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile).
The amount of these thermal polymerization initiators used varies depending on the polymerization conditions, the type of initiator, the type and composition of the polymerizable monomer, but is usually from 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable component. It is preferable to be in the range. The above thermal polymerization initiators may be used alone or in combination.

(iv)添加剤
フォトクロミック液には、フォトクロミック色素の耐久性の向上、発色速度の向上、退色速度の向上や成形性の向上のために、さらに界面活性剤、酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色防止剤、帯電防止剤、蛍光染料、染料、顔料、香料、可塑剤等の添加剤を添加してもよい。これら添加剤としては、公知の化合物が何ら制限なく使用される。
(Iv) Additives The photochromic liquid contains surfactants, antioxidants, radical scavengers, ultraviolet rays for the purpose of improving the durability of the photochromic dye, improving the color development speed, improving the fading speed and improving the moldability. You may add additives, such as a stabilizer, a ultraviolet absorber, a mold release agent, an anti-coloring agent, an antistatic agent, a fluorescent dye, a dye, a pigment, a fragrance | flavor, a plasticizer. As these additives, known compounds are used without any limitation.

前記界面活性剤としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系の何れも使用できるが、重合性単量体への溶解性からノニオン系界面活性剤を用いるのが好ましい。好適に使用できるノニオン系界面活性剤を具体的に挙げると、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、デカグリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール・ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンフィトステロール・フィトスタノール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油・硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンラノリン・ラノリンアルコール・ミツロウ誘導体、ポリオキシエチレンアルキルアミン・脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルホルムアルデヒド縮合物、単一鎖ポリオキシエチレンアルキルエーテル等である。界面活性剤の使用に当たっては、2種以上を混合して使用してもよい。界面活性剤の添加量は、前記重合性成分100質量部に対し、0.1〜20質量部の範囲が好ましい。   As the surfactant, any of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, and a cationic surfactant can be used, but a nonionic surfactant is preferably used because of its solubility in a polymerizable monomer. Specific examples of nonionic surfactants that can be suitably used include sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, decaglycerin fatty acid ester, propylene glycol / pentaerythritol fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbit fatty acid ester , Polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene phytosterol / phytostanol, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene castor oil / cured Castor oil, polyoxyethylene lanolin, lanolin alcohol, beeswax derivative, poly Alkoxy polyoxyethylene alkyl amine fatty acid amides, polyoxyethylene alkylphenyl formaldehyde condensate, a single-chain polyoxyethylene alkyl ethers. In using the surfactant, two or more kinds may be mixed and used. The addition amount of the surfactant is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable component.

また、酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤としては、ヒンダードアミン光安定剤、ヒンダードフェノール酸化防止剤、フェノール系ラジカル補足剤、イオウ系酸化防止剤、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等を好適に使用できる。これら酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤は、2種以上を混合して使用してもよい。さらにこれらの非重合性化合物の使用に当たっては、界面活性剤と酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤を併用して使用してもよい。これら酸化防止剤、ラジカル補足剤、紫外線安定剤、紫外線吸収剤の添加量は、前記重合性成分100質量部に対し、0.001〜20質量部の範囲が好ましい。   Antioxidants, radical scavengers, UV stabilizers, UV absorbers include hindered amine light stabilizers, hindered phenol antioxidants, phenol radical scavengers, sulfur antioxidants, benzotriazole compounds, benzophenones A system compound etc. can be used conveniently. These antioxidants, radical scavengers, ultraviolet stabilizers, and ultraviolet absorbers may be used in combination of two or more. Furthermore, when using these non-polymerizable compounds, surfactants and antioxidants, radical scavengers, UV stabilizers, and UV absorbers may be used in combination. The addition amount of these antioxidants, radical scavengers, ultraviolet stabilizers, and ultraviolet absorbers is preferably in the range of 0.001 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable component.

前記安定剤の中でも、硬化させる際のフォトクロミック色素の劣化防止、または得られたフォトクロミック膜の耐久性向上の観点から好ましい安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤が挙げられる。ただし、後述の実施例で示すように、染み出し成分としては、ヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。これに対し、前述のように本発明の保存方法によれば、長期保存中の染み出しを防止することができる。そのため、本発明の保存方法は、長期保存中に染み出しが生じるおそれがある、ヒンダードアミン系光安定剤を含むフォトクロミック膜を有するフォトクロミックレンズへの適用が有効である。   Among the stabilizers, a hindered amine light stabilizer is a preferable stabilizer from the viewpoint of preventing deterioration of the photochromic dye during curing or improving the durability of the obtained photochromic film. However, as shown in the examples described later, examples of the exudation component include hindered amine light stabilizers. On the other hand, as described above, according to the storage method of the present invention, it is possible to prevent seepage during long-term storage. Therefore, the preservation method of the present invention is effective when applied to a photochromic lens having a photochromic film containing a hindered amine light stabilizer, which may bleed out during long-term storage.

ヒンダードアミン光安定剤としては、公知の化合物を何ら制限なく用いることができる。その中でも、塗布用に用いる場合、特に、フォトクロミック色素の劣化防止効果を発現する化合物としては、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、旭電化工業(株)製アデカスタブLA−52、LA−62、LA−77、LA−82等を挙げることができる。その添加量は、前記重合性成分100質量部に対し、例えば0.001〜20質量部の範囲であり、0.1〜10質量部の範囲が好ましく、より好適には、1〜10質量部の範囲である。   As the hindered amine light stabilizer, known compounds can be used without any limitation. Among them, when used for coating, as a compound that expresses the effect of preventing deterioration of the photochromic dye, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. Examples include ADK STAB LA-52, LA-62, LA-77, and LA-82. The addition amount is, for example, in the range of 0.001 to 20 parts by mass, preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable component. Range.

また、フォトクロミック液においては、成膜時の均一性を向上させるために、界面活性剤、レベリング剤等を含有させることが好ましく、特にレベリング性を有するシリコーン系・フッ素系レベリング剤を添加することが好ましい。その添加量としては、特に限定されないが、フォトクロミック液全量に対し、通常0.01〜1.0質量%であり、0.05〜0.5質量%の範囲が好ましい。   Further, in the photochromic liquid, it is preferable to contain a surfactant, a leveling agent, etc. in order to improve uniformity during film formation, and it is particularly preferable to add a silicone-based / fluorine-based leveling agent having leveling properties. preferable. Although it does not specifically limit as the addition amount, It is 0.01-1.0 mass% normally with respect to the photochromic liquid whole quantity, and the range of 0.05-0.5 mass% is preferable.

本発明においては、フォトクロミック液に、密着性を向上させるために通常添加される各種成分(カップリング剤等の密着剤、またはカップリング剤の重合触媒)を添加しないことが好ましい。これにより、注型重合(第四工程)後にフォトクロミック膜付きの成形体をレンズ鋳型から取り出すことが容易になる。また、シランカップリング剤等を含む塗布液は、液保存時に自己重合により液寿命(ポットライフ)が低下するため、そのような成分を含まないことは、作業性の面から好ましい。   In the present invention, it is preferable not to add various components (adhesive agents such as coupling agents or polymerization catalysts for coupling agents) that are usually added to improve the adhesion to the photochromic liquid. Thereby, it becomes easy to take out the molded body with the photochromic film from the lens mold after the casting polymerization (fourth step). Moreover, since the liquid life (pot life) of the coating liquid containing a silane coupling agent or the like decreases due to self-polymerization during liquid storage, it is preferable from the viewpoint of workability that such a component is not included.

本発明において、フォトクロミック液の調製方法は特に限定されず、所定量の各成分を秤取り混合することにより行うことができる。なお、各成分の添加順序は特に限定されず全ての成分を同時に添加してもよいし、モノマー成分のみを予め混合し、重合させる直前にフォトクロミック色素や他の添加剤を添加・混合してもよい。
前記フォトクロミック液は、25℃での粘度が20〜500cpであることが好ましく、50〜300cpであることがより好ましく、60〜200cpであることが特に好ましい。この粘度範囲とすることにより、フォトクロミック液の塗布が容易となり、所望の厚さのフォトクロミック膜を容易に得ることができる。
In the present invention, the method for preparing the photochromic liquid is not particularly limited, and can be performed by weighing and mixing a predetermined amount of each component. The order of addition of each component is not particularly limited, and all the components may be added simultaneously, or only the monomer component is mixed in advance, and a photochromic dye or other additive may be added and mixed immediately before polymerization. Good.
The photochromic liquid preferably has a viscosity at 25 ° C. of 20 to 500 cp, more preferably 50 to 300 cp, and particularly preferably 60 to 200 cp. By setting it as this viscosity range, application | coating of a photochromic liquid becomes easy and the photochromic film | membrane of desired thickness can be obtained easily.

(2)硬化条件
フォトクロミック膜の硬化処理は、光重合、熱重合のいずれによって行ってもよいが、両面で異なる硬度を有するフォトクロミック膜を得るためには、硬化状態の部分的制御が容易な光重合を用いることが好ましい。光重合を用いる場合、第一モールドのフォトクロミック液塗布面に対して光照射を行うことにより、光照射側の面(フォトクロミック膜最表面)近傍は硬化し、かつ内部が未硬化状態であって、一方の面に適度な柔軟性が付与されたフォトクロミック膜を得ることができる。硬化状態は、光源とモールド表面(フォトクロミック液塗布面)との距離、照度、照射量、照射時間を調整することによって制御することができる。なお、硬化効率を上げるために、光照射を不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
(2) Curing conditions The photochromic film may be cured by either photopolymerization or thermal polymerization. However, in order to obtain photochromic films having different hardnesses on both sides, light whose partial control of the cured state is easy. It is preferred to use polymerization. When using photopolymerization, by performing light irradiation on the photochromic liquid application surface of the first mold, the vicinity of the light irradiation side surface (photochromic film outermost surface) is cured, and the inside is in an uncured state, A photochromic film having an appropriate flexibility on one surface can be obtained. The cured state can be controlled by adjusting the distance between the light source and the mold surface (photochromic liquid application surface), illuminance, irradiation amount, and irradiation time. In order to increase the curing efficiency, it is preferable to perform light irradiation in an inert atmosphere.

照射する光は、フォトクロミック液に含まれる重合開始剤に応じて選択すればよいが、前述のように、フォトクロミック色素の発色により硬化反応を制御するためには、フォトクロミック色素が応答する波長の光、例えば波長150〜380nmの光、好ましくは紫外線(波長200〜380nm程度)を使用することができる。   The light to be irradiated may be selected according to the polymerization initiator contained in the photochromic liquid, but as described above, in order to control the curing reaction by the color development of the photochromic dye, light having a wavelength to which the photochromic dye responds, For example, light having a wavelength of 150 to 380 nm, preferably ultraviolet light (having a wavelength of about 200 to 380 nm) can be used.

紫外線の光源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク、殺菌灯、無電極ランプ等の公知の光源を使用することができる。光源とモールド表面との距離、照射量、照射時間は、フォトクロミック液の組成や塗布量を考慮して調整することが好ましい。具体的には、照射量は1〜100J/cm2とすることができ、1〜75J/cm2することが好ましい。例えば、光源とモールド表面との距離は100〜300mm、照度は100〜250mW/cm2、照射時間は10〜400秒とすることができる。照射時間に関しては10〜300秒であるとさらに好適である。 As the ultraviolet light source, known light sources such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a germicidal lamp, and an electrodeless lamp can be used. The distance between the light source and the mold surface, the irradiation amount, and the irradiation time are preferably adjusted in consideration of the composition of the photochromic liquid and the coating amount. Specifically, the irradiation amount can be 1 to 100 J / cm 2, and preferably 1 to 75 J / cm 2 . For example, the distance between the light source and the mold surface can be 100 to 300 mm, the illuminance can be 100 to 250 mW / cm 2 , and the irradiation time can be 10 to 400 seconds. The irradiation time is more preferably 10 to 300 seconds.

前述のように、第一モールドのフォトクロミック液塗布面に対して光照射を行うことにより、最表面が硬化し、かつ内部に未硬化の硬化性成分を含むフォトクロミック膜を形成することができる。なお、第一モールドとして光透過性の素材(例えばガラス)からなるモールドを使用し、第一モールドを介して光照射を行うことにより、モールド表面と対向している面近傍の硬度を調整することもできる。これにより、フォトクロミック膜の耐久性を確保することができる。また、第一モールドを介して光照射を行なうことにより、添加剤の染み出しを低減することができる。但し、通常、モールド表面と対向している面は、使用時には入射面側に位置するため、モールドを介して光照射を行う場合には、入射面側でのフォトクロミック色素の動き易さを確保できる程度の光照射とすべきである。モールドを介した光照射は、フォトクロミック液塗布面に対する光照射よりも低い照射量、例えば0.1〜30J/cm2の照射量で行うことが好ましい。また、後述するようにフォトクロミック膜上にハードコートや反射防止膜を設ける場合には、それらによってフォトクロミック膜表面が保護されるため、モールドを介した光照射を行うことなく耐久性を確保することができる。 As described above, by irradiating the photochromic liquid application surface of the first mold with light, the outermost surface can be cured and a photochromic film containing an uncured curable component inside can be formed. In addition, using a mold made of a light-transmitting material (for example, glass) as the first mold, and adjusting the hardness in the vicinity of the surface facing the mold surface by performing light irradiation through the first mold. You can also. Thereby, the durability of the photochromic film can be ensured. Moreover, the bleeding of an additive can be reduced by performing light irradiation through the first mold. However, since the surface facing the mold surface is normally located on the incident surface side during use, the ease of movement of the photochromic dye on the incident surface side can be ensured when light irradiation is performed through the mold. The degree of light irradiation should be. The light irradiation through the mold is preferably performed at a lower irradiation amount than the light irradiation on the photochromic liquid application surface, for example, an irradiation amount of 0.1 to 30 J / cm 2 . In addition, when a hard coat or an antireflection film is provided on the photochromic film as will be described later, the surface of the photochromic film is protected by them, so that durability can be ensured without performing light irradiation through a mold. it can.

(3)フォトクロミック膜の厚さ
フォトクロミック膜の硬化状態は、フォトクロミック膜の厚さによっても調整することができる。フォトクロミック膜が過度に薄いと、照射した光の大部分が膜を透過し、膜全体の重合が進行するため、第一モールドと対向する面に適度な柔軟性を付与することが困難となる。また、フォトクロミック膜において色素が動き易い部分が少なくなるため、発退色の反応速度や発色濃度を向上することが困難となる。以上の点から、フォトクロミック膜の厚さは、10μm以上であることが好ましく、20〜60μmであることが更に好ましい。
(3) Thickness of photochromic film The cured state of the photochromic film can also be adjusted by the thickness of the photochromic film. If the photochromic film is excessively thin, most of the irradiated light passes through the film and polymerization of the entire film proceeds, making it difficult to impart appropriate flexibility to the surface facing the first mold. In addition, since the portion where the dye easily moves in the photochromic film is reduced, it is difficult to improve the reaction speed and color density of the color fading. From the above points, the thickness of the photochromic film is preferably 10 μm or more, and more preferably 20 to 60 μm.

前述のようにフォトクロミック膜中の硬化状態を制御することによって、硬化性成分が硬化することによって形成された硬化樹脂と未硬化の硬化性成分を含むフォトクロミック膜を得ることができる。フォトクロミック膜の最表面(注型重合時のレンズ原料液と接する面)およびその近傍は、硬化樹脂を主成分として含むことが好ましく、一方、モールド表面と接触する面およびその近傍における硬化樹脂含有率は、最表面およびその近傍における硬化樹脂含有率より低いことが好ましい。こうして、入射面側に適度な柔軟性が付与されたフォトクロミックレンズを得ることができる。なお、上記の「近傍」とは、例えば、表面からフォトクロミック層内部に至る表層部で硬度が徐々に低下する領域である。   By controlling the cured state in the photochromic film as described above, a photochromic film containing a cured resin formed by curing the curable component and an uncured curable component can be obtained. It is preferable that the outermost surface of the photochromic film (the surface in contact with the lens raw material liquid at the time of casting polymerization) and the vicinity thereof contain a cured resin as a main component, while the cured resin content in the surface in contact with the mold surface and the vicinity thereof. Is preferably lower than the cured resin content on the outermost surface and in the vicinity thereof. Thus, it is possible to obtain a photochromic lens with appropriate flexibility on the incident surface side. In addition, said "near" is an area | region where hardness falls gradually in the surface layer part from the surface to the inside of a photochromic layer, for example.

なお、上記効果を良好に得るためには、フォトクロミック膜の硬化とレンズ基材の硬化を異なる重合反応によって行うべきである。フォトクロミック膜とレンズ基材の硬化を同種の重合反応によって行うと、レンズ基材の重合反応時にフォトクロミック膜の重合反応も進行してしまい、第二工程において適度な柔軟性を付与した面(第一モールドと対向する面)が硬化してしまい、フォトクロミック色素の動き易さが損なわれるおそれがある。具体的には、本発明では、フォトクロミック膜の硬化は光照射によって行うことが好ましく、レンズ基材の硬化は熱重合によって行うことが好ましい。   In order to obtain the above effect satisfactorily, the photochromic film and the lens substrate should be cured by different polymerization reactions. When the photochromic film and the lens substrate are cured by the same kind of polymerization reaction, the polymerization reaction of the photochromic film also progresses during the polymerization reaction of the lens substrate. The surface facing the mold) is cured, and the ease of movement of the photochromic dye may be impaired. Specifically, in the present invention, the photochromic film is preferably cured by light irradiation, and the lens substrate is preferably cured by thermal polymerization.

(レンズ鋳型形成工程)
レンズ鋳型形成工程では、前記フォトクロミック液硬化処理工程において成形面にフォトクロミック膜を形成した第一モールドを、第ニモールドの他方の面と対向するように配置するとともに、これら2つのモールドの周囲に環状のガスケットを配置することにより、2つのモールドとガスケットによってキャビティを形成する。ここで、第一モールドは、フォトクロミック膜の最表面が第二モールド表面と対向するように配置される。これにより、フォトクロミック膜はキャビティ内部に位置することになる。
(Lens mold forming process)
In the lens mold forming step, the first mold having the photochromic film formed on the molding surface in the photochromic liquid curing treatment step is disposed so as to face the other surface of the second mold, and an annular shape is formed around the two molds. By placing the gasket, a cavity is formed by the two molds and the gasket. Here, the first mold is arranged so that the outermost surface of the photochromic film faces the second mold surface. As a result, the photochromic film is positioned inside the cavity.

前記モールド、ガスケットとしては、通常注型重合に使用されるものをそのまま使用することができるが、モールドとしては、破損及びキズをつきにくくするために化学強化処理を施したガラス製モールドを使用することが好ましい。   As the mold and gasket, those usually used for casting polymerization can be used as they are, but as the mold, a glass mold subjected to chemical strengthening treatment is used in order to prevent damage and scratches. It is preferable.

第一モールド、第二モールドおよびガスケットを前記のように配置することにより構成されたレンズ鋳型の概略図を、図5に示す。以下、図3に基づいて第三工程について説明する。但し、本発明は、図5に示す態様に限定されるものではない。   FIG. 5 shows a schematic diagram of a lens mold configured by arranging the first mold, the second mold, and the gasket as described above. Hereinafter, a 3rd process is demonstrated based on FIG. However, the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG.

図5中、レンズ鋳型1は、レンズの前面(凸面)を形成すべく凹面側に成形面を有する凹面型である第一モールド10、レンズの後面(凹面)を形成すべく凸面側に成形面を有する凸面側に成形面を有する第二モールド11、およびガスケット12によって内部にキャビティ13が形成されている。ガスケット12は、ガスケットの外周ホルダーとして機能し、レンズの厚さを決める役割を果たす。   In FIG. 5, a lens mold 1 includes a first mold 10 which is a concave mold having a molding surface on the concave surface side to form the front surface (convex surface) of the lens, and a molding surface on the convex surface side to form the rear surface (concave surface) of the lens. The cavity 13 is formed in the inside by the 2nd mold 11 which has a shaping | molding surface in the convex surface side which has these, and the gasket 12. FIG. The gasket 12 functions as an outer peripheral holder of the gasket and plays a role of determining the thickness of the lens.

第一モールドおよび第二モールドは、製造治具にて取り扱い可能な非転写面(非使用面101、111)とレンズの光学表面を転写させるための転写面(使用面102、112)を有する。使用面102、112はレンズの光学面形状および表面状態を転写する面である。使用面102上には、第二工程においてフォトクロミック膜が形成されている。   The first mold and the second mold have non-transfer surfaces (non-use surfaces 101 and 111) that can be handled by a manufacturing jig and transfer surfaces (use surfaces 102 and 112) for transferring the optical surface of the lens. The use surfaces 102 and 112 are surfaces that transfer the optical surface shape and surface state of the lens. On the use surface 102, a photochromic film is formed in the second step.

フォトクロミック膜が酸化防止剤を含む場合には、フォトクロミック膜を形成した第一モールドに対し、キャビティ形成前にアニールを施すことが好ましい。これにより、キャビティ内でフォトクロミック膜に含まれる酸化防止剤がレンズ原料液に溶出することを防ぐことができる。アニール条件は、適宜設定することができる。   When the photochromic film contains an antioxidant, it is preferable to anneal the first mold on which the photochromic film is formed before forming the cavity. Thereby, it is possible to prevent the antioxidant contained in the photochromic film from eluting into the lens raw material liquid in the cavity. The annealing conditions can be set as appropriate.

本発明では、第一モールド表面に形成されたフォトクロミック膜の最表面に対して、前記のキャビティ形成に先立って、UVオゾンまたはプラズマによるドライエッチング処理を行うことが好ましい。前記処理を行うことにより、密着剤を使用することなく、レンズ基材とフォトクロミック膜との密着性を高めることができる。なお、フォトクロミック膜が密着剤を含まないことによって得られる効果については、前述の通りである。   In the present invention, it is preferable to perform a dry etching process using UV ozone or plasma on the outermost surface of the photochromic film formed on the surface of the first mold prior to the cavity formation. By performing the said process, the adhesiveness of a lens base material and a photochromic film | membrane can be improved, without using an adhesive agent. Note that the effect obtained by the photochromic film not containing the adhesive is as described above.

前記UVオゾン処理を施すことにより、フォトクロミック膜表面において、分子レベルで結合が切れ、親水性の高い官能基(例えば、-OH,-CHO,-COOH)が発現し、レンズ基材に含まれる物質がフォトクロミック膜成分と結合することにより、レンズ基材とフォトクロミック膜の密着性が向上すると考えられる。また、UVオゾン処理によってフォトクロミック膜に含まれる不純物が洗浄されるため、これら不純物によってレンズ基材との密着性が阻害されなくなることも、密着性向上に寄与すると考えられる。   By applying the UV ozone treatment, on the photochromic film surface, bonds are broken at the molecular level, and highly hydrophilic functional groups (for example, —OH, —CHO, —COOH) are expressed, and substances contained in the lens substrate It is considered that the adhesion between the lens substrate and the photochromic film is improved by binding to the photochromic film component. Further, since impurities contained in the photochromic film are washed by the UV ozone treatment, it is considered that the adhesion with the lens substrate is not inhibited by these impurities, which contributes to the improvement of the adhesion.

図6に、UVオゾン処理の一例を示す。UVオゾン処理は、図6に示すようにUVランプ下にフォトクロミック膜を形成したモールドをフォトクロミック膜が表面に位置するように配置して行うことができる。ここで、UVランプとフォトクロミック膜表面との距離は、照射エネルギーが1〜10mW/cm2程度の場合には、10〜20cmとすることが好ましい。また、処理時間は、例えば5〜600秒とすることができる。 FIG. 6 shows an example of UV ozone treatment. The UV ozone treatment can be performed by arranging a mold in which a photochromic film is formed under a UV lamp as shown in FIG. 6 so that the photochromic film is located on the surface. Here, the distance between the UV lamp and the photochromic film surface is preferably 10 to 20 cm when the irradiation energy is about 1 to 10 mW / cm 2 . The processing time can be set to, for example, 5 to 600 seconds.

また、プラズマ処理の場合、処理条件としては出力100〜300W、処理時間10〜300秒が好ましい。導入ガスは特に限定されないが、大気、酸素、窒素等を使用できる。   In the case of plasma processing, the processing conditions are preferably an output of 100 to 300 W and a processing time of 10 to 300 seconds. The introduced gas is not particularly limited, but air, oxygen, nitrogen and the like can be used.

(注型重合工程)
注型重合工程は、前記レンズ鋳型形成工程において形成されたキャビティ内へレンズ原料液を注入し、レンズ基材の重合とレンズ基材上へのフォトクロミック膜の形成を行う工程である。
キャビティ内へ注入されるレンズ原料液は、レンズ基材を構成する各種ポリマーの原料モノマー、オリゴマーおよび/またはプレポリマーを含むことができ、共重合体を形成するために2種以上のモノマーの混合物を含むこともできる。レンズ原料液には、必要があればモノマーの種類に応じて選択した触媒を添加することもできる。また、レンズ原料液には、通常使用される各種添加剤を含むこともできる。
(Cast polymerization process)
The casting polymerization step is a step of injecting a lens raw material solution into the cavity formed in the lens mold forming step to perform polymerization of the lens base material and formation of a photochromic film on the lens base material.
The lens raw material liquid injected into the cavity may contain raw material monomers, oligomers and / or prepolymers of various polymers constituting the lens base material, and a mixture of two or more monomers to form a copolymer. Can also be included. If necessary, a catalyst selected according to the kind of monomer can be added to the lens raw material liquid. The lens raw material liquid may also contain various commonly used additives.

前記レンズ基材としては、通常プラスチックレンズとして使用される種々の基材を用いることができる。前記レンズ基材としては、例えば、メチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ポリウレタンとポリウレアの共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エン−チオール反応を利用したスルフィド樹脂、硫黄を含むビニル重合体等が挙げられる。上記中、ウレタン系が好適であるが、これらに限定されるものではない。また、前記レンズ基材は、プラスチックレンズ基材であることが好ましく、眼鏡用プラスチックレンズ基材であることが更に好ましい。   As the lens substrate, various substrates usually used as a plastic lens can be used. Examples of the lens substrate include a copolymer of methyl methacrylate and one or more other monomers, a copolymer of diethylene glycol bisallyl carbonate and one or more other monomers, a copolymer of polyurethane and polyurea, and polycarbonate. , Polystyrene, polyvinyl chloride, unsaturated polyester, polyethylene terephthalate, polyurethane, polythiourethane, sulfide resin utilizing ene-thiol reaction, vinyl polymer containing sulfur, and the like. Of these, urethane systems are preferred, but not limited thereto. The lens base material is preferably a plastic lens base material, more preferably a plastic lens base material for spectacles.

なお、プラスチックレンズ上にフォトクロミック色素を含む塗布液を塗布し、該塗布液を硬化することによりフォトクロミック膜付きレンズを得る方法では、紫外線照射によりフォトクロミック膜を形成する場合には、レンズ基材に紫外線吸収剤が含まれると、レンズ基材側から紫外線照射を行っても、照射した紫外線の大部分はレンズ基材に吸収されてしまう。従って、この場合には、フォトクロミック膜側から紫外線照射をすることになる。しかし、この方法では、フォトクロミック膜のレンズ基材と対向する面の硬度を、他方の面より高めることは難しい。それに対し、注型重合法によれば、フォトクロミック膜に予め所望の硬化処理を施すことができるため、レンズ基材に紫外線吸収剤が含まれていても、前記基材上に所望の硬度を有するフォトクロミック膜を形成することができる。そのため、注型重合法は、レンズ基材に紫外線吸収剤を含むフォトクロミックレンズを得る方法として、特に好適である。   In the method of obtaining a lens with a photochromic film by applying a coating solution containing a photochromic dye on a plastic lens and curing the coating solution, when the photochromic film is formed by ultraviolet irradiation, the lens substrate is coated with ultraviolet rays. When the absorbent is included, even if the ultraviolet ray is irradiated from the lens substrate side, most of the irradiated ultraviolet ray is absorbed by the lens substrate. Therefore, in this case, ultraviolet irradiation is performed from the photochromic film side. However, with this method, it is difficult to increase the hardness of the surface of the photochromic film that faces the lens substrate as compared with the other surface. On the other hand, according to the casting polymerization method, the photochromic film can be preliminarily subjected to a desired curing treatment, and therefore has a desired hardness on the base material even if the lens base material contains an ultraviolet absorber. A photochromic film can be formed. Therefore, the cast polymerization method is particularly suitable as a method for obtaining a photochromic lens including an ultraviolet absorber in a lens substrate.

前記キャビティ内へのレンズ原料液の注入およびその後の重合反応は、通常の注型重合と同様に行うことができる。本発明では、フォトクロミック膜の硬化処理を光重合によって行うことが好ましく、他方、レンズ基材の硬化処理は、熱重合によって行うことが好ましい。前述のように、フォトクロミック膜とレンズ基材の硬化処理を、同種の重合反応によって行う場合には、一方の重合反応により他方が影響を受けてしまうため、フォトクロミック膜とレンズ基材の重合状態を別個に制御することは困難となる。それに対し、光重合によって形成されたフォトクロミック膜をキャビティ内でレンズ基材上に形成する場合、レンズ基材の硬化を加熱によって行えば、この加熱によってはフォトクロミック膜の重合が進行することはないため、所定の硬化状態を維持した状態のフォトクロミック膜をレンズ基材上に形成することができる。   The injection of the lens raw material liquid into the cavity and the subsequent polymerization reaction can be performed in the same manner as in the usual casting polymerization. In the present invention, the photochromic film is preferably cured by photopolymerization, while the lens substrate is preferably cured by thermal polymerization. As described above, when the curing treatment of the photochromic film and the lens base material is performed by the same kind of polymerization reaction, the polymerization state of the photochromic film and the lens base material is affected because one of the polymerization reactions affects the other. It becomes difficult to control separately. On the other hand, when the photochromic film formed by photopolymerization is formed on the lens substrate in the cavity, if the lens substrate is cured by heating, polymerization of the photochromic film will not proceed by this heating. A photochromic film in a state where a predetermined cured state is maintained can be formed on the lens substrate.

レンズ基材の硬化のための加熱の条件は、レンズ原料液中の硬化性成分の種類や組成(混合物の場合)さらには触媒の種類等により適宜調整できる。   The heating conditions for curing the lens substrate can be appropriately adjusted according to the type and composition of the curable component in the lens raw material liquid (in the case of a mixture), the type of catalyst, and the like.

(離型工程)
重合が完了した後に、ガスケット、第一モールド、第二モールドを取り除き、フォトクロミック膜がレンズ基材上に形成されたフォトクロミックレンズを得る。離型工程は、通常の注型重合における離型工程と同様に行うことができる。
(Release process)
After the polymerization is completed, the gasket, the first mold, and the second mold are removed to obtain a photochromic lens in which a photochromic film is formed on the lens substrate. The mold release step can be performed in the same manner as the mold release step in ordinary casting polymerization.

離型工程により得られたフォトクロミックレンズは、先に説明した保存方法により保存される。保存期間は、生産性等を考慮し適宜設定することができ、例えば0.5時間〜6ヶ月程度とすることができる。更に保存後、フォトクロミック膜最表面上にハードコートなどのコーティング膜を形成することができる。成膜工程の詳細は後述する。   The photochromic lens obtained by the mold release process is stored by the storage method described above. The storage period can be appropriately set in consideration of productivity and the like, and can be, for example, about 0.5 hours to 6 months. Further, after storage, a coating film such as a hard coat can be formed on the outermost surface of the photochromic film. Details of the film forming process will be described later.

[フォトクロミックレンズの製造方法]
更に本発明は、最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズの、該最表面上にコーティング層を形成する成膜工程を含むフォトクロミックレンズの製造方法に関する。本発明のフォトクロミックレンズの製造方法では、上記成膜工程前のフォトクロミックレンズを、先に説明した本発明の保存方法により保存する。これにより、長期保存後の染み出しが低下ないしは防止されたフォトクロミック膜最表面にコーティングを形成することができ、染み出し成分とコーティング成分が反応することにより曇りや着色が生じ光学特性が低下することを防止することができる。更に前記フォトクロミック膜は、最表面が適度な柔軟性を有することにより優れた光応答性を発揮し得る。よって、本発明のフォトクロミックレンズの製造方法によれば、優れた光応答性と光学特性を兼ね備えたフォトクロミックレンズを得ることができる。
[Method of manufacturing photochromic lens]
Furthermore, the present invention is a photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more on the outermost surface and a lens substrate, wherein the outermost surface of the photochromic film is located on the outermost surface of the photochromic lens The present invention relates to a photochromic lens manufacturing method including a film forming step of forming a coating layer on the outermost surface. In the photochromic lens manufacturing method of the present invention, the photochromic lens before the film forming step is stored by the storage method of the present invention described above. This makes it possible to form a coating on the outermost surface of the photochromic film that has been prevented or prevented from exuding after long-term storage, and the optical properties deteriorate due to the reaction of the exuding component with the coating component resulting in fogging or coloring. Can be prevented. Further, the photochromic film can exhibit excellent photoresponsiveness because the outermost surface has appropriate flexibility. Therefore, according to the method for producing a photochromic lens of the present invention, a photochromic lens having both excellent photoresponsiveness and optical characteristics can be obtained.

本発明のフォトクロミックレンズの製造方法におけるフォトクロミック膜形成までの各工程および保存工程の詳細は、先に説明した通りである。
以下に、成膜工程について説明する。
The details of each process up to the formation of the photochromic film and the storage process in the method for producing a photochromic lens of the present invention are as described above.
Hereinafter, the film forming process will be described.

(成膜工程)
成膜工程は、前記保存工程において酸素濃度および/または湿度が低下した雰囲気中で保存されていたフォトクロミックレンズのフォトクロミック膜最表面にコーティングを形成する。コーティングとしては、ハードコート層、反射防止膜等を挙げることができる。また、ハードコート層を形成した後、その上に反射防止膜等の各種コーティングを設けることも可能である。
(Film formation process)
In the film forming step, a coating is formed on the outermost surface of the photochromic film of the photochromic lens that has been stored in the atmosphere in which the oxygen concentration and / or humidity has decreased in the storage step. Examples of the coating include a hard coat layer and an antireflection film. Moreover, after forming a hard-coat layer, it is also possible to provide various coatings, such as an antireflection film, on it.

前記ハードコート層の材料としては、特に限定されず、公知の有機ケイ素化合物及び金属酸化物コロイド粒子よりなるコーティング組成物を使用することができる。
前記有機ケイ素化合物としては、例えば下記一般式(III)で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物が挙げられる。
(R91a'(R93b'Si(OR924-(a'+b') ・・・(III)
(式中、R91は、グリシドキシ基、エポキシ基、ビニル基、メタアクリルオキシ基、アクリルオキシ基、メルカプト基、アミノ基、フェニル基等を有する有機基、R92は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアシル基または炭素数6〜10のアリール基、R93は炭素数1〜6のアルキル基または炭素数6〜10のアリール基、a’およびb’はそれぞれ0または1を示す。)
The material for the hard coat layer is not particularly limited, and a coating composition comprising a known organosilicon compound and metal oxide colloidal particles can be used.
Examples of the organosilicon compound include an organosilicon compound represented by the following general formula (III) or a hydrolyzate thereof.
(R 91 ) a ′ (R 93 ) b ′ Si (OR 92 ) 4- (a ′ + b ′) (III)
(In the formula, R 91 is an organic group having a glycidoxy group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryloxy group, an acryloxy group, a mercapto group, an amino group, a phenyl group, etc., and R 92 is an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Group, an acyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, R 93 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and a ′ and b ′ are each 0 or 1 is shown.)

前記R92の炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、直鎖または分岐のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
前記R92の炭素数1〜4のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、オレイル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
前記R92の炭素数6〜10のアリール基としては、例えば、フェニル基、キシリル基、トリル基等が挙げられる。
前記R93の炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、直鎖または分岐のメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
前記R93の炭素数6〜10のアリール基としては、例えば、フェニル基、キシリル基、トリル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms of R 92 include a linear or branched methyl group, ethyl group, propyl group, and butyl group.
Examples of the acyl group having 1 to 4 carbon atoms of R 92 include an acetyl group, a propionyl group, an oleyl group, and a benzoyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms of R 92 include a phenyl group, a xylyl group, and a tolyl group.
Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms of R 93 include a linear or branched methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, and hexyl group.
Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms of R 93 include a phenyl group, a xylyl group, and a tolyl group.

前記一般式(III)で表される化合物の具体例としては、メチルシリケート、エチルシリケート、n−プロピルシリケート、i−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、sec−ブチルシリケート、t−ブチルシリケーテトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、(3、4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3、4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフェノキシシラン、γ−(3、4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3、4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ−(3、4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシラン、δ−(3、4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3、3、3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (III) include methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, i-propyl silicate, n-butyl silicate, sec-butyl silicate, t-butyl silicate tetraacetoxy. Silane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriamyloxysilane, methyltriphenoxysilane, methyltribenzyloxysilane, methyl Triphenethyloxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane , Β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxy Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxy Silane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxy Silane, γ-glycidoxybuty Triethoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltripropoxysilane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltributoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriphenoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) Propyltriethoxy Silane, δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltrimethoxysilane, δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltriethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldiethoxysilane, α -Glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane , Α-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyl Ethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldimethoxysilane, γ-glycid Xylpropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldiethoxysilane, ethyl Trimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetate Sisilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ- Mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N -(Β-aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-amino Propylmethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ -Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane and the like.

前記金属酸化物コロイド粒子としては、例えば、酸化タングステン(WO3)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ケイ素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al23)、酸化チタニウム(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化スズ(SnO2)、酸化ベリリウム(BeO)、酸化アンチモン(Sb25)等が挙げられ、単独又は2種以上を併用することができる。 Examples of the metal oxide colloidal particles include tungsten oxide (WO 3 ), zinc oxide (ZnO), silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide ( ZrO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), beryllium oxide (BeO), antimony oxide (Sb 2 O 5 ) and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

前記反射防止膜の材質および形成方法は特には限定されず、公知の無機酸化物よりなる単層、多層膜を使用することができる。
この無機酸化物としては、例えば、二酸化ケイ素(SiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化アルミニウム(Al23)、酸化ニオブ(Nb25)酸化イットリウム(Y23)等が挙げられる
The material and formation method of the antireflection film are not particularly limited, and a single layer or a multilayer film made of a known inorganic oxide can be used.
Examples of the inorganic oxide include silicon dioxide (SiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), and the like. Be mentioned

本発明の製造方法によって得られるフォトクロミックレンズにおいて、レンズ基材、および必要に応じて設けられるハードコート、反射防止膜の厚さは特に限定されないが、レンズ基材の厚さは、例えば1〜30mm、ハードコートの厚さは、例えば0.5〜10μm、反射防止膜の厚さは、例えば0.1〜5μmとすることができる。また、フォトクロミック膜の厚さについては、前述の通りである。   In the photochromic lens obtained by the production method of the present invention, the thickness of the lens substrate, and the hard coat and antireflection film provided as necessary is not particularly limited, but the thickness of the lens substrate is, for example, 1 to 30 mm. The thickness of the hard coat can be, for example, 0.5 to 10 μm, and the thickness of the antireflection film can be, for example, 0.1 to 5 μm. The thickness of the photochromic film is as described above.

以下に、実施例により本発明を更に説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。   In the following, the present invention will be further explained by examples. However, this invention is not limited to the aspect shown in the Example.

[実施例1](UV片面照射、脱酸素剤+乾燥剤封入)
1.フォトクロミック液の調製
プラスチック製容器にトリメチロールプロパントリメタクリレート20質量部、BPEオリゴマー(2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン)35質量部、EB6A(ポリエステルオリゴマーヘキサアクリレート)10質量部、平均分子量532のポリエチレングリコールジアクリレート10質量部、グリシジルメタクリレート10質量部からなるラジカル重合性単量体100質量部に、フォトクロミック色素として下記クロメン1を3質量部、酸化防止剤としてはヒンダードアミン系光安定剤である三共ライフテック社製サノールLS765(ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、メチル(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート)を5質量部、紫外線重合開始剤としてCGI−184(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)を0.4質量部、CGI403(ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド)を0.1質量部添加した。その液を自転公転方式攪拌脱泡装置((株)シンキー製AR−250)にて2分間脱泡することで、フォトクロミック液を得た。得られた液の粘度は200mpa/sであった。
[Example 1] (UV single-sided irradiation, oxygen scavenger + desiccant enclosed)
1. Preparation of photochromic liquid 20 parts by mass of trimethylolpropane trimethacrylate, 35 parts by mass of BPE oligomer (2,2-bis (4-methacryloyloxypolyethoxyphenyl) propane), 10 parts by mass of EB6A (polyester oligomer hexaacrylate) in a plastic container , 100 parts by mass of a radical polymerizable monomer consisting of 10 parts by mass of polyethylene glycol diacrylate having an average molecular weight of 532 and 10 parts by mass of glycidyl methacrylate, 3 parts by mass of chromene 1 as a photochromic dye, and hindered amine light as an antioxidant Sanol LS765 (bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate), methyl (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperi) manufactured by Sankyo Lifetech Co., Ltd. (Silyl) sebacate) 5 parts by mass, CGI-184 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) as an ultraviolet polymerization initiator 0.4 parts by mass, CGI 403 (bis (2,6-dimethoxybenzoyl-2,4,4-trimethyl) (Pentylphosphine oxide) was added in an amount of 0.1 part by mass, and the solution was degassed for 2 minutes with a rotation and revolution type stirring and deaerator (AR-250, manufactured by Sinky Corporation) to obtain a photochromic liquid. The viscosity of the obtained liquid was 200 mpa / s.

2.フォトクロミック膜の形成
上記1.で得たフォトクロミック液を用いて、以下の工程によりモールド上にフォトクロミック膜を形成した。
(1)フォトクロミック液を約2g程度、清浄に洗浄されたガラスモールドの凹面側に滴下し、スピンコート法にて600回転で20秒間、コーティングを行った。
(2)その後、窒素雰囲気中で東芝ライラック製UVランプにてモールドの凹面側から紫外線を照射し、フォトクロミック液の硬化処理を行った。紫外線照射は、照射距離330mm、照射時間165秒で行った。
(3)モールド上に形成されたフォトクロミック膜の膜厚を測定すると30ミクロンであった。
(4)次にフォトクロミック膜が付いたガラスモールドを110℃×100分の加熱処理(アニール)をした後、180秒間のUVオゾン処理(メーカー:アイグラフィック社製)を行った。
2. Formation of photochromic film A photochromic film was formed on the mold by the following process using the photochromic solution obtained in the above.
(1) About 2 g of photochromic liquid was dropped on the concave surface side of a cleanly cleaned glass mold, and coating was performed at 600 rpm for 20 seconds by a spin coating method.
(2) Thereafter, the photochromic liquid was cured by irradiating ultraviolet rays from the concave side of the mold with a UV lamp manufactured by Toshiba Lilac in a nitrogen atmosphere. The ultraviolet irradiation was performed at an irradiation distance of 330 mm and an irradiation time of 165 seconds.
(3) The film thickness of the photochromic film formed on the mold was 30 microns.
(4) Next, the glass mold with the photochromic film was subjected to heat treatment (annealing) at 110 ° C. for 100 minutes, and then subjected to 180 seconds of UV ozone treatment (manufactured by Eyegraphic).

3.注型重合
フォトクロミック膜の形成が終了したモールドを使用し、以下の工程によりフォトクロミックレンズを成形した。
(1)フォトクロミック膜を形成したモールドをレンズ凸面となるよう筒状のガスケットに押し込み、レンズ凹面となる面にはフォトクロミック膜が形成されていないモールドを所定量押し込み組み付けをしてキャビティを形成した。
(2)次に、(1)にて形成されたキャビティ内に熱硬化性ウレタン系モノマーを含むレンズ原料を注入し所定の重合プログラムにて加熱重合しモノマーを硬化させた。
(3)重合が終了し硬化したレンズからモールドを離型した。このときモールドに形成されたフォトクロミック膜がレンズに転写された。
(4)フォトクロミック膜が転写されたレンズは外周部を切削後洗浄し、所定のプログラムでアニール処理をした。
以上の工程により、凸面上にフォトクロミック膜を有するメニスカス形状のフォトクロミックレンズを得た。
3. Casting Polymerization A photochromic lens was formed by the following process using a mold in which the formation of the photochromic film was completed.
(1) The mold on which the photochromic film was formed was pressed into a cylindrical gasket so as to be a lens convex surface, and a mold without a photochromic film was pressed into a predetermined amount on the surface to be a lens concave surface and assembled to form a cavity.
(2) Next, a lens raw material containing a thermosetting urethane monomer was injected into the cavity formed in (1), and the monomer was cured by heat polymerization using a predetermined polymerization program.
(3) The mold was released from the cured lens after polymerization. At this time, the photochromic film formed on the mold was transferred to the lens.
(4) The lens to which the photochromic film was transferred was washed after cutting the outer periphery, and annealed with a predetermined program.
Through the above steps, a meniscus photochromic lens having a photochromic film on the convex surface was obtained.

4.酸素・水分低減雰囲気中保存工程
得られたフォトクロミックレンズを、レンズ保護シートでレンズの両光学面を覆うようにして挟み、レンズの凹面側のレンズ保護シートの外側に脱酸素剤と乾燥剤を配置した状態で、酸素と水分の透過を抑えたレンズ包装袋に開口部より挿入した。そして、大気中でレンズ包装袋の開口部を熱圧着により接着して包装袋を密閉した。
レンズ保護シートとしては、和紙製のシートを使用した。
レンズ包装袋は、酸素透過度がほぼ0ml/m2・atm・24hであり、水蒸気透過度がほぼ0g/m2・24hであるガスバリア性フィルムを用いて袋状に形成した。ガスバリア性フィルムとしては、レンズ包装袋として形成されたときに最も内側に位置する第1層が低密度ポリエチレン(30μm)、第2層がポリエチレン(20μm)、第3層がアルミニウム箔(7μm)、第4層がポリエチレン(13μm)、第5層がポリエチレンテレフタレート(12μm)からなる複合フィルムを使用した。密閉された状態の包装袋内のレンズを除いた容積は約30〜40mlであった。
また、脱酸素剤としては、酸素吸収量が約20mlの脱酸素剤(製造元:三菱ガス化学株式会社、商品名:エージレス、型番:Z−20PK)を使用した。
また、乾燥剤としてはシリカゲル(製造元:旭硝子エスアイテック株式会社製。成分:二酸化ケイ素98%以上、塩化コバルト0.09%)が和紙製袋に分包された物を使用した。前記脱酸素剤は自力反応型で有るため脱酸素剤中の水分供与体から水蒸気が包装袋内に蒸散するが、この蒸散される水分量および包装袋内容積から計算した必要量より過剰のシリカゲルを包装袋内に封入した。
4). Preservation process in oxygen / moisture-reduced atmosphere The obtained photochromic lens is sandwiched so as to cover both optical surfaces of the lens with a lens protective sheet, and an oxygen scavenger and desiccant are placed outside the lens protective sheet on the concave side of the lens In this state, it was inserted from the opening into a lens packaging bag in which permeation of oxygen and moisture was suppressed. And the opening part of the lens packaging bag was adhere | attached by thermocompression bonding in air | atmosphere, and the packaging bag was sealed.
A Japanese paper sheet was used as the lens protection sheet.
The lens packaging bag was formed into a bag shape using a gas barrier film having an oxygen permeability of approximately 0 ml / m 2 · atm · 24 h and a water vapor permeability of approximately 0 g / m 2 · 24 h. As the gas barrier film, when formed as a lens packaging bag, the first layer located on the innermost side is low density polyethylene (30 μm), the second layer is polyethylene (20 μm), the third layer is aluminum foil (7 μm), A composite film composed of polyethylene (13 μm) for the fourth layer and polyethylene terephthalate (12 μm) for the fifth layer was used. The volume excluding the lens in the sealed packaging bag was about 30 to 40 ml.
As the oxygen scavenger, an oxygen scavenger having an oxygen absorption amount of about 20 ml (manufacturer: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: Ageless, model number: Z-20PK) was used.
Moreover, as a desiccant, a product in which silica gel (manufacturer: manufactured by Asahi Glass S-Tech Co., Ltd., components: silicon dioxide 98% or more, cobalt chloride 0.09%) was packaged in a Japanese paper bag was used. Since the oxygen scavenger is a self-reactive type, water vapor evaporates from the moisture donor in the oxygen scavenger into the packaging bag, but the silica gel is in excess of the required amount calculated from the amount of water evaporated and the volume in the packaging bag. Was enclosed in a packaging bag.

[実施例2](UV片面照射、真空)
1.フォトクロミック液の調製
実施例1と同じとした。
2.フォトクロミック膜の形成
実施例1と同じとした。
3.注型重合
実施例1と同じとした。
4.酸素・水分低減雰囲気中保存工程
得られたフォトクロミックレンズを、ロータリーポンプで10-1Paの圧力にした真空デシケータ中保存した。
[Example 2] (UV single-sided irradiation, vacuum)
1. Preparation of photochromic solution Same as Example 1.
2. Formation of Photochromic Film Same as Example 1.
3. Cast polymerization The same as in Example 1.
4). Storage Step in Oxygen / Moisture Reduced Atmosphere The obtained photochromic lens was stored in a vacuum desiccator at a pressure of 10 −1 Pa with a rotary pump.

[実施例3](UV片面照射、窒素置換)
1.フォトクロミック液の調製
実施例1と同じとして。
2.フォトクロミック膜の形成
実施例1と同じとした。
3.注型重合
実施例1と同じとした。
4.酸素・水分低減雰囲気中保存工程
得られたフォトクロミックレンズを、窒素ガスで置換されたガス置換型デシケータ中に設置し、窒素ガスを流しながら保存した。窒素ガスは、純度99.999vol%以上、酸素1volppm以下、水分(露点−70℃以下)のものを使用した。また、デシケータ中の酸素濃度は、0.06%以下であった。
[Example 3] (UV single-sided irradiation, nitrogen substitution)
1. Preparation of photochromic liquid As in Example 1.
2. Formation of Photochromic Film Same as Example 1.
3. Cast polymerization The same as in Example 1.
4). Storage Step in Oxygen / Moisture-Reduced Atmosphere The obtained photochromic lens was placed in a gas replacement desiccator that was replaced with nitrogen gas, and stored while flowing nitrogen gas. Nitrogen gas having a purity of 99.999 vol% or more, oxygen of 1 vol ppm or less, and moisture (dew point of −70 ° C. or less) was used. Further, the oxygen concentration in the desiccator was 0.06% or less.

[実施例4](UV片面照射、乾燥剤封入)
1.フォトクロミック液の調製
実施例1と同じとした。
2.フォトクロミック膜の形成
実施例1と同じとした。
3.注型重合
実施例1と同じとした。
4.酸素・水分低減雰囲気中保管工程
レンズ包装袋中に脱酸素剤を入れずに乾燥剤だけを封入した以外は、実施例1と同じとした。
[Example 4] (UV single-sided irradiation, encapsulating desiccant)
1. Preparation of photochromic solution Same as Example 1.
2. Formation of Photochromic Film Same as Example 1.
3. Cast polymerization The same as in Example 1.
4). Storage step in an oxygen / moisture-reduced atmosphere Same as Example 1 except that only the desiccant was enclosed in the lens packaging bag without adding the oxygen scavenger.

[実施例5](UV片面照射、脱酸素材封入)
1.フォトクロミック液の調製
実施例1と同じとした。
2.フォトクロミック膜の形成
実施例1と同じとした。
3.注型重合
実施例1と同じとした。
4.酸素・水分低減雰囲気中保管工程
レンズ包装袋中に乾燥剤を入れずに脱酸素剤だけを封入した以外は、実施例1と同じとした。
[Example 5] (UV single-sided irradiation, deoxidation material enclosed)
1. Preparation of photochromic solution Same as Example 1.
2. Formation of Photochromic Film Same as Example 1.
3. Cast polymerization The same as in Example 1.
4). Storage step in oxygen / moisture-reduced atmosphere Same as Example 1 except that only the oxygen scavenger was enclosed in the lens packaging bag without the desiccant.

[実施例6](両面UV照射、脱酸素材+乾燥剤)
1.フォトクロミック液の調製
実施例1と同じとした。
2.フォトクロミック膜の形成
実施例1の2.の(1)〜(2)までは同じとした。その後、窒素雰囲気中で東芝ライラック製UVランプにてモールドの凸面側から紫外線を照射し、フォトクロミック液の硬化処理を行った。紫外線照射は、照射距離330mm、照射時間40秒で行った。モールド上に形成されたフォトクロミック膜の膜厚を測定すると30ミクロンであった。
次にフォトクロミック膜が付いたガラスモールドを110℃×100分の加熱処理(アニール)をした後、180秒間のUVオゾン処理(メーカー:アイグラフィック社製)を行った。
3.注型重合
実施例1と同じとした。
4.酸素・水分低減雰囲気中保管工程
実施例1と同じとした。
[Example 6] (Double-sided UV irradiation, deoxidized material + desiccant)
1. Preparation of photochromic solution Same as Example 1.
2. Formation of Photochromic Film Example 1-2. (1) to (2) were the same. Thereafter, the photochromic liquid was cured by irradiating ultraviolet rays from the convex side of the mold with a UV lamp manufactured by Toshiba Lilac in a nitrogen atmosphere. The ultraviolet irradiation was performed at an irradiation distance of 330 mm and an irradiation time of 40 seconds. The thickness of the photochromic film formed on the mold was measured and found to be 30 microns.
Next, the glass mold with the photochromic film was subjected to heat treatment (annealing) at 110 ° C. for 100 minutes, followed by 180 seconds of UV ozone treatment (manufactured by Eyegraphic).
3. Cast polymerization The same as in Example 1.
4). Storage step in oxygen / moisture-reduced atmosphere Same as Example 1.

[実施例7](両面UV照射、真空)
フォトクロミック膜の形成を実施例6の2.と同様に両面からUV照射した以外は、実施例2と同じとした。
[Example 7] (Double-sided UV irradiation, vacuum)
The formation of the photochromic film was performed in the same manner as in Example 6.2. As in Example 2, except that UV irradiation was performed from both sides.

[実施例8](両面UV照射、窒素置換)
フォトクロミック膜の形成を実施例6の2.と同様に両面からUV照射した以外は、実施例3と同じとした。
[Example 8] (Double-sided UV irradiation, nitrogen substitution)
The formation of the photochromic film was performed in the same manner as in Example 6.2. As in Example 3, except that UV irradiation was performed from both sides.

[実施例9](両面UV照射、乾燥剤封入)
フォトクロミック膜の形成を実施例6の2.と同様に両面からUV照射した以外は、実施例4と同じとした。
[Example 9] (Double-sided UV irradiation, encapsulating desiccant)
The formation of the photochromic film was performed in the same manner as in Example 6.2. As in Example 4, except that UV irradiation was performed from both sides.

[実施例10](両面UV照射、脱酸素剤封入)
フォトクロミック膜の形成を実施例6の2.と同様に両面からUV照射した以外は、実施例5と同じとした。
[Example 10] (Double-sided UV irradiation, oxygen scavenger enclosed)
The formation of the photochromic film was performed in the same manner as in Example 6.2. As in Example 5, except that UV irradiation was performed from both sides.

[比較例1](片面UV照射、空気中保管)
実施例1の1.〜3.の工程により形成したフォトクロミックレンズを空気中の暗所に保存した。保存中の温度は20℃〜25℃の範囲内、相対湿度は30〜50%の範囲内であった。
[Comparative Example 1] (single-sided UV irradiation, storage in air)
Example 1 ~ 3. The photochromic lens formed by the above process was stored in a dark place in the air. The temperature during storage was in the range of 20 ° C to 25 ° C, and the relative humidity was in the range of 30 to 50%.

[比較例2](両面UV照射、空気中保管)
実施例6の1.〜3.の工程により形成したフォトクロミックレンズを空気中の暗所に保存した。保存中の温度は20℃〜25℃の範囲内、相対湿度は30〜50%の範囲内であった。
[Comparative Example 2] (Double-sided UV irradiation, storage in air)
Example 6-1. ~ 3. The photochromic lens formed by the above process was stored in a dark place in the air. The temperature during storage was in the range of 20 ° C to 25 ° C, and the relative humidity was in the range of 30 to 50%.

[実施例11](ハードコート層、反射防止層形成)
実施例1〜10の保存開始から2日後のレンズに対して、下記4〜6の処理を行い、ハードコート層および反射防止膜を形成した。
[Example 11] (Hardcoat layer and antireflection layer formation)
The lenses 4 to 6 after the start of storage in Examples 1 to 10 were subjected to the following treatments 4 to 6 to form a hard coat layer and an antireflection film.

4.ハードコーティング液の調製
5℃雰囲気下、変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾル45質量部とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン15質量部およびテトラエトキシシラン3質量部とを混合し、1時間攪拌した。その後、0.001モル/L濃度の塩酸4.5質量部を添加し、50時間攪拌した。その後、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)25質量部、ダイアセトンアルコール(DAA)9質量部および(C)成分であるアルミニウムトリスアセチルアセトネート(AL−AA)1.8質量部、過塩素酸アルミニウム0.05質量部を順次添加し、150時間攪拌した。得られた溶液を0.5μmのフィルターでろ過したものをコーティング組成物とした。
4). Preparation of Hard Coating Solution Under a 5 ° C. atmosphere, 45 parts by mass of modified stannic oxide-zirconium oxide-tungsten oxide-silicon oxide complex methanol sol, 15 parts by mass of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3 parts by mass of tetraethoxysilane And the mixture was stirred for 1 hour. Thereafter, 4.5 parts by mass of 0.001 mol / L hydrochloric acid was added and stirred for 50 hours. Thereafter, 25 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether (PGM), 9 parts by mass of diacetone alcohol (DAA) and 1.8 parts by mass of aluminum trisacetylacetonate (AL-AA) as component (C), perchloric acid 0.05 parts by mass of aluminum was sequentially added and stirred for 150 hours. A solution obtained by filtering the obtained solution through a 0.5 μm filter was used as a coating composition.

5.ハードコート層の形成
実施例1で形成したフォトクロミックレンズのフォトクロミック膜表面に対して30秒間のUVオゾン処理を実施した。その後、60℃、10質量%の水酸化ナトリウム水溶液にて5分間浸漬処理して十分に純水洗浄/乾燥を行った後、前記4.で調製されたハードコーティング組成物を用いて、ディッピング法(引き上げ速度20cm/分)でコーティングを行い、110℃、60分加熱硬化することでハードコート層を形成した。
5. Formation of Hard Coat Layer UV ozone treatment for 30 seconds was performed on the photochromic film surface of the photochromic lens formed in Example 1. Then, after immersing for 5 minutes in an aqueous solution of sodium hydroxide at 10 ° C. at 60 ° C., sufficiently washing / drying with pure water, Using the hard coating composition prepared in (1), coating was carried out by a dipping method (pickup speed 20 cm / min), and a hard coat layer was formed by heating and curing at 110 ° C. for 60 minutes.

6.反射防止膜の形成
前記5.にてハードコート層を形成したプラスチックレンズを蒸着装置に入れ、排気しながら85℃に加熱し、2.7mPa(2×10-5torr)まで排気した後、電子ビーム加熱法にて蒸着原料を蒸着させて、SiO2からなる膜厚0.6λの下地層、この下地層の上にTa25、ZrO2、Y23からなる混合層(nd=2.05、nλ=0.075λ)とSiO2層(nd=1.46、nλ=0.056λ)からなる第一屈折層、Ta25、ZrO2、Y23からからなる混合層(nd=2.05、nλ=0.075λ)とSiO2層からなる第2低屈折率層(nd=1.46、nλ=0.25λ)を形成して反射防止膜を施した。
6). 4. Formation of antireflection film The plastic lens on which the hard coat layer was formed was put into a vapor deposition apparatus, heated to 85 ° C. while being evacuated, evacuated to 2.7 mPa (2 × 10 −5 torr), and then the evaporation raw material was formed by an electron beam heating method. An underlayer having a thickness of 0.6λ made of SiO 2 is deposited, and a mixed layer made of Ta 2 O 5 , ZrO 2 , Y 2 O 3 (nd = 2.05, nλ = 0. 075λ) and a SiO 2 layer (nd = 1.46, nλ = 0.56λ), a first refractive layer, a mixed layer made of Ta 2 O 5 , ZrO 2 , Y 2 O 3 (nd = 2.05, A second low-refractive index layer (nd = 1.46, nλ = 0.25λ) composed of nλ = 0.075λ) and a SiO 2 layer was formed, and an antireflection film was applied.

[フォトクロミックレンズの評価]
(1)外観検査
実施例1〜10および比較例1、2において、それぞれ保存開始から2日後、5日後、10日後、20日後、30日後に、レンズ表面を光学顕微鏡(ニコン社製OPTIPHOT2)を使って外観検査した。外観検査は、微分干渉モード200倍、観察エリア425μm×325μm内において、染み出しが生じている箇所の数を目視によりカウントした。実施例1〜5および比較例1の結果を表1に、実施例6〜10および比較例2の結果を表2に示す。なお、これら表において、染み出し箇所の数が0〜50個の場合を記号○、51〜100個の場合を記号△、101個以上の場合を記号×で表示している。また、光学顕微鏡の微分干渉モード200倍の写真を図7に示す。
[Evaluation of photochromic lens]
(1) Appearance inspection In Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2, after 2 days, 5 days, 10 days, 20 days, and 30 days after the start of storage, the lens surface was subjected to an optical microscope (OPTIPHOT2 manufactured by Nikon Corporation). Used for visual inspection. In the appearance inspection, the number of spots where bleeding occurred in the differential interference mode 200 times and the observation area 425 μm × 325 μm was visually counted. The results of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 are shown in Table 1, and the results of Examples 6 to 10 and Comparative Example 2 are shown in Table 2. In these tables, the case where the number of exudation locations is 0 to 50 is indicated by the symbol ◯, the case where the number is 51 to 100 is indicated by the symbol Δ, and the case where it is 101 or more is indicated by the symbol ×. FIG. 7 shows a photograph of the differential interference mode 200 times of the optical microscope.

上記外観評価の結果、実施例1〜10では、比較例に比べ長い時間保存しても添加剤の染み出しが少なかった。特に、脱酸素剤と乾燥剤を用いて空気中の酸素と水分の両方を低減した雰囲気中に保管した場合(実施例1、6)と、真空雰囲気中に保管した場合は(実施例2、7)は30日経過しても、染み出しは見られなかった。なお、窒素置換雰囲気中に保管した場合(実施例3、8)は、保存期間が長い場合に染み出しが生じたが、これは窒素ガス中の含まれる酸素がデシケータ中に存在していたことが原因と考えられる。また、脱酸素剤を用いて空気中の酸素を低減した雰囲気中に保存した場合(実施例5、10)は、他の実施例に比べて染み出しが生じるまでの時間は早かった。これは使用した脱酸素剤が自力反応型であるため、脱酸素剤から放出された水分が影響したためであると考えられる。なお、両面UV照射の場合(実施例6〜10)は、片面UV照射の場合(実施例1〜5)に比べ、同じ酸素・水分低減手段において、染み出しが生じにくかった。
また、実施例11では、何れのレンズもコーティング後に曇りや着色などの光学欠陥は観察されず、光学特性は良好であった。
As a result of the above-described appearance evaluation, in Examples 1 to 10, the additive oozes out less even when stored for a longer time than in the comparative example. In particular, when stored in an atmosphere in which both oxygen and moisture in the air are reduced using an oxygen scavenger and a desiccant (Examples 1 and 6), and when stored in a vacuum atmosphere (Example 2, 7) No oozing was observed even after 30 days. In addition, when stored in a nitrogen-substituted atmosphere (Examples 3 and 8), exudation occurred when the storage period was long. This was because oxygen contained in nitrogen gas was present in the desiccator. Is considered to be the cause. Moreover, when it preserve | saved in the atmosphere which reduced oxygen in the air using an oxygen absorber (Examples 5 and 10), the time until oozing out was quicker than other examples. This is presumably because the oxygen scavenger used was self-reactive and the water released from the scavenger was affected. In the case of double-sided UV irradiation (Examples 6 to 10), it was difficult for the same oxygen / moisture reducing means to ooze out compared to the case of single-sided UV irradiation (Examples 1 to 5).
In Example 11, optical defects such as fogging and coloring were not observed after coating in any lens, and the optical characteristics were good.

実施例11において、実施例1のレンズにハードコート層、および反射防止層をこの順に形成して得られたレンズについて、JIS T7333に準じた以下の方法によってフォトクロミック性の評価を行った。
得られたフォトクロミックレンズ上のフォトクロミック膜に対し、キセノンランプを用い、エアロマスフィルターを介して15分間(900秒)、フォトクロミック膜表面(レンズ基材と対向する面とは反対の面)に対して光照射し、フォトクロミック膜を発色させた。この時の発色濃度について大塚電子工業製の分光光度計により550nmの透過率を測定した。上記光照射は、JIS T7333に規定されているように放射照度および放射照度の許容差が下記表3に示す値となるように行った。この数値が、小さいほどフォトクロミック性が優れていることを示す。退色速度は同様に15分間(900秒)光照射し、照射を止めた時点からの透過率(550nm)を測定した。時間と共に透過率が元に戻る速度が速いほど、フォトクロミック性が優れている。図8は、照射(0〜900秒)、照射終了(900秒)、照射終了後(900秒)のフォトクロミックレンズの光透過率(550nm)を示す。図8からわかるように、実施例1のレンズに上記コーティングを形成して得られたレンズは発退色の反応速度および発色濃度が高く、優れた光応答性を有していた。
In Example 11, the lens obtained by forming the hard coat layer and the antireflection layer in this order on the lens of Example 1 was evaluated for photochromic properties by the following method according to JIS T7333.
For the photochromic film on the obtained photochromic lens, for 15 minutes (900 seconds) through an aeromass filter using a xenon lamp, against the photochromic film surface (the surface opposite to the surface facing the lens substrate) The photochromic film was colored by light irradiation. At this time, the transmittance at 550 nm was measured with a spectrophotometer manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. The light irradiation was performed so that the irradiance and the tolerance of the irradiance had values shown in Table 3 below as defined in JIS T7333. It shows that photochromic property is excellent, so that this figure is small. Similarly, the light fading speed was irradiated with light for 15 minutes (900 seconds), and the transmittance (550 nm) from the time when the irradiation was stopped was measured. The faster the rate at which the transmittance returns with time, the better the photochromic properties. FIG. 8 shows the light transmittance (550 nm) of the photochromic lens after irradiation (0 to 900 seconds), irradiation end (900 seconds), and irradiation end (900 seconds). As can be seen from FIG. 8, the lens obtained by forming the coating on the lens of Example 1 had a high reaction speed and color density for color development and excellent photoresponsiveness.

[染み出し成分の分析]
比較例1、2で保存開始から10日後のレンズ、および、実施例3、4,5で保管開始から30日後のレンズについて、それぞれフォトクロミック膜表面に染みだしている物質をマイクロニードルを用いて採取し、その採取した物質をダイヤモンドセルに載せ、フーリエ変換型顕微赤外分光光度計(島津製作所製μ−IR8000)を用いて透過法によりスペクトルを測定した。その結果、ヒンダードアミン系光安定剤であるLS765のスペクトルと一致した。この結果から、上記比較例および実施例における染み出し物質にはLS765が含まれていると考えられる。
[Analysis of exuded components]
For the lenses 10 days after the start of storage in Comparative Examples 1 and 2 and the lenses 30 days after the start of storage in Examples 3, 4 and 5, the substances that ooze out on the photochromic film surface were collected using a microneedle. Then, the collected substance was placed on a diamond cell, and the spectrum was measured by a transmission method using a Fourier transform type micro-infrared spectrophotometer (μ-IR8000 manufactured by Shimadzu Corporation). As a result, it agreed with the spectrum of LS765, which is a hindered amine light stabilizer. From this result, it is considered that LS765 is contained in the exuding substances in the comparative examples and examples.

本発明によれば、優れた光応答性と光学特性を有するフォトクロミックレンズを得ることができる。特に、本発明により得られるフォトクロミックレンズは眼鏡レンズとして好適である。   According to the present invention, a photochromic lens having excellent photoresponsiveness and optical characteristics can be obtained. In particular, the photochromic lens obtained by the present invention is suitable as a spectacle lens.

フォトクロミックレンズの概略を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline of a photochromic lens. 超微小押し込み硬さの測定方法の概略図である。It is the schematic of the measuring method of super micro indentation hardness. チャンバー式真空・ガス置換包装機の概略図である。It is the schematic of a chamber type vacuum and gas replacement packaging machine. レンズの保存方法の一例を示す。An example of a lens storage method will be described. レンズ鋳型の概略図である。It is the schematic of a lens casting_mold | template. UVオゾン処理の一例を示す。An example of UV ozone treatment is shown. 保存中のフォトクロミックレンズの外観検査の結果を示す光学顕微鏡写真である。It is an optical microscope photograph which shows the result of the external appearance inspection of the photochromic lens in storage. 実施例1のレンズ上にハードコート層を形成した実施例11のフォトクロミックレンズの光照射中、照射終了時、照射終了後のフォトクロミックレンズの光透過率(550nm)を示す。The light transmittance (550 nm) of the photochromic lens after completion | finish of irradiation of the photochromic lens of Example 11 which formed the hard-coat layer on the lens of Example 1 at the time of light irradiation end is shown.

Claims (8)

最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズを、酸素濃度および/または湿度が低減した雰囲気下に保存するフォトクロミックレンズの保存方法。 A photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more on the outermost surface and a lens base material, wherein the outermost surface of the photochromic film is positioned on the outermost surface of the photochromic lens, oxygen concentration and A method for storing a photochromic lens that is stored in an atmosphere with reduced humidity. 前記雰囲気は、真空雰囲気である請求項1に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。 The method for storing a photochromic lens according to claim 1, wherein the atmosphere is a vacuum atmosphere. 前記雰囲気は、不活性ガス雰囲気である請求項1に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。 The method for storing a photochromic lens according to claim 1, wherein the atmosphere is an inert gas atmosphere. 前記雰囲気は、脱酸素剤を含む密閉雰囲気である請求項1に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。 The method for preserving a photochromic lens according to claim 1, wherein the atmosphere is a sealed atmosphere containing an oxygen scavenger. 密閉雰囲気は乾燥剤を更に含む請求項4に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。 The method for preserving a photochromic lens according to claim 4, wherein the sealed atmosphere further contains a desiccant. 前記雰囲気は、乾燥剤を含む密閉雰囲気である請求項1に記載のフォトクロミックレンズの保存方法。 The method for storing a photochromic lens according to claim 1, wherein the atmosphere is a sealed atmosphere containing a desiccant. 最表面の超微小押し込み硬さが800nm以上のフォトクロミック膜とレンズ基材とを含むフォトクロミックレンズであって、該フォトクロミック膜の最表面がフォトクロミックレンズの最表面に位置するフォトクロミックレンズの、該最表面上にコーティング膜を形成する成膜工程を含むフォトクロミックレンズの製造方法であって、
前記成膜工程前のフォトクロミックレンズを、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法により保存する、前記製造方法。
The outermost surface of a photochromic lens including a photochromic film having an ultra-fine indentation hardness of 800 nm or more and a lens base material, wherein the outermost surface of the photochromic film is located on the outermost surface of the photochromic lens A method for producing a photochromic lens including a film forming step of forming a coating film thereon,
The said manufacturing method which preserve | saves the photochromic lens before the said film-forming process by the method of any one of Claims 1-6.
前記フォトクロミック膜は、ヒンダーアミン系光安定剤を含む請求項7に記載のフォトクロミックレンズの製造方法。 The method for producing a photochromic lens according to claim 7, wherein the photochromic film includes a hindered amine light stabilizer.
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