JP2008255140A - Epoxy resin-molded article, method for modifying surface of epoxy resin-molded article, and method for forming electroconductive film by using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin-molded article of which surface is modified by a simple method without roughening the surface of the epoxy resin-molded article, a method for modifying the surface of the same, and a method for forming an electroconductive film, capable of easily forming the electroconductive film on the epoxy resin-molded material of which surface is modified by the above modifying method. <P>SOLUTION: This epoxy resin-molded material formed by curing a mixture of the epoxy resin and an acrylic resin is characterized by having ≥80 strength of the acrylic resin component within 30% thickness region from its surface based on the whole thickness of the epoxy resin-molded article, in the case of setting the strength by the mass analysis of the acrylic resin component in the surface of the epoxy resin-molded material as 100. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、エポキシ樹脂を主成分とする成形体の表面改質方法及びそれを用いた導電性膜の形成方法に関し、特に、プリント配線基板に有用な導電性膜の形成方法に関する。   The present invention relates to a method for modifying the surface of a molded body mainly composed of an epoxy resin and a method for forming a conductive film using the same, and more particularly to a method for forming a conductive film useful for a printed wiring board.

従来、プリント配線基板用の絶縁基板として、エポキシ樹脂を主成分とするエポキシ樹脂基板が最も一般的に用いられており、エポキシ樹脂基板の表面上に所定のパターンで導体を形成することによって回路が形成される。
エポキシ樹脂基板上に導体(導電性膜)を形成する方法として、エポキシ樹脂基板の表面をデスミア液で化学的に処理(デスミア処理)して凹凸を形成(粗面化)する方法や、エポキシ樹脂基板の表面を親水化した後、めっき触媒を吸着させて無電解めっきを行う方法が知られている。親水化の方法としては、UVオゾン処理、コロナ処理、プラズマ処理、光触媒による処理などが知られている(例えば、非特許文献1)。
Conventionally, an epoxy resin substrate mainly composed of an epoxy resin is most commonly used as an insulating substrate for a printed wiring board, and a circuit is formed by forming a conductor with a predetermined pattern on the surface of the epoxy resin substrate. It is formed.
As a method of forming a conductor (conductive film) on an epoxy resin substrate, a method of chemically treating the surface of the epoxy resin substrate with a desmear liquid (desmear treatment) to form irregularities (roughening), an epoxy resin A method of performing electroless plating by adsorbing a plating catalyst after making the surface of a substrate hydrophilic is known. As a hydrophilization method, UV ozone treatment, corona treatment, plasma treatment, treatment with a photocatalyst, etc. are known (for example, Non-Patent Document 1).

しかしながらデスミア処理では基板表面が粗れるため、高周波特性が悪化するという問題点がある。また、UVオゾン処理、コロナ処理、プラズマ処理ではデスミア処理ほどではないが基板表面がダメージを受けてやや粗れるという問題点のほか、それぞれ特有の表面処理を行う装置を必要とするためコストが高くなるという問題点がある。更に、光触媒による処理は、具体的には、二酸化チタンの水分散液に基板を浸漬させた後、UV光を長時間照射して光触媒の酸化力を利用して親水化する方法であるが、例えばプリント配線基板の作製にとって実用的な方法とは言い難い。   However, the desmear treatment has a problem that the substrate surface becomes rough and the high-frequency characteristics deteriorate. In addition, the UV ozone treatment, corona treatment, and plasma treatment are not as high as desmear treatment, but the substrate surface is damaged and slightly roughened, and each device requires a special surface treatment, resulting in high costs. There is a problem of becoming. Furthermore, the treatment with the photocatalyst is specifically a method of immersing the substrate in an aqueous dispersion of titanium dioxide and then irradiating with UV light for a long time to make hydrophilic using the oxidizing power of the photocatalyst. For example, it is difficult to say that this is a practical method for manufacturing a printed wiring board.

一方、エポキシ樹脂基板の表面に重合性基を有するポリマーを塗布した後、紫外線を照射して基板表面にグラフトポリマーを生成させ、表面のグラフトポリマーに導電性素材を付与する方法が提案されている(例えば、特許文献1)。しかしながら、エポキシ樹脂基板とグラフトポリマーとの密着性が十分とは言えず、また、ポリマーの塗布と紫外線照射が必要であるため、コストが高くなってしまうおそれがある。   On the other hand, a method has been proposed in which a polymer having a polymerizable group is applied to the surface of an epoxy resin substrate, and then an ultraviolet ray is irradiated to generate a graft polymer on the substrate surface, and a conductive material is imparted to the surface graft polymer. (For example, patent document 1). However, it cannot be said that the adhesion between the epoxy resin substrate and the graft polymer is sufficient, and since the application of the polymer and the ultraviolet irradiation are necessary, the cost may increase.

日本接着学会第44回年次大会 講演要旨集 p181−184Abstracts of the 44th Annual Meeting of the Adhesion Society of Japan p181-184 特開2006−57059号公報JP 2006-57059 A

上記のようにエポキシ樹脂基板の表面を改質する方法は種々提案されているが、エポキシ樹脂基板の表面を粗らすことなく、簡便な方法でエポキシ樹脂基板の表面を改質することができる方法が望ましい。   Various methods for modifying the surface of the epoxy resin substrate have been proposed as described above, but the surface of the epoxy resin substrate can be modified by a simple method without roughening the surface of the epoxy resin substrate. The method is desirable.

本発明は、上記従来の技術的問題点を考慮してなされたものであり、エポキシ樹脂成形体の表面を粗らすことなく、簡便な方法でエポキシ樹脂表面が改質された、エポキシ樹脂成形体、及びその表面改質方法を提供することを目的とする。また本発明の他の目的は、前記本発明のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法により表面改質されたエポキシ樹脂成形体上に導電性膜を容易に形成することができる導電性膜の形成方法を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above-mentioned conventional technical problems, and the epoxy resin surface is modified by a simple method without roughening the surface of the epoxy resin molded body. It is an object of the present invention to provide a body and a surface modification method thereof. Another object of the present invention is to form a conductive film capable of easily forming a conductive film on an epoxy resin molded body whose surface is modified by the surface modification method of the epoxy resin molded body of the present invention. It is to provide a method.

上記目的を達成するため、本発明では以下の方法が提供される。   In order to achieve the above object, the present invention provides the following method.

<1> エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が硬化したエポキシ樹脂成形体であって、該エポキシ樹脂成形体の全体の厚みに対して、表面から30%以内の厚みの領域に、
エポキシ樹脂成形体の表面のアクリル樹脂組成分の質量分析による強度を100とした場合、該領域のアクリル樹脂組成分の強度が80以上であることを特徴とするエポキシ樹脂成形体。
<1> An epoxy resin molded body in which a mixture of an epoxy resin and an acrylic resin is cured, and in a region having a thickness within 30% from the surface with respect to the total thickness of the epoxy resin molded body,
An epoxy resin molded body, wherein the strength of the acrylic resin composition in the region is 80 or more when the strength by mass spectrometry of the acrylic resin composition on the surface of the epoxy resin molded body is 100.

<2> 前記エポキシ樹脂成形体の全体の厚みに対する、表面からの厚みが20%以内であることを特徴とする<1>に記載のエポキシ樹脂成形体。 <2> The epoxy resin molded body according to <1>, wherein the thickness from the surface is within 20% of the total thickness of the epoxy resin molded body.

<3> 前記エポキシ樹脂成形体の全体の厚みに対する、表面からの厚みが10%以内であることを特徴とする<1>又は<2>に記載のエポキシ樹脂成形体。 <3> The epoxy resin molded body according to <1> or <2>, wherein the thickness from the surface is within 10% of the total thickness of the epoxy resin molded body.

<4> 前記質量分析が、SIMS(2次イオン質量分析)であることを特徴とする<1>〜<3>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <4> The epoxy resin molded article according to any one of <1> to <3>, wherein the mass spectrometry is SIMS (secondary ion mass spectrometry).

<5> 前記アクリル樹脂のSP値が20 〜29の範囲にあることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <5> The epoxy resin molded body according to any one of <1> to <4>, wherein the acrylic resin has an SP value in a range of 20 to 29.

<6> 前記アクリル樹脂のSP値が23 〜28の範囲にあることを特徴とする<1>〜<5>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <6> The epoxy resin molded body according to any one of <1> to <5>, wherein the acrylic resin has an SP value in a range of 23 to 28.

<7> 前記アクリル樹脂の含有量が、全固形分中の濃度として、1〜10質量%であることを特徴とする<1>〜<6>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <7> The epoxy resin molded article according to any one of <1> to <6>, wherein the content of the acrylic resin is 1 to 10% by mass as a concentration in the total solid content. .

<8> 前記アクリル樹脂が、分子内にめっき触媒を吸着し得る官能基を有することを特徴とする<1>〜<7>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <8> The epoxy resin molded article according to any one of <1> to <7>, wherein the acrylic resin has a functional group capable of adsorbing a plating catalyst in a molecule.

<9> 前記めっき触媒を吸着し得る官能基が、シアノ基、アミノ基、又は含窒素複素環基であることを特徴とする<8>に記載のエポキシ樹脂成形体。 <9> The epoxy resin molded article according to <8>, wherein the functional group capable of adsorbing the plating catalyst is a cyano group, an amino group, or a nitrogen-containing heterocyclic group.

<10> 前記エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が、さらに硬化剤を含むことを特徴とする<1>〜<9>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <10> The epoxy resin molded body according to any one of <1> to <9>, wherein the mixture of the epoxy resin and the acrylic resin further contains a curing agent.

<11> 前記硬化剤が、分子内にアミノ基及び水酸基の少なくとも1種を含むことを特徴とする<10>に記載のエポキシ樹脂成形体。 <11> The epoxy resin molded article according to <10>, wherein the curing agent contains at least one of an amino group and a hydroxyl group in the molecule.

<12> 前記エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が、更にフェノキシ樹脂を含むことを特徴とする<1>〜<11>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <12> The epoxy resin molded body according to any one of <1> to <11>, wherein the mixture of the epoxy resin and the acrylic resin further contains a phenoxy resin.

<13> 前記エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が、さらに硬化促進剤を添加することを特徴とする、<1>〜<12>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。 <13> The epoxy resin molded body according to any one of <1> to <12>, wherein the mixture of the epoxy resin and the acrylic resin further includes a curing accelerator.

<14> エポキシ樹脂、該エポキシ樹脂と反応する硬化剤、溶剤、及びSP値が20〜29の範囲にあり、且つ、全固形分中の濃度として、1〜10質量%のアクリル樹脂を含む混合物を成形し、加熱硬化させる工程を含むことを特徴とするエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。 <14> Epoxy resin, a curing agent that reacts with the epoxy resin, a solvent, and an SP value in the range of 20 to 29, and a mixture containing 1 to 10% by mass of acrylic resin as a concentration in the total solid content A method for modifying the surface of an epoxy resin molded product, comprising the steps of:

<15> 前記アクリル樹脂のSP値が23 〜28の範囲にあることを特徴とする<14>に記載のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。 <15> The method for modifying a surface of an epoxy resin molded article according to <14>, wherein the acrylic resin has an SP value in the range of 23 to 28.

<16> 前記溶剤が、ケトン系溶剤を含むことを特徴とする<14>に記載のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。 <16> The method for modifying a surface of an epoxy resin molded article according to <14>, wherein the solvent contains a ketone solvent.

<17> 前記ケトン系溶剤として、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンの少なくとも1種を用いることを特徴とする<16>に記載のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。 <17> The method for modifying a surface of an epoxy resin molded article according to <16>, wherein at least one of methyl ethyl ketone and cyclohexanone is used as the ketone solvent.

<18> <1>〜<13>のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体の表面に、無電解めっき触媒又はその前駆体を付与する工程と、前記無電解めっき触媒又はその前駆体を付与したエポキシ樹脂混合物に無電解めっきを行って導電性膜を形成する工程とを含むことを特徴とする導電性膜の形成方法。 <18> A step of applying an electroless plating catalyst or a precursor thereof to the surface of the epoxy resin molded body according to any one of <1> to <13>, and the electroless plating catalyst or the precursor thereof. A process for forming a conductive film by performing electroless plating on the applied epoxy resin mixture.

<19> 前記無電解めっき触媒をパラジウムとすることを特徴とする<18>に記載の導電性膜の形成方法。 <19> The method for forming a conductive film according to <18>, wherein the electroless plating catalyst is palladium.

本発明によれば、エポキシ樹脂を主成分とする混合物中にアクリル樹脂を添加したエポキシ樹脂混合物を成形し、加熱硬化してエポキシ樹脂成形体を形成することで、エポキシ樹脂成形体の表面をアクリル樹脂により効率良く改質された、エポキシ樹脂成形体を提供することができる。このような方法によれば、エポキシ樹脂成形体の表面を粗らすことなく、簡便な方法でエポキシ樹脂成形体の表面改質を行うことができる。また、アクリル樹脂の選択により、その表面改質されたエポキシ樹脂成形体上に導電性膜を容易に形成することが可能となる。   According to the present invention, an epoxy resin mixture in which an acrylic resin is added to a mixture containing an epoxy resin as a main component is molded and cured by heating to form an epoxy resin molded body, whereby the surface of the epoxy resin molded body is acrylic. It is possible to provide an epoxy resin molded body that has been efficiently modified with a resin. According to such a method, the surface modification of the epoxy resin molded body can be performed by a simple method without roughening the surface of the epoxy resin molded body. Further, by selecting an acrylic resin, it is possible to easily form a conductive film on the surface-modified epoxy resin molded body.

本発明に係るエポキシ樹脂成形体の表面改質方法は、エポキシ樹脂、該エポキシ樹脂と反応する硬化剤、アクリル樹脂、及び溶剤を含むエポキシ樹脂混合物を成形し、加熱硬化させて、該アクリル樹脂が表面に偏析したエポキシ樹脂成形体を形成する工程を含むことを特徴とする。
本発明者らは、鋭意検討の結果、エポキシ樹脂基板の表面改質に関して、加熱硬化により形成したエポキシ樹脂基板を、デスミア処理、UVオゾン処理、コロナ処理、プラズマ処理、光触媒処理などにより化学的又は物理的に処理するのではなく、エポキシ樹脂基板を形成する際に、少量のアクリル樹脂を添加したエポキシ樹脂混合物を成形して加熱硬化させた成形体とすることで、エポキシ樹脂本来の物性をほとんど損なわず、表面をアクリル樹脂によって効率良く改質できることを見出した。特に、めっき触媒を吸着し得る官能基を有するアクリル樹脂を用いることで、めっき触媒吸着性が良好な表面を形成することができ、めっき触媒付与後、無電解めっきを行うことで導電性膜を確実に形成することができることを見出した。
The method for modifying the surface of an epoxy resin molded body according to the present invention includes molding an epoxy resin mixture containing an epoxy resin, a curing agent that reacts with the epoxy resin, an acrylic resin, and a solvent, and curing the epoxy resin. It includes a step of forming an epoxy resin molded body segregated on the surface.
As a result of intensive studies, the present inventors have determined that the epoxy resin substrate formed by heat curing is chemically or chemically treated by desmear treatment, UV ozone treatment, corona treatment, plasma treatment, photocatalytic treatment, etc. Rather than physical treatment, when forming an epoxy resin substrate, the epoxy resin mixture to which a small amount of acrylic resin is added is molded into a molded product that is heat-cured, so that almost the original physical properties of the epoxy resin are obtained. It has been found that the surface can be efficiently modified with acrylic resin without damage. In particular, by using an acrylic resin having a functional group capable of adsorbing a plating catalyst, it is possible to form a surface with good plating catalyst adsorption, and after applying the plating catalyst, electroless plating is performed to form a conductive film. It has been found that it can be reliably formed.

<エポキシ樹脂>
本発明で使用するエポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物であり、好ましくは1分子中にエポキシ基を2〜50個、より好ましくは2〜20個有するエポキシ化合物である。エポキシ基は、オキシラン環構造を有する構造であればよく、例えば、グリシジル基、オキシエチレン基、エポキシシクロヘキシル基等を挙げることができる。このような多価エポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(昭和62年)等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
<Epoxy resin>
The epoxy resin used in the present invention is an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule, preferably 2 to 50, more preferably 2 to 20 epoxy groups in one molecule. It is. The epoxy group may be a structure having an oxirane ring structure, and examples thereof include a glycidyl group, an oxyethylene group, and an epoxycyclohexyl group. Such polyvalent epoxy compounds are widely disclosed in, for example, published by Masaki Shinbo “Epoxy Resin Handbook” published by Nikkan Kogyo Shimbun (1987), and these can be used.

具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、3官能型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA含核ポリオール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂などを挙げることができる。これらは、単独で用いても良く、2種以上併用してもよい。多官能エポキシ、エポキシ当量の低いエポキシ、ナフタレン型エポキシ、ジシクロペンタジエン型エポキシなどの使用により、耐熱性等に優れたエポキシ樹脂となる。   Specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, diphenyl ether type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin , Fluorene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, orthocresol novolac type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, trifunctional type epoxy resin, tetraphenylolethane type epoxy resin, dicyclopentadiene phenol type epoxy resin, water Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A nucleated polyol type epoxy resin, polypropylene glycol type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy Shi resin, glycidyl amine type epoxy resins, glyoxal type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and the like heterocyclic epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more. Use of a polyfunctional epoxy, an epoxy with a low epoxy equivalent, a naphthalene type epoxy, a dicyclopentadiene type epoxy or the like provides an epoxy resin excellent in heat resistance.

エポキシ樹脂の全固形分中の濃度としては、樹脂混合物中に含まれる全固形分中、エポキシ樹脂が20質量%以上であることが好ましく、30〜80質量%がより好ましく、 40〜60%質量%が特に好ましい。   The concentration of the epoxy resin in the total solid content is preferably 20% by mass or more, more preferably 30 to 80% by mass, and more preferably 40 to 60% by mass in the total solid content contained in the resin mixture. % Is particularly preferred.

<質量分析>
本発明のエポキシ樹脂成形体は、アクリル樹脂の分布がエポキシ樹脂成形体中に不均一であり、表層(外周)部に集中して偏在している。これを本発明においては「偏析」と称する。エポキシ樹脂成形体中のアクリル樹脂の偏析状態は、種々の解析方法を使用し、解析することができる。また、本発明において、種々の基板上にエポキシ樹脂成形体を作成した場合は、表面及び表層部は、基板と反対側の空気との界面のことを言い、基板上に作成しない場合は、エポキシ樹脂成形体の外周部の空気との界面のことを言う。
本発明におけるエポキシ樹脂成形体の偏析状態の解析方法としては、二次イオン質量分析法を好適に使用することができる。本発明のエポキシ樹脂成形体の偏析状態の解析により好ましく使用できる方法として、TOF−SIMS(飛行時間型2次イオン質量分析法)を挙げることができる。TOF-SIMSとは数100〜数万eVのエネルギーをもったイオンビームを、 試料表面(固体)に照射すると、 エネルギーを受けとった試料内の原子の一部が粒子として飛び出す。 飛び出す粒子の大半は電気的に中性であるが、 一部は帯電して(電価をもった)イオンになり(二次イオンと称する)、質量/電価の比に応じて、分離することができる。こうして分離されたイオンを数えることによって、 試料の化学組成や同位体組成を解析する方法である。
<Mass spectrometry>
In the epoxy resin molded body of the present invention, the acrylic resin distribution is non-uniform in the epoxy resin molded body and is concentrated on the surface layer (outer periphery) portion. This is called “segregation” in the present invention. The segregation state of the acrylic resin in the epoxy resin molded body can be analyzed using various analysis methods. In the present invention, when the epoxy resin molded body is formed on various substrates, the surface and the surface layer portion refer to the interface with the air on the opposite side of the substrate, and when not formed on the substrate, the epoxy It refers to the interface with the air at the outer periphery of the resin molded body.
As a method for analyzing the segregation state of the epoxy resin molded body in the present invention, secondary ion mass spectrometry can be suitably used. As a method that can be preferably used by analyzing the segregation state of the epoxy resin molding of the present invention, TOF-SIMS (time-of-flight secondary ion mass spectrometry) can be mentioned. When TOF-SIMS irradiates a sample surface (solid) with an ion beam with energy of several hundreds to tens of thousands of eV, some of the atoms in the sample that received the energy jump out as particles. Most of the ejected particles are electrically neutral, but some are charged (charged) into ions (called secondary ions) and separated according to the mass / charge ratio. be able to. This is a method of analyzing the chemical composition and isotope composition of a sample by counting the ions thus separated.

本発明のエポキシ樹脂成形体の偏析状態は、上記の質量分析法により得られたスペクトルの縦軸(検出強度)により求めることができる。例えば、本発明のエポキシ樹脂成形体を斜め切断し、TOF-SIMS(PHI−TRIFTII)を用いて分布を測定すると、アクリル樹脂が偏析した領域において、アクリル樹脂の含有量に応じてスペクトルのカーブを得ることができる。そのカーブによって、アクリル樹脂がエポキシ樹脂成形体の表面付近に偏析していることがわかる。本発明においては、アクリル樹脂が偏析した、エポキシ樹脂成形体の最表面の強度を100とした場合、相対値として、アクリル樹脂の含有量が80以上の部分が、エポキシ樹脂成形体の全体の厚さに対して、表面から30%以内の厚みの領域にあり、表面からの厚みの領域が20%以下であることが好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。   The segregation state of the epoxy resin molded article of the present invention can be obtained from the vertical axis (detection intensity) of the spectrum obtained by the mass spectrometry. For example, when the epoxy resin molding of the present invention is obliquely cut and the distribution is measured using TOF-SIMS (PHI-TRIFT II), the spectrum curve is shown in the region where the acrylic resin is segregated according to the acrylic resin content. Obtainable. It can be seen from the curve that the acrylic resin is segregated near the surface of the epoxy resin molded body. In the present invention, when the strength of the outermost surface of the epoxy resin molded body in which the acrylic resin is segregated is 100, the relative value of the portion having the acrylic resin content of 80 or more is the total thickness of the epoxy resin molded body. On the other hand, the thickness is within 30% from the surface, and the thickness from the surface is preferably 20% or less, more preferably 10% or less.

本発明のエポキシ樹脂成形体の偏析状態を解析する方法としては、偏析している状態を解析することができれば上記手法に限らず、例えば、電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)やX線光電子分光装置(XPS)、極低加速電圧走査電子顕微鏡、オージェ電子分光分析、グロー放電発光分光分析、ラマン散乱分光分析などを使用できる。
また、本発明においては、例えばTOF-SIMSの測定条件として、一次イオンAu+、加速電圧:22kV、一次イオン電流:2nA、中和銃on、スペクトル測定(positive/negative)、バンチングあり、測定面積:80μm□、測定時間3minによって、偏析状態を解析することができるが、この条件に限定されず、偏析状態を確認できる範囲で、所望の条件で測定することが可能である。
さらに、本発明においては、1回の測定において、表面の領域に対して一部でも、アクリル樹脂の含有量(相対値)が80以上の部分が存在すればよく、好ましくは、アクリル樹脂の含有量(相対値)が80以上の部分が、表面の領域に対して半分以上占めていることが好ましい。
The method for analyzing the segregation state of the epoxy resin molding of the present invention is not limited to the above method as long as the segregation state can be analyzed. For example, an electron probe microanalyzer (EPMA) or an X-ray photoelectron spectrometer ( XPS), ultra-low accelerating voltage scanning electron microscope, Auger electron spectroscopy, glow discharge emission spectroscopy, Raman scattering spectroscopy, etc. can be used.
In the present invention, for example, the measurement conditions of TOF-SIMS include primary ion Au +, acceleration voltage: 22 kV, primary ion current: 2 nA, neutralization gun on, spectrum measurement (positive / negative), bunching, measurement area: The segregation state can be analyzed by 80 μm □ and the measurement time of 3 min. However, the segregation state is not limited to this condition, and the measurement can be performed under desired conditions as long as the segregation state can be confirmed.
Furthermore, in the present invention, in a single measurement, it is sufficient that there is a portion having an acrylic resin content (relative value) of 80 or more even with respect to the surface region, preferably the acrylic resin content. It is preferable that the part whose amount (relative value) is 80 or more occupies more than half of the surface area.

<硬化剤>
エポキシ樹脂と反応する硬化剤としては、1分子中に2個以上のエポキシ基と反応する官能基を有する化合物(本発明では硬化剤と称する。)を用いる。このような硬化剤における官能基としては、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、チオール基などの官能基が挙げられる。
硬化剤の具体例としては、テレフタル酸などの多官能カルボン酸化合物、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、レゾルシノール誘導体、カテコール誘導体等の二官能フェノール化合物、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等のフェノール樹脂、アミノ樹脂、1,3,5―トリアミノトリアジン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホンなどの多官能アミノ化合物を挙げることができる。中でも、エポキシ基と反応する官能基として、水酸基及びアミノ基の少なくともいずれか一方を有する化合物を硬化剤として用いることが好ましい。
<Curing agent>
As the curing agent that reacts with the epoxy resin, a compound having a functional group that reacts with two or more epoxy groups in one molecule (referred to as a curing agent in the present invention) is used. Examples of the functional group in such a curing agent include a functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group.
Specific examples of curing agents include polyfunctional carboxylic acid compounds such as terephthalic acid, bifunctional phenol compounds such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, resorcinol derivatives, and catechol derivatives, phenol resins such as phenol novolac resins and cresol novolac resins. And polyfunctional amino compounds such as amino resin, 1,3,5-triaminotriazine, and 4,4′-diaminodiphenylsulfone. Among these, a compound having at least one of a hydroxyl group and an amino group as a functional group that reacts with an epoxy group is preferably used as a curing agent.

硬化剤の添加量としては、上記エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して、硬化剤の官能基の割合(硬化剤の固形分量(g)/硬化剤当量)÷(エポキシ樹脂の固形分量(g)/エポキシ当量)が0.1〜5.0であることが好ましく、0.3〜2.0であることがより好ましい。上記定義式において、当量とは、1分子あたりの官能基の数のことを示し、硬化剤としてはエポキシ基と反応する官能基の数、エポキシ樹脂としてはエポキシ基の数のことを示す。   As the addition amount of the curing agent, the ratio of the functional group of the curing agent to the epoxy group in the epoxy resin (solid content of the curing agent (g) / curing agent equivalent) / (solid content of the epoxy resin (g) / Epoxy equivalent) is preferably 0.1 to 5.0, more preferably 0.3 to 2.0. In the above definition formula, the equivalent means the number of functional groups per molecule, the number of functional groups that react with an epoxy group as a curing agent, and the number of epoxy groups as an epoxy resin.

<アクリル樹脂>
アクリル樹脂は、エポキシ樹脂成形体の表面に機能を付与して表面の物性をリフォームする(表面改質する)ために添加するものであり、アクリル樹脂に含まれる機能性基の機能がエポキシ樹脂成形体の表面特性に反映されることになる。アクリル樹脂に含まれる機能性基としては、親水性基、疎水性基、感光性基など種々の官能基を使用することができる。また、めっき触媒吸着性基を有するアクリル樹脂を用いることで、エポキシ樹脂成形体の表面にめっき形成を行って導電化することが可能となる。めっき触媒を吸着し得る官能基として、シアノ基、アミノ基、及び含窒素複素環基のうちの少なくともいずれか1つを有することが好ましい。
<Acrylic resin>
Acrylic resin is added to reform the surface properties by imparting a function to the surface of the epoxy resin molded body (surface modification), and the function of the functional group contained in the acrylic resin is epoxy resin molding. It will be reflected in the surface characteristics of the body. Various functional groups such as a hydrophilic group, a hydrophobic group, and a photosensitive group can be used as the functional group contained in the acrylic resin. In addition, by using an acrylic resin having a plating catalyst-adsorptive group, it is possible to conduct plating by forming a plating on the surface of the epoxy resin molded body. The functional group capable of adsorbing the plating catalyst preferably has at least one of a cyano group, an amino group, and a nitrogen-containing heterocyclic group.

アクリル樹脂に含まれる機能性基及び機能性基以外の官能基は、エポキシ樹脂と反応しない基であることが好ましい。アクリル樹脂がエポキシ樹脂と反応する官能基を有していると、加熱硬化時にエポキシ樹脂と反応を起こし、アクリル樹脂がエポキシ樹脂内に均一に近い分布で存在することとなり、表面改質が効率良く行われなくなるおそれがある。
アクリル樹脂中に含まれる機能性基以外の官能基としては、エポキシ樹脂と反応しない官能基であれば、有機溶剤への溶解性付与の点などから種々の官能基を選択することができる。なお、表面偏析後、エポキシ樹脂成形体の表面にアクリル樹脂を固定化するという点からアクリロイル基、メタクロイル基等の感光性基を含むことが好ましい。
The functional group and functional group other than the functional group contained in the acrylic resin are preferably groups that do not react with the epoxy resin. If the acrylic resin has a functional group that reacts with the epoxy resin, it will react with the epoxy resin during heat curing, and the acrylic resin will be present in the epoxy resin in a nearly uniform distribution, making surface modification efficient. There is a risk that it will not be performed.
As the functional group other than the functional group contained in the acrylic resin, various functional groups can be selected from the viewpoint of imparting solubility to an organic solvent as long as the functional group does not react with the epoxy resin. In addition, it is preferable that photosensitive groups, such as an acryloyl group and a methacryloyl group, are included from the point of fixing an acrylic resin on the surface of an epoxy resin molding after surface segregation.

また、アクリル樹脂の物性値として、SP(Solubility Parameter)値を制御することで表面偏析度をコントロールし易くなる。SP値は、凝集エネルギー密度、つまり、1分子の単位体積あたりの蒸発エネルギーの平方根で表される値である。本発明で用いるアクリル樹脂のSP値(沖津法)としては、20〜29が好ましく、23〜28が特に好ましい。なお、沖津法はSP値を算出する方法の一つであり、例えば、日本接着学会誌Vol.29、No.6(1993年)249〜259頁に詳述され、アクリル樹脂の場合は共重合成分のモル比により加重平均した値を採用した。   Moreover, it becomes easy to control the degree of surface segregation by controlling the SP (Solubility Parameter) value as a physical property value of the acrylic resin. The SP value is a value represented by the cohesive energy density, that is, the square root of the evaporation energy per unit volume of one molecule. As SP value (Okitsu method) of the acrylic resin used by this invention, 20-29 are preferable and 23-28 are especially preferable. The Okitsu method is one of the methods for calculating the SP value. 29, no. 6 (1993) pages 249 to 259. In the case of an acrylic resin, a weighted average value was adopted according to the molar ratio of copolymerization components.

また、アクリル樹脂の添加量は、そのSP値によっても異なるが、少量のアクリル樹脂で表面改質が可能であり、全固形分中の濃度としては、0.01〜30質量%が好ましく、1〜10質量%が特に好ましい。   Moreover, although the addition amount of an acrylic resin changes also with the SP value, surface modification | reformation is possible with a small amount of acrylic resin, As a density | concentration in a total solid, 0.01-30 mass% is preferable, and 1 10 mass% is especially preferable.

本発明で使用することができるアクリル樹脂としては、特願2006−53430号明細書段落番号[0095]〜[0097]、特願2006−287930号明細書等に記載の感光性基やめっき触媒吸着性基を含むアクリル樹脂を挙げることができる。具体的には、下記化合物を挙げることができる。   Examples of the acrylic resin that can be used in the present invention include adsorption of photosensitive groups and plating catalysts described in Japanese Patent Application No. 2006-53430, paragraph numbers [0095] to [0097], Japanese Patent Application No. 2006-287930, and the like. An acrylic resin containing a functional group can be given. Specifically, the following compounds can be mentioned.

本発明においては、アクリル樹脂は感光性基を有していても、有していなくても良いが、感光性基を有している場合、本発明において生成したエポキシ樹脂成形体の表面に、さらに重合反応によってポリマーなどを結合することができる。
感光性基やめっき触媒吸着性基を含むアクリル樹脂としては、例えば、以下一般式(1)及び一般式(2)で表される共重合ポリマーを挙げることができる。
In the present invention, the acrylic resin may or may not have a photosensitive group, but when it has a photosensitive group, on the surface of the epoxy resin molded body produced in the present invention, Furthermore, a polymer etc. can be couple | bonded by polymerization reaction.
Examples of the acrylic resin containing a photosensitive group and a plating catalyst adsorbing group include copolymer polymers represented by the following general formula (1) and general formula (2).

一般式(1),(2)中、R〜Rは、夫々独立して、水素原子又は置換若しくは無置換のアルキル基を表し、Yは、夫々独立して、単結合、又は置換若しく無置換の二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、L、Lは、夫々独立して、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。 In general formulas (1) and (2), R 1 to R 5 each independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and Y independently represents a single bond or a substituted In addition, it represents an unsubstituted divalent organic group, an ester group, an amide group, or an ether group, and L 1 and L 2 each independently represent a substituted or unsubstituted divalent organic group.

〜Rが、置換若しくは無置換のアルキル基である場合、無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられ、また、置換アルキル基としては、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素、臭素、フッ素等で置換された、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。
なお、Rとしては、水素原子、メチル基、水酸基、臭素で置換されたメチル基が好ましい。
としては、水素原子、メチル基、水酸基、臭素で置換されたメチル基が好ましい。
としては水素原子が好ましい。
としては、水素原子が好ましい。
としては、水素原子、メチル基が好ましい。
When R 1 to R 5 are substituted or unsubstituted alkyl groups, examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and examples of the substituted alkyl group include methoxy And a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group substituted with a group, a hydroxy group, chlorine, bromine, fluorine and the like.
R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxyl group, or a methyl group substituted with bromine.
R 2 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxyl group, or a methyl group substituted with bromine.
R 3 is preferably a hydrogen atom.
R 4 is preferably a hydrogen atom.
R 5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

Yが置換若しくは無置換の二価の有機基の場合、該二価の有機基の有機基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、又はこれらの基が、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素、臭素、フッ素等で置換されたものが好ましい。
芳香族炭化水素基としては、無置換のフェニル基、若しくは、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素、臭素、フッ素等で置換されたフェニル基が好ましい。
中でも、−(CH)n−(nは1〜3の整数)が好ましく、更に好ましくは、−CH−である。
When Y is a substituted or unsubstituted divalent organic group, examples of the organic group of the divalent organic group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group.
As the aliphatic hydrocarbon group, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or a group in which these groups are substituted with a methoxy group, a hydroxy group, chlorine, bromine, fluorine or the like is preferable.
As the aromatic hydrocarbon group, an unsubstituted phenyl group or a phenyl group substituted with a methoxy group, a hydroxy group, chlorine, bromine, fluorine or the like is preferable.
Among them, - (CH 2) n- ( n is an integer of 1 to 3) are preferred, more preferably, -CH 2 - is.

はウレタン結合又はウレア結合を有する二価の有機基が好ましく、中でも、総炭素数1〜9であるものが好ましい。なお、ここで、Lの総炭素数とは、Lに含まれる総炭素原子数を意味する。
の構造として、より具体的には、下記式(1−1)で表される構造であることが好ましい。
L 1 is preferably a divalent organic group having a urethane bond or a urea bond, and among them, those having a total carbon number of 1 to 9 are preferable. Incidentally, the total number of carbon atoms of L 1, means the total number of carbon atoms contained in L 1.
More specifically, the structure of L 1 is preferably a structure represented by the following formula (1-1).

上記一般式(1−1)中、R及びRは、夫々独立して、置換若しくは無置換の、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基を表す。 In the general formula (1-1), R a and R b each independently represent a substituted or unsubstituted methylene group, ethylene group, propylene group, or butylene group.

また、Lは、直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、芳香族基、またはこれらを単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基と組み合わせた基であることが好ましい。中でも、Lは総炭素数が1〜15であることが好ましい。なお、ここで、Lの総炭素数とは、Lに含まれる総炭素原子数を意味する。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、フェニレン基、及びこれらの基が、メトキシ基、ヒドロキシ基、塩素、臭素、フッ等で置換されたもの、更には、これらを組み合わせた基が挙げられる。
L 2 is preferably a linear, branched, or cyclic alkylene group, an aromatic group, or a group in which these are combined with a single bond, an ether group, an ester group, an amide group, a urethane group, or a urea group. . Among them, L 2 is preferably a total carbon number of 1 to 15. Incidentally, the total number of carbon atoms of L 2, means the total number of carbon atoms contained in L 2.
Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a phenylene group, or a group in which these groups are substituted with a methoxy group, a hydroxy group, chlorine, bromine, fluorine, or the like, or a combination thereof. Groups.

本発明のアクリル樹脂としては、前記式(1)で表されるユニットが、下記式(3)で表されるユニットであることが好ましい。   As the acrylic resin of the present invention, the unit represented by the formula (1) is preferably a unit represented by the following formula (3).

上記式(3)中、R及びRは、夫々独立して、水素原子、又は置換若しく無置換のアルキル基を表し、Zは、単結合、又は置換若しくは無置換の二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、Wは、窒素原子、又は酸素原子、Lは、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。 In the above formula (3), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and Z represents a single bond or a substituted or unsubstituted divalent organic group. Represents a group, an ester group, an amide group, or an ether group, W represents a nitrogen atom or an oxygen atom, and L 1 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group.

式(3)におけるR及びRは、前記式(1)におけるR及びRと同義であり、好ましい例も同様である。 R 1 and R 2 in Formula (3), the formula (1) has the same meaning as R 1 or R 2 in, are the preferable examples.

式(3)におけるZは、前記式(1)におけるZと同義であり、好ましい例も同様である。
また、式(3)におけるLも、前記式(1)におけるLと同義であり、好ましい例も同様である。
Z in formula (3) has the same meaning as Z in formula (1), and the preferred examples are also the same.
Further, L 1 in the formula (3) also has the same meaning as L 1 in Formula (1), and preferred examples are also the same.

本発明のアクリル樹脂としては、前記式(3)で表されるユニットが、下記式(4)で表されるユニットであることが好ましい。
As the acrylic resin of the present invention, the unit represented by the formula (3) is preferably a unit represented by the following formula (4).

式(4)中、R及びRは、夫々独立して、水素原子、又は置換若しく無置換のアルキル基を表し、V及びWは、夫々独立して、窒素原子又は酸素原子を表し、Lは、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。 In formula (4), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and V and W each independently represent a nitrogen atom or an oxygen atom. , L 1 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group.

式(4)におけるR及びRは、前記式(1)におけるR及びRと同義であり、好ましい例も同様である。 R 1 and R 2 in the formula (4), the formula (1) have the same meanings as R 1 and R 2 in, and so are the preferable examples.

式(4)におけるLは、前記式(1)におけるLと同義であり、好ましい例も同様である。 L 1 in Formula (4) has the same meaning as L 1 in Formula (1), and the preferred examples are also the same.

前記式(3)及び式(4)において、Wは、酸素原子であることが好ましい。
また、前記式(3)及び式(4)において、Lは、無置換アルキレンまたはウレタン結合又はウレア結合を有する二価の有機基が好ましく、中でも、総炭素数1〜9であるものが特に好ましい。
In the formulas (3) and (4), W is preferably an oxygen atom.
In the formulas (3) and (4), L 1 is preferably an unsubstituted alkylene, a divalent organic group having a urethane bond or a urea bond, and particularly one having a total carbon number of 1 to 9. preferable.

また、本発明のアクリル樹脂としては、前記式(2)で表されるユニットが、下記式(5)で表されるユニットであることが好ましい。   Moreover, as an acrylic resin of this invention, it is preferable that the unit represented by the said Formula (2) is a unit represented by following formula (5).

上記式(5)中、Rは、水素原子、又は置換若しく無置換のアルキル基を表し、Uは、窒素原子又は酸素原子を表し、Lは、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。 In the above formula (5), R 2 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, U represents a nitrogen atom or an oxygen atom, and L 2 represents a substituted or unsubstituted divalent organic group. Represents a group.

式(5)におけるRは、前記式(1)におけるR及びRと同義であり、水素原子であることが好ましい。 R 2 in Formula (5) has the same meaning as R 1 and R 2 in Formula (1), and is preferably a hydrogen atom.

また、式(5)におけるLは、前記式(1)におけるLと同義であり、直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、芳香族基、又はこれらを単結合、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基と組み合わせた基であることが好ましい。
特に、式(5)においては、Lが、ニトリル基との連結部位に、直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基を有する二価の有機基であることが好ましく、中でも、この二価の有機基が総炭素数1〜10であることが好ましい。
また、別の好ましい態様としては、式(5)におけるLが、ニトリル基との連結部位に、芳香族基を有する二価の有機基であることが好ましく、中でも、該二価の有機基が、総炭素数6〜15であることが好ましい。
L 2 in Formula (5) has the same meaning as L 2 in Formula (1), and is a linear, branched, or cyclic alkylene group, aromatic group, or a single bond, ether group, ester group thereof. , An amide group, a urethane group, and a urea group are preferable.
In particular, in formula (5), L 2 is preferably a divalent organic group having a linear, branched, or cyclic alkylene group at the site of connection with the nitrile group. The organic group preferably has 1 to 10 carbon atoms.
As another preferred embodiment, L 2 in formula (5) is preferably a divalent organic group having an aromatic group at the site of connection with the nitrile group, and among these, the divalent organic group However, it is preferable that it is C6-C15.

本発明のアクリル樹脂は、前記式(1)〜式(5)で表されるユニットを含んで構成されるものであり、感光性基とニトリル基とを側鎖に有するポリマーである。
このアクリル樹脂は、例えば、以下のように合成することができる。
The acrylic resin of the present invention comprises a unit represented by the above formulas (1) to (5), and is a polymer having a photosensitive group and a nitrile group in the side chain.
This acrylic resin can be synthesized, for example, as follows.

合成方法としては、i)ニトリル基を有するモノマーと感光性基を有するモノマーとを共重合する方法、ii)ニトリル基を有するモノマーと二重結合前駆体を有するモノマーとを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、iii)ニトリル基を有するポリマーと感光性基を有するモノマーとを反応させ、二重結合を導入(感光性基を導入する)方法が挙げられる。好ましいのは、合成適性の観点から、ii)ニトリル基を有するモノマーと二重結合前駆体を有するモノマーとを共重合させ、次に塩基などの処理により二重結合を導入する方法、iii)ニトリル基を有するポリマーと感光性基を有するモノマーとを反応させ、感光性基を導入する方法である。   As synthesis methods, i) a method in which a monomer having a nitrile group and a monomer having a photosensitive group are copolymerized, ii) a monomer having a nitrile group and a monomer having a double bond precursor are copolymerized, Examples thereof include a method of introducing a double bond by treatment with a base or the like, and iii) a method of introducing a double bond (introducing a photosensitive group) by reacting a polymer having a nitrile group with a monomer having a photosensitive group. From the viewpoint of synthesis suitability, ii) a method in which a monomer having a nitrile group and a monomer having a double bond precursor are copolymerized and then a double bond is introduced by treatment with a base or the like, iii) nitrile In this method, a polymer having a group and a monomer having a photosensitive group are reacted to introduce a photosensitive group.

前記i)の合成方法で用いられる感光性基を有するモノマーとしては、アリル(メタ)アクリレートや以下の化合物などが挙げられる。   Examples of the monomer having a photosensitive group used in the synthesis method i) include allyl (meth) acrylate and the following compounds.

前記ii)の合成方法で用いられる二重結合前駆体を有するモノマーとしては、下記式(a)で表される化合物などが挙げられる。   Examples of the monomer having a double bond precursor used in the synthesis method ii) include compounds represented by the following formula (a).

上記式(a)中、Aは感光性基を有する有機団、R〜Rは、夫々独立して、水素原子又は1価の有機基、B及びCは脱離反応により除去される脱離基であり、ここでいう脱離反応とは、塩基の作用によりCが引き抜かれ、Bが脱離するものである。Bはアニオンとして、Cはカチオンとして脱離するものが好ましい。
式(a)で表される化合物としては、具体的には以下の化合物を挙げることができる。
In the above formula (a), A is an organic group having a photosensitive group, R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, and B and C are removed by elimination reaction. This is a leaving group, and the elimination reaction referred to here is one in which C is extracted by the action of a base and B is eliminated. B is preferably eliminated as an anion and C as a cation.
Specific examples of the compound represented by the formula (a) include the following compounds.

また、前記ii)の合成方法において、二重結合前駆体を二重結合に変換するには、下記に示すように、B、Cで表される脱離基を脱離反応により除去する方法、つまり、塩基の作用によりCを引き抜き、Bが脱離する反応を使用する。   Further, in the synthesis method of ii), in order to convert the double bond precursor into a double bond, as shown below, a method for removing the leaving groups represented by B and C by elimination reaction, That is, a reaction in which C is extracted by the action of a base and B is eliminated is used.

上記の脱離反応において用いられる塩基としては、アルカリ金属類の水素化物、水酸化物又は炭酸塩、有機アミ化合物、金属アルコキシド化合物が好ましい例として挙げられる。アルカリ金属類の水素化物、水酸化物、又は炭酸塩の好ましい例としては、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。有機アミン化合物の好ましい例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N−ジエチルシクロヘキシルアミン、N−メチルジシクロヘキシルアミン、N−エチルジシクロヘキシルアミン、ピロリジン、1−メチルピロリジン、2,5−ジメチルピロリジン、ピペリジン、1−メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ピペラジン、1,4−ジメチルピペラジン、キヌクリジン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]−オクタン、ヘキサメチレンテトラミン、モルホリン、4−メチルモルホリン、ピリジン、ピコリン、4−ジメチルアミノピリジン、ルチジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−7−ウンデセン(DBU)、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、ジイソプロピルエチルアミン、Schiff塩基などが挙げられる。金属アルコキシド化合物の好ましい例としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシドなどが挙げられる。これらの塩基は、1種或いは2種以上の混合であってもよい。   Preferred examples of the base used in the elimination reaction include alkali metal hydrides, hydroxides or carbonates, organic amino compounds, and metal alkoxide compounds. Preferred examples of alkali metal hydrides, hydroxides or carbonates include sodium hydride, calcium hydride, potassium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, Examples include potassium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate. Preferable examples of the organic amine compound include trimethylamine, triethylamine, diethylmethylamine, tributylamine, triisobutylamine, trihexylamine, trioctylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, N, N-diethylcyclohexylamine, N- Methyldicyclohexylamine, N-ethyldicyclohexylamine, pyrrolidine, 1-methylpyrrolidine, 2,5-dimethylpyrrolidine, piperidine, 1-methylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, piperazine, 1,4-dimethyl Piperazine, quinuclidine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] -octane, hexamethylenetetramine, morpholine, 4-methylmorpholine, pyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, Cytidine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (DBU), N, N'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), diisopropylethylamine, Schiff base, and the like. Preferable examples of the metal alkoxide compound include sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide and the like. These bases may be used alone or in combination of two or more.

また、前記脱離反応において、塩基を付与(添加)する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、水などが挙げられる。これらの溶媒は単独或いは2種以上混合してもよい。   Examples of the solvent used for adding (adding) the base in the elimination reaction include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono Ethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate , Ethyl lactate, water and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

使用される塩基の量は、化合物中の特定官能基(B、Cで表される脱離基)の量に対して、当量以下であってもよく、また、当量以上であってもよい。また、過剰の塩基を使用した場合、脱離反応後、余剰の塩基を除去する目的で酸などを添加することも好ましい形態である。   The amount of the base used may be equal to or less than the equivalent to the amount of the specific functional group (the leaving group represented by B or C) in the compound, or may be equal to or more than the equivalent. Moreover, when an excess base is used, it is also a preferred form to add an acid or the like for the purpose of removing the excess base after the elimination reaction.

前記iii)の合成方法において、ニトリル基を有するポリマーと反応させる感光性基を有するモノマーとしては、ニトリル基を有するポリマー中の反応性基の種類によって異なるが、以下の組合せの官能基を有するモノマーを使用することができる。
即ち、(ポリマーの反応性基、反応性化合物の官能基)=(カルボキシル基、カルボキシル基)、(カルボキシル基、エポキシ基)、(カルボキシル基、イソシアネート基)、(カルボキシル基、ハロゲン化ベンジル)、(水酸基、カルボキシル基)、(水酸基、エポキシ基)、(水酸基、イソシアネート基)、(水酸基、ハロゲン化ベンジル)(イソシアネート基、水酸基)、(イソシアネート基、カルキシル基)等を挙げることができる。
具体的には以下のモノマーを使用することができる。
In the synthesis method of iii), the monomer having a photosensitive group to be reacted with the polymer having a nitrile group varies depending on the kind of the reactive group in the polymer having a nitrile group, but the monomer having the following combination of functional groups: Can be used.
That is, (reactive group of polymer, functional group of reactive compound) = (carboxyl group, carboxyl group), (carboxyl group, epoxy group), (carboxyl group, isocyanate group), (carboxyl group, benzyl halide), (Hydroxyl group, carboxyl group), (hydroxyl group, epoxy group), (hydroxyl group, isocyanate group), (hydroxyl group, halogenated benzyl) (isocyanate group, hydroxyl group), (isocyanate group, carboxyl group) and the like.
Specifically, the following monomers can be used.

以上のようにして合成された本発明のアクリル樹脂は、共重合成分全体に対し、感光性基含有ユニット、ニトリル基含有ユニットの割合が以下の範囲であることが好ましい。
即ち、感光性基含有ユニットが、共重合成分全体に対し5〜50mol%で含まれることが好ましく、更に好ましくは5〜40mol%である。5mol%以下では反応性(硬化性、重合性)が落ち、50mol%以上では合成の際にゲル化しやすく合成しにくい。
また、シアノ基含有ユニットは、共重合成分全体に対し1〜95mol%で含まれることが好ましく、更に好ましくは10〜95mol%である。
As for the acrylic resin of this invention synthesize | combined as mentioned above, it is preferable that the ratio of a photosensitive group containing unit and a nitrile group containing unit is the following ranges with respect to the whole copolymerization component.
That is, the photosensitive group-containing unit is preferably contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, based on the entire copolymer component. If it is 5 mol% or less, the reactivity (curability and polymerizability) is lowered, and if it is 50 mol% or more, it is easily gelled during synthesis and is difficult to synthesize.
Moreover, it is preferable that a cyano group containing unit is contained by 1-95 mol% with respect to the whole copolymerization component, More preferably, it is 10-95 mol%.

なお、本発明のアクリル樹脂は、シアノ基含有ユニット、感光性基含有ユニット以外に、他のユニットを含んでいてもよい。この他のユニットを形成するために用いられるモノマーとしては、本発明の効果を損なわないものであれば、いかなるモノマーも使用することができる。
ただし、前述のように感光性基をポリマーに反応させて導入する場合は、100%導入することが困難な場合で、少量の反応性部分が残ってしまい、これが第3のユニットとなる可能性もある。
具体的には、ラジカル重合でポリマー主鎖を形成する場合は、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどの無置換(メタ)アクリル酸エステル類、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、3,3,3−トリフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)アクリレートなどのハロゲン置換(メタ)アクリル酸エステル類、2−(メタ)アクリルロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアンモニウム基置換(メタ)アクリル酸エステル類、ブチル(メタ)アクリルアミド、イソプロピル(メタ)アクリルアミド、オクチル(メタ)アクリルアミド、ジメチル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類、スチレン、ビニル安息香酸、p−ビニルベンジルアンモニウムクロライドなどのスチレン類、N−ビニルカルバゾール、酢酸ビニル、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルカプロラクタムなどのビニル化合物類や、その他にジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−エチルチオ−エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどが使用できる。
また、上記記載のモノマーを用いて得られたマクロモノマーも使用できる。
In addition, the acrylic resin of this invention may contain other units other than a cyano group containing unit and a photosensitive group containing unit. As the monomer used for forming the other unit, any monomer can be used as long as it does not impair the effects of the present invention.
However, when the photosensitive group is introduced after reacting with the polymer as described above, it is difficult to introduce 100%, and a small amount of reactive portion remains, which may be the third unit. There is also.
Specifically, when the polymer main chain is formed by radical polymerization, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl Unsubstituted (meth) acrylates such as (meth) acrylate and stearyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 3,3,3-trifluoropropyl (meth) acrylate, Halogen-substituted (meth) acrylic esters such as 2-chloroethyl (meth) acrylate, ammonium group-substituted (meth) acrylic esters such as 2- (meth) acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, butyl (meth) acrylamide, Iso (Meth) acrylamides such as propyl (meth) acrylamide, octyl (meth) acrylamide, dimethyl (meth) acrylamide, styrenes such as styrene, vinylbenzoic acid, p-vinylbenzylammonium chloride, N-vinylcarbazole, vinyl acetate, Vinyl compounds such as N-vinylacetamide and N-vinylcaprolactam, and dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-ethylthio-ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2 -Hydroxyethyl (meth) acrylate etc. can be used.
Moreover, the macromonomer obtained using the monomer of the said description can also be used.

カチオン重合でポリマー主鎖を形成する場合は、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチレングリコールビニルエーテル、ジ(エチレングリコール)ビニルエーテル、1,4−ブタンジオールビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、酢酸ビニル、2−ビニルオキシテトラヒドロピラン、ビニルベンゾエート、ビニルブチレートなどのビニルエーテル類、スチレン、p−クロロスチレン、p−メトキシスチレンなどのスチレン類、アリルアルコール、4−ヒドロキシ−1−ブテンなどの末端エチレン類を使用することができる。   When the polymer main chain is formed by cationic polymerization, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ethylene glycol vinyl ether, di (ethylene glycol) vinyl ether, 1,4-butanediol vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, 2 -Vinyl ethers such as ethylhexyl vinyl ether, vinyl acetate, 2-vinyloxytetrahydropyran, vinyl benzoate, vinyl butyrate, styrenes such as styrene, p-chlorostyrene, p-methoxystyrene, allyl alcohol, 4-hydroxy-1- Terminal ethylenes such as butene can be used.

本発明のアクリル樹脂の分子量(Mw)は、3000〜20万が好ましく、更に好ましくは4000〜10万である。   The molecular weight (Mw) of the acrylic resin of the present invention is preferably 3000 to 200,000, more preferably 4000 to 100,000.

本発明に用いられるアクリル樹脂の具体例を以下に示す。但し、本願発明で用いることができる共重合ポリマーは、これらに限定されるものではない。
なお、これらの具体例の重量平均分子量は、いずれも、3000〜100000の範囲である。
Specific examples of the acrylic resin used in the present invention are shown below. However, the copolymer which can be used in the present invention is not limited to these.
In addition, as for the weight average molecular weight of these specific examples, all are the range of 3000-100000.

例えば、化合物2−2−11を作る場合は、アクリル酸と2−シアノエチルアクリレートを例えばN−メチルピロリドンに溶解させ、重合開始剤として例えばアゾイソブチロニトリル(AIBN)を用いてラジカル重合を行い、その後、グリシジルメタクリレートをベンジルトリエチルアンモニウムクロライドのような触媒を用い、ターシャリーブチルハイドロキノンのような重合禁止剤を添加した状態で付加反応する事で合成することができる。また、例えば、例えば、化合物2−2−19を作る場合は、以下のモノマーとp-シアノベンジルアクリレートをN、N−ジメチルアクリルアミドのような溶媒に溶解させ、重合開始剤としてアゾイソ酪酸ジメチルのような重合開始剤を用いてラジカル重合を行い、その後、トリエチルアミンのような塩基を用いて脱塩酸を行う事で合成することができる。   For example, when preparing compound 2-2-11, acrylic acid and 2-cyanoethyl acrylate are dissolved in N-methylpyrrolidone, for example, and radical polymerization is performed using, for example, azoisobutyronitrile (AIBN) as a polymerization initiator. Thereafter, glycidyl methacrylate can be synthesized by addition reaction using a catalyst such as benzyltriethylammonium chloride and a polymerization inhibitor such as tertiary butylhydroquinone. For example, when compound 2-2-19 is prepared, the following monomers and p-cyanobenzyl acrylate are dissolved in a solvent such as N, N-dimethylacrylamide, and dimethyl azoisobutyrate is used as a polymerization initiator. It can be synthesized by performing radical polymerization using a suitable polymerization initiator and then dehydrochlorinating using a base such as triethylamine.



本発明で使用するエポキシ樹脂混合物(ポリマーアロイ)は、樹脂成分として上記のようなエポキシ樹脂、硬化剤、及びアクリル樹脂が含まれていることを必須とするが、目的等に応じて他の成分を添加することもできる。   The epoxy resin mixture (polymer alloy) used in the present invention is required to contain the above epoxy resin, curing agent, and acrylic resin as the resin component, but other components depending on the purpose and the like. Can also be added.

<硬化促進剤>
例えば、熱硬化をさらに促進するための硬化促進剤を添加しても良い。硬化促進剤としては、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール系化合物、4−ジメチルアミノピリジンなどのピリジン系化合物、トリフェニルホスフィンなどの有機ホスフィン系化合物などを使用することができる。このような硬化促進剤を配合する場合、その配合量は、例えば前記したフェノール系硬化剤等の硬化剤の配合量を100質量%とした場合に0.5〜2質量%の範囲内とすることが好ましい。
<Curing accelerator>
For example, a curing accelerator for further promoting thermal curing may be added. As the curing accelerator, imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole, pyridine compounds such as 4-dimethylaminopyridine, organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, and the like can be used. When blending such a curing accelerator, the blending amount is within the range of 0.5 to 2% by weight, for example, when the blending amount of the curing agent such as the phenol-based curing agent is 100% by weight. It is preferable.

<熱可塑性樹脂>
さらに、熱可塑性樹脂を配合することもできる。
近年、半導体封止材料やプリント配線基板の分野で使用するはんだは、環境問題による法規制により鉛を使用しない高融点はんだが主流となりつつある。そのため、例えば半導体チップの実装時のリフロー温度が従来温度より上昇し、このリフロー時の高温化によって絶縁層内部にクラックが発生しやすくなる。このためプリント配線基板を構成するエポキシ樹脂成形体には、高耐熱性化や応力発生の低減が望まれている。
<Thermoplastic resin>
Furthermore, a thermoplastic resin can be blended.
In recent years, high melting point solder that does not use lead is becoming mainstream as a solder used in the field of semiconductor encapsulating materials and printed wiring boards due to environmental regulations. For this reason, for example, the reflow temperature at the time of mounting the semiconductor chip rises from the conventional temperature, and cracks tend to occur inside the insulating layer due to the high temperature at the time of reflow. For this reason, high heat resistance and reduction of stress generation are desired for the epoxy resin molded body constituting the printed wiring board.

そこで、耐クラック性付与の方法として、発生した応力を緩和させるため、熱可塑性樹脂を混合することができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。そのほかの熱可塑性樹脂としては、以下の(1)〜(3)の熱可塑性樹脂が挙げられる。
(1)1,2−ビス(ビニルフェニル)エタン樹脂(1,2−Bis(vinylphenyl)ethane resin)、もしくはこれとポリフェニレンエーテル樹脂との変性樹脂(天羽悟ら、Journal of Applied Polymer Science Vol.92,1252−1258(2004)に記載)
(2)液晶性ポリマー(クラレ製「ベクスター」等)
(3)フッ素樹脂(PTFE等)
なお、本発明で使用する熱硬化性樹脂としては、上記の中でも応力緩和の程度からフェノキシ樹脂が好ましい。
Therefore, as a method for imparting crack resistance, a thermoplastic resin can be mixed in order to relieve the generated stress. Examples of the thermoplastic resin include phenoxy resin, polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyether imide, and the like. Examples of other thermoplastic resins include the following thermoplastic resins (1) to (3).
(1) 1,2-bis (vinylphenyl) ethane resin (1,2-Bis (vinylphenyl) ethane resin) or a modified resin of this and a polyphenylene ether resin (Satoru Ama et al., Journal of Applied Polymer Science Vol. 92, 1252-1258 (2004))
(2) Liquid crystalline polymers (Kuraray "Bexstar" etc.)
(3) Fluororesin (PTFE etc.)
In addition, as a thermosetting resin used by this invention, a phenoxy resin is preferable from the grade of stress relaxation among the above.

熱可塑性樹脂は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。熱可塑性樹脂の含有量としては、応力緩和効果を十分発揮させるために全固形分中の10質量%〜80質量%が好ましく、30質量%〜60質量%がより好ましい。   The thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more. As content of a thermoplastic resin, in order to fully exhibit the stress relaxation effect, 10 mass%-80 mass% in total solid content are preferable, and 30 mass%-60 mass% are more preferable.

なお、上記のようなエポキシ樹脂以外の他の成分の添加量は、エポキシ樹脂に対して好ましくは30〜300質量%の範囲、より好ましくは50〜200質量%の範囲で添加する。上記他の添加成分の配合量がエポキシ樹脂に対して30質量%以上であれば、その添加成分の効果を十分に得ることができ、一方、300質量%以下であれば、エポキシ樹脂成形体の強度などの特性が低下することを効果的に防ぐことができる。   In addition, the addition amount of components other than the epoxy resin as described above is preferably in the range of 30 to 300% by mass, more preferably in the range of 50 to 200% by mass with respect to the epoxy resin. If the blending amount of the other additive component is 30% by mass or more with respect to the epoxy resin, the effect of the additive component can be sufficiently obtained. It can prevent effectively that characteristics, such as intensity, fall.

<溶剤>
溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メトキシプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等を挙げることができる。中でもケトン系溶剤が好ましく、特にメチルエチルケトン、及びシクロヘキサノンが好ましい。溶剤は、いずれかの種類を単独で使用しても良いし、2種以上の混合溶剤として使用しても良い。
溶剤の含有量としては、樹脂混合物の塗布容易性等の点から、全混合物中の20質量%〜90質量%が好ましく、30質量%〜60質量%がより好ましい。
<Solvent>
Examples of the solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, methoxypropanol, dimethylformamide, Examples thereof include dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. Of these, ketone solvents are preferable, and methyl ethyl ketone and cyclohexanone are particularly preferable. Any kind of solvent may be used alone, or two or more kinds of mixed solvents may be used.
The content of the solvent is preferably 20% by mass to 90% by mass and more preferably 30% by mass to 60% by mass in the total mixture from the viewpoint of easy application of the resin mixture.

−成形(加熱硬化)工程−
上記のようなエポキシ樹脂、該エポキシ樹脂と反応する硬化剤、アクリル樹脂、及び溶剤を含み、さらに必要に応じて硬化促進剤、熱可塑性樹脂等を含むエポキシ樹脂混合物を調製した後、このエポキシ樹脂混合物を成形し、加熱硬化して、アクリル樹脂が表面に偏析したエポキシ樹脂成形体を形成する。なお、本発明でいうエポキシ樹脂成形体とは、形状、厚さ等は特に限定されず、例えばμmオーダーの厚さの層状としてもよいし、mmオーダーの基板状とすることもできる。また、成形体は平板状に限らず、例えば曲がった形状や凹凸を有する形状としてもよいし、さらに、厚みは必ずしも均一である必要はない。
-Molding (heat curing) process-
After preparing an epoxy resin mixture containing the epoxy resin as described above, a curing agent that reacts with the epoxy resin, an acrylic resin, and a solvent, and further containing a curing accelerator, a thermoplastic resin, etc., if necessary, this epoxy resin The mixture is molded and heat-cured to form an epoxy resin molded body in which the acrylic resin is segregated on the surface. In addition, the shape, thickness, etc. are not specifically limited with the epoxy resin molding as used in the field of this invention, For example, it is good also as a layer form of thickness of micrometer order, and can also be set as the board | substrate form of mm order. Moreover, a molded object is not restricted to flat form, For example, it is good also as a shape which has a curved shape and an unevenness | corrugation, and thickness does not necessarily need to be uniform.

エポキシ樹脂成形体を形成する方法は、上記エポキシ樹脂混合物を成形して加熱硬化した後、アクリル樹脂が表層に偏析すれば特に限定されない。通常は、液状の上記エポキシ樹脂混合物(ワニス)を支持体上に付与し、所定の形状及び厚みに成形した状態で加熱硬化させる。エポキシ樹脂混合物を支持体上に付与する方法は特に限定されず、目的等に応じて選択すれば良い。例えば ナイフコーティング、ロールコーティング、カーテンコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、バーコーティング等を採用することができる。支持体上に付与するエポキシ樹脂混合物の厚さは特に限定されず、溶剤の比率や加熱硬化後に得られるエポキシ樹脂成形体の目的等に応じて決めればよいが、0.5μm以上が好ましく、3μm以上にすることで、本願発明の効果をより高く得ることができる。
なお、支持体の材質は目的等に応じて選択すればよく、ポリイミド等のプラスチック材料でもよいし、金属、紙等の非プラスチック材料でもよい。また、支持体の形状も特に限定されず、板状のほか所望の形状を採用することができる。また、支持体は、加熱硬化されたエポキシ樹脂成形体と一体化するものでもよいし、加熱硬化後、支持体から分離できるようにしてもよい。この場合、例えば支持体に予め離型剤を設けておけばよい。
The method for forming the epoxy resin molded body is not particularly limited as long as the acrylic resin segregates on the surface layer after the epoxy resin mixture is molded and heat-cured. Usually, the liquid epoxy resin mixture (varnish) is applied onto a support, and is cured by heating in a state of being formed into a predetermined shape and thickness. The method for applying the epoxy resin mixture onto the support is not particularly limited, and may be selected according to the purpose or the like. For example, knife coating, roll coating, curtain coating, spin coating, dip coating, bar coating, etc. can be employed. The thickness of the epoxy resin mixture applied on the support is not particularly limited, and may be determined according to the ratio of the solvent and the purpose of the epoxy resin molded body obtained after heat curing, but is preferably 0.5 μm or more, and 3 μm. By setting it as the above, the effect of this invention can be acquired more highly.
The material of the support may be selected according to the purpose and the like, and may be a plastic material such as polyimide, or a non-plastic material such as metal or paper. Further, the shape of the support is not particularly limited, and a desired shape can be adopted in addition to the plate shape. The support may be integrated with the heat-cured epoxy resin molding, or may be separated from the support after the heat-curing. In this case, for example, a release agent may be provided on the support in advance.

エポキシ樹脂混合物を支持体上に付与して成形した後、加熱硬化を行う。なお、エポキシ樹脂混合物を支持体上に付与した後、すぐに加熱硬化を行うと、アクリル樹脂が十分表面偏析せずに硬化してしまうおそれがある。各樹脂成分や溶剤の成分比、膜厚等にもよるが、通常は、液状のエポキシ樹脂混合物(ワニス)を支持体上に付与した後、5分以上、好ましくは10分〜30分間常温で放置する。   After the epoxy resin mixture is applied on the support and molded, heat curing is performed. In addition, when an epoxy resin mixture is provided on a support and then heat-cured immediately, the acrylic resin may be cured without being sufficiently segregated on the surface. Although it depends on the component ratio of each resin component and solvent, the film thickness, etc., usually, after applying a liquid epoxy resin mixture (varnish) on the support, it is at least 5 minutes, preferably 10 minutes to 30 minutes at room temperature. put.

加熱硬化の条件は、樹脂混合物の成分比、膜厚などにもよるが、一般的に、加熱温度は20〜200℃が好ましく、より好ましくは80〜180℃である。また、加熱時間は、1秒〜50時間が好ましく、より好ましくは10秒〜10時間である。このような加熱条件を採用することで、アクリル樹脂をより確実に表面析出させることができる。
このように本発明に係るエポキシ樹脂混合物を支持体上に付与して成形し、さらに加熱硬化を行うことで、加熱硬化する過程でアクリル樹脂が表面に偏析する。これにより、アクリル樹脂が表面偏析したエポキシ樹脂成形体を形成することができる。
The heat curing conditions depend on the component ratio of the resin mixture, the film thickness, and the like, but generally the heating temperature is preferably 20 to 200 ° C, more preferably 80 to 180 ° C. The heating time is preferably 1 second to 50 hours, more preferably 10 seconds to 10 hours. By adopting such heating conditions, the acrylic resin can be more reliably deposited on the surface.
As described above, the epoxy resin mixture according to the present invention is applied and molded on the support, and further heat-cured, whereby the acrylic resin is segregated on the surface in the process of heat-curing. Thereby, the epoxy resin molded object in which the acrylic resin surface-segregated can be formed.

上記のような方法によれば、エポキシ樹脂に少量のアクリル樹脂を添加することでエポキシ樹脂本来の物性をほとんど損なうことなく、効率的にエポキシ樹脂表面を改質することが可能である。また、加熱硬化と同時に表面改質を行う、いわばワンステップの方法であるため、例えばエポキシ樹脂基板を成形した後、その表面にアクリル樹脂を塗布する方法に比べて簡便でありコストも低く抑えることができ、極めて実用的である。また、アクリル樹脂を塗布する方法とは異なり、エポキシ樹脂と表面偏析したアクリル樹脂との間に明確な界面を持たないため、密着性の点でも優れている。更に、目的に応じて種々の種類の官能基を有するアクリル樹脂を選択することで、簡便な方法でエポキシ樹脂成形体の表面を所望の機能を有する表面に改質することができる。
なお、上記のようにして得られるエポキシ樹脂成形体の表面(表層)にアクリル樹脂が偏析していることを確認する方法は特に限定されるものではないが、例えば、成形体を斜めに切断し、切断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置、光学顕微鏡、電子顕微鏡等で分析して調べることができる。
According to the method as described above, the surface of the epoxy resin can be efficiently modified by adding a small amount of an acrylic resin to the epoxy resin without substantially impairing the original physical properties of the epoxy resin. In addition, since it is a one-step method that performs surface modification at the same time as heat curing, it is simpler and less expensive than, for example, a method of forming an epoxy resin substrate and then applying an acrylic resin to the surface. It is extremely practical. In addition, unlike the method of applying an acrylic resin, since there is no clear interface between the epoxy resin and the surface segregated acrylic resin, the adhesion is excellent. Furthermore, by selecting an acrylic resin having various types of functional groups according to the purpose, the surface of the epoxy resin molded body can be modified to a surface having a desired function by a simple method.
The method for confirming that the acrylic resin is segregated on the surface (surface layer) of the epoxy resin molded body obtained as described above is not particularly limited. For example, the molded body is cut obliquely. The cut surface can be analyzed and examined by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer, an optical microscope, an electron microscope, or the like.

上記のように表面改質されたエポキシ樹脂成形体の用途は特に限定されるものではないが、例えば、分子内にめっき触媒を吸着し得る官能基を有するアクリル樹脂を用いた場合には、そのアクリル樹脂の表面析出により表面改質されたエポキシ樹脂成形体の表面に導電性膜を容易に形成することができる。以下、このような導電性膜の形成方法について具体的に説明する。   The use of the epoxy resin molded body whose surface has been modified as described above is not particularly limited. For example, when an acrylic resin having a functional group capable of adsorbing a plating catalyst in the molecule is used, A conductive film can be easily formed on the surface of an epoxy resin molded body whose surface has been modified by surface precipitation of an acrylic resin. Hereinafter, a method for forming such a conductive film will be specifically described.

−めっき触媒付与工程−
本工程では、前記の表面改質されたエポキシ樹脂成形体の表面に、無電解めっき触媒又はその前駆体を付与する。
-Plating catalyst application process-
In this step, an electroless plating catalyst or a precursor thereof is applied to the surface of the surface-modified epoxy resin molded body.

<無電解めっき触媒>
本工程において用いることができる無電解めっき触媒は、主に0価金属であり、Pd、Ag、Cu、Ni、Al、Fe、Coなどが挙げられる。本発明においては、特に、Pd及びAgがその取り扱い性の良さ、触媒能の高さ等から好ましい。0価金属を前記エポキシ樹脂成形体の表面上に固定する手法としては、例えば、エポキシ樹脂成形体の表面に偏析したアクリル樹脂の官能基(めっき触媒を吸着し得る官能基)が、上記のような無電解めっき触媒又はその前駆体と相互作用するように荷電を調節した金属コロイドを適用する手法を用いることができる。
一般に、金属コロイドは、荷電を持った界面活性剤又は荷電を持った保護剤が存在する溶液中において、金属イオンを還元することにより作製することができる。金属コロイドの電荷は、ここで使用する界面活性剤又は保護剤により調節することができ、このように電荷を調節した金属コロイドを、エポキシ樹脂成形体の表面に偏析したアクリル樹脂が有するめっき触媒吸着性の官能基と相互作用させることで、エポキシ樹脂成形体の表面上に選択的に金属コロイド(無電解めっき触媒)を吸着させることができる。
<Electroless plating catalyst>
Electroless plating catalysts that can be used in this step are mainly zero-valent metals, and examples thereof include Pd, Ag, Cu, Ni, Al, Fe, and Co. In the present invention, Pd and Ag are particularly preferable from the viewpoint of good handleability and high catalytic ability. As a method for fixing the zero-valent metal on the surface of the epoxy resin molded body, for example, the functional group of the acrylic resin segregated on the surface of the epoxy resin molded body (functional group capable of adsorbing the plating catalyst) is as described above. A technique of applying a metal colloid whose charge is adjusted so as to interact with an electroless plating catalyst or a precursor thereof can be used.
In general, a metal colloid can be prepared by reducing metal ions in a solution containing a charged surfactant or a charged protective agent. The charge of the metal colloid can be controlled by the surfactant or the protective agent used here, and the plating catalyst adsorption of the acrylic resin segregated on the surface of the epoxy resin molded body with the charge-adjusted metal colloid. By interacting with the functional group, the metal colloid (electroless plating catalyst) can be selectively adsorbed on the surface of the epoxy resin molded body.

<無電解めっき触媒前駆体>
一方、無電解めっき触媒前駆体としては、化学反応により無電解めっき触媒となりうるものであれば、特に制限なく使用することができる。主に、上記無電解めっき触媒で用いた0価金属の金属イオンを用いることができる。無電解めっき触媒前駆体である金属イオンは、還元反応により無電解めっき触媒である0価金属になる。無電解めっき触媒である金属イオンは、表面改質されたエポキシ樹脂成形体の表面に付与した後、無電解めっき浴への浸漬前に、別途還元反応により0価金属に変化させて無電解めっき触媒としてもよいし、無電解めっき触媒前駆体のまま無電解めっき浴に浸漬し、無電解めっき浴中の還元剤により金属(無電解めっき触媒)に変化させてもよい。
<Electroless plating catalyst precursor>
On the other hand, any electroless plating catalyst precursor can be used without particular limitation as long as it can become an electroless plating catalyst by a chemical reaction. Mainly, metal ions of zero-valent metal used in the electroless plating catalyst can be used. The metal ion that is an electroless plating catalyst precursor becomes a zero-valent metal that is an electroless plating catalyst by a reduction reaction. The electroless plating catalyst metal ion is applied to the surface of the surface-modified epoxy resin molded body, and before immersion in the electroless plating bath, it is changed to a zero-valent metal by a separate reduction reaction. The catalyst may be used, or the electroless plating catalyst precursor may be immersed in an electroless plating bath and changed to a metal (electroless plating catalyst) by a reducing agent in the electroless plating bath.

例えば、上記のような無電解めっき前駆体である金属イオンを、金属塩の状態でエポキシ樹脂成形体の表面に付与し、表面析出されているアクリル樹脂の官能基と相互作用させる。このような金属塩としては、適切な溶媒に溶解して金属イオンと塩基(陰イオン)に解離されるものであれば特に制限はなく、M(NO、MCl、M2/n(SO)、M3/n(PO)(Mはn価の金属原子を表す。)などが挙げられる。金属イオンとしては、上記の金属塩が解離したものを好適に用いることができる。具体例としては、例えば、Agイオン、Cuイオン、Alイオン、Niイオン、Coイオン、Feイオン、Pdイオン等が挙げられ、Agイオン及びPdイオンが触媒能の点で好ましい。 For example, the metal ion which is the electroless plating precursor as described above is applied to the surface of the epoxy resin molded body in the form of a metal salt, and interacts with the functional group of the acrylic resin deposited on the surface. Such a metal salt is not particularly limited as long as it is dissolved in a suitable solvent and dissociated into a metal ion and a base (anion), and M (NO 3 ) n , MCl n , M 2 / n (SO 4 ), M 3 / n (PO 4 ) (M represents an n-valent metal atom), and the like. As a metal ion, the thing which said metal salt dissociated can be used suitably. Specific examples include, for example, Ag ions, Cu ions, Al ions, Ni ions, Co ions, Fe ions, Pd ions and the like, and Ag ions and Pd ions are preferable in terms of catalytic ability.

無電解めっき触媒である金属コロイド、或いは、無電解めっき前駆体である金属塩をエポキシ樹脂成形体の表面に付与する方法としては、例えば、金属コロイドを適当な分散媒に分散させ、或いは、金属塩を適切な溶媒で溶解し、解離した金属イオンを含む溶液を調製し、その溶液を、アクリル樹脂が偏析したエポキシ樹脂成形体の表面に塗布するか、或いは、その溶液中にエポキシ樹脂成形体を浸漬すればよい。このような方法により金属イオンを含む溶液をエポキシ樹脂成形体の表面に接触させることで、前記エポキシ樹脂成形体の表面に偏析したアクリル樹脂が有する相互作用性基(めっき触媒吸着性基)に、イオン−イオン相互作用、または、双極性−イオン相互作用を利用して金属イオンを吸着させるか、或いは金属イオンを含浸させることができる。このような金属イオンの吸着或いは含浸を十分に行うという観点から、エポキシ樹脂成形体と接触させる溶液の金属イオン濃度或いは金属塩濃度は1〜50質量%の範囲であることが好ましく、10〜30質量%の範囲であることが更に好ましい。また、接触時間としては、金属イオン濃度等にもよるが、生産性等の観点から、1分〜24時間程度であることが好ましく、5分〜1時間程度であることがより好ましい。   As a method for applying a metal colloid as an electroless plating catalyst or a metal salt as an electroless plating precursor to the surface of an epoxy resin molded body, for example, a metal colloid is dispersed in an appropriate dispersion medium, or a metal Prepare a solution containing the dissociated metal ions by dissolving the salt with an appropriate solvent, and apply the solution to the surface of the epoxy resin molded body segregated from the acrylic resin, or put the epoxy resin molded body in the solution. May be immersed. By bringing the solution containing metal ions into contact with the surface of the epoxy resin molded body by such a method, the interactive group (plating catalyst adsorbing group) possessed by the acrylic resin segregated on the surface of the epoxy resin molded body, Metal ions can be adsorbed or impregnated using ion-ion interactions or bipolar-ion interactions. From the viewpoint of sufficiently adsorbing or impregnating such metal ions, the metal ion concentration or metal salt concentration of the solution brought into contact with the epoxy resin molded body is preferably in the range of 1 to 50% by mass, and 10 to 30%. More preferably, it is in the range of mass%. Further, the contact time is preferably about 1 minute to 24 hours, more preferably about 5 minutes to 1 hour, from the viewpoint of productivity and the like, although it depends on the metal ion concentration and the like.

−無電解めっき工程−
次に、前記無電解めっき触媒又はその前駆体を付与したエポキシ樹脂組成形体に無電解めっきを行う。これにより、エポキシ樹脂成形体の表面に高密度の金属膜、すなわち、導電性膜が形成される。このように形成された導電性膜は、優れた導電性と密着性を有するものとなる。
-Electroless plating process-
Next, electroless plating is performed on the epoxy resin composition shaped body to which the electroless plating catalyst or its precursor is applied. Thereby, a high-density metal film, that is, a conductive film is formed on the surface of the epoxy resin molded body. The conductive film thus formed has excellent conductivity and adhesion.

無電解めっきとは、めっきとして析出させたい金属イオンを溶かした溶液を用いて、化学反応によって金属を析出させる操作のことをいう。
本工程における無電解めっきは、例えば、前記無電解めっき触媒が表面に付与されたエポキシ樹脂成形体を水洗して余分な無電解めっき触媒(Pd、Ag等の金属)を除去した後、無電解めっき浴に浸漬して行なう。無電解めっき浴としては公知の無電解めっき浴を使用することができる。
Electroless plating refers to an operation of depositing a metal by a chemical reaction using a solution in which metal ions to be deposited as a plating are dissolved.
In the electroless plating in this step, for example, the epoxy resin molded body having the electroless plating catalyst applied to the surface is washed with water to remove excess electroless plating catalyst (metal such as Pd, Ag), and then electroless. Immerse in a plating bath. As the electroless plating bath, a known electroless plating bath can be used.

また、無電解めっき触媒前駆体がエポキシ樹脂成形体に吸着又は含浸した状態で無電解めっき浴に浸漬する場合には、エポキシ樹脂成形体の表面を水洗して余分な無電解めっき触媒前駆体(金属塩など)を除去した後、無電解めっき浴に浸漬する。この場合、無電解めっき浴中において上記前駆体の還元と、それに引き続いて無電解めっきが行われる。この態様での無電解めっき浴も、公知の無電解めっき浴を使用することができる。   In addition, when the electroless plating catalyst precursor is immersed or impregnated in the epoxy resin molded body, the surface of the epoxy resin molded body is washed with water to remove excess electroless plating catalyst precursor ( After removing the metal salt, etc., it is immersed in an electroless plating bath. In this case, the reduction of the precursor and subsequent electroless plating are performed in an electroless plating bath. A known electroless plating bath can also be used as the electroless plating bath in this embodiment.

一般的な無電解めっき浴の組成としては、主に(1)めっき用の金属イオン、(2)還元剤、(3)金属イオンの安定性を向上させる添加剤(安定剤)を含むものを用いる。このめっき浴には、さらに、めっき浴の安定剤など公知の添加物が含まれていてもよい。
無電解めっき浴に用いられる金属の種類としては、銅、すず、鉛、ニッケル、金、パラジウム、ロジウムが知られており、中でも、導電性の観点からは、銅及び金が特に好ましい。
The composition of a general electroless plating bath mainly includes (1) metal ions for plating, (2) reducing agents, and (3) additives (stabilizers) that improve the stability of metal ions. Use. The plating bath may further contain a known additive such as a plating bath stabilizer.
Copper, tin, lead, nickel, gold, palladium, and rhodium are known as the types of metals used in the electroless plating bath, and copper and gold are particularly preferable from the viewpoint of conductivity.

なお、無電解めっきによりエポキシ樹脂成形体の表面に形成させる金属に合わせて、最適な還元剤及び添加物を選択することが好ましい。例えば、銅の無電解めっき浴は、銅塩としてCu(SO、還元剤としてHCOH、添加剤として銅イオンの安定剤であるEDTAやロッシェル塩などのキレート剤を含むことが好ましい。また、CoNiPの無電解めっきに使用するめっき浴には、その金属塩として硫酸コバルト及び硫酸ニッケル、還元剤として次亜リン酸ナトリウム、錯化剤としてマロン酸ナトリウム、りんご酸ナトリウム、こはく酸ナトリウム等が含まれていることが好ましい。また、パラジウムの無電解めっき浴は、金属イオンとして(Pd(NH)Cl、還元剤としてNH、HNNH等、安定化剤としてEDTAが含まれていることが好ましい。これらのめっき浴には、上記成分以外の成分が入っていてもよい。 In addition, it is preferable to select an optimal reducing agent and additive according to the metal formed on the surface of the epoxy resin molded body by electroless plating. For example, the electroless plating bath of copper preferably contains Cu (SO 4 ) 2 as a copper salt, HCOH as a reducing agent, and a chelating agent such as EDTA or Rochelle salt as a copper ion stabilizer as an additive. The plating bath used for electroless plating of CoNiP includes cobalt sulfate and nickel sulfate as metal salts, sodium hypophosphite as a reducing agent, sodium malonate, sodium malate, sodium succinate, etc. as a complexing agent. Is preferably included. Further, the electroless plating bath of palladium preferably contains (Pd (NH 3 ) 4 ) Cl 2 as metal ions, NH 3 or H 2 NNH 2 as a reducing agent, and EDTA as a stabilizer. These plating baths may contain components other than the above components.

上記のような無電解めっきによりエポキシ樹脂成形体の表面に形成させる金属膜の膜厚は、めっき浴中の金属塩の種類、金属イオン濃度、めっき浴への浸漬時間、めっき浴の温度などにより制御することができ、導電性の観点から0.1μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましい。なお、生産性等の観点から、めっき浴への浸漬時間としては、1分〜3時間程度であることが好ましく、1分〜1時間程度であることがより好ましい。   The film thickness of the metal film formed on the surface of the epoxy resin molded body by electroless plating as described above depends on the type of metal salt in the plating bath, metal ion concentration, immersion time in the plating bath, temperature of the plating bath, etc. From the viewpoint of conductivity, the thickness is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 1 μm or more. From the viewpoint of productivity and the like, the immersion time in the plating bath is preferably about 1 minute to 3 hours, and more preferably about 1 minute to 1 hour.

以上のように、アクリル樹脂の表面析出により表面改質されたエポキシ樹脂成形体の表面に、めっき触媒又はその前駆体を付与した後、無電解めっきを行うことで密着性の高い導電性膜を形成することができる。
なお、上記のような無電解めっきによりエポキシ樹脂成形体の表面に導電性膜を形成した後、さらに電解めっきを行うこともできる。
As described above, after applying a plating catalyst or its precursor to the surface of an epoxy resin molded body whose surface has been modified by surface precipitation of an acrylic resin, an electroless plating is performed to form a highly adhesive conductive film. Can be formed.
In addition, after forming a conductive film on the surface of the epoxy resin molded body by electroless plating as described above, electrolytic plating can be further performed.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to these.

<実施例1>
ポリイミドフィルム(東レ・デュポン(株)製、カプトン500H、厚さ128μm)上に、以下に示す、アクリル樹脂を含有した熱硬化性エポキシ樹脂混合物を、コーティングバーを用いて塗布した。その後、170℃の温度条件下において30分間加熱して硬化させることで、厚さが8μmのエポキシ樹脂層を形成した。
<Example 1>
The following thermosetting epoxy resin mixture containing an acrylic resin was applied on a polyimide film (Toray Dupont Co., Ltd., Kapton 500H, thickness 128 μm) using a coating bar. Then, the epoxy resin layer with a thickness of 8 μm was formed by heating and curing for 30 minutes under a temperature condition of 170 ° C.

−熱硬化性エポキシ樹脂混合物−
(A)エポキシ樹脂 16.7g
(ジャパンエポキシレジン製、エピコート806、エポキシ当量167)
(B)アミノトリアジンノボラック樹脂 6.6g
(大日本インキ化学工業(株)製、フェノライトLA7052、不揮発分62質量%、不揮発分のフェノール性水酸基当量120)
(C)フェノキシ樹脂 30.5g
(不揮発分35質量%、東都化成(株)、YP−50EK35)
(D)2−エチル−4−メチルイミダゾール(和光純薬工業社製) 0.18g
(E)メチルエチルケトン(和光純薬工業社製) 23g
(F)下記アクリル樹脂A(SP値:23.35、沖津法による) 3.5g
-Thermosetting epoxy resin mixture-
(A) Epoxy resin 16.7g
(Japan epoxy resin, Epicoat 806, Epoxy equivalent 167)
(B) Aminotriazine novolac resin 6.6 g
(Dainippon Ink & Chemicals, Phenolite LA7052, nonvolatile content 62% by mass, nonvolatile phenolic hydroxyl group equivalent 120)
(C) Phenoxy resin 30.5g
(Non-volatile content 35% by mass, Tohto Kasei Co., Ltd., YP-50EK35)
(D) 2-ethyl-4-methylimidazole (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.18 g
(E) Methyl ethyl ketone (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 23g
(F) Acrylic resin A (SP value: 23.35, according to the Okitsu method) 3.5 g

上記のようにして得た基板を斜め切断角度5°で斜め切断し(切断装置:ライカウルトラミクロトーム、ガラスナイフ)、その後、TOF−SIMS(PHI−TRIFTII)を用いて、以下の測定条件で、基板表面真上からアクリル樹脂Aの分布を測定した。
一次イオンAu+、加速電圧:22kV、一次イオン電流:2nA、中和銃on
スペクトル測定(positive/negative)、バンチングあり、測定面積:80μm□、測定時間3min
イメージング測定(positive/negative)、バンチングなし、測定面積:150、100μm□、測定時間10min、室温
The substrate obtained as described above is obliquely cut at an oblique cutting angle of 5 ° (cutting device: Leica ultramicrotome, glass knife), and then using TOF-SIMS (PHI-TRIFTII) under the following measurement conditions, The distribution of acrylic resin A was measured from directly above the substrate surface.
Primary ion Au +, acceleration voltage: 22 kV, primary ion current: 2 nA, neutralizing gun on
Spectrum measurement (positive / negative), with bunching, measurement area: 80μm □, measurement time 3min
Imaging measurement (positive / negative), no bunching, measurement area: 150, 100 μm □, measurement time 10 min, room temperature

図1は、上記のようにして測定した切断面のイメージを示しており、a−b線間がエポキシ樹脂成形体層を表し、a線より上(表面側)の部分の質量分析による強度を100とした場合、a−c線間がアクリル樹脂組成分の強度が80以上であり、偏析したアクリル樹脂成分を表している。この図より、アクリル樹脂Aはエポキシ樹脂層の表面付近に分布(偏析)していることがわかる。また、偏析したアクリル樹脂領域は、全体の厚さ8μmに対して、0.56μm(約7%)であった。   FIG. 1 shows an image of a cut surface measured as described above, the space between the ab lines represents the epoxy resin molded body layer, and the strength by mass spectrometry of the portion above the a line (surface side) is shown. When it is set to 100, the intensity | strength of an acrylic resin composition part between ac lines is 80 or more, and represents the segregated acrylic resin component. From this figure, it can be seen that the acrylic resin A is distributed (segregated) near the surface of the epoxy resin layer. Further, the segregated acrylic resin region was 0.56 μm (about 7%) with respect to the total thickness of 8 μm.

<実施例2>
実施例1で使用したアクリル樹脂Aの代わりに、下記アクリル樹脂B(SP値:24.56、沖津法による)を用いた以外は実施例1と同様に熱硬化性エポキシ樹脂層をポリイミドフィルム上に形成した。
<Example 2>
In place of the acrylic resin A used in Example 1, the following acrylic resin B (SP value: 24.56, according to the Okitsu method) was used, and the thermosetting epoxy resin layer was placed on the polyimide film in the same manner as in Example 1. Formed.

エポキシ樹脂層を形成した後、実施例1と同様の方法によりTOF−SIMSを用いてエポキシ樹脂中のアクリル樹脂の分布を測定した。図2は切断面のイメージを示しており、図1と同様、a−b線間がエポキシ樹脂成形体層を表し、a線より上(表面側)の部分の質量分析による強度を100とした場合、a−c線間がアクリル樹脂組成分の強度が80以上であり、偏析したアクリル樹脂成分を表している。これより、アクリル樹脂Bはエポキシ樹脂層の表面付近に分布(偏析)していることがわかる。また、偏析したアクリル樹脂領域は全体の厚さ8μmに対して1.44μm(約18%)であった。   After forming the epoxy resin layer, the distribution of the acrylic resin in the epoxy resin was measured using TOF-SIMS in the same manner as in Example 1. FIG. 2 shows an image of the cut surface. Like FIG. 1, the ab line represents the epoxy resin molded body layer, and the intensity by mass analysis of the part above the a line (surface side) is 100. In the case, the strength between the acrylic resin composition is 80 or more between the a-c lines, and represents the segregated acrylic resin component. From this, it can be seen that the acrylic resin B is distributed (segregated) near the surface of the epoxy resin layer. The segregated acrylic resin region was 1.44 μm (about 18%) with respect to the total thickness of 8 μm.

<実施例3>
実施例1で使用したアクリル樹脂の代わりに、下記アクリル樹脂Cを用いた以外は実施例1と同様に熱硬化性エポキシ樹脂層をポリイミドフィルム上に形成した。
<Example 3>
A thermosetting epoxy resin layer was formed on the polyimide film in the same manner as in Example 1 except that the following acrylic resin C was used instead of the acrylic resin used in Example 1.

次いで、上記のようにしてエポキシ樹脂層を形成した基板を、硝酸パラジウム(和光純薬製)1質量%のアセトン溶液に30分間浸漬した後、蒸留水で洗浄した。その後、下記組成の無電解めっき浴にて20分間無電解めっきを行った。   Next, the substrate on which the epoxy resin layer was formed as described above was immersed in an acetone solution of 1% by mass of palladium nitrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) for 30 minutes, and then washed with distilled water. Thereafter, electroless plating was performed for 20 minutes in an electroless plating bath having the following composition.

<無電解めっき浴の組成>
・OPCカッパ―H T1(奥野製薬(株)製) 6mL
・OPCカッパ―H T2(奥野製薬(株)製) 1.2mL
・OPCカッパ―H T3(奥野製薬(株)製) 10mL
・水 83mL
<Composition of electroless plating bath>
・ OPC Kappa-H T1 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 6mL
・ OPC Kappa-H T2 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 1.2mL
・ OPC Kappa-H T3 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) 10mL
・ Water 83mL

次いで、下記組成の電解めっき浴にて3A/dmの電流密度で20分間電気めっきを行い、厚さ8μmの電解銅めっき層を形成した。その後100℃で60分間のアフターベークを行った。 Next, electroplating was carried out for 20 minutes at a current density of 3 A / dm 2 in an electrolytic plating bath having the following composition to form an electrolytic copper plating layer having a thickness of 8 μm. Thereafter, after-baking was performed at 100 ° C. for 60 minutes.

<電解めっき浴の組成>
・硫酸銅 38g
・硫酸 95g
・塩酸 1mL
・カッパ−グリームPCM(メルテックス(株)製) 3mL
・水 500mL
<Composition of electrolytic plating bath>
・ Copper sulfate 38g
・ 95 g of sulfuric acid
・ Hydrochloric acid 1mL
・ Kappa-Gream PCM (Meltex Co., Ltd.) 3mL
・ Water 500mL

このようにして作製した電解銅めっき膜の剥離強度及び表面抵抗値を測定した。
剥離強度はテンシロン(型番RTM−100、株式会社オリエンテック製)により、JIS C 6481に準拠して、導体(銅めっき膜)の剥離強度(Max値、Min値、Ave値)を測定し、最大値と最小値の平均値を、導体の剥離強度とした。その結果、実施例3で作製した電解銅めっき膜の剥離強度は0.7kN/mであった。
The peel strength and surface resistance value of the electrolytic copper plating film thus prepared were measured.
Peel strength is measured with Tensilon (model number RTM-100, manufactured by Orientec Co., Ltd.) according to JIS C 6481, and the peel strength (Max value, Min value, Ave value) of the conductor (copper plating film) is measured. The average value of the value and the minimum value was taken as the peel strength of the conductor. As a result, the peel strength of the electrolytic copper plating film produced in Example 3 was 0.7 kN / m.

表面抵抗値は、JISK7194に準拠し、表面抵抗計(ロレスタ−EP、型番MCP−T360、三菱化学(株)製)を用いて四探針法により測定した。その結果、実施例3で作製した電解銅めっき膜の表面抵抗値は、2.0×10−3Ω/□であった。
これらの結果より、本発明の方法にて作製した導電性膜は、剥離強度が高く、且つ、導電性に優れていることがわかった。
The surface resistance value was measured by a four-probe method using a surface resistance meter (Loresta-EP, model number MCP-T360, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in accordance with JISK7194. As a result, the surface resistance value of the electrolytic copper-plated film produced in Example 3 was 2.0 × 10 −3 Ω / □.
From these results, it was found that the conductive film produced by the method of the present invention has high peel strength and excellent conductivity.

実施例1で作製した基板の切断面のイメージを示す図である。2 is a diagram showing an image of a cut surface of a substrate manufactured in Example 1. FIG. 実施例2で作製した基板の切断面のイメージを示す図である。6 is a diagram showing an image of a cut surface of a substrate manufactured in Example 2. FIG.

Claims (19)

エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が硬化したエポキシ樹脂成形体であって、該エポキシ樹脂成形体の全体の厚みに対して、表面から30%以内の厚みの領域に、
エポキシ樹脂成形体の表面のアクリル樹脂組成分の質量分析による強度を100とした場合、該領域のアクリル樹脂組成分の強度が80以上であることを特徴とするエポキシ樹脂成形体。
An epoxy resin molded body in which a mixture of an epoxy resin and an acrylic resin is cured, and in a region having a thickness within 30% from the surface with respect to the total thickness of the epoxy resin molded body,
An epoxy resin molded body, wherein the strength of the acrylic resin composition in the region is 80 or more when the strength by mass spectrometry of the acrylic resin composition on the surface of the epoxy resin molded body is 100.
前記エポキシ樹脂成形体の全体の厚みに対する、表面からの厚みが20%以内であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂成形体。   2. The epoxy resin molded body according to claim 1, wherein the thickness from the surface is within 20% of the total thickness of the epoxy resin molded body. 前記エポキシ樹脂成形体の全体の厚みに対する、表面からの厚みが10%以内であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエポキシ樹脂成形体。   3. The epoxy resin molded body according to claim 1, wherein a thickness from the surface is within 10% with respect to a total thickness of the epoxy resin molded body. 前記質量分析が、SIMS(2次イオン質量分析)であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy resin molded body according to any one of claims 1 to 3, wherein the mass spectrometry is SIMS (secondary ion mass spectrometry). 前記アクリル樹脂のSP値が20 〜29の範囲にあることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   5. The epoxy resin molded body according to claim 1, wherein the acrylic resin has an SP value in a range of 20 to 29. 6. 前記アクリル樹脂のSP値が23 〜28の範囲にあることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy value according to any one of claims 1 to 5, wherein the acrylic resin has an SP value in a range of 23 to 28. 前記アクリル樹脂の含有量が、全固形分中の濃度として、1〜10質量%であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   Content of the said acrylic resin is 1-10 mass% as a density | concentration in a total solid, The epoxy resin molded object as described in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記アクリル樹脂が、分子内にめっき触媒を吸着し得る官能基を有することを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   The said acrylic resin has a functional group which can adsorb | suck a plating catalyst in a molecule | numerator, The epoxy resin molded object as described in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 前記めっき触媒を吸着し得る官能基が、シアノ基、アミノ基、又は含窒素複素環基であることを特徴とする請求項8に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy resin molded article according to claim 8, wherein the functional group capable of adsorbing the plating catalyst is a cyano group, an amino group, or a nitrogen-containing heterocyclic group. 前記エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が、さらに硬化剤を含むことを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy resin molded body according to any one of claims 1 to 9, wherein the mixture of the epoxy resin and the acrylic resin further contains a curing agent. 前記硬化剤が、分子内にアミノ基及び水酸基の少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項10に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy resin molded article according to claim 10, wherein the curing agent contains at least one of an amino group and a hydroxyl group in the molecule. 前記エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が、更にフェノキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項1〜請求項11のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy resin molded body according to any one of claims 1 to 11, wherein the mixture of the epoxy resin and the acrylic resin further contains a phenoxy resin. 前記エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物が、さらに硬化促進剤を添加することを特徴とする、請求項1〜請求項12のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体。   The epoxy resin molded body according to any one of claims 1 to 12, wherein the mixture of the epoxy resin and the acrylic resin further adds a curing accelerator. エポキシ樹脂、該エポキシ樹脂と反応する硬化剤、溶剤、及びSP値が20〜29の範囲にあり、且つ、全固形分中の濃度として、1〜10質量%のアクリル樹脂を含む混合物を成形し、加熱硬化させる工程を含むことを特徴とするエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。   An epoxy resin, a curing agent that reacts with the epoxy resin, a solvent, and a SP value in the range of 20 to 29, and a mixture containing 1 to 10% by mass of an acrylic resin as a concentration in the total solid content are molded. A method for modifying the surface of an epoxy resin molded product, comprising a step of heat curing. 前記アクリル樹脂のSP値が23 〜28の範囲にあることを特徴とする請求項14に記載のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。   The method for modifying a surface of an epoxy resin molded article according to claim 14, wherein the acrylic resin has an SP value in the range of 23 to 28. 前記溶剤が、ケトン系溶剤を含むことを特徴とする請求項14に記載のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。   The method for modifying the surface of an epoxy resin molded article according to claim 14, wherein the solvent contains a ketone solvent. 前記ケトン系溶剤として、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノンの少なくとも1種を用いることを特徴とする請求項16に記載のエポキシ樹脂成形体の表面改質方法。   The method for modifying the surface of an epoxy resin molded article according to claim 16, wherein at least one of methyl ethyl ketone and cyclohexanone is used as the ketone solvent. 請求項1〜請求項13のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂成形体の表面に、無電解めっき触媒又はその前駆体を付与する工程と、前記無電解めっき触媒又はその前駆体を付与したエポキシ樹脂混合物に無電解めっきを行って導電性膜を形成する工程とを含むことを特徴とする導電性膜の形成方法。   The process of providing the electroless-plating catalyst or its precursor to the surface of the epoxy resin molding as described in any one of Claims 1-13, and the epoxy which provided the said electroless-plating catalyst or its precursor Forming a conductive film by performing electroless plating on a resin mixture. 前記無電解めっき触媒をパラジウムとすることを特徴とする請求項18に記載の導電性膜の形成方法。   The method for forming a conductive film according to claim 18, wherein the electroless plating catalyst is palladium.
JP2007095710A 2007-03-30 2007-03-30 Epoxy resin-molded article, method for modifying surface of epoxy resin-molded article, and method for forming electroconductive film by using the same Pending JP2008255140A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017170690A (en) * 2016-03-22 2017-09-28 凸版印刷株式会社 Composite film
WO2023190309A1 (en) * 2022-03-30 2023-10-05 住友ベークライト株式会社 Surface-modifier resin composition

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