JP2008254271A - 液体吐出ヘッド - Google Patents
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Abstract
【課題】圧電素子を用いた液体吐出ヘッドにおいて、高密度に液体吐出ヘッドノズルを配置した場合でも、吐出時と液体供給時に効率の良い液体の流動を可能にした液体吐出ヘッドを提供する。
【解決手段】液体吐出ヘッドが、液体を吐出する複数のノズル8と、それぞれに圧力発生手段5を備えた複数の個別液室2と、共通液室10と、共通液室と複数の個別液室をそれぞれ連通し、共通液室から個別液室へ液体を供給する液体供給流路9を有している。その液体供給流路が、共通液室との境界部における断面積が個別液室との境界部における断面積より大きくなるように形成される。かつ、液体供給流路の一部を構成する底面15の深さが、個別液室との境界部よりも共通液室との境界部の方が深く形成される。
【選択図】図1
【解決手段】液体吐出ヘッドが、液体を吐出する複数のノズル8と、それぞれに圧力発生手段5を備えた複数の個別液室2と、共通液室10と、共通液室と複数の個別液室をそれぞれ連通し、共通液室から個別液室へ液体を供給する液体供給流路9を有している。その液体供給流路が、共通液室との境界部における断面積が個別液室との境界部における断面積より大きくなるように形成される。かつ、液体供給流路の一部を構成する底面15の深さが、個別液室との境界部よりも共通液室との境界部の方が深く形成される。
【選択図】図1
Description
本発明は振動板を振動させて発生した圧力により、個別液室の液体を加圧してノズルから液滴を吐出させる液体吐出ヘッドの構造と製造方法に関するものである。
個別液室に圧電素子を設け、圧電素子に電気パルスを印加して個別液室の容積を変化させ、その圧力で液体を個別液室と連通するノズルから吐出させる方式が、インクジェット記録装置として採用されている。液体吐出後のリフィルに関しては、個別液室に液体を分配する為の共通液室から、個別液室と共通液室を連通する液体供給流路を介して、それぞれの個別液室に液体を供給している。インクジェット記録装置では、圧力発生手段の圧電素子の変位で発生した微小な圧力を、効率良く個別液室から液滴として飛翔させ、かつ高周波で繰り返し吐出させる必要がある。
圧電素子の変位で発生した微小な圧力によって、効率良く個別液室から液滴として飛翔させるには、ノズル孔の流体抵抗値より高い流体抵抗値をもつ液体供給路が必要である。また高周波で繰り返し吐出させるには、吐出後に液体を素早く供給させる為、共通液室に対して流体抵抗値の低い液体供給流路が必要である。流体抵抗値は、断面積に反比例し、流路長に比例している。よって、ノズル孔の流体抵抗値より高い流体抵抗値を有する液体供給流路にする為には、液体供給流路の断面積は小さくする、または流路長を長くする必要がある。また、共通液室に対して低い流体抵抗値を有する液体供給流路にする為には、液体供給流路の断面積は大きくする、または流路長を短くする必要がある。つまり、圧電素子の変位で発生した微小な圧力を効率良く個別液室から液滴として飛翔させ、かつ高周波で繰り返し吐出させるには、上記の相反する要求を同時に満たす必要がある。
例えば、特許文献1では、個別液室で発生させた圧力を効率良くノズルに伝える手段として、個別液室より狭い一定の幅の液体供給流路を配設して、液体供給流路の長さを400μm以下として設定している。長さ方向寸法Lを400μm以下にすることにより、液体供給流路の流体抵抗値を低下させ、高周波での噴射の場合もノズルへの十分な液体供給を可能としている。また特許文献1では形成手段としてドライエッチングによる深堀や異方性エッチングとの併用による形成手段などを提案している。
特開2004−209921号公報
しかしながら、特許文献1では吐出効率を下げないために液体供給流路を個別液室より狭い一定の幅に規定し、リフィル効率を下げないために液体供給流路の長さ寸法を規定しているにすぎない。その為、特許文献1の液体供給流路は吐出とリフィルに対してバランスをとった一定の流体抵抗値を有しているだけであり、不十分であった。
一方、個別液室に対して流体抵抗値が高く、共通液室に対して流体抵抗値が低い液体供給流路を実現するために、液体供給流路の幅を、共通液室から個別液室に近づくにつれて段々狭くさせた非対称の構造を有する液体供給流路が考えられる。しかし、ヘッドの高密度化に対して幅方向の変化は設計自由度が低いために、最適ではない。
本発明は、上記従来の課題に鑑みて、高密度にインクヘッドノズルを配置した場合にも、圧電素子の変位で発生した微小な圧力によって、効率良く個別液室から液体を飛翔させ、かつ高周波で繰り返し吐出可能な液体吐出ヘッドを提供することを目的にする。
上記目的を達成するため本発明が提供する液体吐出ヘッドは、液体を吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルと各々連通し、それぞれに圧力発生手段を備えた複数の個別液室と、前記複数の個別液室に液体を分配する為の共通液室と、前記共通液室と前記複数の個別液室をそれぞれ連通し、前記共通液室から前記個別液室へ液体を供給する液体供給流路と、を有する液体吐出ヘッドにおいて、前記液体の供給方向と垂直な面における前記液体供給流路の断面積に関して、前記共通液室との境界部における断面積が前記個別液室との境界部における断面積より大きく、かつ、前記液体供給流路の一部を構成する底面の深さが、前記個別液室との境界部よりも前記共通液室との境界部の方が深いことを特徴とする。
本発明の構成によれば、高密度に液体吐出ヘッドノズルを配置した場合でも、圧電素子の変位で発生した微小な圧力を、効率良く個別液室から液体を飛翔させ、かつ高周波で繰り返し吐出可能な液体吐出ヘッドを提供可能である。
図1は、本発明の好ましい形態を示す液体吐出ヘッドの断面図である。
P+シリコン基板1aに個別液室2と共通液室10と、個別液室と共通液室をそれぞれ連通し、共通液室から個別液室に液体を供給する液体供給流路9が設けられ、その上層には、振動板3が形成されている。振動板3の上層に下電極4を形成する。さらに個別液室に相当する部分に形成された下電極4の上層には、圧電素子5、上電極6が形成されている。個別液室2の一端部にオリフィス連通口7が設けられており、もう一枚のシリコン基板1bには吐出口8が設けられ、シリコン基板1aと接合されている。
本明細書では、振動板3を天井面とし、さらに天井面と対向する面を、液体供給流路を構成する一部である底面とする。図1で液体供給流路の底面15は、液体供給流路を形成する面のうち、振動板3に対向するシリコン基板1b側の面を示している。また本明細書では、振動板3から液体供給流路の底面15までの液体の供給方向と垂直方向の長さを深さと定義している。また本明細書で示す断面積とは、液体の供給方向と垂直な面における液体供給流路の断面積のことを示す。
本実施形態の液体供給流路9は、共通液室10との境界部における断面積が、個別液室2の境界部における断面積より大きく、かつ、液体供給流路の深さが、個別液室2の境界部よりも共通液室10との境界部の方が深いことを特徴とする。つまり液体供給流路9の断面積は個別液室2に近づくにつれて減少し、かつ液体供給流路9の深さを浅くしながら個別液室2に連通するように形成されている。
以上から、本実施形態の液体供給流路は、深さを変化させながら共通液室から個別液室にむけて断面積を段々狭くする非対称の構造を有する液体供給流路である。
本実施形態の液体吐出ヘッドは、液体供給流路が上記の非対称の構造を有するので、高密度に液体吐出ヘッドノズルを配置しても、吐出時と液体供給時に効率の良い液体の流動を可能である。
本実施例では、前述の実施形態の液体吐出ヘッドの製造法を説明する。
図2はフォトリソ法により所定のパターンが形成された化成マスクの平面図である。
比抵抗値12mΩ・cmで結晶方位(100)のP+単結晶シリコンウェーハ1aに低圧CVDにて窒化シリコン膜を200nmの膜厚で成膜する。窒化シリコン膜にフォトリソ法にて所定のパターンを形成する。個別液室に相当する第1の開口部11aと共通液室に相当する第2の開口部11bを形成して、化成マスク12とする。ここで化成マスクとして窒化シリコン膜以外にも、フッ酸に対して耐性の強いポリイミド膜、アピエゾンワックス等を用いることが可能である。
第1の開口部11aは並列に複数形成される。第2の開口部11bは、並列に並んでいる第1の開口部11aに対して、平行に形成される。本実施例では、第1の開口部11aと第2の開口部11bとの間のマスクの幅は、90μmとして形成されている。図2の矢印aは、第1の開口部11aと第2の開口部11bとの間のマスクの幅を示している。図3は、図2のA−A’断面図であり、陽極化成マスク1回目の形成工程を示す概略図である。図3に示すように、P+単結晶シリコンウェーハ1aの化成マスクを設けた面の対向面に成膜した窒化シリコン膜は、全て除去する。以後P+単結晶シリコンウェーハ1aの化成マスクを設けた面の対向面を、裏面とする。
次に、陽極化成法にて第1の開口部11aから第1の多孔質部13aを、第2の開口部11bから第2の多孔質部13bを形成する。図4は、多孔質シリコン1回目の形成工程を示す概略図である。化成液としてフッ酸10%、イソプロピルアルコール8%の水溶液に化成マスクを形成したシリコン単結晶基板を設置する。設置両側にプラチナ電極を対向配置して多孔質シリコン層を形成する面と対向しているプラチナ電極を陰極になるよう、該電極間に80mA/cm2の電流密度で直流電流を10分間通電する。これにより、多孔度85%の第1の多孔質部13aである多孔質シリコンが、開口部11aから形成される。形成される多孔質部13aは、第1の開口部11aより大きい直径を有し、最深15μmの拡がりテーパー状の形状である。本実施例で拡がりテーパー状とは、開口端部から最深部に向かって徐々に深くなる形状のことを指す。同時に、多孔度85%の第2の多孔質部13bである多孔質シリコンが、開口部11bから形成される。形成される多孔質部13bは、第2の開口部11bより大きい直径を有し、最深15μmの拡がりテーパー状の形状である。そして、それぞれの開口部のマクス直下ではそれぞれの開口際から全周囲に10μmの幅で形成されている。
次に、フォトリソ工程により所定のパターンとして液体供給流路を形成するための第3の開口部11cを化成マスクに追加形成する。
図5は、フォトリソ工程により所定のパターンが形成された化成マスクの平面図である。
第3の開口部11cは、第1の開口部11aと第2の開口部11bの間に、それぞれに平行な位置に設けられる。第1の開口部11aと第3の開口部11cは、図5で示すように直線上に形成される。さらに、第3の開口部11cと第2の開口部11bとの間のマスクの幅が、第3の開口部11cと第1の開口部11aとの間のマスクの幅より狭くなる位置に、第3の開口部は形成されている。本実施例では、第3の開口部11cと第2の開口部11bとの間のマスクの幅は15μmとして形成されている。また、第3の開口部11cと第1の開口部11aとの間のマスクの幅は28μmとして形成されている。図5の矢印bは、第3の開口部11cと第1の開口部11aとの間のマスクの幅を示し、矢印cは第3の開口部11cと第2の開口部11bとの間のマスクの幅を示している。図5で示すように、本実施例では矢印bは矢印cより長い。
図6は、図5のA−A’断面図であり、陽極化成マスク2回目の形成工程を示す概略図である。
次に、陽極化成法にて第3の開口部11cから第3の多孔質部13cを形成する。図7は、多孔質シリコン2回目の形成工程を示す概略図である。
多孔質部1回目の形成と同様に陽極化成を実施して第3の開口部から第3の多孔質部を形成する。形成される多孔質部13cは、第1の開口部11cより大きい直径を有し、最深15μmの拡がりテーパー状の形状である。そしてマクス直下では第3の開口部11cの開口際から全周囲に10μmの幅で形成されている。同時に、マスクの開口部11a、11bから、多孔質シリコンも追加形成されて、第1の多孔質部13aである多孔質シリコンと第2の多孔質部である多孔質シリコン13bの最深が30μmの拡がりテーパー状で形成される。
図8は、多孔質酸化シリコンの形成工程を示す概略図である。
純水で充分に洗浄、乾燥してから、フッ化水素酸にて化成マスク材を除去する。その後、酸素ガスを5リットル/分流しながら900℃で1時間保持し、第1の多孔質部、第2の多孔質部及び第3の多孔質部は、それぞれ多孔質酸化シリコン部14a,14b,15cとなる。
図9は、振動板の形成工程を示す概略図である。
多孔質酸化シリコン14の上面に、低圧CVDによりポリシリコン15を3μm厚成膜して、振動板3とする。この工程においては他の材料として酸化シリコン、窒化シリコンなどの絶縁材や、あるいはCrなどの金属材などをスパッタリングして形成しても構わない。
図10は、上下電極、圧電体の形成工程を示す概略図である。
ポリシリコン15上にスパッタにてTiを50nm、Ptを300nm成膜して、共通下電極4をフォトリソで形成し、次にPZT(ジルコン酸チタン酸鉛)をスパッタリングにて3μm厚成膜する。圧電体5はPZTを個別液室2の幅以内に同じくフォトリソにて形成し、最後に下電極4と同様にスパッタリングとフォトリソにより上電極6を形成する。
図11は、ノズル連通流路、共通液室の形成工程を示す概略図である。
それぞれの個別液室2に位置する箇所に、ICP(Inductively Coupled Plasma)エッチングにて60μmΦのオリフィス連通口7を形成する。この場合、単結晶シリコン基板1の裏面側からレーザ照射して形成しても可である。
次にシリコン基板の裏面から所定パターンの開口部をレジスト膜で作製し、表面の酸化シリコン層を除去する。その後、TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)25%水溶液に浸漬させて異方性エッチングにより共通液室10を形成する。
図12は、多孔質部のエッチング工程を示す概略図である。
前工程にて形成した共通液室10から10%フッ酸水溶液を浸透させて、多孔質酸化シリコン部14a、14b、14cを順次エッチング除去する。除去することにより、液体供給流路9の断面積に関して、共通液室10との境界部における断面積が、個別液室2との境界部における断面積よりも大きいことを特徴とする液体供給流路を形成できる。さらに多孔質部を除去することで、液体供給流路9の一部を構成する底面の深さについて、個別液室2との境界部よりも共通液室10との境界部の方が深く形成できる。また本実施例では、液体供給流路9は拡がりテーパー状の形状の多孔質領域を除去することで形成されるので、液体供給流路9の一部を構成する底面が個別液室2に向かって凸となる曲面形状を有する。
図13は、接合によるノズル形成工程を示す概略図である。
ICPエッチングにより30μmΦの吐出口8が開けられたシリコン基板1bとシリコン基板1aの接合する面に接合層としてチタン30nm、Au100nmをスパッタ法にて成膜する。成膜後、位置合わせを完了して接触させ、真空中で温度300℃、圧力2Mpaの条件でAu−Au接合を完了させた。
以上により製造された本実施例の液体吐出ヘッドを駆動する為、フレキ実装を行って粘度20cpの液体の液体吐出テストを行った。結果、50Vパルス印加15KHzの吐出周波数においても隣接したノズルの吐出は安定化しており、高密度ノズルヘッドとして問題なかった。
1a P+シリコン基板
1b 他のシリコン基板
2 個別液室
3 振動板
4 下電極
5 圧電体
6 上電極
7 オリフィス連通部
8 吐出口
9 液体供給流路
10 共通液室
11a 第1の開口部
11b 第2の開口部
11c 第3の開口部
12 化成マスク部
13a 多孔質シリコン部
13b 多孔質シリコン部
13c 多孔質シリコン部
14a 多孔質酸化シリコン部
14b 多孔質酸化シリコン部
14c 多孔質酸化シリコン部
15 インク供給流路の一部を構成する底面
1b 他のシリコン基板
2 個別液室
3 振動板
4 下電極
5 圧電体
6 上電極
7 オリフィス連通部
8 吐出口
9 液体供給流路
10 共通液室
11a 第1の開口部
11b 第2の開口部
11c 第3の開口部
12 化成マスク部
13a 多孔質シリコン部
13b 多孔質シリコン部
13c 多孔質シリコン部
14a 多孔質酸化シリコン部
14b 多孔質酸化シリコン部
14c 多孔質酸化シリコン部
15 インク供給流路の一部を構成する底面
Claims (4)
- 液体を吐出する複数のノズルと、
前記複数のノズルと各々連通し、それぞれに圧力発生手段を備えた複数の個別液室と、
前記複数の個別液室に液体を分配する為の共通液室と、
前記共通液室と前記複数の個別液室をそれぞれ連通し、前記共通液室から前記個別液室へ液体を供給する液体供給流路と、を有する液体吐出ヘッドにおいて、
前記液体の供給方向と垂直な面における前記液体供給流路の断面積に関して、前記共通液室との境界部における断面積が、前記個別液室との境界部における断面積より大きく、かつ、
前記液体供給流路の一部を構成する底面の深さが、前記個別液室との境界部よりも前記共通液室との境界部の方が深いこと
を特徴とする液体吐出ヘッド。 - 前記液体供給流路の一部を構成する底面が前記個別液室に向かって凸となる曲面形状を有することを特徴とする請求項1記載の液体吐出ヘッド。
- 請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッドを製造する方法であって、シリコン基体の表面にマスクを形成する工程と、前記マスクに前記共通液室、前記個別液室及び前記液体供給流路にそれぞれ対応する複数の開口部を形成する工程と、前記複数の開口部から前記シリコン基体に多孔質部を形成する工程と、前記多孔質部を除去することによって前記共通液室、前記個別液室及び前記液体供給流路を形成する工程と、
から成る液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記個別液室を形成するための開口部を第1の開口部、前記共通液室を形成するための開口部を第2の開口部、前記液体供給流路を形成するための開口部を第3の開口部とし、前記第3の開口部を形成する位置は、前記第3の開口部と前記第2の開口部との間のマスクの幅が、前記第3の開口部と前記第1の開口部との間のマスクの幅より狭くなる位置であることを特徴とする請求項3記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007097490A JP2008254271A (ja) | 2007-04-03 | 2007-04-03 | 液体吐出ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007097490A JP2008254271A (ja) | 2007-04-03 | 2007-04-03 | 液体吐出ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008254271A true JP2008254271A (ja) | 2008-10-23 |
Family
ID=39978351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007097490A Pending JP2008254271A (ja) | 2007-04-03 | 2007-04-03 | 液体吐出ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
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2007
- 2007-04-03 JP JP2007097490A patent/JP2008254271A/ja active Pending
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Legal Events
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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