JP2008251915A - 研磨パッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円筒状研磨領域2、4及び円筒状光透過領域3が積層されている円筒状樹脂ブロック1、又は円柱状研磨領域及び円柱状光透過領域が積層されている円柱状樹脂ブロックを作製する工程、該樹脂ブロックの軸5を中心に回転させながら該樹脂ブロックの表面部を所定厚みでスライスして帯状樹脂シート7を作製する工程を含む研磨パッドの製造方法。
【選択図】図1
Description
1)イソシアネート末端プレポリマーの気泡分散液を作製する発泡工程
イソシアネート末端プレポリマーにシリコン系界面活性剤を添加し、非反応性気体の存在下で機械撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。前記プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し、溶融して使用する。
2)硬化剤(鎖延長剤)混合工程
上記の気泡分散液に鎖延長剤を添加し、撹拌混合して発泡反応液とする。
3)注型工程
上記の発泡反応液をモールドに流し込む。
4)硬化工程
流し込んだ発泡反応液を加熱し、反応硬化させる。
(平均気泡径測定)
作製した研磨領域を厚み1mm以下になるべく薄くミクロトームカッターで平行に切り出したものを平均気泡径測定用試料とした。試料をスライドガラス上に固定し、SEM(S−3500N、日立サイエンスシステムズ(株))を用いて100倍で観察した。得られた画像を画像解析ソフト(WinRoof、三谷商事(株))を用いて、任意範囲の全気泡径を測定し、平均気泡径を算出した。
JIS Z8807−1976に準拠して行った。作製した研磨領域を4cm×8.5cmの短冊状(厚み:任意)に切り出したものを比重測定用試料とし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定には比重計(ザルトリウス社製)を用い、比重を測定した。
JIS K6253−1997に準拠して行った。作製した研磨領域を2cm×2cm(厚み:任意)の大きさに切り出したものを硬度測定用試料とし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定時には、試料を重ね合わせ、厚み6mm以上とした。硬度計(高分子計器社製、アスカーD型硬度計)を用い、硬度を測定した。
60℃に温度調節したポリエーテル系プレポリマー(ユニロイヤル社製、アジプレンL−100)100重量部、及び120℃に温度調節した4,4’−メチレンビス(o−クロロアニリン)(イハラケミカル社製、イハラキュアミンMT)12重量部を混合し脱気した。そして、100℃に保温した円筒モールド(直径30cm、貫通孔の直径3cm)中に前記混合液を流し込み、100℃で6時間ポストキュアを行って円筒状光透過領域(厚さ10mm)を作製した。
2:第1円筒状研磨領域
3:円筒状光透過領域
4:第2円筒状研磨領域
5:円筒軸
6:スライサー
7:帯状樹脂シート
8:半導体ウエハ
9:長尺研磨パッド
10a:供給ロール
10b:回収ロール
11:ロール
12:円形型研磨パッド
13:研磨定盤
14:支持台(ポリシングヘッド)
15:研磨剤
16、17:回転軸
Claims (7)
- 円筒状研磨領域及び円筒状光透過領域が積層されている円筒状樹脂ブロック、又は円柱状研磨領域及び円柱状光透過領域が積層されている円柱状樹脂ブロックを作製する工程、該樹脂ブロックの軸を中心に回転させながら該樹脂ブロックの表面部を所定厚みでスライスして帯状樹脂シートを作製する工程を含む研磨パッドの製造方法。
- 前記円筒状樹脂ブロックは、第1円筒状研磨領域、円筒状光透過領域、及び第2円筒状研磨領域がこの順で積層されている3層構造を有し、前記円柱状樹脂ブロックは、第1円柱状研磨領域、円柱状光透過領域、及び第2円柱状研磨領域がこの順で積層されている3層構造を有する請求項1記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記研磨領域はポリウレタン発泡体からなり、前記光透過領域はポリウレタン無発泡体からなる請求項1又は2記載の研磨パッドの製造方法。
- 前記樹脂ブロックは、直径が10cm以上である請求項1〜3のいずれかに記載の研磨パッドの製造方法。
- 帯状樹脂シートは、厚さが0.1〜3mmである請求項1〜4のいずれかに記載の研磨パッドの製造方法。
- 帯状樹脂シートは、長さが5m以上である請求項1〜5のいずれかに記載の研磨パッドの製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法によって得られる研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法。
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