JP2008249967A - Metal fine particle dispersion, transfer material, substrate with light shielding image, color filter, and display device - Google Patents

Metal fine particle dispersion, transfer material, substrate with light shielding image, color filter, and display device Download PDF

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規 宮城島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate with a light shielding image which has a shelding image low in reflectance. <P>SOLUTION: The substrate with the light shielding image has the light shielding image including at least metal fine particles, and is characterized in that the metal fine particles include amorphous flat plate metal fine particles. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属微粒子分散物、転写材料、遮光画像付き基板、カラーフィルタ、及び表示装置に関する。   The present invention relates to a metal fine particle dispersion, a transfer material, a substrate with a light-shielding image, a color filter, and a display device.

金属微粒子を用いた着色組成物は、印刷インク、インクジェットインク、エッチングレジスト、ソルダーレジスト、プラズマデイスプレイパネル(PDP)の隔壁、誘電体パターン、電極(導体回路)パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フイルム、ブラックマトリクス等の遮光画像等に広く用いられている。前記着色組成物の中で黒色材料用着色組成物は液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部、さらにTFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等、いわゆるブラックマトリクス(以下、「BM」ともいう。)の他に各種遮光画像に用いられていることが期待されている。
BMは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光による電流リークによる画質低下を防止するために用いられており、高い遮光性(光学濃度ODで3以上)が必要である。
Colored compositions using fine metal particles include printing inks, inkjet inks, etching resists, solder resists, plasma display panel (PDP) partition walls, dielectric patterns, electrode (conductor circuit) patterns, electronic component wiring patterns, and conductive pastes. Widely used for light-shielded images such as conductive films and black matrices. Among the colored compositions, the colored composition for the black material is a black edge or red, blue, or the like provided in the periphery of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, or a CRT display device. In addition to a so-called black matrix (hereinafter also referred to as “BM”), such as a grid-like or stripe-like black portion between green pixels, and a dot-like or linear black pattern for light-shielding a TFT, various light-shielded images It is expected to be used in
BM is used to improve display contrast, and in the case of an active matrix driving type liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT), in order to prevent deterioration in image quality due to current leakage due to light, and has high light shielding properties ( The optical density OD is 3 or more).

一方で、近年は液晶表示装置がTVへ応用されるようになってきたが、TVでは、透過率が低くかつ高い色純度のカラーフィルタを使用して高輝度を得るため、バックライトの輝度が高くなる傾向にあり、コントラストの低下や、周辺額縁部分の透けを防止するため、BMに高い遮光性が要求される。   On the other hand, in recent years, liquid crystal display devices have been applied to TVs. However, in TVs, high luminance is obtained using a color filter with low transmittance and high color purity, so that the luminance of the backlight is low. The BM is required to have a high light-shielding property in order to prevent a decrease in contrast and transparency of the peripheral frame portion.

更にTVは、太陽光が入射する部屋に長期間設置されることから、太陽光によるTFTの劣化が懸念され、また、(1)ODが高いことで画像の引締まり感がでること、つまりコントラストが高いこと、及び(2)外光での液晶の白さが目立たなくなることの意味でもBMに高い遮光性が要求される。   Furthermore, since the TV is installed in a room where sunlight is incident for a long period of time, there is a concern about deterioration of the TFT due to sunlight, and (1) a high OD makes the image feel tight, that is, contrast. BM is required to have a high light-shielding property also in the sense that it is high and (2) the white color of the liquid crystal under external light becomes inconspicuous.

クロム等の金属膜を遮光層とするBMの形成方法としては、例えば、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いでBM用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することによりBMを形成する方法がある(例えば、非特許文献1参照)。   As a method for forming a BM using a metal film such as chromium as a light shielding layer, for example, a metal thin film is prepared by vapor deposition or sputtering, a photoresist is applied on the metal thin film, and then a photo having a BM pattern is formed. There is a method of forming a BM by exposing and developing the photoresist layer using a mask, etching the exposed metal thin film, and finally peeling off the resist layer on the metal thin film (see, for example, Non-Patent Document 1). .

この方法は金属薄膜を用いるため、膜厚が小さくても高い遮光効果が得られるという利点がある。しかし、蒸着法やスパッタリング法という真空成膜工程やエッチング工程が必要となり、コストが高くなるとともに環境に対する負荷も無視できないという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対して、上記金属薄膜として、低反射クロム膜(金属クロムと酸化クロムとの2層からなるもの等)を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。
そしてエッチング工程では金属イオンを含有した廃液が排出されるため、環境負荷が大きいという大きな欠点も有している。特に最もよく用いられるクロムは、有害で環境負荷が大きいことが懸念されている。
昨今、EUのELV指令、RoHS指令に代表されるように環境負荷低減への社会的な関心が高まっており、クロムを代替した材料の提案が行われている。
Since this method uses a metal thin film, there is an advantage that a high light shielding effect can be obtained even if the film thickness is small. However, there is a problem that a vacuum film forming process or an etching process such as a vapor deposition method or a sputtering method is required, which increases the cost and cannot be ignored. In addition, since it is a metal film, there is a problem that the reflectance is high and the display contrast is low under strong external light. On the other hand, as the metal thin film, there is a means of using a low-reflective chromium film (such as one made of two layers of metal chromium and chromium oxide), but it cannot be denied that the cost is further increased.
And since the waste liquid containing a metal ion is discharged | emitted in an etching process, it also has the big fault that an environmental impact is large. There is a concern that chromium, which is most often used, is harmful and has a large environmental impact.
In recent years, as represented by the EU ELV and RoHS directives, there has been an increasing social interest in reducing environmental burdens, and proposals have been made for materials that replace chromium.

また、他のBM形成方法としては、遮光性顔料、例えばカーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を用いる方法も知られている。該方法としては、例えば、透明基板にR、G、B画素を形成した後、この画素の上にカーボンブラック含有感光性樹脂組成物を塗布し、透明基板のR、G、B画素非形成面側から全面に露光する、セルフアライメント方式のBM形成方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
上記方法は、上記金属膜のエッチングによる方法に比較して製造コストは低くなるものの、十分な遮光性を得るためには膜厚が厚くなるという問題がある。その結果、BMとR、G、B画素との重なり(段差)が生じ、カラーフィルタの平坦性が悪くなって液晶表示素子のセルギャップムラが発生し、表示ムラ等の表示不良につながることになる。
As another BM forming method, a method using a light-sensitive pigment, for example, a photosensitive resin composition containing carbon black is also known. As the method, for example, after forming R, G, B pixels on a transparent substrate, a carbon black-containing photosensitive resin composition is applied onto the pixels, and the R, G, B pixel non-formation surface of the transparent substrate is applied. A self-aligned BM formation method in which the entire surface is exposed from the side is known (see, for example, Patent Document 1).
Although the manufacturing cost is lower than the method by etching the metal film, the method has a problem that the film thickness is increased in order to obtain sufficient light shielding properties. As a result, an overlap (step) between the BM and the R, G, and B pixels occurs, the flatness of the color filter deteriorates, and the cell gap unevenness of the liquid crystal display element occurs, leading to display defects such as display unevenness. Become.

上記以外に、環境負荷が小さく薄膜で光学濃度の高いブラックマトリクスを得る方法として、金属微粒子の粒子形状として平板を用いる方法が知られている(例えば、特許文献2、3参照)。この方法によると、環境負荷が小さく、薄膜で光学濃度の高いブラックマトリクスを得ることができるとされている。
特開昭62−9301号公報 特開2004−334180号公報 特開2005−17322号公報 共立出版(株)発行「カラーTFT液晶ディスプレイ」第218〜220頁(1997年4月10日)
In addition to the above, as a method for obtaining a black matrix with a small environmental load and a high optical density, a method using a flat plate as the particle shape of metal fine particles is known (see, for example, Patent Documents 2 and 3). According to this method, it is said that a black matrix having a small optical load and a high optical density can be obtained.
JP-A-62-9301 JP 2004-334180 A JP 2005-17322 A Published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. “Color TFT LCD”, pp. 218-220 (April 10, 1997)

しかしながら、上記の金属微粒子の粒子形状として平板を用いる技術のみでは、遮光画像の反射率を低く保つことができるとは限らない。
本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、反射率が低い遮光画像を有する遮光画像付き基板を提供することにある。
また、本発明の目的は、反射率が低く光学濃度が高い遮光画像の形成が可能であり、表示装置に用いた際に表示ムラの発生を抑制できる金属微粒子分散物及び転写材料、これらを用いた遮光画像付き基板及び該遮光画像基板を用いたカラーフィルタ、並びに、表示ムラの発生が抑制され良好な表示品質を有する表示装置を提供することにある。
However, it is not always possible to keep the reflectance of a light-shielded image low by using only a technique using a flat plate as the particle shape of the metal fine particles.
This invention is made | formed in view of the above, and makes it a subject to achieve the following objectives.
That is, an object of the present invention is to provide a substrate with a light-shielding image having a light-shielding image having a low reflectance.
Another object of the present invention is to use a metal fine particle dispersion and a transfer material, which can form a light-shielded image with low reflectance and high optical density, and can suppress the occurrence of display unevenness when used in a display device. It is an object of the present invention to provide a substrate with a light-shielding image, a color filter using the light-shielding image substrate, and a display device having excellent display quality in which occurrence of display unevenness is suppressed.

本発明者らは、平板金属微粒子の中でも、主平面が不定形である平板金属微粒子を用いることで、低い反射率を有する遮光画像を得ることができるとの知見を得、かかる知見に基づいて本発明を完成した。
即ち、前記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
The present inventors have obtained the knowledge that, by using flat metal fine particles having an irregular main plane among flat metal fine particles, a light-shielded image having a low reflectance can be obtained, and based on such knowledge The present invention has been completed.
That is, specific means for solving the above-described problems are as follows.

<1> 少なくとも金属微粒子を含有する遮光画像を有する遮光画像付き基板であって、該金属微粒子が不定形平板金属微粒子を含むことを特徴とする遮光画像付き基板である。
<2> 前記金属微粒子のうち粒径10nm以上の金属微粒子全数に対し、25%以上が不定形平板金属微粒子であることを特徴とする<1>に記載の遮光画像付き基板である。
<3> 前記金属微粒子が、周期律表の第2族〜第14族からなる群から選ばれる1種または2種以上の金属を含有することを特徴とする<1>又は<2>に記載の遮光画像付き基板である。
<1> A substrate with a light-shielding image having a light-shielding image containing at least metal fine particles, wherein the metal fine particles include irregular-shaped flat metal fine particles.
<2> The light-shielding image-carrying substrate according to <1>, wherein 25% or more of the metal fine particles are amorphous plate metal fine particles with respect to the total number of metal fine particles having a particle diameter of 10 nm or more.
<3> The <1> or <2>, wherein the metal fine particles contain one or more metals selected from the group consisting of groups 2 to 14 of the periodic table It is a board | substrate with a light-shielding image.

<4> 前記金属微粒子が、銀微粒子または銀を含有する合金微粒子であることを特徴とする<1>〜<3>のいずれか1つに記載の遮光画像付き基板である。
<5> 前記不定形平板金属微粒子の平均異形度が1.3以上であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1つに記載の遮光画像付き基板である。
<6> 前記不定形平板金属微粒子の平均アスペクト比が3.0以上であることを特徴とする<1>〜<5>のいずれか1つに記載の遮光画像付き基板である。
<4> The substrate with a light-shielding image according to any one of <1> to <3>, wherein the metal fine particles are silver fine particles or silver-containing alloy fine particles.
<5> The substrate with a light-shielding image according to any one of <1> to <4>, wherein an average irregularity of the irregular shaped flat metal fine particles is 1.3 or more.
<6> The substrate with a light-shielding image according to any one of <1> to <5>, wherein the amorphous flat metal fine particles have an average aspect ratio of 3.0 or more.

<7> 前記不定形平板金属微粒子の数平均粒径が5〜50nmであることを特徴とする<1>〜<6>のいずれか1つに記載の遮光画像付き基板である。
<8> 少なくとも金属微粒子を含有する分散物であって、該金属微粒子が不定形平板金属微粒子を含み、該金属微粒子全質量に対して10%以下の水を含有することを特徴とする金属微粒子分散物である。
<9> 前記金属微粒子のうち粒径10nm以上の金属微粒子全数に対し、25%以上が不定形平板金属微粒子であることを特徴とする<8>に記載の金属微粒子分散物である。
<7> The substrate with a light-shielding image according to any one of <1> to <6>, wherein the number-average particle diameter of the irregular shaped flat metal fine particles is 5 to 50 nm.
<8> Dispersion containing at least metal fine particles, wherein the metal fine particles include irregular flat metal fine particles, and contain 10% or less of water with respect to the total mass of the metal fine particles. It is a dispersion.
<9> The metal fine particle dispersion according to <8>, wherein 25% or more of the metal fine particles are amorphous flat metal fine particles based on the total number of metal fine particles having a particle diameter of 10 nm or more.

<10> 更に、硫黄原子及び/又は窒素原子を1個以上有する分散ポリマーを含有することを特徴とする<8>又は<9>に記載の金属微粒子分散物である。
<11> 前記硫黄原子及び/又は窒素原子を1個以上有する分散ポリマーが、アルカリ溶解性を有することを特徴とする<10>に記載の金属微粒子分散物である。
<12> 仮支持体上に少なくとも<8>〜<11>のいずれか1つに記載の金属微粒子分散物を用いて形成された遮光層を有することを特徴とする転写材料である。
<10> The metal fine particle dispersion according to <8> or <9>, further comprising a dispersion polymer having at least one sulfur atom and / or nitrogen atom.
<11> The fine metal particle dispersion according to <10>, wherein the dispersion polymer having at least one sulfur atom and / or nitrogen atom has alkali solubility.
<12> A transfer material comprising a light shielding layer formed using the metal fine particle dispersion according to any one of <8> to <11> on a temporary support.

<13> <12>に記載の転写材料を用いて形成された遮光画像付き基板である。
<14> <1>〜<7>及び<13>のいずれかに1つに記載の遮光画像付き基板を備えたことを特徴とするカラーフィルタである。
<15> <14>に記載のカラーフィルタを備えたことを特徴とする表示装置である。
<13> A substrate with a light-shielding image formed using the transfer material according to <12>.
<14> A color filter comprising the substrate with a light-shielding image according to any one of <1> to <7> and <13>.
<15> A display device comprising the color filter according to <14>.

本発明によれば、反射率が低い遮光画像を有する遮光画像付き基板を提供することができる。
また、本発明によれば、反射率が低く光学濃度が高い遮光画像の形成が可能であり、表示装置に用いた際に表示ムラの発生を抑制できる金属微粒子分散物及び転写材料、これらを用いた遮光画像付き基板及び該遮光画像基板を用いたカラーフィルタ、並びに、表示ムラの発生が抑制され良好な表示品質を有する表示装置を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the board | substrate with a light-shielding image which has a light-shielding image with a low reflectance can be provided.
In addition, according to the present invention, it is possible to form a light-shielded image having a low reflectance and a high optical density, and a metal fine particle dispersion and a transfer material that can suppress the occurrence of display unevenness when used in a display device. It is possible to provide a substrate with a light-shielding image, a color filter using the light-shielding image substrate, and a display device having excellent display quality in which occurrence of display unevenness is suppressed.

以下、本発明における金属微粒子について説明し、引き続き、本発明の金属微粒子分散物、転写材料、遮光画像付き基板、カラーフィルタ、及び表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the metal fine particles in the present invention will be described, and subsequently, the metal fine particle dispersion, the transfer material, the substrate with a light-shielding image, the color filter, and the display device of the present invention will be described in detail.

≪金属微粒子≫
本発明の金属微粒子分散物、及び、本発明の遮光画像付き基板における遮光画像は、金属微粒子を少なくとも1種含有する。
前記金属微粒子は、不定形平板金属微粒子を含む。
ここで、不定形平板金属微粒子とは、異形度が1.2以上の平板金属微粒子を指す。様々な形状を有する金属微粒子の群全体から、不定形平板金属微粒子を特定する方法としては、例えば、まず前記金属微粒子の群から平板金属微粒子を特定し、次に、特定した平板金属微粒子の中から、異形度1.2以上の平板金属微粒子を特定する方法が挙げられる。
以下、金属微粒子の寸法の定義、平板金属微粒子、不定形平板金属微粒子、金属微粒子の数平均粒径、金属微粒子の組成について詳述する。
≪Metallic fine particles≫
The metal fine particle dispersion of the present invention and the light-shielded image in the substrate with a light-shielded image of the present invention contain at least one metal fine particle.
The metal fine particles include irregular flat metal fine particles.
Here, the irregular shaped flat metal fine particles refer to flat metal fine particles having an irregularity of 1.2 or more. As a method for identifying the irregular shaped flat metal fine particles from the entire group of metal fine particles having various shapes, for example, first, the flat metal fine particles are identified from the group of the metal fine particles, and then, among the identified flat metal fine particles. From the above, a method for specifying flat metal fine particles having an irregularity of 1.2 or more can be mentioned.
Hereinafter, the definition of the size of the metal fine particles, the flat metal fine particles, the irregular flat metal fine particles, the number average particle diameter of the metal fine particles, and the composition of the metal fine particles will be described in detail.

<金属微粒子の寸法>
本発明においては、1個の金属微粒子を三軸径の直方体に収めた状態で、該金属微粒子の各寸法を定義する。
すなわち、1個の金属微粒子がちょうど(きっちりと)収まるような箱(直方体)を考え、この箱の長さL、幅a、高さ又は厚みbをもってこの金属微粒子の寸法と定義する仕方である。金属微粒子を箱に収める場合いくつかの仕方があるが、本発明では以下の方法を採用する。
まず、水平面上に、金属微粒子を、最も重心が低くて安定に静止するように置く。次に、水平面に対し直角に立てた2枚の平行な板により金属微粒子を挟み、その板間隔が最も短くなる位置の板間隔を「幅a」とする。次に、前記幅aを決する2枚の板に対し直角で、前記水平面に対しても直角の2枚の平行な板により金属微粒子を挟み、この2枚の板間隔を「長さL」とする。最後に金属微粒子の最も高い位置に接触するように天板を前記水平面に平行になるようにして載せる。このときの天板と水平面との間隔を「厚みb」とする(この方法により水平面、4枚の板及び天板によって画される直方体が形成される)。すなわち、各寸法は、L≧a≧bの関係をもつこととなる。
<Dimensions of fine metal particles>
In the present invention, each dimension of the metal fine particles is defined in a state where one metal fine particle is contained in a cuboid having a triaxial diameter.
In other words, a box (cuboid) in which one metal fine particle can be exactly (contained) is considered, and the length L, width a, height or thickness b of the box is defined as the dimension of the metal fine particle. . There are several ways to store the metal fine particles in the box. In the present invention, the following method is adopted.
First, the metal fine particles are placed on a horizontal plane so that the center of gravity is the lowest and stably remains. Next, the metal fine particles are sandwiched between two parallel plates standing at right angles to the horizontal plane, and the plate interval at the position where the plate interval is the shortest is defined as “width a”. Next, metal fine particles are sandwiched between two parallel plates perpendicular to the two plates that determine the width a and also perpendicular to the horizontal plane, and the distance between the two plates is defined as “length L”. To do. Finally, the top plate is placed so as to be parallel to the horizontal plane so as to come into contact with the highest position of the metal fine particles. The distance between the top plate and the horizontal plane at this time is defined as “thickness b” (a rectangular parallelepiped defined by the horizontal plane, the four plates, and the top plate is formed by this method). That is, each dimension has a relationship of L ≧ a ≧ b.

<平板金属微粒子>
前記「平板金属微粒子」とは、2つの対向する最大外表面(以下、「主平面」ともいう)を有し、アスペクト比が2.0以上である金属微粒子を指す。
主平面は、いかなる面であってもよいが、前記長さLの方向軸と前記幅aの方向軸とで張られる面に略平行な面であることが好ましく、また、(111)面であることが好ましい。
また、アスペクト比とは、主平面の投影面積と同面積の円の直径を、粒子の厚さbの平均値で割った値をいう。アスペクト比が大きいほど、平たくなり、より顕著な平板形状となる。
以下、2つの対向する略平行な主平面同士を連結する面を、平板金属微粒子の「側面」ということがある。
<Flat metal particles>
The “plate metal fine particles” refer to metal fine particles having two opposing maximum outer surfaces (hereinafter also referred to as “main planes”) and an aspect ratio of 2.0 or more.
The main plane may be any plane, but is preferably a plane substantially parallel to a plane stretched by the directional axis of the length L and the directional axis of the width a, and is a (111) plane. Preferably there is.
The aspect ratio is a value obtained by dividing the diameter of a circle having the same area as the projected area of the main plane by the average value of the thickness b of the particles. The larger the aspect ratio, the flatter and the more prominent flat plate shape.
Hereinafter, a surface connecting two opposing substantially parallel main planes may be referred to as a “side surface” of the flat metal fine particles.

(アスペクト比の測定方法)
金属微粒子分散物中における金属微粒子のアスペクト比は、どのように測定してもよいが、例えば、以下のようにして測定できる。
まず、金属微粒子分散物をガラス基板等の基体上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜の断面を透過型電子顕微鏡で観察し、透過型電子顕微鏡写真上で、側面が投影されている、すなわち、厚さbが現れている100個の金属微粒子を選び、各金属微粒子の厚さbを測定する。得られた100個の測定値の平均値を、金属微粒子の群の平均厚さとする。
次に、上記同様に透過型電子顕微鏡で観察し、透過型電子顕微鏡写真上で、主平面が投影されている100個の金属微粒子を選び、各金属微粒子について、主平面の投影面積と同面積の円の直径を求める。
得られた各金属微粒子についての前記円の直径を、前述の平均厚さで割ることにより、各金属微粒子のアスペクト比を個別に求めることができる。
なお、上記において、側面が投影されているか、主平面が投影されているかの判定方法としては、透過型電子顕微鏡写真上で、黒くみえる粒子を側面が投影されている粒子とみなし、透けて薄い色に見える粒子を主平面が投影されている粒子とみなすことができる。
(Aspect ratio measurement method)
The aspect ratio of the metal fine particles in the metal fine particle dispersion may be measured by any method, and can be measured, for example, as follows.
First, a metal fine particle dispersion is coated on a substrate such as a glass substrate to form a coating film, a cross section of the coating film is observed with a transmission electron microscope, and the side surface is projected on the transmission electron microscope photograph. That is, 100 metal fine particles having a thickness b appear are selected, and the thickness b of each metal fine particle is measured. The average value of the 100 measured values obtained is taken as the average thickness of the group of metal fine particles.
Next, in the same manner as described above, observation is performed with a transmission electron microscope, and 100 metal fine particles on which the main plane is projected are selected on the transmission electron microscope photograph, and each metal fine particle has the same area as the projected area of the main plane. Find the diameter of the circle.
By dividing the diameter of the circle for each obtained metal fine particle by the above-mentioned average thickness, the aspect ratio of each metal fine particle can be obtained individually.
In the above, as a method of determining whether the side surface is projected or the main plane is projected, the particles that appear black on the transmission electron micrograph are regarded as the particles on which the side surfaces are projected, and are transparent and thin. Particles that appear in color can be regarded as particles on which the principal plane is projected.

遮光画像付き基板における金属微粒子のアスペクト比についても、金属微粒子分散物中における金属微粒子のアスペクト比と同様の方法で測定できる。すなわち、遮光画像の断面を透過型電子顕微鏡により観察することにより測定できる。   The aspect ratio of the metal fine particles in the substrate with the light-shielding image can also be measured by the same method as the aspect ratio of the metal fine particles in the metal fine particle dispersion. That is, it can be measured by observing the cross section of the light-shielded image with a transmission electron microscope.

以上で求めた個別のアスペクト比が2.0以上である金属微粒子が、本発明にいう「平板金属微粒子」である。   The metal fine particles having an individual aspect ratio of 2.0 or more determined as described above are “flat metal fine particles” referred to in the present invention.

(平板化率)
本発明においては、金属微粒子の全数のうち、前記平板金属微粒子の占める数の割合を、「平板化率」(%)という。
ここで、金属微粒子の全数は、透過型電子顕微鏡写真上における粒径10nm以上の金属微粒子数とする。ここで、「粒径」とは、各金属微粒子の投影面積と同面積の円の直径を指す。
平板化率は、遮光画像の光学濃度を上げる観点からは、25%以上が好ましく、35%以上がより好ましく、50%以上が特に好ましい。
(Flatification rate)
In the present invention, the ratio of the number of the flat metal fine particles to the total number of the metal fine particles is referred to as “flattening rate” (%).
Here, the total number of metal fine particles is the number of metal fine particles having a particle diameter of 10 nm or more on a transmission electron micrograph. Here, the “particle diameter” refers to the diameter of a circle having the same area as the projected area of each metal fine particle.
The flattening rate is preferably 25% or more, more preferably 35% or more, and particularly preferably 50% or more from the viewpoint of increasing the optical density of the light-shielded image.

<不定形平板金属微粒子>
本発明における不定形平板金属微粒子は、前述の平板金属微粒子のうち、異形度が1.2以上の平板金属微粒子を指す。
<Amorphous flat metal particles>
The irregular shaped flat metal fine particles in the present invention refer to flat metal fine particles having an irregularity of 1.2 or more among the above-mentioned flat metal fine particles.

(異形度)
前記異形度とは、以下(1)〜(3)で表される値のうち、最小値を指す。
(1)金属微粒子の主平面の投影面が内接する最小の円の面積Scを、金属微粒子の主平面の投影面積で割った値
(2)金属微粒子の主平面の投影面が内接する最小の六角形の面積Shを、金属微粒子の主平面の投影面積で割った値
(3)金属微粒子の主平面の投影面が内接する最小の三角形の面積Stを、金属微粒子の主平面の投影面積で割った値
(Deformation degree)
The irregularity refers to the minimum value among the values represented by (1) to (3) below.
(1) The value obtained by dividing the area Sc of the smallest circle inscribed by the projection surface of the main plane of the metal fine particle by the projection area of the main plane of the metal fine particle. A value obtained by dividing the area Sh of the hexagon by the projected area of the main plane of the metal fine particles (3) The area St of the smallest triangle inscribed by the projection plane of the main plane of the metal fine particles is the projected area of the main plane of the metal fine particles Divided value

本発明の不定形平板金属微粒子は、前記異形度が1.2以上であるため、例えば、主平面の投影面が、円、六角形、または三角形の平板金属微粒子は、本発明にいう「不定形平板金属微粒子」には含まれない。
異形度が1.2未満の平板金属微粒子(例えば、主平面の投影面が円、六角形、または三角形の平板金属微粒子)を遮光画像に用いた場合、遮光画像の反射率が高くなる。
Since the irregular shaped flat metal fine particles of the present invention have a degree of irregularity of 1.2 or more, for example, flat metal fine particles having a main plane projection plane of a circle, hexagon, or triangle are referred to as “undefined”. It is not included in “Sized Flat Metal Fine Particles”.
When flat metal fine particles having an irregularity of less than 1.2 (for example, flat metal fine particles having a main plane projection surface of a circle, hexagon, or triangle) are used for a light-shielded image, the light-shielded image has a high reflectance.

(異形度の測定方法)
金属微粒子分散物中における平板金属微粒子の異形度はどのように測定してもよいが、例えば、以下のようにして測定できる。
まず、前述の「(アスペクト比の測定方法)」で説明した方法等により、透過型電子顕微鏡写真上に撮影されている各金属微粒子について、アスペクト比を個別に求め、アスペクト比が2.0以上のものを「平板金属微粒子」として選別する。
選別された平板金属微粒子のそれぞれについて、上記(1)〜(3)で表される値を計算し、最小値を求めることにより、各平板金属微粒子の異形度を個別に求めることができる。
(Measuring method of irregularity)
The degree of irregularity of the flat metal fine particles in the metal fine particle dispersion may be measured in any way, and can be measured, for example, as follows.
First, the aspect ratio is individually determined for each metal fine particle photographed on a transmission electron micrograph by the method described in “(Aspect ratio measurement method)” above, and the aspect ratio is 2.0 or more. Are selected as “flat metal particles”.
By calculating the values represented by the above (1) to (3) and obtaining the minimum value for each of the selected flat metal fine particles, the degree of irregularity of each flat metal fine particle can be determined individually.

遮光画像付き基板における平板金属微粒子の異形度についても、金属微粒子分散物中における平板金属微粒子の異形度と同様の方法で測定できる。すなわち、遮光画像の断面を透過型電子顕微鏡により観察することにより測定できる。   The irregularity of the flat metal fine particles on the substrate with the light-shielding image can also be measured by the same method as the irregularity of the flat metal fine particles in the metal fine particle dispersion. That is, it can be measured by observing the cross section of the light-shielded image with a transmission electron microscope.

以上で求めた個別の異形度が1.2以上である平板金属微粒子が、本発明にいう「不定形平板金属微粒子」である。   The flat metal fine particles having an individual degree of irregularity of 1.2 or more determined as described above are “indeterminate flat metal fine particles” referred to in the present invention.

(不定形平板化率)
本発明においては、金属微粒子に全数のうち、前記不定形平板金属微粒子の占める数の割合を、「不定形平板化率」(%)という。
ここで、金属微粒子の全数は、透過型電子顕微鏡写真上における粒径10nm以上の金属微粒子数とする。なお、本発明において「粒径」とは、各金属微粒子の投影面積と同面積の円の直径を指す。
不定形平板化率は、濃遮光画像の光学濃度を上げる観点や、反射率を抑制する観点からは、25%以上が好ましく、35%以上がより好ましく、50%以上が特に好ましい。
(Amorphous flattening rate)
In the present invention, of the total number of fine metal particles, the ratio of the number of the irregular flat metal fine particles is referred to as “amorphous flattening ratio” (%).
Here, the total number of metal fine particles is the number of metal fine particles having a particle diameter of 10 nm or more on a transmission electron micrograph. In the present invention, “particle size” refers to the diameter of a circle having the same area as the projected area of each metal fine particle.
The amorphous flattening rate is preferably 25% or more, more preferably 35% or more, and particularly preferably 50% or more from the viewpoint of increasing the optical density of the dark shading image and suppressing the reflectance.

(不定形平板金属微粒子の好ましい異形度)
本発明における不定形平板金属微粒子の異形度は、1.2以上であれば特に限定はない。異形度が1.2未満であると、反射率が高くなる。
さらなる低反射率の観点からは、異形度が1.3以上である不定形平板金属微粒子を含むことが好ましく、1.4以上である不定形平板金属微粒子を含むことがより好ましく、1.5以上である不定形平板金属微粒子を含むことが特に好ましい。
(Preferred irregularity of irregular shaped flat metal fine particles)
The irregularity of the irregular shaped flat metal fine particles in the present invention is not particularly limited as long as it is 1.2 or more. If the irregularity is less than 1.2, the reflectance is high.
From the viewpoint of further low reflectivity, it is preferable to include amorphous flat metal fine particles having an irregularity of 1.3 or more, more preferably to include amorphous flat metal fine particles having a profile of 1.4 or more. It is particularly preferable that the above-mentioned amorphous flat metal fine particles are included.

また、低反射率の観点からは、異形度の平均値も重要である。
本発明においては、低反射率の観点から、100個の不定形平板金属微粒子の異形度の平均値(以下、「平均異形度」ともいう)が1.2以上であることが好ましく、1.3以上であることがより好ましく、1.4以上であることが特に好ましい。
ここで、平均異形度は、金属微粒子を撮影した透過型電子顕微鏡写真上から100個の不定形平板金属微粒子を選別し、選別された不定形平板金属微粒子それぞれについて個別の異形度を求め、得られた異形度の総和を100で割ることにより求めることができる。
From the viewpoint of low reflectivity, the average value of the irregularity is also important.
In the present invention, from the viewpoint of low reflectivity, it is preferable that the average value of the irregularities of the 100 irregular flat metal fine particles (hereinafter also referred to as “average irregularity”) is 1.2 or more. It is more preferably 3 or more, and particularly preferably 1.4 or more.
Here, the average degree of irregularity is obtained by selecting 100 irregular-shaped flat metal fine particles from a transmission electron micrograph obtained by photographing metal fine particles, and obtaining individual irregularities for the selected irregular-shaped flat metal fine particles. It can be obtained by dividing the sum of the deformed degrees by 100.

(不定形平板金属微粒子の好ましいアスペクト比)
本発明における不定形平板金属微粒子のアスペクト比は、2.0以上であれば特に制限はないが、可視光全域の波長の光を吸収するために、アスペクト比が2.0〜4.0の不定形平板金属微粒子を含むことが好ましく、2.5〜4.0の不定形平板金属微粒子を含むことがより好ましく、3.0〜4.0の不定形平板金属微粒子を含むことが更に好ましく、3.5〜4.0の不定形平板金属微粒子を含むことが特に好ましい。また、本発明の金属微粒子分散物は、アスペクト比の異なる金属微粒子を含むことが好ましい。
(Preferred aspect ratio of irregular shaped flat metal fine particles)
The aspect ratio of the irregular shaped flat metal fine particles in the present invention is not particularly limited as long as it is 2.0 or more. However, in order to absorb light having a wavelength in the entire visible light range, the aspect ratio is 2.0 to 4.0. It is preferable to include amorphous flat metal fine particles, more preferably 2.5 to 4.0 amorphous flat metal fine particles, and still more preferably 3.0 to 4.0 amorphous flat metal fine particles. It is particularly preferable to contain amorphous flat metal fine particles of 3.5 to 4.0. The metal fine particle dispersion of the present invention preferably contains metal fine particles having different aspect ratios.

また、可視光全域の波長の光を吸収する観点からは、アスペクト比の平均値も重要である。
本発明においては、可視光全域の波長の光を吸収する観点から、100個の不定形平板金属微粒子のアスペクト比の平均値(以下、「平均アスペクト比」ともいう)が、2.5以上であることが好ましく、3.0以上であることがより好ましい。
ここで、平均アスペクト比は、金属微粒子を撮影した透過型電子顕微鏡写真上から100個の不定形平板金属微粒子を選別し、選別された不定形平板金属微粒子それぞれについて個別のアスペクト比を求め、得られたアスペクト比の総和を100で割ることにより求めることができる。
From the viewpoint of absorbing light having a wavelength in the entire visible light range, the average value of the aspect ratio is also important.
In the present invention, from the viewpoint of absorbing light having a wavelength in the entire visible light range, the average value of the aspect ratios of the 100 amorphous flat metal fine particles (hereinafter also referred to as “average aspect ratio”) is 2.5 or more. It is preferable that it is 3.0 or more.
Here, the average aspect ratio is obtained by selecting 100 amorphous plate metal fine particles from a transmission electron micrograph taken of metal fine particles, and obtaining individual aspect ratios for each of the selected amorphous plate metal fine particles. It can be obtained by dividing the sum of the obtained aspect ratios by 100.

(不定形平板金属微粒子の好ましい厚さ)
また、アスペクト比を上げる観点や、光学濃度を上げる観点等から、不定形平板金属微粒子の厚さbも重要である。
本発明においては、上記観点からは、厚さbが1nm〜50nmの不定形平板金属微粒子を含むことが好ましく、厚さbが3nm〜40nmの不定形平板金属微粒子を含むことがより好ましく、厚さbが7nm〜25nmの不定形平板金属微粒子を含むことが特に好ましい。
また、不定形平板金属微粒子の平均厚さ(100個の平均値)としては、1nm〜50nmが好ましく、3nm〜40nmがより好ましく、7nm〜25nmが特に好ましい。
(Preferred thickness of irregular shaped flat metal fine particles)
Further, from the viewpoint of increasing the aspect ratio, increasing the optical density, and the like, the thickness b of the amorphous flat metal fine particles is also important.
In the present invention, from the above viewpoint, it is preferable to include amorphous flat metal fine particles having a thickness b of 1 nm to 50 nm, more preferably including irregular flat metal particles having a thickness b of 3 nm to 40 nm. It is particularly preferable to include amorphous flat metal fine particles having a thickness b of 7 nm to 25 nm.
Moreover, as average thickness (100 average value) of an amorphous flat metal fine particle, 1 nm-50 nm are preferable, 3 nm-40 nm are more preferable, and 7 nm-25 nm are especially preferable.

<金属微粒子の数平均粒径>
本発明における金属微粒子の数平均粒径は、形成する膜厚を超えない限り特に制限はないが、5nm〜1000nmの範囲が好ましく、10nm〜200nmの範囲がより好ましく、30nm〜100nmの範囲が更に好ましい。
本発明における金属微粒子の数平均粒径が5nm〜1000nmの範囲であると、生成がし易く、該数平均粒径範囲の平板粒子を用いて作製されたカラーフィルタは、その特性上、目視で黒色(茶褐色ではない)に見える点で、好ましく、また、粒子を分散した分散物の安定性が向上して、良好な遮光性を示すため好ましい。
また、本発明における金属微粒子は、粒径分布についても特に制約はない。
<Number average particle diameter of metal fine particles>
The number average particle diameter of the metal fine particles in the present invention is not particularly limited as long as it does not exceed the film thickness to be formed, but is preferably in the range of 5 nm to 1000 nm, more preferably in the range of 10 nm to 200 nm, and further in the range of 30 nm to 100 nm. preferable.
When the number average particle diameter of the metal fine particles in the present invention is in the range of 5 nm to 1000 nm, it is easy to produce, and the color filter produced using the tabular grains having the number average particle diameter range is visually in view of its characteristics. It is preferable in that it looks black (not brown), and it is preferable because the stability of the dispersion in which the particles are dispersed is improved and good light-shielding properties are exhibited.
Further, the metal fine particles in the present invention are not particularly limited with respect to the particle size distribution.

(不定形平板金属微粒子の数平均粒径)
本発明における不定形平板金属微粒子の数平均粒径は、上記同様に、生成し易さの観点、目視でより黒色に見える点、分散安定性の観点、及び良好な遮光性の観点等から、2nm〜100nmの範囲が好ましく、3nm〜80nmの範囲がより好ましく、5nm〜50nmの範囲が特に好ましい。
(Number average particle size of irregular shaped flat metal fine particles)
As described above, the number average particle size of the irregular shaped flat metal fine particles in the present invention is as follows from the viewpoint of ease of production, the point that looks more black visually, the viewpoint of dispersion stability, and the good light shielding property. The range of 2 nm to 100 nm is preferable, the range of 3 nm to 80 nm is more preferable, and the range of 5 nm to 50 nm is particularly preferable.

(数平均粒径の測定方法)
金属微粒子分散物中における金属微粒子の数平均粒径は、例えば、前述の(アスペクト比の測定方法)で説明した方法と同様にして、透過型電子顕微鏡で観察し、透過型電子顕微鏡写真上で、ランダムに100個の粒子を選び、各粒子についての投影面積と同面積の円の直径を求める。得られた円の直径を、各金属微粒子の粒径とする。
得られた粒径の総和を100で割ることにより金属微粒子分散物中における金属微粒子の数平均粒径となる。
(Measurement method of number average particle diameter)
The number average particle diameter of the metal fine particles in the metal fine particle dispersion is observed with a transmission electron microscope, for example, in the same manner as described in the above (Method for measuring aspect ratio), and on the transmission electron micrograph. 100 particles are selected at random, and the diameter of a circle having the same area as the projected area of each particle is obtained. Let the diameter of the obtained circle be the particle diameter of each metal fine particle.
By dividing the total of the obtained particle diameters by 100, the number average particle diameter of the metal fine particles in the metal fine particle dispersion is obtained.

遮光画像付き基板における金属微粒子の数平均粒径についても、金属微粒子分散物中における金属微粒子の数平均粒径と同様の方法で測定できる。すなわち、遮光画像の断面を透過型電子顕微鏡により観察することにより測定できる。   The number average particle diameter of the metal fine particles in the substrate with the light-shielding image can also be measured by the same method as the number average particle diameter of the metal fine particles in the metal fine particle dispersion. That is, it can be measured by observing the cross section of the light-shielded image with a transmission electron microscope.

不定形平板金属微粒子の数平均粒径を測定する際には、まず、前述の方法により、透過型電子顕微鏡写真上の金属微粒子から不定形平板金属微粒子を100個選別する。
選別された不定形平板金属微粒子100個について、前記金属微粒子の数平均粒径の測定方法と同様の方法により、不定形平板金属微粒子の数平均粒径を測定することができる。
When measuring the number average particle diameter of the irregular flat metal fine particles, first, 100 irregular flat metal fine particles are selected from the metal fine particles on the transmission electron micrograph by the method described above.
The number average particle size of the irregular shaped flat metal fine particles can be measured for 100 selected irregular shaped flat metal fine particles by the same method as the method for measuring the number average particle size of the metal fine particles.

<金属微粒子の組成>
本発明における金属微粒子の金属としては、特に限定されず、いかなる金属であってもよい。また、本発明における金属微粒子としては、2種以上の金属を組み合わせて用いてもよく、合金として用いることも可能である。
その中でも、本発明における金属微粒子としては、金属又は金属および金属化合物との複合微粒子が好ましく、金属から形成されるものが特に好ましい。
特に本発明において好ましく用いられる金属微粒子の種類としては、特開2006−251237号公報の段落番号[0038]から[0039]に記載の金属微粒子が本発明においても好適に用いることができる。
<Composition of metal fine particles>
The metal of the metal fine particles in the present invention is not particularly limited, and any metal may be used. In addition, as the metal fine particles in the present invention, two or more kinds of metals may be used in combination, or may be used as an alloy.
Among them, the metal fine particles in the present invention are preferably metal or composite fine particles of a metal and a metal compound, and those formed from a metal are particularly preferable.
In particular, as the types of metal fine particles preferably used in the present invention, the metal fine particles described in paragraph numbers [0038] to [0039] of JP-A-2006-251237 can be suitably used in the present invention.

中でも、好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウムまたはこれらの合金から選ばれる少なくとも1種であり、より好ましい金属は、銅、銀、金、白金、錫及びこれらの合金から選ばれる少なくとも1種であり、更に好ましくは銀又は銀を含有する合金である。   Among these, a preferable metal is at least one selected from copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, or an alloy thereof, and more preferable metals are copper, silver, gold, platinum. , Tin and alloys thereof, and more preferably silver or an alloy containing silver.

本発明における不定形平板金属微粒子は、後述の分散ポリマーの存在下で、金属イオンを還元することによって得られる。
具体的には、分散ポリマーの存在下に、前記金属を有する金属塩を含む溶液と還元剤とを添加し、混合して、金属イオンを還元することによって得られる。
前記金属塩は、特に制限なく用いることができ、例えば、塩化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、アンモニウム塩、酢酸塩等の金属塩が挙げられ、これらの中でも、不定形平板粒子形成の過程で粒子に吸着しないという観点から、硝酸塩、亜硝酸塩、酢酸塩が好ましく、硝酸塩、酢酸塩がより好ましく、硝酸塩が特に好ましい。
The amorphous flat metal fine particles in the present invention can be obtained by reducing metal ions in the presence of a dispersion polymer described later.
Specifically, it is obtained by adding a metal salt-containing solution containing a metal and a reducing agent in the presence of a dispersion polymer, mixing them, and reducing metal ions.
The metal salt can be used without particular limitation, and examples thereof include metal salts such as chlorides, nitrates, nitrites, sulfates, ammonium salts, acetates, etc. Among these, the process of forming irregular tabular grains Nitrate, nitrite and acetate are preferable, nitrate and acetate are more preferable, and nitrate is particularly preferable.

また、前記還元剤としては、通常使用されるものであれば特に限定されず用いることができる。例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムなどの水素化ホウ素金属塩;水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化アルミニウムセシウム、水素化アルミニウムベリリウム、水素化アルミニウムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウム等の水素化アルミニウム塩;亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、クエン酸およびその塩、コハク酸およびその塩、アスコルビン酸およびその塩等;ジエチルアミノエタノール、エタノールアミン、プロパノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノプロパノールなどのアルカノールアミン;プロピルアミン、ブチルアミン、ジプロピレンアミン、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミンなどの脂肪族アミン;ピペリジン、ピロリジン、Nメチルピロリジン、モルホリンなどのようなヘテロ環式アミン;アニリン、N−メチルアニリン、トルイジン、アニシジン、フェネチジンのような芳香族アミン;ベンジルアミン、キシレンジアミン、N−メチルベンジルアミンのようなアラルキルアミン;等が挙げられ、金属微粒子の形状制御の観点から、これらの中でも、亜硫酸ナトリウム、ハイドロキノン、アスコルビン酸またはその塩から選択される1種以上を用いることが好ましく、亜硫酸ナトリウムとハイドロキノンとの組み合わせ、亜硫酸ナトリウムとアスコルビン酸との組み合わせ、又は亜硫酸ナトリウムとアスコルビン酸との組み合わせがより好ましく、亜硫酸ナトリウムとハイドロキノンとの組み合わせが更に好ましい。   The reducing agent is not particularly limited as long as it is usually used. For example, borohydride metal salts such as sodium borohydride and potassium borohydride; lithium aluminum hydride, potassium aluminum hydride, cesium aluminum hydride, beryllium aluminum hydride, magnesium magnesium hydride, calcium aluminum hydride, etc. Aluminum hydride salt; sodium sulfite, hydrazine compound, dextrin, hydroquinone, hydroxylamine, citric acid and its salt, succinic acid and its salt, ascorbic acid and its salt, etc .; diethylaminoethanol, ethanolamine, propanolamine, triethanolamine, Alkanolamines such as dimethylaminopropanol; propylamine, butylamine, dipropyleneamine, ethylenediamine, triethylenepentamine Any aliphatic amine; heterocyclic amines such as piperidine, pyrrolidine, N-methylpyrrolidine, morpholine; aromatic amines such as aniline, N-methylaniline, toluidine, anisidine, phenetidine; benzylamine, xylenediamine, N- Aralkylamine such as methylbenzylamine; etc., and from the viewpoint of shape control of the metal fine particles, among these, it is preferable to use one or more selected from sodium sulfite, hydroquinone, ascorbic acid or a salt thereof, A combination of sodium sulfite and hydroquinone, a combination of sodium sulfite and ascorbic acid, or a combination of sodium sulfite and ascorbic acid is more preferable, and a combination of sodium sulfite and hydroquinone is more preferable.

前記金属塩/前記還元剤当量比は0.2〜5であることが好ましく、0.5〜2であることがより好ましく、0.8〜1.5であることが特に好ましい。   The metal salt / reducing agent equivalent ratio is preferably 0.2 to 5, more preferably 0.5 to 2, and particularly preferably 0.8 to 1.5.

本発明の金属微粒子の製造方法において、金属塩および還元剤の添加方法や反応温度等は特に制限はなく、調製する目的の金属微粒子組成に合わせて、適宜調整することが出来る。
金属微粒子の形状制御の観点から、反応時の温度は60度以下が好ましく、50度以下であることがより好ましい。また、添加方法は特に限定されないが、金属イオンの添加開始を還元剤よりも早くすることが好ましい。そして、粒子形成時には均一系を形成する観点から攪拌することが好ましく、その回転数は200rpm以上が好ましく、400rpm以上がより好ましい。粒子形成時のpHに特に制限は無いが、水酸化物を経由して金属塩を還元させる観点から金属塩添加前のpHが10以上であることが好ましい。
In the method for producing fine metal particles of the present invention, the addition method of metal salt and reducing agent, the reaction temperature and the like are not particularly limited, and can be appropriately adjusted according to the intended fine metal particle composition to be prepared.
From the viewpoint of controlling the shape of the fine metal particles, the temperature during the reaction is preferably 60 ° C. or less, and more preferably 50 ° C. or less. The addition method is not particularly limited, but it is preferable to start the addition of metal ions earlier than the reducing agent. And it is preferable to stir from a viewpoint of forming a uniform system at the time of particle | grain formation, 200 rpm or more is preferable and the rotation speed is more preferable 400 rpm or more. Although there is no restriction | limiting in particular in pH at the time of particle | grain formation, It is preferable that pH before metal salt addition is 10 or more from a viewpoint of reducing a metal salt via a hydroxide.

−複合微粒子−
前記「金属化合物および金属との複合微粒子」とは、金属と金属化合物が結合して1つの粒子になったものをいう。
該複合微粒子としては、特開2006−251237号公報の段落番号[0040]から[0043]に記載の金属化合物微粒子、複合微粒子、及びコアシエル型の複合粒子が本発明においても好適に用いることができる。
-Composite fine particles-
The above-mentioned “composite fine particles of a metal compound and a metal” refers to particles obtained by combining a metal and a metal compound into one particle.
As the composite fine particles, metal compound fine particles, composite fine particles, and core shell type composite particles described in paragraphs [0040] to [0043] of JP-A-2006-251237 can be suitably used in the present invention. .

−金属微粒子の分散−
本発明における前記不定形平板金属微粒子を含む金属微粒子は、後述の本発明の金属微粒子分散物中において分散されていることが好ましい。分散時における金属微粒子の存在状態は特に限定されないが、金属微粒子が安定な分散状態で存在していることが好ましく、例えば、コロイド状態であることがより好ましい。
-Dispersion of fine metal particles-
In the present invention, the metal fine particles containing the irregular flat metal fine particles are preferably dispersed in the metal fine particle dispersion of the present invention described later. The presence state of the metal fine particles at the time of dispersion is not particularly limited, but the metal fine particles are preferably present in a stable dispersion state, for example, more preferably in a colloidal state.

前記金属微粒子を分散する際に用いる溶媒は特に制限なく用いられるが、中でもSP値が9.0以上のものが好ましい。「SP値」は溶解性パラメーターともいわれるもので、凝集エネルギー密度の平方根で表される。本発明においては、SP値とは、「接着ハンドブック」(日本接着学会編、日刊工業新聞社発行、1971年初版発行)の838頁記載のものを意味する。
例えば、n−ヘキサン/7.3、トルエン/8.9、酢酸エチル/9.1、メチルエチルケトン/9.3、アセトン/10.0、エチルアルコール/12.7、メチルアルコール/14.5、水/23.4等である。ここで前記SP値の単位は「(cal/cm1/2」である。
溶媒への再分散の際にSP値が9.0以上のものを用いると、分散性が特に良好となり、メチルエチルケトン、2−プロパノール、1−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、シクロヘキサノン、アセトン、N−メチルピロリドン、あるいはそれらの混合物などが好適に挙げられる。
後述の分散ポリマーの含有量が、70〜99質量%であると分散が十分行われ、凝集することがなく、また、平板成長を阻害してしまうことがないため好ましい。
The solvent used for dispersing the metal fine particles is not particularly limited, and among them, those having an SP value of 9.0 or more are preferable. The “SP value” is also called a solubility parameter, and is expressed by the square root of the cohesive energy density. In the present invention, the SP value means that described in page 838 of “Adhesion Handbook” (edited by the Japan Adhesive Society, published by Nikkan Kogyo Shimbun, first published in 1971).
For example, n-hexane / 7.3, toluene / 8.9, ethyl acetate / 9.1, methyl ethyl ketone / 9.3, acetone / 10.0, ethyl alcohol / 12.7, methyl alcohol / 14.5, water /23.4. Here, the unit of the SP value is “(cal / cm 3 ) 1/2 ”.
When an SP value of 9.0 or more is used during redispersion in a solvent, the dispersibility is particularly good, and methyl ethyl ketone, 2-propanol, 1-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, cyclohexanone, acetone , N-methylpyrrolidone, or a mixture thereof.
It is preferable that the content of the dispersion polymer described later is 70 to 99% by mass because the dispersion is sufficiently performed and aggregation is not caused, and tabular growth is not inhibited.

≪金属微粒子分散物≫
本発明の金属微粒子分散物は、少なくとも前述した金属微粒子を含有する分散物であって、前記金属微粒子が前記不定形平板金属微粒子を含み、前記金属微粒子全質量に対して10%以下の水を含有することを特徴とする。
本発明の金属微粒子分散物は、上記構成としたことにより、遮光画像を形成したときの該遮光画像の反射率を低減することができる。
前記水の含有量が10%を超えると、金属微粒子の分散状態が悪くなるためか、表示ムラなどの表示不良につながる。
表示ムラとは、液晶表示装置にグレイのテスト信号を入力させた時に観察される淡いムラである。ブラックマトリックス基板表面が平滑でない場合に、液晶の配向が乱れ、表示ムラの原因となるといわれている。比較的くっきりした筋状に見える「スジムラ」は感光性樹脂層の形成時に生じた厚みムラ、露光のムラ、現像処理のムラ、熱処理のムラなど、配向制御用突起の形成時に発生しているものと、液晶表示装置として機能する際に、配向制御用突起と液晶の間のインターラクションにより発生するムラとが考えられるが、機構は定かではない。
≪Metal fine particle dispersion≫
The metal fine particle dispersion of the present invention is a dispersion containing at least the above-mentioned metal fine particles, wherein the metal fine particles include the irregular shaped flat metal fine particles, and 10% or less of water with respect to the total mass of the metal fine particles. It is characterized by containing.
Since the metal fine particle dispersion of the present invention has the above-described configuration, the reflectance of the light-shielded image when a light-shielded image is formed can be reduced.
If the water content exceeds 10%, the dispersion state of the metal fine particles may be deteriorated, or display defects such as display unevenness may occur.
Display unevenness is light unevenness observed when a gray test signal is input to the liquid crystal display device. It is said that when the black matrix substrate surface is not smooth, the orientation of the liquid crystal is disturbed, causing display unevenness. "Stripes" that appear to be relatively sharp and streaky are those that occur during the formation of alignment control protrusions such as thickness unevenness, exposure unevenness, development processing unevenness, heat treatment unevenness, etc. that occur during the formation of the photosensitive resin layer. In addition, when functioning as a liquid crystal display device, there may be unevenness caused by the interaction between the alignment control protrusion and the liquid crystal, but the mechanism is not clear.

中でも、本発明による効果をより効果的に奏する観点、遮光画像を形成したときの該遮光画像の光学濃度向上の観点、及び、反射率抑制の観点等からは、金属微粒子分散物に含まれる金属微粒子であって粒径10nm以上の金属微粒子全数のうち、25%以上が不定形平板金属微粒子であることが好ましい。
不定形平板金属微粒子、金属微粒子の好ましい形態については前述のとおりである。
さらに本発明の金属微粒子分散物は、任意成分として、硫黄原子及び/又は窒素原子を1個以上有する分散ポリマーを含有してもよい。
以下、硫黄原子及び/又は窒素原子を1個以上有する分散ポリマーについて説明する。さらに、金属微粒子分散物の好ましい使用形態である、着色組成物についても説明する。
Among these, from the viewpoint of more effectively achieving the effects of the present invention, the viewpoint of improving the optical density of the light-shielded image when a light-shielded image is formed, and the viewpoint of suppressing reflectance, the metal contained in the metal fine particle dispersion Of the total number of fine metal particles having a particle diameter of 10 nm or more, 25% or more are preferably amorphous flat metal fine particles.
The preferred forms of the irregular flat metal fine particles and metal fine particles are as described above.
Furthermore, the metal fine particle dispersion of the present invention may contain a dispersion polymer having at least one sulfur atom and / or nitrogen atom as an optional component.
Hereinafter, the dispersion polymer having one or more sulfur atoms and / or nitrogen atoms will be described. Furthermore, the coloring composition which is a preferable usage form of a metal fine particle dispersion is also demonstrated.

<硫黄原子および/または窒素原子を1個以上有する分散ポリマー>
次に、本発明における硫黄原子および/または窒素原子を1個以上有する分散ポリマー(以下、「分散ポリマー」ともいう。)について説明する。
本発明の金属微粒子分散物は、分散ポリマーを含有することにより金属微粒子の分散安定性を更に改良することができる。
また、本発明の金属微粒子分散物は、分散ポリマーの存在下で金属微粒子を調製することにより、金属微粒子の分散安定性に優れた分散物とすることができる。
<Dispersion polymer having one or more sulfur atoms and / or nitrogen atoms>
Next, a dispersion polymer having at least one sulfur atom and / or nitrogen atom in the present invention (hereinafter also referred to as “dispersion polymer”) will be described.
The metal fine particle dispersion of the present invention can further improve the dispersion stability of the metal fine particles by containing a dispersion polymer.
Moreover, the metal fine particle dispersion of the present invention can be made into a dispersion excellent in dispersion stability of metal fine particles by preparing metal fine particles in the presence of a dispersion polymer.

本発明における分散ポリマーには、硫黄原子、窒素原子の両方を含むポリマーであってもよいし、硫黄原子または窒素原子のいずれか一方を有するポリマーであってよく、両者ともに本発明の金属微粒子の分散安定性効果を得ることができる。
硫黄原子をもつポリマーとしては、チオエーテル基、メルカプト基、スルフィド基、チオキソ基を有するものが好ましく、また、窒素原子をもつポリマーとしては、アミノ基、イミノ基を有するものや含窒素複素環化合物が好ましい。
The dispersion polymer in the present invention may be a polymer containing both a sulfur atom and a nitrogen atom, or may be a polymer having either a sulfur atom or a nitrogen atom, both of which are the metal fine particles of the present invention. A dispersion stability effect can be obtained.
As the polymer having a sulfur atom, those having a thioether group, a mercapto group, a sulfide group or a thioxo group are preferable. As the polymer having a nitrogen atom, those having an amino group or an imino group or a nitrogen-containing heterocyclic compound can be used. preferable.

前記含窒素複素環化合物としては、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール、ピロール、ピロリジン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピペリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、キノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールが挙げられ、これらの基は未置換でもよいし、置換された形でもよい。   Examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound include 2-mercaptobenzimidazole, pyrrole, pyrrolidine, oxazole, thiazole, imidazole, pyrazole, pyridine, piperidine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, indole, quinoline, benzothiazole, and benzimidazole. These groups may be unsubstituted or substituted.

本発明における分散ポリマーは、上述した硫黄原子または窒素原子を含む基を、後述する重合体(共重合体を含む)或いは重合性化合物の側鎖末端基として有するものでも、また、その側鎖末端以外に有していてもよいが、側鎖末端基として有するものが好ましい。以下、重合体(共重合体を含む。)または重合性化合物を単に重合体ともいう。   The dispersion polymer in the present invention may have the above-described group containing a sulfur atom or nitrogen atom as a side chain terminal group of a polymer (including a copolymer) or a polymerizable compound described later, Although it may have other than that, what has as a side chain terminal group is preferable. Hereinafter, a polymer (including a copolymer) or a polymerizable compound is also simply referred to as a polymer.

本発明における分散ポリマーは、パターン形成時に欠陥の無いパターンを形成する観点から、アルカリ溶解性を有することが好ましい。
本発明において「アルカリ溶解性」とは、蒸留水(HO)に不溶であり、且つ、pH10〜13のアルカリ水溶液に溶解しうるものを意味する。例えば、水溶性高分子化合物はアルカリ水溶液に対して可溶性を示すが、蒸留水に対しても同様に可溶性を示すので、本発明におけるポリマーからは除外される。
The dispersion polymer in the present invention preferably has alkali solubility from the viewpoint of forming a pattern having no defect during pattern formation.
In the present invention, “alkali solubility” means a substance that is insoluble in distilled water (H 2 O) and can be dissolved in an alkaline aqueous solution having a pH of 10 to 13. For example, the water-soluble polymer compound is soluble in an alkaline aqueous solution, but is similarly soluble in distilled water, and is excluded from the polymer in the present invention.

本発明における「アルカリ溶解性」の判定は、例えば、以下の評価法で決定することができる。
まず、pH12.0に調整したNaOH水溶液20mlに評価対象の化合物0.2gを添加し、激しく攪拌する。25℃の恒温層中に6時間放置し溶解性を確認する。同時に蒸留水20mlに評価対象の化合物0.2gを添加し、激しく攪拌する。25℃の恒温層中に6時間放置後に溶解性を確認する。この際、白濁、沈降物が確認されれば不溶、白濁、沈降物が確認されなければ可溶と判定する。このような評価法によって、pH12.0に調整したNaOH水溶液に可溶で、蒸留水に不溶の物を選択することにより、本発明における「アルカリ溶解性」を確認することができる。
The determination of “alkali solubility” in the present invention can be determined, for example, by the following evaluation method.
First, 0.2 g of the compound to be evaluated is added to 20 ml of NaOH aqueous solution adjusted to pH 12.0, and vigorously stirred. Leave in a constant temperature layer at 25 ° C. for 6 hours to confirm solubility. At the same time, 0.2 g of the compound to be evaluated is added to 20 ml of distilled water and stirred vigorously. The solubility is confirmed after standing in a constant temperature layer at 25 ° C. for 6 hours. At this time, if white turbidity and sediment are confirmed, it is determined to be insoluble, and if no cloudiness and sediment are confirmed, it is determined to be soluble. By selecting a substance that is soluble in an aqueous NaOH solution adjusted to pH 12.0 and insoluble in distilled water by such an evaluation method, the “alkali solubility” in the present invention can be confirmed.

本発明における分散ポリマーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。前記酸性基としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができる。前記酸性基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸、フェノール類、スルホアミドなどが挙げられ、これらの中でもカルボキシル基が好ましい。また、本発明における分散ポリマー中の前記アルカリ可溶性基を有する構造単位の導入量は、該アルカリ可溶性基の存在によって、本発明における分散ポリマーがpH10〜13のアルカリ水溶液に溶解しうるものであれば特に限定はされない。   As a dispersion polymer in this invention, what has an acidic group is mentioned suitably, for example. There is no restriction | limiting in particular as said acidic group, According to the objective, it can select suitably. Examples of the acidic group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a boronic acid, a phenol, and a sulfoamide. Among these, a carboxyl group is preferable. The introduction amount of the structural unit having an alkali-soluble group in the dispersion polymer in the present invention is such that the dispersion polymer in the present invention can be dissolved in an alkaline aqueous solution having a pH of 10 to 13 by the presence of the alkali-soluble group. There is no particular limitation.

本発明における分散ポリマーの酸価としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、70〜300(mgKOH/g)が好ましく、90〜250(mgKOH/g)がより好ましく、100〜200(mgKOH/g)が分散安定性の観点から特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as an acid value of the dispersion polymer in this invention, Although it can select suitably according to the objective, For example, 70-300 (mgKOH / g) is preferable, and 90-250 (mgKOH / g) is preferable. More preferably, 100 to 200 (mgKOH / g) is particularly preferable from the viewpoint of dispersion stability.

前記酸性基としてカルボキシル基を有する重合体としては、例えば、カルボキシル基を有するビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さ等の観点からカルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。また、スチレンおよびスチレン誘導体の少なくともいずれか1つを含む共重合体も好ましい。   Examples of the polymer having a carboxyl group as the acidic group include a vinyl copolymer having a carboxyl group, a polyurethane resin, a polyamic acid resin, a modified epoxy resin, and the like. Among these, solubility in a coating solvent, A vinyl copolymer having a carboxyl group is preferred from the viewpoint of solubility in an alkali developer, suitability for synthesis, ease of adjustment of film properties, and the like. A copolymer containing at least one of styrene and a styrene derivative is also preferable.

前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも(1)カルボキシル基を有するビニルモノマーと、(2)前記(1)のビニルモノマーと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。
前記カルボキシル基を有するビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等)と環状無水物(例えば、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物)との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、共重合性、コストおよび溶解性などの観点から(メタ)アクリル酸が特に好ましい。尚、本願明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸を総称し、その誘導体の場合も同様である。
また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の無水物を有するモノマーを用いてもよい。
The vinyl copolymer having a carboxyl group can be obtained by copolymerization of at least (1) a vinyl monomer having a carboxyl group and (2) a monomer copolymerizable with the vinyl monomer of (1).
Examples of the vinyl monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, acrylic acid dimer, and hydroxyl group. An addition reaction product of a monomer (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate) and a cyclic anhydride (for example, maleic anhydride, phthalic anhydride, cyclohexanedicarboxylic anhydride), ω-carboxy-polycaprolactone mono Examples include (meth) acrylate. Among these, (meth) acrylic acid is particularly preferable from the viewpoints of copolymerizability, cost, solubility, and the like. In the present specification, “(meth) acrylic acid” is a generic term for acrylic acid and methacrylic acid, and the same applies to derivatives thereof.
Moreover, you may use the monomer which has anhydrides, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride, as a precursor of a carboxyl group.

前記(1)のビニルモノマーと共重合可能なモノマーとしては、特に制限は無く目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、(メタ)アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類(例えば、スチレン、スチレン誘導体等)、(メタ)アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環類(例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等)、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ(2−アクリロイルオキシエチルエステル)、リン酸モノ(1−メチル−アクリロイルオキシエチルエステル)、官能基(例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基)を有するビニルモノマーなどが挙げられ、これらの中でもスチレン類が好ましい。   The monomer copolymerizable with the vinyl monomer (1) is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, and vinyl esters. , Maleic acid diesters, fumaric acid diesters, itaconic acid diesters, (meth) acrylamides, vinyl ethers, vinyl alcohol esters, styrenes (eg, styrene, styrene derivatives, etc.), (meth) acrylonitrile, vinyl groups Substituted heterocyclic rings (eg, vinylpyridine, vinylpyrrolidone, vinylcarbazole, etc.), N-vinylformamide, N-vinylacetamide, N-vinylimidazole, vinylcaprolactone, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, phosphorus Acid mono (2-a Liloyloxyethyl ester), phosphoric acid mono (1-methyl-acryloyloxyethyl ester), vinyl monomers having a functional group (for example, urethane group, urea group, sulfonamide group, phenol group, imide group) Of these, styrenes are preferred.

前記(メタ)アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、tert−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチル(メタ)アクリレート、tert−オクチル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、アセトキシエチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、β−フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、オクタフロロペンチル(メタ)アクリレート、パーフロロクチルエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth) ) Acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethyl (meth) acrylate, tert-octyl (meth) acrylate, Dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, acetoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meta ) Acrylate, diethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, diethylene glycol monophenyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, polyethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate , Polyethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, β-phenoxyethoxyethyl (meth ) Acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (Meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, tribromophenyloxyethyl (meth) acrylate and the like can be mentioned.

前記クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、安息香酸ビニルなどが挙げられる。
前記マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
前記フマル酸ジエステル類としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。
前記イタコン酸ジエステル類としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
Examples of the crotonic acid esters include butyl crotonate and hexyl crotonate.
Examples of the vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, and the like.
Examples of the maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate.
Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, dibutyl fumarate and the like.
Examples of the itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.

前記(メタ)アクリルアミド類としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチルアクリル(メタ)アクリルアミド、N−tert−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−(2−メトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N- n-butylacryl (meth) acrylamide, N-tert-butyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, Examples thereof include N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide and the like.

前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
前記ビニルアルコールのエステル類としては、ベルサト酸ビニル、酢酸ビニル、ギ酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニルなどが挙げられる。
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基(例えば、tert−ブチルオキシカルボニル基等)で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
Examples of the vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and methoxyethyl vinyl ether.
Examples of the vinyl alcohol esters include vinyl versatoate, vinyl acetate, vinyl formate, vinyl propionate, and vinyl butyrate.
Examples of the styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, chloro Examples include methylstyrene, hydroxystyrene protected with a group that can be deprotected by an acidic substance (for example, tert-butyloxycarbonyl group), methyl vinylbenzoate, α-methylstyrene, and the like.

本発明における分散ポリマーの分子量としては、特に制限は無く目的に応じて適宜選択することができるが、金属微粒子の分散安定性の観点から、例えば、重量平均分子量として、2,000〜300,000が好ましく、4,000〜150,000がより好ましく、6,000〜100,000が特に好ましい。   The molecular weight of the dispersion polymer in the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. From the viewpoint of the dispersion stability of the metal fine particles, for example, the weight average molecular weight is 2,000 to 300,000. Is preferable, 4,000 to 150,000 is more preferable, and 6,000 to 100,000 is particularly preferable.

また、本発明における分散ポリマーの有機性/無機性比(I/O値)は、0.44以上1.65以下が好ましく、0.5以上0.6以下が更に好ましい。前記I/O値が0.44以上であると水への溶解性をより低減することができ、また、前記I/O値が1.65以下であると、アルカリ水溶液への溶解性をより向上させることができる。
上記の有機性/無機性比(I/O値)は三共出版(株)発行「有機概念図」を参照することにより求めることができる。
本発明における分散ポリマーが硫黄原子を有する場合、ポリマー中の硫黄原子の含有量は、金属微粒子の分散安定性の観点から、0.5質量%〜20質量%が好ましく、1.0質量%〜10.0質量%が更に好ましい。
また、本発明における分散ポリマーが窒素原子を有する場合、ポリマー中の窒素原子の含有量は、金属微粒子の分散安定性の観点から、0.5質量%〜20質量%が好ましく、1.0質量%〜10.0質量%が更に好ましい。
更に、本発明における分散ポリマーが硫黄原子および窒素原子の両者を有する場合、硫黄原子(s)と窒素原子(n)との質量比(s/n)は、金属微粒子の分散安定性の観点から、0.01〜200好ましく、0.1〜20が更に好ましい。
Further, the organic / inorganic ratio (I / O value) of the dispersion polymer in the present invention is preferably 0.44 or more and 1.65 or less, and more preferably 0.5 or more and 0.6 or less. When the I / O value is 0.44 or more, the solubility in water can be further reduced, and when the I / O value is 1.65 or less, the solubility in an alkaline aqueous solution is further improved. Can be improved.
The organic / inorganic ratio (I / O value) can be obtained by referring to “Organic Conceptual Diagram” issued by Sankyo Publishing Co., Ltd.
When the dispersion polymer in this invention has a sulfur atom, 0.5 mass%-20 mass% are preferable from a viewpoint of the dispersion stability of a metal microparticle, and, as for content of the sulfur atom in a polymer, 1.0 mass%- 10.0 mass% is still more preferable.
Moreover, when the dispersion polymer in this invention has a nitrogen atom, 0.5 mass%-20 mass% are preferable from a viewpoint of the dispersion stability of a metal microparticle, and the content of the nitrogen atom in a polymer is 1.0 mass. % To 10.0% by mass is more preferable.
Furthermore, when the dispersion polymer in this invention has both a sulfur atom and a nitrogen atom, mass ratio (s / n) of a sulfur atom (s) and a nitrogen atom (n) is from a viewpoint of the dispersion stability of a metal microparticle. 0.01 to 200 is preferable, and 0.1 to 20 is more preferable.

本発明における分散ポリマーが硫黄原子を含有する場合の具体例としては、例えば、下記一般式(1)で表される繰り返し単位の少なくとも1種を有する高分子化合物が挙げられる。   Specific examples of the case where the dispersion polymer in the invention contains a sulfur atom include a polymer compound having at least one repeating unit represented by the following general formula (1).

Figure 2008249967
Figure 2008249967

前記一般式(1)において、Rは、水素原子、または総炭素数1〜4のアルキル基を表す。総炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、secブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。 In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in total. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, a sec butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group. Groups are preferred.

前記一般式(1)において、Rは、水素原子、総炭素数1〜18のアルキル基、総炭素数6〜14のアリール基、または総炭素数7〜16のアラルキル基を表し、このアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は各々独立に、無置換でも置換基を有していてもよく、飽和または不飽和の環状構造を形成していてもよい。飽和または不飽和の環状構造としては、2−メルカプトベンズイミダゾール、ピロール、ピロリジン、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピペリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、インドール、キノリン、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾールが挙げられる。 In the general formula (1), R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 16 carbon atoms. The group, the aryl group, and the aralkyl group may each independently be unsubstituted or substituted, and may form a saturated or unsaturated cyclic structure. Saturated or unsaturated cyclic structures include 2-mercaptobenzimidazole, pyrrole, pyrrolidine, oxazole, thiazole, imidazole, pyrazole, pyridine, piperidine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, indole, quinoline, benzothiazole, benzimidazole. .

前記Rで表される総炭素数1〜18のアルキル基は、無置換でも置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、secブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ステアリル基等のアルキル基が挙げられる。置換基を有する場合の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、エステル基、スルホニル基等が好適である。 The alkyl group having 1 to 18 carbon atoms represented by R 2 may be unsubstituted or substituted, for example, a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, Examples thereof include alkyl groups such as secbutyl group, isobutyl group, tert-butyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, stearyl group. As the substituent in the case of having a substituent, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a carboxyl group, an ester group, a sulfonyl group and the like are preferable.

上記のうち、総炭素数1〜12のアルキル基が好ましく、総炭素数1〜8のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基ノルマルブチル基、tert−ブチル基は特に好ましい。   Among the above, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, and a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, and a tert-butyl group are Particularly preferred.

前記Rで表されるアリール基は、無置換でも置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル等のアリール基が挙げられる。置換基を有する場合の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、エステル基、スルホニル基等が好適である。 The aryl group represented by R 2 may be unsubstituted or substituted, and examples thereof include an aryl group such as a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group. As the substituent in the case of having a substituent, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a carboxyl group, an ester group, a sulfonyl group and the like are preferable.

上記のうち、総炭素数6〜10のアリール基が好ましく、フェニル基は特に好ましい。   Among the above, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable, and a phenyl group is particularly preferable.

前記Rで表されるアラルキル基は、無置換でも置換基を有していてもよく、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基等のアラルキル基が挙げられる。置換基を有する場合の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、エステル基、スルホニル基等が好適である。
上記のうち、総炭素数7〜11のアラルキル基が好ましく、ベンジル基は特に好ましい。
The aralkyl group represented by R 2 may be unsubstituted or substituted, and examples thereof include aralkyl groups such as a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, and an anthracenylmethyl group. As the substituent in the case of having a substituent, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a carboxyl group, an ester group, a sulfonyl group and the like are preferable.
Among the above, an aralkyl group having 7 to 11 carbon atoms is preferable, and a benzyl group is particularly preferable.

前記一般式(1)において、Zは、−O−または−NH−を表す。また、Yは、−O−、−CO−、−NR−(Rは水素原子、アルキル基またはアリール基)、又は総炭素数1〜8の2価の連結基を表す。
Yで表される総炭素数1〜8の2価の連結基は、アルキレン基(例、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン)、アルケニレン基(例、エテニレン、プロぺニレン)、アルキニレン基(例、エチニレン、プロピニレン)、アリーレン基(例、フェニレン)、二価のヘテロ環基(例、6−クロロー1、3、5−トリアジン−2、4ージイル基、ピリミジン2、4−ジイル基、キノキサリン−2、3−ジイル基、ピリダジン−3,6−ジイル)またはこれらの組み合わせ(例えば−NHCHCHNH−、−NHCONH−等)であることが好ましい。
上記のうち、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、二価のヘテロ環基、Rのアルキル基またはアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アリール基の置換基と同じである。Rのアルキル基およびアリール基は、Rのそれぞれと同義であり、好ましい例も同様である。
In the general formula (1), Z represents —O— or —NH—. Y represents -O-, -CO-, -NR- (R is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), or a divalent linking group having 1 to 8 carbon atoms in total.
The divalent linking group having 1 to 8 carbon atoms represented by Y is an alkylene group (eg, methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene), an alkenylene group (eg, ethenylene, propenylene), an alkynylene group ( Examples, ethynylene, propynylene), arylene groups (eg, phenylene), divalent heterocyclic groups (eg, 6-chloro-1,3,5-triazine-2,4-diyl group, pyrimidine 2,4-diyl group, quinoxaline) 2,3-diyl group, pyridazine-3,6-diyl), or a combination thereof (e.g., -NHCH 2 CH 2 NH -, - is preferably a NHCONH-, etc.).
Among the above, the alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, divalent heterocyclic group, R alkyl group or aryl group may have a substituent. Examples of the substituent are the same as those of the aryl group. Alkyl and aryl groups of R are the same as each of R 2, and preferred examples are also the same.

Yで表される総炭素数1〜8の2価の連結基のうち、総炭素数1〜6の2価の連結基が好ましく、中でも、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、−CH−CH(OH)−CH−、−C−O−C−は特に好ましい。 Of the divalent linking groups having 1 to 8 carbon atoms represented by Y, divalent linking groups having 1 to 6 carbon atoms are preferred, and among them, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a hexylene group,- CH 2 —CH (OH) —CH 2 — and —C 2 H 4 —O—C 2 H 4 — are particularly preferred.

本発明における分散ポリマーは、前記一般式(1)で表される繰り返し単位を1種のみならず、2種以上を共重合して硫黄原子を2以上含む高分子化合物であってもよい。   The dispersion polymer in the present invention may be a polymer compound containing two or more sulfur atoms by copolymerizing not only one type of repeating unit represented by the general formula (1) but also two or more types.

本発明における分散ポリマーは、所望の高分子化合物に(好ましくは側鎖として)チオエーテル構造を導入する、あるいはチオエーテル基を(好ましくは側鎖に)持つ単量体を単独重合する、またはチオエーテル基を(好ましくは側鎖に)持つ単量体と他の単量体とを共重合することにより得ることができる。好ましくは、エチレン性不飽和単量体の側鎖にチオエーテル構造を導入する、あるいはチオエーテル構造を側鎖に含むエチレン性不飽和単量体を単独重合する、またはチオエーテル構造を側鎖に含むエチレン性不飽和単量体と他の共重合成分とを共重合することにより得ることができる。   The dispersion polymer in the present invention introduces a thioether structure into a desired polymer compound (preferably as a side chain), homopolymerizes a monomer having a thioether group (preferably in a side chain), or a thioether group. It can be obtained by copolymerizing a monomer (preferably in the side chain) with another monomer. Preferably, a thioether structure is introduced into the side chain of the ethylenically unsaturated monomer, or an ethylenically unsaturated monomer containing a thioether structure in the side chain is homopolymerized, or an ethylenic group containing a thioether structure in the side chain It can be obtained by copolymerizing an unsaturated monomer and another copolymer component.

以下、前記一般式(1)で表される繰り返し単位の具体例を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。   Specific examples of the repeating unit represented by the general formula (1) are shown below. However, the present invention is not limited to these.

Figure 2008249967
Figure 2008249967

上述の中でも、金属微粒子と組み合わせた場合に微粒子との結合に優れるという観点から、特にRが水素原子あるいはメチル基であって、Rがメチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、ノルマルブチル基、tert−ブチル基、フェニル基であって、Zが−O−であって、Yがエチレン基、である化合物が好ましい。 Among the above, from the viewpoint of excellent binding to fine particles when combined with metal fine particles, R 1 is particularly a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, or a normal butyl group. , A tert-butyl group and a phenyl group, wherein Z is —O— and Y is an ethylene group, are preferred.

本発明における分散ポリマーが窒素原子を含有する場合の具体例としては、例えば、下記で表される繰り返し単位の少なくとも1種を有する高分子化合物が挙げられる。   Specific examples of the case where the dispersion polymer in the present invention contains a nitrogen atom include, for example, a polymer compound having at least one repeating unit represented by the following.

Figure 2008249967
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以下に本発明における硫黄原子あるいは窒素原子を含有する分散ポリマーの具体例(例示化合物PO−1〜PO−34)を挙げるが、これらに限定される物ではない。下記例示化合物PO−1〜PO−34はA、B、Cで表される繰り返し単位を有した共重合体である。また繰り返し単位A,B,Cの量比は、それぞれの質量%の比で表す。   Specific examples (example compounds PO-1 to PO-34) of the dispersion polymer containing a sulfur atom or a nitrogen atom in the present invention are listed below, but the invention is not limited thereto. The following exemplary compounds PO-1 to PO-34 are copolymers having repeating units represented by A, B, and C. Moreover, the quantitative ratio of the repeating units A, B, and C is expressed by the ratio of the respective mass%.

Figure 2008249967
Figure 2008249967

Figure 2008249967
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本発明の金属微粒子分散物における前記分散ポリマーの含有量としては、全固形分に対して、1〜30質量%が好ましく、3〜20質量%がより好ましく、5〜15質量%が特に好ましい。
前記分散ポリマーの含有量が前記範囲内であれば、より効果的に、分解能を向上させ、凝集を防止し、ポリマーの吸着による平板成長の阻害を防止することができる。
As content of the said dispersion polymer in the metal fine particle dispersion of this invention, 1-30 mass% is preferable with respect to the total solid, 3-20 mass% is more preferable, 5-15 mass% is especially preferable.
When the content of the dispersed polymer is within the above range, the resolution can be improved more effectively, aggregation can be prevented, and inhibition of plate growth due to polymer adsorption can be prevented.

また、本発明の金属微粒子分散物には、界面活性剤、防腐剤、または分散安定化剤などを適宜配合してもよい。   In addition, a surfactant, preservative, or dispersion stabilizer may be appropriately added to the metal fine particle dispersion of the present invention.

前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、ベタイン系界面活性剤のいずれも使用でき、アニオン系およびノニオン系界面活性剤が特に好ましい。界面活性剤のHLB値は塗布液の溶媒が非極性溶剤であるため、3〜6が好ましい。   As the surfactant, any of anionic, cationic, nonionic, and betaine surfactants can be used, and anionic and nonionic surfactants are particularly preferable. The HLB value of the surfactant is preferably 3 to 6 because the solvent of the coating solution is a nonpolar solvent.

尚、前記HLB値については、例えば「界面活性剤ハンドブック」(吉田時行、進藤信一、山中樹好編、工学図書(株)発行昭和62年)に記載されている。
前記界面活性剤の具体例としては、プロピレングリコールモノステアリン酸エステル、プロピレングリコールモノラウリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリン酸エステル、ソルビタンモノラウリル酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリル酸エステルなどがある。更に、前述の「界面活性剤ハンドブック」に記載されている界面活性剤の化合物も用いることができる。
The HLB value is described in, for example, “Surfactant Handbook” (Tokiyuki Yoshida, Shinichi Shindo, Yoshiyoshi Yamanaka, published in Engineering Book Co., Ltd. 1987).
Specific examples of the surfactant include propylene glycol monostearate, propylene glycol monolaurate, diethylene glycol monostearate, sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, and the like. Furthermore, surfactant compounds described in the aforementioned “Surfactant Handbook” can also be used.

分散安定化剤については、例えば「顔料分散技術(技術情報協会(株)1999年発行)」に記載されているものを用いることができる。   As the dispersion stabilizer, for example, those described in “Pigment Dispersion Technology (issued by Technical Information Association, Inc. 1999)” can be used.

<着色組成物>
本発明の金属微粒子分散物は、更に他の成分を加え、着色組成物の形態で用いることが好ましい。
即ち、前記着色組成物は、本発明の金属微粒子分散物を含有し、必要に応じて、樹脂またはその前駆体の少なくとも1種、顔料微粒子、バインダーとなるポリマー、モノマー、開始剤、溶媒等を含有してもよい。
そして、前記着色組成物は、印刷インク、インクジェットインク、フォトマスク作製材料、印刷用プルーフ作製用材料、エッチングレジスト、ソルダーレジスト、プラズマデイスプレイパネル(PDP)の隔壁、誘電体パターン、電極(導体回路)パターン、電子部品の配線パターン、導電ペースト、導電フィルム、ブラックマトリクス等の遮光画像等に用いることができる。
例えば、カラー液晶表示装置等に用いるカラーフィルタの表示特性向上のために、着色パターンの間隔部、周辺部分、およびTFTの外光側等に遮光画像を設けるために好適に用いることが好ましい。
また、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部分、更に好ましくはTFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のブラックマトリクスとして特に好適に用いられる。
<Coloring composition>
The metal fine particle dispersion of the present invention is preferably used in the form of a colored composition by further adding other components.
That is, the colored composition contains the metal fine particle dispersion of the present invention, and if necessary, at least one kind of resin or its precursor, pigment fine particles, a polymer serving as a binder, a monomer, an initiator, a solvent, and the like. You may contain.
The coloring composition includes printing ink, inkjet ink, photomask preparation material, printing proof preparation material, etching resist, solder resist, plasma display panel (PDP) partition, dielectric pattern, and electrode (conductor circuit). It can be used for shading images such as patterns, wiring patterns of electronic components, conductive pastes, conductive films, and black matrices.
For example, in order to improve the display characteristics of a color filter used in a color liquid crystal display device or the like, it is preferably used to provide a light-shielded image in the color pattern interval portion, the peripheral portion, the outside light side of the TFT, and the like.
In addition, black edges provided in the periphery of display devices such as liquid crystal display devices, plasma display devices, EL display devices, and CRT display devices, and black or black stripes or stripes between red, blue, and green pixels This portion is more preferably used as a black matrix such as a dot-like or linear black pattern for shielding a TFT.

また、前記着色組成物は、黒色の黒色組成物であることが好ましい。ここで、「黒色」とは、無彩色点(x=0.333,y=0.333,Y=0)からの色度のズレがΔEで100以内である色をいう。   Moreover, it is preferable that the said coloring composition is a black black composition. Here, “black” refers to a color in which the deviation of chromaticity from the achromatic color point (x = 0.333, y = 0.333, Y = 0) is ΔE within 100.

また、「黒色組成物」とは、本発明の着色組成物に含まれる全金属原子濃度を4.0×10−4モル/Lの分散溶液とした場合に、波長450nmと550nmでの吸光度の比、すなわち黒色度(k=Abs(450nm)/Abs(550nm))が0.5〜2.0の範囲である組成物を意味する。前記黒色組成物の吸収は、日立社製U−3410形自記分光光度計を用いて測定することができる。 The “black composition” means the absorbance at wavelengths of 450 nm and 550 nm when the total metal atom concentration contained in the colored composition of the present invention is 4.0 × 10 −4 mol / L. The ratio, that is, the blackness (k = Abs (450 nm) / Abs (550 nm)) means a composition having a range of 0.5 to 2.0. The absorption of the black composition can be measured using a Hitachi U-3410 type self-recording spectrophotometer.

前記金属微粒子分散物以外の着色組成物を構成する成分としては、特開2006−251095号公報の段落番号[0023]から[0075]に記載の感光性樹脂組成物を構成する成分や、特開2006−251237号公報の段落番号[0077]から[0100]に記載の光重合性組成物を構成する成分が、本発明においても好適に用いることができる。   As components constituting the coloring composition other than the metal fine particle dispersion, components constituting the photosensitive resin composition described in paragraphs [0023] to [0075] of JP-A-2006-251095, The components constituting the photopolymerizable composition described in paragraph numbers [0077] to [0100] of 2006-251237 can be suitably used in the present invention.

前記着色組成物を用いて遮光層(パターニングする前の層)を形成した場合、遮光層の膜厚1μmあたりの光学濃度は1以上となることが好ましい。例えば、カラーフィルタの作製時など、ポストベークの際、金属微粒子が融着するのを防止することを考慮すると、前記遮光用着色組成物における金属微粒子の含有量は、形成される遮光層の全固形分に対して10〜90質量%、好ましくは10〜80質量%程度になるように調節することが好ましい。また、前記含有量は、金属微粒子の数平均粒径による光学濃度の変動を考慮して行うのが好ましい。   When a light-shielding layer (layer before patterning) is formed using the colored composition, the optical density per 1 μm thickness of the light-shielding layer is preferably 1 or more. For example, in consideration of preventing the metal fine particles from fusing during post-baking, such as when producing a color filter, the content of the metal fine particles in the light-shielding coloring composition is the total amount of the light-shielding layer to be formed. It is preferable to adjust so that it may become 10-90 mass% with respect to solid content, Preferably it is about 10-80 mass%. The content is preferably determined in consideration of optical density variation due to the number average particle diameter of the metal fine particles.

前記着色組成物を用いて遮光画像を形成することで、薄膜で且つ光学濃度が高い低反射率の遮光画像を作製することができる。   By forming a light-shielding image using the colored composition, a light-shielding image having a thin film and a high optical density and a low reflectance can be produced.

本発明でいう「遮光画像」とは、ブラックマトリクスを包含する意味で用いられる。「ブラックマトリクス」とは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた黒色の縁や、赤、青、緑の画素間の格子状やストライプ状の黒色の部分、更にTFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のことであり、このブラックマトリクスの定義は、例えば、菅野泰平著、「液晶ディスプレイ製造装置用語辞典」、第2版、日刊工業新聞社、1996年、p.64に記載されている。遮光画像の例としては、有機ELディスプレイ(例えば、特開2004−103507号公報)、PDPのフロントパネル(例えば、特開2003−51261号公報)、PALCではバックライトの遮光等が挙げられる。
ブラックマトリクスは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光の電流リークによる画質低下を防止するため、高い遮光性(光学濃度ODで3以上)が必要である。
In the present invention, the “light-shielded image” is used to include a black matrix. “Black matrix” means a black edge provided around the periphery of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an EL display device, a CRT display device, or a grid between red, blue, and green pixels. And striped black parts, and dot-like and linear black patterns for TFT shielding, etc. The definition of this black matrix is, for example, written by Taihei Kanno, “Liquid Crystal Display Device Dictionary”, 2nd edition, Nikkan Kogyo Shimbun, 1996, p. 64. Examples of the light-shielded image include an organic EL display (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-103507), a front panel of a PDP (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-51261), and PALC for light shielding of a backlight.
The black matrix improves the display contrast, and in the case of an active matrix driving type liquid crystal display device using thin film transistors (TFTs), in order to prevent image quality deterioration due to light current leakage, it has a high light shielding property (with an optical density OD). 3 or more) is required.

≪転写材料≫
本発明の転写材料は、仮支持体上に、前述の本発明の金属微粒子分散物を用いて形成された遮光層を少なくとも設け、更に、必要に応じて、熱可塑性樹脂層、中間層等の他の層を設けて構成される。該転写材料をガラス等の基板に圧着することにより、該基板上に遮光層を形成することができる。
転写材料の好ましい形態としては、例えば、特開平5−72724号公報に記載されている感光性樹脂転写材料、すなわち一体型となったフイルムの形態が好適である。該一体型フイルムの構成の例としては、仮支持体/熱可塑性樹脂層/中間層/遮光層/保護フイルムを、この順に積層した構成が挙げられる。
該転写材料を構成する仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルムや、転写材料の作製方法については、特開2005−3861号公報の段落番号[0023]〜[0066]に記載のものが好適なものとして挙げられる。
≪Transfer material≫
The transfer material of the present invention is provided with at least a light-shielding layer formed using the above-described metal fine particle dispersion of the present invention on a temporary support, and further, if necessary, a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, etc. It is configured by providing other layers. By pressure-bonding the transfer material to a substrate such as glass, a light shielding layer can be formed on the substrate.
As a preferable form of the transfer material, for example, a photosensitive resin transfer material described in JP-A-5-72724, that is, an integrated film form is suitable. An example of the structure of the integral film is a structure in which a temporary support / thermoplastic resin layer / intermediate layer / light-shielding layer / protective film is laminated in this order.
The temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer, the protective film, and the method for producing the transfer material constituting the transfer material are described in paragraphs [0023] to [0066] of JP-A-2005-3861. Can be mentioned as suitable.

≪遮光画像付き基板≫
本発明の遮光画像付き基板は、光透過性基板等の基板上に、前述の不定形平板金属微粒子を含む金属微粒子を含有する遮光画像を設けた構成からなる。
本発明の遮光画像付き基板は、上記構成としたことにより、遮光画像の反射率を低減することができる。
中でも、本発明による効果をより効果的に奏する観点からは、遮光画像に含まれる金属微粒子であって粒径10nm以上の金属微粒子全数のうち、25%以上が不定形平板金属微粒子であることが好ましい。
不定形平板金属微粒子、金属微粒子の好ましい形態については前述のとおりである。
≪Substrate with shading image≫
The substrate with a light-shielding image of the present invention has a configuration in which a light-shielding image containing metal fine particles including the above-mentioned irregular flat metal fine particles is provided on a substrate such as a light-transmitting substrate.
Since the substrate with a light-shielding image of the present invention is configured as described above, the reflectance of the light-shielding image can be reduced.
Among them, from the viewpoint of more effectively achieving the effects of the present invention, 25% or more of the total number of metal fine particles included in the light-shielded image and having a particle diameter of 10 nm or more are amorphous plate metal fine particles. preferable.
The preferred forms of the irregular flat metal fine particles and metal fine particles are as described above.

本発明の遮光画像付き基板は、基板上に遮光画像を形成することにより作製することができる。
基板上に前記遮光画像を形成する方法としては特に限定はないが、基板上に前記不定形平板金属微粒子を含む金属微粒子を含有する遮光層を形成する遮光層形成工程と、基板上に形成された遮光層を全面露光若しくはパターン状に露光する露光工程と、パターン状に露光した場合には露光された遮光層を現像する現像工程と、を有して構成される方法が好適である。更に、必要に応じてポスト露光やポストベーク等の他の工程を設けてもよい。
The substrate with a light-shielding image of the present invention can be produced by forming a light-shielding image on the substrate.
A method for forming the light-shielding image on the substrate is not particularly limited, and a light-shielding layer forming step for forming a light-shielding layer containing metal fine particles including the irregular plate-like metal fine particles on the substrate, and a method of forming the light-shielding image on the substrate. A method comprising an exposure process for exposing the entire light shielding layer or exposing it in a pattern and a developing process for developing the exposed light shielding layer when exposed in a pattern is suitable. Furthermore, you may provide other processes, such as post-exposure and post-baking, as needed.

前記遮光画像形成工程において、基板上に前記遮光層を形成する方法としては特に限定はない。
例えば、前述の本発明の転写材料を用い、基板上に該転写材料中の遮光層を転写する方法が挙げられる(以下、「転写法」ともいう)。また、基板上に本発明の金属微粒子分散物若しくは該金属微粒子分散物を含有する着色組成物を、公知の塗布方法により塗布する方法も挙げられる(以下、「塗布法」ともいう)。いずれの方法においても、本発明の金属微粒子分散物を用いるため、形成された遮光画像の反射率を下げ、光学濃度を向上させることができ、該遮光画像を表示装置に用いた際には表示ムラを抑制できる。
上記方法のうち、遮光層の層厚の均一性を良好に保つ観点、及びコスト削減の観点等からは、「転写法」により遮光層を形成することが好ましい。
In the light shielding image forming step, the method for forming the light shielding layer on the substrate is not particularly limited.
For example, a method of transferring the light-shielding layer in the transfer material onto the substrate using the transfer material of the present invention described above (hereinafter also referred to as “transfer method”) can be mentioned. Moreover, the method of apply | coating the metal fine particle dispersion of this invention on the board | substrate or the coloring composition containing this metal fine particle dispersion by a well-known coating method (henceforth "coating method") is also mentioned. In any of the methods, since the metal fine particle dispersion of the present invention is used, the reflectance of the formed light-shielded image can be lowered and the optical density can be improved. When the light-shielded image is used in a display device, the display is performed. Unevenness can be suppressed.
Of the above methods, it is preferable to form the light shielding layer by the “transfer method” from the viewpoint of maintaining the uniformity of the thickness of the light shielding layer and the viewpoint of cost reduction.

前記露光、現像等の工程については、特開2006−251095号公報の段落番号[0096]から[0106]に記載の方法や、特開2006−251237号公報の段落番号[0116]から[0126]に記載の遮光画像の形成方法が本発明においても好適に用いることができる。   Regarding the steps such as exposure and development, the method described in paragraph Nos. [0096] to [0106] of JP-A-2006-251095 and the paragraph numbers [0116] to [0126] of JP-A-2006-251237 are disclosed. The method for forming a light-shielded image described in (1) can also be suitably used in the present invention.

基板上には、前記遮光層以外にも、中間層(酸素遮断層)等の他の層を形成してもよいが、この場合には、該他の層は現像工程において除去されることが好ましい。   In addition to the light shielding layer, other layers such as an intermediate layer (oxygen barrier layer) may be formed on the substrate. In this case, the other layers may be removed in the development step. preferable.

本発明の遮光画像付き基板(好ましくは、ブラックマトリクス基板)における遮光画像の膜厚としては、0.2〜5.0μmが好ましく、特に0.2〜2.0μmが好ましい。 前記遮光画像付き基板における遮光層は、本発明における金属微粒子を分散させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度(例えば、O.D3.5以上)を有することができる。
前記遮光画像付き基板における遮光層は、波長500nmにおいてガラス基板側(塗布膜の形成されている面の反対側)から測定した反射率としては、7.0%以下が好ましく、特に5.0%以下が好ましい。
The film thickness of the light-shielded image in the substrate with a light-shielded image (preferably a black matrix substrate) of the present invention is preferably 0.2 to 5.0 μm, particularly preferably 0.2 to 2.0 μm. Since the light shielding layer in the substrate with the light shielding image is obtained by dispersing the metal fine particles in the present invention, even a thin film as described above can have a sufficient optical density (for example, OD 3.5 or more).
The light-shielding layer in the substrate with a light-shielding image preferably has a reflectance of 7.0% or less, particularly 5.0%, as measured from the glass substrate side (the side opposite to the surface on which the coating film is formed) at a wavelength of 500 nm. The following is preferred.

本発明の遮光画像付き基板における基板としては、例えば、光透過性基板を用いることができる。前記光透過性基板としては、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板或いはプラスチックフィルム等が用いられる。   As a board | substrate in the board | substrate with a light-shielding image of this invention, a light transmissive board | substrate can be used, for example. As the light transmissive substrate, a known glass plate such as a soda glass plate having a silicon oxide film on its surface, a low expansion glass plate, a non-alkali glass plate, a quartz glass plate, or a plastic film is used.

本発明の遮光画像付き基板は、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。また、下記カラーフィルタの作製においても好適に用いることができる。   The board | substrate with a light-shielding image of this invention can be applied without a restriction | limiting in particular to uses, such as portable terminals, such as a television, a personal computer, a liquid crystal projector, a game machine, a mobile telephone, a digital camera, and a car navigation. Moreover, it can be used suitably also in preparation of the following color filter.

≪カラーフィルタ≫
本発明のカラーフィルタは、本発明の遮光画像付き基板を用いて作製される。
更に、具体的には、本発明のカラーフィルタは、光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる2色以上を呈する画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに遮光画像(ブラックマトリクス)により離画されている構成を有することが好ましい。
前記異なる2色以上を呈する画素群は、2色でも、3色でも4色以上でもよい。例えば3色の場合は赤(R)、緑(G)および青(B)の3つの色相が好適に用いられる。赤、緑、青の3色の画素群を配置する場合は、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、4種以上の画素群を配置する場合ではどのような配置であってもよい。
≪Color filter≫
The color filter of the present invention is produced using the substrate with a light-shielding image of the present invention.
More specifically, the color filter of the present invention has a pixel group consisting of a colored layer on a light-transmitting substrate and exhibiting two or more different colors, and each pixel constituting the pixel group is mutually It is preferable that the image is separated by a light-shielded image (black matrix).
The pixel group exhibiting two or more different colors may be two colors, three colors, or four colors or more. For example, in the case of three colors, three hues of red (R), green (G), and blue (B) are preferably used. When arranging pixel groups of three colors of red, green, and blue, the arrangement of a mosaic type or a triangle type is preferable, and any arrangement may be used when four or more types of pixel groups are arranged.

本発明のカラーフィルタを作製するには、光透過性の基板に常法により2色以上の画素群を形成した後、前記のようにしてブラックマトリクスを形成してもよいし、或いは、最初にブラックマトリクスを形成し、その後2色以上の画素群を形成してもよい。
本発明のカラーフィルタは上述のごとき薄膜で高濃度であるブラックマトリクスを備えているため、表示コントラストが高くまた平坦性に優れている。
In order to produce the color filter of the present invention, a black matrix may be formed as described above after forming a pixel group of two or more colors on a light-transmitting substrate by a conventional method. A black matrix may be formed, and then a pixel group of two or more colors may be formed.
Since the color filter of the present invention includes the black matrix having a high density and a thin film as described above, the display has high display contrast and excellent flatness.

≪表示装置≫
本発明の表示装置は、本発明の遮光画像付基板を備えたことを特徴とする。
本発明の表示装置としては液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置などをいう。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーTFT方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーTFT方式の液晶表示装置については例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版(株)1996年発行)」に記載されている。さらに本発明はIPSなどの横電界駆動方式、MVAなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、STN、TN、VA、IPS、OCS、FFS、及びR−OCB等にも適用できる。これらの方式については例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ−技術と市場の最新動向−(東レリサーチセンター調査研究部門 2001年発行)」の43ページに記載されている。
≪Display device≫
A display device according to the present invention includes the substrate with a light-shielding image according to the present invention.
The display device of the present invention refers to a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, or a CRT display device. For the definition of display devices and explanation of each display device, refer to “Electronic Display Devices (Akio Sasaki, published by Industrial Research Institute 1990)”, “Display Devices (Junaki Ibuki, Industrial Books Co., Ltd.) Issue)).
Among the display devices of the present invention, a liquid crystal display device is particularly preferable. The liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Kenkyukai 1994)”. The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to various types of liquid crystal display devices described in, for example, the “next generation liquid crystal display technology”. Among these, the present invention is particularly effective for a color TFT liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in 1996 by Kyoritsu Publishing Co., Ltd.)”. Further, the present invention is applied to a liquid crystal display device with a wide viewing angle such as a lateral electric field driving method such as IPS and a pixel division method such as MVA, STN, TN, VA, IPS, OCS, FFS, and R-OCB. Applicable. These methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-latest technology and market trends-(issued in 2001 by Toray Research Center Research Division)".

液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明のブラックマトリクスはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場(島 健太郎 (株)シーエムシー 1994年発行)」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望(下巻)(表 良吉 (株)富士キメラ総研 2003年発行)」に記載されている。   In addition to the color filter, the liquid crystal display device includes various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle guarantee film. The black matrix of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members. For example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials and Chemicals Market (Kentaro Shima, CMC Co., Ltd., 1994)”, “2003 Liquid Crystal Related Market Status and Future Prospects (Volume 2)” (Table Yoshiyoshi) Fuji Chimera Research Institute, published in 2003) ”.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

[実施例1]
≪銀ナノ粒子分散液A−1の調製≫
純水1000mLに前記例示化合物PO−1を6.0×10−3%(W/W)となるように添加し、1.0モル/L硝酸カルシウム水溶液10mLを添加し攪拌した。その後、1.0モル/L硝酸銀水溶液50mLを30秒かけて添加し、その後1.0モル/L亜硫酸ナトリウム水溶液50mLと1.0モル/Lハイドロキノン水溶液25mLを30秒かけ添加した。
前記銀微粒子液に、硝酸を滴下してpH4に調整し銀微粒子を凝集沈降させた。
上記凝集銀微粒子液の上澄み液を除去し、これに蒸留水750mLを加えて120分静置し再び上澄みを除去した。これを4回繰り返した。
[Example 1]
<< Preparation of Silver Nanoparticle Dispersion A-1 >>
The exemplified compound PO-1 was added to 1000 mL of pure water so as to be 6.0 × 10 −3 % (W / W), and 10 mL of 1.0 mol / L calcium nitrate aqueous solution was added and stirred. Thereafter, 50 mL of 1.0 mol / L silver nitrate aqueous solution was added over 30 seconds, and then 50 mL of 1.0 mol / L sodium sulfite aqueous solution and 25 mL of 1.0 mol / L hydroquinone aqueous solution were added over 30 seconds.
Nitric acid was added dropwise to the silver fine particle solution to adjust the pH to 4, and the silver fine particles were aggregated and settled.
The supernatant liquid of the aggregated silver fine particle liquid was removed, 750 mL of distilled water was added thereto, and the mixture was allowed to stand for 120 minutes to remove the supernatant again. This was repeated 4 times.

上記凝集銀微粒子にメチルエチルケトンを銀が8質量%となるよう加え、ブランソン社製「ソニファー(Sonifier)II型」超音波ホモジナイザーを用いて20kHzの超音波を5分間照射した。
その後、ブランソン社製「モデル(Model)2000bdc−h 40:0.8型超音波ホモジナイザー」で40kHzの超音波を10分間照射して、銀ナノ粒子分散液(金属微粒子分散液)を得た。
上記超音波照射の間は、上記液が25℃に維持されるよう、ヤマト科学社製クールニクスCTW400により冷却した。
以上のようにして得られた銀ナノ粒子分散液中の水の含有量は、0.3質量%であった。
Methyl ethyl ketone was added to the above-mentioned aggregated silver fine particles so that the silver content was 8 mass%, and 20 kHz ultrasonic waves were irradiated for 5 minutes using a “Sonifer II type” ultrasonic homogenizer manufactured by Branson.
Subsequently, 40 nm ultrasonic waves were irradiated for 10 minutes with a “Model 2000bdc-h 40: 0.8 type ultrasonic homogenizer” manufactured by Branson to obtain a silver nanoparticle dispersion (metal fine particle dispersion).
During the ultrasonic irradiation, the liquid was cooled by COOLNICS CTW400 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. so that the liquid was maintained at 25 ° C.
The water content in the silver nanoparticle dispersion obtained as described above was 0.3% by mass.

<銀ナノ粒子の測定>
上記で得られた銀ナノ粒子分散液に含まれる銀ナノ粒子について、以下の測定を行った。測定結果は下記表1に示す。
まず、上記で得られた銀ナノ粒子分散液をガラス基板に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜の断面を透過型電子顕微鏡で観察した(倍率100000倍)。
この透過型電子顕微鏡写真(倍率100000倍)上の銀ナノ粒子の群から、主な粒子形状を求め、平板銀ナノ粒子を選定し、平板化率を求めた。
さらに、選定された平板銀ナノ粒子から、不定形平板銀ナノ粒子を選定し、不定形平板化率を求めた。
選定された不定形平板銀ナノ粒子について、数平均粒径、平均アスペクト比、及び平均異形度を求めた。
以下、各選定方法、各測定方法について説明する。
<Measurement of silver nanoparticles>
The following measurement was performed about the silver nanoparticle contained in the silver nanoparticle dispersion liquid obtained above. The measurement results are shown in Table 1 below.
First, the silver nanoparticle dispersion obtained above was applied to a glass substrate to form a coating film, and the cross section of the coating film was observed with a transmission electron microscope (magnification 100000 times).
From the group of silver nanoparticles on this transmission electron micrograph (magnification 100000 times), the main particle shape was determined, flat silver nanoparticles were selected, and the flattening rate was determined.
Furthermore, amorphous tabular silver nanoparticles were selected from the selected tabular silver nanoparticles, and the amorphous tabularization rate was determined.
The number average particle diameter, the average aspect ratio, and the average degree of irregularity were determined for the selected amorphous tabular silver nanoparticles.
Hereinafter, each selection method and each measurement method will be described.

−主な粒子形状−
透過型電子顕微鏡写真上で、粒子形状を観察して、粒子100個中で最も多い形状を主な粒子形状とした。
-Main particle shapes-
The particle shape was observed on a transmission electron micrograph, and the most common shape among 100 particles was defined as the main particle shape.

−平板銀ナノ粒子の選定−
透過型電子顕微鏡写真上で、側面が投影されている100個の銀ナノ粒子を選び、各銀ナノ粒子の厚さbを測定した。得られた100個の測定値の平均値を、銀ナノ粒子の群の平均厚さとした。
次に、透過型電子顕微鏡写真上で、主平面が投影されている100個の銀ナノ粒子を選び、各銀ナノ粒子について、主平面の投影面積と同面積の円の直径、すなわち粒径を求めた。
得られた主平面が投影されている各銀ナノ粒子についての粒径を、前述の平均厚さで割ることにより、主平面が投影されている各銀ナノ粒子のアスペクト比を個別に求めた。
ここで、側面が投影されているか、主平面が投影されているかの判定方法としては、透過型電子顕微鏡写真上で、黒くみえる粒子を側面が投影されている粒子とみなし、透けて薄い色に見える粒子を主平面が投影されている粒子とみなした。いずれか判別しがたいものは、測定対象としなかった。
以上により得られたアスペクト比が2.0以上の銀ナノ粒子を、「平板銀ナノ粒子」として選定した。
-Selection of flat silver nanoparticles-
On the transmission electron micrograph, 100 silver nanoparticles whose side surfaces were projected were selected, and the thickness b of each silver nanoparticle was measured. The average value of the 100 measured values obtained was defined as the average thickness of the group of silver nanoparticles.
Next, on the transmission electron micrograph, 100 silver nanoparticles on which the main plane is projected are selected, and for each silver nanoparticle, the diameter of the circle having the same area as the projected area of the main plane, that is, the particle diameter is set. Asked.
The aspect ratio of each silver nanoparticle on which the main plane was projected was determined individually by dividing the particle diameter of each silver nanoparticle on which the main plane was projected by the average thickness described above.
Here, as a method of determining whether the side surface is projected or the main plane is projected, on the transmission electron micrograph, the particles that appear black are regarded as the particles on which the side surfaces are projected, and the color is transparent. The visible particles were considered as particles on which the main plane was projected. Those that could not be discriminated were not measured.
Silver nanoparticles having an aspect ratio of 2.0 or more obtained as described above were selected as “tabular silver nanoparticles”.

−平板化率−
透過型電子顕微鏡写真上で、粒径10nm以上の全銀ナノ粒子数に対する、平板銀ナノ粒子数の割合を求め、平板化率(%)とした。
-Flattening rate-
On the transmission electron micrograph, the ratio of the number of tabular silver nanoparticles to the number of all silver nanoparticles having a particle diameter of 10 nm or more was determined and used as the tabularization rate (%).

−不定形平板銀ナノ粒子の選定−
上記で選定された平板銀ナノ粒子それぞれについて、以下(1)〜(3)で表される値を計算し、(1)〜(3)の最小値を、各平板銀ナノ粒子の異形度とした。
(1)金属微粒子の主平面の投影面が内接する最小の円の面積Scを、金属微粒子の主平面の投影面積で割った値
(2)金属微粒子の主平面の投影面が内接する最小の六角形の面積Shを、金属微粒子の主平面の投影面積で割った値
(3)金属微粒子の主平面の投影面が内接する最小の三角形の面積Stを、金属微粒子の主平面の投影面積で割った値
異形度が1.2以上の平板銀ナノ粒子を、「不定形平板銀ナノ粒子」として選定した。
-Selection of irregular shaped flat silver nanoparticles-
For each of the tabular silver nanoparticles selected above, the values represented by the following (1) to (3) are calculated, and the minimum value of (1) to (3) is determined as the degree of irregularity of each tabular silver nanoparticle. did.
(1) The value obtained by dividing the area Sc of the smallest circle inscribed by the projection surface of the main plane of the metal fine particle by the projection area of the main plane of the metal fine particle. A value obtained by dividing the area Sh of the hexagon by the projected area of the main plane of the metal fine particles (3) The area St of the smallest triangle inscribed by the projection plane of the main plane of the metal fine particles is the projected area of the main plane of the metal fine particles Divided values Tabular silver nanoparticles having an irregularity of 1.2 or more were selected as “indeterminate tabular silver nanoparticles”.

−不定形平板化率−
透過型電子顕微鏡写真上で、粒径10nm以上の全銀ナノ粒子数に対する、不定形平板銀ナノ粒子数の割合を求め、不定形平板化率(%)とした。
-Amorphous flattening rate-
On the transmission electron micrograph, the ratio of the number of amorphous tabular silver nanoparticles to the number of all silver nanoparticles having a particle diameter of 10 nm or more was determined and used as the amorphous tabularization rate (%).

−不定形平板銀ナノ粒子の数平均粒子径−
上記で選定された不定形平板銀ナノ粒子のそれぞれについて、同面積の円とした時の直径を求め、この値100個の平均値を不定形平板銀ナノ粒子の数平均粒径とした。
-Number average particle diameter of irregular shaped tabular silver nanoparticles-
About each of the irregular-shaped tabular silver nanoparticle selected above, the diameter when it was made into the circle of the same area was calculated | required, and this average value of 100 pieces was made into the number average particle diameter of an irregular-shaped tabular silver nanoparticle.

−不定形平板銀ナノ粒子の平均アスペクト比−
前記「−平板銀ナノ粒子の選定−」で説明した方法と同様の方法により、上記で選定された不定形平板銀ナノ粒子のそれぞれについてアスペクト比を求め、この値100個の平均値を不定形平板銀ナノ粒子の平均アスペクト比とした。
-Average aspect ratio of amorphous silver nanoparticles-
The aspect ratio was determined for each of the amorphous tabular silver nanoparticles selected above by the same method as described above in “-Selection of tabular silver nanoparticles—”, and the average value of 100 values was determined to be amorphous. The average aspect ratio of the flat silver nanoparticles was taken.

−不定形平板銀ナノ粒子の平均異形度−
前記「−不定形平板銀ナノ粒子の選定−」で説明した方法と同様の方法により、上記で選定された不定形平板銀ナノ粒子のそれぞれについて、前述の方法で異形度を求め、この値100個の平均値を不定形平板銀ナノ粒子の平均異形度とした。
-Average irregularity of irregular shaped flat silver nanoparticles-
The degree of irregularity was determined by the above-mentioned method for each of the amorphous tabular silver nanoparticles selected above by the same method as described above in “-Selection of amorphous tabular silver nanoparticles”. The average value was taken as the average degree of irregularity of the irregular shaped tabular silver nanoparticles.

≪ブラックマトリクス(遮光画像)付き基板の作製≫
<感光性遮光層用塗布液の調製>
下記組成を混合して、感光性遮光層用塗布液を調製した。
〔組成〕
・金属微粒子分散液A−1 ・・・ 40.00部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ 28.6部
・メチルエチルケトン ・・・ 37.6部
・フッ素系界面活性剤(商品名:F780F、大日本インキ化学工業(株)製)
・・・ 0.2部
・ヒドロキノンモノメチルエーテル ・・・0.001部
・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(モル比=73/27、分子量30000) ・・・ 2.1部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPHA(日本化薬社製))
ここで、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの添加量は、塗布液におけるベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体の量を1としたときの質量比率で0.9となる量とし、且つ、上記金属微粒子分散液A−1の体積分率が0.13になるような量とした。
・ビス[4−[N−[4−(4、6−ビストリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)フェニル]カルバモイル]フェニル]セバケート ・・・ 0.1部
≪Production of substrate with black matrix (shading image) ≫
<Preparation of coating solution for photosensitive light shielding layer>
The following composition was mixed and the coating liquid for photosensitive light shielding layers was prepared.
〔composition〕
・ Metal fine particle dispersion A-1 ・ ・ ・ 40.00 parts ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate ・ ・ ・ 28.6 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 37.6 parts ・ Fluorosurfactant (trade name: F780F, large (Made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.)
・ ・ ・ 0.2 part ・ Hydroquinone monomethyl ether ・ 0.001 part ・ Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (molar ratio = 73/27, molecular weight 30000) ・ ・ ・ 2.1 parts ・ Dipentaerythritol hexa Acrylate (KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku Co., Ltd.))
Here, the amount of dipentaerythritol hexaacrylate added is such that the mass ratio is 0.9 when the amount of benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer in the coating solution is 1, and the above-mentioned metal fine particle dispersion liquid The amount was such that the volume fraction of A-1 was 0.13.
-Bis [4- [N- [4- (4,6-bistrichloromethyl-s-triazin-2-yl) phenyl] carbamoyl] phenyl] sebacate ... 0.1 part

<保護層用塗布液の調製>
下記組成を混合して、保護層用塗布液を調製した。
・ポリビニルアルコール(商品名:PVA205、(株)クラレ製)・・・ 3.0部
・ポリビニルピロリドン(商品名:PVP−K30、アイエスピー・ジャパン社製)
・・・ 1.3部
・蒸留水 ・・・ 50.7部
・メチルアルコール ・・・ 45.0部
<Preparation of coating solution for protective layer>
The following compositions were mixed to prepare a protective layer coating solution.
・ Polyvinyl alcohol (trade name: PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 3.0 parts ・ Polyvinylpyrrolidone (trade name: PVP-K30, manufactured by IS Japan Co., Ltd.)
・ ・ ・ 1.3 parts ・ Distilled water ・ ・ ・ 50.7 parts ・ Methyl alcohol ・ ・ ・ 45.0 parts

<塗布法による感光材料の作製>
無アルカリガラス基板を、UV洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。その後、この基板を120℃で3分間熱処理して表面状態を安定化させた。
続いて、基板を冷却して23℃に温調後、基板上に、スリット状ノズルを備えたガラス基板用コーターMH−1600(エフ・エー・エス・アジア社製)を用いて乾燥膜厚が1.00μmになるように上記感光性遮光層用塗布液を塗布し、100℃で5分間乾燥させて感光性組成物層を形成した(塗布工程)。次いで、この感光性組成物層上にスリット状ノズルを用いて、上記より得た保護層用塗布液を乾燥膜厚が1.5μmになるように塗布し、100℃で5分間乾燥させて保護層を形成し、感光材料を作製した。
<Production of photosensitive material by coating method>
The alkali-free glass substrate was cleaned with a UV cleaning apparatus, then brush-cleaned with a cleaning agent, and further ultrasonically cleaned with ultrapure water. Thereafter, this substrate was heat-treated at 120 ° C. for 3 minutes to stabilize the surface state.
Subsequently, after cooling the substrate and adjusting the temperature to 23 ° C., the dry film thickness was adjusted on the substrate using a glass substrate coater MH-1600 (manufactured by FAS Asia) equipped with a slit-like nozzle. The photosensitive light-shielding layer coating solution was applied to a thickness of 1.00 μm and dried at 100 ° C. for 5 minutes to form a photosensitive composition layer (application process). Next, using the slit-shaped nozzle on this photosensitive composition layer, the protective layer coating solution obtained above was applied to a dry film thickness of 1.5 μm, and dried at 100 ° C. for 5 minutes for protection. A layer was formed to prepare a photosensitive material.

<ブラックマトリクスの形成>
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製)で、前記感光材料とマスク(画像パターンを有す石英露光マスク)を垂直に立てた状態で、露光マスク面と保護層塗布面の間の距離を200μmに設定し、露光量70mJ/cmでパターン露光した。次いで、現像処理液T−CD1(富士写真フイルム(株)製;アルカリ現像液)を5倍希釈したもの(使用時のpHは10.2)を用いて現像処理(33℃・20秒)を行った。画面サイズ10インチで、画素数が480×640であり、また、ブラックマトリクス幅が24μmで、画素部の開口が86μm×304μmであるブラックマトリクスを得た。
以上のようにして、ブラックマトリクス(遮光画像)付き基板を得た。
<Formation of black matrix>
In a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) with an ultra-high pressure mercury lamp, with the photosensitive material and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically, the exposure mask surface The distance between the protective layer application surfaces was set to 200 μm, and pattern exposure was performed at an exposure amount of 70 mJ / cm 2 . Next, development processing (33 ° C., 20 seconds) was performed using a development processing solution T-CD1 (produced by Fuji Photo Film Co., Ltd .; alkaline developer) diluted 5 times (pH in use: 10.2). went. A black matrix having a screen size of 10 inches, a pixel count of 480 × 640, a black matrix width of 24 μm, and an aperture of the pixel portion of 86 μm × 304 μm was obtained.
As described above, a substrate with a black matrix (light-shielded image) was obtained.

≪評価≫
上記で得られたブラックマトリクス付き基板について、下記の評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
<反射率測定>
日本分光(株)製スペクトロフォトメーターV−560と組み合わせた、日本分光(株)製絶対反射率測定装置ARV−474を用いてガラス基板側(塗布膜の形成されている面の反対側)の絶対反射率を測定した。測定角度は5度、波長は500nmである。
≪Evaluation≫
The following evaluation was performed about the board | substrate with a black matrix obtained above. The evaluation results are shown in Table 2 below.
<Reflectance measurement>
Using an absolute reflectance measuring device ARV-474 manufactured by JASCO Corporation in combination with a spectrophotometer V-560 manufactured by JASCO Corporation. Absolute reflectance was measured. The measurement angle is 5 degrees and the wavelength is 500 nm.

<品位(色味)評価>
上記ベーク前及び後における感光性遮光層を目視観察して、その品位(色味)を評価した。
<Quality (color) evaluation>
The photosensitive light-shielding layer before and after the baking was visually observed to evaluate its quality (color).

[実施例2]
実施例1中、銀ナノ粒子分散液A−1の調製において、例示化合物PO−1を用いる代わりに、例示化合物PO−2を用いた以外は、実施例1と同様にして調製して銀ナノ粒子分散液A−2を調製した。調製した銀ナノ粒子分散液A−2について、実施例1と同様にして銀ナノ粒子の測定を行った。測定結果を下記表1に示す。
さらに、実施例1中、≪ブラックマトリクス付き基板の作製≫において、銀ナノ粒子分散液A−1を銀ナノ粒子分散液A−2に変更した以外は実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様にして評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
[Example 2]
In Example 1, silver nanoparticle dispersion liquid A-1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that Exemplified Compound PO-2 was used instead of Exemplified Compound PO-1 to prepare a silver nanoparticle dispersion A-1. A particle dispersion A-2 was prepared. About the prepared silver nanoparticle dispersion liquid A-2, it carried out similarly to Example 1, and measured the silver nanoparticle. The measurement results are shown in Table 1 below.
Further, in Example 1, “Preparation of substrate with black matrix” in Example 1 except that silver nanoparticle dispersion liquid A-1 was changed to silver nanoparticle dispersion liquid A-2. Was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2 below.

[実施例3]
実施例1中、銀ナノ粒子分散液A−1の調製において、ハイドロキノン水溶液の代わりに、アスコルビン酸水溶液を用いたことと、pH4に調整する代わりにpH7に調整したこと以外は、実施例1と同様にして銀ナノ粒子分散液A−3を調製した。この銀粒子は、粒子形成直後と同様の色味を有していた。調製した銀ナノ粒子分散液A−3について、実施例1と同様にして銀ナノ粒子の測定を行った。測定結果を下記表1に示す。
さらに、実施例1中、≪ブラックマトリクス付き基板の作製≫において、銀ナノ粒子分散液A−1を銀ナノ粒子分散液A−3に変更した以外は実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様にして評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
[Example 3]
In Example 1, in the preparation of the silver nanoparticle dispersion A-1, Example 1 was used except that an aqueous ascorbic acid solution was used instead of the hydroquinone aqueous solution and that the pH was adjusted to 7 instead of adjusting to pH 4. Similarly, a silver nanoparticle dispersion liquid A-3 was prepared. The silver particles had the same color as that immediately after the formation of the particles. About the prepared silver nanoparticle dispersion liquid A-3, it carried out similarly to Example 1, and measured the silver nanoparticle. The measurement results are shown in Table 1 below.
Further, in Example 1, “Preparation of substrate with black matrix” in Example 1 except that the silver nanoparticle dispersion liquid A-1 was changed to the silver nanoparticle dispersion liquid A-3. Was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2 below.

[実施例4]
実施例1において、下記の操作以外は、実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
[Example 4]
In Example 1, except for the following operations, a substrate with a black matrix was produced in the same manner as in Example 1, and the same evaluation as in Example 1 was performed. The evaluation results are shown in Table 2 below.

≪転写材料の作製≫
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥厚みが5μmになるように下記の処方H1からなる熱可塑性樹脂層塗布液を塗布し、100℃で3分間乾燥させた。
次に、熱可塑性樹脂層上に、実施例1における保護層用塗布液と同組成の中間層用塗布液を、乾燥膜厚が1.5μmとなるように塗布し、さらに100℃で5分間乾燥し、中間層を形成した。さらに、この中間層上に実施例1における感光性遮光層用塗布液を、乾燥膜厚が0.6μmとなるように塗布して感光性遮光層を形成した。さらに、この感光性遮光層上に保護フィルム(厚さ12μmのポリプロピレンフィルム)を圧着した。
以上により、仮支持体/熱可塑性樹脂層/中間層/感光性遮光層/保護フイルムを、この順に積層した構成からなる転写材料を得た。
<Production of transfer material>
A thermoplastic resin layer coating solution composed of the following formulation H1 is applied on a 75 μm thick polyethylene terephthalate film temporary support using a slit-like nozzle so that the dry thickness is 5 μm, and is heated at 100 ° C. for 3 minutes. Dried.
Next, an intermediate layer coating solution having the same composition as that of the protective layer coating solution in Example 1 was applied onto the thermoplastic resin layer so that the dry film thickness was 1.5 μm, and further at 100 ° C. for 5 minutes. Dried to form an intermediate layer. Further, the photosensitive light-shielding layer coating solution in Example 1 was applied onto the intermediate layer so that the dry film thickness was 0.6 μm, thereby forming a photosensitive light-shielding layer. Further, a protective film (polypropylene film having a thickness of 12 μm) was pressure-bonded on the photosensitive light-shielding layer.
As described above, a transfer material having a configuration in which the temporary support / thermoplastic resin layer / intermediate layer / photosensitive light-shielding layer / protective film was laminated in this order was obtained.

熱可塑性樹脂層用塗布液:処方H1
・メタノール ・・・ 11.1部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ 6.36部
・メチルエチルケトン ・・・ 52.4部
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/11.7/4.5/28.8、重量平均分子量=9万、Tg≒70℃) ・・・ 5.83部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、重量平均分子量=8万、Tg≒100℃) ・・・ 13.6部
・ビスフェノールAにペンタエチレングリコールモノメタクリートを2当量脱水縮合した化合物(BPE−500、新中村化学(株)製) ・・・ 9.1部
・界面活性剤1(メガファックF780F、大日本インキ化学工業(株)製)
・・・ 0.54部
Coating liquid for thermoplastic resin layer: Formulation H1
Methanol: 11.1 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.36 parts Methyl ethyl ketone: 52.4 parts Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (co-polymer) Polymerization composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, weight average molecular weight = 90,000, Tg≈70 ° C.) 5.83 parts styrene / acrylic acid copolymer ( Copolymerization composition ratio (molar ratio) = 63/37, weight average molecular weight = 80,000, Tg≈100 ° C.) 13.6 parts. Compound obtained by dehydration condensation of 2 equivalents of bisphenol A and pentaethylene glycol monomethacrylate BPE-500 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) ・ ・ ・ 9.1 parts ・ Surfactant 1 (Megafac F780F, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Business Co., Ltd.)
... 0.54 parts

≪転写法による感光材料の作製≫
上記で得られた転写材料の保護フイルムを剥離した後、転写材料の遮光層がガラス基板(厚さ1.1mm)と接するように、ガラス基板と重ね合わせ、ラミネーター(株式会社日立インダストリイズ製(Lamic II型)を用いて圧力0.8Pa、温度130℃で貼り合わせた。
次いで、ポリエチレンテレフタレート仮支持体を剥離し、感光材料を得た。
<< Production of photosensitive material by transfer method >>
After peeling off the protective film of the transfer material obtained above, the transfer material is overlaid on the glass substrate so that the light-shielding layer of the transfer material is in contact with the glass substrate (thickness 1.1 mm), and a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd.) (Lamic type II) was used to bond at a pressure of 0.8 Pa and a temperature of 130 ° C.
Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off to obtain a photosensitive material.

≪ブラックマトリクスの作製≫
実施例1中、ブラックマトリクスの作製に用いた塗布法による感光材料を、前記で作製した転写法による感光材料に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様の評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
≪Preparation of black matrix≫
In Example 1, the black matrix was prepared in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive material produced by the coating method used for producing the black matrix was changed to the photosensitive material produced by the transfer method prepared above. An attached substrate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2 below.

[比較例1]
実施例1中、銀ナノ粒子分散液A−1の調製において、硝酸銀と亜硫酸ナトリウムとハイドロキノンを同時に30分かけて添加する以外は、実施例1と同様にして銀ナノ粒子分散液S−1を調製した。調製した銀ナノ粒子分散液S−1について、実施例1と同様にして銀ナノ粒子の測定を行った。測定結果を下記表1に示す。
さらに、実施例1中、≪ブラックマトリクス付き基板の作製≫において、銀ナノ粒子分散液A−1を銀ナノ粒子分散液S−1に変更した以外は実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様にして評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
[Comparative Example 1]
In Example 1, in the preparation of the silver nanoparticle dispersion A-1, the silver nanoparticle dispersion S-1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that silver nitrate, sodium sulfite and hydroquinone were added simultaneously over 30 minutes. Prepared. With respect to the prepared silver nanoparticle dispersion liquid S-1, silver nanoparticles were measured in the same manner as in Example 1. The measurement results are shown in Table 1 below.
Further, in Example 1, “Preparation of substrate with black matrix” in Example 1 except that silver nanoparticle dispersion liquid A-1 was changed to silver nanoparticle dispersion liquid S-1, and the substrate with black matrix was changed. Was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2 below.

[比較例2]
実施例3中、銀ナノ粒子分散液A−3の調製において、1.0モル/Lハイドロキノン水溶液を50mL添加することと、1.0モル/L亜硫酸ナトリウム水溶液50mLを用いないこと以外は、実施例3と同様にして銀ナノ粒子分散液S−2を調製した。調製した銀ナノ粒子分散液S−2について、実施例1と同様にして銀ナノ粒子の測定を行った。測定結果を下記表1に示す。
さらに、実施例1中、≪ブラックマトリクス付き基板の作製≫において、銀ナノ粒子分散液A−1を銀ナノ粒子分散液S−2に変更した以外は実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様にして評価を行った。評価結果を下記表2に示す。
[Comparative Example 2]
In Example 3, in the preparation of the silver nanoparticle dispersion A-3, except that 50 mL of 1.0 mol / L hydroquinone aqueous solution was added and 50 mL of 1.0 mol / L sodium sulfite aqueous solution was not used. In the same manner as in Example 3, a silver nanoparticle dispersion liquid S-2 was prepared. About the prepared silver nanoparticle dispersion liquid S-2, it carried out similarly to Example 1, and measured the silver nanoparticle. The measurement results are shown in Table 1 below.
Further, in Example 1, “Preparation of substrate with black matrix” in Example 1 except that the silver nanoparticle dispersion liquid A-1 was changed to silver nanoparticle dispersion liquid S-2. Was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2 below.

Figure 2008249967
Figure 2008249967

Figure 2008249967
Figure 2008249967

表2に示すように、不定形平板金属微粒子を含む実施例1〜4のブラックマトリクスは低い反射率を示した。一方、不定形平板金属微粒子を含まない比較例1〜2のブラックマトリクスは反射率が高かった。   As shown in Table 2, the black matrices of Examples 1 to 4 including irregular flat metal fine particles showed low reflectance. On the other hand, the black matrixes of Comparative Examples 1 and 2 that did not contain amorphous flat metal fine particles had high reflectance.

[比較例3]
実施例1中、≪ブラックマトリクス付き基板の作製≫において、銀ナノ粒子分散液A−1を以下の方法で調製した銀ナノ粒子分散液S−3に変更した以外は実施例1と同様にしてブラックマトリクス付き基板を作製し、実施例1と同様にして評価を行った。評価結果を下記表4に示す。
[Comparative Example 3]
In Example 1, in “Preparation of substrate with black matrix”, silver nanoparticle dispersion liquid A-1 was changed to silver nanoparticle dispersion liquid S-3 prepared by the following method in the same manner as in Example 1. A substrate with a black matrix was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 4 below.

≪銀ナノ粒子分散液S−3の調製≫
純水4000mLに前記例示化合物PO−1を6.0×10−3%(W/W)となるように添加し、1.0モル/L硝酸カルシウム水溶液40mLを添加し攪拌した。その後、1.0モル/L硝酸銀水溶液200mLを30秒かけて添加し、その後1.0モル/L亜硫酸ナトリウム水溶液200mLと1.0モル/Lハイドロキノン水溶液100mLを30秒かけ添加した。限外濾過モジュールSIP1013(旭化成社製;分画分子量6000)、マグネットポンプ、ステンレスカップをシリコンチューブで接続し、限外濾過装置とした。先の銀微粒子分散液(水溶液)をステンレスカップに入れ、ポンプを稼動させて限外濾過を行った。モジュールからの濾液が2.5lになった時点で、ステンレスカップに2.5lの蒸留水を加え、洗浄を行った。上記の洗浄を10回繰り返した後、母液の量が50mlになるまで濃縮を行った。上記凝集銀微粒子にメチルエチルケトンを銀が8質量%となるよう加え、ブランソン社製「ソニファー(Sonifier)II型」超音波ホモジナイザーを用いて20kHzの超音波を5分間照射した。
その後、ブランソン社製「モデル(Model)2000bdc−h 40:0.8型超音波ホモジナイザー」で40kHzの超音波を10分間照射して、銀ナノ粒子分散液S−3(金属微粒子分散液)を得た。
上記超音波照射の間は、上記液が25℃に維持されるよう、ヤマト科学社製クールニクスCTW400により冷却した。
以上のようにして得られた銀ナノ粒子分散液S−3中の水の含有量は、19.1質量%であった。この銀ナノ粒子分散液S−3中の銀ナノ粒子について、実施例1と同様の測定を行った。測定結果を下記表3に示す。
<< Preparation of silver nanoparticle dispersion S-3 >>
The exemplified compound PO-1 was added to 4000 mL of pure water so as to be 6.0 × 10 −3 % (W / W), and 40 mL of 1.0 mol / L calcium nitrate aqueous solution was added and stirred. Then, 200 mL of 1.0 mol / L silver nitrate aqueous solution was added over 30 seconds, and then 200 mL of 1.0 mol / L sodium sulfite aqueous solution and 100 mL of 1.0 mol / L hydroquinone aqueous solution were added over 30 seconds. An ultrafiltration module SIP1013 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd .; molecular weight cut off 6000), a magnet pump, and a stainless steel cup were connected with a silicon tube to obtain an ultrafiltration device. The silver fine particle dispersion (aqueous solution) was put into a stainless steel cup, and ultrafiltration was performed by operating a pump. When the filtrate from the module reached 2.5 liters, 2.5 liters of distilled water was added to the stainless steel cup for washing. After the above washing was repeated 10 times, concentration was performed until the amount of the mother liquor was 50 ml. Methyl ethyl ketone was added to the above-mentioned aggregated silver fine particles so that the silver content was 8 mass%, and 20 kHz ultrasonic waves were irradiated for 5 minutes using a “Sonifer II type” ultrasonic homogenizer manufactured by Branson.
Then, 40 nm ultrasonic wave was irradiated for 10 minutes with “Model 2000bdc-h 40: 0.8 type ultrasonic homogenizer” manufactured by Branson, and silver nanoparticle dispersion S-3 (metal fine particle dispersion) was applied. Obtained.
During the ultrasonic irradiation, the liquid was cooled by COOLNICS CTW400 manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd. so that the liquid was maintained at 25 ° C.
The content of water in the silver nanoparticle dispersion liquid S-3 obtained as described above was 19.1% by mass. About the silver nanoparticle in this silver nanoparticle dispersion liquid S-3, the same measurement as Example 1 was performed. The measurement results are shown in Table 3 below.

Figure 2008249967
Figure 2008249967

≪光学濃度の測定≫
実施例1〜4、及び比較例3で作製したブラックマトリクス(遮光画像)付き基板について、以下のようにして光学濃度をそれぞれ測定した。測定結果を下記表4に示す
まずブラックマトリクスを形成した材料を用い、透明基板上にODが3.0以下になるような薄膜の層を形成し、パターン状に露光しない以外は各実施例と同様の工程を経て、測定用のサンプル(膜状)を得た。この透過光学濃度を分光光度計(島津製作所製、UV−2100)を用いて555nmで測定した(OD)。別途ガラス基板の透過光学濃度を同様な方法で測定した(OD0)。
ODからOD0を差し引いた値をブラックマトリクスの透過光学濃度とした。接触式表面粗さ計P−10(ケーエルエー・テンコール(株)製)を用いて、測定用サンプルの膜厚を測定し、測定結果の透過光学濃度と膜厚の関係から、実施例1〜4、及び比較例3で作製した膜厚のブラックマトリクスの光学濃度をそれぞれ算出した。
<< Measurement of optical density >>
About the board | substrate with a black matrix (light-shielding image) produced in Examples 1-4 and Comparative Example 3, the optical density was measured as follows. The measurement results are shown in Table 4 below. First, using a material in which a black matrix is formed, a thin film layer having an OD of 3.0 or less is formed on a transparent substrate, and each of the examples is not exposed in a pattern. A sample for measurement (film-like) was obtained through the same steps. This transmission optical density was measured at 555 nm using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-2100) (OD). Separately, the transmission optical density of the glass substrate was measured by the same method (OD 0 ).
The value obtained by subtracting OD 0 from OD was taken as the transmission optical density of the black matrix. Using a contact-type surface roughness meter P-10 (manufactured by KLA-Tencor Corporation), the film thickness of the measurement sample is measured, and from the relationship between the transmission optical density and the film thickness of the measurement results, Examples 1-4 , And the optical density of the black matrix having a film thickness produced in Comparative Example 3 was calculated.

≪カラーフィルタの作製≫
実施例1〜4、及び比較例3で作製したブラックマトリクス(遮光画像)付き基板をそれぞれ用いて、特開2006−251237号公報の段落番号[0158]から[0170]に記載の転写型の感光性樹脂フイルムを用いたカラーフィルタ作製方法にて、赤色、緑色、青色の所定サイズ、形状の着色パターンを形成し、実施例1〜4、及び比較例3のカラーフィルタをそれぞれ作製した。
≪Preparation of color filter≫
Using the black matrix (light-shielding image) -provided substrates prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 3, respectively, transfer-type photosensitive materials described in paragraph numbers [0158] to [0170] of JP-A-2006-251237. A color filter having a predetermined size and shape of red, green, and blue was formed by a color filter production method using a conductive resin film, and the color filters of Examples 1 to 4 and Comparative Example 3 were produced.

≪液晶表示装置の作製≫
前記で得られたカラーフィルタを用い、特開2006−251237号公報の段落番号[0171]に記載の液晶表示装置の作製方法にて、実施例1〜4、及び比較例3の液晶表示装置をそれぞれ作製した。
≪Production of liquid crystal display device≫
Using the color filter obtained above, the liquid crystal display devices of Examples 1 to 4 and Comparative Example 3 were manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal display device described in paragraph [0171] of JP-A-2006-251237. Each was produced.

≪表示ムラの評価≫
実施例1〜4、及び比較例3の液晶表示装置について、グレイのテスト信号を入力させ、表示ムラを確認した。評価結果を下記表4に示す。
≪Evaluation of display unevenness≫
For the liquid crystal display devices of Examples 1 to 4 and Comparative Example 3, a gray test signal was input, and display unevenness was confirmed. The evaluation results are shown in Table 4 below.

Figure 2008249967
Figure 2008249967

表4に示すように、実施例1〜4のブラックマトリクスは高い光学濃度を示し、実施例1〜4の液晶表示装置には表示ムラは確認されなかった。一方、比較例3の液晶表示装置には表示ムラが発生した。   As shown in Table 4, the black matrices of Examples 1 to 4 showed high optical density, and no display unevenness was observed in the liquid crystal display devices of Examples 1 to 4. On the other hand, display unevenness occurred in the liquid crystal display device of Comparative Example 3.

Claims (15)

少なくとも金属微粒子を含有する遮光画像を有する遮光画像付き基板であって、該金属微粒子が不定形平板金属微粒子を含むことを特徴とする遮光画像付き基板。   A substrate with a light-shielding image having a light-shielding image containing at least metal fine particles, wherein the metal fine particles include amorphous flat-plate metal fine particles. 前記金属微粒子のうち粒径10nm以上の金属微粒子全数に対し、25%以上が不定形平板金属微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の遮光画像付き基板。   2. The substrate with a light-shielding image according to claim 1, wherein among the metal fine particles, 25% or more of the metal fine particles having a particle diameter of 10 nm or more are amorphous flat metal fine particles. 前記金属微粒子が、周期律表の第2族〜第14族からなる群から選ばれる1種または2種以上の金属を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の遮光画像付き基板。   3. The substrate with a light-shielding image according to claim 1, wherein the metal fine particles contain one or more metals selected from the group consisting of groups 2 to 14 of the periodic table. . 前記金属微粒子が、銀微粒子または銀を含有する合金微粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の遮光画像付き基板。   The substrate with a light-shielding image according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal fine particles are silver fine particles or alloy fine particles containing silver. 前記不定形平板金属微粒子の平均異形度が1.3以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の遮光画像付き基板。   5. The substrate with a light-shielding image according to claim 1, wherein the irregular plate-like metal fine particles have an average degree of irregularity of 1.3 or more. 前記不定形平板金属微粒子の平均アスペクト比が3.0以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の遮光画像付き基板。   6. The substrate with a light-shielding image according to claim 1, wherein the amorphous flat metal fine particles have an average aspect ratio of 3.0 or more. 前記不定形平板金属微粒子の数平均粒径が5〜50nmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の遮光画像付き基板。   The substrate with a light-shielding image according to any one of claims 1 to 6, wherein the irregular-shaped flat metal fine particles have a number average particle diameter of 5 to 50 nm. 少なくとも金属微粒子を含有する分散物であって、該金属微粒子が不定形平板金属微粒子を含み、該金属微粒子全質量に対して10%以下の水を含有することを特徴とする金属微粒子分散物。   A dispersion containing at least metal fine particles, wherein the metal fine particles include irregular flat metal fine particles and contain 10% or less of water with respect to the total mass of the metal fine particles. 前記金属微粒子のうち粒径10nm以上の金属微粒子全数に対し、25%以上が不定形平板金属微粒子であることを特徴とする請求項8に記載の金属微粒子分散物。   The metal fine particle dispersion according to claim 8, wherein 25% or more of the metal fine particles are amorphous flat metal fine particles with respect to the total number of metal fine particles having a particle diameter of 10 nm or more. 更に、硫黄原子及び/又は窒素原子を1個以上有する分散ポリマーを含有することを特徴とする請求項8又は9に記載の金属微粒子分散物。   The metal fine particle dispersion according to claim 8 or 9, further comprising a dispersion polymer having at least one sulfur atom and / or nitrogen atom. 前記硫黄原子及び/又は窒素原子を1個以上有する分散ポリマーが、アルカリ溶解性を有することを特徴とする請求項10に記載の金属微粒子分散物。   11. The metal fine particle dispersion according to claim 10, wherein the dispersion polymer having at least one sulfur atom and / or nitrogen atom has alkali solubility. 仮支持体上に、少なくとも請求項8〜11のいずれか1項に記載の金属微粒子分散物を用いて形成された遮光層を有することを特徴とする転写材料。   A transfer material comprising a light-shielding layer formed using the metal fine particle dispersion according to any one of claims 8 to 11 on a temporary support. 請求項12に記載の転写材料を用いて形成された遮光画像付き基板。   The board | substrate with a light-shielding image formed using the transfer material of Claim 12. 請求項1〜7及び13のいずれかに1項に記載の遮光画像付き基板を備えたことを特徴とするカラーフィルタ。   A color filter comprising the substrate with a light-shielding image according to any one of claims 1 to 7 and 13. 請求項14に記載のカラーフィルタを備えたことを特徴とする表示装置。   A display device comprising the color filter according to claim 14.
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