JP2008249805A - Light monitoring device - Google Patents

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JP2008249805A JP2007087836A JP2007087836A JP2008249805A JP 2008249805 A JP2008249805 A JP 2008249805A JP 2007087836 A JP2007087836 A JP 2007087836A JP 2007087836 A JP2007087836 A JP 2007087836A JP 2008249805 A JP2008249805 A JP 2008249805A
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Muneyasu Kimura
統安 木村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the quality deterioration in a specific light component and the upsizing of a light monitoring device, in using the light monitoring device for an apparatus making good use of the specific light component. <P>SOLUTION: The light monitoring device is used for the apparatus 200 including a wavelength filter 216 configured to extract the specific light component Le having a prescribed wavelength range out of light Lz emitted from a light source 212, and also, to propagate an unnecessary light component LF other than the specific light component Le outside the optical path of the specific light component Le. The state of the specific light component Le is monitored by detecting the light intensity of the unnecessary light component Lf propagated outside the optical path of the specific light component Le. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は光モニタ装置に関し、詳しくは、光源から射出された光から抽出された特定の光成分を利用する装置に用いられる光モニタ装置に関するものである。   The present invention relates to an optical monitor device, and more particularly to an optical monitor device used in an apparatus that uses a specific light component extracted from light emitted from a light source.

従来より、光源から射出されたレーザ光をビームスプリッタ等で測定用のレーザ光とモニタ用のレーザ光とに光量分離し、測定用レーザ光を測定に使用するとともに、モニタ用レーザ光を測定用レーザ光の光強度等の監視(モニタ)に利用する光モニタ装置が知られている(特許文献1参照)。このような光モニタ装置によれば、例えば、測定に利用可能な光成分のうちの一部の光成分をモニタ用に取り出して、この光成分の光強度が一定になるように光源を制御することにより、測定に利用可能な光成分のうちの一部の光成分とは異なる他の測定用の光成分の光強度を安定させることができる。   Conventionally, a laser beam emitted from a light source is separated into a measuring laser beam and a monitoring laser beam by a beam splitter or the like, and the measuring laser beam is used for measurement and the monitoring laser beam is used for measurement. An optical monitor device used for monitoring (monitoring) the intensity of laser light is known (see Patent Document 1). According to such an optical monitor device, for example, a part of the light components that can be used for measurement is extracted for monitoring, and the light source is controlled so that the light intensity of the light component becomes constant. This makes it possible to stabilize the light intensity of another light component for measurement different from some of the light components available for measurement.

また、励起光の照射を受けた試料から発せられる蛍光を検出する蛍光検出装置には、光源から射出されたレーザ光を波長フィルタに通し特定の波長範囲の光成分を抽出し、波長分離されて抽出された光成分(以後、特定の光成分ともいう)を励起光として使用するものが知られている(特許文献2参照)。すなわち、励起光の波長範囲以外の他の不要な波長範囲の光成分(以後、不要光成分ともいう)が試料に照射されると、不要光成分の戻り光が検出対象となる蛍光とともに検出されてしまい、蛍光検出のS/Nが低下するおそれがある。そのため、不要光成分が試料に照射されないようにこの不要光成分を除去している。
特開平10−93165号公報 特開2003−228004号公報
In addition, in a fluorescence detection device that detects fluorescence emitted from a sample irradiated with excitation light, a laser beam emitted from a light source is passed through a wavelength filter to extract a light component in a specific wavelength range and wavelength-separated. A device that uses an extracted light component (hereinafter also referred to as a specific light component) as excitation light is known (see Patent Document 2). That is, when the sample is irradiated with a light component in an unnecessary wavelength range other than the wavelength range of the excitation light (hereinafter also referred to as an unnecessary light component), the return light of the unnecessary light component is detected together with the fluorescence to be detected. As a result, the S / N ratio of fluorescence detection may decrease. Therefore, the unnecessary light component is removed so that the sample is not irradiated with the unnecessary light component.
JP-A-10-93165 JP 2003-228004 A

ところで、光源より射出された光から特定の波長範囲の光成分を抽出して利用する装置に対し光モニタ装置を適用して特定の光成分をモニタすることが考えられる。すなわち、例えば、抽出された特定の光成分をビームスプリッタ等により光量分離してこの特定の光成分の一部をモニタ光として利用することが考えられる。   By the way, it is conceivable to monitor a specific light component by applying an optical monitor device to a device that extracts and uses a light component in a specific wavelength range from light emitted from a light source. That is, for example, it is conceivable that the extracted specific light component is separated in light quantity by a beam splitter or the like and a part of the specific light component is used as monitor light.

しかしながら、光源から射出された光を波長分離して抽出した特定の光成分を利用する装置には、波長分離用の波長フィルタ等を備えた光学ユニットが既に配置されている。光量分離用のビームスプリッタ等を備えた光学ユニットを波長分離用の光学ユニットの近傍にさらに配置すると、上記装置では利用されない不要光成分が各光学ユニット間で反射される。これにより、光路が定まらない不要光成分からなる迷光の発生機会が著しく増大する。そして、上記装置で利用される特定の光成分の伝播光路に不要光成分からなる迷光が混入すると上記特定の光成分のS/Nが低下するおそれがある。また、光量分離用の光学ユニットを収容するためのスペースを確保するために装置サイズが大きくなるという問題も生じる。そのため、特定の光成分の伝播する光路への不要光成分の混入を抑制するとともに、装置サイズの大型化を抑制したいという要請がある。   However, an optical unit including a wavelength filter for wavelength separation or the like is already disposed in an apparatus that uses a specific light component extracted by wavelength separation of light emitted from a light source. If an optical unit including a beam splitter for light quantity separation is further arranged in the vicinity of the optical unit for wavelength separation, unnecessary light components that are not used in the above apparatus are reflected between the optical units. Thereby, the generation | occurrence | production opportunity of the stray light which consists of an unnecessary light component with which an optical path is not decided increases remarkably. If stray light composed of unnecessary light components is mixed in the propagation path of the specific light component used in the apparatus, the S / N of the specific light component may be reduced. In addition, there arises a problem that the apparatus size becomes large in order to secure a space for accommodating the optical unit for light quantity separation. For this reason, there is a demand for suppressing the increase in the size of the apparatus while suppressing the mixing of unnecessary light components into the optical path through which a specific light component propagates.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光源から射出された光から特定の波長範囲の光成分を抽出して利用する装置に適用されるときに、この特定の光成分の品質の低下および装置の大型化を抑制することができる光モニタ装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and when applied to an apparatus that extracts and uses a light component in a specific wavelength range from light emitted from a light source, the quality of the specific light component It is an object of the present invention to provide an optical monitor device that can suppress the decrease in size and the size of the device.

本発明の光モニタ装置は、光源より射出された光から所定の波長範囲の光成分を抽出する波長フィルタを有しこの抽出された特定の光成分を利用する装置に用いられる光モニタ装置であって、波長フィルタが、特定の光成分以外の不要光成分を特定の光成分の光路外へ伝播させるものであり、光路外へ伝播せしめられた不要光成分の光強度を検出する不要光検出手段を備え、この不要光検出手段で検出された光強度を用いて波長フィルタで抽出された特定の光成分の状態をモニタすることを特徴とするものである。   An optical monitoring device of the present invention is an optical monitoring device used for an apparatus that has a wavelength filter that extracts a light component in a predetermined wavelength range from light emitted from a light source and uses the extracted specific light component. The wavelength filter causes the unnecessary light component other than the specific light component to propagate outside the optical path of the specific light component, and detects the light intensity of the unnecessary light component propagated outside the optical path. And monitoring the state of the specific light component extracted by the wavelength filter using the light intensity detected by the unnecessary light detection means.

前記特定の光成分の状態は、特定の光成分の光強度や波長とすることができる。   The state of the specific light component can be the light intensity or wavelength of the specific light component.

前記特定の光成分を利用する装置を、波長フィルタで抽出された特定の光成分を反射させるダイクロイックミラーを有するものとし、光モニタ装置を、前記ダイクロイックミラーを透過した、特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出手段をさらに備え、不要光検出手段で検出された光強度と漏れ光検出手段で検出された光強度とを用いて特定の光成分の波長の状態をモニタするものとすることができる。   The device using the specific light component has a dichroic mirror that reflects the specific light component extracted by the wavelength filter, and the light monitor device leaks the specific light component that has passed through the dichroic mirror. The apparatus further comprises a leakage light detection means for detecting the light intensity of the light component, and uses the light intensity detected by the unnecessary light detection means and the light intensity detected by the leakage light detection means to determine the state of the wavelength of the specific light component. It can be monitored.

前記特定の光成分を利用する装置を、波長フィルタで抽出された特定の光成分を透過させるダイクロイックミラーを有するものとし、前記光モニタ装置を、ダイクロイックミラーで反射された、特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出手段をさらに備え、不要光検出手段で検出された光強度と漏れ光検出手段で検出された光強度とを用いて特定の光成分の波長の状態をモニタするものとすることもできる。   The device using the specific light component has a dichroic mirror that transmits the specific light component extracted by the wavelength filter, and the light monitor device is reflected by the dichroic mirror in the specific light component. A leakage light detection means for detecting the light intensity of the leakage light component is further provided, and the wavelength state of the specific light component using the light intensity detected by the unnecessary light detection means and the light intensity detected by the leakage light detection means Can also be monitored.

前記特定の光成分の波長の状態は、特定の光成分における光強度の波長分布においてピーク強度を示す波長とすることができる。   The state of the wavelength of the specific light component can be a wavelength that indicates the peak intensity in the wavelength distribution of the light intensity of the specific light component.

前記特定の光成分を利用する装置は、特定の光成分を試料に照射する光照射手段と、特定の光成分の照射を受けた試料から発せられる蛍光を検出する蛍光検出手段とを備えたものとすることができる。   The apparatus using the specific light component includes a light irradiation means for irradiating the sample with the specific light component, and a fluorescence detection means for detecting the fluorescence emitted from the sample irradiated with the specific light component. It can be.

前記波長フィルタは、多層膜フィルタとすることができる。   The wavelength filter may be a multilayer filter.

本発明の光モニタ装置によれば、光源から射出された光から波長フィルタにより特定の光成分を抽出し、この特定の光成分の伝播する光路外へ伝播せしめられて検出された不要光成分の光強度を用いてこの特定の光成分の状態をモニタするようにしたので、この特定の光成分を利用する装置での抽出された特定の光成分の品質低下および装置サイズの増大を抑制しつつこの装置への光モニタ装置の適用を実施することができる。   According to the optical monitor device of the present invention, a specific light component is extracted from the light emitted from the light source by the wavelength filter, and the unnecessary light component detected by being propagated outside the optical path through which the specific light component propagates is detected. Since the state of the specific light component is monitored using the light intensity, the deterioration of the quality of the extracted specific light component and the increase in the device size in the device using the specific light component are suppressed. Application of the optical monitoring device to this device can be carried out.

すなわち、波長フィルタが、モニタ用の光成分となる不要光成分を取り出す光学系を兼ねているので、抽出された特定の光成分の光路中にモニタ用の光を取り出すための光学部材等の追加が不要となり、これにより、光学部材等の追加に起因する不要光成分からなる迷光の発生を抑制することができる。これとともに、光モニタ装置が適用される装置サイズの増大を抑制することができる。このことにより、特定の光成分を利用する装置において、波長フィルタで抽出された特定の光成分の伝播する光路への不要光成分の混入を抑制するとともに、装置サイズの大型化を抑制することができる。   In other words, since the wavelength filter also serves as an optical system that extracts unnecessary light components that become monitor light components, an optical member or the like for extracting monitor light in the optical path of the extracted specific light components is added. Therefore, the generation of stray light composed of unnecessary light components due to the addition of an optical member or the like can be suppressed. At the same time, an increase in the device size to which the optical monitor device is applied can be suppressed. As a result, in an apparatus that uses a specific light component, it is possible to prevent the unnecessary light component from being mixed into the optical path through which the specific light component extracted by the wavelength filter propagates, and to suppress an increase in the size of the apparatus. it can.

ここで、例えば、光源より射出される光が波長変動の生じないものとすれば、波長フィルタで抽出された特定の光成分の光強度と不要光成分の光強度とが比例するので、不要光成分の光強度を検出することにより波長フィルタで抽出された特定の光成分の光強度をより正確にモニタすることができる。   Here, for example, if the light emitted from the light source does not cause wavelength fluctuation, the light intensity of the specific light component extracted by the wavelength filter is proportional to the light intensity of the unnecessary light component. By detecting the light intensity of the component, the light intensity of the specific light component extracted by the wavelength filter can be monitored more accurately.

また、特定の光成分を利用する装置を、波長フィルタで抽出された特定の光成分を反射させるダイクロイックミラーを有するものとし、光モニタ装置を、ダイクロイックミラーを透過した特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出手段を備え、不要光検出手段で検出された光強度と漏れ光検出手段で検出された光強度とを用いて特定の光成分の波長の状態をモニタするものとすれば、特定の光成分の波長の状態を、光源より射出される光の光量変動に影響されることなく検出することができ上記特定の光成分の状態をより正確にモニタすることができる。   In addition, the device that uses the specific light component has a dichroic mirror that reflects the specific light component extracted by the wavelength filter, and the light monitor device has the leakage light in the specific light component that has passed through the dichroic mirror. A leakage light detection means for detecting the light intensity of the component is provided, and the state of the wavelength of the specific light component is monitored using the light intensity detected by the unnecessary light detection means and the light intensity detected by the leakage light detection means. If so, the state of the wavelength of the specific light component can be detected without being affected by fluctuations in the amount of light emitted from the light source, and the state of the specific light component can be monitored more accurately. it can.

すなわち、例えば、検出された不要光成分の光強度と漏れ光成分の光強度との比率が一定であれば、光源から射出された光に波長変動が生じておらず、特定の光成分の光強度の波長分布にも変動がないことが解る。   That is, for example, if the ratio between the detected light intensity of the unwanted light component and the light intensity of the leaked light component is constant, there is no wavelength variation in the light emitted from the light source, and the light of the specific light component It can be seen that there is no variation in the intensity wavelength distribution.

また、例えば、検出された不要光成分の光強度と漏れ光成分の光強度との比率が変動すれば、光源から射出された光に波長変動が生じ、特定の光成分の光強度の波長分布にも変動が生じていることが解る。   Further, for example, if the ratio of the detected light intensity of the unnecessary light component and the light intensity of the leaked light component varies, the wavelength variation occurs in the light emitted from the light source, and the wavelength distribution of the light intensity of the specific light component It can be seen that there are fluctuations.

また、例えば、不要光成分の光強度と検出された漏れ光成分の光強度との比率が一定で両者の光強度が共に増大あるいは減少すれば、光源から射出された光に波長変動が生じることなく、その光強度が増大あるいは減少していることが解る。すなわち、特定の光成分の光強度の波長分布に変動が生じることなくその光強度のみが増大あるいは減少していることが解る。   In addition, for example, if the ratio of the light intensity of the unwanted light component to the light intensity of the detected leaked light component is constant and both light intensity increases or decreases, wavelength variation occurs in the light emitted from the light source. It can be seen that the light intensity increases or decreases. That is, it can be seen that only the light intensity is increased or decreased without fluctuation in the wavelength distribution of the light intensity of a specific light component.

なお、特定の光成分を利用する装置を、波長フィルタで抽出された特定の光成分を透過させるダイクロイックミラーを有するものとし、光モニタ装置を、ダイクロイックミラーで反射した、上記特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出手段を備え、不要光検出手段で検出された光強度と漏れ光検出手段で検出された光強度とを用いてダイクロイックミラーを透過した特定の光成分の状態をモニタするものとすれば、波長フィルタで抽出された特定の光成分を反射させるダイクロイックミラーを上記特定の光成分を利用する装置に採用した場合と同様の効果を奏することができる。   The device using the specific light component has a dichroic mirror that transmits the specific light component extracted by the wavelength filter, and the light monitor device is reflected by the dichroic mirror. A specific light component having leakage light detection means for detecting the light intensity of the leakage light component and transmitted through the dichroic mirror using the light intensity detected by the unnecessary light detection means and the light intensity detected by the leakage light detection means If this state is monitored, the same effect as that obtained when the dichroic mirror that reflects the specific light component extracted by the wavelength filter is employed in the device using the specific light component can be obtained.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態による光モニタ装置を適用した共焦点蛍光顕微鏡装置の概略構成を示す図、図2は、縦軸に光強度、横軸に波長を示す座標上にレーザ光の光強度の波長分布を示す図、図3は、縦軸に励起光成分の光強度、横軸に不要光成分の光強度を示す座標上に両者の関係を示す図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a confocal fluorescence microscope apparatus to which an optical monitor apparatus according to an embodiment of the present invention is applied. FIG. 2 is a diagram showing the laser light on coordinates where the vertical axis indicates light intensity and the horizontal axis indicates wavelength. FIG. 3 is a diagram showing the wavelength distribution of light intensity, and FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the light intensity of the excitation light component on the vertical axis and the light intensity of the unnecessary light component on the horizontal axis.

図1に示す本発明の実施の形態による光モニタ装置100は、共焦点蛍光顕微鏡装置200に用いられる光モニタ装置である。共焦点蛍光顕微鏡装置200は、光源212より射出された光であるレーザ光Lzから所定の波長範囲の光成分を抽出する波長フィルタ216を有し上記波長フィルタ216によって抽出された特定の光成分である励起光成分Leを利用するものである。この共焦点蛍光顕微鏡装置200は上記励起光成分Leを試料1に照射するとともに、この励起光成分Leの照射を受けた試料1から発せられる蛍光Leを検出するものである。   An optical monitoring device 100 according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 is an optical monitoring device used for a confocal fluorescence microscope apparatus 200. The confocal fluorescence microscope apparatus 200 has a wavelength filter 216 that extracts a light component in a predetermined wavelength range from the laser light Lz that is light emitted from the light source 212, and is a specific light component extracted by the wavelength filter 216. A certain excitation light component Le is used. The confocal fluorescence microscope apparatus 200 irradiates the sample 1 with the excitation light component Le and detects the fluorescence Le emitted from the sample 1 that has been irradiated with the excitation light component Le.

なお、波長フィルタ216は、多層膜フィルタであり、この波長フィルタ216によって抽出された特定の光成分である励起光成分Le以外の不要光成分Lfを上記励起光成分Leの伝播する光路外へ伝播させるものである。   The wavelength filter 216 is a multilayer filter, and an unnecessary light component Lf other than the excitation light component Le that is a specific light component extracted by the wavelength filter 216 is propagated outside the optical path through which the excitation light component Le propagates. It is something to be made.

上記光モニタ装置100は、上記励起光成分Leの伝播する光路外へ伝播せしめられた不要光成分Lfの光強度を検出する不要光検出部10を備え、この不要光検出部10で検出された光強度を用いて波長フィルタ216で抽出された特定の光成分の状態をモニタする。   The optical monitoring device 100 includes an unnecessary light detection unit 10 that detects the light intensity of the unnecessary light component Lf propagated out of the optical path through which the excitation light component Le propagates, and is detected by the unnecessary light detection unit 10. The state of a specific light component extracted by the wavelength filter 216 is monitored using the light intensity.

すなわち、上記特定の光成分である励起光成分Leやこの励起光成分Leから分離され上記試料1へ照射される試料照射光成分Leiの状態をモニタするものである。なお、上記モニタする励起光成分Leや試料照射光成分Leiの状態は、各光成分の光強度や波長等である。   That is, the state of the excitation light component Le that is the specific light component and the state of the sample irradiation light component Lei that is separated from the excitation light component Le and irradiated onto the sample 1 are monitored. The states of the excitation light component Le and the sample irradiation light component Lei to be monitored are the light intensity and wavelength of each light component.

また、上記共焦点蛍光顕微鏡装置200は、波長フィルタ216で抽出された励起光成分Leを反射させるダイクロイックミラー218を有しており、上記光モニタ装置100は、上記抽出された励起光成分Le中の、ダイクロイックミラー218を透過した漏れ光成分Lemの光強度を検出する漏れ光検出部20と、不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度と漏れ光検出部20で検出された漏れ光成分Lemの光強度との比率を求める演算部30とをさらに備えている。   In addition, the confocal fluorescence microscope apparatus 200 includes a dichroic mirror 218 that reflects the excitation light component Le extracted by the wavelength filter 216, and the light monitoring apparatus 100 includes the extracted excitation light component Le. The leakage light detection unit 20 that detects the light intensity of the leakage light component Lem that has passed through the dichroic mirror 218 and the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 and the leakage light detection unit 20 And a calculation unit 30 for obtaining a ratio of the leaked light component Lem to the light intensity.

上記演算部30は、上記比率等の演算に基づいて得られた結果を示す信号を出力する。すなわち、この演算部30は、上記励起光成分Leや上記試料照射光成分Leiの波長の状態を示す信号Sgを出力するものである。上記演算部30から出力された信号Sgは表示部40に入力され上記結果が表示部40に表示される。   The calculation unit 30 outputs a signal indicating a result obtained based on the calculation of the ratio and the like. That is, the calculation unit 30 outputs a signal Sg indicating the wavelength state of the excitation light component Le or the sample irradiation light component Lei. The signal Sg output from the arithmetic unit 30 is input to the display unit 40 and the result is displayed on the display unit 40.

なお、上記不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度の検出のみによっても励起光成分Leの波長の状態を知ることができるが、漏れ光検出部20での漏れ光成分Lemの光強度の検出を付加することにより、上記励起光成分Leの光強度の状態をより正確に知ることができる。   Although the wavelength state of the excitation light component Le can be known only by detecting the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10, the leakage light component Lem in the leakage light detection unit 20. By adding the detection of the light intensity, it is possible to know the state of the light intensity of the excitation light component Le more accurately.

上記のように、試料照射光成分Leiと漏れ光成分Lemは、ダイクロイックミラー218により励起光成分Leから光量分離されたものであり、上記励起光成分Leの一部を構成する光成分である。ただし、漏れ光成分Lemの光強度は、試料照射光成分Leiに比して極めて小さい。したがって、上記励起光成分Leと試料照射光成分Leiは共焦点蛍光顕微鏡200における測定では略同等の光強度および波長分布を有するものとみなすことができる。   As described above, the sample irradiation light component Lei and the leakage light component Lem are light components separated from the excitation light component Le by the dichroic mirror 218, and are light components that constitute a part of the excitation light component Le. However, the light intensity of the leakage light component Lem is extremely smaller than that of the sample irradiation light component Lei. Therefore, the excitation light component Le and the sample irradiation light component Lei can be regarded as having substantially the same light intensity and wavelength distribution in the measurement with the confocal fluorescence microscope 200.

次に、上記共焦点蛍光顕微鏡200の構成について説明する。   Next, the configuration of the confocal fluorescence microscope 200 will be described.

共焦点蛍光顕微鏡200は、所定被検物位置Poへ試料照射光成分Lei(励起光Le)を照射する励起光照射部210と、所定被検物位置Poにおいて上記励起光照射部210から射出された試料照射光成分Lei(励起光Le)の照射受けた被検物である試料1から発せられた蛍光Lkを検出する蛍光検出部230とから構成されている。   The confocal fluorescence microscope 200 is emitted from the excitation light irradiation unit 210 that irradiates a predetermined object position Po with the sample irradiation light component Lei (excitation light Le), and the excitation light irradiation unit 210 at the predetermined object position Po. And a fluorescence detection unit 230 that detects fluorescence Lk emitted from the sample 1, which is a test object irradiated with the sample irradiation light component Lei (excitation light Le).

励起光照射部210は、レーザ光Lzを射出するレーザ光源212と、レーザ光源212から射出されたレーザ光Lzを収束させる収束レンズ214と、収束レンズ214を通ったレーザ光Lz中の不要な波長成分を遮断して上記励起光Leの波長範囲内の光成分を透過させる波長フィルタ216と、上記波長フィルタ216によって抽出された励起光Leを反射させるダイクロイックミラー218と、ダイクロイックミラー218で反射した励起光成分である試料照射光成分Leiを試料1上の1点に集光させる物点側集光レンズ222とを備えている。   The excitation light irradiation unit 210 includes a laser light source 212 that emits the laser light Lz, a converging lens 214 that converges the laser light Lz emitted from the laser light source 212, and an unnecessary wavelength in the laser light Lz that has passed through the converging lens 214. The wavelength filter 216 that blocks the component and transmits the light component within the wavelength range of the excitation light Le, the dichroic mirror 218 that reflects the excitation light Le extracted by the wavelength filter 216, and the excitation reflected by the dichroic mirror 218 An object point side condensing lens 222 that condenses the sample irradiation light component Lei, which is a light component, on one point on the sample 1 is provided.

上記ダイクロイックミラー218は、励起光Leを反射し蛍光Lkを透過させるものである。   The dichroic mirror 218 reflects the excitation light Le and transmits the fluorescence Lk.

なお、励起光照射部210と蛍光検出部230は、上記ダイクロイックミラー218および物点側集光レンズ222を共用している。   The excitation light irradiation unit 210 and the fluorescence detection unit 230 share the dichroic mirror 218 and the object-side condenser lens 222.

蛍光検出部230は、上記集光された励起光成分である試料照射光成分Leiの照射を受けた試料1から発せられた蛍光Lkを集光する物点側集光レンズ222と、上記物点側集光レンズ222から射出された蛍光Lkを透過させ上記励起光成分を反射させる上記ダイクロイックミラー218と、このダイクロイックミラー218を通った蛍光Lkに混入したノイズ光を遮断し上記蛍光Lkを通すノイズ光カットフィルタ232と、ピンホールHoが形成されたピンホール板236と、ノイズ光カットフィルタ232を通った蛍光Lkをピンホール板236上に形成されたピンホールHoに集光させる像点側集光レンズ234と、ピンホールHoを通った蛍光Lkを検出する検出部238とを備えている。   The fluorescence detection unit 230 includes an object point side condensing lens 222 that condenses the fluorescence Lk emitted from the sample 1 that has been irradiated with the sample irradiation light component Lei that is the condensed excitation light component, and the object point. The dichroic mirror 218 that transmits the fluorescent light Lk emitted from the side condenser lens 222 and reflects the excitation light component, and the noise light that is mixed into the fluorescent light Lk that passes through the dichroic mirror 218 and that passes through the fluorescent light Lk An image point side collector that collects the light cut filter 232, the pinhole plate 236 formed with the pinhole Ho, and the fluorescence Lk that has passed through the noise light cut filter 232 into the pinhole Ho formed on the pinhole plate 236. The optical lens 234 and the detection part 238 which detects the fluorescence Lk which passed through the pinhole Ho are provided.

上記物点側集光レンズ222と像点側集光レンズ234は、物点側焦点Fbに位置する試料1上の1点を像点側焦点Fzに位置するピンホールHoに結像させる結像光学系246を構成するものである。上記結像光学系246に関し、上記物点側焦点Fbに位置する試料1上の1点と上記像点側焦点Fzに位置するピンホールHoとは共役な位置関係にある。   The object point side condensing lens 222 and the image point side condensing lens 234 form an image of one point on the sample 1 located at the object point side focal point Fb in a pinhole Ho located at the image point side focal point Fz. The optical system 246 is configured. With respect to the imaging optical system 246, one point on the sample 1 located at the object point side focal point Fb and the pinhole Ho located at the image point side focal point Fz have a conjugate positional relationship.

なお、励起光照射部210から射出された試料照射光成分Leiは上記物点側焦点Fbに集光される。   Note that the sample irradiation light component Lei emitted from the excitation light irradiation unit 210 is focused on the object point side focal point Fb.

次に、上記光モニタ装置の作用について説明する。   Next, the operation of the optical monitor device will be described.

励起光照射部210のレーザ光源212から射出されたレーザ光Lzは収束レンズ214を通して収束され、波長フィルタ216によって波長分離される。   The laser light Lz emitted from the laser light source 212 of the excitation light irradiation unit 210 is converged through the converging lens 214 and is wavelength-separated by the wavelength filter 216.

すなわち、図2に示すように、波長フィルタ216は入射した光を波長λoにおいて波長分離するものであり、レーザ光Lz中の波長λoを超える不要光成分Lfを反射し、レーザ光Lz中の波長λo以下の励起光成分Leを透過させる。   That is, as shown in FIG. 2, the wavelength filter 216 separates the incident light at the wavelength λo, reflects the unnecessary light component Lf exceeding the wavelength λo in the laser light Lz, and reflects the wavelength in the laser light Lz. The excitation light component Le of λo or less is transmitted.

上記波長フィルタ216は、上記レーザ光Lzの光強度の波長分布H1(以後、レーザ光Lzの波長分布H1ともいう)のうち、波長λoを超える不要光成分Lfに対応する領域Rf1の光成分を反射し、波長λo以下の励起光成分Leに対応する領域Re1の光成分を透過させる。   The wavelength filter 216 removes the light component of the region Rf1 corresponding to the unnecessary light component Lf exceeding the wavelength λo in the wavelength distribution H1 of the light intensity of the laser light Lz (hereinafter also referred to as the wavelength distribution H1 of the laser light Lz). The light component of the region Re1 corresponding to the excitation light component Le having a wavelength λo or less is transmitted.

上記レーザ光Lzの波長分布H1が変動しない場合、すなわちピーク波長λp1が変動しない場合、またはその変動がわずかである場合には、図3に示すように、励起光成分Leの光強度E(e)と不要光成分Lfの光強度E(f)との比率は図中直線M1で示すように一定である。したがって、不要光成分Lfの光強度E(f)に比例して励起光成分Leの光強度E(e)が変化する。例えば、不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度が光強度Ef1である場合に励起光成分Leの光強度を光強度Ee1として求めることができる。   When the wavelength distribution H1 of the laser beam Lz does not vary, that is, when the peak wavelength λp1 does not vary, or when the variation is slight, as shown in FIG. 3, the light intensity E (e of the excitation light component Le ) And the light intensity E (f) of the unnecessary light component Lf are constant as shown by a straight line M1 in the figure. Therefore, the light intensity E (e) of the excitation light component Le changes in proportion to the light intensity E (f) of the unnecessary light component Lf. For example, when the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 is the light intensity Ef1, the light intensity of the excitation light component Le can be obtained as the light intensity Ee1.

例えば、不要光成分Lfの光強度E(f)が10%増大すれが、励起光成分Leの光強度E(e)も10%増大していることになる。   For example, although the light intensity E (f) of the unnecessary light component Lf is increased by 10%, the light intensity E (e) of the excitation light component Le is also increased by 10%.

なお、上記波長分布H1の変動が生じる場合には、励起光成分Leの光強度E(e)と不要光成分Lfの光強度E(f)との比率が変動し、上記光強度E(e)と光強度E(f)との関係が図中直線M1で示す関係からずれる。したがって、上記変動に応じて不要光成分Lfの光強度E(f)の検出値から求められる励起光成分Leの光強度E(e)に誤差が生じるので、上記レーザ光Lzのピーク波長λp1の変動は例えば1%以下とすることが望ましい。   When the wavelength distribution H1 fluctuates, the ratio between the light intensity E (e) of the excitation light component Le and the light intensity E (f) of the unnecessary light component Lf fluctuates, and the light intensity E (e ) And the light intensity E (f) deviate from the relationship indicated by the straight line M1 in the figure. Accordingly, an error occurs in the light intensity E (e) of the excitation light component Le obtained from the detected value of the light intensity E (f) of the unnecessary light component Lf according to the variation, and therefore the peak wavelength λp1 of the laser light Lz For example, the fluctuation is desirably 1% or less.

なお、上記直線M1で示す関係を演算部30に記憶させておき、上記不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度が入力された演算部30が励起光成分Leの光強度を求めるようにすることができる。演算部30から出力された励起光成分Leの光強度を示す信号Sgは表示部40に入力されこの表示部40に表示される。   The relationship indicated by the straight line M1 is stored in the calculation unit 30, and the calculation unit 30 to which the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 is input is the light intensity of the excitation light component Le. Can be requested. A signal Sg indicating the light intensity of the excitation light component Le output from the calculation unit 30 is input to the display unit 40 and displayed on the display unit 40.

上記のように、不要光検出部10で検出された、波長フィルタ216で反射した不要光成分Lfの光強度E(f)から、特定の光成分の状態である励起光成分Leの光強度E(e)を求めることができる。これにより、上記励起光成分Leの光路中に上記不要光成分Lfの光強度E(e)を検出するための個別の光学部材等を設ける必要がなく、上記光路中に配された光学部材等で反射した不要光成分からなる迷光の発生を抑制することができる。   As described above, from the light intensity E (f) of the unnecessary light component Lf reflected by the wavelength filter 216 detected by the unnecessary light detection unit 10, the light intensity E of the excitation light component Le which is a specific light component state. (E) can be obtained. Thereby, it is not necessary to provide a separate optical member or the like for detecting the light intensity E (e) of the unnecessary light component Lf in the optical path of the excitation light component Le, and an optical member or the like disposed in the optical path. It is possible to suppress the generation of stray light composed of unnecessary light components reflected by.

上記のことにより、共焦点蛍光顕微鏡200の波長フィルタ216で抽出された励起光成分Leの伝播する光路への不要光成分Lfの混入を抑制することができるとともに、共焦点蛍光顕微鏡200の装置サイズの大型化を抑制することができる。   By the above, it is possible to suppress the mixing of the unnecessary light component Lf into the optical path through which the excitation light component Le extracted by the wavelength filter 216 of the confocal fluorescence microscope 200 propagates, and the apparatus size of the confocal fluorescence microscope 200 Increase in size can be suppressed.

次に、レーザ光Lzに波長変動が生じたときの励起光成分のモニタについて説明する。すなわち、上記不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度に加えて、漏れ光検出部20で検出された励起光成分Lfの光強度を用いて励起光成分Leの波長の状態を求める場合について説明する。   Next, monitoring of the excitation light component when the wavelength variation occurs in the laser light Lz will be described. That is, the state of the wavelength of the excitation light component Le using the light intensity of the excitation light component Lf detected by the leakage light detection unit 20 in addition to the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10. A case of obtaining the above will be described.

図4は、縦軸に光強度、横軸に波長を示す座標上に波長変動が生じたレーザ光の波長分布の変化を示す図、図5は、縦軸にレーザ光のピーク波長、横軸に不要光成分の光強度と励起光成分の光強度との比率を示す座標上にピーク波長と比率との関係を示す図である。   FIG. 4 is a graph showing changes in wavelength distribution of laser light in which wavelength variation occurs on the coordinates indicating light intensity on the vertical axis and wavelength on the horizontal axis, and FIG. It is a figure which shows the relationship between a peak wavelength and a ratio on the coordinate which shows the ratio of the light intensity of an unnecessary light component, and the light intensity of an excitation light component.

図4に示すように、上記と同様に、光源212から射出されたレーザ光Lzの波長分布は波長分布H1を成す。また、不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度は、図中の波長分布H1中の領域Rf1に対応する光強度Ef1であり、漏れ光検出部20で検出された漏れ光成分Lemの光強度は、図中の波長分布H1中の領域Re1に対応する光強度Eem1である。   As shown in FIG. 4, similarly to the above, the wavelength distribution of the laser light Lz emitted from the light source 212 forms the wavelength distribution H1. Further, the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 is the light intensity Ef1 corresponding to the region Rf1 in the wavelength distribution H1 in the figure, and the leaked light detected by the leaked light detection unit 20 The light intensity of the component Lem is the light intensity Eem1 corresponding to the region Re1 in the wavelength distribution H1 in the drawing.

ここで、レーザ光Lzの波長分布H1が長波長側にシフトして、上記ピーク波長λ1pを持つ波長分布H1が、ピーク波長λ2pを持つ波長分布H2にシフトしたとする。これにより、不要光検出部10で検出される不要光成分Lfの光強度が、波長分布H2中の領域Rf2に対応した光強度Ef2となり、漏れ光検出部20で検出される漏れ光成分Lemの光強度が、波長分布H2中の領域Re2に対応した光強度Eem2となる。   Here, it is assumed that the wavelength distribution H1 of the laser light Lz is shifted to the long wavelength side, and the wavelength distribution H1 having the peak wavelength λ1p is shifted to the wavelength distribution H2 having the peak wavelength λ2p. Thereby, the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 becomes the light intensity Ef2 corresponding to the region Rf2 in the wavelength distribution H2, and the leakage light component Lem detected by the leakage light detection unit 20 is detected. The light intensity becomes the light intensity Eem2 corresponding to the region Re2 in the wavelength distribution H2.

なお、レーザ光Lzの光強度の波長分布の形状は光強度や波長が変化しても一定である。したがって、上記波長分布H1の形状と波長分布H2の形状は一致する。   The shape of the wavelength distribution of the light intensity of the laser light Lz is constant even if the light intensity or wavelength changes. Therefore, the shape of the wavelength distribution H1 matches the shape of the wavelength distribution H2.

上記のように、レーザ光Lzの光強度の波長分布が長波長側にシフトすると、漏れ光検出部20で検出される光強度に対する不要光検出部10で検出される光強度の比率が大きくなる。   As described above, when the wavelength distribution of the light intensity of the laser light Lz is shifted to the long wavelength side, the ratio of the light intensity detected by the unnecessary light detection unit 10 to the light intensity detected by the leakage light detection unit 20 increases. .

上記光源212から波長分布H1のレーザ光Lzが射出されている場合において、漏れ光検出部20で検出される光強度Eem1に対する不要光検出部10で検出される光強度Ef1の比率は値K1である。また、光源212から波長分布H2のレーザ光Lzが射出されているときの漏れ光検出部20で検出される光強度Eem2に対する不要光検出部10で検出される光強度Ef2の比率は値K2である。ここで、上記比率の値K2が上記比率の値K1よりも大きいので、レーザ光Lzの波長分布が長波長側、にシフトしたことがわかる。なお、上記演算部30によって上記比率の値が求められる。   When the laser light Lz having the wavelength distribution H1 is emitted from the light source 212, the ratio of the light intensity Ef1 detected by the unnecessary light detection unit 10 to the light intensity Eem1 detected by the leakage light detection unit 20 is a value K1. is there. The ratio of the light intensity Ef2 detected by the unnecessary light detection unit 10 to the light intensity Eem2 detected by the leakage light detection unit 20 when the laser light Lz having the wavelength distribution H2 is emitted from the light source 212 is a value K2. is there. Here, since the value K2 of the ratio is larger than the value K1 of the ratio, it can be seen that the wavelength distribution of the laser light Lz has shifted to the long wavelength side. The calculation unit 30 determines the ratio value.

上記演算部30が求めた比率の値の変動を知ることによりレーザ光Lzのピーク波長の変動を知ることができる。   By knowing the fluctuation of the ratio value obtained by the arithmetic unit 30, the fluctuation of the peak wavelength of the laser light Lz can be known.

また、演算部30により、上記比率と上記波長分離する波長λoと予め取得したレーザ光Lzの光強度の波長分布の成す形状とから上記波長分布H1、H2におけるピーク波長λp1、λp2の値を求めることもできる。   Further, the calculation unit 30 obtains the values of the peak wavelengths λp1 and λp2 in the wavelength distributions H1 and H2 from the ratio, the wavelength λo for wavelength separation, and the shape formed by the wavelength distribution of the light intensity of the laser light Lz acquired in advance. You can also.

すなわち、レーザ光Lzの光強度の波長分布(省略して、レーザ光Lzの波長分布ともいう)の形状は一定なので、波長λoを超えるより長波長側の不要光成分の光強度と、波長λo以下の短波長側の漏れ光成分の光強度との比率から、波長λoを基準としたレーザ光Lzの波長分布の形状を求めることができる。このようにして求められた波長分布の形状からこの波長分布におけるピーク波長の値を求めることができる。   That is, since the shape of the wavelength distribution of the light intensity of the laser light Lz (which is also referred to as the wavelength distribution of the laser light Lz) is constant, the light intensity of the unnecessary light component on the longer wavelength side exceeding the wavelength λo and the wavelength λo The shape of the wavelength distribution of the laser beam Lz based on the wavelength λo can be obtained from the ratio of the light intensity of the leakage light component on the short wavelength side below. The value of the peak wavelength in this wavelength distribution can be determined from the shape of the wavelength distribution thus determined.

すなわち、図5に示すように、上記比率の値Kとピーク波長λpとの関係を示す曲線S1を予め求めておき、上記曲線S1を参照し、上記演算部30で求めた比率の値からピーク波長の値を求めることができる。また、上記比率の増減から、上記レーザ光Lzの波長の変動方向や変動量等を知ることができる。   That is, as shown in FIG. 5, a curve S1 indicating the relationship between the ratio value K and the peak wavelength λp is obtained in advance, and the peak is determined from the ratio value obtained by the arithmetic unit 30 with reference to the curve S1. The wavelength value can be determined. Further, from the increase / decrease of the ratio, it is possible to know the fluctuation direction and the fluctuation amount of the wavelength of the laser light Lz.

以下、レーザ光に光量変動が生じたときの励起光成分のモニタについて説明する。   Hereinafter, monitoring of the excitation light component when the light amount fluctuation occurs in the laser light will be described.

図6は、縦軸に光強度、横軸に波長を示す座標上に光量変動が生じたレーザ光の光強度の波長分布の変化を示す図、図7は、縦軸に励起光成分の光強度、横軸に不要光成分の光強度を示す座標上に両者の関係を示す図である。   FIG. 6 is a graph showing changes in the wavelength distribution of the light intensity of the laser light in which the light intensity fluctuates on the coordinates indicating the light intensity on the vertical axis and the wavelength on the horizontal axis, and FIG. It is a figure which shows both relationship on the coordinate which shows intensity | strength and the light intensity of an unnecessary light component on a horizontal axis.

図6に示すように、上記と同様に、光源212から射出されたレーザ光Lzの波長分布は波長分布H1を成す。また、不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度は、図中の波長分布H1中の領域Rf1に対応する光強度Ef1であり、漏れ光検出部20で検出された漏れ光成分Lemの光強度は、図中の波長分布H1中の領域Re1に対応する光強度Eem1である。   As shown in FIG. 6, similarly to the above, the wavelength distribution of the laser light Lz emitted from the light source 212 forms the wavelength distribution H1. Further, the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 is the light intensity Ef1 corresponding to the region Rf1 in the wavelength distribution H1 in the figure, and the leaked light detected by the leaked light detection unit 20 The light intensity of the component Lem is the light intensity Eem1 corresponding to the region Re1 in the wavelength distribution H1 in the drawing.

ここで、図6に示すように、レーザ光Lzの光強度が変化しその波長分布H1が光強度を示す縦軸方向にシフトして、上記ピーク波長λ1pを持つ波長分布H1が、上記と同様のピーク波長λ1pを持つ波長分布H3にシフトしたとする。これにより、不要光検出部10で検出される不要光成分Lfの光強度が、波長分布H3中の領域Rf3に対応した光強度Ef3となり、漏れ光検出部20で検出される漏れ光成分Lemの光強度が、波長分布H3中の領域Re3に対応した光強度Eem3となる。   Here, as shown in FIG. 6, the light intensity of the laser light Lz changes, and the wavelength distribution H1 shifts in the vertical axis direction indicating the light intensity, so that the wavelength distribution H1 having the peak wavelength λ1p is the same as described above. Is shifted to a wavelength distribution H3 having a peak wavelength λ1p. Thereby, the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 becomes the light intensity Ef3 corresponding to the region Rf3 in the wavelength distribution H3, and the leakage light component Lem detected by the leakage light detection unit 20 is detected. The light intensity becomes the light intensity Eem3 corresponding to the region Re3 in the wavelength distribution H3.

ここで、光強度Eem1に対する光強度Ef1の比率と、光強度Eem3に対する光強度Ef3の比率は一致する。すなわち、Ef1/Eem1=Ef3/Eem3の式が成り立つ。   Here, the ratio of the light intensity Ef1 to the light intensity Eem1 matches the ratio of the light intensity Ef3 to the light intensity Eem3. That is, the equation Ef1 / Eem1 = Ef3 / Eem3 holds.

図6に示すように、光源から射出されたレーザ光Lzに波長変動が生じることなくこのレーザ光Lzの光強度が変動するときには、上記レーザ光Lzに波長変動が生じていないことを、不要光成分の光強度と漏れ光成分の光強度との比率が一定であるか否かによって確認することができる。   As shown in FIG. 6, when the light intensity of the laser light Lz fluctuates without causing a wavelength fluctuation in the laser light Lz emitted from the light source, it indicates that no wavelength fluctuation has occurred in the laser light Lz. This can be confirmed by checking whether the ratio between the light intensity of the component and the light intensity of the leakage light component is constant.

また、図7に示すように、励起光成分Leの光強度Eeと不要光成分Lfの光強度Efとの比率は図中直線M3で示すように一定となる。すなわち、不要光成分Lfの光強度Efに比例して励起光成分Leの光強度Eeが変化する。   Further, as shown in FIG. 7, the ratio between the light intensity Ee of the excitation light component Le and the light intensity Ef of the unnecessary light component Lf is constant as shown by a straight line M3 in the figure. That is, the light intensity Ee of the excitation light component Le changes in proportion to the light intensity Ef of the unnecessary light component Lf.

例えば、不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度が光強度Ef1である場合には、上記直線M3を参照して励起光成分Leの光強度を光強度Ee1として求めることができる。その後、レーザ光Lzに波長変動が生じることなくこのレーザ光Lzの光強度が変動し、不要光検出部10で検出された不要光成分Lfの光強度が光強度Ef3となった場合には、上記直線M3を参照して励起光成分Leの光強度を光強度Ee3として求めることができる。   For example, when the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 is the light intensity Ef1, the light intensity of the excitation light component Le can be obtained as the light intensity Ee1 with reference to the straight line M3. it can. Thereafter, when the light intensity of the laser light Lz fluctuates without causing wavelength fluctuation in the laser light Lz, and the light intensity of the unnecessary light component Lf detected by the unnecessary light detection unit 10 becomes the light intensity Ef3, With reference to the straight line M3, the light intensity of the excitation light component Le can be obtained as the light intensity Ee3.

なお、試料照射光成分Leiは励起光成分Leの一部を光量分離したものなので、試料照射光成分Leiと励起光成分Leとは波長分布は一致する。また、光強度については両者の光強度の比率は常に一定である。したがって、試料照射光成分Leiまたは励起光成分Leのいずれか一方の波長や光強度の状態が求まれば、他方の波長や光強度の状態を求めることができる。   Since the sample irradiation light component Lei is obtained by separating a part of the excitation light component Le, the wavelength distribution of the sample irradiation light component Lei and the excitation light component Le is the same. As for the light intensity, the ratio of the two light intensities is always constant. Therefore, if the wavelength or light intensity state of either the sample irradiation light component Lei or the excitation light component Le is obtained, the other wavelength or light intensity state can be obtained.

なお、上記実施の形態においては、ダイクロイックミラーで反射した特定の光成分の状態をモニタするものとしたが、ダイクロイックミラーを透過した特定の光成分の状態をモニタするものとしてもよい。すなわち、特定の光成分を利用する装置を、波長フィルタで抽出された特定の光成分を透過させるダイクロイックミラーを有するものとし、光モニタ装置を、ダイクロイックミラーで反射した特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出部を備え、不要光検出手段で検出された光強度と漏れ光検出部で検出された光強度とを用いてダイクロイックミラーを透過した特定の光成分の状態をモニタするものとすることもできる。これにより、上記波長フィルタで抽出された特定の光成分を反射させるダイクロイックミラーを有する場合と同様の効果を奏することができる。   In the above embodiment, the state of the specific light component reflected by the dichroic mirror is monitored, but the state of the specific light component transmitted through the dichroic mirror may be monitored. That is, a device that uses a specific light component has a dichroic mirror that transmits the specific light component extracted by the wavelength filter, and the light monitor device leaks light in the specific light component that is reflected by the dichroic mirror. A state of a specific light component that has passed through the dichroic mirror using the light intensity detected by the unnecessary light detection means and the light intensity detected by the leakage light detection unit, provided with a leakage light detection unit that detects the light intensity of the component Can also be monitored. Thereby, the same effect as the case of having a dichroic mirror that reflects the specific light component extracted by the wavelength filter can be obtained.

本発明の実施の形態による光モニタ装置を適用した共焦点蛍光顕微鏡装置の概略構成を示す概念図The conceptual diagram which shows schematic structure of the confocal fluorescence microscope apparatus to which the optical monitor apparatus by embodiment of this invention is applied レーザ光の光強度の波長分布を示す図The figure which shows wavelength distribution of the light intensity of the laser beam 不要光成分の光強度と励起光成分の光強度との関係を示す図Diagram showing the relationship between the light intensity of the unwanted light component and the light intensity of the excitation light component 波長変動が生じたレーザ光の波長分布の変化を示す図The figure which shows the change of wavelength distribution of the laser beam where wavelength fluctuation occurs レーザ光のピーク波長と、不要光成分の光強度と励起光成分の光強度の比率との関係を示す図The figure which shows the relationship between the peak wavelength of a laser beam, and the ratio of the light intensity of an unnecessary light component, and the light intensity of an excitation light component 光量変動が生じたレーザ光の光強度の波長分布の変化を示す図The figure which shows the change of the wavelength distribution of the light intensity of the laser beam where the light quantity fluctuation occurs 励起光成分の光強度と不要光成分の光強度の関係を表す線を示す図The figure which shows the line showing the relationship between the light intensity of an excitation light component, and the light intensity of an unnecessary light component

符号の説明Explanation of symbols

10 不要光検出部
20 漏れ光検出部
100 光モニタ装置
200 共焦点顕微鏡装置
210 励起光照射部
212 光源
216 波長フィルタ
230 蛍光検出部
Lz レーザ光
Le 特定の光成分
Lf 不要光成分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Unwanted light detection part 20 Leakage light detection part 100 Optical monitor apparatus 200 Confocal microscope apparatus 210 Excitation light irradiation part 212 Light source 216 Wavelength filter 230 Fluorescence detection part Lz Laser light Le Specific light component Lf Unnecessary light component

Claims (5)

光源から射出された光から所定の波長範囲の光成分を抽出する波長フィルタを有し前記抽出された特定の光成分を利用する装置に用いられる光モニタ装置であって、
前記波長フィルタが、前記特定の光成分以外の不要光成分を前記特定の光成分の光路外へ伝播させるものであり、
前記光路外へ伝播せしめられた不要光成分の光強度を検出する不要光検出手段を備え、前記検出された光強度を用いて前記波長フィルタで抽出された特定の光成分の状態をモニタすることを特徴とする光モニタ装置。
An optical monitor device used in a device having a wavelength filter for extracting a light component in a predetermined wavelength range from light emitted from a light source and using the extracted specific light component,
The wavelength filter propagates unnecessary light components other than the specific light component out of the optical path of the specific light component,
Unnecessary light detecting means for detecting the light intensity of the unnecessary light component propagated out of the optical path, and monitoring the state of the specific light component extracted by the wavelength filter using the detected light intensity. An optical monitor device characterized by the above.
前記特定の光成分を利用する装置が、前記波長フィルタで抽出された特定の光成分を反射させるダイクロイックミラーを有するものであり、
前記光モニタ装置が、前記ダイクロイックミラーを透過した、前記特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出手段をさらに備え、前記不要光検出手段で検出された光強度と前記漏れ光検出手段で検出された光強度とを用いて前記特定の光成分の波長の状態をモニタするものであることを特徴とする請求項1記載の光モニタ装置。
The apparatus using the specific light component has a dichroic mirror that reflects the specific light component extracted by the wavelength filter,
The light monitoring device further includes leakage light detection means for detecting the light intensity of the leakage light component in the specific light component that has passed through the dichroic mirror, and the light intensity detected by the unnecessary light detection means and the light intensity 2. The optical monitor device according to claim 1, wherein the wavelength state of the specific light component is monitored using the light intensity detected by the leakage light detection means.
前記特定の光成分を利用する装置が、前記波長フィルタで抽出された特定の光成分を透過させるダイクロイックミラーを有するものであり、
前記光モニタ装置が、前記ダイクロイックミラーで反射された、前記特定の光成分中の漏れ光成分の光強度を検出する漏れ光検出手段をさらに備え、前記不要光検出手段で検出された光強度と前記漏れ光検出手段で検出された光強度とを用いて前記特定の光成分の波長の状態をモニタするものであることを特徴とする請求項1記載の光モニタ装置。
The device using the specific light component has a dichroic mirror that transmits the specific light component extracted by the wavelength filter,
The light monitoring device further comprises leakage light detection means for detecting the light intensity of the leakage light component in the specific light component reflected by the dichroic mirror, and the light intensity detected by the unnecessary light detection means 2. The optical monitor device according to claim 1, wherein the wavelength state of the specific light component is monitored using the light intensity detected by the leakage light detection means.
前記特定の光成分を利用する装置が、前記特定の光成分を試料に照射する光照射手段と、前記特定の光成分の照射を受けた前記試料から発せられる蛍光を検出する蛍光検出手段とを備えたものであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の光モニタ装置。   The apparatus using the specific light component includes: a light irradiation unit that irradiates the sample with the specific light component; and a fluorescence detection unit that detects fluorescence emitted from the sample that has been irradiated with the specific light component. The optical monitor device according to claim 1, wherein the optical monitor device is provided. 前記波長フィルタが、多層膜フィルタであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の光モニタ装置。   5. The optical monitor device according to claim 1, wherein the wavelength filter is a multilayer filter.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013507650A (en) * 2009-10-08 2013-03-04 ライカ マイクロシステムス ツェーエムエス ゲーエムベーハー Microscope laser system and operation method of microscope laser system

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