JP2008248368A - Method of recovering nickel from flush waste water after nickel strike plating - Google Patents
Method of recovering nickel from flush waste water after nickel strike plating Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008248368A JP2008248368A JP2007094838A JP2007094838A JP2008248368A JP 2008248368 A JP2008248368 A JP 2008248368A JP 2007094838 A JP2007094838 A JP 2007094838A JP 2007094838 A JP2007094838 A JP 2007094838A JP 2008248368 A JP2008248368 A JP 2008248368A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strike plating
- plating
- liquid
- strike
- washing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Description
本発明はＮｉストライクめっき工程を有するめっき装置におけるＮｉストライクめっき後の水洗廃液からのＮｉ回収方法に関する。 The present invention relates to a method for recovering Ni from a washing waste liquid after Ni strike plating in a plating apparatus having a Ni strike plating step.
めっき装置には、脱脂、酸洗等の前処理工程をへて、Ｎｉストライクめっき工程を有し、その後に所望のめっき工程を有する装置がある。
Ｎｉストライクめっきは、密着性の高いめっきを施すことが難しいため、母材(主にステンレス鋼)の表面を活性化させ、薄いＮｉめっきを施し、所定のＮｉ皮膜を表面に薄く付着させ、この後に行うめっき(例えば、ニッケル、銅、亜鉛、クロム及び半田)の密着性を十分強固にするという下地処理の役割を果たすめっきである。
The plating apparatus includes an apparatus having a Ni strike plating process after a pretreatment process such as degreasing and pickling, and thereafter having a desired plating process.
Since Ni strike plating is difficult to perform plating with high adhesion, the surface of the base material (mainly stainless steel) is activated, thin Ni plating is applied, and a predetermined Ni film is thinly adhered to the surface. This is a plating that plays the role of a ground treatment for sufficiently strengthening the adhesion of plating (for example, nickel, copper, zinc, chromium, and solder) to be performed later.
このＮｉストライクめっき後には、めっき槽から母材に付着しためっき液を洗浄する水洗槽が設けられている。水洗水には持ち出されためっき液のＮｉが含まれるため、近年のＮｉ価格の高騰により水洗水の廃水からＮｉを回収することが行われている。Ｎｉ回収の技術としては、添加剤を添加した後にｐＨを調製して不純物を除去する方法(特許文献１、２参照)、添加剤と反応させて反応物の生成物とする方法(特許文献３、４参照)が知られている。 After this Ni strike plating, a water washing tank is provided for washing the plating solution adhering to the base material from the plating tank. Since the washing water contains Ni in the plating solution taken out, Ni is recovered from the waste water of the washing water due to the recent increase in Ni price. As a technique for recovering Ni, a method of removing pH by adjusting pH after adding an additive (see Patent Documents 1 and 2), a method of reacting with an additive to obtain a product of a reactant (Patent Document 3) 4) is known.
Ｎｉストライクめっき工程では、めっきが施される母材は、不動態皮膜等のめっきに影響を及ぼす母材表面の皮膜を酸洗により除去し、酸洗後の水洗槽を出て通電ロールを通ってＮｉストライクめっき槽に入っていく。しかし、ステンレス鋼のような電気抵抗の高い母材では、めっき槽前後の通電ロール間で母材が発熱し、通電ロールからＮｉストライクめっき槽の液面までの間で乾燥してしまう場合がある。その場合には、剥離等の品質異常が発生してしまう。そのため、その対策として、Ｎｉストライクめっき槽入側にシャワーノズルを設置し、純水、酸、Ｎｉストライクめっき液を噴霧すること(主にＮｉストライクめっき液を噴霧する)で乾燥を防止し、品質を安定化している（特許文献５参照。）。 In the Ni strike plating process, the base material to be plated is removed by pickling the surface of the base material that affects the plating, such as a passive film, and after leaving the water-washing tank after pickling, it passes through an energizing roll. Enter the Ni strike plating tank. However, in a base material with high electrical resistance such as stainless steel, the base material may generate heat between current-carrying rolls before and after the plating tank, and may dry between the current-carrying roll and the liquid level of the Ni strike plating tank. . In that case, quality abnormalities such as peeling occur. Therefore, as a countermeasure, a shower nozzle is installed on the inlet side of the Ni strike plating tank, and spraying pure water, acid, and Ni strike plating solution (mainly spraying Ni strike plating solution) prevents drying and quality. (See Patent Document 5).
しかしながら、上記のＮｉストライクめっき後の水洗水廃水からＮｉを回収する方法には次のような問題がある。
回収工程が複雑かつ多段階となるため、回収専用の大きな設備が必要になり、そのため、回収設備に対する投資とスペースが必要となることである。また、回収と利用が切り離された工程があるため、Ｎｉの回収と再利用が別々に行われ、ライン操業時にＮｉの回収と再利用を連続的に行うことができない場合がある。
However, the method for recovering Ni from the washing waste water after the Ni strike plating has the following problems.
Since the recovery process is complicated and multi-staged, a large facility dedicated to the recovery is required, which requires investment and space for the recovery facility. In addition, since there is a process in which collection and use are separated, there are cases where Ni is collected and reused separately, and Ni cannot be collected and reused continuously during line operation.
一方、Ｎｉストライクめっき槽入側の乾燥防止に純水、酸、Ｎｉストライク液を噴霧することにも次のような問題がある。特に、図２に示すような水平竪型タイプであり、Ｎｉストライクめっき槽入側の乾燥防止の噴霧構造がめっき液の直上にあるめっき装置で、噴霧した液がめっき槽の中に混入してしまうために起こる問題である。 On the other hand, spraying pure water, acid, and Ni strike liquid to prevent drying on the Ni strike plating tank inlet side also has the following problems. In particular, it is a horizontal saddle type as shown in FIG. 2 and is a plating apparatus in which a dry prevention spray structure on the Ni strike plating tank entrance side is directly above the plating solution, and the sprayed liquid is mixed into the plating tank. It is a problem that occurs because of
まず、純水を噴霧する場合には、ラインの操業中にＮｉストライクめっき液の濃度が低下する。酸を噴霧する場合には、酸により母材が溶け出し、Ｎｉストライクめっき液内に母材の成分が過剰に入ることで、Ｎｉストライクめっき液の劣化、品質異常を引き起こす。また、酸の量が増えることでＮｉ濃度が相対的に低下する。さらには、酸の飛散により設備を腐食させるので、設備のメンテナンスの回数が増え、メンテナンス時間とコストが大きくなる。 First, when spraying pure water, the concentration of the Ni strike plating solution decreases during line operation. When the acid is sprayed, the base material is melted by the acid, and excessive components of the base material enter the Ni strike plating solution, thereby causing deterioration and quality abnormalities of the Ni strike plating solution. Further, the Ni concentration relatively decreases as the amount of acid increases. Furthermore, since the equipment is corroded by the scattering of the acid, the number of maintenance of the equipment is increased, and the maintenance time and cost are increased.
Ｎｉストライクめっき液を噴霧した場合、Ｎｉストライクめっき液もｐＨが1以下の酸のため、酸を噴霧した場合と同様母材が溶け、Ｎｉストライクめっき液内に母材の成分が過剰に入り、Ｎｉストライクめっき液の劣化、品質異常を引き起こす。また、Ｎｉストライクめっき液の飛散により設備を腐食するため、設備のメンテナンスの回数が増え、メンテナンス時間とコストが大きくなる。
そこで、本発明は、Ｎｉストライクめっき後に水洗廃水からのＮｉ回収について、経済的であり、さらには設備保全性及び製品品質面においても有効なＮｉ回収方法を提供することにある。
When the Ni strike plating solution is sprayed, since the Ni strike plating solution also has an acid having a pH of 1 or less, the base material dissolves in the same manner as when the acid is sprayed. Deterioration of Ni strike plating solution, causing quality abnormalities. Further, since the equipment is corroded by the scattering of the Ni strike plating solution, the number of maintenance of the equipment is increased, and the maintenance time and cost are increased.
Accordingly, the present invention is to provide a Ni recovery method that is economical for recovering Ni from washing waste water after Ni strike plating, and that is also effective in terms of facility maintainability and product quality.
発明者らは、鋭意研究の結果、Ｎｉストライクめっき後の水洗廃液からのＮｉ回収方法として酸やＮｉ以外の成分を分離し、Ｎｉを含んだ濃縮液とし、Ｎｉストライク槽入り側で噴霧することで、Ｎｉストライクめっき液のＮｉ濃度を変化させないで、Ｎｉストライクめっき工程の入側における通電ロールとＮｉストライク液面間の母材の乾燥を防止のためのできることを見出した。 As a result of diligent research, the inventors have separated the components other than acid and Ni as a method of recovering Ni from the washing waste liquid after Ni strike plating, to make a concentrated liquid containing Ni, and spray it on the Ni strike tank entering side. Thus, it has been found that drying of the base material between the energizing roll and the Ni strike liquid surface at the entry side of the Ni strike plating process can be prevented without changing the Ni concentration of the Ni strike plating liquid.
すなわち、本発明は
（１）Ｎｉストライクめっき液面と通電ロールの間に乾燥防止のための噴霧構造を有する電気めっき装置において、Ｎｉストライクめっき後の水洗廃液を上記噴霧構造より噴霧する水溶液に用いることを特徴とするＮｉストライクめっき後の水洗廃液のＮｉ回収方法。
（２）上記（１）記載の通電ロールがめっき槽の上にある横型の装置であり、Ｎｉストライクめっき液面と通電ロールの間に乾燥防止のための噴霧構造を有する電気めっき装置において、Ｎｉストライクめっき後の水洗廃液を上記噴霧構造より噴霧する水溶液に用いることを特徴とするＮｉストライクめっき後の水洗廃液のＮｉ回収方法
（３）上記（１）、（２）記載の噴霧構造より噴霧する水溶液が、Ｎｉストライクめっき後の水洗廃液をＮｉを含んだ液とそれ以外の成分を含んだ液に分離し、Ｎｉを含んだ液をさらに濃縮して作られた水溶液であることを特徴とするＮｉストライクめっき後の水洗廃液のＮｉ回収方法
（４）上記（１）、（２）記載の噴霧構造より噴霧する水溶液が、Ｎｉ濃度を１〜３０ｇ／Ｌ、ｐＨ５〜８であることを特徴とする請求項２記載のＮｉストライクめっき後の水洗廃液のＮｉ回収方法。
（５）上記（１）〜（４）記載の方法を用いたことを特徴とする電気めっき装置。
（６）上記（１）〜（５）記載の電気めっき装置によって電気めっきを施すことを特徴とする電気めっき方法
である。
That is, the present invention is (1) in an electroplating apparatus having a spray structure for preventing drying between the Ni strike plating liquid surface and the current carrying roll, the washing waste liquid after Ni strike plating is used as an aqueous solution sprayed from the spray structure. A method for recovering Ni from washing waste liquid after Ni strike plating.
(2) In the electroplating apparatus having a spray structure for preventing drying between the Ni strike plating liquid surface and the energizing roll, the energizing roll described in (1) above is a horizontal apparatus on the plating tank. A method for recovering Ni from washing waste liquid after Ni strike plating, wherein the washing waste liquid after strike plating is used as an aqueous solution sprayed from the spray structure. (3) Spraying from the spray structure described in (1) and (2) above. The aqueous solution is an aqueous solution prepared by separating the washing waste liquid after Ni strike plating into a liquid containing Ni and a liquid containing other components, and further concentrating the liquid containing Ni. Ni recovery method of washing waste liquid after Ni strike plating (4) The aqueous solution sprayed from the spray structure described in the above (1) and (2) has a Ni concentration of 1 to 30 g / L and a pH of 5 to 8. Ni recovery method of the washing waste liquid after Ni strike plating according to claim 2, symptoms.
(5) An electroplating apparatus using the method described in (1) to (4) above.
(6) An electroplating method, wherein electroplating is performed by the electroplating apparatus according to (1) to (5) above.
この発明は、水洗廃液をＮｉストライクめっき槽入り側の噴霧液に利用することで、水洗廃液からのＮｉ回収のような大掛かりな設備を必要とせず、水洗廃液のＮｉ分を有効な活用ができ、さらには、めっきの表面品質を確保し、設備のメインテナンスにおいても優れた効果を提供している。 This invention uses the washing waste liquid as the spray solution on the Ni strike plating tank entry side, and does not require a large facility such as Ni recovery from the washing waste liquid, and can effectively use the Ni content of the washing waste liquid. Furthermore, it ensures the surface quality of the plating and provides excellent effects in equipment maintenance.
以下に本発明の実施形態を説明する。
（１）Ｎｉストライクめっき工程について
本発明におけるＮｉストライクめっき工程および方法は当業者に周知であり、以下にステンレス鋼を例にしてＮｉめっき工程の一例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。ステンレス鋼のＮｉめっき工程は、随意的に浸漬脱脂及び水洗１を行った後、電解脱脂→水洗２→電解酸洗→水洗３→Ｎｉストライクめっき→水洗４→めっき→水洗５→乾燥により構成される。浸漬脱脂や電解脱脂では母材に付着したゴミや油分を除去する。水洗１及び２では母材に付着した過剰の脱脂液を希釈し、母材表面を洗浄する。電解酸洗では酸化被膜を除去して母材表面を活性化する。水洗３では母材に付着した過剰の酸洗液を希釈し、母材を洗浄する。Ｎｉストライクでは母材の活性化と同時に密着性の良い薄いＮｉ皮膜をつけ、この後に行うめっきの密着性を十分強固にする。水洗３では薄めっき材に付着したＮｉストライクめっき液を洗浄する。Ｎｉワットではより厚くＮｉ皮膜を形成する。水洗４では厚めっき材に付着したＮｉワット浴液を洗浄する。乾燥では出来上がっためっき材の乾燥を行う。
Embodiments of the present invention will be described below.
(1) Ni Strike Plating Step The Ni strike plating step and method in the present invention are well known to those skilled in the art, and an example of the Ni plating step is shown below by taking stainless steel as an example, but the present invention is limited to this. It is not a thing. The Ni plating process of stainless steel is optionally composed of electrolytic degreasing → water washing 2 → electrolytic acid washing → water washing 3 → Ni strike plating → water washing 4 → plating → water washing 5 → drying after performing immersion degreasing and water washing 1. The Immersion degreasing and electrolytic degreasing remove dust and oil adhering to the base material. In rinsing 1 and 2, the excess degreasing liquid adhering to the base material is diluted to clean the surface of the base material. In electrolytic pickling, the surface of the base material is activated by removing the oxide film. In the water washing 3, excess pickling liquid adhering to the base material is diluted to wash the base material. In Ni strike, a thin Ni film with good adhesion is applied simultaneously with the activation of the base material, and the adhesion of plating performed thereafter is sufficiently strengthened. In the water washing 3, the Ni strike plating solution adhering to the thin plating material is washed. Ni watts form a thicker Ni film. In the water washing 4, the Ni Watt bath solution adhering to the thick plating material is washed. In drying, the finished plating material is dried.
めっき装置には、材料を進行方向に対して水平にして通板する水平タイプと材料を進行方向に対して垂直にする垂直タイプ(図１)がある。水平タイプには、さらにセルに上下方向に通板する竪型タイプ(図２)とセルに左右方向に通板する水平タイプ(図３)がある。本発明は、水平竪型に有効であるが、程度の差はあるもののいずれの方式でもＮｉストライクめっきを有するのであれば有効である。 There are two types of plating apparatuses: a horizontal type in which a material is passed horizontally with respect to the traveling direction and a vertical type (FIG. 1) in which the material is perpendicular to the traveling direction. The horizontal type is further divided into a vertical type (FIG. 2) that passes through the cell in the vertical direction and a horizontal type (FIG. 3) that passes through the cell in the left-right direction. The present invention is effective for the horizontal saddle type, but it is effective as long as it has Ni strike plating with any method, although there is a difference in degree.
（２）Ｎｉストライクめっき入側の乾燥防止のために噴霧する水溶液としての好適な条件
本発明は、上記水洗４で発生した廃液を、Ｎｉストライクめっき槽前の通電ロールとＮｉストライクめっき槽との間に乾燥防止のために、シャワーノズルから噴霧される水溶液に用いることである。ただし、水洗廃液をそのまま、用いることができない。ここで、Ｎｉストライクめっき槽前の通電ロールとＮｉストライクめっき槽との間に乾燥防止のために、シャワーノズルから噴霧される水溶液の好適な条件は
１）ストライクめっき槽のＮｉ濃度に変化が少ない液であること、すなわち、水溶液Ｎｉ成分を含んだ液であること
２）酸濃度が低い液であること、具体的にはＰＨが５〜８であること
である。
(2) Suitable conditions as an aqueous solution to be sprayed to prevent drying on the Ni strike plating entrance side The present invention is a method for removing the waste liquid generated in the water washing 4 between the energizing roll before the Ni strike plating tank and the Ni strike plating tank. In order to prevent drying, it is used for an aqueous solution sprayed from a shower nozzle. However, the washing waste liquid cannot be used as it is. Here, in order to prevent drying between the energizing roll before the Ni strike plating tank and the Ni strike plating tank, suitable conditions for the aqueous solution sprayed from the shower nozzle are as follows: 1) Little change in Ni concentration in the strike plating tank It is a liquid, that is, a liquid containing an aqueous solution Ni component. 2) It is a liquid having a low acid concentration, specifically, PH is 5-8.
（３）水洗廃液からのＮｉの分離方法及び濃縮方法
水洗廃液は、通板した母材に付着しためっき液を含んだ水溶液である。そのため、酸を含んでおり、かつ多量の洗浄として水が用いられているので、濃度は低いが、Ｎｉを含んでいる液である。酸を分離し、濃縮することで、乾燥防止のために噴霧する液に用いることができる。金属イオン（Ｎｉイオン）と酸を分離する方法は公知の如何なる方法を使用してもよい。例えば圧力透析法、拡散透析法、イオン交換樹脂法、及び電気透析法が挙げられる。本発明においては特に、特開２００１‐２１９０３６号公報、特開２００２‐５９１６２号公報に記載の圧力透析法を利用することができる。
(3) Method for separating and concentrating Ni from water washing waste liquid The water washing waste liquid is an aqueous solution containing a plating solution adhering to a passed base material. Therefore, since it contains an acid and water is used as a large amount of washing, the concentration is low, but the solution contains Ni. By separating and concentrating the acid, it can be used as a liquid to be sprayed to prevent drying. Any known method may be used for separating metal ions (Ni ions) and acids. Examples thereof include pressure dialysis, diffusion dialysis, ion exchange resin method, and electrodialysis. In the present invention, in particular, the pressure dialysis method described in JP-A-2001-219036 and JP-A-2002-59162 can be used.
特開２００１‐２１９０３６号公報に記載の方法は、スパイラル型イオン交換膜を装着した圧力透析装置に、廃酸溶液を透析圧で供給して透析する方法である。
特開２００２‐５９１６２号公報に記載の方法は、圧力透析装置に化成処理水洗廃水を透析圧で供給し、透過液と濃縮液とに分離することを特徴とするりん酸塩化成処理水洗廃水の再利用方法である。
また、濃縮する方法についても公知の如何なる方法を使用してもよい。例えば、溶媒を蒸発させて濃縮する、圧力透析装置を多段階に配置する等の方法がある。
以上から、廃酸溶液を利用した乾燥防止のための噴霧用水溶液をＮｉストライクめっき入側のシャワーノズルより噴霧するストライクめっき工程の一例を図４に示す。
The method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-219036 is a method of dialysis by supplying a waste acid solution at a dialysis pressure to a pressure dialysis apparatus equipped with a spiral ion exchange membrane.
The method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-59162 is characterized in that the chemical conversion treatment waste water is supplied to a pressure dialysis apparatus at a dialysis pressure and separated into a permeate and a concentrated liquid. It is a reuse method.
Further, any known method may be used for the concentration method. For example, there are methods such as evaporating the solvent and concentrating, and arranging pressure dialysis devices in multiple stages.
From the above, FIG. 4 shows an example of a strike plating process in which an aqueous solution for spraying using a waste acid solution is sprayed from a shower nozzle on the Ni strike plating entrance side.
（４）通板母材について
母材は一般に板、帯又は箔の形態で与えられる。特に、電気抵抗の高い母材、例えばステンレス鋼に本発明の効果が有効である。また、箔は電気抵抗が大きく、母材が通電ロールからＮｉストライクめっき槽の液面までの間で乾燥する場合が多い。そのため、本発明の板厚は０．１ｍ以下で、特に有用な発明と言える。
(4) Passing plate base material The base material is generally given in the form of a plate, strip or foil. In particular, the effect of the present invention is effective for a base material with high electrical resistance, such as stainless steel. Further, the foil has a large electric resistance, and the base material is often dried between the energizing roll and the liquid level of the Ni strike plating tank. Therefore, the plate thickness of the present invention is 0.1 m or less, which can be said to be a particularly useful invention.
以下、本発明及びその利点をより理解するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（１）水洗廃液のＮｉ濃度
実施例では、Ｎｉストライクめっき後の水洗廃液のＮｉ濃度とｐＨを分析した。分析結果は以下の通りとなった。
Ｎｉ ７６ｍｇ／Ｌ、ｐＨ ７．７
Examples are shown below for better understanding of the present invention and its advantages, but the present invention is not limited to these examples.
(1) Ni concentration in washing waste liquid In the examples, the Ni concentration and pH of the washing waste liquid after Ni strike plating were analyzed. The analysis results are as follows.
Ni 76 mg / L, pH 7.7
（２）水洗廃液の処理（酸の分離と濃縮）
実施例では、Ｎｉストライクめっき後の水洗廃液を、Ｎｉを多量に含んだ液と他の成分(主成分:酸)に分離するために、日本カーパライジング株式会社の圧力透析装置(特開２００１−２１９０３６)を利用した。
その圧力透析装置の分離条件は以下のとおりである。
膜エレメント
ＭＤＫ４０４０ １本
運転条件 循環流量 ３０Ｈｚ ( ５０Ｈｚ以下 )
温度 成り行き ( ３０℃以下 )
水洗廃液中のＮｉはＮｉを多量に含んだ液に１００％含有されており、分離された他の成分を含んだ液中のＮｉ濃度を測定したところＮｉは検出されなかった。さらに、Ｎｉを多量に含んだ液の水分を蒸発させて濃縮した。
その結果、濃縮された液は、Ｎｉ濃度 １ｇ／Ｌ、ｐＨ ７．２となり、乾燥防止のための噴霧用水溶液を得た。
(2) Treatment of waste water from washing (separation and concentration of acid)
In this embodiment, a pressure dialysis apparatus manufactured by Nippon Carpalizing Co., Ltd. (Japanese Patent Laid-Open No. 2001) is used to separate the water washing waste liquid after Ni strike plating into a liquid containing a large amount of Ni and other components (main component: acid). -219036) was used.
The separation conditions of the pressure dialysis apparatus are as follows.
Membrane element MDK4040 1 operation condition Circulation flow 30Hz (50Hz or less)
Temperature (less than 30 ℃)
Ni in the washing waste liquid was 100% contained in a liquid containing a large amount of Ni, and Ni was not detected when the Ni concentration in the liquid containing other separated components was measured. Furthermore, the water in the liquid containing a large amount of Ni was evaporated to concentrate.
As a result, the concentrated liquid had an Ni concentration of 1 g / L and a pH of 7.2, and an aqueous solution for spraying to prevent drying was obtained.
（３）Ｎｉめっき
ＳＵＳ３０１のステンレス鋼板に対して、以下の条件でＮｉめっきを行った。なお、上記の水溶液をＮｉストライクめっき入側のシャワーノズルより噴霧した。
・鋼板長さ １０００ｍ
・鋼板厚み ０．０５９ｍｍ
・通板速度 ２．５ｍ／ｍｉｎ
・めっき工程
電解脱脂→水洗→電解酸洗→水洗→Ｎｉストライク→水洗→Ｎｉワット→湯洗→乾燥
・Ｎｉストライクめっきの条件
浴組成 塩化ニッケル １２０ｇ／Ｌ（Ｎｉ＝３０ｇ／Ｌ）
塩酸 ６０ｇ／Ｌ
（［ＨＣｌ］＝１．６４ｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ＝−０．２）
温度 室温
電流密度 ２Ａ/ｄｍ２
電極 Ｎｉ
・Ｎｉワットの条件
浴組成 硫酸ニッケル ２４０ｇ／Ｌ
塩化ニッケル ４５ｇ／Ｌ
（Ｎｉ＝５０ｇ／Ｌ）
ホウ酸 ３０ｇ／Ｌ
ｐＨ＝４（ｐＨは、炭酸ニッケルと硫酸で調整）
温度 ５５℃
電流密度 ６Ａ／ｄｍ２
電極 Ｎｉ
(3) Ni plating Ni plating was performed on the stainless steel plate of SUS301 under the following conditions. The aqueous solution was sprayed from a shower nozzle on the Ni strike plating entry side.
・ Steel length 1000m
-Steel plate thickness 0.059mm
・ Plate speed 2.5m / min
・ Plating process Electrolytic degreasing → Washing → Electrolytic pickling → Water washing → Ni strike → Water washing → Ni Watt → Hot water → Drying ・ Ni strike plating conditions Bath composition Nickel chloride 120g / L (Ni = 30g / L)
Hydrochloric acid 60g / L
([HCl] = 1.64 mol / L, pH = −0.2)
Temperature Room temperature Current density 2A / dm 2
Electrode Ni
-Ni Watt conditions Bath composition Nickel sulfate 240g / L
Nickel chloride 45g / L
(Ni = 50g / L)
Boric acid 30g / L
pH = 4 (pH is adjusted with nickel carbonate and sulfuric acid)
Temperature 55 ° C
Current density 6A / dm 2
Electrode Ni
（４）効果の確認
上記のステンレス鋼箔にＮｉめっきを施した結果、Ｎｉストライクめっき入側でのステンレス鋼の乾燥は見られず、品質上の異常も認められなかった。
また、本設備においては、シャワーノズルから噴霧された水溶液のほとんどが、Ｎｉストライクめっき槽の内に落ちた。その結果、水洗廃液の量は５Ｌ／分から１分間当り３８０ｍｇのＮｉが回収できたことになり、本発明がＮｉ回収方法として有効であることが確認できた。
(4) Confirmation of effect As a result of applying Ni plating to the above stainless steel foil, drying of the stainless steel on the Ni strike plating entrance side was not observed, and no abnormality in quality was observed.
In this equipment, most of the aqueous solution sprayed from the shower nozzle fell into the Ni strike plating tank. As a result, the amount of the washing waste liquid was 5 L / min to 380 mg of Ni per minute, and it was confirmed that the present invention was effective as a Ni recovery method.
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007094838A JP2008248368A (en) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | Method of recovering nickel from flush waste water after nickel strike plating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007094838A JP2008248368A (en) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | Method of recovering nickel from flush waste water after nickel strike plating |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008248368A true JP2008248368A (en) | 2008-10-16 |
Family
ID=39973655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007094838A Pending JP2008248368A (en) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | Method of recovering nickel from flush waste water after nickel strike plating |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008248368A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014181382A (en) * | 2013-03-19 | 2014-09-29 | Jfe Steel Corp | Method of surface-treating metallic strip |
| CN116536736A (en) * | 2023-05-16 | 2023-08-04 | 广东捷盟智能装备有限公司 | Reverse plating preventing device for conductive roller |
-
2007
- 2007-03-30 JP JP2007094838A patent/JP2008248368A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014181382A (en) * | 2013-03-19 | 2014-09-29 | Jfe Steel Corp | Method of surface-treating metallic strip |
| CN116536736A (en) * | 2023-05-16 | 2023-08-04 | 广东捷盟智能装备有限公司 | Reverse plating preventing device for conductive roller |
| CN116536736B (en) * | 2023-05-16 | 2024-03-22 | 广东捷盟智能装备股份有限公司 | Reverse plating preventing device for conductive roller |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20170283953A1 (en) | Method for regenerating plating liquid, plating method, and plating apparatus | |
| CN103952737A (en) | Steel band continuous copper plating VI | |
| JPWO2003006711A1 (en) | Surface treatment method for copper processed products | |
| JPS61119699A (en) | System and method for producing foil of metal or metal alloy | |
| CN110344105A (en) | A kind of two-sided surface treatment method of rolled copper foil | |
| JP2003520291A (en) | METHOD AND APPARATUS FOR ELECTROLYTIC PROCESSING OF CONDUCTIVE SURFACES OF SHEET AND FILLED MATERIALS SEPARATED FROM EACH AND APPLICATION OF THE SAME | |
| JP2008248368A (en) | Method of recovering nickel from flush waste water after nickel strike plating | |
| CN112048718A (en) | Compositions and methods for microetching copper and copper alloys | |
| CN106835225B (en) | A kind of effective continuous copper-plating of steel strip technique of Bandaid | |
| CN103938238A (en) | Steel strip continuous copper plating III | |
| KR910007161B1 (en) | Systeme for producing electroplated and treated metal foil | |
| JP3791182B2 (en) | Electrogalvanization of secondary molded products | |
| TWI615510B (en) | Suction plating apparatus | |
| CN205803619U (en) | Copper Foil electrolysis unit | |
| JP2001279343A (en) | Device and method for recovering noble metal | |
| US6837973B1 (en) | Apparatus for electrically coating a hot-rolled steel substrate | |
| CN103074655A (en) | Surface treatment method for use in production of electrolytic copper foil | |
| CN106591927B (en) | A kind of effective steel band electroplating technology slot of Bandaid | |
| JP5821882B2 (en) | Metal strip surface treatment method | |
| JP5752370B2 (en) | Waste liquid volume reduction system | |
| KR102005521B1 (en) | Multi-track system for electolytic phosphate coating treatment and how to use | |
| US1114635A (en) | Method for cleaning metals. | |
| JPH0441693A (en) | Pretreatment for starting sheet in continuous thin tinning line | |
| JP2004131767A (en) | Continuous metallic strip plating apparatus subjected to closed-systemization of plating solution | |
| JPH0351831B2 (en) |