JP2008239417A - Method for removing coating film from glass mold and method for manufacturing glass mold - Google Patents

Method for removing coating film from glass mold and method for manufacturing glass mold Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for removing a coating film from a glass mold without damaging the surface of a mold substrate part as much as in conventional methods, and to provide a method for manufacturing the glass mold using the method for removing the coating film. <P>SOLUTION: The coating film, which is composed of at least one layer on the surface of the mold substrate part, is removed from the glass mold by blasting the surface of the glass mold using an abrasive material in which abrasive grains are dispersed in a rubber. Preferably, an Ir-containing coating film or a diamond-like carbon coating film is formed as the outermost surface of the glass mold. Optionally, at least one layer of the coating film may be formed on the exposed surface of the mold substrate part. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス成形型の被膜除去方法およびガラス成形型の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for removing a film from a glass mold and a method for producing a glass mold.

各種産業分野において、材料に形状を付与するため、成形型による成形が行われている。成形型による成形は、研削加工などに比べ、同形状の物を比較的量産しやすいなどの利点を有している。   In various industrial fields, molding with a mold is performed in order to impart a shape to a material. Molding with a mold has advantages such as relatively easy mass production of the same shape as compared to grinding.

このような成形による利点を活かすべく、近年、ガラス製部材の製造分野においても、ガラス成形型を用いてガラス製部材をプレス成形する試みがなされている。   In recent years, attempts have been made to press-mold a glass member using a glass mold in the field of manufacturing a glass member in order to take advantage of such molding.

上記ガラス成形型の基材部表面には、各種機能膜が積層される場合があり、例えば、ガラス成形型の最表面には、ガラスとの離型を促す機能を有する離型被膜が設けられることがある。   Various functional films may be laminated on the surface of the base of the glass mold. For example, a release film having a function of promoting release from glass is provided on the outermost surface of the glass mold. Sometimes.

上記離型被膜には金属被膜などが用いられることがあるが、高温での使用などによって離型被膜が酸化などにより劣化し、ガラスが成形型に融着しやすくなり、成形が困難になる場合があった。   A metal film or the like may be used for the release film, but the release film deteriorates due to oxidation or the like due to use at a high temperature, etc., and the glass tends to be fused to the mold, making it difficult to mold. was there.

上記ガラス成形型の母材にはWCなどの高価な材料が用いられることが多い。そのため、劣化した被膜を除去してガラス成形型を再利用する試みが行われている。   An expensive material such as WC is often used for the base material of the glass mold. For this reason, attempts have been made to remove the deteriorated film and reuse the glass mold.

これまで、劣化した被膜を除去する方法としては、例えば、シアン(CN)系やHBr系の除膜剤に浸漬させて化学的に溶解させる方法、電解液に浸漬させ電気分解を利用して電気化学的に被膜を溶解させる方法、酸素アッシングにより被膜を酸化させて除去する方法などが検討されてきたが、これらの方法では、劣化した被膜を十分に除去することが難しかった。   Conventionally, as a method for removing a deteriorated film, for example, a method of chemically immersing in a cyan (CN) -based or HBr-based film remover, a method of immersing in an electrolytic solution, and using electrolysis A method of chemically dissolving a film, a method of oxidizing and removing a film by oxygen ashing, and the like have been studied, but it has been difficult to sufficiently remove a deteriorated film by these methods.

特に、ガラス成形型では、ガラス成形物の製造時に被膜が剥離するのを防ぐ観点から、基材部表面と被膜との密着性が高いほど良い。そのため、ガラス成形型から被膜を剥離させることは、密着性を高めることと相反する関係であるために、非常に困難であった。   In particular, in the case of a glass mold, the higher the adhesion between the surface of the substrate portion and the coating film, the better from the viewpoint of preventing the coating from peeling off during the production of the glass molding. For this reason, it is very difficult to peel the coating film from the glass mold because it is in a relationship contrary to improving the adhesion.

そこでこのような問題を改善するために、例えば、特許文献1には、BeO、CeO2やMgOなどの酸化物粒子を用いて、ガラスなどを成形する光学素子成形用型の成形面にサンドブラストを行い、劣化した被膜を物理的に除去する方法が開示されている。 Therefore, in order to improve such a problem, for example, Patent Document 1 discloses that sandblasting is performed on the molding surface of an optical element molding die for molding glass or the like using oxide particles such as BeO, CeO 2 and MgO. A method of performing and physically removing the degraded coating is disclosed.

特開2002−255572号公報JP 2002-255572 A

しかしながら、上記特許文献1のように、硬い酸化物粒子のみを用いてガラス成形型の型基材部表面をブラスト処理して被膜を除去する方法では、型基材部表面に傷が付き、さらに、型基材部表面の粗さが増加してしまうという問題があった。   However, as in Patent Document 1, in the method of removing the coating by blasting the surface of the mold base of the glass mold using only hard oxide particles, the surface of the mold base is scratched. There is a problem that the roughness of the surface of the mold base portion increases.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、従来よりも型基材部表面が傷付き難いガラス成形型の被膜除去方法を提供することにある。また他の課題は、上記被膜除去方法を用いたガラス成形型の製造方法を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a method for removing a coating film from a glass mold in which the surface of the mold base is less likely to be damaged than in the prior art. Another object is to provide a method for producing a glass mold using the film removal method.

上記課題を解決するため、本発明に係るガラス成形型の被膜除去方法は、型基材部表面に少なくとも1層以上の被膜が形成されているガラス成形型の被膜を、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いて、上記ガラス成形型の表面をブラスト処理することを要旨とするものである。   In order to solve the above-mentioned problems, the method for removing a film of a glass mold according to the present invention comprises a film of a glass mold in which at least one layer of film is formed on the surface of the mold base, and abrasive grains in rubber. The gist is to blast the surface of the glass mold using a dispersed abrasive.

そして、上記ガラス成形型の最表面には、Ir含有被膜またはダイヤモンドライクカーボン被膜が形成されていると良い。   An Ir-containing film or a diamond-like carbon film is preferably formed on the outermost surface of the glass mold.

また、上記Ir含有被膜は、Ir被膜、Ir−Pt被膜、または、Ir−Re被膜であると良い。   The Ir-containing film may be an Ir film, an Ir—Pt film, or an Ir—Re film.

また、上記砥粒はアルミナおよび/またはシリカであると良い。   The abrasive grains are preferably alumina and / or silica.

一方、本発明に係るガラス成形型の製造方法は、型基材部表面に少なくとも1層以上の被膜が形成されているガラス成形型の表面を、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いてブラスト処理し、型基材部表面を露出させる工程を有することを要旨とするものである。   On the other hand, in the method for producing a glass mold according to the present invention, the surface of the glass mold in which at least one layer of film is formed on the surface of the mold base is formed by using an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber. The gist is to have a step of blasting using and exposing the surface of the mold base part.

さらに、露出された型基材部表面に、少なくとも1層以上の被膜を形成する工程を有すると良い。   Furthermore, it is preferable to have a step of forming at least one layer of film on the exposed mold base portion surface.

本発明に係るガラス成形型の被膜除去方法によれば、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いてガラス成形型の表面をブラスト処理するので、従来よりもガラス成形型の型基材部表面が傷付き難い。また、型基材部表面の粗さが増加するのを抑えることができる。   According to the method for removing a film from a glass mold according to the present invention, the surface of the glass mold is blasted using an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber. The surface of the part is hard to be damaged. Moreover, it can suppress that the roughness of the mold base part surface increases.

これは、ゴムが粘着性を有しているため、研磨材をガラス成形型の表面にブラストする際に、砥粒による被膜への衝突による衝撃とともに、ゴムが被膜に粘着して、効果的に被膜を引き剥がすことができるためであると推察される。   This is because the rubber has adhesiveness, and when the abrasive is blasted onto the surface of the glass mold, the rubber adheres to the coating effectively along with the impact of the abrasive particles on the coating. This is presumably because the film can be peeled off.

また、上記方法によれば、ガラス成形型の型基材部表面にミクロンオーダーなどの微細な加工が施されていても、型基材部表面の粗さが増加するのを抑えることができ、効率的に被膜を除去することができる。   In addition, according to the above method, even if fine processing such as micron order is performed on the surface of the mold base portion of the glass mold, it is possible to suppress an increase in the roughness of the surface of the mold base portion, The film can be efficiently removed.

また、上記ガラス成形型の最表面に、金属被膜や硬質被膜が形成されていても、ブラスト処理の際に、従来よりもガラス成形型の型基材部表面に傷が付くのを抑えることができる。   In addition, even when a metal film or a hard film is formed on the outermost surface of the glass mold, it is possible to suppress the surface of the mold base portion of the glass mold from being scratched during blasting. it can.

また、上記砥粒はアルミナおよび/またはシリカであれば、上記作用効果に一層優れる。   Moreover, if the said abrasive grain is an alumina and / or a silica, it will be further excellent in the said effect.

さらに、本発明に係るガラス成形型の製造方法によれば、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いてガラス成形型の表面をブラスト処理するので、従来よりもガラス成形型の型基材部表面に傷が付き難い。   Furthermore, according to the method for producing a glass mold according to the present invention, the surface of the glass mold is blasted using an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber. The surface of the material is hard to be scratched.

そして、上記ブラスト処理により露出されたガラス成形型の型基材部表面に、少なくとも1層以上の被膜を形成する工程を有している場合、型基材部表面の粗さが、再形成した被膜に影響を与え難い。そのため、上記方法で再生したガラス成形型では、新しいガラス成形型とほとんど差異のないガラス成形物を得ることができる。   And when it has the process of forming the film of at least 1 layer or more on the mold base part surface of the glass mold exposed by the blasting process, the roughness of the mold base part surface was re-formed. Hard to affect the coating. Therefore, with the glass mold regenerated by the above method, a glass molded product having almost no difference from the new glass mold can be obtained.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本発明に係るガラス成形型の被膜除去方法では、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いて、ガラス成形型の型基材部表面に形成された被膜を、ブラスト処理により除去する。   In the method for removing a film of a glass mold according to the present invention, the film formed on the surface of the mold base portion of the glass mold is removed by blasting using an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber.

上記研磨材の母材に用いられるゴムには、例えば、ブタジエン系ゴム(BR、NBR、SBRなど)、天然ゴム(NR)、イソプレン系ゴム(IR)、エチレン−プロピレン系ゴム(EPR、EPDM)などを例示することができる。好ましくは、ブタジエン系ゴムを用いることができる。そして、上記ゴムは、架橋されていると良い。架橋を施すことにより、研磨材同士が凝集するのを抑えることができるからである。   Examples of the rubber used as the base material of the abrasive include butadiene rubber (BR, NBR, SBR, etc.), natural rubber (NR), isoprene rubber (IR), ethylene-propylene rubber (EPR, EPDM). Etc. can be illustrated. Preferably, butadiene rubber can be used. The rubber is preferably crosslinked. It is because it can suppress that abrasives aggregate by giving bridge | crosslinking.

上記研磨材に用いられる砥粒には、ビッカース硬度が1000〜5000Hvの範囲内にあるものを用いることができる。好ましくは1000〜3000Hvの範囲内にあると良い。上記研磨材のビッカース硬度が1000Hv以上であれば、砥粒による被膜への衝突による衝撃が十分に与えられるからである。また、5000Hv以下であれば、ガラス成形型の型基材部表面に傷が付き難いからである。   As the abrasive used in the abrasive, those having a Vickers hardness in the range of 1000 to 5000 Hv can be used. Preferably it is in the range of 1000 to 3000 Hv. This is because if the Vickers hardness of the abrasive is 1000 Hv or more, the impact due to the collision of the abrasive grains with the coating is sufficiently applied. Moreover, if it is 5000 Hv or less, the surface of the mold base of the glass mold is hardly damaged.

砥粒の材質として、具体的には、アルミナ(ビッカース硬度:3000Hv)および/またはシリカ(ビッカース硬度:1400Hv)を用いると良い。  Specifically, alumina (Vickers hardness: 3000 Hv) and / or silica (Vickers hardness: 1400 Hv) may be used as the material of the abrasive grains.

また、砥粒の粒子径は特に限定されないが、好ましくは、1〜10μm、より好ましくは、1〜5μmが良い。上記研磨材の粒子径が、1μm以上であれば、被膜を効率的に除去できるからである。また、10μm以下であれば、ガラス成形型の型基材部表面に傷が付き難いからである。砥粒の粒子径は、同一のものを用いても良いし、異なる粒子径のものを用いても良い。   The particle diameter of the abrasive grains is not particularly limited, but preferably 1 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm. This is because the coating can be efficiently removed if the particle size of the abrasive is 1 μm or more. Moreover, if it is 10 μm or less, the surface of the mold base part of the glass mold is hardly damaged. The abrasive grains having the same particle diameter or different particle diameters may be used.

上記ゴムおよび砥粒からなる研磨材の粒子径は、好ましくは、500〜3000μm、より好ましくは、500〜1500μmが良い。上記研磨材の粒子径が、500μm以上であれば、研磨材が被膜に十分に粘着して、効果的に被膜を引き剥がすことができるからである。また、3000μm以下であれば、ガラス成形型の型基材部表面にミクロンオーダーなどの微細な加工が施されていても、被膜を効率的に除去することができるからである。研磨材の粒子径は、同一のものを用いても良いし、異なる粒子径のものを用いても良い。   The particle diameter of the abrasive comprising the rubber and abrasive grains is preferably 500 to 3000 μm, and more preferably 500 to 1500 μm. This is because if the particle size of the abrasive is 500 μm or more, the abrasive can sufficiently adhere to the coating and effectively peel off the coating. Moreover, if it is 3000 micrometers or less, it is because a film can be removed efficiently, even if micro processing of micron order etc. is given to the mold base-material part surface of a glass mold. The abrasive particles having the same particle diameter may be used, or those having different particle diameters may be used.

そして、研磨材中の砥粒の割合は、母材や被膜の種類、ブラスト処理条件などに応じて適宜変更することができ、特に限定されないが、好ましくは、研磨材全体の体積に対して10〜90%の範囲内で含有されているのが良い。より好ましくは、20〜60%の範囲内が良い。上記研磨材中の砥粒の割合が、研磨材全体の体積に対して10%以上であれば、砥粒による被膜への衝突による衝撃が十分に与えられるからである。また、90%以下であれば、ガラス成形型の型基材部表面に傷が付き難いからである。   The ratio of the abrasive grains in the abrasive can be appropriately changed according to the type of the base material, the film, the blasting conditions, etc., and is not particularly limited, but is preferably 10 with respect to the volume of the entire abrasive. It is good to contain in the range of -90%. More preferably, it is in the range of 20 to 60%. This is because if the ratio of the abrasive grains in the abrasive is 10% or more with respect to the volume of the entire abrasive, impact due to the collision of the abrasive grains with the coating is sufficiently applied. Further, if it is 90% or less, the surface of the mold base part of the glass mold is hardly damaged.

また、研磨材中の砥粒の割合は、同一のものを用いても良いし、異なる割合のものを混合して用いても良い。   Moreover, the ratio of the abrasive grains in the abrasive may be the same or a mixture of different ratios may be used.

上記研磨材は、例えば、押出成形により製造することができる。   The abrasive can be produced by, for example, extrusion molding.

押出成形により研磨材を製造する場合、まず、混練機を用いてゴムと砥粒を混練すると良い。このとき、無機充填剤や架橋剤などの各種フィラーを添加しても良い。   When producing an abrasive by extrusion molding, it is preferable to first knead rubber and abrasive grains using a kneader. At this time, various fillers such as an inorganic filler and a crosslinking agent may be added.

上記混練操作により調整された混練物は、混練機より押し出して取り出される。このとき、ペレタイザーによりペレット状に成形しても良い。そして、ペレット状に成形した混練物を、必要に応じて架橋し、液体窒素で冷凍した後、粉砕機などを用いて粉砕し、粒子状の研磨材を得ることができる。   The kneaded material adjusted by the kneading operation is pushed out from the kneader and taken out. At this time, it may be formed into a pellet by a pelletizer. The kneaded product formed into a pellet can be cross-linked as necessary, frozen with liquid nitrogen, and then pulverized using a pulverizer or the like to obtain a particulate abrasive.

次に、上記のようにして得られた研磨材を用いて、ブラスト処理されるガラス成形型の構造について説明する。   Next, the structure of a glass mold that is blasted using the abrasive obtained as described above will be described.

ガラス成形型は、型基材部と、積層構造とを基本構成として有している。型基材部は、型本体をなす。型基材部表面には、通常、成形材料に所望形状を転写しうる転写面が形成されている。また、型基材部表面の転写面上には、少なくとも1層以上の被膜よりなる積層構造が設けられている。   The glass mold has a mold base portion and a laminated structure as basic components. The mold base portion forms a mold body. A transfer surface that can transfer a desired shape to the molding material is usually formed on the surface of the mold base. Further, a laminated structure composed of at least one layer is provided on the transfer surface of the mold base portion surface.

上記ガラス成形型の最表面には、ガラスとの離型を促す機能として、離型被膜が設けられていても良い。離型被膜の材質としては、具体的には、例えば、Ir、Ir合金、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、Pt、Pt合金、Pd、Pd合金、TiC、TiN、TiCN、(TiAl)N、(TiCr)N、Cr/CrN、Cr/TiNなどを例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   A release coating may be provided on the outermost surface of the glass mold as a function for promoting release from the glass. Specific examples of the release coating material include Ir, Ir alloy, diamond-like carbon (DLC), Pt, Pt alloy, Pd, Pd alloy, TiC, TiN, TiCN, (TiAl) N, and (TiCr). ) N, Cr / CrN, Cr / TiN, and the like. These may be contained alone or in combination of two or more.

離型性などの観点から、好ましくは、Ir含有被膜またはダイヤモンドライクカーボン被膜が用いられる。また、上記Ir含有被膜としては、とりわけ離型性に優れるなどの観点から、具体的には、例えば、Ir被膜、Ir−Pt被膜、Ir−Re被膜などを例示することができる。   From the viewpoint of releasability, an Ir-containing film or a diamond-like carbon film is preferably used. Specific examples of the Ir-containing film include an Ir film, an Ir-Pt film, and an Ir-Re film from the viewpoint of excellent releasability.

上記離型被膜は、型基材部表面の直上に形成されていても良い。また、上記離型被膜の下層には、拡散防止被膜やボンド被膜が設けられていても良い。   The said release film may be formed just on the type | mold base-material part surface. Further, a diffusion preventing film or a bond film may be provided under the release film.

上記拡散防止被膜は、上記離型被膜の直下に設けられていると良く、基本的には、型基材部成分およびボンド被膜成分のうち、成形性に悪影響を与えたり、成形物に付着・混入するとその成形物の商品価値を低下させたりする少なくとも1つ以上の成分の拡散を防止可能であれば良い。   The diffusion-preventing coating is preferably provided immediately below the release coating. Basically, among the mold base material component and the bond coating component, the moldability is adversely affected, and the diffusion preventing coating is adhered to the molded product. It is only necessary to prevent the diffusion of at least one component that would reduce the commercial value of the molded product when mixed.

このような成分としては、具体的には、例えば、型基材部に含まれることがあるTi、Cr、Fe、Co、Ni、Ta、Wなどや、ボンド被膜に含まれることがあるTi、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Ta、W、Auなどの成分などを例示することができる。   Specifically, as such a component, for example, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Ta, W, etc., which may be included in the mold base portion, Ti which may be included in the bond film, Examples of the components include Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Ta, W, and Au.

拡散防止被膜の材質としては、具体的には、例えば、Nb、Mo、Ru、RhおよびTaから選択される少なくとも1種の金属および/またはこれら金属を1種以上含む合金などを例示することができる。好ましくは、Rhが良い。   Specific examples of the material for the diffusion barrier coating include at least one metal selected from Nb, Mo, Ru, Rh and Ta and / or an alloy containing one or more of these metals. it can. Preferably, Rh is good.

また、上記ボンド被膜は、型基材部と拡散防止被膜との間に設けられていると良く、両者を結合する機能を主に有している。   Moreover, the said bond film is good to be provided between the type | mold base material part and the diffusion prevention film, and has mainly the function to couple | bond both.

ボンド被膜の材質としては、具体的には、例えば、Cr、Co、Ni、Cu、AgおよびAuから選択される少なくとも1種の金属および/またはこれら金属を1種以上含む合金などを例示することができる。好ましくは、Auが良い。   Specific examples of the material of the bond coating include at least one metal selected from Cr, Co, Ni, Cu, Ag and Au and / or an alloy containing one or more of these metals. Can do. Au is preferable.

そして、上記積層構造は、少なくとも1層以上の被膜が形成されていれば、その積層数は特に限定されない。   And as for the said laminated structure, the number of the lamination | stacking will not be specifically limited if the film of at least 1 layer or more is formed.

上記積層構造の形成手法は、特に限定されない。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーション法などの物理的気相成長法(PVD)、熱CVD法、プラズマCVD法などの化学的気相成長法(CVD)などといった気相法や、電解めっき、無電解めっきなどのめっき法、陽極酸化法、塗布法、ゾル−ゲル法などといった液相法などにより形成されていても良い。また、各層は、それぞれ同じ手法を用いて形成されていても良いし、それぞれ異なる手法を用いて形成されていても良い。   The method for forming the laminated structure is not particularly limited. For example, chemical vapor deposition (CVD) such as physical vapor deposition (PVD), thermal CVD, plasma CVD, such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, MBE, and laser ablation It may be formed by a vapor phase method such as, a plating method such as electrolytic plating or electroless plating, a liquid phase method such as an anodic oxidation method, a coating method, or a sol-gel method. Each layer may be formed using the same method, or may be formed using different methods.

上記型基材部の材質は、特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、WC系の超硬合金、グラッシーカーボン、ステンレス鋼、Siおよびその複合体からなるセラミックスなどを例示することができる。耐久性、耐熱性に優れるなどの観点から、好ましくは、WC系の超硬合金、セラミックスなどが良い。   Although the material of the said mold base part is not specifically limited, Specifically, for example, WC-based cemented carbide, glassy carbon, stainless steel, ceramics made of Si and a composite thereof, and the like are exemplified. be able to. From the viewpoint of excellent durability and heat resistance, WC cemented carbide, ceramics, and the like are preferable.

本発明では、上記研磨材を用い、上記ガラス成形型の型基材部表面をブラスト処理して被膜の除去を行う。   In the present invention, the coating material is removed by blasting the surface of the mold base of the glass mold using the abrasive.

本発明のブラスト処理に用いられるブラスト加工装置は、特に限定されるものではなく、汎用機を用いることができる。   The blasting apparatus used for the blasting process of the present invention is not particularly limited, and a general-purpose machine can be used.

ブラスト処理の条件として、噴射圧力は、0.01〜0.5MPaの範囲内にあることが好ましい。より好ましくは、0.03〜0.1MPaの範囲内にあると良い。上記噴射圧力が、0.01MPa以上であれば、研磨材をガラス成形型の型基材部表面に、十分に衝突させることができるからである。また、0.5MPa以下であれば、適度な研磨材の噴射速度が得られ、ガラス成形型の型基材部表面に傷が付き難いからである。   As conditions for the blast treatment, the injection pressure is preferably in the range of 0.01 to 0.5 MPa. More preferably, it is in the range of 0.03 to 0.1 MPa. This is because if the spray pressure is 0.01 MPa or more, the abrasive can sufficiently collide with the surface of the mold base portion of the glass mold. Moreover, if it is 0.5 MPa or less, it is because the injection | pouring speed | rate of an appropriate abrasive | polishing material will be obtained and it will be hard to be damaged to the mold base-part surface of a glass forming die.

そして、噴射角度は、20〜45度の範囲内にあることが好ましい。より好ましくは、30〜45度の範囲内にあるとよい。上記噴射角度が20度以上であれば、ガラス成形型の型基材部表面に対して衝突する研磨材の数が適度である。また、45度以下であれば、ガラス成形型の型基材部表面に研磨材が食い込むのを抑えることができるからである。また、型基材部表面に傾斜などの転写面がある場合には、上記転写面に対して噴射角度を調整することで転写面の被膜の除去を行うことが可能である。   And it is preferable that an injection angle exists in the range of 20-45 degree | times. More preferably, it is in the range of 30 to 45 degrees. If the said injection angle is 20 degrees or more, the number of abrasives which collide with the type | mold base-material part surface of a glass forming die is moderate. Moreover, if it is 45 degrees or less, it can suppress that an abrasive | polishing material bites into the type | mold base-material part surface of a glass forming die. Further, when there is a transfer surface such as an inclination on the surface of the mold base portion, it is possible to remove the coating on the transfer surface by adjusting the spray angle with respect to the transfer surface.

また、噴射量は特に限定されるものではなく、使用するブラスト加工装置や被膜などの種類に応じて、適宜変更することができる。   Further, the injection amount is not particularly limited, and can be appropriately changed according to the type of the blasting apparatus to be used and the coating film.

また、除去する被膜の層数は特に限定されず、例えば、最表面の1層のみの被膜を除去して型基材部表面に1層以上の被膜を残しても良く、また、型基材部表面をすべて露出させても良い。好ましくは、型基材部表面を露出させると良い。型基材部表面をすべて露出させておけば、ガラス成形型を再利用する際に、形成する被膜の種類が限定されないからである。   Further, the number of coating layers to be removed is not particularly limited. For example, only one outermost coating layer may be removed to leave one or more coating layers on the surface of the mold base portion. The entire surface may be exposed. Preferably, the mold base portion surface is exposed. This is because, if the entire mold base portion surface is exposed, the type of coating to be formed is not limited when the glass mold is reused.

また、ブラスト処理後の型基材部表面の平均粗さRaは、0.1μm以下が好ましい。より好ましくは、0.07μm以下が良い。ブラスト処理後の型基材部表面の平均粗さRaが0.1μm以下であれば、型基材部表面の粗さが、型基材部表面に再形成される被膜に影響を与え難く、良好な成形体が得られやすいからである。   Further, the average roughness Ra of the mold base part surface after the blast treatment is preferably 0.1 μm or less. More preferably, it is 0.07 μm or less. If the average roughness Ra of the mold base part surface after blasting is 0.1 μm or less, the roughness of the mold base part surface hardly affects the film re-formed on the mold base part surface, This is because a good molded body is easily obtained.

本発明に係るガラス成形型の製造方法は、上記被膜除去方法によりガラス成形型の基材部表面を露出させる工程を有している。   The method for producing a glass mold according to the present invention includes a step of exposing the substrate part surface of the glass mold by the film removing method.

また、本発明に係るガラス成形型の製造方法は、上記被膜除去方法により露出させた型基材部表面に少なくとも1層以上の被膜を形成する工程を有していると良い。   Moreover, the manufacturing method of the glass mold which concerns on this invention is good to have the process of forming an at least 1 layer or more layer film on the type | mold base-material part surface exposed by the said film removal method.

上記露出させた型基材部は、被膜を形成する前に、表面に付着した塵などを除去するため、洗浄処理を行っても良い。   The exposed mold base portion may be subjected to a cleaning treatment to remove dust adhering to the surface before forming a film.

被膜を形成する手法としては、具体的には、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、MBE法、レーザーアブレーション法などの物理的気相成長法(PVD)、熱CVD法、プラズマCVD法などの化学的気相成長法(CVD)などといった気相法や、電解めっき、無電解めっきなどのめっき法、陽極酸化法、塗布法、ゾル−ゲル法などといった液相法などを例示することができる。また、各層は、それぞれ同じ手法を用いて形成しても良いし、それぞれ異なる手法を用いて形成しても良い。   Specific examples of the method for forming the coating include physical vapor deposition (PVD) such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, MBE, and laser ablation, thermal CVD, and plasma. Examples include vapor phase methods such as chemical vapor deposition (CVD) such as CVD, liquid phase methods such as electroplating and electroless plating, anodization, coating, and sol-gel. can do. In addition, each layer may be formed using the same method, or may be formed using different methods.

形成する被膜の厚さは特に限定されるものではないが、過度に厚くなると、型基材部表面に形成された凹凸パターンが成形物に転写し難くなるので、型基材部表面の凹凸の高さに応じて適宜変更すると良い。   The thickness of the coating film to be formed is not particularly limited. However, if the thickness is excessively thick, the uneven pattern formed on the surface of the mold base becomes difficult to transfer to the molded product. It is good to change appropriately according to the height.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.

1.1.ガラス成形型の準備
ガラス成形型の型基材部には、プレート形状(φ34mm、板厚5mm)で、WCを主成分とする超硬合金製型(冨士ダイス株式会社製、「J05」)を用いた。
1.1. Preparation of glass mold The mold base part of the glass mold has a plate shape (φ34 mm, plate thickness 5 mm) and a cemented carbide mold (manufactured by Fuji Dice Co., Ltd., “J05”) mainly composed of WC. Using.

1.2.被膜の形成(1)
上記型基材部表面を洗浄処理した後、型基材部表面直上に、スパッタリング法により、Au被膜を100nm形成した。そして、上記Au被膜直上に、めっき法により、Rh被膜を300nm形成した。さらに、スパッタリング法により、Ir−Pt合金(Ir:50wt%、Pt:50wt%)よりなるIr−Pt被膜を300nm形成し、ガラス成形型を作製した。(以下本ガラス成形型を「Ir−Pt被膜型(1)」という。)
1.2. Formation of coating (1)
After cleaning the surface of the mold base part, an Au coating was formed to a thickness of 100 nm directly on the surface of the mold base part by sputtering. Then, an Rh film having a thickness of 300 nm was formed directly on the Au film by plating. Furthermore, an Ir—Pt film made of an Ir—Pt alloy (Ir: 50 wt%, Pt: 50 wt%) was formed to a thickness of 300 nm by sputtering to produce a glass mold. (Hereinafter, this glass mold is referred to as “Ir—Pt film mold (1)”.)

1.3.被膜の形成(2)
上記型基材部表面を洗浄処理した後、型基材部表面直上に、スパッタリング法により、ダイヤモンドライクカーボン被膜を100nm形成した。(以下本ガラス成形型を「DLC被膜型(2)」という。)
1.3. Formation of film (2)
After cleaning the surface of the mold base part, a diamond-like carbon film having a thickness of 100 nm was formed on the surface of the mold base part by sputtering. (Hereinafter, this glass mold is referred to as “DLC film mold (2)”.)

1.4.被膜の除去
上記ガラス成形型の型基材部表面に形成した被膜を、ブラスト加工装置(不二製作所社製、「SIRIUS LDQ−SR−3」)を用いて、所定の研磨剤を用い、ブラスト処理により除去した。
1.4. Removal of coating The coating formed on the surface of the mold base of the glass mold is blasted with a predetermined abrasive using a blasting machine ("Sirius LDQ-SR-3" manufactured by Fuji Seisakusho). Removed by treatment.

また、ブラスト処理の条件として、噴射圧力を0.05MPa、噴射角度を30度、噴射量を200g/min、噴射距離を150mm、噴射時間を5〜20minとした。   The blasting conditions were an injection pressure of 0.05 MPa, an injection angle of 30 degrees, an injection amount of 200 g / min, an injection distance of 150 mm, and an injection time of 5 to 20 min.

(実施例1)
本実施例1では、Ir−Pt被膜型(1)を、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)に平均粒子径2μm、粒度#8000のアルミナを分散させた、粒子径500μmの研磨材を用いて、噴射時間20minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
Example 1
In Example 1, the Ir—Pt film type (1) was sprayed using an abrasive having a particle size of 500 μm in which alumina having an average particle size of 2 μm and a particle size of # 8000 was dispersed in acrylonitrile butadiene rubber (NBR). Blasting was performed for 20 minutes to remove the film.

(実施例2)
本実施例2では、Ir−Pt被膜型(1)を、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)に平均粒子径5μm、粒度を#3000のアルミナを分散させた、粒子径500μmの研磨材を用いて、噴射時間5minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
(Example 2)
In Example 2, the Ir—Pt film type (1) was sprayed using an abrasive having a particle diameter of 500 μm in which alumina having an average particle diameter of 5 μm and a particle diameter of # 3000 was dispersed in acrylonitrile butadiene rubber (NBR). Blasting was performed for 5 minutes to remove the film.

(実施例3)
本実施例3では、Ir−Pt被膜型(1)を、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)に平均粒子径5μm、粒度を#3000のアルミナを分散させた、粒子径500μmの研磨材を用いて、噴射時間10minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
(Example 3)
In Example 3, the Ir—Pt film type (1) was sprayed using an abrasive having a particle diameter of 500 μm in which alumina having an average particle diameter of 5 μm and a particle diameter of # 3000 was dispersed in acrylonitrile butadiene rubber (NBR). Blasting was performed for 10 minutes to remove the coating.

(実施例4)
本実施例4では、DLC被膜型(2)を、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)に平均粒子径5μm、粒度を#3000のアルミナを分散させた、粒子径500μmの研磨材を用いて、噴射時間10minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
Example 4
In Example 4, the DLC film type (2) was used with an abrasive having an average particle size of 5 μm and a particle size of # 3000 dispersed in acrylonitrile butadiene rubber (NBR), and an injection time of 10 min. The film was removed by blasting.

(比較例1)
本比較例1では、Ir−Pt被膜型(1)を、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)のみからなる粒子径500μmの研磨材を用いて、噴射時間20minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
(Comparative Example 1)
In this comparative example 1, the Ir-Pt film type (1) was subjected to a blasting treatment with an injection time of 20 minutes using an abrasive having a particle diameter of 500 μm made only of acrylonitrile butadiene rubber (NBR), and the film was removed. .

(比較例2)
本比較例2では、Ir−Pt被膜型(1)を、アルミナのみからなる粒子径5μmの研磨材を用いて、噴射時間5minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
(Comparative Example 2)
In this comparative example 2, the Ir-Pt film type (1) was subjected to a blasting treatment with an injection time of 5 minutes using an abrasive having a particle diameter of 5 μm made only of alumina, and the film was removed.

(比較例3)
本比較例3では、Ir−Pt被膜型(1)を、SiCのみからなる粒子径5μmの研磨材を用いて、噴射時間5minでブラスト処理を行い、被膜の除去を行った。
(Comparative Example 3)
In this comparative example 3, the Ir—Pt film type (1) was subjected to blasting treatment with a spraying time of 5 min using an abrasive having a particle diameter of 5 μm made only of SiC, and the film was removed.

2.硬度測定
ガラス成形型の型基材部表面に形成したIr−Pt被膜およびダイヤモンドライクカーボン被膜、アルミナ、SiC、WCを主成分とする超硬合金製型の硬度を、JIS Z2244に準拠して測定した。この際、硬度測定装置には、ナノテック(株)製の「ナノハードネステスターNHT」を用いた。アルミナ、SiCは砥粒に細粒する前のバルク形状のものを測定した。
2. Hardness measurement Hardness of cemented carbide molds mainly composed of Ir-Pt coating, diamond-like carbon coating, alumina, SiC, and WC formed on the surface of the mold base of the glass mold is measured according to JIS Z2244. did. At this time, “Nano Hard Nestester NHT” manufactured by Nanotech Co., Ltd. was used as the hardness measuring apparatus. Alumina and SiC were measured in bulk shape before being finely divided into abrasive grains.

その結果、各ビッカース硬度は、Ir−Pt被膜:200Hv、ダイヤモンドライクカーボン被膜:4000Hv、アルミナ:3000Hv、SiC:1400Hv、WCを主成分とする超硬合金製型:2040Hvであった。   As a result, each Vickers hardness was Ir-Pt coating: 200 Hv, diamond-like carbon coating: 4000 Hv, alumina: 3000 Hv, SiC: 1400 Hv, cemented carbide mold mainly composed of WC: 2040 Hv.

3.表面粗さ測定
表面粗さ測定装置(テーラーボブソン社製、「フォームタリサーフシリーズ2」)を用い、ブラスト処理後の型基材部表面の平均粗さRaを、JIS B0601に準拠して測定し、表面粗さを評価した。また、被膜を形成する前の型基材部表面の平均粗さRaは、0.030μmであった。
3. Surface Roughness Measurement Using a surface roughness measuring device (Taylor Bobson, “Form Talysurf Series 2”), the average roughness Ra of the surface of the mold base after blasting is measured according to JIS B0601. The surface roughness was evaluated. Moreover, average roughness Ra of the mold base part surface before forming a film was 0.030 micrometer.

4.被膜除去評価
ブラスト処理後の型基材部の表面組成を、エネルギー分散型X線分析装置(EDX)(株式会社日立製作所製、「E−MAX」)を用いて分析し、被膜が除去されているか否かを評価した。型基材部成分に由来するW、C、Coのみを検出した場合を合格とした。また、(実施例4)のダイヤモンドライクカーボン被膜を形成したガラス成形型は、被膜と型基材部成分の両方にCが含まれるため、WおよびCo成分が一様に検出されていれば、合格とした。
4). Film removal evaluation The surface composition of the mold base after blasting was analyzed using an energy dispersive X-ray analyzer (EDX) (Hitachi, Ltd., “E-MAX”), and the film was removed. Evaluated whether or not. The case where only W, C, and Co derived from the mold base part component were detected was regarded as acceptable. Moreover, since the glass forming die in which the diamond-like carbon film of (Example 4) is formed contains C in both the film and the mold base part component, if the W and Co components are uniformly detected, Passed.

表1に、実施例および比較例で用いたガラス成形型の種別、ブラスト処理条件、表面粗さ測定の結果および、被膜除去評価の結果を示す。   Table 1 shows the types of glass molds used in Examples and Comparative Examples, blasting conditions, results of surface roughness measurement, and results of film removal evaluation.

Figure 2008239417
Figure 2008239417

表1より、比較例1に係るガラス成形型では、表面組成分析の結果から、Ir、Ptが検出され、被膜の除去が十分にできていないことがわかった。これは、アクリロニトリルブタジエンゴムのみからなる研磨材を用いてブラスト処理したため、被膜へ衝突による衝撃が十分に与えられなかったためであると推察される。   From Table 1, it was found from the results of the surface composition analysis that Ir and Pt were detected in the glass mold according to Comparative Example 1, and the film was not sufficiently removed. This is presumably because the impact due to the collision was not sufficiently applied to the coating because the blast treatment was performed using an abrasive made of acrylonitrile butadiene rubber alone.

また、比較例2に係るガラス成形型では、平均粗さRaが0.950μm、比較例3に係るガラス成形型では、0.350μmとなり、型基材部表面の粗さが大きく増加した。これは、アルミナもしくはSiCのみからなる研磨材を用いてブラスト処理したため、型基材部表面に傷が付いたことによるものと推察される。   In addition, the average roughness Ra of the glass mold according to Comparative Example 2 was 0.950 μm, and the glass mold according to Comparative Example 3 was 0.350 μm, which greatly increased the roughness of the mold base portion surface. This is presumably because the surface of the mold base was scratched because it was blasted using an abrasive consisting only of alumina or SiC.

これに対して、実施例1〜4に係るガラス成形型では、平均粗さRaが0.1μm以下と小さく、型基材部表面の粗さが増加するのを抑えることができた。また、表面組成分析の結果から、実施例1〜4に係るガラス成形型では、被膜が除去できていることが確認できた。   In contrast, in the glass molds according to Examples 1 to 4, the average roughness Ra was as small as 0.1 μm or less, and an increase in the roughness of the mold base portion surface could be suppressed. Moreover, from the results of the surface composition analysis, it was confirmed that the coating film was removed in the glass molds according to Examples 1 to 4.

以上のことから、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いて、ガラス成形型の型基材部表面に形成された被膜をブラスト処理により除去すれば、型基材部表面に傷が付き難いことが確認できた。   From the above, if the coating formed on the surface of the mold base of the glass mold is removed by blasting using an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber, the surface of the mold base will be damaged. It was confirmed that it was difficult to attach.

また、上記実施例1〜4で被膜を除去したガラス成形型の基材部表面に、本実施例の「1.2.被膜の形成(1)」の条件で新たな被膜を形成し、ガラス成形型を再生した。そして、上記再生したガラス成形型を用いて、ガラス材料を実際に成形したところ、新しいガラス成形型を用いて成形したガラス成形物とほとんど差異のないものが得られた。   In addition, a new coating film was formed on the surface of the base part of the glass mold from which the coating film was removed in Examples 1 to 4 under the conditions of “1.2. The mold was regenerated. Then, when the glass material was actually molded using the regenerated glass mold, a glass molded article molded with a new glass mold was obtained.

以上、本実施形態、実施例に係るガラス成形型の被膜除去方法およびガラス成形型の製造方法について説明したが、本発明は上記実施形態、実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。   As mentioned above, although the film removal method of the glass forming die concerning this embodiment and an example and the manufacturing method of a glass forming die were explained, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment and an example at all. Various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.

Claims (6)

型基材部表面に少なくとも1層以上の被膜が形成されているガラス成形型の被膜除去方法であって、
ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いて、前記ガラス成形型の表面をブラスト処理することを特徴とするガラス成形型の被膜除去方法。
A method of removing a film from a glass mold in which at least one layer of a film is formed on the surface of a mold base part,
A method of removing a film from a glass mold, comprising: blasting the surface of the glass mold using an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber.
前記ガラス成形型の最表面には、Ir含有被膜またはダイヤモンドライクカーボン被膜が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のガラス成形型の被膜除去方法。   The method for removing a film from a glass mold according to claim 1, wherein an Ir-containing film or a diamond-like carbon film is formed on the outermost surface of the glass mold. 前記Ir含有被膜は、Ir被膜、Ir−Pt被膜、または、Ir−Re被膜であることを特徴とする請求項2に記載のガラス成形型の被膜除去方法。   The method for removing a film from a glass mold according to claim 2, wherein the Ir-containing film is an Ir film, an Ir-Pt film, or an Ir-Re film. 前記砥粒はアルミナおよび/またはシリカであることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のガラス成形型の被膜除去方法。   4. The method for removing a coating film from a glass mold according to claim 1, wherein the abrasive grains are alumina and / or silica. 型基材部表面に少なくとも1層以上の被膜が形成されているガラス成形型の表面を、ゴム中に砥粒が分散された研磨材を用いてブラスト処理し、型基材部表面を露出させる工程を有することを特徴とするガラス成形型の製造方法。   The surface of the glass mold having at least one layer of film formed on the surface of the mold base is blasted with an abrasive in which abrasive grains are dispersed in rubber to expose the surface of the mold base The manufacturing method of the glass shaping | molding die characterized by having a process. 露出された型基材部表面に、少なくとも1層以上の被膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項5に記載のガラス成形型の製造方法。   6. The method for producing a glass mold according to claim 5, further comprising a step of forming at least one layer of film on the exposed mold base part surface.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160038752A (en) * 2014-09-30 2016-04-07 신토고교 가부시키가이샤 Method for removing deposited material

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160038752A (en) * 2014-09-30 2016-04-07 신토고교 가부시키가이샤 Method for removing deposited material
JP2016068188A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 新東工業株式会社 Attachment removal method
KR102378196B1 (en) * 2014-09-30 2022-03-24 신토고교 가부시키가이샤 Method for removing deposited material

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