JP2008235761A - Printed wiring substrate with cavity and its manufacturing method - Google Patents

Printed wiring substrate with cavity and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2008235761A
JP2008235761A JP2007076321A JP2007076321A JP2008235761A JP 2008235761 A JP2008235761 A JP 2008235761A JP 2007076321 A JP2007076321 A JP 2007076321A JP 2007076321 A JP2007076321 A JP 2007076321A JP 2008235761 A JP2008235761 A JP 2008235761A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
wiring
cavity
recess
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007076321A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5194505B2 (en
Inventor
Sadashi Nakamura
禎志 中村
Fumio Echigo
文雄 越後
Toshio Sugawa
俊夫 須川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2007076321A priority Critical patent/JP5194505B2/en
Publication of JP2008235761A publication Critical patent/JP2008235761A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5194505B2 publication Critical patent/JP5194505B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern of a cavity substrate which can connect substrates in a multi-pin manner, and can increase wiring density in the substrate, and its manufacturing method. <P>SOLUTION: The printed wiring substrate with the cavity is composed of a first substrate 4 in which a through space is formed, a second substrate 3 in which the first substrate 4 is laminated and the bottom of the through space is formed, and a third substrate 5 on which the second substrate 3 is laminated. A recess to mount and hold a component is formed at the printed wiring substrate with a cavity, and the wiring of the surface of the recess and the wiring of surface of the first substrate 4 connected with the wiring have the same patterns 2 as that formed via the side wall of space of the first substrate 4, and the wiring of the surface of the recess and the third substrate 5 laminated on the back of the second substrate 3 are connected with each other through a via hole 7 filled with conductive paste. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、パソコン、移動体通信用電話機、ビデオカメラ等の各種電子機器に広く用いられる半導体用のパッケージ基板およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor package substrate widely used in various electronic devices such as personal computers, mobile communication telephones, and video cameras, and a method for manufacturing the same.

最近、モバイル商品としてパソコン、デジタルカメラ、携帯電話などが普及し、特にその小型、薄型、軽量、高精細、多機能化等の要望が強く、それに対応するため半導体の実装形態も、パッケージの小型・低背化、三次元実装化が進んでいる。このような半導体パッケージの低背化、三次元実装化を容易に実現する方法の一つとして、キャビティ基板を用いる方法が知られている。   Recently, personal computers, digital cameras, mobile phones, etc. have become widespread as mobile products. Especially, there are strong demands for small size, thinness, light weight, high definition, multi-functionality, etc.・ Low profile and 3D mounting are progressing. A method using a cavity substrate is known as one method for easily realizing such a low-profile and three-dimensional mounting of a semiconductor package.

以下に従来のキャビティ基板の形態について、図11、図12を用いて説明する。   Hereinafter, the configuration of the conventional cavity substrate will be described with reference to FIGS.

図11において、111はガラスクロス層、112はガラスクロスレス層であり、113はガラスクロスレス層112の積層部の中央部を無くすることにより形成したキャビティである。115はキャビティ内に形成された配線を引き出すための導体パターンであり、116はこれらの導体パターンを、キャビティ基板の上下面に引き出すためのスルーホールである。キャビティ113内に半導体部品等を実装することにより、実装体としての薄型化が達成される。   In FIG. 11, 111 is a glass cloth layer, 112 is a glass clothless layer, and 113 is a cavity formed by eliminating the central portion of the laminated portion of the glass clothless layer 112. 115 is a conductor pattern for drawing out the wiring formed in the cavity, and 116 is a through hole for drawing out these conductor patterns on the upper and lower surfaces of the cavity substrate. By mounting a semiconductor component or the like in the cavity 113, a reduction in thickness as a mounting body is achieved.

また図12のように、キャビティ113内の部品実装部と基板表面に形成される導体パターン117が、基板表面に沿って形成されているため、ビアホールやスルーホールを用いて接続する方法に比べ、接続信頼性が向上し、多ピン化にも対応しやすい。   In addition, as shown in FIG. 12, since the component mounting portion in the cavity 113 and the conductor pattern 117 formed on the substrate surface are formed along the substrate surface, compared to a method of connecting using via holes or through holes, Connection reliability is improved and it is easy to cope with higher pin count.

なお、この発明の出願に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、2が知られている。
特開2002−111226号公報 特開2001−274324号公報
For example, Patent Documents 1 and 2 are known as prior art document information related to the application of the present invention.
JP 2002-111226 A JP 2001-274324 A

従来のキャビティ基板は、キャビティ内の配線を引き出すために、キャビティ外周部まで引き出し、外周部でのみ層間接続や再配線接続、他の基板との接続を行っていた。例えばスタックパッケージのように他の部品実装済み基板と立体的な接続を行う場合、接続する端子数が少ないときは図11のような構造のキャビティ基板でも十分対応可能であるが、接続端子数が増えてくると層間接続するためのビアホールやスルーホールの数が増え、キャビティ外周部に要する面積が増大してパッケージが大型化するといった課題がある。一方、図12のような構造のキャビティ基板では、基板間接続に必要な端子数が増大しても対応可能であるが、同一基板内で再配線する配線ネットも一旦キャビティ外周部まで引き出されたのち、ビアホールやスルーホールで他レイヤーに接続して再配線を行うため、基板内の配線密度を高めることが困難であり、キャビティ外周部にも基板間接続に必要な端子以外のランドが発生することから、基板の小型化が困難となっている。本発明は、上記課題を鑑みて成されたものであり、多ピンの基板間接続が可能で、かつ基板内での配線密度も高めることのできるキャビティ基板の形態とその製造方法を提供するものである。   In order to draw out the wiring in the cavity, the conventional cavity substrate is drawn out to the outer periphery of the cavity, and the interlayer connection, rewiring connection, and connection with another substrate are performed only at the outer periphery. For example, when a three-dimensional connection is made with another component-mounted board such as a stack package, a cavity board having a structure as shown in FIG. 11 can sufficiently cope with a small number of terminals to be connected. As the number increases, the number of via holes and through holes for interlayer connection increases, which increases the area required for the outer periphery of the cavity and increases the size of the package. On the other hand, the cavity substrate having the structure as shown in FIG. 12 can cope with an increase in the number of terminals necessary for inter-substrate connection. However, the wiring net to be rewired in the same substrate was once pulled out to the outer periphery of the cavity. Later, it is difficult to increase the wiring density in the board because it is connected to other layers with via holes or through holes, and it is difficult to increase the wiring density in the board, and lands other than the terminals necessary for board-to-board connection are also generated in the outer periphery of the cavity For this reason, it is difficult to reduce the size of the substrate. The present invention has been made in view of the above problems, and provides a form of a cavity substrate that can be connected between multiple pins and can increase the wiring density in the substrate, and a method for manufacturing the same. It is.

上記目的を達成するために、本発明は貫通空隙が形成された第1の基板と、前記第1の基板が積層され前記貫通空隙の底部を形成する第2の基板と、前記第2の基板に積層される第3の基板とで構成される、部品を実装、収納するための凹部が形成されたキャビティつきプリント配線基板において、前記凹部表面の配線と、その配線と接続される前記第1の基板の表面の配線が、前記第1の基板の空隙部側壁面を経由して形成された同一の配線パターンであり、かつ前記凹部表面の配線と前記第2の基板の裏面に積層される第3の基板とが、導電性ペーストが充填されたビアホールを介して接続されていることを特徴とするキャビティ付きプリント配線基板であり、このような構成にすることにより、多ピンの基板間接続が可能で、かつ基板内での配線密度も高めることが可能となる。   In order to achieve the above object, the present invention provides a first substrate in which a through gap is formed, a second substrate in which the first substrate is stacked to form the bottom of the through gap, and the second substrate. In a printed wiring board with a cavity formed with a recess for mounting and housing a component, the first substrate connected to the wiring on the surface of the recess. The wiring on the surface of the substrate is the same wiring pattern formed via the gap side wall surface of the first substrate, and is laminated on the wiring on the surface of the recess and the back surface of the second substrate. A printed wiring board with cavities characterized in that the third board is connected via a via hole filled with a conductive paste. By such a configuration, a multi-pin inter-board connection is achieved. Possible and substrate It is possible to increase also the wiring density.

以上のように本発明は、多ピンの基板間接続が可能で、かつ基板内での配線密度も高めることが可能となるため、モバイル機器の小型、薄型、軽量、高精細、多機能化等を実現するために必要な、半導体の高機能・多ピン化に対応した小型、低背、三次元実装化を容易に実現するパッケージ形態を提供することが可能となる。   As described above, the present invention enables multi-pin connection between substrates and increases the wiring density in the substrate, so that the mobile device is small, thin, lightweight, high-definition, multifunctional, etc. Therefore, it is possible to provide a package form that can easily realize a small size, a low profile, and a three-dimensional mounting corresponding to the high-performance and multi-pin semiconductor required for realizing the above.

(実施の形態1)
以下本発明の実施の形態1について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は本発明の実施の形態1におけるキャビティ付きプリント配線基板の断面構造図である。本実施の形態のキャビティ付きプリント配線板は、キャビティ1の底面部を構成する第2の基板3の表面に形成されている配線2aと、その配線と接続されるキャビティ1の側壁部表面の配線2bが、側壁部を構成する第1の基板4のキャビティ内壁面を経由して形成された同一の配線パターン2であり、前記配線2aと第2の基板3の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続されている構成となっている。   FIG. 1 is a cross-sectional structure diagram of a printed wiring board with a cavity according to the first embodiment of the present invention. The printed wiring board with a cavity according to the present embodiment includes a wiring 2a formed on the surface of the second substrate 3 constituting the bottom surface of the cavity 1 and a wiring on the surface of the side wall of the cavity 1 connected to the wiring. 2b is the same wiring pattern 2 formed through the cavity inner wall surface of the first substrate 4 constituting the side wall portion, and the third wiring layer 2a and the second substrate 3 are laminated on the back surface. The wiring pattern 6 of the substrate 5 is connected via a via hole 7 filled with a conductive paste.

ここで、キャビティ1を形成するための底面部を構成する第2の基板3と側壁部を構成する第1の基板4は、無機フィラが混練されたエポキシ樹脂からなる複合絶縁材料(以降、コンポジット基材という)で構成され、真空熱プレス工程における積層時に樹脂流れが極力発生しないように、樹脂流動性を抑制したコンポジット基材を用いている。   Here, the second substrate 3 constituting the bottom surface part for forming the cavity 1 and the first substrate 4 constituting the side wall part are composed of a composite insulating material (hereinafter referred to as composite) made of an epoxy resin kneaded with inorganic filler. And a composite base material in which the resin fluidity is suppressed so that the resin flow is not generated as much as possible at the time of lamination in the vacuum hot press process.

また本実施の形態において、配線パターン2は金、銀、銅、アルミニウムなどの延性に富んだ金属材料を用いている。例えば圧延銅箔や、電解銅箔でも熱プレス程度の温度をかけることにより銅の再結晶化が促進されて結晶粒が大きくなるような銅箔を用いることが好ましい。   In the present embodiment, the wiring pattern 2 is made of a metal material rich in ductility such as gold, silver, copper, and aluminum. For example, a rolled copper foil or an electrolytic copper foil is preferably used such that a copper recrystallization is promoted by applying a temperature about the same as that of hot pressing to increase crystal grains.

また第3の基板5は、図1では両面基板を図示しているが、多層基板であってもかまわない。層間接続構造も全層IVH構造であっても、スルーホール構造であっても特に問題はなく、所望のプリント配線板を適用することが可能である。   The third substrate 5 is a double-sided substrate in FIG. 1, but may be a multilayer substrate. There is no particular problem whether the interlayer connection structure is an all-layer IVH structure or a through-hole structure, and a desired printed wiring board can be applied.

以下に本実施の形態1の製造方法について、図6を参照しながら説明する。図6は本実施の形態1のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法を示す工程断面図である。   Hereinafter, the manufacturing method of the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the printed wiring board with a cavity according to the first embodiment.

まず、離型フィルム61と変形層62とカバーシート63の3層からなるプレス中間材64を用意する。離型フィルム61はフッ素樹脂からなる樹脂フィルムで、低弾性で引っ張り伸度が大きく、キャビティのような凹部のある形状に対しても追従し易い材料を選択している。また、銅箔の粗化面であれば、粗化部のアンカー効果により仮圧着することが可能なものでもある。このような特徴を利用して、離型フィルム61に銅箔を仮圧着し、サブトラクティブ法で配線形成して配線パターン2を形成する。次に、所望の位置に所望の形状大きさの加工を施したキャビティ側壁部を構成する第1の基板4を準備する。ここで、第1の基板4のキャビティ内壁形状は、できるだけなだらかなテーパーのついた内壁形状であることが望ましい。このような内壁形状にすることにより、キャビティ内壁面に配線パターン2の転写をより確実に実施することが可能となる。   First, a press intermediate material 64 comprising three layers of a release film 61, a deformation layer 62, and a cover sheet 63 is prepared. The release film 61 is a resin film made of a fluororesin, and is selected from materials that have low elasticity, a high tensile elongation, and can easily follow a shape having a recess such as a cavity. Moreover, if it is the roughening surface of copper foil, it can also be temporarily crimped | bonded by the anchor effect of a roughening part. Utilizing such characteristics, a copper foil is temporarily pressure-bonded to the release film 61, and wiring is formed by a subtractive method to form the wiring pattern 2. Next, the 1st board | substrate 4 which comprises the cavity side wall part which processed the desired shape size in the desired position is prepared. Here, the inner wall shape of the cavity of the first substrate 4 is desirably an inner wall shape with a taper that is as gentle as possible. By using such an inner wall shape, the transfer of the wiring pattern 2 to the cavity inner wall surface can be more reliably performed.

次に、所望の位置にスルーホール加工を施し、スルーホール内に導電性ペーストを充填したビアホール7を有する、キャビティ底面部を構成する第2の基板3を準備する。最後に第3の基板5を準備し、これらすべての部材を図6(a)に示すようにアライメントしながら重ね合わせ、仮固定する。   Next, through-hole processing is performed at a desired position, and a second substrate 3 is prepared that has a via hole 7 filled with a conductive paste in the through-hole and that constitutes the bottom surface of the cavity. Finally, a third substrate 5 is prepared, and all these members are overlapped and temporarily fixed while being aligned as shown in FIG.

その後、真空熱プレス装置を用いて、図6(b)に示すような断面構造に加熱・加圧する。このとき、変形層62は加熱・加圧することにより、キャビティ1内を埋めるように流動する。同時に、離型フィルム61は配線パターン2と共に引き延ばされ、キャビティ1の底面部を構成する第2の基板3、側壁部を構成する第1の基板4の表面および壁面に密着し、第2の基板3や第1の基板4の硬化反応と共に配線パターン2は接着される。一方、底面部と側壁部は加熱・加圧されると若干樹脂流動が発生し、混練されたフィラと共にキャビティ1内や基板外周部に流れ出そうとするが、変形層62が変形することにより、キャビティ1内への樹脂流れは防止される。また同時に、配線2aと第2の基板3の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続される。   Then, it heats and pressurizes into a cross-sectional structure as shown in FIG.6 (b) using a vacuum hot press apparatus. At this time, the deformation layer 62 flows so as to fill the cavity 1 by heating and pressurizing. At the same time, the release film 61 is stretched together with the wiring pattern 2 and is in close contact with the surface and wall surface of the second substrate 3 constituting the bottom surface portion of the cavity 1 and the first substrate 4 constituting the side wall portion. The wiring pattern 2 is bonded together with the curing reaction of the substrate 3 and the first substrate 4. On the other hand, when the bottom and side walls are heated / pressurized, a slight resin flow occurs and attempts to flow into the cavity 1 and the outer periphery of the substrate together with the kneaded filler, but the deformation layer 62 is deformed, Resin flow into the cavity 1 is prevented. At the same time, the wiring 2a and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the second substrate 3 are connected through the via hole 7 filled with the conductive paste.

ここで、変形層62は結晶性のオレフィン系ポリマーを用いており、溶融時の粘度を非常に小さくすることが可能なため、キャビティのような凹部形状に追従することが容易に可能となる。変形層62として、通常のガラスエポキシプリプレグや、Bステージのエポキシ樹脂も適用することが可能である。またカバーシート63としては、銅箔や耐熱性の樹脂フィルムなどを使用することができる。また、ビアホール7を形成する導電性ペーストは、銅ペーストや金属フィラ同士が合金接合するような、合金系導電性ペーストを用いることができる。   Here, since the deformable layer 62 uses a crystalline olefin polymer and can reduce the viscosity at the time of melting, it is possible to easily follow the shape of a recess such as a cavity. As the deformable layer 62, a normal glass epoxy prepreg or a B-stage epoxy resin can also be applied. Moreover, as the cover sheet 63, copper foil, a heat resistant resin film, etc. can be used. In addition, as the conductive paste for forming the via hole 7, an alloy-based conductive paste in which a copper paste or metal filler is alloy-bonded can be used.

最後に図6(c)に示すように、剥離フィルム61と配線パターン2の界面からプレス中間材64を引き剥がして、配線パターン2をキャビティ1の底面部を構成する第2の基板3と側壁部を構成する第1の基板4の表面に転写することにより、本実施の形態1におけるキャビティ付きプリント配線基板を得ることができる。   Finally, as shown in FIG. 6 (c), the press intermediate material 64 is peeled off from the interface between the release film 61 and the wiring pattern 2, and the second substrate 3 and the side wall constituting the bottom surface of the cavity 1. By transferring to the surface of the first substrate 4 constituting the part, the printed wiring board with a cavity in the first embodiment can be obtained.

(実施の形態2)
以下本発明の実施の形態2について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 2)
Embodiment 2 of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図2は本発明の実施の形態2におけるキャビティ付きプリント配線基板の断面構造図である。本実施の形態のキャビティ付きプリント配線板は、キャビティ1の底面部を構成する第2の基板3の表面に形成されている配線2aと、その配線と接続されるキャビティ1の側壁部を構成する第1の基板4表面の配線2bが、第1の基板4の側壁面上を中空に経由して形成された同一の配線パターン2であり、前記配線2aとキャビティ1の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続されている構成となっている。   FIG. 2 is a sectional structural view of a printed wiring board with a cavity according to the second embodiment of the present invention. The printed wiring board with a cavity according to the present embodiment constitutes a wiring 2a formed on the surface of the second substrate 3 constituting the bottom surface portion of the cavity 1 and a side wall portion of the cavity 1 connected to the wiring. The wiring 2b on the surface of the first substrate 4 is the same wiring pattern 2 formed on the side wall surface of the first substrate 4 via a hollow space, and is stacked on the wiring 2a and the back surface of the cavity 1. The wiring pattern 6 of the third substrate 5 is connected via a via hole 7 filled with a conductive paste.

ここで、キャビティ1を形成するための底面部を構成する第2の基板3と側壁部を構成する第1の基板4は、実施の形態1と同様、コンポジット基材で構成されている。   Here, the second substrate 3 constituting the bottom surface part for forming the cavity 1 and the first substrate 4 constituting the side wall part are composed of a composite base material as in the first embodiment.

また本実施の形態において、配線パターン2は金、銀、銅、アルミニウムなどの延性に富んだ金属材料を用いている。例えば圧延銅箔や、電解銅箔でも熱プレス程度の温度をかけることにより銅の再結晶化が促進されて結晶粒が大きくなるような銅箔を用いることが好ましい。   In the present embodiment, the wiring pattern 2 is made of a metal material rich in ductility such as gold, silver, copper, and aluminum. For example, a rolled copper foil or an electrolytic copper foil is preferably used such that a copper recrystallization is promoted by applying a temperature about the same as that of hot pressing to increase crystal grains.

また第3の基板5は、図2では両面基板を図示しているが、多層基板であってもかまわない。層間接続構造も全層IVH構造であっても、スルーホール構造であっても特に問題はなく、所望のプリント配線板を適用することが可能である。   The third substrate 5 is a double-sided substrate in FIG. 2, but may be a multilayer substrate. There is no particular problem whether the interlayer connection structure is an all-layer IVH structure or a through-hole structure, and a desired printed wiring board can be applied.

以下に本実施の形態2の製造方法について、図7を参照しながら説明する。図7は本実施の形態2のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法を示す工程断面図である。   Hereinafter, the manufacturing method according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a process cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the printed wiring board with the cavity according to the second embodiment.

まず、離型フィルム61と変形層62とカバーシート63の3層からなるプレス中間材64を用意する。離型フィルム61はフッ素樹脂からなる樹脂フィルムで、低弾性で引っ張り伸度が大きく、キャビティのような凹部のある形状に対しても追従し易い材料を選択している。また、銅箔の粗化面であれば、粗化部のアンカー効果により仮圧着することが可能なものでもある。このような特徴を利用して、離型フィルム61に銅箔を仮圧着し、サブトラクティブ法で配線形成して配線パターン2を形成する。次に、所望の位置に所望の形状大きさの加工を施したキャビティ側壁部を構成する第1の基板4を準備する。ここで、第1の基板4のキャビティ内壁形状は、実施の形態1とは異なりできるだけテーパーのない、垂直な内壁形状であることが望ましい。このような内壁形状にすることにより、キャビティ底面部の面積をより大きく確保することができ、より多くの実装部品を収容することが可能となる。次に、所望の位置にスルーホール加工を施し、スルーホール内に導電性ペーストを充填したビアホール7を有する、キャビティ底面部を構成する第2の基板3を準備する。最後に第3の基板5を準備し、これらすべての部材を図7(a)に示すようにアライメントしながら重ね合わせ、仮固定する。   First, a press intermediate material 64 comprising three layers of a release film 61, a deformation layer 62, and a cover sheet 63 is prepared. The release film 61 is a resin film made of a fluororesin, and is selected from materials that have low elasticity, a high tensile elongation, and can easily follow a shape having a recess such as a cavity. Moreover, if it is the roughening surface of copper foil, it can also be temporarily crimped | bonded by the anchor effect of a roughening part. Utilizing such characteristics, a copper foil is temporarily pressure-bonded to the release film 61, and wiring is formed by a subtractive method to form the wiring pattern 2. Next, the 1st board | substrate 4 which comprises the cavity side wall part which processed the desired shape size in the desired position is prepared. Here, unlike the first embodiment, the shape of the cavity inner wall of the first substrate 4 is preferably a vertical inner wall shape having as little taper as possible. By adopting such an inner wall shape, it is possible to secure a larger area of the bottom surface of the cavity and accommodate more mounting components. Next, through-hole processing is performed at a desired position, and a second substrate 3 is prepared that has a via hole 7 filled with a conductive paste in the through-hole and that constitutes the bottom surface of the cavity. Finally, a third substrate 5 is prepared, and all these members are overlapped and temporarily fixed while being aligned as shown in FIG.

その後、真空熱プレス装置を用いて、図7(b)に示すような断面構造に加熱・加圧する。このとき、変形層62は加熱・加圧することにより、キャビティ1内を埋めるように流動する。同時に、離型フィルム61は配線パターン2と共に引き延ばされ、キャビティ1の底面部を構成する第2の基板3、側壁部を構成する第1の基板4の表面および壁面に密着し、第2の基板3や第1の基板4の硬化反応と共に配線パターン2は接着される。変形層62の変形度合いによっては、キャビティ内壁面に密着することなく、配線パターン2とキャビティ内壁面の間に空隙が発生する。ここで変形層62の変形が十分行われ、キャビティ1内を完全に埋め込めた場合や、キャビティ底面部や側壁部からの樹脂流動分で前記空隙が埋められた場合は、実施の形態1で説明した構造となる。一方、底面部と側壁部は加熱・加圧されると若干樹脂流動が発生し、混練されたフィラと共にキャビティ1内や基板外周部に流れ出そうとするが、変形層62が変形することにより、キャビティ1内への樹脂流れはある程度防止される。また同時に、配線2aと第2の基板3の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続される。   Then, it heats and pressurizes to a cross-sectional structure as shown in FIG.7 (b) using a vacuum hot press apparatus. At this time, the deformation layer 62 flows so as to fill the cavity 1 by heating and pressurizing. At the same time, the release film 61 is stretched together with the wiring pattern 2 and is in close contact with the surface and wall surface of the second substrate 3 constituting the bottom surface portion of the cavity 1 and the first substrate 4 constituting the side wall portion. The wiring pattern 2 is bonded together with the curing reaction of the substrate 3 and the first substrate 4. Depending on the degree of deformation of the deformation layer 62, a gap is generated between the wiring pattern 2 and the cavity inner wall surface without being in close contact with the cavity inner wall surface. Here, when the deformation layer 62 is sufficiently deformed and the inside of the cavity 1 is completely filled, or when the gap is filled with the resin flow from the cavity bottom and side walls, description will be given in the first embodiment. It becomes the structure. On the other hand, when the bottom and side walls are heated / pressurized, a slight resin flow occurs and attempts to flow into the cavity 1 and the outer periphery of the substrate together with the kneaded filler, but the deformation layer 62 is deformed, Resin flow into the cavity 1 is prevented to some extent. At the same time, the wiring 2a and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the second substrate 3 are connected through the via hole 7 filled with the conductive paste.

最後に図7(c)に示すように、剥離フィルム61と配線パターン2の界面からプレス中間材64を引き剥がして、配線パターン2をキャビティ1の底面部を構成する第2の基板3と側壁部を構成する第1の基板4の表面に転写することにより、本実施の形態2におけるキャビティ付きプリント配線基板を得ることができる。   Finally, as shown in FIG. 7C, the press intermediate material 64 is peeled off from the interface between the release film 61 and the wiring pattern 2, so that the wiring substrate 2 and the side wall constituting the bottom surface of the cavity 1 are separated from the wiring pattern 2. The printed circuit board with a cavity in the second embodiment can be obtained by transferring it onto the surface of the first substrate 4 constituting the part.

(実施の形態3)
以下本発明の実施の形態3について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 3)
Embodiment 3 of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図3は本発明の実施の形態3におけるキャビティ付きプリント配線基板の断面構造図である。本実施の形態のキャビティ付きプリント配線板は、キャビティ1の底面部を構成する第2の基板3の表面に形成されている配線2aと、その配線と接続されるキャビティ1の側壁部を構成する第1の基板4の表面の配線2bが、側壁部のキャビティ内壁面を経由して形成された同一の配線パターン2であり、前記配線2aとキャビティ1の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続され、かつ前記配線2bと第2の基板3の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、キャビティ1の側壁部の側壁近傍に形成されたビアホール8を介して接続されている構成となっている。ここで、キャビティ1を形成する底面部を構成する第2の基板3と側壁部を構成する第1の基板4は、実施の形態1と同様、コンポジット基材で構成されている。また本実施の形態において、配線パターン2は金、銀、銅、アルミニウムなどの延性に富んだ金属材料を用いている。例えば圧延銅箔や、電解銅箔でも熱プレス程度の温度をかけることにより銅の再結晶化が促進されて結晶粒が大きくなるような銅箔を用いることが好ましい。   FIG. 3 is a cross-sectional structure diagram of a printed wiring board with a cavity according to a third embodiment of the present invention. The printed wiring board with a cavity according to the present embodiment constitutes a wiring 2a formed on the surface of the second substrate 3 constituting the bottom surface portion of the cavity 1 and a side wall portion of the cavity 1 connected to the wiring. The wiring 2b on the surface of the first substrate 4 is the same wiring pattern 2 formed via the cavity inner wall surface of the side wall, and the third substrate 5 laminated on the wiring 2a and the back surface of the cavity 1 is used. Are connected via via holes 7 filled with conductive paste, and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the second substrate 3 is connected to the wiring pattern 6 of the third substrate 5. The cavity 1 is connected via a via hole 8 formed in the vicinity of the side wall of the side wall portion. Here, as in the first embodiment, the second substrate 3 constituting the bottom surface portion forming the cavity 1 and the first substrate 4 constituting the side wall portion are composed of a composite base material. In the present embodiment, the wiring pattern 2 is made of a metal material rich in ductility such as gold, silver, copper, and aluminum. For example, a rolled copper foil or an electrolytic copper foil is preferably used such that a copper recrystallization is promoted by applying a temperature about the same as that of hot pressing to increase crystal grains.

また第3の基板5は、図3では両面基板を図示しているが、多層基板であってもかまわない。層間接続構造も全層IVH構造であっても、スルーホール構造であっても特に問題はなく、所望のプリント配線板を適用することが可能である。   The third substrate 5 is a double-sided substrate in FIG. 3, but may be a multilayer substrate. There is no particular problem whether the interlayer connection structure is an all-layer IVH structure or a through-hole structure, and a desired printed wiring board can be applied.

以下に本実施の形態3の製造方法について、図8を参照しながら説明する。図8は本実施の形態3のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法を示す工程断面図である。   Hereinafter, the manufacturing method of the third embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a printed wiring board with a cavity according to the third embodiment.

まず、離型フィルム61と変形層62とカバーシート63の3層からなるプレス中間材64を用意する。離型フィルム61はフッ素樹脂からなる樹脂フィルムで、低弾性で引っ張り伸度が大きく、キャビティのような凹部のある形状に対しても追従し易い材料を選択している。また、銅箔の粗化面であれば、粗化部のアンカー効果により仮圧着することが可能なものでもある。このような特徴を利用して、離型フィルム61に銅箔を仮圧着し、サブトラクティブ法で配線形成して配線パターン2を形成する。次に、所望の位置に所望の形状大きさの加工を施したキャビティ側壁部を構成する第1の基板4を準備する。さらにこの第1の基板4に所望の位置にスルーホール加工を施し、スルーホール内に導電性ペーストを充填したビアホール8を形成する。次に、所望の位置にスルーホール加工を施し、スルーホール内に導電性ペーストを充填したビアホール7を有する、キャビティ底面部を構成する第2の基板3を準備する。最後に第3の基板5を準備し、これらすべての部材を図8(a)に示すようにアライメントしながら重ね合わせ、仮固定する。   First, a press intermediate material 64 comprising three layers of a release film 61, a deformation layer 62, and a cover sheet 63 is prepared. The release film 61 is a resin film made of a fluororesin, and is selected from materials that have low elasticity, a high tensile elongation, and can easily follow a shape having a recess such as a cavity. Moreover, if it is the roughening surface of copper foil, it can also be temporarily crimped | bonded by the anchor effect of a roughening part. Utilizing such characteristics, a copper foil is temporarily pressure-bonded to the release film 61, and wiring is formed by a subtractive method to form the wiring pattern 2. Next, the 1st board | substrate 4 which comprises the cavity side wall part which processed the desired shape size in the desired position is prepared. Further, the first substrate 4 is subjected to through hole processing at a desired position, and a via hole 8 filled with a conductive paste is formed in the through hole. Next, through-hole processing is performed at a desired position, and a second substrate 3 is prepared that has a via hole 7 filled with a conductive paste in the through-hole and that constitutes the bottom surface of the cavity. Finally, a third substrate 5 is prepared, and all these members are superimposed and temporarily fixed while being aligned as shown in FIG.

その後、真空熱プレス装置を用いて、図8(b)に示すような断面構造に加熱・加圧する。このとき、変形層62は加熱・加圧することにより、キャビティ1内を埋めるように流動する。同時に、離型フィルム61は配線パターン2と共に引き延ばされ、キャビティ1の底面部を構成する第2の基板3、側壁部を構成する第1の基板4の表面および壁面に密着し、第2の基板3や第1の基板4の硬化反応と共に配線パターン2は接着される。一方、底面部と側壁部は加熱・加圧されると若干樹脂流動が発生し、混練されたフィラと共にキャビティ1内や基板外周部に流れ出そうとするが、変形層62が変形することにより、キャビティ1内への樹脂流れはある程度防止される。また同時に、配線2aとキャビティ1の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続されるとともに、配線2bと第2の基板3の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール8を介して接続される。   Then, it heats and pressurizes in a cross-sectional structure as shown in FIG.8 (b) using a vacuum hot press apparatus. At this time, the deformation layer 62 flows so as to fill the cavity 1 by heating and pressurizing. At the same time, the release film 61 is stretched together with the wiring pattern 2 and is in close contact with the surface and wall surface of the second substrate 3 constituting the bottom surface portion of the cavity 1 and the first substrate 4 constituting the side wall portion. The wiring pattern 2 is bonded together with the curing reaction of the substrate 3 and the first substrate 4. On the other hand, when the bottom and side walls are heated / pressurized, a slight resin flow occurs and attempts to flow into the cavity 1 and the outer periphery of the substrate together with the kneaded filler, but the deformation layer 62 is deformed, Resin flow into the cavity 1 is prevented to some extent. At the same time, the wiring 2a and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the cavity 1 are connected via the via hole 7 filled with the conductive paste, and the wiring 2b and the second substrate are connected. 3 is connected to the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the substrate 3 through a via hole 8 filled with a conductive paste.

最後に図8(c)に示すように、剥離フィルム81と配線パターン32の界面からプレス中間材64を引き剥がして、配線パターン32をキャビティ31の底面部33と側壁面と側壁部34の表面に転写することにより、本実施の形態3におけるキャビティ付きプリント配線基板を得ることができる。   Finally, as shown in FIG. 8C, the press intermediate material 64 is peeled off from the interface between the release film 81 and the wiring pattern 32, and the wiring pattern 32 is removed from the bottom surface 33, the side wall surface, and the side wall surface 34. The printed wiring board with the cavity in the third embodiment can be obtained by transferring to the above.

(実施の形態4)
以下本発明の実施の形態4について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 4)
Embodiment 4 of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図4は本発明の実施の形態1におけるキャビティ付きプリント配線基板の断面構造図である。本実施の形態のキャビティ付きプリント配線板は、キャビティ1が形成される面においてプリント配線基板全面を絶縁性樹脂フィルムからなる第2の基板3で被覆し、キャビティ1の底面部となる第2の基板3の表面に形成されている配線2aと、その配線と接続されるキャビティ1の側壁部を構成する第1の基板4の表面の配線2bが、第2の基板3上で、かつ第1の基板4のキャビティ内壁面を経由して形成された同一の配線パターン2であり、前記配線2aとキャビティ1の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、絶縁性樹脂フィルムに形成される導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続されている構成となっている。   FIG. 4 is a cross-sectional structure diagram of the printed wiring board with a cavity according to the first embodiment of the present invention. In the printed wiring board with a cavity according to the present embodiment, the entire surface of the printed wiring board is covered with the second substrate 3 made of an insulating resin film on the surface on which the cavity 1 is formed, and the second substrate serving as the bottom surface of the cavity 1 is formed. The wiring 2a formed on the surface of the substrate 3 and the wiring 2b on the surface of the first substrate 4 constituting the side wall portion of the cavity 1 connected to the wiring are on the second substrate 3 and the first The wiring pattern 2 of the third substrate 5 that is the same wiring pattern 2 formed through the cavity inner wall surface of the substrate 4 and is laminated on the back surface of the cavity 1 is an insulating resin film. The conductive paste is formed through a via hole 7 filled with a conductive paste.

ここで、キャビティ1を形成するための底面部を構成する第2の基板3は絶縁性樹脂フィルムで、側壁部を構成する第1の基板4はコンポジット基材で構成されている。   Here, the 2nd board | substrate 3 which comprises the bottom face part for forming the cavity 1 is comprised with the insulating resin film, and the 1st board | substrate 4 which comprises a side wall part is comprised with the composite base material.

また本実施の形態において、絶縁性樹脂フィルムは、少なくともポリイミド、ポリアミド、液晶ポリマー、から選ばれる高耐熱性樹脂フィルムであり、少なくとも片面には配線パターン2としてパターニングされる金属膜が形成されている。この金属膜は、絶縁性樹脂フィルムに接着剤を介して密着している場合と、絶縁性樹脂フィルム上に直接形成する場合があるが、本実施の形態においては絶縁性樹脂フィルム上に直接形成する方が好ましい。この金属膜をパターニングして配線パターン2を形成する。配線パターン2は金、銀、銅、アルミニウムなどの延性に富んだ金属材料を用いる方が好ましい。なお、絶縁性樹脂フィルムの配線パターン2を形成した裏面には接着剤を塗布しておく方が望ましい。なお、接着剤は熱硬化性エポキシ樹脂が特に好ましい。   In the present embodiment, the insulating resin film is a high heat-resistant resin film selected from at least polyimide, polyamide, and liquid crystal polymer, and a metal film that is patterned as the wiring pattern 2 is formed on at least one surface. . This metal film may be formed directly on the insulating resin film in this embodiment, although the metal film may be in close contact with the insulating resin film via an adhesive or may be directly formed on the insulating resin film. Is preferred. The metal film is patterned to form a wiring pattern 2. The wiring pattern 2 is preferably made of a metal material rich in ductility such as gold, silver, copper, and aluminum. It is desirable to apply an adhesive to the back surface of the insulating resin film on which the wiring pattern 2 is formed. The adhesive is particularly preferably a thermosetting epoxy resin.

また第3の基板5は、図4では両面基板を図示しているが、多層基板であってもかまわない。層間接続構造も全層IVH構造であっても、スルーホール構造であっても特に問題はなく、所望のプリント配線板を適用することが可能である。   The third substrate 5 is a double-sided substrate in FIG. 4, but may be a multilayer substrate. There is no particular problem whether the interlayer connection structure is an all-layer IVH structure or a through-hole structure, and a desired printed wiring board can be applied.

以下に本実施の形態4の製造方法について、図9を参照しながら説明する。図9は本実施の形態4のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法を示す工程断面図である。   Hereinafter, the manufacturing method of the fourth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a printed wiring board with a cavity according to the fourth embodiment.

まず、離型フィルム61と変形層62とカバーシート63の3層からなるプレス中間材64を用意する。離型フィルム61はフッ素樹脂からなる樹脂フィルムで、低弾性で引っ張り伸度が大きく、キャビティのような凹部のある形状に対しても追従し易い材料を選択している。次に金属膜が形成された第2の基板3を構成するための絶縁性樹脂フィルムを用意する。なお、この金属膜は中間材64側に形成されていても良い。本実施の形態では金属膜としてめっき銅を用いるため、絶縁性樹脂フィルムにあらかじめスパッタリングでNi−Cr膜を数100Å成膜した後、この膜をシード層として銅めっき膜を5μm〜20μm形成した。この金属膜をサブトラクティブ法で配線形成して配線パターン2を形成する。次に、絶縁性樹脂フィルムの所望の位置にブラインドビア加工を施し、ブラインドビアホール内に導電性ペーストを充填してビアホール7を形成する。次に、所望の位置に所望の形状大きさの加工を施したキャビティ側壁部を構成する第1の基板4を準備する。最後に第3の基板5を準備し、これらすべての部材を図9(a)に示すようにアライメントしながら重ね合わせ、仮固定する。   First, a press intermediate material 64 comprising three layers of a release film 61, a deformation layer 62, and a cover sheet 63 is prepared. The release film 61 is a resin film made of a fluororesin, and is selected from materials that have low elasticity, a high tensile elongation, and can easily follow a shape having a recess such as a cavity. Next, an insulating resin film for constituting the second substrate 3 on which the metal film is formed is prepared. The metal film may be formed on the intermediate material 64 side. Since plated copper is used as the metal film in the present embodiment, several hundreds of Ni—Cr films are formed in advance on the insulating resin film by sputtering, and then a copper plated film is formed to have a thickness of 5 μm to 20 μm using this film as a seed layer. A wiring pattern 2 is formed by forming a wiring of this metal film by a subtractive method. Next, blind via processing is performed at a desired position of the insulating resin film, and a conductive paste is filled in the blind via hole to form the via hole 7. Next, the 1st board | substrate 4 which comprises the cavity side wall part which processed the desired shape size in the desired position is prepared. Finally, a third substrate 5 is prepared, and all these members are overlapped and temporarily fixed while being aligned as shown in FIG.

その後、真空熱プレス装置を用いて、図9(b)に示すような断面構造に加熱・加圧する。このとき、変形層62は加熱・加圧することにより、キャビティ1内を埋めるように流動する。同時に、離型フィルム61と絶縁性樹脂フィルムは配線パターン2と共に引き延ばされ、キャビティ1の底面、側壁部を構成する第1の基板4の表面および壁面に密着し、底面部や側壁部の硬化反応と共に絶縁性樹脂フィルムは接着され、第2の基板3として形成される。一方、側壁部は加熱・加圧されると若干樹脂流動が発生し、混練されたフィラと共にキャビティ1内や基板外周部に流れ出そうとするが、変形層62が変形することにより、キャビティ1内への樹脂流れはある程度防止される。また同時に、配線2aとキャビティ1の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続される。   Then, it heats and pressurizes in a cross-sectional structure as shown in FIG.9 (b) using a vacuum hot press apparatus. At this time, the deformation layer 62 flows so as to fill the cavity 1 by heating and pressurizing. At the same time, the release film 61 and the insulating resin film are stretched together with the wiring pattern 2 and are in close contact with the surface and the wall surface of the first substrate 4 constituting the bottom surface and the side wall portion of the cavity 1. The insulating resin film is bonded together with the curing reaction to form the second substrate 3. On the other hand, when the side wall is heated / pressurized, a slight resin flow is generated and tends to flow into the cavity 1 and the outer peripheral portion of the substrate together with the kneaded filler. The resin flow to the water is prevented to some extent. At the same time, the wiring 2a and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the cavity 1 are connected through the via hole 7 filled with the conductive paste.

最後に図9(c)に示すように、剥離フィルム61と配線パターン2の界面からプレス中間材64を引き剥がして、絶縁性樹脂フィルムと配線パターン2をキャビティ1の底面部と側壁部の表面および壁面に転写することにより、本実施の形態4におけるキャビティ付きプリント配線基板を得ることができる。   Finally, as shown in FIG. 9C, the press intermediate material 64 is peeled off from the interface between the release film 61 and the wiring pattern 2, and the insulating resin film and the wiring pattern 2 are removed from the bottom and side surfaces of the cavity 1. By transferring to the wall surface, the printed wiring board with a cavity in the fourth embodiment can be obtained.

(実施の形態5)
以下本発明の実施の形態5について、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 5)
Embodiment 5 of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図5は本発明の実施の形態5におけるキャビティ付きプリント配線基板の断面構造図である。本実施の形態のキャビティ付きプリント配線板は、キャビティ1が形成される面においてプリント配線基板全面を絶縁性樹脂フィルムからなる第2の基板3で被覆し、キャビティ1の底面部表面に形成されている配線2aと、その配線と接続されるキャビティ1の側壁部を構成する第1の基板4の表面の配線2bが、第2の基板3上で、かつ第1の基板4のキャビティ内壁面上を中空に経由して形成された同一の配線パターン2であり、前記配線2aとキャビティ1の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、絶縁性樹脂フィルムに形成される導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続されている構成となっている。   FIG. 5 is a sectional structural view of a printed wiring board with a cavity according to a fifth embodiment of the present invention. The printed wiring board with a cavity according to the present embodiment is formed on the surface of the bottom surface of the cavity 1 by covering the entire surface of the printed wiring board with the second substrate 3 made of an insulating resin film on the surface where the cavity 1 is formed. And the wiring 2b on the surface of the first substrate 4 constituting the side wall of the cavity 1 connected to the wiring 2a on the second substrate 3 and on the inner wall surface of the cavity of the first substrate 4 The wiring pattern 2 is the same wiring pattern 2 formed through the hollow, and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the cavity 1 is formed on the insulating resin film. It is configured to be connected through a via hole 7 filled with a conductive paste.

ここで、キャビティ1を形成する底面部を構成する第2の基板3は絶縁性樹脂フィルムで、側壁部を構成する第1の基板4はコンポジット基材で構成されている。   Here, the 2nd board | substrate 3 which comprises the bottom face part which forms the cavity 1 is an insulating resin film, and the 1st board | substrate 4 which comprises a side wall part is comprised with the composite base material.

また本実施の形態において、絶縁性樹脂フィルムは、少なくともポリイミド、ポリアミド、液晶ポリマー、から選ばれる高耐熱性樹脂フィルムであり、少なくとも片面には配線パターン2としてパターニングされる金属膜が形成されている。この金属膜は、絶縁性樹脂フィルムに接着剤を介して密着している場合と、絶縁性樹脂フィルム上に直接形成する場合があるが、本実施の形態においては絶縁性樹脂フィルム上に直接形成する方が好ましい。この金属膜をパターニングして配線パターン2を形成する。配線パターン2は金、銀、銅、アルミニウムなどの延性に富んだ金属材料を用いる方が好ましい。なお、絶縁性樹脂フィルムの配線パターン2を形成した裏面には接着剤を塗布しておく方が望ましい。なお、接着剤は熱硬化性エポキシ樹脂が特に好ましい。   In the present embodiment, the insulating resin film is a high heat-resistant resin film selected from at least polyimide, polyamide, and liquid crystal polymer, and a metal film that is patterned as the wiring pattern 2 is formed on at least one surface. . This metal film may be formed directly on the insulating resin film in this embodiment, although the metal film may be in close contact with the insulating resin film via an adhesive or may be directly formed on the insulating resin film. Is preferred. The metal film is patterned to form a wiring pattern 2. The wiring pattern 2 is preferably made of a metal material rich in ductility such as gold, silver, copper, and aluminum. It is desirable to apply an adhesive to the back surface of the insulating resin film on which the wiring pattern 2 is formed. The adhesive is particularly preferably a thermosetting epoxy resin.

また第3の基板5は、図5では両面基板を図示しているが、多層基板であってもかまわない。層間接続構造も全層IVH構造であっても、スルーホール構造であっても特に問題はなく、所望のプリント配線板を適用することが可能である。   The third substrate 5 is a double-sided substrate in FIG. 5, but may be a multilayer substrate. There is no particular problem whether the interlayer connection structure is an all-layer IVH structure or a through-hole structure, and a desired printed wiring board can be applied.

以下に本実施の形態5の製造方法について、図10を参照しながら説明する。図10は本実施の形態5のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法を示す工程断面図である。   Hereinafter, the manufacturing method of the fifth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a printed wiring board with a cavity according to the fifth embodiment.

まず、離型フィルム61と変形層62とカバーシート63の3層からなるプレス中間材64を用意する。離型フィルム61はフッ素樹脂からなる樹脂フィルムで、低弾性で引っ張り伸度が大きく、キャビティのような凹部のある形状に対しても追従し易い材料を選択している。次に金属膜が形成された第2の基板3を構成するための絶縁性樹脂フィルムを用意する。なお、この金属膜は中間材64側に形成されていても良い。本実施の形態では金属膜としてめっき銅を用いるため、絶縁性樹脂フィルムにあらかじめスパッタリングでNi−Cr膜を数100Å成膜した後、この膜をシード層として銅めっき膜を5μm〜20μm形成した。この金属膜をサブトラクティブ法で配線形成して配線パターン2を形成する。次に、絶縁性樹脂フィルムの所望の位置にブラインドビア加工を施し、ブラインドビアホール内に導電性ペーストを充填してビアホール7を形成する。次に、所望の位置に所望の形状大きさの加工を施したキャビティ側壁部となる第1の基板4を準備する。ここで、第1の基板4のキャビティ内壁形状は、実施の形態4とは異なりできるだけテーパーのない、垂直な内壁形状であることが望ましい。このような内壁形状にすることにより、キャビティ底面部の面積をより大きく確保することができ、より多くの実装部品を収容することが可能となる。最後に第3の基板5を準備し、これらすべての部材を図10(a)に示すようにアライメントしながら重ね合わせ、仮固定する。   First, a press intermediate material 64 comprising three layers of a release film 61, a deformation layer 62, and a cover sheet 63 is prepared. The release film 61 is a resin film made of a fluororesin, and is selected from materials that have low elasticity, a high tensile elongation, and can easily follow a shape having a recess such as a cavity. Next, an insulating resin film for constituting the second substrate 3 on which the metal film is formed is prepared. The metal film may be formed on the intermediate material 64 side. Since plated copper is used as the metal film in the present embodiment, several hundreds of Ni—Cr films are formed in advance on the insulating resin film by sputtering, and then a copper plated film is formed to have a thickness of 5 μm to 20 μm using this film as a seed layer. A wiring pattern 2 is formed by forming a wiring of this metal film by a subtractive method. Next, blind via processing is performed at a desired position of the insulating resin film, and a conductive paste is filled in the blind via hole to form the via hole 7. Next, the 1st board | substrate 4 used as the cavity side wall part which processed the desired shape size in the desired position is prepared. Here, the cavity inner wall shape of the first substrate 4 is desirably a vertical inner wall shape having no taper as much as possible, unlike the fourth embodiment. By adopting such an inner wall shape, it is possible to secure a larger area of the bottom surface of the cavity and accommodate more mounting components. Finally, a third substrate 5 is prepared, and all these members are overlapped and temporarily fixed while being aligned as shown in FIG.

その後、真空熱プレス装置を用いて、図10(b)に示すような断面構造に加熱・加圧する。このとき、変形層62は加熱・加圧することにより、キャビティ1内を埋めるように流動する。同時に、離型フィルム61と絶縁性樹脂フィルムは配線パターン2と共に引き延ばされ、キャビティ1の底面、第1の基板4の表面に密着し、底面部や側壁部の硬化反応と共に絶縁性樹脂フィルムは接着され、第2の基板3として形成される。変形層62の変形度合いによっては、キャビティ内壁面に密着することなく、絶縁性樹脂フィルムとキャビティ内壁面の間に空隙が発生する。ここで変形層62の変形が十分行われ、キャビティ1内を完全に埋め込めた場合や、キャビティ底面部や側壁部からの樹脂流動分で前記空隙が埋められた場合は、実施の形態4で説明した構造となる。一方、第1の基板4は加熱・加圧されると若干樹脂流動が発生し、混練されたフィラと共にキャビティ1内や基板外周部に流れ出そうとするが、変形層62が変形することにより、キャビティ1内への樹脂流れはある程度防止される。また同時に、配線2aと第2の基板3の裏面に積層される第3の基板5の配線パターン6とが、導電性ペーストが充填されたビアホール7を介して接続される。   Then, it heats and pressurizes in a cross-sectional structure as shown in FIG.10 (b) using a vacuum hot press apparatus. At this time, the deformation layer 62 flows so as to fill the cavity 1 by heating and pressurizing. At the same time, the release film 61 and the insulating resin film are stretched together with the wiring pattern 2, are in close contact with the bottom surface of the cavity 1 and the surface of the first substrate 4, and the insulating resin film together with the curing reaction of the bottom surface portion and the side wall portion. Are bonded to form a second substrate 3. Depending on the degree of deformation of the deformation layer 62, a gap is generated between the insulating resin film and the cavity inner wall surface without being in close contact with the cavity inner wall surface. Here, when the deformation layer 62 is sufficiently deformed and the inside of the cavity 1 is completely filled, or when the gap is filled with the resin flow from the cavity bottom and side walls, the description will be given in the fourth embodiment. It becomes the structure. On the other hand, when the first substrate 4 is heated and pressurized, a slight resin flow occurs, and the first substrate 4 tends to flow into the cavity 1 and the outer periphery of the substrate together with the kneaded filler, but the deformation layer 62 is deformed, Resin flow into the cavity 1 is prevented to some extent. At the same time, the wiring 2a and the wiring pattern 6 of the third substrate 5 laminated on the back surface of the second substrate 3 are connected through the via hole 7 filled with the conductive paste.

最後に図10(c)に示すように、剥離フィルム61と配線パターン2の界面からプレス中間材64を引き剥がして、絶縁性樹脂フィルムからなる第2の基板3と配線パターン2をキャビティ1の底面部と第1の基板4の表面に転写することにより、本実施の形態5におけるキャビティ付きプリント配線基板を得ることができる。   Finally, as shown in FIG. 10C, the press intermediate material 64 is peeled off from the interface between the release film 61 and the wiring pattern 2, and the second substrate 3 and the wiring pattern 2 made of an insulating resin film are removed from the cavity 1. By transferring to the bottom surface and the surface of the first substrate 4, the printed wiring board with a cavity in the fifth embodiment can be obtained.

本発明にかかるキャビティ基板は、部品実装後の実装体としての基板総厚を薄く形成することができるため、パソコン、デジタルカメラ、携帯電話など小型、薄型、軽量、高精細、多機能化等に対応するためのパッケージ基板として用いることができ、半導体パッケージの低背化、三次元実装化を容易に実現する方法の一つとして、これらの実装基板に関する用途に適用できる。   Since the cavity substrate according to the present invention can be formed with a thin total substrate thickness as a mounting body after component mounting, such as a personal computer, a digital camera, a mobile phone, etc., small, thin, lightweight, high definition, multi-functionality, etc. It can be used as a package substrate to cope with, and can be applied to applications related to these mounting substrates as one of the methods for easily realizing a low profile and three-dimensional mounting of a semiconductor package.

本発明の実施の形態1における配線基板を示す断面図Sectional drawing which shows the wiring board in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態2における配線基板を示す断面図Sectional drawing which shows the wiring board in Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3における配線基板を示す断面図Sectional drawing which shows the wiring board in Embodiment 3 of this invention 本発明の実施の形態4における配線基板を示す断面図Sectional drawing which shows the wiring board in Embodiment 4 of this invention 本発明の実施の形態5における配線基板を示す断面図Sectional drawing which shows the wiring board in Embodiment 5 of this invention 本発明の実施の形態1における配線基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional drawing which shows the manufacturing method of the wiring board in Embodiment 1 of this invention 本発明の実施の形態2における配線基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional drawing which shows the manufacturing method of the wiring board in Embodiment 2 of this invention 本発明の実施の形態3における配線基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional drawing which shows the manufacturing method of the wiring board in Embodiment 3 of this invention 本発明の実施の形態4における配線基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional drawing which shows the manufacturing method of the wiring board in Embodiment 4 of this invention 本発明の実施の形態5における配線基板の製造方法を示す工程断面図Process sectional drawing which shows the manufacturing method of the wiring board in Embodiment 5 of this invention 従来の技術における配線基板を示す断面図Sectional view showing a wiring board in the prior art 従来の技術における配線基板を示す断面図Sectional view showing a wiring board in the prior art

符号の説明Explanation of symbols

1 キャビティ
2 配線パターン
3 第2の基板
4 第1の基板
5 第3の基板
6 配線パターン
7 ビアホール
61 剥離フィルム
62 変形層
63 カバーシート
64 プレス中間材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cavity 2 Wiring pattern 3 2nd board | substrate 4 1st board | substrate 5 3rd board | substrate 6 Wiring pattern 7 Via hole 61 Release film 62 Deformation layer 63 Cover sheet 64 Press intermediate material

Claims (16)

貫通空隙が形成された第1の基板と、前記第1の基板が積層され前記貫通空隙の底部を形成する第2の基板と、前記第2の基板に積層される第3の基板とで構成される、部品を実装、収納するための凹部が形成されたキャビティつきプリント配線基板において、前記凹部表面の配線と、その配線と接続される前記第1の基板の表面の配線が、前記第1の基板の空隙部側壁面を経由して形成された同一の配線パターンであり、かつ前記凹部表面の配線と前記第2の基板の裏面に積層される第3の基板とが、導電性ペーストが充填されたビアホールを介して接続されていることを特徴とするキャビティ付きプリント配線基板。 A first substrate in which a through gap is formed, a second substrate on which the first substrate is stacked to form the bottom of the through gap, and a third substrate that is stacked on the second substrate In the printed wiring board with a cavity in which a recess for mounting and storing a component is formed, the wiring on the surface of the recess and the wiring on the surface of the first substrate connected to the wiring are the first A conductive paste is formed between the wiring on the concave surface and the third substrate laminated on the back surface of the second substrate. A printed wiring board with a cavity, which is connected through a filled via hole. 貫通空隙が形成された第1の基板と、前記第1の基板が積層され前記貫通空隙の底部を形成する第2の基板と、前記第2の基板に積層される第3の基板とで構成される、部品を実装、収納するための凹部が形成されたキャビティつきプリント配線基板において、前記凹部表面の配線と、その配線と接続される前記第1の基板の表面の配線が、前記第1の基板の側壁面を中空に経由して形成された同一の配線パターンであり、かつ前記凹部表面の配線と前記第2の基板の裏面に積層される第3の基板とが、導電性ペーストが充填されたビアホールを介して接続されていることを特徴とするキャビティ付きプリント配線基板。 A first substrate in which a through gap is formed, a second substrate on which the first substrate is stacked to form the bottom of the through gap, and a third substrate that is stacked on the second substrate In the printed wiring board with a cavity in which a recess for mounting and storing a component is formed, the wiring on the surface of the recess and the wiring on the surface of the first substrate connected to the wiring are the first A conductive paste formed of the same wiring pattern formed through the side wall surface of the substrate and the third substrate laminated on the back surface of the second substrate. A printed wiring board with a cavity, which is connected through a filled via hole. 貫通空隙が形成された第1の基板と、前記第1の基板が積層され前記貫通空隙の底部を形成する第2の基板と、前記第2の基板に積層される第3の基板とで構成される、部品を実装、収納するための凹部が形成されたキャビティつきプリント配線基板において、前記凹部表面の配線と、その配線と接続される前記第1の基板の表面の配線が、前記凹部側壁近傍に形成されたビアホールを介して接続される配線ネットを含む、請求項1または2に記載のキャビティ付きプリント配線基板。 A first substrate in which a through gap is formed, a second substrate on which the first substrate is stacked to form the bottom of the through gap, and a third substrate that is stacked on the second substrate In a printed wiring board with a cavity in which a recess for mounting and housing a component is formed, the wiring on the surface of the recess and the wiring on the surface of the first substrate connected to the wiring are connected to the side wall of the recess. The printed wiring board with a cavity according to claim 1, comprising a wiring net connected via a via hole formed in the vicinity. 貫通空隙が形成された第1の基板と、前記第1の基板に積層され前記貫通空隙の底部を形成する第2の基板と、前記第2の基板に積層される第3の基板とで構成される、部品を実装、収納するための凹部が形成されたキャビティつきプリント配線基板において、前記凹部を構成する面が絶縁性樹脂フィルムからなる第2の基板で被覆され、前記凹部表面の配線と、その配線と接続されかつ前記第1の基板の表面に被覆するように形成された前記第2の基板の表面の配線とが同一の配線パターンであり、かつ前記凹部表面の配線と前記第2の基板の裏面に積層される前記第3の基板とが、導電性ペーストが充填されたビアホールを介して接続されていることを特徴とするキャビティ付きプリント配線基板。 A first substrate in which a through gap is formed, a second substrate that is stacked on the first substrate and forms the bottom of the through gap, and a third substrate that is stacked on the second substrate In the printed wiring board with cavities formed with recesses for mounting and housing components, the surface constituting the recesses is covered with a second substrate made of an insulating resin film, and the wiring on the surface of the recesses The wiring on the surface of the second substrate connected to the wiring and formed to cover the surface of the first substrate has the same wiring pattern, and the wiring on the surface of the recess and the second A printed wiring board with a cavity, wherein the third board laminated on the back surface of the board is connected via a via hole filled with a conductive paste. 貫通空隙が形成された第1の基板と、前記第1の基板に積層され前記貫通空隙の底部を形成する第2の基板と、前記第2の基板に積層される第3の基板とで構成される、部品を実装、収納するための凹部が形成されたキャビティつきプリント配線基板において、前記凹部を構成する面のうち、凹部側壁面上のみ中空で、それ以外の部分は絶縁性樹脂フィルムからなる第2の基板で被覆され、前記凹部表面の配線と、その配線と接続されかつ前記第1の基板の表面に被覆するように形成された前記第2の配線基板表面の配線が、同一の配線パターンであり、かつ前記凹部表面の配線と前記第2の基板の裏面に積層される前記第3の基板とが、導電性ペーストが充填されたビアホールを介して接続されていることを特徴とするキャビティ付きプリント配線基板。 A first substrate in which a through gap is formed, a second substrate that is stacked on the first substrate and forms the bottom of the through gap, and a third substrate that is stacked on the second substrate In a printed wiring board with a cavity in which a recess for mounting and housing a component is formed, of the surfaces constituting the recess, only the recess side wall surface is hollow, and the other portions are made of an insulating resin film. The wiring on the surface of the concave portion and the wiring on the surface of the second wiring substrate connected to the wiring and formed on the surface of the first substrate are the same. It is a wiring pattern, and the wiring on the surface of the concave portion and the third substrate laminated on the back surface of the second substrate are connected through a via hole filled with a conductive paste. Pre with cavity Door wiring board. 凹部表面の配線と、その配線と接続される前記第2の基板の表面の配線が、少なくとも金、銀、銅、アルミニウムから選ばれる延性に富んだ金属であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のキャビティ付きプリント配線基板。 The wiring on the surface of the recess and the wiring on the surface of the second substrate connected to the wiring are at least a ductile metal selected from gold, silver, copper, and aluminum. The printed wiring board with a cavity in any one of -5. 凹部を有する面を被覆する絶縁性樹脂フィルムは、少なくともポリイミド、ポリアミド、液晶ポリマー、から選ばれる高耐熱性樹脂フィルムであることを特徴とする、請求項4〜6のいずれかに記載のキャビティ付きプリント配線基板。 The insulating resin film covering the surface having a recess is a high heat-resistant resin film selected from at least polyimide, polyamide, and liquid crystal polymer, with a cavity according to any one of claims 4 to 6, Printed wiring board. 前記絶縁性樹脂フィルムの少なくとも片面に、半硬化状態の接着樹脂が塗布されていることを特徴とする、請求項4,5、7のいずれか一つに記載のキャビティ付きプリント配線基板。 The printed wiring board with a cavity according to any one of claims 4, 5, and 7, wherein a semi-cured adhesive resin is applied to at least one surface of the insulating resin film. 離型フィルムと変形層とカバーシートの3層からなるプレス中間材の離型フィルム面に所望の配線を形成する工程と、貫通孔加工し導電性ペーストを充填して第2の基板を形成する工程と、前記配線形成済みプレス中間材と凹部側壁部を形成する第1の基板と前記第2の基板と第3の基板とを位置あわせしつつ重ね合わせる工程と、熱プレスにて一体積層しつつ、形成された凹部表面で前記第2の基板に形成したビアの接続を同時に行う工程と、プレス中間材を引き剥がすことにより、配線を前記第2の基板表面と前記第1の基板の表面ならびに凹部側壁面とに転写する工程とを有するキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 A step of forming a desired wiring on a release film surface of a press intermediate material composed of a release film, a deformation layer, and a cover sheet, and forming a second substrate by processing through holes and filling with a conductive paste A step of superimposing the wiring formed press intermediate material, the first substrate forming the recess side wall portion, the second substrate, and the third substrate while aligning them, and heat lamination Meanwhile, the step of simultaneously connecting the vias formed on the second substrate on the surface of the formed recess, and the press intermediate material is peeled off, thereby wiring the second substrate surface and the surface of the first substrate. And a method of manufacturing a printed wiring board with a cavity having a step of transferring to the side wall surface of the recess. 離型フィルムと変形層とカバーシートの3層からなるプレス中間材の離型フィルム面に所望の配線を形成する工程と、貫通孔加工し導電性ペーストを充填して第2の基板を形成する工程と、前記配線形成済みプレス中間材と凹部側壁部を形成する第1の基板と前記第2の基板と第3の基板とを位置あわせしつつ重ね合わせる工程と、熱プレスにて一体積層しつつ、形成された凹部表面で前記第2の基板に形成したビアの接続を同時に行う工程と、プレス中間材を引き剥がすことにより、配線を前記第1の基板表面と前記第2の基板の表面に転写する工程とを有するキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 A step of forming a desired wiring on a release film surface of a press intermediate material composed of a release film, a deformation layer, and a cover sheet, and forming a second substrate by processing through holes and filling with a conductive paste A step of superimposing the wiring formed press intermediate material, the first substrate forming the recess side wall portion, the second substrate, and the third substrate while aligning them, and heat lamination Meanwhile, the step of simultaneously connecting the vias formed on the second substrate on the surface of the formed recess and the surface of the first substrate and the surface of the second substrate by peeling the press intermediate material A method of manufacturing a printed wiring board with a cavity having a process of transferring to a cavity. 離型フィルムと変形層とカバーシートの3層からなるプレス中間材の離型フィルム面に所望の配線を形成する工程と、貫通孔加工し導電性ペーストを充填して第2の基板を形成する工程と、凹部側壁材となる第1の基板に貫通孔加工し導電性ペーストを充填する工程と、前記配線形成済みプレス中間材とビア形成済みの前記第1の基板と前記第2の基板と第3の基板とを位置あわせしつつ重ね合わせる工程と、熱プレスにて一体積層しつつ、形成された凹部表面で前記第2の基板に形成したビアと第1の基板に形成したビアの接続を同時に行う工程と、プレス中間材を引き剥がすことにより、配線を少なくとも前記凹部表面と第1の基板表面に転写する工程とを有するキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 A step of forming a desired wiring on a release film surface of a press intermediate material composed of a release film, a deformation layer, and a cover sheet, and forming a second substrate by processing through holes and filling with a conductive paste A process, a process of filling a conductive paste with a through hole in a first substrate to be a recess side wall material, the first intermediate substrate with the wiring formed, the first substrate with the via formed, and the second substrate; A step of overlaying while aligning with the third substrate, and a connection between the via formed in the second substrate and the via formed in the first substrate on the surface of the formed recess while being integrally laminated by hot pressing A method of manufacturing a printed wiring board with a cavity, which includes a step of simultaneously performing the steps of: and transferring a wiring to at least the concave portion surface and the first substrate surface by peeling off the press intermediate material. 離型フィルムと変形層とカバーシートの3層からなるプレス中間材の離型フィルム面に所望の配線を形成する工程と、絶縁性樹脂フィルムに貫通孔加工し導電性ペーストを充填して第2の基板を形成する工程と、前記配線形成済みプレス中間材と前記第2の基板と凹部側壁材となる第1の基板と第3の基板とを位置あわせしつつ重ね合わせる工程と、熱プレスにて一体積層しつつ、形成された凹部表面で前記第2の基板と前記第3の基板とをビアで接続を同時に行う工程と、前記プレス中間材を引き剥がすことにより、配線と絶縁性樹脂フィルムを前記凹部表面と基板表面と凹部側壁面に転写する工程とを有するキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 A step of forming a desired wiring on the surface of the release film of the press intermediate material composed of the release film, the deformation layer, and the cover sheet; and processing the through holes in the insulating resin film and filling the conductive paste with the second. A step of forming the substrate, a step of superimposing the wiring formed press intermediate material, the second substrate, and the first substrate and the third substrate serving as the recess side wall material while aligning them, and hot pressing And the step of simultaneously connecting the second substrate and the third substrate with vias on the surface of the formed recess while integrally laminating, and by peeling off the press intermediate material, the wiring and the insulating resin film A method of manufacturing a printed wiring board with a cavity, which includes a step of transferring the surface to the recess surface, the substrate surface, and the recess side wall surface. 離型フィルムと変形層とカバーシートの3層からなるプレス中間材の離型フィルム面に所望の配線を形成する工程と、絶縁性樹脂フィルムに貫通孔加工し導電性ペーストを充填して第2の基板を形成する工程と、前記配線形成済みプレス中間材と前記第2の基板と凹部側壁材となる前記第1の基板と第3の基板を、熱プレスにて一体積層しつつ、形成された凹部表面で配線と第2のプリント配線板を前記絶縁性樹脂フィルムに形成したビアで接続を同時に行う工程と、プレス中間材を引き剥がすことにより、配線と絶縁性樹脂フィルムを前記凹部表面と基板表面に転写する工程とを有するキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 A step of forming a desired wiring on the surface of the release film of the press intermediate material composed of the release film, the deformation layer, and the cover sheet; and processing the through holes in the insulating resin film and filling the conductive paste with the second. Forming the substrate, and forming the wiring formed press intermediate material, the second substrate, and the first substrate and the third substrate to be the concave side wall material by integrally laminating them by hot pressing. A step of simultaneously connecting the wiring and the second printed wiring board with the via formed in the insulating resin film on the surface of the recessed portion, and peeling the press intermediate material to connect the wiring and the insulating resin film to the surface of the recessed portion. A method of manufacturing a printed wiring board with a cavity, comprising a step of transferring to a substrate surface. 前記プレス中間材のうち、少なくとも変形層が結晶性ポリオレフィンからなることを特徴とする、請求項9〜13のいずれか一つに記載のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 The method for producing a printed wiring board with a cavity according to any one of claims 9 to 13, wherein at least the deformation layer of the press intermediate material is made of crystalline polyolefin. 前記プレス中間材のうち、少なくとも変形層がプリプレグからなることを特徴とする、請求項9〜13のいずれか一つに記載のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 The method for manufacturing a printed wiring board with a cavity according to any one of claims 9 to 13, wherein at least the deformation layer of the press intermediate material is made of a prepreg. 前記プレス中間材のうち、少なくとも変形層とカバーシートが樹脂付き銅箔からなることを特徴とする、請求項9〜13のいずれか一つに記載のキャビティ付きプリント配線基板の製造方法。 The method for producing a printed wiring board with a cavity according to any one of claims 9 to 13, wherein at least the deformable layer and the cover sheet are made of a resin-coated copper foil among the press intermediate material.
JP2007076321A 2007-03-23 2007-03-23 Printed wiring board with cavity and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP5194505B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007076321A JP5194505B2 (en) 2007-03-23 2007-03-23 Printed wiring board with cavity and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007076321A JP5194505B2 (en) 2007-03-23 2007-03-23 Printed wiring board with cavity and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008235761A true JP2008235761A (en) 2008-10-02
JP5194505B2 JP5194505B2 (en) 2013-05-08

Family

ID=39908175

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007076321A Expired - Fee Related JP5194505B2 (en) 2007-03-23 2007-03-23 Printed wiring board with cavity and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5194505B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112010001165T5 (en) 2009-03-16 2012-01-26 Panasonic Corporation Screen printing machine and screen printing process
US20120107489A1 (en) * 2010-11-03 2012-05-03 International Business Machines Corporation Cartridge Block for Multilayer Ceramic Screening
DE112010002902T5 (en) 2009-07-13 2012-06-14 Panasonic Corporation Screen printing device and screen printing process
DE112010002844T5 (en) 2009-07-08 2012-06-28 Panasonic Corp. Screen printing device and screen printing process
DE112010001715T5 (en) 2009-04-24 2012-08-16 Panasonic Corporation Screen printing device and screen printing process
DE112010001113T5 (en) 2009-03-16 2012-09-13 Panasonic Corp. Screen printing machine and method for cleaning the screen printing machine
CN102700275A (en) * 2012-05-25 2012-10-03 北京时代民芯科技有限公司 Method for printing soldering paste on device with cavity

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60100454A (en) * 1983-11-05 1985-06-04 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of printed circuit board
JPH02141233A (en) * 1988-11-22 1990-05-30 Toyo Metaraijingu Kk Laminated transfer film for printed wiring board
JPH0997964A (en) * 1995-09-29 1997-04-08 Sony Corp Printed-wiring board and its manufacture
JP2001024333A (en) * 1999-07-12 2001-01-26 Sony Chem Corp Multilayer board and module
JP2001274324A (en) * 2000-03-24 2001-10-05 Hitachi Chem Co Ltd Semiconductor mounting substrate for multilayer semiconductor device, and semiconductor device and multilayer semiconductor device
WO2003098984A1 (en) * 2002-05-21 2003-11-27 Daiwa Co., Ltd. Interlayer connection structure and its building method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60100454A (en) * 1983-11-05 1985-06-04 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of printed circuit board
JPH02141233A (en) * 1988-11-22 1990-05-30 Toyo Metaraijingu Kk Laminated transfer film for printed wiring board
JPH0997964A (en) * 1995-09-29 1997-04-08 Sony Corp Printed-wiring board and its manufacture
JP2001024333A (en) * 1999-07-12 2001-01-26 Sony Chem Corp Multilayer board and module
JP2001274324A (en) * 2000-03-24 2001-10-05 Hitachi Chem Co Ltd Semiconductor mounting substrate for multilayer semiconductor device, and semiconductor device and multilayer semiconductor device
WO2003098984A1 (en) * 2002-05-21 2003-11-27 Daiwa Co., Ltd. Interlayer connection structure and its building method

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112010001113T5 (en) 2009-03-16 2012-09-13 Panasonic Corp. Screen printing machine and method for cleaning the screen printing machine
US8720331B2 (en) 2009-03-16 2014-05-13 Panasonic Corporation Screen printing apparatus and method for printing of circuit board including a mask having two different patterns for printing different parts of the circuit board in separate printing steps
DE112010001165T5 (en) 2009-03-16 2012-01-26 Panasonic Corporation Screen printing machine and screen printing process
US8714084B2 (en) 2009-04-24 2014-05-06 Panasonic Corporation Screen printing apparatus and screen printing method
DE112010001715T5 (en) 2009-04-24 2012-08-16 Panasonic Corporation Screen printing device and screen printing process
DE112010002844T5 (en) 2009-07-08 2012-06-28 Panasonic Corp. Screen printing device and screen printing process
US8695497B2 (en) 2009-07-08 2014-04-15 Panasonic Corporation Screen printing apparatus and method for printing of substrate in two stages including two printing masks and two closed squeegees
DE112010002902T5 (en) 2009-07-13 2012-06-14 Panasonic Corporation Screen printing device and screen printing process
US8757059B2 (en) 2009-07-13 2014-06-24 Panasonic Corporation Screen printing apparatus and screen printing method
US8642116B2 (en) * 2010-11-03 2014-02-04 International Business Machines Corporation Cartridge block for multilayer ceramic screening
US20120107489A1 (en) * 2010-11-03 2012-05-03 International Business Machines Corporation Cartridge Block for Multilayer Ceramic Screening
US9283589B2 (en) 2010-11-03 2016-03-15 International Business Machines Corporation Cartridge block for multilayer ceramic screening
US9327305B2 (en) 2010-11-03 2016-05-03 International Business Machines Corporation Cartridge block for multilayer ceramic screening
CN102700275A (en) * 2012-05-25 2012-10-03 北京时代民芯科技有限公司 Method for printing soldering paste on device with cavity

Also Published As

Publication number Publication date
JP5194505B2 (en) 2013-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4876272B2 (en) Printed circuit board and manufacturing method thereof
JP4874305B2 (en) Circuit board with built-in electric / electronic components and manufacturing method thereof
US10327340B2 (en) Circuit board, production method of circuit board, and electronic equipment
JP5194505B2 (en) Printed wiring board with cavity and manufacturing method thereof
WO2010103941A1 (en) Flexible substrate
JP6880429B2 (en) Built-in element type printed circuit board and its manufacturing method
JP2008016817A (en) Buried pattern substrate and its manufacturing method
US20040070959A1 (en) Multi-layer board, its production method, and mobile device using multi-layer board
JP2016134624A (en) Electronic element built-in printed circuit board and manufacturing method therefor
JP2010157664A (en) Circuit substrate with electric and electronic component incorporated therein, and method of manufacturing the same
JP2008153360A (en) Adhesive sheet for capacitor and method of manufacturing built-in capacitor printed wiring board using same
US20050011677A1 (en) Multi-layer flexible printed circuit board, and method for fabricating it
KR101131289B1 (en) Rigid-Flexible substrate comprising embedded electronic component within and Fabricating Method the same
TWI433630B (en) Method for manufacturing multilayer flexible wiring board
JP2010016338A (en) Multilayer flexible printed wiring board and display element module using the same, and method of manufacturing the same
JP2019067864A (en) Method for manufacturing printed wiring board
JP4389756B2 (en) Manufacturing method of multilayer flexible printed wiring board
JP7031955B2 (en) Circuit board manufacturing method
US11096273B2 (en) Printed circuit boards including a rigid region on which devices or connectors are to be mounted and a flexible region that is bendable, and methods of manufacturing same
KR20120019144A (en) Method for manufacturing a printed circuit board
JP2008311553A (en) Method for manufacturing compound multilayer printed-wiring board
JP2011222962A (en) Print circuit board and method of manufacturing the same
JP5836019B2 (en) Component built-in substrate and manufacturing method thereof
JP4389751B2 (en) Manufacturing method of flexible printed wiring board
JP2012209356A (en) Electronic component built-in substrate, composite module, and manufacturing method of electronic component built-in substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091224

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20100113

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120110

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120309

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120828

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121018

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20121213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130108

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130121

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160215

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160215

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees