JP2008231407A - Radiation-curable adhesive composition, composite body, and manufacturing method for composite body - Google Patents

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哲也 山村
Tadashi Okamoto
匡史 岡本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-curable adhesive composition capable of easily adhering a molded body of PVA based resin and the other body to be adhered, and forming a composite body (laminated film or the like) excellent in cutting-resistance, moist/heat-resistance and adhesion strength. <P>SOLUTION: The composition contains (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a compound having a molecular weight of 500 or higher and containing at least one hydroxyl group, and (C) an optical acid generating agent. The composite body 1 is formed by laminating an adherend 3 onto one surface of the PVA based molded body 2 through an adhesive layer 4 comprising a cured product of the radiation-curable adhesive composition. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、放射線硬化性接着剤組成物、該放射線硬化性接着剤組成物を用いて形成した複合体、及び該複合体の製造方法に関する。   The present invention relates to a radiation curable adhesive composition, a composite formed using the radiation curable adhesive composition, and a method for producing the composite.

従来より、ガスバリア性に優れた積層フィルムが知られている。
例えば、透明プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に透明プライマー層、厚さ5〜300nmの無機酸化物からなる薄膜層、水性高分子と、(a)1種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物又は、(b)塩化錫、の少なくとも一方を含む水溶液或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバリア被膜層を順次積層し、更に接着剤を介してシール層としてポリオレフィン系熱可塑性樹脂層を積層したことを特徴とするボイル・レトルト用強密着透明積層体が提案されている(特許文献1)。
Conventionally, a laminated film excellent in gas barrier properties is known.
For example, a transparent primer layer on at least one surface of a substrate made of a transparent plastic material, a thin film layer made of an inorganic oxide having a thickness of 5 to 300 nm, an aqueous polymer, and (a) one or more metal alkoxides and hydrolysates thereof Alternatively, (b) a gas barrier coating layer formed by applying a coating agent mainly composed of an aqueous solution containing at least one of tin chloride or a water / alcohol mixed solution, followed by heating and drying, and then sealing through an adhesive. A strong adhesion transparent laminate for boil and retort characterized by laminating a polyolefin-based thermoplastic resin layer as a layer has been proposed (Patent Document 1).

また、23℃、相対湿度60%における酸素透過率(A)と、23℃、相対湿度80%における酸素透過率(B)の比(B)/(A)が2.0以上であるガスバリア性フィルムと、シーラントフィルムとを貼り合わせたラミネートフィルムであって、該ガスバリア性フィルムとシーラントフィルムとのラミネートに用いる接着剤が、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤を主成分とするラミネート用接着剤であり、且つ該ラミネート用接着剤により形成されるエポキシ樹脂硬化物中に含有される(1)式に示される骨格構造が40重量%以上であることを特徴とするラミネートフィルムが提案されている(特許文献2)。
特開平10−722号公報 特開2003−251752号公報
And a gas barrier film having a ratio (B) / (A) of 2.0 or more between the oxygen transmission rate (A) at 23 ° C. and a relative humidity of 60% and the oxygen transmission rate (B) at 23 ° C. and a relative humidity of 80%; A laminate film bonded with a sealant film, wherein the adhesive used for laminating the gas barrier film and the sealant film is a laminate adhesive mainly composed of an epoxy resin and an epoxy resin curing agent, and There has been proposed a laminate film characterized in that the skeleton structure represented by the formula (1) contained in the cured epoxy resin formed by the laminating adhesive is 40% by weight or more (Patent Document 2). ).
Japanese Patent Laid-Open No. 10-722 JP 2003-251752 A

一般に、積層フィルム(例えば、ガスバリアフィルム)を製品化する際に、耐裁断性に優れることが求められている。すなわち、積層フィルムは、通常、使用目的に合ったサイズに裁断して用いられるものであるが、この裁断時に、裁断部分(裁断後の端部)において剥離(接着剤層の欠け)が生じることがあるという問題がある。この剥離は、剥離部分のガスバリア性能を阻害するだけでなく、ガスバリアフィルムの吸湿を促進し、高温高湿下等での変形を引き起こす恐れがある。
また、積層フィルムは、耐湿熱性や、被着体−接着剤層間の接着強度等に優れることも求められている。
本発明は、上述の背景に鑑みてなされたものであって、例えば、PVA系樹脂からなる成形体と、該PVA系樹脂からなる成形体と同種または異種の被着体とを、簡易な製造工程で短時間に接着することができるとともに、耐裁断性、耐湿熱性及び被着体−接着剤層間の接着強度等に優れた複合体(積層フィルム等)を形成することのできる放射線硬化性接着剤用組成物を提供することを目的とする。
Generally, when a laminated film (for example, a gas barrier film) is commercialized, it is required to have excellent cutting resistance. That is, the laminated film is usually used after being cut to a size suitable for the purpose of use, but at the time of this cutting, peeling (chip part of the adhesive layer) occurs at the cutting part (end after cutting). There is a problem that there is. This peeling not only hinders the gas barrier performance of the peeled portion, but also promotes moisture absorption of the gas barrier film and may cause deformation under high temperature and high humidity.
In addition, the laminated film is also required to be excellent in heat and humidity resistance, adhesion strength between the adherend and the adhesive layer, and the like.
The present invention has been made in view of the above-mentioned background. For example, a molded body made of a PVA-based resin, and an adherend of the same or different type as the molded body made of the PVA-based resin can be easily manufactured. Radiation curable adhesion that can form composites (laminated films, etc.) that can be bonded in a short time in the process, and that are excellent in cutting resistance, moisture and heat resistance, and adhesion strength between adherend and adhesive layer, etc. An object is to provide a pharmaceutical composition.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の成分を含む放射線硬化性接着剤用組成物を用いると、例えば、PVA系樹脂からなる成形体と、該PVA系樹脂からなる成形体と同種または異種の被着体とを、簡易な製造工程で短時間で接着することができるとともに、耐裁断性、耐湿熱性、及び被着体−接着剤層間の接着強度等に優れた複合体を形成することができることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor, for example, uses a radiation-curable adhesive composition containing a specific component, for example, from a molded body made of a PVA resin and the PVA resin. Can be bonded to the same type or different types of adherends in a short time with a simple manufacturing process, and is excellent in cutting resistance, moist heat resistance, adhesion strength between adherend and adhesive layer, etc. The present invention was completed.

すなわち、本発明は、以下の[1]〜[6]を提供するものである。
[1] (A)脂環式エポキシ化合物、(B)ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の数平均分子量が500以上であり、かつ、水酸基を少なくとも1つ含有する化合物、及び(C)光酸発生剤、を含むことを特徴とする放射線硬化性接着剤用組成物。
[2] 上記(B)成分は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の数平均分子量が1,000以上の分子量を有し、かつ、水酸基を1個以上含有する化合物である前記[1]に記載の放射線硬化性接着剤用組成物。
[3] 上記放射線硬化性接着剤用組成物は、厚さが200μmである硬化物とした場合の波長550nmの光の透過率が70%以上のものである前記[1]又は[2]に記載の放射線硬化性接着剤用組成物。
[4] 上記放射線硬化性接着剤用組成物が、下記一般式(1)で表される構造を含むポリビニルアルコール系樹脂からなるPVA系成形体と、該PVA系成形体と同種又は異種の被着体との接着に用いるための組成物である前記[1]〜[3]のいずれかに記載の放射線硬化性接着剤用組成物。

Figure 2008231407
(式中、nは0〜4の整数である。)
[5] 下記一般式(1)で表される構造を含むポリビニルアルコール系樹脂からなるPVA系成形体の表面に、接着剤層を介して、上記PVA系成形体と同種又は異種の被着体を接着してなる複合体であって、上記接着剤層が、前記[4]に記載の放射線硬化性接着剤用組成物の硬化物からなる複合体。
Figure 2008231407
(式中、nは0〜4の整数である。)
[6] 上記PVA系成形体と同種又は異種の被着体が、ノルボルネン系樹脂フィルムである前記[5]に記載の複合体。
[7] 前記[5]又は[6]に記載の複合体の製造方法であって、上記PVA系成形体の表面に、上記PVA系成形体と同種又は異種の被着体を、放射線硬化性接着剤用組成物を介して積層する積層工程と、上記放射線硬化性接着剤用組成物に放射線を照射して硬化させ、上記複合体を得る放射線硬化工程を含む複合体の製造方法。 That is, the present invention provides the following [1] to [6].
[1] (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a compound having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 500 or more as measured by gel permeation chromatography, and containing at least one hydroxyl group, and (C) A composition for a radiation curable adhesive, comprising a photoacid generator.
[2] The component (B) is a compound having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 1,000 or more measured by gel permeation chromatography and containing one or more hydroxyl groups. ] The composition for radiation-curable adhesives of description.
[3] In the above [1] or [2], the radiation curable adhesive composition has a light transmittance of 550 nm when the cured product has a thickness of 200 μm. The composition for radiation-curable adhesives described.
[4] A PVA-based molded article comprising a polyvinyl alcohol-based resin having a structure represented by the following general formula (1), wherein the radiation-curable adhesive composition is the same or different from the PVA-based molded article. The composition for a radiation curable adhesive according to any one of the above [1] to [3], which is a composition for use in adhesion to an adherend.
Figure 2008231407
(In the formula, n is an integer of 0 to 4.)
[5] An adherend of the same or different type as that of the PVA-based molded body is provided on the surface of a PVA-based molded body made of a polyvinyl alcohol-based resin having a structure represented by the following general formula (1) via an adhesive layer. Wherein the adhesive layer is made of a cured product of the radiation-curable adhesive composition according to [4].
Figure 2008231407
(In the formula, n is an integer of 0 to 4.)
[6] The composite according to [5], wherein the adherend of the same or different type as the PVA-based molded body is a norbornene-based resin film.
[7] The method for producing a composite according to [5] or [6], wherein an adherend of the same or different type as the PVA-based molded body is applied to the surface of the PVA-based molded body. A method for producing a composite comprising a laminating step of laminating via an adhesive composition and a radiation curing step of irradiating and curing the radiation curable adhesive composition to obtain the composite.

本発明の放射線硬化性接着剤用組成物は、特定の成分を含むため、例えば、PVA系成形体と、該PVA系成形体と同種又は異種の被着体との接着に好適である。特に、被着体としてノルボルネン系樹脂フィルムを用いた場合であっても、良好な接着強度を得ることができ、この場合、優れたガスバリア性と、低い透湿性(低水分透過性)とを両立することができる。
また、本発明の複合体は、接着剤層が特定の成分を有する放射線硬化性接着剤用組成物の硬化物からなるため、優れた耐裁断性(裁断時に、接着剤層の剥離を生じないこと)、耐湿熱性、及び被着体−接着剤層間の接着性等を有する。
さらに、本発明の複合体の製造方法によると、例えば、PVA系成形体の表面に被着体を、放射線硬化性接着剤用組成物を介して積層し、該放射線硬化性接着剤用組成物を光照射して硬化させるだけで複合体(例えば、積層フィルムであるガスバリアフィルム)を形成することができ、複合体の製造効率の向上を図ることができる。
Since the composition for radiation-curable adhesives of the present invention contains a specific component, for example, it is suitable for adhesion between a PVA-based molded body and an adherend of the same or different type from the PVA-based molded body. In particular, even when a norbornene resin film is used as the adherend, good adhesive strength can be obtained. In this case, both excellent gas barrier properties and low moisture permeability (low moisture permeability) are achieved. can do.
Moreover, since the composite of the present invention is made of a cured product of a radiation-curable adhesive composition having a specific component in the adhesive layer, it has excellent cutting resistance (the adhesive layer does not peel off during cutting). ), Heat and humidity resistance, adhesion between the adherend and the adhesive layer, and the like.
Furthermore, according to the method for producing a composite of the present invention, for example, an adherend is laminated on the surface of a PVA-based molded body via a radiation curable adhesive composition, and the radiation curable adhesive composition is laminated. A composite (for example, a gas barrier film that is a laminated film) can be formed simply by irradiating and curing the light, and the production efficiency of the composite can be improved.

まず、本発明の放射線硬化性接着剤用組成物について詳しく説明する。
本発明の放射線硬化性接着剤用組成物は、下記の成分(A)〜(C)及びその他の任意成分を含むものである。
[成分(A)]
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分(A)は、脂環式エポキシ化合物、好ましくは1分子中に2個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物である。1分子中に2個以上の脂環式エポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物を成分(A)の全量中に50質量%以上含有すると、より良好な硬化速度や機械的強度を得ることができる。
成分(A)として用いられる脂環式エポキシ化合物の具体例としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシルなどが挙げられる。
First, the radiation curable adhesive composition of the present invention will be described in detail.
The composition for radiation-curable adhesive of the present invention comprises the following components (A) to (C) and other optional components.
[Component (A)]
Component (A) constituting the radiation curable adhesive composition is an alicyclic epoxy compound, preferably an alicyclic epoxy compound having two or more alicyclic epoxy groups in one molecule. When an alicyclic epoxy compound having two or more alicyclic epoxy groups in one molecule is contained in an amount of 50% by mass or more in the total amount of the component (A), a better curing speed and mechanical strength can be obtained. .
Specific examples of the alicyclic epoxy compound used as the component (A) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5 -Spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6 -Methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate, ε-caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylcaprolactone modified 3,4- Epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), diethylene glycol (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxycyclohexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxycyclohexahydrophthalate, and the like.

これらの脂環式エポキシ化合物のうち、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートがより好ましく、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペートがさらに好ましい。   Among these alicyclic epoxy compounds, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, ε-caprolactone modified 3,4-epoxy Cyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylcaprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone modified 3,4-epoxy More preferred is cyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexane Cyclohexylmethyl) adipate is more preferable.

これらの市販品としては、セロキサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、エポリードGT−300、エポリードGT−301、エポリードGT−302、エポリードGT−400、エポリード401、エポリード403(以上、ダイセル化学工業(株)製)などが挙げられる。   These commercially available products include Celoxide 2021, Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, Epolide GT-300, Epolide GT-301, Epolide GT-302, Epolide GT-400, Epolide 401, Epolide 403 (or more, Daicel Chemical Industries, Ltd.).

放射線硬化性接着剤用組成物中の(A)脂環式エポキシ化合物の含有率は、20〜80質量%、好ましくは25〜70質量%、より好ましくは30〜60質量%である。該含有率が20質量%未満の場合、接着剤層の機械的強度及び耐湿熱性が不十分になる傾向がある。上記含有率が80質量%を超えると、放射線硬化性接着剤用組成物を硬化させてなる接着剤層の反り等の変形が大きくなる傾向がある。   The content of the (A) alicyclic epoxy compound in the radiation curable adhesive composition is 20 to 80% by mass, preferably 25 to 70% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass. When the content is less than 20% by mass, the mechanical strength and heat and humidity resistance of the adhesive layer tend to be insufficient. When the said content rate exceeds 80 mass%, there exists a tendency for deformation | transformation, such as curvature of the adhesive bond layer formed by hardening | curing the composition for radiation-curable adhesives to become large.

[成分(B)]
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分(B)は、500以上の分子量を有し、かつ、水酸基を1つ以上含有する化合物である。
成分(B)の数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算値)は、500以上、好ましくは1,000以上である。該分子量の上限値は、特に限定されないが、接着剤用組成物の粘度の過度の増大を防ぐ観点から、好ましくは20,000、より好ましくは10,000である。該分子量が500未満であると、耐裁断性を十分に向上させることができないため、好ましくない。
なお、成分(B)の分子量は、HPC−8220GPC(東ソー製)、カラムTFKgel G4000HXL、G3000HXL、G2000HXLを各2本使用し、テトラヒドロフランを展開溶媒とし、流量1cc/分、40℃で測定したポリスチレン換算の数平均分子量である。
成分(B)として好適に用いられる化合物としては、好ましくは1分子中に1個以上、さらに好ましくは1分子中に1〜4個の水酸基を有するものが挙げられる。これらのうち、好ましくはジオール、及びポリオールであり、より好ましくはポリオールである。成分(B)を用いることにより、耐裁断性に優れた積層フィルムを得ることができる。
[Component (B)]
The component (B) constituting the radiation curable adhesive composition is a compound having a molecular weight of 500 or more and containing one or more hydroxyl groups.
The number average molecular weight of the component (B) (polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC)) is 500 or more, preferably 1,000 or more. Although the upper limit of this molecular weight is not specifically limited, From a viewpoint of preventing the excessive increase in the viscosity of the composition for adhesive agents, Preferably it is 20,000, More preferably, it is 10,000. When the molecular weight is less than 500, the cutting resistance cannot be sufficiently improved, which is not preferable.
The molecular weight of the component (B) was converted to polystyrene using HPC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), two columns TFKgel G4000HXL, G3000HXL, and G2000HXL, using tetrahydrofuran as a developing solvent, and a flow rate of 1 cc / min at 40 ° C. The number average molecular weight of
The compound suitably used as component (B) is preferably a compound having 1 or more hydroxyl groups in one molecule, more preferably 1 to 4 hydroxyl groups in one molecule. Of these, diols and polyols are preferred, and polyols are more preferred. By using the component (B), a laminated film having excellent cutting resistance can be obtained.

成分(B)として好適に用いられる化合物としては、ポリカーボネートジオール、ポリカプトラクトンジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールなどが挙げられる。
ポリカーボネートジオールとしては、例えば、ポリテトラヒドロフランのポリカーボネート、1,6−ヘキサンジオールのポリカーボネート等が挙げられる。これらポリカーボネートジオールの市販品としては、DN−980、981、982、983(以上、日本ポリウレタン社製)、PC−8000(PPG社製)、PC−THF−CD(BASF社製)、C−2050、C−2090(以上、(株)クラレ製)、プラクセルCD CD210PL、プラクセルCD CD220PL(以上、ダイセル化学工業(株)製)などが挙げられる。
Examples of the compound suitably used as the component (B) include polycarbonate diol, polycaptolactone diol, polyether diol, and polyester diol.
Examples of the polycarbonate diol include polytetrahydrofuran polycarbonate and 1,6-hexanediol polycarbonate. Examples of commercially available products of these polycarbonate diols include DN-980, 981, 982, 983 (manufactured by Nippon Polyurethane), PC-8000 (manufactured by PPG), PC-THF-CD (manufactured by BASF), C-2050. C-2090 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), Plaxel CD CD210PL, Plaxel CD CD220PL (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like.

ポリカプロラクトンジオールとしては、例えば、ε−カプロラクトンとジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオールなどが挙げられる。ここで用いられるジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオールなどが挙げられる。これらポリカプロラクトンジオールの市販品としては、プラクセル205、205H、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル化学工業(株)製)などが挙げられる。   Examples of the polycaprolactone diol include polycaprolactone diol obtained by reacting ε-caprolactone and diol. Examples of the diol used here include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, Examples include 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol. Examples of commercially available products of these polycaprolactone diols include Plaxel 205, 205H, 205AL, 212, 212AL, 220, and 220AL (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).

ポリエーテルジオールとしては、脂肪族ポリエーテルジオールが好ましく、例えば、 ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコールなどが挙げられる。これらのポリエーテルジオールの市販品としては、PEG #600、#1000、#1500、#1540、#4000(以上、ライオン社製)、エクセノール720、1020、2020、3020、510、プレミノールPPG4000(以上、旭硝子社製)、などを挙げることができる。   The polyether diol is preferably an aliphatic polyether diol, and examples thereof include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol, polyheptamethylene glycol, and polydecamethylene glycol. Commercial products of these polyether diols include PEG # 600, # 1000, # 1500, # 1540, # 4000 (above, manufactured by Lion), Exenol 720, 1020, 2020, 3020, 510, Preminol PPG4000 (above, Asahi Glass Co., Ltd.).

ポリエステルジオールとしては、脂肪族ジオール化合物と脂肪族ジカルボン酸化合物の共重合体が好ましい。脂肪族ジオール化合物としては、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール等が挙げられ、脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。脂肪族ジオールは1種または2種以上を使用することができ、また、脂肪族ジカルボン酸も1種または2種類以上を使用することができる。これらのポリエステルジオールの市販品としては、クラレポリオールN−2010、O−2010、P−510、P−1010、P−1050、P−2010、P−2050、P−3010、P−3050(以上、クラレ社製)などを挙げることができる。   The polyester diol is preferably a copolymer of an aliphatic diol compound and an aliphatic dicarboxylic acid compound. Examples of the aliphatic diol compound include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3-methyl- 1,5-pentanediol and the like, and examples of the aliphatic dicarboxylic acid include malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid and the like. One or more aliphatic diols can be used, and one or more aliphatic dicarboxylic acids can be used. Commercially available products of these polyester diols include Kuraray polyol N-2010, O-2010, P-510, P-1010, P-1050, P-2010, P-2050, P-3010, P-3050 (or more, Kuraray Co., Ltd.).

上記ポリオールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の3価以上の多価アルコールを、エチレンオキシド(EO)、プロピレンオキシド(PO)、ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン等の環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオールを挙げることができる。このような化合物の具体例としては、EO変性トリメチロールプロパン、PO変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、EO変性グリセリン、PO変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、EO変性ペンタエリスリトール、PO変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、EO変性ソルビトール、PO変性ソルビトール、EO変性スクロース、PO変性スクロース、EO変性スクロース、EO変性クオドール等を例示することができ、これらのうち、EO変性トリメチロールプロパン、PO変性トリメチロールプロパン、PO変性グリセリン、PO変性ソルビトールが好ましい。
上記ポリオールの市販品としては、サンニックスTP−700、サンニックスGP−1000、サンニックスSP−750、サンニックスGP−600(以上、三洋化成(株)製)、等を挙げることができる。
Examples of the polyol include trihydric or higher polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, sorbitol, sucrose, and quadrol, and cyclic compounds such as ethylene oxide (EO), propylene oxide (PO), butylene oxide, and tetrahydrofuran. A polyether polyol obtained by modifying with an ether compound can be mentioned. Specific examples of such compounds include EO-modified trimethylolpropane, PO-modified trimethylolpropane, tetrahydrofuran-modified trimethylolpropane, EO-modified glycerol, PO-modified glycerol, tetrahydrofuran-modified glycerol, EO-modified pentaerythritol, PO-modified pentaerythritol, Tetrahydrofuran-modified pentaerythritol, EO-modified sorbitol, PO-modified sorbitol, EO-modified sucrose, PO-modified sucrose, EO-modified sucrose, EO-modified quadrole, etc. can be exemplified, and among these, EO-modified trimethylolpropane, PO-modified trimethylol Propane, PO-modified glycerin and PO-modified sorbitol are preferred.
Examples of commercially available polyols include Sannix TP-700, Sannix GP-1000, Sannix SP-750, Sannix GP-600 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.), and the like.

また、成分(B)として好適に用いられるポリオールとしては、水酸基含有不飽和化合物の重合体を挙げることができる。上記水酸基含有不飽和化合物としては、水酸基含有(メタ)アクリレートが挙げられ、具体的には、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。   Moreover, as a polyol used suitably as a component (B), the polymer of a hydroxyl-containing unsaturated compound can be mentioned. Examples of the hydroxyl group-containing unsaturated compound include a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. Specifically, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate. 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 1,6- Hexanediol mono (meth) acrylate, neopentylglycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate , Dipentaerythritol penta (meth) acrylate. Furthermore, the compound obtained by addition reaction of glycidyl group containing compounds, such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid is mentioned.

放射線硬化性接着剤用組成物中、成分(B)の含有率は、好ましくは3〜30質量%、より好ましくは5〜20質量%、特に好ましくは7〜15質量%である。該含有率が3質量%未満であると、接着剤層の耐裁断性が劣るため好ましくない。一方、上記含有率が30質量%を超えると、放射線硬化性接着剤用組成物の粘度が高くなりすぎて塗工性が悪くなったり、接着剤層と被着体との接着強度が劣ったりするため、好ましくない。   In the composition for radiation curable adhesive, the content of component (B) is preferably 3 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and particularly preferably 7 to 15% by mass. When the content is less than 3% by mass, the cutting resistance of the adhesive layer is inferior, which is not preferable. On the other hand, if the content exceeds 30% by mass, the viscosity of the radiation-curable adhesive composition becomes too high, resulting in poor coating properties, and poor adhesive strength between the adhesive layer and the adherend. Therefore, it is not preferable.

[成分(C)]
放射線硬化性接着剤用組成物を構成する成分(C)は、光酸発生剤である。
光酸発生剤は、光を受けることによりルイス酸を放出する光カチオン重合開始剤である。
上記光酸発生剤の例として、例えば、下記一般式(2)で表される構造を有するオニウム塩が挙げられる。このオニウム塩は、400nm未満に実質的な光吸収波長を有する。
[R11 12 13 14 Z]s+[MXs+ts− (2)
(式中、カチオンはオニウムイオンであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、ClまたはN≡Nを示し、R11、R12、R13およびR14は、互いに同一または異なる有機基を示す。a、b、cおよびdは、それぞれ0〜3の整数であって、(a+b+c+d)はZ+sの価数に等しい。Mは、ハロゲン化物錯体[MXs+t]の中心原子を構成する金属またはメタロイドを示し、例えばB、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xは例えばF、Cl、Br等のハロゲン原子であり、sはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、tはMの原子価である。)
[Component (C)]
Component (C) constituting the composition for radiation curable adhesive is a photoacid generator.
The photoacid generator is a photocationic polymerization initiator that releases Lewis acid upon receiving light.
Examples of the photoacid generator include an onium salt having a structure represented by the following general formula (2). This onium salt has a substantial light absorption wavelength below 400 nm.
[R 11 a R 12 b R 13 c R 14 d Z] s + [MX s + t] s- (2)
(Wherein the cation is an onium ion, Z represents S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl or N≡N, and R 11 , R 12 , R 13 and R 14 represents an organic group which is the same or different from each other, a, b, c and d are each an integer of 0 to 3, and (a + b + c + d) is equal to the valence of Z + s. MX s + t ] represents a metal or metalloid constituting the central atom of, for example, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is a halogen atom such as F, Cl, Br, etc., s is the net charge of the halide complex ion, and t is the valence of M.)

前記一般式(2)において、オニウムイオンの具体例としては、ジフェニルヨードニウム、4−メトキシジフェニルヨードニウム、ビス(4−メチルフェニル)ヨードニウム、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム等のジアリールヨードニウムや、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウム等のトリアリールスルホニウムや、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)−フェニル]スルフィド、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルホニオ)−フェニル]スルフィド、η−2,4−(シクロペンタジエニル)[1,2,3,4,5,6−η]−(メチルエチル)−ベンゼン]−鉄(1+)等が挙げられる。
前記一般式(2)において、アニオン[MXs+t]の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF )、ヘキサフルオロホスフェート(PF )、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF )、ヘキサフルオロアルセネート(AsF )、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl )等が挙げられる。
また、一般式[MX(OH)]で表されるアニオンを有するオニウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン(ClO )、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン(CFSO )、フルオロスルフォン酸イオン(FSO )、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオン等の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。
In the general formula (2), specific examples of the onium ion include diphenyliodonium, 4-methoxydiphenyliodonium, bis (4-methylphenyl) iodonium, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium, bis (dodecylphenyl). Diaryliodonium such as iodonium, triarylsulfonium such as triphenylsulfonium and diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium, bis [4- (diphenylsulfonio) -phenyl] sulfide, bis [4- (di (4- ( 2-hydroxyethyl) phenyl) sulfonio) -phenyl] sulfide, η 5 -2,4- (cyclopentadienyl) [1,2,3,4,5,6-η]-(methylethyl) -benzene] -Iron (1+) etc. are mentioned.
In the general formula (2), specific examples of the anion [MX s + t ] include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 6 ), hexafluoroantimonate (SbF 6 ), hexafluoroarce. Nate (AsF 6 ), hexachloroantimonate (SbCl 6 ) and the like.
In addition, an onium salt having an anion represented by the general formula [MX e (OH) ] can be used. Further, perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethane sulfonate ion (CF 3 SO 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluene sulfonate ion, trinitrobenzene sulfonate anion, trinitrotoluene sulfonate Onium salts having other anions such as anions can also be used.

成分(C)として用いられるオニウム塩の例としては、例えば特開昭50−151996号公報、特開昭50−158680号公報等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−30899号公報、特開昭56−55420号公報、特開昭55−125105号公報等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭50−158698号公報等に記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭57−192429号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭49−17040号公報等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4, 139, 655号明細書に記載のチオビリリウム塩等が挙げられる。また、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素化合物系開始剤等も挙げることができる。成分(C)として好ましく用いられる光酸発生剤は、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩等であり、より好ましくはトリアリールスルホニウム塩である。   Examples of onium salts used as the component (C) include aromatic halonium salts described in, for example, JP-A-50-151996 and JP-A-50-158680, JP-A-50-151997, VIA group aromatic onium salts described in JP-A-52-30899, JP-A-56-55420, JP-A-55-125105, etc., VA described in JP-A-50-158698, etc. Aromatic aromatic onium salts, oxosulfoxonium salts described in JP-A-56-8428, JP-A-56-149402, JP-A-57-192429, etc., JP-A-49-17040 And aromatic thiobililium salts described in US Pat. No. 4,139,655. Moreover, an iron / allene complex, an aluminum complex / photolytic silicon compound-based initiator, and the like can also be mentioned. The photoacid generator preferably used as the component (C) is an aromatic onium salt such as a diaryl iodonium salt or a triarylsulfonium salt, and more preferably a triarylsulfonium salt.

(C)光酸発生剤の市販品の例としては、UVI−6950、UVI−6970、UVI−6974、UVI−6990(以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプトマーSP−150、SP−151、SP−170、SP−172(以上、旭電化工業(株)製)、Irgacure 261(以上、チバスペシャルティケミカルズ(株)製)、CI−2481、CI−2624、CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達(株)製)、CD−1010、CD−1011、CD−1012(以上、サートマー社製)、DTS−102、DTS−103、NAT−103、NDS−103、TPS−103、MDS−103、MPI−103、BBI−103(以上、みどり化学(株)製)、PCI−061T、PCI−062T、PCI−020T、PCI−022T(以上、日本化薬(株)製)、CPI−110A、CPI−101A(以上、サンアプロ(株))等を挙げることができる。これらのうち、UVI−6970、UVI−6974、アデカオプトマーSP−170、SP−172、CD−1012、MPI−103、CPI−110A、CPI−101Aは、これらを含有してなる接着剤用組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好ましい。上記の光酸発生剤は、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
なお、光酸発生剤による酸の発生を促進させるために、増感剤を併用してもよい。増感剤の例としては、ジヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシベンゼン、ヒドロキシアセトフェノン、ジヒドロキシジフェニルメタン等が挙げられる。
(C) Examples of commercially available photoacid generators include UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990 (manufactured by Union Carbide), Adekaoptomer SP-150, SP-151, SP-170, SP-172 (above, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (above, made by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), CI-2481, CI-2624, CI-2638, CI-2064 (above , Nippon Soda Co., Ltd.), CD-1010, CD-1011, CD-1012 (above, manufactured by Sartomer), DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103, MDS- 103, MPI-103, BBI-103 (above, manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), PCI-061T, PCI-062T, PCI-020T, PCI-022T (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), CPI-110A, CPI-101A (above, San Apro Co., Ltd.) and the like can be mentioned. Among these, UVI-6970, UVI-6974, Adeka optomer SP-170, SP-172, CD-1012, MPI-103, CPI-110A, CPI-101A are compositions for adhesives containing these. It is particularly preferable because a high photocuring sensitivity can be expressed in the product. Said photo-acid generator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
A sensitizer may be used in combination in order to promote the generation of acid by the photoacid generator. Examples of the sensitizer include dihydroxybenzene, trihydroxybenzene, hydroxyacetophenone, dihydroxydiphenylmethane, and the like.

本発明の放射線硬化性接着剤用組成物中、(C)光酸発生剤の含有率は、好ましくは0.1〜10重量%、より好ましくは0.2〜5重量%、特に好ましくは0.3〜3重量%である。上記含有率が0.1質量%未満であると、放射線硬化性接着剤用組成物の放射線硬化性が低下し、十分な機械的強度を有する接着剤層を形成することができないため好ましくない。一方、上記含有率が10質量%を超えると、光酸発生剤が接着剤層の長期特性に悪影響を及ぼす可能性があるため、好ましくない。   In the composition for radiation curable adhesive of the present invention, the content of (C) photoacid generator is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.2 to 5% by weight, particularly preferably 0. .3 to 3% by weight. When the content is less than 0.1% by mass, the radiation curability of the radiation curable adhesive composition is lowered, and an adhesive layer having sufficient mechanical strength cannot be formed. On the other hand, if the content exceeds 10% by mass, the photoacid generator may adversely affect the long-term characteristics of the adhesive layer, which is not preferable.

[成分(D)]
放射線硬化性接着剤用組成物は、さらに成分(D)として、脂肪族エポキシ化合物を含むことができる。成分(D)の脂肪族エポキシ化合物は、接着剤層の機械的強度等をコントロールするために添加される任意成分である。
上記脂肪族エポキシ化合物の具体例としては、例えば1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油;エポキシステアリン酸ブチル;エポキシステアリン酸オクチル;エポキシ化アマニ油;エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
[Component (D)]
The composition for radiation curable adhesives can further contain an aliphatic epoxy compound as component (D). The aliphatic epoxy compound of component (D) is an optional component added to control the mechanical strength and the like of the adhesive layer.
Specific examples of the aliphatic epoxy compound include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and polyethylene glycol diglycidyl. Ether, glycerin triglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; polyether polyol obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, etc. Diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; Monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols; Glycidyl esters of higher fatty acids Le acids; epoxidized soybean oil; butyl epoxy stearate, epoxy stearic octyl, epoxidized linseed oil, epoxy polybutadiene, and the like.

放射線硬化性接着剤用組成物中、(D)脂肪族エポキシ化合物の含有率は、好ましくは0〜50質量%、より好ましくは15〜45質量%、特に好ましくは30〜40質量%である。上記含有率が50質量%を超えると、必須成分である(A)脂環式エポキシ化合物等の含有率が小さくなり、本発明の効果を得られなくなるため好ましくない。   In the composition for radiation curable adhesive, the content of the (D) aliphatic epoxy compound is preferably 0 to 50% by mass, more preferably 15 to 45% by mass, and particularly preferably 30 to 40% by mass. When the content exceeds 50% by mass, the content of the essential component (A) alicyclic epoxy compound and the like is decreased, and the effect of the present invention cannot be obtained, which is not preferable.

また、本発明の放射線硬化性接着剤用組成物には、本発明の目的、効果を損なわない範囲において、その他の任意成分として各種の添加剤を配合することができる。かかる添加剤としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマーあるいはオリゴマー;フェノチアジン、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール等の重合禁止剤;重合開始助剤;レベリング剤;濡れ性改良剤;界面活性剤;可塑剤;紫外線吸収剤;シランカップリング剤;無機充填剤;顔料;染料等を挙げることができる。
放射線硬化性接着剤用組成物は、成分(A)〜(C)、及び必要に応じて上記任意成分を均一に混合することによって調製することができる。このようにして得られる放射線硬化性接着剤用組成物の粘度は塗工時の温度において、通常、2,000mPa・s以下、好ましくは500mPa・s以下、より好ましくは300mPa・s以下である。
なお、放射線硬化性接着剤用組成物には、必要に応じて有機溶媒等の溶剤を添加することができる。しかし、本発明においては、無溶剤でも放射線硬化性接着剤用組成物を調製することができるため、作業環境の維持、環境負荷等の面から、溶剤を含まないことが好ましい。
放射線硬化性接着剤組成物は、厚さ200μmの硬化物である場合の波長550nmの光の透過率が、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上のものである。
Moreover, various additives can be mix | blended with the composition for radiation-curable adhesives of this invention as another arbitrary component in the range which does not impair the objective and effect of this invention. Such additives include epoxy resin, polyamide, polyamideimide, polyurethane, polybutadiene, polychloroprene, polyether, polyester, styrene-butadiene block copolymer, petroleum resin, xylene resin, ketone resin, cellulose resin, fluorine-based oligomer, Polymers or oligomers such as silicone oligomers and polysulfide oligomers; polymerization inhibitors such as phenothiazine and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol; polymerization initiators; leveling agents; wettability improvers; Plasticizers; UV absorbers; silane coupling agents; inorganic fillers; pigments; dyes and the like.
The composition for radiation curable adhesives can be prepared by uniformly mixing the components (A) to (C) and, if necessary, the above optional components. The viscosity of the radiation-curable adhesive composition thus obtained is usually 2,000 mPa · s or less, preferably 500 mPa · s or less, more preferably 300 mPa · s or less, at the temperature at the time of coating.
In addition, a solvent such as an organic solvent can be added to the radiation curable adhesive composition as necessary. However, in the present invention, since the composition for a radiation curable adhesive can be prepared even without a solvent, it is preferable not to contain a solvent from the viewpoint of maintaining the working environment and environmental burden.
When the radiation-curable adhesive composition is a cured product having a thickness of 200 μm, the light transmittance at a wavelength of 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more.

次に、図面を適宜参照しながら、本発明の複合体及びその製造方法について説明する。
図1は、本発明の複合体の一例を模式的に示す断面図である。図2は、本発明の複合体の製造方法の一例を示すフロー図である。
図1中、複合体1は、PVA系成形体2と、PVA系成形体2の上面に形成された接着剤層4と、接着剤層4の上面に積層して形成された被着体3とからなる。
Next, the composite of the present invention and the production method thereof will be described with reference to the drawings as appropriate.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the composite of the present invention. FIG. 2 is a flowchart showing an example of the method for producing the composite of the present invention.
In FIG. 1, a composite 1 includes a PVA-based molded body 2, an adhesive layer 4 formed on the upper surface of the PVA-based molded body 2, and an adherend 3 formed by laminating on the upper surface of the adhesive layer 4. It consists of.

[PVA系成形体]
PVA系成形体としては、下記一般式(1)で表される構造を含むポリビニルアルコール系樹脂からなる成形体が挙げられる。

Figure 2008231407
(式中、nは0〜4の整数である。)
一般式(1)中、nは0〜4の整数であり、好ましくは0である。
このようなポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレン・ビニルアルコール共重合体などが挙げられるが、耐水性の点から、エチレン・ビニルアルコール共重合体が好ましい。 [PVA molded product]
As a PVA type molded object, the molded object which consists of polyvinyl alcohol-type resin containing the structure represented by following General formula (1) is mentioned.
Figure 2008231407
(In the formula, n is an integer of 0 to 4.)
In general formula (1), n is an integer of 0 to 4, preferably 0.
Examples of such polyvinyl alcohol resins include polyvinyl alcohol and ethylene / vinyl alcohol copolymers, and ethylene / vinyl alcohol copolymers are preferred from the viewpoint of water resistance.

ポリビニルアルコールとしては、酢酸基が数十%残存している部分ケン化ポリビニルアルコールや、酢酸基が残存しない完全ケン化ポリビニルアルコールや、水酸基が変性された変性ポリビニルアルコールなどが挙げられるが、特に限定されるものではない。上記ポリビニルアルコールの具体例としては、(株)クラレ製のRSポリマーであるRS−110(ケン化度=99%、重合度=1,000)、同社製のクラレポバールLM−20SO(ケン化度=40%、重合度=2,000)、日本合成化学工業(株)製のゴーセノールNM−14(ケン化度=99%、重合度=1,400)などが挙げられる。
ポリビニルアルコールは、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル等の脂肪酸ビニルエステルの重合体を、アルカリ触媒等を用いてケン化して得られる。
Examples of polyvinyl alcohol include partially saponified polyvinyl alcohol in which several tens of percent of acetate groups remain, fully saponified polyvinyl alcohol in which acetate groups do not remain, and modified polyvinyl alcohol in which hydroxyl groups have been modified. Is not to be done. Specific examples of the polyvinyl alcohol include RS-110 (degree of saponification = 99%, degree of polymerization = 1,000) manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Kuraray Poval LM-20SO (degree of saponification) manufactured by the same company. = 40%, polymerization degree = 2,000), Gohsenol NM-14 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (degree of saponification = 99%, polymerization degree = 1,400), and the like.
Polyvinyl alcohol is obtained, for example, by saponifying a polymer of a fatty acid vinyl ester such as vinyl acetate, vinyl propionate or vinyl pivalate using an alkali catalyst or the like.

上記エチレン・ビニルアルコール共重合体は、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のケン化物、すなわち、エチレン−酢酸ビニルランダム共重合体をケン化して得られるものであり、酢酸基が数十モル%残存している部分ケン化物から、酢酸基が数モル%しか残存していないかまたは酢酸基が残存しない完全ケン化物まで含み、特に限定されない。
エチレン・ビニルアルコール共重合体のケン化度は、ガスバリア性の観点から、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、特に好ましくは95モル%以上である。エチレン・ビニルアルコール共重合体中のエチレンに由来する繰り返し単位の含量(以下「エチレン含量」ともいう)は、通常、0〜50モル%、好ましくは20〜45モル%である。
上記エチレン・ビニルアルコール共重合体の市販品としては、(株)クラレ製、エバールEP−F101(エチレン含量;32モル%)、日本合成化学工業(株)製、ソアノールD2908、D2935(エチレン含量;29モル%)、D2630(エチレン量;26%)、A4412(エチレン量44%)などが挙げられる。
The ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying a copolymer of ethylene and vinyl acetate, that is, an ethylene-vinyl acetate random copolymer, and has an acetate group of several tens mol%. The remaining saponified product is not particularly limited, and includes a partially saponified product in which only a few mol% of acetic acid groups remain or no acetic acid group remains.
The saponification degree of the ethylene / vinyl alcohol copolymer is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and particularly preferably 95 mol% or more from the viewpoint of gas barrier properties. The content of repeating units derived from ethylene in the ethylene / vinyl alcohol copolymer (hereinafter also referred to as “ethylene content”) is usually 0 to 50 mol%, preferably 20 to 45 mol%.
As a commercial item of the said ethylene vinyl alcohol copolymer, Kuraray Co., Ltd. product, Eval EP-F101 (ethylene content; 32 mol%), Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Soarnol D2908, D2935 (ethylene content; 29 mol%), D2630 (ethylene amount; 26%), A4412 (ethylene amount 44%), and the like.

ポリビニルアルコール系樹脂のメルトフローインデックスは、210℃、荷重21.168Nの条件下で、1〜50g/10分、好ましくは5〜45g/10分である。メルトフローインデックスが1g/10分未満であると、ガスバリア性が低下する場合がある。一方、50g/10分を超えると、耐水性、耐溶剤性が低下する場合があり好ましくない。
ポリビニルアルコール系樹脂は、1種単独で使用することも、あるいは2種以上を併用することもできる。
The melt flow index of the polyvinyl alcohol-based resin is 1 to 50 g / 10 minutes, preferably 5 to 45 g / 10 minutes, under the conditions of 210 ° C. and a load of 21.168 N. If the melt flow index is less than 1 g / 10 minutes, the gas barrier properties may deteriorate. On the other hand, if it exceeds 50 g / 10 minutes, the water resistance and the solvent resistance may decrease, which is not preferable.
A polyvinyl alcohol-type resin can be used individually by 1 type, or can also use 2 or more types together.

PVA系成形体は、上述のポリビニルアルコール系樹脂をキャスティング成形法等の方法によって、成形することにより得られる。前記PVA系成形体は、ホウ酸等による架橋や、延伸をされたものであってもよい。
PVA系成形体の形状としては、特に限定されないが、例えば、フィルム等が挙げられる。なお、本明細書において、「フィルム」の語は、厚みが小さいもの(厚みが1mm未満のもの)の他、厚手のシート(例えば、厚みが1〜5mmのもの)も含むものとする。
PVA系成形体の厚さは、特に限定されないが、例えば偏光膜の場合、通常、10〜40μmとなるように定められる。
[接着剤層]
接着剤層は、上述の放射線硬化性接着剤用組成物を放射線硬化させてなる硬化物層である。
上述の放射線硬化性接着剤用組成物を用いて接着剤層を形成することにより、優れた耐裁断性を得ることができ、また、被着体がCOP系であっても、被着体−接着剤層間の接着強度等に優れた複合体を得ることができる。
接着剤層の厚さは、特に限定されないが、例えば0.5〜3μmとなるように定められる。
A PVA-type molded object is obtained by shape | molding the above-mentioned polyvinyl alcohol-type resin by methods, such as casting molding method. The PVA-based molded body may be crosslinked or stretched with boric acid or the like.
Although it does not specifically limit as a shape of a PVA type molded object, For example, a film etc. are mentioned. In this specification, the term “film” includes not only a sheet having a small thickness (thickness of less than 1 mm) but also a thick sheet (for example, having a thickness of 1 to 5 mm).
Although the thickness of a PVA-type molded object is not specifically limited, For example, in the case of a polarizing film, it is normally determined so that it may be 10-40 micrometers.
[Adhesive layer]
An adhesive bond layer is a hardened | cured material layer formed by carrying out radiation hardening of the above-mentioned composition for radiation-curable adhesives.
By forming an adhesive layer using the above-described radiation-curable adhesive composition, excellent cutting resistance can be obtained, and even if the adherend is COP-based, the adherend- A composite having excellent adhesive strength between adhesive layers can be obtained.
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is determined to be, for example, 0.5 to 3 μm.

[被着体]
上記PVA系成形体と接着される被着体としては、上記PVA系成形体と同種の被着体、又は異種の被着体のいずれも用いることができる。
上記PVA系成形体と同種の被着体としては、上述のとおり、一般式(1)で表されるポリビニルアルコール系樹脂からなるものが挙げられる。この場合、被着体は、PVA系成形体と同一の組成を有する必要はない。例えば、PVA系成形体をポリビニルアルコールからなるフィルムとし、被着体をエチレン・ビニルアルコール共重合体からなるフィルムとすることができる。
上記PVA系成形体と異種の被着体としては、例えば、ノルボルネン系樹脂、アセテート系樹脂(例えば、トリアセチルセルロース等)、ポリエステル系樹脂(例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などの樹脂からなるフィルムが用いられる。中でも、ノルボルネン系樹脂フィルムが好ましい。
PVA系成形体と接着される被着体として、ノルボルネン系樹脂フィルムを用いると、優れたガスバリア性と低水分透過性とを両立させることができる。
被着体の厚さは、特に限定されないが、例えば、15〜100μmとなるように定められる。
[Adherent]
As the adherend to be bonded to the PVA-based molded body, either the same type of adherend as the PVA-based molded body or a different type of adherend can be used.
Examples of the same kind of adherend as the PVA-based molded body include those made of the polyvinyl alcohol-based resin represented by the general formula (1) as described above. In this case, the adherend need not have the same composition as the PVA-based molded body. For example, the PVA-based molded body can be a film made of polyvinyl alcohol, and the adherend can be a film made of an ethylene / vinyl alcohol copolymer.
Examples of the adherend different from the PVA-based molded body include, for example, norbornene-based resins, acetate-based resins (for example, triacetyl cellulose), polyester-based resins (for example, polyethylene terephthalate resin), polyethersulfone-based resins, A film made of a resin such as a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, or an acrylic resin is used. Among these, norbornene-based resin films are preferable.
When a norbornene resin film is used as the adherend to be bonded to the PVA-based molded body, both excellent gas barrier properties and low moisture permeability can be achieved.
Although the thickness of a to-be-adhered body is not specifically limited, For example, it determines so that it may be 15-100 micrometers.

(ノルボルネン系樹脂フィルム)
なお、上述のノルボルネン系樹脂フィルムとしては、ノルボルネン系化合物を少なくとも1種含む単量体組成物を重合し、また必要に応じてさらに水素添加して得られた樹脂からなるフィルムが好適である。
上記ノルボルネン系化合物としては、例えば、下記一般式(3)で表されるノルボルネン系化合物を挙げることができる。
(Norbornene resin film)
In addition, as the above-mentioned norbornene-based resin film, a film made of a resin obtained by polymerizing a monomer composition containing at least one norbornene-based compound and further hydrogenating as necessary is preferable.
As said norbornene-type compound, the norbornene-type compound represented by following General formula (3) can be mentioned, for example.

Figure 2008231407
Figure 2008231407

(式(3)中、R1〜R4は、各々独立して水素原子;ハロゲン原子;酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基を有していてもよい置換または非置換の炭素原子数1〜15の炭化水素基もしくはその他の1価の有機基を表す。あるいはR1とR2もしくはR3とR4が相互に結合してアルキリデン基を形成していてもよく、R1とR2、R3とR4またはR2とR3とが相互に結合して炭素環または複素環(これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。)を形成してもよい。形成される炭素環または複素環は芳香環でもよいし非芳香環でもよい。また、xは0または1〜3の整数、yは0または1を表すが、xが0のときはyも0である。) (In Formula (3), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted carbon atom which may have a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon. It represents a 1-15 hydrocarbon group or other monovalent organic group. Alternatively R 1 and R 2 or R 3 and R 4 are bonded to each other may form an alkylidene group, R 1 and R 2 , R 3 and R 4 or R 2 and R 3 are bonded to each other to form a carbocyclic or heterocyclic ring (these carbocyclic or heterocyclic rings may have a monocyclic structure, or other rings may be condensed to form a polycyclic ring). The formed carbocyclic or heterocyclic ring may be an aromatic ring or a non-aromatic ring, and x is 0 or an integer of 1 to 3, y is Represents 0 or 1, but when x is 0, y is also 0.)

一般式(3)で表されるノルボルネン系化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が例示できるが、これらの例示物に限定されるものではない。
・ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(ノルボルネン)
・5−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−シクロヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−(4−ビフェニル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェノキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フェニルカルボニルオキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メチル−5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メチル−5−フェノキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−メチル−5−フェノキシエチルカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,5−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−フルオロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−クロロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ブロモ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジフルオロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジクロロ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5,6−ジブロモ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ヒドロキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−ヒドロキシエチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−シアノ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・5−アミノ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン
・トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン
・7−メチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−エチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−シクロヘキシル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−フェニル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−(4−ビフェニル)−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8−ジメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8,9−トリメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・8−メチル−トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン
・8−フェニル−トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン
・7−フルオロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−クロロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−ブロモ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8−ジクロロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7,8,9−トリクロロ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−クロロメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−ジクロロメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−トリクロロメチル−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−ヒドロキシ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−シアノ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・7−アミノ−トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン
・テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・ペンタシクロ[7.4.0.12,5.18,11.07,12]ペンタデカ−3−エン
・ヘキサシクロ[8.4.0.12,5.17,14.19,12.08,13]ヘプタデカ−3−エン
・8−メチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−エチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−シクロヘキシル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フェニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−(4−ビフェニル)−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フェノキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フェニルカルボニルオキシ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−メチル−8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−メチル−8−フェノキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−メチル−8−フェノキシエチルカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−ビニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−エチリデン−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,8−ジメチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,9−ジメチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−フルオロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−クロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−ブロモ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,8−ジクロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,9−ジクロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8,8,9,9−テトラクロロ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−ヒドロキシ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−ヒドロキシエチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−メチル−8−ヒドロキシエチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−シアノ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
・8−アミノ−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン
なお、これらノルボルネン系化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Specific examples of the norbornene-based compound represented by the general formula (3) include the compounds shown below, but are not limited to these examples.
Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (norbornene)
5-methyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyl-bicyclo [2.2.1] hept 2-ene-5-phenyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5- (4-biphenyl) -bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5-methoxycarbonyl- Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene · 5-phenoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene · 5-phenoxyethylcarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2 -Ene, 5-phenylcarbonyloxy-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl- 5-phenoxycarboni -Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene.5-methyl-5-phenoxyethylcarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene.5-vinyl-bicyclo [2.2.1] ] Hept-2-ene, 5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,5-dimethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dimethyl -Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-fluoro-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-chloro-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene 5-bromo-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene5,6-difluoro-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene5,6-dichloro-bicyclo [2.2 .1] Hept-2-ene-5,6-dibromo-bicyclo [2.2.1 Hept-2-ene, 5-hydroxy-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxyethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyano-bicyclo [2 2.1] hept-2-ene, 5-amino-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene, tricyclo [ 4.4.0.1 2,5 ] Undec-3-ene.7-methyl-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene.7-ethyl-tricyclo [4.3. 0.1 2,5] dec-3-ene-7-cyclohexyl - tricyclo [4.3.0.1 2,5] dec-3-ene-7-phenyl - tricyclo [4.3.0.1 2 , 5] dec-3-ene-7- (4-biphenyl) - tricyclo [4.3.0.1 2, 5] dec-3-ene-7,8 Methyl - tricyclo [4.3.0.1 2, 5] dec-3-ene-7,8,9- trimethyl - tricyclo [4.3.0.1 2, 5] dec-3-ene-8- Methyl-tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] undec-3-ene · 8-phenyl-tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] undec-3-ene · 7-fluoro-tricyclo [ 4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene.7-chloro-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene.7-bromo-tricyclo [4.3. 0.1 2,5] dec-3-ene-7,8-dichloro - tricyclo [4.3.0.1 2,5] dec-3-ene-7,8,9- trichloro - tricyclo [4. 3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-chloromethyl-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-dichloromethyl-tricycl B [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-trichloromethyl-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-hydroxy-tricyclo [4 .3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-cyano-tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene · 7-amino-tricyclo [4.3.0 .1 2,5] deca-3-ene-tetracyclo [4.4.0.1 2,5. 1 7,10 ] dodec-3-ene pentacyclo [7.4.0.1 2,5 . 1 8,11 . 0 7,12] pentadeca-3-ene-hexacyclo [8.4.0.1 2,5. 1 7,14 . 1 9,12 . 0 8,13] heptadec-3-en-8-methyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8-ethyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8-cyclohexyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-phenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8- (4-biphenyl) -tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-methoxycarbonyloxy - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-phenoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-phenoxyethyl carbonyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-phenylcarbonyloxy-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-methyl-8-methoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-methyl-8-phenoxycarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-methyl-8-phenoxyethylcarbonyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-vinyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-ethylidene - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8,8-dimethyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10] dodeca-3-ene-8,9-dimethyl - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-fluoro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-chloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-bromo - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene.8,8-dichloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene.8,9-dichloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene. 8,8,9,9-tetrachloro-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-hydroxy-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-hydroxyethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-methyl-8-hydroxyethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10] dodeca-3-ene-8-cyano - tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] dodec-3-ene-8-amino-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1,7,10 ] dodec-3-ene These norbornene compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記ノルボルネン系化合物の種類および量は、得られる樹脂に求められる特性により適宜選択される。
これらのうち、その分子内に酸素原子、窒素原子、イオウ原子もしくはケイ素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を少なくとも1個含む構造(以下、「極性構造」という。)を有する化合物を用いると、他素材との接着性や密着性に優れるため好ましい。特に、前記式(3)中、R1およびR3が水素原子、または炭素数1〜3の炭化水素基、好ましくは水素原子、またはメチル基であり、R2またはR4のいずれか一つが極性構造を有する基であって他が水素原子または炭素数1〜3炭化水素基である化合物は、樹脂の吸水(湿)性が低く好ましい。さらに、極性構造を有する基が下記一般式(4)で表わされる基であるノルボルネン系化合物は、得られる樹脂の耐熱性と吸水(湿)性とのバランスがとりやすく、好ましく用いることができる。
The kind and amount of the norbornene-based compound are appropriately selected depending on the properties required for the obtained resin.
Of these, when a compound having a structure containing at least one atom selected from an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a silicon atom in the molecule (hereinafter referred to as “polar structure”) is used. It is preferable because of excellent adhesion and adhesion to other materials. In particular, in the formula (3), R 1 and R 3 are a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group, and any one of R 2 and R 4 is A compound having a polar structure and the other being a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is preferable because the water absorption (wet) property of the resin is low. Furthermore, a norbornene compound in which a group having a polar structure is a group represented by the following general formula (4) is easy to balance the heat resistance and water absorption (wet) property of the resulting resin, and can be preferably used.

−(CH2zCOOR (4)
(式(4)中、Rは置換または非置換の炭素原子数1〜15の炭化水素基を表し、zは0または1〜10の整数を表す。)
一般式(4)において、zの値が小さいものほど得られる水素添加物のガラス転移温度が高くなり耐熱性に優れるので、zが0または1〜3の整数であることが好ましく、更に、zが0である単量体はその合成が容易である点で好ましい。また、前記一般式(4)におけるRは、炭素数が大きいほど、得られる重合体の水素添加物の吸水(湿)性が低下する傾向にあるが、ガラス転移温度が低下する傾向もあるので、耐熱性を保持する観点からは炭素数1〜10の炭化水素基が好ましく、特に炭素数1〜6の炭化水素基であることが好ましい。
- (CH 2) z COOR ( 4)
(In formula (4), R represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and z represents 0 or an integer of 1 to 10).
In general formula (4), the smaller the value of z, the higher the glass transition temperature of the resulting hydrogenated product and the better the heat resistance. Therefore, z is preferably an integer of 0 or 1 to 3, and z A monomer in which is 0 is preferred in that its synthesis is easy. Further, R in the general formula (4) tends to decrease the water absorption (wetness) of the resulting hydrogenated polymer as the carbon number increases, but also tends to decrease the glass transition temperature. From the viewpoint of maintaining heat resistance, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is particularly preferable.

なお、前記一般式(3)において、前記一般式(4)で表される基が結合した炭素原子に、炭素数1〜3のアルキル基、特にメチル基が結合していると、耐熱性と吸水(湿)性のバランスの点で好ましい。さらに、前記一般式(3)において、xが0または1であり、yが0である化合物は、反応性が高く、高収率で重合体が得られること、また、耐熱性が高い重合体水素添加物が得られること、さらに工業的に入手しやすいことから好適に用いられる。   In the general formula (3), when an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, particularly a methyl group, is bonded to the carbon atom to which the group represented by the general formula (4) is bonded, It is preferable in terms of the balance of water absorption (wet). Furthermore, in the general formula (3), a compound in which x is 0 or 1 and y is 0 is highly reactive, a polymer can be obtained in a high yield, and a polymer having high heat resistance. It is preferably used because a hydrogenated product is obtained and it is easily industrially available.

上記ノルボルネン系樹脂においては、上記ノルボルネン系化合物と共重合可能な他の単量体を単量体組成物に含ませて重合することができる。
上記共重合可能な他の単量体として、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロドデセンなどの環状オレフィンや1,4−シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、シクロドデカトリエンなどの非共役環状ポリエンを挙げることができる。
これらの共重合可能な他の単量体は、1種単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
In the norbornene-based resin, the monomer composition can be polymerized with another monomer copolymerizable with the norbornene-based compound.
Examples of other copolymerizable monomers include cycloolefins such as cyclobutene, cyclopentene, cycloheptene, cyclooctene, and cyclododecene, and non-conjugated cyclic polyenes such as 1,4-cyclooctadiene, dicyclopentadiene, and cyclododecatriene. Can be mentioned.
These other copolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more.

上記ノルボルネン系化合物を含む単量体組成物の重合方法については、例えば、特開2006−201736号公報、特開2005−164632号公報等に記載されたメタセシス開環重合や付加重合による公知の方法を用いることができる。
また、得られた(共)重合体の水素添加の方法についても、上記の文献に記載された公知の方法を用いることができる。
水素添加重合体の水素添加率は、500MHz、1H−NMRで測定した値として、好ましくは50%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは90%以上、最も好ましくは98%以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、長期にわたって安定した特性を得ることができる。
As for the polymerization method of the monomer composition containing the norbornene compound, for example, a known method by metathesis ring-opening polymerization or addition polymerization described in JP-A-2006-201736, JP-A-2005-164632, etc. Can be used.
Moreover, the known method described in said literature can also be used also about the method of hydrogenation of the obtained (co) polymer.
The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, further preferably 90% or more, and most preferably 98% or more as a value measured by 500 MHz and 1 H-NMR. . The higher the hydrogenation rate, the better the stability to heat and light, and stable characteristics can be obtained over a long period of time.

ノルボルネン系樹脂の固有粘度〔η〕inhは、好ましくは0.2〜2.0dl/g、より好ましくは0.35〜1.0dl/g、特に好ましくは0.4〜0.85dl/gである。
ノルボルネン系樹脂の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、好ましくは5,000〜100万、より好ましくは1万〜50万、特に好ましくは1.5万〜25万である。重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1万〜200万、より好ましくは2万〜100万、特に好ましくは3万〜50万である。
ノルボルネン系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上、特に好ましくは150℃以上である。
ノルボルネン系樹脂の飽和吸水率は、好ましくは1質量%以下、より好ましくは0.1〜0.8質量%である。飽和吸水率が1質量%を超える場合、該樹脂から得られる保護フィルムが、使用される環境によっては経時的に吸水(湿)変形するなど、耐久性に問題が生じることがある。一方、0.1重量%未満の場合、接着性に問題が生じることがある。なお、前記飽和吸水率はASTM D570に従い、23℃の水中で1週間浸漬して増加質量を測定することにより得られる値である。
The intrinsic viscosity [η] inh of the norbornene resin is preferably 0.2 to 2.0 dl / g, more preferably 0.35 to 1.0 dl / g, and particularly preferably 0.4 to 0.85 dl / g. is there.
The number average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene of the norbornene resin measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 10,000 to 500,000, and particularly preferably 1. 50,000 to 250,000. The weight average molecular weight (Mw) is preferably 10,000 to 2,000,000, more preferably 20,000 to 1,000,000, and particularly preferably 30,000 to 500,000.
The glass transition temperature (Tg) of the norbornene resin is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and particularly preferably 150 ° C. or higher.
The saturated water absorption of the norbornene resin is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1 to 0.8% by mass. When the saturated water absorption exceeds 1% by mass, the protective film obtained from the resin may have a problem in durability such as water absorption (wet) deformation with time depending on the environment used. On the other hand, if it is less than 0.1% by weight, there may be a problem in adhesion. The saturated water absorption is a value obtained by immersing in water at 23 ° C. for 1 week and measuring an increased mass according to ASTM D570.

本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を添加することができる。
酸化防止剤としては、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−ジオキシ−3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンなどが挙げられる。
紫外線吸収剤としては、例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
In the present invention, additives such as an antioxidant and an ultraviolet absorber can be further added as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [ And methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane.
Examples of the ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone.

(ノルボルネン系樹脂フィルムの製造方法)
ノルボルネン系樹脂フィルムの製造方法については、特開2006−201736号公報、特開2005−164632号公報等に記載された公知の方法を用いることができる。すなわち、ノルボルネン系樹脂フィルムは、前記ノルボルネン系樹脂を直接溶融成形することにより、あるいは溶媒に溶解しキャスティング(キャスト成形)する方法により好適に成形することができる。
(Manufacturing method of norbornene resin film)
As a method for producing the norbornene-based resin film, known methods described in JP 2006-201736 A, JP 2005-164632 A, and the like can be used. That is, the norbornene-based resin film can be suitably formed by directly melt-molding the norbornene-based resin or by a method of dissolving in a solvent and casting (cast molding).

次に、複合体の製造方法について説明する。
本発明の複合体の製造方法は、PVA系成形体の表面に、PVA系成形体と同種又は異種の被着体を、放射線硬化性接着剤用組成物を介して積層する積層工程と、該放射線硬化性接着剤用組成物を放射線照射(光照射)して硬化させる放射線硬化工程を含む。
図2中、複合体1の製造方法は、PVA系成形体2を準備する工程(a)と、保護フィルム本体である被着体3の表面(片面)に、放射線硬化性接着剤用組成物を塗布して、接着剤用組成物層4’を有する保護フィルム3’を得る工程(b)と、PVA系成形体2の上面に、保護フィルム3’を、接着剤用組成物層4’が対峙するように積層する工程(c)と、光照射により接着剤用組成物層4’を硬化させる工程(d)を含む。
以下、工程ごとに説明する。
Next, the manufacturing method of a composite_body | complex is demonstrated.
The method for producing a composite according to the present invention includes a step of laminating an adherend of the same or different type as a PVA-based molded body on the surface of a PVA-based molded body via a radiation-curable adhesive composition, It includes a radiation curing step in which the radiation curable adhesive composition is cured by irradiation (light irradiation).
In FIG. 2, the manufacturing method of the composite 1 includes the step (a) of preparing the PVA-based molded body 2 and the radiation curable adhesive composition on the surface (one side) of the adherend 3 that is the main body of the protective film. Step (b) to obtain a protective film 3 ′ having a composition layer 4 ′ for adhesive, and a protective film 3 ′ on the upper surface of the PVA-based molded body 2, and a composition layer 4 ′ for adhesive. Includes a step (c) of laminating so as to face each other and a step (d) of curing the adhesive composition layer 4 ′ by light irradiation.
Hereinafter, it demonstrates for every process.

[工程(a)]
工程(a)は、PVA系成形体2を準備する工程である(図2中の(a)参照)。
[工程(b)]
工程(b)は、被着体3の片面に放射線硬化性接着剤用組成物を塗布して、接着剤用組成物層4’を有する保護フィルム3’を得る工程である(図2中の(b)参照)。
具体的には、被着体3の片面に、放射線硬化性接着剤用組成物を塗布し、必要に応じて乾燥等を行って、接着剤用組成物からなる層3’を形成する。このとき、PVA系以外のフィルムを接着する場合は、接着強度をあげるために接着剤用組成物を塗布する面にコロナ処理を行うことが好ましい。
上記放射線硬化性接着剤用組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、例えばダイコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法が挙げられる。
[Step (a)]
Step (a) is a step of preparing a PVA-based molded body 2 (see (a) in FIG. 2).
[Step (b)]
Step (b) is a step of applying a radiation-curable adhesive composition to one surface of the adherend 3 to obtain a protective film 3 ′ having an adhesive composition layer 4 ′ (in FIG. 2). (See (b)).
Specifically, the radiation curable adhesive composition is applied to one surface of the adherend 3 and, if necessary, dried to form a layer 3 ′ composed of the adhesive composition. At this time, when a non-PVA film is adhered, it is preferable to perform corona treatment on the surface on which the adhesive composition is applied in order to increase the adhesive strength.
Although it does not specifically limit as a coating method of the said composition for radiation curable adhesives, For example, the die-coating method, the roll-coating method, the gravure coating method, and a spin coat method are mentioned.

[工程(c)]
工程(c)は、PVA系成形体2の上面に、保護フィルム3’を、接着剤用組成物層4’が対峙するように積層する工程である(図2中の(c)参照)。
[Step (c)]
Step (c) is a step of laminating a protective film 3 ′ on the upper surface of the PVA-based molded body 2 so that the adhesive composition layer 4 ′ faces (see (c) in FIG. 2).

[工程(d)]
工程(d)は、放射線5を照射することにより接着剤用組成物層4’を硬化させる工程である(図2中の(d)参照)。
具体的には、PVA系成形体2及び/又は被着体3の側から、光5を照射する。これにより、接着剤用組成物層4’が硬化して接着剤層4となる。その結果、PVA系成形体2と被着体3とが接着剤層4を介して接着され、複合体1が得られる(図2中の(e)参照)。
光の照射量は、特に限定されるものではないが、波長200〜450nm、照度1〜500mW/cm2の光を、照射量が10〜10,000mJ/cm2となるように照射して露光することが好ましい。
ここで、放射線の照射は、被着体3の側からに限らず、PVA系成形体2側から放射線5を照射してもよいし、両方から照射することもできる。
照射する放射線の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。放射線の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。
得られた複合体は、通常、裁断等の加工が施されて、偏光板や、食品、飲料、医薬品、化粧品などの包装材料または容器等の用途に使用される。
[Step (d)]
The step (d) is a step of curing the adhesive composition layer 4 ′ by irradiating the radiation 5 (see (d) in FIG. 2).
Specifically, the light 5 is irradiated from the PVA-based molded body 2 and / or the adherend 3 side. As a result, the adhesive composition layer 4 ′ is cured to become the adhesive layer 4. As a result, the PVA-based molded body 2 and the adherend 3 are bonded via the adhesive layer 4 to obtain the composite 1 (see (e) in FIG. 2).
The dose of light is not particularly limited, wavelength 200 to 450 nm, the light intensity 1 to 500 mW / cm 2, irradiation amount by irradiation so that 10~10,000mJ / cm 2 exposure It is preferable to do.
Here, the radiation irradiation is not limited to the adherend 3 side, and the radiation 5 may be irradiated from the PVA-based molded body 2 side, or may be performed from both.
Visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and the like can be used as the type of radiation to be irradiated, and ultraviolet rays are particularly preferable. For example, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an excimer lamp is preferably used as the radiation irradiation apparatus.
The obtained composite is usually subjected to processing such as cutting, and used for applications such as polarizing plates, packaging materials such as foods, beverages, pharmaceuticals, and cosmetics, or containers.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
[実施例1〜5、比較例1、2]
[1.放射線硬化性接着剤用組成物の調製]
攪拌装置付きの容器に、表1に示す配合割合で、成分(A)〜(C)及び任意成分を投入し、4時間攪拌し均一に混合した。攪拌を停止し、24時間静置して、実施例1〜5に用いる放射線硬化性組成物を得た。同様に、比較例1、2に用いる放射線硬化性組成物を得た。
なお、表1中の各成分の化合物名は、次のとおりである。
(A)成分:
(A−1) セロキサイド2021P: 3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(ダイセル社製)
(A−2) KRM2199:ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート(アデカ社製)
(B)成分:
(B−1) クラレポリオールP−510: ポリ[(3−メチル−1,5−ペンタンジオール)−alt−(アジピン酸)](クラレ社製;数平均分子量700)
(B−2) クラレポリオールP−1010: ポリ[(3−メチル−1,5−ペンタンジオール)−alt−(アジピン酸)](クラレ社製;数平均分子量1,200)
(B−3) プレミノールPPG4000: ポリプロピレングリコール(旭硝子社製;数平均分子量4,100)
(B−4) クラレポリオールC−2090: ポリ((3−メチル−1,5−ペンタンジオール;1,6−ヘキサンジオール)カーボネート)(クラレ社製;数平均分子量2,000)
(C)成分:
CPI−110A: ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモナート(サンアプロ社製)
他成分:
SR−NPG: ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(阪本薬品工業社製)
サンニックスGP−400: ポリオキシプロピレングリセリルエーテル(三洋化成工業社製;数平均分子量420)
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
[Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 and 2]
[1. Preparation of composition for radiation curable adhesive]
Components (A) to (C) and optional components were added to a container equipped with a stirrer at the blending ratio shown in Table 1, and stirred for 4 hours to uniformly mix. Stirring was stopped and the mixture was allowed to stand for 24 hours to obtain radiation curable compositions used in Examples 1 to 5. Similarly, the radiation curable composition used for Comparative Examples 1 and 2 was obtained.
In addition, the compound name of each component in Table 1 is as follows.
(A) component:
(A-1) Celoxide 2021P: 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate (manufactured by Daicel)
(A-2) KRM2199: Bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate (manufactured by Adeka)
(B) component:
(B-1) Kuraray polyol P-510: Poly [(3-methyl-1,5-pentanediol) -alt- (adipic acid)] (manufactured by Kuraray Co., Ltd .; number average molecular weight 700)
(B-2) Kuraray polyol P-1010: Poly [(3-methyl-1,5-pentanediol) -alt- (adipic acid)] (manufactured by Kuraray Co., Ltd .; number average molecular weight 1,200)
(B-3) Preminol PPG4000: Polypropylene glycol (manufactured by Asahi Glass; number average molecular weight 4,100)
(B-4) Kuraray polyol C-2090: poly ((3-methyl-1,5-pentanediol; 1,6-hexanediol) carbonate) (manufactured by Kuraray Co., Ltd .; number average molecular weight 2,000)
(C) component:
CPI-110A: Diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate (manufactured by San Apro)
Other ingredients:
SR-NPG: Neopentyl glycol diglycidyl ether (manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.)
Sanniks GP-400: Polyoxypropylene glyceryl ether (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .; number average molecular weight 420)

Figure 2008231407
Figure 2008231407

[2.接着用基材の製造または準備]
[製造例1]
三井化学社製の「アペルAPL6013T」(商品名)をシクロペンタンに溶解させ、樹脂濃度30重量%の樹脂溶液とした。この樹脂溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上にバーコーターで塗布し、1時間静置した後、80℃で12時間乾燥させて膜厚72μmのアペルフィルムを得た。
[製造例2]
ポリプラスチックス社製の「TOPAS5013」(商品名)を塩化メチレンに溶解させた以外は製造例と同様の操作を行い、75μmのトパスフィルムを得た。
その他、表に記載したフィルムは以下のものを使用した。
PVAフィルム:クラレ社製 「クラリアS」(商品名)
エバールフィルム:クラレ社製 「エバール EF−F」(商品名)
TACフィルム:富士フイルム社製 「フジタック80D」(商品名)
アートンフィルム:JSR社製 「アートンR5000」(商品名)
ゼオノアフィルム:日本ゼオン社製 「ゼオノアZF14−100」(商品名)
このうち、PVAフィルム、エバールフィルム以外のフィルムは、コロナ表面処理装置(春日電機社製の「AGF−012」)を用い、320W・分/mの放電量でフィルム表面にコロナ放電処理を行い、表面処理後1時間以内に接着を実施した。
[3.複合体(貼合フィルム)の作製]
実施例1〜5、比較例1、2の各放射線硬化性組成物を、ワイヤーバーコーター#3を用いて被着体となるPVAフィルムに塗布した。被着体のPVAフィルムをもう1枚のPVAフィルムに気泡等の欠陥が入らないように貼合した。ガラス板上にフィルムの四方をテープで固定し、メタルハライドランプ(照度220mW/cm、照射光量1,000mJ/cm)にて照射し接着し、PVAフィルム/PVAフィルムを得た。なお、光照射はPVA系成形体の側から行った。
他のフィルムでも同様の操作を行い、表1に示す各種の貼合フィルムを作製した。なお、アートンフィルム/PVAフィルム/アートンフィルムの光照射は、後から貼り合わせたフィルムの側から光照射を行った。光照射の後、23℃、50%RHで24時間静置し、評価用フィルムとした。
[2. Production or preparation of adhesive substrate]
[Production Example 1]
“Apel APL6013T” (trade name) manufactured by Mitsui Chemicals was dissolved in cyclopentane to obtain a resin solution having a resin concentration of 30% by weight. This resin solution was applied onto a polyethylene terephthalate film with a bar coater, allowed to stand for 1 hour, and then dried at 80 ° C. for 12 hours to obtain an appel film having a thickness of 72 μm.
[Production Example 2]
A 75 μm topas film was obtained in the same manner as in Production Example except that “TOPAS5013” (trade name) manufactured by Polyplastics was dissolved in methylene chloride.
In addition, the following films were used in the table.
PVA film: Kuraray "Claria S" (trade name)
Eval film: “Eval EF-F” (trade name) manufactured by Kuraray
TAC film: “Fujitac 80D” (trade name) manufactured by Fujifilm
Arton Film: “Arton R5000” (trade name) manufactured by JSR
ZEONOR film: "ZEONOR ZF14-100" (trade name) manufactured by ZEON CORPORATION
Among these, films other than PVA film and Eval film are subjected to corona discharge treatment on the film surface with a discharge amount of 320 W · min / m 2 using a corona surface treatment apparatus (“AGF-012” manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.). Adhesion was carried out within 1 hour after the surface treatment.
[3. Preparation of composite (bonding film)]
Each radiation-curable composition of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was applied to a PVA film serving as an adherend using a wire bar coater # 3. The PVA film of the adherend was bonded to another PVA film so that no defects such as bubbles would enter. Four sides of the film were fixed with a tape on a glass plate, and irradiated and adhered with a metal halide lamp (illuminance 220 mW / cm 2 , irradiation light quantity 1,000 mJ / cm 2 ) to obtain a PVA film / PVA film. In addition, light irradiation was performed from the PVA-type molded object side.
The same operation was performed on other films to prepare various bonded films shown in Table 1. In addition, the light irradiation of the arton film / PVA film / arton film was performed from the side of the film bonded later. After light irradiation, the film was allowed to stand at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours to obtain a film for evaluation.

[3.複合体の評価]
[耐裁断性]
貼合フィルムを、コクヨ社製の「パンチPN−2」(商品名)で打ち抜き、円形のフィルム片の剥がれの有無及び程度を確認し、以下の基準で判定した。結果を表1に示す。
◎:剥がれなし
○:切片の周囲に線状の剥がれあり
×:明らかな剥がれあり
[3. Evaluation of complex]
[Cutting resistance]
The pasted film was punched with “Punch PN-2” (trade name) manufactured by KOKUYO, and the presence or absence and degree of peeling of the circular film piece were confirmed, and judged according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: No peeling
○: Linear peeling around the section ×: Clear peeling

[550nmでの透過率]
ガラス板上に、PETフィルム(膜厚188μm、表面未処理品)を粘着剤で固定し、PETフィルム上にギャップ15ミルのアプリケーターを用い、実施例および比較例の接着剤組成物を塗布した。この塗膜に、メタルハライドランプ(照度220mW/cm、照射光量1,000mJ/cm)で光照射し、組成物を硬化させ、23℃、50%RHで24時間静置した。PETフィルムから硬化物を剥離し、膜厚が200±5μmであることを確認した後、U−3410型自記分光光度計(日立製作所製)で、空気をリファレンスとして550nmの透過率を測定した。
[Transmissivity at 550 nm]
A PET film (film thickness: 188 μm, surface untreated product) was fixed on a glass plate with an adhesive, and the adhesive compositions of Examples and Comparative Examples were applied on the PET film using a gap 15 mil applicator. This coating film was irradiated with light with a metal halide lamp (illuminance 220 mW / cm 2 , irradiation light quantity 1,000 mJ / cm 2 ) to cure the composition, and allowed to stand at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours. The cured product was peeled from the PET film, and after confirming that the film thickness was 200 ± 5 μm, the transmittance at 550 nm was measured with a U-3410 self-recording spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd.) using air as a reference.

表1から、実施例1〜5の放射線硬化性組成物を接着剤として用いて作製した複合体(貼合フィルム)は、耐裁断性に優れることがわかる。一方、比較例1、2の複合体は、耐裁断性に劣っている。   From Table 1, it turns out that the composite_body | complex (lamination film) produced using the radiation-curable composition of Examples 1-5 as an adhesive is excellent in cutting resistance. On the other hand, the composites of Comparative Examples 1 and 2 are inferior in cutting resistance.

本発明の複合体の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the composite_body | complex of this invention typically. 本発明の複合体の製造方法の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the composite_body | complex of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 複合体
2 PVA系成形体
3 被着体
3’ 保護フィルム
4 接着剤層
4’ 接着剤用組成物層
5 放射線(紫外線)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Composite 2 PVA-type molded object 3 Adhering body 3 'Protective film 4 Adhesive layer 4' Adhesive composition layer 5 Radiation (ultraviolet rays)

Claims (7)

(A)脂環式エポキシ化合物、
(B)ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の数平均分子量が500以上であり、かつ、水酸基を少なくとも1つ含有する化合物、及び
(C)光酸発生剤、
を含むことを特徴とする放射線硬化性接着剤用組成物。
(A) an alicyclic epoxy compound,
(B) a compound having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 500 or more measured by gel permeation chromatography and containing at least one hydroxyl group, and (C) a photoacid generator,
A composition for radiation curable adhesives, comprising:
上記(B)成分は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の数平均分子量が1,000以上の分子量を有し、かつ、水酸基を1個以上含有する化合物である請求項1に記載の放射線硬化性接着剤用組成物。   The component (B) is a compound having a molecular weight of 1,000 or more in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography and containing one or more hydroxyl groups. Radiation curable adhesive composition. 上記放射線硬化性接着剤用組成物は、厚さが200μmである硬化物とした場合の波長550nmの光の透過率が70%以上のものである請求項1又は2に記載の放射線硬化性接着剤用組成物。   The radiation curable adhesive according to claim 1 or 2, wherein the radiation curable adhesive composition has a light transmittance of 70% or more when a cured product having a thickness of 200 µm is used. Pharmaceutical composition. 上記放射線硬化性接着剤用組成物が、下記一般式(1)で表される構造を含むポリビニルアルコール系樹脂からなるPVA系成形体と、該PVA系成形体と同種又は異種の被着体との接着に用いるための組成物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射線硬化性接着剤用組成物。
Figure 2008231407
(式中、nは0〜4の整数である。)
The radiation curable adhesive composition is a PVA-based molded body made of a polyvinyl alcohol-based resin having a structure represented by the following general formula (1), and an adherend of the same or different type as the PVA-based molded body. The composition for radiation-curable adhesives according to any one of claims 1 to 3, which is a composition for use in adhesion of a material.
Figure 2008231407
(In the formula, n is an integer of 0 to 4.)
下記一般式(1)で表される構造を含むポリビニルアルコール系樹脂からなるPVA系成形体の表面に、接着剤層を介して、上記PVA系成形体と同種又は異種の被着体を接着してなる複合体であって、上記接着剤層が、請求項4に記載の放射線硬化性接着剤用組成物の硬化物からなる複合体。
Figure 2008231407
(式中、nは0〜4の整数である。)
An adherend of the same or different type as the PVA-based molded body is bonded to the surface of a PVA-based molded body made of a polyvinyl alcohol-based resin including the structure represented by the following general formula (1) through an adhesive layer. It is a composite_body | complex comprised, Comprising: The said adhesive bond layer consists of hardened | cured material of the composition for radiation-curable adhesives of Claim 4.
Figure 2008231407
(In the formula, n is an integer of 0 to 4.)
上記PVA系成形体と同種又は異種の被着体が、ノルボルネン系樹脂フィルムである請求項5に記載の複合体。   The composite according to claim 5, wherein the adherend of the same kind or different kind from the PVA-based molded body is a norbornene-based resin film. 請求項5又は6に記載の複合体の製造方法であって、上記PVA系成形体の表面に、上記PVA系成形体と同種又は異種の被着体を、放射線硬化性接着剤用組成物を介して積層する積層工程と、上記放射線硬化性接着剤用組成物に放射線を照射して硬化させ、上記複合体を得る放射線硬化工程を含む複合体の製造方法。   It is a manufacturing method of the composite_body | complex of Claim 5 or 6, Comprising: On the surface of the said PVA-type molded object, the same kind or different kind | species adherend of the said PVA-type molded object, The composition for radiation-curable adhesives A method for producing a composite comprising a laminating step of laminating through and a radiation curing step of irradiating and curing the radiation curable adhesive composition to obtain the composite.
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